JP2013097163A - Composition for forming antistatic hard coat layer, optical film, method for manufacturing optical film, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Composition for forming antistatic hard coat layer, optical film, method for manufacturing optical film, polarizing plate, and image display device Download PDF

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晃治 飯島
Daiki Wakizaka
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition allowing formation of an antistatic hard coat layer that is excellent in the viewpoint of antistatic property, film hardness and brittleness and contributes to cost reduction by decreasing a use amount of an ionic conductive compound as an antistatic agent.SOLUTION: The composition for forming an antistatic hard coat layer comprises: (a) an ionic conductive compound; (b) a compound having three or more unsaturated double bonds and an isocyanuric ring or a phosphoric acid group in the molecule; (c) a compound having three or more unsaturated double bonds and a weight average molecular weight of 900 or less; (d) a photopolymerization initiator; and (e) a solvent.

Description

本発明は、帯電防止性ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to an antistatic hard coat layer forming composition, an optical film, a method for producing an optical film, a polarizing plate, and an image display device.

陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、蛍光表示ディスプレイ(VFD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、及び液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置では、表示面への傷付きや埃等の付着による視認性低下を防止するために、透明で帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを設けることが好適である。   In image display devices such as cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), fluorescent display (VFD), field emission display (FED), and liquid crystal display (LCD), In order to prevent the visibility from being deteriorated due to scratches on the display surface or adhesion of dust or the like, it is preferable to provide an optical film that is transparent and has antistatic properties and hard coat properties.

帯電防止性とハードコート性とを有する光学フィルムを得るためには、透明基材上に、帯電防止剤として4級アンモニウム塩基含有ポリマーなどのイオン伝導性化合物と、バインダーとなる多官能モノマーとを含有する組成物を用いて帯電防止性ハードコート層を形成することが知られている(例えば特許文献1〜3)。   In order to obtain an optical film having antistatic properties and hard coat properties, an ion conductive compound such as a quaternary ammonium base-containing polymer as an antistatic agent and a polyfunctional monomer serving as a binder are provided on a transparent substrate. It is known that an antistatic hard coat layer is formed using a composition contained (for example, Patent Documents 1 to 3).

特許文献1〜3などの従来の技術で得られた帯電防止性ハードコート層は、多官能モノマーを用いているため硬度の観点では優れるが、脆性の観点では劣る。脆性の観点で劣ると、光学フィルムをロール形態にした際に膜にひびが入ってしまうことや、偏光板加工時のハンドリング性が悪く、歩留まりが落ちるなどの問題がある。
また、イオン伝導性化合物と多官能モノマーとは相溶性が悪い場合は、イオン伝導性化合物が凝集してしまい、多量にイオン伝導性化合物を添加しないと十分な帯電防止性が得られない。しかし、イオン伝導性化合物を多量に用いることはコストアップにつながるため、少量のイオン伝導性化合物により、十分な帯電防止性を得ることが求められている。
The antistatic hard coat layers obtained by conventional techniques such as Patent Documents 1 to 3 are excellent in terms of hardness because of using a polyfunctional monomer, but are inferior in terms of brittleness. If inferior in terms of brittleness, there are problems such as cracking of the film when the optical film is made into a roll form, poor handling at the time of polarizing plate processing, and a decrease in yield.
If the ion conductive compound and the polyfunctional monomer are poorly compatible, the ion conductive compound aggregates, and sufficient antistatic properties cannot be obtained unless a large amount of the ion conductive compound is added. However, since the use of a large amount of the ion conductive compound leads to an increase in cost, it is required to obtain sufficient antistatic properties with a small amount of the ion conductive compound.

特開2009−86660号公報JP 2009-86660 A 特許第4678451号公報Japanese Patent No. 4678451 特開2006−188016号公報JP 2006-188016 A

本発明の目的は、帯電防止性、膜硬度、及び脆性の観点で優れ、かつ帯電防止剤であるイオン伝導性化合物の使用量を低減させて低コスト化にも寄与できる帯電防止性ハードコート層を形成し得る組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、帯電防止性、膜硬度、及び脆性の観点で優れた帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、及び画像表示装置、並びに該光学フィルムの製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide an antistatic hard coat layer that is excellent in terms of antistatic properties, film hardness, and brittleness, and that can contribute to cost reduction by reducing the amount of an ion conductive compound that is an antistatic agent. Providing a composition capable of forming
Another object of the present invention is to provide an optical film having an antistatic hard coat layer excellent in terms of antistatic properties, film hardness and brittleness, a polarizing plate having the optical film, an image display device, and the optical film. It is to provide a manufacturing method.

