JP2013148687A - Light control film, and method of manufacturing light control film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel light control film with high flexibility and durability, which enables simple workability and inexpensive supply that have been impossible in a conventional light control film, and can be attached to an existing glass window for a use, and also has a light control function, and a crack prevention function (for crime prevention and disaster prevention), and a method of manufacturing the light control film.SOLUTION: A light control film has a light control layer between a pair of transference electrodes facing each other carried on a base material. The base material is a film base material, and the transference electrodes are combined electrodes that contain metal microparticles and a conductive polymer.

Description

本発明は新規の調光フィルムに関するものであり、より詳しくは、金属微粒子と導電性ポリマーを含有してなる複合電極を用いることにより、大幅に性能が改善された新たな調光フィルム、及び該調光フィルムの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a novel light control film. More specifically, the present invention relates to a new light control film whose performance is greatly improved by using a composite electrode containing metal fine particles and a conductive polymer, and The present invention relates to a method for producing a light control film.

従来ディスプレイ等に使用されている液晶は、低い電圧で駆動できるという優れた利点を持っている。しかし、従来の液晶では偏光板を必要とするものが多く、またその名が示すように液体であるため、液が漏れないように完全密封する必要がある。   The liquid crystal conventionally used for a display etc. has the outstanding advantage that it can drive with a low voltage. However, many conventional liquid crystals require a polarizing plate, and as the name implies, it is a liquid, and it is necessary to completely seal the liquid so as not to leak.

これに比較し、近年開発された高分子液晶複合膜は液晶を高分子で包み込んだ物性構造なので固形化し、且つ塑性があるため、膜状等の変形加工が容易である利点を有する。また、駆動電圧はやや高いものの、偏光板を必要としないのも利点である。   Compared to this, the recently developed polymer liquid crystal composite film has the advantage that it is solidified and plastic because it has a physical structure in which liquid crystal is wrapped in a polymer, and therefore it can be easily deformed into a film or the like. In addition, although the driving voltage is slightly high, it is also an advantage that a polarizing plate is not required.

高分子液晶複合膜は、光の吸収損失が少なく、かつ高い光散乱性能が得られ、素子全体における光の利用効率が高く明るい表示が実現できるメリットがあり、素子の構成も単純であることから、調光ガラス等の光シャッター用途、時計等セグメント表示用途に応用されている。   The polymer liquid crystal composite film has the advantages of low light absorption loss, high light scattering performance, high light utilization efficiency in the entire device, and bright display, and simple device configuration. It is applied to optical shutter applications such as light control glass and segment display applications such as watches.

調光ガラス等の光シャッター用途では、電圧印加により配向する液晶によって、入射光に対して垂直方向の偏光に対する屈折率(常光屈折率という)とポリマーの屈折率とをほぼ一致させるように設計することで、電圧印加時に透明状態を示す。一方、電圧非印加時には、液晶/ポリマー複合体中の液晶の平均的な方向は液晶滴ごとに異なるため、ポリマーの屈折率と一致せず入射光は光散乱して透明性が失われる。このように電圧のON/OFFによって、透明度を可変できるガラスを実現するものである。   For optical shutter applications such as light control glass, the liquid crystal oriented by applying voltage is designed so that the refractive index for polarized light perpendicular to the incident light (referred to as ordinary light refractive index) and the refractive index of the polymer are almost the same. Thus, it shows a transparent state when a voltage is applied. On the other hand, when no voltage is applied, since the average direction of the liquid crystal in the liquid crystal / polymer composite is different for each liquid crystal droplet, the incident light does not coincide with the refractive index of the polymer and the transparency is lost. Thus, a glass whose transparency can be changed by turning on / off the voltage is realized.

このような高分子液晶複合膜に用いられる高分子液晶には、いくつかの種類があり、例えば、NCAP(Nematic Curvilinear Aligned Phase)と呼ばれるタイプ(特許文献1)、高分子分散型液晶(PDLC:Polymer Dispersed Liquid Crystal)と呼ばれるタイプ(特許文献2、特許文献3)、高分子ネットワーク型液晶(PNLC:Polymer Network Liquid Crystal)と呼ばれるタイプ(特許文献4)等が提案されている。   There are several types of polymer liquid crystal used in such a polymer liquid crystal composite film, for example, a type called NCAP (Nematic Curvilinear Aligned Phase) (Patent Document 1), a polymer dispersed liquid crystal (PDLC: A type called Polymer Dispersed Liquid Crystal (Patent Document 2 and Patent Document 3), a type called Polymer Network Liquid Crystal (PNLC) (Patent Document 4), and the like have been proposed.

PDLC、及びPNLCタイプのものは、これまでは表示素子や光学シャッター等の光学部材への応用が中心であったが、近年、非特許文献1に見られるように、大面積の調光フィルムの作製が実現されており、NCAP方式と異なり、均一な状態に作製することが容易であり、低コストでの作製が可能である。   The PDLC and PNLC types have so far been mainly applied to optical members such as display elements and optical shutters, but in recent years, as shown in Non-Patent Document 1, a large-area light control film is used. Manufacturing is realized, and unlike the NCAP method, it is easy to manufacture in a uniform state and can be manufactured at low cost.

この種の高分子液晶複合膜を使用した調光フィルムは、高分子液晶を駆動するのにフィルム面上にITO(インジウムチンオキシド)を蒸着しそれを透明電極として用いている(例えば特許文献5、特許文献6参照。)。しかしながら電極がITOであり衝撃に弱いため、調光フィルムとしての耐久性は貧弱で十分でなかった。このため調光フィルムは、実験室(サンプルとしては)ではフィルムベースで実現可能であるものの、実用上ガラスに保護されたリジッドな形態での使用しか実現できなかった。またITOを使用しているため、素材の高騰・枯渇(レアアース)、真空プロセスでの成膜や煩雑なパターニングが必要であり、電極自体が高価なばかりか、ITOの脆弱さを保護するため、ガラス製品となることにより、調光フィルムとしては非常に高価で、大型窓等の用途では非常に重く、壊れ易い。そのため、その施工は一般人には難しく、専門施工業者による取り付けが必須な製品しか市場に提供できていなかった。これらの要因が、調光フィルムの普及を大きく阻害してきた。   In a light control film using this type of polymer liquid crystal composite film, ITO (indium tin oxide) is deposited on the film surface and used as a transparent electrode to drive the polymer liquid crystal (for example, Patent Document 5). , See Patent Document 6). However, since the electrode is ITO and is vulnerable to impact, the durability as a light control film is poor and insufficient. For this reason, although the light control film can be realized on a film basis in a laboratory (as a sample), it can be practically used only in a rigid form protected by glass. In addition, because ITO is used, the material is soaring and depleting (rare earth), film formation in a vacuum process and complicated patterning are necessary, and not only the electrode itself is expensive, but also protects the weakness of ITO. By becoming a glass product, it is very expensive as a light control film, and is very heavy and fragile in applications such as large windows. Therefore, the construction is difficult for ordinary people, and only products that must be installed by professional contractors can be provided to the market. These factors have greatly hindered the spread of light control films.

特許文献7では、ITOを用いた片面電極に対し、もう一方に金属電極を細線、格子、又は網目状にした対向電極の使用が開示されているが、この特許文献によれば保存性・耐候性良好な調光素子が得られ好ましいが、ITO電極を片面電極として用いていることで、引き伸ばし性・曲げ性の観点では不十分であり、また片面電極に導電性樹脂を含む構成が開示されているが、耐候性・耐湿性でいまだ改善が必要である。   Patent Document 7 discloses the use of a counter electrode in which a metal electrode is formed into a thin wire, a lattice, or a mesh on the other side of a single-sided electrode using ITO. According to this patent document, storage stability and weather resistance are disclosed. A dimming element with good properties can be obtained, but the use of an ITO electrode as a single-sided electrode is not sufficient in terms of stretchability and bendability, and a structure containing a conductive resin in the single-sided electrode is disclosed. However, there is still a need for improvement in weather resistance and moisture resistance.

米国特許4435047号明細書U.S. Pat. No. 4,435,047 米国特許4688900号明細書US Pat. No. 4,688,900 米国特許4834509号明細書US Pat. No. 4,834,509 米国特許5304323号明細書US Pat. No. 5,304,323 特開平6−3654号公報JP-A-6-3654 特開2009−169252号公報JP 2009-169252 A 特開2011−39283号公報JP 2011-39283 A

月刊ディスプレイ 2004年3月号(P78)Monthly display March, 2004 issue (P78)

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、従来製品では実現不可能であったフレキシブル性、且つ高耐久性の調光フィルムを提供することであり、またその性能により、従来の調光フィルムでは実現不可能であった簡便な施工性、且つ安価な供給を可能とすることであり、ひいては既存のガラス窓に貼付して使用でき、調光機能、割れ防止機能(防犯・防災機能)を兼ね備えた新規な調光フィルム、及び該調光フィルムの製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems and situations, and a solution to that problem is to provide a flexible and highly durable light control film that could not be realized with conventional products. With its performance, it is possible to provide a simple workability and low-priced supply that cannot be realized with conventional light control films, and can be used by sticking to existing glass windows. It is providing the novel light control film which has a prevention function (crime prevention / disaster prevention function), and the manufacturing method of this light control film.

本発明者は、上記課題を解決すべく検討した結果、基材に担持された対向する一対の透明電極間に調光層を有する調光フィルムであって、該基材がフィルム基材であり、且つ該透明電極が金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する複合電極であることを特徴とする調光フィルムによって、従来製品では実現不可能であったフレキシブル性、且つ高耐久性の調光フィルムが得られることを見出し本発明に至った。   As a result of studying the above problems, the present inventor has a light control film having a light control layer between a pair of opposed transparent electrodes carried on a base material, the base material being a film base material. In addition, the light control film, which is a composite electrode containing metal fine particles and a conductive polymer, provides a light control film having flexibility and high durability that cannot be realized with conventional products. As a result, the present invention was found.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.基材に担持された対向する一対の透明電極の間に調光層を有する調光フィルムであって、該基材がフィルム基材であり、かつ該透明電極が金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する複合電極であることを特徴とする調光フィルム。   1. A light control film having a light control layer between a pair of opposing transparent electrodes carried on a base material, wherein the base material is a film base material, and the transparent electrode contains fine metal particles and a conductive polymer A light control film characterized by being a composite electrode.

2.前記調光層が、高分子分散型液晶又は高分子ネットワーク型液晶を含有することを特徴とする前記第1項に記載の調光フィルム。   2. 2. The light control film according to item 1, wherein the light control layer contains a polymer dispersed liquid crystal or a polymer network type liquid crystal.

3.前記金属微粒子が、金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤであることを特徴とする前記第1項又は第2項に記載の調光フィルム。   3. 3. The light control film according to item 1 or 2, wherein the metal fine particles are metal nanoparticles or metal nanowires.

4.前記透明電極が、金属微粒子よりなる金属細線構造を有することを特徴とする前記第1項〜第3項のいずれか一項に記載の調光フィルム。   4). The light control film according to any one of Items 1 to 3, wherein the transparent electrode has a fine metal wire structure made of fine metal particles.

5.前記金属細線構造が、ストライプ状細線構造であることを特徴とする前記第4項に記載の調光フィルム。   5. The light control film according to item 4, wherein the metal fine wire structure is a stripe-like fine wire structure.

6.前記一対の透明電極が、ストライプ状細線構造である金属細線構造を有し、該一対の透明電極のストライプ状細線構造が相互に直交していることを特徴とする前記5に記載の調光フィルム。   6). 6. The light control film as described in 5 above, wherein the pair of transparent electrodes has a metal fine wire structure which is a stripe fine wire structure, and the stripe fine wire structures of the pair of transparent electrodes are orthogonal to each other. .

7.前記導電性ポリマーが、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を含有してなることを特徴とする前記第1項〜第6項のいずれか一項に記載の調光フィルム。   7). The light control film according to any one of Items 1 to 6, wherein the conductive polymer contains poly (3,4-ethylenedioxythiophene).

8.前記導電性ポリマーが、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と非導電性ポリマーの混合物であることを特徴とする前記第1項〜第6項のいずれか一項に記載の調光フィルム。   8). The light control film according to any one of Items 1 to 6, wherein the conductive polymer is a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and a nonconductive polymer. .

9.前記非導電性ポリマーが、ヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーであることを特徴とする前記8項に記載の調光フィルム。   9. 9. The light control film according to item 8, wherein the nonconductive polymer is a nonconductive polymer having a hydroxy group.

10.前記非導電性ポリマーが、解離性基を有する自己分散型ポリマーであることを特徴とする前記8項に記載の調光フィルム。   10. 9. The light control film as described in 8 above, wherein the non-conductive polymer is a self-dispersing polymer having a dissociable group.

11.前記第1項〜第10項のいずれか一項に記載の調光フィルムであって、該調光フィルムが、軸半径3mmRの曲げ耐久試験で100回以上の耐久性があることを特徴とする調光フィルム。   11. It is a light control film as described in any one of said 1st term-10th, Comprising: This light control film has durability 100 times or more in the bending endurance test of axial radius 3mmR, It is characterized by the above-mentioned. Light control film.

12.前記第1項〜第10項のいずれか一項に記載の調光フィルムであって、該調光フィルムが、0.3mmRのスクラッチ加重評価で100g以上の耐久性があることを特徴とする調光フィルム。   12 It is a light control film as described in any one of said 1st term-10th item, Comprising: This light control film has the durability of 100 g or more by 0.3 mmR scratch weight evaluation. Light film.

13.前記基材の前記透明電極を有する面とは反対の面に、粘着層及び剥離支持体を設けたことを特徴とする前記第1項〜第12項のいずれか一項に記載の調光フィルム。   13. The light control film according to any one of Items 1 to 12, wherein an adhesive layer and a release support are provided on a surface opposite to the surface having the transparent electrode of the substrate. .

14.前記調光フィルムが、長尺ロール状の調光フィルムであることを特徴とする前記第13項に記載の調光フィルム。   14 14. The light control film according to item 13, wherein the light control film is a long roll-shaped light control film.

15.前記第1項〜第14項のいずれか一項に記載の調光フィルムを製造する調光フィルムの製造方法であって、前記透明電極及び前記調光層を塗布法又は印刷法によって設けることを特徴とする調光フィルムの製造方法。   15. It is a manufacturing method of the light control film which manufactures the light control film as described in any one of said 1st term-14th, Comprising: Providing the said transparent electrode and the said light control layer by the apply | coating method or the printing method. The manufacturing method of the light control film characterized.

16.前記透明電極を設ける方法が、インクジェット印刷法であることを特徴とする前記第15項に記載の調光フィルムの製造方法。   16. The method for producing a light control film according to item 15, wherein the method of providing the transparent electrode is an ink jet printing method.

17.基材巾、透明電極の形成巾、及び調光層の形成巾が下記関係を満たすことを特徴とする前記第15項又は第16項に記載の調光フィルムの製造方法。   17. Item 15. The method for producing a light control film according to Item 15, wherein the width of the substrate, the formation width of the transparent electrode, and the formation width of the light control layer satisfy the following relationship.

基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾
18.基材巾、透明電極の形成巾、及び調光層の形成巾が下記関係を満たすように、基材上に透明電極と調光層設けた後、該透明電極に対向する透明電極を設置することを特徴とする前記第17項に記載の調光フィルムの製造方法。
Substrate width> Transparent electrode formation width> Light control layer formation width18. After the transparent electrode and the light control layer are provided on the base material, the transparent electrode facing the transparent electrode is installed so that the base material width, the formation width of the transparent electrode, and the formation width of the light control layer satisfy the following relationship: 18. The method for producing a light control film according to item 17, characterized in that:

基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾   Substrate width> Transparent electrode formation width> Light control layer formation width

本発明の上記構成によれば、フィルム基材上にフレキシブルな電極素材を用いて作製した一対の透明電極によって調光層を担持した積層構成とすることにより、ガラス基板に透明電極としてITOを用いた従来の調光性部材に対し、実現不可能であったフレキシブル性、且つ高耐久性の調光フィルムを提供することができる。また上記性能により、従来の調光フィルムでは実現不可能であった簡便な施工性、且つ安価な供給を可能とするものであり、引いては既存の大きさがまちまちのガラス窓に貼付して使用でき、調光機能、割れ防止機能(防犯・防災機能)を兼ね備えた新規の調光フィルム、及び該調光フィルムの製造方法を提供することができる。   According to the above configuration of the present invention, ITO is used as a transparent electrode on a glass substrate by adopting a laminated configuration in which a dimming layer is supported by a pair of transparent electrodes prepared using a flexible electrode material on a film substrate. Therefore, it is possible to provide a flexible and highly durable light control film that cannot be realized with respect to the conventional light control member. In addition, the above-mentioned performance enables easy workability and low-priced supply that could not be realized with conventional light control films, and the existing sizes are pasted on various glass windows. It is possible to provide a novel light control film having a light control function and a crack prevention function (crime prevention / disaster prevention function), and a method for producing the light control film.

透明基板と金属細線との間に構成されるテーパ角を概略的に説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating schematically the taper angle comprised between a transparent substrate and a metal fine wire. インクジェット印刷を概略的に説明するための図である。It is a figure for demonstrating ink jet printing roughly. インクジェットヘッドの一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of an inkjet head. 取出し電極、透明電極、導電性ポリマー層の形成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of formation of an extraction electrode, a transparent electrode, and a conductive polymer layer. 曲げ試験の模式図である。It is a schematic diagram of a bending test. 本発明の調光フィルムの構成の好ましい一例を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining a preferable example of a structure of the light control film of this invention.

本発明の調光フィルムは、基材に担持された対向する一対の透明電極の間に調光層を有する調光フィルムであって、該基材がフィルム基材であり、且つ該透明電極が金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する複合電極であることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項18までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。   The light control film of the present invention is a light control film having a light control layer between a pair of opposed transparent electrodes carried on a base material, the base material being a film base material, and the transparent electrode being It is a composite electrode containing fine metal particles and a conductive polymer. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 18.

また、前記調光層が、高分子分散型液晶又は高分子ネットワーク型液晶を含有することが、フレキシブル性、且つ高耐久性に加えて、製品としての均一性、低コストな調光フィルムを提供する観点から好ましい態様である。   In addition to flexibility and high durability, the light control layer contains polymer dispersed liquid crystal or polymer network type liquid crystal, and provides a light control film that is uniform as a product and low in cost. Therefore, this is a preferred embodiment.

本発明の実施態様としては、前記金属微粒子が、金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤであることがフレキシブル性、且つ高耐久性の調光フィルムを実現する上で好ましい。金属ナノ粒子は後述する金属ナノインクの形状で用いられることが好ましい。   As an embodiment of the present invention, the metal fine particles are preferably metal nanoparticles or metal nanowires in order to realize a flexible and highly durable light control film. The metal nanoparticles are preferably used in the form of a metal nano ink described later.

また、前記透明電極が金属微粒子よりなる金属細線構造を有してなることが好ましく、前記金属細線構造がストライプ状細線構造であることが好ましい。   The transparent electrode preferably has a fine metal wire structure made of fine metal particles, and the fine metal wire structure preferably has a stripe fine wire structure.

また、前記透明電極が、一対のストライプ状細線構造である金属細線構造を有し、該一対のストライプ状細線構造が90°ずらした垂直格子構造で配置されていることがモアレの発生のない調光フィルムを提供することができ好ましい。   The transparent electrode has a metal fine wire structure that is a pair of striped fine wire structures, and the pair of stripe fine wire structures are arranged in a vertical lattice structure shifted by 90 ° so that moire does not occur. An optical film can be provided, which is preferable.

さらに前記導電性ポリマーが前記PEDOTを含有してなることや、前記導電性ポリマーが前記PEDOTと非導電性ポリマーの混合物であることが好ましく、前記非導電性ポリマーがヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーであること、又は前記非導電性ポリマーが解離性基含有自己分散型ポリマーであることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the conductive polymer contains the PEDOT, the conductive polymer is a mixture of the PEDOT and a nonconductive polymer, and the nonconductive polymer has a hydroxy group. It is preferable that the non-conductive polymer is a dissociable group-containing self-dispersing polymer.

本発明の調光フィルムは、軸半径3mmRの曲げ耐久試験で100回以上の耐久性があることが好ましく、0.3mmRのスクラッチ加重評価で100g以上の耐久性があることが好ましい。   The light control film of the present invention preferably has a durability of 100 times or more in a bending durability test with an axial radius of 3 mmR, and preferably has a durability of 100 g or more in a scratch load evaluation of 0.3 mmR.

本発明の調光フィルムの供給形態として、前記基材の前記透明電極を有する面とは反対の面に粘着層並びに剥離支持体を設けた形態であることが、施工性を容易にする観点で好ましく、また長尺のロール状の形態で供給されることが加工性の観点から好ましい。   As a supply form of the light control film of the present invention, it is a form in which an adhesive layer and a release support are provided on the surface opposite to the surface having the transparent electrode of the substrate, from the viewpoint of facilitating workability. It is preferable that it is supplied in the form of a long roll from the viewpoint of workability.

本発明の調光フィルムの製造方法は、前記透明電極及び前記調光層を塗布法又は印刷法によって設けることが生産性を高める上で好ましい。   In the method for producing a light control film of the present invention, it is preferable to provide the transparent electrode and the light control layer by a coating method or a printing method in order to increase productivity.

更に、前記透明電極はインクジェット印刷法によって製造することが生産性を高める上で好ましい。   Furthermore, it is preferable to manufacture the transparent electrode by an ink jet printing method in order to increase productivity.

本発明の調光フィルムは、基材巾、透明電極の形成巾、及び調光層の形成巾が下記関係を満たすように製造することが、端部給電がしやすいという観点で好ましい。   The light control film of the present invention is preferably manufactured so that the width of the base material, the formation width of the transparent electrode, and the formation width of the light control layer satisfy the following relationship, from the viewpoint of facilitating edge power feeding.

基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾
また、上記関係を満たすように基材、透明電極、及び調光層を形成した後に、該透明電極の対向透明電極を設けることが好ましい。
Width of base material> width of formation of transparent electrode> width of formation of light control layer Further, after forming the base material, the transparent electrode, and the light control layer so as to satisfy the above-mentioned relationship, an opposing transparent electrode of the transparent electrode may be provided. preferable.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本発明において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In the present invention, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

<調光フィルムの構成>
本発明の調光フィルムは、少なくとも、フィルム基材に担持された透明電極を用いた第1電極とこれに対向配置された該透明電極を用いた第2電極とを有し、第1電極と第2電極との透明電極の間に少なくとも1層の調光層が設けられた構成を有している。
<Configuration of light control film>
The light control film of the present invention includes at least a first electrode using a transparent electrode carried on a film base material and a second electrode using the transparent electrode disposed to face the first electrode, At least one light control layer is provided between the transparent electrode and the second electrode.

本発明に係る前記透明電極は、金属微粒子及び導電性ポリマーを含有してなることを特徴としている。即ち、本発明に係る透明電極は、対向する2つの透明電極がいずれも金属微粒子及び導電性ポリマーを含有していることが必須であり、好ましくは対向する両電極が共に金属微粒子及び導電性ポリマーを主成分として含有していることが好ましい。本発明に係る透明電極を片電極として使用する場合には、本発明の目的のフレキシブルで高度な屈曲耐性/膜強度を得るために、本発明に係る金属微粒子及び導電性ポリマーからなる透明電極同等の強靭な電極材との組合せが好ましい。   The transparent electrode according to the present invention includes metal fine particles and a conductive polymer. That is, in the transparent electrode according to the present invention, it is essential that the two transparent electrodes facing each other contain the metal fine particles and the conductive polymer, and preferably both the facing electrodes are both the metal fine particles and the conductive polymer. It is preferable to contain as a main component. When the transparent electrode according to the present invention is used as a single electrode, in order to obtain the flexible and high bending resistance / film strength of the object of the present invention, it is equivalent to the transparent electrode composed of the metal fine particles and the conductive polymer according to the present invention. A combination with a tough electrode material is preferable.

さらに本発明に係る透明電極は、金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する層を基材上に一層の薄膜として設けることも好ましいが、金属微粒子又は金属酸化物細線パターンからなる第1導電層と、導電性ポリマーを含有してなる第2導電層から構成される積層構成の電極であってもよい。これら第1導電層と第2導電層には界面が存在しても構わないし、界面の存在しない渾然一体となった層であっても構わない。このような透明電の作製時には、第1導電層と第2導電層を二回に分けて設けても良いし、一度に設けても良い。   Furthermore, the transparent electrode according to the present invention is preferably provided with a layer containing metal fine particles and a conductive polymer as a single thin film on the substrate, the first conductive layer comprising metal fine particles or a metal oxide fine wire pattern, It may be a laminated electrode composed of a second conductive layer containing a conductive polymer. The first conductive layer and the second conductive layer may have an interface, or may be a unified layer without an interface. At the time of manufacturing such transparent electricity, the first conductive layer and the second conductive layer may be provided twice, or may be provided at a time.

いずれの場合においても面電極として作用する本発明に係る透明電極が、金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する層であることが必須である。   In any case, it is essential that the transparent electrode according to the present invention acting as a surface electrode is a layer containing metal fine particles and a conductive polymer.

以下、各構成要素について説明する。   Hereinafter, each component will be described.

<フィルム基材>
本発明に係る金属微粒子を含む透明電極を、フィルム基材上に設けることによりフレキシブルな調光フィルムとすることができる。フィルム基材として透明樹脂フィルムを直接用いてよいし、別の基材上に該透明電極を作製した後に透明樹脂フィルムに転写してもよい。
<Film base>
By providing a transparent electrode containing metal fine particles according to the present invention on a film substrate, a flexible light control film can be obtained. A transparent resin film may be used directly as the film substrate, or the transparent electrode may be transferred to a transparent resin film after the transparent electrode is produced on another substrate.

本発明に用いられる透明樹脂フィルムには特に制限はなく、その材料、形状、構造、厚み等については公知のものの中から適宜選択することができる。   There is no restriction | limiting in particular in the transparent resin film used for this invention, About the material, a shape, a structure, thickness, etc., it can select suitably from well-known things.

例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン(PE)樹脂フィルム、ポリプロピレン(PP)樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂フィルム、ポリサルホン(PSF)樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂フィルム、ポリカーボネート(PC)樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース(TAC)樹脂フィルム等を挙げることができるが、可視域の波長(380〜780nm)における透過率が80%以上である樹脂フィルムであれば、本発明に好ましく適用することができる。中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリカーボネートフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム又は二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることがより好ましい。   For example, polyolefins such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyester resin film such as modified polyester, polyethylene (PE) resin film, polypropylene (PP) resin film, polystyrene resin film, cyclic olefin resin, etc. Resin films, vinyl resin films such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, polyether ether ketone (PEEK) resin films, polysulfone (PSF) resin films, polyether sulfone (PES) resin films, polycarbonate (PC) resin films , Polyamide resin film, polyimide resin film, acrylic resin film, triacetyl cellulose (TAC) resin film, and the like. If the resin film transmittance of 80% or more in 0~780nm), can be preferably applied to the present invention. Among these, from the viewpoint of transparency, heat resistance, ease of handling, strength and cost, it is preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film, a polyethersulfone film, or a polycarbonate film, and biaxially stretched. More preferably, it is a polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched polyethylene naphthalate film.

透明樹脂フィルムには、塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理を施すことや易接着層を設けることができる。表面処理や易接着層については、従来公知の技術を使用できる。例えば、表面処理とは、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザ処理等の表面活性化処理を挙げることができる。また、易接着層としてはポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるためには2層以上の構成にしてもよい。   In order to ensure the wettability and adhesiveness of the coating solution, the transparent resin film can be subjected to a surface treatment or an easy adhesion layer. A conventionally well-known technique can be used about a surface treatment or an easily bonding layer. For example, the surface treatment includes surface activation treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, and laser treatment. Examples of the easy adhesion layer include polyesters, polyamides, polyurethanes, vinyl copolymers, butadiene copolymers, acrylic copolymers, vinylidene copolymers, epoxy copolymers, and the like. The easy adhesion layer may be a single layer, but may be composed of two or more layers in order to improve adhesion.

本発明に用いられる透明樹脂フィルムの全光線透過率は、60%以上、好ましくは70%以上、特に好ましくは80%以上であることが望ましい。全光透過率は、分光光度計やヘイズメーター等を用いた公知の方法に従って測定することができる。   The total light transmittance of the transparent resin film used in the present invention is desirably 60% or more, preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The total light transmittance can be measured according to a known method using a spectrophotometer, a haze meter or the like.

本発明の用いられる透明樹脂フィルムの厚みは、1〜1000μmの範囲のものが、強度とハンドリング、コストの観点で好ましく、10〜800μmのものがより好ましく、20〜500μmのものが特に好ましい。   The thickness of the transparent resin film used in the present invention is preferably in the range of 1 to 1000 μm from the viewpoint of strength, handling and cost, more preferably 10 to 800 μm, and particularly preferably 20 to 500 μm.

また前記基材には、大気中の酸素、水分を遮断する目的でガスバリア層を設けるのが好ましい。ガスバリア層の形成材料としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等の金属酸化物、金属窒化物が使用できる。これらの材料は、水蒸気バリア機能のほかに酸素バリア機能も有する。特にバリア性、耐溶剤性、透明性が良好な窒化シリコン、酸化窒化シリコンが好ましい。また、バリア層は必要に応じて多層構成とすることも可能である。ガスバリア層の形成方法は、材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用いることができる。前記ガスバリア層を構成する各無機層の厚みに関しては特に限定されないが、典型的には1層あたり5nm〜500nmの範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは1層あたり10nm〜400nmである。ガスバリア層は基材の少なくとも一方の面に設けられるのが好ましく、両面に設けられるのがより好ましい。   The base material is preferably provided with a gas barrier layer for the purpose of blocking oxygen and moisture in the atmosphere. As a material for forming the gas barrier layer, metal oxides such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum nitride, and aluminum oxide, and metal nitrides can be used. These materials have an oxygen barrier function in addition to a water vapor barrier function. In particular, silicon nitride and silicon oxynitride having favorable barrier properties, solvent resistance, and transparency are preferable. In addition, the barrier layer may have a multilayer structure as necessary. As a method for forming the gas barrier layer, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method can be used depending on the material. The thickness of each inorganic layer constituting the gas barrier layer is not particularly limited, but typically it is preferably in the range of 5 nm to 500 nm per layer, more preferably 10 nm to 400 nm per layer. The gas barrier layer is preferably provided on at least one surface of the substrate, and more preferably on both surfaces.

また基材は、UV遮蔽性を高める公知のUV吸収材/反射材処理をされていることが好ましい。これらUV吸収材は、基材に練り込まれた物でも、基材上に別層として設けられていても良い。但し可視光(400−700nm)の透過率は80%、好ましくは85%以上、より好ましくは90%以上、特に好ましくは92%以上であり、標準白色版上に上基材を積層した際の色ズレはΔE=2.0以内、より好ましくは1.5以内、更に好ましくは1.0以内、特に好ましくは0.5以内である。   The base material is preferably treated with a known UV absorber / reflector to enhance UV shielding. These UV absorbers may be kneaded into the base material or provided as a separate layer on the base material. However, the transmittance of visible light (400-700 nm) is 80%, preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 92% or more. When the upper substrate is laminated on the standard white plate, The color misregistration is within ΔE = 2.0, more preferably within 1.5, still more preferably within 1.0, and particularly preferably within 0.5.

さらに前記基材の表面は、ハードコート層等による保護層処理がされていてもよい。ハードコート層は、光ラジカル発生材、ラジカル重合性の単官能および/又は多官能モノマーの混合物を所望の膜厚に均一に塗布したのち、必要なエネルギー量の紫外光を照射することによってラジカル重合させることにより得られる、透明かつ高硬度のポリマー層である。   Further, the surface of the substrate may be subjected to a protective layer treatment with a hard coat layer or the like. The hard coat layer is formed by uniformly applying a photo-radical generating material and a mixture of radical polymerizable monofunctional and / or polyfunctional monomers to a desired film thickness, and then irradiating the necessary amount of ultraviolet light with radical polymerization. It is a transparent and high-hardness polymer layer obtained by making it.

