JP2013110353A - Light emitting package, light emitting package array, and manufacturing method of light emitting package - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting package which forms a good quality wavelength conversion layer on a light emitting chip such as an LED chip, and to provide a light emitting package array and a manufacturing method of the light emitting package.SOLUTION: A light emitting package comprises: a substrate including a main surface 20 and a main surface 21 which are arranged in the thickness direction; an LED chip 15 which includes an anode and a cathode, is provided on the main surface 20, and emits light of a first wavelength region; a wavelength conversion layer 17 which is formed so as to cover the LED chip 15, is excited by the light of the first wavelength region, and emits light of the second wavelength region; a sealing layer 18 formed so as to cover the wavelength conversion layer 17; an electrode 12 connected with the anode and provided on the main surface 20; an electrode 13 connected with the cathode and provided on the main surface 20; and an electrode 14 which is not electrically connected with the electrode 12 and the electrode 13. At least a part of the electrode 12, at least a part of the electrode 13, at least a part of the electrode 14, and the LED chip 15 are covered by the sealing layer 18.

Description

本発明は、発光パッケージ、発光パッケージアレイおよび発光パッケージの製造方法に関する。   The present invention relates to a light emitting package, a light emitting package array, and a method for manufacturing a light emitting package.

近年、青色LEDチップから出射した青色光と、青色光で励起された蛍光体から発光した発光光の混色により、白色光を得ることができる白色LEDの開発が進んできている。   In recent years, development of a white LED capable of obtaining white light by a color mixture of blue light emitted from a blue LED chip and emitted light emitted from a phosphor excited by blue light has been advanced.

このように、青色光で励起する蛍光体などを含む波長変換層を備えた発光装置としては、特開2011−151268号公報に記載された発光装置などが挙げられる。   Thus, as a light-emitting device provided with the wavelength conversion layer containing the fluorescent substance excited by blue light, the light-emitting device described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-151268, etc. are mentioned.

このような発光装置は、たとえば以下のような工程で製造されている。まず、パッケージ基板の所定の位置に、青色LEDチップをダイボンドしたのち、パッケージ基板に形成されているアノード、カソード電極と青色LEDチップの電極をワイヤボンドする。つぎに、蛍光体を高濃度で透明樹脂に混練した蛍光体樹脂を青色LEDチップに塗布し、波長変換層を形成する。最後に、青色LEDチップおよび波長変換層を透明体で封止することで透明樹脂層を形成する。   Such a light emitting device is manufactured, for example, by the following process. First, the blue LED chip is die-bonded at a predetermined position on the package substrate, and then the anode and cathode electrodes formed on the package substrate and the electrode of the blue LED chip are wire-bonded. Next, a phosphor resin obtained by kneading the phosphor with a transparent resin at a high concentration is applied to the blue LED chip to form a wavelength conversion layer. Finally, the transparent resin layer is formed by sealing the blue LED chip and the wavelength conversion layer with a transparent body.

ここで、蛍光体樹脂の塗布による波長変換層の製造方法としては、前述した透明樹脂内に高濃度の蛍光体を混錬した蛍光体樹脂をLEDチップに塗布する方法のほかに、低濃度の蛍光体樹脂をLEDチップに塗布したのち、蛍光体を自然沈降させることで、波長変換層と透明樹脂層を同時形成する方法がある。
しかしながら、蛍光体濃度が濃すぎると蛍光体樹脂の粘度が大きくなりすぎて、塗布装置のノズルで蛍光体樹脂がつまったり、LEDチップへの塗布の後に蛍光体樹脂がLEDチップ全体に濡れ広がらなかったり、生産が難しくなる。低濃度の場合では、蛍光体を自然沈降させる必要があるため、蛍光体樹脂の粘度を小さくしなければならず、塗布工程のタクトが長かったり、LEDパッケージ1ロットの数が多かったりすると、1ロット分の蛍光体樹脂を使いきるまでの時間が長くなり、その間に塗布装置の蛍光体樹脂用容器内で蛍光体が沈降してしまい、容器内で蛍光体の濃度分布ができてしまう。このような状態で蛍光体樹脂を塗布すると、生産のはじめとおわりのLEDパッケージ間の色むらが大きくなってしまう。
Here, as a method of manufacturing the wavelength conversion layer by applying the phosphor resin, in addition to the method of applying the phosphor resin in which the high-concentration phosphor is kneaded in the transparent resin described above to the LED chip, There is a method of simultaneously forming a wavelength conversion layer and a transparent resin layer by applying a phosphor resin to an LED chip and then allowing the phosphor to naturally settle.
However, if the phosphor concentration is too high, the viscosity of the phosphor resin becomes too high, and the phosphor resin is clogged by the nozzle of the coating device, and the phosphor resin does not wet and spread over the entire LED chip after application to the LED chip. Or production becomes difficult. In the case of a low concentration, since it is necessary to naturally precipitate the phosphor, the viscosity of the phosphor resin has to be reduced, and if the tact of the coating process is long or the number of one lot of LED packages is large, 1 The time until the lot of the phosphor resin is used up becomes long, during which time the phosphor settles in the phosphor resin container of the coating apparatus, and the phosphor concentration distribution is created in the container. If the phosphor resin is applied in such a state, the color unevenness between the LED package at the beginning and the end of the production becomes large.

また、蛍光体樹脂の塗布以外の波長変換層の製造方法としては、特開2007−134378号公報に記載されたような製造方法がある。   Moreover, as a manufacturing method of wavelength conversion layers other than application | coating of fluorescent resin, there exists a manufacturing method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-134378.

まず、IPA(イソプロパノール)などの揮発性溶剤と蛍光体樹脂で満たされた容器の中に、第一電極に接続したLEDチップ搭載済みパッケージと第二電極とを浸す。つぎに、第一電極と第二電極間に電圧を印加することで電極間に電界を発生させる。このとき、蛍光体の電荷と電界に起因する力が蛍光体に働き、蛍光体の電荷に依存して正負どちらかの電極に向かって溶剤内を移動する(この現象は電気泳動と呼ばれている)。ここで、蛍光体が吸い寄せられる方の電極を第一電極としておくことで、蛍光体をLEDチップの周りに集めることができる。最後に、LEDパッケージを溶剤から取り出し、溶剤を揮発させることで波長変換層を形成することができる。   First, the LED chip mounted package connected to the first electrode and the second electrode are immersed in a container filled with a volatile solvent such as IPA (isopropanol) and a phosphor resin. Next, an electric field is generated between the electrodes by applying a voltage between the first electrode and the second electrode. At this time, the force due to the charge and electric field of the phosphor acts on the phosphor and moves in the solvent toward either the positive or negative electrode depending on the charge of the phosphor (this phenomenon is called electrophoresis). ) Here, the fluorescent material can be collected around the LED chip by setting the electrode on which the fluorescent material is sucked as the first electrode. Finally, the wavelength conversion layer can be formed by removing the LED package from the solvent and volatilizing the solvent.

特開2011−151268号公報JP 2011-151268 A 特開2007−134378号公報JP 2007-134378 A

しかしながら、特開2007−134378号公報のような製造方法では、電気泳動を使ってLEDチップに蛍光体を集める工程と、溶剤を揮発させる工程が必要なため、塗布による製造方法にくらべて工程が多くなる。また、多数のLEDパッケージを浸すためには広い容器が必要であり、このような容器内の蛍光体濃度分布を均一にすることは困難なため、LEDパッケージ毎の色むらが大きくなってしまう傾向がある。   However, a manufacturing method such as Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-134378 requires a step of collecting phosphors on an LED chip using electrophoresis and a step of volatilizing a solvent. Become more. In addition, a large container is required to immerse a large number of LED packages, and it is difficult to make the phosphor concentration distribution in such a container uniform, so that the color unevenness of each LED package tends to increase. There is.

本発明は、上記のような課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、LEDパッケージの波長変換層を良好に形成することができる発光パッケージ、発光パッケージアレイおよび発光パッケージの製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a light emitting package, a light emitting package array, and a method for manufacturing a light emitting package that can satisfactorily form a wavelength conversion layer of an LED package. Is to provide.

本発明に係る発光パッケージは、厚さ方向に配列する第1主表面と第2主表面とを含む基板と、アノードおよびカソードを含み、第1主表面に設けられると共に、第1波長域の光を発光する発光素子と、発光素子を覆うように形成され、第1波長域の光によって励起して第2波長域の光を発光する波長変換層と、波長変換層を覆うように形成された封止層と、アノードに接続され、第1主表面に設けられた第1電極と、カソードに接続され、第1主表面に設けられた第2電極と、第1電極と第2電極とは電気的に接続されていない第3電極とを備える。   A light emitting package according to the present invention includes a substrate including a first main surface and a second main surface arranged in a thickness direction, an anode and a cathode, and is provided on the first main surface, and also has light in a first wavelength region. A light emitting element that emits light, a wavelength conversion layer that is excited by light in the first wavelength region and emits light in the second wavelength region, and is formed to cover the wavelength conversion layer The sealing layer, the first electrode connected to the anode and provided on the first main surface, the second electrode connected to the cathode and provided on the first main surface, and the first electrode and the second electrode A third electrode that is not electrically connected.

上記第1電極の少なくとも一部と第2電極の少なくとも一部と第3電極の少なくとも一部と発光素子とが封止層に覆われる。好ましくは、上記発光素子は、第1電極と第2電極と第3電極との少なくとも1つの電極上に実装される。   At least a part of the first electrode, at least a part of the second electrode, at least a part of the third electrode, and the light emitting element are covered with a sealing layer. Preferably, the light emitting element is mounted on at least one of the first electrode, the second electrode, and the third electrode.

好ましくは、上記第1電極と第2電極と第3電極とのうち、発光素子が実装されていない電極は、発光素子の周囲を取り囲むように配置される。好ましくは、上記発光素子は、第3電極に実装され、第1電極および第2電極で発光素子の周囲を取り囲むように設けられる。   Preferably, of the first electrode, the second electrode, and the third electrode, the electrode on which the light emitting element is not mounted is disposed so as to surround the periphery of the light emitting element. Preferably, the light emitting element is mounted on the third electrode and is provided so as to surround the light emitting element with the first electrode and the second electrode.

好ましくは、上記第3電極は、発光素子が実装される実装部と、実装部に接続され、第1主表面から第2主表面に達する接続部とを含む。好ましくは、上記発光素子は、第1電極と第2電極とに跨るように実装され、第3電極は、発光素子の周囲を環状に取り囲むように設けられる。好ましくは、上記発光素子は、実装面に設けられた反射部を含む。   Preferably, the third electrode includes a mounting portion on which the light emitting element is mounted, and a connecting portion connected to the mounting portion and reaching the second main surface from the first main surface. Preferably, the light emitting element is mounted so as to straddle the first electrode and the second electrode, and the third electrode is provided so as to surround the periphery of the light emitting element in an annular shape. Preferably, the light emitting element includes a reflection portion provided on the mounting surface.

好ましくは、上記発光素子は、第1電極と第2電極と第3電極との少なくとも1つの電極上に実装され、発光素子が実装された電極は、高反射率金属で形成される。上記高反射率金属の第1波長域の光の反射率は、金の第1波長域の光を反射する反射率よりも高い。好ましくは、上記発光素子は、LEDチップである。   Preferably, the light emitting element is mounted on at least one of the first electrode, the second electrode, and the third electrode, and the electrode on which the light emitting element is mounted is formed of a high reflectance metal. The reflectance of the light in the first wavelength region of the high reflectance metal is higher than the reflectance of reflecting the light in the first wavelength region of gold. Preferably, the light emitting element is an LED chip.

好ましくは、上記波長変換層は、発光素子を中心として半球状に形成されており、封止層は、発光素子を中心として半球状に形成される。本発明に係る発光パッケージは、厚さ方向に配列する複数の第1主表面および第2主表面とを含む基板と、アノードおよびカソードを含み、第1主表面に設けられると共に、第1波長域の光を発光する発光素子と、アノードが接続された第1電極と、カソードが接続された第2電極と、第1電極および第2電極に電気的に接続されず、発光素子が実装された第3電極と、第1電極、第2電極および第3電極に電気的に接続されていない第4電極と、発光素子を覆うように形成され、第1波長域の光を吸収して第2波長域の光を発光する波長変換層と、第3電極の少なくとも一部と第4電極の少なくとも一部とを覆うように形成された封止層とを備える。好ましくは、上記第3電極は、発光素子が実装される実装部を含む。本発明に係る発光パッケージアレイは、上記発光パッケージが複数連結される。上記各発光パッケージに設けられた第1電極は、互い接続される。上記発光パッケージに設けられた第2電極は、互い接続される。上記各発光パッケージに設けられた第3電極は、互い接続される。   Preferably, the wavelength conversion layer is formed in a hemispherical shape centering on the light emitting element, and the sealing layer is formed in a hemispherical shape centering on the light emitting element. A light emitting package according to the present invention includes a substrate including a plurality of first main surfaces and second main surfaces arranged in the thickness direction, an anode and a cathode, and is provided on the first main surface and has a first wavelength range. The light emitting element that emits the light, the first electrode connected to the anode, the second electrode connected to the cathode, and the light emitting element mounted without being electrically connected to the first electrode and the second electrode The third electrode, the first electrode, the second electrode, the fourth electrode that is not electrically connected to the third electrode, and the light emitting element are formed so as to cover the second wavelength by absorbing light in the first wavelength region. A wavelength conversion layer that emits light in a wavelength region; and a sealing layer that is formed to cover at least a part of the third electrode and at least a part of the fourth electrode. Preferably, the third electrode includes a mounting portion on which the light emitting element is mounted. In the light emitting package array according to the present invention, a plurality of the light emitting packages are connected. The first electrodes provided in each of the light emitting packages are connected to each other. The second electrodes provided in the light emitting package are connected to each other. The third electrodes provided in each of the light emitting packages are connected to each other.

好ましくは、上記第3電極は、発光素子が実装される実装部を含む。上記第1電極同士を接続すると共に、第2電極同士を接続する複数の第1接続配線と、上記実装部同士を接続する複数の第2接続配線とをさらに備える。上記第1接続配線と第2接続配線とは交互に配置される。   Preferably, the third electrode includes a mounting portion on which the light emitting element is mounted. In addition to connecting the first electrodes to each other, a plurality of first connection wirings for connecting the second electrodes to each other and a plurality of second connection wirings for connecting the mounting parts to each other are further provided. The first connection wiring and the second connection wiring are alternately arranged.

本発明に係る発光パッケージの製造方法は、上記厚さ方向に配列する第1主表面と第2主表面とを含み、第1主表面に第1電極と第2電極と第3電極とが設けられ基板を準備する工程と、第1主表面に発光素子を実装する工程とを備える。発光パッケージの製造方法は、上記第1電極の少なくとも一部と、第2電極の少なくとも一部と、第3電極の少なくとも一部と、発光素子とを覆うように、透明樹脂に蛍光体を混合した蛍光体樹脂を塗布する工程と、蛍光体樹脂を形成した後に、第1電極と第2電極の少なくとも一方と、第3電極との間に電圧を印加することで形成された電界で蛍光体を電気遊動させる工程とを備える。好ましくは、上記発光素子は、第3電極に実装される。好ましくは、上記発光素子は、第1電極および第2電極に亘って実装される。   A manufacturing method of a light emitting package according to the present invention includes a first main surface and a second main surface arranged in the thickness direction, and a first electrode, a second electrode, and a third electrode are provided on the first main surface. And a step of preparing a substrate and a step of mounting a light emitting element on the first main surface. A method of manufacturing a light emitting package includes mixing a phosphor in a transparent resin so as to cover at least a part of the first electrode, at least a part of the second electrode, at least a part of the third electrode, and the light emitting element. The phosphor is applied by an electric field formed by applying a voltage between at least one of the first electrode and the second electrode and the third electrode after forming the phosphor resin and forming the phosphor resin. And a step of electrically moving. Preferably, the light emitting element is mounted on the third electrode. Preferably, the light emitting element is mounted across the first electrode and the second electrode.

