JP2013140721A - Organic el display manufacturing device - Google Patents

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潤 吉川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simple and inexpensive organic EL display manufacturing device that supports organic EL displays manufactured by a printing method, an ink jet method, and a nozzle printing method, and can simultaneously maintain high cleanliness, low oxygen, and low dew point in an environment equal to the ambient pressure.SOLUTION: An organic EL manufacturing device having an organic EL manufacturing line installed inside a sealed chamber comprises: means for supplying a nitrogen gas inside the sealed chamber; means for introducing the nitrogen gas to the inside of the sealed chamber through a high-performance filter inside the sealed chamber; means for returning the introduced nitrogen gas to the high-performance filter to circulate the nitrogen gas; and means for adjusting the pressure in the sealed chamber to be positive relative to the ambient pressure.

Description

本発明は、有機ELディスプレイの製品特性に影響する、異物、湿度、酸素濃度等の製造環境をコントロールする手段を有した有機ELディスプレイ製造装置に関する。   The present invention relates to an organic EL display manufacturing apparatus having means for controlling a manufacturing environment such as foreign matter, humidity, oxygen concentration and the like that affects product characteristics of an organic EL display.

有機ELディスプレイは、製造途中の段階における製造環境の影響により、製品特性(効率や寿命など)の劣化があり、その劣化を防止するために低酸素低露点環境での製造が必要で、かつ非常に微小な異物が混入しても、不良原因となるため、高クリーン度環境が必要である。   Organic EL displays are subject to deterioration of product characteristics (efficiency, lifespan, etc.) due to the influence of the manufacturing environment in the middle of manufacturing, and it is necessary to manufacture in a low oxygen and low dew point environment to prevent the deterioration. Even if a minute foreign matter is mixed in, it causes a defect, so a high cleanliness environment is required.

有機ELディスプレイの製造方法として、現在主流となっている真空蒸着法での製造方法においては、高クリーン度、かつ低酸素低露点環境を維持できるが、真空装置は、真空耐性を持った専用部品や真空ポンプが必要となるため設備コストが高額となってしまう。   As the manufacturing method of the organic EL display, the vacuum deposition method, which is currently the mainstream, can maintain a high cleanliness, low oxygen and low dew point environment, but the vacuum device is a dedicated component with vacuum resistance. And the need for a vacuum pump increases the equipment cost.

また、真空蒸着法では蒸着用マスク熱伸縮の影響で小型のディスプレイしか製造できないため、蒸着法に変わる技術として、大気圧下での有機ELディスプレイ製造方法が求められている。   In addition, since only a small-sized display can be manufactured in the vacuum deposition method due to the thermal expansion and contraction of the deposition mask, an organic EL display manufacturing method under atmospheric pressure is required as a technique to replace the deposition method.

大気圧下で、低酸素低露点環境を維持する技術や、大気圧で高クリーン度環境を維持する技術に関しては数多く知られており、その方法に対応した商品が一般的に販促されている。大気圧下で、高クリーン環境を維持する方法として、ダウンフロー式クリーンルームの提案があるが、作業環境のすべてを、クリーン化するため、同時に低酸素低露点環境に保つことはできない(特許文献1)。   There are many known technologies for maintaining a low oxygen, low dew point environment at atmospheric pressure and a technology for maintaining a high cleanliness environment at atmospheric pressure, and products corresponding to the method are generally promoted. As a method for maintaining a high clean environment under atmospheric pressure, there is a proposal of a downflow type clean room. However, in order to clean the entire work environment, it is not possible to simultaneously maintain a low oxygen low dew point environment (Patent Document 1). ).

低酸素雰囲気を作るために、不活性ガスを導入する、連続式低酸素雰囲気処理室の提案があるが、密閉型構造のため低酸素低露点環境に保つことはできるが、高クリーン度にすることはできない(特許文献2)。   In order to create a low-oxygen atmosphere, there is a proposal for a continuous low-oxygen atmosphere treatment chamber that introduces an inert gas, but it can be kept in a low-oxygen, low-dew point environment due to its closed structure, but it has a high degree of cleanliness. It cannot be done (Patent Document 2).

また、グローブボックスに関する提案は、密閉型構造のため低酸素低露点環境に保つことができ、グローブもあるのでメンテナンス性も良いが、高クリーン度にすることはできない(特許文献3)。   In addition, the proposal related to the glove box can be kept in a low oxygen and low dew point environment because of the sealed structure, and since there is a glove, maintenance is good, but high cleanliness cannot be achieved (Patent Document 3).

低酸素、低露点、高クリーン度を同時に満たす技術は確立されていないため、大気圧での様々な製造方式(印刷方式、インクジェット方式、ノズルプリンティング方式、等)によって製造された有機ELディスプレイは、製品特性劣化や異物起因の不良品が多く、歩留り低下の原因となっている。   Since the technology that simultaneously satisfies low oxygen, low dew point, and high cleanliness has not been established, organic EL displays manufactured by various manufacturing methods (printing method, inkjet method, nozzle printing method, etc.) at atmospheric pressure There are many defective products due to product characteristic deterioration and foreign matter, which causes a decrease in yield.

