JP2013098350A - Lamination type inductor and method of manufacturing the same - Google Patents

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佐藤  淳
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lamination type inductor which achieves high Q.SOLUTION: The method comprises the steps of: laminating a plurality of insulator sheets each prepared by applying, as an internal conductor material, one of Ag and Cu, or a metal including it as a primary component to an insulator layer by printing; and then baking the resultant laminate at a temperature of 875-920°C in a reducing atmosphere which includes hydrogen and/or nitrogen so that the length of diffusion of a metal component of the internal conductor material into a portion of the insulator layer around the internal conductor is between 10 μm and 20 μm inclusive. In the method, the insulator layer includes 35-75 mass% of borosilicate glass as a matrix, and 5-40 mass% of α-quartz and 5-60 mass% of zinc silicate, which are distributed in the matrix; in the borosilicate glass, the content percentages of SiOand BOare 70-90 mass% for SiO, and 10-30 mass% for BOrespectively.

Description

本発明は、積層型電子部品に関するものであり、特に絶縁体層の誘電率が低く、移動体通信機器などで使用する高周波領域での特性が良好な積層型インダクタに関する。   The present invention relates to a multilayer electronic component, and more particularly to a multilayer inductor having a low dielectric constant of an insulator layer and good characteristics in a high frequency region used in mobile communication devices and the like.

積層型インダクタに代表されるインダクタ部を有する積層型電子部品100は、積層された複数の絶縁体層と絶縁体層内に形成されたスパイラル状の内部導体を備えて積層体を構成している。積層体の両端面には引き出し電極が露出しており、この引き出し電極に電気的に接続するように図1のような外部電極を形成している。外部電極の形成は、一般的に金属成分とガラスフリットとを含む金属ペーストを積層体の両端部に塗布、乾燥、焼付けすることにより金属電極膜を形成し、続いて金属電極膜上にNiを主成分とするめっき膜を形成し、さらにその上に、Snを主成分とするめっき膜を形成することにより行なう。   A multilayer electronic component 100 having an inductor portion typified by a multilayer inductor includes a plurality of laminated insulator layers and a spiral inner conductor formed in the insulator layer to constitute a laminate. . Lead electrodes are exposed on both end faces of the laminate, and external electrodes as shown in FIG. 1 are formed so as to be electrically connected to the lead electrodes. The external electrode is generally formed by applying a metal paste containing a metal component and glass frit to both ends of the laminate, drying and baking it to form a metal electrode film, and subsequently forming Ni on the metal electrode film. A plating film containing a main component is formed, and a plating film containing Sn as a main component is further formed thereon.

高周波用積層型インダクタの絶縁体層には、低温焼成が可能であり、高周波特性が比較的優れていることから硼珪酸ガラス系材料を選択することが特許文献1に記載されている。また、特許文献1および2には、内部導体材料としては、比抵抗率の低いAgを用いることが記載されており、焼成雰囲気は、内部導体にAg系材料を用いるため大気中で行っている。   Patent Document 1 describes that a borosilicate glass-based material is selected for an insulator layer of a high frequency multilayer inductor because low temperature firing is possible and high frequency characteristics are relatively excellent. Patent Documents 1 and 2 describe that Ag having a low specific resistivity is used as the internal conductor material, and the firing atmosphere is performed in the air because an Ag-based material is used for the internal conductor. .

近年、移動体通信機器などの高周波回路基板に使用される積層型インダクタは小型化が急速に進められているが、積層型インダクタにおいてはこの小型化の流れはQ値の低下を招いている。こうしたQ値の低下に対し、特許文献3には、積層型インダクタの重要な特性であるQ値(quality factor)を向上させるため、内部導体パターン形状を工夫して、コイル内径を大きくし、Q値を向上させることが記載されている。   In recent years, multilayer inductors used for high-frequency circuit boards such as mobile communication devices have been rapidly miniaturized, but the trend of miniaturization in multilayer inductors has led to a decrease in Q value. In order to improve the Q factor (quality factor), which is an important characteristic of the multilayer inductor, in order to improve the Q factor, the internal conductor pattern shape is devised to increase the inner diameter of the coil. It is described to improve the value.

特開平4−7809号公報Japanese Patent Laid-Open No. 4-7809 特開平10−338545号公報JP 10-338545 A 特開2010−165975号公報JP 2010-165975 A

特許文献1、2および3に記載された積層型電子部品には、次のような問題が生じる。大気中で焼成された内部導体材料は、焼成過程において内部導体周辺の絶縁体層に内部導体材料の金属成分が拡散することがある。このため、スパイラル状の内部導体により発生するフラックス(磁束)を阻害し、インダクタの重要な特性であるQ値(quality factor)を低下させてしまう。   The multilayer electronic components described in Patent Documents 1, 2, and 3 have the following problems. In the internal conductor material fired in the air, the metal component of the internal conductor material may diffuse into the insulator layer around the internal conductor during the firing process. For this reason, the flux (magnetic flux) generated by the spiral inner conductor is hindered, and the Q value (quality factor) which is an important characteristic of the inductor is lowered.