好ましくは、発光パッケージの製造方法は、上記第1主表面に撥液膜を形成する工程をさらに備え、上記撥液膜は、第1電極の少なくとも一部と、第2電極の少なくとも一部と、第3電極の少なくとも一部と、第1主表面のうち、発光素子が実装される部分とを露出するように形成される。好ましくは、上記蛍光体樹脂は、蛍光体とシリカと透明樹脂とによって形成される。本発明に係る光パッケージは、厚さ方向に配列する第1主表面と第2主表面とを含み、第1主表面に第1電極と第2電極と第3電極と第4電極が設けられ基板を準備する工程と、発光素子を第4電極に実装する工程と、第1電極と発光素子を接続する工程と、第2電極と発光素子を実装する工程と、第3電極の少なくとも一部と第4電極の少なくとも一部と発光素子とを覆うように、透明樹脂に蛍光体を混合した蛍光体樹脂を形成する工程と、蛍光体樹脂を形成した後に、第3電極および第4電極に電圧を印加することで形成された電界で、蛍光体を電気遊動させる工程とを備える。   Preferably, the method for manufacturing a light emitting package further includes a step of forming a liquid repellent film on the first main surface, wherein the liquid repellent film includes at least a part of the first electrode and at least a part of the second electrode. The third electrode is formed so as to expose at least a portion of the third electrode and a portion of the first main surface on which the light emitting element is mounted. Preferably, the phosphor resin is formed of a phosphor, silica, and a transparent resin. An optical package according to the present invention includes a first main surface and a second main surface arranged in a thickness direction, and a first electrode, a second electrode, a third electrode, and a fourth electrode are provided on the first main surface. Preparing a substrate, mounting the light emitting element on the fourth electrode, connecting the first electrode and the light emitting element, mounting the second electrode and the light emitting element, and at least part of the third electrode Forming a phosphor resin in which a phosphor is mixed with a transparent resin so as to cover at least a part of the fourth electrode and the light emitting element; and after forming the phosphor resin, the third electrode and the fourth electrode And a step of causing the phosphor to be electrically driven by an electric field formed by applying a voltage.

本発明に係る発光パッケージ、発光パッケージアレイおよび発光パッケージの製造方法によれば、発光チップの周囲に良好に波長変換層を形成することができる。   According to the light emitting package, the light emitting package array, and the light emitting package manufacturing method according to the present invention, the wavelength conversion layer can be favorably formed around the light emitting chip.

本実施の形態に係るLEDパッケージ10の断面図である。It is sectional drawing of the LED package 10 which concerns on this Embodiment. 図1に示すLEDパッケージ10を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the LED package 10 shown in FIG. LEDチップ15の周囲を示す拡大断面図である。2 is an enlarged cross-sectional view showing the periphery of an LED chip 15. FIG. LEDパッケージ10を示す断面図である。2 is a cross-sectional view showing an LED package 10. FIG. LEDチップ15と、波長変換層17と、封止層18とを示す断面図である。2 is a cross-sectional view showing an LED chip 15, a wavelength conversion layer 17, and a sealing layer 18. FIG. 本実施の形態に係るLEDパッケージ10の製造方法の第1工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st process of the manufacturing method of the LED package 10 which concerns on this Embodiment. 図6に示す製造工程後の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process after the manufacturing process shown in FIG. 図7に示すVIII−VIII線における断面図である。It is sectional drawing in the VIII-VIII line shown in FIG. 図7に示す製造工程後の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process after the manufacturing process shown in FIG. 図9に示すX−X線における断面図である。It is sectional drawing in the XX line shown in FIG. 図9に示す製造工程後の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process after the manufacturing process shown in FIG. 図11に示すXII−XII線における断面図である。It is sectional drawing in the XII-XII line | wire shown in FIG. 図11に示す製造工程後の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process after the manufacturing process shown in FIG. 図13に示すXIV−XIV線における断面図である。It is sectional drawing in the XIV-XIV line | wire shown in FIG. 図14に示す製造工程後の工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process after the manufacturing process shown in FIG. 図15に示す製造工程における平面図である。It is a top view in the manufacturing process shown in FIG. 実装部14aと、円弧部13aと、蛍光体樹脂62とを模式的に示す模式図である。It is a schematic diagram which shows typically the mounting part 14a, the circular arc part 13a, and fluorescent substance resin 62. FIG. 電気遊動が完了した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which the electric idle was completed. 図18に示すXIX−XIX線における断面図である。It is sectional drawing in the XIX-XIX line | wire shown in FIG. 図18および図19に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 20 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIGS. 18 and 19. 図20に示すXXI−XXI線における断面図である。It is sectional drawing in the XXI-XXI line shown in FIG. 本実施の形態2に係るLEDパッケージ10の断面図である。It is sectional drawing of the LED package 10 which concerns on this Embodiment 2. FIG. 図22に示すLEDパッケージ10の平面図である。It is a top view of the LED package 10 shown in FIG. LEDパッケージ10の製造過程を示す平面図である。5 is a plan view showing a manufacturing process of the LED package 10. FIG. LEDパッケージアレイ50を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an LED package array 50. 本実施の形態に係るLEDパッケージ10を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the LED package 10 which concerns on this Embodiment. 図26に示すLEDパッケージ10の平面図である。FIG. 27 is a plan view of the LED package 10 shown in FIG. 26. LEDパッケージ10の製造工程の第1工程を示す平面図である。5 is a plan view showing a first step in a manufacturing process of the LED package 10. FIG. 図28に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 29 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 28. 図29に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 30 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 29. 実施の形態2に係るLEDパッケージアレイを示す平面図である。6 is a plan view showing an LED package array according to Embodiment 2. FIG. 本実施の形態3に係るLEDパッケージ10を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the LED package 10 which concerns on this Embodiment 3. FIG. 図32に示すLEDパッケージ10の平面図である。It is a top view of the LED package 10 shown in FIG. 本実施の形態4に係るLEDパッケージ10の製造工程の第1工程を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st process of the manufacturing process of the LED package 10 which concerns on this Embodiment 4. FIG. 図34に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 35 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 34. 図35に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 36 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 35. 図36に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 37 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 36. 図37に示す製造工程後の工程を示す平面図である。FIG. 38 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 37. 実施例1を説明する平面図である。FIG. 3 is a plan view for explaining Example 1; 実施例1を説明する平面図である。FIG. 3 is a plan view for explaining Example 1;

図1から図40を用いて、本実施の形態に係る発光パッケージ、発光パッケージアレイおよび発光パッケージの製造方法について説明する。   A light emitting package, a light emitting package array, and a method for manufacturing the light emitting package according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

(実施の形態1)
図1は、本実施の形態に係るLEDパッケージ10の断面図である。この図1に示すように、LEDパッケージ10は、主表面20および主表面21を有する基板11と、主表面20上に形成された第1電極12と、主表面20上に形成された第2電極13と、主表面20上に形成された第3電極14と、アノードおよびカソードを含み、第3電極14上に実装されたLEDチップ15とを備える。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a cross-sectional view of an LED package 10 according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the LED package 10 includes a substrate 11 having a main surface 20 and a main surface 21, a first electrode 12 formed on the main surface 20, and a second electrode formed on the main surface 20. The electrode 13 includes a third electrode 14 formed on the main surface 20, and an LED chip 15 including an anode and a cathode and mounted on the third electrode 14.

さらに、LEDパッケージ10は、LEDチップ15のアノードを第1電極12に接続する金ワイヤ16aと、LEDチップ15のカソードを第2電極13に接続する金ワイヤ16bと、LEDチップ15を覆うように形成された波長変換層17と、波長変換層17を覆うように形成された封止層18と、主表面20上であって、封止層18の周囲を取り囲むように形成された撥液膜31とを備える。   Further, the LED package 10 covers the LED chip 15 so that the gold wire 16a connecting the anode of the LED chip 15 to the first electrode 12, the gold wire 16b connecting the cathode of the LED chip 15 to the second electrode 13, and the LED chip 15. The formed wavelength conversion layer 17, the sealing layer 18 formed so as to cover the wavelength conversion layer 17, and the liquid repellent film formed on the main surface 20 so as to surround the periphery of the sealing layer 18 31.

基板11は、好ましくは、非絶縁材料であって、高反射率を有する材料から形成される。たとえば、アルミナセラミックスなどが採用される。基板11は、板状に形成されており、厚さ方向に配列する主表面20,21を含む。   The substrate 11 is preferably made of a non-insulating material and a material having high reflectivity. For example, alumina ceramics are used. The substrate 11 is formed in a plate shape and includes main surfaces 20 and 21 arranged in the thickness direction.

第1電極12と、第2電極13と、第3電極14とは、互いに電気的に独立となるように形成されている。   The first electrode 12, the second electrode 13, and the third electrode 14 are formed so as to be electrically independent from each other.

第1電極12は、主表面20から基板11の周面をとおり主表面21に達するように形成されている。第2電極13も、主表面20から基板11の周面をとおり主表面21に達するように形成されている。第2電極13は、主表面20に形成されている。   The first electrode 12 is formed so as to reach the main surface 21 from the main surface 20 through the peripheral surface of the substrate 11. The second electrode 13 is also formed so as to reach the main surface 21 from the main surface 20 through the peripheral surface of the substrate 11. Second electrode 13 is formed on main surface 20.

図2は、図1に示すLEDパッケージ10を模式的に示す平面図である。この図2に示すように、基板11は、平面視すると、正方形形状となるように形成されており、基板11の外周縁部は、辺部22〜25を含む。なお、基板11の形状としては、各種形状を採用することができる。   FIG. 2 is a plan view schematically showing the LED package 10 shown in FIG. As shown in FIG. 2, the substrate 11 is formed to have a square shape when seen in a plan view, and the outer peripheral edge portion of the substrate 11 includes side portions 22 to 25. Various shapes can be adopted as the shape of the substrate 11.

第3電極14は、LEDチップ15が実装される実装部14aと、この実装部14aから基板11の外周縁部に向けて引き出された引出部14bとを含む。引出部14bは、辺部22および辺部23に向けて延びるように形成されている。この図2に示す例においては、実装部14aは、円形状に形成されているが、実装部14aの形状としては、正方形形状、長方形形状、楕円形状など各種の形状を採用することができる。すなわち、形成したい波長変換層の形状に合わせて設計されている。   The third electrode 14 includes a mounting portion 14 a on which the LED chip 15 is mounted, and a lead-out portion 14 b that is drawn from the mounting portion 14 a toward the outer peripheral edge of the substrate 11. The lead portion 14 b is formed to extend toward the side portion 22 and the side portion 23. In the example shown in FIG. 2, the mounting portion 14a is formed in a circular shape, but various shapes such as a square shape, a rectangular shape, and an elliptical shape can be adopted as the shape of the mounting portion 14a. That is, it is designed according to the shape of the wavelength conversion layer to be formed.

第1電極12は、実装部14aの周囲を取り囲むように延びる円弧部12aと、円弧部12aから基板11の外周縁部に向けて引き出された引出部12bとを含む。図2に示す例においては、円弧部12aは、半円状に形成されているが、円弧部12aは、半四角形状、半多角形形状となるように形成されてもよい。   The first electrode 12 includes an arc portion 12 a extending so as to surround the mounting portion 14 a and a lead portion 12 b drawn from the arc portion 12 a toward the outer peripheral edge portion of the substrate 11. In the example shown in FIG. 2, the arc portion 12 a is formed in a semicircular shape, but the arc portion 12 a may be formed in a semi-rectangular shape or a semi-polygonal shape.

引出部12bは、円弧部12aから辺部24に向けて延びるように形成され、図1に示すように、基板11の周面をとおり、主表面21上を延びるように形成されている。   The lead portion 12b is formed so as to extend from the arc portion 12a toward the side portion 24, and is formed so as to extend on the main surface 21 through the peripheral surface of the substrate 11, as shown in FIG.

第2電極13は、実装部14aの周囲を取り囲むように形成された円弧部13aと、この円弧部13aから基板11の外周縁部に向けて延びるように形成された引出部13bとを含む。引出部13bは、円弧部13aから辺部25に向けて延び、基板11の周面をとおり、主表面21に達するように形成されている。   The second electrode 13 includes an arc portion 13 a formed so as to surround the mounting portion 14 a, and a lead portion 13 b formed so as to extend from the arc portion 13 a toward the outer peripheral edge portion of the substrate 11. The lead portion 13 b extends from the arc portion 13 a toward the side portion 25 and is formed so as to pass through the peripheral surface of the substrate 11 and reach the main surface 21.

上記のように形成された第1電極12、第2電極13および第3電極14の表面には、金メッキが施されており、表面の腐食の抑制が図られている。   Gold plating is applied to the surfaces of the first electrode 12, the second electrode 13, and the third electrode 14 formed as described above to suppress the corrosion of the surface.

図3は、LEDチップ15の周囲を示す拡大断面図である。この図3に示すように、LEDチップ15は、シリコーン樹脂などのダイボンド剤30によって、第3電極14の上面上に実装されている。   FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing the periphery of the LED chip 15. As shown in FIG. 3, the LED chip 15 is mounted on the upper surface of the third electrode 14 by a die bonding agent 30 such as a silicone resin.

LEDチップ15は、LED本体26と、LED本体26の実装面に設けられた反射部27と、アノード28と、カソード29とを含む。反射部27は、LED本体26の下面にアルミを蒸着させることで形成されている。   The LED chip 15 includes an LED main body 26, a reflection portion 27 provided on the mounting surface of the LED main body 26, an anode 28, and a cathode 29. The reflecting portion 27 is formed by evaporating aluminum on the lower surface of the LED main body 26.

LED本体26は、発光層26aを含み、アノード28およびカソード29に所定の電圧が印加されることで発光する。なお、発光層26aからはたとえば、青色光(たとえば、波長域が390nm以上510nm以下の光)を出射する。   The LED body 26 includes a light emitting layer 26 a and emits light when a predetermined voltage is applied to the anode 28 and the cathode 29. For example, blue light (for example, light having a wavelength range of 390 nm to 510 nm) is emitted from the light emitting layer 26a.

アノード28には、金ワイヤ16aが接続されており、アノード28は、第1電極12に接続されている。カソード29には、金ワイヤ16bが接続されており、カソード29は、第2電極13に接続されている。   A gold wire 16 a is connected to the anode 28, and the anode 28 is connected to the first electrode 12. A gold wire 16 b is connected to the cathode 29, and the cathode 29 is connected to the second electrode 13.

ここで、第1電極12および第2電極13の表面には、金メッキが施されており、金ワイヤ16a,16bと第1電極12および第2電極13とのワイヤボンド性の向上が図られている。   Here, the surfaces of the first electrode 12 and the second electrode 13 are plated with gold, so that the wire bondability between the gold wires 16a and 16b and the first electrode 12 and the second electrode 13 is improved. Yes.

図1および図2において、波長変換層17は、LEDチップ15を覆うように第3電極14上に形成されている。なお、図2において、波長変換層17は、ハッチングを施した領域に形成されており、第3電極14の実装部14aおよび引出部14b上に形成されている。   1 and 2, the wavelength conversion layer 17 is formed on the third electrode 14 so as to cover the LED chip 15. In FIG. 2, the wavelength conversion layer 17 is formed in the hatched region, and is formed on the mounting portion 14 a and the extraction portion 14 b of the third electrode 14.

ここで、図1に示すように、波長変換層17のうち、実装部14a上に位置する部分は、半球形形状となるように形成されている。   Here, as shown in FIG. 1, the part located on the mounting part 14a among the wavelength conversion layers 17 is formed so that it may become hemispherical shape.

なお、図1においては、LEDチップ15は説明のために大きく記載されているが、実際は、波長変換層17の大きさに比べて十分に小さく、LEDチップ15は点光源とみなすことができる。   In FIG. 1, the LED chip 15 is shown large for the sake of explanation, but actually, the LED chip 15 is sufficiently smaller than the size of the wavelength conversion layer 17 and the LED chip 15 can be regarded as a point light source.