有機ELディスプレイは、製造途中の段階において、構成要素である、正孔輸送層、インターレイヤー層、発光層、電子輸送層、陰極が、光や酸素、またオゾンにより状態が変化してしまい、発光効率が悪く、発光寿命が短くなる等の特性劣化が起こりやすく、取扱いが難しい製品であることが知られている。   The organic EL display is in the middle of production, and the hole transport layer, interlayer layer, light emitting layer, electron transport layer, and cathode, which are constituent elements, change their states due to light, oxygen, and ozone, and emit light. It is known that it is a product that is difficult to handle due to poor efficiency and a tendency of characteristic deterioration such as a shortened light emission life.

また、有機ELディスプレイは、その構成要素である、正孔輸送層、インターレイヤー層、発光層、電子輸送層、陰極の膜中に、数十nm〜数十μmのゴミ等の異物が付着、あるいは内包していると、電流リークにより、上下の電極が電気的ショートとなり、画素非点灯不良となってしまう。   In addition, in the organic EL display, foreign matters such as dust of several tens to several tens of μm adhere to the constituent elements, the hole transport layer, the interlayer layer, the light emitting layer, the electron transport layer, and the cathode film. Alternatively, if it is included, the upper and lower electrodes are electrically shorted due to current leakage, resulting in a pixel non-lighting failure.

大気圧と同等の環境で有機ELディスプレイを製造するために、密封度の高い容器内に装置を設置し、高クリーン環境にするために、HEPAフィルターが使用されているファインフィルターユニット(FFU)を設置しても以下のような問題がある。   In order to manufacture an organic EL display in an environment equivalent to atmospheric pressure, a fine filter unit (FFU) in which a HEPA filter is used to install a device in a highly sealed container and create a highly clean environment. Even if installed, there are the following problems.

一つとしては、高クリーン度を維持するため、FFUによりダウンフローの流れを作ることが考えられるが、グローブボックスのような密封容器内で、FFUを稼動させても、チャンバー内流体の流れに逃げ場が無いため、ダウンフローにできず、高クリーン度な環境とは成らない。   For one thing, to maintain high cleanliness, it is conceivable to create a downflow flow with FFU. However, even if the FFU is operated in a sealed container such as a glove box, the flow of fluid in the chamber is reduced. Since there is no escape place, it is not possible to make a down flow and a high clean environment is not achieved.

また、高クリーン度な環境とするため、チャンバー内流体の逃げ場として、下から上に流れるリターンダクト等を作って、ダウンフローにすれば高クリーン環境は維持可能だが、密封空間においてFFUを回すと、その周囲の圧力が変化するため、チャンバー内が負圧になった時、外気を吸い込んでしまって低酸素低露点環境を維持できない。   In order to create a high clean environment, a high-clean environment can be maintained by creating a return duct that flows from the bottom to the top as a refuge for the fluid in the chamber and making it flow down, but if you turn the FFU in a sealed space Because the surrounding pressure changes, when the inside of the chamber becomes negative pressure, the outside air is sucked in and the low oxygen and low dew point environment cannot be maintained.

また、高クリーン度環境とするため、チャンバー内各駆動部の発塵しやすい箇所に局所排気を設ければ高クリーン環境は維持可能だが、密封空間において局所排気を設けるとチャンバー内が負圧になってしまい、外気を吸い込んでしまうこととなり、低酸素低露点環境を維持することはできない。また、その状態を陽圧に戻すため、新たに高純度窒素供給が必要となるため、ランニングコストが高くなってしまう。   In addition, in order to achieve a high clean environment, a high clean environment can be maintained if local exhaust is provided at locations where each drive unit in the chamber is likely to generate dust.However, if local exhaust is provided in a sealed space, the inside of the chamber becomes negative pressure. As a result, outside air is sucked in, and a low oxygen low dew point environment cannot be maintained. In addition, since the state is returned to the positive pressure, a new supply of high purity nitrogen is required, resulting in an increase in running cost.

特開平8−68554号公報JP-A-8-68554 特開2010−87171号公報JP 2010-87171 A 特開2010−131713号広報JP 2010-131713 PR

本発明は、印刷方式、インクジェット方式、ノズルプリンティング方式等の方式で製造される有機ELディスプレイに対応し、大気圧と同等環境で、高クリーン度、かつ低酸素低露点を同時に維持できる、簡便で安価な有機ELディスプレイ製造装置を提供することを目的とする。   The present invention corresponds to an organic EL display manufactured by a printing method, an ink jet method, a nozzle printing method, or the like, and can easily maintain a high cleanliness and a low oxygen low dew point in an environment equivalent to atmospheric pressure. An object is to provide an inexpensive organic EL display manufacturing apparatus.