このような課題は、本発明に係る積層型インダクタを、以下の構成とすることにより解決される。すなわち、本発明に係る積層型インダクタは、硼珪酸ガラスを主成分とする絶縁体層に、内部導体としてAgまたはCuまたはこれらを主成分とする金属を含む内部導体材料を印刷塗布し、この絶縁体層を複数積層し、次いで個片に切断した積層体を得、この個片に切断した積層体を水素または窒素またはこれら両者を含む還元雰囲気中で875℃〜920℃の温度で焼成することにより、前記内部導体の周囲の絶縁体層への内部導体材料の金属成分の拡散距離が10μm以上20μm以下となるようにする。積層型インダクタをこのような構成とすることにより、インダクタの重要な特性であるQ値(quality factor)が改善される。   Such a problem is solved by configuring the multilayer inductor according to the present invention as follows. That is, the multilayer inductor according to the present invention is obtained by printing and applying an inner conductor material containing Ag or Cu as an inner conductor or a metal containing these as a main component to an insulator layer mainly composed of borosilicate glass. Laminating a plurality of body layers, then obtaining a laminate cut into individual pieces, and firing the laminate cut into individual pieces at a temperature of 875 ° C. to 920 ° C. in a reducing atmosphere containing hydrogen or nitrogen or both. Thus, the diffusion distance of the metal component of the inner conductor material to the insulator layer around the inner conductor is set to be 10 μm or more and 20 μm or less. By configuring the multilayer inductor as described above, the Q factor (quality factor), which is an important characteristic of the inductor, is improved.

本発明によれば、インダクタ部品の重要な特性であるQ値(quality factor)を向上させた積層型インダクタが提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the multilayer inductor which improved Q value (quality factor) which is an important characteristic of inductor components is provided.

従来技術に係る積層型インダクタの一例を示した概略構成図である。It is the schematic block diagram which showed an example of the multilayer inductor which concerns on a prior art. 本発明の実施形態に係る積層型インダクタの一実施形態を示した概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment of a multilayer inductor according to an embodiment of the present invention. 図2の積層型インダクタの製造方法の一実施形態を示した概略構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment of a method for manufacturing the multilayer inductor of FIG. 2. 本発明の実施形態に係る焼成前の積層型インダクタの一実施例を示した概略構成図である。It is the schematic block diagram which showed one Example of the multilayer inductor before baking which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る内部導体材料の拡散状態を示すEPMA解析写真である。It is an EPMA analysis photograph which shows the diffusion state of the internal conductor material which concerns on embodiment of this invention. 積層型インダクタのQ特性の周波数依存性を示したグラフである。It is the graph which showed the frequency dependence of the Q characteristic of a multilayer type inductor.

以下、本発明を実施するための形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、同一又は同等の要素については同一の符号を付し、説明が重複する場合にはその説明を省略する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same or equivalent element, and the description is abbreviate | omitted when description overlaps.

本発明の実施形態に係る積層型電子部品の一例として、積層型インダクタ1を図2に示す。図2(a)および図2(b)は、異なる角度からの積層型インダクタ1の斜視構成を示した図である。図2に示された積層型インダクタ1は、略直方体形状の外形を有し、その長手方向において対向する一対の端面1a、1bおよび実装時に基板(図示せず)に対向する底面1cを有する。なお、上記積層型インダクタ1の外形形状は略立方体形状であってもよい。この積層型インダクタ1には、内部に設けた内部電極3の両端部とおのおの電気的に接続した一対の外部電極2を有している。各外部電極2は、端面1a、1bと底面1cとで構成する角部Cを挟んで形成されており、底面1cに形成する底面部2aと、端面1a、1bに形成する端面部2bとで構成している。各外部電極2の底面部2aと端面部2bとは連続的に形成しており、それにより、各外部電極2は、角部Cを挟んで底面1cと隣り合う端面1a、1bの一部と底面1cの一部とを連続的に覆う断面L字状の端子形状となっている。すなわち、各外部電極2はL字形状に形成されている。   As an example of the multilayer electronic component according to the embodiment of the present invention, a multilayer inductor 1 is shown in FIG. FIG. 2A and FIG. 2B are views showing a perspective configuration of the multilayer inductor 1 from different angles. The multilayer inductor 1 shown in FIG. 2 has a substantially rectangular parallelepiped outer shape, and has a pair of end faces 1a and 1b facing in the longitudinal direction and a bottom face 1c facing a substrate (not shown) when mounted. The outer shape of the multilayer inductor 1 may be a substantially cubic shape. The multilayer inductor 1 has a pair of external electrodes 2 that are electrically connected to both ends of an internal electrode 3 provided therein. Each external electrode 2 is formed with a corner C formed by the end faces 1a and 1b and the bottom face 1c sandwiched between the bottom face 2a formed on the bottom face 1c and the end face 2b formed on the end faces 1a and 1b. It is composed. The bottom surface portion 2a and the end surface portion 2b of each external electrode 2 are formed continuously, so that each external electrode 2 has a portion of the end surfaces 1a, 1b adjacent to the bottom surface 1c across the corner portion C. The terminal has an L-shaped cross section that continuously covers a part of the bottom surface 1c. That is, each external electrode 2 is formed in an L shape.

次に、積層型インダクタ1を作製する手順について説明する。まず、絶縁体ペーストと導体ペーストとを用意する。   Next, a procedure for manufacturing the multilayer inductor 1 will be described. First, an insulator paste and a conductor paste are prepared.