このため、実装部14a上に位置する波長変換層17の外表面の略全面に亘って、LEDチップ15と波長変換層17の外表面との間の距離は略均一となっている。波長変換層17は、蛍光体とシリカと透明樹脂を攪拌混合した蛍光体樹脂を基板上に塗布したのち、蛍光体を電気泳動させ、LEDチップ15の周囲に集めることで形成される。蛍光体は、特に材料等限定されるものではなく、LEDチップ15の発光波長と、蛍光体の励起波長が等しいものが望ましく、また、所定の色度にあったものをもちいればよい。   For this reason, the distance between the LED chip 15 and the outer surface of the wavelength conversion layer 17 is substantially uniform over substantially the entire outer surface of the wavelength conversion layer 17 located on the mounting portion 14a. The wavelength conversion layer 17 is formed by applying a phosphor resin obtained by stirring and mixing a phosphor, silica, and a transparent resin onto a substrate, then electrophoresis the phosphor and collecting the phosphor around the LED chip 15. The phosphor is not particularly limited in material and the like, and it is desirable that the emission wavelength of the LED chip 15 is equal to the excitation wavelength of the phosphor, and a phosphor having a predetermined chromaticity may be used.

封止層18は、図2に示すように、実装部14aと、LEDチップ15と、円弧部12aと、円弧部13aとを覆うように主表面20上に形成されている。透明樹脂は、特に材料等限定されるものではなく、透過率や屈折率、耐光性が高いといった一般的なLEDパッケージに望まれる特性を満たしておればよい。このような透明樹脂としては、シリコーン樹脂がよく知られている。場合によっては、耐光性が劣るもののコストの面が有利なエポキシ樹脂も用いられる。なお、図1に示す撥液膜31は、必須の構成ではない。   As shown in FIG. 2, the sealing layer 18 is formed on the main surface 20 so as to cover the mounting portion 14a, the LED chip 15, the arc portion 12a, and the arc portion 13a. The transparent resin is not particularly limited as long as the material is used, and may satisfy the characteristics desired for a general LED package such as high transmittance, refractive index, and high light resistance. Silicone resins are well known as such transparent resins. Depending on the case, an epoxy resin which is inferior in light resistance but advantageous in cost is also used. The liquid repellent film 31 shown in FIG. 1 is not an essential configuration.

上記のように形成されたLEDパッケージ10の動作について説明する。図3において、アノード28およびカソード29に所定の電圧が印加されることで、発光層26aが発光する。   The operation of the LED package 10 formed as described above will be described. In FIG. 3, when a predetermined voltage is applied to the anode 28 and the cathode 29, the light emitting layer 26a emits light.

発光層26aからは青色光Lが放射状に出射される。青色光Lが波長変換層17内に入射すると、波長変換層17が励起して波長変換層17から発光光L3が出射される。発光光L3は、放射状に出射される。   Blue light L is emitted radially from the light emitting layer 26a. When the blue light L enters the wavelength conversion layer 17, the wavelength conversion layer 17 is excited and emitted light L <b> 3 is emitted from the wavelength conversion layer 17. The emitted light L3 is emitted radially.

このため、発光光L3の一部は、第3電極14に入射する。ここで、一般的な各蛍光体の発光波長に対する金の反射率は、緑色蛍光体からの光(波長約550nm:波長域が530nm以上690nm以下程度)で80%、赤色蛍光体からの光(約600nm:波長域が460nm以上580nm以下程度)で92%、黄色蛍光体からの光(約580nm:波長域が570nm以上590nm程度)で90%と高い。このため、波長変換層17によって波長変換された後の光であれば、第3電極14などの金めっきにあたっても吸収が小さく輝度低下を抑えることができる。   For this reason, a part of the emitted light L3 is incident on the third electrode 14. Here, the reflectance of gold with respect to the emission wavelength of each general phosphor is 80% for light from the green phosphor (wavelength: about 550 nm: wavelength range of about 530 nm to about 690 nm), and light from the red phosphor ( About 600 nm: The wavelength range is as high as 92% at a wavelength range of about 460 nm or more and about 580 nm or less, and 90% at the light from the yellow phosphor (about 580 nm: the wavelength range of about 570 nm or more and about 590 nm). For this reason, the light after being wavelength-converted by the wavelength conversion layer 17 has a small absorption even in the gold plating of the third electrode 14 and the like, and can suppress a decrease in luminance.

発光層26aから出射された光の一部である青色光L1は、LEDチップ15の実装面に向けて出射している。   The blue light L1, which is a part of the light emitted from the light emitting layer 26a, is emitted toward the mounting surface of the LED chip 15.

LEDチップ15の実装面には、反射部27が設けられているため、青色光L1は反射部27で反射される。その結果、良好に波長変換層17内に青色光L1の反射光が入射する。   Since the reflection part 27 is provided on the mounting surface of the LED chip 15, the blue light L <b> 1 is reflected by the reflection part 27. As a result, the reflected light of the blue light L1 is incident on the wavelength conversion layer 17 satisfactorily.

ここで、仮に、反射部27が形成されていない場合には、青色光L1は、第3電極14の表面に入射する。第3電極14の表面には、金メッキが施されている。ここで、青色光L1の波長は、約450nmであり、このときの反射率は40%程度と低い。このため、青色光L1が金めっきにあたることで著しい輝度低下が起こってしまう。   Here, if the reflecting portion 27 is not formed, the blue light L1 is incident on the surface of the third electrode 14. The surface of the third electrode 14 is gold plated. Here, the wavelength of the blue light L1 is about 450 nm, and the reflectance at this time is as low as about 40%. For this reason, when the blue light L1 hits gold plating, a remarkable brightness | luminance fall will occur.

本実施の形態1に係るLEDパッケージ10によれば、このような輝度低下を抑制することができる。   According to the LED package 10 according to the first embodiment, such a decrease in luminance can be suppressed.

このように、LEDチップ15の基板実装面にアルミや銀などの高反射部材を取り付けて反射部27が形成されているので、LEDチップ15の基板実装面から出光しようとする青色光が、反射部27で反射され、第3電極14で吸収されることを防ぐことができる。   As described above, since the reflective portion 27 is formed by attaching a highly reflective member such as aluminum or silver to the substrate mounting surface of the LED chip 15, blue light that is going to be emitted from the substrate mounting surface of the LED chip 15 is reflected. It can be prevented from being reflected by the portion 27 and absorbed by the third electrode 14.

なお、反射部27は、必須の構成ではなく、LEDチップ15を実装する第3電極14が、銀やアルミなどの高反射率金属としてもよい。この場合には、青色光L1は、第3電極14の表面で反射されることになる。   In addition, the reflection part 27 is not an essential structure, and the 3rd electrode 14 which mounts the LED chip 15 is good also as high reflectivity metals, such as silver and aluminum. In this case, the blue light L <b> 1 is reflected on the surface of the third electrode 14.

図4は、LEDパッケージ10を示す断面図である。この図4に示すように、波長変換層17から出射された発光光L3の一部は、第2電極13に入射する場合がある。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing the LED package 10. As shown in FIG. 4, part of the emitted light L <b> 3 emitted from the wavelength conversion layer 17 may enter the second electrode 13.

この際、金の反射率の緑色光の反射率は、80%程度であり、金の反射率の赤色光(約600nm:波長域が460nm以上580nm以下程度)反射率は、92%である。金の黄色光(約580nm:波長域が570nm以上590nm程度)の反射率は、90%程度である。   At this time, the reflectance of green light of the reflectance of gold is about 80%, and the reflectance of red light of the reflectance of gold (about 600 nm: wavelength region is about 460 nm or more and 580 nm or less) is 92%. The reflectance of gold yellow light (about 580 nm: wavelength range of about 570 nm to about 590 nm) is about 90%.

このため、第2電極13や第1電極12を銀やアルミなどの高反射率金属で形成することで、波長変換層17で変換された発光光L3が第2電極13や第1電極12などに入射したとしても、電極に吸収されることを抑制することができる。   For this reason, the second electrode 13 and the first electrode 12 are formed of a highly reflective metal such as silver or aluminum, so that the emitted light L3 converted by the wavelength conversion layer 17 is the second electrode 13 or the first electrode 12. Even if it is incident on the electrode, it can be prevented from being absorbed by the electrode.

図5は、LEDチップ15と、波長変換層17と、封止層18とを示す断面図である。この図5に示すように、LEDチップ15の大きさは、波長変換層17および封止層18と比較して非常に小さく、LEDチップ15を点光源とみなすことができる。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing the LED chip 15, the wavelength conversion layer 17, and the sealing layer 18. As shown in FIG. 5, the size of the LED chip 15 is very small compared to the wavelength conversion layer 17 and the sealing layer 18, and the LED chip 15 can be regarded as a point light source.

LEDチップ15から出射された青色光LLは、波長変換層17内で発光光L3に変換される。   The blue light LL emitted from the LED chip 15 is converted into emitted light L3 in the wavelength conversion layer 17.

ここで、波長変換層17は半球形状に形成されているため、波長変換層17の外表面の略全面に亘って、LEDチップ15と波長変換層17の外表面との間の距離が略等しくなってる。   Here, since the wavelength conversion layer 17 is formed in a hemispherical shape, the distance between the LED chip 15 and the outer surface of the wavelength conversion layer 17 is substantially equal over substantially the entire outer surface of the wavelength conversion layer 17. It is.

このため、波長変換層17の径を所定以上の大きさとすることで、LEDチップ15からの青色光LLが波長変換層17内で吸収されずに封止層18に入り込むことを抑制することができる。これにより、青色光LLが直接外部に出射されることを抑制することができる。   For this reason, by making the diameter of the wavelength conversion layer 17 larger than a predetermined size, the blue light LL from the LED chip 15 can be prevented from entering the sealing layer 18 without being absorbed in the wavelength conversion layer 17. it can. Thereby, it can suppress that the blue light LL is radiate | emitted directly outside.

また、青色光LLの主成分は、図5に示すように、波長変換層17の外表面に直角に入射する。このため、波長変換層17と封止層18との界面で青色光LLの主成分が屈折することが抑制されている。   Further, the main component of the blue light LL is incident on the outer surface of the wavelength conversion layer 17 at a right angle, as shown in FIG. For this reason, the main component of the blue light LL is prevented from being refracted at the interface between the wavelength conversion layer 17 and the sealing layer 18.

さらに、発光光L3の主成分は、封止層18の外表面に垂直に入射する。このため、発光光L3が封止層18の外表面と空気層との界面において屈曲することを抑制することができる。   Further, the main component of the emitted light L3 is perpendicularly incident on the outer surface of the sealing layer 18. For this reason, it can suppress that the emitted light L3 bends in the interface of the outer surface of the sealing layer 18, and an air layer.

この結果、封止層18から放射される光の輝度分布にばらつきが生じることを抑制することができる。   As a result, it is possible to suppress variations in the luminance distribution of light emitted from the sealing layer 18.

上記のように構成されたLEDパッケージ10の製造方法について説明する。
図6は、本実施の形態に係るLEDパッケージ10の製造方法の第1工程を示す断面図である。この図6において、厚さ方向に配列する2つの主表面を有するマザー基板60を準備する。このマザー基板60は、長方形形状に形成されており、マザー基板60の外周縁部は、互いに対向する2つの長辺部と、互いに対向する2つの短辺部とを含む。そして、他方の長辺部には、間隔をあけてスリットが形成されている。このスリットは、他方の長辺部から一方の長辺部に向けて延びるように形成されている。
A method for manufacturing the LED package 10 configured as described above will be described.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a first step of the method of manufacturing LED package 10 according to the present embodiment. In FIG. 6, a mother substrate 60 having two main surfaces arranged in the thickness direction is prepared. The mother substrate 60 is formed in a rectangular shape, and the outer peripheral edge portion of the mother substrate 60 includes two long side portions facing each other and two short side portions facing each other. Then, slits are formed on the other long side portion at intervals. The slit is formed so as to extend from the other long side portion toward the one long side portion.

なお、マザー基板60の主表面には、複数の形成領域61a〜61fが規定されており、各形成領域61a〜61fに、LEDパッケージ10が形成される。   A plurality of formation regions 61a to 61f are defined on the main surface of the mother substrate 60, and the LED package 10 is formed in each of the formation regions 61a to 61f.

図7は、図6に示す製造工程後の工程を示す断面図であり、この図7に示すように、接続部51と、接続部52と、各形成領域61a〜61fに形成された実装部14aと、第1電極12と、第2電極13とを形成する。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing a process after the manufacturing process shown in FIG. 6. As shown in FIG. 7, the connection part 51, the connection part 52, and the mounting part formed in each of the formation regions 61 a to 61 f. 14a, the first electrode 12, and the second electrode 13 are formed.

各実装部14aは、各形成領域61a〜61fの略中央部に形成される。接続部51は、マザー基板60の一方の長辺部に形成された基部43と、この基部43から他方の長辺部に向けて延びるように形成された接続配線40,41,42とを含む。接続配線40と、接続配線41と、接続配線42とは互いに間隔をあけて設けられている。   Each mounting portion 14a is formed at a substantially central portion of each of the formation regions 61a to 61f. The connection portion 51 includes a base portion 43 formed on one long side portion of the mother substrate 60 and connection wirings 40, 41, 42 formed so as to extend from the base portion 43 toward the other long side portion. . The connection wiring 40, the connection wiring 41, and the connection wiring 42 are provided with a space therebetween.

接続配線40は、形成領域61aに形成された実装部14aと、形成領域61dに形成された実装部14aとを接続する。接続配線41は、形成領域61bに形成された実装部14aと、形成領域61eに形成された実装部14aとを接続する。接続配線42は、形成領域61cに形成された実装部14aと、形成領域61fに形成された実装部14aとを接続する。   The connection wiring 40 connects the mounting portion 14a formed in the formation region 61a and the mounting portion 14a formed in the formation region 61d. The connection wiring 41 connects the mounting portion 14a formed in the formation region 61b and the mounting portion 14a formed in the formation region 61e. The connection wiring 42 connects the mounting portion 14a formed in the formation region 61c and the mounting portion 14a formed in the formation region 61f.

接続部52は、マザー基板60の他方の長辺部に形成された基部48と、この基部48から一方の長辺部に向けて延びるように形成され、互いに間隔をあけて設けられた複数の接続配線44,45,46,47とを含む。   The connecting portion 52 includes a base portion 48 formed on the other long side portion of the mother substrate 60 and a plurality of base portions 48 extending from the base portion 48 toward the one long side portion and spaced apart from each other. Connection wirings 44, 45, 46 and 47.

接続配線44は、形成領域61aに形成された引出部12bと、形成領域61dに形成された引出部12bとを接続する。なお、接続配線44は、マザー基板60の一方の短辺部に形成されている。   The connection wiring 44 connects the lead portion 12b formed in the formation region 61a and the lead portion 12b formed in the formation region 61d. The connection wiring 44 is formed on one short side portion of the mother substrate 60.

接続配線45は、形成領域61aに形成された引出部13bと、形成領域61bに形成された引出部12bと、形成領域61dに形成された引出部13bと、形成領域61eに形成された引出部13bとを接続する。   The connection wiring 45 includes a lead portion 13b formed in the formation region 61a, a lead portion 12b formed in the formation region 61b, a lead portion 13b formed in the formation region 61d, and a lead portion formed in the formation region 61e. 13b is connected.

接続配線46は、形成領域61bに形成された引出部13bと、形成領域61cに形成された引出部12bと、形成領域61eに形成された引出部13bと、形成領域61fに形成された引出部12bとを接続する。   The connection wiring 46 includes a lead portion 13b formed in the formation region 61b, a lead portion 12b formed in the formation region 61c, a lead portion 13b formed in the formation region 61e, and a lead portion formed in the formation region 61f. 12b is connected.

接続配線47は、マザー基板60の他方の短辺部に形成されている。接続配線47は、形成領域61cに形成された引出部13bと、形成領域61fに形成された引出部13bとを接続する。   The connection wiring 47 is formed on the other short side portion of the mother substrate 60. The connection wiring 47 connects the lead portion 13b formed in the formation region 61c and the lead portion 13b formed in the formation region 61f.

このように、接続部51の接続配線40,41,42は、櫛の歯状に形成されており、接続配線44,45,46,47も櫛の歯状に形成されている。そして、接続部51の接続配線40,41,42と、接続部52の接続配線44,45,46,47とは、互いに交互となるように形成されている。このように、第1電極12と、第2電極13と、14とを形成した後、ドーナツ形状の撥液膜を形成した。この環状に形成された撥液膜から実装部14aと、円弧部12aと、円弧部13aとが露出している。   Thus, the connection wirings 40, 41, and 42 of the connection part 51 are formed in a comb-tooth shape, and the connection wirings 44, 45, 46, and 47 are also formed in a comb-tooth shape. The connection wirings 40, 41, and 42 of the connection part 51 and the connection wirings 44, 45, 46, and 47 of the connection part 52 are formed so as to alternate with each other. Thus, after forming the 1st electrode 12, the 2nd electrode 13, and 14, the doughnut-shaped liquid repellent film was formed. The mounting portion 14a, the arc portion 12a, and the arc portion 13a are exposed from the annular liquid-repellent film.