<下引き層>
本発明に係る透明電極は、基材表面にシランカップリング剤を塗布することにより形成された下引き層を有していても良い。その場合は、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムであることがより好ましい。
<Underlayer>
The transparent electrode according to the present invention may have an undercoat layer formed by applying a silane coupling agent to the substrate surface. In that case, a biaxially stretched polyethylene naphthalate film is more preferable.

<透明電極>
本発明に係る透明電極は、対向する2つの透明電極がいずれも金属微粒子及び導電性ポリマーを含有してなる複合電極であることを特徴としている。該複合電極は、金属微粒子からなる金属導電層と、導電性ポリマーからなるポリマー導電層をその構成要素とし、例えば金属細線パターンからなる金属導電層上に導電性ポリマーが積層された構成、逆に導電性ポリマー層上に金属細線パターンからなる金属導電層を積層した構成、更に金属ナノワイヤからなる金属3次元網目構造と導電性ポリマーとからなる構成等、何れも良好に使用でき、これにより電極面全体で均一な導電性を得ることができる。
<Transparent electrode>
The transparent electrode according to the present invention is characterized in that the two transparent electrodes facing each other are composite electrodes containing metal fine particles and a conductive polymer. The composite electrode includes a metal conductive layer made of fine metal particles and a polymer conductive layer made of a conductive polymer as its constituent elements, for example, a structure in which a conductive polymer is laminated on a metal conductive layer made of a metal fine wire pattern, and vice versa. A structure in which a metal conductive layer composed of a fine metal wire pattern is laminated on a conductive polymer layer, and a structure composed of a metal three-dimensional network structure composed of metal nanowires and a conductive polymer can be used satisfactorily. Uniform conductivity can be obtained as a whole.

<金属微粒子>
本発明でいう金属微粒子とは、下記金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤを総称していうものでありナノスケールの金属導電層(金属導電体)として作用するものである。
<Metal fine particles>
The metal fine particles referred to in the present invention collectively refer to the following metal nanoparticles or metal nanowires, and act as a nanoscale metal conductive layer (metal conductor).

〔金属ナノ粒子〕
本発明でいう金属ナノ粒子とは、粒子径が原子スケールからnmサイズの微粒子状の金属又は金属酸化物のことをいう。好ましい微粒子の平均粒径は1〜1000nmであり、微粒子は一般的には球状であることが好ましいが、球状に近い不定形でもよい。
[Metal nanoparticles]
The metal nanoparticle as used in the present invention refers to a metal or metal oxide in the form of fine particles having a particle diameter from the atomic scale to the nm size. The average particle size of the fine particles is preferably 1 to 1000 nm, and the fine particles are generally preferably spherical, but may be indeterminate to be nearly spherical.

本発明に係る透明電極において、金属ナノ粒子は主要な導電体として機能する。   In the transparent electrode according to the present invention, the metal nanoparticles function as a main conductor.

本発明に係る金属ナノ粒子の具体的なものとしては、金属酸化物、金属塩、金属錯体等を挙げることができる。金属種としては、Ag、Cu、Au、Al、Rh、Ir、Co、Zn、Ni、In、Fe、Pd、Pt、Sn、Ti等を好ましい具体例として挙げることができる。本発明においては2種類以上の金属微粒子を組み合わせて用いることもできるが、導電性の観点から、少なくともAg、Cu、Au、Al、Coより選択される元素を用いることが好ましい。例えば金属種として銀を用いる場合は、金属ナノ粒子としては酸化第1銀、酸化第2銀、炭酸銀、酢酸銀、アセチルアセトン銀錯体等が使用できる。これらの金属ナノ粒子を単体、又は2種類以上混合して用いることができる。なお、これらの金属ナノ粒子は、製造手段には特に制限はなく、例えば、液相法や気相法等の公知の手段を用いることができる。また、具体的な製造方法にも特に制限はなく、公知の製造方法を用いることができる。   Specific examples of the metal nanoparticles according to the present invention include metal oxides, metal salts, and metal complexes. Specific examples of the metal species include Ag, Cu, Au, Al, Rh, Ir, Co, Zn, Ni, In, Fe, Pd, Pt, Sn, and Ti. In the present invention, two or more kinds of metal fine particles can be used in combination, but from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use at least an element selected from Ag, Cu, Au, Al, and Co. For example, when silver is used as the metal species, first silver oxide, second silver oxide, silver carbonate, silver acetate, acetylacetone silver complex and the like can be used as the metal nanoparticles. These metal nanoparticles can be used alone or in combination of two or more. In addition, there is no restriction | limiting in particular in these metal nanoparticles, For example, well-known means, such as a liquid phase method and a gaseous-phase method, can be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in a specific manufacturing method, A well-known manufacturing method can be used.

これらの金属ナノ粒子の好ましい平均粒径は1〜1000nmの範囲内であり、透明性への影響、分散性等に応じて適宜選択される。特に、平均粒径が500nm以下であることがより好ましく、さらに、透明性の観点からは100nm以下であることがより好ましい。また、分散性や導電性の視点からは10nm以上であることがより好ましい。   The preferable average particle diameter of these metal nanoparticles is in the range of 1 to 1000 nm, and is appropriately selected according to the influence on transparency, dispersibility, and the like. In particular, the average particle size is more preferably 500 nm or less, and more preferably 100 nm or less from the viewpoint of transparency. Further, it is more preferably 10 nm or more from the viewpoint of dispersibility and conductivity.

本発明においては、特に平均粒径が3〜300nmの範囲内であるものが好ましく、10〜100nmの範囲内であるものがより好ましく用いられる。   In the present invention, those having an average particle diameter in the range of 3 to 300 nm are particularly preferable, and those having an average particle diameter in the range of 10 to 100 nm are more preferably used.

上記の中でも特に、透明基板として樹脂フィルムを用いる場合は、低い加熱温度で高い導電性を得ることができるため、平均粒径10〜100nmの銀ナノ粒子が好ましい。   Among these, in particular, when a resin film is used as the transparent substrate, silver nanoparticles having an average particle diameter of 10 to 100 nm are preferable because high conductivity can be obtained at a low heating temperature.

本発明において、平均粒径とは、光散乱方式を用いた市販の測定装置を使用して簡便に計測することが可能であり、具体的にはゼータサイザー1000(マルバーン社製)を用いて、レーザドップラー法によりS25℃、サンプル希釈液量1mlにて測定した値をいう。   In the present invention, the average particle diameter can be easily measured using a commercially available measuring apparatus using a light scattering method, specifically using a Zetasizer 1000 (manufactured by Malvern), The value measured by the laser Doppler method at S25 ° C. and 1 ml of the sample diluent.

金属ナノ粒子は、透明電極中で後述する金属ナノワイヤと併用することができ、その場合は金属ナノワイヤと金属ナノ粒子の比率は特に制限はないが、例えば質量比で100:100〜100:0.1の範囲で、導電性、熱処理条件、透明性等を考慮して適宜決めることができる。   The metal nanoparticles can be used in combination with metal nanowires to be described later in the transparent electrode. In that case, the ratio of the metal nanowires to the metal nanoparticles is not particularly limited, but for example, 100: 100 to 100: 0. In the range of 1, it can be appropriately determined in consideration of conductivity, heat treatment conditions, transparency and the like.

〔金属ナノワイヤ〕
本発明でいう金属ナノワイヤとは、平均直径が200nm以下であり、平均長さが100μm以下であるワイヤ(針金状)をいう。
[Metal nanowires]
The metal nanowire referred to in the present invention refers to a wire (wire shape) having an average diameter of 200 nm or less and an average length of 100 μm or less.

本発明に係る透明電極において、金属微粒子として金属ナノワイヤも主要な導電体として用いることができる。本発明では、金属ナノワイヤの金属元素として、バルク状態での導電率が1×10S/m以上の元素を用いることができる。本発明で好ましく用いることができる金属ナノワイヤの金属元素として具体例としては、Ag、Cu、Au、Al、Rh、Ir、Co、Zn、Ni、In、Fe、Pd、Pt、Sn、Ti等を挙げることができる。本発明においては2種類以上の金属ナノワイヤを組み合わせて用いることもできるが、導電性の観点から、少なくともAg、Cu、Au、Al、Coより選択される金属元素を用いることが好ましい。 In the transparent electrode according to the present invention, metal nanowires can also be used as the main conductor as the metal fine particles. In the present invention, an element having a bulk conductivity of 1 × 10 6 S / m or more can be used as the metal element of the metal nanowire. Specific examples of metal elements of the metal nanowire that can be preferably used in the present invention include Ag, Cu, Au, Al, Rh, Ir, Co, Zn, Ni, In, Fe, Pd, Pt, Sn, Ti, and the like. Can be mentioned. In the present invention, two or more kinds of metal nanowires can be used in combination, but from the viewpoint of conductivity, it is preferable to use at least a metal element selected from Ag, Cu, Au, Al, and Co.

本発明において、金属ナノワイヤの製造手段には特に制限はなく、例えば、液相法や気相法等の公知の手段を用いることができる。また、具体的な製造方法にも特に制限はなく、公知の製造方法を用いることができる。例えば、Agナノワイヤの製造方法としては、Adv.Mater.,2002,14,833〜837;Chem.Mater.,2002,14,4736〜4745等、Auナノワイヤの製造方法としては特開2006−233252号公報等、Cuナノワイヤの製造方法としては特開2002−266007号公報等、Coナノワイヤの製造方法としては特開2004−149871号公報等を参考にすることができる。特に、上述した、Adv.Mater.及びChem.Mater.で報告されたAgナノワイヤの製造方法は、水系で簡便にかつ大量に銀ナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明に係る金属ナノワイヤの製造方法として好ましく適用することができる。   In the present invention, the means for producing the metal nanowire is not particularly limited, and for example, known means such as a liquid phase method and a gas phase method can be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in a specific manufacturing method, A well-known manufacturing method can be used. For example, as a method for producing Ag nanowires, Adv. Mater. , 2002, 14, 833-837; Chem. Mater. , 2002, 14, 4736-4745, etc. As a method for producing Co nanowires, a method for producing Au nanowires is disclosed in JP 2006-233252A, and a method for producing Cu nanowires is disclosed in JP 2002-266007 A, etc. Reference can be made to Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-149871. In particular, Adv. Mater. And Chem. Mater. The method for producing Ag nanowires reported in 1 can produce silver nanowires easily and in large quantities in an aqueous system, and the conductivity of silver is the largest among metals, so that the production of metal nanowires according to the present invention is possible. It can be preferably applied as a method.

本発明において金属ナノワイヤの平均直径は、透明性の観点から200nm以下であることが好ましく、導電性の観点から10nm以上であることが好ましい。平均直径が200nm以下であれば光散乱の影響を軽減でき、平均直径がより小さい方が光透過率低下やヘイズ劣化を抑制することができるため好ましい。一方で、平均直径が10nm以上であれば導電体としての機能を有意に発現でき、平均直径がより大きい方が導電性が向上するため好ましい。従って、より好ましくは20〜150nmであり、40〜150nmであることがさらに好ましい。   In the present invention, the average diameter of the metal nanowires is preferably 200 nm or less from the viewpoint of transparency, and preferably 10 nm or more from the viewpoint of conductivity. If the average diameter is 200 nm or less, the influence of light scattering can be reduced, and a smaller average diameter is preferable because light transmittance reduction and haze deterioration can be suppressed. On the other hand, if the average diameter is 10 nm or more, the function as a conductor can be expressed significantly, and a larger average diameter is preferable because conductivity is improved. Therefore, it is more preferably 20 to 150 nm, and further preferably 40 to 150 nm.

本発明において金属ナノワイヤの平均長さは、導電性の観点から1μm以上であることが好ましく、凝集による透明性への影響から100μm以下であることが好ましい。より好ましくは1〜50μmであり、3〜50μmであることがさらに好ましい。   In the present invention, the average length of the metal nanowires is preferably 1 μm or more from the viewpoint of conductivity, and preferably 100 μm or less from the viewpoint of the effect on the transparency due to aggregation. More preferably, it is 1-50 micrometers, and it is still more preferable that it is 3-50 micrometers.

本発明において上記金属ナノワイヤの平均直径及び平均長さは、走査型電子顕微鏡(SEM)や透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて十分な数のナノワイヤについて電子顕微鏡写真を撮影し、個々のナノワイヤ像の計測値の算術平均から求めることができる。ナノワイヤの長さは、本来直線状に伸ばした状態で求めるべきであるが、現実には屈曲している場合が多いため、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いてナノワイヤの投影径及び投影面積を算出し、円柱体を仮定して算出する(長さ=投影面積/投影径)ものとする。計測対象のナノワイヤ数は、少なくとも100個以上が好ましく、300個以上のナノワイヤを計測するのがさらに好ましい。   In the present invention, the average diameter and the average length of the metal nanowires are obtained by taking an electron micrograph of a sufficient number of nanowires using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM), It can be obtained from the arithmetic average of the measured values. The length of the nanowire should be calculated in a straight line, but in reality, it is often bent, so the projection diameter and projected area of the nanowire can be determined from an electron micrograph using an image analyzer. The calculation is performed assuming a cylindrical body (length = projected area / projected diameter). The number of nanowires to be measured is preferably at least 100 or more, and more preferably 300 or more nanowires.

〔金属ナノインク〕
本発明においては、フィルム基材に透明導電膜を形成し、その耐久性を高めることが重要であり、低温焼成可能な金属ナノ粒子として低温焼成可能な金属ナノインクを用いることが好ましい。
[Metal nano ink]
In the present invention, it is important to form a transparent conductive film on a film substrate and enhance its durability, and it is preferable to use metal nano-inks that can be fired at low temperature as metal nanoparticles that can be fired at low temperatures.

本発明で言う低温焼成とは、フィルム基材に適応可能な温度域を言い300℃未満、好ましくは200℃未満、特に好ましくは150℃未満の焼成を言う。   The low temperature firing referred to in the present invention refers to a temperature range applicable to a film substrate, and refers to firing at less than 300 ° C, preferably less than 200 ° C, particularly preferably less than 150 ° C.

ここでいう金属ナノインクとは、前記金属ナノ粒子を水、アルコールなどの溶媒中に分散している形態をいう。   Here, the metal nano ink refers to a form in which the metal nanoparticles are dispersed in a solvent such as water or alcohol.

現在公知の低温焼成可能な金属ナノインクを本発明ではいずれも好適に使用できるが、現在入手可能な金属ナノインクとしては銀ナノインクが最も高性能で且つ安価である。しかしながら、本来の原料コストにおいて安価な銅やAl等のその他の高導電性な金属ナノ粒子の使用は好ましい態様であり、本発明に係る金属細線として銅・Al等の使用は好ましい態様でもある。   Any of the currently known metal nanoinks that can be fired at a low temperature can be suitably used in the present invention, but silver nanoinks are the most powerful and inexpensive as metal nanoinks currently available. However, the use of other highly conductive metal nanoparticles such as copper and Al, which are inexpensive at the original raw material cost, is a preferred embodiment, and the use of copper, Al, etc. as a metal thin wire according to the present invention is also a preferred embodiment.

本発明では、特に従来の金属蒸着膜・スパッタ膜等のドライプロセス金属をナノインク型金属素材に変えることにより屈曲耐性、引き伸ばし耐性、スクラッチ耐性を高めているばかりでなく、導電性ポリマーを併用し、更に絶縁樹脂としてヒドロキシ基を有する非導電性ポリマー又は解離性基を有する自己分散型ポリマーのいずれかを含有してなることにより、更に屈曲耐性、引き伸ばし耐性、スクラッチ耐性を高め、且つ耐候性・耐湿性との両立を実現できる。   In the present invention, in particular, by changing a dry process metal such as a conventional metal deposition film / sputtering film to a nano ink type metal material, not only bending resistance, stretching resistance, and scratch resistance are increased, but also a conductive polymer is used in combination, Furthermore, by containing either a non-conductive polymer having a hydroxy group or a self-dispersing polymer having a dissociative group as an insulating resin, the bending resistance, stretching resistance, and scratch resistance are further improved, and weather resistance / humidity resistance It is possible to achieve compatibility with sex.

[金属細線構造]
本発明に係る透明電極は、上記金属微粒子よりなる金属細線構造を有していることが好ましい。
[Metal fine wire structure]
The transparent electrode according to the present invention preferably has a metal fine wire structure made of the above metal fine particles.

金属細線構造とは、金属材料を含有する層が、透明基板上に開口部を有するようにパターン状に形成された層である。   A metal fine wire structure is a layer in which a layer containing a metal material is formed in a pattern so as to have an opening on a transparent substrate.

前記開口部とは、透明基板のうち金属細線を有さない部分であり金属パターンの透光性部分である。   The said opening part is a part which does not have a metal fine wire among transparent substrates, and is a translucent part of a metal pattern.

パターンの形状には特に制限はない。   There is no particular limitation on the shape of the pattern.

パターンの形状は、例えば、ストライプ状(平行線状)、格子状、ハニカム状、又はランダムな網目状であってもよく、透明性の観点から、特にストライプ状細線構造であることが好ましい。透明電極において、面電極全体の面に対して、開口部が占める割合、即ち開口率は透明性の観点から80%以上であることが好ましい。   The shape of the pattern may be, for example, a stripe shape (parallel line shape), a lattice shape, a honeycomb shape, or a random network shape. From the viewpoint of transparency, the stripe shape is particularly preferable. In the transparent electrode, the ratio of the opening to the entire surface electrode, that is, the opening ratio, is preferably 80% or more from the viewpoint of transparency.

例えば、導電部がストライプ状であるとき、線幅100μm、線間隔1mmのストライプ状パターンの開口率は、およそ90%である。   For example, when the conductive portion has a stripe shape, the aperture ratio of the stripe pattern having a line width of 100 μm and a line interval of 1 mm is approximately 90%.

パターンの線幅は、一般的には1〜200μmの範囲が好ましく、より好ましくは1.5〜100μmの範囲、特に好ましくは2−50μmの範囲である。   In general, the line width of the pattern is preferably in the range of 1 to 200 μm, more preferably in the range of 1.5 to 100 μm, and particularly preferably in the range of 2 to 50 μm.

高さは、0.05〜2μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜1.5μmの範囲、特に好ましくは0.2〜1.2μmの範囲である。   The height is preferably in the range of 0.05 to 2 μm, more preferably in the range of 0.1 to 1.5 μm, and particularly preferably in the range of 0.2 to 1.2 μm.

本発明に係る透明電極は、0.1〜2000Ω/□の範囲であることが好ましく、0.3〜1000Ω/□の範囲であることがより好ましく、0.5〜500Ω/□の範囲であることが更に好ましく、1〜250Ω/□の範囲であることが特に好ましい。表面比抵抗は、例えば、JIS K6911、ASTM D257、等に準拠して測定することができ、また市販の表面抵抗率計を用いて簡便に測定することができる。   The transparent electrode according to the present invention is preferably in the range of 0.1 to 2000Ω / □, more preferably in the range of 0.3 to 1000Ω / □, and in the range of 0.5 to 500Ω / □. Is more preferable, and the range of 1 to 250Ω / □ is particularly preferable. The surface specific resistance can be measured based on, for example, JIS K6911, ASTM D257, etc., and can be easily measured using a commercially available surface resistivity meter.

このようなシート抵抗になるように線幅、高さ、細線ピッチは任意に調整することが可能であり、本願においては、調光フィルムのユーザーニーズに合わせて、極細細線化、極太線化等の対応がいずれも好適に可能である。   The line width, height, and fine line pitch can be arbitrarily adjusted so as to achieve such sheet resistance. In the present application, ultra-thin lines, ultra-thin lines, etc., according to the user needs of the light control film, etc. Any of these measures can be suitably performed.

また、本発明に係る金属細線は、上記のように線幅、高さ、ピッチを自在に調整することができ、本発明においては、調光フィルムラインナップに沿った金属細線の設計が重要になる。   In addition, the fine metal wire according to the present invention can be freely adjusted in line width, height, and pitch as described above, and in the present invention, the design of the fine metal wire along the light control film lineup becomes important. .

上記の観点で、透明性の高い調光フィルムとしては、線幅30μm未満の超高精細細線が好ましく、より好ましくは15μm未満の細線が好ましい。このような細線の実現には高精細スクリーンの使用も好ましいが、インクジェットの超高精細化の適用が好ましい。   In view of the above, the light control film having high transparency is preferably an ultrahigh-definition fine line having a line width of less than 30 μm, more preferably a fine line having a line width of less than 15 μm. Although the use of a high-definition screen is preferable for realizing such a thin line, it is preferable to apply ultrahigh-definition inkjet.

一方、本発明の目的である既存の窓ガラスに内貼りする調光フィルムとしては、防犯上観点で金属線が一定ピッチで視認できる金属線ガラスの模様を再現することが好ましい。このような観点ではピッチは5mmより大きくの線幅は、100μmより太い物が好ましい。更に好ましくは、ピッチは10mm以上、線幅は200μm以上である。   On the other hand, it is preferable to reproduce the pattern of the metal wire glass in which the metal wire can be visually recognized at a constant pitch from the viewpoint of crime prevention as the light control film to be attached to the existing window glass which is the object of the present invention. From this point of view, it is preferable that the pitch is larger than 5 mm and the line width is larger than 100 μm. More preferably, the pitch is 10 mm or more, and the line width is 200 μm or more.

また本発明においては、調光フィルムの対向電極のいずれも金属微粒子と導電性ポリマーとを含む透明電極を用いることから、細線構造はストライプ状が好ましく、加えて一対の透明電極のストライプ状細線構造が相互に直交していることが好ましい。直交とは、対向する電極の一方の方向に対しもう一方の電極の方向を90°±10°の範囲でずらして配置することをいう。このように用いることで、同一面上にない細線によるモアレを生じることが無く、どの角度から見ても品位の高い格子状調光フィルムを提供できる。   In the present invention, since each of the counter electrodes of the light control film uses a transparent electrode containing metal fine particles and a conductive polymer, the fine wire structure is preferably a stripe shape, and in addition, the stripe-like fine wire structure of a pair of transparent electrodes Are preferably orthogonal to each other. The term “perpendicular” means that the direction of the other electrode is shifted within a range of 90 ° ± 10 ° with respect to one direction of the opposing electrodes. By using it in this way, it is possible to provide a high-quality lattice-like light control film from any angle without causing moire due to fine lines not on the same plane.

ストライプ状、格子状、ハニカム状の金属細線の形成方法としては、特に制限はなく、従来公知な方法が利用できる。   There are no particular restrictions on the method for forming striped, grid-like, or honeycomb-like fine metal wires, and conventionally known methods can be used.

金属細線の形成方法としては、例えば、フォトリソ法、銀塩写真技術、印刷法を応用した方法などを利用でき、印刷法を利用するのがより好ましい。これは印刷法で形成した金属細線のほうが、フォトリソ法や銀塩写真技術を応用した方法で形成した金属細線より、テーパ角が小さく、金属細線上の透明導電層の膜厚分布が生じにくいためと考えられる。   As a method for forming the fine metal wire, for example, a photolithography method, a silver salt photographic technique, a method using a printing method, or the like can be used, and it is more preferable to use the printing method. This is because the fine metal wire formed by the printing method has a smaller taper angle and the thickness distribution of the transparent conductive layer on the fine metal wire is less likely to occur than the fine metal wire formed by the photolithographic method or silver salt photographic method. it is conceivable that.

図1に示すとおり、テーパ角1とは、透明基板2と金属細線3の縁部とで構成される内角を意味する。テーパ角1は透明基板2と金属細線3とを断面で切断し、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察することで測定することができる。   As shown in FIG. 1, the taper angle 1 means an inner angle formed by the transparent substrate 2 and the edge of the thin metal wire 3. The taper angle 1 can be measured by cutting the transparent substrate 2 and the fine metal wires 3 in cross section and observing them using a scanning electron microscope (SEM).

公知のフォトリソ法とは、具体的には、基材上に全面に、印刷、蒸着、スパッタ、めっき等の1あるいは2以上の物理的又は化学的形成手法を用いて導電体層を形成する、あるいは、金属箔を接着剤で基材に積層した後、公知のフォトリソ法を用いて、エッチングすることにより、所望のストライプ状、格子状、又はハニカム状に加工できる。   Specifically, the known photolithography method is to form a conductor layer on the entire surface of the substrate using one or more physical or chemical forming techniques such as printing, vapor deposition, sputtering, plating, etc. Or after laminating | stacking metal foil on a base material with an adhesive agent, it can process into a desired stripe form, a lattice form, or a honeycomb form by etching using a well-known photolithography method.

銀塩写真技術を応用した方法については、例えば、特開2009−140750号公報の[0076]−[0112]、及び実施例を参考にして実施できる。   A method using silver salt photographic technology can be carried out with reference to, for example, [0076]-[0112] of JP-A-2009-140750 and Examples.

公知の印刷法とは、金属微粒子を含有する金属細線用塗布液を印刷により、パターン形成する方法である。   The known printing method is a method of forming a pattern by printing a coating solution for fine metal wires containing fine metal particles.

金属微粒子を含有する金属細線用塗布液とは、金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤを含有する金属微粒子分散液である。   The coating solution for fine metal wires containing metal fine particles is a metal fine particle dispersion containing metal nanoparticles or metal nanowires.

前記金属微粒子分散液は、水、アルコールなどの溶媒中に金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤを含有するが、必要に応じバインダー、金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤを分散させるための分散剤などを含んでもよい。   The metal fine particle dispersion contains metal nanoparticles or metal nanowires in a solvent such as water or alcohol, but may contain a binder, a dispersant for dispersing the metal nanoparticles or metal nanowires, if necessary.

金属微粒子分散液を用い、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の印刷方式により金属パターンを形成することができる。   A metal pattern can be formed by a printing method such as a gravure printing method, a flexographic printing method, a screen printing method, or an ink jet printing method using a metal fine particle dispersion.

各印刷方式は、一般的に電極パターン形成に使われる手法が本発明に関しても適用可能である。具体的な例として、グラビア印刷法については特開2009−295980号公報、特開2009−259826号公報、特開2009−96189号公報、特開2009−90662号公報記載の方法等が、フレキソ印刷法については特開2004−268319号公報、特開2003−168560号公報記載の方法等が、スクリーン印刷法については特開2010−34161号公報、特開2010−10245号公報、特開2009−302345号公報記載の方法等が例として挙げられる。   For each printing method, a method generally used for forming an electrode pattern is applicable to the present invention. Specific examples of the gravure printing method include those described in JP 2009-295980 A, JP 2009-259826 A, JP 2009-96189 A, and JP 2009-90662 A, and the like. The methods described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-268319 and 2003-168560 are disclosed, and the screen printing methods are described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2010-34161, 2010-10245, and 2009-302345. An example is the method described in Japanese Patent Publication.

中でも本発明に係る透明電極の形成は、インクジェット印刷を用いることが好ましい。
(1)インクジェット印刷
本発明に係る透明電極は、金属細線用塗布液をインクジェット印刷することによって形成することが好ましい。
In particular, the formation of the transparent electrode according to the present invention preferably uses ink jet printing.
(1) Inkjet printing The transparent electrode according to the present invention is preferably formed by inkjet printing a coating solution for fine metal wires.

以下、インクジェット印刷について説明する。   Hereinafter, inkjet printing will be described.

図2は、インクジェットヘッドを用いた塗布装置を使用して、フィルム基材上に金属細線用塗布液をある面積で区切って塗布する方法の一例を示す概略模式図である。   FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a method of applying a coating solution for fine metal wires on a film substrate in a certain area using a coating apparatus using an inkjet head.

図2に示すとおり、フィルム基材10は連続的に走行されており、インクジェットヘッド14により金属細線用塗布液が、液滴として射出され透明電極15が形成されて不図示の乾燥ゾーンを通過する。   As shown in FIG. 2, the film substrate 10 is continuously running, and the fine metal wire coating liquid is ejected as droplets by the ink jet head 14 to form the transparent electrode 15 and pass through a drying zone (not shown). .

インクジェットヘッド14としては特に限定はなく、例えばインク圧力室に圧電素子を備えた振動板を有しており、この振動板によるインク圧力室の圧力変化で射出液体を吐出させる剪断モード型(ピエゾ型)のヘッドでもよいし、発熱素子を有しており、この発熱素子からの熱エネルギーにより塗布液の膜沸騰による急激な体積変化によりノズルから射出液体を吐出させるサーマルタイプのヘッドであってもよい。   The ink jet head 14 is not particularly limited. For example, the ink jet chamber has a diaphragm having a piezoelectric element in the ink pressure chamber, and a shear mode type (piezo type) that ejects the ejected liquid by the pressure change of the ink pressure chamber by the diaphragm. Or a thermal type head that discharges the ejected liquid from the nozzle by a rapid volume change due to film boiling of the coating liquid by the heat energy from the heat generating element. .

インクジェットヘッド14には射出液体を供給する機構などが接続されている。射出液体の供給はタンク8Aにより行われる。インクジェットヘッド14内の射出液体圧力を常に一定に保つようにこの例ではタンク液面を一定にする。そのためにタンク8Aからオーバーフローさせてタンク8Bに射出液体を自然流下で戻している。タンク8Bからタンク8Aへの射出液体の供給はポンプ11により行われており、射出条件に合わせて安定的にタンク8Aの液面が一定となるように運転条件が設定されている。   The ink jet head 14 is connected to a mechanism for supplying the ejected liquid. The injection liquid is supplied from the tank 8A. In this example, the tank liquid level is made constant so that the injection liquid pressure in the ink jet head 14 is always kept constant. Therefore, it overflows from the tank 8A and returns the injected liquid to the tank 8B under natural flow. The supply of the injection liquid from the tank 8B to the tank 8A is performed by the pump 11, and the operation conditions are set so that the liquid level of the tank 8A is stably constant according to the injection conditions.

なお、ポンプ11からタンク8Aへ射出液体を戻す際にはフィルター12を通してから行われている。このように、射出液体はインクジェットヘッド14へ供給される前に絶対濾過精度又は準絶対濾過精度が0.05〜50μmの濾材を少なくとも1回は通過させることが好ましい。   In addition, when returning the injection liquid from the pump 11 to the tank 8A, it is performed after passing through the filter 12. As described above, it is preferable that the ejection liquid passes through the filter medium having an absolute filtration accuracy or a semi-absolute filtration accuracy of 0.05 to 50 μm at least once before being supplied to the inkjet head 14.

また、インクジェットヘッド14の洗浄作業や液体充填作業などを実施するためにタンク6より射出液体が、タンク7より洗浄溶媒がポンプ9によりインクジェットヘッド14へ強制的に供給可能となっている。インクジェットヘッド14に対してこうしたタンクポンプ類は複数に分けても良いし、配管の分岐を使用しても良い、またそれらの組み合わせでもかまわない。図2では配管分岐13を使用している。さらにインクジェットヘッド14内のエアーを十分に除去するためにタンク6よりポンプ9にてインクジェット14へ射出液体を強制的に送液しながら下記に記すエアー抜き配管から射出液体を抜き出して廃液タンク4に送ることもある。   Further, in order to perform the cleaning operation or the liquid filling operation of the inkjet head 14, the ejection liquid can be forcibly supplied from the tank 6 and the cleaning solvent from the tank 7 to the inkjet head 14 by the pump 9. Such tank pumps may be divided into a plurality of tanks for the ink jet head 14, pipe branches may be used, or a combination thereof may be used. In FIG. 2, a pipe branch 13 is used. Further, in order to sufficiently remove the air in the inkjet head 14, the ejection liquid is forcibly sent from the tank 6 to the inkjet 14 by the pump 9, and the ejection liquid is extracted from the air vent pipe described below to the waste liquid tank 4. May be sent.

さらに、インクジェットヘッド14内の射出液体温度を一定に保持するためにタンク8Aとインクジェットヘッド14の間に熱交換器を設けてもよいし、インクジェットヘッド14内に熱交換器のような射出液体温度一定機構を設けても構わない。   Furthermore, a heat exchanger may be provided between the tank 8A and the ink jet head 14 in order to keep the temperature of the ejected liquid in the ink jet head 14 constant, and the temperature of the ejected liquid such as a heat exchanger may be provided in the ink jet head 14. A fixed mechanism may be provided.

