JP2013115246A - Light-emitting element array and light-emitting element head - Google Patents

Light-emitting element array and light-emitting element head Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting element array capable of preventing resin and the like from flowing out over light-emitting surfaces of light-emitting elements to thereby suppress deterioration in emission intensity, even when a bonding part of the light-emitting element array is coated with the resin and the like.SOLUTION: A light-emitting element array 1 has, on a substrate 2, a plurality of light-emitting elements 3 and a plurality of electrode pads 5. The plurality of light-emitting elements 3 are arranged in a row on one principle surface of the substrate 2, and the plurality of electrode pads 5 are arranged in a row in the alignment direction of the light-emitting elements 3 on one principle surface of the light-emitting element array 1. Between the row of the plurality of light-emitting elements 3 and the row of the plurality of electrode pads 5 on the one principle surface of the substrate 2, the light-emitting element array 1 has at least one line of a first recess 6a which extends in the alignment direction. Both ends of the first recess 6a are located on outer sides of both ends of the row of the plurality of light-emitting elements 3 and the row of the plurality of electrode pads 5.

Description

本発明は、発光素子アレイおよび発光素子ヘッドに関する。   The present invention relates to a light emitting element array and a light emitting element head.

従来、各種露光装置等の光源に用いられる光学素子として、発光素子が複数配列された発光素子アレイが採用されている。例えば、特許文献1に記載の発光素子アレイは、発光部を有する半導体層に電極が接続されており、電極に接続される電極パッドと外部の電子部品などがワイヤボンディングにより接続されている。そして、発光素子の配列密度が高くなるにつれ、発光素子アレイ側のボンディングには2次側ボンディング、つまりステッチボンディングが行なわれる。このような発光素子アレイでは、2次側ボンディングの接合面積が小さくなるため接合強度が低下する傾向にあり、発光素子アレイの使用などによって、発光素子アレイ側のワイヤボンディングが剥がれて電気的な接続を維持できないという問題があった。そこで、本発明者は、発光素子アレイ側のワイヤボンディングが剥がれることのないように、ボンディング部を樹脂などでコーティングすることを検討した。   Conventionally, a light emitting element array in which a plurality of light emitting elements are arranged is employed as an optical element used for a light source of various exposure apparatuses and the like. For example, in the light-emitting element array described in Patent Document 1, electrodes are connected to a semiconductor layer having a light-emitting portion, and electrode pads connected to the electrodes and external electronic components are connected by wire bonding. Then, as the arrangement density of the light emitting elements increases, secondary bonding, that is, stitch bonding is performed for bonding on the light emitting element array side. In such a light emitting element array, since the bonding area of the secondary side bonding is reduced, the bonding strength tends to be reduced. By using the light emitting element array, the wire bonding on the light emitting element array side is peeled off and the electrical connection is made. There was a problem that could not be maintained. Therefore, the present inventor has studied coating the bonding portion with a resin or the like so that the wire bonding on the light emitting element array side is not peeled off.

しかしながら、配列密度の高い発光素子アレイの多くは、小型化のため発光素子の発光面と電極パッドとの距離も短く形成されていることから、コーティングした樹脂が流れ出したり、樹脂の溶剤成分が滲み出したりすることによって、発光素子の発光面を汚染し、発光強度を低下させるという問題があった。   However, in many light emitting element arrays with high arrangement density, the distance between the light emitting surface of the light emitting element and the electrode pad is formed short for miniaturization, so that the coated resin flows out or the solvent component of the resin oozes out. As a result, the light emitting surface of the light emitting element is contaminated, and there is a problem that the light emission intensity is lowered.

特開2002−184805号公報JP 2002-184805 A

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、発光素子アレイのボンディング部を樹脂などによってコーティングした場合であっても、コーティングした樹脂などが発光素子の発光面に流れ出すことを抑制し、発光強度の低下を抑制することができる発光素子アレイを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and even when the bonding portion of the light emitting element array is coated with a resin or the like, the coated resin or the like is prevented from flowing out to the light emitting surface of the light emitting element, An object of the present invention is to provide a light emitting element array capable of suppressing a decrease in light emission intensity.

本発明の発光素子アレイは、長方形状の半導体基板に、複数の発光素子と、該発光素子に金属線を介して電気的に接続されるとともに外部の電子部品にボンディングワイヤを介して電気的に接続される複数の電極パッドとを有する発光素子アレイであって、前記複数の発光素子は、前記半導体基板の一方主面に列状に配置され、前記複数の電極パッドは、前記発光素子アレイの一方主面に、前記発光素子の配列方向に沿って列状に配置され、前記複数の発光素子の列と前記複数の電極パッドの列との間における前記半導体基板の一方主面に、配列方向に沿った第1の凹部を少なくとも1列有し、前記第1の凹部の両端は、前記複数の発光素子の列および前記複数の電極パッドの列における両端よりも外側に位置することを特徴とする。   The light-emitting element array of the present invention is electrically connected to a rectangular semiconductor substrate with a plurality of light-emitting elements and the light-emitting elements via metal wires and electrically to external electronic components via bonding wires. A plurality of electrode pads connected to each other, wherein the plurality of light emitting elements are arranged in a row on one main surface of the semiconductor substrate, and the plurality of electrode pads are arranged on the light emitting element array. One main surface is arranged in a row along the arrangement direction of the light emitting elements, and the one main surface of the semiconductor substrate between the plurality of light emitting element rows and the plurality of electrode pad rows is arranged in the arrangement direction. At least one row of first recesses along the first and second ends, and both ends of the first recesses are positioned outside both ends of the plurality of light emitting element rows and the plurality of electrode pad rows. To do.