なお、図8は、図7に示すVIII−VIII線における断面図であり、この図8に示すように、実装部14aが形成領域61aの中央部に形成される。   8 is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII shown in FIG. 7. As shown in FIG. 8, the mounting portion 14a is formed at the center of the formation region 61a.

図9は、図7に示す製造工程後の工程を示す断面図であり、図10は、図9に示すX−X線における断面図である。   9 is a cross-sectional view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 7, and FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line XX shown in FIG.

図9および図10に示すように、LEDチップ15を各形成領域61a〜61fに形成された実装部14a上に実装する。   As shown in FIGS. 9 and 10, the LED chip 15 is mounted on the mounting portion 14a formed in each of the formation regions 61a to 61f.

具体的には、実装部14aの上面上にダイボンド剤30を塗布して、このダイボンド剤30上にLEDチップ15をのせる。   Specifically, the die bond agent 30 is applied on the upper surface of the mounting portion 14 a and the LED chip 15 is placed on the die bond agent 30.

図11は、図9に示す製造工程後の工程を示す断面図であり、図12は、図11に示すXII−XII線における断面図である。   11 is a cross-sectional view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 9, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along line XII-XII shown in FIG.

この図11および図12に示すように、各形成領域61a〜61fに設けられたLEDチップ15のアノード28と第1電極12とを接続する金ワイヤ16aと、カソード29と第2電極13とを接続する金ワイヤ16bとを形成する。   As shown in FIGS. 11 and 12, the gold wire 16a that connects the anode 28 and the first electrode 12 of the LED chip 15 provided in each of the formation regions 61a to 61f, the cathode 29, and the second electrode 13 are connected. A gold wire 16b to be connected is formed.

図13は、図11に示す製造工程後の工程を示す断面図であり、図14は、図13に示すXIV−XIV線における断面図である。   13 is a cross-sectional view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 11, and FIG. 14 is a cross-sectional view taken along line XIV-XIV shown in FIG.

まず、主表面に形成された撥液剤は環状に形成されており、各形成領域61a〜61fに設けられたLEDチップ15と、実装部14aと、円弧部12aと、円弧部13aとは、撥液剤から露出している。   First, the liquid repellent agent formed on the main surface is formed in an annular shape, and the LED chip 15, the mounting portion 14a, the arc portion 12a, and the arc portion 13a provided in each of the formation regions 61a to 61f are repellent. It is exposed from the liquid.

そこで、主表面20のうち、撥液剤から露出した部分に蛍光体樹脂62をインクジェット装置などの塗布装置を用いて塗布する。これにより、各形成領域61a〜61fに設けられたLEDチップ15と、実装部14aと、円弧部12aと、円弧部13aとが蛍光体樹脂62によって覆われる。   Therefore, the phosphor resin 62 is applied to a portion of the main surface 20 exposed from the liquid repellent using an application device such as an ink jet device. As a result, the LED chip 15, the mounting portion 14a, the arc portion 12a, and the arc portion 13a provided in each of the formation regions 61a to 61f are covered with the phosphor resin 62.

この際、撥液膜31の蛍光体樹脂62に対する濡れ性は、マザー基板60の蛍光体樹脂62に対する濡れ性よりも小さい。   At this time, the wettability of the liquid repellent film 31 to the phosphor resin 62 is smaller than the wettability of the mother substrate 60 to the phosphor resin 62.

このため、蛍光体樹脂62を塗布した際に、蛍光体樹脂62が撥液膜31の上面上にまでぬれ広がることを抑制することができ、蛍光体樹脂62を均一に形成することができる。   For this reason, when the phosphor resin 62 is applied, the phosphor resin 62 can be prevented from being wet and spread over the upper surface of the liquid repellent film 31, and the phosphor resin 62 can be formed uniformly.

さらに、撥液膜31の濡れ性が低いため、塗布された蛍光体樹脂62は半球形状となる。蛍光体樹脂62は、蛍光体と透明樹脂とシリカを攪拌混合した蛍光体とを含む。   Furthermore, since the wettability of the liquid repellent film 31 is low, the applied phosphor resin 62 has a hemispherical shape. The phosphor resin 62 includes a phosphor obtained by stirring and mixing phosphor, transparent resin, and silica.

そして、接続部51に+の電圧を印加して、接続部52に−の電圧を印加する。この際、LEDパッケージごとに電圧を印加する必要がなく、接続部51および接続部52に電圧を印加することで、各形成領域61a〜61fに実装された実装部14aの周囲に電界を形成することができる。   Then, a positive voltage is applied to the connection part 51, and a negative voltage is applied to the connection part 52. At this time, it is not necessary to apply a voltage to each LED package, and an electric field is formed around the mounting portion 14a mounted in each of the formation regions 61a to 61f by applying a voltage to the connecting portion 51 and the connecting portion 52. be able to.

そして、図15および図16の二点鎖線に示すように、円弧部12aと実装部14aとの間と、引出部12bと実装部14aとの間とに電界が形成される。   15 and FIG. 16, an electric field is formed between the arc portion 12a and the mounting portion 14a and between the lead portion 12b and the mounting portion 14a.

ここで、蛍光体樹脂62内に含まれる蛍光体の振る舞いについて、図17を用いて説明する。図17は、実装部14aと、円弧部13aと、蛍光体樹脂62とを模式的に示す模式図である。   Here, the behavior of the phosphor contained in the phosphor resin 62 will be described with reference to FIG. FIG. 17 is a schematic diagram schematically showing the mounting portion 14a, the arc portion 13a, and the phosphor resin 62.

この図17に示すように、実装部14aに+の電圧を印加し、円弧部13aに−の電圧を印加する。   As shown in FIG. 17, a positive voltage is applied to the mounting portion 14a, and a negative voltage is applied to the arc portion 13a.

蛍光体樹脂62は、シリコーン樹脂などの透明樹脂と、この透明樹脂内に拡散した複数の蛍光体と、シリカとを含む。   The phosphor resin 62 includes a transparent resin such as a silicone resin, a plurality of phosphors diffused in the transparent resin, and silica.

ここで、透明樹脂は、特に材料等限定されるものではなく、透過率や屈折率、耐光性が高いといった一般的なLEDパッケージに望まれる特性を満たしておればよい。このような透明樹脂としては、シリコーン樹脂がよく知られている。場合によっては、耐光性が劣るもののコストの面が有利なエポキシ樹脂も用いられる。   Here, the transparent resin is not particularly limited to materials and the like, and it is only necessary to satisfy characteristics desired for a general LED package such as high transmittance, refractive index, and light resistance. Silicone resins are well known as such transparent resins. Depending on the case, an epoxy resin which is inferior in light resistance but advantageous in cost is also used.

ただし、透明樹脂中の帯電粒子濃度は電気泳動の移動速度に大きく影響するため、できるだけ大きいものがよい。帯電粒子濃度の指標としてたとえばpH値を考慮してやればよい。ただし、pH値によっては、電気泳動時に蛍光体に働く力の方向変わるので、発生させる電界に応じて、狙いのpH値を決定してやるか、透明樹脂のpH値に合わせて印加電圧の正負を決定することが必要である。   However, since the charged particle concentration in the transparent resin greatly affects the migration speed of electrophoresis, it should be as large as possible. For example, the pH value may be considered as an index of the charged particle concentration. However, depending on the pH value, the direction of the force acting on the phosphor during electrophoresis changes, so the target pH value is determined according to the electric field to be generated, or the polarity of the applied voltage is determined according to the pH value of the transparent resin. It is necessary to.

蛍光体樹脂62には、前述したように、蛍光体と透明樹脂に加えて、シリカを添加してやることが望ましい。シリカを添加することで、蛍光体樹脂62の粘度が高くなるため、蛍光体樹脂塗布装置内や、基板へ塗布した後の蛍光体樹脂62内で蛍光体の自然沈降を抑えることができる。これにより、時間経過による蛍光体の濃度や分布のばらつきを抑えることができる。しかし、シリカを添加しすぎると粘度が高くなりすぎるため、蛍光体樹脂62の塗布そのものができなくなる。さらに、電界により蛍光体に働く力よりも粘性抵抗が高くなってしまうと電気泳動が起こらなくなるおそれがある。このため、シリカは蛍光体がちょうど自然沈降しない程度の添加量にとどめておくことが望ましい。   As described above, it is desirable to add silica to the phosphor resin 62 in addition to the phosphor and the transparent resin. By adding silica, the viscosity of the phosphor resin 62 increases, so that the natural sedimentation of the phosphor can be suppressed in the phosphor resin coating apparatus or in the phosphor resin 62 after being applied to the substrate. Thereby, the dispersion | variation in the density | concentration of phosphor and distribution over time can be suppressed. However, if the silica is added too much, the viscosity becomes too high, so that the phosphor resin 62 cannot be applied itself. Furthermore, if the viscous resistance becomes higher than the force acting on the phosphor due to the electric field, there is a risk that electrophoresis will not occur. For this reason, it is desirable to keep the addition amount of silica to such an extent that the phosphor does not settle naturally.

蛍光体が自然沈降しない程度に蛍光体樹脂62の粘度を調整することにより、蛍光体樹脂62をインクジェット装置で基板に吹き付ける際に、塗布ノズルに蛍光体樹脂62がつまることを抑制することができる。さらに、インクジェット装置の塗布容器内における蛍光体濃度分布を均一な状態に長時間維持することでき、蛍光体樹脂62を塗布する過程において、塗布はじめの蛍光体の濃度と塗布終了時の蛍光体の濃度とにばらつきが生じることを抑制することができる。これにより、作成されるLEDパッケージ10毎の色むらを小さくすることができる。   By adjusting the viscosity of the phosphor resin 62 to such an extent that the phosphor does not spontaneously settle, it is possible to prevent the phosphor resin 62 from clogging the coating nozzle when the phosphor resin 62 is sprayed onto the substrate with an inkjet device. . Further, the phosphor concentration distribution in the coating container of the ink jet apparatus can be maintained in a uniform state for a long time, and in the process of applying the phosphor resin 62, the concentration of the phosphor at the beginning of the application and the phosphor concentration at the end of the application. It is possible to suppress variation in density. Thereby, the color nonuniformity for every LED package 10 produced can be made small.

シリコーン樹脂のような透明樹脂中には、正負それぞれの電荷をもった荷電粒子が均一に分散している。このなかに、たとえば正電荷に帯電した蛍光体粒子を混合すると、図17に示したように、透明樹脂中の負電荷をもった荷電粒子が蛍光体に引き寄せられ、蛍光体粒子の周りが負電荷の荷電粒子でコーティングされ、いわゆる電気2重層を形成する。このような状態の蛍光体は負電荷をもったひとつの粒子のように考えることができる。   In a transparent resin such as a silicone resin, charged particles having positive and negative charges are uniformly dispersed. For example, when phosphor particles charged to a positive charge are mixed, charged particles having a negative charge in the transparent resin are attracted to the phosphor as shown in FIG. 17, and the periphery of the phosphor particles is negative. It is coated with charged particles of charge to form a so-called electric double layer. The phosphor in such a state can be considered as one particle having a negative charge.

すなわち、図17に示すように正および負電極に挟まれた空間に、蛍光体樹脂62を塗布し、電圧を印加し、電界を発生させると、各荷電粒子に電界による力が発生し、電気泳動が起こる。このとき、電気2重層を形成した蛍光体は負電荷をもつので、結果正極側に向かって移動する。   That is, as shown in FIG. 17, when a phosphor resin 62 is applied to a space between positive and negative electrodes and a voltage is applied to generate an electric field, a force due to the electric field is generated in each charged particle, Electrophoresis occurs. At this time, since the phosphor having the electric double layer has a negative charge, it moves toward the positive electrode as a result.

ここで、蛍光体樹脂62内に電界を発生させる方法として、たとえば、第1電極12上にLEDチップ15を実装して、第1電極12と第2電極13との間に電圧を印加する方法が考えられる。当該方法においては、LEDチップ15は、第1電極12および第2電極13に電気的に既に接続されているので、第1電極12および第2電極13の間には、3.5V程度までしか印加することができない。この程度の電位差では、発生する電界の強度は微弱であり、電界により蛍光体に発生する力も小さい。これでは、蛍光体樹脂62の粘度が高いと蛍光体が動かず、低いと重力による影響の方が大きくなり蛍光体が自然沈降するだけとなる。仮に粘度を調整したとしても、電気泳動による蛍光体の移動速度は小さく、タクトが長くなってしまい、生産性が悪い。したがって、本実施の形態に係るLEDパッケージの製造方法のように、電界を発生させるために電圧を印加する電極間は、LEDチップなどの素子や電極パターンによって結線させずに独立させておくことがのぞましい。   Here, as a method for generating an electric field in the phosphor resin 62, for example, a method in which the LED chip 15 is mounted on the first electrode 12 and a voltage is applied between the first electrode 12 and the second electrode 13. Can be considered. In this method, since the LED chip 15 is already electrically connected to the first electrode 12 and the second electrode 13, only about 3.5 V is applied between the first electrode 12 and the second electrode 13. Can not do it. With such a potential difference, the intensity of the generated electric field is weak, and the force generated in the phosphor by the electric field is also small. In this case, when the viscosity of the phosphor resin 62 is high, the phosphor does not move. When the viscosity is low, the influence of gravity increases, and the phosphor only settles naturally. Even if the viscosity is adjusted, the moving speed of the phosphor by electrophoresis is low, the tact is long, and the productivity is poor. Therefore, as in the LED package manufacturing method according to the present embodiment, the electrodes to which a voltage is applied in order to generate an electric field may be made independent without being connected by an element such as an LED chip or an electrode pattern. It is not good.

図18は、電気遊動が完了した状態を示す平面図であり、図19は、図18に示すXIX−XIX線における断面図である。   18 is a plan view showing a state in which the electric movement is completed, and FIG. 19 is a cross-sectional view taken along line XIX-XIX shown in FIG.

図18に示すように、接続部51の上面上に波長変換層17が形成される。ここで、図15および図16に示すように、円弧部12aおよび円弧部13aは、LEDチップ15および実装部14aの周囲を取り囲むように形成されているため、LEDチップ15の周辺の電界分布が均一となる。LEDチップ15の周辺の電界分布が均一な状態で、蛍光体が電気遊動するため、図19に示すように、蛍光体が均等に実装部14aの周囲に集まり、半球状の波長変換層17が形成される。   As shown in FIG. 18, the wavelength conversion layer 17 is formed on the upper surface of the connection portion 51. Here, as shown in FIGS. 15 and 16, the arc portion 12a and the arc portion 13a are formed so as to surround the periphery of the LED chip 15 and the mounting portion 14a. It becomes uniform. Since the phosphor is electromoved in a state where the electric field distribution around the LED chip 15 is uniform, as shown in FIG. 19, the phosphor is uniformly gathered around the mounting portion 14a, and the hemispherical wavelength conversion layer 17 is formed. It is formed.

その一方で、蛍光体樹脂62内の蛍光体が実装部14aの周囲に集まることで、波長変換層17の周囲には、透明樹脂層63が形成される。蛍光体樹脂62は、半球体状に形成されているため、透明樹脂層63の表面も半球体状に形成される。このように、LEDチップ15を蛍光体樹脂62で覆ったのち、電気泳動により、LEDチップ15の周りに蛍光体を集めることで蛍光体樹脂62と透明樹脂層63を同時形成できるため、工程数が低減されている。さらに、蛍光体を自然沈降させる場合と比べて、電気泳動を用いれば、印加する電圧によって蛍光体の移動速度を大きくすることができるため、波長変換層17を形成する工程時間を短くすることができる。   On the other hand, the phosphor in the phosphor resin 62 gathers around the mounting portion 14a, so that the transparent resin layer 63 is formed around the wavelength conversion layer 17. Since the phosphor resin 62 is formed in a hemispherical shape, the surface of the transparent resin layer 63 is also formed in a hemispherical shape. Thus, after covering the LED chip 15 with the phosphor resin 62 and collecting the phosphor around the LED chip 15 by electrophoresis, the phosphor resin 62 and the transparent resin layer 63 can be simultaneously formed. Has been reduced. Further, when electrophoresis is used, the moving speed of the phosphor can be increased by the applied voltage as compared with the case where the phosphor is naturally precipitated, so that the process time for forming the wavelength conversion layer 17 can be shortened. it can.