絶縁体ペーストは、絶縁体材料(非磁性セラミック組成物)と有機ビヒクルとを混練して作製する。絶縁体材料は、非磁性セラミック組成物として、35質量%(wt%)〜75質量%(wt%)の硼珪酸系ガラス粉末のマトリクス中に、5質量%(wt%)〜40質量%(wt%)のα−石英粉末と、5質量%(wt%)〜60質量%(wt%)の珪酸亜鉛粉末とが混合・分散されており、前記硼珪酸系ガラス粉末はSiOおよびBの含有率がそれぞれ、SiOが70質量%(wt%)〜90質量%(wt%)、B2O3が10質量%(wt%)〜30質量%(wt%)のものを用いることができる。絶縁体材料としては、低誘電率化ができることから硼珪酸系ガラスが好ましいが、低温焼成が可能であることから、チタン酸系複合酸化物、ジルコン酸系複合酸化物、あるいはこれらの混合物を用いることもできる。絶縁体材料(非磁性セラミック組成物)粉末の平均粒径は特に限定されないが、通常、0.1μm〜5μm、より好ましくは、0.5μm〜3μm とすることが好ましい。有機ビヒクルには、例えば有機バインダとしてエチルセルロースを溶剤としてテルピネオールに溶解したものを用いることができる。有機バインダとしては、この他にメタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、テトラフルオロエチレン重合体等の易熱分解性の有機バインダが使用可能である。溶剤としてはアルコール、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、トリクロロエチレンまたはこれらの混合物や水などが使用可能である。絶縁体ペーストの、非磁性セラミック組成物に対する、有機バインダおよび溶剤の比率は特に限定されず、通常の比率、例えば、非磁性セラミック組成物100質量部に対し有機バインダは5質量部〜15質量部程度、溶剤は100質量部〜200質量部程度とすればよい。より具体的には、例えば、非磁性セラミック組成物100質量部に対し、有機バインダとしてエチルセルロース10質量部、溶剤としてテルピネオール140質量部とすることができる。この非磁性セラミック組成物と、有機バインダおよび溶剤とをライカイ機で3時間混練し、絶縁体ペーストを得る。 The insulator paste is prepared by kneading an insulator material (nonmagnetic ceramic composition) and an organic vehicle. The insulator material is a non-magnetic ceramic composition in a matrix of 35 wt% (wt%) to 75 wt% (wt%) borosilicate glass powder, 5 wt% (wt%) to 40 wt% ( wt%) α-quartz powder and 5 mass% (wt%) to 60 mass% (wt%) zinc silicate powder are mixed and dispersed, and the borosilicate glass powder is composed of SiO 2 and B 2. The content of O 3 should be such that SiO 2 is 70 mass% (wt%) to 90 mass% (wt%) and B 2 O 3 is 10 mass% (wt%) to 30 mass% (wt%). it can. As the insulator material, borosilicate glass is preferable because the dielectric constant can be reduced, but titanate complex oxide, zirconate complex oxide, or a mixture thereof is used because low temperature firing is possible. You can also. The average particle diameter of the insulator material (nonmagnetic ceramic composition) powder is not particularly limited, but is usually 0.1 μm to 5 μm, more preferably 0.5 μm to 3 μm. As the organic vehicle, for example, an organic binder dissolved in terpineol using ethyl cellulose as a solvent can be used. As the organic binder, other readily heat decomposable organic binders such as methacrylic acid ester polymer, acrylic acid ester-methacrylic acid ester copolymer, α-methylstyrene polymer, tetrafluoroethylene polymer can be used. is there. As the solvent, alcohol, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, trichloroethylene, a mixture thereof, water, or the like can be used. The ratio of the organic binder and the solvent to the nonmagnetic ceramic composition of the insulator paste is not particularly limited, and the organic binder is 5 parts by mass to 15 parts by mass with respect to a normal ratio, for example, 100 parts by mass of the nonmagnetic ceramic composition. The solvent may be about 100 to 200 parts by mass. More specifically, for example, 10 parts by mass of ethyl cellulose as an organic binder and 140 parts by mass of terpineol as a solvent can be used with respect to 100 parts by mass of the nonmagnetic ceramic composition. This non-magnetic ceramic composition, an organic binder and a solvent are kneaded for 3 hours with a raikai machine to obtain an insulator paste.

導体ペーストとして、Ag電極の場合、Ag粉末(平均粒径1.0μm〜2.5μm)と有機ビヒクルとを、質量比80:20〜90:10の割合で混合させ導体ペーストとすることができる。Cu電極の場合、Cu粉末(平均粒径0.2μm〜0.5μm)と有機ビヒクルとを、質量比80:20〜90:10の割合で混合させ導体ペーストとすることができる。ここで、Ag粉末、Cu粉末それぞれの平均粒径は、市販のレーザー回折式粒度分布測定装置を用い、累積50%粒子径を平均粒径とした。   In the case of an Ag electrode as the conductive paste, Ag powder (average particle size: 1.0 μm to 2.5 μm) and an organic vehicle can be mixed at a mass ratio of 80:20 to 90:10 to obtain a conductive paste. . In the case of a Cu electrode, Cu powder (average particle size 0.2 μm to 0.5 μm) and an organic vehicle can be mixed at a mass ratio of 80:20 to 90:10 to obtain a conductor paste. Here, the average particle diameter of each of the Ag powder and the Cu powder was determined by using a commercially available laser diffraction particle size distribution measuring device and setting the cumulative 50% particle diameter as the average particle diameter.

