JP2013148852A - Rubbing cloth material - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rubbing cloth material suited for manufacturing IPS-mode or FFS-mode liquid crystal display elements capable of achieving a low pretilt angle and strong anchoring energy by rubbing process.SOLUTION: Pile yarns including inorganic particulates are used for multiple pile yarns woven in a ground weave comprising warps and wefts. Rubbing process is performed by the pile yarns including the inorganic particulates to provide a liquid crystal display element having a low pretilt angle and large anchoring energy in an azimuth direction. Namely, a high-contrast IPS-mode or FFS-mode liquid crystal display element without burn-in can be thus provided.

Description

本発明は、液晶表示素子製造工程で用いられるラビング用布材に関するものである。  The present invention relates to a cloth material for rubbing used in a liquid crystal display element manufacturing process.

液晶表示素子は薄型、軽量、低消費電力を特徴としており、テレビやノートパソコンを始め、携帯電話、電子書籍など、日常生活において無くてはならない存在になっている。その表示品位は素子内の液晶分子配列と、液晶−配向膜界面での分子間相互作用によって決まる。  The liquid crystal display element is characterized by thinness, light weight, and low power consumption, and is indispensable in daily life such as a television, a notebook computer, a mobile phone, and an electronic book. The display quality is determined by the liquid crystal molecular arrangement in the device and the intermolecular interaction at the liquid crystal-alignment film interface.

現行の液晶表示方式は、電圧無印加時に液晶分子が基板面に略平行に配列する方式と、略垂直に配列する方式に大別される。前者の方式には、素子内で液晶分子配列が90°捻れ基板面に垂直な方向に電界が印加されるTN(ツイステッドネマティック)モードと、液晶分子配列が捻れておらず基板面に平行な電界を印加するIPS(インプレーンスイッチング)モード、及びFFS(フリンジフィールドスイッチング)モードがあり、何れも液晶素子製造工程においてラビング処理が行われている。  Current liquid crystal display methods are roughly classified into a method in which liquid crystal molecules are arranged substantially parallel to the substrate surface when no voltage is applied and a method in which liquid crystal molecules are arranged substantially vertically. The former method includes a TN (twisted nematic) mode in which the liquid crystal molecular alignment is twisted by 90 ° in the element and an electric field is applied in a direction perpendicular to the substrate surface, and an electric field parallel to the substrate surface without the liquid crystal molecular alignment being twisted. Are IPS (in-plane switching) mode and FFS (fringe field switching) mode, both of which are rubbed in the liquid crystal element manufacturing process.

ここにおいて、ラビング処理とはパイル地の布材により配向膜表面を一定方向に擦ることであり、この操作により配向膜表面の高分子鎖が延伸され、その高分子鎖の配列方向に沿って液晶分子が配列する。  Here, the rubbing treatment is rubbing the alignment film surface in a certain direction with a pile cloth material. By this operation, the polymer chain on the alignment film surface is stretched, and the liquid crystal is aligned along the alignment direction of the polymer chain. The molecules are arranged.

パイル地の布材は、図1及び図2に示すように、経糸1及び緯糸2からなる地組織に経糸方向にパイル長が数mm程度のカットパイル3が織り込まれた構造をしており、こうしたパイル地の布材を回転ローラの外周に巻きつけて回転させながら基板表面に接触させる。このようなラビング処理により基板表面の配向膜はその表面が一定方向に延伸される。また、ラビング処理条件によっては、一定方向の微細な擦り跡が形成されることがある。図1はカットパイルがW字に織り込まれており、主に長繊維糸で織成する場合に用いられる。図2はV字にカットパイルが織り込まれ、主に紡績糸で織成する場合に用いられる。  As shown in FIGS. 1 and 2, the pile fabric material has a structure in which a cut pile 3 having a pile length of about several millimeters is woven in the warp direction in the ground structure composed of the warp 1 and the weft 2. Such a pile fabric is wound around the outer periphery of the rotating roller and brought into contact with the substrate surface while being rotated. By such rubbing treatment, the surface of the alignment film on the substrate surface is stretched in a certain direction. Further, depending on the rubbing treatment conditions, fine rubbing traces in a certain direction may be formed. FIG. 1 is used when cut piles are woven into a W shape and are woven mainly with long fiber yarns. FIG. 2 is used when a cut pile is woven into a V-shape and is woven mainly with spun yarn.

図3はラビング処理された配向膜表面での液晶分子の配列の様子を模式化したものである。ラビング処理により液晶分子31は基板面に対して一定の傾きを持った状態で所定の方向に配列する。この時の傾き角θpをプレチルト角と言う。  FIG. 3 schematically shows the arrangement of liquid crystal molecules on the surface of the alignment film subjected to the rubbing treatment. By the rubbing process, the liquid crystal molecules 31 are arranged in a predetermined direction with a certain inclination with respect to the substrate surface. The tilt angle θp at this time is referred to as a pretilt angle.

こうしたパイル地の布材を用いてラビング処理を行う場合、パイル糸の立毛性、細さ及び開繊の度合いがラビング処理の均一性、即ち、プレチルト角の均一性及び配向方位の均一性に大きな影響を及ぼすため、均一性向上に向けてさまざまな対策が採られてきている。例えば、特許文献1では、ビスコースレーヨン・フィラメントからなるカットパイルを地組織の経糸方向に所定角度傾斜させることで、ビスコースレーヨン・フィラメントが有する微細ヒダ構造が傾斜した状態で基板表面に接触して、より微細な配向処理が可能になる点が記載されている。また、特許文献2では、シルケット加工により各々の綿短繊維の捩れが除去された改良綿糸をカットパイル糸に用いた点が記載されている。また、特許文献3には、ビスコースレーヨン糸、キュプラ糸等をパイル糸として用い樹脂加工処理を施して形態安定加工を行う点が記載されている。  When the rubbing treatment is performed using such a pile fabric material, the pile yarns have high napping properties, fineness, and degree of opening, which greatly affects the uniformity of the rubbing treatment, that is, the uniformity of the pretilt angle and the uniformity of the orientation direction. In order to influence, various measures have been taken to improve uniformity. For example, in Patent Document 1, a cut pile made of viscose rayon filament is inclined at a predetermined angle in the warp direction of the ground structure, so that the fine crease structure of the viscose rayon filament contacts the substrate surface in an inclined state. Thus, it is described that a finer alignment process is possible. Patent Document 2 describes that an improved cotton yarn from which twist of each short cotton fiber is removed by mercerization is used as a cut pile yarn. Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-228561 describes that a viscose rayon yarn, a cupra yarn or the like is used as a pile yarn and subjected to a resin processing to perform shape stabilization processing.

