JP2013149072A - Work-piece bonding method and touch panel - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a work-piece bonding method having excellent reworkability without developing a color, a relatively short processing time and a relatively low cost, and a touch panel manufactured by using the method.SOLUTION: A work-piece bonding method comprises: irradiating a surface of a cover glass 11 having a hydrophilic surface and a surface of a silicone substrate 17a (for example, a PDMS) to be bonded therewith with ultraviolet light, laminating them, and pressurizing and heating the laminate to bond them together; coating a primer on an ITO electrode 13 provided on a hard coat layer 14a of a PET film 14 having a hydrophobic surface and irradiating the coated surface and the surface of the silicone substrate 17a (for example, the PDMS) to be bonded therewith with the ultraviolet light, laminating them, and pressurizing and heating the laminate to bond them together; and coating the primer on a second ITO electrode 15 on a glass substrate 16 and on the hard coat layer 14a of the PET film 14 and irradiating the coated surface and a surface of a silicone substrate 17b (for example, a PDMS) to be bonded therewith with the ultraviolet light, laminating them, and pressurizing and heating the laminate to bond them together.

Description

本発明は、タッチパネルや有機EL(有機エレクトロルミネッセンス、Organic Electro-Luminescence)、有機半導体、太陽電池パネルの製造等に用いることができるワークの貼り合わせ方法、およびこの方法で製造されるタッチパネルに関する。さらに、詳細には、例えば表面にハードコート層が設けられたPET(ポリエチレンテレフタラート:Polyethylene terephthalate)等の樹脂のように表面が疎水性を有するワークとシリコーンからなる部材を貼り合わせたり、例えばガラス等の表面が親水性を有するワークや、例えば表面にハードコート層が設けられた樹脂のように表面が疎水性を有するワーク、さらには、ガラスもしくは上記樹脂からなる部材の表面に例えばITO(酸化インジウムスズ:Indium Tin Oxide)透明電極のような透明導電膜が施され、表面が疎水性を有するワークを、シリコーンからなる部材を介在させて互いに貼り合わせるためのワークの貼り合わせ方法、および、これらのワークを貼り合わせることにより製造されるタッチパネルに関する。   The present invention relates to a touch panel, an organic EL (Organic Electro-Luminescence), an organic semiconductor, a work bonding method that can be used for manufacturing a solar battery panel, and the touch panel manufactured by this method. Further, in detail, for example, a workpiece having a hydrophobic surface and a member made of silicone, such as a resin such as PET (Polyethylene terephthalate) with a hard coat layer provided on the surface, are bonded together, for example, glass For example, ITO (oxidized) is applied to the surface of a workpiece having a hydrophilic surface, such as a workpiece having a hydrophobic surface such as a resin having a hard coat layer provided on the surface, or a member made of glass or the above resin. Indium tin oxide (Indium Tin Oxide) A transparent conductive film such as a transparent electrode, and a workpiece bonding method for bonding workpieces having a hydrophobic surface to each other with a silicone member interposed therebetween, and these It is related with the touch panel manufactured by bonding the workpiece | work of this.

近年、ワークを貼り合わせて製造される有機EL、有機半導体、太陽電池等が注目されている。また、ワークを貼り合わせて製造されるものとしてタッチパネルが知られている。タッチパネルは、画像が表示されるディスプレイに指やペン等で触れることによりスイッチのon−off、データ入力等の制御が可能なものであって、近年、急速に普及している。例えば、携帯電話、携帯ゲーム機、タブレット端末などのガジェット、カーナビゲーション装置、銀行のATM、切符自動販売機等でタッチパネルは広く用いられている。   In recent years, attention has been paid to organic EL, organic semiconductors, solar cells, and the like manufactured by bonding workpieces. In addition, a touch panel is known as one manufactured by bonding workpieces. A touch panel is capable of controlling on / off of a switch, data input, and the like by touching a display on which an image is displayed with a finger or a pen, and has been rapidly spread in recent years. For example, touch panels are widely used in gadgets such as mobile phones, mobile game machines, and tablet terminals, car navigation devices, bank ATMs, ticket vending machines, and the like.

図18に、映像表示装置とタッチセンサモジュールからなるタッチパネルの模式図を示す。例として、投影静電容量方式のタッチパネルを示す。
図18に示すように、タッチパネル100はLCDパネル等の画像表示装置30とその上部に配置される位置入力装置10とからなる。
位置入力装置10は、タッチセンサ表面において指やペン等で接触された部分を検出するためのタッチセンサモジュール10aと、タッチセンサモジュール10aからの位置入力情報を処理し、上記情報に基づき画像表示装置30を制御するタッチパネル制御部10bからなる。
FIG. 18 is a schematic diagram of a touch panel including a video display device and a touch sensor module. As an example, a projected capacitive touch panel is shown.
As shown in FIG. 18, the touch panel 100 includes an image display device 30 such as an LCD panel and a position input device 10 disposed on the upper portion.
The position input device 10 processes the position input information from the touch sensor module 10a and the touch sensor module 10a for detecting a portion of the touch sensor surface that is touched with a finger or a pen, and the image display device based on the information. 30 includes a touch panel control unit 10b for controlling 30.

タッチセンサモジュール10aは、第1の透明導電膜(例えば、ITO電極)パターンが施されたPETフィルム14と、第2の透明導電膜(例えば、ITO電極)パターンが施されたガラス基板16が積層された構造であり、上から第1のITO電極13、PETフィルム14、第2のITO電極15、ガラス基板16の順に積層される。なお、PETフィルム14の両面には、PETフィルム14の傷付き防止のため光透過性のハードコート層14aが設けられる。すなわち、第1の透明導電膜パターンは、PETフィルム14上のハードコート層14a上に設けられる。ハードコート層14aは、例えば、アクリレート樹脂等からなる。   The touch sensor module 10a includes a PET film 14 provided with a first transparent conductive film (for example, ITO electrode) pattern and a glass substrate 16 provided with a second transparent conductive film (for example, ITO electrode) pattern. The first ITO electrode 13, the PET film 14, the second ITO electrode 15, and the glass substrate 16 are laminated in this order from the top. A light-transmitting hard coat layer 14 a is provided on both surfaces of the PET film 14 to prevent the PET film 14 from being scratched. That is, the first transparent conductive film pattern is provided on the hard coat layer 14 a on the PET film 14. The hard coat layer 14a is made of, for example, an acrylate resin.

更に、PETフィルム14の第1のITO電極13が施された側にはカバーガラス11が設置される。PETフィルム14の第1のITO電極13パターンが施された表面と対向する側のカバーガラス11表面の周縁部にはブラックマトリクス12が形成されている。
一方、ガラス基板16の下側には、第1のITO電極13、第2のITO電極15と電気的に接続され、更に後で示すタッチパネル制御部10bとも電気的に接続される配線層21が設けられる。
配線層21は、カバーガラス11側から観察した際、カバーガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、ガラス基板16の下側にて配置される。すなわち、配線層21は、タッチパネルにおいて表示される画像を干渉しない位置に設けられる。
Further, a cover glass 11 is installed on the side of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied. A black matrix 12 is formed on the periphery of the surface of the cover glass 11 on the side facing the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
On the other hand, on the lower side of the glass substrate 16, there is a wiring layer 21 that is electrically connected to the first ITO electrode 13 and the second ITO electrode 15 and further electrically connected to the touch panel control unit 10b described later. Provided.
The wiring layer 21 is disposed on the lower side of the glass substrate 16 so as to be shielded by the black matrix 12 provided on the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side. That is, the wiring layer 21 is provided at a position that does not interfere with the image displayed on the touch panel.

タッチパネル制御部10bは、タッチパネル(TP)コントロールIC部22とFPC(フレキシブルプリント基板)23とからなり、FPC23上にタッチパネルコントロールIC部22が設けられる。FPC23は、カバーガラス11側から観察した際、カバーガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、中央部分に開口が設けられた環状構造であり、タッチパネルコントロールIC部22はこの環状構造部分の上部に設けられる。すなわち、タッチパネル制御部10bは、タッチパネルにおいて表示される画像を干渉しない位置に設けられる。上記したようにタッチパネル制御部10bは、タッチセンサモジュール10aの配線層21と電気的に接続され、また、画像表示装置30とも電気的に接続される。   The touch panel control unit 10 b includes a touch panel (TP) control IC unit 22 and an FPC (flexible printed circuit board) 23, and the touch panel control IC unit 22 is provided on the FPC 23. The FPC 23 has an annular structure in which an opening is provided in the central portion so as to be shielded by the black matrix 12 provided in the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side. Provided at the top of the structural part. That is, the touch panel control unit 10b is provided at a position that does not interfere with an image displayed on the touch panel. As described above, the touch panel control unit 10b is electrically connected to the wiring layer 21 of the touch sensor module 10a and is also electrically connected to the image display device 30.

上記したタッチセンサモジュール10a、タッチパネル制御部10bが、LCDパネル等の画像表示パネル32から構成される画像表示装置30上に積層されてタッチパネルが構成される。なお、画像表示パネル32の表面には、偏光フィルム31が設けられている。なお、図18に示すように、上からタッチセンサモジュール10a、タッチパネル制御部10b、画像表示装置30の順に積層されるタッチパネルは、紫外線硬化性接着剤24(UV Resin)にて接合される。すなわち、タッチセンサモジュール10aのガラス基板16の配線層21が設けられた表面と、タッチパネル制御部10bと画像表示装置30表面の偏光フィルムはUV Resinにて接合される。なお、タッチセンサモジュール10aのガラス基板16の配線層21が設けられていない部分やタッチパネル制御部10bの開口部分などは、UV Resinが充填された状態となる。   The touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b described above are stacked on the image display device 30 including the image display panel 32 such as an LCD panel to form a touch panel. A polarizing film 31 is provided on the surface of the image display panel 32. As shown in FIG. 18, the touch panel laminated in the order of the touch sensor module 10 a, the touch panel control unit 10 b, and the image display device 30 from the top is bonded with an ultraviolet curable adhesive 24 (UV Resin). That is, the surface on which the wiring layer 21 of the glass substrate 16 of the touch sensor module 10a is provided, and the polarizing film on the surface of the touch panel control unit 10b and the image display device 30 are bonded by UV Resin. In addition, the part in which the wiring layer 21 of the glass substrate 16 of the touch sensor module 10a is not provided, the opening part of the touch panel control unit 10b, and the like are filled with UV Resin.

タッチパネルは、カバーガラス11上に接触した指等の位置情報をタッチパネルセンサモジュール10aにて検出し、その位置情報を受信したタッチパネル制御部10bからの制御信号に基づいて画像表示装置30の動作を制御するものである。
図18(b)に示すように、第1のITO電極13は、Y方向に伸びる電極パターン単位が複数、X方向に並列に配置された電極パターンである。すなわち、第1のITO電極13は複数の電極パターン単位からなる。
一方、図18(c)に示すように、第2のITO電極15は、X方向に伸びる電極パターン単位が複数、Y方向に並列に配置された電極パターンである。すなわち、第2のITO電極15は複数の電極パターン単位からなる。
これらの各電極パターン単位に図示を省略した電源により高周波電圧を印加しておく。タッチパネルのカバーガラス11に指が近づくと、指と第1のITO電極13において指に近い位置に配置されている電極パターン単位、指と第2のITO電極15において指に近い位置に配置されている電極パターン単位との間に静電容量(コンデンサ)が形成され、それぞれ電流が流れる。この電流変化を検出することにより、カバーガラス11上の指の位置が検出される。
The touch panel detects position information such as a finger touching the cover glass 11 by the touch panel sensor module 10a, and controls the operation of the image display device 30 based on a control signal from the touch panel control unit 10b that has received the position information. To do.
As shown in FIG. 18B, the first ITO electrode 13 is an electrode pattern in which a plurality of electrode pattern units extending in the Y direction are arranged in parallel in the X direction. That is, the first ITO electrode 13 is composed of a plurality of electrode pattern units.
On the other hand, as shown in FIG. 18C, the second ITO electrode 15 is an electrode pattern in which a plurality of electrode pattern units extending in the X direction are arranged in parallel in the Y direction. That is, the second ITO electrode 15 is composed of a plurality of electrode pattern units.
A high frequency voltage is applied to each electrode pattern unit by a power source (not shown). When the finger approaches the cover glass 11 of the touch panel, the electrode pattern unit is disposed at a position close to the finger in the finger and the first ITO electrode 13, and is disposed at a position close to the finger in the finger and the second ITO electrode 15. Capacitances (capacitors) are formed between the electrode pattern units, and current flows in each unit. By detecting this change in current, the position of the finger on the cover glass 11 is detected.

すなわち、図18(b)(c)から明らかなように、第1のITO電極13は指のX方向の位置、第2のITO電極15は指のY方向の位置を検出する。図18(d)に示すように、第1のITO電極13と第2のITO電極15とをX−Y二次元方向のマトリックス状に配置することにより、タッチパネルセンサモジュール10aは、カバーガラス11に接触した指のX−Y二次元方向の位置を検出する。
タッチパネルセンサモジュール10aにより検出されたカバーガラス11に接触した指の位置に関する信号は、タッチパネル制御部10bへと送信される。
That is, as apparent from FIGS. 18B and 18C, the first ITO electrode 13 detects the position of the finger in the X direction, and the second ITO electrode 15 detects the position of the finger in the Y direction. As shown in FIG. 18D, the touch panel sensor module 10a is placed on the cover glass 11 by arranging the first ITO electrodes 13 and the second ITO electrodes 15 in a matrix in the XY two-dimensional direction. The position of the touched finger in the XY two-dimensional direction is detected.
A signal related to the position of the finger in contact with the cover glass 11 detected by the touch panel sensor module 10a is transmitted to the touch panel control unit 10b.

ここで、タッチパネルセンサモジュール10aにおけるPETフィルム14とカバーガラス11との間(PETフィルム14の第1のITO電極13が施された表面とカバーガラス11の下側表面との間)、あるいはPETフィルム14とガラス基板16との間(PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハードコート層14a表面とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面との間)に空気層が介在すると、各表面と空気層との界面における屈折率の相違により当該界面での光の反射が発生し、輝度の低下やコントラストの低下といったタッチパネルにおける表示画質の劣化が発生する。   Here, between the PET film 14 and the cover glass 11 in the touch panel sensor module 10a (between the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied and the lower surface of the cover glass 11), or the PET film. 14 and the glass substrate 16 (between the surface of the hard coat layer 14a opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 and the surface of the glass substrate 16 provided with the second ITO electrode 15). When the air layer is interposed, light is reflected at the interface due to the difference in refractive index at the interface between each surface and the air layer, and the display image quality of the touch panel is deteriorated such as a decrease in luminance and a decrease in contrast.

よって、このような空気層をなくすために、空気と比較して屈折率がカバーガラス11やPETフィルム14、ガラス基板16の屈折率に近い透明物質により空気層を置換して、タッチパネルディスプレイの輝度の低下やコントラストの低下を抑制することが行われている。
具体的には、空気と比較して上記したような屈折率を有する透明の接着部材19により、カバーガラス11の下側表面とPETフィルム14の第1のITO電極13側表面とが接合される。また、PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハードコート層14a表面とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面とも上記したような接着部材により接合される。
Therefore, in order to eliminate such an air layer, the air layer is replaced with a transparent material having a refractive index close to that of the cover glass 11, the PET film 14, and the glass substrate 16 in comparison with air, and the brightness of the touch panel display. It is performed to suppress a decrease in image quality and a decrease in contrast.
Specifically, the lower surface of the cover glass 11 and the first ITO electrode 13 side surface of the PET film 14 are joined by the transparent adhesive member 19 having a refractive index as described above compared with air. . Further, the surface of the hard film layer 14a opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is provided are also bonded by the adhesive member as described above.

接着部材としては、例えば、特許文献1、特許文献2に例示されているような透明性の高いアクリル系粘着剤を使用した光学用粘着テープ(Optically Clear Adhesive Tape:以下OCAテープという)や、特許文献3、特許文献4に例示されているような透明性の高い硬化型樹脂(Optically Clear Resin:以下OCRという)が用いられる。   As an adhesive member, for example, an optical adhesive tape (Optically Clear Adhesive Tape: hereinafter referred to as OCA tape) using a highly transparent acrylic adhesive as exemplified in Patent Document 1 and Patent Document 2, A highly transparent curable resin (Optically Clear Resin: hereinafter referred to as OCR) as exemplified in Document 3 and Patent Document 4 is used.

特開平9−251159号公報JP-A-9-251159 特開2011−74308号公報JP 2011-74308 A 特開2009−48214号公報JP 2009-48214 A 特開2010−257208号公報JP 2010-257208 A 特許第3714338号公報Japanese Patent No. 3714338 特開2006−187730号公報JP 2006-187730 A 国際公開2008/087800号International Publication No. 2008/087800 特開2008−19348号公報JP 2008-19348 A

上記したように、OCAテープ、OCRを使用して、カバーガラス11の下側表面とPETフィルム14の第1のITO電極13側表面の接合、PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハードコート層14a表面とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面との接合を実施することにより、タッチパネルディスプレイの輝度の低下やコントラストの低下を抑制することが可能となる。
しかしながら、OCAテープ、OCRの使用する場合、以下のような問題点や不具合も考慮する必要がある。
As described above, using the OCA tape and OCR, bonding of the lower surface of the cover glass 11 and the surface of the PET film 14 on the first ITO electrode 13 side, opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 By performing bonding between the surface of the hard coat layer 14a on the side and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is provided, it is possible to suppress a decrease in luminance and a decrease in contrast of the touch panel display. .
However, when using an OCA tape or OCR, it is necessary to consider the following problems and problems.

OCAテープの場合、接着力が強力であるためリワーク性が乏しい。すなわち、一度剥がして再度使用することは難しいので、OCAテープ使用時には、高い貼り合わせ精度が要求される。
また、OCAテープは硬いので、PETフィルム14の第1のITO電極13側表面やガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面のような表面に段差構造が存在する場合、貼り付け時上記段差部分に気泡が混入しやすい。
更には、上記したようにOCAテープはリワーク性が乏しく、表面の段差部分で気泡が混入しやすいので、貼り付け処理が難しい。よって、接合面の面積が大面積であるような被接合対象の場合、OCAテープを使用することは困難である。また、OCAテープは比較的高価である。
In the case of an OCA tape, the reworkability is poor because the adhesive strength is strong. That is, since it is difficult to peel it off and use it again, a high bonding accuracy is required when using the OCA tape.
In addition, since the OCA tape is hard, it is affixed when there is a step structure on the surface such as the surface of the PET film 14 on the first ITO electrode 13 side or the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is provided. Air bubbles are likely to enter the stepped portion.
Furthermore, as described above, the OCA tape has poor reworkability, and bubbles are likely to be mixed in the stepped portion of the surface, so that the pasting process is difficult. Therefore, it is difficult to use an OCA tape in the case of an object to be joined whose joining surface area is large. In addition, OCA tape is relatively expensive.

一方、OCRによる接合は以下のように行われる。すなわち、2枚のワークの少なくとも一方の接合面にOCR塗布して当該2枚のワークを重ね合わせ、加熱や紫外線(UV)照射によりOCRを硬化させて上記2枚のワークを接合する。ここで、OCRは一般に粘度が高いので、接合面に均一に塗布するのは難しい。よって、例えば、カバーガラス11接合面とPETフィルム14接合面とが非平行の状態で接合されるという不具合も発生しうる。   On the other hand, joining by OCR is performed as follows. That is, OCR is applied to at least one joint surface of two workpieces, the two workpieces are overlapped, and the OCR is cured by heating or ultraviolet (UV) irradiation to join the two workpieces. Here, since OCR generally has a high viscosity, it is difficult to uniformly apply it to the joint surface. Therefore, for example, the problem that the bonding surface of the cover glass 11 and the bonding surface of the PET film 14 are bonded in a non-parallel state may occur.