また、塗布ノズルにつまらなくかつ蛍光体が自然沈降しない程度に蛍光体樹脂の粘度を調整することで、塗布容器内での蛍光体濃度分布を均一にした状態で塗布できるので、塗布はじめと終りとのLEDパッケージ毎の色むらを小さくすることができる。   In addition, by adjusting the viscosity of the phosphor resin so that the phosphor is not boring and does not spontaneously settle, it can be applied with a uniform phosphor concentration distribution in the coating container. The color unevenness of each LED package can be reduced.

ここで、波長変換層17を形成する方法として、下記のような手法が考えられる。まず、揮発性溶剤と蛍光体を混合した溶液で満たされた容器を準備する。そして、第1電極12と、第1電極12に接続されたLEDチップ15と、第2電極13とが形成された基板を溶液に浸す。基板を溶液に浸した状態で、各電極に電圧を掛け、電気泳動により蛍光体をLEDチップ15の周りに集める。このような方法では、多数のLEDパッケージを浸すためには広い容器が必要となる。さらに、容器内の蛍光体濃度分布を均一にすることが困難であるため、蛍光体濃度分布のばらつきにより、LEDパッケージ毎に囲繞する蛍光体の量がばらついてしまう。その一方で、本実施の形態に係るLEDパッケージ10の製造方法では、LEDパッケージ毎に、決まった量の蛍光体樹脂が塗布され、この蛍光体樹脂で閉じられた系で波長変換層を形成する。このため、蛍光体量のばらつきを抑えることができ、結果、LEDパッケージ10毎の色むらを小さくすることができる。   Here, as a method of forming the wavelength conversion layer 17, the following method can be considered. First, a container filled with a mixed solution of a volatile solvent and a phosphor is prepared. Then, the substrate on which the first electrode 12, the LED chip 15 connected to the first electrode 12, and the second electrode 13 are formed is immersed in the solution. In a state where the substrate is immersed in the solution, a voltage is applied to each electrode, and the phosphor is collected around the LED chip 15 by electrophoresis. In such a method, a large container is required to immerse a large number of LED packages. Furthermore, since it is difficult to make the phosphor concentration distribution in the container uniform, the amount of phosphor that surrounds each LED package varies due to variations in the phosphor concentration distribution. On the other hand, in the manufacturing method of the LED package 10 according to the present embodiment, a predetermined amount of phosphor resin is applied to each LED package, and the wavelength conversion layer is formed in a system closed with the phosphor resin. . For this reason, the dispersion | variation in the amount of fluorescent substance can be suppressed, and as a result, the color nonuniformity for every LED package 10 can be made small.

図20は、図18および図19に示す製造工程後の工程を示す平面図であり、図21は、図20に示すXXI−XXI線における断面図である。   20 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. 18 and FIG. 19, and FIG. 21 is a cross-sectional view taken along line XXI-XXI shown in FIG.

この図20に示すように、マザー基板60をオーブンに投入して、ベークすることで、各形成領域61a〜61fには、波長変換層17の一部およびLEDチップ15を覆うように形成された封止層18が形成される。これにより、形成領域61a〜61fにLEDパッケージ10が形成されたLEDパッケージアレイ50が形成される。   As shown in FIG. 20, the mother substrate 60 is placed in an oven and baked to form a part of the wavelength conversion layer 17 and the LED chip 15 in each of the formation regions 61 a to 61 f. A sealing layer 18 is formed. Thereby, the LED package array 50 in which the LED package 10 is formed in the formation regions 61a to 61f is formed.

このように、LEDパッケージアレイ50は、複数のLEDパッケージ10が連結されたものである。   As described above, the LED package array 50 is formed by connecting a plurality of LED packages 10.

図20に示すように、LEDパッケージアレイ50は、複数の第1電極12と、複数の第2電極13と、複数の第3電極14とを備える。そして、接続配線44〜47によって、第1電極12同士と、第2電極13同士とが接続されると共に、第1電極12と第2電極13とが互いに接続されている。   As shown in FIG. 20, the LED package array 50 includes a plurality of first electrodes 12, a plurality of second electrodes 13, and a plurality of third electrodes 14. The first electrodes 12 and the second electrodes 13 are connected to each other by the connection wirings 44 to 47, and the first electrode 12 and the second electrode 13 are connected to each other.

また、接続部51の接続配線40〜42と基部43とによって、各実装部14aが接続されている。   Further, the mounting portions 14 a are connected by the connection wirings 40 to 42 of the connection portion 51 and the base portion 43.

そして、図20に示す溝部CLでLEDパッケージアレイ50を切断することで、図1に示す複数のLEDパッケージ10を得ることができる。   Then, by cutting the LED package array 50 at the groove portion CL shown in FIG. 20, a plurality of LED packages 10 shown in FIG. 1 can be obtained.

(実施の形態2)
図22から図25を用いて、本実施の形態2に係るLEDパッケージ10について説明する。なお、図22から図25に示す構成のうち、上記図1から図21に示す構成については、同一の符号を付して、その説明を省略する場合がある。
(Embodiment 2)
The LED package 10 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. Of the configurations shown in FIGS. 22 to 25, the configurations shown in FIGS. 1 to 21 may be given the same reference numerals and explanation thereof may be omitted.

図22は、本実施の形態2に係るLEDパッケージ10の断面図である。この図22に示すように、LEDパッケージ10は、基板11と、第1電極12と、第2電極13と、第3電極14と、第3電極14上に実装されたLEDチップ15と、LEDチップ15を覆うように形成された波長変換層17と、波長変換層17を覆うように主表面20に形成された封止層18とを備える。   FIG. 22 is a cross-sectional view of the LED package 10 according to the second embodiment. As shown in FIG. 22, the LED package 10 includes a substrate 11, a first electrode 12, a second electrode 13, a third electrode 14, an LED chip 15 mounted on the third electrode 14, and an LED. A wavelength conversion layer 17 formed so as to cover the chip 15 and a sealing layer 18 formed on the main surface 20 so as to cover the wavelength conversion layer 17 are provided.

図23は、図22に示すLEDパッケージ10の平面図である。この図23および図22に示すように、第3電極14は、実装部14aと、実装部14aの下面に接続され、主表面20から主表面21に達する接続部14cとを含む。   FIG. 23 is a plan view of the LED package 10 shown in FIG. As shown in FIGS. 23 and 22, third electrode 14 includes a mounting portion 14 a and a connection portion 14 c connected to the lower surface of mounting portion 14 a and reaching main surface 21 from main surface 20.

本実施の形態2に係るLEDパッケージ10においては波長変換層17は、実装部14a上に形成され、LEDチップ15を覆うように形成されている。波長変換層17は、略半球状に形成されている。   In the LED package 10 according to the second embodiment, the wavelength conversion layer 17 is formed on the mounting portion 14 a and is formed so as to cover the LED chip 15. The wavelength conversion layer 17 is formed in a substantially hemispherical shape.

このように形成されたLEDパッケージ10の製造方法について説明する。
図24は、LEDパッケージ10の製造過程を示す平面図である。この図24に示す工程では、第1電極12と、第2電極13と、第3電極14と、接続部52とがマザー基板60の主表面上に形成されており、実装部14aの上面にLEDチップ15が実装されている。接続部52の接続配線44〜46によって、第1電極12および第2電極13が接続されている。なお、本実施の形2においては、上記実施の形態1で説明した接続部51は形成されていない。
A method for manufacturing the LED package 10 thus formed will be described.
FIG. 24 is a plan view showing the manufacturing process of the LED package 10. In the process shown in FIG. 24, the first electrode 12, the second electrode 13, the third electrode 14, and the connection portion 52 are formed on the main surface of the mother substrate 60, and are formed on the upper surface of the mounting portion 14a. An LED chip 15 is mounted. The first electrode 12 and the second electrode 13 are connected by connection wirings 44 to 46 of the connection part 52. In the second embodiment, the connecting portion 51 described in the first embodiment is not formed.

各形成領域61a〜61fに蛍光体樹脂62を塗布した後、実装部14aに+の電圧を印加して、接続部52に−の電圧を印加する。なお、実装部14aに電圧を印加する際には、マザー基板60の背面に設けられた接続部14cに電圧を印加する。   After the phosphor resin 62 is applied to each of the formation regions 61a to 61f, a + voltage is applied to the mounting portion 14a, and a-voltage is applied to the connection portion 52. In addition, when applying a voltage to the mounting part 14a, a voltage is applied to the connection part 14c provided in the back surface of the mother board | substrate 60. FIG.

このように、電圧を印加することで、実装部14aと円弧部12aとの間と、実装部14aと円弧部13aとの間とに電界が生じる。   In this way, by applying a voltage, an electric field is generated between the mounting portion 14a and the arc portion 12a and between the mounting portion 14a and the arc portion 13a.

これにより、透明樹脂層63内に含まれる蛍光体が電気遊動によって、蛍光体が実装部14aの上面に集まる。これにより、実装部14aの上面に半球状の波長変換層17が形成される。   Thereby, the fluorescent substance contained in the transparent resin layer 63 is gathered on the upper surface of the mounting portion 14a by the electric movement. Thereby, the hemispherical wavelength conversion layer 17 is formed on the upper surface of the mounting portion 14a.

ここで、実装部14aは、円形形状に形成されており、実装部14aに接続される配線などは、マザー基板60の主表面上に形成されていない。さらに、本実施の形態2においても、実装部14aの周囲は、円弧部12aおよび円弧部13aによって囲まれている。このため、蛍光体は、実装部14aの上面に集中し、実装部14aの上面には、略半球形状の波長変換層17が良好に形成される。   Here, the mounting portion 14 a is formed in a circular shape, and the wiring connected to the mounting portion 14 a is not formed on the main surface of the mother substrate 60. Further, also in the second embodiment, the periphery of the mounting portion 14a is surrounded by the arc portion 12a and the arc portion 13a. For this reason, the phosphor is concentrated on the upper surface of the mounting portion 14a, and the substantially hemispherical wavelength conversion layer 17 is favorably formed on the upper surface of the mounting portion 14a.

このように、波長変換層17が形成されたマザー基板60にベークを施す。これにより、図25に示すように、LEDパッケージアレイ50が形成される。そして、このLEDパッケージアレイ50を切断することで、本実施の形態2に係るLEDパッケージ10を製作することができる。   In this manner, the mother substrate 60 on which the wavelength conversion layer 17 is formed is baked. Thereby, as shown in FIG. 25, the LED package array 50 is formed. Then, by cutting the LED package array 50, the LED package 10 according to the second embodiment can be manufactured.

なお、上記実施の形態1,2に係るLEDパッケージ10は、フェイスアップ方式であるが、方式としては、フェイスダウン方式であってもよい。   In addition, although the LED package 10 according to the first and second embodiments is a face-up method, the method may be a face-down method.

(実施の形態3)
図26から図31を用いて、本実施の形態3に係るLEDパッケージ10について説明する。なお、図26から図31に示す構成のうち、上記図1から図25に示す構成と同一または相当する構成についてはその同一の符号を付してその説明を省略する場合がある。
(Embodiment 3)
The LED package 10 according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. Of the configurations shown in FIGS. 26 to 31, configurations that are the same as or correspond to the configurations shown in FIGS. 1 to 25 may be given the same reference numerals and explanation thereof may be omitted.

図26は、本実施の形態に係るLEDパッケージ10を示す断面図であり、図27は、図26に示すLEDパッケージ10の平面図である。   FIG. 26 is a cross-sectional view showing the LED package 10 according to the present embodiment, and FIG. 27 is a plan view of the LED package 10 shown in FIG.

図26において、LEDパッケージ10は、主表面20および主表面21を含む基板11と、主表面20に形成された第3電極14と、一部が主表面20上に形成された第1電極12および第2電極13とを備える。LEDパッケージ10は、LEDチップ15と、このLEDチップ15を覆うように形成された波長変換層17と、この波長変換層17を覆うように形成された封止層18とを備える。   In FIG. 26, the LED package 10 includes a substrate 11 including a main surface 20 and a main surface 21, a third electrode 14 formed on the main surface 20, and a first electrode 12 partially formed on the main surface 20. And a second electrode 13. The LED package 10 includes an LED chip 15, a wavelength conversion layer 17 formed so as to cover the LED chip 15, and a sealing layer 18 formed so as to cover the wavelength conversion layer 17.

第1電極12は、主表面20に形成された実装部12cと、この実装部12cに接続され、主表面20から主表面21に達する接続部12dと、接続部12dに接続されると共に、主表面21に形成された背面部12eとを含む。   The first electrode 12 is connected to the mounting portion 12c formed on the main surface 20, the connecting portion 12d connected to the mounting portion 12c, reaching the main surface 21 from the main surface 20, and the connecting portion 12d. And a back surface portion 12e formed on the surface 21.

第2電極13は、主表面20に形成された実装部13cと、この実装部13cに接続され、主表面20から主表面21に達する接続部13dと、接続部13dに接続されると共に、主表面21に形成された背面部13eとを含む。   The second electrode 13 is connected to the mounting portion 13c formed on the main surface 20, the connecting portion 13d connected to the mounting portion 13c, reaching the main surface 21 from the main surface 20, and the connecting portion 13d. And a back surface portion 13e formed on the surface 21.

図27に示すように、実装部12cおよび実装部13cは、いずれも、半円形状に形成されている。実装部12cの外周縁部は、半円状の縁部と、この半円状の縁部の両端部を接続する直線部とを含む。実装部13cの外周縁部は、半円状の縁部と、この半円状の縁部の両端部を接続する直線部とを含む。   As shown in FIG. 27, both the mounting portion 12c and the mounting portion 13c are formed in a semicircular shape. The outer peripheral edge portion of the mounting portion 12c includes a semicircular edge portion and a straight portion connecting both ends of the semicircular edge portion. The outer peripheral edge portion of the mounting portion 13c includes a semicircular edge portion and a straight portion connecting both ends of the semicircular edge portion.

そして、実装部12cと、実装部13cとは互いに間隔をあけて配置されており、実装部12cの直線部と、実装部13cの直線部とが互いに対向するように、実装部12cと実装部13cとは配置されている。LEDチップ15は、実装部12c上から実装部13c上に跨るように実装されている。   The mounting portion 12c and the mounting portion 13c are arranged at a distance from each other, and the mounting portion 12c and the mounting portion are arranged such that the linear portion of the mounting portion 12c and the linear portion of the mounting portion 13c face each other. 13c is arranged. The LED chip 15 is mounted so as to straddle the mounting portion 13c from the mounting portion 12c.

図26に示すように、LEDチップ15は、アノード28とカソード29とを含み、アノード28は、実装部12cに電気的に接続されている。カソード29は、実装部13cに電気的に接続されている。   As shown in FIG. 26, the LED chip 15 includes an anode 28 and a cathode 29, and the anode 28 is electrically connected to the mounting portion 12c. The cathode 29 is electrically connected to the mounting portion 13c.

第3電極14は、主表面20に形成されている。第3電極14は、実装部12cと、実装部13cと、LEDチップ15の周囲を取り囲むように形成された環状の環状部14dと、環状部14dに接続された、引出部14eおよび引出部14fとを含む。   Third electrode 14 is formed on main surface 20. The third electrode 14 includes a mounting portion 12c, a mounting portion 13c, an annular annular portion 14d formed so as to surround the LED chip 15, and an extraction portion 14e and an extraction portion 14f connected to the annular portion 14d. Including.

なお、この図27では、波長変換層17は、省略されているが、波長変換層17はLEDチップ15を中心として半球体状に形成されている。   In FIG. 27, the wavelength conversion layer 17 is omitted, but the wavelength conversion layer 17 is formed in a hemispherical shape with the LED chip 15 as the center.