図3(a)に示すように、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム上に絶縁体ペーストを塗布してシート化し、絶縁体シート7を複数枚用意する。次に、絶縁体シート7を用いて、内部導体材料を印刷塗布した絶縁体シート14、15、16、17を作製する。まず、絶縁体シート7にL字状貫通孔8、9を形成し、これらL字状貫通孔8、9に導体ペーストを印刷充填して絶縁体シート14を作製する。次に、他の絶縁体シート7にL字状貫通孔8、9と貫通ビアホール10(a)とを形成し、これらL字状貫通孔8、9と貫通ビアホール10(a)に導体ペーストを印刷充填するとともに、引き出し電極パターン11を印刷形成して絶縁体シート15を作製する。なお、貫通ビアホール10(a)は、コイルパターン12を層間で連結させるためのものである。また、他の絶縁体シート7にL字状貫通孔8、9を形成し、これらL字状貫通孔8、9に導体ペーストで印刷充填するとともに引き出し電極パターン13を印刷形成して絶縁体シート16を作製する。さらに、上記絶縁体シート14に貫通ビアホール10(b)を形成し、この貫通ビアホール10(b)を導体ペーストで印刷充填するとともにコイルパターン12を印刷形成した絶縁体シート17を作製する。なお、図示するように、各絶縁体シート14、15、16、17には、複数のL字状貫通孔、複数の貫通ビアホール、複数の引き出し電極パターン、複数のコイルパターンを、複数個の積層型インダクタを同時に作製するように形成する。 As shown in FIG. 3A, an insulating paste is applied onto a PET (polyethylene terephthalate) film to form a sheet, and a plurality of insulating sheets 7 are prepared. Next, using the insulator sheet 7, insulator sheets 14, 15, 16, and 17 on which the internal conductor material is printed and applied are prepared. First, L-shaped through holes 8 and 9 are formed in the insulator sheet 7, and a conductor paste is printed and filled in these L-shaped through holes 8 and 9 to produce the insulator sheet 14. Next, L-shaped through holes 8 and 9 and through via holes 10 (a) are formed in another insulator sheet 7, and a conductor paste is applied to these L-shaped through holes 8 and 9 and through via holes 10 (a). In addition to printing and filling, the lead electrode pattern 11 is printed to form the insulator sheet 15. The through via hole 10 (a) is for connecting the coil pattern 12 between layers. Further, the L-shaped through holes 8 and 9 are formed in the other insulating sheet 7, and the L-shaped through holes 8 and 9 are printed and filled with a conductive paste, and the lead electrode pattern 13 is printed and formed. 16 is produced. Further, a through via hole 10 (b) is formed in the insulator sheet 14, and the through via hole 10 (b) is printed and filled with a conductive paste, and an insulating sheet 17 is formed by printing the coil pattern 12 thereon. As shown in the drawing, each insulator sheet 14, 15, 16, 17 has a plurality of L-shaped through holes, a plurality of through via holes, a plurality of lead electrode patterns, a plurality of coil patterns, and a plurality of laminated layers. A type inductor is formed at the same time.

次に、図3(b)に示すように、各絶縁体シート7、14、15、16、17をコイルパターン12、引き出し電極パターン11、13が連結するように適宜積層し、プレスすることで、グリーン積層型インダクタ基板を作製する。このグリーン積層型インダクタ基板を、製品ごとになるように個片に切断することでグリーン積層型インダクタを得る。   Next, as shown in FIG. 3B, the insulating sheets 7, 14, 15, 16, and 17 are appropriately laminated so that the coil pattern 12 and the extraction electrode patterns 11 and 13 are connected and pressed. Then, a green multilayer inductor substrate is manufactured. The green multilayer inductor substrate is obtained by cutting the green multilayer inductor substrate into individual pieces for each product.

なお、図2に示された内部導体3によるコイルの巻き数が1回であるが、インダクタンス値に応じ、複数回の巻き数とする構成としても構わない。また、絶縁体シート上に形成するコイルパターン12もこれに限定するものではない。貫通ビアホール10(a)、10(b)の位置も巻き数に応じてコイルパターン12の周回上であればこれに限定するものではない。   In addition, although the winding number of the coil by the internal conductor 3 shown by FIG. 2 is one time, it is good also as a structure which sets it as the number of turns of multiple turns according to an inductance value. Further, the coil pattern 12 formed on the insulator sheet is not limited to this. The positions of the through via holes 10 (a) and 10 (b) are not limited to the above as long as they are on the circumference of the coil pattern 12 according to the number of turns.

(グリーン積層型インダクタの製造方法)
以下では、各絶縁体シートの製造方法について詳しく説明する。
(Green multilayer inductor manufacturing method)
Below, the manufacturing method of each insulator sheet is demonstrated in detail.

積層型インダクタの作製に用いられる上述の絶縁体シート7は、まず、ドクターブレード法などによってPETフィルム上に絶縁体ペーストを塗布形成し、乾燥して絶縁体シートとする。絶縁体シート7の非磁性セラミック組成物は、硼珪酸系ガラスガラスで構成する。絶縁体シート7の厚みは5μm〜40μm程度として複数枚作製する。絶縁体シート14は、絶縁体シート7にレーザー加工などにより、外部電極形成用のL字状貫通孔8、9を形成し、これらのL字状貫通孔8、9を導体ペーストで充填する。そして乾燥工程を経て絶縁体シート14とする。   The above-described insulator sheet 7 used for manufacturing the multilayer inductor is first formed by applying an insulator paste on a PET film by a doctor blade method or the like, and drying to form an insulator sheet. The nonmagnetic ceramic composition of the insulator sheet 7 is composed of borosilicate glass glass. A plurality of insulator sheets 7 are formed with a thickness of about 5 μm to 40 μm. The insulator sheet 14 is formed with L-shaped through holes 8 and 9 for forming external electrodes in the insulator sheet 7 by laser processing or the like, and these L-shaped through holes 8 and 9 are filled with a conductive paste. And it is set as the insulator sheet 14 through a drying process.

絶縁体シート15は、絶縁体シート14にレーザー加工などにより、コイルパターン12と連結させるための貫通ビアホール10(a)を形成し、導体ペーストを充填する。そして乾燥工程を経て、コイルパターン12を外部に入出力するための引き出し電極パターン11を形成する。引き出し電極パターン11は、導体ペーストをスクリーン印刷などにより形成し、絶縁体シート15を作製する。なお、上記貫通ビアホール10(a)と引き出し電極パターン11の形成は、それぞれ印刷工程を分けて実施しているが、1回の印刷で同時に形成しても構わない。   Insulator sheet 15 forms through via hole 10 (a) for coupling to coil pattern 12 in insulator sheet 14 by laser processing or the like, and is filled with a conductive paste. Then, through a drying process, a lead electrode pattern 11 for inputting and outputting the coil pattern 12 to the outside is formed. The lead electrode pattern 11 is made of a conductive paste by screen printing or the like, and the insulator sheet 15 is produced. The through via hole 10 (a) and the lead electrode pattern 11 are formed separately in the printing process, but they may be formed simultaneously by one printing.