また、OCRは耐熱温度が低く、紫外線(UV)硬化性のOCRの場合UV照射時のOCRの温度上昇の影響を考慮する必要がある。すなわち、UV光源40とOCR接合面との距離が近すぎると、OCRが当該OCRの耐熱温度以上に加熱されてしまう。よって、UV光源40とOCR接合面との距離はある程度大きくする必要があるが、この場合、OCR接合面でのUV強度も弱くなるので、結果的にUV硬化性OCRの場合、硬化プロセス時間が長くなる。   In addition, OCR has a low heat resistant temperature, and in the case of ultraviolet (UV) curable OCR, it is necessary to consider the influence of the temperature rise of OCR during UV irradiation. That is, if the distance between the UV light source 40 and the OCR bonding surface is too short, the OCR is heated to a temperature higher than the heat resistance temperature of the OCR. Therefore, the distance between the UV light source 40 and the OCR bonding surface needs to be increased to some extent. In this case, however, the UV intensity at the OCR bonding surface is also weakened. become longer.

また、OCRは硬化の際変形が生じるので、2枚のワークの接合状態が必ずしも望ましいものになるとは限らない。例えば、カバーガラス11とPETフィルム14の接合やガラス基板16と画像表示パネル32の接合の場合、カバーガラス11とPETフィルム14との間隔やガラス基板16と画像表示パネル32の間隔が不均一になることもあり、タッチパネルの性能が劣化する。
更には、OCRの場合も時間的耐性が必ずしも十分ではなく、貼り合わせ後ある程度の時間が経過すると、OCR自体に着色が発生し、例えば、黄色くなる。よって、タッチパネルの場合、画像が変色して見えてしまう。また、OCRも価格が比較的高い。
In addition, since the OCR is deformed during curing, the joining state of the two workpieces is not always desirable. For example, when the cover glass 11 and the PET film 14 are bonded or the glass substrate 16 and the image display panel 32 are bonded, the distance between the cover glass 11 and the PET film 14 or the distance between the glass substrate 16 and the image display panel 32 is not uniform. In some cases, the performance of the touch panel deteriorates.
Furthermore, even in the case of OCR, the temporal resistance is not always sufficient, and when a certain amount of time elapses after bonding, the OCR itself is colored, for example, becomes yellow. Therefore, in the case of the touch panel, the image looks discolored. OCR is also relatively expensive.

本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、リワーク性が良好で長時間使用しても発色せず、処理時間が比較的短く、比較的安価で、接合面が大面積の部材に対しても容易に接合可能なワークの貼り合わせ方法を提供することであり、また、このような貼り合わせ方法を採用して輝度の低下やコントラストの低下を抑制したタッチパネルを提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the object of the present invention is that the reworkability is good and the color does not develop even when used for a long time, the processing time is relatively short, the cost is relatively low, and the bonding surface is It is to provide a method for bonding workpieces that can be easily joined to large-area members, and to provide a touch panel that uses such a bonding method to suppress reduction in brightness and contrast. It is to be.

本発明は、ガラス等の親水性表面を持つワーク、樹脂等の疎水性表面を持つワーク、ガラスや樹脂等の表面に透明導電膜が施され疎水性表面を持つワーク等、親水性表面を持つワークと疎水性表面を持つワークとを貼り合わせる場合、あるいは、疎水性表面を持つワーク同士を相互に貼り合わせる場合において、従来のOCAテープまたはOCRに代えてシリコーンからなる部材を使用して、これらを貼り合わせる技術を提供するものである。さらに、上記疎水性表面を持つ第2、第3のワークに、上記シリコーンからなる部材を貼り合わせる技術を提供するものである。   The present invention has a hydrophilic surface such as a workpiece having a hydrophilic surface such as glass, a workpiece having a hydrophobic surface such as resin, a workpiece having a hydrophobic surface by applying a transparent conductive film on the surface of glass or resin, etc. When a workpiece and a workpiece having a hydrophobic surface are bonded together, or when workpieces having a hydrophobic surface are bonded to each other, a member made of silicone is used instead of the conventional OCA tape or OCR. It provides a technique for pasting together. Furthermore, the present invention provides a technique for bonding the silicone member to the second and third workpieces having the hydrophobic surface.

具体例としては、タッチパネルについて説明する。図18に示すタッチパネルにおいて、カバーガラス11の下側表面(第1のワークの表面)とPETフィルム14の第1のITO電極13側表面(第2のワークの表面)の貼り合わせや、PETフィルム14の第1のITO電極13側の反対側のハードコート層14a表面(第1のワークの表面)とガラス基板16の第2のITO電極15が設けられた表面(第2のワークの表面)とを貼り合わせるに際し、従来のOCAテープまたはOCRに代えてシリコーンからなる部材を使用するものである。   As a specific example, a touch panel will be described. In the touch panel shown in FIG. 18, the lower surface (the surface of the first workpiece) of the cover glass 11 and the first ITO electrode 13 side surface (the surface of the second workpiece) of the PET film 14 are bonded together, or the PET film. 14 is the surface of the hard coat layer 14a opposite to the first ITO electrode 13 side (the surface of the first workpiece) and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is provided (the surface of the second workpiece). Are bonded to each other using a member made of silicone instead of the conventional OCA tape or OCR.

大気中においてシリコーンからなる部材(以下シリコーン基板という)表面に紫外線を照射すると当該表面が酸化されて親水性表面となり、このような表面にガラス基板16や樹脂基板を重ね合わせて、重ね合わせたガラス基板16や樹脂基板と紫外線を照射したシリコーン基板とを所定の時間加圧したり、加熱したりすることにより、両基板が接合されることが知られている。   When the surface of a member made of silicone (hereinafter referred to as a silicone substrate) is irradiated with ultraviolet rays in the atmosphere, the surface is oxidized to become a hydrophilic surface, and a glass substrate 16 or a resin substrate is superposed on such a surface, thereby superposing glass. It is known that the substrates 16 and the resin substrate and the silicone substrate irradiated with ultraviolet rays are pressed or heated for a predetermined time to bond both substrates.

例えば、特許文献5に記載されているように、シリコーン基板がポリジメチルシロキサン(Polydimethylsiloxane:PDMS)基板である場合、シリコーン(PDMS)基板17の表面は、図2(a)に示すように、オルガノシロキシ基が存在する表面(疎水性表面)となっている。
大気中に保持されるこの基板17の表面に、波長220nm以下の紫外線(例えば、キセノンエキシマランプから放出される中心波長172nmの紫外線)を照射することにより、基板表面にて活性酸素が発生する。この活性酸素と基板表面とが接触することにより、当該基板表面が酸化される。すなわち、図2(b)に示すように、オルガノシロキシ基に係るメチル基が脱離され、当該メチル基が結合していたケイ素原子に活性酸素が結合された状態となる。
For example, as described in Patent Document 5, when the silicone substrate is a polydimethylsiloxane (PDMS) substrate, the surface of the silicone (PDMS) substrate 17 is an organo group as shown in FIG. The surface has a siloxy group (hydrophobic surface).
By irradiating the surface of the substrate 17 held in the atmosphere with ultraviolet rays having a wavelength of 220 nm or less (for example, ultraviolet rays having a central wavelength of 172 nm emitted from a xenon excimer lamp), active oxygen is generated on the substrate surface. When the active oxygen comes into contact with the substrate surface, the substrate surface is oxidized. That is, as shown in FIG. 2B, the methyl group related to the organosiloxy group is eliminated, and the active oxygen is bonded to the silicon atom to which the methyl group is bonded.

大気中には水分が存在しているので上記した活性酸素と水素とが結合し、図2(c)に示すように、基板表面は、ケイ素原子にヒドロキシ基(OH基)が結合された状態となる。このような表面にガラス基板16の親水性表面を重ね合わせて両表面を密着させることにより、図2(d)に示すように、PDMS基板17の表面とガラス表面との界面において水素結合が形成され、両基板は接合される。   Since moisture exists in the atmosphere, the above-mentioned active oxygen and hydrogen are combined, and as shown in FIG. 2C, the substrate surface is in a state in which a hydroxy group (OH group) is bonded to a silicon atom. It becomes. By superimposing the hydrophilic surfaces of the glass substrate 16 on these surfaces and bringing them into close contact, hydrogen bonds are formed at the interface between the surface of the PDMS substrate 17 and the glass surface, as shown in FIG. Both substrates are bonded together.

シリコーンは比較的安定した素材であり、OCRとは異なり、貼り合わせ後ある程度の時間が経過してもシリコーン自体の着色は発生しない。よって、タッチパネルディスプレイの各基板の接合材料として使用しても、タッチパネルの画像に変色の影響は発生しない。
また、シリコーンは比較的柔らかい素材であるので、PETフィルム14の第1のITO電極13側のハードコート層14a表面やガラス基板16の第1の配線層21側の表面のような表面に段差構造が存在する場合であっても、貼り付け時の上記段差部分への気泡混入を容易に抑制することができる。すなわち、接合面が大面積の部材に対しても容易に接合することが可能である。
Silicone is a relatively stable material, and unlike OCR, the silicone itself does not color even after a certain amount of time has elapsed after bonding. Therefore, even if it is used as a bonding material for each substrate of the touch panel display, the touch panel image is not affected by discoloration.
Since silicone is a relatively soft material, a step structure is formed on the surface of the PET film 14 such as the surface of the hard coat layer 14a on the first ITO electrode 13 side or the surface of the glass substrate 16 on the first wiring layer 21 side. Even when there is a bubble, it is possible to easily suppress air bubbles from being mixed into the stepped portion at the time of attachment. That is, it is possible to easily join even a member having a large joint surface.

また、上記したように、シリコーン基板を用いた接合は、OCRのように接合面への塗布といった工程はなく、また、OCRのような硬化反応による接合ではないので、OCRを使用する場合の塗布の均一性の問題や硬化時の変形の問題は発生しない。   In addition, as described above, bonding using a silicone substrate does not have a process of applying to a bonding surface like OCR, and is not bonding by a curing reaction such as OCR, so application when OCR is used. There is no problem of uniformity of the resin or deformation during curing.

シリコーンはOCRと比べ耐熱温度が高いので、OCR硬化時における紫外線(UV)光源40とOCR接合面との距離に比べ、シリコーン基板表面処理時におけるUV光源40とシリコーン基板表面との距離を小さくすることができ、シリコーン基板表面でのUV強度はOCR接合面でのUV強度より大きい。すなわち、シリコーン基板へのUV照射工程においては、OCR接合面へのUV照射工程より、UVの利用効率が大きい。
また、発明者らの実験によれば、OCRのUV硬化反応に要する時間より、シリコーン基板へのUV照射工程、シリコーン基板とガラス基板等の被接合基板の加熱工程や加圧工程に要する時間の方が短いことが分かった。
また、一般にシリコーン基板は、OCAテープやOCRと比較すると価格が安価である。
Silicone has a higher heat resistance temperature than OCR, and therefore, the distance between the UV light source 40 and the surface of the silicone substrate during the treatment of the silicone substrate is made smaller than the distance between the ultraviolet (UV) light source 40 and the OCR bonding surface during OCR curing. The UV intensity at the silicone substrate surface is greater than the UV intensity at the OCR interface. That is, in the UV irradiation process on the silicone substrate, the UV utilization efficiency is higher than in the UV irradiation process on the OCR bonding surface.
Further, according to the experiments by the inventors, the time required for the UV irradiation process to the silicone substrate, the heating process of the bonded substrate such as the silicone substrate and the glass substrate, and the pressurizing process is longer than the time required for the UV curing reaction of the OCR. I found it shorter.
In general, a silicone substrate is less expensive than an OCA tape or OCR.

シリコーン基板を用いた接合の場合、ガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコーン基板とを重ね合わせてすぐ接合が完了するのではなく、上記したように所定の時間だけ両基板を加圧したり、加熱したりすることによって接合が完了する。よって、重ね合わせた直後に両基板を分離するのは容易である。よって、例えばガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコーン基板との位置合わせが不十分であるとき、重ね合わせた直後であるならば両者を一度剥がして、再度シリコーン基板に紫外線を照射して接合工程を行うことが可能となる。すなわち、OCAテープと比較すると、リワーク性に富んでいる。   In the case of bonding using a silicone substrate, the bonding is not completed immediately by overlaying the glass substrate or resin substrate and the silicone substrate irradiated with ultraviolet rays, but both substrates are pressurized for a predetermined time as described above, The joining is completed by heating. Therefore, it is easy to separate the two substrates immediately after the overlapping. Therefore, for example, when the alignment between the glass substrate or the resin substrate and the silicone substrate irradiated with ultraviolet rays is insufficient, if they are just after being overlapped, they are peeled off once, and the silicone substrate is irradiated again with ultraviolet rays and bonded. It becomes possible to perform a process. That is, it is rich in rework as compared with the OCA tape.

図1に本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの構成例を示す。
基本的な構成は、前記図18に示したものと同じであり、タッチセンサモジュール10aとタッチパネル制御部10bから構成される位置入力装置10と、画像表示装置30から構成され、本発明においては、PETフィルム14のハードコート層14aの表面に設けられた第1のITO電極13と、カバーガラス11との間にシリコーン基板(例えばPDMS)17aが設けられ、シリコーン基板17aの一方の面と上記第1のITO電極13の間にプライマーが介在している。また、PETフィルム14のハードコート層14aと、ガラス基板16の表面に設けられた第2のITO電極15の間にシリコーン基板17bが設けられ、シリコーン基板17bとハードコート層14aとの間、及びシリコーン基板17bとITO電極15の間にプライマーが介在している。
FIG. 1 shows a configuration example of a touch panel assembled using the bonding method of the present invention.
The basic configuration is the same as that shown in FIG. 18, and includes the position input device 10 including the touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b, and the image display device 30. In the present invention, Between the first ITO electrode 13 provided on the surface of the hard coat layer 14a of the PET film 14 and the cover glass 11, a silicone substrate (for example, PDMS) 17a is provided. A primer is interposed between one ITO electrode 13. Further, a silicone substrate 17b is provided between the hard coat layer 14a of the PET film 14 and the second ITO electrode 15 provided on the surface of the glass substrate 16, and between the silicone substrate 17b and the hard coat layer 14a, and A primer is interposed between the silicone substrate 17 b and the ITO electrode 15.

ここで、発明者等の実験の結果、以下のような知見が得られた。すなわち、シリコーン基板の表面に紫外線(UV)を照射して当該表面を親水性表面とし、このシリコーン基板の親水性表面と、表面に第1のITO電極13が施されたPETフィルム14や表面に第2のITO電極15が設けられたガラス基板16とを重ね合わせても接合ができないことが分かった。同様に、UV照射によって得られたシリコーン基板の親水性表面と、PETフィルム14の第1のITO電極13側と反対側のハードコート層14a表面とを重ね合わせても接合ができないことが分かった。   Here, as a result of experiments by the inventors, the following knowledge was obtained. That is, the surface of the silicone substrate is irradiated with ultraviolet rays (UV) to make the surface a hydrophilic surface, and the hydrophilic surface of the silicone substrate and the PET film 14 or the surface on which the first ITO electrode 13 is applied are applied to the surface. It was found that bonding was not possible even when the glass substrate 16 provided with the second ITO electrode 15 was overlapped. Similarly, it was found that bonding was not possible even if the hydrophilic surface of the silicone substrate obtained by UV irradiation and the hard coat layer 14a surface opposite to the first ITO electrode 13 side of the PET film 14 were overlapped. .

すなわち、親水性表面であるシリコーン基板の接合面と、(疎水性表面である)PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハードコート層14a表面、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面とは、接合が難しいことが分かった。   That is, the bonding surface of the silicone substrate that is a hydrophilic surface, the surface on which the first ITO electrode 13 of the PET film 14 (which is a hydrophobic surface) is applied, and the first ITO electrode 13 of the PET film 14 are applied. It has been found that it is difficult to join the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the second ITO electrode 15 is applied to the surface of the hard coat layer 14a.

発明者らは鋭意検討し、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハードコート層14a表面、及び、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面にそれぞれプライマー18(下塗り剤)を施し、更に当該プライマー18の表面改質を行うことにより、これらの面(PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハードコート層14a表面、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面)を接合に適した表面とし、この接合に適した表面とUV照射されたシリコーン基板表面とを重ね合わせることにより、シリコーン基板とこれらの面PETフィルム14とを接合することが可能であることを見出した。そして、プライマー18としては、シランカップリング剤、シロキサン系コート剤が有効であることが分かった。   The inventors have intensively studied, and the hard coat layer 14a on the opposite side of the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied and the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied. By applying primer 18 (primer) to the surface and the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is applied, and further modifying the surface of the primer 18, these surfaces (PET film) The surface of the hard coating layer 14a opposite to the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied, the second ITO of the glass substrate 16 The surface on which the electrode 15 is applied) is a surface suitable for bonding, and the surface suitable for bonding and the surface of the silicone substrate irradiated with UV are overlapped, It found that it is possible to join the these surface PET film 14. And as a primer 18, it turned out that a silane coupling agent and a siloxane type coating agent are effective.

ワーク表面にプライマー18を施して当該プライマー18の表面改質を行うことにより、このワークとUV照射されたシリコーン基板表面とが接合可能となるメカニズムは必ずしも明確には分かっていないが、概略以下のようなメカニズムであると考えられる。以下、この考えられるメカニズムについて、図3、図4を参照しながら説明する。
例として、プライマー18としてシランカップリング剤を使用し、プライマー18を施す表面をPETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とした場合を考察する。なお、図4のシリコーン基板17は、予め図2に示したような方法でカバーガラス11と接合されているものとする。
Although the primer 18 is applied to the surface of the workpiece and the surface of the primer 18 is modified, the mechanism by which the workpiece and the UV-irradiated silicone substrate can be bonded is not necessarily clearly understood. It is thought that this is the mechanism. Hereinafter, this possible mechanism will be described with reference to FIGS.
As an example, consider the case where a silane coupling agent is used as the primer 18 and the surface on which the primer 18 is applied is the surface on which the first ITO electrode 13 of the PET film 14 is applied. 4 is bonded to the cover glass 11 in advance by the method shown in FIG.

図3(a)は、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面にプライマー18としてシランカップリング剤がコートされた状態を示す。
シランカップリング剤は、1つの分子中に反応性の異なる2種類の官能基を有する。図3(a)において、RO(Oは酸素)で示す官能基は無機材料と化学結合する官能基であり、Xは有機材料と結合する官能基である。PETフィルム14上の第1のITO電極13は無機物であるので、官能基ROと化学結合している。
FIG. 3A shows a state in which a surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied is coated with a silane coupling agent as the primer 18.
Silane coupling agents have two types of functional groups with different reactivity in one molecule. In FIG. 3A, a functional group represented by RO (O is oxygen) is a functional group chemically bonded to an inorganic material, and X is a functional group bonded to an organic material. Since the first ITO electrode 13 on the PET film 14 is inorganic, it is chemically bonded to the functional group RO.