上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、有機EL製造ラインを密封チャンバー内部に設置した有機EL製造装置であり、
前記密封チャンバー内部に、窒素ガスを供給する手段と、
前記密封チャンバー内部に、高性能フィルターを通して窒素ガスを密封チャンバー内部に導入する手段と、
前記導入された窒素ガスを、前記高性能フィルターに戻し循環させる手段と、
前記密封チャンバー内を大気圧に対して陽圧とする手段とを備えたことを特徴とする有機EL製造装置である。
As means for solving the above problems, the invention according to claim 1 is an organic EL manufacturing apparatus in which an organic EL manufacturing line is installed inside a sealed chamber,
Means for supplying nitrogen gas into the sealed chamber;
Means for introducing nitrogen gas into the sealed chamber through a high performance filter inside the sealed chamber;
Means for circulating the introduced nitrogen gas back to the high performance filter;
An organic EL manufacturing apparatus comprising: a means for making the inside of the sealed chamber positive with respect to atmospheric pressure.

また、請求項2に記載の発明は、前記密封チャンバー内を、上室、中間室、下室の3室に分け、前記中間部に有機EL製造ラインを設置し、
前記、高性能フィルターを通して窒素ガスを密封チャンバー内部に導入する手段が、
前記上室と前記中間室の間に高性能フィルターと、前記高性能フィルターを通して、中間室に導入するファンを備え、
中間室と下室の間に排気口を設け、排気される窒素ガスを上室に戻すリターンダクトを備えたものであることを特徴とする請求項1に記載の有機EL製造装置である。
In the invention according to claim 2, the inside of the sealed chamber is divided into an upper chamber, an intermediate chamber, and a lower chamber, and an organic EL production line is installed in the intermediate portion.
The means for introducing nitrogen gas into the sealed chamber through the high performance filter,
A high performance filter between the upper chamber and the intermediate chamber, and a fan introduced into the intermediate chamber through the high performance filter,
2. The organic EL manufacturing apparatus according to claim 1, further comprising a return duct provided with an exhaust port between the intermediate chamber and the lower chamber and returning the exhausted nitrogen gas to the upper chamber.

また、請求項3に記載の発明は、前記密封チャンバー内を大気圧に対して陽圧とする手段が、
前記密封チャンバー内部圧と密封チャンバー外部圧の差圧を測定し、前記窒素ガスの導入量を制御して、前記密封チャンバー内圧を陽圧に設定するものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機EL製造装置である。
Further, in the invention according to claim 3, the means for making the inside of the sealed chamber positive with respect to atmospheric pressure,
The differential pressure between the internal pressure of the sealed chamber and the external pressure of the sealed chamber is measured, the introduction amount of the nitrogen gas is controlled, and the internal pressure of the sealed chamber is set to a positive pressure. An organic EL manufacturing apparatus according to claim 2.

本発明により、大気圧同等で製造される、有機ディスプレイの構成要素が、水分や酸素により、加水分解・酸化され、状態変化してしまうことを無くし、構成要素の膜中への異物の付着を防止することにより、発光効率・発光寿命といった商品特性の劣化を防ぎ、歩留りが向上する、簡便で安価な有機ELディスプレイ製造装置を提供できる。   According to the present invention, components of an organic display manufactured at the same atmospheric pressure are not hydrolyzed / oxidized by moisture or oxygen, and the state of the components is not changed. By preventing this, it is possible to provide a simple and inexpensive organic EL display manufacturing apparatus that prevents deterioration of product characteristics such as light emission efficiency and light emission lifetime and improves yield.

本願発明の有機ELディスプレイ製造装置を示した側面概念図である。It is the side conceptual diagram which showed the organic EL display manufacturing apparatus of this invention. ボトムエミッション型有機ELディスプレイの構成を示しており、製造途中段階である陰極形成までを実施した後の断面概念図である。It shows the configuration of a bottom emission type organic EL display, and is a cross-sectional conceptual diagram after performing up to cathode formation which is in the middle of manufacturing. 本願発明の有機ELディスプレイ製造装置における、窒素ガスの流れを示した概念図である。It is the conceptual diagram which showed the flow of the nitrogen gas in the organic electroluminescent display manufacturing apparatus of this invention.

以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。図1は、本発明の大気圧と同等で、高クリーン度、かつ低酸素低露点環境維持が可能な有機ELディスプレイ製造装置を示した模式図であって、密封チャンバー内を、上室(非清浄側)19、中間室、下室26の3室に分け、有機ELディスプレイ製造ライン24が設置される中間室との間に、HEPAフィルターと送風ファンが一体となったFFUを設置し、中間室と下室26の間に排気口を設け、下室26排気される窒素ガスを上室に戻すリターンダクト23を設けてある。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an organic EL display manufacturing apparatus that is equivalent to the atmospheric pressure of the present invention and that can maintain a high cleanliness and low oxygen and low dew point environment. Clean side) 19, intermediate chamber, and lower chamber 26 are divided into three chambers, and an FFU in which a HEPA filter and a blower fan are integrated is installed between the intermediate chamber where the organic EL display production line 24 is installed. An exhaust port is provided between the chamber and the lower chamber 26, and a return duct 23 for returning the nitrogen gas exhausted from the lower chamber 26 to the upper chamber is provided.

