JP2013136031A - Ultraviolet treatment device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an energy-saving ultraviolet treatment device capable of deactivating microbes such as bacteria or viruses by efficiently and surely irradiating water to be treated flowing in a duct with ultraviolet ray, capable of easily performing a component replacement or maintenance checking because of a few numbers of components and being compact.SOLUTION: The ultraviolet treatment device 1 is composed in outline, of: a reactor 2 having the inflow-side and outflow-side flanges 2a and 2b; an ultraviolet irradiation lamp 4 for irradiating the water in the reactor 2 with ultraviolet ray; an ultraviolet sensor 5 having a light receiving part 5a for measuring an ultraviolet intensity; a protective tube 6 for housing the lamp 4 and sensor 5; a cleaning tool 7 for cleaning the surface of the protective tube 6; a drive unit 8 for driving the cleaning tool 7; and a controller 9 for controlling the lamp 4 and the cleaning tool 7.

Description

本発明は、水中で紫外線を放射することにより、水中に存在する細菌やウイルス等の微生物のDNA(デオキシリボ核酸)を損傷させて増殖能力や感染力の喪失(以下、「不活化」という)を図るとともに、水中に溶存する物質の分子構造を変形または分解させる紫外線処理装置に関するものである。   In the present invention, by irradiating ultraviolet rays in water, DNA (deoxyribonucleic acid) of microorganisms such as bacteria and viruses existing in water is damaged, and loss of proliferation ability and infectivity (hereinafter referred to as “inactivation”) is achieved. The present invention relates to an ultraviolet treatment apparatus that deforms or decomposes the molecular structure of a substance dissolved in water.

塩素処理に代わる水の消毒技術として紫外線照射による細菌やウイルス等の微生物の不活化が普及している。   Inactivation of microorganisms such as bacteria and viruses by ultraviolet irradiation has become widespread as a water disinfection technique replacing chlorination.

例えば、下水や農業集落排水等を処理するための汚水処理施設で得られた処理水は、公共水域に放流される前に、開水路に設置された紫外線処理装置より紫外線の照射を受けており、これにより、処理水中に残留する細菌等の微生物等は不活化されている。   For example, treated water obtained at a sewage treatment facility for treating sewage and agricultural settlement drainage, etc. is irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet treatment device installed in an open channel before being discharged into public water areas. As a result, microorganisms such as bacteria remaining in the treated water are inactivated.

また、浄水施設では、塩素で殺菌できない病原性微生物、例えばクリプトスポリジウムなどを不活化させるために、塩素が混和される前の処理水に紫外線の照射が行われる。   Moreover, in water purification facilities, in order to inactivate pathogenic microorganisms that cannot be sterilized with chlorine, such as Cryptosporidium, the treated water before chlorine is mixed is irradiated with ultraviolet rays.

さらに、紫外線は塩素と異なり無味無臭であることから、天然水に紫外線を照射することで、天然水本来の風味を損なわずに安全性を確保することができる。   Furthermore, since ultraviolet rays are tasteless and odorless unlike chlorine, safety can be ensured by irradiating ultraviolet rays to natural water without impairing the natural flavor of natural water.

その他、漁業集落排水処理施設のように処理水の放流先が漁場や養殖場近郊である場合に、処理水中の残留塩素が周辺水域の環境に影響を及ぼすことが懸念されることから、塩素消毒の代替手段として紫外線処理を採用する例もある。   In addition, when the treated water discharge destination is in the vicinity of a fishing ground or aquaculture, as in a fishery village wastewater treatment facility, there is a concern that residual chlorine in the treated water may affect the environment of the surrounding water area. There are also examples in which ultraviolet treatment is employed as an alternative to the above.

上述した様々な目的に応じた水処理施設において細菌やウイルス等の微生物の不活化に用いられる紫外線処理装置では、細菌等の微生物の不活化を確実に行うために、被処理水への紫外線照射を均一化する必要がある。   In the ultraviolet treatment apparatus used for inactivation of microorganisms such as bacteria and viruses in the water treatment facility according to various purposes described above, in order to reliably inactivate microorganisms such as bacteria, ultraviolet irradiation to the water to be treated Need to be made uniform.

しかし、紫外線照射ランプを開水路あるいは管路に適切に配置し、被処理水への紫外線照射を均一化した場合においても、他の要因、例えば被処理水量の変動により紫外線照射ランプが発生する熱が適切に排熱されず、紫外線照射ランプ表面温度の上昇や紫外線処理装置の高温化による電気部品他への影響により紫外線照射を不均一化させることが懸念される。   However, even when UV irradiation lamps are appropriately placed in open channels or pipes and UV irradiation to the water to be treated is made uniform, heat generated by the UV irradiation lamps due to other factors, for example, fluctuations in the amount of water to be treated However, there is a concern that UV irradiation may not be properly exhausted and UV irradiation may be made non-uniform due to an increase in the surface temperature of the UV irradiation lamp and an increase in the temperature of the UV processing apparatus on electrical components.

また、紫外線照射ランプ表面の温度上昇は、紫外線照射ランプの焼付きを引き起こすという問題がある。被処理水量が一時的に低下し紫外線照射ランプが高温になった後に被処理水を導入すると、紫外線照射ランプの保護管等(例えば石英ガラス製)と被処理水との温度差により保護管が急激に収縮し破損するという問題がある。   Moreover, there is a problem that the temperature rise on the surface of the ultraviolet irradiation lamp causes seizure of the ultraviolet irradiation lamp. When the water to be treated is introduced after the amount of water to be treated is temporarily reduced and the ultraviolet irradiation lamp becomes high temperature, the protective tube is caused by the temperature difference between the protective tube of the ultraviolet irradiation lamp (for example, made of quartz glass) and the water to be treated. There is a problem of rapid contraction and breakage.

特許文献1には、紫外線ランプの誘電体容器表面の温度上昇に対し、冷却用ファンを装置本体の外部に配置させることで誘電体容器の表面温度を一定以下に調整して紫外線透過率を維持する紫外線消毒装置が開示されている(段落0008、0011および図1参照)。   In Patent Document 1, in response to the temperature rise of the dielectric container surface of the ultraviolet lamp, the cooling fan is disposed outside the apparatus main body to adjust the surface temperature of the dielectric container to a certain level or less and maintain the ultraviolet transmittance. An ultraviolet disinfection device is disclosed (see paragraphs 0008, 0011 and FIG. 1).

また、被処理水に存在する硬度成分等が紫外線照射を受けることで、紫外線照射ランプの表面に固着・堆積すると、その固着物または堆積物が被処理水への紫外線照射を妨げてしまうという問題が生じていた。   In addition, when the hardness component or the like present in the water to be treated is irradiated with ultraviolet rays, and adheres to or accumulates on the surface of the ultraviolet irradiation lamp, the adhered matter or deposits hinder ultraviolet irradiation to the water to be treated. Has occurred.

特許文献2には、空気噴射口を有し、噴射された空気によって被処理水を攪拌し、紫外線発生管に付着した付着物を離脱除去させる方法と装置が開示されている(段落0010および図1参照)。   Patent Document 2 discloses a method and apparatus that has an air injection port, stirs water to be treated with the injected air, and separates and removes the adhering matter adhering to the ultraviolet ray generating tube (paragraph 0010 and FIG. 1).

特開2009−95724号公報JP 2009-95724 A 特開平7−100461号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-100461

本発明者は、本発明に想到するに際して、少なくとも以下に記載する課題を認識していた。
(1)特許文献1に開示された紫外線消毒装置では、紫外線ランプの誘電体容器表面の温度上昇を抑制するために冷却装置を設けることにより、その紫外線消毒装置の部品点数が増えて、装置全体が大型となり、且つ部品交換や保守点検が複雑となるという課題があった。また、冷却装置を機能させるエネルギーが別途必要となるという課題もあった。
The present inventor has recognized at least the following problems when conceiving the present invention.
(1) In the ultraviolet disinfection device disclosed in Patent Document 1, by providing a cooling device to suppress the temperature rise on the surface of the dielectric container of the ultraviolet lamp, the number of parts of the ultraviolet disinfection device increases, and the entire device However, there is a problem that parts become large and parts replacement and maintenance inspection become complicated. In addition, there is a problem that energy for functioning the cooling device is required separately.

(2)空気噴射口を有し、噴射された空気によって被処理水を攪拌することで紫外線発生管に付着物を脱離除去させる特許文献2に開示された方法は、開水路においては簡便な装置となるが、管路では高い圧力で空気を押込む必要があり、結果として大量の空気を注入するため空気抜き弁では対応ができず、別途空気抜き設備を設ける必要があるという課題があった。 (2) The method disclosed in Patent Document 2 that has an air injection port and desorbs and removes deposits on the ultraviolet ray generation tube by stirring the water to be treated with the injected air is simple in an open channel. Although it becomes an apparatus, it is necessary to push in air at a high pressure in a pipe line. As a result, since a large amount of air is injected, the air vent valve cannot cope with it, and there is a problem that it is necessary to provide a separate air vent facility.

(3)上記(1)の特許文献2に開示された方法は、被処理水や空気の流れによる物理的な除去方法であるが、固着・堆積した硬度成分を除去するには力が不十分であるため、より強力な物理的あるいは化学的な除去方法が必要となるという課題があった。 (3) The method disclosed in Patent Document 2 of (1) above is a physical removal method by the flow of water to be treated or air, but the force is insufficient to remove the adhered / deposited hardness component. Therefore, there is a problem that a more powerful physical or chemical removal method is required.

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、管路を流れる被処理水に効率よく、しかも確実に紫外線を照射して細菌やウイルス等の微生物を不活化できると共に、部品点数が少なく、コンパクトで部品交換や保守点検を容易に行うことができ、且つ省エネルギーである紫外線処理装置を提供することを目的とする。   The present invention was made to solve the above-described problems, and efficiently inactivates the water to be treated flowing through the pipe line, and can reliably inactivate ultraviolet rays to inactivate microorganisms such as bacteria and viruses, An object of the present invention is to provide an ultraviolet treatment apparatus that has a small number of parts, is compact, can be easily replaced and maintained, and saves energy.

本発明に係る紫外線処理装置は、流入側フランジおよび流出側フランジを有し、保護管に収容された紫外線照射ランプが配設されたリアクターに流入水を導入し、紫外線を照射する紫外線処理装置において、前記リアクター内には、受光部を有する紫外線センサー、および前記保護管の表面を清掃する清掃具が配設され、且つ、前記リアクターには、前記清掃具を駆動させる駆動機が設けられていることを特徴とするものである。   The ultraviolet treatment apparatus according to the present invention is an ultraviolet treatment apparatus that has an inflow side flange and an outflow side flange, introduces inflow water into a reactor provided with an ultraviolet irradiation lamp accommodated in a protective tube, and irradiates ultraviolet light. In the reactor, an ultraviolet sensor having a light receiving unit and a cleaning tool for cleaning the surface of the protective tube are disposed, and the reactor is provided with a drive for driving the cleaning tool. It is characterized by this.

本発明に係る紫外線処理装置は、前記清掃具は、薬液注入口を有し、保護管を包み込む環状部材、保護管に接触する清掃環、および清掃環を支持する清掃環支持部材を備えたことを特徴とするものである。   In the ultraviolet treatment apparatus according to the present invention, the cleaning tool includes a chemical liquid injection port, an annular member that wraps the protective tube, a cleaning ring that contacts the protective tube, and a cleaning ring support member that supports the cleaning ring. It is characterized by.