また、上記構成において、前記第1の凹部を複数列有しており、該複数列の第1の凹部の深さは、前記発光素子と前記電極パッドとの間において該電極パッドから遠ざかるにつれて浅くなっていることを特徴とする。   Further, in the above configuration, the first recesses are provided in a plurality of rows, and the depths of the first recesses in the rows are shallower as the distance from the electrode pad is increased between the light emitting element and the electrode pad. It is characterized by becoming.

さらに、上記構成において、前記第1の凹部を複数列有しており、該複数列の第1の凹
部の幅は、前記発光素子と前記電極パッドとの間において該電極パッドに近づくにつれて広くなっていることを特徴とする。
Further, in the above configuration, the first recesses are provided in a plurality of rows, and the widths of the first recesses in the rows increase as the electrode pads are approached between the light emitting element and the electrode pads. It is characterized by.

また、上記構成において、前記第1の凹部は、波状またはジグザク状であることを特徴とする。   In the above structure, the first recess is wavy or zigzag-shaped.

さらに、上記構成において、前記第1の凹部の両端の各々から、前記複数の電極パッド側に位置する前記半導体基板の長辺に向かって伸びる第2の凹部をさらに有することを特徴とする。   Further, in the above configuration, the semiconductor device further includes a second recess extending from each of both ends of the first recess toward the long side of the semiconductor substrate located on the plurality of electrode pads.

また、電子部品が搭載された基板上に、複数の上記いずれかの構成の発光素子アレイが列状に配置され、前記複数の電極パッドが、それぞれ前記ボンディングワイヤが接続されているとともに樹脂で覆われていることを特徴とする発光素子ヘッドを併せて提供する。   In addition, a plurality of light emitting element arrays having any one of the above-described configurations are arranged in a row on a substrate on which electronic components are mounted, and the plurality of electrode pads are respectively covered with a resin while the bonding wires are connected thereto. A light-emitting element head is also provided.

本発明の発光素子アレイによれば、基板に、複数の発光素子と、複数の電極パッドとを有する発光素子アレイであって、前記複数の発光素子は、前記基板の一方主面に列状に配置され、前記複数の電極パッドは、前記発光素子アレイの一方主面に、前記発光素子の配列方向に沿って列状に配置され、前記複数の発光素子の列と前記複数の電極パッドの列との間における前記基板の一方主面に、配列方向に沿った凹部を少なくとも1列有し、前記凹部の両端は、前記複数の発光素子の列および前記複数の電極パッドの列における両端よりも外側に位置することから、発光素子アレイが外部の電子部品とワイヤボンディングを介して電極パッドで接続され、ワイヤボンディング部の接続信頼性を確保するために、電極パッドをエポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの樹脂でコーティングされたときに、樹脂が流れ出し、または樹脂の成分である溶剤が滲み出すことにより、発光素子の発光面を覆うことによって発光強度が低下することを防止できるため、ボンディング部の接続信頼性が高く、発光強度の低下を抑制することができる発光素子アレイを提供することができる。   According to the light emitting element array of the present invention, a light emitting element array having a plurality of light emitting elements and a plurality of electrode pads on a substrate, wherein the plurality of light emitting elements are arranged in a row on one main surface of the substrate. The plurality of electrode pads are arranged in a line along the arrangement direction of the light emitting elements on one main surface of the light emitting element array, and the plurality of light emitting element rows and the plurality of electrode pad rows At least one row of recesses extending in the arrangement direction on one main surface of the substrate between the two ends of the recesses, and both ends of the recesses are longer than both ends of the plurality of light emitting element rows and the plurality of electrode pad rows. Since it is located outside, the light emitting element array is connected to an external electronic component by an electrode pad through wire bonding, and the electrode pad is attached to an epoxy resin or a silica to ensure the connection reliability of the wire bonding portion. When coated with a resin such as a resin, the resin flows out or the solvent that is a component of the resin oozes out, so that it is possible to prevent the emission intensity from being reduced by covering the light emitting surface of the light emitting element. It is possible to provide a light emitting element array which has high connection reliability of the bonding portion and can suppress a decrease in light emission intensity.

本発明の一実施形態に係る発光素子アレイの平面図である。It is a top view of the light emitting element array which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示した発光素子アレイの1I−1I線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line 1I-1I of the light emitting element array shown in FIG. 図1に示す発光素子アレイを用いた発光素子ヘッドの平面図である。It is a top view of the light emitting element head using the light emitting element array shown in FIG. 図1に示す発光素子アレイの第1変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st modification of the light emitting element array shown in FIG. (a)、(b)は凹部の変形例を説明する断面図であり、(c)、(d)は凹部の変形例を説明する平面図である。(A), (b) is sectional drawing explaining the modification of a recessed part, (c), (d) is a top view explaining the modification of a recessed part. 図1に示す発光素子アレイの第2変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd modification of the light emitting element array shown in FIG.

(発光素子アレイ)
以下、本発明の発光素子アレイ、発光素子ヘッドについて、図面を参照しつつ説明する。なお、以下の例は本発明の実施の形態を例示するものであって、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではない。
(Light emitting element array)
Hereinafter, the light emitting element array and the light emitting element head of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the following examples illustrate embodiments of the present invention, and the present invention is not limited to these embodiments.

図1に示す発光素子アレイ1は、ページプリンター等の電子写真装置に組み込まれる光学素子ヘッド等の露光装置における光源として機能する。   A light emitting element array 1 shown in FIG. 1 functions as a light source in an exposure apparatus such as an optical element head incorporated in an electrophotographic apparatus such as a page printer.