液晶表示特性は、前述のごとく素子内の液晶分子配列と、液晶−配向膜界面での分子間相互作用に大きく依存し、それらはプレチルト角及びアンカリングエネルギーでもって規定される。プレチルト角は基板面からの液晶分子の傾き角であり、アンカリングエネルギーは図4に示されるように、初期プレチルト角にある液晶分子41を動かすのに必要なエネルギーである。このアンカリングエネルギーは、便宜上、基板法線方向に動かすのに必要なエネルギーAθ(極角方向のアンカリングエネルギー)と基板面に平行な方向に動かすのに必要なエネルギーAφ(方位角方向のアンカリングエネルギー)に分けて議論される。  As described above, the liquid crystal display characteristics greatly depend on the liquid crystal molecular arrangement in the device and the intermolecular interaction at the liquid crystal-alignment film interface, which are defined by the pretilt angle and the anchoring energy. The pretilt angle is the tilt angle of the liquid crystal molecules from the substrate surface, and the anchoring energy is the energy required to move the liquid crystal molecules 41 at the initial pretilt angle as shown in FIG. For the sake of convenience, this anchoring energy includes energy Aθ (polar anchoring energy) necessary for moving in the normal direction of the substrate and energy Aφ (anchoring in the azimuth direction) necessary for moving in a direction parallel to the substrate surface. (Ring energy).

ラビング処理により液晶分子を配列させる表示モードのうち、IPS(インプレーンスイッチング)モード、及びFFS(フリンジフィールドスイッチング)モードは視野角特性が良好であり、押圧による表示画像の歪みも少ないため、タッチパネルを有する液晶表示機器に多く採用されてきている。  Of the display modes in which liquid crystal molecules are aligned by rubbing, the IPS (in-plane switching) mode and the FFS (fringe field switching) mode have good viewing angle characteristics and display image distortion due to pressing is small. Many liquid crystal display devices have been adopted.

しかしながら、これらの表示モードは熱擾乱や、電極配線のきわをラビングしづらいことなどのため高いコントラスト比が得られないという課題を有している。更に、印加電圧を下げた時、あるいは除去したときの応答、即ち、立ち下がり応答が遅く残像となり、焼き付きとして認識されるという課題も有している。  However, these display modes have a problem that a high contrast ratio cannot be obtained due to thermal disturbance or difficulty in rubbing the electrode wiring. Further, there is a problem that the response when the applied voltage is lowered or removed, that is, the falling response becomes an afterimage and is recognized as burn-in.

登録実用新案第3032820号公報Registered Utility Model No. 3032820 登録実用新案第3045464号公報Registered Utility Model No. 3045464 特開2002−148628号公報JP 2002-148628 A

電気情報通信学会論文誌 C Vol.J83−C No.2 pp.151−159 2000年2月IEICE Transactions C Vol. J83-C No. 2 pp. 151-159 February 2000

斜め方向での光漏れや電極配線近傍での光漏れを抑え、高コントラスト比を得るには液晶分子のプレチルト角を低くすることが有効であり、焼き付きを低減するためには方位角方向でのアンカリングエネルギーを大きくし、立ち下がり応答を速くすることが有効であることは既に知られており、これまで積極的に配向膜材料の開発が進められているが、低プレチルト角と大きな方位角方向のアンカリングエネルギーを実現する配向膜表面はまだ得られていない。  It is effective to reduce the pretilt angle of liquid crystal molecules to suppress light leakage in the oblique direction and light leakage in the vicinity of the electrode wiring, and to obtain a high contrast ratio, and to reduce image sticking, It is already known that it is effective to increase the anchoring energy and speed up the fall response, and the development of alignment film materials has been actively promoted so far. An alignment film surface that realizes directional anchoring energy has not yet been obtained.

液晶材料のプレチルト角やアンカリングエネルギーは、液晶材料と配向膜材料との、界面近傍における分子間相互作用で決まるものであり、使用する液晶材料、あるいは配向膜材料の分子構造、および極性により大きく左右される。そのような意味において、これまでの研究開発は液晶材料、あるいは配向膜材料の開発が主であった。例えば、石原らはプレチルト角、及びアンカリングエネルギーの液晶/配向膜分子構造依存性について報告している(非特許文献1)。  The pretilt angle and anchoring energy of a liquid crystal material are determined by the intermolecular interaction between the liquid crystal material and the alignment film material in the vicinity of the interface, and are largely dependent on the molecular structure and polarity of the liquid crystal material or alignment film material used. It depends. In that sense, the research and development so far has mainly been the development of liquid crystal materials or alignment film materials. For example, Ishihara et al. Reported the dependence of the pretilt angle and anchoring energy on the liquid crystal / alignment film molecular structure (Non-Patent Document 1).

一方、図5に示されるように、液晶−配向膜界面では液晶分子51が配向膜分子鎖52の中に入り込んでおり、配向膜分子鎖52の並び方、粗密などによりプレチルト角やアンカリングエネルギーが変わる。即ち、ラビング条件によってもプレチルト角やアンカリングエネルギーは変化する。  On the other hand, as shown in FIG. 5, the liquid crystal molecules 51 enter the alignment film molecular chains 52 at the liquid crystal-alignment film interface, and the pretilt angle and anchoring energy vary depending on the alignment and density of the alignment film molecular chains 52. change. That is, the pretilt angle and anchoring energy also change depending on the rubbing conditions.

従来より液晶−配向膜界面に関しては多くの研究開発がなされているが、ラビング用布材でもってプレチルト角やアンカリングエネルギーを制御するという発想は、これまでなかった。本発明者らは、ラビング用布材に着目し、鋭意研究を進めた結果、低プレチルト角であり、且つ方位角方向のアンカリングエネルギーが大きい配向膜界面を形成することが可能なラビング用布材を開発するに至った。  Conventionally, much research and development has been made on the liquid crystal-alignment film interface, but there has been no idea of controlling the pretilt angle and anchoring energy with a rubbing cloth material. As a result of diligent research focusing on the rubbing cloth material, the present inventors have been able to form an alignment film interface that has a low pretilt angle and a large anchoring energy in the azimuth angle direction. The material was developed.