本発明に係る紫外線処理装置は、前記リアクター内の水位を検知する水位センサー、および/または前記リアクター内の水温を測定する水温センサーを備えたことを特徴とするものである。   The ultraviolet treatment apparatus according to the present invention includes a water level sensor that detects a water level in the reactor and / or a water temperature sensor that measures a water temperature in the reactor.

本発明に係る紫外線処理装置は、前記紫外線照射ランプと前記紫外線センサーは、引抜き方向を同一に配設されていることを特徴とするものである。   The ultraviolet ray processing apparatus according to the present invention is characterized in that the ultraviolet ray irradiation lamp and the ultraviolet ray sensor are arranged in the same drawing direction.

本発明に係る紫外線処理装置は、前記リアクターには、前記リアクター内の水を排出する排水口が配設されていることを特徴とするものである。   The ultraviolet ray processing apparatus according to the present invention is characterized in that the reactor is provided with a drain outlet for discharging water in the reactor.

本発明に係る紫外線処理装置によれば、前記リアクター内に、受光部を有する紫外線センサー、および保護管の表面を清掃する清掃具を配設し、且つ、前記リアクターに、前記清掃具を駆動させる駆動機を設けるよう構成したので、紫外線センサーにより、所定量であることが検知された紫外線照射ランプの照射する紫外線を、駆動機により駆動された清掃具によって表面を清掃された保護管を通じてリアクター内の被処理水に、均一に且つ安定して照射できる効果がある。   According to the ultraviolet processing apparatus of the present invention, an ultraviolet sensor having a light receiving unit and a cleaning tool for cleaning the surface of a protective tube are disposed in the reactor, and the cleaning tool is driven by the reactor. Since the drive unit is provided, the ultraviolet ray emitted from the UV irradiation lamp, which is detected to be a predetermined amount by the UV sensor, is passed through the protective tube whose surface is cleaned by the cleaning tool driven by the drive unit. The water to be treated can be irradiated uniformly and stably.

本発明に係る紫外線処理装置によれば、前記清掃具に、薬液注入口を有し、保護管を包み込む環状部材、保護管に接触する清掃環、および清掃環を支持する清掃環支持部材を備えるよう構成したので、保護管に付着した付着物を駆動機により駆動される環状部材の清掃環での掻落としという物理的な清掃に加え、薬液による化学的な清掃を行うことができる効果がある。   According to the ultraviolet ray processing apparatus of the present invention, the cleaning tool includes an annular member that has a chemical solution inlet and encloses the protective tube, a cleaning ring that contacts the protective tube, and a cleaning ring support member that supports the cleaning ring. Since it comprised so, in addition to the physical cleaning called scraping with the cleaning ring of the annular member driven by the drive machine with the deposit | attachment adhering to a protective tube, there exists an effect which can perform chemical cleaning with a chemical | medical solution. .

本発明に係る紫外線処理装置によれば、前記リアクター内の水位を検知する水位センサー、および/または前記リアクター内の水温を測定する水温センサーを備えるよう構成したので、次のような優れた作用効果を奏する。
(1)リアクター内の被処理水から保護管が露出している状態で紫外線照射ランプを点灯してしまうことにより生じる紫外線照射ランプの焼付きを防止できる効果がある。
(2)リアクター内の被処理水から保護管が露出している状態で紫外線照射ランプを点灯してしまうことにより高温化するリアクターへの作業員等の接触による事故を防止できる効果がある。
(3)リアクター内の被処理水から保護管が露出している状態で紫外線照射ランプを点灯してしまうことにより生じる保護管の温度上昇と、温度上昇した保護管と被処理水との温度差による保護管の破損を防止できる効果がある。
According to the ultraviolet ray processing apparatus of the present invention, since the water level sensor that detects the water level in the reactor and / or the water temperature sensor that measures the water temperature in the reactor is provided, the following excellent operational effects are provided. Play.
(1) There is an effect of preventing seizure of the ultraviolet irradiation lamp, which is caused by lighting the ultraviolet irradiation lamp in a state where the protective tube is exposed from the water to be treated in the reactor.
(2) There is an effect of preventing an accident caused by contact of a worker or the like with a high temperature reactor by turning on the ultraviolet irradiation lamp while the protective tube is exposed from the water to be treated in the reactor.
(3) The temperature rise of the protective tube caused by lighting the ultraviolet irradiation lamp with the protective tube exposed from the treated water in the reactor, and the temperature difference between the heated protective tube and the treated water There is an effect of preventing breakage of the protective tube due to.

本発明に係る紫外線処理装置によれば、前記紫外線照射ランプと前記紫外線センサーを、引抜き方向が同一になるよう配設したので、紫外線照射ランプと前記紫外線センサーの引抜きスペースや保守点検作業用スペースを紫外線処理装置の片側にまとめることができ、紫外線照射ランプ等の交換や保守点検作業を効率よく行うことができる効果がある。   According to the ultraviolet processing apparatus according to the present invention, the ultraviolet irradiation lamp and the ultraviolet sensor are arranged so that the pulling directions are the same. It can be put together on one side of the ultraviolet treatment apparatus, and there is an effect that the ultraviolet irradiation lamp and the like can be exchanged and the maintenance inspection work can be performed efficiently.

本発明に係る紫外線処理装置によれば、前記リアクターに、前記リアクター内の水を排出する排水口を配設したので、次のような優れた作用効果を奏する。
(1)紫外線照射ランプへの給電から所定の紫外線強度に達するまでの時間(以下、「点灯準備中」という)において、紫外線照射ランプにより温度上昇したリアクター内の被処理水を排水口から排出することで、リアクター内に高い温度の被処理水が滞留することによる紫外線照射ランプの焼付きを防止できることになる。
(2)部品交換や保守点検の作業前にリアクター内の水を排水口から排出することにより、リアクター内を空にすることができるので、紫外線照射ランプや紫外線センサーを保護する保護管をリアクターから取り外す際に床や交換部品等を濡らすことがなくなるため、作業を容易にすることができる効果がある。
(3)紫外線照射ランプの点灯準備中にリアクター内に流入した、紫外線処理の不十分な被処理水を排水口から排出することにより、紫外線処理の不十分な被処理水が流出側フランジから流出することを防ぐことができる効果がある。
According to the ultraviolet ray processing apparatus of the present invention, since the drain outlet for discharging the water in the reactor is provided in the reactor, the following excellent effects are obtained.
(1) Discharge the treated water in the reactor whose temperature has been raised by the ultraviolet irradiation lamp from the drain outlet during the time from the power supply to the ultraviolet irradiation lamp until the predetermined ultraviolet intensity is reached (hereinafter referred to as “lighting preparation”). As a result, it is possible to prevent seizure of the ultraviolet irradiation lamp due to retention of high temperature water to be treated in the reactor.
(2) Since the reactor can be emptied by draining the water from the drain before replacing parts or performing maintenance and inspection, a protective tube that protects the UV irradiation lamp and UV sensor from the reactor. Since the floor and replacement parts are not wetted when removed, there is an effect that the work can be facilitated.
(3) By discharging the treated water with insufficient UV treatment flowing into the reactor during the preparation for lighting the UV irradiation lamp, the treated water with insufficient UV treatment flows out from the outlet flange. There is an effect that can be prevented.

本発明の実施の形態1による紫外線処理装置の全体構成を、一部を破断して示す上面図である。It is a top view which fractures | ruptures and shows the whole structure of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2による紫外線処理装置のリアクター内に配設される掃除具および保護管の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the cleaning tool and protective tube which are arrange | positioned in the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 2 of this invention. 図2に示した掃除具の環状部材の構成を分解して示す斜視図である。It is a perspective view which decomposes | disassembles and shows the structure of the annular member of the cleaning tool shown in FIG. 本発明の実施の形態3による紫外線処理装置のリアクターに取り付けられた水位センサーおよび温度センサーの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the water level sensor and temperature sensor which were attached to the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4による紫外線処理装置のリアクターから紫外線センサーおよび紫外線照射ランプが同一方向に引き抜かれた状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state by which the ultraviolet sensor and the ultraviolet irradiation lamp were extracted from the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 4 of this invention in the same direction. 本発明の実施の形態5による紫外線処理装置のリアクターに設けられた排水口の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the drain outlet provided in the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6による紫外線処理装置のリアクター内に取り付けられた紫外線照射ランプおよび紫外線センサーの配置構成を示す側面図である。It is a side view which shows the arrangement structure of the ultraviolet irradiation lamp and ultraviolet sensor which were attached in the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態7による紫外線処理装置のリアクター内に取り付けられた紫外線照射ランプおよび紫外線センサーの配置構成を示す側面図である。It is a side view which shows the arrangement structure of the ultraviolet irradiation lamp and the ultraviolet sensor which were attached in the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 7 of this invention. 本発明の実施の形態8による紫外線処理装置のリアクター内に取り付けられた紫外線照射ランプおよび紫外線センサーの配置構成を示す側面図である。It is a side view which shows the arrangement structure of the ultraviolet irradiation lamp and ultraviolet sensor which were attached in the reactor of the ultraviolet-ray processing apparatus by Embodiment 8 of this invention. 本発明による紫外線処理装置を表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理(塩素消毒のみ)に適用した実施例1を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 1 which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (only chlorine disinfection) with respect to water (well water, underground water, etc.) other than surface water. 本発明による紫外線処理装置を表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理(緩速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例2を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 2 which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (slow-speed filtration and chlorine disinfection) with respect to water other than surface water (well water, underground water, etc.). 本発明による紫外線処理装置を表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理(マンガン砂ろ過および塩素消毒)に適用した実施例3を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 3 which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (manganese sand filtration and chlorine disinfection) with respect to water (well water, underground water, etc.) other than surface water. 本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(凝集沈殿、急速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例4(マルチバリア)を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 4 (multi-barrier) which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (coagulation sedimentation, rapid filtration, and chlorine disinfection) with respect to surface water. 本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(凝集、急速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例5(マルチバリア)を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 5 (multi barrier) which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (aggregation, rapid filtration, and chlorine disinfection) with respect to surface water. 本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(緩速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例6(マルチバリア)を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 6 (multi barrier) which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (slow-speed filtration and chlorine disinfection) with respect to surface water. 本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(膜ろ過および塩素消毒)に適用した実施例7(マルチバリア)を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 7 (multi barrier) which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the water treatment (membrane filtration and chlorine disinfection) with respect to surface water. 本発明による紫外線処理装置を産業排水または生物処理水等に対する促進酸化処理に適用した実施例8を示すフロー図である。It is a flowchart which shows Example 8 which applied the ultraviolet-ray processing apparatus by this invention to the accelerated oxidation process with respect to industrial wastewater or biologically treated water.

実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1による紫外線処理装置の全体構成を、一部を破断して示す上面図である。なお、以下の説明において、紫外線処理の対象となる水を被処理水または流入水という。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a top view showing the entire configuration of the ultraviolet ray processing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention, with a part thereof broken. In the following description, water to be subjected to ultraviolet treatment is referred to as treated water or inflow water.