次に、図3(b)に示すように、水分(H2O)、二酸化炭素(CO2)を含む大気中にて、PETフィルム14のシランカップリングコート面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出される紫外線(UV)を照射する。UV照射により、PETフィルム14のシランカップリングコート面が表面改質される。
具体的には、(a)シランカップリング剤の官能基RO、Xが分解・離脱してシリコン酸化物がPETフィルム14上の第1のITO電極13表面やPETフィルム14の第1のITO電極13パターンが施されていない表面の一部と結合したり、(b)上記した官能基Xの分解反応やUV照射による空気中の水分、二酸化炭素の化学反応の結果、シリコン酸化物がPETフィルム14上の第1のITO電極13表面やPETフィルム14の第1のITO電極13パターンが施されていない表面の一部とカルボキシル基(−COOH)が結合したり、(c)シランカップリング剤の官能基RO、Xが分解・離脱して、一部露出したPETフィルム14上の第1のITO電極13表面やPETフィルム14の第1のITO電極13パターンが施されていない表面と、UV照射による空気中の水分、二酸化炭素の化学反応の結果生成した酸素ラジカルとが反応してヒドロキシ基(−OH:以下、OH基ともいう)が結合したりするものと考えられる。そして、上記した(a)シリコン酸化物は、空気中の水分と反応して、図3(b)の右側の図のように、終端がOH基が結合した状態となるものと考えられる。
なお、図3(b)では表示を省略したが、UV照射の結果生成する酸素ラジカルにより、PETフィルム14のシランカップリングコート面に付着している不純物もクリーニングされるものと考えられる。
Next, as shown in FIG. 3B, ultraviolet rays such as an excimer lamp are applied to the silane coupling coat surface of the PET film 14 in the atmosphere containing moisture (H 2 O) and carbon dioxide (CO 2 ). Irradiate ultraviolet rays (UV) emitted from a (UV) light source 40. The surface of the silane coupling coat surface of the PET film 14 is modified by UV irradiation.
Specifically, (a) the functional groups RO and X of the silane coupling agent are decomposed and separated, and the silicon oxide becomes the surface of the first ITO electrode 13 on the PET film 14 or the first ITO electrode of the PET film 14. As a result of bonding with a part of the surface on which 13 patterns are not applied, or (b) the above-described decomposition reaction of the functional group X or the chemical reaction of moisture and carbon dioxide in the air by UV irradiation, silicon oxide becomes a PET film. 14 part of the surface of the first ITO electrode 13 on the surface 14 or the surface of the PET film 14 where the pattern of the first ITO electrode 13 is not applied, and a carboxyl group (—COOH) are combined, or (c) a silane coupling agent As a result, the surface of the first ITO electrode 13 on the partially exposed PET film 14 and the pattern of the first ITO electrode 13 on the PET film 14 are applied. The surface that is not exposed to oxygen radicals generated as a result of the chemical reaction between moisture in the air and carbon dioxide caused by UV irradiation, and a hydroxyl group (—OH: hereinafter also referred to as OH group) is bonded. Conceivable. Then, it is considered that (a) silicon oxide described above reacts with moisture in the air, and as shown in the diagram on the right side of FIG.
Although illustration is omitted in FIG. 3B, it is considered that impurities adhering to the silane coupling coat surface of the PET film 14 are also cleaned by oxygen radicals generated as a result of UV irradiation.

まとめると、PETフィルム14上の第1のITO電極13パターンが施された面は、(a)結合したシリコン酸化物の終端がOH基となっている部分、(b)カルボキシル基と結合した部分(終端はOH基)、(c)酸素ラジカルによる酸化反応でOH基が結合している部分とが混在しているものと考えられる。
いずれの場合も終端がOH基となっているので、UV照射によるPETフィルム14のシランカップリングコート面の表面改質により、PETフィルム14上の第1のITO電極13パターンが施された表面の殆どがOH基と結合し、PETフィルム14上の第1のITO電極13パターンが施された表面が親水性表面になるものと考えられる。
In summary, the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied on the PET film 14 is (a) a portion where the terminal of the bonded silicon oxide is an OH group, and (b) a portion bonded to the carboxyl group. (Termination is an OH group), (c) It is considered that a portion to which an OH group is bonded by an oxidation reaction with oxygen radicals is mixed.
In any case, since the termination is an OH group, the surface of the surface on which the first ITO electrode 13 pattern on the PET film 14 is applied by the surface modification of the silane coupling coat surface of the PET film 14 by UV irradiation. Most of them are bonded to OH groups, and the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 pattern is applied is considered to be a hydrophilic surface.

すなわち、疎水性表面であるPETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面にプライマー18をコートし、当該プライマー18をコートした面に紫外線(UV)を照射することにより、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面は、接合に適した表面(親水性表面)になるものと考えられる。   That is, the surface of the PET film 14 that is a hydrophobic surface coated with the first ITO electrode 13 is coated with the primer 18, and the surface coated with the primer 18 is irradiated with ultraviolet rays (UV). The surface on which the first ITO electrode 13 is applied is considered to be a surface suitable for bonding (hydrophilic surface).

そして、図4(c)に示すように、このようなシランカップリング剤をコートしてUV照射処理により親水性表面(すなわち、接合に適した表面)となったPETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面に、UV照射によりカバーガラス11との接合面の反対側の表面を親水性表面に改質してなるシリコーン基板17の接合面とを重ね合わせることにより水素結合が形成され、重ね合わせたシリコーン基板17とPET基板を加熱することにより接合面の脱水が発生し、最終的にシリコーン基板17と接合表面に第1のITO電極13パターンが施されているPETフィルム14とは酸素の共有結合により接合されるものと考えられる。   Then, as shown in FIG. 4C, the first ITO of the PET film 14 coated with such a silane coupling agent and having a hydrophilic surface (ie, a surface suitable for bonding) by UV irradiation treatment. Hydrogen bonding is performed by superimposing a bonding surface of a silicone substrate 17 formed by modifying the surface opposite to the bonding surface with the cover glass 11 on the surface provided with the electrode 13 with a hydrophilic surface by UV irradiation. The formed and superposed silicone substrate 17 and the PET substrate are heated to cause dehydration of the joint surface, and finally the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 pattern is applied to the silicone substrate 17 and the joint surface. Are considered to be bonded by oxygen covalent bonds.

なお、図3、図4では、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面にプライマー18としてシランカップリング剤がコートした場合を考察したが、PETフィルム14の第1のITO電極13が施されている面とは反対側のハードコート層14a表面、ガラス基板16の第2のITO電極15が施されている面にプライマー18をコートしても同様のメカニズムで接合が可能になるものと考えられる。   3 and 4, the case where the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 is applied is coated with a silane coupling agent as the primer 18 is considered. However, the first ITO of the PET film 14 is considered. Even if the primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the electrode 13 is applied, or on the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is applied, bonding is possible by the same mechanism. It is thought to become.

また、プライマー18としてシランカップリング剤の代わりに防汚や静電気防止の用途に使用されるシロキサン系コート剤を用いた場合も、ワークのシロキサン系コート剤をコートした面に紫外線を照射することにより、当該コート面の終端の状態はOH基が結合した親水性表面となって、接合に適した表面に改質されるものと考えられる。   Also, when a siloxane-based coating agent used for antifouling or antistatic use is used as the primer 18 instead of the silane coupling agent, the surface of the workpiece coated with the siloxane-based coating agent is irradiated with ultraviolet rays. The terminal state of the coated surface is considered to be a hydrophilic surface bonded with OH groups and modified to a surface suitable for bonding.

以上に基づき、本発明においては、次のように前記課題を解決する。
(1)疎水性表面を持つワークの一方の面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーをコートし、上記ワークのプライマーをコートした面と、上記シリコーンからなる部材に紫外線を照射し、上記ワークの紫外線を照射した面と、シリコーンからなる部材の紫外線を照射した面が接触するように積層し、上記積層したワークとシリコーンからなる部材の接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワークとシリコーンからなる部材を加熱し、あるいは、積層したワークとシリコーンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱することにより、疎水性表面を持つワークとシリコーンからなる部材とを貼り合わせる。
(2)疎水性表面を持つ第2のワークの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーをコートし、親水性表面を持つ第1のワークの一方の面と、上記第2のワークのプライマーをコートした面のそれぞれと、上記シリコーンからなる部材の両面に紫外線を照射し、第1のワークと上記シリコーンからなる部材と第2のワークを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層した第1および第2のワークとシリコーンからなる部材を加熱し、あるいは積層した第1および第2のワークとシリコーンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱することにより、親水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーンからなる部材を介在させて貼り合わせる。
(3)疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマー18をコートし、第1のワーク及び第2のワークの、上記プライマーリーをコートした面のそれぞれと、上記シリコーンからなる部材の両面に紫外線を照射し、上記第1のワークと上記シリコーンからなる部材と第2のワークを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワークを加熱し、あるいは積層したワークをその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱することにより、疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーンからなる部材を介在させて貼り合わせる。
(4)透明導電膜が施された基板を有するタッチセンサモジュールと、画像表示装置とを備えたタッチパネルにおいて、上記タッチセンサモジュールに、シランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーがコートされ、該プライマーをコートした面が紫外線照射により改質された透明導電膜が施された基板と、紫外線照射により表面が改質されたシリコーンからなる部材と設け、上記基板と上記シリコーンからなる部材の、上記紫外線が照射されたそれぞれの面を対向させて積層する。
Based on the above, the present invention solves the above problems as follows.
(1) One surface of a workpiece having a hydrophobic surface is coated with a primer composed of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent, and the surface coated with the primer of the workpiece and the silicone member are irradiated with ultraviolet rays. Lamination is performed such that the surface of the workpiece irradiated with ultraviolet rays and the surface of the silicone member exposed to ultraviolet rays are in contact with each other, and pressurization is performed so that the contact surface of the laminated workpiece and the member formed of silicone is pressurized. Or a workpiece having a hydrophobic surface by heating a laminated workpiece and a member made of silicone or heating a laminated workpiece and a member made of silicone so that the contact surface is pressurized. A member made of silicone is bonded together.
(2) The surface of the second workpiece having a hydrophobic surface is coated with a primer made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent, and one surface of the first workpiece having a hydrophilic surface and the second Each surface of the workpiece coated with the primer is irradiated with ultraviolet rays on both sides of the silicone member, and the first workpiece, the silicone member, and the second workpiece are in contact with the ultraviolet-irradiated surface. The first and second workpieces and the silicone that are laminated or heated so that the contact surface is pressurized or the laminated first and second workpieces and silicone members are heated or laminated. The first workpiece having a hydrophilic surface and the second workpiece having a hydrophobic surface are heated by pressurizing the member made of such that the contact surface is pressurized. Bonded by interposing a member made of silicone.
(3) A primer 18 made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent is coated on the surface of the first work having a hydrophobic surface and the second work having a hydrophobic surface, and the first work and the second work Each of the surfaces of the workpiece coated with the primer and the both sides of the silicone member are irradiated with ultraviolet rays, and the first workpiece, the silicone member and the second workpiece are irradiated with the ultraviolet rays. Laminate so that the contacted surfaces are in contact, pressurize so that the contact surface is pressurized, heat the stacked workpieces, or pressurize the stacked workpieces so that the contact surfaces are pressurized By heating, the first work having a hydrophobic surface and the second work having a hydrophobic surface are bonded together with a member made of silicone interposed.
(4) In a touch panel including a touch sensor module having a substrate coated with a transparent conductive film and an image display device, the touch sensor module is coated with a primer made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent, A substrate coated with a transparent conductive film whose surface coated with the primer is modified by ultraviolet irradiation, a member made of silicone whose surface is modified by ultraviolet irradiation, and a substrate composed of the substrate and the silicone. The respective surfaces irradiated with the ultraviolet rays are laminated facing each other.

本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)疎水性表面を持つワーク面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーをコートし、ワークのプライマーをコートした面と、シリコーンからなる部材に紫外線を照射し、上記ワークに貼り合わせることにより、上記ワークの表面を接合に適した表面(親水性表面)にすることができ、上記ワークとシリコーンからなる部材とを確実に接合することができる。
このため、疎水性表面を持つPET等の樹脂、透明導電膜が施されたワーク等とシリコーンからなる部材を貼り合わせることが可能となる。
(2)親水性表面を持つワークの一面に紫外線を照射し、疎水性表面を持つワークの表面にプライマーをコートしてプライマーをコートした面に紫外線を照射し、また、シリコーンからなる部材の両面に紫外線を照射し、親水性表面を持つワークと、疎水性表面を持つワークと、シリコーンからなる部材との紫外線照射面が対向するように積層し、あるいは、疎水性表面を持つワークの表面にプライマーをコートしてプライマーをコートした面に紫外線を照射し、また、シリコーンからなる部材の両面に紫外線を照射し、疎水性表面を持つワークとシリコーンからなる部材と疎水性表面を持つワークの紫外線照射面が対向するように積層し、これらを貼り合わせることにより、以下の効果を得ることができる。
(a)シリコーンには長時間経過後の着色が発生しないので、OCAテープやOCRにより貼り合わせる場合のように、長時間経過後の着色が発生しない。
このため、タッチパネルの製造に適用することで、タッチパネルの画像に変色の影響が発生しない。
(b)導電性薄膜のような段差構造が接合面に存在する場合であっても、シリコーンは段差に応じて変形・密着するので貼り付け時の上記段差部分への気泡混入の抑制が容易である。
(c)OCRを使用して貼り合わせる場合のように、塗布均一性実現の困難さ、硬化時の変形といった問題は回避することができ、また、シリコーンはOCRより耐熱温度が高いので、紫外線照射光源とシリコーンの照射面を近接させることができ、効率的にシリコーンの光照射面を改質することができる。
(d)一般にシリコーンからなる部材は、OCAテープやOCRと比較すると価格が安価であるので、製造コストを低減化することができる。
(e)シリコーンからなる部材を用いた接合の場合、ワークとシリコーンからなる部材を重ね合わせてもすぐ接合が完了するのではなく、所定の時間だけ加圧したり、加熱したりすることによって接合が完了する。このため、重ね合わせた直後にワークとシリコーンを分離するのは容易である。よって、ワークとシリコーンからなる部材との位置合わせが不十分であるとき、重ね合わせた直後であるならば両者を一度剥がして、再度シリコーンからなる部材に紫外線を照射して接合工程を行うことが可能となる。すなわち、OCAテープと比較すると、リワーク性に富んでいる。
(f)従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが困難であったシリコーンからなる部材と、タッチセンサモジュールの表面が疎水性の導電性薄膜基板表面との貼り合わせが可能となる。このため、タッチセンサモジュールの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテープまたはOCRに代えてシリコーンからなる部材を使用して各構成要素の貼り合わせ、タッチセンサモジュールを構成することが可能となる。
In the present invention, the following effects can be obtained.
(1) A work surface having a hydrophobic surface is coated with a primer made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent, and the work piece primer-coated surface and a silicone member are irradiated with ultraviolet rays and attached to the work. By combining them, the surface of the workpiece can be made a surface suitable for bonding (hydrophilic surface), and the workpiece and the member made of silicone can be bonded reliably.
For this reason, it becomes possible to bond together a member made of silicone and a resin such as PET having a hydrophobic surface, a work provided with a transparent conductive film, and the like.
(2) One surface of a workpiece having a hydrophilic surface is irradiated with ultraviolet light, the surface of a workpiece having a hydrophobic surface is coated with a primer, the surface coated with the primer is irradiated with ultraviolet light, and both surfaces of a member made of silicone Laminate the workpiece with a hydrophilic surface, a workpiece with a hydrophobic surface, and a component made of silicone so that the UV-irradiated surfaces face each other, or on the surface of a workpiece with a hydrophobic surface. The primer-coated surface is irradiated with ultraviolet light, and both surfaces of the silicone material are irradiated with ultraviolet light. The ultraviolet light of the workpiece with a hydrophobic surface, the silicone material, and the workpiece with a hydrophobic surface. The following effects can be obtained by laminating so that the irradiation surfaces face each other and bonding them together.
(A) Since coloring after a long time does not occur in silicone, coloring after a long time does not occur as in the case of bonding with an OCA tape or OCR.
For this reason, the influence of discoloration does not generate | occur | produce in the image of a touch panel by applying to manufacture of a touch panel.
(B) Even when there is a step structure such as a conductive thin film on the joint surface, silicone deforms and adheres according to the step, so it is easy to suppress bubbles from being mixed into the stepped portion during bonding. is there.
(C) As in the case of bonding using OCR, it is possible to avoid problems such as difficulty in realizing coating uniformity and deformation during curing. Also, since silicone has a higher heat resistant temperature than OCR, ultraviolet irradiation The light source and the silicone irradiation surface can be brought close to each other, and the silicone light irradiation surface can be efficiently modified.
(D) Generally, a member made of silicone is less expensive than an OCA tape or OCR, so that the manufacturing cost can be reduced.
(E) In the case of joining using a member made of silicone, the joining is not completed immediately even if the workpiece and the member made of silicone are overlapped, but the joining is performed by pressurizing or heating for a predetermined time. Complete. For this reason, it is easy to separate the workpiece and the silicone immediately after the overlapping. Therefore, when the alignment between the workpiece and the member made of silicone is insufficient, if they are just after being overlapped, both of them are peeled off once, and the joining step is performed by irradiating the member made of silicone again with ultraviolet rays. It becomes possible. That is, it is rich in rework as compared with the OCA tape.
(F) Conventionally, it is possible to bond a member made of silicone, which has been difficult to be bonded even by using a surface modification treatment by ultraviolet irradiation, to the surface of a conductive thin film substrate where the surface of the touch sensor module is hydrophobic. It becomes. Therefore, when the components of the touch sensor module are bonded together, it is possible to configure the touch sensor module by bonding the components using a member made of silicone instead of the conventional OCA tape or OCR. .

本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの構成例を示すである。It is an example of composition of a touch panel assembled using the joining method of the present invention. 表面が親水性のガラス基板と紫外線照射したPDMS基板との接合を説明する図である。It is a figure explaining joining of the PDMS board | substrate which the surface hydrophilic glass substrate and ultraviolet rays irradiated. プライマーをコートしたPETフィルムのITO電極が施されている面と、シリコーン基板との接合を説明する図(1)である。It is a figure (1) explaining joining of the surface where the ITO electrode of the PET film coated with the primer is applied and the silicone substrate. プライマーをコートしたPETフィルムのITO電極が施されている面と、シリコーン基板との接合を説明する図(2)である。It is a figure (2) explaining joining to the surface with which the ITO electrode of the PET film coated with the primer is given, and a silicone substrate. カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程(A−1)を説明する図である。It is a figure explaining the joining process (A-1) with the PET film by which the cover glass and the 1st transparent conductive film (ITO electrode) were given to the surface. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B−1)を説明する図(1)である。The figure (1) explaining the joining process (B-1) of the PET film with which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface, and the glass with which the 2nd transparent conductive film (ITO) was given to the surface It is. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B−1)を説明する図(2)である。The figure (2) explaining the joining process (B-1) of PET film with which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface, and the glass with which the 2nd transparent conductive film (ITO) was given to the surface It is. カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程(A−2)を説明する図である。It is a figure explaining the joining process (A-2) with the PET film by which the cover glass and the 1st transparent conductive film (ITO) were given to the surface. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B−2)を説明する図(1)である。The figure (1) explaining the joining process (B-2) of the PET film with which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface, and the glass with which the 2nd transparent conductive film (ITO) was given to the surface It is. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B−2)を説明する図(2)である。The figure (2) explaining the joining process (B-2) of the PET film with which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface, and the glass with which the 2nd transparent conductive film (ITO) was given to the surface It is. カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程(A−3)を説明する図である。It is a figure explaining the joining process (A-3) with the PET film by which the cover glass and the 1st transparent conductive film (ITO) were given to the surface. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO)が表面に施されたガラスとの接合工程(B−3)を説明する図である。It is a figure explaining the joining process (B-3) of the PET film with which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface, and the glass with which the 2nd transparent conductive film (ITO) was given to the surface. 本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの他の構成例を示すである。It is another example of a structure of the touch panel assembled using the joining method of the present invention. カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程(C−1)を説明する図である。It is a figure explaining the joining process (C-1) with the 1st glass substrate by which the cover glass and the 1st transparent conductive film (ITO) were given to the surface. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程(D−1)を説明する図である。Bonding process (D-1) of the 1st glass substrate with which the 1st transparent conductive film (ITO) was given to the surface, and the 2nd glass substrate with which the 2nd transparent conductive film (ITO) was given to the surface FIG. カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程(C−2)を説明する図である。It is a figure explaining the joining process (C-2) with the 1st glass substrate by which the cover glass and the 1st transparent conductive film (ITO) were given to the surface. 第1の透明導電膜(ITO)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程(D−2)を説明する図である。Bonding step (D-2) between the first glass substrate having the first transparent conductive film (ITO) applied to the surface and the second glass substrate having the second transparent conductive film (ITO) applied to the surface FIG. 映像表示装置とタッチセンサモジュールからなるタッチパネルの模式図である。It is a schematic diagram of the touch panel which consists of a video display apparatus and a touch sensor module.