本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討し、下記手段により前記課題を解決し得ることを見出した。   The present inventors diligently studied to solve the above problems and found that the above problems can be solved by the following means.

1.
下記(a)、(b)、(c)、(d)、及び(e)を含有する帯電防止性ハードコート層形成用組成物。
(a)イオン伝導性化合物
(b)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ分子中にイソシアヌル環又はリン酸基を有する化合物
(c)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ重量平均分子量が900以下である化合物
(d)光重合開始剤
(e)溶剤
2.
前記帯電防止性ハードコート層形成用組成物の全固形分に対する前記(b)成分の割合が20〜80質量%である、上記1に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。
3.
前記(e)成分が、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、炭酸ジメチル、及び炭酸ジエチルからなる群より選択される少なくとも1種を含む、上記1又は2に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。
4.
前記(a)成分が4級アンモニウム塩基含有ポリマーである、上記1〜3のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。
5.
前記(a)成分が、下記一般式(I)〜(III)で表される構造単位の少なくとも1つの単位を有するポリマーである、上記1〜4のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。

Figure 2013097163

一般式(I)中、Rは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−CHCOOを表す。Yは水素原子又は−COOを表す。Mはプロトン又はカチオンを表す。Lは−CONH−、−COO−、−CO−又は−O−を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Qは下記群Aから選ばれる基を表す。
Figure 2013097163

式中、R、R’及びR’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Xはアニオンを表す。p及びqは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
Figure 2013097163

Figure 2013097163

一般式(II)、(III)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、RとR及びRとRはそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
A、B及びDは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−を表す。Eは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−又は−NHCOR26CONH−を表す。R、R、R、R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19、R20、R22、R23、R25及びR26はアルキレン基を表す。R10、R13、R18、R21及びR24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。mは1〜4の正の整数を表す。Xはアニオンを表す。
、Zは−N=C−基とともに5員又は6員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡N[X]−なる4級塩の形でEに連結してもよい。
nは5〜300の整数を表す。
6.
透明基材上に、上記1〜5のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。
7.
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記6に記載の光学フィルム。
8.
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が上記6又は7に記載の光学フィルムである偏光板。
9.
上記6若しくは7に記載の光学フィルム、又は上記8に記載の偏光板を有する画像表示装置。
10.
セルロースアシレートフィルム基材上に、帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記1〜5のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化して帯電防止性ハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。 1.
An antistatic hard coat layer forming composition containing the following (a), (b), (c), (d), and (e).
(A) an ion conductive compound (b) a compound having three or more unsaturated double bonds and having an isocyanuric ring or a phosphate group in the molecule (c) having three or more unsaturated double bonds, And a compound having a weight average molecular weight of 900 or less (d) a photopolymerization initiator (e) a solvent;
2. The composition for forming an antistatic hard coat layer according to 1 above, wherein the ratio of the component (b) to the total solid content of the composition for forming an antistatic hard coat layer is 20 to 80% by mass.
3.
The antistatic hard coat according to 1 or 2 above, wherein the component (e) contains at least one selected from the group consisting of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, dimethyl carbonate, and diethyl carbonate. Layer forming composition.
4).
4. The antistatic hard coat layer forming composition according to any one of 1 to 3, wherein the component (a) is a quaternary ammonium base-containing polymer.
5.
5. The antistatic hardware according to any one of 1 to 4, wherein the component (a) is a polymer having at least one unit of structural units represented by the following general formulas (I) to (III): A composition for forming a coat layer.
Figure 2013097163

In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or -CH 2 COO - represents an M +. Y represents a hydrogen atom or -COO - M + . M + represents a proton or a cation. L represents -CONH-, -COO-, -CO- or -O-. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. Q represents a group selected from the following group A.
Figure 2013097163

In the formula, R 2 , R 2 ′ and R 2 ″ each independently represents an alkyl group. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. X represents an anion. p and q each independently represents 0 or 1.
Figure 2013097163