塗布手順については以下に示す。   The application procedure is shown below.

まず、インクジェットヘッド14に射出液体を充填する際の手順であるが、インクジェットヘッド14の待機位置にてポンプ9によりタンク6から強制的に射出液体をインクジェットヘッド14へ通液する。この際に排出された射出液体は図示しないキャッチパンなどにより受けられる。この操作により、インクジェットヘッド14に射出液体を充填し、ヘッド内部の空気抜きを実施した後にノズル表面(射出面)の清掃を実施する。   First, in the procedure for filling the inkjet head 14 with the ejection liquid, the ejection liquid is forcibly passed from the tank 6 to the inkjet head 14 by the pump 9 at the standby position of the inkjet head 14. The ejected liquid discharged at this time is received by a catch pan (not shown). By this operation, the inkjet head 14 is filled with the ejection liquid, and after the air inside the head is removed, the nozzle surface (ejection surface) is cleaned.

次に、あらかじめ決められた流量にてタンク8Aへタンク8Bから射出液体を送り込みオーバーフローにより循環を開始する。ポンプ9とインクジェットヘッド14の間のバルブは閉めておきポンプ8とインクジェットヘッド14間のバルブを開けることでインクジェットヘッド14から射出させることが可能になる。フィルム基材10を所定の速度で搬送させ、射出準備の完了したインクジェットヘッド14をフィルム基材10の所定の距離まで近づけ所定の射出条件で射出液体の射出を開始する。オーバーフローさせてタンク8Aの液面を一定に保持しているため射出量は安定となる。   Next, the injection liquid is sent from the tank 8B to the tank 8A at a predetermined flow rate, and circulation is started by overflow. By closing the valve between the pump 9 and the inkjet head 14 and opening the valve between the pump 8 and the inkjet head 14, the ink can be ejected from the inkjet head 14. The film base 10 is conveyed at a predetermined speed, and the inkjet head 14 that has been prepared for injection is brought close to a predetermined distance of the film base 10 to start injection of an injection liquid under predetermined injection conditions. Since the liquid level of the tank 8A is kept constant by overflowing, the injection amount becomes stable.

インクジェットヘッド14の種類は任意であるが本発明では一滴の液滴量が数10ピコリットルで、射出周波数は数百〜数万Hzで安定に射出できる条件を選ぶと良い。また、速度は任意で早ければ生産性向上につながる。速度に対して目的のウェット膜厚になるように周波数を調整して射出する。
(2)インクジェットヘッド
インクジェットヘッド14の一例を図3に示す。
The type of the ink-jet head 14 is arbitrary, but in the present invention, it is preferable to select a condition in which the amount of one droplet is several tens of picoliters and the ejection frequency is several hundred to several tens of thousands of Hz. In addition, if the speed is arbitrary and high, productivity will be improved. The frequency is adjusted so that the target wet film thickness is obtained with respect to the speed, and the injection is performed.
(2) Inkjet Head An example of the inkjet head 14 is shown in FIG.

図3は一部破断面を有するインクジェットヘッドの一例を示す概略斜視図である。本図は剪断モード型(ピエゾ型)インクジェットヘッドの場合を示している。   FIG. 3 is a schematic perspective view showing an example of an ink jet head having a partially broken surface. This figure shows the case of a shear mode type (piezo type) ink jet head.

インクジェットヘッド14には圧電性基盤を駆動させるための制御部5(図2参照)がコネクタ(不図示)を介して接続されている。この制御部5により、射出液体の射出時の圧電性基盤の動作強度や周波数の選択等が行われる。   A controller 5 (see FIG. 2) for driving the piezoelectric substrate is connected to the inkjet head 14 via a connector (not shown). The control unit 5 selects the operation intensity and frequency of the piezoelectric substrate when the ejection liquid is ejected.

インクジェットヘッド14は、上層圧電性基盤201b1と下層圧電性基盤201b2とを接合して形成された圧電性基盤201bと、天板201cと、ノズル板201dとを有している。   The inkjet head 14 includes a piezoelectric substrate 201b formed by joining an upper piezoelectric substrate 201b1 and a lower piezoelectric substrate 201b2, a top plate 201c, and a nozzle plate 201d.

圧電性基盤201bには、研削加工を施すことによりノズル板201d側が開口し、反対側が閉塞している互いに平行な所定の長さを有する複数のノズル201b3と、ノズル201b3の閉塞した側につながる平坦な面201b4と、ノズル(インク圧力室)201b3の両側に側壁201b5とを有している。   A plurality of nozzles 201b3 having a predetermined length parallel to each other are opened on the piezoelectric base plate 201b by opening the nozzle plate 201d and closed on the opposite side, and a flat surface connected to the closed side of the nozzle 201b3. A flat surface 201b4 and side walls 201b5 on both sides of a nozzle (ink pressure chamber) 201b3.

複数のノズルは交互に塗布液圧力室用のノズルと空気圧力室用のノズルとして使用する場合もある。   The plurality of nozzles may be alternately used as a nozzle for a coating solution pressure chamber and a nozzle for an air pressure chamber.

本図は塗布液圧力室用として使用した場合を示している。201c2は圧電性基盤201bの上面を覆う第1天板を示し、201c1は第1天板の上面を覆う第2天板を示す。   This figure shows the case where it is used for a coating solution pressure chamber. 201c2 shows the 1st top plate which covers the upper surface of the piezoelectric base | substrate 201b, 201c1 shows the 2nd top plate which covers the upper surface of a 1st top plate.

201eは塗布液の塗布液供給管を示す。塗布液供給管201eより供給された塗布液はノズル吐出口201d1より吐出するようになっている。   Reference numeral 201e denotes a coating liquid supply pipe for the coating liquid. The coating liquid supplied from the coating liquid supply pipe 201e is discharged from the nozzle discharge port 201d1.

201c3は塗布液供給管201eから供給された塗布液の貯留部を示し、各ノズル201b3に連通した各塗布液供給口201c4より各塗布液圧力室用のノズル201b3に供給されるようになっている。   Reference numeral 201c3 denotes a storage portion for the coating liquid supplied from the coating liquid supply pipe 201e, and is supplied to each nozzle 201b3 for each coating liquid pressure chamber from each coating liquid supply port 201c4 communicating with each nozzle 201b3. .

各ノズル201b3は第1天板201c2とノズル板201dとにより覆われることで複数の密閉されたチャネル(塗布液圧力室)が形成されるようになっている。   Each nozzle 201b3 is covered with a first top plate 201c2 and a nozzle plate 201d, so that a plurality of sealed channels (coating liquid pressure chambers) are formed.

201d1は各側壁の剪断変形に伴い、塗布液圧力室の圧力変化で塗布液を液滴の状態で吐出させるノズル吐出口を示す。ノズル吐出口の間隔は、0.02〜0.3mmが好ましい。   Reference numeral 201d1 denotes a nozzle discharge port that discharges the coating liquid in the form of droplets due to a change in the pressure of the coating liquid pressure chamber accompanying shear deformation of each side wall. The interval between the nozzle discharge ports is preferably 0.02 to 0.3 mm.

201fは塗布液のエアー抜きなどに使用される配管を示す。配管201fは塗布液射出時にはバルブ等により密閉される構造となっている。   Reference numeral 201f denotes a pipe used for bleeding the coating liquid. The pipe 201f is sealed by a valve or the like when the coating liquid is injected.

第1天板及び第2天板の材料は特に限定されず、例えば有機材料からなってもよいが、アルミナ、窒化アルミニウム、ジルコニア、シリコン、窒化シリコン、シリコンカーバイド、石英、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等が挙げられる。   The material of the first top plate and the second top plate is not particularly limited, and may be made of, for example, an organic material. However, alumina, aluminum nitride, zirconia, silicon, silicon nitride, silicon carbide, quartz, lead zirconate titanate ( PZT) and the like.

ノズル板201dを構成する基材としては、金属や樹脂が使用される。例えばステンレス、ポリイミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等が好ましく採用できる。特に好ましくはポリイミド樹脂で、Dupont社製:カプトンや宇部興産(株)製:ユーピレックス等が寸法安定性、耐インク性、耐熱性等に優れているので好ましい。   A metal or resin is used as a base material constituting the nozzle plate 201d. For example, stainless steel, polyimide, polysulfone, polyethersulfone and the like can be preferably used. Particularly preferred is a polyimide resin, and DuPont: Kapton or Ube Industries, Ltd .: Upilex, etc. are preferred because they are excellent in dimensional stability, ink resistance, heat resistance and the like.

金属微粒子分散液はパターン形成後、加熱することが好ましい。これにより、金属微粒子同士の融着が進み、金属細線が高導電化するため、特に好ましい。   The metal fine particle dispersion is preferably heated after pattern formation. Thereby, fusion of metal fine particles proceeds, and the metal fine wire becomes highly conductive, which is particularly preferable.

加熱温度は金属微粒子であれば、100℃以上500℃以下であることが好ましい。時間は温度や使用する金属粒子の大きさにもよるが、10秒以上30分以下であることが好ましく、生産性の観点から、10秒以上15分以下であることが好ましく、10秒以上5分以下であることがより好ましい。   The heating temperature is preferably 100 ° C. or more and 500 ° C. or less for metal fine particles. Although depending on the temperature and the size of the metal particles to be used, the time is preferably 10 seconds or longer and 30 minutes or shorter. From the viewpoint of productivity, it is preferably 10 seconds or longer and 15 minutes or shorter. More preferably, it is less than or equal to minutes.

基材に樹脂基板や樹脂フィルムを用いる場合は、100℃以上250℃以下の温度範囲で、基板にダメージのない温度で加熱することが好ましい。   When using a resin substrate or a resin film for the base material, it is preferable to heat the substrate at a temperature that is 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower and that does not damage the substrate.

加熱処理方法は特に制限はなく、公知の処理方法を用いることができる。   There is no restriction | limiting in particular in the heat processing method, A well-known processing method can be used.

例えば、加熱処理態様として、ヒータやIRヒータを用いた加熱、減圧乾燥などを挙げることができるが、これに限定されない。   For example, examples of the heat treatment mode include heating using a heater or IR heater, drying under reduced pressure, and the like, but are not limited thereto.

ランダムな網目状のパターンを形成する方法としては、例えば、特表2005−530005号公報に記載のような、金属微粒子を含有する液を塗布乾燥することにより、自発的に導電性微粒子の無秩序な網目構造を形成する方法を利用できる。   As a method for forming a random network pattern, for example, as described in JP 2005-530005 A, a liquid containing metal fine particles is applied and dried to spontaneously form random conductive fine particles. A method of forming a network structure can be used.

<導電性ポリマー>
本発明に係る透明電極は、金属微粒子を含む透明金属電極を形成し、それらを担持するように導電性ポリマー層を形成してなる複合電極である。例えば、金属微粒子を含む透明金属電極上に、導電性ポリマー含有塗布液をオーバーコートすることにより本発明に係る複合電極を形成できる。
<Conductive polymer>
The transparent electrode according to the present invention is a composite electrode formed by forming a transparent metal electrode containing metal fine particles and forming a conductive polymer layer so as to carry them. For example, the composite electrode according to the present invention can be formed by overcoating a conductive polymer-containing coating solution on a transparent metal electrode containing fine metal particles.

本発明に係る導電性ポリマーとしては、π共役系導電性高分子とポリ陰イオンとを含有している導電性ポリマーを好ましく用いることができる。   As the conductive polymer according to the present invention, a conductive polymer containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion can be preferably used.

こうした導電性ポリマーは、後述するπ共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と後述のポリ陰イオンの存在下で酸化重合することによって容易に製造できる。   Such a conductive polymer can be easily produced by oxidative polymerization of a precursor monomer that forms a π-conjugated conductive polymer described later in the presence of a suitable oxidizing agent, an oxidation catalyst, and a poly anion described later.

(π共役系導電性高分子)
π共役系導電性高分子として、ポリチオフェン(基本のポリチオフェンを含む、以下同様)類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。
(Π-conjugated conductive polymer)
π-conjugated conductive polymers such as polythiophenes (including basic polythiophenes, the same shall apply hereinafter), polypyrroles, polyindoles, polycarbazoles, polyanilines, polyacetylenes, polyfurans, polyparaphenylene vinylenes, polyazulenes A chain conductive polymer of polyparaphenylenes, polyparaphenylene sulfides, polyisothianaphthenes, and polythiazyl compounds can be used.

中でも、導電性、透明性、安定性等の観点からポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。   Of these, polythiophenes and polyanilines are preferable from the viewpoints of conductivity, transparency, stability, and the like. Most preferred is polyethylene dioxythiophene.

(π共役系導電性高分子の前駆体モノマー)
前駆体モノマーは、分子内にπ共役系を有し、適切な酸化剤の作用によって高分子化した際にもその主鎖にπ共役系が形成されるものである。
(Π-conjugated conductive polymer precursor monomer)
The precursor monomer has a π-conjugated system in the molecule, and a π-conjugated system is formed in the main chain even when polymerized by the action of an appropriate oxidizing agent.

前駆体モノマーとしては、例えば、ピロール類及びその誘導体、チオフェン類及びその誘導体、アニリン類及びその誘導体等が挙げられる。   Examples of the precursor monomer include pyrroles and derivatives thereof, thiophenes and derivatives thereof, anilines and derivatives thereof, and the like.

前駆体モノマーの具体例としては、ピロール、3−メチルピロール、3−エチルピロール、3−n−プロピルピロール、3−ブチルピロール、3−オクチルピロール、3−デシルピロール、3−ドデシルピロール、3,4−ジメチルピロール、3,4−ジブチルピロール、3−カルボキシルピロール、3−メチル−4−カルボキシルピロール、3−メチル−4−カルボキシエチルピロール、3−メチル−4−カルボキシブチルピロール、3−ヒドロキシピロール、3−メトキシピロール、3−エトキシピロール、3−ブトキシピロール、3−ヘキシルオキシピロール、3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール、チオフェン、3−メチルチオフェン、3−エチルチオフェン、3−プロピルチオフェン、3−ブチルチオフェン、3−ヘキシルチオフェン、3−ヘプチルチオフェン、3−オクチルチオフェン、3−デシルチオフェン、3−ドデシルチオフェン、3−オクタデシルチオフェン、3−ブロモチオフェン、3−クロロチオフェン、3−ヨードチオフェン、3−シアノチオフェン、3−フェニルチオフェン、3,4−ジメチルチオフェン、3,4−ジブチルチオフェン、3−ヒドロキシチオフェン、3−メトキシチオフェン、3−エトキシチオフェン、3−ブトキシチオフェン、3−ヘキシルオキシチオフェン、3−ヘプチルオキシチオフェン、3−オクチルオキシチオフェン、3−デシルオキシチオフェン、3−ドデシルオキシチオフェン、3−オクタデシルオキシチオフェン、3,4−ジヒドロキシチオフェン、3,4−ジメトキシチオフェン、3,4−ジエトキシチオフェン、3,4−ジプロポキシチオフェン、3,4−ジブトキシチオフェン、3,4−ジヘキシルオキシチオフェン、3,4−ジヘプチルオキシチオフェン、3,4−ジオクチルオキシチオフェン、3,4−ジデシルオキシチオフェン、3,4−ジドデシルオキシチオフェン、3,4−エチレンジオキシチオフェン、3,4−プロピレンジオキシチオフェン、3,4−ブテンジオキシチオフェン、3−メチル−4−メトキシチオフェン、3−メチル−4−エトキシチオフェン、3−カルボキシチオフェン、3−メチル−4−カルボキシチオフェン、3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン、3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン、アニリン、2−メチルアニリン、3−イソブチルアニリン、2−アニリンスルホン酸、3−アニリンスルホン酸等が挙げられる。   Specific examples of the precursor monomer include pyrrole, 3-methylpyrrole, 3-ethylpyrrole, 3-n-propylpyrrole, 3-butylpyrrole, 3-octylpyrrole, 3-decylpyrrole, 3-dodecylpyrrole, 3, 4-dimethylpyrrole, 3,4-dibutylpyrrole, 3-carboxylpyrrole, 3-methyl-4-carboxylpyrrole, 3-methyl-4-carboxyethylpyrrole, 3-methyl-4-carboxybutylpyrrole, 3-hydroxypyrrole 3-methoxypyrrole, 3-ethoxypyrrole, 3-butoxypyrrole, 3-hexyloxypyrrole, 3-methyl-4-hexyloxypyrrole, thiophene, 3-methylthiophene, 3-ethylthiophene, 3-propylthiophene, 3 -Butylthiophene, 3-hexylchi Phen, 3-heptylthiophene, 3-octylthiophene, 3-decylthiophene, 3-dodecylthiophene, 3-octadecylthiophene, 3-bromothiophene, 3-chlorothiophene, 3-iodothiophene, 3-cyanothiophene, 3-phenyl Thiophene, 3,4-dimethylthiophene, 3,4-dibutylthiophene, 3-hydroxythiophene, 3-methoxythiophene, 3-ethoxythiophene, 3-butoxythiophene, 3-hexyloxythiophene, 3-heptyloxythiophene, 3- Octyloxythiophene, 3-decyloxythiophene, 3-dodecyloxythiophene, 3-octadecyloxythiophene, 3,4-dihydroxythiophene, 3,4-dimethoxythiophene, 3,4-diethoxythiol 3,4-dipropoxythiophene, 3,4-dibutoxythiophene, 3,4-dihexyloxythiophene, 3,4-diheptyloxythiophene, 3,4-dioctyloxythiophene, 3,4-didecyloxy Thiophene, 3,4-didodecyloxythiophene, 3,4-ethylenedioxythiophene, 3,4-propylenedioxythiophene, 3,4-butenedioxythiophene, 3-methyl-4-methoxythiophene, 3-methyl -4-ethoxythiophene, 3-carboxythiophene, 3-methyl-4-carboxythiophene, 3-methyl-4-carboxyethylthiophene, 3-methyl-4-carboxybutylthiophene, aniline, 2-methylaniline, 3-isobutyl Aniline, 2-aniline sulfonic acid, 3-aniline A sulfonic acid etc. are mentioned.

(ポリ陰イオン)
ポリ陰イオンは、陰イオン基(アニオン基)を複数有するオリゴマー若しくはポリマーである。
(Poly anion)
The polyanion is an oligomer or polymer having a plurality of anionic groups (anionic groups).

ポリ陰イオンとしては、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体が好ましく、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものが好ましく用いられる。   The polyanion is preferably a substituted or unsubstituted polyalkylene, a substituted or unsubstituted polyalkenylene, a substituted or unsubstituted polyimide, a substituted or unsubstituted polyamide, a substituted or unsubstituted polyester, and a copolymer thereof. A compound composed of a structural unit having an anionic group and a structural unit having no anionic group is preferably used.

ポリ陰イオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。   The polyanion is a solubilized polymer that solubilizes the π-conjugated conductive polymer in a solvent.

ポリ陰イオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。   The anion group of the polyanion functions as a dopant for the π-conjugated conductive polymer, and improves the conductivity and heat resistance of the π-conjugated conductive polymer.

ポリ陰イオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。   The anion group of the polyanion may be any functional group capable of causing chemical oxidation doping to the π-conjugated conductive polymer. Among them, from the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate ester Group, monosubstituted phosphate group, phosphate group, carboxy group, sulfo group and the like are preferable. Furthermore, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the π-conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxy group are more preferable.

ポリ陰イオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。   Specific examples of polyanions include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, poly Isoprene sulfonic acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid, polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid, etc. Can be mentioned. These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient.

また、化合物内にFを有するポリ陰イオンであっても良い。   Moreover, the poly anion which has F in a compound may be sufficient.

具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン(Dupont社製)、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン(旭硝子社製)などを挙げることができる。   Specific examples include Nafion containing a perfluorosulfonic acid group (manufactured by Dupont) and Flemion (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) made of perfluoro vinyl ether containing a carboxylic acid group.

これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、熱処理を行うことによって、透明導電層の洗浄耐性や溶媒耐性が著しく向上することから、より好ましい。   Among these, a compound having a sulfonic acid is more preferable because the washing resistance and solvent resistance of the transparent conductive layer are remarkably improved by performing the heat treatment.

さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリ陰イオンは、後述の水溶性バインダーとの相溶性が高く、また、得られる導電性ポリマーの導電性をより高くできる。   Furthermore, among these, polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyacrylic acid ethylsulfonic acid, and polyacrylic acid butylsulfonic acid are preferable. These poly anions have high compatibility with the water-soluble binder described later, and can further increase the conductivity of the obtained conductive polymer.

ポリ陰イオンの重合度は、モノマー単位が10〜100000個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、50〜10000個の範囲がより好ましい。   The degree of polymerization of the polyanion is preferably in the range of 10 to 100,000 monomer units, and more preferably in the range of 50 to 10,000 from the viewpoint of solvent solubility and conductivity.

ポリ陰イオンの製造方法としては、例えば、酸を用いてアニオン基を有さないポリマーにアニオン基を直接導入する方法、アニオン基を有さないポリマーをスルホ化剤によりスルホン酸化する方法、アニオン基含有重合性モノマーの重合により製造する方法が挙げられる。   Examples of the method for producing a polyanion include a method of directly introducing an anionic group into a polymer having no anionic group using an acid, a method of sulfonating a polymer having no anionic group with a sulfonating agent, an anionic group A method of producing by polymerization of the containing polymerizable monomer may be mentioned.

アニオン基含有重合性モノマーの重合により製造する方法は、溶媒中、アニオン基含有重合性モノマーを、酸化剤及び/又は重合触媒の存在下で、酸化重合又はラジカル重合によって製造する方法が挙げられる。   Examples of the method for producing an anion group-containing polymerizable monomer by polymerization include a method for producing an anion group-containing polymerizable monomer in a solvent by oxidative polymerization or radical polymerization in the presence of an oxidizing agent and / or a polymerization catalyst.

具体的には、所定量のアニオン基含有重合性モノマーを溶媒に溶解させ、これを一定温度に保ち、それにあらかじめ溶媒に所定量の酸化剤及び/又は重合触媒を溶解した溶液を添加し、所定時間で反応させる。その反応により得られたポリマーは溶媒によって一定の濃度に調整される。この製造方法において、アニオン基含有重合性モノマーにアニオン基を有さない重合性モノマーを共重合させてもよい。   Specifically, a predetermined amount of the anionic group-containing polymerizable monomer is dissolved in a solvent, this is maintained at a constant temperature, and a solution in which a predetermined amount of an oxidizing agent and / or a polymerization catalyst is dissolved in the solvent is added to the predetermined amount. React with time. The polymer obtained by the reaction is adjusted to a certain concentration by the solvent. In this production method, an anionic group-containing polymerizable monomer may be copolymerized with a polymerizable monomer having no anionic group.

アニオン基含有重合性モノマーの重合に際して使用する酸化剤及び酸化触媒、溶媒は、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを重合する際に使用するものと同様である。   The oxidizing agent, oxidation catalyst, and solvent used in the polymerization of the anionic group-containing polymerizable monomer are the same as those used in the polymerization of the precursor monomer that forms the π-conjugated conductive polymer.

得られたポリマーがポリ陰イオン塩である場合には、ポリ陰イオン酸に変質させることが好ましい。アニオン酸に変質させる方法としては、イオン交換樹脂を用いたイオン交換法、透析法、限外ろ過法等が挙げられ、これらの中でも、作業が容易な点から限外ろ過法が好ましい。   When the obtained polymer is a polyanionic salt, it is preferably transformed into a polyanionic acid. Examples of the method for converting to an anionic acid include an ion exchange method using an ion exchange resin, a dialysis method, an ultrafiltration method, and the like. Among these, the ultrafiltration method is preferable from the viewpoint of easy work.

本発明に係る導電性ポリマーに含まれるπ共役系導電性高分子とポリ陰イオンの比率(固形分比率)、「π共役系導電性高分子」:「ポリ陰イオン」は導電性、分散性の観点から質量比で1:1〜1:10が好ましい。より好ましくは1:2〜1:8の範囲である。   Ratio (solid content ratio) of π-conjugated conductive polymer and polyanion contained in the conductive polymer according to the present invention, “π-conjugated conductive polymer”: “Poly anion” is conductive and dispersible In view of the above, the mass ratio is preferably 1: 1 to 1:10. More preferably, it is in the range of 1: 2 to 1: 8.

π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーをポリ陰イオンの存在下で化学酸化重合して、本発明に係る導電性ポリマーを得る際に使用される酸化剤は、例えばJ.Am.Soc.,85、454(1963)に記載されるピロールの酸化重合に適する、いずれかの酸化剤である。実際的な理由のために、安価でかつ取扱い易い酸化剤、例えば鉄(III)塩、例えばFeCl、Fe(ClO、有機酸及び有機残基を含む無機酸の鉄(III)塩、又は過酸化水素、重クロム酸カリウム、過硫酸アルカリ(例えば過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム)又はアンモニウム、過ホウ酸アルカリ、過マンガン酸カリウム及び銅塩例えば四フッ化ホウ酸銅を用いることが好ましい。加えて、酸化剤として随時触媒量の金属イオン例えば鉄、コバルト、ニッケル、モリブデン及びバナジウムイオンの存在下における空気及び酸素も使用することができる。過硫酸塩並びに有機酸及び有機残基を含む無機酸の鉄(III)塩の使用が腐食性でないために大きな応用上の利点を有する。 The oxidant used when the precursor monomer forming the π-conjugated conductive polymer is chemically oxidatively polymerized in the presence of the polyanion to obtain the conductive polymer according to the present invention is, for example, J. Org. Am. Soc. 85, 454 (1963), which is suitable for the oxidative polymerization of pyrrole. For practical reasons, cheap and easy to handle oxidants such as iron (III) salts, eg FeCl 3 , Fe (ClO 4 ) 3 , organic acids and iron (III) salts of inorganic acids containing organic residues Or use hydrogen peroxide, potassium dichromate, alkali persulfate (eg potassium persulfate, sodium persulfate) or ammonium, alkali perborate, potassium permanganate and copper salts such as copper tetrafluoroborate preferable. In addition, air and oxygen in the presence of catalytic amounts of metal ions such as iron, cobalt, nickel, molybdenum and vanadium ions can be used as oxidants at any time. The use of persulfates and the iron (III) salts of inorganic acids containing organic acids and organic residues has great application advantages because they are not corrosive.

有機残基を含む無機酸の鉄(III)塩の例としては炭素数1〜20のアルカノールの硫酸半エステルの鉄(III)塩、例えばラウリル硫酸;炭素数1〜20のアルキルスルホン酸、例えばメタン又はドデカンスルホン酸;脂肪族炭素数1〜20のカルボン酸、例えば2−エチルヘキシルカルボン酸;脂肪族パーフルオロカルボン酸、例えばトリフルオロ酢酸及びパーフルオロオクタノン酸;脂肪族ジカルボン酸、例えばシュウ酸並びに殊に芳香族の、随時炭素数1〜20のアルキル置換されたスルホン酸、例えばベンゼセンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸及びドデシルベンゼンスルホン酸のFe(III)塩が挙げられる。   Examples of iron (III) salts of inorganic acids containing organic residues include iron (III) salts of alkanol sulfate half esters of alkanols such as lauryl sulfate; alkyl sulfonic acids of 1 to 20 carbons such as Methane or dodecanesulfonic acid; aliphatic carboxylic acid having 1 to 20 carbon atoms such as 2-ethylhexylcarboxylic acid; aliphatic perfluorocarboxylic acid such as trifluoroacetic acid and perfluorooctanoic acid; aliphatic dicarboxylic acid such as oxalic acid And in particular aromatic (optionally) alkyl-substituted sulfonic acids having 1 to 20 carbon atoms, such as the Fe (III) salts of benzenecenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid.

本発明においては、上記導電性ポリマーの導電性をより高めるために、ドーピング処理を施すことができる。導電性高分子に対するドーパントとしては、例えば、炭素数が6〜30の炭化水素基を有するスルホン酸(以下「長鎖スルホン酸」ともいう。)あるいはその重合体(例えば、ポリスチレンスルホン酸)、ハロゲン、ルイス酸、プロトン酸、遷移金属ハロゲン化物、遷移金属化合物、アルカリ金属、アルカリ土類金属、MClO(M=Li、Na)、R(R=CH、C、C)、又はR(R=CH、C、C)からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。中でも、上記長鎖スルホン酸が好ましい。 In the present invention, a doping treatment can be performed in order to further increase the conductivity of the conductive polymer. As a dopant for the conductive polymer, for example, a sulfonic acid having a hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms (hereinafter also referred to as “long-chain sulfonic acid”) or a polymer thereof (for example, polystyrene sulfonic acid), halogen , Lewis acid, proton acid, transition metal halide, transition metal compound, alkali metal, alkaline earth metal, MClO 4 (M = Li + , Na + ), R 4 N + (R═CH 3 , C 4 H 9 , C 6 H 5 ), or R 4 P + (R═CH 3 , C 4 H 9 , C 6 H 5 ). Of these, the long-chain sulfonic acid is preferable.

また、本発明に係る導電性ポリマーは、水溶性有機化合物を含有してもよい。水溶性有機化合物の中で、導電性ポリマーに添加することによって導電性を向上させる効果を有する化合物が知られており、セカンド.ドーパント(あるいは増感剤)と称する場合がある。本発明で用いることができるセカンド.ドーパントには特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸素含有化合物が好適に挙げられる。中でも、ヒドロキシ基、カルボニル基、エーテル基、及びスルホキシド基を有する化合物の1種であることが好ましい。   Moreover, the conductive polymer according to the present invention may contain a water-soluble organic compound. Among water-soluble organic compounds, compounds having an effect of improving conductivity by adding to a conductive polymer are known. Sometimes referred to as a dopant (or sensitizer). Seconds that can be used in the present invention. There is no restriction | limiting in particular in a dopant, It can select suitably from well-known things, For example, an oxygen containing compound is mentioned suitably. Especially, it is preferable that it is 1 type of the compound which has a hydroxyl group, a carbonyl group, an ether group, and a sulfoxide group.

ヒドロキシ基を有する化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、グリセリンなどが挙げられ、これらの中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコールが好ましい。またカルボニル基を有する化合物は、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。エーテル基を有する化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、などが挙げられる。スルホキシド基を有する化合物としては、例えば、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよいが、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、ジエチレングリコールから選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。   Examples of the compound having a hydroxy group include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,4-butanediol, and glycerin. Among these, ethylene glycol and diethylene glycol are preferable. Examples of the compound having a carbonyl group include isophorone, propylene carbonate, cyclohexanone, and γ-butyrolactone. Examples of the compound having an ether group include diethylene glycol monoethyl ether. Examples of the compound having a sulfoxide group include dimethyl sulfoxide. These may be used alone or in combination of two or more, but at least one selected from dimethyl sulfoxide, ethylene glycol, and diethylene glycol is preferably used.

本発明に係る導電性ポリマーにおいてには、目的に応じて、可塑剤、酸化防止剤等の安定剤、マイグレーション防止剤、界面活性剤、分散剤、染料や顔料等の着色剤等の添加物を含んでいてもよい。   In the conductive polymer according to the present invention, an additive such as a plasticizer, a stabilizer such as an antioxidant, a migration inhibitor, a surfactant, a dispersant, a colorant such as a dye or a pigment is added depending on the purpose. May be included.

本発明に係る導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。   A commercially available material can also be preferably used for the conductive polymer according to the present invention.

例えば、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー(PEDOT−PSSと略す)が、Heraeus社からCLEVIOSシリーズとして、Aldrich社からPEDOT−PSS483095、560598として、Nagase Chemtex社からDenatronシリーズとして市販されている。   For example, a conductive polymer composed of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (abbreviated as PEDOT-PSS) is available from Heraeus as CLEVIOS series, from Aldrich as PEDOT-PSS 483095, 560598, Nagase Chemtex. It is commercially available from the company as the Denatron series.