以下、本発明の実施の形態をタッチパネルを製造する場合を例として説明するが、本発明はタッチパネル以外に前記有機EL、有機半導体、太陽電池等の製造にも適用できる。
(1)実施の形態1
図1は、前記した本発明のタッチパネルの第1の構成例を示す図である。
前記図18に示したものと基本的構成は同じであり、タッチパネル100はLCDパネル等の画像表示装置30とその上部に配置される位置入力装置10とからなる。
位置入力装置10は、タッチセンサ表面において指やペン等で接触された部分を検出するためのタッチセンサモジュール10aと、タッチセンサモジュール10aからの位置入力情報を処理し、上記情報に基づき画像表示装置30を制御するタッチパネル制御部10bからなる。
Hereinafter, although the case where a touch panel is manufactured is described as an example of the embodiment of the present invention, the present invention can be applied to the manufacture of the organic EL, organic semiconductor, solar cell and the like in addition to the touch panel.
(1) Embodiment 1
FIG. 1 is a diagram showing a first configuration example of the touch panel according to the present invention.
The basic configuration is the same as that shown in FIG. 18, and the touch panel 100 includes an image display device 30 such as an LCD panel and a position input device 10 disposed above the image display device 30.
The position input device 10 processes the position input information from the touch sensor module 10a and the touch sensor module 10a for detecting a portion of the touch sensor surface that is touched with a finger or a pen, and the image display device based on the information. 30 includes a touch panel control unit 10b for controlling 30.

タッチセンサモジュール10aは、図18(b)に示した第1の透明導電膜(例えば、ITO電極)パターンが施されたPETフィルム14と、図18(c)に示した第2の透明導電膜(例えば、ITO電極)パターンが施されたガラス基板16に積層された構造であり、上からカバーガラス11、シリコーン基板17a、プライマー18、第1のITO電極13、PETフィルム14、プライマー18、シリコーン基板17b、プライマー18、第2のITO電極15、ガラス基板16の順に積層される。なお、PETフィルム14の両面には、PETフィルム14の傷付き防止のため光透過性のハードコート層14aが設けられる。ハードコート層14aは、前記したように例えば、アクリレート樹脂等からなる。   The touch sensor module 10a includes a PET film 14 provided with a first transparent conductive film (for example, ITO electrode) pattern shown in FIG. 18B and a second transparent conductive film shown in FIG. 18C. (For example, ITO electrode) The structure is laminated on a glass substrate 16 provided with a pattern. From the top, the cover glass 11, the silicone substrate 17a, the primer 18, the first ITO electrode 13, the PET film 14, the primer 18, the silicone The substrate 17b, the primer 18, the second ITO electrode 15, and the glass substrate 16 are laminated in this order. A light-transmitting hard coat layer 14 a is provided on both surfaces of the PET film 14 to prevent the PET film 14 from being scratched. As described above, the hard coat layer 14a is made of, for example, an acrylate resin.

PETフィルム14の第1のITO電極13パターンが施された表面と対向する側のカバーガラス11表面の周縁部にはブラックマトリクス12が形成されている。
ガラス基板16の下側には、第1のITO電極13、第2のITO電極15と電気的に接続され、タッチパネル制御部10bとも電気的に接続される配線層21が設けられる。配線層21は、カバーガラス11側から観察した際、カバーガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、ガラス基板16の下側にて配置される。
タッチパネル制御部10bは、前記したようにタッチパネル(TP)コントロールIC部22とFPC(フレキシブルプリント基板)23とからなり、FPC23上にタッチパネルコントロールIC部22が設けられる。FPC23は、カバーガラス11側から観察した際、カバーガラス11に設けられたブラックマトリックス12によって遮蔽されるように、中央部分に開口が設けられた環状構造であり、タッチパネルコントロールIC部22はこの環状構造部分の上部に設けられる。
タッチパネル制御部10bは、タッチセンサモジュール10aの配線層21と電気的に接続され、また、画像表示装置30とも電気的に接続される。
上記したタッチセンサモジュール10a、タッチパネル制御部10bが画像表示装置30上に積層されて、タッチパネルが構成される。
A black matrix 12 is formed on the periphery of the surface of the cover glass 11 on the side facing the surface of the PET film 14 on which the first ITO electrode 13 pattern is applied.
On the lower side of the glass substrate 16, a wiring layer 21 that is electrically connected to the first ITO electrode 13 and the second ITO electrode 15 and is also electrically connected to the touch panel control unit 10b is provided. The wiring layer 21 is disposed on the lower side of the glass substrate 16 so as to be shielded by the black matrix 12 provided on the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side.
The touch panel control unit 10b includes the touch panel (TP) control IC unit 22 and the FPC (flexible printed circuit board) 23 as described above, and the touch panel control IC unit 22 is provided on the FPC 23. The FPC 23 has an annular structure in which an opening is provided in the central portion so as to be shielded by the black matrix 12 provided in the cover glass 11 when observed from the cover glass 11 side. Provided at the top of the structural part.
The touch panel control unit 10b is electrically connected to the wiring layer 21 of the touch sensor module 10a, and is also electrically connected to the image display device 30.
The touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b described above are stacked on the image display device 30 to constitute a touch panel.

図1に示すタッチパネルにおいては、タッチセンサモジュール10aにおける第1の透明導電膜(例えば、第1のITO電極13)の基板がPETフィルム14であり、第2の透明導電膜(例えば、第2のITO電極15)の基板がガラス基板16であるような例である。なお、図1に示すタッチパネルの構成例において、各基板、各層の厚みは説明を容易にするために誇張して描かれており、実際の各基板、各層の厚みの相対関係は、図1に示すものとは相違する。   In the touch panel shown in FIG. 1, the substrate of the first transparent conductive film (for example, the first ITO electrode 13) in the touch sensor module 10a is the PET film 14, and the second transparent conductive film (for example, the second transparent conductive film) In this example, the substrate of the ITO electrode 15) is the glass substrate 16. In the configuration example of the touch panel shown in FIG. 1, the thickness of each substrate and each layer is exaggerated for ease of explanation, and the relative relationship between the actual thickness of each substrate and each layer is shown in FIG. It is different from what is shown.

以下、上記タッチセンサモジュールを製造するための各ワークの貼り合わせ工程について説明する。
〔工程A−1〕カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程
本工程を図5に示す。本工程は、親水性表面を有する第1のワークと疎水性表面を有する第2のワークをシリコーン基板を介在させて貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)がハードコート層14a表面に施されたPETフィルム14である。
Hereinafter, the bonding process of each workpiece | work for manufacturing the said touch sensor module is demonstrated.
[Step A-1] Joining process of cover glass and PET film having first transparent conductive film (ITO electrode) applied on surface This process is shown in FIG. This process shows a method of bonding a first workpiece having a hydrophilic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface with a silicone substrate interposed, and corresponds to a first workpiece having a hydrophilic surface. The cover glass 11 and the second workpiece having a hydrophobic surface correspond to the PET film 14 having the first transparent conductive film (ITO electrode 13) applied to the surface of the hard coat layer 14a.

(a)カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合
親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の下側表面と疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14の第1のITO電極13側表面とを接合するのに先立って、まず、カバーガラス11とシリコーン(例えば、PDMS)基板17aとの接合を行う。
図5(a)に示すように、シリコーン(PDMS)基板17aの表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17aの表面を酸化し当該表面を親水性表面とする。
次に、カバーガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
(A) Bonding of Cover Glass 11 and Silicone Substrate 17a First of PET film 14 which is a second work having a lower surface and a hydrophobic surface of cover glass 11 which is a first work having a hydrophilic surface Prior to bonding the ITO electrode 13 side surface, first, the cover glass 11 and a silicone (for example, PDMS) substrate 17a are bonded.
As shown in FIG. 5A, the surface of the silicone substrate 17a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicone substrate 17a. Is a hydrophilic surface.
Next, the joint surface of the cover glass 11 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp.

その後、カバーガラス11の接合面とシリコーン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。   Thereafter, the bonding surface of the cover glass 11 and the UV irradiation surface of the silicone substrate 17a are overlapped. The bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a.

なお、カバーガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバーガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバーガラス11の接合面が活性化されたり、カバーガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、シリコーン(PDMS)基板17a表面とカバーガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
In addition, since the cover glass 11 itself is a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated or impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed. Bonding to 17a is more reliably performed.
Moreover, you may perform UV irradiation to the joint surface of the silicone (PDMS) board | substrate 17a surface and the cover glass 11 simultaneously.

(b)カバーガラス11と接合したシリコーン基板17aとPETフィルム14との接合
次に、図5(b)に示すように、例えば、前記図18(b)のようなパターンの第1のITO電極13がハードコート層14a表面に施されたPETフィルム14において、上記第1のITO電極13パターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。
(B) Joining of Silicone Substrate 17a Joined with Cover Glass 11 and PET Film 14 Next, as shown in FIG. 5B, for example, a first ITO electrode having a pattern as shown in FIG. A primer 18 is coated on the surface of the PET film 14 having the first ITO electrode 13 pattern applied thereto on the surface of the hard coat layer 14a. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source such as an excimer lamp, so that the primer coated surface is a surface suitable for bonding.

一方、カバーガラス11と接合されたシリコーン基板17aの、カバーガラス11との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。   On the other hand, the surface of the silicone substrate 17a bonded to the cover glass 11 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp on the surface opposite to the bonding surface with the cover glass 11. The UV irradiation surface of the silicone substrate 17a is oxidized to make the surface hydrophilic.

その後、シリコーン基板17aのUV照射処理した表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり加熱したりして、カバーガラス11が接合されたシリコーン基板17aと、第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。   Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17a and the UV-treated primer-coated surface of the PET film 14 are overlapped, and the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a are appropriately pressurized or heated. The silicone substrate 17a to which the cover glass 11 is bonded and the PET film 14 to which the first ITO electrode 13 is applied are bonded.

すなわち、本工程(A−1)において採用された接合方法は以下の通りである。
(1)親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の下側表面に、シリコーン基板17aを接合する。接合方法は、シリコーン基板17aに紫外線を照射して紫外線照射面を親水性表面とし、当該表面をカバーガラス11上に積層して、親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11とシリコーン基板17aを接合する。なお、上記したように、カバーガラス11の接合面にも紫外線を照射してもよい。
(2)疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14のハードコード層14aの第1の透明導電膜(ITO電極13)が施された面にプライマーコートする。
(3)親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11に接合されたシリコーン基板17a表面と、疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(4)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(5)上から、疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14、シリコーン基板17a、親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the joining method employed in this step (A-1) is as follows.
(1) The silicone substrate 17a is bonded to the lower surface of the cover glass 11, which is a first workpiece having a hydrophilic surface. As a bonding method, the silicone substrate 17a is irradiated with ultraviolet rays to make the ultraviolet irradiation surface a hydrophilic surface, and the surface is laminated on the cover glass 11, and the cover glass 11 which is the first workpiece having the hydrophilic surface and the silicone. The substrate 17a is bonded. As described above, the bonding surface of the cover glass 11 may be irradiated with ultraviolet rays.
(2) Primer coat the surface of the hard film layer 14a of the PET film 14, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, to which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is applied.
(3) The first transparent conductive film (ITO) of the surface of the silicone substrate 17a bonded to the cover glass 11 as the first work having a hydrophilic surface and the PET film 14 as the second work having a hydrophobic surface. The primer 18 coated on the surface on which the electrode 13) is applied is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(4) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(5) From the top, the contact of each workpiece superposed in the order of the PET film 14 as the second workpiece having a hydrophobic surface, the silicone substrate 17a, and the cover glass 11 as the first workpiece having a hydrophilic surface. Heat while pressing the surface.
In (5) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

〔工程B−1〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたガラスとの接合工程
本工程を図6、図7に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11が接合されているPETフィルム14、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施されたガラス基板16である。
(a)シリコーン基板17bとPETフィルム14(カバーガラス11と接合済み)との接合
図6(a)に示すように、シリコーン基板17b表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17b表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
[Step B-1] Joining process between PET film having first transparent conductive film (ITO electrode) applied to surface and glass having second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface 6 and FIG. This process shows a method for bonding a first workpiece having a hydrophobic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface via a silicone substrate, and corresponds to a first workpiece having a hydrophobic surface. This is done by a PET film 14 to which a cover glass 11 is bonded, and a second substrate having a hydrophobic surface corresponding to a glass substrate 16 having a second transparent conductive film (ITO electrode 15) applied to the surface. is there.
(A) Bonding of Silicone Substrate 17b and PET Film 14 (Already Bonded to Cover Glass 11) As shown in FIG. 6A, the surface of the silicone substrate 17b is emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp. Irradiation with UV light oxidizes the surface of the silicone substrate 17b to make the surface hydrophilic.

次に第1のITO電極13パターンが施されているハードコート層14a表面にシリコーン基板17aを介してカバーガラス11が接合されているPETフィルム14において、図6(a)に示すように、第1のITO電極13パターンが施されている面の反対側のハードコート層14a表面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。
その後、シリコーン基板17bのUV照射表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、PETフィルム14とシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、シリコーン基板17bと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。
Next, in the PET film 14 in which the cover glass 11 is bonded to the surface of the hard coat layer 14a on which the first ITO electrode 13 pattern is applied via the silicone substrate 17a, as shown in FIG. The primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the 1 ITO electrode 13 pattern is applied. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.
Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17b and the UV-treated primer coat surface of the PET film 14 are overlapped, and the PET film 14 and the silicone substrate 17b are appropriately pressurized or heated to A first ITO electrode 13 is bonded to a PET film 14 having a surface.

(b)PETフィルム14(カバーガラス11と接合済み)とガラス基板16との接合
図7(b)に示すように、PETフィルム14と接合されたシリコーン基板17bの、PETフィルム14との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
次に、例えば、図18(c)のようなパターンの第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16において、上記第2のITO電極パターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。
(B) Joining of PET film 14 (attached to cover glass 11) and glass substrate 16 As shown in FIG. 7B, the joining surface of PET substrate 14 with silicone substrate 17b joined to PET film 14 The surface opposite to the surface is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, and the UV irradiation surface of the silicone substrate 17b is oxidized to make the surface a hydrophilic surface.
Next, for example, a primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 having a pattern as shown in FIG. . Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source such as an excimer lamp, so that the primer coated surface is a surface suitable for bonding.

その後、シリコーン基板17bのUV照射表面とガラス基板16のUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、ガラス基板16とシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、PETフィルム14と接合されたシリコーン基板17bと、第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを接合する。
なお、第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16の代わりに、第2のITO電極15が表面に施された樹脂基板(例えば、PETフィルム14)が用いられる場合もあるが、工程2の手順に変化はない。
Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17b and the UV-treated primer coat surface of the glass substrate 16 are overlapped, and the glass substrate 16 and the silicone substrate 17b are appropriately pressurized or heated to obtain the PET film 14 and The bonded silicone substrate 17b is bonded to the glass substrate 16 having the second ITO electrode 15 provided on the surface thereof.
In addition, instead of the glass substrate 16 having the second ITO electrode 15 applied to the surface, a resin substrate (for example, a PET film 14) having the second ITO electrode 15 applied to the surface may be used. There is no change in the procedure of step 2.

すなわち、本工程(B−1)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第1のワークであってカバーガラス11が接合されているPETフィルム14において、PETフィルム14の上記カバーガラス11が接合されていないハードコート層14a表面(疎水性表面)にプライマー18をコートする。
(2)シリコーン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第1のワークであるPETフィルム14のプライマー18がコートされた面とに対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)上から、シリコーン基板17b、プライマー18、疎水性表面を持つ第1のワークであるPETフィルム14(カバーガラス11接合済み)の順に重ね合わせられているワークを加圧しながら、加熱する。
(5)疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(6)疎水性表面を持つ第1のワークであるPETフィルム14(カバーガラス11接合済み)に接合されたシリコーン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(7)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(8)上から、疎水性表面を持つ第1のワークであるPETフィルム14(カバーガラス11接合済み)、シリコーン基板17b、疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(4)(8)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (B-1) is as follows.
(1) The surface of the hard coat layer 14a (hydrophobic surface) of the PET film 14 to which the cover glass 11 is not bonded in the PET film 14 which is the first workpiece having the hydrophobic surface and bonded to the cover glass 11. ) Is coated with primer 18.
(2) The surface of the silicone substrate 17b and the surface coated with the primer 18 of the PET film 14, which is the first workpiece having a hydrophobic surface, are irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(3) Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
(4) From above, the workpiece superposed in the order of the silicone substrate 17b, the primer 18, and the PET workpiece 14 (cover glass 11 already bonded) having a hydrophobic surface is heated while being pressed.
(5) The primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 that is the second workpiece having a hydrophobic surface, on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied.
(6) The surface of the silicone substrate 17b bonded to the PET film 14 (cover glass 11 bonded), which is the first workpiece having a hydrophobic surface, and the glass substrate 16 which is the second workpiece having the hydrophobic surface. The primer 18 coated on the surface of the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(7) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(8) From above, the PET film 14 (cover glass 11 bonded), which is the first workpiece having a hydrophobic surface, the silicone substrate 17b, and the glass substrate 16, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, are stacked in this order. The contact surface of each workpiece is heated while applying pressure.
In addition, in (4) and (8) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

本発明の接合方法を採用した〔工程A−1〕と〔工程B−1〕を経て、図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュールが構成される。
このタッチセンサモジュール10aとタッチパネル制御部10bがLCDパネル等の画像表示装置30上に積層されて、タッチパネルが構成される。ここで、タッチパネル制御部10bの構造例や、タッチセンサモジュール10a、タッチパネル制御部10b、画像表示装置30の順に積層されるタッチパネルの接合は、従来技術と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。
The touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 1 is configured through [Step A-1] and [Step B-1] employing the bonding method of the present invention.
The touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b are stacked on the image display device 30 such as an LCD panel to constitute a touch panel. Here, the structure example of the touch panel control unit 10b and the joining of the touch panels stacked in the order of the touch sensor module 10a, the touch panel control unit 10b, and the image display device 30 are the same as those in the related art, and thus detailed description will be given here. Omitted.

本実施の形態1は、タッチパネルにおけるタッチセンサモジュールを以下のような方法で構築するものである。すなわち、タッチセンサモジュールの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテープまたはOCRに代えてシリコーン(基板)を使用し、シリコーン(基板)と各構成要素の接合面に紫外線を照射するものである。
そして、タッチセンサモジュールの導電性薄膜(例えば、ITO電極)が設けられている基板において、上記導電性薄膜が設けられている面にプライマー(例えば、シランカップリング剤)をコートし、当該プライマーのコート面に紫外線を照射するものである。
更には、上記導電性薄膜が設けられている基板の上記導電性薄膜が設けられていない側表面が疎水性表面である場合、当該表面にもプライマー18(例えば、シランカップリング剤)をコートし、当該プライマーコート面に紫外線を照射するものである。
In the first embodiment, a touch sensor module in a touch panel is constructed by the following method. That is, when bonding each component of the touch sensor module, silicone (substrate) is used instead of the conventional OCA tape or OCR, and ultraviolet rays are irradiated to the bonding surface between the silicone (substrate) and each component. .
Then, on the substrate on which the conductive thin film (for example, ITO electrode) of the touch sensor module is provided, the surface on which the conductive thin film is provided is coated with a primer (for example, a silane coupling agent), and the primer The coated surface is irradiated with ultraviolet rays.
Furthermore, when the surface on which the conductive thin film is not provided on the substrate on which the conductive thin film is provided is a hydrophobic surface, the surface is also coated with a primer 18 (for example, a silane coupling agent). The primer coat surface is irradiated with ultraviolet rays.