本発明に係るラビング用布材は、経糸及び緯糸により織成された地組織と、前記地組織に織り込まれ前記地組織より突出した多数のパイル糸とからなるラビング用布材において、前記パイル糸が、無機微粒子を含むカットパイル糸であることを特徴とするものである。  The rubbing cloth material according to the present invention is a rubbing cloth material comprising a ground structure woven by warps and wefts and a large number of pile yarns woven into the ground structure and protruding from the ground structure. Is a cut pile yarn containing inorganic fine particles.

本発明のラビング用布材は、無機微粒子を含むパイル糸を用いたラビング用布材であり、液晶分子のプレチルト角をより低くすることが可能であり、更に方位角方向のアンカリングエネルギーをより大きくすることが可能であるため、水平配向している液晶分子を基板面内にスイッチングさせるIPSモードやFFSモード液晶表示素子製造プロセスで用いられるラビング用布材に最適である。即ち、本発明ラビング用布材を用いることにより、IPSモードやFFSモード液晶表示素子のコントラスト比を大きくすることが出来、かつ表示課題である焼き付き現象を大幅に低減させることが出来るなど、その実用的価値は極めて大きい。  The rubbing cloth material of the present invention is a rubbing cloth material using pile yarn containing inorganic fine particles, which can lower the pretilt angle of liquid crystal molecules, and further increase anchoring energy in the azimuth direction. Since it can be enlarged, it is most suitable for a rubbing cloth material used in a manufacturing process of an IPS mode or FFS mode liquid crystal display element that switches horizontally aligned liquid crystal molecules within a substrate surface. That is, by using the rubbing cloth material of the present invention, the contrast ratio of the IPS mode or FFS mode liquid crystal display element can be increased, and the image sticking phenomenon that is a display problem can be greatly reduced. Target value is extremely high.

ラビング用布材のW字の織組織の模式図である。It is a schematic diagram of the W-shaped woven structure of the cloth material for rubbing. ラビング用布材のV字の織組織の模式図である。It is a schematic diagram of the V-shaped woven structure of the cloth material for rubbing. 液晶プレチルト角を説明するための図である。It is a figure for demonstrating a liquid crystal pretilt angle. アンカリングエネルギーを説明するための図である。It is a figure for demonstrating anchoring energy. 液晶−配向膜界面のようすを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the appearance of a liquid crystal-alignment film interface. レーザー光散乱により膜表面状態を観察した時の様子を説明すための図である。It is a figure for demonstrating a mode when the film | membrane surface state is observed by laser light scattering. 本発明二酸化チタンを含有するビスコースレーヨンフィラメントの断面写真Cross-sectional photograph of viscose rayon filament containing titanium dioxide of the present invention

以下、本発明に係わるラビング用布材に関する実施形態について詳述する。
ラビング用布材の評価は、所定のラビング条件で配向処理を行った配向膜基板を用いてテストセルを作製し、p型ネマティック液晶を封入した後、液晶プレチルト角、及び方位角方向のアンカリングエネルギーを測定して行った。
Hereinafter, the embodiment regarding the cloth material for rubbing concerning this invention is explained in full detail.
Evaluation of the rubbing cloth material is performed by preparing a test cell using an alignment film substrate that has been subjected to alignment treatment under predetermined rubbing conditions, encapsulating p-type nematic liquid crystal, and then anchoring the liquid crystal pretilt angle and azimuth angle direction. This was done by measuring energy.

本発明実施例で用いたラビング条件は、ローラー回転数を1100rpm、ステージ送り速度を50mm/秒、押し込み量を0.3mmとしたが、これにより何ら本発明を限定するものではない。  The rubbing conditions used in the examples of the present invention were 1100 rpm for the roller rotation speed, 50 mm / second for the stage feed speed, and 0.3 mm for the push-in amount, but this does not limit the present invention.

プレチルト角測定用のテストセルは乾燥膜厚50nmで形成されたポリイミド配向膜SE−6514(日産化学工業株式会社製)を有する2枚のガラス基板を所定のラビング条件で擦ったのち、6.0μmのスペーサビーズを介して貼り合わせて作製したホモジニアスセルであり、減圧雰囲気下でp型ネマチック液晶MLC−3007(メルク社製)を封入したものである。プレチルト角の測定は、シンテック株式会社製汎用偏光解析装置Optiproにて行った。  The test cell for measuring the pretilt angle is 6.0 μm after rubbing two glass substrates having a polyimide alignment film SE-6514 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) having a dry film thickness of 50 nm under predetermined rubbing conditions. This is a homogeneous cell produced by bonding via spacer beads and encapsulating p-type nematic liquid crystal MLC-3007 (manufactured by Merck) under a reduced pressure atmosphere. The pretilt angle was measured by a general-purpose ellipsometer Optipro manufactured by Shintec Corporation.

また、方位角方向のアンカリングエネルギー測定用のテストセルは、乾燥膜厚50nmで形成されたポリイミド配向膜SE−6514(日産化学工業株式会社製)を有する2枚のガラス基板を所定のラビング条件で擦ったのち、5.5μmのスペーサビーズを介して貼り合わせて作製した2個のTNセルであり、一方のTNセルにはカイラル材料を含まないp型ネマチック液晶MLC−3007(メルク社製)を封入し、他方のTNセルにはカイラル材料S−811(メルク社製)を含んだp型ネマチック液晶MLC−3007(メルク社製)を封入した。方位角方向のアンカリングエネルギーは、シンテック株式会社製汎用偏光解析装置OptiproにてそれぞれのTNセルの捻り角φ1、φ2を測定し、下式により算出した。  Further, the test cell for measuring the anchoring energy in the azimuth angle direction includes two glass substrates having a polyimide alignment film SE-6514 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) formed with a dry film thickness of 50 nm under predetermined rubbing conditions. The two TN cells are bonded together via 5.5 μm spacer beads, and one of the TN cells is a p-type nematic liquid crystal MLC-3007 (made by Merck) that does not contain a chiral material. The other TN cell was filled with p-type nematic liquid crystal MLC-3007 (Merck) containing chiral material S-811 (Merck). The anchoring energy in the azimuth angle direction was calculated by the following equation after measuring the twist angles φ1 and φ2 of each TN cell with a general-purpose ellipsometer Optipro manufactured by Shintec Corporation.