中間室に設置されている有機ELディスプレイ製造ライン24の駆動部にはリターンダクト23に接続された局所排気用配管22を設け、チャンバー全体を低酸素低露点に維持するブロアー内蔵型窒素精製装置29で接続し、チャンバー内を一定圧力に制御する手段を有する有機ELディスプレイ製造装置の実施形態である。   The drive part of the organic EL display production line 24 installed in the intermediate chamber is provided with a local exhaust pipe 22 connected to the return duct 23, and a blower built-in nitrogen purifier 29 that maintains the entire chamber at a low oxygen and low dew point. It is embodiment of the organic electroluminescent display manufacturing apparatus which has a means to connect and control the inside of a chamber to a fixed pressure.

図2は、本発明の有機ELディスプレイ製造装置にて、製造されるボトムエミッション型有機ELディスプレイの構成を示しており、陰極形成まで完了した状態である。ガラス等のTFT基板10上に、TFT11、陽極(透明電極)12、隔壁13、正孔輸送層14、インターレイヤー層15、発光層16、電子輸送層17、陰極18を形成した状態を示している。   FIG. 2 shows a configuration of a bottom emission type organic EL display manufactured by the organic EL display manufacturing apparatus of the present invention, and shows a state where the cathode formation is completed. The TFT 11, the anode (transparent electrode) 12, the partition wall 13, the hole transport layer 14, the interlayer layer 15, the light emitting layer 16, the electron transport layer 17, and the cathode 18 are formed on the TFT substrate 10 such as glass. Yes.

図3は、本願発明の有機ELディスプレイ製造装置における、窒素ガスの流れを示しており、中間室に設置されている有機ELディスプレイ製造ライン24は、チャンバーに囲まれて密封されている。チャンバーは上室19、中間室、下室26に分割された構造となっている。ブロアー内蔵型窒素精製装置29から窒素が、上室19に供給され、FFU20を通して清浄になった窒素ガスは、有機EL製造ライン24が設置された中間室にダウンフロー状態で供給され、さらに下室26から一部はリターンダクト23を通り、上室19に戻り、一部は窒素精製機用電磁弁B36を通してブロアー内蔵型窒素精製装置29に戻り、有機ELディスプレイ製造ライン24が設置された中間室は、低酸素低露点で高クリーンな環境が維持される。   FIG. 3 shows the flow of nitrogen gas in the organic EL display manufacturing apparatus of the present invention, and the organic EL display manufacturing line 24 installed in the intermediate chamber is enclosed and sealed by the chamber. The chamber is divided into an upper chamber 19, an intermediate chamber, and a lower chamber 26. Nitrogen is supplied from the blower built-in type nitrogen purification device 29 to the upper chamber 19, and the nitrogen gas purified through the FFU 20 is supplied in a downflow state to the intermediate chamber in which the organic EL production line 24 is installed. 26 partly returns to the upper chamber 19 through the return duct 23, partly returns to the nitrogen purifier built-in blower 29 through the solenoid valve B36 for nitrogen purifier, and the intermediate chamber in which the organic EL display production line 24 is installed. Maintains a clean environment with low oxygen and low dew point.

リターンダクト23の途中には、有機ELディスプレイ製造ライン24からの駆動部局所排気用配管22が接続されており、同じくファインフィルターユニットの送風ファンの力によって、リターンダクト23を介して、上室19に戻る。上質に9戻った窒素ガスは、再びFFU20を通って清浄な雰囲気となり、中間室にダウンフロー状態で供給される。この時、中間室と下室26を明確に分けると、ダウンフローを作り易いが、無くても窒素ガスの循環によりクリーン化される。   A drive unit local exhaust pipe 22 from the organic EL display production line 24 is connected in the middle of the return duct 23, and the upper chamber 19 is also connected via the return duct 23 by the force of the blower fan of the fine filter unit. Return to. The nitrogen gas that has returned to high quality 9 passes through the FFU 20 again to become a clean atmosphere, and is supplied to the intermediate chamber in a downflow state. At this time, if the intermediate chamber and the lower chamber 26 are clearly separated, it is easy to make a downflow, but even if it is not present, it is cleaned by circulation of nitrogen gas.

この循環を繰り返すことによって、清浄な雰囲気が、より清浄度の高い雰囲気となり、高クリーン度環境の実現が可能となる。また、チャンバーには、ブロアー内蔵型窒素精製機29が接続されている。ブロアー内蔵型窒素精製装置29には、3つの電磁弁が取り付けられており、チャンバー内の窒素を精製する場合には、窒素精製機用電磁弁A35と、窒素精製機用電磁弁B36を開け、窒素精製機用電磁弁C37を閉じる。チャンバー内の窒素を精製しない場合には、窒素精製機用電磁弁A35と、窒素精製機用電磁弁B36を閉じ、窒素精製機用電磁弁C37を開ける。   By repeating this circulation, the clean atmosphere becomes an atmosphere with higher cleanliness, and a high cleanliness environment can be realized. A blower built-in nitrogen purifier 29 is connected to the chamber. The blower built-in type nitrogen purification device 29 is equipped with three solenoid valves. When purifying nitrogen in the chamber, the nitrogen refiner solenoid valve A35 and the nitrogen refiner solenoid valve B36 are opened. The nitrogen purifier solenoid valve C37 is closed. When the nitrogen in the chamber is not purified, the nitrogen purifier solenoid valve A35 and the nitrogen purifier solenoid valve B36 are closed, and the nitrogen purifier solenoid valve C37 is opened.