また、ポリアニリンが、日産化学社からORMECONシリーズとして市販されている。   Polyaniline is also commercially available from Nissan Chemical as the ORMECON series.

本発明に係る導電性ポリマーは、上記PEDOTと非導電性ポリマーの混合物であることが好ましく、前記非導電性ポリマーがヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーであることが好ましく、さらに前記非導電性ポリマーが解離性基を有する自己分散型ポリマーであることが好ましい。   The conductive polymer according to the present invention is preferably a mixture of the PEDOT and the nonconductive polymer, the nonconductive polymer is preferably a nonconductive polymer having a hydroxy group, and further the nonconductive polymer. Is preferably a self-dispersing polymer having a dissociable group.

(ヒドロキシ基を有する非導電性ポリマー)
本発明に係るヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーとしては以下の一般式(I)で表される化合物を用いることが好ましい。
(Non-conductive polymer having a hydroxy group)
As the nonconductive polymer having a hydroxy group according to the present invention, a compound represented by the following general formula (I) is preferably used.

Figure 2013148687
(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Qは−C(=O)O−、又はC(=O)NRa−を表す。Raは水素原子又はアルキル基を表し、Aは置換若しくは無置換アルキレン基、又は(CHCHRbO)−(CHCHRb)−を表す。Rbは水素原子又はアルキル基を表し、xは平均繰り返しユニット数を表す。)
本発明に係る透明電極は、前記一般式(I)で表される構造単位を含むヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーを導電性ポリマーと併用することが好ましい。こうした樹脂は導電性ポリマーと容易に混合可能であり、また、前述の第二ドーパントと同様な効果も有するため、樹脂を混合しても導電性保護層の抵抗値を大幅には劣化させず、条件によっては寧ろ抵抗値を下げることも可能である。
Figure 2013148687
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, Q represents —C (═O) O—, or C (═O) NRa—. Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, or (CH 2 CHRbO) x - ( CH 2 CHRb) - .Rb representing a represents a hydrogen atom or an alkyl group, x represents the average number of repeating units).
In the transparent electrode according to the present invention, it is preferable to use a non-conductive polymer having a hydroxy group containing the structural unit represented by the general formula (I) in combination with a conductive polymer. Such a resin can be easily mixed with a conductive polymer, and also has the same effect as the above-mentioned second dopant, so even if the resin is mixed, the resistance value of the conductive protective layer is not significantly deteriorated, Rather, the resistance value can be lowered depending on the conditions.

本発明においてヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーとは、水溶性で、かつ、25℃の水100gに0.001g以上溶解するポリマーを意味する。前記溶解度は、ヘイズメーターや濁度計で測定することができる。   In the present invention, the non-conductive polymer having a hydroxy group means a polymer that is water-soluble and dissolves 0.001 g or more in 100 g of water at 25 ° C. The solubility can be measured with a haze meter or a turbidimeter.

本発明に係るヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーは、少なくとも前記一般式(I)で表される構造単位を含む構造を有し、前記一般式(I)で表されるホモポリマーであってもよいし、他の成分を共重合されていてもよい。他の成分を共重合する場合は、前記一般式(I)で表される構造単位を10モル%以上含有することが好ましく、30モル%以上含有することがより好ましく、50モル%以上含有することがさらに好ましい。   The non-conductive polymer having a hydroxy group according to the present invention has a structure including at least the structural unit represented by the general formula (I), and may be a homopolymer represented by the general formula (I). Alternatively, other components may be copolymerized. When copolymerizing other components, the structural unit represented by the general formula (I) is preferably contained in an amount of 10 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, and more preferably 50 mol% or more. More preferably.

また、水溶性バインダー樹脂は、導電性保護層中に40質量%以上、80質量%以下含まれていることが好ましく、50質量%以上、70質量%以下であることがさらに好ましい。   The water-soluble binder resin is preferably contained in the conductive protective layer in an amount of 40% by mass to 80% by mass, and more preferably 50% by mass to 70% by mass.

一般式(I)で表されるヒドロキシ基を有する構造単位において、Rは水素原子又はメチル基を表す。Qは−C(=O)O−、又はC(=O)NRa−を表し、Raは水素原子又はアルキル基を表す。アルキル基は、例えば炭素原子数1〜5の直鎖、あるいは分岐アルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。また、これらのアルキル基は置換基で置換されていてもよい。これら置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルカルボンアミド基、アリールカルボンアミド基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基等で置換されてもよい。これらのうち好ましくは、ヒドロキシ基、アルキルオキシ基である。   In the structural unit having a hydroxy group represented by formula (I), R represents a hydrogen atom or a methyl group. Q represents -C (= O) O- or C (= O) NRa-, and Ra represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group. Moreover, these alkyl groups may be substituted with a substituent. Examples of these substituents include alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, heterocycloalkyl groups, heteroaryl groups, hydroxy groups, halogen atoms, alkoxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, cycloalkoxy groups, aryloxy groups, Acyl group, alkylcarbonamide group, arylcarbonamide group, alkylsulfonamide group, arylsulfonamide group, ureido group, aralkyl group, nitro group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkylcarbamoyl group, Arylcarbamoyl group, alkylsulfamoyl group, arylsulfamoyl group, acyloxy group, alkenyl group, alkynyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkyloxysulfonyl , Aryloxy sulfonyl group, alkylsulfonyloxy group, may be substituted with an aryl sulfonyloxy group. Of these, a hydroxy group and an alkyloxy group are preferable.

上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が含まれる。   The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

上記アルキル基は分岐を有していてもよく、炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜8であることがさらに好ましい。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が含まれる。   The alkyl group may have a branch, and the number of carbon atoms is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and still more preferably 1 to 8. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, hexyl group, octyl group and the like.

上記シクロアルキル基の炭素原子数は、3〜20であることが好ましく、3〜12であることがより好ましく、3〜8であることがさらに好ましい。シクロアルキル基の例には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が含まれる。   The number of carbon atoms in the cycloalkyl group is preferably 3-20, more preferably 3-12, and even more preferably 3-8. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

上記アルコキシ基は、分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜4であることが最も好ましい。アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−メトキシ−2−エトキシエトキシ基、ブチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びオクチルオキシ基が含まれ、好ましくはエトキシ基である。   The alkoxy group may have a branch, the number of carbon atoms is preferably 1-20, more preferably 1-12, still more preferably 1-6, and 1-4 Most preferably. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, a 2-methoxy-2-ethoxyethoxy group, a butyloxy group, a hexyloxy group and an octyloxy group, and preferably an ethoxy group.

上記アルキルチオ基の炭素数は、分岐を有していてもよく、炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがより好ましく、1〜6であることがさらに好ましく、1〜4であることが最も好ましい。アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基等が含まれる。   The number of carbon atoms of the alkylthio group may be branched, and the number of carbon atoms is preferably 1-20, more preferably 1-12, even more preferably 1-6, Most preferably, it is 1-4. Examples of the alkylthio group include a methylthio group and an ethylthio group.

上記アリールチオ基の炭素数は、6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールチオ基の例にはフェニルチオ基及びナフチルチオ基等が含まれる。   The arylthio group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylthio group include a phenylthio group and a naphthylthio group.

上記シクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜12であることが好ましく、より好ましくは3〜8である。シクロアルコキシ基の例には、シクロプロポキシ基、シクロブチロキシ基、シクロペンチロキシ基及びシクロヘキシロキシ基が含まれる。   The number of carbon atoms of the cycloalkoxy group is preferably 3-12, more preferably 3-8. Examples of the cycloalkoxy group include a cyclopropoxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group.

上記アリール基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリール基の例にはフェニル基及びナフチル基が含まれる。   The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

上記アリールオキシ基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールオキシ基の例にはフェノキシ基及びナフトキシ基が含まれる。   The aryloxy group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a naphthoxy group.

上記ヘテロシクロアルキル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましく、3〜5であることがさらに好ましい。ヘテロシクロアルキル基の例にはピペリジノ基、ジオキサニル基及び2−モルホリニル基が含まれる。   The heterocycloalkyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably 3 to 5 carbon atoms. Examples of the heterocycloalkyl group include a piperidino group, a dioxanyl group, and a 2-morpholinyl group.

上記ヘテロアリール基の炭素原子数は、3〜20であることが好ましく、3〜10であることがさらに好ましい。ヘテロアリール基の例にはチエニル基、ピリジル基が含まれる。   The heteroaryl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably 3 to 10 carbon atoms. Examples of the heteroaryl group include a thienyl group and a pyridyl group.

上記アシル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アシル基の例にはホルミル基、アセチル基及びベンゾイル基が含まれる。   The acyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the acyl group include a formyl group, an acetyl group, and a benzoyl group.

上記アルキルカルボンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルカルボンアミド基の例にはアセトアミド基等が含まれる。   The alkylcarbonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylcarbonamide group include an acetamide group.

上記アリールカルボンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アリールカルボンアミド基の例にはベンズアミド基等が含まれる。   The arylcarbonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the arylcarbonamide group include a benzamide group and the like.

上記アルキルスルホンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。スルホンアミド基の例にはメタンスルホンアミド基等が含まれる。   The alkylsulfonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the sulfonamide group include a methanesulfonamide group.

上記アリールスルホンアミド基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アリールスルホンアミド基の例には、ベンゼンスルホンアミド基及びp−トルエンスルホンアミドが基含まれる。   The arylsulfonamide group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonamide group include a benzenesulfonamide group and p-toluenesulfonamide group.

上記アラルキル基の炭素原子数は7〜20であることが好ましく、7〜12であることがさらに好ましい。アラルキル基の例にはベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基が含まれる。   The aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 12 carbon atoms. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group.

上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例にはメトキシカルボニル基が含まれる。   The alkoxycarbonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group.

上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は7〜20であることが好ましく、7〜12であることがさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例にはフェノキシカルボニル基が含まれる。   The aryloxycarbonyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms, and more preferably 7 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group.

上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は8〜20であることが好ましく、8〜12であることがさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例にはベンジルオキシカルボニル基が含まれる。   The aralkyloxycarbonyl group preferably has 8 to 20 carbon atoms, and more preferably 8 to 12 carbon atoms. Examples of the aralkyloxycarbonyl group include a benzyloxycarbonyl group.

上記アシルオキシ基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アシルオキシ基の例にはアセトキシ基及びベンゾイルオキシ基が含まれる。   The acyloxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the acyloxy group include an acetoxy group and a benzoyloxy group.

上記アルケニル基の炭素原子数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アルケニル基の例に、ビニル基、アリル基及びイソプロペニル基が含まれる。   The alkenyl group has preferably 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkenyl group include vinyl group, allyl group and isopropenyl group.

上記アルキニル基の炭素原子数は2〜20であることが好ましく、2〜12であることがさらに好ましい。アルキニル基の例にはエチニル基が含まれる。   The alkynyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, and more preferably 2 to 12 carbon atoms. Examples of the alkynyl group include an ethynyl group.

上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルスルホニル基の例に、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基が含まれる。   The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group and an ethylsulfonyl group.

上記アリールスルホニル基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールスルホニル基の例に、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基が含まれる。   The arylsulfonyl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group and a naphthylsulfonyl group.

上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は1〜20あることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルオキシスルホニル基の例に、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基が含まれる。   The alkyloxysulfonyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyloxysulfonyl group include a methoxysulfonyl group and an ethoxysulfonyl group.

上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールオキシスルホニル基の例に、フェノキシスルホニル基、ナフトキシスルホニル基が含まれる。   The aryloxysulfonyl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the aryloxysulfonyl group include a phenoxysulfonyl group and a naphthoxysulfonyl group.

上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は1〜20であることが好ましく、1〜12であることがさらに好ましい。アルキルスルホニルオキシ基の例に、メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基が含まれる。   The alkylsulfonyloxy group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 12 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyloxy group include a methylsulfonyloxy group and an ethylsulfonyloxy group.

上記アリールスルホニルオキシ基の炭素原子数は6〜20であることが好ましく、6〜12であることがさらに好ましい。アリールスルホニルオキシ基の例に、フェニルスルホニルオキシ基、ナフチルスルホニルオキシ基が含まれる。置換基は同一でも異なっていても良く、これら置換基がさらに置換されてもよい。   The arylsulfonyloxy group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 12 carbon atoms. Examples of the arylsulfonyloxy group include a phenylsulfonyloxy group and a naphthylsulfonyloxy group. The substituents may be the same or different, and these substituents may be further substituted.

本発明に係る一般式(I)で表されるヒドロキシ基を有する構造単位において、Aは置換あるいは無置換アルキレン基、又は−(CHCHRbO)−(CHCHRb)−を表す。アルキレン基は、例えば炭素原子数1〜5が好ましく、より好ましくはエチレン基、プロピレン基である。これらのアルキレン基は前述した置換基で置換されていてもよい。 In the structural unit having a hydroxy group represented by formula (I) according to the present invention, A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, or — (CH 2 CHRbO) x — (CH 2 CHRb) —. The alkylene group preferably has, for example, 1 to 5 carbon atoms, more preferably an ethylene group or a propylene group. These alkylene groups may be substituted with the substituent described above.

また、Rbは水素原子、アルキル基を表す。アルキル基は、例えば炭素原子数1〜5の直鎖、あるいは分岐アルキル基が好ましく、より好ましくはメチル基である。また、これらのアルキル基は前述の置換基で置換されていてもよい。さらに、xは平均繰り返しユニット数を表し、0〜100が好ましく、より好ましくは0〜10である。繰り返しユニット数は分布を有しており、表記は平均値を示し、小数点以下1桁で表記してもよい。   Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group. Moreover, these alkyl groups may be substituted with the above-mentioned substituent. Furthermore, x represents the average number of repeating units, preferably 0 to 100, more preferably 0 to 10. The number of repeating units has a distribution, and the notation indicates an average value and may be expressed with one decimal place.

以下に、一般式(I)で表される構造単位の代表的具体例を示すが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   Hereinafter, typical specific examples of the structural unit represented by the general formula (I) are shown, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2013148687
(解離性基を有する自己分散型ポリマー)
また本発明では、ヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーに変えて解離性基を有する自己分散型ポリマーを使用することが好ましい。
Figure 2013148687
(Self-dispersing polymer having a dissociable group)
In the present invention, it is preferable to use a self-dispersing polymer having a dissociable group instead of the non-conductive polymer having a hydroxy group.

本発明において、解離性基を有する自己分散型ポリマーとは、ミセル形成を補助する界面活性剤や乳化剤等を含まず、ポリマー単体で水系溶剤に分散可能なものをいう。「水系溶剤に分散可能」とは、水系溶剤中に凝集せずにバインダー樹脂からなるコロイド粒子が分散している状況であることをいう。コロイド粒子の大きさは一般的に0.001〜1μm(1〜1000μm)程度である。コロイド粒子大きさは、好ましくは3〜500nmであり、より好ましくは5〜300nmであり、さらに好ましくは10〜100nmである。コロイド粒子が大きい場合には(500nmよりも大きい場合)には、コロイド粒子を用いて造膜する際に平滑性が悪くなる。また、コロイド粒子が極端に小さい場合(3nmよりも小さい場合)には、粒子の凝集等を引き起こす等コロイド粒子の製造の制限があり、また高コストになる。かかるコロイド粒子の大きさについては、光散乱光度計により測定することができる。   In the present invention, the self-dispersing polymer having a dissociable group refers to a polymer that does not contain a surfactant or an emulsifier that assists micelle formation and can be dispersed in an aqueous solvent as a single polymer. “Dispersible in an aqueous solvent” means that colloidal particles made of a binder resin are dispersed in the aqueous solvent without agglomeration. The size of the colloidal particles is generally about 0.001 to 1 μm (1 to 1000 μm). The colloidal particle size is preferably 3 to 500 nm, more preferably 5 to 300 nm, and still more preferably 10 to 100 nm. When the colloidal particles are large (when the colloidal particles are larger than 500 nm), the smoothness deteriorates when forming a film using the colloidal particles. Further, when the colloidal particles are extremely small (smaller than 3 nm), there are restrictions on the production of the colloidal particles such as causing aggregation of the particles, and the cost is increased. The size of the colloidal particles can be measured with a light scattering photometer.

また、前記水系溶剤とは、純水(蒸留水、脱イオン水を含む)のみならず、酸、アルカリ、塩等を含む水溶液、含水の有機溶剤、又は、親水性の有機溶剤である。水系溶剤としては、純水(蒸留水、脱イオン水を含む)、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、水とアルコールとの混合溶剤等が挙げられる。   The aqueous solvent is not only pure water (including distilled water and deionized water) but also an aqueous solution containing acid, alkali, salt, etc., a water-containing organic solvent, or a hydrophilic organic solvent. Examples of the aqueous solvent include pure water (including distilled water and deionized water), alcohol solvents such as methanol and ethanol, and mixed solvents of water and alcohol.

本発明に係る解離性基を有する自己分散型ポリマーは、透明であることが好ましい。解離性基を有する自己分散型ポリマーとしては、フィルムを形成する媒体であれば、特に限定されない。また、透明電極表面へのブリードアウト、電極性能に問題がなければ特に限定はないが、ポリマー分散液は、界面活性剤(乳化剤)や造膜温度をコントロールする可塑剤等を含まないことが好ましい。   The self-dispersing polymer having a dissociable group according to the present invention is preferably transparent. The self-dispersing polymer having a dissociable group is not particularly limited as long as it is a medium that forms a film. Further, there is no particular limitation as long as there is no problem in bleeding out to the surface of the transparent electrode and electrode performance, but the polymer dispersion preferably does not contain a surfactant (emulsifier), a plasticizer for controlling the film forming temperature, or the like. .

本発明に係る解離性基を有する自己分散型ポリマーの平均粒径は、5〜100nmであることが好ましい。   The average particle size of the self-dispersing polymer having a dissociable group according to the present invention is preferably 5 to 100 nm.

本発明に係る解離性基を有する自己分散型ポリマーのガラス転移温度(Tg)は、好ましくは25〜80℃であり、より好ましくは30〜75℃であり、さらに好ましくは50〜70℃である。ガラス転移温度Tgは、示差走査熱量測定器(Perkin Elmer社製DSC−7型)を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めることができる。   The glass transition temperature (Tg) of the self-dispersing polymer having a dissociable group according to the present invention is preferably 25 to 80 ° C, more preferably 30 to 75 ° C, and further preferably 50 to 70 ° C. . The glass transition temperature Tg can be measured according to JIS K7121 (1987) using a differential scanning calorimeter (DSC-7 model manufactured by Perkin Elmer) at a temperature rising rate of 20 ° C./min.

解離性基を有する自己分散型ポリマーの分散液の25℃におけるpHは、別途相溶させる導電性ポリマー溶液と分離しないという観点から、好ましくは0.1〜11.0であり、より好ましくは3.0〜9.0であり、さらに好ましくは4.0〜7.0である。   The pH at 25 ° C. of the dispersion of the self-dispersing polymer having a dissociable group is preferably 0.1 to 11.0, more preferably 3 from the viewpoint that it does not separate from the conductive polymer solution to be separately compatible. It is 0.0-9.0, More preferably, it is 4.0-7.0.

解離性基を有する自己分散型ポリマーに使用される解離性基としては、アニオン性基(スルホン酸及びその塩、カルボン酸及びその塩、リン酸及びその塩等)、カチオン性基(アンモニウム塩等)等が挙げられる。かかる解離性基は、特に限定はされないが、導電性ポリマーとの相溶性の観点から、アニオン性基が好ましい。解離性基の量は、自己分散型ポリマーが水系溶剤に分散可能であればよく、可能な限り少ない方が工程適性的に乾燥負荷が低減されるため好ましい。また、アニオン性基、カチオン性基に使用されるカウンター種も、特に限定されないが、疎水性で少量であることが好ましい。   Examples of the dissociable group used in the self-dispersing polymer having a dissociable group include an anionic group (sulfonic acid and its salt, carboxylic acid and its salt, phosphoric acid and its salt, etc.), a cationic group (ammonium salt, etc.) ) And the like. Such a dissociable group is not particularly limited, but an anionic group is preferable from the viewpoint of compatibility with the conductive polymer. The amount of the dissociable group is not particularly limited as long as the self-dispersing polymer can be dispersed in the aqueous solvent, and is preferably as small as possible because the drying load is reduced in a suitable manner in the process. Further, the counter species used for the anionic group and the cationic group are not particularly limited, but are preferably hydrophobic and in a small amount.

解離性基を有する自己分散型ポリマーの主骨格としては、ポリエチレン、ポリエチレン−ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレン−ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン−ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリブタジエン−ポリスチレン、ポリオレフィン共重合体、ポリアミド(ナイロン)、ポリ塩化ビニリデン、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリアクリレート−ポリエステル、ポリアクリレート−ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン−ポリカーボネート、ポリウレタン−ポリエーテル、ポリウレタン−ポリエステル、ポリウレタン−ポリアクリレート、シリコーン、シリコーン−ポリウレタン、シリコーン−ポリアクリレート、ポリフッ化ビニリデン−ポリアクリレート、ポリフルオロオレフィン−ポリビニルエーテル等が挙げられる。また、これらの骨格をベースに、さらに他のモノマーを使用した共重合が主骨格であってもよい。これらの中では、エステル骨格を有するポリエステル樹脂エマルジョン、ポリエステル−アクリル樹脂エマルジョン、エチレン骨格を有するポリエチレン樹脂エマルジョンが好ましい。   The main skeleton of the self-dispersing polymer having a dissociable group is polyethylene, polyethylene-polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene-polyvinyl acetate, polyethylene-polyurethane, polybutadiene, polybutadiene-polystyrene, polyolefin copolymer, polyamide (nylon). , Polyvinylidene chloride, polyester, polyacrylate, polyacrylate-polyester, polyacrylate-polystyrene, polyvinyl acetate, polyurethane-polycarbonate, polyurethane-polyether, polyurethane-polyester, polyurethane-polyacrylate, silicone, silicone-polyurethane, silicone- Polyacrylate, polyvinylidene fluoride-polyacrylate, polyfluoroolefin-polyvinyl ether And the like. Further, based on these skeletons, copolymerization using another monomer may be the main skeleton. Among these, a polyester resin emulsion having an ester skeleton, a polyester-acrylic resin emulsion, and a polyethylene resin emulsion having an ethylene skeleton are preferable.

市販品としては、ポリゾールFP3000(ポリエステル樹脂、アニオン、コア:アクリル、シェル:ポリエステル、昭和電工社製)、バイロナールMD1480(ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡社製)、バイロナールMD1245(ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡社製)、バイロナールMD1500(ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡社製)、バイロナールMD2000(ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡社製)、バイロナールMD1930(ポリエステル樹脂、アニオン、東洋紡社製)、プラスコートRZ105(ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学社製)、プラスコートRZ570(ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学社製)、プラスコートRZ571(ポリエステル樹脂、アニオン、互応化学社製)、ハイテックS−9242(ポリエチレン樹脂、アニオン、東邦化学社製)、モビニール7720(アクリル樹脂、ノニオン、日本合成化学社製)、モビニール7820(アクリル樹脂、ノニオン、日本合成化学社製)を用いることができる。また、解離性基を有する自己分散型ポリマーは、前記したものを1種含有するものであってもよく、複数種含有するものであってもよい。   As commercial products, Polysol FP3000 (polyester resin, anion, core: acrylic, shell: polyester, manufactured by Showa Denko KK), Vironal MD1480 (polyester resin, anion, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Vironal MD1245 (polyester resin, anion, Toyobo Co., Ltd.) ), Bironal MD1500 (polyester resin, anion, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Bironal MD2000 (polyester resin, anion, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Bironal MD1930 (polyester resin, anion, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), Plus Coat RZ105 (polyester resin, anion) , Manufactured by Mutual Chemical Co., Ltd.), Plus Coat RZ570 (polyester resin, anion, manufactured by Interactive Chemical Co., Ltd.), Plus Coat RZ571 (polyester resin, anion, manufactured by Interactive Chemical Co., Ltd.) Itec S-9242 (polyethylene resin, anion, manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.), Movinyl 7720 (acrylic resin, nonion, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), Movinyl 7820 (acrylic resin, nonion, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) can be used. . In addition, the self-dispersing polymer having a dissociable group may contain one kind of those described above, or may contain a plurality of kinds.

本発明に係る導電性ポリマーは、解離性基を有する自己分散型ポリマーと水系溶剤に分散できる。前記水系溶剤としては、純水(蒸留水、脱イオン水を含む)のみならず、酸、アルカリ、塩等を含む水溶液、含水の有機溶剤、又は、親水性の有機溶剤である。水系溶剤としては、純水(蒸留水、脱イオン水を含む)、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、水とアルコールとの混合溶剤等が挙げられる。   The conductive polymer according to the present invention can be dispersed in a self-dispersing polymer having a dissociable group and an aqueous solvent. The aqueous solvent is not only pure water (including distilled water and deionized water), but also an aqueous solution containing acid, alkali, salt, etc., a water-containing organic solvent, or a hydrophilic organic solvent. Examples of the aqueous solvent include pure water (including distilled water and deionized water), alcohol solvents such as methanol and ethanol, and mixed solvents of water and alcohol.

上記分散液の25℃におけるpHは、所望の導電性が得られれば特に問題ないが、0.1〜7.0が好ましく、より好ましくは0.3〜5.0である。   The pH of the dispersion at 25 ° C. is not particularly problematic as long as desired conductivity is obtained, but is preferably 0.1 to 7.0, and more preferably 0.3 to 5.0.

分散液は表面張力をコントロールするために、分散液に有機溶剤を添加してもよい。有機溶剤は、所望の表面張力が得られれば特に限定されないが、一価、二価又は多価のアルコール系溶剤が好ましい。有機溶剤の沸点は、好ましくは200℃以下であり、より好ましくは150℃以下である。   In order to control the surface tension of the dispersion, an organic solvent may be added to the dispersion. The organic solvent is not particularly limited as long as a desired surface tension can be obtained, but a monovalent, divalent or polyvalent alcohol solvent is preferable. The boiling point of the organic solvent is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.

分散液に含有される導電性ポリマー及び解離性基を有する自己分散型ポリマーの平均粒径は、好ましくは5〜100nmであり、より好ましくは7〜80nmであり、さらに好ましくは10〜50nmである。また、平均粒径をコントロールしても、使用している解離性基を有する自己分散型ポリマーの造膜温度が高すぎると乾燥温度内では造膜せずに粒子形状が残り膜表面の平均粗さを劣化させることがあるため、造膜温度もコントロールすることが望ましい。   The average particle diameter of the conductive polymer and the self-dispersing polymer having a dissociative group contained in the dispersion is preferably 5 to 100 nm, more preferably 7 to 80 nm, and still more preferably 10 to 50 nm. . Even if the average particle size is controlled, if the film-forming temperature of the self-dispersing polymer having a dissociable group used is too high, the film shape does not form within the drying temperature, and the particle shape remains and the average roughness of the film surface remains. Therefore, it is desirable to control the film forming temperature.

前記分散液の平均粒径を所望の範囲とする手法としては、ホモジナイザー、超音波分散機(US分散機)、ボールミル等を用いた分散技術、逆浸透膜、限外ろ過膜、精密ろ過膜を用いた粒子の分級等を用いることができる。ホモジナイザー、超音波分散機(US分散機)、ボールミル等を用いた分散技術は、いずれも高温になると粒子の増大が起こりやすくなるため、分散操作中の温度は、好ましくは3〜50℃であり、より好ましくは5〜30℃である。分級は、必要に応じて使用する膜を選択すれば特に限定されない。   Examples of a method for setting the average particle size of the dispersion to a desired range include a homogenizer, an ultrasonic disperser (US disperser), a dispersion technique using a ball mill, a reverse osmosis membrane, an ultrafiltration membrane, and a microfiltration membrane. The classification of the used particles can be used. Dispersion techniques using a homogenizer, an ultrasonic disperser (US disperser), a ball mill, etc. are all likely to increase in particle size at high temperatures. Therefore, the temperature during the dispersion operation is preferably 3 to 50 ° C. More preferably, it is 5-30 degreeC. Classification is not particularly limited as long as a membrane to be used is selected as necessary.

分散液中の解離性基を有する自己分散型ポリマー粒子と導電性ポリマー粒子とは、各々の粒子が独立に分散されて状態になっていて粒径が各々の粒径の和になっていてもよく、組成の異なる粒子同士が凝集していてもよい。また、分散操作中に組成の異なる粒子同士が一部混合した状態になっていてもよく、完全に混合して粒子を形成していてもよい。   Self-dispersing polymer particles having a dissociable group and conductive polymer particles in the dispersion are in a state where each particle is dispersed independently and the particle size is the sum of the particle sizes. In addition, particles having different compositions may be aggregated. Further, particles having different compositions may be partially mixed during the dispersion operation, or may be completely mixed to form particles.

解離性基を有する自己分散型ポリマーの使用量(固形分)は、導電性ポリマーの固形分に対して好ましくは50〜1000質量%であり、より好ましくは100〜900質量%であり、さらに好ましくは200〜800質量%である。   The use amount (solid content) of the self-dispersing polymer having a dissociable group is preferably 50 to 1000% by mass, more preferably 100 to 900% by mass, and still more preferably based on the solid content of the conductive polymer. Is 200-800 mass%.

分散液の粒径測定法は、特に限定されないが、好ましくは動的光散乱法、レーザ回折法又は画像イメージング法であり、より好ましくは動的光散乱法である。解離性基を有する自己分散型ポリマー粒子及び導電性ポリマー粒子は、いずれも界面活性剤が使用されておらず、希釈により粒径が不安定になるため、溶剤希釈せずにそのままの状態で測定できる濃厚系粒径測定機が好ましく、かかる濃厚系粒径測定機としては、濃厚系粒径アナライザー(大塚電子社製)、ゼータサイザーナノシリーズ(Malvern社製)等が挙げられる。   The particle size measurement method of the dispersion is not particularly limited, but is preferably a dynamic light scattering method, a laser diffraction method or an image imaging method, more preferably a dynamic light scattering method. The self-dispersing polymer particles and conductive polymer particles having dissociative groups are not measured with surfactants, and the particle size becomes unstable by dilution. A dense particle size measuring machine that can be used is preferable, and examples of such a concentrated particle size measuring device include a concentrated particle size analyzer (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.), the Zetasizer Nano Series (manufactured by Malvern), and the like.

〔水系溶剤に均一分散可能な他のバインダー〕
また、本発明では水系溶剤に均一分散可能な他のバインダーを用いることもでき、該バインダーとしては透明ならば何を用いてもかまわない。
[Other binders that can be uniformly dispersed in aqueous solvents]
In the present invention, other binders that can be uniformly dispersed in an aqueous solvent may be used, and any binder may be used as long as it is transparent.

水系溶剤に均一分散可能なバインダーとしては、フィルムを形成する媒体であれば、特に限定はない。水系溶剤に均一分散可能なバインダーとしては、例えば:アクリル系樹脂エマルジョン、水性ウレタン樹脂等が挙げられる。アクリル系樹脂エマルジョンは、酢酸ビニル、アクリル酸、アクリル酸−スチレンの重合体、あるいはその他のモノマーとの共重合体からなる。また、酸部分がリチウム、ナトリウム、カリウム、アンモニウム塩とつい塩を形成したアニオン性、窒素原子を有するモノマーとの共重合体からなり、窒素原子が塩酸塩等を形成したカチオン性があるが、好ましくはアニオン性である。   The binder that can be uniformly dispersed in the aqueous solvent is not particularly limited as long as it is a medium for forming a film. Examples of the binder that can be uniformly dispersed in the aqueous solvent include: acrylic resin emulsion, aqueous urethane resin, and the like. The acrylic resin emulsion is made of vinyl acetate, acrylic acid, a polymer of acrylic acid-styrene, or a copolymer with other monomers. In addition, the acid part is composed of a copolymer of an anionic lithium salt, sodium salt, potassium salt, ammonium salt, and a monomer having a nitrogen atom, and a cationic nitrogen atom forming a hydrochloride salt, Preferably it is anionic.