この実施の形態1による紫外線処理装置1は、管路Pの途中に配設されて、管路Pを流れる被処理水に紫外線を照射して被処理水中に存在する細菌やウイルス等の微生物を不活化するものである。管路Pには、種々の水処理施設内で一連の浄化処理が施された被処理水が流入する。この紫外線処理装置1は、図1に示すように、管路Pとの接続が可能な流入側フランジ2aおよび流出側フランジ2bを互いに対向する位置に備えた外周部2cを有する有底円筒状のリアクター2と、このリアクター2の開口端2dを液密状態に封止する円板状の封止プレート3と、リアクター2内の被処理水に紫外線を照射する長尺の紫外線照射ランプ4と、この紫外線照射ランプ4からの紫外線強度を計測する受光部5aを有する紫外線センサー5と、リアクター2内で水平方向に延在され、かつ、紫外線照射ランプ4および紫外線センサー5をそれぞれ個別に収容する有底円筒状で長尺の保護管6と、この保護管6上をその長さ方向(水平方向)に沿って往復移動して保護管6の外周表面を清掃する清掃具7と、この清掃具7を駆動させる駆動機8と、紫外線照射ランプ4および清掃具7を制御する制御器9とから概略構成されている。   The ultraviolet treatment apparatus 1 according to the first embodiment is arranged in the middle of the pipe P, irradiates the water to be treated flowing through the pipe P with ultraviolet rays, and removes microorganisms such as bacteria and viruses existing in the water to be treated. Inactivate. The treated water that has undergone a series of purification treatments in various water treatment facilities flows into the pipe P. As shown in FIG. 1, the ultraviolet ray processing apparatus 1 has a bottomed cylindrical shape having an outer peripheral portion 2c provided with an inflow side flange 2a and an outflow side flange 2b that can be connected to the pipe P at positions facing each other. A reactor 2, a disc-shaped sealing plate 3 that seals the open end 2 d of the reactor 2 in a liquid-tight state, a long ultraviolet irradiation lamp 4 that irradiates the water to be treated in the reactor 2 with ultraviolet rays, An ultraviolet sensor 5 having a light receiving portion 5a for measuring the ultraviolet intensity from the ultraviolet irradiation lamp 4, and a horizontal extension in the reactor 2, and each of the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 are individually accommodated. A bottom cylindrical and long protective tube 6, a cleaning tool 7 that reciprocates along the length direction (horizontal direction) on the protective tube 6 to clean the outer peripheral surface of the protective tube 6, and the cleaning tool Driven 7 That the driving machine 8 is a schematic configuration from the controller 9 for controlling the UV radiation lamps 4 and the cleaner 7.

リアクター2の流出側フランジ2b側には、リアクター2から流出する被処理水の水位を検知する水位センサー10と、リアクター2から流出する被処理水の水温を測定する水温センサー11が取り付けられている。さらに、リアクター2には、リアクター2内の被処理水を排出する排水口12が形成されている。   On the outflow side flange 2b side of the reactor 2, a water level sensor 10 for detecting the water level of the water to be treated flowing out from the reactor 2 and a water temperature sensor 11 for measuring the water temperature of the water to be treated outflowing from the reactor 2 are attached. . Further, the reactor 2 is formed with a drain port 12 for discharging the water to be treated in the reactor 2.

封止プレート3は、リアクター2内に収容された状態の保護管6の基部を液密に固定するとともに、駆動機8の長尺の雄ネジ8aを回転可能に支持するものである。この封止プレート3の中央部には、雄ネジ8aを受け入れる貫通孔(図示せず)が形成されており、この実施の形態1における貫通孔(図示せず)の周囲には、4本の保護管6を収容する4つの収容孔(図示せず)が形成されている。   The sealing plate 3 fixes the base portion of the protective tube 6 accommodated in the reactor 2 in a liquid-tight manner, and rotatably supports the long male screw 8a of the driving machine 8. A through hole (not shown) for receiving the male screw 8a is formed at the center of the sealing plate 3, and four holes are provided around the through hole (not shown) in the first embodiment. Four accommodation holes (not shown) for accommodating the protective tube 6 are formed.

この実施の形態1では、リアクター2内へ流入する被処理水の流れ方向に直交する方向(図1の矢印A方向に直交する方向)に沿ってリアクター2内に配設された保護管6内に2本の紫外線照射ランプ4がそれぞれ個別に収容されている。同様に、2本の紫外線センサー5も、図1の矢印A方向に直交する方向に沿ってリアクター2内に配設された保護管6内にそれぞれ個別に収容されている。この場合、被処理水で満管となったリアクター2内に流入した被処理水は、紫外線照射ランプ4および紫外線センサー5を収容する保護管6の間を縫うように流れることになる。   In the first embodiment, the inside of the protective tube 6 disposed in the reactor 2 along the direction orthogonal to the flow direction of the water to be treated flowing into the reactor 2 (direction orthogonal to the direction of arrow A in FIG. 1). Two ultraviolet irradiation lamps 4 are individually accommodated. Similarly, the two ultraviolet sensors 5 are individually accommodated in protective tubes 6 disposed in the reactor 2 along a direction orthogonal to the direction of arrow A in FIG. In this case, the water to be treated which has flowed into the reactor 2 filled with the water to be treated flows so as to sew between the ultraviolet irradiation lamp 4 and the protective tube 6 that accommodates the ultraviolet sensor 5.

紫外線照射ランプ4としては、例えば、中圧水銀ランプが望ましいが、低圧水銀ランプやLEDランプ等でもよい。   As the ultraviolet irradiation lamp 4, for example, an intermediate pressure mercury lamp is desirable, but a low pressure mercury lamp, an LED lamp, or the like may be used.

紫外線照射量は、紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度と被処理水に対する紫外線の照射時間との積(紫外線照射量mJ/cm=mWs/cm=紫外線強度mW/cm×照射時間s)として算出される。この実施の形態1では、10mJ/cm以上となる条件で照射することが望ましい。紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度は、経時的に減衰していくから、被処理水に対して必要とされる紫外線照射量を確保していることを確認するために、紫外線センサー5は紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度を常時、モニターしている。このため、紫外線センサー5の受光部5aの位置は、紫外線照射ランプ4からリアクター2内の被処理水中に照射される紫外線の強度およびその強度分布を正確にモニターするために、リアクター2内での紫外線照射ランプ4の位置や設置本数などを考慮して決められることが望ましい。このような紫外線センサー5により紫外線強度の減衰を把握しておき、所定値に近づいた場合には、例えば、紫外線照射ランプ4を交換することができる。また、紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度が細菌やウイルス等の微生物を不活化するに十分なレベル以上であっても、紫外線照射ランプ4を覆う保護管6の外周表面に硬度成分系の付着物が付着している場合には、被処理水が受ける紫外線照射量が実質的に減衰するため、保護管6の外周表面を常に清掃しておく必要がある。この状態も、紫外線センサー5の計測データを利用して把握することができる。 The amount of ultraviolet irradiation is the product of the intensity of ultraviolet light from the ultraviolet irradiation lamp 4 and the irradiation time of ultraviolet light on the water to be treated (ultraviolet irradiation amount mJ / cm 2 = mWs / cm 2 = ultraviolet intensity mW / cm 2 × irradiation time s. ). In this Embodiment 1, it is desirable to irradiate on the conditions which become 10 mJ / cm < 2 > or more. Since the intensity of the ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation lamp 4 is attenuated with time, the ultraviolet sensor 5 is used to confirm that the necessary amount of ultraviolet irradiation is secured for the water to be treated. The intensity of ultraviolet rays from the irradiation lamp 4 is constantly monitored. For this reason, the position of the light receiving portion 5a of the ultraviolet sensor 5 is determined in the reactor 2 in order to accurately monitor the intensity of the ultraviolet ray irradiated from the ultraviolet irradiation lamp 4 into the water to be treated in the reactor 2 and its intensity distribution. It is desirable to determine in consideration of the position of the ultraviolet irradiation lamp 4 and the number of the lamps installed. When the ultraviolet intensity is attenuated by such an ultraviolet sensor 5 and approaches a predetermined value, for example, the ultraviolet irradiation lamp 4 can be replaced. Further, even if the intensity of ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation lamp 4 is higher than a level sufficient to inactivate microorganisms such as bacteria and viruses, a hardness component system is attached to the outer peripheral surface of the protective tube 6 covering the ultraviolet irradiation lamp 4. When the kimono is attached, the amount of ultraviolet irradiation received by the water to be treated is substantially attenuated, so it is necessary to always clean the outer peripheral surface of the protective tube 6. This state can also be grasped using measurement data of the ultraviolet sensor 5.

保護管6は、紫外線照射ランプ4からの紫外線を透過するに十分な透明度を有する石英ガラス製のスリーブであり、その内部に収容する紫外線照射ランプ4および紫外線センサー5を被処理水から保護し、紫外線照射ランプ4および紫外線センサー5の破損を防止するとともに、紫外線照射ランプ4と保護管6との間に形成される空間を石英ガラスを通じて被処理水により冷却して紫外線照射ランプ4の過熱を防止するものである。このような保護管6の基部は、封止プレート3の収容孔(図示せず)内に片持ち梁状に固定されており、保護管6の先端部は、リアクター2の底部2e近傍に延在している。   The protective tube 6 is a quartz glass sleeve having sufficient transparency to transmit the ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation lamp 4, and protects the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 accommodated therein from the water to be treated. The ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 are prevented from being damaged, and the space formed between the ultraviolet irradiation lamp 4 and the protective tube 6 is cooled by water to be treated through quartz glass to prevent overheating of the ultraviolet irradiation lamp 4. To do. The base portion of such a protective tube 6 is fixed in a cantilever shape in a receiving hole (not shown) of the sealing plate 3, and the distal end portion of the protective tube 6 extends near the bottom 2 e of the reactor 2. Exist.

保護管6の外周表面を清掃する清掃具7は、複数の収容孔(図示せず)を有する略円板状の部材であり、これらの収容孔に紫外線照射ランプ4および紫外線センサー5の保護管6を収容する。また、清掃具7は、その中心部に雌ネジの形成された雌ネジ孔(図示せず)を有し、リアクター2の中心軸に沿って形成される雄ネジ8aに回転可能に接続されている。   The cleaning tool 7 for cleaning the outer peripheral surface of the protective tube 6 is a substantially disk-shaped member having a plurality of receiving holes (not shown), and the protective tubes for the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 in these receiving holes. 6 is accommodated. The cleaning tool 7 has a female screw hole (not shown) in which a female screw is formed at the center, and is rotatably connected to a male screw 8 a formed along the central axis of the reactor 2. Yes.

封止プレート3の外側には、駆動機8が取り付けられており、その雄ネジ8aは、リアクター2の底部2eまで水平方向に沿って延在しており、その先端部分は底部2e上に回転可能に支持されている。この駆動機8内には、雄ネジ8aを正逆方向に回転させるモータ(図示せず)が設けられている。このモータ(図示せず)により正逆方向に回転する雄ネジ8aの回転力が雌ネジ孔(図示せず)に伝わると、清掃具7は、雄ネジ8aの長さ方向に沿って、すなわち、保護管6の長さ方向に往復移動するように構成されている。   A drive unit 8 is attached to the outside of the sealing plate 3, and the male screw 8a extends in the horizontal direction to the bottom 2e of the reactor 2, and the tip portion rotates on the bottom 2e. Supported as possible. A motor (not shown) for rotating the male screw 8a in the forward / reverse direction is provided in the driving machine 8. When the rotational force of the male screw 8a rotating in the forward / reverse direction by this motor (not shown) is transmitted to the female screw hole (not shown), the cleaning tool 7 moves along the length direction of the male screw 8a, that is, The protective tube 6 is configured to reciprocate in the length direction.

制御器9と駆動機8の外部に取り付けられた端子ボックス13内の各端子(図示せず)とは、配線14を介して電気的に接続されており、端子ボックス13内の各端子(図示せず)は、紫外線照射ランプ4、紫外線センサー5、駆動機8、水位センサー10、水温センサー11および清掃具の位置センサー7e(図示せず)に接続されている。   Each terminal (not shown) in the terminal box 13 attached to the outside of the controller 9 and the drive unit 8 is electrically connected via a wiring 14, and each terminal (see FIG. (Not shown) is connected to the ultraviolet irradiation lamp 4, ultraviolet sensor 5, driver 8, water level sensor 10, water temperature sensor 11 and cleaning tool position sensor 7e (not shown).