チャンバー内の窒素ガスを精製する時は、下室26の雰囲気を吸引し、ブロアー内蔵型窒素精製装置29を通して、酸素と水分を除去し、上室19に戻す。これらの循環を繰り返すことによって、低酸素低露点環境が、さらに低酸素低露点環境となり、有機EL製造に必要となる低酸素低露点で高クリーンな環境の実現が可能となる。   When purifying the nitrogen gas in the chamber, the atmosphere of the lower chamber 26 is sucked, and oxygen and moisture are removed through the blower built-in nitrogen purifier 29 and returned to the upper chamber 19. By repeating these circulations, the low oxygen and low dew point environment becomes a low oxygen and low dew point environment, and it becomes possible to realize a high clean environment with the low oxygen and low dew point necessary for organic EL production.

基板搬入の際には、シャッター32を開け、基板33を搬送コンベア33又は搬送ロボット等の搬送ユニットを介して、基板用シフターピン32の上に受け渡す。基板受渡しが終わったらシャッター32を閉めて、基板用シフターピン32を下降して基板用ステージ27に基板33を受渡し、有機EL製造ライン24にて基板に必要な処理を施す。処理が完了したら、基板用シフターピン32を上昇させて、シャッター32を開け、基板33を搬送ユニットにより排出する。この連続処理により、有機EL製造における各工程の処理を実施する。   When the substrate is carried in, the shutter 32 is opened, and the substrate 33 is transferred onto the substrate shifter pin 32 via a transfer unit such as a transfer conveyor 33 or a transfer robot. When the substrate delivery is completed, the shutter 32 is closed, the substrate shifter pin 32 is lowered, the substrate 33 is delivered to the substrate stage 27, and necessary processing is performed on the substrate in the organic EL production line 24. When the processing is completed, the substrate shifter pin 32 is raised, the shutter 32 is opened, and the substrate 33 is discharged by the transport unit. By this continuous process, the process of each process in organic EL manufacture is implemented.

これらの製造過程において、内圧が変化する要因がある。シャッター32開閉時の内圧変化や、基板受渡し時に空気圧機器を使用する場合、その動作による圧力変化等である。これらの内圧変化を感知するために、差圧計30を設置する。そして、内圧管理したい閾値を決めておき、もし閾値が、内圧が低い側に外れた場合、供給用配管21の電磁弁を開けて窒素を供給し、内圧が閾値内に戻ったら電磁弁を閉める。   In these manufacturing processes, there is a factor that changes the internal pressure. For example, a change in internal pressure when the shutter 32 is opened or closed, or a change in pressure due to the operation of a pneumatic device when the substrate is delivered. In order to detect these changes in internal pressure, a differential pressure gauge 30 is installed. Then, the threshold value for which the internal pressure is to be managed is determined, and if the threshold value falls to the low internal pressure side, the solenoid valve of the supply pipe 21 is opened to supply nitrogen, and when the internal pressure returns to the threshold value, the solenoid valve is closed. .

もし閾値が、内圧が高い側に外れた場合、チャンバー内排気量調整バルブ及び電磁弁28を開けて排気し、内圧が閾値内に戻ったら電磁弁を閉める。この時、窒素供給用配管には、窒素ボンベやコールドエバポレータ等の、高圧高純度の窒素が供給できる装置に接続する。排気には、ブロアー等の、チャンバー内の雰囲気を排気できる装置に接続する。窒素供給量は、窒素供給量調整弁41で、排気量は、排気量調整弁42で調整する。   If the threshold value deviates to the higher internal pressure side, the chamber exhaust amount adjustment valve and the electromagnetic valve 28 are opened to exhaust, and when the internal pressure returns to the threshold value, the electromagnetic valve is closed. At this time, the nitrogen supply pipe is connected to a device capable of supplying high-pressure and high-purity nitrogen such as a nitrogen cylinder or a cold evaporator. For exhaust, it is connected to a device such as a blower that can exhaust the atmosphere in the chamber. The nitrogen supply amount is adjusted by a nitrogen supply amount adjustment valve 41, and the exhaust amount is adjusted by an exhaust amount adjustment valve 42.

チャンバー内圧の閾値は、通常周囲よりも微陽圧(+50Pa〜+500Pa程度)に設定する。周囲よりも負圧になってしまうと、周囲の雰囲気をチャンバーの僅かな隙間から吸い込んでしまい、高クリーン度を維持できなかったり、低酸素低露点環境を維持できなかったりしてしまうためである。   The threshold value of the chamber internal pressure is usually set to a slightly positive pressure (about +50 Pa to +500 Pa) than the surroundings. If the negative pressure is higher than the surroundings, the ambient atmosphere is sucked in through a slight gap in the chamber, so that a high degree of cleanliness cannot be maintained or a low oxygen and low dew point environment cannot be maintained. .