水性ウレタン樹脂としては、水分散型ウレタン樹脂、アイオノマー型水性ウレタン樹脂(アニオン性)等がある。水分散型ウレタン樹脂には、ポリエーテル系ウレタン樹脂、ポリエステル系ウレタン樹脂があり、好ましくはポリエステル系ウレタン樹脂である。   Examples of aqueous urethane resins include water-dispersed urethane resins and ionomer-type aqueous urethane resins (anionic). The water-dispersed urethane resin includes a polyether-based urethane resin and a polyester-based urethane resin, preferably a polyester-based urethane resin.

アイオノマー型水性ウレタン樹脂には、ポリエステル系ウレタン樹脂、ポリエーテル系ウレタ樹脂、ポリカーボネート系ウレタン樹脂等があり、好ましくはポリエステル系ウレタン樹脂、ポリエーテル系ウレタ樹脂である。   Examples of the ionomer-type water-based urethane resin include a polyester-based urethane resin, a polyether-based urethane resin, a polycarbonate-based urethane resin, and the like, preferably a polyester-based urethane resin and a polyether-based urethane resin.

市販品として、ボンコートAN−155−E、ボンコートAC−501、ボンコートAN−200、ボンコートR−3380−E(アクリル系樹脂エマルジョン(アニオン性))、ボンディック1940NE(水分散型ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ウレタン樹脂)、ボンディック2210、ボンディック2220(水分散型ポリウレタン樹脂、ポリエステル系ウレタン樹脂)、ハイドラン140SF、ハイドランAP−40(F)、ハイドランAP−40N(アイオノマー型水性ウレタン樹脂、ポリエステル系ウレタン樹脂)、ハイドランHW−312B、ハイドランWLS−201(アイオノマー型水性ウレタン樹脂、ポリエーテル系ウレタン樹脂)(全てDIC社製)を用いることができる。上記水系溶剤に均一分散可能なバインダーは1種でも複数種でも使用することができる。   As commercial products, Boncoat AN-155-E, Boncoat AC-501, Boncoat AN-200, Boncoat R-3380-E (acrylic resin emulsion (anionic)), Bondick 1940NE (water-dispersed polyurethane resin, polyether) -Based urethane resin), Bondick 2210, Bondick 2220 (water-dispersed polyurethane resin, polyester-based urethane resin), Hydran 140SF, Hydran AP-40 (F), Hydran AP-40N (Ionomeric aqueous urethane resin, polyester-based urethane) Resin), Hydran HW-312B, Hydran WLS-201 (ionomer type water-based urethane resin, polyether urethane resin) (all manufactured by DIC Corporation) can be used. One or more binders that can be uniformly dispersed in the aqueous solvent can be used.

水系溶剤に均一分散可能なバインダーの使用量としては、導電性ポリマーに対して1〜200質量%が好ましく、より好ましくは5〜100質量である。   The amount of the binder that can be uniformly dispersed in the aqueous solvent is preferably 1 to 200% by mass, more preferably 5 to 100% by mass with respect to the conductive polymer.

〔導電性ポリマー層の形成〕
透明なフィルム基材上に、本発明に係る導電性ポリマーを含有する層(簡単に導電性ポリマー層ともいう。)を形成する方法としては、高生産性と生産コスト低減の両立、及び環境負荷軽減の観点から、塗布法や印刷法等の液相成膜法を用いることが好ましい。塗布法としては、公知のロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等を用いることができる。印刷法としては、凸版(活版)印刷法、孔版(スクリーン)印刷法、平版(オフセット)印刷法、凹版(グラビア)印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法等を用いることができる。
[Formation of conductive polymer layer]
As a method for forming a layer containing a conductive polymer according to the present invention (also simply referred to as a conductive polymer layer) on a transparent film substrate, both high productivity and reduction in production cost and environmental burden From the viewpoint of reduction, it is preferable to use a liquid phase film forming method such as a coating method or a printing method. As coating methods, known roll coating methods, bar coating methods, dip coating methods, spin coating methods, casting methods, die coating methods, blade coating methods, bar coating methods, gravure coating methods, curtain coating methods, spray coating methods, doctors A coating method or the like can be used. As a printing method, a letterpress (letter) printing method, a stencil (screen) printing method, a lithographic (offset) printing method, an intaglio (gravure) printing method, a spray printing method, an ink jet printing method, or the like can be used.

液相成膜法で導電性ポリマー層を形成した後、適宜乾燥処理を施すことができる。乾燥処理の条件として特に制限はないが、フィルム基材や導電性ポリマー層が損傷しない範囲の温度で処理することが好ましい。また、本発明に係る金属微粒子を含む導電性ポリマー層を形成した後、いずれかのタイミングで必要に応じて加圧又は加圧加熱処理処理を施すこともできる。これにより、より高い導電性を得たり、表面の平滑化が可能となる。加圧に際しては、プレート上でプレートで加圧する面/面加圧、ロールとロールの間にフィルム基材を通過させながら加圧させるニップロール加圧、プレート上をロールで加圧する組み合わせた加圧を採用することができる。また、加圧に際して加熱すると効果的になるので、40〜300℃の範囲で加熱することが好ましい。加熱の時間は温度との関係で調節されて、高い温度では短く、低温では長くというようにすることができる。加熱の方法は、ニップロールの場合には、ロールをあらかじめ所定の温度に加熱しておく方法やオートクレーブ室のような加熱室内で加熱する方法がある。   After forming a conductive polymer layer by a liquid phase film-forming method, a drying process can be suitably performed. Although there is no restriction | limiting in particular as conditions for a drying process, It is preferable to process at the temperature of the range which does not damage a film base material or a conductive polymer layer. Moreover, after forming the conductive polymer layer containing the metal fine particles according to the present invention, it is possible to perform pressurization or pressurization heat treatment as needed at any timing. Thereby, higher conductivity can be obtained and the surface can be smoothed. In pressurization, surface-to-surface pressurization with the plate on the plate, nip roll pressurization with the film substrate passing between the rolls, and combined pressurization with the roll on the plate Can be adopted. Moreover, since it becomes effective when it heats at the time of pressurization, it is preferable to heat in the range of 40-300 degreeC. The heating time is adjusted in relation to the temperature and can be short at high temperatures and long at low temperatures. In the case of a nip roll, the heating method includes a method of heating the roll to a predetermined temperature in advance and a method of heating in a heating chamber such as an autoclave chamber.

導電性ポリマー層の乾燥膜厚は、導電性ポリマー層の透過率と金属細線の開口部の大きさから要求されるシート抵抗率を考慮して適宜選択できるが、30〜2000nmであることが好ましい。導電性の点から、200nm以上であることがより好ましく、透明性の点から、1000nm以下であることがより好ましい。   The dry film thickness of the conductive polymer layer can be appropriately selected in consideration of the sheet resistivity required from the transmittance of the conductive polymer layer and the size of the opening of the thin metal wire, but is preferably 30 to 2000 nm. . From the viewpoint of conductivity, the thickness is more preferably 200 nm or more, and from the viewpoint of transparency, it is more preferably 1000 nm or less.

乾燥処理の条件として特に制限はないが、基材や電極が損傷しない範囲の温度で乾燥処理することが好ましい。また、熱処理を行うことで、塗布液中の溶媒を蒸発させ、導電性ポリマー層の水溶性バインダー間又は導電性ポリマーと水溶性バインダーとの間の縮合反応を促進、完了させることができる。これにより電極の洗浄耐性、溶媒耐性が著しく向上し、さらに素子性能が向上する。   Although there is no restriction | limiting in particular as conditions of a drying process, It is preferable to dry-process at the temperature of the range which does not damage a base material and an electrode. Further, by performing the heat treatment, the solvent in the coating liquid can be evaporated, and the condensation reaction between the water-soluble binder of the conductive polymer layer or between the conductive polymer and the water-soluble binder can be promoted and completed. Thereby, the cleaning resistance and solvent resistance of the electrode are remarkably improved, and the device performance is further improved.

上記乾燥の工程と、熱処理の工程は、同一工程であってもよく、別途行う工程であっても構わない。別途行う工程である場合には、乾燥と熱処理が連続した処理であってもよく、両処理間に時間的な休止があっても構わない。   The drying step and the heat treatment step may be the same step or may be performed separately. In the case of separate processes, drying and heat treatment may be continuous, and there may be a time pause between the two processes.

乾燥工程、熱処理工程の条件に制限は無いが、乾燥は溶媒の蒸発が迅速に行える条件として、例えば、80℃以上の温度をかけることができ、上限は導電層が損傷を与えない温度として300℃程度までは可能な領域と考えられる。時間は10秒から10分程度の範囲が好ましい。   There is no limitation on the conditions of the drying step and the heat treatment step, but the drying can be performed at a temperature of 80 ° C. or higher, for example, as a condition that allows the solvent to be evaporated quickly, and the upper limit is a temperature at which the conductive layer is not damaged. It is considered to be a possible region up to about ℃. The time is preferably in the range of about 10 seconds to 10 minutes.

さらに、熱処理は、100℃以上300℃以下の温度で行うことが好ましい。100℃未満では、塗布液中の溶媒の蒸発が完了しないため反応促進効果が小さく、300℃を超える場合、熱により導電性ポリマーの一部が分解し、導電性ポリマー層の抵抗が高くなる。熱処理時間は、1分以上行うことが好ましい。処理時間の上限は特にないが、生産性の観点から24時間以下であることが好ましい。ただし熱処理温度が200℃を超える範囲では、30分以内に抑えることが好ましい。   Further, the heat treatment is preferably performed at a temperature of 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower. When the temperature is lower than 100 ° C., the evaporation of the solvent in the coating solution is not completed, and thus the reaction promoting effect is small. When the temperature exceeds 300 ° C., a part of the conductive polymer is decomposed by heat, and the resistance of the conductive polymer layer is increased. The heat treatment time is preferably 1 minute or longer. The upper limit of the treatment time is not particularly limited, but is preferably 24 hours or less from the viewpoint of productivity. However, when the heat treatment temperature exceeds 200 ° C., it is preferable to keep it within 30 minutes.

熱処理は、導電層を塗布、乾燥した後、オンラインで行ってもよく、オフラインで行ってもよい。オフラインで行う場合、さらに減圧下で行うことが、水分の乾燥促進にもつながり、好ましい。   The heat treatment may be performed on-line or off-line after applying and drying the conductive layer. In the case of off-line, it is preferable to further perform under reduced pressure because it leads to accelerated drying of moisture.

熱処理方法としては、例えば、ヒータやIRヒータを用いた加熱、減圧乾燥、誘導加熱、マイクロ波加熱、レーザ加熱、プラズマ加熱等が挙げられるが、温度や湿度制御の簡便さの観点から、ヒータを用いた加熱が好ましい。   Examples of the heat treatment method include heating using a heater or IR heater, vacuum drying, induction heating, microwave heating, laser heating, plasma heating, etc. From the viewpoint of simplicity of temperature and humidity control, the heater is used. The heating used is preferred.

本発明において、酸触媒を用いて導電性ポリマー層の水溶性バインダー間又は導電性ポリマーと水溶性バインダーとの間の縮合反応を促進、完了させることができる。酸触媒としては、塩酸、硫酸や硫酸アンモニウムを用いることができる。また導電性ポリマーにドーパントとして用いるポリ陰イオンにおいて、スルホ基含有ポリ陰イオンを使用することで、ドーパントと触媒を兼用することができる。また、酸触媒の使用と合わせて、前述の熱処理を行うことができ、処理時間の短縮にもつながり、好ましい。   In the present invention, the condensation reaction between the water-soluble binder of the conductive polymer layer or between the conductive polymer and the water-soluble binder can be promoted and completed using an acid catalyst. As the acid catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid or ammonium sulfate can be used. Moreover, in the poly anion used as a dopant for a conductive polymer, a dopant and a catalyst can be used together by using a sulfo group-containing poly anion. In addition, the heat treatment described above can be performed in combination with the use of an acid catalyst, which is preferable because it shortens the treatment time.

<調光層>
次に本発明に係る調光層について説明する。
<Light control layer>
Next, the light control layer according to the present invention will be described.

従来公知の調光層としては、例えば、CMC出版発行の「反射型カラー液晶ディスプレイ技術」P61記載のノーマルモード、リバースモード、メモリーモードの核高分子−液晶のシステムを挙げることができ、具体的には高分子分散型液晶(PDLC:Polymer Dispersed LC)、又は高分子ネットワーク型液晶(PNLC:Polymer Network LC)等が該当し、いずれも好適に使用できる。   Examples of conventionally known light control layers include normal mode, reverse mode, and memory mode nuclear polymer-liquid crystal systems described in “Reflective Color Liquid Crystal Display Technology” P61 published by CMC Publishing. Is a polymer-dispersed liquid crystal (PDLC: Polymer Dispersed LC), a polymer network-type liquid crystal (PNLC: Polymer Network LC), or the like, and any of them can be suitably used.

また液晶を用いない高分子分散型、ネットワーク型の調光材料として、ロバート・エル・サックス(Robert.L.Saxe)の米国特許第3,756,700号、4,247,175号、4,273,422号、4,407,565号及び4,422,963号明細書、又はエフ・シー・ローウェル(F.C.Lowell)の米国特許第3,912,365号明細書、アール・アイ・トンプソン(R.I.Thompson)の米国特許第4,078,856号で開示された光偏光粒子を用いた調光材料を挙げることができ、これらを粒子をポリマー分散型にした技術としては、特開2008−158042号公報、特開2002−214653号公報に開示されており、これらも好適に使用できる。   Further, as a polymer dispersion type and network type dimming material that does not use liquid crystal, US Pat. Nos. 3,756,700, 4,247,175, and 4,247,175 by Robert L. Saxe, 273,422, 4,407,565 and 4,422,963, or US Pat. No. 3,912,365 to FC Lowell, Earl Eye A light control material using light polarizing particles disclosed in US Pat. No. 4,078,856 of Thompson (RI Thompson) can be mentioned, and as a technique for making these particles into a polymer dispersion type, JP-A-2008-158042 and JP-A-2002-214653, which can also be suitably used.

また更に、エレクトロクロミズム技術による調光層も特開2009−265437号公報、特開2011−39283号公報等に開示されており、これら公知の調光層を本発明に係る電極材で好適に使用できる。   Furthermore, light control layers using electrochromism technology are also disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2009-265437 and 2011-39283, and these known light control layers are preferably used in the electrode material according to the present invention. it can.

例えば液晶を利用した調光フィルムは、「Polymer encapsulated Nematic Liquid Crystals for Display and Light Control Applications」、「SID ’85 Digest」1985年、J.L.Fergason著、Society for Information Display発行、68−70頁にて、ネマチック液晶をマイクロカプセル化した光散乱型LCD(PDLC)の発表や米国特許第4,435,047号、4,579,423号、4,616,903号明細書、ジェイ・エル・ウェスト(J.L. West)の米国特許第4,685,771号等に記載がある。   For example, a light control film using a liquid crystal is disclosed in “Polymer encapsulated Nematic Liquid Crystals for Display and Light Control Applications”, “SID '85 Digest”, 1985, J. Org. L. Fergason, Society for Information Display, pages 68-70, announcing a light-scattering LCD (PDLC) in which nematic liquid crystals are microencapsulated, US Pat. Nos. 4,435,047, 4,579,423, No. 4,616,903, J.L. West, US Pat. No. 4,685,771, and the like.

更にDIC Corp.や九州大の梶山千里教授らが検討したピリジン系液晶がポリマーネットワーク内に保持された高分子ネットワーク(PNLC)型液晶などが発表されておりこれらを応用した公知の技術が、本発明では特に制限なく使用可能である。   Furthermore, DIC Corp. And polymer network (PNLC) type liquid crystals in which pyridine-based liquid crystals are held in a polymer network, studied by Prof. Chisato Kajiyama of Kyushu University, etc. have been announced. It is usable without.

具体的には、
1)液晶材料(ネマチック液晶等)とエポキシ等の硬化性樹脂を用いた重合相分離法による高分子分散型液晶
2)液晶材料(ネマチック液晶等)とPVAや樹脂エマルジョンを用いたエマルジョン法による液晶カプセル分散型
3)液晶材料(ネマチック液晶等)と(ジ)アクリレートを用いた光重合相分離法による高分子ネットワーク技術
4)液晶材料(ネマチック液晶等)と(ジ)アクリレートを用いた光重合相分離法による反射型の配光グレイン状フィブリル技術(IRIS型)
5)液晶材料(コレスティック液晶等)と(ジ)アクリレートを用いた光重合相分離法によるメモリー型高分子ネットワーク型液晶技術等を挙げることができる。
In particular,
1) Polymer dispersed liquid crystal by polymer phase separation method using curable resin such as liquid crystal material (nematic liquid crystal etc.) and epoxy 2) Liquid crystal by emulsion method using liquid crystal material (nematic liquid crystal etc.) and PVA or resin emulsion Capsule dispersion type 3) Polymer network technology by photopolymerization phase separation method using liquid crystal material (nematic liquid crystal etc.) and (di) acrylate 4) Photopolymerization phase using liquid crystal material (nematic liquid crystal etc.) and (di) acrylate Reflective light distribution grain fibril technology by separation method (IRIS type)
5) Memory type polymer network type liquid crystal technology by a photopolymerization phase separation method using a liquid crystal material (cholesteric liquid crystal or the like) and (di) acrylate.

用いられる液晶としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好ましく、特にネマチック液晶が好ましい。また、その性能を改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液晶等、カイラル化合物等が適宜含まれていても良い。   The liquid crystal used is preferably a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, or a cholesteric liquid crystal, and particularly preferably a nematic liquid crystal. Further, in order to improve the performance, a cholesteric liquid crystal, a chiral nematic liquid crystal, a chiral smectic liquid crystal or the like, or a chiral compound or the like may be included as appropriate.

これらの技術では、ネマチック型液晶が重要であり、古くからシアノビフェニル系液晶材料が開発され、応答速度を大幅に改善したシアノフェニルシクロヘキサン系液晶が開発された。更に液晶の実用化に伴い多様な温度域において液晶性を示す材料が要望され、アルキルビフェニルシクロヘキサン系液晶、P−型エステル型液晶、ピリミジン系液晶、フェニルビシクロヘキサン系液晶等が開発されている。   In these technologies, nematic liquid crystals are important, and cyanobiphenyl liquid crystal materials have been developed for a long time, and cyanophenylcyclohexane liquid crystals with significantly improved response speed have been developed. Furthermore, with the practical use of liquid crystals, materials exhibiting liquid crystallinity in various temperature ranges are demanded, and alkylbiphenylcyclohexane liquid crystals, P-type ester liquid crystals, pyrimidine liquid crystals, phenylbicyclohexane liquid crystals and the like have been developed.

更には、3−クロロ−4−シアノフェノールエステル、3−フロロ−4−シアノフェノールエステル誘導体、トラン系液晶、アルケニル系液晶、シクロヘキセン系液晶、アジン系液晶等が挙げられいずれも好適に使用可能である。   Furthermore, 3-chloro-4-cyanophenol ester, 3-fluoro-4-cyanophenol ester derivative, tolan-based liquid crystal, alkenyl-based liquid crystal, cyclohexene-based liquid crystal, azine-based liquid crystal, and the like can be used. is there.

また上述のように液晶デバイスの使用環境温度域の拡大のため、液層温度の異なる複数の液晶を併用することは好ましい態様であり、通常でも3種以上、好ましくは5種以上混合して使用することが好ましい。   In addition, as described above, in order to expand the use environment temperature range of the liquid crystal device, it is a preferable aspect to use a plurality of liquid crystals having different liquid layer temperatures, and usually 3 or more types, preferably 5 or more types are mixed and used. It is preferable to do.

本発明で使用できる液晶材料の具体例としては、例えば以下に示した化合物群のものを挙げられ、求める物性、用途により、液晶材料の特性、即ち、等方性液体と液晶の相転移温度、融点、粘度、複屈折率、誘電異方性(Δε)の正負を考慮し、又はその他添加剤である例えば重合性組成物等との溶解性等を調節することを目的として適宜選択、配合して用いることができる。   Specific examples of the liquid crystal material that can be used in the present invention include, for example, those of the compound group shown below. Depending on the required physical properties and applications, the characteristics of the liquid crystal material, that is, the phase transition temperature between the isotropic liquid and the liquid crystal, Considering the positive and negative of melting point, viscosity, birefringence index, dielectric anisotropy (Δε), or selecting and blending appropriately for the purpose of adjusting the solubility with other additives such as polymerizable compositions Can be used.

液晶材料としては、安息香酸エステル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ピリジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル系、フルオロ系、シアノ系、ナフタレン系等の、例えば、一般式(II)で表される化合物、

Figure 2013148687
(式中、環A、B及びCは、それぞれ独立に、下記の環のいずれかを表し、
Figure 2013148687
nは0〜2の整数、mは1〜4の整数を表し、Y及びYは、それぞれ独立に、単結合、−CHCH−、−CHO−、−COO−、−OCO−、−C≡C−、−CH=CH−、−CF=CF−、−(CH−、−CHCHCHO−、又は−CH=CHCHCHを表し、Yは、単結合、−COO−、又は−OCO−を表し、R及びRはそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、フルオロアルキル基、又はフルオロアルコキシ基を表す。)で表される液晶化合物を用いることができる。 Liquid crystal materials include benzoic acid ester, cyclohexanecarboxylic acid ester, biphenyl, terphenyl, phenylcyclohexane, pyrimidine, pyridine, dioxane, cyclohexanecyclohexane ester, tolan, alkenyl, and fluoro. A compound represented by the general formula (II) such as cyano group and naphthalene group,
Figure 2013148687
(Wherein, rings A, B and C each independently represent any of the following rings:
Figure 2013148687
n represents an integer of 0 to 2, m represents an integer of 1 to 4, and Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 O—, —COO—, — OCO -, - C≡C -, - CH = CH -, - CF = CF -, - (CH 2) 4 -, - CH 2 CH 2 CH 2 O-, or an -CH 2 = CHCH 2 CH 2 Y 3 represents a single bond, —COO—, or —OCO—, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, An alkenyl group, an alkenyloxy group, a fluoroalkyl group, or a fluoroalkoxy group is represented. ) Can be used.

調光層形成材料中の液晶材料の含有量は、50〜99質量%の範囲が好ましく、より好ましくは60〜90質量%の範囲である。   The content of the liquid crystal material in the light control layer forming material is preferably in the range of 50 to 99% by mass, more preferably in the range of 60 to 90% by mass.

更に最近では、調光層の曲げ耐性、耐候性向上を目的とした液晶の改善がなされており、本発明に係る電極材料の組合せで使用する上で非常に好ましい。本発明に係る電極材料は、非常に強い曲げ耐性、耐候性を有しており、酸化やUV照射での劣化はほとんど生じない。このためこれらの組合せで得られる調光フィルムは、フィルムとしての施工性、紫外線が差し込む窓等での貼付用途において従来の調光フィルムを圧倒する使い勝手と耐久性を提供できるものである。   More recently, liquid crystal has been improved for the purpose of improving the bending resistance and weather resistance of the light control layer, which is very preferable when used in combination with the electrode material according to the present invention. The electrode material according to the present invention has very strong bending resistance and weather resistance, and hardly undergoes deterioration due to oxidation or UV irradiation. For this reason, the light control film obtained by these combinations can provide the ease of use and durability overwhelming the conventional light control film in the application nature as a film, and the sticking use in the window etc. which an ultraviolet-ray inserts.

これらを実現する液晶素材としては、例えば特開2011−105908号公報を挙げることができ、これらの液晶材料とポリマーネットワークとしてのアクリル光重合素材の組合せにより調光層の曲げ耐性を向上させることが可能となり好ましい態様である。   As a liquid crystal material that realizes these, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-105908 can be cited, and the bending resistance of the light control layer can be improved by a combination of these liquid crystal material and an acrylic photopolymerization material as a polymer network. This is a preferable mode.

例えば、下記一般式(III)で表される化合物が好ましい。   For example, a compound represented by the following general formula (III) is preferable.

Figure 2013148687
(式中、R、及びRは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、又は炭素原子数2〜10のアルケニル基を表し、該アルキル基、及びアルケニル基中の非隣接の1つ又は2つ以上の−CH−基は酸素原子、−COO−、又は−OCO−で置き換えられていてもよく、環Aは、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基、又はピリミジン−2,5−ジイル基を表し、該1,4−フェニレン基は非置換であるか又は置換基として1個又は2個以上のフッ素原子、塩素原子、CF基、OCF基又はCH基を有することができ、Z、及びZは、それぞれ独立して、単結合、−COO−、−OCO−、−CH−CH−、−CF−CF−、−CH=CH−、−CF=CF−、−CHO−、−OCH−、−CFO−、−OCF−、又は−C≡C−を表し、X〜Xは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、CF基、OCF基、又はCH基を表す。)で表される液晶化合物である。
Figure 2013148687
(In the formula, each of R 1 and R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. One or more adjacent —CH 2 — groups may be replaced by an oxygen atom, —COO—, or —OCO—, and ring A 1 is a 1,4-phenylene group, 1,4- Represents a cyclohexylene group, a 1,3-dioxane-2,5-diyl group, or a pyrimidine-2,5-diyl group, and the 1,4-phenylene group is unsubstituted or has one or two substituents; It may have one or more fluorine atoms, chlorine atoms, CF 3 groups, OCF 3 groups or CH 3 groups, and Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, —COO—, —OCO—, -CH 2 -CH 2 -, - CF 2 -CF 2 -, - H = CH -, - CF = CF -, - CH 2 O -, - OCH 2 -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, or -C≡C- represents, X 1 to X 8 are each Independently, it represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a CF 3 group, an OCF 3 group, or a CH 3 group.

また一般的な調光フィルムは、白濁性の高い方が好まれる傾向にある。高い白濁性を得るには、液晶組成物のΔn(屈折率異方性)は大きい方が良く、ポリマーのネットワーク構造、又は液晶ドロップレットの粒径サイズには最適な大きさが存在する。一方十分に高い電圧をかけた場合、液晶組成物は電界方向に配向し、液晶組成物自身の散乱性はなくなる。ここでポリマーの屈折率と液晶組成物のno(常光屈折率)との差が十分小さければ、光散乱は起きず、透明状態となる。そのため、高い透明性を得るにはポリマーの屈折率と液晶組成物の屈折率とを合わせる必要がある。これらの点においても従来公知の知見を好適に使用できるものである。   Further, a general light control film tends to be preferred to have higher cloudiness. In order to obtain high turbidity, the Δn (refractive index anisotropy) of the liquid crystal composition should be large, and there is an optimum size for the polymer network structure or the particle size of the liquid crystal droplets. On the other hand, when a sufficiently high voltage is applied, the liquid crystal composition is aligned in the direction of the electric field, and the scattering property of the liquid crystal composition itself is lost. Here, if the difference between the refractive index of the polymer and the no (ordinary refractive index) of the liquid crystal composition is sufficiently small, light scattering does not occur and a transparent state is obtained. Therefore, in order to obtain high transparency, it is necessary to match the refractive index of the polymer with the refractive index of the liquid crystal composition. Also in these points, conventionally known knowledge can be preferably used.

上記のような液晶と樹脂複合体を構成する樹脂マトリクスとしては、上述したように光重合系、エマルジョン型等複数あるが、ここでは市場で実用されているエマルジョン型について説明する。   As described above, there are a plurality of resin matrices such as a photopolymerization system and an emulsion type as the resin matrix constituting the liquid crystal and resin composite as described above. Here, the emulsion type which is practically used in the market will be described.

樹脂としてはポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリウレタン等が検討されてきた。これらの樹脂の中では、ポリウレタンが、加工性、耐熱性等の観点から優れている。樹脂マトリクスに液晶微小粒子を分散させるためには、相分離法又はエマルジョン法を用いることができるが、前述のように実用化されているのはエマルジョン法である。エマルジョン法では、液晶材料を含むエマルジョンを高速で攪拌することにより、液晶微小粒子が分散した状態、すなわち液晶が「疑似カプセル化」した状態、が実現される。   As resins, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol, polyurethane and the like have been studied. Among these resins, polyurethane is excellent from the viewpoints of processability and heat resistance. In order to disperse the liquid crystal microparticles in the resin matrix, a phase separation method or an emulsion method can be used. As described above, the emulsion method has been put into practical use. In the emulsion method, a state in which liquid crystal microparticles are dispersed, that is, a state in which liquid crystal is “pseudo-encapsulated” is realized by stirring an emulsion containing a liquid crystal material at a high speed.

高分子エマルジョンに、液晶材料及びその他必要な材料を添加し液晶−樹脂複合材料(液晶エマルジョン)を調製する。   A liquid crystal material and other necessary materials are added to the polymer emulsion to prepare a liquid crystal-resin composite material (liquid crystal emulsion).

液晶微小粒子を形成するためには、あらかじめ液晶材料を水中で攪拌して液晶微小粒子を形成し、これと高分子エマルジョンとを混合する。一方液晶材料を高分子エマルジョンに直接投入し、攪拌して液晶微小粒子を形成してもかまわない。液晶微小粒子の形状及び粒子径の均一化のため、乳化剤として界面活性剤を添加してもよい。この界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤が好ましく、HLB8〜18、特にHLB10〜16の非イオン性界面活性剤がより好ましい。HLB値(Hydrophile−Lipophile Balance)とは界面活性剤の水と油(水に不溶性の有機化合物)への親和性の程度を表す値である。親油性の高い物ほどHLB値が小さく、親水性の高い物ほどHLB値が大きい。   In order to form liquid crystal microparticles, a liquid crystal material is previously stirred in water to form liquid crystal microparticles, and this is mixed with a polymer emulsion. On the other hand, the liquid crystal material may be directly added to the polymer emulsion and stirred to form liquid crystal microparticles. A surfactant may be added as an emulsifier in order to make the shape and particle size of the liquid crystal microparticles uniform. As this surfactant, a nonionic surfactant is preferable, and a nonionic surfactant of HLB 8-18, particularly HLB 10-16 is more preferable. The HLB value (Hydrophile-Lipophile Balance) is a value representing the degree of affinity of a surfactant to water and oil (an organic compound insoluble in water). A product with higher lipophilicity has a lower HLB value, and a product with higher hydrophilicity has a higher HLB value.

上記における混合や攪拌は、ホモジナイザー、ホモミキサー、ディスパーサー、高圧乳化機、ブレンダー、コロイドミル、超音波乳化機等を用いて行えばよい。   The mixing and stirring in the above may be performed using a homogenizer, homomixer, disperser, high-pressure emulsifier, blender, colloid mill, ultrasonic emulsifier or the like.

こうして、液晶微小粒子が分散したエマルジョン(液晶エマルジョン)が調製される。   Thus, an emulsion (liquid crystal emulsion) in which liquid crystal microparticles are dispersed is prepared.

液晶微小粒子のメジアン径D50は、1.5〜4.5μmの範囲とすることが好ましい。メジアン径D50が4.5μmを超えると液晶微小粒子の単位質量当り表面積が低下して電圧開放時の遮蔽性が低下する。他方、メジアン径D50が1.5μm未満であると液晶微小粒子の単位質量当り表面積は大きくなるが、これによる光の散乱の増加よりも可視域長波長側における透過及び回折による効果が上回る。このため、結果として、やはり電圧開放時の遮蔽性が低下する。   The median diameter D50 of the liquid crystal microparticles is preferably in the range of 1.5 to 4.5 μm. When the median diameter D50 exceeds 4.5 μm, the surface area per unit mass of the liquid crystal microparticles is reduced, and the shielding property when the voltage is released is lowered. On the other hand, when the median diameter D50 is less than 1.5 μm, the surface area per unit mass of the liquid crystal microparticles increases, but the effect of transmission and diffraction on the visible wavelength side longer wavelength side exceeds the increase in light scattering due to this. For this reason, as a result, the shielding performance when the voltage is released is also lowered.