発光素子アレイ1は、ベース基板2と、複数の発光素子3と、発光素子3のそれぞれに金属線4を介して接続される複数の電極パッド5と、第1の凹部6aとを有している。   The light emitting element array 1 includes a base substrate 2, a plurality of light emitting elements 3, a plurality of electrode pads 5 connected to each of the light emitting elements 3 via metal wires 4, and a first recess 6a. Yes.

ベース基板2は、たとえば、シリコン(Si)、ガリウム砒素(GaAs)、ガリウム燐(GaP)、窒化ガリウム(GaN)、サファイア(Al)などの単結晶で形成されており、複数の発光素子3の支持体として機能する。なお、本実施形態のベース基板2は、長方形状のガリウム砒素(GaAs)の単結晶で形成されている。そして、シリコン(Si)などの一導電型半導体不純物を1×1016〜1019atoms/cm程度含有し、一導電型半導体としても機能する。ベース基板2の下面には、発光素子3に電力を供給するための裏面電極7が形成されている。 The base substrate 2 is formed of a single crystal such as silicon (Si), gallium arsenide (GaAs), gallium phosphide (GaP), gallium nitride (GaN), sapphire (Al 2 O 3 ), and a plurality of light emission. It functions as a support for the element 3. Note that the base substrate 2 of the present embodiment is formed of a rectangular gallium arsenide (GaAs) single crystal. Further, it contains about 1 × 10 16 to 10 19 atoms / cm 3 of one conductivity type semiconductor impurity such as silicon (Si) and functions as a one conductivity type semiconductor. A back electrode 7 for supplying power to the light emitting element 3 is formed on the lower surface of the base substrate 2.

発光素子3は、一導電型半導体層30と逆導電型半導体層31とを順次積層した半導体層で形成されており、発光素子アレイ1の光源として機能する。複数の発光素子3は、ベース基板2の上面に列状に配置されている。なお、本実施形態の発光素子3は一列に配列されているが、複数列に配列されていてもよい。   The light emitting element 3 is formed of a semiconductor layer in which a one-conductivity type semiconductor layer 30 and a reverse conductivity type semiconductor layer 31 are sequentially stacked, and functions as a light source of the light emitting element array 1. The plurality of light emitting elements 3 are arranged in a row on the upper surface of the base substrate 2. In addition, although the light emitting elements 3 of the present embodiment are arranged in one row, they may be arranged in a plurality of rows.

本実施形態の一導電型半導体層30は、電子の注入層30aで構成されている。電子の注入層30aは、たとえば、アルミニウムガリウム砒素(AlGaAs)で形成され、シリコン(Si)などの一導電型半導体不純物を1×1016〜1019atoms/cm程度含有し、厚みが0.2〜0.4μm程度とされている。なお、電子の注入層30bのアルミニウム(Al)の組成比は0.24〜0.5程度とされている。 The one-conductivity-type semiconductor layer 30 of this embodiment is composed of an electron injection layer 30a. The electron injection layer 30a is made of, for example, aluminum gallium arsenide (AlGaAs), contains about 1 × 10 16 to 10 19 atoms / cm 3 of one conductivity type semiconductor impurity such as silicon (Si), and has a thickness of 0.1. It is about 2 to 0.4 μm. The composition ratio of aluminum (Al) in the electron injection layer 30b is about 0.24 to 0.5.

本実施形態の一導電型半導体層30は、ベース基板2が一導電型半導体層30の一部として機能するため、電子の注入層30aのみで構成されているが、ベース基板2がサファイア(Al)などの非導電性基板の場合には、ベース基板2の上面には一導電型半導体層と外部の電子部品との電気的接続を行なうためにオーミックコンタクト層が形成される。 Since the base substrate 2 functions as a part of the one-conductivity-type semiconductor layer 30, the one-conductivity-type semiconductor layer 30 of the present embodiment is composed of only the electron injection layer 30a. In the case of a non-conductive substrate such as 2 O 3 ), an ohmic contact layer is formed on the upper surface of the base substrate 2 in order to make electrical connection between the one-conductivity type semiconductor layer and an external electronic component.

一方、逆導電型半導体層31は、発光層31a、クラッド層31bおよびオーミックコンタクト層31cで構成されている。発光層31aおよびクラッド層31bは、電子の閉じ込め効果と光の取り出し効果とを考慮して、混晶比を異ならせた、たとえば、アルミニウム砒素(AlAs)およびガリウム砒素(GaAs)で形成されており、亜鉛(Zn)などの逆導電型半導体不純物を1×1016〜1018atoms/cm程度含有し、厚みが0.2〜0.4μm程度とされている。オーミックコンタクト層31cは、たとえば、ガリウム砒素(GaAs)で形成されており、亜鉛(Zn)などの逆導電型半導体不純物を1×1019〜1020atoms/cm程度含有し、その厚みが0.01〜0.1μm程度とされている。 On the other hand, the reverse conductivity semiconductor layer 31 includes a light emitting layer 31a, a cladding layer 31b, and an ohmic contact layer 31c. The light emitting layer 31a and the cladding layer 31b are made of, for example, aluminum arsenide (AlAs) and gallium arsenide (GaAs) with different mixed crystal ratios in consideration of the electron confinement effect and the light extraction effect. In addition, a reverse conductivity type semiconductor impurity such as zinc (Zn) is contained in an amount of about 1 × 10 16 to 10 18 atoms / cm 3 and the thickness is about 0.2 to 0.4 μm. The ohmic contact layer 31c is made of, for example, gallium arsenide (GaAs), contains about 1 × 10 19 to 10 20 atoms / cm 3 of a reverse conductivity type semiconductor impurity such as zinc (Zn), and has a thickness of 0 .01 to 0.1 μm.