絶縁体シート16は、絶縁体シート14にコイルパターンを外部に入出力するための引き出し電極パターン13を形成する。引き出し電極パターン13は、導体ペーストをスクリーン印刷などで形成することによって得ることができる。   The insulator sheet 16 forms a lead electrode pattern 13 for inputting and outputting a coil pattern to the outside on the insulator sheet 14. The lead electrode pattern 13 can be obtained by forming a conductive paste by screen printing or the like.

このとき、外部電極用の導体ペーストを充填したL字状貫通孔8と引き出し電極パターン11とは電気的に接続されている。また、外部電極用の導体ペーストを充填したL字状貫通孔9と引き出し電極パターン13とは電気的に接続されている。   At this time, the L-shaped through hole 8 filled with the conductive paste for the external electrode and the lead electrode pattern 11 are electrically connected. Further, the L-shaped through hole 9 filled with the conductive paste for the external electrode and the lead electrode pattern 13 are electrically connected.

なお、導体ペーストを充填した貫通ビアホール10(a)、10(b)と引き出し電極パターン11、13とコイルパターン12とは、各絶縁体シートにおいて、1回の工程で同時に形成してもよく、または、複数回の工程に分けて形成してもよい。また、本実施形態の引き出し電極パターン11、13とコイルパターン12の厚みは12μm程度としている。   The through via holes 10 (a) and 10 (b) filled with the conductive paste, the lead electrode patterns 11 and 13, and the coil pattern 12 may be formed simultaneously in one step in each insulator sheet. Alternatively, it may be formed in a plurality of steps. In addition, the thicknesses of the extraction electrode patterns 11 and 13 and the coil pattern 12 of this embodiment are about 12 μm.

上記のL字状貫通孔8、9や貫通ビアホール10(a)、10(b)の形成方法としては、レーザー加工のほかにドリル加工、メカパンチング加工など、最適な工法で実施すればよい。導体ペーストの導体材料として、本実施形態ではAgまたはCuを用いているが、この他にこれらを主成分とする金属であれば良く、一例としてそれらを1つ以上含む合金が挙げられる。ただしこれに限定するものではない。   As a method of forming the L-shaped through holes 8 and 9 and the through via holes 10 (a) and 10 (b), an optimum method such as drilling and mechanical punching may be used in addition to laser processing. As the conductive material of the conductive paste, Ag or Cu is used in the present embodiment, but any metal other than these may be used, and an alloy including one or more of them may be mentioned as an example. However, the present invention is not limited to this.

さらに導体ペーストを充填したL字状貫通孔8、9の幅についても特に限定はされず、コイルパターン12の外径サイズに適宜対応した幅であれば、特に限定されない。   Further, the widths of the L-shaped through holes 8 and 9 filled with the conductive paste are not particularly limited, and are not particularly limited as long as the width appropriately corresponds to the outer diameter size of the coil pattern 12.

絶縁体シート17は、上述のように絶縁体シート14を加工することに代えて、絶縁体シート7に、L字状貫通孔8、9およびレーザー加工などによりコイルパターン12を連結させるための貫通ビアホール10(b)を形成する。これらの貫通ビアホール10(b)に導体ペーストを充填する。次いで、コイルパターン12を印刷することによって絶縁体シート17としている。コイルパターン12としては、1種類以上から構成するものとし、コイルの巻き数(インダクタンス値)によって適宜変更できる。これに伴い、貫通ビアホール10(b)の位置は、巻き数に応じてコイルパターン12の周回上で適宜変更する。上記コイルパターン12は、L字状貫通孔8、9および貫通ビアホール10(b)を導体ペーストで充填するときに、同時に印刷によって形成しても構わない。   The insulating sheet 17 is a through-hole for connecting the coil pattern 12 to the insulating sheet 7 by L-shaped through holes 8 and 9 and laser processing instead of processing the insulating sheet 14 as described above. A via hole 10 (b) is formed. These through via holes 10 (b) are filled with a conductive paste. Next, the coil pattern 12 is printed to form the insulator sheet 17. The coil pattern 12 is composed of one or more types and can be appropriately changed depending on the number of turns of the coil (inductance value). Accordingly, the position of the through via hole 10 (b) is appropriately changed on the circumference of the coil pattern 12 according to the number of turns. The coil pattern 12 may be formed by printing simultaneously when filling the L-shaped through holes 8 and 9 and the through via hole 10 (b) with a conductor paste.

上述のとおりに準備した各絶縁体シート7、14、15、16、17をPETフィルムから剥離し、図3(b)のような構成で、剥離積層工法や熱圧着積層工法によって積層し、さらに一軸加圧工程(たとえば、40℃、100N/mm、30秒保持)を経て、グリーン積層型インダクタ基板を形成する。グリーン積層型インダクタ基板は、ダイシングソーまたは押し切り切断機などにより、L字状貫通孔8、9に充填した導体材料が切断面に露出するようにしながら製品ごとに個片に切断して、グリーン積層型インダクタを得る(図4参照)。グリーン積層型インダクタの外部電極2は、積層体内部に埋もれた構造となり、かつ、積層体表面に、断面L字状の構造として露出している。 Each insulator sheet 7, 14, 15, 16, 17 prepared as described above is peeled off from the PET film, and is laminated by a peeling laminating method or a thermocompression laminating method with a configuration as shown in FIG. Through a uniaxial pressing process (for example, 40 ° C., 100 N / mm 2 , holding for 30 seconds), a green multilayer inductor substrate is formed. The green multilayer inductor board is cut into individual pieces for each product by a dicing saw or a press cutting machine so that the conductor material filled in the L-shaped through holes 8 and 9 is exposed on the cut surface. A type inductor is obtained (see FIG. 4). The external electrode 2 of the green multilayer inductor has a structure embedded in the multilayer body, and is exposed on the multilayer body surface as a structure having an L-shaped cross section.