所望の光学性能を得るためには液晶微小粒子(液晶カプセル)のメジアン系だけでなく、粒子径分布も適切な範囲に調整することが望ましい。粒子径が大きな粒子の割合が増加すると可視域での散乱がほとんどなくなり、電圧開放状態における遮蔽性が低下する。したがって、液晶カプセル径の加積曲線における加積透過率が10%になる液晶カプセル径D10と、加積透過率が90%になる液晶カプセル径D90との比(D90/D10)が、D90/D10≦3×D50の範囲であることが好ましい。より好ましくは、D90/D10≦2.5×D50である。   In order to obtain desired optical performance, it is desirable to adjust not only the median type of liquid crystal microparticles (liquid crystal capsules) but also the particle size distribution within an appropriate range. When the ratio of particles having a large particle diameter increases, scattering in the visible region is almost eliminated, and the shielding property in a voltage open state is lowered. Therefore, the ratio (D90 / D10) of the liquid crystal capsule diameter D10 at which the cumulative transmittance in the cumulative curve of the liquid crystal capsule diameter is 10% and the liquid crystal capsule diameter D90 at which the cumulative transmittance is 90% is D90 / It is preferable that D10 ≦ 3 × D50. More preferably, D90 / D10 ≦ 2.5 × D50.

液晶微小粒子のメジアン径D50及び粒子径分布は、攪拌の速度、時間を調整して制御することができる。なお、本明細書では、レーザ回折法により測定した値を液晶微小粒子の粒子径として採用する。   The median diameter D50 and particle size distribution of the liquid crystal microparticles can be controlled by adjusting the stirring speed and time. In this specification, a value measured by a laser diffraction method is adopted as the particle size of the liquid crystal microparticles.

このようにして作製した調光層液を上述した本発明に係る透明電極を具備したフィルム基材上に、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等の塗布法を用いて形成することが好ましい。   On the film substrate provided with the transparent electrode according to the present invention as described above, the light control layer solution thus prepared was rolled, bar coating, dip coating, spin coating, casting, die coating, It is preferable to form using a coating method such as a blade coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a curtain coating method, a spray coating method, or a doctor coating method.

本発明に係る調光層は、透明電極の直上に積層されても良いし、透明電極の上に何らかのオーバーコート層を設け、又はカバーフィルムを貼合・形成後に積層されても構わなく、いずれも好適に使用できる。   The light control layer according to the present invention may be laminated directly on the transparent electrode, may be provided with any overcoat layer on the transparent electrode, or may be laminated after the cover film is bonded and formed. Can also be suitably used.

塗布された液晶エマルジョンは、余分の水分・溶剤を除去するために、乾燥させる。架橋剤を添加した場合には、乾燥とともに架橋構造が共重合体に導入される。エマルジョンの乾燥は、常温で行ってもよいし、基材にダメージを与えない範囲で公知の加熱を加えても構わない。   The applied liquid crystal emulsion is dried to remove excess water / solvent. When a crosslinking agent is added, a crosslinked structure is introduced into the copolymer as it is dried. The emulsion may be dried at room temperature, or known heating may be applied within a range that does not damage the substrate.

液晶エマルジョンを塗布して形成した液晶−樹脂複合体の膜厚は、液晶調光素子の透明性と遮蔽性とのバランスを考慮すると、10〜35μm、特に15〜25μmが好ましい。   The film thickness of the liquid crystal-resin composite formed by applying the liquid crystal emulsion is preferably 10 to 35 μm, particularly preferably 15 to 25 μm, considering the balance between the transparency and shielding properties of the liquid crystal light control device.

(各層の形成幅)
図6は、本発明の調光フィルムの構成の好ましい一例を説明する模式図である。
フィルム基材51b上に透明電極52bを有し、その上に調光層53aが形成される。更にその上に対向電極としてフィルム基材51a上に設けられた透明電極52aから構成される。調光層53aは樹脂マトリックス(樹脂層)54a中に液晶粒子54bが分散されている。
ここで幅Xの基材上に幅Yの透明電極が形成され、更にその上に幅Zの調光層が形成されることが好ましい。
本発明においては、基材と透明電極及び調光層の形成幅を以下のように設けることが好ましい。これにより、複雑なパターニングを要せず電極を取り出しやすくする効果が得られる。
即ち、基材巾(X)、透明電極の形成巾(Y)、及び調光層の形成巾(Z)が下記序列となるように、基材上に透明電極と調光層を設けることが、Roll to Rollで作製したロール状サンプルで2点給電、若しくはユーザーの需要サイズに2面中断ちした場合においても、端部給電の取出し加工を容易とし、これにより投入基材と需要サイズとで断裁巾を自在に変えた生産管理を実現でき、これまでにない安価な調光フィルム提供を可能とするものである。
(Formation width of each layer)
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a preferred example of the configuration of the light control film of the present invention.
A transparent electrode 52b is provided on the film substrate 51b, and a light control layer 53a is formed thereon. Furthermore, it is comprised from the transparent electrode 52a provided on the film base material 51a as a counter electrode on it. In the light control layer 53a, liquid crystal particles 54b are dispersed in a resin matrix (resin layer) 54a.
Here, it is preferable that a transparent electrode having a width Y is formed on a substrate having a width X, and a light control layer having a width Z is further formed thereon.
In this invention, it is preferable to provide the formation width of a base material, a transparent electrode, and a light control layer as follows. Thereby, the effect which makes it easy to take out an electrode without requiring complicated patterning is obtained.
That is, the transparent electrode and the light control layer may be provided on the base material so that the base material width (X), the transparent electrode formation width (Y), and the light control layer formation width (Z) are in the following order. , Roll-to-Roll samples can be used for two-point power supply, or even when the user's demand size is interrupted on two sides, the end power supply can be easily taken out. It is possible to realize production management by freely changing the cutting width, and to provide an inexpensive light control film that has never been available.

基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾   Substrate width> Transparent electrode formation width> Light control layer formation width

基材巾と透明電極の形成巾の差は、0.1mm以上(左右各0.05mm)、20mm以内が好ましく(左右各10mm)、より好ましくは1mm以上(左右各0.5mm)、10mm以内(左右各5mm)である。   The difference between the width of the base material and the formation width of the transparent electrode is 0.1 mm or more (0.05 mm for each left and right) and preferably 20 mm or less (10 mm for each left and right), more preferably 1 mm or more (0.5 mm for each left and right) and 10 mm or less. (5 mm for each left and right).

同様に透明電極と調光層の形成巾の差も、0.1mm以上(左右各0.05mm)、20mm以内が好ましく(左右各10mm)、より好ましくは1mm以上(左右各0.5mm)、10mm以内(左右各5mm)である。   Similarly, the difference in formation width between the transparent electrode and the light control layer is also 0.1 mm or more (0.05 mm for each left and right), preferably within 20 mm (10 mm for each left and right), more preferably 1 mm or more (each 0.5 mm for each left and right), It is within 10 mm (5 mm for each left and right).

基材・透明電極・調光層の形成巾を上記の関係にようにして基材上に透明電極と調光層設けた後、該透明電極に対向するもう一方の透明電極を設置することが生産工程上、生産のし易さから好ましい。   After forming the transparent electrode and the light control layer on the base material so that the formation width of the base material, the transparent electrode, and the light control layer is as described above, another transparent electrode facing the transparent electrode can be installed. From the viewpoint of production process, it is preferable from the viewpoint of easy production.

以上のようにしても、国際公開第2009/093657号パンフレット(図4:調光層1層型)、特開平6−3654号公報(図1:調光層2層型)に記載されているような調光フィルムが得られる。こうして、液晶−樹脂複合体が2枚の透明電極付き基板の間にこれら透明電極に接した状態で挟持された液晶材料を用いた調光フィルムが製造される。   Even in the above manner, it is described in International Publication No. 2009/093657 pamphlet (FIG. 4: dimming layer single layer type) and JP-A-6-3654 (FIG. 1: dimming layer double layer type). Such a light control film is obtained. In this way, a light control film using a liquid crystal material in which the liquid crystal-resin composite is sandwiched between the two substrates with transparent electrodes in contact with the transparent electrodes is manufactured.

〔調光フィルム素子駆動方法〕
本発明の調光フィルム素子の駆動操作は単純マトリックス駆動であっても、アクティブマトリック駆動であってもよい。本発明でいう単純マトリックス駆動とは、複数の正極を含む正極ラインと複数の負極を含む負極ラインとが対向する形で互いのラインが垂直方向に交差した回路に、順次電流を印加する駆動方法のことをいう。単純マトリックス駆動を用いることにより、回路構成や駆動ICを簡略化でき安価に製造できるメリットがある。アクティブマトリックス駆動は、走査線、データライン、電流供給ラインが碁盤目状に形成され、各碁盤目に設けられたTFT回路により駆動させる方式である。画素毎にスイッチングが行えるので、階調やメモリー機能などのメリットがある。
[Light control film element driving method]
The driving operation of the light control film element of the present invention may be simple matrix driving or active matrix driving. The simple matrix driving in the present invention is a driving method in which a current is sequentially applied to a circuit in which a positive line including a plurality of positive electrodes and a negative electrode line including a plurality of negative electrodes are opposed to each other in a vertical direction. I mean. By using simple matrix driving, there is an advantage that the circuit configuration and driving IC can be simplified and manufactured at low cost. The active matrix drive is a system in which scanning lines, data lines, and current supply lines are formed in a grid pattern, and are driven by TFT circuits provided in each grid pattern. Since switching can be performed for each pixel, there are advantages such as gradation and memory function.

〔窓貼り用調光フィルム〕
本発明の調光フィルムは、従来の調光フィルムでは実現不可能であった簡便な施工性、且つ安価な供給を可能とすることであり、ひいては既存のガラス窓に貼付して使用でき、調光機能、割れ防止機能(防犯・防災機能)を兼ね備えた新規な調光フィルムである。
[Light control film for pasting windows]
The light control film of the present invention enables simple workability and low-priced supply, which cannot be realized with conventional light control films, and can be used by being attached to an existing glass window. It is a new light control film that has both light function and crack prevention function (crime prevention / disaster prevention function).

そのため、本発明の調光フィルムの基材として100μm厚のポリエチレンナフタレートフィルムを用いて作製したときに、軸半径3mmRの曲げ耐久試験で100回以上の耐久性があることが好ましく、0.3mmRのスクラッチ加重評価で100g以上の耐久性があることが好ましい。   Therefore, when a 100 μm-thick polyethylene naphthalate film is used as the base material of the light control film of the present invention, it is preferable that it has a durability of 100 times or more in a bending durability test with a shaft radius of 3 mmR, and 0.3 mmR It is preferable that there is durability of 100 g or more in the scratch weight evaluation.

上記曲げ耐久試験は巻付け法によって行う。該巻付け法は、曲げ試験の一種で、試験片が規定の形になるように徐々に荷重を加えて、試験片を軸又は型に巻き付ける試験方法である。この方法で、軸半径何mmRまで劣化無く耐えられるかを、試験回数は100回で行い、耐久性を評価する。劣化無しの判断は抵抗変化10%以内とする。(図5参照。)
スクラッチ加重評価は、耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用い、針先が0.3mmRのサファイア針を用い、調光フィルムの裏面(第1電極側)から荷重を0g〜200gまで20g間隔で傷をつけた。荷重前後で調光フィルムを駆動し、動作に問題の無い荷重域を確認する。
The bending durability test is performed by a winding method. The winding method is a kind of bending test, and is a test method in which a test piece is wound around a shaft or a mold by gradually applying a load so that the test piece has a specified shape. With this method, the number of tests is 100 times to determine how many mmR the shaft radius can withstand deterioration, and the durability is evaluated. The judgment of no deterioration is made within 10% of resistance change. (See Figure 5.)
Scratch load evaluation uses a wear resistance tester (HEIDON-18), a sapphire needle with a needle tip of 0.3 mmR, and a load from the back surface (first electrode side) of the light control film from 0 g to 200 g at intervals of 20 g. I scratched it. Drive the light control film before and after loading, and check the load area where there is no problem in operation.

本発明の調光フィルムを、軸半径3mmRの曲げ耐久試験で100回以上の耐久性があり、0.3mmRのスクラッチ加重評価で100g以上の耐久性があるようにするには、本発明の透明電極が金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する複合電極とすることが、最も主要な因子であるが、前述した一般式(III)で表される液晶材料とポリマーネットワークとしてのアクリル光重合素材の組合せによる調光層自体の強度を増すことも好ましい。   In order for the light control film of the present invention to have a durability of 100 times or more in a bending durability test with an axial radius of 3 mmR and a durability of 100 g or more in a scratch load evaluation of 0.3 mmR, the transparent film of the present invention is used. The most important factor is that the electrode is a composite electrode containing fine metal particles and a conductive polymer, but the combination of the liquid crystal material represented by the general formula (III) described above and an acrylic photopolymerization material as a polymer network It is also preferable to increase the strength of the light control layer itself.

本発明においては、以上のようにして得られる調光フィルムの透明電極を有する面とは反対の面にガラス貼付用の粘着層と剥離容易な剥離支持体とを設け、窓貼り用調光フィルムとすることが好ましい。   In the present invention, a dimming film for window pasting is provided by providing an adhesive layer for glass pasting and an easily peelable peeling support on the side opposite to the side having the transparent electrode of the dimming film obtained as described above. It is preferable that

上記剥離支持体に用いられる樹脂フィルムとしては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂フィルム等が挙げられるが、耐候性、耐傷性及びコスト等の観点をも加味すると、ポリエステル樹脂フィルムが特に好適である。フィルムの熱収縮率は、例えばフィルムを構成する樹脂を選択したり、フィルム形成後の延伸方法や熱処理条件等を適宜選択したりすることにより所望のものとすることができる。また、ベースフィルムの厚さは特に制限されないが、18〜120μmの範囲内であることが作業性の観点から好ましい。なお、縦方向と横方向の収縮率が同じである必要はないが、実質的に同じにすれば、フィルムの方向を特に気にすることなく施工することができるので好都合である。   Examples of the resin film used for the release support include a polyester resin, a polyurethane resin, a polyvinyl chloride resin film, and the like, and a polyester resin film is particularly preferable in view of weather resistance, scratch resistance, cost, and the like. It is. The heat shrinkage rate of the film can be made desired by, for example, selecting a resin constituting the film, or appropriately selecting a stretching method after the film formation, heat treatment conditions, and the like. The thickness of the base film is not particularly limited, but is preferably in the range of 18 to 120 μm from the viewpoint of workability. Note that the shrinkage ratio in the vertical direction and the horizontal direction need not be the same, but if substantially the same, it is advantageous because the film can be applied without particularly worrying about the direction of the film.

ベースフィルムに設ける粘着層に用いる粘着剤には特に制限はなく、例えば天然ゴム系、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系の粘着剤が用いられる。なかでも、耐候性の点などからアクリル系粘着剤が好ましい。粘着層の厚さは特に制限されるものではないが、5〜20μmの範囲内であることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the adhesive used for the adhesion layer provided in a base film, For example, a natural rubber type, an acrylic type, a urethane type, and a polyester-type adhesive are used. Of these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferred from the viewpoint of weather resistance. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 20 μm.

本窓貼り用調光フィルムに用いる剥離シートは特に制限されず、例えばポリエステルやポリプロピレン等の樹脂フィルムや、ラミネート紙、コート紙、グラシレ紙などの紙にシリコーン樹脂を塗布したもの、あるいはアルキッド樹脂等に剥離剤を塗布したものが用いられる。   The release sheet used for the light control film for pasting a window is not particularly limited. For example, a resin film such as polyester or polypropylene, a paper obtained by applying a silicone resin to a paper such as a laminate paper, a coated paper, or a glass paper, or an alkyd resin. The one coated with a release agent is used.

本窓貼り用調光フィルムを施工するに際して行う熱加工は、剥離フィルム側から加熱しながらガラス面に密着させてシワを取り除いていくので、剥離フィルムの方がベースフィルムより収縮量が少ないことが好ましい。また、剥離フィルムの収縮率は、縦方向横方向ともベースフィルムの収縮率より小さいことが好ましい。   The thermal processing performed when applying the light control film for pasting a window is made to adhere to the glass surface while heating from the side of the release film to remove wrinkles, so the release film has less shrinkage than the base film. preferable. The shrinkage rate of the release film is preferably smaller than the shrinkage rate of the base film in both the vertical and horizontal directions.

本窓貼り用調光フィルムに用いる剥離フィルムの厚さは特に制限されないが、16μm〜75μmの範囲内であることが好ましい。   Although the thickness in particular of the peeling film used for this light control film for window pasting is not restrict | limited, It is preferable to exist in the range of 16 micrometers-75 micrometers.

ベースフィルムには、必要に応じて紫外線吸収剤や赤外線吸収剤を含有させたり、染・顔料によって着色することができる他、あらかじめ適当な印刷を施すこともできる。上記薬剤や染・顔料は粘着層に含有させても良い。また、これらの薬剤を含有するフィルムや着色フィルムを接着層を介して積層したベースフィルムとすることも可能である。更に、耐傷性を向上させるために、ベースフィルムの外側(粘着層の設けられていない面)表面にハードコート層を設けることが好ましい。   The base film can contain an ultraviolet absorber or an infrared absorber as necessary, or can be colored with a dye or a pigment, or can be appropriately printed in advance. You may make the said chemical | medical agent, dye, and pigment contain in an adhesion layer. Moreover, it is also possible to use a base film obtained by laminating a film containing these drugs or a colored film via an adhesive layer. Furthermore, in order to improve the scratch resistance, it is preferable to provide a hard coat layer on the outer surface (surface on which no adhesive layer is provided) of the base film.

本窓貼り用調光フィルムの製造方法においては、剥離シートの剥離剤を塗布された面に、粘着剤をロールコーター、ナイフコーター、ブレードコーター等のコーターで塗布、乾燥した後ベースフィルムと貼り合わせる方法や、ベースフィルムの一面に該コーターで粘着剤を塗布、乾燥し、剥離シートと貼り合わせる方法など公知の方法を採用することができる。本窓貼り用調光フィルムの厚さは特に制限されないが、50μm〜200μmの範囲内であることが好ましい。   In the method for producing a light control film for pasting a window, an adhesive is applied to a surface of a release sheet on which a release agent is applied using a coater such as a roll coater, a knife coater, or a blade coater, and then bonded to a base film. A publicly known method such as a method or a method in which an adhesive is applied to one surface of a base film with the coater, dried, and bonded to a release sheet can be employed. The thickness of the light control film for pasting a window is not particularly limited, but is preferably in the range of 50 μm to 200 μm.

これらの加工をした後、本窓貼り用調光フィルムは巻き取られ長尺ロール状の形態で提供されることが特に好ましい態様である。   After these processes, it is a particularly preferable aspect that the light control film for pasting a window is wound and provided in the form of a long roll.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

実施例1
<比較例1〜6、及び本発明1及び2の調光フィルムの作製>
[調光層材料の調製]
(光調整粒子の製造例1)
光調整粒子を製造するために、攪拌機及び冷却管を装着した500mlの四つ口フラスコ内で、ニトロセルロース1/4LIG(商品名、DLX8−13 Nobel社製)15質量%とし、溶剤を酢酸イソアミル(試薬特級、和光純薬工業(株)製)希釈溶液87.54g、酢酸イソアミル44.96g、脱水CaI(水分量0.3%)(化学用、和光純薬工業(株)製)4.5g、無水メタノール(有機合成用、和光純薬工業(株)製)2.0g及び精製水(精製水、和光純薬工業(株)製)を0.50g添加量した混合溶媒に溶解し、沃素(JIS試薬特級、和光純薬工業(株)製)4.5gを溶解し、光調整粒子の基板形成物質であるピラジン−2,5−ジカルボン酸2水和物(関東化学(株)製)3gを添加した。45℃で3時間撹拌して反応を終了させた後、超音波分散機で2時間分散させた。
Example 1
<Preparation of the light control film of Comparative Examples 1-6 and this invention 1 and 2>
[Preparation of light control layer material]
(Production example 1 of light control particles)
In order to produce light control particles, in a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer and a cooling tube, nitrocellulose 1 / 4LIG (trade name, manufactured by DLX8-13 Nobel) is 15% by mass, and the solvent is isoamyl acetate. (Reagent special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 87.54 g of diluted solution, 44.96 g of isoamyl acetate, dehydrated CaI 2 (water content 0.3%) (chemical, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 4 .5 g, 2.0 g of anhydrous methanol (for organic synthesis, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.50 g of purified water (purified water, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were dissolved in a mixed solvent. Pyrazine-2,5-dicarboxylic acid dihydrate (Kanto Chemical Co., Ltd.), which is a substrate-forming substance of light adjusting particles, is dissolved in 4.5 g of iodine (special grade of JIS reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 3 g) was added. After stirring at 45 ° C. for 3 hours to complete the reaction, the mixture was dispersed with an ultrasonic disperser for 2 hours.

次に、反応溶液から一定な大きさの光調整粒子を取り出すために、遠心分離機を用いて粒子を分離した。先ず反応溶液を500Gの速度で10分間遠心分離して沈殿物を取り除き、更に10000Gで2時間遠心分離して、浮遊物を取り除き、沈殿物粒子を回収し光調整粒子とした。   Next, in order to take out light control particles having a certain size from the reaction solution, the particles were separated using a centrifuge. First, the reaction solution was centrifuged at a speed of 500 G for 10 minutes to remove precipitates, and further centrifuged at 10000 G for 2 hours to remove suspended matters, and the precipitate particles were collected to obtain light-adjusted particles.

(紫外線硬化型シリコーン樹脂の製造例)
ディーンスタークトラップ、冷却管、攪拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、両末端シラノールポリジメチルシロキサン(信越化学工業(株)製)11.75g、両末端シラノールポリジメチルジフェニルシロキサン(信越化学工業(株)製)31g、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン(信越化学工業(株)製)4g、2−エチルヘキサン錫(和光純薬工業(株)製)0.6gを仕込み、ヘプタン中で100℃で3時間リフラックスし、反応を行った。
(Example of UV curable silicone resin production)
In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, condenser, stirrer, and heating device, 11.75 g of both-end silanol polydimethylsiloxane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), both-end silanol polydimethyldiphenylsiloxane (Shin-Etsu Chemical) 31 g, (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 g, 2-ethylhexane tin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.6 g, and heptane The mixture was refluxed at 100 ° C. for 3 hours to carry out the reaction.

次いで、反応溶液に、トリメチルエトキシシラン(信越化学工業(株)製)10.6gを添加し、2時間リフラックスし、脱アルコール反応させた。その後、ヘプタンをロータリーエバポレーターを用いて60Paの真空で80℃、3時間減圧除去し、紫外線硬化型シリコーン樹脂(エチレン性不飽和結合を有する置換基をもつシリコーン樹脂)を得た。   Next, 10.6 g of trimethylethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to the reaction solution, and the mixture was refluxed for 2 hours for dealcoholization reaction. Thereafter, heptane was removed under reduced pressure at 80 ° C. for 3 hours under a vacuum of 60 Pa using a rotary evaporator to obtain an ultraviolet curable silicone resin (silicone resin having a substituent having an ethylenically unsaturated bond).

(光調整懸濁液の製造例)
前記の(光調整粒子の製造例1)で得た光調整粒子の酢酸イソアミル分散液97g(光調整粒子9gを酢酸イソアミル88gに分散した分散液)を、光調整懸濁液の分散媒としてのアクリル酸ブチル(和光特級、和光純薬工業(株)製)/メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル(工業用、共栄社化学工業(株)製)/アクリル酸2−ヒドロキシエチル(和光1級、和光純薬工業(株)製)共重合体(モノマーモル比:18/1.5/0.5、重量平均分子量:2,200、屈折率1.468)59gに加え、攪拌機により30分間混合し、混合液を得た。次いで、ロータリーエバポレーターを用いて80℃で60Paの真空下で3時間減圧し、混合液から酢酸イソアミルを除去し、トリメリット酸デシル29.5g(花王(株)製)、ジメチルドデカスベレート(Exfluor社製)を添加し、粒子沈降及び凝集現象のない安定な液状の光調整懸濁液を製造した。
(Production example of light control suspension)
97 g of an isoamyl acetate dispersion of the light control particles obtained in (Preparation Example 1 of the light control particles) (dispersion in which 9 g of light control particles were dispersed in 88 g of isoamyl acetate) was used as a dispersion medium for the light control suspension. Butyl acrylate (Wako special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) / 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate (for industrial use, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) / 2-hydroxyethyl acrylate (Wako 1 Grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (monomer molar ratio: 18 / 1.5 / 0.5, weight average molecular weight: 2,200, refractive index 1.468) in addition to 59 g, 30 minutes with a stirrer Mixing was performed to obtain a mixed solution. Subsequently, using a rotary evaporator, the pressure was reduced at 80 ° C. under a vacuum of 60 Pa for 3 hours to remove isoamyl acetate from the mixed solution, and 29.5 g of decyl trimellitic acid (manufactured by Kao Corporation), dimethyl dodecaverate (Exfluor) To produce a stable liquid light-conditioning suspension free from particle sedimentation and agglomeration.

<透明電極の作製:ITO/比較例電極の作製>
無アルカリガラス基板(厚さ0.7mm)を用い、ガラス基板上にスパッタによりITO(インジウムチンオキシド;屈折率1.85)を100nm製膜し、パターニングを行った後、このITO透明電極を設けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行い、透明電極(比較例1)を作製した。
<Production of transparent electrode: ITO / Production of comparative electrode>
Using a non-alkali glass substrate (thickness 0.7 mm), ITO (indium tin oxide; refractive index 1.85) is deposited on the glass substrate by sputtering to a thickness of 100 nm, patterned, and then provided with this ITO transparent electrode The obtained substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes to produce a transparent electrode (Comparative Example 1).

100μmのPENフィルム(テオネックス 帝人株式会社製)を用いた。該PENフィルム表面にスパッタによりITO(インジウムチンオキシド;屈折率1.85)を100nm製膜し、パターニングを行った後、このITO透明電極を設けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行い、透明電極(比較例4)を作製した。   A 100 μm PEN film (Teonex Teijin Limited) was used. After depositing 100 nm of ITO (indium tin oxide; refractive index 1.85) on the surface of the PEN film by sputtering and patterning, the substrate provided with this ITO transparent electrode was ultrasonically washed with isopropyl alcohol and dried nitrogen It dried with gas and performed UV ozone washing | cleaning for 5 minutes, and produced the transparent electrode (comparative example 4).

<透明電極の作製:金属ナノ粒子+導電性ポリマーの複合電極>
(1)導電性ポリマーの合成
特許4509787号の実施例16記載の方法により、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ナフィオン(登録商標)(以下、P−1と略記)の2.6%分散液を調製した。
<Preparation of transparent electrode: Composite electrode of metal nanoparticles + conductive polymer>
(1) Synthesis of conductive polymer 2.6 of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / Nafion (registered trademark) (hereinafter abbreviated as P-1) by the method described in Example 16 of Japanese Patent No. 4509787. % Dispersion was prepared.

(2)ヒドロキシ基含有ポリマーの合成
(2.1)開始剤1:メトキシキャップされたオリゴエチレングリコールメタクリレートの合成
50ml三口フラスコに2−ブロモイソブチリルブロミド(7.3g、35mmol)とトリエチルアミン(2.48g、35mmol)及びテトラヒドロフラン(20ml)を加え、アイスバスにより内温を0℃に保持した。この溶液内にオリゴエチレングリコール(10g、23mmol、エチレングリコールユニット7〜8、Laporte Specialties社製)の33%THF溶液30mlを滴下した。30分攪拌後、溶液を室温にし、さらに4時間攪拌した。THFをロータリーエバポレーターにより減圧除去後、残渣をジエチルエーテルに溶解し、分液ロートに移した。水を加えエーテル層を3回洗浄後、エーテル層をMgSOにより乾燥させた。エーテルをロータリーエバポレーターにより減圧留去し、開始剤1を8.2g(収率73%)得た。
(2) Synthesis of hydroxy group-containing polymer (2.1) Initiator 1: Synthesis of methoxy-capped oligoethylene glycol methacrylate 2-bromoisobutyryl bromide (7.3 g, 35 mmol) and triethylamine (2 .48 g, 35 mmol) and tetrahydrofuran (20 ml) were added, and the internal temperature was kept at 0 ° C. with an ice bath. In this solution, 30 ml of 33% THF solution of oligoethylene glycol (10 g, 23 mmol, ethylene glycol units 7-8, manufactured by Laporte Specialties) was added dropwise. After stirring for 30 minutes, the solution was brought to room temperature and further stirred for 4 hours. After THF was removed under reduced pressure by a rotary evaporator, the residue was dissolved in diethyl ether and transferred to a separatory funnel. Water was added and the ether layer was washed three times, and then the ether layer was dried with MgSO 4 . The ether was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator to obtain 8.2 g (yield 73%) of initiator 1.

(2.2)リビング重合(ATRP法)によるヒドロキシ基含有ポリマーの合成
開始剤1(500mg、1.02mmol)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(4.64g、40mmol、東京化成社製)、50:50v/v%メタノール/水混合溶媒5mlをシュレンク管に投入し、減圧下液体窒素に10分間シュレンク管を浸した。シュレンク管を液体窒素から出し、5分後に窒素置換を行った。この操作を3回行った後、窒素下で、ビピリジン(400mg、2.56mmol)、CuBr(147mg、1.02mmol)を加え、20℃で攪拌した。30分後、ろ紙とシリカを敷いた4cm桐山ロート上に反応溶液を滴下し、減圧で反応溶液を回収した。ロータリーエバポレーターにより溶媒を減圧留去後、50℃で3時間減圧乾燥した。その結果、数平均分子量13100、分子量分布1.17、数平均分子量が1000未満の分子含有量が0%のヒドロキシ基含有ポリマー ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)を2.60g(収率84%)得た。構造、分子量は各々H−NMR(400MHz、日本電子社製)、GPC(Waters2695、Waters社製)で測定した。得られたポリマーを水で希釈し、20%液(以下、P−3と略記)に調整した。
(2.2) Synthesis of hydroxy group-containing polymer by living polymerization (ATRP method) Initiator 1 (500 mg, 1.02 mmol), 2-hydroxyethyl acrylate (4.64 g, 40 mmol, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 50: 50v 5 ml of a / v% methanol / water mixed solvent was put into a Schlenk tube, and the Schlenk tube was immersed in liquid nitrogen under reduced pressure for 10 minutes. The Schlenk tube was taken out of liquid nitrogen and replaced with nitrogen after 5 minutes. After performing this operation three times, bipyridine (400 mg, 2.56 mmol) and CuBr (147 mg, 1.02 mmol) were added under nitrogen, and the mixture was stirred at 20 ° C. After 30 minutes, the reaction solution was dropped onto a 4 cm Kiriyama funnel with filter paper and silica, and the reaction solution was recovered under reduced pressure. The solvent was distilled off under reduced pressure using a rotary evaporator and then dried under reduced pressure at 50 ° C. for 3 hours. As a result, 2.60 g (yield 84%) of a hydroxy group-containing polymer poly (2-hydroxyethyl acrylate) having a number average molecular weight of 13100, a molecular weight distribution of 1.17, a number average molecular weight of less than 1000 and a molecular content of 0%. Obtained. The structure and molecular weight were measured by 1 H-NMR (400 MHz, manufactured by JEOL Ltd.) and GPC (Waters 2695, manufactured by Waters), respectively. The obtained polymer was diluted with water and adjusted to a 20% solution (hereinafter abbreviated as P-3).

(GPC測定条件)
装置:Wagers2695(Separations Module)
検出器:Waters 2414 (Refractive Index Detector)
カラム:Shodex Asahipak GF−7M HQ
溶離液:ジメチルホルムアミド(20mM LiBr)
流速:1.0ml/min
温度:40℃
(3)取出し電極の作製
以下の方法で取出し電極を形成した。
(GPC measurement conditions)
Apparatus: Wagers 2695 (Separations Module)
Detector: Waters 2414 (Refractive Index Detector)
Column: Shodex Asahipak GF-7M HQ
Eluent: Dimethylformamide (20 mM LiBr)
Flow rate: 1.0 ml / min
Temperature: 40 ° C
(3) Preparation of extraction electrode The extraction electrode was formed by the following method.