次に動作について説明する。
まず、紫外線照射ランプ4の点灯中に、リアクター2内の被処理水中に照射されている紫外線の強度は、紫外線センサー5により、常時、モニターされている。
次に、制御器9により制御された駆動機8のモータ(図示せず)を間欠的に駆動させる。これにより、清掃具7は、保護管6の外周表面上を摺動しながら往復移動する。この往復移動中に、清掃具7の収容孔(図示せず)内のワイパー(図示せず)により、保護管6の外周表面上に付着していた硬度成分系の付着物を物理的に除去する。なお、紫外線センサー5による紫外線の強度等の計測データに基づいて、駆動機8のモータを駆動させる間隔を設定しても良い。
Next, the operation will be described.
First, while the ultraviolet irradiation lamp 4 is turned on, the intensity of the ultraviolet rays irradiated into the water to be treated in the reactor 2 is constantly monitored by the ultraviolet sensor 5.
Next, a motor (not shown) of the driving machine 8 controlled by the controller 9 is intermittently driven. Thereby, the cleaning tool 7 reciprocates while sliding on the outer peripheral surface of the protective tube 6. During this reciprocation, the wiper (not shown) in the accommodation hole (not shown) of the cleaning tool 7 physically removes the adherence of the hardness component based on the outer peripheral surface of the protective tube 6. To do. Note that the interval at which the motor of the drive unit 8 is driven may be set based on measurement data such as the intensity of ultraviolet rays by the ultraviolet sensor 5.

この実施の形態1では、清掃具7の移動により、同時に4本の保護管6の外周表面から付着物を物理的に除去できるので、その付着物により減衰していた保護管6を透過する紫外線の強度の減衰分を回復させることができるから、2本の紫外線照射ランプ4からの紫外線を、その強度を減衰させずに、そのまま被処理水に照射できるとともに、その強度を2本の紫外線センサー5により正確に検知することができるようになる。   In the first embodiment, the movement of the cleaning tool 7 simultaneously removes the deposits from the outer peripheral surfaces of the four protection tubes 6 at the same time. Therefore, the ultraviolet rays transmitted through the protection tubes 6 that have been attenuated by the deposits. Since the attenuation of the intensity can be recovered, the ultraviolet rays from the two ultraviolet irradiation lamps 4 can be directly applied to the water to be treated without attenuating the intensity, and the intensity can be obtained by the two ultraviolet sensors. 5 enables accurate detection.

なお、この実施の形態1では、図1に示すように、リアクター2内の被処理水中に水平方向に延在される保護管6内に紫外線センサー5の受光部5aが設けられているが、これに限定されるものではなく、例えば、リアクター2の内壁面など、リアクター2内に付設してもよい。この場合には、保護管6内に紫外線センサー5を収容する必要がないため、その保護管6内に、紫外線センサー5に代えて、紫外線照射ランプ4を配設できるから、紫外線照射ランプ4の設置本数を増やすことができる。   In the first embodiment, as shown in FIG. 1, the light receiving portion 5a of the ultraviolet sensor 5 is provided in the protective tube 6 that extends in the horizontal direction in the water to be treated in the reactor 2, For example, the inner wall surface of the reactor 2 or the like may be attached to the reactor 2. In this case, since it is not necessary to house the ultraviolet sensor 5 in the protective tube 6, the ultraviolet irradiation lamp 4 can be disposed in the protective tube 6 instead of the ultraviolet sensor 5. The number of installations can be increased.

また、この実施の形態1では、1つの制御器9により紫外線照射ランプ4の点灯または消灯のタイミングおよび紫外線照射ランプ4の出力を制御しているが、例えば、清掃具7の駆動タイミングを制御するように構成してもよい。   In the first embodiment, the timing of turning on / off the ultraviolet irradiation lamp 4 and the output of the ultraviolet irradiation lamp 4 are controlled by one controller 9. For example, the driving timing of the cleaning tool 7 is controlled. You may comprise as follows.

また、図1には、1つの管路Pの途中に1つの紫外線処理装置1を接続した構成が示されているが、必要に応じて、複数の紫外線処理装置1を接続してもよい。例えば、1つのリアクター2の流入側フランジ2aと他のリアクター2の流出側フランジ2bを順次、連続的に接続して形成された組立体を1つの管路Pの途中に配設させるように構成してもよい。その場合には、1つの制御器9により、複数の紫外線照射ランプ4の点灯または消灯のタイミングおよび清掃具7の駆動タイミングを制御するように構成してもよい。   1 shows a configuration in which one ultraviolet treatment device 1 is connected in the middle of one pipe P, a plurality of ultraviolet treatment devices 1 may be connected as necessary. For example, an assembly formed by sequentially connecting an inflow side flange 2a of one reactor 2 and an outflow side flange 2b of another reactor 2 in sequence is arranged in the middle of one pipe P. May be. In that case, you may comprise so that the timing of lighting or extinction of the some ultraviolet irradiation lamp 4 and the drive timing of the cleaning tool 7 may be controlled by the one controller 9. FIG.

以上のように、この実施の形態1によれば、流入側フランジ2aおよび流出側フランジ2bを有し、保護管6に収容された紫外線照射ランプ4が配設されたリアクター2内に、受光部5aを有する紫外線センサー5、および保護管6の外周表面を清掃する清掃具7を配設し、且つ、リアクター2に、清掃具7を駆動させる駆動機8を設けるよう構成したので、紫外線センサー5により、所定量であることが検知された紫外線照射ランプ4の照射する紫外線を、駆動機8により駆動された清掃具7によって表面を物理的に清掃された保護管6を通じてリアクター2内の流入水(被処理水)に、均一に且つ安定して照射できる効果がある。   As described above, according to the first embodiment, the light receiving portion is provided in the reactor 2 having the inflow side flange 2a and the outflow side flange 2b and provided with the ultraviolet irradiation lamp 4 accommodated in the protective tube 6. Since the ultraviolet sensor 5 having 5 a and the cleaning tool 7 for cleaning the outer peripheral surface of the protective tube 6 are disposed, and the reactor 2 is provided with the drive unit 8 for driving the cleaning tool 7, the ultraviolet sensor 5 Inflow water in the reactor 2 through the protective tube 6 whose surface has been physically cleaned by the cleaning tool 7 driven by the driving device 8 with the ultraviolet light irradiated by the ultraviolet irradiation lamp 4 detected to be a predetermined amount by There is an effect that the (treated water) can be irradiated uniformly and stably.

実施の形態2.
図2は本発明の実施の形態2による紫外線処理装置のリアクター内に配設される掃除具および保護管の構成を示す斜視図であり、図3は図2に示した掃除具の環状部材の構成を分解して示す斜視図であり、図1と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態2による紫外線処理装置1は、保護管6の外周表面を物理的および化学的に清掃する清掃具7を備えた点で、実施の形態1と異なる。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the cleaning tool and the protective tube disposed in the reactor of the ultraviolet processing apparatus according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 3 shows the annular member of the cleaning tool shown in FIG. It is a perspective view which decomposes | disassembles and shows a structure, The same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 1, and duplication description is abbreviate | omitted.
The ultraviolet ray processing apparatus 1 according to the second embodiment is different from the first embodiment in that a cleaning tool 7 for physically and chemically cleaning the outer peripheral surface of the protective tube 6 is provided.

この実施の形態2における清掃具7は、図2に示すように、駆動時の水流抵抗を軽減するために外周縁部に沿って複数の凹み7aが形成された略円板状の部材である。この清掃具7の中央部には、駆動機8の雄ネジ8aと螺合可能な雌ネジ(図示せず)を内周面に有する1つの雌ネジ孔7bが形成されている。また、清掃具7には、雌ネジ孔7bの周囲に保護管6を摺動可能に収容するための2種類の収容孔が形成されている。1つ目の収容孔7cは、保護管6の外径よりも大きな内径を有する円形状の孔であり、図2には、3つの収容孔7cが示されている。この収容孔7c内には、紫外線照射ランプ4を収容するための保護管6の外周表面を清掃する後述の環状部材が装着可能である。2つ目の収容孔7dは、収容孔7cとは異なり、紫外線センサー5を収容するための保護管6の外周表面を清掃する円筒状の孔であり、略円板状の清掃具7に立設されている。この収容孔7dの内周面には、清掃用の部材(図示せず)が配設されている。この実施の形態2では、雌ネジ孔7bの近傍に位置センサー7eが取り付けられている。この位置センサー7eは、リアクター2における清掃具7の位置を常時、モニターするものである。位置センサー7eとしては、リアクター2内の基準位置からの清掃具7までの距離を測定するものであれば、周知の位置検出手段を使用可能であるが、清掃具7が移動する環境(紫外線、水、高温等)を勘案すると、これらの影響を受けずに、清掃具7の位置を正確に検出できるものであることが望ましい。さらに、清掃具7には、清掃具7の駆動時に、水流抵抗を軽減する水抜き孔7fが形成されている。なお、紫外線照射ランプ4または紫外線センサー5等を収容しない収容孔7cおよび7dも、清掃具7の駆動時に、水抜き孔としての役割を果たすこともできる。   As shown in FIG. 2, the cleaning tool 7 in the second embodiment is a substantially disk-shaped member in which a plurality of recesses 7 a are formed along the outer peripheral edge portion in order to reduce water flow resistance during driving. . In the central portion of the cleaning tool 7, one female screw hole 7 b having an internal screw (not shown) that can be screwed with the male screw 8 a of the drive unit 8 is formed on the inner peripheral surface. Further, the cleaning tool 7 is formed with two types of housing holes for slidably housing the protective tube 6 around the female screw hole 7b. The first accommodation hole 7c is a circular hole having an inner diameter larger than the outer diameter of the protective tube 6, and FIG. 2 shows three accommodation holes 7c. An annular member (to be described later) for cleaning the outer peripheral surface of the protective tube 6 for housing the ultraviolet irradiation lamp 4 can be mounted in the housing hole 7c. Unlike the accommodation hole 7 c, the second accommodation hole 7 d is a cylindrical hole for cleaning the outer peripheral surface of the protective tube 6 for accommodating the ultraviolet sensor 5, and stands on the substantially disc-shaped cleaning tool 7. It is installed. A cleaning member (not shown) is disposed on the inner peripheral surface of the accommodation hole 7d. In the second embodiment, a position sensor 7e is attached in the vicinity of the female screw hole 7b. The position sensor 7e constantly monitors the position of the cleaning tool 7 in the reactor 2. As the position sensor 7e, any known position detecting means can be used as long as it can measure the distance from the reference position in the reactor 2 to the cleaning tool 7, but the environment in which the cleaning tool 7 moves (ultraviolet rays, In view of water, high temperature, etc., it is desirable that the position of the cleaning tool 7 can be accurately detected without being affected by these effects. Furthermore, the cleaning tool 7 is formed with a drain hole 7f that reduces water flow resistance when the cleaning tool 7 is driven. The housing holes 7 c and 7 d that do not house the ultraviolet irradiation lamp 4 or the ultraviolet sensor 5 can also serve as drain holes when the cleaning tool 7 is driven.