上記グリーン積層型インダクタは、固化乾燥(110℃〜150℃)後に面取り加工する。例えば、バレル研磨を施し、積層体の角に曲率半径rの曲面Rを形成する。バレル研磨としては、バレル漕中にグリーン積層型インダクタ1、研磨用メディア、研磨液等を入れ、回転、振動などにより、相対運動を生じさせることで上記グリーン積層型インダクタを研磨加工できる。研磨用メディアは必ずしも入れる必要はなく、研磨液についても特に制限されないが、グリーン積層型インダクタに含まれるバインダに対して難溶である水等を用いてもよい。   The green multilayer inductor is chamfered after solidification drying (110 ° C. to 150 ° C.). For example, barrel polishing is performed to form a curved surface R with a radius of curvature r at the corner of the laminate. For barrel polishing, the green multilayer inductor 1 can be polished by putting the green multilayer inductor 1, polishing media, polishing liquid, etc. into a barrel cage and causing relative movement by rotation, vibration, or the like. It is not always necessary to put the polishing media, and the polishing liquid is not particularly limited, but water or the like that is hardly soluble in the binder contained in the green multilayer inductor may be used.

(焼成と電極めっき処理)
次いでバレル研磨したグリーン積層型インダクタを、還元雰囲気焼成する。例えば、φ100mmの管状炉内に挿入し、還元雰囲気として窒素ガスを2リットル/分、水素ガスを0.2リットル/分の流量で流入する。焼成プロファイルを、常温から400℃までの昇温速度を2.0℃/分とし、400℃から焼成温度までの昇温速度を3.3℃/分とし、焼成温度で2時間保持する。焼成温度は、875℃〜920℃の範囲の温度とするとよい。焼成の後、例えば個片形状が縦1.0mm×横0.5mm×厚み0.5mm形状(以下、1005形状という)の積層型インダクタを得る。実施形態における焼成温度の下限値を確認するため、焼成温度870℃、および860℃で焼成した積層型インダクタも作製する。実施形態における焼成温度の上限値を確認するため、焼成温度として930℃で焼成した積層型インダクタも作製する。また、焼成雰囲気の比較用として、内部導体がAg導体で作製されたグリーン積層型インダクタについて、φ100mmの管状炉にて大気雰囲気で860℃〜900℃の温度範囲において焼成し、積層型インダクタ1を得る。
(Baking and electrode plating treatment)
Next, the barrel-polished green multilayer inductor is fired in a reducing atmosphere. For example, it is inserted into a φ100 mm tubular furnace, and nitrogen gas is introduced as a reducing atmosphere at a flow rate of 2 liters / minute and hydrogen gas at a flow rate of 0.2 liters / minute. The firing profile is maintained at a firing temperature of 2 hours at a firing rate of 2.0 ° C./min from a normal temperature to 400 ° C., 3.3 ° C./min from 400 ° C. to the firing temperature. The firing temperature is preferably in the range of 875 ° C to 920 ° C. After firing, for example, a multilayer inductor having a shape of 1.0 mm in length, 0.5 mm in width, and 0.5 mm in thickness (hereinafter referred to as 1005 shape) is obtained. In order to confirm the lower limit of the firing temperature in the embodiment, a multilayer inductor fired at a firing temperature of 870 ° C. and 860 ° C. is also produced. In order to confirm the upper limit of the firing temperature in the embodiment, a multilayer inductor fired at 930 ° C. as the firing temperature is also produced. For comparison of firing atmospheres, a green multilayer inductor having an inner conductor made of an Ag conductor was fired in a temperature range of 860 ° C. to 900 ° C. in an air atmosphere in a φ100 mm tubular furnace to obtain the multilayer inductor 1. obtain.

さらに上記焼成した積層型インダクタ1は、端部に無電解めっき、もしくは電気めっきをする。例えば、外部電極2上に5μm厚さのCuめっき層を形成する。さらに、前記Cuめっき層の上に、はんだ食われを防止するためNiめっき層を2μm形成し、次いで、はんだ付け性を高めるためにSnめっき層を4μm形成する。   Further, the fired multilayer inductor 1 is subjected to electroless plating or electroplating at the end. For example, a Cu plating layer having a thickness of 5 μm is formed on the external electrode 2. Further, a 2 μm Ni plating layer is formed on the Cu plating layer to prevent solder erosion, and then a 4 μm Sn plating layer is formed to improve solderability.

以上の説明では、外部電極2がL字状の端子形状に形成したものを積層型インダクタ1として例示したが、このL字状端子を外部電極とすることにより、積層インダクタを実装基板上に実装するに際し、積層インダクタの底面もしくは上面を実装基板に対向させて実装することが可能となり、実装時の素子搭載自由度が向上する。先に述べた内部導体のコイル軸が、実装面に対して平行でありかつ、前記積層体の対向する端面に形成した一対の外部電極の対向方向に対して垂直となるように構成(実装)すればよい(図2参照)。例えば、図1に示すような5面端子である外部電極を備えた積層型インダクタ、即ち、外部電極が対向する2つの端面と、それぞれの端面に隣接する4つの面の端部に回りこむように形成された積層型インダクタにも適用でき、同様の効果を得ることができる。   In the above description, an example in which the external electrode 2 is formed in an L-shaped terminal shape is exemplified as the multilayer inductor 1, but by using the L-shaped terminal as an external electrode, the multilayer inductor is mounted on the mounting substrate. In doing so, it becomes possible to mount the laminated inductor with the bottom surface or the top surface thereof facing the mounting substrate, and the degree of freedom of element mounting during mounting is improved. Configuration (mounting) in which the coil axis of the inner conductor described above is parallel to the mounting surface and perpendicular to the opposing direction of the pair of external electrodes formed on the opposing end surfaces of the multilayer body. (See FIG. 2). For example, as shown in FIG. 1, a multilayer inductor having an external electrode that is a five-sided terminal, that is, the external electrode wraps around two end faces facing each other and ends of four faces adjacent to each end face. The present invention can also be applied to the formed multilayer inductor, and the same effect can be obtained.