無アルカリガラス基板上に、ITOを平均膜厚150nmで蒸着した後、フォトリソ法により図4(a)のパターニングを行った後、2−プロパノールに基板を浸漬し、超音波洗浄器ブランソニック3510J−MT(日本エマソン社製)により10分間の超音波洗浄処理を施した。   After vapor-depositing ITO with an average film thickness of 150 nm on an alkali-free glass substrate, the substrate was immersed in 2-propanol after the patterning shown in FIG. 4A by photolithography, and an ultrasonic cleaner Brandonic 3510J- Ultrasonic cleaning treatment for 10 minutes was performed by MT (manufactured by Nippon Emerson).

(4)透明電極の作製
上記で得られた透明電極用の透明ガラス基板上のITO面に、金属導電層及び導電性ポリマー層を積層し、透明電極を作製した。
(4) Preparation of transparent electrode A metal conductive layer and a conductive polymer layer were laminated | stacked on the ITO surface on the transparent glass substrate for transparent electrodes obtained above, and the transparent electrode was produced.

(4.1)金属導電層の形成
以下の方法にて、金属導電層を形成した。
(4.1) Formation of metal conductive layer A metal conductive layer was formed by the following method.

前述のガラス基板に、銀ナノインク(TEC−PA−010:Inktec社製)を用いて、50μm幅、1mmピッチの格子パターンにてスクリーン印刷を行い、図4(b)の領域に金属細線パターンからなる金属導電層を形成した。これを、110℃、5分の乾燥処理を行い、さらに150℃、60分の焼成を行った。   Screen printing is performed on the above glass substrate using a silver nano ink (TEC-PA-010: manufactured by Inktec) with a grid pattern having a width of 50 μm and a pitch of 1 mm, and from the metal fine line pattern in the region of FIG. A metal conductive layer was formed. This was dried at 110 ° C. for 5 minutes, and further baked at 150 ° C. for 60 minutes.

なお、スクリーン印刷は、STF−150IP(東海商事社製)を用いた。   Note that STF-150IP (manufactured by Tokai Shoji Co., Ltd.) was used for screen printing.

金属導電層のパターンを、高輝度非接触3次元表面形状粗さ計WYKO NT9100(日本ビーコ社製)で測定したところ、パターンの幅は60μm、平均高さ600nmであった。   When the pattern of the metal conductive layer was measured with a high-intensity non-contact three-dimensional surface shape roughness meter WYKO NT9100 (manufactured by Biko Japan), the pattern width was 60 μm and the average height was 600 nm.

(4.2)導電性ポリマー層の形成
パターン形成された金属導電層上に、導電性ポリマー層として、導電性ポリマー(P−1、P−2)、ヒドロキシ基を有するポリマー(P−3)及び溶媒(S−1〜S−3)からなる下記塗布液Aを用い、図4(c)の領域にインクジェット印刷により、平均乾燥膜厚が500nmとなるように塗設した。
(4.2) Formation of conductive polymer layer On the patterned metal conductive layer, as a conductive polymer layer, conductive polymer (P-1, P-2), polymer having a hydroxy group (P-3) And the following coating liquid A which consists of a solvent (S-1-S-3) was used, and it coated so that the average dry film thickness might be set to 500 nm by the inkjet printing to the area | region of FIG.4 (c).

(塗布液A)
P−1:ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)/ナフィオン(登録商標)(フッ素化ポリマー酸) 2.6%液 4.8質量部
P−2:CLEVIOS PH750 (Heraeus社製)(非フッ素化ポリマー酸) 1.08%液 34.7質量部
P−3:ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリレート)水溶液(PHEA) 20%液
3.8質量部
S−1:2−プロパノール(IPA) 1.7質量部
S−2:プロピレングリコール(PG) 2.5質量部
S−3:プロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGPr) 2.5質量部
次いで、80℃で5分乾燥し、さらに150℃で60分熱処理し、金属ナノ粒子及び導電性ポリマーからなる透明電極(比較例3)を作製した。
(Coating liquid A)
P-1: Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) / Nafion (registered trademark) (fluorinated polymer acid) 2.6% liquid 4.8 parts by mass P-2: CLEVIOS PH750 (manufactured by Heraeus) ) (Non-fluorinated polymer acid) 1.08% solution 34.7 parts by mass P-3: Poly (2-hydroxyethyl acrylate) aqueous solution (PHEA) 20% solution
3.8 parts by mass S-1: 2-propanol (IPA) 1.7 parts by mass S-2: propylene glycol (PG) 2.5 parts by mass S-3: propylene glycol monopropyl ether (PGPr) 2.5 parts by mass Part Next, it was dried at 80 ° C. for 5 minutes, and further heat-treated at 150 ° C. for 60 minutes to produce a transparent electrode (Comparative Example 3) composed of metal nanoparticles and a conductive polymer.

なお、インクジェット印刷機は、インクジェットヘッド(コニカミノルタIJ社製)を取り付けた卓上型ロボット Shotmaster−300(武蔵エンジニアリング社製)を用い、インクジェット評価装置EB150(コニカミノルタIJ社製)にて制御した。   The inkjet printer was controlled by an inkjet evaluation apparatus EB150 (manufactured by Konica Minolta IJ) using a desktop robot Shotmaster-300 (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.) equipped with an ink jet head (manufactured by Konica Minolta IJ).

上記と同様にして、100μmのPENフィルム(テオネックス 帝人株式会社製)上に金属ナノ粒子及び導電性ポリマーからなる透明電極(本発明2)を作製した。   In the same manner as above, a transparent electrode (Invention 2) made of metal nanoparticles and a conductive polymer was produced on a 100 μm PEN film (made by Teonex Teijin Ltd.).

<透明電極の作製:金属ナノワイヤ+導電性ポリマー>
[透明電極の作製]
無アルカリガラス基板上に、Chem.Mater.,2002,14,4736〜4745に記載の方法を参考に、平均直径60nm、平均長さ5.5μmの銀ナノワイヤを作製し、フィルターを用いて銀ナノワイヤを濾別、水洗処理を施した後、エタノール中に再分散して銀ナノワイヤ分散液W−10(銀ナノワイヤ含有量0.5%)を調製した。
<Preparation of transparent electrode: metal nanowire + conductive polymer>
[Preparation of transparent electrode]
On an alkali-free glass substrate, Chem. Mater. , 2002, 14, 4736-4745, silver nanowires having an average diameter of 60 nm and an average length of 5.5 μm were prepared, and the silver nanowires were filtered using a filter, and washed with water. Silver nanowire dispersion liquid W-10 (silver nanowire content: 0.5%) was prepared by redispersion in ethanol.

分散液W−10を、基材上に換算膜厚が30nmになるように塗布した後、80℃にて乾燥処理した。続いて、前述の導電性ポリマー層をインクジェット印刷にて乾燥後の換算厚さが150nm相当になるように設け80℃で5分乾燥し、さらに150℃で60分熱処理し、金属ナノ粒子及び導電性ポリマーからなる透明電極(比較例2)を作製した。   Dispersion liquid W-10 was applied on a substrate so that the equivalent film thickness was 30 nm, and then dried at 80 ° C. Subsequently, the conductive polymer layer described above is provided by inkjet printing so that the converted thickness after drying is equivalent to 150 nm, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and further heat-treated at 150 ° C. for 60 minutes to obtain metal nanoparticles and conductive A transparent electrode (Comparative Example 2) made of a conductive polymer was produced.

上記と同様にして、100μmのPENフィルム(テオネックス 帝人株式会社製)上に金属ナノ粒子及び導電性ポリマーからなる透明電極(本発明1)を作製した。   In the same manner as described above, a transparent electrode (Invention 1) made of metal nanoparticles and a conductive polymer was produced on a 100 μm PEN film (made by Teonex Teijin Ltd.).

(Al蒸着グリッドの作製)
100μmのPENフィルム(テオネックス 帝人株式会社製)上に、アルミニウムの薄膜を真空蒸着法によって設け、フォトレジストを塗布した後、レジスト膜のパターン露光、現像の工程を経て、線幅50μm、厚み2μm、向かい合う線の間隔550μmの微細な格子状の透明電極(比較例5)を得た。
(Preparation of Al vapor deposition grid)
On a 100 μm PEN film (made by Teonex Teijin Ltd.), a thin film of aluminum is provided by a vacuum deposition method, and after applying a photoresist, the resist film is subjected to pattern exposure and development steps, a line width of 50 μm, a thickness of 2 μm, A fine grid-like transparent electrode (Comparative Example 5) having an interval between facing lines of 550 μm was obtained.

(比較例1〜6、本発明1及び2の調光フィルムの作製)
上記作製した透明電極比較例1〜5、及び本発明1及び2を、第1電極、及び対向する第2電極として、表1記載の組み合わせにて調光フィルムを作製した。
(Comparative Examples 1-6, Production of Light Control Film of Inventions 1 and 2)
The light control film was produced by the combination of Table 1 by using the produced said transparent electrode comparative examples 1-5 and this invention 1 and 2 as the 1st electrode and the 2nd electrode which opposes.

なお、比較例6は、第1電極として比較例4で作製した透明電極を使用し、第2電極として本発明2で作製した透明電極を組み合わせた。   In Comparative Example 6, the transparent electrode produced in Comparative Example 4 was used as the first electrode, and the transparent electrode produced in Invention 2 was combined as the second electrode.

調光層は以下の手順で調製したものを第1電極と第2電極間に配置した。   The light control layer prepared by the following procedure was disposed between the first electrode and the second electrode.

前記(紫外線硬化型シリコーン樹脂の製造例)で得た紫外線硬化型シリコーン樹脂10g、光重合開始剤としてのビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(BASFジャパン(株)製)0.2g、着色防止剤としてのジブチル錫ジラウレート0.3gに、前記(光調整懸濁液の製造例)で得た光調整懸濁液2.5gを添加し、1分間超音波で混合し、調光材料を製造した。   10 g of the ultraviolet curable silicone resin obtained in the above (Production example of ultraviolet curable silicone resin), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (manufactured by BASF Japan Ltd.) as a photopolymerization initiator Add 0.2 g of the light control suspension obtained in the above (Production Example of Light Control Suspension) to 0.3 g of dibutyltin dilaurate as a coloring inhibitor, and mix by ultrasonic for 1 minute. A light-modulating material was manufactured.

この調光材料を、ワイヤーバーを用い、各透明電極が設けられた基材に乾燥膜厚が45μmとなるように塗布し、100度10分間乾燥した。   This light-modulating material was applied to a base material provided with each transparent electrode using a wire bar so that the dry film thickness was 45 μm, and dried at 100 ° C. for 10 minutes.

その上にメチルエチルケトンに溶解させたシランカップリング剤 KBM−303、KBM−503(信越化学社製)を質量比で50:50に含有した1質量%液を噴霧乾燥し、その後塗布層上に各対向電極を設けた透明電極を貼合して、照度275mW/cmに調整されたメタルハライドランプで積層フィルムの上下から(両面から)積算光量2000mJ/cm(測定;UV Power Pack S/N 8601UV−A(320〜390nm)フュージョン製)の紫外線を照射し、光調整懸濁液が球形の液滴として紫外線硬化したシリコーン樹脂内に分散形成された調光層を持つ比較例1〜6、本発明1及び2の調光フィルムを製造した。 On top of this, 1% by weight liquid containing silane coupling agents KBM-303 and KBM-503 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) dissolved in methyl ethyl ketone at a mass ratio of 50:50 is spray-dried, and then each coating layer is coated on the coating layer. pasted a transparent electrode having a counter electrode, the upper and lower from (from both sides) cumulative amount of light 2000 mJ / cm 2 (measured in the laminated film in a metal halide lamp which is adjusted to the illuminance 275mW / cm 2; UV Power Pack S / N 8601UV Comparative Examples 1-6, which have a light control layer dispersed in a silicone resin which is irradiated with ultraviolet rays of -A (320-390 nm) fusion) and the light-adjusting suspension is ultraviolet-cured as spherical droplets. The light control film of invention 1 and 2 was manufactured.

これらの調光フィルムに対し以下の評価を行った。これら調光フィルムの組合せと評価結果を表1に記載する。   The following evaluation was performed with respect to these light control films. Table 1 shows the combinations of these light control films and the evaluation results.

<透明電極の測定及び評価>
(表面比抵抗Rs)
上記方法で作製した各透明電極の導電層の表面比抵抗について測定し評価した。
<Measurement and evaluation of transparent electrode>
(Surface specific resistance Rs)
The surface specific resistance of the conductive layer of each transparent electrode produced by the above method was measured and evaluated.

表面比抵抗Rs(Ω/□)は、ダイアインスツルメンツ製抵抗率計ロレスタGPを用いて透明導電体の表面比抵抗を四端子法で測定した。   For the surface specific resistance Rs (Ω / □), the surface specific resistance of the transparent conductor was measured by a four-terminal method using a resistivity meter Loresta GP manufactured by Dia Instruments.

(透過率T)
透明性の指標である透過率T(%)の評価として、東京電色社製 HAZE METER NDH5000を用いて、全光線透過率を測定し数値を求めた。
(Transmissivity T)
As an evaluation of the transmittance T (%), which is an index of transparency, a total light transmittance was measured using a HAZE METER NDH5000 manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd. to obtain a numerical value.

(外観)
導電層の着色性は目視で評価した。
(appearance)
The colorability of the conductive layer was visually evaluated.

○はほぼニュートラル
○△はほぼニュートラルで金属線が見える
△は着色が確認できる
△×は着色が確認でき金属線が見える
×は強い着色
(電極作製の生産性)
○は生産性良
×は生産性劣る
<調光フィルムの評価>
(散乱)
散乱性の評価として、東京電色社製 HAZE METER NDH5000を用いて、Hazeを測定し、以下の基準で評価した。
○ is almost neutral ○ △ is almost neutral and the metal wire is visible △ can be confirmed to be colored △ × can be confirmed and the metal wire is visible × is a strong color (Production of electrode production)
○: Good productivity ×: Poor productivity <Evaluation of light control film>
(scattering)
As evaluation of scattering properties, Haze was measured using HAZE METER NDH5000 manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., and evaluated according to the following criteria.

○はITO同等(差が1未満)
○△はITOとの差が1以上3未満
△はITOとの差が3以上5未満
△×はITOとの差が5以上7未満
×はITOとの差が7以上
(曲げテスト)
調光フィルムを巻付け法によって曲げテストを行った。
○ is equivalent to ITO (difference is less than 1)
△: Difference from ITO is less than 1 and less than 3 △: Difference from ITO is from 3 to less than 5 △: Difference from ITO is from 5 to less than 7 ×: Difference from ITO is 7 or more (bending test)
The light control film was subjected to a bending test by a winding method.

巻付け法は、曲げ試験の一種で、試験片が規定の形になるように徐々に荷重を加えて、試験片を軸又は型に巻き付ける試験方法である。   The winding method is a kind of bending test, and is a test method in which a load is gradually applied so that the test piece has a specified shape, and the test piece is wound around a shaft or a mold.

具体的には、軸半径を3mmRから順次5、10、15mmR間隔で変化させて、何mmRまで劣化無く耐えられるかテストを行った。100mm×100mmの試験片を用いて、(360℃折り返す)形になるようにフィルムにテンションを掛け曲げ(10g/cm)を加えて、試験片301を軸303に巻き付け、何mmRまで劣化無く耐えられるかテストした。 試験回数は100回、劣化無しの判断は抵抗変化で行い、抵抗値変化が10%以内である最小半径で評価した。   Specifically, the shaft radius was changed sequentially from 3 mmR at intervals of 5, 10, and 15 mmR, and a test was conducted to see how many mmR it can withstand without deterioration. Using a test piece of 100 mm × 100 mm, applying tension (10 g / cm) to the film so that it becomes a shape (turned back at 360 ° C.), bending it (10 g / cm), winding the test piece 301 around the shaft 303, and enduring up to how many mmR without deterioration. Tested. The number of tests was 100, the determination of no deterioration was made by resistance change, and the evaluation was made by the minimum radius where the resistance value change was within 10%.

図5は、巻付け法の説明図である。   FIG. 5 is an explanatory diagram of the winding method.

○は3mmR未満(3mmRでも問題無し)
○△は3mm以上10mm未満
×は10mm以上
(引っ張りテスト)
ASTM−D−882に準じ、フィルムを5%引き伸ばした後の導電性(表面比抵抗)を測定した。引延ばす前後の性能差を評価した。
○ is less than 3 mmR (no problem with 3 mmR)
○: 3 mm or more and less than 10 mm ×: 10 mm or more (Tensile test)
According to ASTM-D-882, the conductivity (surface specific resistance) after stretching the film by 5% was measured. The difference in performance before and after stretching was evaluated.

○は10%以内の変動
△は10%より大きく、100%未満の変動(倍になる)
×は100%以上の変動
(耐久性:スクラッチテスト)
耐摩耗性試験機(HEIDON−18)を用い、針先が0.3mmRのサファイア針を用い、調光フィルムの裏面(第1電極側)から荷重を0g〜200gまで20g間隔で傷をつけた。荷重前後で調光フィルムを駆動し、動作に問題の無い荷重域を確認した。
○: Change within 10% △: Greater than 10%, less than 100% (double)
X indicates more than 100% fluctuation (Durability: Scratch test)
Using a wear resistance tester (HEIDON-18), a sapphire needle having a needle tip of 0.3 mmR was used, and the load was scratched from the back surface (first electrode side) of the light control film from 0 g to 200 g at 20 g intervals. . The light control film was driven before and after the load, and a load region having no problem in operation was confirmed.

○は100g以上
×は100g未満

Figure 2013148687
表1の結果から、本発明1及び2の調光フィルムは透過率が高く、外観に着色もなく、曲げ、引っ張り、耐久性に優れることから、従来製品では実現不可能であったフレキシブル性、且つ高耐久性の調光フィルムを提供できることが分かった。 ○ is 100g or more × is less than 100g
Figure 2013148687
From the results in Table 1, the light control films of the present inventions 1 and 2 have high transmittance, are not colored in appearance, and are excellent in bending, pulling, and durability. And it turned out that a highly durable light control film can be provided.

また、透明電極を塗布法、又は印刷法によって作製できることから生産性も高い。   Moreover, since a transparent electrode can be produced by the apply | coating method or the printing method, productivity is also high.

実施例2
<本発明3〜5の調光フィルムの作製>
次に本発明の透明電極2を第1電極及び第2電極として用い、各種調光層の適応を確認した。
Example 2
<Preparation of the light control film of this invention 3-5>
Next, the transparent electrode 2 of this invention was used as a 1st electrode and a 2nd electrode, and the adaptation of various light control layers was confirmed.

(本発明3の調光フィルム)
特開2011−232488号公報段落[0181]に従いエレクトロクロミック粒子を作製した。
(Light control film of the present invention 3)
Electrochromic particles were prepared according to paragraph [0181] of JP2011-232488A.

<エレクトロクロミック粒子の作製>
まず、酸化チタンナノ粒子に2−ブロモエチルトリクロロシラン、4,4′−ビピリジン、1−ブロモヘキサンを順次反応させ、エレクトロクロミック粒子1を作製した。
<Preparation of electrochromic particles>
First, 2-chromoethyltrichlorosilane, 4,4′-bipyridine, and 1-bromohexane were sequentially reacted with titanium oxide nanoparticles to produce electrochromic particles 1.

(積層体1の作製)
本発明の透明電極2上に、上記エレクトロクロミック粒子の分散液をスピンコート法により塗布した。続いて、シリカナノ粒子分散液(シーアイ化成社製)をスピンコート法により塗布し、その上にメチルエチルケトンに溶解させたシランカップリング剤 KBM−303、KBM−503(信越化学社製)を50:50に含有した1%液を噴霧乾燥し、その後塗布層上に本発明の透明電極2を対向電極として貼合した。
(Preparation of laminate 1)
On the transparent electrode 2 of the present invention, the electrochromic particle dispersion was applied by spin coating. Subsequently, silane coupling agents KBM-303 and KBM-503 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) dissolved in methyl ethyl ketone were applied to the silica nanoparticle dispersion liquid (manufactured by C-I Kasei Co., Ltd.) by a spin coat method and 50:50. The 1% liquid contained in was spray-dried, and then the transparent electrode 2 of the present invention was bonded as a counter electrode on the coating layer.

その後、150℃で24時間焼結させ、複数の表示電極とエレクトロクロミック層から成る本発明3の調光フィルムを得た。   Thereafter, sintering was performed at 150 ° C. for 24 hours to obtain a light control film of the present invention 3 comprising a plurality of display electrodes and an electrochromic layer.

(本発明4の調光フィルム)
特開2009−133921号公報に従い段落[0111]〜[0116]を参考にしてエマルジョン型液晶を作製した。
(Light control film of the present invention 4)
An emulsion type liquid crystal was prepared according to JP 2009-133922 A with reference to paragraphs [0111] to [0116].

《エマルジョン型液晶調光フィルム》
ポリエーテルウレタンエマルジョン Neorez R−967(楠本化成株式会社:水不揮発分40%)この希釈された高分子エマルジョン100部に対して、ネマチック液晶(JM1000XX(複屈折率Δn=0.132):チッソ製)64部を添加した。このエマルジョンホモジナイザー(日本精機製)にて回転数133.3回転/秒(8000rpm)で10分間攪拌し、液晶エマルジョンを得た。
<Emulsion type liquid crystal light control film>
Polyether urethane emulsion Neorez R-967 (Enomoto Kasei Co., Ltd .: 40% water non-volatile content) For 100 parts of this diluted polymer emulsion, nematic liquid crystal (JM1000XX (birefringence index Δn = 0.132): manufactured by Chisso Corporation ) 64 parts were added. This emulsion homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) was stirred at a rotational speed of 133.3 revolutions / second (8000 rpm) for 10 minutes to obtain a liquid crystal emulsion.

続いて架橋剤のポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルを水に溶解して、50%の架橋剤水溶液を調製した。上記で得た液晶エマルジョンを低速で攪拌しながら、この液晶エマルジョンに上記の架橋剤水溶液を添加した。架橋剤水溶液の添加割合は、液晶エマルジョンに含まれる高分子エマルジョン100部(水で希釈した状態の高分子エマルジョン100部)に対して架橋剤水溶液4.8部とした。こうして得た膜形成用の液晶エマルジョンにおける液晶比率V1は0.60であった。   Subsequently, a polypropylene glycol diglycidyl ether as a crosslinking agent was dissolved in water to prepare a 50% aqueous crosslinking agent solution. While the liquid crystal emulsion obtained above was stirred at a low speed, the above-mentioned aqueous crosslinking agent solution was added to this liquid crystal emulsion. The addition ratio of the crosslinking agent aqueous solution was 4.8 parts of the crosslinking agent aqueous solution with respect to 100 parts of the polymer emulsion contained in the liquid crystal emulsion (100 parts of the polymer emulsion diluted with water). The liquid crystal ratio V1 in the liquid crystal emulsion for film formation thus obtained was 0.60.

次に、液晶エマルジョンをワイヤーバーにて本発明の透明電極2上に塗布し、100℃10分間乾燥して、PENフィルム上に液晶−樹脂複合体を形成した。この液晶−樹脂複合体が形成されたフィルムを本発明の透明電極2を対向電極として貼合し、本発明4の調光フィルムを得た。   Next, the liquid crystal emulsion was applied on the transparent electrode 2 of the present invention with a wire bar and dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a liquid crystal-resin composite on the PEN film. The film on which this liquid crystal-resin composite was formed was bonded using the transparent electrode 2 of the present invention as a counter electrode, and the light control film of the present invention 4 was obtained.

(本発明5の調光フィルム)
特開2001−180264号 段落[0033]〜[0034]に従い下記混合物を作製した。
(Light Control Film of Invention 5)
JP, 2001-180264, A The following mixture was produced according to paragraphs [0033]-[0034].

[実施例1]カイラル剤(メルク社製 S−811とメルク社製 C15の質量比1:1の混合物)を2.5質量%溶解したシアノ系ネマチック液晶(メルク社製 BL−009)95部、未硬化の硬化性化合物として下記化合物5部、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン0.15部の混合物(混合物A)を調製した。   [Example 1] 95 parts of a cyano nematic liquid crystal (BL-009 manufactured by Merck) in which 2.5% by mass of a chiral agent (a mixture of S-811 manufactured by Merck and C15 manufactured by Merck) having a mass ratio of 1: 1 was dissolved. As an uncured curable compound, a mixture (mixture A) of 5 parts of the following compound and 0.15 part of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was prepared.

Figure 2013148687
次に、本発明の透明電極2を微量の直径13μmの樹脂ビーズを介して対向し、一部に切り欠けを設けて四辺に幅約3mmで印刷したエポキシ樹脂により貼合してセルを作製した。このセルに上記混合物を真空注入法にて注入し、切り欠き部をエポキシ樹脂で封止した。このセルを、120℃に温度設定した恒温槽中に20分間保持した後25℃まで冷却した。その後、このセルを25℃に保持した状態で、主波長が約365nmのHgXeランプを用いて硝子面の両側からそれぞれ約3mW/cmの強度の紫外線を10分間照射して、本発明5の調光フィルムを得た。
Figure 2013148687
Next, the transparent electrode 2 of the present invention was opposed to each other through a small amount of resin beads having a diameter of 13 μm, and a cell was prepared by bonding with an epoxy resin having a notch formed in a part and printed with a width of about 3 mm on four sides. . The mixture was injected into this cell by a vacuum injection method, and the notch was sealed with an epoxy resin. The cell was kept in a thermostat set at 120 ° C. for 20 minutes and then cooled to 25 ° C. Thereafter, with the cell held at 25 ° C., ultraviolet light having an intensity of about 3 mW / cm 2 was irradiated from both sides of the glass surface for 10 minutes using an HgXe lamp having a dominant wavelength of about 365 nm. A light control film was obtained.

以上の本発明の調光フィルム3〜5は、いずれも良好な駆動性を有し、いずれも調光フィルムとして良好に作動することを確認した。またこれらの積層体は、いずれも実施例1の曲げ、引っ張り、耐久性の評価で良好な結果を示した。   It was confirmed that all of the light control films 3 to 5 of the present invention described above have good drivability and operate well as a light control film. Moreover, all of these laminates showed good results in the bending, pulling and durability evaluation of Example 1.

したがって実施例2から本発明の調光フィルムは、エレクトロクロミック型、高分子分散型液晶(PDLC)又は高分子ネットワーク型液晶(PNLC)のいずれの調光層に対しても利用可能であることが確認された。
更に本発明に係る調光層は塗布法によって製造できるため、高生産性である。
Therefore, the light control film of the present invention from Example 2 can be used for any light control layer of electrochromic type, polymer dispersed liquid crystal (PDLC) or polymer network type liquid crystal (PNLC). confirmed.
Furthermore, since the light control layer which concerns on this invention can be manufactured by the apply | coating method, it is high productivity.

実施例3
<比較例7〜9、本発明4、6〜10の調光フィルムの作製>
次に本発明の導電性ポリマー組成物またプロセス条件を変更した透明電極での動作及び性能を検証した。
Example 3
<Preparation of the light control film of Comparative Examples 7-9 and this invention 4, 6-10>
Next, the operation and performance of the conductive polymer composition of the present invention and the transparent electrode with modified process conditions were verified.

以下、実施例2の本発明4に準じて作製するが、透明電極の作製における導電性ポリマー層を設けた後の、加熱条件を以下のように変更した以外は同様に作製した。   Hereinafter, it produced according to this invention 4 of Example 2, but it produced similarly except having changed the heating conditions after providing the conductive polymer layer in preparation of a transparent electrode as follows.

基準(実施例2の本発明4同様)80℃で5分乾燥し、さらに150℃で60分熱処理した透明電極を作製し使用した(本発明4の調光フィルム)。   Standard (similar to Invention 4 of Example 2) A transparent electrode dried at 80 ° C. for 5 minutes and further heat-treated at 150 ° C. for 60 minutes was prepared and used (the light control film of Invention 4).

(本発明6の調光フィルム)
80℃で5分乾燥し、さらに150℃で5時間熱処理した透明電極を作製し使用した。
(Light control film of the present invention 6)
A transparent electrode which was dried at 80 ° C. for 5 minutes and further heat-treated at 150 ° C. for 5 hours was prepared and used.

(本発明7の調光フィルム)
80℃で5分乾燥し、さらに150℃で96時間熱処理した透明電極を作製し使用した。
(Light control film of the present invention 7)
A transparent electrode that was dried at 80 ° C. for 5 minutes and then heat-treated at 150 ° C. for 96 hours was prepared and used.

更に導電性ポリマー層を以下に変更したサンプルを作製した。   Furthermore, the sample which changed the conductive polymer layer into the following was produced.

<ポリエステル樹脂の製造>
(ポリエステル樹脂PP−1)
酸成分として、テレフタル酸(TPA)2160g、イソフタル酸(IPA)1578g、セバシン酸(SEA)505g、アルコール成分としてエチレングリコール(EG)931g、ネオペンチルグリコール(NPG)1953gをオートクレーブ中に仕込んで、250℃で4時間加熱してエステル化反応を行った。仕込み原料比率はTPA/IPA/SEA/EG/NPG=52/38/10/60/75(モル比)であった。ついで、触媒として酢酸亜鉛二水和物を3.3g添加した後、系の温度を260℃に昇温し、系の圧力を徐々に減じて1時間後に13Paとした。この条件下でさらに5時間縮重合反応を続け、系を窒素ガスで常圧にし、系の温度を下げ、255℃になったところで無水トリメリット酸7.2gを添加し、255℃で2時間攪拌して解重合反応を行った。その後、系を窒素ガスで加圧状態にしておいて、ストランド状に樹脂を払出し、水温が35℃のクエンチングバスを経由してペレタイザーでカッティングすることで、ペレット状のポリエステル樹脂PP−1を得た。得られたポリエステル樹脂PP−1の数平均分子量=14000、酸価=23、ガラス転移温度(Tg)=45であった。
<Manufacture of polyester resin>
(Polyester resin PP-1)
As an acid component, 2160 g of terephthalic acid (TPA), 1578 g of isophthalic acid (IPA), 505 g of sebacic acid (SEA), 931 g of ethylene glycol (EG) and 1953 g of neopentyl glycol (NPG) as an alcohol component were charged in an autoclave, 250 The esterification reaction was performed by heating at 4 ° C. for 4 hours. The raw material ratio was TPA / IPA / SEA / EG / NPG = 52/38/10/60/75 (molar ratio). Subsequently, after adding 3.3 g of zinc acetate dihydrate as a catalyst, the temperature of the system was raised to 260 ° C., and the pressure of the system was gradually reduced to 13 Pa after 1 hour. Under this condition, the polycondensation reaction is continued for another 5 hours, the system is brought to atmospheric pressure with nitrogen gas, the temperature of the system is lowered, and when the temperature reaches 255 ° C., 7.2 g of trimellitic anhydride is added, and at 255 ° C. for 2 hours. The depolymerization reaction was carried out with stirring. Thereafter, the system is put under pressure with nitrogen gas, the resin is discharged in a strand shape, and the pellet temperature is reduced by cutting with a pelletizer via a quenching bath having a water temperature of 35 ° C. Obtained. The number average molecular weight of the obtained polyester resin PP-1 was 14000, the acid value was 23, and the glass transition temperature (Tg) was 45.