本発明の貼り合わせ方法によってタッチセンサモジュールを構築することにより、以下のような利点が得られる。
すなわち、OCAテープやOCRとは異なり、シリコーンには長時間経過後の着色が発生せず、最終製品であるタッチパネルの画像に変色の影響が発生しない。
また、導電性薄膜のような段差構造が接合面に存在する場合であっても、シリコーンは段差に応じて変形・密着するので貼り付け時の上記段差部分への気泡混入の抑制が容易である。また、接合面が大面積の部材に対しても容易に接合することが可能である。
By constructing a touch sensor module by the bonding method of the present invention, the following advantages can be obtained.
That is, unlike OCA tape and OCR, silicone does not color after a long time, and the touch panel image, which is the final product, does not have an influence of discoloration.
Even when a step structure such as a conductive thin film is present on the joint surface, silicone deforms and adheres according to the step, so that it is easy to prevent air bubbles from being mixed into the step portion at the time of attachment. . Further, it is possible to easily join a member having a large joint surface.

また、OCRのような硬化反応による接合ではないので、OCR特有の接合面への塗布工程における塗布均一性実現の困難さ、硬化時の変形といった問題は回避される。また、OCRより耐熱温度が高いので、紫外線照射光源とシリコーン基板の照射面を近接させることができ、効率的にシリコーン基板の光照射面を改質することが可能となる。これに対し、紫外線硬化性OCRを使用する場合は、OCR自体の耐熱性が低いので、紫外線硬化性OCR塗布面と紫外線照射光源40とをあまり近づけることができず、当該紫外線硬化性OCR塗布面での紫外線強度が小さくなり、紫外線の利用効率が小さくなる。これに伴い、貼り合わせのためのOCR硬化反応に要する時間が長時間化する。
また、一般にシリコーン基板は、OCAテープやOCRと比較すると価格が安価である。
Further, since the bonding is not performed by a curing reaction such as OCR, problems such as difficulty in realizing coating uniformity in the coating process on the bonding surface peculiar to OCR and deformation during curing can be avoided. In addition, since the heat resistant temperature is higher than that of OCR, the ultraviolet light source and the irradiation surface of the silicone substrate can be brought close to each other, and the light irradiation surface of the silicone substrate can be efficiently modified. On the other hand, when UV curable OCR is used, since the heat resistance of OCR itself is low, the UV curable OCR application surface and the UV irradiation light source 40 cannot be brought too close to each other, and the UV curable OCR application surface is not provided. The intensity of ultraviolet rays becomes small, and the utilization efficiency of ultraviolet rays becomes small. As a result, the time required for the OCR curing reaction for bonding increases.
In general, a silicone substrate is less expensive than an OCA tape or OCR.

更に、シリコーン基板を用いた接合の場合、ガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコーン基板とを重ね合わせてすぐ接合が完了するのではなく、所定の時間だけ両基板を加圧したり、加熱したりすることによって接合が完了する。よって、重ね合わせた直後に両基板を分離するのは容易である。よって、例えばガラス基板や樹脂基板と紫外線を照射したシリコーン基板との位置合わせが不十分であるとき、重ね合わせた直後であるならば両者を一度剥がして、再度シリコーン基板に紫外線を照射して接合工程を行うことが可能となる。すなわち、OCAテープと比較すると、リワーク性に富んでいる。   Furthermore, in the case of bonding using a silicone substrate, the bonding is not completed immediately after the glass substrate or resin substrate and the silicone substrate irradiated with ultraviolet rays are overlaid, but both substrates are pressurized or heated for a predetermined time. To complete the joining. Therefore, it is easy to separate the two substrates immediately after the overlapping. Therefore, for example, when the alignment between the glass substrate or the resin substrate and the silicone substrate irradiated with ultraviolet rays is insufficient, if they are just after being overlapped, they are peeled off once, and the silicone substrate is irradiated again with ultraviolet rays and bonded. It becomes possible to perform a process. That is, it is rich in rework as compared with the OCA tape.

特に本発明の貼り合わせ方法においては、従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが困難であったシリコーン基板とタッチセンサモジュールの導電性薄膜基板の導電性薄膜表面との貼り合わせ、シリコーン基板と表面が疎水性である場合の導電性薄膜基板との貼り合わせについても、導電性薄膜表面、基板の疎水性表面にシランカップリング剤を導入して、当該シランカップリング剤を紫外線照射により表面改質する(接合に適した表面状態にする)ことを可能としたので、上記した貼り合わせを可能とすることできた。
すなわち、タッチセンサモジュールの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテープまたはOCRに代えてシリコーン(基板)を使用し、シリコーン(基板)と各構成要素の接合面に紫外線を照射して、タッチセンサモジュールの各構成要素の貼り合わせて当該タッチセンサモジュールを構成することが可能となった。
In particular, in the bonding method of the present invention, the bonding between the silicone substrate, which has been difficult to bond even by using surface modification treatment by ultraviolet irradiation, and the conductive thin film surface of the conductive thin film substrate of the touch sensor module is conventionally performed. In addition, for the bonding of the silicone substrate and the conductive thin film substrate when the surface is hydrophobic, a silane coupling agent is introduced into the conductive thin film surface and the hydrophobic surface of the substrate, and the silane coupling agent is Since it was possible to modify the surface by ultraviolet irradiation (to obtain a surface state suitable for bonding), it was possible to perform the above-described bonding.
That is, when bonding each component of the touch sensor module, silicone (substrate) is used in place of the conventional OCA tape or OCR, and ultraviolet rays are irradiated to the bonding surface between the silicone (substrate) and each component to perform touch. The touch sensor module can be configured by pasting each component of the sensor module.

〔実施の形態1の変形例(1)〕
実施の形態1においては、本発明の接合方法を採用した〔工程A−1〕と〔工程B−1〕を経て、図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュールを構成する例を示した。
[Modification (1) of Embodiment 1]
In Embodiment 1, the example which comprises the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 1 was shown through [process A-1] and [process B-1] which employ | adopted the joining method of this invention.

すなわち、〔工程A−1〕においては、まずカバーガラス11とシリコーン基板17aとを接合し、次にこのカバーガラス11と接合したシリコーン基板17aとPETフィルム14とを接合するという順番で、カバーガラス11と第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施されたPETフィルム14とを接合した。
また、〔工程B−1〕においては、まず〔工程A−1〕により構成されたシリコーン基板17aを介してカバーガラス11と接合されたPETフィルム14とシリコーン基板17bとを接合し、次にこのカバーガラス11と接合済のPETフィルム14と接合されたシリコーン基板17bとガラス基板16とを接合するという順番で、PETフィルム14と接合されたシリコーン基板17bと第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを接合してタッチセンサモジュール10bを構成した。
That is, in [Step A-1], the cover glass 11 and the silicone substrate 17a are first joined, and then the silicone substrate 17a joined to the cover glass 11 and the PET film 14 are joined in this order. 11 and a PET film 14 having a surface coated with a first transparent conductive film (ITO electrode 13).
In [Step B-1], first, the PET film 14 bonded to the cover glass 11 and the silicone substrate 17b are bonded via the silicone substrate 17a configured in [Step A-1], and then this The silicone substrate 17b and the second ITO electrode 15 bonded to the PET film 14 are applied to the surface in the order of bonding the glass substrate 16 and the silicone substrate 17b bonded to the cover glass 11 and the bonded PET film 14. The touched glass substrate 16 was joined to form the touch sensor module 10b.

しかしながら、ワークを貼り合わせる順番は上記〔工程A−1〕〔工程B−1〕に示す順番に限るものではない。
例えば、上記〔工程A−1〕において、まず、シリコーン基板17aとPETフィルム14とを接合し、次にこのPETフィルム14と接合されたシリコーン基板17aとカバーガラス11とを接合するという順番で、カバーガラス11と第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルム14とを接合してもよい。(以下、このような工程を〔工程A−2〕と呼ぶことにする。)
However, the order in which the workpieces are bonded is not limited to the order shown in [Step A-1] and [Step B-1].
For example, in the above [Step A-1], first, the silicone substrate 17a and the PET film 14 are joined, and then the silicone substrate 17a joined to the PET film 14 and the cover glass 11 are joined in the order, You may join the cover glass 11 and PET film 14 with which the 1st transparent conductive film (ITO electrode) was given to the surface. (Hereinafter, such a step is referred to as [Step A-2].)

同様に、上記〔工程B−1〕において、まずシリコーン基板17bとガラス基板16とを接合し、次にこのガラス基板16と接合されたシリコーン基板17bとカバーガラス11と接合済のPETフィルム14とを接合するという順番で、カバーガラス11と接合済のPETフィルム14とガラス基板16と接合済のシリコーン基板17bとを接合してタッチセンサモジュールを構成してもよい。(以下、このような工程B−1に代わる工程を〔工程B−2〕と呼ぶことにする。)   Similarly, in the above [Step B-1], the silicone substrate 17b and the glass substrate 16 are first bonded, and then the silicone substrate 17b bonded to the glass substrate 16 and the cover glass 11 are bonded to the PET film 14. In this order, the cover glass 11, the joined PET film 14, the glass substrate 16, and the joined silicone substrate 17b may be joined to form a touch sensor module. (Hereinafter, a process replacing the process B-1 will be referred to as [process B-2].)

以下、図8、図9、図10を用いて、本発明の接合方法を採用した〔工程A−2〕と〔工程B−2〕を経て図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュールを構成する例を説明する。
〔工程A−2〕カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程
本工程を図8に示す。本工程は、親水性表面を有する第1のワークと疎水性表面を有する第2のワークをシリコーン基板を介在させて貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11、疎水性表面を有する第2のワークに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)がハードコート層14a表面に施されたPETフィルム14である。
Hereinafter, an example in which the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 1 is configured through [Step A-2] and [Step B-2] using the bonding method of the present invention with reference to FIGS. Will be explained.
[Step A-2] Joining Step of Cover Glass and PET Film with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) on its Surface This step is shown in FIG. This process shows a method of bonding a first workpiece having a hydrophilic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface with a silicone substrate interposed, and corresponds to a first workpiece having a hydrophilic surface. The cover glass 11 and the second work having a hydrophobic surface correspond to the PET film 14 with the first transparent conductive film (ITO electrode 13) applied to the surface of the hard coat layer 14a.

(a)シリコーン基板17aとPETフィルム14との接合
例えば、図18(b)のようなパターンの第1のITO電極13がハードコート層14a表面に施されたPETフィルム14において、図8(a)に示すように、上記第1のITO電極13パターンが施されたハードコート層14a表面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。
(A) Bonding of Silicone Substrate 17a and PET Film 14 For example, in the PET film 14 in which the first ITO electrode 13 having a pattern as shown in FIG. 18B is applied to the surface of the hard coat layer 14a, FIG. ), The primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a provided with the first ITO electrode 13 pattern. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

またシリコーン基板17aの表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17a表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
その後、シリコーン基板17aのUV照射表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、PETフィルム14とシリコーン基板17aとを加圧したり加熱したりして、シリコーン基板17aと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。
Further, the surface of the silicone substrate 17a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicone substrate 17a to make the surface a hydrophilic surface.
Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17a and the primer-coated surface of the PET film 14 subjected to the UV-irradiation treatment are overlapped, and the PET film 14 and the silicone substrate 17a are appropriately pressurized or heated to obtain the silicone substrate 17a and A first ITO electrode 13 is bonded to a PET film 14 having a surface.

(b)PETフィルム14と接合したシリコーン基板17aとカバーガラス11との接合
次に、図8(b)に示すように、PETフィルム14と接合されたシリコーン基板17aの、PETフィルム14との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
また、カバーガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
(B) Bonding of Silicone Substrate 17a Bonded to PET Film 14 and Cover Glass 11 Next, as shown in FIG. 8B, bonding of the silicone substrate 17a bonded to PET film 14 to PET film 14 is performed. The surface opposite to the surface is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, and the UV irradiated surface of the silicone substrate 17a is oxidized to make the surface a hydrophilic surface.
Further, the joint surface of the cover glass 11 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp.

その後、PETフィルム14と接合されたシリコーン基板17aのUV照射表面とカバーガラス11の接合面とを重ね合わせ、適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。   Thereafter, the UV irradiation surface of the silicone substrate 17a bonded to the PET film 14 and the bonding surface of the cover glass 11 are overlapped, and the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a are appropriately pressurized or heated. , Increase the bonding strength.

なお、カバーガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバーガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバーガラス11の接合面が活性化されたり、カバーガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、PETフィルム14と接合されたシリコーン(PDMS)基板17a表面とカバーガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
In addition, since the cover glass 11 itself is a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated or impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed. Bonding to 17a is more reliably performed.
Moreover, you may perform UV irradiation to the joint surface of the silicone (PDMS) board | substrate 17a joined to PET film 14 and the cover glass 11 simultaneously.

すなわち、本工程(A−2)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(2)シリコーン基板17a表面と、疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14とシリコーン基板17aとが重ね合わせられているワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
(5)次に、疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14に接合されたシリコーン基板17a表面と、親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の接合面に対して紫外線を照射する。
(6)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(7)上から、疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14、シリコーン基板17a、親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(4)(7)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (A-2) is as follows.
(1) The primer 18 is coated on the surface of the PET film 14, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, on which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is applied.
(2) For the primer 18 coated on the surface of the surface of the PET film 14 which is the second workpiece having a hydrophobic surface and the surface of the silicone substrate 17a, the first transparent conductive film (ITO electrode 13). UV irradiation to make both surfaces hydrophilic.
(3) Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
(4) It heats, pressing the contact surface of the workpiece | work with which PET film 14 which is the 2nd workpiece | work which has a hydrophobic surface, and the silicone substrate 17a are piled up.
(5) Next, the surface of the silicone substrate 17a bonded to the PET film 14 as the second workpiece having a hydrophobic surface and the bonding surface of the cover glass 11 as the first workpiece having a hydrophilic surface Irradiate ultraviolet rays.
(6) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(7) From the top, the contact of each workpiece superposed in the order of the PET film 14 as the second workpiece having a hydrophobic surface, the silicone substrate 17a, and the cover glass 11 as the first workpiece having a hydrophilic surface. Heat while pressing the surface.
In (4) and (7) of this bonding method, only pressurization or only heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

〔工程B−2〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたガラスとの接合工程
本工程を図9、図10に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11が接合されているPETフィルム14、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施されたガラス基板16である。
[Step B-2] Joining process of PET film having first transparent conductive film (ITO electrode) applied to surface and glass having second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface 9 and FIG. This process shows a method for bonding a first workpiece having a hydrophobic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface via a silicone substrate, and corresponds to a first workpiece having a hydrophobic surface. This is done by a PET film 14 to which a cover glass 11 is bonded, and a second substrate having a hydrophobic surface corresponding to a glass substrate 16 having a second transparent conductive film (ITO electrode 15) applied to the surface. is there.

(a)シリコーン基板17bとガラス基板16との接合
図9(a)に示すように、シリコーン基板17b表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17b表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
(A) Bonding of Silicone Substrate 17b and Glass Substrate 16 As shown in FIG. 9 (a), the surface of the silicone substrate 17b is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to thereby form silicone. The surface of the substrate 17b is oxidized to make the surface hydrophilic.

また、例えば、図18(c)のようなパターンの第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16において、上記第2のITO電極15パターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   Further, for example, in the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 having a pattern as shown in FIG. 18C is applied, the primer 18 is coated on the surface on which the second ITO electrode 15 pattern is applied. . Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

その後、シリコーン基板17bのUV照射表面とガラス基板16のUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、ガラス基板16とシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、シリコーン基板17bと第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを接合する。   Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17b and the UV-treated primer coat surface of the glass substrate 16 are overlapped, and the glass substrate 16 and the silicone substrate 17b are appropriately pressed or heated to obtain the silicone substrate 17b. The second ITO electrode 15 is bonded to the glass substrate 16 provided on the surface.

図10(b)に示すように、ガラス基板16と接合されたシリコーン基板17bの、ガラス基板16との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。   As shown in FIG. 10B, the silicone substrate 17b bonded to the glass substrate 16 is emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp on the surface opposite to the bonding surface with the glass substrate 16. UV light is irradiated to oxidize the UV irradiated surface of the silicone substrate 17b to make the surface hydrophilic.

次に第1のITO電極13パターンが施されている面にプライマー18、シリコーン基板17aを介してカバーガラス11が接合されているPETフィルム14において、図10(b)に示すように、第1のITO電極13パターンが施されている面の反対側のハードコート層14a表面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   Next, in the PET film 14 in which the cover glass 11 is bonded to the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied via the primer 18 and the silicone substrate 17a, as shown in FIG. The primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface on which the ITO electrode 13 pattern is applied. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

その後、シリコーン基板17bのUV照射表面とPETフィルム14のUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、PETフィルム14とシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、ガラス基板16と接合されたシリコーン基板17bと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを接合する。   Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17b and the UV-treated primer coat surface of the PET film 14 are overlapped, and the PET film 14 and the silicone substrate 17b are appropriately pressed or heated to form the glass substrate 16 The bonded silicone substrate 17b and the PET film 14 having the first ITO electrode 13 applied to the surface are bonded.

すなわち、本工程(B−2)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(2)シリコーン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)シリコーン基板17bと疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16が重ね合わせられているワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
(5)疎水性表面を持つ第1のワークであってカバーガラス11が接合されているPETフィルム14において、PETフィルム14の上記カバーガラス11が接合されていないハードコート層14a表面にプライマー18をコートする。
(6)疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16に接合されたシリコーン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第1のワークであるPET基板のカバーガラス11が接合されていないハードコート層14a表面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(7)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(8)上から、疎水性表面を持つ第1のワークであるPETフィルム14(カバーガラス11接合済み)、プライマー18、シリコーン基板17b、プライマー18、疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(4)(8)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (B-2) is as follows.
(1) The primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 that is the second workpiece having a hydrophobic surface, on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied.
(2) For the primer 18 coated on the surface of the glass substrate 16 which is the second workpiece having a hydrophobic surface and the surface of the silicone substrate 17b, and the second transparent conductive film (ITO electrode 15) applied to the surface. UV irradiation to make both surfaces hydrophilic.
(3) Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
(4) Heat is applied while pressing the contact surface of the workpiece on which the silicone substrate 17b and the glass substrate 16 as the second workpiece having a hydrophobic surface are superimposed.
(5) In the PET film 14 which is the first work having a hydrophobic surface and the cover glass 11 is bonded, the primer 18 is applied to the surface of the hard coat layer 14a of the PET film 14 where the cover glass 11 is not bonded. Coat.
(6) The hardware in which the surface of the silicone substrate 17b bonded to the glass substrate 16 that is the second workpiece having a hydrophobic surface and the cover glass 11 of the PET substrate that is the first workpiece having the hydrophobic surface are not bonded. The primer 18 coated on the surface of the coat layer 14a is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(7) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(8) From above, PET film 14 (cover glass 11 bonded), which is a first workpiece having a hydrophobic surface, primer 18, silicone substrate 17b, primer 18, and glass which is a second workpiece having a hydrophobic surface Heating is performed while pressing the contact surfaces of the workpieces stacked in the order of the substrate 16.
In addition, in (4) and (8) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

〔実施の形態1の変形例(2)〕
実施の形態1の〔工程A−1〕〔工程B−1〕、ならびに実施の形態1の変形例(1)の〔工程A−2〕〔工程B−2〕は、2つのワークの貼り合わせを繰り返すことにより構成されている。しかしながら、各工程において3つのワークを一度に貼り合わせるように構成してもよい。
[Modification (2) of Embodiment 1]
[Step A-1] [Step B-1] of Embodiment 1 and [Step A-2] [Step B-2] of Modification Example (1) of Embodiment 1 are performed by bonding two workpieces. It is comprised by repeating. However, you may comprise so that three workpieces may be bonded together in each process.