チャンバー内を開けて装置メンテナンスを実施する場合は、シャッターを閉じた状態で、窒素精製機用電磁弁C37を開け、窒素精製機用電磁弁A35と窒素精製機用電磁弁B36を閉じて、チャンバー内を精製しない状態にした後、窒素供給用配管の弁を閉じる。   When opening the chamber and carrying out apparatus maintenance, with the shutter closed, the nitrogen purifier solenoid valve C37 is opened, the nitrogen purifier solenoid valve A35 and the nitrogen purifier solenoid valve B36 are closed, After leaving the interior unpurified, the nitrogen supply piping valve is closed.

この後、大気供給量配管の電磁弁38と、チャンバー内排気配管の電磁弁を開閉し、一
定の内圧に保ちつつチャンバー内を大気の状態に戻す。内圧制御は、管理したい閾値を予め決めておき、差圧計で内圧を測定しつつ、もし閾値が、内圧が低い側に外れた場合、大気供給量配管の電磁弁を開けて大気を供給し、内圧が閾値内に戻ったら電磁弁を閉める。
Thereafter, the electromagnetic valve 38 of the atmospheric supply pipe and the electromagnetic valve of the exhaust pipe in the chamber are opened and closed, and the inside of the chamber is returned to the atmospheric state while maintaining a constant internal pressure. The internal pressure control determines the threshold value to be managed in advance, measures the internal pressure with a differential pressure gauge, and if the threshold value is off to the side where the internal pressure is low, opens the electromagnetic valve of the air supply pipe and supplies the air, When the internal pressure returns to within the threshold value, the solenoid valve is closed.

もし閾値が、内圧が高い側に外れた場合、排気用配管の電磁弁28を開けて排気し、内圧が閾値内に戻ったら電磁弁を閉める。この時、大気供給用配管は、クリーンドライエアー等の、高圧高清浄度の大気が供給できる装置に接続する。大気供給量は、大気供給量調整弁43で、調整する。   If the threshold value deviates to a higher internal pressure side, the exhaust valve solenoid valve 28 is opened for exhaustion, and when the internal pressure returns to the threshold value, the solenoid valve is closed. At this time, the air supply pipe is connected to a device capable of supplying high-pressure and high-cleanness air such as clean dry air. The air supply amount is adjusted by the air supply amount adjustment valve 43.

酸素濃度計及び露点計34の測定値を確認し、チャンバーを開けて良い状態(酸素濃度21%程度)になったら、大気供給用配管の弁とチャンバー排気用配管の電磁弁を閉じた後、チャンバーを開けて、メンテナンスを実施する。   Check the measured values of the oxygen concentration meter and dew point meter 34, and when the chamber can be opened (oxygen concentration of about 21%), close the valve of the air supply piping and the solenoid valve of the chamber exhaust piping, Open the chamber and perform maintenance.

メンテナンス完了後、再度装置を使用する場合は、チャンバーを元通り密封状態に戻した後、窒素供給用配管の弁と、チャンバー内排気配管の電磁弁を開閉し、一定の内圧に保ちつつチャンバー内を窒素の状態に戻す。内圧制御は、通常運転時の内圧制御と同様に、管理したい閾値を予め決めておき、差圧計30で内圧を測定しつつ、もし閾値が、内圧が低い側に外れた場合、窒素供給量配管の電磁弁を開けて窒素を供給し、内圧が閾値内に戻ったら電磁弁を閉める。もし閾値が、内圧が高い側に外れた場合、排気用配管の電磁弁28を開けて排気し、内圧が閾値内に戻ったら電磁弁を閉める。   When using the device again after maintenance is completed, return the chamber to its original sealed state, then open and close the nitrogen supply piping valve and the chamber exhaust piping electromagnetic valve to keep the internal pressure constant. Return to the nitrogen state. As with the internal pressure control during normal operation, the internal pressure control determines the threshold value to be managed in advance, measures the internal pressure with the differential pressure gauge 30, and if the threshold value is out of the low internal pressure side, the nitrogen supply pipe Open the solenoid valve and supply nitrogen. When the internal pressure returns to the threshold value, close the solenoid valve. If the threshold value deviates to a higher internal pressure side, the exhaust valve solenoid valve 28 is opened for exhaustion, and when the internal pressure returns to the threshold value, the solenoid valve is closed.

酸素濃度計及び露点計34の測定値を確認し、ブロアー内蔵型窒素精製装置29を使用して良い状態(ブロアー内蔵型窒素精製装置29の仕様に合わせて決める)になったら、窒素精製機用電磁弁A35と、窒素精製機用電磁弁B36を開け、窒素精製機用電磁弁C37を閉じる。   After confirming the measured values of the oxygen concentration meter and dew point meter 34 and when it is possible to use the nitrogen purification device 29 with a built-in blower (determined according to the specifications of the nitrogen purification device 29 with a built-in blower) The electromagnetic valve A35 and the nitrogen refining machine electromagnetic valve B36 are opened, and the nitrogen refining machine electromagnetic valve C37 is closed.