ここにおいて、Aφは方位角方向のアンカリングエネルギー[J/m2]、k22は使用した液晶材料MLC−3007の捻れ弾性定数[N]、dは液晶セル厚[m]、pはカイラル材S−811を添加した液晶材料MLC−3007のカイラルピッチ[m]、φ1はカイラル材を含まない液晶材料MLC−3007を封入したTNセルの液晶捻れ角「度]、φ2はカイラル材S−811を含む液晶材料MLC−3007を封入したTNセルの捻れ角[度]を表している。 Here, Aφ is the anchoring energy [J / m 2] in the azimuth direction, k 22 is the torsional elastic constant [N] of the used liquid crystal material MLC-3007, d is the liquid crystal cell thickness [m], and p is the chiral material S- The chiral pitch [m] of the liquid crystal material MLC-3007 to which 811 is added, φ1 is the liquid crystal twist angle “degree” of the TN cell in which the liquid crystal material MLC-3007 containing no chiral material is encapsulated, and φ2 includes the chiral material S-811 The twist angle [degree] of the TN cell in which the liquid crystal material MLC-3007 is enclosed is shown.

使用する液晶材料が同一の場合は、捻れ弾性定数k22を定数と考えてもセル間の比較は可能であるため、本実施例では方位角方向のアンカリングエネルギーAφと液晶材料の捻れ弾性定数k22との比(Aφ/k22)でもって方位角方向のアンカリングエネルギーの大きさを評価した。  When the same liquid crystal material is used, the cells can be compared even if the torsional elastic constant k22 is considered as a constant. Therefore, in this embodiment, the anchoring energy Aφ in the azimuth angle direction and the torsional elastic constant k22 of the liquid crystal material are used. The ratio of anchoring energy in the azimuth angle direction was evaluated using the ratio (Aφ / k22).

一方、プレチルト角が低く、大きな方位角方向のアンカリングエネルギーを有する配向膜表面が実現出来たとしても、ラビング筋やラビング傷が発生したのでは実使用に値しないことは言うまでもない。そこで、不適切なラビング処理により発生するラビング筋やラビング傷の起こりやすさを評価する一手法として、配向膜内部を導波するレーザー光の散乱を観察する手法を取り入れ、散乱強度の大きさでもってラビング筋やラビング傷の起こりやすさを評価した。  On the other hand, even if an alignment film surface having a low pretilt angle and large anchoring energy in the azimuth angle direction can be realized, it goes without saying that it is not worthy of actual use if rubbing streaks or rubbing scratches are generated. Therefore, as a technique for evaluating the likelihood of rubbing streaks and rubbing scratches caused by improper rubbing treatment, a technique for observing the scattering of laser light guided inside the alignment film has been incorporated. Thus, the susceptibility to rubbing muscles and rubbing scratches was evaluated.

図6にレーザー光散乱によるラビング筋、及びラビング傷を評価する方法の概要を説明する。均一に配向処理が行われている場合(図6(a))には光導波中の光散乱は殆ど無いが、ラビングにより配向膜表面に傷(凹凸)が形成されているときや、不均一ラビングにより膜表面の延伸の程度にばらつきがある場合(配向膜表面屈折率にばらつきがある場合)(図6(b))、光散乱が大きくなる。  FIG. 6 outlines a method for evaluating rubbing streaks and rubbing scratches caused by laser light scattering. When the alignment treatment is performed uniformly (FIG. 6A), there is almost no light scattering in the optical waveguide, but when the scratches (unevenness) are formed on the alignment film surface by rubbing, or non-uniformity When the degree of stretching of the film surface varies due to rubbing (when the refractive index of the alignment film varies) (FIG. 6B), light scattering increases.

0.02重量%水酸化ナトリウム水溶液に対して平均粒子径0.6μmの二酸化チタン粒子を20重量%を含む水溶液をホモジナイザーにて30分攪拌し、二酸化チタン分散水溶液を調整した。その後、得られた二酸化チタン分散水溶液をセルロース9.0重量%、水酸化ナトリウム5.6重量%からなるビスコース原液に添加混合し、紡糸原液を調整した。  An aqueous solution containing 20% by weight of titanium dioxide particles having an average particle diameter of 0.6 μm with respect to a 0.02% by weight sodium hydroxide aqueous solution was stirred for 30 minutes with a homogenizer to prepare a titanium dioxide dispersed aqueous solution. Thereafter, the obtained titanium dioxide-dispersed aqueous solution was added to and mixed with a viscose stock solution composed of 9.0% by weight of cellulose and 5.6% by weight of sodium hydroxide to prepare a spinning stock solution.

得られた紡糸原液を多数の細孔を有するノズルを用い、硫酸60g/l、硫酸ナトリウム350g/l、硫酸亜鉛15g/lと水とからなる40℃の浴中に押し出し凝固再生させる。その後、水洗乾燥をして0.9重量%の二酸化チタンを含有するビスコースレーヨンを得た。図7に、断面形状写真を示す。  The obtained spinning dope is extruded and coagulated and regenerated using a nozzle having a large number of pores in a 40 ° C. bath composed of 60 g / l of sulfuric acid, 350 g / l of sodium sulfate, 15 g / l of zinc sulfate and water. Thereafter, it was washed with water and dried to obtain viscose rayon containing 0.9% by weight of titanium dioxide. FIG. 7 shows a cross-sectional shape photograph.

次に、得られた二酸化チタンを含むレーヨンを、以下の方法により経糸及び緯糸により織成された地組織に織り込むことによりラビング用布材Aを作製した。  Next, the cloth material A for rubbing was produced by weaving the obtained rayon containing titanium dioxide into a ground texture woven with warps and wefts by the following method.

経糸として、キュプラ繊維からなる135デシテックス(120デニール)の長繊維糸を使い、緯糸として、キュプラ繊維からなる82デシテックス(75デニール)の長繊維糸を使って、経糸密度25本/cm、緯糸密度38本/cmで平織りに織られた地組織を用意した。次に、パイル糸として、得られた二酸化チタン含有レーヨンからなる135デシテックス(120デニール)/50フィラメントの長繊維糸を使い、糸密度が770本/cm2となるように周知の織機により図1に示すW字型で地組織に織り込んだ。  A warp density of 25 d / cm, a weft density using a 135 dtex (120 denier) long fiber yarn made of cupra fiber as a warp yarn, and a 82 dtex (75 denier) long fiber yarn made of cupra fiber as a weft yarn. A ground texture woven into plain weave at 38 / cm was prepared. Next, as a pile yarn, 135 dtex (120 denier) / 50 filament long fiber yarn made of the obtained titanium dioxide-containing rayon was used, and the yarn density was set to 770 yarns / cm 2 with a known loom as shown in FIG. W-shaped as shown and woven into the ground structure.