環状部材15は、図3に示すように、略円筒状の本体15aと、この本体15aの他端側(図2において有底円筒状の保護管6の開口側または基部側)の開口の外周縁部から当該本体15aの軸線方向に沿って延在し、かつ、互いに上下方向に離間する一対の薬液注入ノズル15bと、本体15aの内側に一体に形成された内筒部15cとから概略構成されている。また、本体15aの内周面には、その内周の全周にわたって延在し、かつ、薬液注入ノズル15bと連通する凹所(図示せず)が形成されている。この凹所(図示せず)は、本体15aの内周面の一部をくり抜いて形成されてもよく、あるいは、複数の部材を組み合わせた際に部材間に形成される間隙として形成されてもよい。この凹所(図示せず)と保護管6の外周表面との間には、環状部材15内に保護管6が挿通されている状態で、薬液注入ノズル15bから注入された薬液を保持する間隙(図示せず)が形成される。なお、必要に応じて、本体15aの内周面に1つまたは2つ以上の溝を設けることにより、凹所(図示せず)の容積を大きくして、清掃に使用されるに十分な量の薬液を貯留または保持して、清掃効率を向上させるようにしてもよい。   As shown in FIG. 3, the annular member 15 has a substantially cylindrical main body 15a and an opening outside the opening on the other end side (the opening side or the base side of the bottomed cylindrical protective tube 6 in FIG. 2). Schematic configuration from a pair of chemical solution injection nozzles 15b extending along the axial direction of the main body 15a from the peripheral edge and spaced apart from each other in the vertical direction, and an inner cylindrical portion 15c integrally formed inside the main body 15a Has been. In addition, a recess (not shown) that extends over the entire inner periphery of the main body 15a and communicates with the chemical liquid injection nozzle 15b is formed on the inner peripheral surface of the main body 15a. The recess (not shown) may be formed by hollowing out a part of the inner peripheral surface of the main body 15a, or may be formed as a gap formed between members when a plurality of members are combined. Good. A gap between the recess (not shown) and the outer peripheral surface of the protective tube 6 that holds the chemical solution injected from the chemical solution injection nozzle 15b in a state where the protective tube 6 is inserted into the annular member 15. (Not shown) is formed. If necessary, an amount sufficient to be used for cleaning by increasing the volume of the recess (not shown) by providing one or more grooves on the inner peripheral surface of the main body 15a. The chemical solution may be stored or held to improve the cleaning efficiency.

薬液注入ノズル15bから環状部材15内に注入される薬液としては、保護管6の外周表面に固着し堆積する鉱物成分(例えば、鉄、カルシウムおよびマンガン等の無機物)を効率よく溶解できるゲル状の燐酸系洗浄剤であることが望ましい。例えば、ジャクリン・インダストリーズ・インク(カナダ国オンタリオ州)製の製品名アクティクリーンゲルNSFなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。   The chemical liquid injected into the annular member 15 from the chemical liquid injection nozzle 15b is a gel-like material that can efficiently dissolve mineral components (for example, inorganic substances such as iron, calcium, and manganese) that adhere and accumulate on the outer peripheral surface of the protective tube 6. A phosphoric acid-based cleaning agent is desirable. Examples include, but are not limited to, the product name Acty Clean Gel NSF manufactured by Jaclyn Industries, Inc. (Ontario, Canada).

また、環状部材15の内筒部15c内に保護管6が挿通された状態で、環状部材15の両端側から内筒部15内にリング状の清掃環16および清掃環支持部材17が配設されて組み立てられる。この組立て状態で、収容孔7c内に保護管6を挿通させてから、環状部材15の一端側(図2において有底円筒状の保護管6の底部側または先端側)を清掃具7に接触させる。この状態で、環状部材15は清掃具7にネジ等により固定される。また、清掃環16および清掃環支持部材17は、保護管6の外周表面を包み込むに十分な内径を有している。外側の清掃環16は保護管6の外周表面上を摺動する際に、当該外周表面に接触して清掃するワイパーとして作用するものであり、内側の清掃環支持部材17は清掃環16用のベアリングである。   In addition, the ring-shaped cleaning ring 16 and the cleaning ring support member 17 are disposed in the inner cylinder portion 15 from both ends of the annular member 15 in a state where the protective tube 6 is inserted into the inner cylinder portion 15 c of the annular member 15. Assembled. In this assembled state, after the protective tube 6 is inserted into the accommodation hole 7c, one end side of the annular member 15 (the bottom side or the distal end side of the bottomed cylindrical protective tube 6 in FIG. 2) contacts the cleaning tool 7. Let In this state, the annular member 15 is fixed to the cleaning tool 7 with screws or the like. Further, the cleaning ring 16 and the cleaning ring support member 17 have an inner diameter sufficient to wrap around the outer peripheral surface of the protective tube 6. When the outer cleaning ring 16 slides on the outer peripheral surface of the protective tube 6, it acts as a wiper that contacts and cleans the outer peripheral surface, and the inner cleaning ring support member 17 is used for the cleaning ring 16. It is a bearing.

この実施の形態2では、清掃環16による清掃時に、間隙(図示せず)内に注入された薬液が保護管6の外周表面に移行して保護管6の外周表面に固着し堆積する鉱物成分を溶解する。すなわち、清掃具7の往復移動時において、保護管6の外周表面上を摺動する環状部材15の清掃環16による物理的な清掃と薬液による化学的な清掃を同時に行うことができる。   In the second embodiment, during cleaning with the cleaning ring 16, the chemical component injected into the gap (not shown) moves to the outer peripheral surface of the protective tube 6 and adheres to and accumulates on the outer peripheral surface of the protective tube 6. Dissolve. That is, when the cleaning tool 7 reciprocates, physical cleaning by the cleaning ring 16 of the annular member 15 sliding on the outer peripheral surface of the protective tube 6 and chemical cleaning by a chemical solution can be performed simultaneously.

以上のように、この実施の形態2によれば、清掃具7に、薬液注入ノズル15bを有しかつ保護管6を包み込む環状部材15、保護管6に接触する清掃環16、および清掃環16を支持する清掃環支持部材17を備えるよう構成したので、保護管6に付着した付着物を駆動中の環状部材15の清掃環16での掻落としという物理的な清掃に加え、薬液による化学的な清掃を行うことができる効果がある。   As described above, according to the second embodiment, the cleaning tool 7 includes the annular member 15 having the chemical injection nozzle 15b and enclosing the protective tube 6, the cleaning ring 16 in contact with the protective tube 6, and the cleaning ring 16 Since the cleaning ring support member 17 for supporting the protective ring 6 is provided, the adhering matter adhering to the protective tube 6 is not only physically cleaned by the cleaning ring 16 of the driven annular member 15 but also chemically treated with a chemical solution. There is an effect that can be cleaned.

実施の形態3.
図4は本発明の実施の形態3による紫外線処理装置のリアクターに取り付けられた水位センサーおよび温度センサーの構成を示す斜視図であり、図1〜図3と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態3による紫外線処理装置1は、リアクター2の流出側フランジ2b側に水位センサー10および水温センサー11を設けた構成を有している。
Embodiment 3 FIG.
FIG. 4 is a perspective view showing the configuration of the water level sensor and the temperature sensor attached to the reactor of the ultraviolet ray processing apparatus according to Embodiment 3 of the present invention, and the same components as those in FIGS. Therefore, duplicate explanation is omitted.
The ultraviolet ray processing apparatus 1 according to the third embodiment has a configuration in which a water level sensor 10 and a water temperature sensor 11 are provided on the outflow side flange 2b side of the reactor 2.

水位センサー10および水温センサー11の各プローブ(図示せず)は、リアクター2の外周部2cの上方位置から被処理水中に延在されており、計測データは制御器9に送信されるように構成されている。   Each probe (not shown) of the water level sensor 10 and the water temperature sensor 11 extends from the position above the outer peripheral portion 2c of the reactor 2 into the water to be treated, and the measurement data is transmitted to the controller 9. Has been.

この実施の形態3では、水位センサー10がリアクター2の流出側フランジ2b側に設けられている。これにより、リアクター2内に流入した被処理水により流入側の部位で水位の変動が生じた場合であっても、リアクター2内の水位を計測することができる。また、水温センサー11がリアクター2の流出側フランジ2b側に設けられている。これにより、リアクター2内に流入した流入側フランジ2a側の被処理水の温度をリアクター2内の水温として計測してしまうことを回避して、紫外線処理の行われた流出側フランジ2b側の被処理水の温度を計測することができる。このように、水位センサー10や水温センサー11を流出側フランジ2bに設けることが好ましいが、他の位置に設けてもよいことはもちろんである。   In the third embodiment, the water level sensor 10 is provided on the outflow side flange 2b side of the reactor 2. Thereby, even if it is a case where the fluctuation | variation of a water level arises in the site | part of an inflow side by the to-be-processed water which flowed in in the reactor 2, the water level in the reactor 2 can be measured. A water temperature sensor 11 is provided on the outflow side flange 2 b side of the reactor 2. This avoids measuring the temperature of the water to be treated on the inflow side flange 2a that has flowed into the reactor 2 as the water temperature in the reactor 2, and prevents the water on the outflow side flange 2b on which the UV treatment has been performed. The temperature of treated water can be measured. Thus, although it is preferable to provide the water level sensor 10 and the water temperature sensor 11 in the outflow side flange 2b, it is needless to say that it may be provided in another position.

なお、この実施の形態3における封止プレート3の中央部には、雄ネジ8a(図1参照)を回転可能に受け入れる貫通孔3aが形成されている。また、封止プレート3の貫通孔3aの周囲には、複数の収容孔3b、3cが形成され、必要に応じて、紫外線照射ランプ4およびその保護管6、紫外線センサー5およびその保護管6を収容する(図5の説明において詳細を後述する)。なお、使用されない収容孔(この場合は2つの収容孔3b)は、円板状の蓋部材3dにより液密に閉塞されている。   In addition, a through-hole 3a for rotatably receiving the male screw 8a (see FIG. 1) is formed in the central portion of the sealing plate 3 in the third embodiment. In addition, a plurality of receiving holes 3b and 3c are formed around the through hole 3a of the sealing plate 3, and the ultraviolet irradiation lamp 4 and its protective tube 6, the ultraviolet sensor 5 and its protective tube 6 are provided as necessary. Accommodates (details will be described later in the description of FIG. 5). The unused accommodation holes (in this case, the two accommodation holes 3b) are liquid-tightly closed by the disc-shaped lid member 3d.

以上のように、この実施の形態3によれば、リアクター2内の水位を検知する水位センサー10およびリアクター2内の水温を測定する水温センサー11を備えるよう構成したので、リアクター2内の被処理水から保護管6が露出している状態で紫外線照射ランプ4を点灯することを回避し、紫外線照射ランプ4の焼付きを防止でき、高温化するリアクター2への作業員等の接触による事故を防止でき、さらに、保護管6の温度上昇と、温度上昇した保護管6と被処理水との温度差による保護管6の破損を防止できる効果がある。   As described above, according to the third embodiment, the water level sensor 10 for detecting the water level in the reactor 2 and the water temperature sensor 11 for measuring the water temperature in the reactor 2 are provided. It is possible to prevent the UV irradiation lamp 4 from being lit while the protective tube 6 is exposed from the water, to prevent the UV irradiation lamp 4 from being seized, and to prevent accidents caused by contact of workers or the like with the reactor 2 that is getting hot. In addition, the temperature of the protective tube 6 can be prevented, and the protective tube 6 can be prevented from being damaged due to a temperature difference between the temperature of the protective tube 6 and the water to be treated.