<ポリエステル樹脂水性分散体の製造>
(ポリエステル樹脂水性分散体E−1)
ジャケット付きガラス2L容器にポリエステル樹脂PP−1を400gとMEKを600g投入し、ジャケットに60℃の温水を通して加熱しながら、攪拌することにより、完全にポリエステル樹脂を溶解させ、固形分濃度40質量%のポリエステル樹脂溶液1000gを得た。次に、ジャケットに冷水を通して系内温度を13℃に保ち、回転速度50rpmで攪拌しながら、塩基性化合物としてトリエチルアミン23.8gを添加し、続いて100g/minの速度で13℃の蒸留水を1107g添加して転相乳化を行った。続いて、得られた水性分散体のうち、1600gを2Lのフラスコに入れ、常圧下で蒸留を行うことで有機溶剤を留去した。蒸留は留去量が630gになったところで終了し、室温まで冷却後、ポリエステル樹脂水性分散体を攪拌しながら、25質量%アンモニア水1.1gを添加した。その後、1000メッシュのステンレス製フィルターで濾過し、ポリエステル樹脂水性分散体E−1を得た。
<Production of aqueous polyester resin dispersion>
(Polyester resin aqueous dispersion E-1)
400 g of polyester resin PP-1 and 600 g of MEK are put into a glass 2 L container with a jacket, and the polyester resin is completely dissolved by stirring while heating through warm water at 60 ° C. in the jacket, and the solid content concentration is 40% by mass. 1000 g of a polyester resin solution was obtained. Next, cold water is passed through the jacket to keep the system temperature at 13 ° C., and while stirring at a rotational speed of 50 rpm, 23.8 g of triethylamine is added as a basic compound, followed by 13 ° C. distilled water at a rate of 100 g / min. 1107 g was added to carry out phase inversion emulsification. Subsequently, 1600 g of the obtained aqueous dispersion was placed in a 2 L flask, and the organic solvent was distilled off by distillation under normal pressure. Distillation was terminated when the amount of distillate reached 630 g, and after cooling to room temperature, 1.1 g of 25% by mass ammonia water was added while stirring the aqueous polyester resin dispersion. Then, it filtered with a 1000 mesh stainless steel filter, and obtained polyester resin aqueous dispersion E-1.

100μmのPENフィルム(テオネックス 帝人株式会社製)上に、下記塗布液Bを、押し出し法を用いて、乾燥膜厚300nmになるように押し出しヘッドのスリット間隙を調整して塗布し、80℃、5分で加熱乾燥し、導電性ポリマーとポリエステル樹脂からなる導電層を形成し、さらに得られた導電層を、オーブンを用いて150℃、60分加熱処理することで透明電極(本発明8の調光フィルム)を作製した。   The following coating solution B was applied onto a 100 μm PEN film (made by Teonex Teijin Ltd.) by adjusting the slit gap of the extrusion head so as to have a dry film thickness of 300 nm using an extrusion method. Heat-dried to form a conductive layer composed of a conductive polymer and a polyester resin, and the obtained conductive layer was heat-treated at 150 ° C. for 60 minutes using an oven to obtain a transparent electrode (preparation of the present invention 8). Optical film).

(塗布液B)
導電性ポリマー分散液:PEDOT−PSS CLEVIOS PH510(固形分濃度1.89%、H.C.Starck社製) 1.59g
ポリエステル樹脂水性分散体:E−1 0.35g(固形分70mg)
ジメチルスルホキシド(DMSO、導電性ポリマー溶液質量の10分の1)
0.16g
さらに上記の乾燥条件を以下に変更し、本発明に係る透明電極9〜10を作製した。
(Coating solution B)
Conductive polymer dispersion: PEDOT-PSS CLEVIOS PH510 (solid content concentration 1.89%, manufactured by HC Starck) 1.59 g
Polyester resin aqueous dispersion: E-1 0.35 g (solid content 70 mg)
Dimethyl sulfoxide (DMSO, 1/10 of the conductive polymer solution mass)
0.16g
Furthermore, said drying conditions were changed into the following and the transparent electrodes 9-10 which concern on this invention were produced.

(本発明9の調光フィルム)
80℃で5分乾燥し、さらに150℃で5時間熱処理した透明電極9を作製し使用した。
(Light control film of the present invention 9)
A transparent electrode 9 which was dried at 80 ° C. for 5 minutes and further heat-treated at 150 ° C. for 5 hours was prepared and used.

(本発明10の調光フィルム)
80℃で5分乾燥し、さらに150℃で96時間熱処理した透明電極10を作製し使用した。
(Light control film of the present invention 10)
A transparent electrode 10 that was dried at 80 ° C. for 5 minutes and then heat-treated at 150 ° C. for 96 hours was prepared and used.

CLEVIOS PH 500 (Heraeus社製)のPEDOT/PSSにDMSOを5%添加し、100μmのPENフィルム(テオネックス 帝人株式会社製)上にスピン塗布し透過率Tが85%となるように調整した。スピンの回転により、膜の流動性が無くなる程度まで乾燥させた後、ホットプレート上で80℃で5分乾燥し、150℃で60分間熱処理を行い、余分な溶剤を除去し、PEDOT−PSS層の形成による透明電極を作製し使用した。   5% DMSO was added to PEDOT / PSS of CLEVIOS PH 500 (manufactured by Heraeus), spin-coated on a 100 μm PEN film (manufactured by Teonex Teijin Ltd.), and the transmittance T was adjusted to 85%. After spinning to the extent that the fluidity of the film is eliminated by spin rotation, the film is dried on a hot plate at 80 ° C. for 5 minutes, heat treated at 150 ° C. for 60 minutes to remove excess solvent, and the PEDOT-PSS layer A transparent electrode was formed and used.

(比較例7の調光フィルム)
さらに上記の乾燥条件を以下に変更し比較例の透明電極8〜9を作製した。
(Light control film of Comparative Example 7)
Furthermore, the above drying conditions were changed to the following, and transparent electrodes 8 to 9 of comparative examples were produced.

(比較例8の調光フィルム)
80℃で5分乾燥し、さらに150℃で5時間熱処理した透明電極8を作製し使用した。
(Light control film of Comparative Example 8)
A transparent electrode 8 which was dried at 80 ° C. for 5 minutes and further heat-treated at 150 ° C. for 5 hours was prepared and used.

(比較例9の調光フィルム)
80℃で5分乾燥し、さらに150℃で96時間熱処理した透明電極9を作製し使用した。
(Light control film of Comparative Example 9)
A transparent electrode 9 which was dried at 80 ° C. for 5 minutes and further heat-treated at 150 ° C. for 96 hours was prepared and used.

これらの透明電極に対し、実施例2の本発明4で用いた調光層を実施例2と同様に設けて調光フィルムを作製し以下の評価を行った。   The light control layer used by this invention 4 of Example 2 was provided similarly to Example 2 with respect to these transparent electrodes, the light control film was produced, and the following evaluation was performed.

(耐候性)
作製した調光フィルムを「キセノンウェザーメーターXL75」(スガ試験機株式会社製)を用いて、キセノンランプ7万ルクスの照射条件にて1ヶ月照射を行い、照射後に調光フィルムを駆動し、耐候試験後の素子状況を目視で確認した。
(Weatherability)
Using the "Xenon Weather Meter XL75" (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the prepared light control film was irradiated for 1 month under the irradiation conditions of a xenon lamp of 70,000 lux. The element condition after the test was confirmed visually.

○は基本的に問題無く駆動
○△は極僅かに劣化部分が発生(5%未満)
△は部分的に劣化発生(5%以上20%未満)
△×は大面積で劣化発生(20%以上50%未満)
×は50%以上で劣化発生
(保存性)
作製した調光フィルムを40℃80%の環境下に1ヶ月放置し、23℃50%の環境に戻し、1週間後に調光フィルムを駆動し、保存前後の素子状況を目視で確認した。
○ is basically no problem drive ○ △ is slightly deteriorated (less than 5%)
Δ is partially degraded (5% or more but less than 20%)
△ × indicates deterioration in a large area (20% or more and less than 50%)
×: Deterioration occurs at 50% or more (storability)
The produced light control film was left in an environment of 40 ° C. and 80% for 1 month, returned to an environment of 23 ° C. and 50%, and after 1 week, the light control film was driven, and the device condition before and after storage was visually confirmed.

○は基本的に問題無く駆動
○△は極僅かに端部に劣化発生(5%未満)
△は端部に劣化発生(5%以上20%未満)
△×は内部まで劣化が進行(20%以上50%未満)
×は50%以上で劣化が進行

Figure 2013148687
これら調光フィルムは、いずれも良好に動作することを確認した。またこれらの調光フィルムは、いずれも実施例1の曲げ、引っ張り、耐久性の観点で良好な結果を示した。しかしながら比較例7〜9のPEDOTを使用した調光フィルムは応答が遅いばかりか、耐候性、保存性が著しく劣ることが確認され、耐候性、保存性試験後は応答しなくなった。本発明の調光フィルムは、試験後も駆動可能であり良好であり、特に解離性基を有する自己分散型ポリマーに相当する本発明8〜10の調光フィルムは、ヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーに対し、低熱量時の保存性、耐候性の観点でさらに優位にあることを確認した。 ○: Drive without problems ○ △: Slightly deteriorated at the edge (less than 5%)
△ indicates deterioration at the edge (5% or more but less than 20%)
△ × indicates deterioration to the inside (20% or more and less than 50%)
×: Deterioration progresses at 50% or more
Figure 2013148687
These light control films were confirmed to work well. Moreover, all of these light control films showed the favorable result from the viewpoint of the bending of Example 1, a tension | pulling, and durability. However, the light control films using PEDOT in Comparative Examples 7 to 9 were not only slow in response but also confirmed to be extremely inferior in weather resistance and storage stability, and stopped responding after the weather resistance and storage stability tests. The light control film of the present invention can be driven even after the test and is good. In particular, the light control film of the present invention 8 to 10 corresponding to the self-dispersing polymer having a dissociable group is non-conductive having a hydroxy group. It was confirmed that the polymer is further superior in terms of storage stability and weather resistance at low heat.

実施例4
本発明の調光フィルム7の条件において、金属細線のパターンを以下のようにストライプ状に変更し調光フィルムを作製した。対向電極は一方ともう一方のストライプを直行させるように貼合し、モアレ発生の無い良好な調光フィルムを得た。
Example 4
Under the conditions of the light control film 7 of the present invention, the pattern of the fine metal wires was changed to a stripe shape as follows to prepare a light control film. The counter electrode was bonded so that one and the other stripes were orthogonal, and a good light control film free from moire was obtained.

本発明12の調光フィルムは10μm細線ストライプ形成を、特開2010−98973号公報図1記載の静電吸引式インクジェットシステムを用いて作製した。   The light control film of the present invention 12 was formed by forming a 10 μm fine line stripe using the electrostatic suction ink jet system described in FIG. 1 of JP 2010-99873 A.

(1.1)静電吸引方式インクジェット装置
特開2010−98973号公報図1記載のインクジェットヘッド2のノズルプレート11をポリテトラフルオロエチレン(PTFE) テオネックス(帝人デュポンフィルム株式会社製)の材料を用いて実際に作製し、ノズル10の吐出孔13から液滴をフィルム基材に吐出させた。
(1.1) Electrostatic Suction Type Inkjet Device JP, 2010-98973, A The nozzle plate 11 of the ink-jet head 2 shown in FIG. 1 is made of polytetrafluoroethylene (PTFE) Teonex (manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.). In actuality, droplets were ejected from the ejection holes 13 of the nozzle 10 onto the film substrate.

インクジェットヘッド2の構成は、ノズル10のテーパ角は4°で小径部14と大径部15とが連続した1段構造とした。   The configuration of the inkjet head 2 is a one-stage structure in which the taper angle of the nozzle 10 is 4 ° and the small diameter portion 14 and the large diameter portion 15 are continuous.

銀ナノインクは、PR030(Inctec社製)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)で希釈し、10cpに調整し使用した。   The silver nano ink was prepared by diluting PR030 (manufactured by Inctec) with N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) to 10 cp.

ドット形成は、ギャップを1mm間隙とし、基板側に500V印加し、ヘッドインク側をアースに駆動周波数30kHzで線状の細線パターンを幅10μmで形成した。また主走査方向に1/3ピッチずつずらして出射形成した。   In the dot formation, the gap was 1 mm, 500 V was applied to the substrate side, and the head ink side was grounded to form a linear fine line pattern with a driving frequency of 30 kHz and a width of 10 μm. Further, the emission was formed by shifting by 1/3 pitch in the main scanning direction.

本発明15の調光フィルムのCuインクは、本発明11の調光フィルムにおいて銀ナノインクを下記のインクに変えた以外は、同様にして作製した。   The Cu ink of the light control film of the present invention 15 was prepared in the same manner except that the silver nano ink was changed to the following ink in the light control film of the present invention 11.

本発明に係る透明電極の作製において、銀ナノ粒子ペーストに代えて銅ナノ粒子ペーストを調製し、ストライプパターン状に形成して同様の熱処理を行った。   In the production of the transparent electrode according to the present invention, a copper nanoparticle paste was prepared instead of the silver nanoparticle paste, formed in a stripe pattern, and subjected to the same heat treatment.

銅ナノ粒子ペーストは、平均分子量10000のポリビニルピロリドン(東京化成社製)0.28gを0.72gのエチレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、2,3−ブタンジオールに溶解させ、平均粒径50nmの銅ナノ粒子(シグマアルドリッチ社製)4.0gと3本ロール及びミキサーを用いて混練し作製した。銅ナノ粒子は、50個を観察した時のアスペクト比は2.0以下であった。   The copper nanoparticle paste was prepared by dissolving 0.28 g of polyvinylpyrrolidone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) having an average molecular weight of 10,000 in 0.72 g of ethylene glycol, glycerin, diethylene glycol, and 2,3-butanediol, 4.0 g of particles (manufactured by Sigma-Aldrich), three rolls, and a mixer were used for kneading. When 50 copper nanoparticles were observed, the aspect ratio was 2.0 or less.

Figure 2013148687
表3によれば、本発明では実質的にストライプ線の見えない調光フィルムも、その反対に金属線のハッキリ見える疑似ワイヤー入り防犯ガラスのような仕上がりの調光フィルムも同一組成で作製可能であり、製品バリエーション上も非常に有用である。
Figure 2013148687
According to Table 3, in the present invention, it is possible to produce a light control film with substantially the same stripe composition, and a light control film with a finished composition such as a security wire with pseudo wires that can clearly see a metal wire. Yes, it is very useful in terms of product variations.

また低温焼成銅インクでも同様に作動することが確認されており、将来的に更に安価な製品に展開できる可能性がある。   In addition, it has been confirmed that the low-temperature fired copper ink operates in the same manner, and there is a possibility that it can be developed into a cheaper product in the future.

実施例5
基材巾180mmの100μmPENフィルム2本を準備した。
Example 5
Two 100 μm PEN films having a substrate width of 180 mm were prepared.

一つのフィルム基材は実施例4の発明11と同様にしてスクリーン印刷にて、中央に170mm巾の金属細線(基材巾手に垂直方向のストライプ)を設け、熱処理を行い、その上にインクジェット印刷にて、同様に中央に170mm巾の導電性ポリマー層を設け熱処理を行い、180mmフィルム基材上に170mm透明電極を設けたフィルムaを作製した。   One film substrate was screen printed in the same manner as in Invention 11 of Example 4, and a 170 mm wide metal wire (stripe perpendicular to the substrate width) was provided at the center, heat-treated, and an ink jet on it. Similarly, by printing, a conductive polymer layer having a width of 170 mm was provided at the center and subjected to heat treatment, and a film a having a 170 mm transparent electrode provided on a 180 mm film substrate was produced.

巻取りの際には、離形フィルムT788(ダイセルバリュー社製)で電極を保護した。   At the time of winding, the electrode was protected with a release film T788 (manufactured by Daicel Value).

同様にもう一つのフィルム基材は実施例4の発明11と同様にしてスクリーン印刷にて、中央に170mm巾の金属細線(基材巾手に平行方向のストライプ)を設け、熱処理を行い、その上にインクジェット印刷にて、同様に中央に170mm巾の導電性ポリマー層を設け熱処理を行い、180mm基材上に170mm透明電極を設けたフィルムbを作製した。   Similarly, another film substrate was screen-printed in the same manner as in Invention 11 of Example 4, and a 170 mm wide metal thin wire (stripe parallel to the substrate width) was provided at the center, and heat treatment was performed. Similarly, a conductive polymer layer having a width of 170 mm was provided at the center by ink-jet printing, followed by heat treatment, and a film b in which a 170 mm transparent electrode was provided on a 180 mm base material was produced.

巻取りの際には、離形フィルムT788(ダイセルバリュー社製)で電極を保護した。   At the time of winding, the electrode was protected with a release film T788 (manufactured by Daicel Value).

一方のフィルムaは離形フィルムを剥離巻取りし、実施例1と同様にして調光層をダイコートにて塗布巾を中央から160mm、乾燥膜厚45μmとなるように塗工して同様に乾燥し、その上にメチルエチルケトンに溶解させたシランカップリング剤 KBM−303、KBM−503(信越化学社製)を50:50に含有した1%液を2nm相当量をスプレー噴霧し100℃1分間乾燥して電極/調光層積層体Aを形成した。さらに離形フィルムT788(ダイセルバリュー社製)で電極/調光層積層体Aを保護した。   One film a was peeled off and released from the release film, and in the same manner as in Example 1, the light control layer was coated by die coating so that the coating width was 160 mm from the center and the dry film thickness was 45 μm, and dried in the same manner. Then, a 1% solution containing 50:50 of silane coupling agents KBM-303 and KBM-503 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) dissolved in methyl ethyl ketone is sprayed in an amount equivalent to 2 nm and dried at 100 ° C. for 1 minute. Thus, an electrode / light control layer laminate A was formed. Furthermore, the electrode / light control layer laminate A was protected with a release film T788 (manufactured by Daicel Value).

電極/調光層積層体A及びフィルムbを中央でスリットし、その後90mmに枚葉にカットしそれぞれ作製し、それぞれの調光層が設けられていない端部に取出し電極を設け、図6のように積層する。(取出し電極は同一サイドから取出しても良いし、異なる面(逆面等)から取出しても良い。)
その後、照度275mW/cmに調整されたメタルハライドランプで上記積層フィルムの上下から(両面から)積算光量2000mJ/cm(測定;UV Power Pack S/N 8601UV−A(320〜390nm)フュージョン製)の紫外線を照射し、光調整懸濁液が球形の液滴として紫外線硬化したシリコーン樹脂内に分散形成された調光層を持つ調光フィルムを製造した。作製した調光フィルムは、図6で示すように基材巾に対し、基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾となるように各層が設けられている。
The electrode / light control layer laminate A and the film b are slit at the center, and then cut into 90 mm pieces to prepare each, and an extraction electrode is provided at the end where each light control layer is not provided. Laminate as follows. (The extraction electrodes may be extracted from the same side, or may be extracted from different surfaces (reverse surfaces, etc.).)
Then, from the top and bottom of the laminated film (from both sides) with a metal halide lamp adjusted to an illuminance of 275 mW / cm 2 , an integrated light amount of 2000 mJ / cm 2 (measurement; UV Power Pack S / N 8601 UV-A (320 to 390 nm) manufactured by Fusion) A light control film having a light control layer in which a light control suspension was dispersed and formed in a UV-cured silicone resin as a spherical droplet was produced. As shown in FIG. 6, the produced light control film is provided with each layer such that the base material width> the transparent electrode formation width> the light control layer formation width with respect to the base material width.

上記のようにして20枚の調光フィルムを900mmの電極/調光層積層体A及びフィルムbから作製し、作製した調光フィルムは、いずれも良好に動作することを確認した。またこれらの積層体は、いずれも実施例1の曲げ、引っ張り、耐久性の観点で良好な結果を示した。これらの積層体は複雑な製造プロセスや複雑なパターニングを要しないため、非常に簡便に無駄なく大量の調光フィルムを再現良く製造でき、好ましい方法であることが分かった。   20 light control films were produced from the 900 mm electrode / light control layer laminate A and the film b as described above, and it was confirmed that all of the produced light control films operated well. In addition, all of these laminates showed good results from the viewpoints of bending, pulling, and durability of Example 1. Since these laminates do not require a complicated manufacturing process or complicated patterning, it has been found that a very large amount of light control films can be manufactured with good reproducibility without waste, which is a preferable method.

実施例6
本発明の調光フィルム11、及び比較例の調光フィルム4をロール状に作製し、その片面に以下の粘着層液をダイコートで乾燥膜厚25μmとなるように設け、60度で1分間、100度で1分間乾燥した後、離型ポリエステルフィルム[商品名「スーパステック SP−PET38」、リンテック(株)製]を貼合し、45℃3日間エージングして、剥離支持体・粘着層・調光フィルムの構成を得た。
Example 6
The light control film 11 of this invention and the light control film 4 of a comparative example are produced in roll shape, and the following adhesion layer liquid is provided so that it may become a dry film thickness of 25 micrometers by the die coat on one side, and it is 60 degree | times for 1 minute, After drying at 100 ° C. for 1 minute, a release polyester film [trade name “Supertech SP-PET38”, manufactured by Lintec Co., Ltd.] is bonded and aged at 45 ° C. for 3 days. The composition of the light control film was obtained.

本発明の調光フィルム11、及び比較例の調光フィルム4の片面に以下の粘着層液をアプリケータで25μmとなるように設け、60度で1分間、100度で1分間乾燥した後、離型ポリエステルフィルム[商品名「スーパステック SP−PET38」、リンテック(株)製]を貼合し、45℃3日間エージングして、剥離支持体・粘着層・調光フィルムの構成を得た。   After providing the following adhesive layer liquid with an applicator at 25 μm on one side of the light control film 11 of the present invention and the light control film 4 of the comparative example, drying at 60 degrees for 1 minute, 100 degrees for 1 minute, A release polyester film [trade name “Supertech SP-PET38”, manufactured by Lintec Corporation] was bonded and aged at 45 ° C. for 3 days to obtain a structure of a release support, an adhesive layer, and a light control film.

(粘着層液の調製)
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素ガス導入管を付した反応容器に、酢酸エチル70部を仕込み78℃に昇温した。n−ブチルアクリレート264部(2.1モル部)、アクリル酸36部(0.5モル部)を配合したモノマー配合液と、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.1部を酢酸エチル55部に溶解した開始剤溶液とを、反応容器内に窒素を吹き込みながら、別々の滴下ロートから4時間かけて連続的に滴下してラジカル重合させた。
(Preparation of adhesive layer solution)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping funnel and nitrogen gas inlet tube, 70 parts of ethyl acetate was charged and the temperature was raised to 78 ° C. a monomer liquid mixture containing 264 parts (2.1 mole parts) of n-butyl acrylate and 36 parts (0.5 mole parts) of acrylic acid, and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile); An initiator solution in which 1 part was dissolved in 55 parts of ethyl acetate was subjected to radical polymerization by continuously dropping it over 4 hours from a separate dropping funnel while blowing nitrogen into the reaction vessel.

滴下終了後2時間熟成させ、その後2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.6部を酢酸エチル28部に溶解した開始剤溶液を滴下ロートを用いて2時間かけて連続的に追加した。さらに、沸点(80℃)で重合反応を2時間継続した後、酢酸エチル1047部を加えて(メタ)アクリレート系共重合体前駆体(A1)の溶液(固形分濃度=20%)を得た。Mwは150万であった。   After completion of the dropwise addition, the mixture was aged for 2 hours, and then an initiator solution prepared by dissolving 0.6 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 28 parts of ethyl acetate was continuously added for 2 hours using a dropping funnel. Added. Furthermore, after continuing the polymerization reaction at the boiling point (80 ° C.) for 2 hours, 1047 parts of ethyl acetate was added to obtain a solution (solid content concentration = 20%) of the (meth) acrylate copolymer precursor (A1). . Mw was 1.5 million.

上記(メタ)アクリレート系共重合体(A1)の溶液(固形分濃度=20%)100部に、架橋剤(B)としてトリメチロールプロパンのイソシアネート末端ウレタンプレポリマーの75%酢酸エチル溶液[商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン(株)製]1部及びシランカップリング剤(C)として3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン0.05部[商品名「KBM−403」、信越化学(株)製]を均一に混合して粘着剤(X1)を調製した。粘着剤(X1)の粘度(測定法:JIS−K7117−2に記載の方法)は、25℃において7200(mPa・s)であった。   A 75% ethyl acetate solution of an isocyanate-terminated urethane prepolymer of trimethylolpropane as a crosslinking agent (B) was added to 100 parts of the above-mentioned (meth) acrylate copolymer (A1) (solid concentration = 20%) [trade name "Coronate L" manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. 1 part and 0.05 part of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane [trade name "KBM-403", Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] as silane coupling agent (C) Product] was uniformly mixed to prepare an adhesive (X1). The viscosity (measurement method: method described in JIS-K7117-2) of the pressure-sensitive adhesive (X1) was 7200 (mPa · s) at 25 ° C.

この高性能シートをサイズアップした物を試作し、50cm×1mにカットした物を準備し、透明電極がITOの比較例4の調光フィルムと本発明に係る透明電極を有する調光フィルム11を、窓ガラスに貼合・剥離の作業を5回繰り返した後に調光フィルムを駆動したところ、ITOを用いた調光フィルムは不良箇所が発生したが、本発明の透明電極を用いた調光フィルムは、全く故障が発生しなかった。   This high-performance sheet was sized up to make a prototype, and a 50 cm × 1 m cut was prepared. The light control film 11 of Comparative Example 4 in which the transparent electrode was ITO and the light control film 11 having the transparent electrode according to the present invention were prepared. When the light control film was driven after the pasting / peeling operation was repeated 5 times on the window glass, the light control film using ITO was found to be defective, but the light control film using the transparent electrode of the present invention. No failure occurred.

1 テーパ角
2 透明基板
3 金属細線
4 廃液タンク
5 制御部
6 タンク
7 タンク
8A タンク
8B タンク
9 ポンプ
10 フィルム基材
11 ポンプ
12 フィルター
13 配管分岐
14 インクジェットヘッド
15 透明電極
201b 圧電性基盤
201c 天板
201d ノズル板
201e 塗布液供給管
201f 配管
20 透明基材
22 取出し電極
24 金属導電層
26 導電性ポリマー層
30 フィルム基材
31 金属導電層
32 導電性ポリマー層
33 調光層
34 光調整懸濁液(球状)
35 取出し電極
51a、b フィルム基材
52a、b 透明電極
53a 調光層
54a 樹脂マトリックス
54b 液晶粒子
55a 電源
56a スイッチ
301 試験片
303 軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Taper angle 2 Transparent substrate 3 Metal thin wire 4 Waste liquid tank 5 Control part 6 Tank 7 Tank 8A Tank 8B Tank 9 Pump 10 Film base material 11 Pump 12 Filter 13 Pipe branch 14 Inkjet head 15 Transparent electrode 201b Piezoelectric substrate 201c Top plate 201d Nozzle plate 201e Coating liquid supply pipe 201f Pipe 20 Transparent base material 22 Extraction electrode 24 Metal conductive layer 26 Conductive polymer layer 30 Film base material 31 Metal conductive layer 32 Conductive polymer layer 33 Light control layer 34 Light control suspension (spherical) )
35 Extraction electrode 51a, b Film substrate 52a, b Transparent electrode 53a Light control layer 54a Resin matrix 54b Liquid crystal particle 55a Power supply 56a Switch
301 Specimen 303 axis

Claims (18)

基材に担持された対向する一対の透明電極の間に調光層を有する調光フィルムであって、該基材がフィルム基材であり、かつ該透明電極が金属微粒子及び導電性ポリマーを含有する複合電極であることを特徴とする調光フィルム。   A light control film having a light control layer between a pair of opposing transparent electrodes carried on a base material, wherein the base material is a film base material, and the transparent electrode contains fine metal particles and a conductive polymer A light control film characterized by being a composite electrode. 前記調光層が、高分子分散型液晶又は高分子ネットワーク型液晶を含有することを特徴とする請求項1に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 1, wherein the light control layer contains a polymer dispersed liquid crystal or a polymer network type liquid crystal. 前記金属微粒子が、金属ナノ粒子又は金属ナノワイヤであることを特徴とする請求項1又は2に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 1, wherein the metal fine particles are metal nanoparticles or metal nanowires. 前記透明電極が、金属ナノ粒子よりなる金属細線構造を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の調光フィルム。   The said transparent electrode has a metal fine wire structure which consists of metal nanoparticles, The light control film as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記金属細線構造が、ストライプ状細線構造であることを特徴とする請求項4に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 4, wherein the fine metal wire structure is a stripe fine wire structure. 前記一対の透明電極が、ストライプ状細線構造である金属細線構造を有し、該一対の透明電極のストライプ状細線構造が相互に直交していることを特徴とする請求項5に記載の調光フィルム。   6. The dimming device according to claim 5, wherein the pair of transparent electrodes has a metal fine wire structure that is a stripe-like thin wire structure, and the stripe-like thin wire structures of the pair of transparent electrodes are orthogonal to each other. the film. 前記導電性ポリマーが、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)を含有してなることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の調光フィルム。   The light control film according to any one of claims 1 to 6, wherein the conductive polymer contains poly (3,4-ethylenedioxythiophene). 前記導電性ポリマーが、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と非導電性ポリマーの混合物であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 1, wherein the conductive polymer is a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and a nonconductive polymer. 前記非導電性ポリマーが、ヒドロキシ基を有する非導電性ポリマーであることを特徴とする請求項8に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 8, wherein the nonconductive polymer is a nonconductive polymer having a hydroxy group. 前記非導電性ポリマーが、解離性基を有する自己分散型ポリマーであることを特徴とする請求項8に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 8, wherein the non-conductive polymer is a self-dispersing polymer having a dissociable group. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の調光フィルムであって、該調光フィルムが、軸半径3mmRの曲げ耐久試験で100回以上の耐久性があることを特徴とする調光フィルム。   It is a light control film as described in any one of Claims 1-10, Comprising: This light control film has durability 100 times or more in the bending durability test of axial radius 3mmR, It is characterized by the above-mentioned. . 請求項1〜10のいずれか一項に記載の調光フィルムであって、該調光フィルムが、0.3mmRのスクラッチ加重評価で100g以上の耐久性があることを特徴とする調光フィルム。   It is a light control film as described in any one of Claims 1-10, Comprising: This light control film has durability of 100 g or more by the scratch load evaluation of 0.3 mmR, The light control film characterized by the above-mentioned. 前記基材の前記透明電極を有する面とは反対の面に、粘着層及び剥離支持体を設けたことを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の調光フィルム。   The light control film according to any one of claims 1 to 12, wherein an adhesive layer and a release support are provided on a surface opposite to the surface having the transparent electrode of the base material. 前記調光フィルムが、長尺ロール状の調光フィルムであることを特徴とする請求項13に記載の調光フィルム。   The light control film according to claim 13, wherein the light control film is a long roll-shaped light control film. 請求項1〜14のいずれか一項に記載の調光フィルムを製造する調光フィルムの製造方法であって、前記透明電極及び前記調光層を塗布法又は印刷法によって設けることを特徴とする調光フィルムの製造方法。   It is a manufacturing method of the light control film which manufactures the light control film as described in any one of Claims 1-14, Comprising: The said transparent electrode and the said light control layer are provided by the apply | coating method or the printing method, It is characterized by the above-mentioned. Manufacturing method of light control film. 前記透明電極を設ける方法が、インクジェット印刷法であることを特徴とする請求項15に記載の調光フィルムの製造方法。   The method for producing a light control film according to claim 15, wherein the method of providing the transparent electrode is an ink jet printing method. 基材巾、透明電極の形成巾、及び調光層の形成巾が下記関係を満たすことを特徴とする請求項15又は16に記載の調光フィルムの製造方法。
基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾
The method for producing a light control film according to claim 15 or 16, wherein the width of the substrate, the formation width of the transparent electrode, and the formation width of the light control layer satisfy the following relationship.
Substrate width> Transparent electrode formation width> Light control layer formation width
基材巾、透明電極の形成巾、及び調光層の形成巾が下記関係を満たすように、基材上に透明電極と調光層設けた後、該透明電極に対向する透明電極を設置することを特徴とする請求項17に記載の調光フィルムの製造方法。
基材巾>透明電極の形成巾>調光層の形成巾
After the transparent electrode and the light control layer are provided on the base material, the transparent electrode facing the transparent electrode is installed so that the base material width, the formation width of the transparent electrode, and the formation width of the light control layer satisfy the following relationship: The manufacturing method of the light control film of Claim 17 characterized by the above-mentioned.
Substrate width> Transparent electrode formation width> Light control layer formation width
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