例えば、上記〔工程A−1〕〔工程A−2〕において、カバーガラス11とシリコーン基板17aとPETフィルム14とを一度に接合してもよい。(以下、このような工程を〔工程A−3〕と呼ぶことにする。)
同様に、上記〔工程B−1〕〔工程B−2〕において、カバーガラス11と接合済のPETフィルム14とシリコーン基板17bとガラス基板16とを一度に接合してもよい(以下、このような工程を〔工程B−3〕と呼ぶことにする。)。
For example, in the above [Step A-1] and [Step A-2], the cover glass 11, the silicone substrate 17a, and the PET film 14 may be bonded at a time. (Hereinafter, such a step is referred to as [Step A-3].)
Similarly, in the above [Step B-1] and [Step B-2], the cover glass 11, the joined PET film 14, the silicone substrate 17b, and the glass substrate 16 may be joined at one time (hereinafter referred to as such). This process is called [Process B-3].)

以下、図11、図12を用いて、本発明の接合方法を採用した〔工程A−3〕と〔工程B−3〕を経て図1に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュールを構成する例を説明する。   Hereinafter, an example in which the touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 1 is configured through [Step A-3] and [Step B-3] using the bonding method of the present invention will be described with reference to FIGS. .

〔工程A−3〕カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムとの接合工程
本工程を図11に示す。本工程は、親水性表面を有する第1のワークと疎水性表面を有する第2のワークをシリコーン基板を介在させて貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11、疎水性表面を有する第2のワークに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)がハードコート層14a表面に施されたPETフィルム14である。
[Step A-3] Joining process of cover glass and PET film having first transparent conductive film (ITO electrode) on surface This step is shown in FIG. This process shows a method of bonding a first workpiece having a hydrophilic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface with a silicone substrate interposed, and corresponds to a first workpiece having a hydrophilic surface. The cover glass 11 and the second work having a hydrophobic surface correspond to the PET film 14 with the first transparent conductive film (ITO electrode 13) applied to the surface of the hard coat layer 14a.

例えば、図18(b)のようなパターンの第1のITO電極13がハードコート層14a表面に施されたPETフィルム14において、図11に示すように、上記第1のITO電極13のパターンが施されたハードコート層14a表面にプライマー18をコートする。このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   For example, in the PET film 14 in which the first ITO electrode 13 having a pattern as shown in FIG. 18B is applied to the surface of the hard coat layer 14a, the pattern of the first ITO electrode 13 is as shown in FIG. The primer 18 is coated on the surface of the applied hard coat layer 14a. The surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

また、図11に示すようにシリコーン基板17aの両面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17aの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
更に、図11に示すようにカバーガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
Further, as shown in FIG. 11, both surfaces of the silicone substrate 17a are irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicone substrate 17a and make the surface hydrophilic. And
Further, as shown in FIG. 11, UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is applied to the joint surface of the cover glass 11.

その後、カバーガラス11のUV照射処理された接合面とシリコーン基板17aのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコーン基板17aのUV照射処理された他方の面とPETフィルム14のUV照射処理されたプライマーコート面とを重ね合わせる。そして、カバーガラス11、シリコーン基板17a、PETフィルム14の順番で積層されたワークを、適宜、加圧したり加熱したりして、カバーガラス11とシリコーン基板17aと第1のITO電極13が表面に施されたPETフィルム14とを一度に接合する。   Thereafter, the UV irradiation treatment is performed on the bonding surface of the cover glass 11 that has been subjected to the UV irradiation treatment and one surface of the silicone substrate 17a that has been subjected to the UV irradiation treatment, and on the other surface of the silicone substrate 17a that has been subjected to the UV irradiation treatment. Overlay with the primer coat surface. And the work laminated | stacked in order of the cover glass 11, the silicone substrate 17a, and the PET film 14 is pressurized or heated suitably, and the cover glass 11, the silicone substrate 17a, and the 1st ITO electrode 13 are on the surface. The applied PET film 14 is bonded at a time.

なお、カバーガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバーガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバーガラス11の接合面が活性化されたり、カバーガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、カバーガラス11の接合面と、シリコーン基板17a両面と、PETフィルム14のプライマーコート面へのUV照射は同時に行っても個別に行っても良い。
In addition, since the cover glass 11 itself is a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated or impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed. Bonding to 17a is more reliably performed.
Moreover, UV irradiation to the joint surface of the cover glass 11, both surfaces of the silicone substrate 17a, and the primer coat surface of the PET film 14 may be performed simultaneously or individually.

すなわち、本工程(A−3)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(2)親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の接合面と、シリコーン基板17aの両面と、疎水性表面を持つ第2のワークであるPETフィルム14の第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、各紫外線照射面を親水性表面とする。
(3)その後、カバーガラス11のUV照射処理された接合面とシリコーン基板17aのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコーン基板17aのUV照射処理された他方の面とPETフィルム14のUV照射処理されたプライマーコート面とを重ね合わせる。
(4)そして、カバーガラス11、シリコーン基板17a、PETフィルム14の順番で積層された各ワークの接触面を加圧しながら、加熱して、各ワークを一度に接合する。
なお、本接合方法の(4)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (A-3) is as follows.
(1) The primer 18 is coated on the surface of the PET film 14, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, on which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is applied.
(2) The first transparent conductive film of the PET film 14, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, the bonding surface of the cover glass 11 which is the first workpiece having a hydrophilic surface, both surfaces of the silicone substrate 17 a, and the hydrophobic surface. The primer 18 coated on the surface on which the (ITO electrode 13) is applied is irradiated with ultraviolet rays to make each ultraviolet irradiation surface a hydrophilic surface.
(3) Thereafter, the UV irradiation-treated bonding surface of the cover glass 11 and the one surface of the silicone substrate 17a that has been subjected to the UV irradiation treatment, and the other surface of the silicone substrate 17a that has been subjected to the UV irradiation treatment and the UV of the PET film 14. Overlay the irradiated primer coat surface.
(4) Then, the contact surfaces of the workpieces laminated in the order of the cover glass 11, the silicone substrate 17a, and the PET film 14 are heated while being pressed to join the workpieces at a time.
In (4) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

〔工程B−3〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたPETフィルムと第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施されたガラスとの接合工程
本工程を図12に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11が接合されているPETフィルム14、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施されたガラス基板16である。
[Step B-3] Joining process between PET film having first transparent conductive film (ITO electrode) applied to surface and glass having second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface 12 shows. This process shows a method for bonding a first workpiece having a hydrophobic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface via a silicone substrate, and corresponds to a first workpiece having a hydrophobic surface. This is done by a PET film 14 to which a cover glass 11 is bonded, and a second substrate having a hydrophobic surface corresponding to a glass substrate 16 having a second transparent conductive film (ITO electrode 15) applied to the surface. is there.

図12に示すように、シリコーン基板17aを介してカバーガラス11が接合されているPETフィルム14において、カバーガラス11が接合されている面の反対側のハードコート層14aの表面にプライマー18をコートする。そして、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   As shown in FIG. 12, in the PET film 14 to which the cover glass 11 is bonded via the silicone substrate 17a, the primer 18 is coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface to which the cover glass 11 is bonded. To do. The surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coated surface is a surface suitable for bonding.

また、図12に示すようにシリコーン基板17bの両面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。   Further, as shown in FIG. 12, both surfaces of the silicone substrate 17b are irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicone substrate 17b so that the surface becomes a hydrophilic surface. And

更に、例えば図18(c)のようなパターンの第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16において、図12に示すように上記第2のITO電極15のパターンが施された面にプライマー18をコートする。そして、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   Further, for example, in the glass substrate 16 on the surface of which the second ITO electrode 15 having a pattern as shown in FIG. 18C is applied, the surface on which the pattern of the second ITO electrode 15 is applied as shown in FIG. The primer 18 is coated. The surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, so that the primer coated surface is a surface suitable for bonding.

その後、PETフィルム14のUV照射処理されたプライマーコート面とシリコーン基板17bのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコーン基板17bのUV照射処理された他方の面とガラス基板16のUV照射処理されたプライマーコート面とを重ね合わせる。
そして、カバーガラス11が接合済みであるPETフィルム14、シリコーン基板17b、ガラス基板16の順番で積層されたワークを、適宜、加圧したり加熱したりして、カバーガラス11が接合済みであるPETフィルム14とシリコーン基板17bと第2のITO電極15が表面に施されたガラス基板16とを一度に接合する。
なお、また、PETフィルム14のプライマーコート面と、シリコーン基板17b両面と、ガラス基板16のプライマーコート面へのUV照射は同時に行っても個別に行っても良い。
After that, the UV-treated primer coat surface of the PET film 14 and one surface of the silicone substrate 17b treated with UV irradiation, and the other surface of the silicone substrate 17b treated with UV irradiation and the glass substrate 16 are irradiated with UV. Overlay the applied primer coat surface.
And the work laminated | stacked in order of the PET film 14, the silicone substrate 17b, and the glass substrate 16 with which the cover glass 11 has been joined is suitably pressurized or heated, and PET with the cover glass 11 having been joined. The film 14, the silicone substrate 17b, and the glass substrate 16 on which the second ITO electrode 15 is applied are bonded at a time.
In addition, UV irradiation to the primer coat surface of the PET film 14, both surfaces of the silicone substrate 17b, and the primer coat surface of the glass substrate 16 may be performed simultaneously or individually.

すなわち、本工程(B−3)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第1のワークであってカバーガラス11が接合されているPETフィルム14において、PETフィルム14の上記カバーガラス11が接合されていないハードコート層14a表面にプライマー18をコートする。
(2)疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(3)疎水性表面を持つ第1のワークであってカバーガラス11が接合されているPETフィルム14のカバーガラス11が接合されている面の反対側のハードコート層14a表面にコートされたプライマー18と、シリコーン基板17bの両面と、疎水性表面を持つ第2のワークであるガラス基板16の第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、各紫外線照射面を親水性表面とする。
(4)その後、PETフィルム14のUV照射処理されたプライマーコート面とシリコーン基板17bのUV照射処理された一方の面、ならびに、シリコーン基板17bのUV照射処理された他方の面とガラス基板16のUV照射処理されたプライマーコート面とを重ね合わせる。
(5)そして、カバーガラス11が接合済みであるPETフィルム14、シリコーン基板17b、ガラス基板16の順番で積層された各ワークの接触面を加圧しながら、加熱して、各ワークを一度に接合する。
なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (B-3) is as follows.
(1) In the PET film 14 which is the first work having a hydrophobic surface and the cover glass 11 is bonded, the primer 18 is applied to the surface of the hard coat layer 14a of the PET film 14 where the cover glass 11 is not bonded. Coat.
(2) The primer 18 is coated on the surface of the glass substrate 16 that is the second workpiece having a hydrophobic surface, on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied.
(3) Primer coated on the surface of the hard coat layer 14a opposite to the surface to which the cover glass 11 of the PET film 14 to which the cover glass 11 is bonded is a first work having a hydrophobic surface. 18 and the primer 18 coated on the surface of the glass substrate 16 which is the second workpiece having a hydrophobic surface and the second transparent conductive film (ITO electrode 15) on the surface of the silicone substrate 17b. On the other hand, ultraviolet rays are irradiated to make each ultraviolet irradiation surface a hydrophilic surface.
(4) Thereafter, the UV-treated primer coat surface of the PET film 14 and the UV-treated one surface of the silicone substrate 17b, and the UV-treated other surface of the silicone substrate 17b and the glass substrate 16 The primer-coated surface that has been subjected to UV irradiation is overlaid.
(5) Then, while pressing the contact surfaces of the workpieces laminated in the order of the PET film 14 to which the cover glass 11 has been bonded, the silicone substrate 17b, and the glass substrate 16 are heated, the workpieces are bonded at once. To do.
In (5) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

〔実施の形態2〕
実施の形態1においては、図1に示すタッチパネルの構成例において、第1の透明導電膜(例えば、ITO電極13)の基板がPETフィルム14であり、第2の透明導電膜(例えば、ITO電極15)の基板がガラス基板16であるようなタッチセンサモジュールを組み上げる際に採用される本発明の接合方法を示した。
実施の形態2においては、図13に示すタッチパネルの構成例におけるタッチセンサモジュールを組み上げる際に採用される本発明の接合方法を示す。
[Embodiment 2]
In the first embodiment, in the configuration example of the touch panel shown in FIG. 1, the substrate of the first transparent conductive film (for example, ITO electrode 13) is the PET film 14, and the second transparent conductive film (for example, the ITO electrode). The bonding method of the present invention employed when assembling a touch sensor module in which the substrate 15) is the glass substrate 16 has been shown.
In Embodiment 2, the joining method of the present invention employed when assembling the touch sensor module in the configuration example of the touch panel shown in FIG. 13 will be described.

透明導電膜の基板としてガラス基板は、フィルム基板と比較すると視認性、耐久性が優れている。すなわち、ガラス基板はフィルム基板と比較すると光透過性が高く、光の錯乱や基板歪みの影響を小さくすることが可能であり、また紫外線などによる変色が少ないので、視認性の点でフィルム基板に対して優位である。また、ガラス基板は広い温度範囲での耐久性や耐水性についても優れており、フィルム基板と比較すると耐候性が高い。高い視認性や耐候性が求められる機械設備用タッチパネルや屋外使用のタッチパネルにおいて、透明導電膜の基板としてガラス基板を用いる要請が高くなってきており、近年、第1、第2の透明導電膜のいずれの基板にもガラス基板を用いることが検討されている。また、ガラス基板の薄板化も実現されつつあり、フィルム基板と同様、形状の自由度、パネルの薄型化にも対応可能となってきている。   As a substrate for a transparent conductive film, a glass substrate is superior in visibility and durability as compared with a film substrate. In other words, the glass substrate has higher light transmittance than the film substrate, can reduce the influence of light confusion and substrate distortion, and has less discoloration due to ultraviolet rays, etc. It is superior to this. In addition, the glass substrate is excellent in durability and water resistance in a wide temperature range, and has higher weather resistance than the film substrate. In a touch panel for mechanical equipment or a touch panel for outdoor use that requires high visibility and weather resistance, there is an increasing demand for using a glass substrate as a substrate for a transparent conductive film. The use of a glass substrate for any of the substrates has been studied. In addition, thinning of the glass substrate is being realized, and as with the film substrate, it has become possible to cope with the degree of freedom of shape and the thinning of the panel.

図13は、第1の透明導電膜(例えば、ITO電極13)の基板、第2の透明導電膜(例えば、ITO電極15)の基板双方をガラス基板16a,16bとしたときに、本発明の接合方法を用いて組み上げたタッチパネルの構成例を示す。ここで、図13(a)は、シリコーン基板17bを挟んで第1の透明導電膜13と第2の透明導電膜15とが対向する場合である。
図13(a)において、タッチセンサモジュール10aは、上からカバーガラス11、シリコーン基板17a、第1のガラス基板16a、第1のITO電極13、プライマー18、シリコーン基板17b、プライマー18、第2のITO電極15、第2のガラス基板16bの順に積層される。その他の構成は、図1と同じである。
FIG. 13 shows the case where both the substrate of the first transparent conductive film (for example, ITO electrode 13) and the substrate of the second transparent conductive film (for example, ITO electrode 15) are glass substrates 16a and 16b. The structural example of the touch panel assembled using the joining method is shown. Here, FIG. 13A shows a case where the first transparent conductive film 13 and the second transparent conductive film 15 face each other with the silicone substrate 17b interposed therebetween.
In FIG. 13A, the touch sensor module 10a includes a cover glass 11, a silicone substrate 17a, a first glass substrate 16a, a first ITO electrode 13, a primer 18, a silicone substrate 17b, a primer 18, and a second glass from the top. The ITO electrode 15 and the second glass substrate 16b are laminated in this order. Other configurations are the same as those in FIG.

図13(b)は、第1の透明導電膜13と第2の透明導電膜15のうち、第2の透明導電膜15のみシリコーン基板17bと接触する場合である。
図13(b)において、タッチセンサモジュール10aは、上からカバーガラス11、シリコーン基板17a、プライマー18、第1のITO電極13、第1のガラス基板16a、シリコーン基板17b、プライマー18、第2のITO電極15、第2のガラス基板16bの順に積層される。その他の構成は、図13(a)と同じである。
なお、図13に示すタッチパネルの構成例において、各基板、各層の厚みは説明を容易にするために誇張して描かれており、実際の各基板、各層の厚みの相対関係は、図13に示すものとは相違する。
まず、図13(a)に示す構成例のタッチパネルを製造する際に用いられる本発明の接合方法について図14、図15により説明する。
FIG. 13B shows a case where only the second transparent conductive film 15 of the first transparent conductive film 13 and the second transparent conductive film 15 is in contact with the silicone substrate 17b.
In FIG. 13B, the touch sensor module 10a includes a cover glass 11, a silicone substrate 17a, a primer 18, a first ITO electrode 13, a first glass substrate 16a, a silicone substrate 17b, a primer 18, and a second glass from the top. The ITO electrode 15 and the second glass substrate 16b are laminated in this order. Other configurations are the same as those in FIG.
In the configuration example of the touch panel shown in FIG. 13, the thickness of each substrate and each layer is exaggerated for easy explanation, and the relative relationship between the actual thickness of each substrate and each layer is shown in FIG. 13. It is different from what is shown.
First, the joining method of the present invention used when manufacturing the touch panel having the configuration example shown in FIG. 13A will be described with reference to FIGS.

〔工程C−1〕カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程
本工程を図14に示す。本工程では、カバーガラス11と第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された第1のガラス基板16aとの接合工程である。本工程は、本発明の接合方法が適用される〔工程3〕に先立つ前工程である。
[Step C-1] Joining Step of Cover Glass and First Glass Substrate with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) Provided on the Surface This step is shown in FIG. This step is a bonding step between the cover glass 11 and the first glass substrate 16a provided with the first transparent conductive film (ITO electrode 13) on the surface. This step is a previous step prior to [Step 3] to which the bonding method of the present invention is applied.

(a)カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合
図14(a)に示すように、シリコーン(PDMS)基板17a表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17a表面を酸化し当該表面を親水性表面とする。
次に、カバーガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
(A) Bonding of Cover Glass 11 and Silicone Substrate 17a As shown in FIG. 14A, the surface of the silicone (PDMS) substrate 17a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp. Then, the surface of the silicone substrate 17a is oxidized to make the surface hydrophilic.
Next, the joint surface of the cover glass 11 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp.

その後、カバーガラス11の接合面とシリコーン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。
なお、カバーガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバーガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバーガラス11の接合面が活性化されたり、カバーガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、シリコーン(PDMS)基板17a表面とカバーガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
Thereafter, the bonding surface of the cover glass 11 and the UV irradiation surface of the silicone substrate 17a are overlapped. The bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a.
In addition, since the cover glass 11 itself is a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated or impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed. Bonding to 17a is more reliably performed.
Moreover, you may perform UV irradiation to the joint surface of the silicone (PDMS) board | substrate 17a surface and the cover glass 11 simultaneously.