このようなメンテナンスをすることで、ブロアー内蔵型窒素精製装置29を停止すること無くメンテナンスが可能となる。また、チャンバー内圧を一定に保ちつつ大気状態に戻すことで、異常圧力でチャンバー内部材が破損することを防止可能となる。   By performing such maintenance, the maintenance can be performed without stopping the blower built-in nitrogen purification device 29. Further, by returning to the atmospheric state while keeping the chamber internal pressure constant, it becomes possible to prevent the chamber internal member from being damaged by the abnormal pressure.

また、チャンバー内に部材出し入れが頻繁に必要な装置の場合は、チャンバー外側からチャンバー内側の操作が可能になるよう、チャンバー内操作用グローブ39と、部品授受用のパスボックス40を取り付ける。パスボックス40は小部屋になっており、チャンバー内側に開閉用扉、チャンバー外側にも開閉用扉が設置されている。また、パスボックス40には、チャンバーと同様に、図に無い大気供給用配管、窒素供給用配管、排気用配管を取り付ける。   In addition, in the case of an apparatus that frequently requires insertion / removal of members into / from the chamber, an in-chamber operation glove 39 and a part exchange pass box 40 are attached so that the inside of the chamber can be operated from the outside of the chamber. The pass box 40 is a small room, and an opening / closing door is installed inside the chamber and an opening / closing door is installed outside the chamber. Further, similarly to the chamber, the air supply pipe, the nitrogen supply pipe, and the exhaust pipe not shown in the drawing are attached to the pass box 40.

チャンバー内側に部材を入れる時は、チャンバー内側の扉を閉めた状態でチャンバー外側の扉を開けて部材を入れ、チャンバー外側の扉を閉めた後、窒素供給用配管での窒素供給と排気用配管での排気を実施してパスボックス40内部を低酸素低露点環境にした後、チャンバー内操作用グローブ39を介してチャンバー内側の扉を開け、部品を受け渡す。   When inserting a member inside the chamber, open the door outside the chamber with the door inside the chamber closed, insert the member, close the door outside the chamber, and then supply the nitrogen supply and exhaust pipes in the nitrogen supply pipe After the inside of the pass box 40 is made into a low oxygen and low dew point environment, the door inside the chamber is opened through the in-chamber operation glove 39 and parts are delivered.

チャンバー内側から部材を出す時は、チャンバー外側の扉を閉めた状態でチャンバー内操作用グローブ39を介してチャンバー内側の扉を開けて部材を入れ、チャンバー内側の扉を閉めた後、大気供給用配管での窒素供給と排気用配管での排気を実施してパスボックス40内部を大気環境にしてから、チャンバー外側の扉を開け、部品を受け渡す。このような設計にすることで、高クリーン度低酸素低露点環境のまま、部材受出し入れが可能となる。   When removing the member from the inside of the chamber, with the door on the outside of the chamber closed, open the door on the inside of the chamber through the in-chamber operation glove 39, insert the member, close the door on the inside of the chamber, and then supply the air After supplying nitrogen in the piping and exhausting in the exhaust piping to make the inside of the pass box 40 an atmospheric environment, the door outside the chamber is opened and parts are delivered. By adopting such a design, it is possible to receive and receive members while maintaining a high cleanliness, low oxygen, low dew point environment.

以上、本発明の実施例を紹介したが、本発明はこの形態に限定されるものでは無く、例
えば図2はトップエミッション構造の有機ELディスプレイであったり、例えば図1は有機ELディスプレイ関連装置である検査装置、測定装置、修正装置であったり、例えば例2の低酸素低露点維持を他の不活性ガスで(アルゴン等)で実施したりしても、本発明の実施は可能である。
As mentioned above, although the Example of this invention was introduced, this invention is not limited to this form, For example, FIG. 2 is an organic EL display of a top emission structure, for example, FIG. 1 is an organic EL display related apparatus. The present invention can be implemented even with a certain inspection device, measurement device, or correction device, or when the low oxygen and low dew point maintenance of Example 2 is performed with another inert gas (such as argon).

本発明は、大気圧同等で有機ELディスプレイを製造する様々な方式において、どの方式でも、どの製造途中段階であっても、高クリーン度かつ低酸素低露点環境維持できるため、特性劣化や異物起因の不良を防止することによる歩留り向上が可能であり、これまで歩留りが悪いために製品の普及が少なかった有機ELディスプレイの普及に貢献することが可能である。   The present invention can maintain a high cleanliness, low oxygen and low dew point environment in any method and any manufacturing stage in various methods for manufacturing an organic EL display at the same atmospheric pressure. It is possible to improve the yield by preventing the defect, and it is possible to contribute to the popularization of the organic EL display, which has been less popular because of the poor yield.