作製された織布は単位面積あたりのパイルフィラメントの本数が40,000本/cm2で、パイル長は1.80mmとなるように切断した。こうして織成された織布を常法に従いシャーリングによりカットパイルの高さを揃えた後、スチーム工程、洗浄工程、起毛処理工程を経てラビング用布材Aを得た。  The produced woven fabric was cut so that the number of pile filaments per unit area was 40,000 / cm 2 and the pile length was 1.80 mm. The woven fabric thus woven was made to have the same cut pile height by shearing according to a conventional method, and then a rubbing fabric material A was obtained through a steam process, a washing process, and a raising process.

次に、本ラビング用布材Aを用いて配向処理を行ったホモジニアスセル(セル厚6.0μm)にp型液晶材料MLC−3007(メルク株式会社製)を封入してプレチルト角を測定したところ、0.4度であった。また、TNセル(セル厚5.3μm)にカイラル材料を含まないMLC−3007を封入して測定した液晶捻れ角は87.9度、カイラル材料S−811を含むMLC−3007(カイラルピッチ79.4μm)を封入して測定した液晶捻れ角は89.2度であり、前記数式より計算される方位角方向のアンカリングエネルギーAφと使用した液晶材料の捻れ弾性定数k22の比は17.9/μmであった。  Next, a p-type liquid crystal material MLC-3007 (manufactured by Merck & Co., Inc.) was sealed in a homogeneous cell (cell thickness 6.0 μm) subjected to alignment treatment using the rubbing cloth material A, and the pretilt angle was measured. 0.4 degrees. Further, the liquid crystal twist angle measured by sealing MLC-3007 containing no chiral material in a TN cell (cell thickness 5.3 μm) was 87.9 degrees, and MLC-3007 containing the chiral material S-811 (chiral pitch 79. The liquid crystal twist angle measured by enclosing 4 μm) is 89.2 degrees, and the ratio of the anchoring energy Aφ in the azimuth direction calculated from the above formula to the twist elastic constant k22 of the liquid crystal material used is 17.9 / It was μm.

(比較例1)
二酸化チタンを含まないこと以外は実施例1と全く同様にしてラビング用布材Xを作製し、同様にテストセルを作製しプレチルト角、及び方位角方向のアンカリングエネルギーと使用した液晶材料の捻れ弾性定数k22の比を測定したところ、それぞれ2.1度、1.6/μmであった。
(Comparative Example 1)
A rubbing cloth material X is prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that it does not contain titanium dioxide, a test cell is prepared in the same manner, and anchoring energy in the pretilt angle and azimuth directions and twist of the liquid crystal material used. When the ratio of the elastic constant k22 was measured, they were 2.1 degrees and 1.6 / μm, respectively.

以上より明らかなように、本発明ラビング用布材は1度未満の低いプレチルト角を与えると同時に、高い方位角方向のアンカリングエネルギーを与えることができ、IPSモード(あるいはFFSモード)用のラビング用布材として、その実用的価値は極めて高い。  As apparent from the above, the rubbing cloth material of the present invention can provide a low pretilt angle of less than 1 degree and at the same time can provide anchoring energy in a high azimuth direction, and is rubbed for IPS mode (or FFS mode). As a fabric material, its practical value is extremely high.

平均粒子径0.1μmの二酸化ケイ素粒子を20重量%を含むアルコール水溶液をホモジナイザーにて30分攪拌し、二酸化ケイ素分散水溶液を調整した。その後、得られた二酸化ケイ素分散水溶液をアセチルアセテートのアセトン溶液中に溶解せしめ、常法に従い乾式紡糸を行った。得られたアセテート繊維のアセチル化度は2.65であり、二酸化ケイ素の固形分濃度は0.4重量%であった。  An alcohol aqueous solution containing 20% by weight of silicon dioxide particles having an average particle size of 0.1 μm was stirred for 30 minutes with a homogenizer to prepare a silicon dioxide dispersed aqueous solution. Thereafter, the obtained aqueous solution of silicon dioxide dispersion was dissolved in an acetone solution of acetyl acetate, and dry spinning was performed according to a conventional method. The degree of acetylation of the obtained acetate fiber was 2.65, and the solid content concentration of silicon dioxide was 0.4% by weight.

その後、得られた二酸化ケイ素を含有するアセテート繊維を糸密度が770本/cm2となるように実施例1と同様にして図1に示すW字型で地組織に織り込んだ。作成された織布は単位面積あたりのパイルフィラメントの本数が40,000本/cm2で、パイル長は1.80mmとなるように切断した。こうして織成された織布を実施例1と同様にスチーム工程、洗浄工程、起毛処理工程を経てラビング用布材Bとした。  Thereafter, the obtained acetate fiber containing silicon dioxide was woven into the ground structure in a W-shape as shown in FIG. The prepared woven fabric was cut so that the number of pile filaments per unit area was 40,000 / cm 2 and the pile length was 1.80 mm. The woven fabric thus woven was made into a rubbing cloth material B through a steam process, a cleaning process, and a raised treatment process in the same manner as in Example 1.

次に、本ラビング用布材Bを用いて配向処理を行ったホモジニアスセル(セル厚6.0μm)にp型液晶材料MLC−3007(メルク株式会社製)を封入してプレチルト角を測定したところ、0.6度であった。また、TNセル(セル厚5.5μm)にカイラル材料を含まないMLC−3007を封入して測定した液晶捻れ角は89.5度、カイラル材料を含むMLC−3007(カイラルピッチ79.4μm)を封入して測定した液晶捻れ角は91.4度であり、前記数式より計算される方位角方向のアンカリングエネルギーAφと使用した液晶材料の捻れ弾性定数k22の比は12.7/μmであった。  Next, a p-type liquid crystal material MLC-3007 (manufactured by Merck & Co., Inc.) was sealed in a homogeneous cell (cell thickness 6.0 μm) subjected to alignment treatment using the rubbing cloth material B, and a pretilt angle was measured. It was 0.6 degree. In addition, the liquid crystal twist angle measured by enclosing MLC-3007 containing no chiral material in a TN cell (cell thickness 5.5 μm) was 89.5 degrees, and MLC-3007 containing chiral material (chiral pitch 79.4 μm). The liquid crystal twist angle measured after sealing was 91.4 degrees, and the ratio of the anchoring energy Aφ in the azimuth direction calculated from the above formula to the twist elastic constant k22 of the liquid crystal material used was 12.7 / μm. It was.