このように形成されたLEDパッケージ10の製造方法について説明する。図28は、LEDパッケージ10の製造工程の第1工程を示す平面図である。この図28に示すように、マザー基板60を準備する。マザー基板60の各形成領域61a〜61fには、各々貫通孔70と貫通孔71とが形成されている。   A method for manufacturing the LED package 10 thus formed will be described. FIG. 28 is a plan view showing a first step in the manufacturing process of the LED package 10. As shown in FIG. 28, a mother substrate 60 is prepared. A through hole 70 and a through hole 71 are formed in each of the formation regions 61 a to 61 f of the mother substrate 60.

貫通孔70および貫通孔71は、いずれも、マザー基板60の一方の主表面から他方の主表面に達するように形成されている。   Each of the through hole 70 and the through hole 71 is formed so as to reach the other main surface from one main surface of the mother substrate 60.

図29は、図28に示す製造工程後の工程を示す平面図である。この図29において、まず、マザー基板60にスパッタリングを施して、金属膜をマザー基板60の表面上に形成する。その後、溶液にマザー基板60を溶液につけて、金属膜を成長させて、図28に示す貫通孔70,71を金属膜で埋める。   FIG. 29 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. In FIG. 29, first, sputtering is performed on the mother substrate 60 to form a metal film on the surface of the mother substrate 60. Thereafter, the mother substrate 60 is attached to the solution to grow a metal film, and the through holes 70 and 71 shown in FIG. 28 are filled with the metal film.

その後、金属膜にフォトリソグラフを施して、各形成領域61a〜61fに第1電極12と、第2電極13と、第3電極14とを形成する。この際、各形成領域61a〜61fに形成された第3電極14を接続する接続部72も形成される。   Thereafter, photolithography is applied to the metal film to form the first electrode 12, the second electrode 13, and the third electrode 14 in the formation regions 61a to 61f. At this time, connection portions 72 that connect the third electrodes 14 formed in the formation regions 61a to 61f are also formed.

接続部72は、マザー基板60の一方の長辺部に形成された基部73と、この基部73から他方の長辺部に向けて延びる複数の接続配線74〜77とを含む。   The connection portion 72 includes a base portion 73 formed on one long side portion of the mother substrate 60 and a plurality of connection wirings 74 to 77 extending from the base portion 73 toward the other long side portion.

図30は、図29に示す製造工程後の工程を示す平面図である。この図30において、LEDチップ15を実装部12cおよび実装部13c上に実装して、LEDチップ15を実装部12cと実装部13cとに電気的に接続する。   30 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. In FIG. 30, the LED chip 15 is mounted on the mounting portion 12c and the mounting portion 13c, and the LED chip 15 is electrically connected to the mounting portion 12c and the mounting portion 13c.

そして、第1電極12および第2電極13に+の電圧を印加し、接続部72に−の電圧を印加する。   Then, a positive voltage is applied to the first electrode 12 and the second electrode 13, and a negative voltage is applied to the connection portion 72.

これにより、実装部12cおよび実装部13cと、環状部14dとの間に電界が形成される。ここで、環状部14dは、実装部12cおよび実装部13cの周囲を取り囲むように形成されているため、実装部12cおよび実装部13cと、環状部14dとの間に形成される電界の強度部分は、略均一となる。   Thereby, an electric field is formed between the mounting part 12c and the mounting part 13c, and the annular part 14d. Here, since the annular portion 14d is formed so as to surround the periphery of the mounting portion 12c and the mounting portion 13c, the strength portion of the electric field formed between the mounting portion 12c and the mounting portion 13c and the annular portion 14d. Is substantially uniform.

このため、LEDチップ15の周囲に蛍光体樹脂62内の蛍光体が均等に集まる。これにより、波長変換層17が半球体状に形成される。これに伴い、図31に示すように、波長変換層17を覆う透明樹脂層63が形成される。   For this reason, the phosphors in the phosphor resin 62 gather evenly around the LED chip 15. Thereby, the wavelength conversion layer 17 is formed in a hemispherical shape. Accordingly, as shown in FIG. 31, a transparent resin layer 63 covering the wavelength conversion layer 17 is formed.

そして、波長変換層17などが形成されたマザー基板60をベークすることで、透明樹脂層63が封止層18となり、LEDパッケージアレイ50が形成される。本実施の形態3に係るLEDパッケージアレイ50も、複数のLEDパッケージ10が連結された状態となっている。   Then, by baking the mother substrate 60 on which the wavelength conversion layer 17 and the like are formed, the transparent resin layer 63 becomes the sealing layer 18 and the LED package array 50 is formed. The LED package array 50 according to the third embodiment is also in a state where a plurality of LED packages 10 are connected.

このLEDパッケージアレイ50を分割することで、複数のLEDパッケージ10を作成することができる。   A plurality of LED packages 10 can be created by dividing the LED package array 50.

(実施の形態4)
図32から図38を用いて、本実施の形態4に係るLEDパッケージ10およびLEDパッケージアレイ50と、LEDパッケージ10の製造方法について説明する。なお、図32から図38に示す構成のうち、上記図1から図31に示す構成と同一または相当する構成については、同一の符号を付してその説明を省略する場合がある。
(Embodiment 4)
The LED package 10 and the LED package array 50 according to the fourth embodiment and a method for manufacturing the LED package 10 will be described with reference to FIGS. Of the configurations shown in FIGS. 32 to 38, the same or corresponding components as those shown in FIGS. 1 to 31 may be denoted by the same reference numerals and description thereof may be omitted.

図32は、本実施の形態3に係るLEDパッケージ10を示す断面図である。図33は、図32に示すLEDパッケージ10の平面図である。   FIG. 32 is a cross-sectional view showing the LED package 10 according to the third embodiment. FIG. 33 is a plan view of the LED package 10 shown in FIG.

図32および図33に示すように、LEDパッケージ10は、主表面20および主表面21を含む基板11と、基板11の表面に形成された第1電極12と、基板11の表面上に形成された第2電極13と、基板11の主表面20に形成された第3電極14と、基板11の主表面20に形成された第4電極82と、主表面20に形成された第5電極83とを備える。   As shown in FIGS. 32 and 33, the LED package 10 is formed on the substrate 11 including the main surface 20 and the main surface 21, the first electrode 12 formed on the surface of the substrate 11, and the surface of the substrate 11. The second electrode 13, the third electrode 14 formed on the main surface 20 of the substrate 11, the fourth electrode 82 formed on the main surface 20 of the substrate 11, and the fifth electrode 83 formed on the main surface 20. With.

LEDパッケージ10は、第3電極14の上面上に実装されたLEDチップ15と、このLEDチップ15を覆うように形成された波長変換層17と、この波長変換層17を覆うように形成された封止層18とを備える。   The LED package 10 is formed so as to cover the LED chip 15 mounted on the upper surface of the third electrode 14, the wavelength conversion layer 17 formed so as to cover the LED chip 15, and the wavelength conversion layer 17. And a sealing layer 18.

第1電極12と、第2電極13と、第3電極14と、第4電極82と、第5電極83とは、いずれも、電気的に接続されていない。第1電極12と、LEDチップ15のアノードは、金ワイヤ16aによって接続されており、第2電極13とLEDチップ15のカソードとは、金ワイヤ16bによって接続されている。   None of the first electrode 12, the second electrode 13, the third electrode 14, the fourth electrode 82, and the fifth electrode 83 are electrically connected. The first electrode 12 and the anode of the LED chip 15 are connected by a gold wire 16a, and the second electrode 13 and the cathode of the LED chip 15 are connected by a gold wire 16b.

第3電極14は、LEDチップ15が実装される実装部14aと、この実装部14aに接続された引出部14bとを含む。実装部14aは、円形状に形成されており、引出部14bは、基板11の一方の辺部22から辺部23に亘って形成されている。   The third electrode 14 includes a mounting portion 14a on which the LED chip 15 is mounted and a lead-out portion 14b connected to the mounting portion 14a. The mounting portion 14 a is formed in a circular shape, and the lead-out portion 14 b is formed from one side portion 22 to the side portion 23 of the substrate 11.

第4電極82は、第3電極14と隣り合うように配置されており、第4電極82は、実装部14aの周囲を取り囲むように形成された円弧状の円弧部84と、円弧部84に接続された引出部85とを含む。   The fourth electrode 82 is disposed adjacent to the third electrode 14, and the fourth electrode 82 includes an arcuate arc portion 84 formed so as to surround the periphery of the mounting portion 14 a, and an arc portion 84. And a connected drawer portion 85.

第5電極83は、第3電極14に対して第4電極82と反対側に配置されている。第5電極83は、実装部14aの周囲を取り囲むように形成された円弧部87と、この円弧部87に接続された引出部86とを含む。ここで、第4電極82の円弧部84と、第5電極83の円弧部87とによって、実装部14aの周囲の略全周が取り囲まれるように形成されている。   The fifth electrode 83 is disposed on the opposite side to the fourth electrode 82 with respect to the third electrode 14. The fifth electrode 83 includes an arc portion 87 formed so as to surround the periphery of the mounting portion 14 a and a lead-out portion 86 connected to the arc portion 87. Here, the arc portion 84 of the fourth electrode 82 and the arc portion 87 of the fifth electrode 83 are formed so as to surround substantially the entire circumference of the mounting portion 14a.

第1電極12は、第4電極82に対して第3電極14と反対側に配置されており、第2電極13は、第5電極83に対して第3電極14と反対側に配置されている。封止層18は、LEDチップ15と、実装部14aと、円弧部84と、円弧部87とを覆うと共に、引出部14bの少なくとも一部と、引出部85の少なくとも一部とを覆うように形成されている。   The first electrode 12 is disposed on the opposite side of the third electrode 14 with respect to the fourth electrode 82, and the second electrode 13 is disposed on the opposite side of the third electrode 14 with respect to the fifth electrode 83. Yes. The sealing layer 18 covers the LED chip 15, the mounting part 14 a, the arc part 84, and the arc part 87, and covers at least a part of the lead part 14 b and at least a part of the lead part 85. Is formed.

波長変換層17は、第3電極14の上面のうち、封止層18によって覆われた部分に形成されている。波長変換層17のうち、実装部14a上に形成された部分は、略半球状に形成されている。   The wavelength conversion layer 17 is formed on a portion of the upper surface of the third electrode 14 that is covered with the sealing layer 18. A portion of the wavelength conversion layer 17 formed on the mounting portion 14a is formed in a substantially hemispherical shape.

このように、本実施の形態4に係るLEDパッケージ10においても、波長変換層17のうち、LEDチップ15を覆う部分が半球状に形成されているため、上記実施の形態1に係るLEDパッケージ10と同様の効果を得ることができる。   Thus, also in the LED package 10 according to the fourth embodiment, the portion of the wavelength conversion layer 17 that covers the LED chip 15 is formed in a hemispherical shape, and thus the LED package 10 according to the first embodiment. The same effect can be obtained.

上記のように形成されたLEDパッケージ10の製造方法について説明する。
図34は、本実施の形態4に係るLEDパッケージ10の製造工程の第1工程を示す平面図である。この図34に示すように、複数の穴部90および穴部91が形成されたマザー基板60を準備する。
A method for manufacturing the LED package 10 formed as described above will be described.
FIG. 34 is a plan view showing a first step in the manufacturing process of LED package 10 according to the fourth embodiment. As shown in FIG. 34, a mother substrate 60 in which a plurality of holes 90 and holes 91 are formed is prepared.

図35は、図34に示す製造工程後の工程を示す平面図である。この図35において、マザー基板60の表面にスパッタリングによって、金属膜を形成する。その後、スパッタリングが施されたマザー基板60を溶液につけて、金属膜を成長させる。これにより、図34に示す穴部90および穴部91が金属膜によって埋められる。   FIG. 35 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. In FIG. 35, a metal film is formed on the surface of the mother substrate 60 by sputtering. Thereafter, the mother substrate 60 on which the sputtering has been performed is attached to the solution to grow a metal film. Thereby, the hole 90 and the hole 91 shown in FIG. 34 are filled with the metal film.

その後、このマザー基板60にエッチングを施して、マザー基板60の主表面上に92第1電極12と、第2電極13と、第3電極14と、第4電極82と、第5電極83と、接続部92と、接続部93とを形成する。   Thereafter, the mother substrate 60 is etched, and the 92 first electrode 12, the second electrode 13, the third electrode 14, the fourth electrode 82, and the fifth electrode 83 are formed on the main surface of the mother substrate 60. The connection part 92 and the connection part 93 are formed.

なお、マザー基板60の主表面は、複数の形成領域61a、形成領域61b、形成領域61dおよび形成領域61eを含み、各形成領域に、第1電極12と、第2電極13と、第3電極14と、第4電極82と、第5電極83とが形成される。   The main surface of the mother substrate 60 includes a plurality of forming regions 61a, forming regions 61b, forming regions 61d, and forming regions 61e. In each forming region, the first electrode 12, the second electrode 13, and the third electrode 14, the fourth electrode 82, and the fifth electrode 83 are formed.

ここで、形成領域61aに形成された第3電極14と、第4電極82と、第5電極83とは、形成領域61bに形成された第3電極14と、第4電極82と、第5電極83とにそれぞれ接続されている。   Here, the third electrode 14, the fourth electrode 82, and the fifth electrode 83 formed in the formation region 61a are the third electrode 14, the fourth electrode 82, and the fifth electrode 83 that are formed in the formation region 61b. Each is connected to the electrode 83.

また、形成領域61bに形成された第3電極14と第4電極82と第5電極83とは、形成領域61eに形成された第3電極14と第4電極82と第5電極83とにそれぞれ接続されている。そして、各形成領域に形成された第3電極14は、接続部92に接続されており、引出部85および引出部86は、接続部93に接続されている。   Further, the third electrode 14, the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83 formed in the formation region 61b are respectively connected to the third electrode 14, the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83 formed in the formation region 61e. It is connected. The third electrode 14 formed in each formation region is connected to the connection portion 92, and the extraction portion 85 and the extraction portion 86 are connected to the connection portion 93.

なお、形成領域61aに形成された第2電極13と、形成領域61bに形成された第1電極12とが接続されており、形成領域61dに形成された第2電極13と、形成領域61eに形成された第1電極12とが一体的に接続されている。   Note that the second electrode 13 formed in the formation region 61a and the first electrode 12 formed in the formation region 61b are connected, and the second electrode 13 formed in the formation region 61d and the formation region 61e are connected to each other. The formed first electrode 12 is integrally connected.

図36は、図35に示す製造工程後の工程を示す平面図である。この図36に示すように、LEDチップ15を、各形成領域に形成された実装部14a上にLEDチップ15を実装する。   FIG. 36 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. As shown in FIG. 36, the LED chip 15 is mounted on the mounting portion 14a formed in each formation region.

その後、LEDチップ15に金ワイヤ16aおよび金ワイヤ16bを接続する。そして、LEDチップ15のアノードと第1電極12とを接続し、LEDチップ15のカソードと第2電極13とを接続する。   Thereafter, the gold wire 16 a and the gold wire 16 b are connected to the LED chip 15. Then, the anode of the LED chip 15 and the first electrode 12 are connected, and the cathode of the LED chip 15 and the second electrode 13 are connected.

図37は、図36に示す製造工程後の製造工程を示す平面図である。この図37に示すように、実装部14aと、円弧部84と、円弧部87とを覆うように、蛍光体樹脂62を塗布する。   FIG. 37 is a plan view showing a manufacturing step after the manufacturing step shown in FIG. As shown in FIG. 37, the phosphor resin 62 is applied so as to cover the mounting portion 14a, the arc portion 84, and the arc portion 87.

この際、引出部14bの少なくとも一部と、引出部85の少なくとも一部と、引出部86の少なくとも一部とは、蛍光体樹脂62によって覆われる。なお、蛍光体樹脂62を塗布する前に、マザー基板60の主表面上に撥液膜を形成してもよい。具体的には、マザー基板60の主表面上に撥液膜を形成して、この撥液膜にパターニングを施す。   At this time, at least a part of the lead part 14 b, at least a part of the lead part 85, and at least a part of the lead part 86 are covered with the phosphor resin 62. Note that a liquid repellent film may be formed on the main surface of the mother substrate 60 before the phosphor resin 62 is applied. Specifically, a liquid repellent film is formed on the main surface of the mother substrate 60, and the liquid repellent film is patterned.