そして、基板2の発光素子3側の上面と、オーミックコンタクト層31cの上面の一部を除いた発光素子3とを覆うように絶縁層8が形成されている。絶縁層8は、たとえば、窒化シリコン(SiN)で形成され、厚みが3000〜50000Å程度に形成されている。   An insulating layer 8 is formed so as to cover the upper surface of the substrate 2 on the light emitting element 3 side and the light emitting element 3 excluding a part of the upper surface of the ohmic contact layer 31c. The insulating layer 8 is made of, for example, silicon nitride (SiN) and has a thickness of about 3000 to 50000 mm.

絶縁層8の上面には、発光素子3のそれぞれに対応した複数の電極パッド5と、複数の発光素子3を複数の電極パッド5にそれぞれ接続する複数の金属線4とが形成されており、絶縁層8は、複数の電極パッド5および複数の金属線4と、基板2または発光素子3のオーミックコンタクト層31c以外の半導体層との電気的絶縁を確保する機能を有している。   A plurality of electrode pads 5 corresponding to each of the light emitting elements 3 and a plurality of metal wires 4 respectively connecting the plurality of light emitting elements 3 to the plurality of electrode pads 5 are formed on the upper surface of the insulating layer 8. The insulating layer 8 has a function of ensuring electrical insulation between the plurality of electrode pads 5 and the plurality of metal wires 4 and the semiconductor layer other than the ohmic contact layer 31 c of the substrate 2 or the light emitting element 3.

発光素子3と電極パッド5との電気的な接続は、発光素子3の上面に形成されるオーミックコンタクト層31cの絶縁層8が被覆されていない部分と電極パッド5とが金属線4で接続されることによって行なわれる。   The electrical connection between the light emitting element 3 and the electrode pad 5 is such that the portion of the ohmic contact layer 31 c formed on the upper surface of the light emitting element 3 that is not covered with the insulating layer 8 is connected to the electrode pad 5 by the metal wire 4. Is done.

金属線4および複数の電極パッド5は、金(Au)、アルミニウム(Al)または銅(Cu)などの金属材料で形成されている。   The metal wire 4 and the plurality of electrode pads 5 are formed of a metal material such as gold (Au), aluminum (Al), or copper (Cu).

複数の発光素子3の列と複数の電極パッド5の列との間に位置する基板2の上面に、発光素子3の列または電極パッド5の列の配列方向に沿った第1の凹部6aが形成されている。上述の絶縁層8および金属線4は、第1の凹部6aの上面に形成されている。   On the upper surface of the substrate 2 positioned between the plurality of light emitting element 3 columns and the plurality of electrode pad 5 columns, there are first recesses 6 a along the arrangement direction of the light emitting element 3 columns or the electrode pad 5 columns. Is formed. The insulating layer 8 and the metal wire 4 described above are formed on the upper surface of the first recess 6a.

第1の凹部6aは、たとえば、深さが50〜100μm、発光素子3から電極パッド5に向かう方向の幅が50〜100μmで形成されており、第1の凹部6aの両端は、発光素子3の列および電極パッド5の列における両端よりも外側に位置している。   The first recess 6a is formed, for example, with a depth of 50 to 100 μm and a width in the direction from the light emitting element 3 to the electrode pad 5 of 50 to 100 μm, and both ends of the first recess 6a are connected to the light emitting element 3. And the electrode pads 5 are located outside both ends in the row.

このような第1の凹部6aを有することにより、発光素子アレイ1が外部の電子部品とワイヤボンディングを介して電極パッド5で接続され、ワイヤボンディング部の接続信頼性を確保するために電極パッド5をエポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの樹脂でコーティングしたときに、樹脂が流れ出し、または樹脂の成分である溶剤が滲み出すことにより、発光素子3の発光面を覆うことによって発光強度が低下することを防止できる。ここで発光面とは、発光素子3の発光層30aに対応する上面のことであり、発光素子3の上面から発光層30aを透視したときの領域に相当する。   By having such a first recess 6a, the light-emitting element array 1 is connected to an external electronic component via an electrode pad 5 via wire bonding, and the electrode pad 5 is secured in order to ensure the connection reliability of the wire bonding portion. When the resin is coated with a resin such as an epoxy resin or a silicone resin, the resin flows out or the solvent that is a resin component oozes out to prevent the light emission intensity from being lowered by covering the light emitting surface of the light emitting element 3 it can. Here, the light emitting surface is an upper surface corresponding to the light emitting layer 30 a of the light emitting element 3, and corresponds to a region when the light emitting layer 30 a is seen through from the upper surface of the light emitting element 3.

次に、上述の発光素子アレイ1の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the above-described light emitting element array 1 will be described.

まず、基板2の上面に、一導電型半導体層30と逆導電型半導体層31とをMOCVD(有機金属化学気相成長:Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)法、またはMB
E(分子線エピタキシャル成長:Molecular Beam Epitaxy)法などによって順次積層して形成する。
First, the one-conductivity-type semiconductor layer 30 and the reverse-conductivity-type semiconductor layer 31 are formed on the upper surface of the substrate 2 by MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) or MB.
E (molecular beam epitaxy) method or the like is sequentially laminated to form.