以上より明らかなように、本発明ラビング用布材はパイル糸中に無機微粒子を含んでおり、パイル糸に剛性を与えるとともに、効率よく配向膜表面を延伸することが出来、液晶プレチルト角を抑えることが出来る。また、液晶分子の方位角方向のアンカリングエネルギーを大きくすることが出来る特徴を有しており、IPSモードやFFSモードの焼きつき抑制に極めて有効である。  As is clear from the above, the rubbing cloth material of the present invention contains inorganic fine particles in the pile yarn, which gives the pile yarn rigidity and can efficiently stretch the alignment film surface, thereby suppressing the liquid crystal pretilt angle. I can do it. Further, it has a feature that the anchoring energy in the azimuth angle direction of the liquid crystal molecules can be increased, and is extremely effective for suppressing burn-in in the IPS mode and the FFS mode.

二酸化チタンの粒径が異なる以外、実施例1と全く同様にしてラビング用布材C〜Jを作製し、テストセルの配向処理を行い、液晶材料のプレチルト角と方位角方向のアンカリングエネルギーと液晶捻れ弾性定数との比を測定した。また、レーザー光散乱法によるラビング筋やラビング傷の出やすさについても評価した。結果を表1に示す。  The rubbing cloth materials C to J are produced in exactly the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of titanium dioxide is different, the test cell is subjected to alignment treatment, and the pretilt angle and the azimuthal anchoring energy of the liquid crystal material The ratio to the liquid crystal twist elastic constant was measured. In addition, the ease with which rubbing streaks and rubbing scratches were generated by the laser light scattering method was also evaluated. The results are shown in Table 1.

表1より明らかなように、微粒子径が0.1μm以上3.0μm以下の二酸化チタンを含むパイル糸を用いたラビング用布材は、1度未満の低いプレチルト角と高い方位角方向のアンカリングエネルギーを実現することが出来るため、IPSモードやFFSモードのラビング用布材として最適である。
微粒子径が3.5μm以上の二酸化チタンを用いた場合には、配向膜表面へのダメージが大きく、液晶表示素子におけるラビング筋不良の要因となるため、好ましくない。また、微粒子径が0.05μm以下の場合には、嵩比重が小さくなり、分散混合などの作業性が著しく悪くなるため好ましくない。
As is clear from Table 1, the rubbing cloth material using a pile yarn containing titanium dioxide having a fine particle diameter of 0.1 μm or more and 3.0 μm or less has a low pretilt angle of less than 1 degree and anchoring in a high azimuth direction. Since energy can be realized, it is optimal as a cloth material for rubbing in IPS mode or FFS mode.
When titanium dioxide having a fine particle diameter of 3.5 μm or more is used, it is not preferable because damage to the alignment film surface is large and causes rubbing streaks in the liquid crystal display element. On the other hand, when the fine particle diameter is 0.05 μm or less, the bulk specific gravity becomes small, and workability such as dispersion mixing is remarkably deteriorated.

実施例1と同様な方法にて、微粒子径が1.0μmである二酸化チタン、あるいは二酸化ケイ素をビスコース原液中に分散濃度を変えて分散した。その後、常法に従って紡糸し、実施例1と同一の地組織に織り込みラビング用布材K〜Qとした。  In the same manner as in Example 1, titanium dioxide or silicon dioxide having a fine particle diameter of 1.0 μm was dispersed in a viscose stock solution at different dispersion concentrations. Then, it spun in accordance with the conventional method, and it woven into the same ground structure as Example 1, and was set as cloth material K-Q for rubbing.

得られたラビング用布材K〜Qを用いてテストセルの配向処理を行い、液晶材料のプレチルト角と方位角方向のアンカリングエネルギーと液晶捻れ弾性定数の比を測定した。結果を表2に示す。また、ラビング筋やラビング傷の発生の起こりやすさに対応した導波レーザー光散乱の程度を観察した結果も併せて表2に示した。  Using the obtained rubbing cloth materials K to Q, test cells were subjected to alignment treatment, and the ratio of the pretilt angle and the anchoring energy in the azimuth direction of the liquid crystal material to the liquid crystal twist elastic constant was measured. The results are shown in Table 2. Table 2 also shows the results of observation of the degree of waveguide laser light scattering corresponding to the likelihood of occurrence of rubbing streaks and rubbing scratches.

表2より明らかなように、微粒子濃度が0.1重量%以上4.0重量%以下のパイル糸を用いたラビング用布材は、1度未満の低いプレチルト角と高い方位角方向のアンカリングエネルギーを実現することが出来るなど実用的価値は高い。また、微粒子濃度が0.05重量%以下では微粒子添加の効果が認められず、また微粒子濃度が5重量%以上ではラビング筋発生の可能性が高くなるため、好ましくない。  As is clear from Table 2, the rubbing fabric using a pile yarn having a fine particle concentration of 0.1% by weight to 4.0% by weight is anchored in a low pretilt angle of less than 1 degree and in a high azimuth direction. Practical value is high, such as being able to realize energy. Further, if the fine particle concentration is 0.05% by weight or less, the effect of adding fine particles is not recognized, and if the fine particle concentration is 5% by weight or more, the possibility of the occurrence of rubbing stripes is increased.

常法に従い、スノーテックス−20(日産化学工業株式会社製コロイダルシリカの商品名)を用い、二酸化ケイ素の含量が2.5重量%のポリエチレンテレフタレートを以下の条件で、フルダル極細糸POY135デシテックス/50フィラメントを紡糸した。ここにおいて、エマルジョン濃度は6重量%、エマルジョン付与量は15重量%とした。
尚、紡糸条件は、紡糸口金のオリフィス孔径(円形):0.17mm、孔数:50、紡糸温度:295℃、紡糸速度:2600m/分であった。
In accordance with a conventional method, SnowTex-20 (trade name of colloidal silica manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), polyethylene terephthalate having a silicon dioxide content of 2.5% by weight under the following conditions, full-ultrafine yarn POY135 dtex / 50 The filament was spun. Here, the emulsion concentration was 6% by weight, and the emulsion application amount was 15% by weight.
The spinning conditions were: spin hole orifice diameter (circular): 0.17 mm, number of holes: 50, spinning temperature: 295 ° C., spinning speed: 2600 m / min.