これにより、マザー基板60のうち、蛍光体樹脂62が塗布される領域が撥液膜から露出する。このような撥液膜を形成した後に、蛍光体樹脂62を塗布するようにしてもよい。   As a result, a region of the mother substrate 60 to which the phosphor resin 62 is applied is exposed from the liquid repellent film. After forming such a liquid repellent film, the phosphor resin 62 may be applied.

図38は、図37に示す製造工程後の工程を示す平面図である。この図38において、第3電極14に+の電圧を印加し、第4電極82および第5電極83に−の電圧を印加する。この際、第3電極14と、第4電極82および第5電極83とは、LEDチップ15と電気的に接続されていない。このため、第4電極82および第5電極83に電圧を印加したとしても、LEDチップ15に電圧が印加されない。   FIG. 38 is a plan view showing a step after the manufacturing step shown in FIG. In FIG. 38, a positive voltage is applied to the third electrode 14, and a negative voltage is applied to the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83. At this time, the third electrode 14, the fourth electrode 82, and the fifth electrode 83 are not electrically connected to the LED chip 15. For this reason, even if a voltage is applied to the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83, no voltage is applied to the LED chip 15.

したがって、第4電極82および第5電極83に大きな電圧を印加したとしても、LEDチップ15が損傷するおそれを抑制することができる。このため、第4電極82および第5電極83に大きな電圧を印加することで、短時間で蛍光体樹脂62内の蛍光体をLEDチップ15の周囲に形成することができる。   Therefore, even if a large voltage is applied to the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83, the possibility of damaging the LED chip 15 can be suppressed. For this reason, the phosphor in the phosphor resin 62 can be formed around the LED chip 15 in a short time by applying a large voltage to the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83.

この際、LEDチップ15は、実装部14a上に実装されており、円弧部84および円弧部87は、LEDチップ15aの周囲を取り囲むように形成されている。特に、本実施の形態4に係る例においては、円弧部84および円弧部87は、いずれも、実装部14aを中心として円弧状に形成されている。   At this time, the LED chip 15 is mounted on the mounting portion 14a, and the arc portion 84 and the arc portion 87 are formed so as to surround the LED chip 15a. In particular, in the example according to the fourth embodiment, each of the arc portion 84 and the arc portion 87 is formed in an arc shape with the mounting portion 14a as the center.

このため、実装部14aと円弧部84との間と、実装部14aと円弧部87との間とに形成される電界強度は、略均一に分布する。このため、蛍光体樹脂62内に含まれる蛍光体が実装部14aの上面に均等に形成される。これに伴い、LEDチップ15を覆うように半球状の波長変換層17が形成される。この際、波長変換層17は、実装部14aの上面のみならず、引出部14bの上面上にも形成される。   For this reason, the electric field strength formed between the mounting portion 14a and the arc portion 84 and between the mounting portion 14a and the arc portion 87 is distributed substantially uniformly. For this reason, the phosphor contained in the phosphor resin 62 is evenly formed on the upper surface of the mounting portion 14a. Accordingly, a hemispherical wavelength conversion layer 17 is formed so as to cover the LED chip 15. At this time, the wavelength conversion layer 17 is formed not only on the upper surface of the mounting portion 14a but also on the upper surface of the lead portion 14b.

また、蛍光体樹脂62内の蛍光体が実装部14a上などに集まることで、透明樹脂層63が波長変換層17を覆うように形成される。   Further, the phosphor in the phosphor resin 62 gathers on the mounting portion 14 a or the like, so that the transparent resin layer 63 is formed so as to cover the wavelength conversion layer 17.

そして、透明樹脂層63が形成されたマザー基板60をオーブンで加熱することで、透明樹脂層63がベークされて、封止層18が形成される。   Then, the mother substrate 60 on which the transparent resin layer 63 is formed is heated in an oven, whereby the transparent resin layer 63 is baked and the sealing layer 18 is formed.

これにより、各形成領域にLEDパッケージ10が形成されたLEDパッケージアレイ50を得ることができる。   Thereby, the LED package array 50 in which the LED package 10 is formed in each formation region can be obtained.

なお、このLEDパッケージアレイ50は、接続部93と、接続部92とを含み、接続部93には、第4電極82および第5電極83が接続され、接続部92には、第3電極14が接続されている。   The LED package array 50 includes a connection portion 93 and a connection portion 92, and the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83 are connected to the connection portion 93, and the third electrode 14 is connected to the connection portion 92. Is connected.

そして、第4電極82と、第5電極83とは、櫛歯状に形成されており、第3電極14も櫛歯状に形成されている。第4電極82および第5電極83の間に第3電極14が挿入されており、第4電極82と第3電極14と第5電極83とは交互に配置されている。   The fourth electrode 82 and the fifth electrode 83 are formed in a comb shape, and the third electrode 14 is also formed in a comb shape. The third electrode 14 is inserted between the fourth electrode 82 and the fifth electrode 83, and the fourth electrode 82, the third electrode 14, and the fifth electrode 83 are alternately arranged.

このように、透明樹脂層63が形成されたマザー基板60を、各形成領域ごとに分割することで、本実施の形態4に係るLEDパッケージ10を得ることができる。   Thus, the LED package 10 according to the fourth embodiment can be obtained by dividing the mother substrate 60 on which the transparent resin layer 63 is formed for each formation region.

なお、上記実施の形態1〜4の例においては、電極上にLEDチップ15を実装して、当該電極に電圧を印加することで、LEDチップ15を覆うように波長変換層17を形成しているが、波長変換層17を形成する際にLEDチップ15が当該電極上に配置されていることは必須ではない。   In the examples of the first to fourth embodiments, the LED chip 15 is mounted on the electrode, and the wavelength conversion layer 17 is formed so as to cover the LED chip 15 by applying a voltage to the electrode. However, it is not essential that the LED chip 15 be disposed on the electrode when the wavelength conversion layer 17 is formed.

たとえば、蛍光体を電気遊動させるために用いる電極と隣り合うようにLEDチップ15を配置するようにしてもよい。この場合においても、電気遊動によって蛍光体が電極の周囲に集まる。この際、蛍光体がLEDチップ15を覆うように集まることで、LEDチップ15を覆うように波長変換層17が形成される。   For example, you may make it arrange | position LED chip 15 so that the electrode used in order to make a fluorescent substance electrically move may be adjacent. Even in this case, the phosphors gather around the electrodes due to the electric migration. At this time, the wavelength conversion layer 17 is formed so as to cover the LED chip 15 by collecting the phosphors so as to cover the LED chip 15.

すなわち、本発明においては、蛍光体を集めるための電極を準備して、当該電極に電圧を印加することで、波長変換層を形成するようにしている。   That is, in the present invention, an electrode for collecting phosphors is prepared, and a wavelength conversion layer is formed by applying a voltage to the electrode.

図39および図40を用いて、本発明の実施例1について説明する。図39に示すように、配線シート80に銅配線81(銅箔厚さ35um、配線ピッチ1.5mm、配線幅0.55mm)の櫛歯パターンを作成する。その後、パターン上に蛍光体樹脂を塗布し、ガラス板で挟みこんだのち、図40に示すように、銅配線81が交互に正極と負極となるように1000Vの電圧を印加したところ、正極側に蛍光体が集まった。この結果から、本検証実験で用いた蛍光体粒子は負電荷が帯電していると確認できる。   A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 39 and 40. FIG. As shown in FIG. 39, a comb-tooth pattern of copper wiring 81 (copper foil thickness 35um, wiring pitch 1.5mm, wiring width 0.55mm) is created on the wiring sheet 80. Then, after applying a phosphor resin on the pattern and sandwiching it with a glass plate, as shown in FIG. 40, when a voltage of 1000 V was applied so that the copper wiring 81 alternately became a positive electrode and a negative electrode, The phosphors gathered. From this result, it can be confirmed that the phosphor particles used in this verification experiment are negatively charged.

図6などを用いて、実施例2に係るLEDパッケージ10の製造方法について説明する。図6に示すように、マザー基板60は平板状に成型したアルミナセラミックを準備する。さらに、基板成型時に図6に示した一点鎖線の位置に溝を形成しておくことで、後工程での分断が容易に行えるようにしておいた。   A method for manufacturing the LED package 10 according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 6, the mother substrate 60 prepares alumina ceramic molded into a flat plate shape. Further, by forming a groove at the position of the alternate long and short dash line shown in FIG. 6 when the substrate is molded, it is possible to easily perform division in a subsequent process.

ここで、アルミナセラミックの厚みは1mmで、溝は1パッケージあたり角5mmとなるように形成した。   Here, the thickness of the alumina ceramic was 1 mm, and the grooves were formed to have a square of 5 mm per package.

次に、図7に示すように、第1電極12と、第2電極13と、第3電極14などをAu厚膜印刷により電極パターンを形成した。Au厚膜は35umとした。また、LEDパッケージの電極パターンは、第1電極12の円弧部12aと、第2電極13の円弧部13aとが内径3mm、幅25um、基板中央を中心とした円弧状となるように形成した。さらに、第3電極14の実装部14aが直径2mm、基板中央を中心とした円形状となるように形成した。さらに、第1電極12と第2電極13とがそれぞれが結線され、結線部がLEDパッケージアレイ上端部に来るようにし、第3電極14それぞれが結線され、結線部がLEDパッケージアレイ下端部に来るようにしている。   Next, as shown in FIG. 7, an electrode pattern was formed on the first electrode 12, the second electrode 13, the third electrode 14 and the like by Au thick film printing. The Au thick film was 35 um. Further, the electrode pattern of the LED package was formed such that the arc portion 12a of the first electrode 12 and the arc portion 13a of the second electrode 13 had an inner diameter of 3 mm, a width of 25 um, and an arc shape centered on the center of the substrate. Further, the mounting portion 14a of the third electrode 14 was formed to have a circular shape with a diameter of 2 mm and centering on the center of the substrate. Further, the first electrode 12 and the second electrode 13 are connected to each other so that the connection portion comes to the upper end portion of the LED package array, the third electrodes 14 are connected to each other, and the connection portion comes to the lower end portion of the LED package array. I am doing so.

内径が4mm、幅が0.1mmのドーナツ形状の撥液膜を形成した。この環状に形成された撥液膜から実装部14aと、円弧部12aと、円弧部13aとが露出している。   A donut-shaped liquid repellent film having an inner diameter of 4 mm and a width of 0.1 mm was formed. The mounting portion 14a, the arc portion 12a, and the arc portion 13a are exposed from the annular liquid-repellent film.

次に、φ2mmで形成した実装部14a上に、シリコーン樹脂のダイボンド剤を塗布し、図9に示すように、LEDチップ15をダイボンドした(step1)。ここで、使用したLEDチップ15は発光波長450nm、サイズは縦:1mm、横:1mm、高さ0.1mmであり、基板実装面には厚み100nmのアルミを蒸着することで反射面を形成している。   Next, a die-bonding agent of silicone resin was applied onto the mounting portion 14a formed with φ2 mm, and the LED chip 15 was die-bonded as shown in FIG. 9 (step 1). Here, the LED chip 15 used has an emission wavelength of 450 nm, a size of 1 mm in length, 1 mm in width, and 0.1 mm in height, and a reflective surface is formed on the substrate mounting surface by depositing 100 nm of aluminum. Yes.

次に、図11に示すように、直径25umの金ワイヤを用いて、第1電極12および第2電極13と、LEDチップのアノード、カソード電極とにそれぞれワイヤボンドを行い、電気的に接続した(Step2)。   Next, as shown in FIG. 11, wire bonding was performed to the first electrode 12 and the second electrode 13, and the anode and cathode electrodes of the LED chip using a gold wire having a diameter of 25 μm, and they were electrically connected. (Step2).

次に図13に示すように、蛍光体と透明樹脂とシリカを攪拌混合した蛍光体樹脂62を形成領域61a〜61fの中心に、蛍光体樹脂62が直径4mm、高さ2mmの半球になるように塗布した。ここで蛍光体はYAG蛍光体を用いており、濃度は3%とした。また、透明樹脂にはシリコーン樹脂を用いた。さらに、透明樹脂中の蛍光体が自然沈降しないようにシリカを濃度2%添加することで粘度を調整した。ここで、透明樹脂は、直径4mmの円領域よりも外に出ようとしても、基板に塗布した溌液剤によってはじかれるため、良好な半球状になる(Step3)。   Next, as shown in FIG. 13, the phosphor resin 62 obtained by stirring and mixing the phosphor, the transparent resin and the silica is formed in the center of the formation regions 61a to 61f so that the phosphor resin 62 becomes a hemisphere having a diameter of 4 mm and a height of 2 mm. It was applied to. Here, YAG phosphor was used as the phosphor, and the concentration was 3%. Moreover, silicone resin was used for transparent resin. Furthermore, the viscosity was adjusted by adding silica at a concentration of 2% so that the phosphor in the transparent resin would not spontaneously settle. Here, even if the transparent resin tries to go outside the circular region having a diameter of 4 mm, the transparent resin is repelled by the squirting agent applied to the substrate, so that it becomes a good hemisphere (Step 3).

次に、図18に示すように、第1電極12および第2電極13が正極、第3電極14が負極になるように電圧を印加することで、蛍光体を電気泳動させ、第3電極14に集めることで、LEDチップ15の周りに均一な厚みで波長変換層17を形成した(Step4)。ここで、印加電圧は1000V、印加時間は5分とした。また、電圧の印加点はLEDパッケージアレイ上端部と下端部に形成した各電極の結線部の2点である。本実施例では、LEDチップ15の外周にそって厚み0.5mmの波長変換層17が形成できた。   Next, as shown in FIG. 18, the phosphor is electrophoresed by applying a voltage so that the first electrode 12 and the second electrode 13 are positive, and the third electrode 14 is negative. Thus, the wavelength conversion layer 17 was formed with a uniform thickness around the LED chip 15 (Step 4). Here, the applied voltage was 1000 V, and the application time was 5 minutes. In addition, two voltage application points are the connection portions of the electrodes formed on the upper and lower ends of the LED package array. In this example, the wavelength conversion layer 17 having a thickness of 0.5 mm could be formed along the outer periphery of the LED chip 15.

次に、図20に示すように、LEDパッケージアレイをオーブンに投入し、透明樹脂層63を加熱硬化した。ここで、オーブンは温度150度、加熱時間5時間とした。
前記のように、製造したLEDパッケージアレイ50を基板上の溝CLにそって分断することで個片化し、LEDパッケージ10とした。
Next, as shown in FIG. 20, the LED package array was put into an oven, and the transparent resin layer 63 was heated and cured. Here, the oven was set to a temperature of 150 degrees and a heating time of 5 hours.
As described above, the manufactured LED package array 50 was divided into pieces by dividing along the grooves CL on the substrate, and the LED package 10 was obtained.

これらのLEDパッケージ10の色度ばらつきを測定した結果、CIE表色系の色度Xで±2/1000、色度Yで±5/1000と良好な結果が得られた。   As a result of measuring the chromaticity variation of these LED packages 10, good results were obtained with a chromaticity X of the CIE color system of ± 2/1000 and a chromaticity Y of ± 5/1000.

比較例Comparative example

以下では、本発明の比較例を詳細に説明する。
実施例2との相違点として、Step3では、シリカを添加せずに、蛍光体と透明樹脂のみを攪拌混合した蛍光体樹脂62をLEDパッケージ中心に、蛍光体樹脂62が直径4mm、高さ2mmの半球になるように塗布した。
Below, the comparative example of this invention is demonstrated in detail.
As a difference from the second embodiment, in Step 3, the phosphor resin 62, which is a mixture of only the phosphor and the transparent resin with stirring, is added to the center of the LED package without adding silica, and the phosphor resin 62 is 4mm in diameter and 2mm in height. It applied so that it might become a hemisphere.

次のStep4では、第1電極12、第2電極13、および第3電極14間には電圧をかけずに、蛍光体が自然沈降するまで放置することで、波長変換層17を形成した。ここで放置時間は2時間とした。本比較例では基板表面とLEDチップ15外周にそって厚み0.2mmの波長変換層17が形成できた。   In the next Step 4, the wavelength conversion layer 17 was formed by leaving the phosphors to settle naturally without applying a voltage between the first electrode 12, the second electrode 13, and the third electrode 14. Here, the standing time was 2 hours. In this comparative example, the wavelength conversion layer 17 having a thickness of 0.2 mm could be formed along the substrate surface and the outer periphery of the LED chip 15.