これらの一導電型半導体層30および逆導電型半導体層31は、基板2の温度を700〜900℃として、TMG((CHGa)、TEG((CGa、アルシン(AsH)、TMA((CHAl)、TEA((CAl)などを原料ガスとして形成される。導電型を制御するためのガスとしては、シラン(SiH)、セレン化水素(HSe)、TMZ((CHZn)などが用いられ、キャリアガスとしては、水素(H)などが用いられる。 The one-conductivity-type semiconductor layer 30 and the reverse-conductivity-type semiconductor layer 31 have TMG ((CH 3 ) 3 Ga), TEG ((C 2 H 5 ) 3 Ga, arsine, with a substrate 2 temperature of 700 to 900 ° C. (AsH 3 ), TMA ((CH 3 ) 3 Al), TEA ((C 2 H 5 ) 3 Al), etc. are formed as source gases, and silane (SiH 4) is used as a gas for controlling the conductivity type. ), Hydrogen selenide (H 2 Se), TMZ ((CH 3 ) 3 Zn) or the like is used, and hydrogen (H 2 ) or the like is used as the carrier gas.

次に、隣接する発光素子3同士が電気的に分離されるように、一導電型半導体層30、逆導電型半導体層31が島状にパターニングされる。パターニングは従来周知のフォトリソグラフィ法によって行なわれ、エッチングは硫酸過酸化水素水系のエッチング液を用いたウェットエッチングやCClガスを用いたドライエッチングなどによって行なわれる。 Next, the one-conductivity-type semiconductor layer 30 and the reverse-conductivity-type semiconductor layer 31 are patterned in an island shape so that the adjacent light emitting elements 3 are electrically separated from each other. Patterning is performed by a well-known photolithography method, and etching is performed by wet etching using a sulfuric acid hydrogen peroxide aqueous etching solution or dry etching using CCl 2 F 2 gas.

次に、基板2の上面において、後に形成される複数の発光素子3の列と、複数の電極パッド5の列との間に対応する位置に、第1の凹部6aをCOレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザーなどにより形成する。第1の凹部6aの両端は、後に形成される複数の発光素子3の列の両端および複数の電極パッド5の列の両端よりも外側に位置するように形成される。本実施形態では、第1の凹部6aをレーザー加工によって形成したが、上述の硫酸過酸化水素水系のエッチング液を用いたウェットエッチングやCClガスを用いたドライエッチングなどによって行なってもよい。なお、エッチングによって第1の凹部6aを形成する場合には、上述の隣接する発光素子3同士を電気的に分離する工程と同時に行なってもよい。 Next, on the upper surface of the substrate 2, the first recess 6 a is formed with a CO 2 laser, a YAG laser at a position corresponding to a space between the row of the plurality of light emitting elements 3 to be formed later and the row of the electrode pads 5. Or by excimer laser. Both ends of the first recess 6 a are formed so as to be positioned outside both ends of the plurality of light emitting element 3 columns to be formed later and both ends of the plurality of electrode pad 5 columns. In the present embodiment, the first recess 6a is formed by laser processing. However, the first recess 6a may be performed by wet etching using the above-described sulfuric acid hydrogen peroxide aqueous etching solution, dry etching using CCl 2 F 2 gas, or the like. . In addition, when forming the 1st recessed part 6a by an etching, you may carry out simultaneously with the process of isolate | separating the above-mentioned adjacent light emitting elements 3 mutually.

次に、プラズマCVD法によって、シランガス(SiH)とアンモニアガス(NH
)とを用いて窒化シリコン(SiN)からなる絶縁層8を、基板2と基板2の上面に形成された発光素子3とを覆うように形成する。このとき、発光素子3の表面に形成されるオーミックコンタクト層31cの一部には絶縁層8を形成せず、後に形成する金属線4との電気的接続が可能なようにする。
Next, silane gas (SiH 4 ) and ammonia gas (NH 3 ) are formed by plasma CVD.
The insulating layer 8 made of silicon nitride (SiN) is formed so as to cover the substrate 2 and the light emitting element 3 formed on the upper surface of the substrate 2. At this time, the insulating layer 8 is not formed on a part of the ohmic contact layer 31c formed on the surface of the light emitting element 3, and electrical connection with the metal wire 4 to be formed later is made possible.

次に、金(Au)、アルミニウム(Al)または銅(Cu)などを蒸着法やスパッタリング法によって、絶縁層8の上面に、発光素子3のそれぞれに対応する複数の電極パッド5と、発光素子3の上面に露出しているオーミックコンタクト層31cと、発光素子3に対応する電極パッド5とをそれぞれ接続する複数の金属線4を形成する。同様に、ベース基板2の発光素子3が搭載された面の反対側に位置する下面に、裏面電極7を形成する。電極パッド5、金属線4および裏面電極7は同時に形成してもよい。   Next, a plurality of electrode pads 5 corresponding to each of the light emitting elements 3 are formed on the upper surface of the insulating layer 8 by vapor deposition or sputtering using gold (Au), aluminum (Al), copper (Cu), or the like. A plurality of metal lines 4 for connecting the ohmic contact layer 31 c exposed on the upper surface of the electrode 3 and the electrode pads 5 corresponding to the light emitting elements 3 are formed. Similarly, the back electrode 7 is formed on the lower surface of the base substrate 2 located on the opposite side of the surface on which the light emitting element 3 is mounted. The electrode pad 5, the metal wire 4 and the back electrode 7 may be formed simultaneously.

このようにして構成された発光素子アレイ1は、電極パッド5と裏面電極7との間に電力を供給することにより、所望の発光素子3を発光させることができる。   The light emitting element array 1 configured as described above can cause a desired light emitting element 3 to emit light by supplying electric power between the electrode pad 5 and the back electrode 7.

(発光素子ヘッド)
次に、図2に示す発光素子ヘッド100について説明する。
(Light emitting element head)
Next, the light emitting element head 100 shown in FIG. 2 will be described.