その後、得られた二酸化ケイ素を含有するポリエチレンテレフタレート繊維を糸密度が770本/cm2となるように実施例1と同様にして図1に示すW字型で地組織に織り込んだ。作成された織布は単位面積あたりのパイルフィラメントの本数が40,000本/cm2で、パイル長は1.80mmとなるように切断した。こうして織成された織布を起毛処理を行い、ラビング用布材Rを得た。  Thereafter, the obtained polyethylene terephthalate fiber containing silicon dioxide was woven into the ground structure in the W-shape shown in FIG. 1 in the same manner as in Example 1 so that the yarn density was 770 yarns / cm 2. The prepared woven fabric was cut so that the number of pile filaments per unit area was 40,000 / cm 2 and the pile length was 1.80 mm. The woven fabric thus woven was subjected to raising treatment to obtain a rubbing cloth material R.

次に、得られたラビング用布材Rを用いテストセルの配向処理を行い、液晶材料のプレチルト角と方位角方向のアンカリングエネルギーと液晶捻れ弾性定数との比を測定したところ、それぞれ0.8度、10.8/μmであった。  Next, the alignment treatment of the test cell was performed using the obtained rubbing cloth material R, and the ratio of the pretilt angle and the azimuthal anchoring energy and the liquid crystal torsional elastic constant of the liquid crystal material was measured. It was 8 degrees and 10.8 / μm.

以上より明らかなように、本発明ラビング用布材は、無機微粒子を含むパイル糸を用いたラビング用布材であり、本発明ラビング用布材を用いることにより、液晶配向のプレチルト角を低くすることが出来、かつ方位角方向のアンカリングエネルギーを大きくすることが出来る。  As is clear from the above, the rubbing cloth material of the present invention is a rubbing cloth material using pile yarn containing inorganic fine particles, and the pretilt angle of liquid crystal alignment is lowered by using the rubbing cloth material of the present invention. The anchoring energy in the azimuth angle direction can be increased.

従来より服飾関連では艶消しを目的として、無機微粒子を熱可塑性ポリマー中に分散し紡糸した繊維が知られているが、ラビング用布材としてこれらの布を用いることは目的が異なり、容易に想起しうるものではない。  Conventionally, in the case of clothing, fibers with inorganic fine particles dispersed and spun in thermoplastic polymers for the purpose of matting have been known, but the use of these fabrics as rubbing fabrics has different purposes and is easily recalled. It is not possible.

従来のラビング用布材の開発においては、布材と配向膜との摩擦係数を大きくすることにより配向膜表面が強く延伸され、配向膜に大きな液晶配向能が付与されると考えられていた。しかしながら、大きな摩擦力の大部分は熱として消費され、必ずしも配向膜の延伸に使われていないため、摩擦係数と配向膜の液晶配向能とは1:1に対応していない。酸化チタン等の微粒子は滑材としても機能するため、微粒子を含むパイル糸によりラビング処理を行うと、熱によるエネルギー損失が少なく効率よくエネルギーが配向膜の延伸に使われるため、従来にくらべより強くラビングされると考えられる。即ち、プレチルト角をより低くすることが出来る。  In the development of a conventional rubbing cloth material, it has been considered that the surface of the alignment film is strongly stretched by increasing the coefficient of friction between the cloth material and the alignment film, thereby imparting a large liquid crystal alignment ability to the alignment film. However, since most of the large frictional force is consumed as heat and is not necessarily used for stretching the alignment film, the friction coefficient and the liquid crystal alignment ability of the alignment film do not correspond to 1: 1. Since fine particles such as titanium oxide also function as a lubricant, rubbing with pile yarns containing fine particles causes less energy loss due to heat and efficiently uses the energy to stretch the alignment film, making it stronger than before. It is considered to be rubbed. That is, the pretilt angle can be further reduced.

また、微粒子を含有するパイル糸を用いたラビング用布材は、微粒子を含有しないパイル糸を用いたラビング用布材に比べて剛性があるため、配向膜表面をラビングするに際して、より強く配向膜表面高分子鎖を押しつけるため、高分子側鎖はより基板面に水平な方向に傾くと思われる。そのため、液晶分子と配向膜主鎖の極性部位とがより近接することが可能となり、アンカリングエネルギーが大きくなると考えられる。  In addition, since the rubbing cloth material using the pile yarn containing fine particles is more rigid than the rubbing cloth material using the pile yarn not containing fine particles, the alignment film is stronger when rubbing the alignment film surface. In order to press the surface polymer chain, it seems that the polymer side chain is inclined more in the horizontal direction to the substrate surface. Therefore, the liquid crystal molecules and the polar part of the alignment film main chain can be brought closer to each other, and the anchoring energy is considered to be increased.

無機微粒子、パイル糸、及び地組織の材料は、本発明実施例に開示された材料に限定されるものではない。本発明に係るラビング用布材の地組織としては、レーヨンに代表される再生繊維、綿に代表される天然繊維、アセテート等の半合成繊維、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系合成繊維、ナイロンに代表される脂肪族ポリアミド系合成繊維あるいはこれらの混合繊維を用いた薄地または厚地の織物が採用できる。織物組織としては、パイル糸が織り込めるのであればよく特に限定されないが、図1又は図2に示すような構造を用いるのが好ましい。  The materials of the inorganic fine particles, the pile yarn, and the ground texture are not limited to the materials disclosed in the examples of the present invention. Examples of the texture of the rubbing cloth material according to the present invention include recycled fibers represented by rayon, natural fibers represented by cotton, semi-synthetic fibers such as acetate, polyester-based synthetic fibers represented by polyethylene terephthalate, and nylon. A thin or thick fabric using a typical aliphatic polyamide synthetic fiber or a mixed fiber thereof can be used. The fabric structure is not particularly limited as long as the pile yarn can be woven, but a structure as shown in FIG. 1 or 2 is preferably used.

地組織に用いる経糸及び緯糸は、長繊維糸の場合33〜167デシテックス(30〜150デニール)の範囲のものが好ましく、長繊維糸としては、例えばビスコースレーヨン糸、キュプラ糸が用いられる。また、紡績糸の場合経糸及び緯糸として綿番手が双糸140番手〜単糸10番手のものが好ましい。  In the case of long fiber yarns, the warp and weft yarns used in the ground structure are preferably in the range of 33 to 167 dtex (30 to 150 denier). As long fiber yarns, for example, viscose rayon yarn and cupra yarn are used. In the case of a spun yarn, the warp and weft yarns preferably have a cotton count of 140 double yarns to 10 single yarns.