実施の形態4.
図5は本発明の実施の形態4による紫外線処理装置のリアクターから紫外線センサーおよび紫外線照射ランプが同一方向に引き抜かれた状態を示す斜視図であり、図1〜図4と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態4による紫外線処理装置1は、1つの封止プレート3に固定した保護管6内に収容して、紫外線照射ランプ4と紫外線センサー5を同一の方向(図5の矢印B方向)に引き抜けるよう配設した構成を有している。なお、図5は、引き抜かれた紫外線照射ランプ4と紫外線センサー5をそれぞれ収容している保護管6も引き抜かれた状態を示しているが、これは、引抜き方向の説明のための表現であり、実際の紫外線照射ランプ4と紫外線センサー5の交換時には保護管6を引き抜く必要はなく、むしろ、保護管6を引き抜かずにリアクター2内に収容したままの状態で、紫外線照射ランプ4と紫外線センサー5を引き抜くこともできる。
Embodiment 4 FIG.
FIG. 5 is a perspective view showing a state in which the ultraviolet sensor and the ultraviolet irradiation lamp are pulled out from the reactor of the ultraviolet processing apparatus according to the fourth embodiment of the present invention in the same direction, and the same components as in FIGS. The same reference numerals are given and redundant description is omitted.
The ultraviolet processing apparatus 1 according to the fourth embodiment is housed in a protective tube 6 fixed to one sealing plate 3, and the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 are in the same direction (the direction of arrow B in FIG. 5). It has the structure arrange | positioned so that it may pull out. FIG. 5 shows a state in which the protection tube 6 that accommodates the extracted ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 is also extracted, but this is an expression for explaining the extraction direction. When the actual ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 are exchanged, it is not necessary to pull out the protective tube 6. Rather, the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor are kept in the reactor 2 without being pulled out. 5 can also be pulled out.

この実施の形態4においては、封止プレート3の左側位置に形成した収容孔3bに、1つの紫外線センサー5および保護管6を収容し、封止プレート3の右側位置に形成した収容孔3bに、1つの紫外線照射ランプ4および保護管6を収容している。保護管6を収容しない上側および下側位置に形成した収容孔3bは、円板状の蓋部材3dにより液密に閉塞されている。なお、収容孔3c内に紫外線センサー5を収容してもよい。   In the fourth embodiment, one ultraviolet sensor 5 and protective tube 6 are accommodated in the accommodation hole 3b formed at the left side position of the sealing plate 3, and the accommodation hole 3b formed at the right side position of the sealing plate 3 is accommodated. One ultraviolet irradiation lamp 4 and a protective tube 6 are accommodated. The housing holes 3b formed at the upper and lower positions where the protective tube 6 is not housed are liquid-tightly closed by a disk-shaped lid member 3d. The ultraviolet sensor 5 may be accommodated in the accommodation hole 3c.

以上のように、この実施の形態4によれば、1つの封止プレート3に固定した保護管6内に収容して、紫外線照射ランプ4と紫外線センサー5を引抜き方向が同一になるよう配設したので、紫外線照射ランプ4と紫外線センサー5の引抜きスペースや保守点検作業用スペースを紫外線処理装置1の片側すなわちリアクター2の開口端2d側の封止プレート3にまとめることができ、紫外線照射ランプ等の交換や保守点検作業を効率よく行うことができる効果がある。   As described above, according to the fourth embodiment, the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 are arranged in the same pulling direction by being accommodated in the protective tube 6 fixed to one sealing plate 3. As a result, the space for drawing out the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 and the space for maintenance and inspection work can be combined into the sealing plate 3 on one side of the ultraviolet processing apparatus 1, that is, the open end 2d side of the reactor 2, and the ultraviolet irradiation lamp, etc. It is possible to efficiently perform replacement and maintenance inspection work.

実施の形態5.
図6は本発明の実施の形態5による紫外線処理装置のリアクターに設けられた排水口の構成を示す斜視図であり、図1〜図5と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態5による紫外線処理装置1は、リアクター2に、リアクター2内の被処理水を排出する排水口12を流入側フランジ2a側上部および流出側フランジ2b側下部に配設した構成を有している。
Embodiment 5 FIG.
FIG. 6 is a perspective view showing the configuration of a drain outlet provided in the reactor of the ultraviolet processing apparatus according to the fifth embodiment of the present invention. The same components as those in FIGS. Description is omitted.
The ultraviolet treatment apparatus 1 according to the fifth embodiment has a configuration in which a drain port 12 for discharging the water to be treated in the reactor 2 is disposed in the upper part on the inflow side flange 2a side and on the lower side on the outflow side flange 2b. doing.

排水口12は、図6に示すように、パッキン18を介在させてキャップ19により閉塞され、さらに、クランプ20によりキャップ19が排水口12に固定される。このクランプ20の使用により、比較的容易に排水口12の開閉を行うことができる。さらに、排水口12に接続される排水管の取付を容易に行うことができる。   As shown in FIG. 6, the drain port 12 is closed by a cap 19 with a packing 18 interposed therebetween, and the cap 19 is fixed to the drain port 12 by a clamp 20. By using this clamp 20, the drain port 12 can be opened and closed relatively easily. Furthermore, the drain pipe connected to the drain port 12 can be easily attached.

以上のように、この実施の形態5によれば、リアクター2に、リアクター2内の被処理水を排出する排水口12を配設したので、次のような優れた作用効果を奏する。
(1)紫外線照射ランプ4への給電から所定の紫外線強度に達するまでの点灯準備中において、紫外線照射ランプ4により温度上昇したリアクター2内の流入水を排水口12から排出することで、リアクター4内に高い温度の流入水が滞留することによる紫外線照射ランプ4の焼付きを防止できる効果がある。
(2)部品交換や保守点検の作業前に、リアクター2内の被処理水を排水口12から排出することにより、リアクター2内を空にすることができるので、紫外線照射ランプ4や紫外線センサー5をリアクター2から取り外す際に床や交換部品等を濡らすことがなくなるため、作業を容易にすることができる効果がある。
(3)紫外線照射ランプ4の点灯準備中にリアクター2内に流入した、紫外線処理の不十分な被処理水を排水口12から排出することにより、紫外線処理の不十分な被処理水が流出側フランジ2bから流出することを防ぐことができる効果がある。
As described above, according to the fifth embodiment, since the drain port 12 for discharging the water to be treated in the reactor 2 is disposed in the reactor 2, the following excellent effects can be obtained.
(1) During the preparation for lighting from the power supply to the ultraviolet irradiation lamp 4 until reaching the predetermined ultraviolet intensity, the inflow water in the reactor 2 whose temperature has risen by the ultraviolet irradiation lamp 4 is discharged from the drain port 12, so that the reactor 4 There is an effect of preventing seizure of the ultraviolet irradiation lamp 4 due to the inflow of high temperature inflow therein.
(2) The reactor 2 can be emptied by discharging the water to be treated in the reactor 2 from the drain port 12 before parts replacement or maintenance inspection. Therefore, the ultraviolet irradiation lamp 4 and the ultraviolet sensor 5 Since the floor, replacement parts, and the like are not wetted when the is removed from the reactor 2, there is an effect that the operation can be facilitated.
(3) By discharging the water to be treated with insufficient ultraviolet treatment that has flowed into the reactor 2 during preparation for lighting the ultraviolet irradiation lamp 4 from the drain port 12, the water to be treated with insufficient ultraviolet treatment is discharged to the outflow side. There is an effect capable of preventing outflow from the flange 2b.

実施の形態6.
図7は本発明の実施の形態6による紫外線処理装置のリアクター内に取り付けられた紫外線照射ランプおよび紫外線センサーの配置構成を示す側面図であり、図1〜図6と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態6による紫外線処理装置1は、封止プレート3に1本の紫外線照射ランプ4と1つの紫外線センサー5を備えた構成を有している。この場合の紫外線センサー5は、1本の紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度を常時、モニターするものである。なお、紫外線照射ランプ4を収容しない場合、封止プレート3の収容孔は、略円板状の蓋部材3eにより液密に閉塞されている。また、紫外線センサー5を収容しない場合、封止プレート3の収容孔は、円板状の蓋部材3fにより液密に閉塞されている。
Embodiment 6 FIG.
FIG. 7 is a side view showing the arrangement configuration of the ultraviolet irradiation lamp and the ultraviolet sensor mounted in the reactor of the ultraviolet processing apparatus according to the sixth embodiment of the present invention, and the same components as those in FIGS. A reference numeral is attached and a duplicate description is omitted.
The ultraviolet processing apparatus 1 according to the sixth embodiment has a configuration in which a sealing plate 3 includes one ultraviolet irradiation lamp 4 and one ultraviolet sensor 5. In this case, the ultraviolet sensor 5 constantly monitors the intensity of ultraviolet rays from one ultraviolet irradiation lamp 4. When the ultraviolet irradiation lamp 4 is not accommodated, the accommodation hole of the sealing plate 3 is liquid-tightly closed by a substantially disc-shaped lid member 3e. Further, when the ultraviolet sensor 5 is not accommodated, the accommodation hole of the sealing plate 3 is liquid-tightly closed by the disc-shaped lid member 3f.

以上のように、この実施の形態6によれば、封止プレート3に1本の紫外線照射ランプ4と1つの紫外線センサー5を備えたので、紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度およびその強度分布を常時、正確に把握することができ、清掃時、交換時等を容易に設定することができる効果がある。   As described above, according to the sixth embodiment, since one ultraviolet irradiation lamp 4 and one ultraviolet sensor 5 are provided on the sealing plate 3, the intensity of ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation lamp 4 and its intensity distribution. Can be grasped accurately at all times, and there is an effect that it is possible to easily set at the time of cleaning or replacement.

実施の形態7.
図8は本発明の実施の形態7による紫外線処理装置のリアクター内に取り付けられた紫外線照射ランプおよび紫外線センサーの配置構成を示す側面図であり、図1〜図7と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態7による紫外線処理装置1は、封止プレート3に2本の紫外線照射ランプ4と2つの紫外線センサー5を備えた構成を有している。この場合、1つの紫外線センサー5を1本の紫外線照射ランプ4の近傍に配設しているので、各紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度を近傍の紫外線センサー5により常時、モニターすることができる。なお、紫外線照射ランプ4を収容しない場合、封止プレート3の収容孔は、略円板状の蓋部材3eにより液密に閉塞されている。
Embodiment 7 FIG.
FIG. 8 is a side view showing the arrangement configuration of the ultraviolet irradiation lamp and the ultraviolet sensor mounted in the reactor of the ultraviolet processing apparatus according to the seventh embodiment of the present invention, and the same components as those in FIGS. A reference numeral is attached and a duplicate description is omitted.
The ultraviolet processing apparatus 1 according to the seventh embodiment has a configuration in which two ultraviolet irradiation lamps 4 and two ultraviolet sensors 5 are provided on a sealing plate 3. In this case, since one ultraviolet sensor 5 is arranged in the vicinity of one ultraviolet irradiation lamp 4, the intensity of ultraviolet rays from each ultraviolet irradiation lamp 4 can be constantly monitored by the nearby ultraviolet sensor 5. . When the ultraviolet irradiation lamp 4 is not accommodated, the accommodation hole of the sealing plate 3 is liquid-tightly closed by a substantially disc-shaped lid member 3e.

以上のように、この実施の形態7によれば、封止プレート3に2本の紫外線照射ランプ4と2つの紫外線センサー5を備えたので、2本の紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度およびその強度分布を常時、正確に把握することができ、清掃時、交換時等を容易に設定することができる効果がある。   As described above, according to the seventh embodiment, since the two ultraviolet irradiation lamps 4 and the two ultraviolet sensors 5 are provided on the sealing plate 3, the intensity of the ultraviolet rays from the two ultraviolet irradiation lamps 4 and The intensity distribution can be always accurately grasped, and there is an effect that it is possible to easily set at the time of cleaning, replacement, and the like.