発光素子ヘッド100は、上述の複数の発光素子アレイ1が、基板110の上面に接着剤120を介して列状に配列されており、ページプリンター等の電子写真装置に組み込まれる露光装置として機能する。   In the light emitting element head 100, the plurality of light emitting element arrays 1 described above are arranged in a row on the upper surface of the substrate 110 via an adhesive 120, and function as an exposure apparatus incorporated in an electrophotographic apparatus such as a page printer. .

基板110は、セラミック基板や、ガラスエポキシ樹脂などからなる有機基板で形成され、図示はしないが、上面に発光素子アレイ1や外部との電気的な接続を行なうための電気配線や接続パッドが設けられている。基板110は、複数の発光素子3を支持する支持体として、また、発光素子3と外部の電子部品とを電気的に接続する回路基板として機能する。   The substrate 110 is formed of a ceramic substrate or an organic substrate made of glass epoxy resin, etc. Although not shown, an electrical wiring and a connection pad for electrical connection with the light emitting element array 1 and the outside are provided on the upper surface. It has been. The substrate 110 functions as a support for supporting the plurality of light emitting elements 3 and as a circuit board for electrically connecting the light emitting elements 3 and external electronic components.

発光素子アレイ1の電極パッド5は、ワイヤボンディングを行なうことにより、基板110の上面に形成された接続パッド(不図示)とワイヤ130で接続される。そして、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などのコーティング樹脂140を、電極パッド5および電極パッド5に接続されたワイヤ130の接続部に塗布することによって発光素子アレイ1側のワイヤボンディング部をコーティングする。コーティング樹脂の塗布にはディスペンサーなどを用いればよい。   The electrode pads 5 of the light emitting element array 1 are connected to connection pads (not shown) formed on the upper surface of the substrate 110 by wires 130 by wire bonding. Then, a coating resin 140 such as an epoxy resin or a silicone resin is applied to the electrode pad 5 and the connection portion of the wire 130 connected to the electrode pad 5 to coat the wire bonding portion on the light emitting element array 1 side. A dispenser or the like may be used for applying the coating resin.

発光素子アレイ1側のワイヤボンディング部を樹脂によってコーティングする理由は、発光素子3の配列密度が高くなるにつれて、電極パッド5はワイヤボンディングの2次側となり、ステッチボンディングが行なわれるため、ワイヤ130の接続面積が小さくなることから、ワイヤ130が電極パッド5から剥がれたりすることがないように樹脂で補強するためである。   The reason for coating the wire bonding portion on the light emitting element array 1 side with resin is that as the arrangement density of the light emitting elements 3 increases, the electrode pad 5 becomes the secondary side of wire bonding and stitch bonding is performed. This is because the connection area is reduced, so that the wire 130 is reinforced with resin so that the wire 130 is not peeled off from the electrode pad 5.

本実施形態の発光素子ヘッド100が有する発光素子アレイ1によれば、複数の発光素子3の列と複数の電極パッド5の列との間に位置する基板2の上面に、発光素子3の列または電極パッド5の列の配列方向に沿った第1の凹部6aが形成されており、その両端が発光素子3の列および電極パッド5の列の両端よりも外側に位置しているため、発光素子3と電極パッド5との距離が短くても、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂を電極パッド5の上に塗布した際に、塗布した樹脂が発光素子3の発光面に流れ出したり樹脂に含まれる溶剤成分が滲み出したりすることによって、発光素子3の発光面を汚染することがなく、発光素子3の発光強度の低下を抑制して、比較的高く維持することが可能となる。発光素子3の発光面を汚染することが抑制されるのは、流れ出した樹脂や、樹脂から滲み出した溶
剤成分が第1の凹部6aに溜まることによって、これらが発光面側へ移動することを防止できるためである。
According to the light emitting element array 1 included in the light emitting element head 100 of the present embodiment, the row of the light emitting elements 3 is disposed on the upper surface of the substrate 2 positioned between the row of the plurality of light emitting elements 3 and the row of the plurality of electrode pads 5. Alternatively, the first recesses 6 a are formed along the arrangement direction of the rows of the electrode pads 5, and both ends thereof are located outside both ends of the rows of the light emitting elements 3 and the rows of the electrode pads 5. Even when the distance between the element 3 and the electrode pad 5 is short, when an epoxy resin or a silicone resin is applied onto the electrode pad 5, the applied resin flows out to the light emitting surface of the light emitting element 3 or is a solvent component contained in the resin. As a result of oozing out, the light emitting surface of the light emitting element 3 is not contaminated, and a decrease in the light emission intensity of the light emitting element 3 can be suppressed and kept relatively high. Contamination of the light emitting surface of the light emitting element 3 is suppressed because the resin that has flowed out and the solvent component that has oozed out of the resin are accumulated in the first recess 6a, so that they move toward the light emitting surface. This is because it can be prevented.

なお、本実施形態では発光素子3は基板110の電極パッドに接続されているが、基板110の上面に発光素子3を駆動させるための駆動ICをさらに配置して、発光素子3の電極パッドと駆動ICの電極パッドとを接続してもよい。   In the present embodiment, the light emitting element 3 is connected to the electrode pad of the substrate 110. However, a driving IC for driving the light emitting element 3 is further arranged on the upper surface of the substrate 110, and the electrode pad of the light emitting element 3 The electrode pad of the driving IC may be connected.