絶縁体ペーストの非磁性セラミック組成物には硼珪酸系ガラスとして、SiO:80質量%(wt%)、B:18質量%(wt%)、KO:2質量%(wt%)を含む粉末65質量%(wt%)、ZnSiO(珪酸亜鉛)粉末15質量%(wt%)、α−石英粉末20質量%(wt%)含むものを用いた。また、各粉末はそれぞれ平均粒径が硼珪酸ガラス:1.2μm、ZnSiO(珪酸亜鉛):0.5μm、α−石英:0.7μmのものを用いた。導体ペーストとして、Ag電極の場合、Ag粉末(平均粒径2.0μm)と有機ビヒクルとを、質量比85:15の割合で混合させ導体ペーストとし、Cu電極の場合、Cu粉末(平均粒径0.3μm)と有機ビヒクルとを、質量比80:20の割合で混合させ導体ペーストとし、前記実施形態に示した製造方法に従いグリーン積層型インダクタを用意した。 The non-magnetic ceramic composition of the insulator paste includes, as borosilicate glass, SiO 2 : 80 mass% (wt%), B 2 O 3 : 18 mass% (wt%), K 2 O: 2 mass% (wt %) Containing powder 65 mass% (wt%), Zn 2 SiO 4 (zinc silicate) powder 15 mass% (wt%), α-quartz powder 20 mass% (wt%). Each powder used had an average particle size of borosilicate glass: 1.2 μm, Zn 2 SiO 4 (zinc silicate): 0.5 μm, and α-quartz: 0.7 μm. As the conductor paste, in the case of an Ag electrode, Ag powder (average particle size 2.0 μm) and an organic vehicle are mixed at a mass ratio of 85:15 to obtain a conductor paste. In the case of a Cu electrode, Cu powder (average particle size) 0.3 μm) and an organic vehicle were mixed at a mass ratio of 80:20 to form a conductor paste, and a green multilayer inductor was prepared according to the manufacturing method described in the above embodiment.

(評価方法)
グリーン積層型インダクタの焼成温度、内部導体材料、並びに焼成雰囲気別にQ値および内部導体材料の金属成分の拡散距離を測定した。なお、Q値の評価はインピーダンスアナライザを用い、1GHzでのQ値が40以上を「○」、40より小さいものを「×」と判定した。高周波対応可能なインダクタとして、1GHzでのQ値が40以上の特性を要求されることが多いことからQ値40を判定基準とした。焼結性評価の基準は、焼結による収縮率が15%以上を「○」、焼結による収縮率が15%未満を「×」とした。内部導体材料の金属成分の拡散距離の測定は、以下によって行った。積層型インダクタのスパイラル状の内部導体で形成したコイルの中心軸に平行に(絶縁体シートに垂直に)切断して断面を得た。この断面を電子線マイクロアナライザー(EPMA)により、1μm当たりの電子線照射条件を加速電圧が15.0kV、照射電流が0.1μA、測定時間が30msecとして分析を行った。実施例3の解析例を図5に示す。このときの内部導体材料の金属成分濃度が1質量%(wt%)以上となっている領域の内部導体と絶縁体との界面からの距離を測定した。これらの測定結果は、5個の個片のそれぞれに対して5ヶ所の断面を測定した平均値とし、表1にまとめて示す。
(Evaluation method)
The Q value and the diffusion distance of the metal component of the inner conductor material were measured for each firing temperature, inner conductor material, and firing atmosphere of the green multilayer inductor. The Q value was evaluated using an impedance analyzer, and a Q value at 1 GHz of 40 or more was judged as “◯”, and a value smaller than 40 was judged as “X”. Since an inductor capable of handling high frequencies often requires characteristics having a Q value of 40 or more at 1 GHz, the Q value of 40 is used as a criterion. The criteria for evaluating the sinterability were “◯” when the shrinkage rate due to sintering was 15% or more, and “X” when the shrinkage rate due to sintering was less than 15%. The measurement of the diffusion distance of the metal component of the inner conductor material was performed as follows. A cross section was obtained by cutting parallel to the central axis of the coil formed by the spiral inner conductor of the multilayer inductor (perpendicular to the insulator sheet). This cross section was analyzed with an electron beam microanalyzer (EPMA) under the conditions of electron beam irradiation per 1 μm with an acceleration voltage of 15.0 kV, an irradiation current of 0.1 μA, and a measurement time of 30 msec. An analysis example of Example 3 is shown in FIG. At this time, the distance from the interface between the inner conductor and the insulator in the region where the metal component concentration of the inner conductor material was 1% by mass (wt%) or more was measured. These measurement results are shown in Table 1 as average values obtained by measuring five cross-sections for each of the five pieces.