11・・・TFT
12・・・陽極
13・・・隔壁
14・・・正孔輸送層
15・・・インターレイヤー層
16・・・発光層
17・・・電子輸送層
18・・・陰極
19・・・上室(非清浄側)
20・・・FFU(ファインフィルターユニット)
21・・・窒素供給量調整配管及び電磁弁
22・・・駆動部局所排気配管
23・・・リターンダクト
24・・・有機EL製造ライン
25・・・装置架台
26・・・下室(清浄側)
27・・・基板用ステージ
28・・・チャンバー内排気量調整バルブ及び電磁弁
29・・・ブロアー内蔵型窒素精製装置
30・・・差圧計
31・・・シャッター
32・・・基板用リフターピン
33・・・基板
34・・・酸素濃度計及び露点計
35・・・窒素精製機用電磁弁A
36・・・窒素精製機用電磁弁B
37・・・窒素精製機用電磁弁C
38・・・大気供給量調整配管及び電磁弁
39・・・チャンバー内操作用グローブ
40・・・パスボックス
41・・・窒素供給量調整弁
42・・・排気量調整弁
43・・・大気供給量調整弁
11 ... TFT
12 ... anode 13 ... partition 14 ... hole transport layer 15 ... interlayer 16 ... light emitting layer 17 ... electron transport layer 18 ... cathode 19 ... upper chamber ( Non-clean side)
20 ... FFU (Fine Filter Unit)
21 ... Nitrogen supply amount adjustment piping and solenoid valve 22 ... Drive unit local exhaust piping 23 ... Return duct 24 ... Organic EL production line 25 ... Device mount 26 ... Lower chamber (clean side) )
27 ... Substrate stage 28 ... Chamber exhaust volume adjustment valve and solenoid valve 29 ... Blower built-in nitrogen purifier 30 ... Differential pressure gauge 31 ... Shutter 32 ... Substrate lifter pin 33 ... Substrate 34 ... Oxygen concentration meter and dew point meter 35 ... Solenoid valve A for nitrogen purifier
36 ... Solenoid valve B for nitrogen purifier
37 ... Solenoid valve C for nitrogen purifier
38 ... Air supply adjustment pipe and solenoid valve 39 ... Glove 40 for operation in the chamber ... Pass box 41 ... Nitrogen supply adjustment valve 42 ... Exhaust air adjustment valve 43 ... Air supply Volume control valve

Claims (3)

有機EL製造ラインを密封チャンバー内部に設置した有機EL製造装置であり、
前記密封チャンバー内部に、窒素ガスを供給する手段と、
前記密封チャンバー内部に、高性能フィルタを通して窒素ガスを密封チャンバー内部に導入する手段と、
前記導入された窒素ガスを、前記高性能フィルタに戻し循環させる手段と、
前記密封チャンバー内を大気圧に対して陽圧とする手段とを備えたことを特徴とする有機EL製造装置。
An organic EL manufacturing apparatus in which an organic EL manufacturing line is installed inside a sealed chamber,
Means for supplying nitrogen gas into the sealed chamber;
Means for introducing nitrogen gas into the sealed chamber through a high performance filter within the sealed chamber;
Means for circulating the introduced nitrogen gas back to the high performance filter;
An organic EL manufacturing apparatus comprising: a means for making the inside of the sealed chamber positive with respect to atmospheric pressure.
前記密封チャンバー内を、上室、中間室、下室の3室に分け、前記中間部に有機EL製造ラインを設置し、
前記、高性能フィルタを通して窒素ガスを密封チャンバー内部に導入する手段が、
前記上室と前記中間室の間に高性能フィルタと、前記高性能フィルタを通して、中間室に導入するファンを備え、
中間室と下室の間に排気口を設け、排気される窒素ガスを上室に戻すリターンダクトを備えたものであることを特徴とする請求項1に記載の有機EL製造装置。
The sealed chamber is divided into an upper chamber, an intermediate chamber, and a lower chamber, and an organic EL production line is installed in the intermediate portion.
The means for introducing nitrogen gas into the sealed chamber through the high performance filter,
A high-performance filter between the upper chamber and the intermediate chamber, and a fan introduced into the intermediate chamber through the high-performance filter,
2. The organic EL manufacturing apparatus according to claim 1, further comprising a return duct provided with an exhaust port between the intermediate chamber and the lower chamber, and returning exhausted nitrogen gas to the upper chamber.
前記密封チャンバー内を大気圧に対して陽圧とする手段が、
前記密封チャンバー内部圧と密封チャンバー外部圧の差圧を測定し、前記窒素ガスの導入量を制御して、前記密封チャンバー内圧を陽圧に設定するものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機EL製造装置。
Means for making the inside of the sealed chamber positive with respect to atmospheric pressure,
The differential pressure between the internal pressure of the sealed chamber and the external pressure of the sealed chamber is measured, the introduction amount of the nitrogen gas is controlled, and the internal pressure of the sealed chamber is set to a positive pressure. The organic EL manufacturing apparatus according to claim 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150114415A (en) 2014-04-01 2015-10-12 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate processing system
KR20150114410A (en) 2014-04-01 2015-10-12 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Heat treatment apparatus, heat treatment method, computer storage medium and substrate processing system
JP2015198013A (en) * 2014-04-01 2015-11-09 東京エレクトロン株式会社 Thermal treatment device, thermal treatment method, program, computer storage medium and substrate processing system
JP2015198012A (en) * 2014-04-01 2015-11-09 東京エレクトロン株式会社 substrate processing system

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