以上、本発明の具体的な実施形態を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更が可能である。   Although specific embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

たとえば、本実施形態における第1の凹部6aは、1列で形成されているが、図4に示す本実施形態の第1変形例のように、複数列で形成されていてもよい。第1の凹部6を複数列とすることにより、流れ出した樹脂や、樹脂から滲み出した溶剤成分を最も電極パッド5側に位置する第1の凹部6aで収容しきれなかった場合に、その次の第1の凹部6aが流れ出した樹脂や、樹脂から滲み出した溶剤成分を収容することにより、発光素子3の発光面に移動することを防止できるからである。   For example, although the first recesses 6a in the present embodiment are formed in one row, they may be formed in a plurality of rows as in the first modification of the present embodiment shown in FIG. By arranging the first recesses 6 in a plurality of rows, the resin that has flowed out or the solvent component that has oozed out of the resin cannot be accommodated in the first recess 6a that is positioned closest to the electrode pad 5 side. This is because it is possible to prevent the first concave portion 6a from flowing into the light emitting surface of the light emitting element 3 by containing the resin that has flowed out and the solvent component that has oozed out of the resin.

また、上述のように、複数の第1の凹部6aの列を有する場合には、図5(a)に示すように、電極パッド5から発光素子3の方向に向かうにつれて、第1の凹部6aの深さを浅くしてもよい。このような構造とすることで、流れ出した樹脂や、樹脂から滲み出した溶剤成分の堰止め効果を高めることができる。また、第1の凹部6aには絶縁層8および金属線4が形成されるが、絶縁層8および金属線4は、プラズマCVD法、蒸着法またはスパッタリング法などによって形成されるため、第1の凹部6aへの形成しやすさを考慮すると、第1の凹部6aの深さは浅い方が有利であることから、樹脂の流れ出しや、樹脂からの溶剤成分の滲み出しが比較的抑制されている発光素子3側で第1の凹部6を浅くすることによって、発光素子3の発光面の汚染を防止しつつ、発光素子3への金属線4の接続信頼性を高めることができる。   Further, as described above, in the case of having a plurality of rows of the first recesses 6a, as shown in FIG. 5A, the first recesses 6a are directed from the electrode pad 5 toward the light emitting element 3. The depth of may be reduced. By setting it as such a structure, the wetting effect of the resin which flowed out and the solvent component which oozed out from resin can be heightened. In addition, the insulating layer 8 and the metal wire 4 are formed in the first recess 6a, but the insulating layer 8 and the metal wire 4 are formed by a plasma CVD method, a vapor deposition method, a sputtering method, or the like. Considering the ease of formation in the concave portion 6a, it is advantageous that the depth of the first concave portion 6a is shallow. Therefore, the outflow of the resin and the seepage of the solvent component from the resin are relatively suppressed. By reducing the depth of the first recess 6 on the light emitting element 3 side, it is possible to improve the connection reliability of the metal wire 4 to the light emitting element 3 while preventing contamination of the light emitting surface of the light emitting element 3.

さらに、上述のように、複数の第1の凹部6aの列を有する場合には、図5(b)に示すように、発光素子3から電極パッド5の方向に向かうにつれて第1の凹部6aの幅を広くしてもよい。これは、流れ出した樹脂を電極パッド5に近い側の幅の広い第1の凹部6aに収容し、この樹脂から滲み出した溶剤成分の量は比較的少ないため、その次の幅の狭い第1の凹部6aで収容するようするものである。発光素子3の列と電極パッド5の列との距離は短いため、電極パッド5に近づくにつれて第1の凹部6aの幅を広くすることにより、樹脂の流れ出し防止と、樹脂からの溶剤成分の滲み出し防止とを効率的に行なう構造である。   Further, as described above, in the case of having a plurality of rows of the first recesses 6a, as shown in FIG. 5B, the first recesses 6a extend from the light emitting element 3 toward the electrode pad 5. The width may be widened. This is because the resin that has flowed out is accommodated in the first concave portion 6a that is wide on the side close to the electrode pad 5, and the amount of the solvent component that has oozed out from the resin is relatively small. It accommodates in the recessed part 6a. Since the distance between the row of the light emitting elements 3 and the row of the electrode pads 5 is short, the width of the first recess 6a is increased as the distance from the electrode pad 5 is increased, thereby preventing the resin from flowing out and bleeding of the solvent component from the resin. It is a structure that efficiently prevents the sticking out.

当然のことながら、上述の第1の凹部6aの深さと幅の関係を組み合わせることも可能である。   Of course, it is also possible to combine the relationship between the depth and width of the first recess 6a.

また、第1の凹部6aは、本実施形態では一直線状となっているが、図5(c)に示すように、波状であってもよいし、図5(d)に示すように、ジグザグ状であってもよい。ここでいう波状およびジグザク状は、基板2の平面視における第1の凹部6aの形状のことを表している。第1の凹部6を波状やジグザグ状にすることにより、流れ出した樹脂や樹脂から滲み出した溶剤成分を収容する第1の凹部6aの体積が増えるため、流れ出し防止および滲み出し防止の効果がより高くなるためである。   In addition, the first recess 6a is linear in this embodiment, but may be wavy as shown in FIG. 5 (c), or may be zigzag as shown in FIG. 5 (d). It may be a shape. The wavy shape and the zigzag shape referred to here represent the shape of the first recess 6 a in the plan view of the substrate 2. By making the first concave portion 6 corrugated or zigzag, the volume of the first concave portion 6a that accommodates the resin that has flowed out and the solvent component that has oozed out of the resin is increased. This is because it becomes higher.