(b)カバーガラス11と接合したシリコーン基板17aと第1のガラス基板16との接合
次に、図14(b)に示すように、カバーガラス11と接合されたシリコーン基板17aの、カバーガラス11との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
一方、例えば、図18(b)のようなパターンの第1のITO電極13が表面に第1のガラス基板16aにおいて、第1のITO電極13が施された面と反対側の面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
(B) Bonding of Silicone Substrate 17a Bonded to Cover Glass 11 and First Glass Substrate 16 Next, as shown in FIG. 14B, cover glass 11 of silicone substrate 17a bonded to cover glass 11 is covered. The surface opposite to the bonding surface is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, and the UV irradiation surface of the silicone substrate 17a is oxidized to make the surface hydrophilic. And
On the other hand, for example, the first ITO electrode 13 having a pattern as shown in FIG. 18B on the surface of the first glass substrate 16a is opposite to the surface opposite to the surface on which the first ITO electrode 13 is applied. Irradiates UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp.

その後、第1のガラス基板16aのUV照射表面とカバーガラス11と接合されたシリコーン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。   Thereafter, the UV irradiation surface of the first glass substrate 16 a and the UV irradiation surface of the silicone substrate 17 a bonded to the cover glass 11 are overlapped. The bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a.

なお、上記したように、第1のガラス基板16aにおける第1のITO電極13が施された面と反対側の面(第1のガラス基板16aの接合面)自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、第1のガラス基板16aの接合面にUV光を照射することにより、第1のガラス基板16aの接合面が活性化されたり、第1のガラス基板16aの接合面の不純物が分解して除去されるので、第1のガラス基板16aとシリコーン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、シリコーン(PDMS)基板17a表面と第1のガラス基板16aの接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
As described above, the surface on the opposite side to the surface on which the first ITO electrode 13 is applied in the first glass substrate 16a (the bonding surface of the first glass substrate 16a) itself is a hydrophilic surface. It is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the bonding surface of the first glass substrate 16a with UV light, the bonding surface of the first glass substrate 16a is activated or impurities on the bonding surface of the first glass substrate 16a are decomposed. Since it is removed, the first glass substrate 16a and the silicone substrate 17a are more reliably joined.
Further, the UV irradiation to the surface of the silicone (PDMS) substrate 17a and the bonding surface of the first glass substrate 16a may be performed simultaneously.

〔工程D−1〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程
本工程を図15に示す。本工程は、疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、疎水性表面を持つ第1のワークに相当するのは一方の面にカバーガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16a、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された第2のガラス基板16bである。
[Step D-1] A first glass substrate having a first transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface and a second glass substrate having a second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface; FIG. 15 shows this process. This process shows a method for bonding a first workpiece having a hydrophobic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface via a silicone substrate, and corresponds to a first workpiece having a hydrophobic surface. This corresponds to a first glass substrate 16a having a cover glass 11 bonded to one surface and a first ITO electrode 13 applied to the other surface, and a second workpiece having a hydrophobic surface. Is a second glass substrate 16b having a second transparent conductive film (ITO electrode 15) on its surface.

(a)第1のガラス基板16(カバーガラス11と接合済み)とシリコーン基板17bとの接合
図15(a)に示すように、シリコーン基板17bの表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
(A) Bonding of the first glass substrate 16 (already bonded to the cover glass 11) and the silicone substrate 17b As shown in FIG. 15A, an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp is formed on the surface of the silicone substrate 17b. The surface of the silicone substrate 17b is oxidized by irradiating with UV light emitted from the surface to make the surface hydrophilic.

次に、図15(a)に示すように、先の工程において一方の面にカバーガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16aにおいて、上記第1のITO電極13のパターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   Next, as shown in FIG. 15A, the first glass substrate 16a in which the cover glass 11 is bonded to one surface and the first ITO electrode 13 is applied to the other surface in the previous step. The primer 18 is coated on the surface on which the pattern of the first ITO electrode 13 is applied. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

その後、シリコーン基板17bのUV照射表面と第1のガラス基板16aのUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、第1のガラス基板16aとシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、シリコーン基板17bと一方の面にカバーガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16aとを接合する。   Thereafter, the UV irradiation surface of the silicone substrate 17b and the UV-treated primer coat surface of the first glass substrate 16a are overlapped, and the first glass substrate 16a and the silicone substrate 17b are appropriately pressurized or heated. Then, the silicon substrate 17b and the first glass substrate 16a to which the cover glass 11 is bonded on one surface and the first ITO electrode 13 is applied to the other surface are bonded.

(b)第1のガラス基板16a(カバーガラス11と接合済み)と第2のガラス基板16bとの接合
次に、図15(b)に示すように、第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bの、第1のガラス基板16aとの接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
(B) Bonding of the first glass substrate 16a (already bonded to the cover glass 11) and the second glass substrate 16b Next, as shown in FIG. 15B, the first glass substrate 16a was bonded. The surface of the silicone substrate 17b opposite to the bonding surface with the first glass substrate 16a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, and the silicone substrate 17b is irradiated with UV light. The surface is oxidized to make the surface hydrophilic.

一方、例えば、図18(c)のようなパターンの第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bにおいて、上記第2のITO電極パターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   On the other hand, for example, in the second glass substrate 16b on the surface of which the second ITO electrode 15 having a pattern as shown in FIG. 18C is applied, the primer 18 is applied to the surface on which the second ITO electrode pattern is applied. Coat. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

その後、第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bのUV照射表面と第2のガラス基板16bのUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、第2のガラス基板16bと第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bと、第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bとを接合する。   Thereafter, the UV irradiation surface of the silicone substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the UV-treated primer coat surface of the second glass substrate 16b are overlapped, and the second glass substrate 16b and the first glass substrate 16b are appropriately combined. The silicon substrate 17b bonded to the glass substrate 16a and the silicone substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the second ITO electrode 15 on the surface are pressed or heated. The two glass substrates 16b are joined.

すなわち、本工程(D−1)における接合方法は以下の通りである。
(1)疎水性表面を持つ第1のワークであって、一方の面にシリコーン基板17aを介してカバーガラス11が接合されていて他方の面に第1のITO電極13が施されている第1のガラス基板16aにおいて、上記第1のITO電極13が施されている面にプライマー18をコートする。
(2)シリコーン基板17bの表面と、疎水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16aのプライマー18がコートされた面とに対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(3)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(4)上から、シリコーン基板17b、疎水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16a(カバーガラス11接合済み)の順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
(5)疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bにおいて、第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(6)疎水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16a(カバーガラス11接合済み)に接合されたシリコーン基板17bの表面と、疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bの第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(7)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(8)上から、疎水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16a(カバーガラス11接合済み)、シリコーン基板17b、疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bの順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(4)(8)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (D-1) is as follows.
(1) A first workpiece having a hydrophobic surface, in which a cover glass 11 is bonded to one surface via a silicone substrate 17a, and a first ITO electrode 13 is applied to the other surface. A primer 18 is coated on the surface of the first glass substrate 16a on which the first ITO electrode 13 is applied.
(2) The surface of the silicone substrate 17b and the surface of the first glass substrate 16a, which is the first workpiece having a hydrophobic surface, coated with the primer 18 are irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic. The surface.
(3) Both ultraviolet irradiation surfaces are overlapped.
(4) While pressurizing the contact surface of each workpiece superposed in order of the silicone substrate 17b and the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded) which is a first workpiece having a hydrophobic surface from above. , Heat.
(5) In the second glass substrate 16b which is the second workpiece having a hydrophobic surface, the primer 18 is coated on the surface provided with the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
(6) The surface of the silicone substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded) which is a first workpiece having a hydrophobic surface, and the second workpiece which is a second workpiece having a hydrophobic surface. The primer 18 coated on the surface of the second glass substrate 16b on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(7) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(8) From above, the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded), which is a first workpiece having a hydrophobic surface, the silicone substrate 17b, and the second glass, which is a second workpiece having a hydrophobic surface. It heats, pressing the contact surface of each workpiece | work piled up in order of the board | substrate 16b.
In addition, in (4) and (8) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

次に、図13(b)に示す構成例のタッチパネルを製造する際に適用される本発明の接合方法について図16、図17により説明する。
〔工程C−2〕カバーガラスと第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板との接合工程
本工程を図16に示す。本工程は、親水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワークに相当するのはカバーガラス11、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第1の透明導電膜(ITO電極13)が表面に施された第1のガラス基板16aである。
Next, the joining method of the present invention applied when manufacturing the touch panel having the configuration example shown in FIG. 13B will be described with reference to FIGS.
[Step C-2] Joining Step of Cover Glass and First Glass Substrate with First Transparent Conductive Film (ITO Electrode) Surface This step is shown in FIG. This process shows a method of bonding a first workpiece having a hydrophilic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface via a silicone substrate, and corresponds to a first workpiece having a hydrophilic surface. The cover glass 11 and the second workpiece having a hydrophobic surface correspond to the first glass substrate 16a having the first transparent conductive film (ITO electrode 13) applied to the surface.

(a)カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合
第1のワークであるカバーガラス11の下側表面と第2のワークである第1のガラス基板16aの第1のITO電極13側表面とを接合するのに先立って、まず、カバーガラス11とシリコーン(例えば、PDMS)基板17aとの接合を行う。
図16(a)に示すように、シリコーン(PDMS)基板17a表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17a表面を酸化し当該表面を親水性表面とする。
次に、カバーガラス11の接合面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
(A) Bonding of cover glass 11 and silicone substrate 17a A lower surface of cover glass 11 which is a first workpiece and a first ITO electrode 13 side surface of first glass substrate 16a which is a second workpiece. Prior to bonding, first, the cover glass 11 and a silicone (for example, PDMS) substrate 17a are bonded.
As shown in FIG. 16A, the surface of the silicone (PDMS) substrate 17a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicone substrate 17a and make the surface hydrophilic. Surface.
Next, the joint surface of the cover glass 11 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp.

その後、カバーガラス11の接合面とシリコーン基板17aのUV照射表面とを重ね合わせる。適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり、加熱することにより、接合強度を増加させる。   Thereafter, the bonding surface of the cover glass 11 and the UV irradiation surface of the silicone substrate 17a are overlapped. The bonding strength is increased by appropriately pressing or heating the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a.

なお、カバーガラス11自体は親水性表面であるため、必ずしもUV光を照射する必要はない。しかしながら、カバーガラス11の接合面にUV光を照射することにより、カバーガラス11の接合面が活性化されたり、カバーガラス11表面の不純物が分解して除去されるので、カバーガラス11とシリコーン基板17aとの接合がより確実に行われる。
また、シリコーン(PDMS)基板表面とカバーガラス11の接合面へのUV照射は同時に行っても良い。
In addition, since the cover glass 11 itself is a hydrophilic surface, it is not always necessary to irradiate UV light. However, by irradiating the joint surface of the cover glass 11 with UV light, the joint surface of the cover glass 11 is activated or impurities on the surface of the cover glass 11 are decomposed and removed. Bonding to 17a is more reliably performed.
Moreover, you may perform UV irradiation to the joint surface of a silicone (PDMS) board | substrate surface and the cover glass 11 simultaneously.

(b)カバーガラス11と接合したシリコーン基板17aと、第1のガラス基板16aとの接合
次に、図16(b)に示すように、例えば、図18(b)のようなパターンの第1のITO電極13が施された第1のガラス基板16aにおいて、上記第1のITO電極13パターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。
(B) Bonding of Silicone Substrate 17a Bonded to Cover Glass 11 and First Glass Substrate 16a Next, as shown in FIG. 16B, for example, a first pattern having a pattern as shown in FIG. In the first glass substrate 16a to which the ITO electrode 13 is applied, a primer 18 is coated on the surface on which the first ITO electrode 13 pattern is applied. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

一方、カバーガラス11と接合されたシリコーン基板17aの、カバーガラス11との接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17aのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。   On the other hand, the surface of the silicone substrate 17a bonded to the cover glass 11 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp on the surface opposite to the bonding surface with the cover glass 11. The UV irradiation surface of the silicone substrate 17a is oxidized to make the surface hydrophilic.

その後、シリコーン基板17aのUV照射処理した表面と第1のガラス基板16aのUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、重ね合わせたカバーガラス11とシリコーン基板17aとを加圧したり加熱したりして、カバーガラス11が接合されたシリコーン基板17aと、第1のITO電極13が表面に施された第1のガラス基板16aとを接合する。   Thereafter, the UV-irradiated surface of the silicone substrate 17a and the UV-treated primer coat surface of the first glass substrate 16a are overlapped, and the overlapped cover glass 11 and the silicone substrate 17a are appropriately pressurized or heated. In other words, the silicone substrate 17a to which the cover glass 11 is bonded and the first glass substrate 16a to which the first ITO electrode 13 is applied are bonded.

すなわち、本工程(C−2)において採用された接合方法は以下の通りである。
(1)親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11の下側表面に、シリコーン基板17aを接合する。接合方法は、シリコーン基板17aに紫外線を照射して紫外線照射面を親水性表面とし、当該表面をカバーガラス11上に積層して、第1のワークであるカバーガラス11とシリコーン基板17aを接合する。なお、上記したように、カバーガラス11の接合面にも紫外線を照射してもよい。
(2)疎水性表面を持つ第2のワークである第1のガラス基板16aの第1の透明導電膜(ITO電極13)が施された面にプライマーコートする。
(3)親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11に接合されたシリコーン基板17a表面と、疎水性表面を持つ第2のワークである第1のガラス基板16aの第1の透明導電膜(ITO電極13)が施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(4)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(5)上から、親水性表面を持つ第1のワークであるカバーガラス11、シリコーン基板17a、第2のワークである第1のガラス基板16aの順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the joining method employed in this step (C-2) is as follows.
(1) The silicone substrate 17a is bonded to the lower surface of the cover glass 11, which is a first workpiece having a hydrophilic surface. The bonding method is to irradiate the silicone substrate 17a with ultraviolet rays so that the ultraviolet irradiation surface is a hydrophilic surface, and the surface is laminated on the cover glass 11 to bond the cover glass 11 as the first workpiece and the silicone substrate 17a. . As described above, the bonding surface of the cover glass 11 may be irradiated with ultraviolet rays.
(2) Primer coat the surface of the first glass substrate 16a, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, to which the first transparent conductive film (ITO electrode 13) is applied.
(3) The first transparent conductivity of the surface of the silicone substrate 17a bonded to the cover glass 11, which is the first workpiece having a hydrophilic surface, and the first glass substrate 16a, which is the second workpiece having a hydrophobic surface. The primer 18 coated on the surface on which the film (ITO electrode 13) is applied is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(4) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(5) From above, contact surfaces of the workpieces that are superposed in the order of the cover glass 11 that is the first workpiece having a hydrophilic surface, the silicone substrate 17a, and the first glass substrate 16a that is the second workpiece. Heat while applying pressure.
In (5) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

〔工程D−2〕第1の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第1のガラス基板と第2の透明導電膜(ITO電極)が表面に施された第2のガラス基板との接合工程
本工程を図17に示す。本工程においても、親水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーン基板を介して貼り合わせ方法を示すものであり、親水性表面を持つ第1のワークに相当するのは第1のITO電極13が施されている一方の面にカバーガラス11が接合されている第1のガラス基板16a、疎水性表面を持つ第2のワークに相当するのは第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された第2のガラス基板16bである。
[Step D-2] A first glass substrate having a first transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface and a second glass substrate having a second transparent conductive film (ITO electrode) applied to the surface; FIG. 17 shows this process. Also in this step, a method of bonding a first workpiece having a hydrophilic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface via a silicone substrate is shown, and the first workpiece having a hydrophilic surface is attached to the first workpiece. This corresponds to a first glass substrate 16a having a cover glass 11 bonded to one surface on which the first ITO electrode 13 is applied, and a second work corresponding to a second workpiece having a hydrophobic surface. It is the 2nd glass substrate 16b by which the transparent conductive film (ITO electrode 15) was given to the surface.

(a)第1のガラス基板16a(カバーガラス11と接合済み)とシリコーン基板17bとの接合
親水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16aの、カバーガラス11と接合済みの第1のITO電極13側と反対側表面と、疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bの第2のITO電極15側表面とを接合するのに先立って、まず、第1のガラス基板16a(カバーガラス11と接合済み)とシリコーン(例えば、PDMS)基板17bとの接合を行う。
(A) Joining of first glass substrate 16a (attached to cover glass 11) and silicone substrate 17b Joined to cover glass 11 of first glass substrate 16a, which is a first workpiece having a hydrophilic surface. Prior to joining the surface opposite to the first ITO electrode 13 side and the second ITO electrode 15 side surface of the second glass substrate 16b, which is a second workpiece having a hydrophobic surface, The first glass substrate 16a (already bonded to the cover glass 11) and the silicone (for example, PDMS) substrate 17b are bonded.

図17(a)に示すように、シリコーン基板17b表面にエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bの表面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
次に、図17(a)に示すように、先の工程において第1のガラス基板16aのカバーガラス11と接合済みである第1のITO電極13側と反対側表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射する。
As shown in FIG. 17A, the surface of the silicone substrate 17b is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to oxidize the surface of the silicone substrate 17b and make the surface hydrophilic. The surface.
Next, as shown in FIG. 17A, an excimer lamp or the like is applied to the surface opposite to the first ITO electrode 13 side that has been bonded to the cover glass 11 of the first glass substrate 16a in the previous step. Irradiate UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40.

その後、シリコーン基板17bのUV照射表面と第1のガラス基板16aのUV照射面とを重ね合わせ、適宜、第1のガラス基板16aとシリコーン基板17bとの接触面を加圧したり加熱したりして、シリコーン基板17bと一方の面にカバーガラス11が接合されている第1のガラス基板16aとを接合する。   Thereafter, the UV irradiation surface of the silicone substrate 17b and the UV irradiation surface of the first glass substrate 16a are overlapped, and the contact surface between the first glass substrate 16a and the silicone substrate 17b is appropriately pressurized or heated. The silicon substrate 17b is bonded to the first glass substrate 16a having the cover glass 11 bonded to one surface.

(b)第1のガラス基板16a(カバーガラス11と接合済み)と第2のガラス基板16bとの接合
次に、図17(b)に示すように、第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bの、第1のガラス基板16aとの接合面とは反対側の表面に、エキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、シリコーン基板17bのUV照射面を酸化して当該表面を親水性表面とする。
(B) Joining of the first glass substrate 16a (already joined to the cover glass 11) and the second glass substrate 16b Next, as shown in FIG. 17B, the first glass substrate 16a was joined. The surface of the silicone substrate 17b opposite to the bonding surface with the first glass substrate 16a is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp, and the silicone substrate 17b is irradiated with UV light. The surface is oxidized to make the surface hydrophilic.

一方、例えば、図18(c)のようなパターンの第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bにおいて、上記第2のITO電極15パターンが施された面にプライマー18をコートする。次に、このプライマー18がコートされた表面に対してエキシマランプ等の紫外線(UV)光源40から放出されるUV光を照射して、上記プライマーコート面を接合に適した表面とする。   On the other hand, for example, in the second glass substrate 16b on the surface of which the second ITO electrode 15 having a pattern as shown in FIG. Coat. Next, the surface coated with the primer 18 is irradiated with UV light emitted from an ultraviolet (UV) light source 40 such as an excimer lamp to make the primer coated surface suitable for bonding.

その後、第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bのUV照射表面と第2のガラス基板16bのUV照射処理したプライマーコート面とを重ね合わせ、適宜、第2のガラス基板16bと第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bとを加圧したり加熱したりして、第1のガラス基板16aと接合されたシリコーン基板17bと、第2のITO電極15が表面に施された第2のガラス基板16bとを接合する。   Thereafter, the UV irradiation surface of the silicone substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the UV-treated primer coat surface of the second glass substrate 16b are overlapped, and the second glass substrate 16b and the first glass substrate 16b are appropriately combined. The silicon substrate 17b bonded to the glass substrate 16a and the silicone substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a and the second ITO electrode 15 on the surface are pressed or heated. The two glass substrates 16b are joined.