実施例2と比較例2の結果(焼成温度880℃、内部導体材料Ag)から、1005形状の積層型インダクタの場合、大気雰囲気焼成に対し還元雰囲気焼成では内部導体材料の金属成分拡散距離が短く、かつQ値が高いことがわかる。このときのQ値の周波数特性を図6に示す。比較例5に示すように、還元雰囲気焼成においても、焼成温度が930℃以上になると内部導体材料の金属成分拡散距離が長くなり、かつQ特性も低下する。また、比較例4に示すように、還元雰囲気焼成においても、焼成温度が870℃以下になると内部導体材料の金属成分拡散距離が短くなりこの点では好ましいが、内部導体材料の焼結性が不十分となり連結性が悪くなる(導電性が低くなる)。このため直流重畳抵抗Rdcが高くなりQ値が低くなる。また、絶縁体材料が未焼結状態であることからインダクタの抗折強度不足やめっき液進入の原因となる。これらから還元雰囲気における焼成温度は875℃から920℃が好ましい範囲であることが分かる。   From the results of Example 2 and Comparative Example 2 (firing temperature 880 ° C., inner conductor material Ag), in the case of a 1005-shaped multilayer inductor, the metal component diffusion distance of the inner conductor material is shorter in reducing atmosphere firing than in air atmosphere firing. It can be seen that the Q value is high. The frequency characteristic of the Q value at this time is shown in FIG. As shown in Comparative Example 5, also in the reducing atmosphere firing, when the firing temperature becomes 930 ° C. or higher, the metal component diffusion distance of the internal conductor material becomes longer and the Q characteristic is also lowered. Also, as shown in Comparative Example 4, in reducing atmosphere firing, when the firing temperature is 870 ° C. or lower, the metal component diffusion distance of the inner conductor material is shortened, which is preferable in this respect, but the sinterability of the inner conductor material is poor. Sufficient and poor connectivity (low conductivity). For this reason, the DC superposition resistance Rdc increases and the Q value decreases. In addition, since the insulator material is in an unsintered state, it causes insufficient bending strength of the inductor and ingress of the plating solution. From these, it can be seen that the firing temperature in the reducing atmosphere is preferably in the range of 875 ° C. to 920 ° C.

次いで、実施例5に示すように、内部導体材料をCuで作製した場合も還元雰囲気焼成することで、Q値が高いことが確認でき、かつ内部導体材料の金属成分拡散距離も短いことがわかった。なお、Cuは極めて酸化しやすいので、製造の際に焼成工程を酸化雰囲気で行うと、Cu酸化物を生じて体積が膨張し、クラックが発生してしまうという問題がある。   Next, as shown in Example 5, when the internal conductor material is made of Cu, it can be confirmed that the Q value is high by firing in a reducing atmosphere, and the metal component diffusion distance of the internal conductor material is short. It was. In addition, since Cu is very easily oxidized, there is a problem that if the firing process is performed in an oxidizing atmosphere during production, Cu oxide is generated, the volume expands, and cracks are generated.

このように本実施形態で製造された積層型インダクタの内部導体は、還元雰囲気焼成中において内部導体材料電極の金属成分が絶縁体側へ拡散することを抑制できる。さらに詳しくは、絶縁体内への内部導体材料の金属成分拡散距離が10μm〜20μmとなる構成とするように焼成することで、Q値が高くかつ焼結状態が良好な積層型インダクタを提供できる。絶縁体内への内部導体材料の金属成分拡散距離をこの範囲とすることで、スパイラル状の内部導体により発生するフラックス(磁束)を阻害することを抑えられるのでQ特性が向上する。 As described above, the inner conductor of the multilayer inductor manufactured in this embodiment can suppress the diffusion of the metal component of the inner conductor material electrode toward the insulator during firing in a reducing atmosphere. More specifically, by firing so that the metal component diffusion distance of the inner conductor material into the insulator is 10 μm to 20 μm, a multilayer inductor having a high Q value and a good sintered state can be provided. By setting the metal component diffusion distance of the inner conductor material into the insulator within this range, it is possible to suppress the inhibition of the flux (magnetic flux) generated by the spiral inner conductor, thereby improving the Q characteristic.

スパイラル状の内部導体により発生するフラックスを阻害することを抑えられることから積層体内にスパイラル状の内部導体を備える積層型LCフィルタなどの積層型電子部品においても利用の可能性がある。 Since the inhibition of the flux generated by the spiral inner conductor can be suppressed, it can be used in multilayer electronic components such as a multilayer LC filter having a spiral inner conductor in the multilayer body.

1…積層型インダクタ、1a、1b…端面、1c…底面、1d…頂面、2…外部電極、2a…底面部、2b…端面部、3…内部導体、7…絶縁体シート、8、9…L字状貫通孔、14、15、16、17…絶縁体シート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer inductor, 1a, 1b ... End face, 1c ... Bottom face, 1d ... Top face, 2 ... External electrode, 2a ... Bottom face part, 2b ... End face part, 3 ... Internal conductor, 7 ... Insulator sheet, 8, 9 ... L-shaped through holes, 14, 15, 16, 17 ... Insulator sheet

Claims (3)

硼珪酸ガラスを主成分とする絶縁体内に、内部導体がスパイラル状に積層されており、前記絶縁体内への内部導体材料の金属成分拡散距離が10μm〜20μmであることを特徴とする積層型インダクタ。   A multilayer inductor, wherein an inner conductor is spirally laminated in an insulator mainly composed of borosilicate glass, and a metal component diffusion distance of the inner conductor material into the insulator is 10 μm to 20 μm. . 前記内部導体材料がAgまたはCuまたはこれらを主成分とする金属である請求項1記載の積層型インダクタ。   2. The multilayer inductor according to claim 1, wherein the inner conductor material is Ag or Cu or a metal mainly composed of these. 硼珪酸ガラスを主成分とする絶縁体内に、AgまたはCuまたはこれらを主成分とする金属である内部導体がスパイラル状に積層されているグリーン積層型インダクタを、水素または窒素またはこれら両者を含む還元雰囲気中で875℃〜920℃の温度範囲で焼成することを特徴とする積層型インダクタの製造方法。   A green multilayer inductor in which an internal conductor made of Ag or Cu or a metal mainly composed of Ag or Cu is spirally laminated in an insulator mainly composed of borosilicate glass is reduced with hydrogen or nitrogen or both. A method of manufacturing a multilayer inductor, comprising firing in a temperature range of 875 ° C. to 920 ° C. in an atmosphere.
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