さらに、図6に示す本実施形態の第2変形例のように、発光素子3の列に沿った第1の凹部6aの両端から電極パッド5側に位置する半導体基板2の長辺方向に向かって伸びる第2の凹部6bをさらに有していてもよい。このような構成とすることにより、流れ出し
た樹脂が隣接する発光素子アレイ1との間隙に流れ込むのを防止することができ、よって発光素子アレイ1の搭載精度を高くすることが可能になる。なぜなら、発光素子アレイ1同士の間隙にコーティング樹脂140が流れ込んだ場合には、コーティング樹脂140の硬化に伴う膨張によって、発光素子アレイ1同士の間隙を広げるような応力が発生するため、発光素子アレイ1の位置精度が悪くなるからである。
Further, as in the second modification of the present embodiment shown in FIG. 6, the both ends of the first recesses 6 a along the row of the light emitting elements 3 are directed in the long side direction of the semiconductor substrate 2 located on the electrode pad 5 side. It may further have a second recess 6b that extends. With such a configuration, it is possible to prevent the resin that has flowed out from flowing into the gap between the adjacent light emitting element arrays 1, and thus the mounting accuracy of the light emitting element array 1 can be increased. This is because when the coating resin 140 flows into the gap between the light emitting element arrays 1, a stress that widens the gap between the light emitting element arrays 1 is generated due to expansion due to the hardening of the coating resin 140. This is because the position accuracy of 1 is deteriorated.

1 発光素子アレイ
2 ベース基板
3 発光素子
4 金属線
5 電極パッド
6a 第1の凹部
6b 第2の凹部
7 裏面電極
8 絶縁層
30 一導電型半導体層
30a 電子の注入層
31 逆導電型半導体層
31a 発光層
31b クラッド層
31c オーミックコンタクト層
100 発光素子ヘッド
110 基板
120 接着剤
130 ワイヤ
140 コーティング樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light emitting element array 2 Base substrate 3 Light emitting element 4 Metal wire 5 Electrode pad 6a 1st recessed part 6b 2nd recessed part 7 Back surface electrode 8 Insulating layer 30 One conductivity type semiconductor layer 30a Electron injection layer 31 Reverse conductivity type semiconductor layer 31a Light emitting layer 31b Cladding layer 31c Ohmic contact layer 100 Light emitting element head 110 Substrate 120 Adhesive 130 Wire 140 Coating resin

Claims (6)

長方形状の半導体基板に、複数の発光素子と、該発光素子に金属線を介して電気的に接続されるとともに外部の電子部品にボンディングワイヤを介して電気的に接続される複数の電極パッドとを有する発光素子アレイであって、
前記複数の発光素子は、前記半導体基板の一方主面に列状に配置され、
前記複数の電極パッドは、前記発光素子アレイの一方主面に、前記発光素子の配列方向に沿って列状に配置され、
前記複数の発光素子の列と前記複数の電極パッドの列との間における前記半導体基板の一方主面に、配列方向に沿った第1の凹部を少なくとも1列有し、
前記第1の凹部の両端は、前記複数の発光素子の列および前記複数の電極パッドの列における両端よりも外側に位置することを特徴とする発光素子アレイ。
A plurality of light emitting elements on a rectangular semiconductor substrate, and a plurality of electrode pads electrically connected to the light emitting elements via metal wires and electrically connected to external electronic components via bonding wires; A light emitting device array comprising:
The plurality of light emitting elements are arranged in a row on one main surface of the semiconductor substrate,
The plurality of electrode pads are arranged in a row along the arrangement direction of the light emitting elements on one main surface of the light emitting element array,
At least one first recess along the arrangement direction is provided on one main surface of the semiconductor substrate between the plurality of light emitting element rows and the plurality of electrode pad rows;
The light emitting element array, wherein both ends of the first recess are located outside both ends of the plurality of light emitting element rows and the plurality of electrode pad rows.
前記第1の凹部を複数列有しており、該複数列の第1の凹部の深さは、前記発光素子と前記電極パッドとの間において該電極パッドから遠ざかるにつれて浅くなっていることを特徴とする請求項1に記載の発光素子アレイ。   The first recesses have a plurality of rows, and the depths of the first recesses in the rows become shallower as the distance from the electrode pad increases between the light emitting element and the electrode pad. The light emitting element array according to claim 1. 前記第1の凹部を複数列有しており、該複数列の第1の凹部の幅は、前記発光素子と前記電極パッドとの間において該電極パッドに近づくにつれて広くなっていることを特徴とする請求項1または2に記載の発光素子アレイ。   A plurality of rows of the first recesses are provided, and the width of the first recesses of the plurality of rows becomes wider between the light emitting element and the electrode pad as the electrode pad is approached. The light emitting element array according to claim 1 or 2. 前記第1の凹部は、波状またはジグザク状であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の発光素子アレイ。   4. The light-emitting element array according to claim 1, wherein the first recess has a wave shape or a zigzag shape. 5. 前記第1の凹部の両端の各々から、前記複数の電極パッド側に位置する前記半導体基板の長辺に向かって伸びる第2の凹部をさらに有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の発光素子アレイ。   5. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a second recess extending from each of both ends of the first recess toward the long side of the semiconductor substrate located on the plurality of electrode pads. 2. The light emitting element array according to item 1. 電子部品が搭載された基板上に、複数の請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光素子アレイが列状に配置され、前記複数の電極パッドが、それぞれ前記ボンディングワイヤが接続されているとともに樹脂で覆われていることを特徴とする発光素子ヘッド。   A plurality of light emitting element arrays according to any one of claims 1 to 5 are arranged in a row on a substrate on which electronic components are mounted, and the plurality of electrode pads are connected to the bonding wires, respectively. And a light-emitting element head that is covered with resin.
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