すなわち、本工程(D−2)における接合方法は以下の通りである。
(1)親水性表面を持つ第1のワークであって、第1のITO電極13が施されている一方の面にシリコーン基板17aを介してカバーガラス11が接合されている第1のガラス基板16aの他方の面と、シリコーン基板17b表面とに対して紫外線を照射して、両ワークの紫外線照射面が密着するように親水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16aとシリコーン基板17bとを積層して、親水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16aとシリコーン基板17bを接合する。
(2)疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bにおいて、第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にプライマー18をコートする。
(3)親水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16a(カバーガラス11接合済み)に接合されたシリコーン基板17b表面と、疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bの第2の透明導電膜(ITO電極15)が表面に施された面にコートされたプライマー18に対して紫外線を照射して、両表面を親水性表面とする。
(4)両紫外線照射面同士を重ね合わせる。
(5)上から、親水性表面を持つ第1のワークである第1のガラス基板16a(カバーガラス11接合済み)、シリコーン基板17b、疎水性表面を持つ第2のワークである第2のガラス基板16bの順に重ね合わせられている各ワークの接触面を加圧しながら、加熱する。
なお、本接合方法の(5)においては、加圧のみ、加熱のみでもよいが、加圧しながら加熱したほうが望ましい。
That is, the bonding method in this step (D-2) is as follows.
(1) A first glass substrate having a hydrophilic surface and having a cover glass 11 bonded to one surface on which the first ITO electrode 13 is applied via a silicone substrate 17a. A first glass substrate 16a that is a first workpiece having a hydrophilic surface so that the other surface of 16a and the surface of the silicone substrate 17b are irradiated with ultraviolet rays so that the ultraviolet irradiation surfaces of both workpieces are in close contact with each other; The silicone substrate 17b is laminated, and the first glass substrate 16a and the silicone substrate 17b, which are the first workpiece having a hydrophilic surface, are joined.
(2) In the second glass substrate 16b, which is the second workpiece having a hydrophobic surface, the primer 18 is coated on the surface provided with the second transparent conductive film (ITO electrode 15).
(3) The surface of the silicone substrate 17b bonded to the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded) which is a first workpiece having a hydrophilic surface and the second workpiece which is a second workpiece having a hydrophobic surface. The primer 18 coated on the surface of the glass substrate 16b on which the second transparent conductive film (ITO electrode 15) is applied is irradiated with ultraviolet rays to make both surfaces hydrophilic surfaces.
(4) Superimpose both ultraviolet irradiation surfaces.
(5) From above, the first glass substrate 16a (cover glass 11 bonded), which is a first workpiece having a hydrophilic surface, a silicone substrate 17b, and a second glass, which is a second workpiece having a hydrophobic surface. It heats, pressing the contact surface of each workpiece | work piled up in order of the board | substrate 16b.
In (5) of this bonding method, only pressurization or heating may be used, but it is desirable to heat while applying pressure.

本発明の接合方法を採用した〔工程C−1〕と〔工程D−1〕を経て、図13(a)に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュールが構成される。
また、本発明の接合方法を採用した〔工程C−2〕と〔工程D−2〕を経て、図13(b)に示すタッチパネルにおけるタッチセンサモジュールが構成される。
The touch sensor module in the touch panel shown in FIG. 13A is configured through [Step C-1] and [Step D-1] employing the bonding method of the present invention.
Moreover, the touch sensor module in the touch panel shown in FIG.13 (b) is comprised through [process C-2] and [process D-2] which employ | adopted the joining method of this invention.

このタッチセンサモジュール10aとタッチパネル制御部10bがLCDパネル等の画像表示装置30上に積層されて、タッチパネルが構成される。ここで、タッチパネル制御部10bの構造例や、タッチセンサモジュール10a、タッチパネル制御部10b、画像表示装置30の順に積層されるタッチパネルの接合は、従来技術と同様であるので、ここでは詳細な説明を省略する。   The touch sensor module 10a and the touch panel control unit 10b are stacked on the image display device 30 such as an LCD panel to constitute a touch panel. Here, the structure example of the touch panel control unit 10b and the joining of the touch panels stacked in the order of the touch sensor module 10a, the touch panel control unit 10b, and the image display device 30 are the same as those in the related art, and thus detailed description will be given here. Omitted.

本実施の形態2においても、タッチセンサモジュールの各構成要素の貼り合わせに際して、従来のOCAテープまたはOCRに代えてシリコーン(基板)を使用し、シリコーン(基板)と各構成要素の接合面に紫外線を照射するものである。
そして、タッチセンサモジュールの導電性薄膜(例えば、ITO電極)が設けられている基板において、上記導電性薄膜が設けられている面にプライマー(例えば、シランカップリング剤)をコートし、当該プライマーコート面に紫外線を照射するものである。よって、実施の形態1のときと同様の効果を奏することが可能となる。
Also in the second embodiment, when the components of the touch sensor module are bonded, silicone (substrate) is used in place of the conventional OCA tape or OCR, and ultraviolet rays are applied to the joint surface between the silicone (substrate) and each component. Is irradiated.
Then, on the substrate on which the conductive thin film (for example, ITO electrode) of the touch sensor module is provided, the surface on which the conductive thin film is provided is coated with a primer (for example, a silane coupling agent), and the primer coat The surface is irradiated with ultraviolet rays. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be achieved.

特に本実施の形態2において構築したタッチセンサモジュールは、透明導電膜の基板としてガラス基板のみを使用しているので、このタッチセンサモジュールを組み込んだタッチパネルは、高い視認性や耐候性を有することになる。
また、ガラス基板を透明導電膜の基板として採用することにより、当該透明導電膜の基板の透明導電膜が施されている面と反対側の面は親水性表面となる。よって、この面に対してプライマーを導入する必要がなくなる。すなわち、本実施の形態2において構築したタッチセンサモジュールの製造工程は、本実施の形態1において構築したタッチパネルの製造工程と比較すると、プライマーを導入する面が少ない分、簡略化される。
In particular, since the touch sensor module constructed in the second embodiment uses only a glass substrate as the substrate of the transparent conductive film, the touch panel incorporating this touch sensor module has high visibility and weather resistance. Become.
Further, by adopting the glass substrate as the substrate of the transparent conductive film, the surface of the transparent conductive film opposite to the surface on which the transparent conductive film is applied becomes a hydrophilic surface. Therefore, it is not necessary to introduce a primer to this surface. That is, the manufacturing process of the touch sensor module constructed in the second embodiment is simplified as compared with the manufacturing process of the touch panel constructed in the first embodiment, because the number of surfaces for introducing the primer is small.

[実験例]
上記したように、本発明の貼り合わせ方法においては、第1のワークと接合面に導電性薄膜が施されている第2のワークとの接合面に紫外線照射による表面改質されて親水性表面となったシリコーン基板を介在させて第1のワークと第2のワークとを積層し、積層した第1のワークおよび第2のワークを加熱・加圧処理を施して、第1のワークと第2のワークとを貼り合わせるものである。特に、本発明の貼り合わせ方法においては、従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが不可能であったシリコーン基板と導電性薄膜基板の導電性薄膜表面との貼り合わせやシリコーン基板と表面が疎水性である場合の導電性薄膜基板との貼り合わせについても、導電性薄膜表面、基板の疎水性表面にシランカップリング剤を導入して、当該シランカップリング剤を紫外線照射により表面改質する(接合に適した表面状態にする)することにより、上記貼り合わせを可能としたものである。
[Experimental example]
As described above, in the bonding method according to the present invention, the surface of the first workpiece and the second workpiece having the conductive thin film applied to the bonding surface is modified by the irradiation of ultraviolet rays to the hydrophilic surface. The first workpiece and the second workpiece are laminated with the silicone substrate thus formed interposed therebetween, and the laminated first and second workpieces are subjected to heating / pressurizing treatment. 2 work is pasted together. In particular, in the bonding method of the present invention, it is conventionally possible to bond a silicone substrate and a conductive thin film surface of a conductive thin film substrate, which cannot be bonded even by using a surface modification treatment by ultraviolet irradiation. When bonding the silicone substrate to the conductive thin film substrate when the surface is hydrophobic, a silane coupling agent is introduced into the conductive thin film surface or the hydrophobic surface of the substrate, and the silane coupling agent is irradiated with ultraviolet rays. The above bonding is made possible by modifying the surface by (making the surface state suitable for bonding).

以下、プライマーを使用して、シリコーン基板と導電性薄膜が施された導電性薄膜基板とを接合する場合の実験例を示す。
シリコーン基板としてはPDMSを使用し、導電性薄膜基板としては、一方の面にITO層が設けられたPETフィルムを使用した。また、プライマーとしては、シランカップリング剤を使用した。シランカップリング剤は、信越シリコーン社製のKBE−9007であり、構造式は(C25O)3SiC36N=C=Oである。
Hereinafter, experimental examples in the case where a silicone substrate and a conductive thin film substrate provided with a conductive thin film are bonded using a primer will be described.
PDMS was used as the silicone substrate, and a PET film having an ITO layer provided on one surface was used as the conductive thin film substrate. A silane coupling agent was used as the primer. The silane coupling agent is KBE-9007 manufactured by Shin-Etsu Silicone, and the structural formula is (C 2 H 5 O) 3 SiC 3 H 6 N═C═O.

まず、PETフィルム14のITO層上に、上記シランカップリング剤のアセトン希釈溶液をスピンコート法によりコートした。
次に、PDMS基板(シリコーン基板)の接合面とPETフィルムのシランカップリング剤がコートされた面に対し紫外線を照射した。
紫外線光源は、中心波長が172nmである真空紫外線(VUV)を放出するエキシマランプを使用し、照射条件は、照射面上の放射照度が5mW/cm2、照射時間が180秒であった。
First, an acetone diluted solution of the silane coupling agent was coated on the ITO layer of the PET film 14 by a spin coating method.
Next, the joint surface of the PDMS substrate (silicone substrate) and the surface of the PET film coated with the silane coupling agent were irradiated with ultraviolet rays.
The ultraviolet light source used was an excimer lamp that emits vacuum ultraviolet rays (VUV) having a center wavelength of 172 nm. Irradiation conditions were an irradiance of 5 mW / cm 2 on the irradiated surface and an irradiation time of 180 seconds.

VUV照射後、PDMS基板およびPETフィルムのVUV照射面同士が接するように当該PDMS基板およびPETフィルムを重ね合わせ、両者に圧力0.25Mpaの圧力を加えながら、両者の温度が100°Cとなるように加熱した。加熱時間は30秒であった。以上のような手順により、PDMS基板およびPETフィルムは接合された。   After the VUV irradiation, the PDMS substrate and the PET film are overlapped so that the VUV irradiation surfaces of the PDMS substrate and the PET film are in contact with each other, and a pressure of 0.25 Mpa is applied to both, so that the temperature of both becomes 100 ° C. Heated. The heating time was 30 seconds. The PDMS substrate and the PET film were joined by the procedure as described above.

すなわち、本実験により、従来、紫外線照射による表面改質処理を用いても接合させることが不可能であったシリコーン基板と導電性薄膜基板の導電性薄膜表面との貼り合わせが可能であることが判明した。同様に、シリコーン基板と表面が疎水性である場合の導電性薄膜基板との貼り合わせも可能であると考えられる。
なお、プライマーとして、他のシランカップリング剤(例えば、信越シリコーン社製のKBE−403:構造式を化(1)に示す)を用いても同様の結果を得た。
In other words, this experiment allows the pasting of a silicon substrate, which has been impossible to bond even by using a surface modification treatment by ultraviolet irradiation, to the conductive thin film surface of the conductive thin film substrate. found. Similarly, it is considered possible to bond the silicone substrate and the conductive thin film substrate when the surface is hydrophobic.
In addition, the same result was obtained even if other silane coupling agents (for example, KBE-403 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd .: the structural formula is shown in chemical formula (1)) were used as a primer.

Figure 2013149072
Figure 2013149072

また、プライマー18としてシロキサン系コート剤(例えば、コルコート株式会社製アルコール性シリカゾル「コルコート N−103X」(エタノール;約4%、2−プロパノール;40%、1−ブタノール;50%の混合溶媒にシリカ;約2%を分散したもの)を用いても同様の結果を得た。   Further, as the primer 18, a siloxane-based coating agent (for example, an alcoholic silica sol “Colcoat N-103X” manufactured by Colcoat Co., Ltd. (ethanol; about 4%, 2-propanol; 40%, 1-butanol; silica in a mixed solvent of 50%) Similar results were obtained using about 2% dispersed).

本発明の貼り合わせ方法は、図1、図13に示した構成のタッチセンサモジュール以外の構成のタッチセンサモジュールを構成する場合にも適用可能である。
例えば、図13(a)において、透明導電膜が施される第1、第2のガラス基板16a,16bをPETフィルム14等からなる第1、第2の樹脂基板とした場合にも適用される。この場合、図14に示す〔工程C−1〕が、図5に示す〔工程A−1〕に置き換わる。なお、それに続く〔工程D−1〕はそのまま適用可能である。
The bonding method of the present invention is also applicable to a case where a touch sensor module having a configuration other than the touch sensor module having the configuration shown in FIGS. 1 and 13 is configured.
For example, in FIG. 13A, the first and second glass substrates 16a and 16b to which the transparent conductive film is applied are applied to the first and second resin substrates made of the PET film 14 or the like. . In this case, [Step C-1] shown in FIG. 14 is replaced with [Step A-1] shown in FIG. The subsequent [Step D-1] can be applied as it is.

10 位置入力装置
10a タッチセンサモジュール
10b タッチパネル制御部
11 カバーガラス
12 ブラックマトリクス
13 第1のITO電極(第1の透明導電膜)
14 PETフィルム
14a ハードコート層
15 第2のITO電極(第2の透明導電膜)
16,16a,16b ガラス基板
17,17a,17b シリコーン(PDMS)基板
18 プライマー
21 配線層
22 タッチパネル(TP)コントロールIC部
23 FPC(フレキシブルプリント基板)
30 画像表示装置
31 偏光フィルム
32 画像表示パネル
40 紫外線(UV)光源
100 タッチパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Position input device 10a Touch sensor module 10b Touch panel control part 11 Cover glass 12 Black matrix 13 1st ITO electrode (1st transparent conductive film)
14 PET film 14a Hard coat layer 15 Second ITO electrode (second transparent conductive film)
16, 16a, 16b Glass substrate 17, 17a, 17b Silicone (PDMS) substrate 18 Primer 21 Wiring layer 22 Touch panel (TP) control IC part 23 FPC (flexible printed circuit board)
30 Image display device 31 Polarizing film 32 Image display panel 40 Ultraviolet (UV) light source 100 Touch panel

Claims (4)

疎水性表面を持つワークとシリコーンからなる部材とを貼り合わせる方法であって、疎水性表面を持つワークの一方の面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーをコートし、
上記ワークのプライマーをコートした面と、上記シリコーンからなる部材に紫外線を照射し、
上記ワークの紫外線を照射した面と、上記シリコーンからなる部材の紫外線を照射した面が接触するように積層し、
上記積層したワークとシリコーンからなる部材の接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワークとシリコーンからなる部材を加熱し、あるいは、積層したワークとシリコーンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱する
ことを特徴とするワークの貼り合わせ方法。
A method of bonding a workpiece having a hydrophobic surface and a member made of silicone, and coating one surface of the workpiece having a hydrophobic surface with a primer made of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent,
Irradiate the surface of the workpiece coated with the primer and the member made of silicone with ultraviolet rays,
Laminate so that the surface irradiated with ultraviolet rays of the workpiece and the surface irradiated with ultraviolet rays of the member made of silicone are in contact,
Pressurization is performed so that the contact surface between the laminated workpiece and the silicone member is pressurized, or the laminated workpiece and the silicone member are heated, or the laminated workpiece and the silicone member are contact surfaces. A method for bonding workpieces, wherein heating is performed while applying pressure so as to apply pressure.
親水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーンからなる部材を介在させて貼り合わせる方法であって、
疎水性表面を持つ第2のワークの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーをコートし、
第1のワークの一方の面と、上記第2のワークのプライマーをコートした面のそれぞれと、上記シリコーンからなる部材の両面に紫外線を照射し、
上記第1のワークと上記シリコーンからなる部材と第2のワークを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、
上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層した第1および第2のワークとシリコーンからなる部材を加熱し、あるいは積層した第1および第2のワークとシリコーンからなる部材をその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱する
ことを特徴とするワークの貼り合わせ方法。
A method in which a first workpiece having a hydrophilic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface are bonded together with a member made of silicone interposed therebetween,
A primer composed of a silane coupling agent or a siloxane coating agent is coated on the surface of the second workpiece having a hydrophobic surface,
Irradiate ultraviolet rays to one surface of the first workpiece, each of the surfaces coated with the primer of the second workpiece, and both surfaces of the silicone member,
Laminating the first workpiece, the silicone member and the second workpiece so that the surface irradiated with the ultraviolet rays is in contact,
Pressure is applied so that the contact surface is pressurized, or the laminated first and second workpieces and silicone members are heated, or the laminated first and second workpieces and silicone members are in contact with each other. A work laminating method comprising heating while pressing so that the surface is pressed.
疎水性表面を持つ第1のワークと、疎水性表面を持つ第2のワークをシリコーンからなる部材を介在させて貼り合わせる方法であって、
疎水性表面を持つ第1のワークと、第2のワークの表面にシランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーをコートし、
第1のワーク及び第2のワークの、上記プライマーをコートした面のそれぞれと、上記シリコーンからなる部材の両面に紫外線を照射し、
上記第1のワークと上記シリコーンからなる部材と第2のワークを、上記紫外線が照射された面が接触するように積層し、
上記接触面が加圧されるように加圧し、あるいは積層したワークを加熱し、あるいは積層したワークをその接触面が加圧されるように加圧しながら加熱する
ことを特徴とするワークの貼り合わせ方法。
A method of bonding a first workpiece having a hydrophobic surface and a second workpiece having a hydrophobic surface with a member made of silicone interposed therebetween,
A primer composed of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent is coated on the surface of the first workpiece having a hydrophobic surface and the surface of the second workpiece,
Irradiate each of the surfaces coated with the primer of the first workpiece and the second workpiece and both surfaces of the silicone member with ultraviolet rays,
Laminating the first workpiece, the silicone member and the second workpiece so that the surface irradiated with the ultraviolet rays is in contact,
Bonding of workpieces characterized in that pressurization is performed so that the contact surface is pressurized, or the stacked workpiece is heated, or the stacked workpiece is heated while pressing the contact surface. Method.
透明導電膜が施された基板を有するタッチセンサモジュールと、画像表示装置とを備えたタッチパネルであって、
上記タッチセンサモジュールは、
シランカップリング剤もしくはシロキサン系コート剤からなるプライマーがコートされ、該プライマーをコートした面が紫外線照射により改質された透明導電膜が施された基板と、紫外線照射により表面が改質されたシリコーンからなる部材とを含み、上記基板と上記シリコーンからなる部材の、上記紫外線が照射されたそれぞれの面が対向して積層されている
ことを特徴とするタッチパネル。
A touch sensor module including a touch sensor module having a substrate provided with a transparent conductive film, and an image display device,
The touch sensor module is
A substrate coated with a primer composed of a silane coupling agent or a siloxane-based coating agent, a substrate coated with a transparent conductive film whose surface coated with the primer is modified by ultraviolet irradiation, and a silicone whose surface is modified by ultraviolet irradiation And a member made of silicone, wherein the surfaces of the member made of silicone and irradiated with the ultraviolet rays are laminated facing each other.
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