Step5では、LEDパッケージアレイをオーブンに投入し、透明樹脂層63を加熱硬化した。ここで、オーブンは温度150度、加熱時間5時間とした。   In Step 5, the LED package array was put into an oven, and the transparent resin layer 63 was cured by heating. Here, the oven was set to a temperature of 150 degrees and a heating time of 5 hours.

前記のように、製造したLEDパッケージアレイ50を基板上の溝CLにそって分断することで個片化し、LEDパッケージ10とした。   As described above, the manufactured LED package array 50 was divided into pieces by dividing along the grooves CL on the substrate, and the LED package 10 was obtained.

これらのLEDパッケージ10の色度ばらつきを測定した結果、CIE表色系の色度Xで±4/1000、色度Yで±15/1000と実施例1に比べて色度ばらつきがおおきかった。さらに、平均の色度を比較すると、実施例1に比べて比較例1のほうが色度Yで20/1000程度低くなっており、青みがかっていた。これは、比較例では、基板表面にも波長変換層が形成されている分、LEDチップまわりに形成された波長変換層が、実施例よりも薄いことに起因しており、比較例で実施例2と同様の色度にしようとすると、蛍光体樹脂中の蛍光体濃度を上げる必要がある。しかし、蛍光体濃度を上げると蛍光体樹脂の粘度があがり、Step4での自然沈降の時間が長くなってしまい、生産性がわるい。当然、蛍光体濃度をあげるには蛍光体の使用量を増やさなければならず、LEDパッケージのコストアップの要因になってしまう。   As a result of measuring the chromaticity variation of these LED packages 10, the chromaticity variation was larger than that of Example 1 as ± 4/1000 in chromaticity X and ± 15/1000 in chromaticity Y of the CIE color system. . Furthermore, when comparing the average chromaticity, the chromaticity Y of the comparative example 1 was about 20/1000 lower than that of the example 1, and the color was bluish. This is because in the comparative example, the wavelength conversion layer formed around the LED chip is thinner than the example because the wavelength conversion layer is also formed on the substrate surface. In order to achieve the same chromaticity as 2, it is necessary to increase the phosphor concentration in the phosphor resin. However, when the phosphor concentration is increased, the viscosity of the phosphor resin increases, and the natural sedimentation time in Step 4 becomes longer, resulting in poor productivity. Naturally, in order to increase the phosphor concentration, the amount of phosphor used must be increased, which increases the cost of the LED package.

なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。   In addition, the said embodiment disclosed this time is an illustration in all the points, Comprising: It is not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and includes all modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

11 基板、12 第1電極、12a,13a 円弧部、12b,13b,14b,14e,14f 引出部、12c,13c,14a 実装部、12d,13d,14c,51,52,72 接続部、12e,13e 背面部、13 第2電極、14 第3電極、14d 環状部、15 LEDチップ、16a,16b 金ワイヤ、17 波長変換層、18 封止層、20,21 主表面、22〜25 辺部、26 本体、26a 発光層、27 反射部、28 アノード、29 カソード、30 ダイボンド剤、31 撥液膜、35um 厚さ、40,41,42,44,45,46,47,74〜77 接続配線、43,48,73 基部、50 パッケージアレイ、60 マザー基板、61a〜61f 形成領域、62 蛍光体樹脂、63 透明樹脂層、70,71 貫通孔、80 配線シート、81 銅配線。   11 Substrate, 12 First electrode, 12a, 13a Arc part, 12b, 13b, 14b, 14e, 14f Lead part, 12c, 13c, 14a Mounting part, 12d, 13d, 14c, 51, 52, 72 Connection part, 12e, 13e Back part, 13 2nd electrode, 14 3rd electrode, 14d Annular part, 15 LED chip, 16a, 16b Gold wire, 17 Wavelength conversion layer, 18 Sealing layer, 20, 21 Main surface, 22-25 Side part, 26 Main body, 26a Light emitting layer, 27 Reflector, 28 Anode, 29 Cathode, 30 Die bond agent, 31 Liquid repellent film, 35 um thickness, 40, 41, 42, 44, 45, 46, 47, 74-77 Connection wiring, 43, 48, 73 Base, 50 package array, 60 mother substrate, 61a to 61f formation region, 62 phosphor resin, 63 transparent resin layer, 70, First through hole, 80 wiring sheet, 81 copper wire.

Claims (20)

厚さ方向に配列する第1主表面と第2主表面とを含む基板と、
アノードおよびカソードを含み、前記第1主表面に設けられると共に、第1波長域の光を発光する発光素子と
前記発光素子を覆うように形成され、前記第1波長域の光によって励起して第2波長域の光を発光する波長変換層と、
前記波長変換層を覆うように形成された封止層と、
前記アノードに接続され、前記第1主表面に設けられた第1電極と、
前記カソードに接続され、前記第1主表面に設けられた第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極とは電気的に接続されていない第3電極と、
を備え、
前記第1電極の少なくとも一部と前記第2電極の少なくとも一部と前記第3電極の少なくとも一部と前記発光素子とが前記封止層に覆われた、発光パッケージ。
A substrate including a first main surface and a second main surface arranged in a thickness direction;
A light emitting element that includes an anode and a cathode, is provided on the first main surface, emits light in a first wavelength range, and covers the light emitting element, and is excited by the light in the first wavelength range; A wavelength conversion layer that emits light in two wavelength ranges;
A sealing layer formed to cover the wavelength conversion layer;
A first electrode connected to the anode and provided on the first main surface;
A second electrode connected to the cathode and provided on the first main surface;
A third electrode in which the first electrode and the second electrode are not electrically connected;
With
A light emitting package in which at least a part of the first electrode, at least a part of the second electrode, at least a part of the third electrode, and the light emitting element are covered with the sealing layer.
前記発光素子は、前記第1電極と前記第2電極と前記第3電極との少なくとも1つの電極上に実装された、請求項1に記載の発光パッケージ。   The light emitting package according to claim 1, wherein the light emitting element is mounted on at least one of the first electrode, the second electrode, and the third electrode. 前記第1電極と前記第2電極と前記第3電極とのうち、前記発光素子が実装されていない電極は、前記発光素子の周囲を取り囲むように配置された、請求項2に記載の発光パッケージ。   3. The light emitting package according to claim 2, wherein among the first electrode, the second electrode, and the third electrode, an electrode on which the light emitting element is not mounted is disposed so as to surround the periphery of the light emitting element. . 前記発光素子は、前記第3電極に実装され、
前記第1電極および前記第2電極で前記発光素子の周囲を取り囲むように設けられた、請求項3に記載の発光パッケージ。
The light emitting element is mounted on the third electrode,
The light emitting package according to claim 3, wherein the first electrode and the second electrode are provided so as to surround the periphery of the light emitting element.
前記第3電極は、前記発光素子が実装される実装部と、前記実装部に接続され、前記第1主表面から第2主表面に達する接続部とを含む、請求項4に記載の発光パッケージ。   5. The light emitting package according to claim 4, wherein the third electrode includes a mounting portion on which the light emitting element is mounted and a connection portion connected to the mounting portion and reaching the second main surface from the first main surface. . 前記発光素子は、前記第1電極と前記第2電極とに跨るように実装され、
前記第3電極は、前記発光素子の周囲を環状に取り囲むように設けられた、請求項1から請求項3のいずれかに記載の発光パッケージ。
The light emitting element is mounted so as to straddle the first electrode and the second electrode,
The light emitting package according to any one of claims 1 to 3, wherein the third electrode is provided so as to surround the light emitting element in a ring shape.
前記発光素子は、実装面に設けられた反射部を含む、請求項1から請求項6のいずれかに記載の発光パッケージ。   The light emitting package according to claim 1, wherein the light emitting element includes a reflective portion provided on a mounting surface. 前記発光素子は、前記第1電極と前記第2電極と前記第3電極との少なくとも1つの電極上に実装され、
前記発光素子が実装された電極は、高反射率金属で形成され、
前記高反射率金属の前記第1波長域の光の反射率は、金の前記第1波長域の光を反射する反射率よりも高い、請求項1から請求項7のいずれかに記載の発光パッケージ。
The light emitting element is mounted on at least one of the first electrode, the second electrode, and the third electrode,
The electrode on which the light emitting element is mounted is formed of a highly reflective metal,
The light emission according to any one of claims 1 to 7, wherein a reflectance of light in the first wavelength region of the high reflectance metal is higher than a reflectance of gold reflecting light in the first wavelength region. package.
前記発光素子は、LEDチップである、請求項1から請求項8のいずれかに記載の発光パッケージ。   The light emitting package according to claim 1, wherein the light emitting element is an LED chip. 前記波長変換層は、前記発光素子を中心として半球状に形成されており、前記封止層は、前記発光素子を中心として半球状に形成された、請求項1から請求項9のいずれかに記載の発光パッケージ。   The wavelength conversion layer is formed in a hemispherical shape with the light emitting element as a center, and the sealing layer is formed in a hemispherical shape with the light emitting element as a center. The light emitting package described. 厚さ方向に配列する複数の第1主表面および第2主表面とを含む基板と、
アノードおよびカソードを含み、前記第1主表面に設けられると共に、第1波長域の光を発光する発光素子と、
前記アノードが接続された第1電極と、
前記カソードが接続された第2電極と、
前記第1電極および前記第2電極に電気的に接続されず、前記発光素子が実装された第3電極と、
前記第1電極、第2電極および第3電極に電気的に接続されていない第4電極と、
前記発光素子を覆うように形成され、前記第1波長域の光を吸収して第2波長域の光を発光する波長変換層と、
前記第3電極の少なくとも一部と前記第4電極の少なくとも一部とを覆うように形成された封止層と、
を備えた、発光パッケージ。
A substrate including a plurality of first main surfaces and second main surfaces arranged in the thickness direction;
A light emitting element including an anode and a cathode, provided on the first main surface, and emitting light in a first wavelength range;
A first electrode to which the anode is connected;
A second electrode to which the cathode is connected;
A third electrode on which the light emitting element is mounted without being electrically connected to the first electrode and the second electrode;
A fourth electrode not electrically connected to the first electrode, the second electrode, and the third electrode;
A wavelength conversion layer that is formed so as to cover the light emitting element and absorbs light in the first wavelength range and emits light in the second wavelength range;
A sealing layer formed to cover at least a part of the third electrode and at least a part of the fourth electrode;
A light emitting package comprising:
前記第3電極は、前記発光素子が実装される実装部を含む、請求項11に記載の発光パッケージ。   The light emitting package according to claim 11, wherein the third electrode includes a mounting part on which the light emitting element is mounted. 請求項1から請求項12のいずれかに記載の発光パッケージが複数連結された発光パッケージアレイであって、
各発光パッケージに設けられた第1電極は、互い接続され、
各発光パッケージに設けられた第2電極は、互い接続され、
各発光パッケージに設けられた第3電極は、互い接続された、発光パッケージアレイ。
A light emitting package array in which a plurality of light emitting packages according to any one of claims 1 to 12 are connected,
The first electrodes provided in each light emitting package are connected to each other,
The second electrodes provided in each light emitting package are connected to each other,
A third electrode provided in each light emitting package is a light emitting package array connected to each other.
前記第3電極は、前記発光素子が実装される実装部を含み、
前記第1電極同士を接続すると共に、前記第2電極同士を接続する複数の第1接続配線と、
前記実装部同士を接続する複数の第2接続配線と、
をさらに備え、
前記第1接続配線と前記第2接続配線とは交互に配置された、請求項13に記載の発光パッケージアレイ。
The third electrode includes a mounting portion on which the light emitting element is mounted,
A plurality of first connection wires for connecting the first electrodes and connecting the second electrodes;
A plurality of second connection wirings connecting the mounting parts;
Further comprising
The light emitting package array according to claim 13, wherein the first connection wiring and the second connection wiring are alternately arranged.
厚さ方向に配列する第1主表面と第2主表面とを含み、前記第1主表面に第1電極と第2電極と第3電極とが設けられ基板を準備する工程と、
前記第1主表面に発光素子を実装する工程と、
前記第1電極の少なくとも一部と、前記第2電極の少なくとも一部と、前記第3電極の少なくとも一部と、前記発光素子とを覆うように、透明樹脂に蛍光体を混合した蛍光体樹脂を塗布する工程と、
前記蛍光体樹脂を形成した後に、前記第1電極と前記第2電極の少なくとも一方と、前記第3電極との間に電圧を印加することで形成された電界で前記蛍光体を電気遊動させる工程と、
を備えた、発光パッケージの製造方法。
Including a first main surface and a second main surface arranged in a thickness direction, wherein a first electrode, a second electrode, and a third electrode are provided on the first main surface to prepare a substrate;
Mounting a light emitting element on the first main surface;
A phosphor resin in which a phosphor is mixed with a transparent resin so as to cover at least a part of the first electrode, at least a part of the second electrode, at least a part of the third electrode, and the light emitting element. A step of applying
A step of electrically moving the phosphor by an electric field formed by applying a voltage between at least one of the first electrode and the second electrode and the third electrode after forming the phosphor resin; When,
A method for manufacturing a light emitting package, comprising:
前記発光素子は、前記第3電極に実装される、請求項15に記載の発光パッケージの製造方法。   The method of manufacturing a light emitting package according to claim 15, wherein the light emitting element is mounted on the third electrode. 前記発光素子は、前記第1電極および前記第2電極に亘って実装される、請求項15に記載の発光パッケージの製造方法。   The method of manufacturing a light emitting package according to claim 15, wherein the light emitting element is mounted across the first electrode and the second electrode. 前記第1主表面に撥液膜を形成する工程をさらに備え、
前記撥液膜は、前記第1電極の少なくとも一部と、前記第2電極の少なくとも一部と、前記第3電極の少なくとも一部と、前記第1主表面のうち、前記発光素子が実装される部分とを露出するように形成される、請求項15から請求項17のいずれかに記載の発光パッケージの製造方法。
A step of forming a liquid repellent film on the first main surface;
The liquid repellent film is mounted with the light emitting element among at least a part of the first electrode, at least a part of the second electrode, at least a part of the third electrode, and the first main surface. The method of manufacturing a light emitting package according to claim 15, wherein the light emitting package is formed so as to expose a portion to be exposed.
前記蛍光体樹脂は、前記蛍光体とシリカと透明樹脂とによって形成された、請求項15から請求項18のいずれかに記載の発光パッケージの製造方法。   The method for manufacturing a light emitting package according to any one of claims 15 to 18, wherein the phosphor resin is formed of the phosphor, silica, and a transparent resin. 厚さ方向に配列する第1主表面と第2主表面とを含み、前記第1主表面に第1電極と第2電極と第3電極と第4電極が設けられ基板を準備する工程と、
発光素子を前記第4電極に実装する工程と、
前記第1電極と前記発光素子を接続する工程と、
前記第2電極と前記発光素子を実装する工程と、
前記第3電極の少なくとも一部と前記第4電極の少なくとも一部と前記発光素子とを覆うように、透明樹脂に蛍光体を混合した蛍光体樹脂を形成する工程と、
前記蛍光体樹脂を形成した後に、前記第3電極および前記第4電極に電圧を印加することで形成された電界で、前記蛍光体を電気遊動させる工程と、
を備えた、発光パッケージの製造方法。
Including a first main surface and a second main surface arranged in a thickness direction, wherein a first electrode, a second electrode, a third electrode, and a fourth electrode are provided on the first main surface to prepare a substrate;
Mounting a light emitting element on the fourth electrode;
Connecting the first electrode and the light emitting element;
Mounting the second electrode and the light emitting element;
Forming a phosphor resin in which a phosphor is mixed with a transparent resin so as to cover at least a part of the third electrode, at least a part of the fourth electrode, and the light emitting element;
A step of electrically moving the phosphor in an electric field formed by applying a voltage to the third electrode and the fourth electrode after forming the phosphor resin;
A method for manufacturing a light emitting package, comprising:
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CN107785472A (en) * 2017-09-20 2018-03-09 广东晶科电子股份有限公司 A kind of LED packagings of high reliability and preparation method thereof

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