JP2013153172A5 - - Google Patents

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上記課題を解決するために成された本発明に係るNdFeB焼結磁石の製造方法は、NdFeB焼結磁石から成る磁石基材の表面にDy及び／又はTbを含む層を形成した後に前記磁石基材の焼結温度以下の加熱温度に加熱することにより、前記層中のDy及び／又はTbを前記磁石基材の結晶粒界を通じて前記磁石基材内部に拡散させる粒界拡散処理を行うNdFeB焼結磁石の製造方法において、
a) 前記磁石基材中に含まれる金属状態の希土類の量が12.9原子％以上であり、
b) 前記層が、50質量％以上のDyのフッ化物及び／又はTbのフッ化物を含有する粉体を、前記磁石基材の表面に1cm 2 あたり5mg以上塗布したものである
ことを特徴とする。

Claims (7)

  1. NdFeB焼結磁石から成る磁石基材の表面にDy及び／又はTbを含む層を形成した後に前記磁石基材の焼結温度以下の加熱温度に加熱することにより、前記層中のDy及び／又はTbを前記磁石基材の結晶粒界を通じて前記磁石基材内部に拡散させる粒界拡散処理を行うNdFeB焼結磁石の製造方法において、
    a) 前記磁石基材中に含まれる金属状態の希土類の量が12.9原子％以上であり、
    b) 前記層が、50質量％以上のDyのフッ化物及び／又はTbのフッ化物を含有する粉体を、前記磁石基材の表面に1cm 2 あたり5mg以上塗布したものである
    ことを特徴とするNdFeB焼結磁石の製造方法。
  2. 前記粉体の平均粒径が100μm以下であることを特徴とする請求項１に記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
  3. 前記加熱温度が700℃以上1000℃以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
  4. 前記磁石基材がDy及びTbをいずれも含有していないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
  5. 前記磁石基材の厚さが3mm以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
  6. 前記磁石基材の厚さが6mm以下であることを特徴とする請求項５に記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
  7. 前記層が30質量％以下のAlを含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のNdFeB焼結磁石の製造方法。
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