実施の形態8.
図9は本発明の実施の形態8による紫外線処理装置のリアクター内に取り付けられた紫外線照射ランプおよび紫外線センサーの配置構成を示す側面図であり、図1〜図8と同一の構成要素には同一符号を付して重複説明を省略する。
この実施の形態8による紫外線処理装置1は、封止プレート3に4本の紫外線照射ランプ4と2つの受光部を備えた2つの紫外線センサー5を備えた構成を有している。この場合、1つの紫外線センサー5を2本の紫外線照射ランプ4の間に配設しているので、2本の紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度を2つの受光部を備えた1つの紫外線センサー5により常時、モニターすることができる。
Embodiment 8 FIG.
FIG. 9 is a side view showing the arrangement configuration of the ultraviolet irradiation lamp and the ultraviolet sensor mounted in the reactor of the ultraviolet processing apparatus according to the eighth embodiment of the present invention, and the same components as those in FIGS. A reference numeral is attached and a duplicate description is omitted.
The ultraviolet processing apparatus 1 according to the eighth embodiment has a configuration in which the sealing plate 3 includes two ultraviolet sensors 5 including four ultraviolet irradiation lamps 4 and two light receiving units. In this case, since one ultraviolet sensor 5 is disposed between the two ultraviolet irradiation lamps 4, one ultraviolet sensor having two light receiving portions for the intensity of ultraviolet rays from the two ultraviolet irradiation lamps 4. 5 can always be monitored.

以上のように、この実施の形態8によれば、封止プレート3に4本の紫外線照射ランプ4と2つの紫外線センサー5を備えたので、4本の紫外線照射ランプ4からの紫外線の強度およびその強度分布を常時、正確に把握することができ、清掃時、交換時等を容易に設定することができる効果がある。   As described above, according to the eighth embodiment, since the four ultraviolet irradiation lamps 4 and the two ultraviolet sensors 5 are provided on the sealing plate 3, the intensity of the ultraviolet rays from the four ultraviolet irradiation lamps 4 and The intensity distribution can be always accurately grasped, and there is an effect that it is possible to easily set at the time of cleaning, replacement, and the like.

実施例1.
図10は本発明による紫外線処理装置を表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理(塩素消毒のみ)に適用した実施例1を示すフロー図である。
この実施例1における紫外線処理は、表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理から得られる処理水に対して一般的な塩素消毒が行われる前に、その塩素消毒では対応できない耐塩素性病原性微生物の不活化を目的として行われる。この場合、原水は、着水井21から本発明による紫外線処理装置1に導入され、この原水に対する紫外線照射によって、例えば、クリプトスポリジウム等の不活化を行った後に、塩素混和池22において次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤が混和され、浄水として配水される。
Example 1.
FIG. 10 is a flowchart showing Example 1 in which the ultraviolet ray treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (only chlorine disinfection) for water other than surface water (well water, underground water, etc.).
The ultraviolet treatment in this Example 1 cannot be dealt with by chlorine disinfection before general chlorine disinfection is performed on treated water obtained from water treatment on water other than surface water (well water, underground water, etc.). It is performed for the purpose of inactivating chlorine-resistant pathogenic microorganisms. In this case, the raw water is introduced from the landing well 21 to the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention, and, for example, Cryptosporidium is inactivated by irradiating the raw water with ultraviolet rays. Chlorine agents such as sodium are mixed and distributed as purified water.

実施例2.
図11は本発明による紫外線処理装置を表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理(緩速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例2を示すフロー図である。
この実施例2における紫外線処理も、表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理から得られる処理水に対して一般的な塩素消毒が行われる前に、その塩素消毒では対応できない耐塩素性病原性微生物の不活化を目的として行われる。
Example 2
FIG. 11 is a flowchart showing Example 2 in which the ultraviolet treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (slow filtration and chlorine disinfection) for water other than surface water (well water, underground water, etc.).
The ultraviolet treatment in Example 2 cannot be handled by chlorine disinfection before general chlorine disinfection is performed on treated water obtained from water treatment on water other than surface water (well water, underground water, etc.). It is performed for the purpose of inactivating chlorine-resistant pathogenic microorganisms.

緩速ろ過池23を備えた浄水設備において、緩速ろ過処理水の濁度が0.1度を下回らない場合、クリプトスポリジウム等対策としては不十分であると認められており、ろ過設備を強化するか、紫外線処理を行う必要がある。一般に緩速ろ過池23には大きな濾過面積が必要であり、浄水施設敷地面積の制限からろ過設備を強化(設備拡張)することは容易ではないが、本発明による紫外線処理装置1によって緩速ろ過処理水を紫外線処理することでクリプトスポリジウム等対策がなされる。この場合、原水は、着水井21から緩速ろ過池23を経て本発明による紫外線処理装置1に導入され、このろ過水に対する紫外線照射によって、例えば、クリプトスポリジウム等の不活化を行った後に、塩素混和池22において次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤が混和され、浄水として配水される。   If the turbidity of the slow filtration treatment water does not fall below 0.1 degrees in the water purification facility equipped with the slow filtration pond 23, it is recognized that it is insufficient as a countermeasure against Cryptosporidium and strengthens the filtration facility. It is necessary to perform UV treatment. In general, the slow filtration basin 23 requires a large filtration area, and it is not easy to strengthen the filtration equipment (expansion of equipment) due to the limitation of the site area of the water purification facility, but the slow filtration is performed by the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention. Countermeasures such as Cryptosporidium are made by treating the treated water with ultraviolet rays. In this case, the raw water is introduced into the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention from the landing well 21 through the slow filtration pond 23, and after inactivation of, for example, Cryptosporidium is performed by irradiating the filtered water with ultraviolet rays. In the mixing pond 22, a chlorine agent such as sodium hypochlorite is mixed and distributed as purified water.

実施例3.
図12は本発明による紫外線処理装置を表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理(マンガン砂ろ過および塩素消毒)に適用した実施例3を示すフロー図である。
この実施例3における紫外線処理も、表流水以外の水(井水、伏流水等)に対する水処理から得られる処理水に対して一般的な塩素消毒が行われる前に、その塩素消毒では対応できない耐塩素性病原性微生物の不活化を目的として行われる。
Example 3
FIG. 12 is a flowchart showing Example 3 in which the ultraviolet treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (manganese sand filtration and chlorine disinfection) for water other than surface water (well water, underground water, etc.).
The ultraviolet ray treatment in this Example 3 cannot be dealt with by the chlorine disinfection before the general chlorine disinfection is performed on the treated water obtained from the water treatment on the water other than the surface water (well water, underground water, etc.). It is performed for the purpose of inactivating chlorine-resistant pathogenic microorganisms.

マンガン砂ろ過は凝集作用を伴わないため、クリプトスポリジウム等対策として認められておらず、ろ過方法を変更するか、後段に紫外線処理を施す必要がある。本発明による紫外線処理装置1は浄水施設の前段処理の処理方式にかかわらず適用が可能である。この場合、原水は、着水井21から撹拌機24、マンガン砂ろ過槽25を経て本発明による紫外線処理装置1に導入され、このろ過水に対する紫外線照射によって、例えば、クリプトスポリジウム等の不活化を行った後に、塩素混和池22において次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤が混和され、浄水として配水される。   Since manganese sand filtration does not accompany agglomeration, it is not recognized as a countermeasure against Cryptosporidium or the like, and it is necessary to change the filtration method or to perform ultraviolet treatment at the subsequent stage. The ultraviolet treatment device 1 according to the present invention can be applied regardless of the treatment method of the pre-treatment of the water purification facility. In this case, the raw water is introduced from the landing well 21 through the stirrer 24 and the manganese sand filtration tank 25 into the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention, and, for example, Cryptosporidium is inactivated by irradiating the filtrate with ultraviolet rays. After that, a chlorine agent such as sodium hypochlorite is mixed in the chlorine mixing pond 22 and distributed as purified water.

実施例4.
図13は本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(凝集沈殿、急速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例4(マルチバリア)を示すフロー図である。
この実施例4は、表流水から取水された水の処理に本発明による紫外線処理装置1を補完的に適用することで、表流水に対するクリプトスポリジウム等対策の多重化(マルチバリア)に対応したものである。
Example 4
FIG. 13 is a flowchart showing Example 4 (multi-barrier) in which the ultraviolet ray treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (flocculation precipitation, rapid filtration and chlorine disinfection) for surface water.
This Example 4 corresponds to the multiplexing (multi-barrier) of countermeasures such as Cryptosporidium for surface water by applying the ultraviolet ray treatment apparatus 1 according to the present invention to the treatment of water taken from surface water. It is.

凝集沈殿槽26と急速ろ過装置27と塩素混和池22を備えた浄水施設に本発明による紫外線処理装置1を適用している。この場合、原水は、凝集剤とともに、凝集沈殿槽26に投入され、急速ろ過装置27を経て本発明による紫外線処理装置1に導入され、この急速ろ過水に対する紫外線照射によって、例えば、クリプトスポリジウム等の不活化を行った後に、塩素混和池22において次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤が混和され、浄水として配水される。   The ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention is applied to a water purification facility provided with a coagulation sedimentation tank 26, a rapid filtration device 27, and a chlorine mixing basin 22. In this case, the raw water is introduced into the coagulation sedimentation tank 26 together with the flocculant, introduced into the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention through the rapid filtration device 27, and irradiated with ultraviolet rays to the rapid filtration water, for example, Cryptosporidium or the like. After inactivation, a chlorine agent such as sodium hypochlorite is mixed in the chlorine mixing pond 22 and distributed as purified water.

実施例5.
図14は本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(凝集、急速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例5(マルチバリア)を示すフロー図である。
この実施例5も、表流水から取水された水の処理に本発明による紫外線処理装置1を適用することで、表流水に対するクリプトスポリジウム等対策の多重化(マルチバリア)に対応したものである。
Example 5 FIG.
FIG. 14 is a flowchart showing Example 5 (multi-barrier) in which the ultraviolet ray treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (flocculation, rapid filtration and chlorine disinfection) for surface water.
In Example 5, the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention is applied to the treatment of water taken from the surface water, so that multiple countermeasures (multi-barrier) such as cryptosporidium for the surface water are supported.

凝集機28と急速ろ過装置27と塩素混和池22を備えた浄水施設に本発明による紫外線処理装置1を適用している。この場合、原水は、凝集剤とともに、凝集機28に投入され、急速ろ過装置27を経て本発明による紫外線処理装置1に導入され、この急速ろ過水に対する紫外線照射によって、例えば、クリプトスポリジウム等の不活化を行った後に、塩素混和池22において次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤が混和され、浄水として配水される。   The ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention is applied to a water purification facility provided with a coagulator 28, a rapid filtration device 27, and a chlorine mixing basin 22. In this case, the raw water is introduced into the coagulator 28 together with the flocculant, introduced into the ultraviolet treatment device 1 according to the present invention through the rapid filtration device 27, and irradiated with ultraviolet rays to the rapid filtration water, for example, non-cryptosporidium or the like. After activation, a chlorine agent such as sodium hypochlorite is mixed in the chlorine mixing pond 22 and distributed as purified water.

実施例6.
図15は本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(緩速ろ過および塩素消毒)に適用した実施例6(マルチバリア)を示すフロー図である。
この実施例6も、表流水から取水された水の処理に本発明による紫外線処理装置1を適用することで、表流水に対するクリプトスポリジウム等対策の多重化(マルチバリア)に対応したものである。
Example 6
FIG. 15 is a flowchart showing Example 6 (multi-barrier) in which the ultraviolet ray treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (slow filtration and chlorine disinfection) for surface water.
This Example 6 also corresponds to multiplexing (multi-barrier) of countermeasures such as Cryptosporidium for surface water by applying the ultraviolet treatment device 1 according to the present invention to the treatment of water taken from surface water.