無機微粒子としては、硫化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ルテニウム、酸化マグネシウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、ケイ酸アルミニウム、硫酸バリウム、アルミナ、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、硫酸カルシウム、カーボンナノチューブ、などが好適な材料である。なかでも、二酸化チタン、及び二酸化ケイ素は高純度で均質なものが容易に得られ、より好適な材料である。  Suitable inorganic fine particles include zinc sulfide, aluminum oxide, ruthenium oxide, magnesium oxide, titanium dioxide, silicon dioxide, aluminum silicate, barium sulfate, alumina, kaolin, calcium carbonate, sodium carbonate, calcium sulfate, and carbon nanotube. Material. Among these, titanium dioxide and silicon dioxide are more suitable materials because they can be easily obtained with high purity and homogeneity.

本発明に用いられるパイル材料としては、ポリ(ピバロラクトン)、ポリ(カプロラクトン)及び同族の重合体のようなポリラクトン;ポリウレタン;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテル;ポリケトン;脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミドなどのポリアミド;ポリ(エチレンアゼレート)、ポリ(エチレン1,5−ナフタレート)、ポリ(1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)、ポリ(エチレンオキシベンゾエート)、ポリ(p−ヒドロキシベンゾエート)、ポリ(1,4−シクロヘキシリデンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及び同族の重合体のようなポリエステル;ポリアリーレンオキシド;ポリアリーレンスルフィド;ポリエーテルイミド;ビニル重合体及びそれらの共重合体;エチレン−酢酸ビニル共重合体及び同族の重合体;アクリル重合体、ポリアクリレート及びそれらの共重合体;エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、メタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、ABS及び同族の重合体;低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、低密度塩素化ポリエチレン、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)、ポリエチレン、ポリスチレン及び同族の重合体;ポリフラン;酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、プロピオン酸セルロース及び同族の重合体のようなセルロースエステルプラスチック;シリコーン樹脂などが挙げられる。なかでも、ビスコースレーヨン、ポリエステル、及びアセテート樹脂は服飾関連でも広く用いられ、製法も確立されており、パイル糸に特に適している。  Pile materials used in the present invention include polylactones such as poly (pivalolactone), poly (caprolactone) and homologous polymers; polyurethane; polycarbonate; polysulfone; polyether; polyketone; polyamide such as aliphatic polyamide and aromatic polyamide. Poly (ethylene azelate), poly (ethylene 1,5-naphthalate), poly (1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate), poly (ethylene oxybenzoate), poly (p-hydroxybenzoate), poly (1,4 -Cyclohexylidene dimethylene terephthalate), polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and homologous polymers such as polyesters; polyarylene oxides; polyarylene sulfides; polyetherimides; Polymers and copolymers thereof; ethylene-vinyl acetate copolymers and homologous polymers; acrylic polymers, polyacrylates and copolymers thereof; ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-vinyl alcohol copolymers , Acrylonitrile copolymer, methyl methacrylate-styrene copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, methacrylate-butadiene-styrene copolymer, ABS and homologous polymers; low density polyethylene, polypropylene, low density chlorination Polyethylene, poly (4-methyl-1-pentene), polyethylene, polystyrene and homologous polymers; polyfurans; cellulose ester plastics such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and homologous polymers; silicone resins, etc. Can be mentioned. Among these, viscose rayon, polyester, and acetate resin are widely used in clothing, and their manufacturing methods are established, and are particularly suitable for pile yarns.

本発明実施例においては、カットパイル長を1.8mm、フィラメント密度を40,000本/cm2に統一したが、これにより本発明を何ら限定するものではない。  In the embodiment of the present invention, the cut pile length is unified to 1.8 mm and the filament density is 40,000 pieces / cm 2, but this does not limit the present invention.

11、21 地組織の経糸
12、22 地組織の緯糸
13、23 パイル糸
31、41、51 液晶分子
32、42、62 配向膜
33、43 電極
34、44、63 ガラス基板
52 配向膜高分子鎖
61 レーザー光
71 二酸化チタン微粒子
72 レーヨン
11, 21 Ground warp 12, 22 Ground weft 13, 23 Pile yarn 31, 41, 51 Liquid crystal molecules 32, 42, 62 Alignment film 33, 43 Electrode 34, 44, 63 Glass substrate 52 Alignment film polymer chain 61 Laser light 71 Fine particles of titanium dioxide 72 Rayon

Claims (7)

経糸及び緯糸により織成された地組織と、前記地組織に織り込まれ前記地組織より突出した多数のパイル糸とからなるラビング用布材において、前記パイル糸が無機微粒子を含むことを特徴とするラビング用布材。In a rubbing cloth material comprising a ground structure woven by warps and wefts and a large number of pile yarns woven into the ground structure and protruding from the ground structure, the pile thread contains inorganic fine particles. Rubbing fabric. パイル糸がビスコースレーヨン繊維からなるカットパイル糸であることを特徴とする請求項1に記載のラビング用布材。The rubbing cloth material according to claim 1, wherein the pile yarn is a cut pile yarn made of viscose rayon fiber. パイル糸がアセテート繊維、あるいはポリエチレンテレフタレート繊維からなるカットパイル糸であることを特徴とする請求項1に記載のラビング用布材。The cloth material for rubbing according to claim 1, wherein the pile yarn is a cut pile yarn made of acetate fiber or polyethylene terephthalate fiber. 無機微粒子が二酸化チタン微粒子であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のラビング用布材。The rubbing cloth material according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic fine particles are titanium dioxide fine particles. 無機微粒子が二酸化ケイ素微粒子であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載のラビング用布材。The rubbing cloth material according to any one of claims 1 to 3, wherein the inorganic fine particles are silicon dioxide fine particles. パイル糸に含まれる無機微粒子の割合が、0.1重量%以上4.0重量%以下であることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載のラビング用布材。The rubbing cloth material according to any one of claims 1 to 5, wherein a ratio of the inorganic fine particles contained in the pile yarn is 0.1 wt% or more and 4.0 wt% or less. 無機微粒子の粒径が0.1μm以上3.0μm以下であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載のラビング用布材。The rubbing cloth material according to any one of claims 1 to 6, wherein the particle size of the inorganic fine particles is 0.1 µm or more and 3.0 µm or less.
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