着水井21と緩速ろ過池23と塩素混和池22を備えた浄水施設に本発明による紫外線処理装置1を適用している。取水源が異なるだけで図11に示した実施例2と処理工程は同じである。   The ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention is applied to a water purification facility provided with a landing well 21, a slow filtration basin 23, and a chlorine mixing basin 22. The processing steps are the same as in Example 2 shown in FIG. 11 except that the water intake source is different.

実施例7.
図16は本発明による紫外線処理装置を表流水に対する水処理(膜ろ過および塩素消毒)に適用した実施例7(マルチバリア)を示すフロー図である。
この実施例7も、表流水から取水された水の処理に本発明による紫外線処理装置1を適用することで、表流水に対するクリプトスポリジウム等対策の多重化(マルチバリア)に対応したものである。
Example 7
FIG. 16 is a flowchart showing Example 7 (multi-barrier) in which the ultraviolet ray treatment apparatus according to the present invention is applied to water treatment (membrane filtration and chlorine disinfection) for surface water.
In Example 7, the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention is applied to the treatment of the water taken from the surface water, thereby corresponding to the multiplexing (multi-barrier) of countermeasures such as cryptosporidium for the surface water.

着水井21と膜ろ過装置29と塩素混和池22を備えた浄水施設に本発明による紫外線処理装置1を適用している。この場合、原水は、着水井21から膜ろ過装置29を経て本発明による紫外線処理装置1に導入され、この膜ろ過水に対する紫外線照射によって、例えば、クリプトスポリジウム等の不活化を行った後に、塩素混和池22において次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤が混和され、浄水として配水される。   The ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention is applied to a water purification facility provided with a landing well 21, a membrane filtration device 29, and a chlorine mixing pond 22. In this case, the raw water is introduced from the landing well 21 through the membrane filtration device 29 to the ultraviolet treatment device 1 according to the present invention. After the membrane filtrate is irradiated with ultraviolet rays, for example, Cryptosporidium is inactivated, and then chlorine In the mixing pond 22, a chlorine agent such as sodium hypochlorite is mixed and distributed as purified water.

実施例8.
図17は本発明による紫外線処理装置を浄水、産業排水または生物処理水等に対する促進酸化処理に適用した実施例8を示すフロー図である。
この実施例8は、酸化剤を添加され、混合された原水に紫外線照射を行うことで強力な酸化力(分解力)を持つヒドロキシルラジカルを発生させて汚濁物質を分解する促進酸化法(AOP)に、本発明による紫外線処理装置1を応用した応用例である。
Example 8 FIG.
FIG. 17 is a flowchart showing Example 8 in which the ultraviolet ray treatment apparatus according to the present invention is applied to accelerated oxidation treatment for purified water, industrial wastewater, biologically treated water or the like.
This Example 8 is an accelerated oxidation method (AOP) in which an oxidizing agent is added and hydroxyl radicals having strong oxidizing power (decomposing power) are generated by irradiating the mixed raw water with ultraviolet rays to decompose pollutants. Further, this is an application example in which the ultraviolet ray processing apparatus 1 according to the present invention is applied.

この実施例8では、生物処理され、懸濁物質(SS)や溶解性汚濁物質(BOD等)が低減化された産業排水において、活性汚泥法等の通常の生物処理では分解しきれなかった汚濁物質(難分解性物質)や着色物質(色度成分)を添加した酸化剤と本発明による紫外線処理装置1からの紫外線の照射により促進酸化する。この場合、原水は、酸化剤とともに、混合機30を経て本発明による紫外線処理装置1に導入され、この混合水に対する紫外線照射によって、通常の生物処理では分解しきれなかった汚濁物質(難分解性物質、臭気物質)や着色物質(色度成分)を分解した後、処理水槽31を経て放流または供給される。   In Example 8, in industrial wastewater that has been biologically treated and has reduced suspended solids (SS) and soluble pollutants (BOD, etc.), the pollution that could not be completely decomposed by normal biological treatment such as the activated sludge method. Accelerated oxidation is performed by irradiating an ultraviolet ray from the ultraviolet ray treatment apparatus 1 according to the present invention with an oxidizing agent to which a substance (hardly degradable substance) or a coloring substance (chromaticity component) is added. In this case, the raw water is introduced into the ultraviolet treatment apparatus 1 according to the present invention through the mixer 30 together with the oxidizer, and pollutants that have not been decomposed by normal biological treatment by the ultraviolet irradiation of the mixed water (refractory property) Substances, odorous substances) and coloring substances (chromaticity components) are decomposed and then discharged or supplied through the treated water tank 31.

酸化剤は、例えば、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素剤および過酸化水素など水に溶解し易いものが好ましい。オゾンを酸化剤として用いる場合は排水へのオゾン溶解装置および排オゾン処理装置を設ける。水自体も紫外線照射を受けてヒドロキシルラジカルを発生するが、次亜塩素酸塩、過酸化水素およびオゾンと比較してその発生量は少ない。水中で紫外線を光触媒に照射することでヒドロキシルラジカルを発生させる場合、紫外線照射を受ける光触媒の表面積を大きくすることが望ましい。   The oxidizing agent is preferably, for example, a chlorine agent such as sodium hypochlorite and a material that is easily dissolved in water such as hydrogen peroxide. When ozone is used as the oxidizing agent, an ozone dissolving device for waste water and a waste ozone treatment device are provided. Water itself is also irradiated with ultraviolet rays to generate hydroxyl radicals, but the amount generated is small compared to hypochlorite, hydrogen peroxide and ozone. When hydroxyl radicals are generated by irradiating the photocatalyst with ultraviolet rays in water, it is desirable to increase the surface area of the photocatalyst that is irradiated with ultraviolet rays.

この実施例8では、発光波長185nm(ナノ・メートル)の光源を用い、紫外線照射量は30mJ/cm以上となる条件で照射することが望ましい。光源は中圧水銀ランプが望ましいが、発光波長185nm付近の光を発光できるものであれば、例えば、低圧水銀ランプやLEDランプ等でもよい。また、発光波長は185nmに限定されず、例えば285nm以下の波長であればよい。 In Example 8, it is desirable to use a light source with an emission wavelength of 185 nm (nanometer) and to irradiate under the condition that the ultraviolet ray irradiation amount is 30 mJ / cm 2 or more. The light source is preferably a medium pressure mercury lamp, but may be, for example, a low pressure mercury lamp or an LED lamp as long as it can emit light having a light emission wavelength of about 185 nm. Further, the emission wavelength is not limited to 185 nm, and may be a wavelength of 285 nm or less, for example.

本発明に係る紫外線処理装置は、上述した細菌やウイルス等の微生物を不活化する用途以外にも、例えばオゾンや過酸化水素などの酸化剤を併用することによりヒロドキシルラジカル等を発生させ、強力な酸化作用を必要とする物質の分解などにも用いることができる。   The ultraviolet treatment apparatus according to the present invention generates a hydroxyl radical or the like by using an oxidizing agent such as ozone or hydrogen peroxide in addition to the above-described use for inactivating microorganisms such as bacteria and viruses. It can also be used for decomposing substances that require an oxidizing action.

1 紫外線処理装置、2 リアクター、2a 流入側フランジ、2b 流出側フランジ、2c 外周部、2d 開口端、3 封止プレート、3a 貫通孔、3b、3c 収容孔、
3d、3e、3f 蓋部材、4 紫外線照射ランプ、5 紫外線センサー、
5a 受光部、6 保護管、7 清掃具、7a 凹み、7b 雌ネジ孔、
7c、7d 収容孔、7e 位置センサー、7f 水抜き孔、8 駆動機、
8a 雄ネジ、9 制御器、10 水位センサー、11 水温センサー、12 排水口、13 端子ボックス、14 配線、15 環状部材、
15a 本体、15b 薬液注入ノズル、15c 内筒部、16 清掃環、
17 清掃環支持部材、18 パッキン、19 キャップ、20 クランプ、
21 着水井、22 塩素混和池、23 緩速ろ過池、
24 撹拌機、25 マンガン砂ろ過槽、26 凝集沈殿槽、27 急速ろ過装置、
28 凝集機、29 膜ろ過装置、30 混合機、31 処理水槽
1 UV treatment device, 2 reactor, 2a inflow side flange, 2b outflow side flange, 2c outer periphery, 2d open end, 3 sealing plate, 3a through hole, 3b, 3c accommodation hole,
3d, 3e, 3f Lid member, 4 UV irradiation lamp, 5 UV sensor,
5a light receiving part, 6 protective tube, 7 cleaning tool, 7a dent, 7b female screw hole,
7c, 7d accommodation hole, 7e position sensor, 7f drain hole, 8 driver,
8a male screw, 9 controller, 10 water level sensor, 11 water temperature sensor, 12 drain port, 13 terminal box, 14 wiring, 15 annular member,
15a body, 15b chemical injection nozzle, 15c inner cylinder part, 16 cleaning ring,
17 Cleaning ring support member, 18 packing, 19 cap, 20 clamp,
21 landing well, 22 chlorine mixing pond, 23 slow filtration pond,
24 Stirrer, 25 Manganese sand filtration tank, 26 Coagulation sedimentation tank, 27 Rapid filtration device,
28 Coagulator, 29 Membrane filtration device, 30 Mixer, 31 Treated water tank

Claims (5)

流入側フランジおよび流出側フランジを有し、
保護管に収容された紫外線照射ランプが
配設されたリアクターに流入水を導入し、
紫外線を照射する紫外線処理装置において、
前記リアクター内には、
受光部を有する紫外線センサー、
および
前記保護管の表面を清掃する清掃具が配設され、
且つ、
前記リアクターには、前記清掃具を駆動させる駆動機
が設けられていることを特徴とする紫外線処理装置。
Having an inflow side flange and an outflow side flange,
Inflowing water is introduced into the reactor where the UV irradiation lamp is housed in a protective tube.
In ultraviolet processing equipment that irradiates ultraviolet rays,
In the reactor,
An ultraviolet sensor having a light receiving part,
And a cleaning tool for cleaning the surface of the protective tube,
and,
The reactor is provided with a driving device for driving the cleaning tool.
前記清掃具は、
薬液注入口を有し、保護管を包み込む環状部材、
保護管に接触する清掃環、
および
清掃環を支持する清掃環支持部材
を備えた
ことを特徴とする請求項1に記載の紫外線処理装置。
The cleaning tool is:
An annular member that has a chemical solution inlet and encloses the protective tube,
Cleaning ring in contact with the protective tube,
The ultraviolet treatment apparatus according to claim 1, further comprising: a cleaning ring support member that supports the cleaning ring.
前記リアクター内の水位を検知する水位センサー、
および/または
前記リアクター内の水温を測定する水温センサー
を備えた
ことを特徴とする請求項1または2に記載の紫外線処理装置。
A water level sensor for detecting the water level in the reactor,
And / or a water temperature sensor for measuring a water temperature in the reactor.
前記紫外線照射ランプと
前記紫外線センサーは、
引抜き方向を同一に配設されている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の紫外線処理装置。
The ultraviolet irradiation lamp and the ultraviolet sensor are
The ultraviolet ray processing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the drawing directions are the same.
前記リアクターには、
前記リアクター内の水を排出する排水口が配設されている
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の紫外線処理装置。
The reactor includes
The ultraviolet ray processing apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising a drain outlet for discharging water in the reactor.
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