Figure 2013097163

In the general formulas (II) and (III), R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, and R 3 and R 4 and R 5 and R 6 are bonded to each other. A nitrogen-containing heterocycle may be formed.
A, B and D are each independently an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylenealkylene group, -R 7 COR 8 -, - R 9 COOR 10 OCOR 11 -, - R 12 OCR 13 COOR 14 -, - R 15 - (oR 16) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - represents a. E represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylene alkylene group, —R 7 COR 8 —, —R 9 COOR 10 OCOR 11 —, —R 12 OCR 13 COOR 14 —, —R 15 — (OR 16 ) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - or an -NHCOR 26 CONH-. R 7 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 19 , R 20 , R 22 , R 23 , R 25 and R 26 represent an alkylene group. R 10 , R 13 , R 18 , R 21 and R 24 each independently represent a linking group selected from an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, an arylene alkylene group and an alkylene arylene group. m represents a positive integer of 1 to 4. X represents an anion.
Z 1 and Z 2 represent a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5-membered or 6-membered ring together with —N═C— group, and are represented by E in the form of a quaternary salt of ≡N + [X ] —. You may connect.
n represents an integer of 5 to 300.
6).
An optical film having an antistatic hard coat layer formed from the antistatic hard coat layer forming composition according to any one of 1 to 5 above on a transparent substrate.
7).
7. The optical film as described in 6 above, wherein the transparent substrate is a cellulose acylate film.
8).
8. A polarizing plate comprising a polarizing film and two protective films for protecting both surfaces of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is the optical film described in 6 or 7 above.
9.
8. An image display device comprising the optical film described in 6 or 7 or the polarizing plate described in 8 above.
10.
It is a manufacturing method of the optical film which has an antistatic hard-coat layer on a cellulose acylate film base material, Comprising: Antistatic property of any one of said 1-5 on this cellulose acylate film base material The manufacturing method of the optical film which has the process of apply | coating and hardening | curing the composition for hard-coat layer formation, and forming an antistatic hard-coat layer.

本発明によれば、帯電防止性、膜硬度、及び脆性の観点で優れ、かつ帯電防止剤であるイオン伝導性化合物の使用量を低減させて低コスト化にも寄与できる帯電防止性ハードコート層を形成し得る組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、帯電防止性、膜硬度、及び脆性の観点で優れた帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、及び画像表示装置、並びに該光学フィルムの製造方法を提供することができる。
According to the present invention, an antistatic hard coat layer that is excellent in terms of antistatic properties, film hardness, and brittleness, and that can contribute to cost reduction by reducing the amount of an ion conductive compound that is an antistatic agent. The composition which can form is provided.
Further, according to the present invention, an optical film having an antistatic hard coat layer excellent in antistatic properties, film hardness, and brittleness, a polarizing plate having the optical film, an image display device, and the optical film The manufacturing method of can be provided.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」、「(メタ)アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。
Hereinafter, although the form for implementing this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid”, “(meth) acryloyl” and the like.
In the present invention, “a repeating unit corresponding to a monomer” and “a repeating unit derived from a monomer” mean that a component obtained after polymerization of the monomer becomes a repeating unit.

本発明の帯電防止性ハードコート層形成用組成物は、下記(a)、(b)、(c)、(d)、及び(e)を含有する。
(a)イオン伝導性化合物
(b)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ分子中にイソシアヌル環又はリン酸基を有する化合物
(c)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ重量平均分子量が900以下である化合物
(d)光重合開始剤
(e)溶剤
The antistatic hard coat layer forming composition of the present invention contains the following (a), (b), (c), (d), and (e).
(A) an ion conductive compound (b) a compound having three or more unsaturated double bonds and having an isocyanuric ring or a phosphate group in the molecule (c) having three or more unsaturated double bonds, And a compound having a weight average molecular weight of 900 or less (d) a photopolymerization initiator (e) a solvent

以下、本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物について説明する。   Hereinafter, the composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention will be described.

[(a)成分:イオン伝導性化合物]
本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物は、イオン伝導性化合物を含有する。
本発明に用いられる(a)イオン伝導性化合物としては、カチオン性、アニオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。
これらの中では、本発明の効果が得られ易いカチオン性、ノニオン性の化合物が好ましく、特に化合物の帯電防止性能が高い観点から4級アンモニウム塩基を有する化合物(カチオン性化合物)が好適である。
[(A) component: ion conductive compound]
The composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention contains an ion conductive compound.
Examples of the (a) ion conductive compound used in the present invention include cationic, anionic and amphoteric ion conductive compounds.
Among these, cationic and nonionic compounds that can easily obtain the effects of the present invention are preferable, and a compound having a quaternary ammonium base (cationic compound) is particularly preferable from the viewpoint of high antistatic performance of the compound.

4級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。
高分子型の4級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、4級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式(I)〜(III)で現される構造単位の少なくとも1つの単位を有するポリマーが好ましい。
As the compound having a quaternary ammonium base, either a low molecular type or a high molecular type can be used, but a high molecular cationic antistatic agent is more preferable because there is no variation in antistatic properties due to bleedout or the like. Used.
As the cationic compound having a polymer type quaternary ammonium base, it can be appropriately selected from known compounds, but is preferably a quaternary ammonium base-containing polymer from the viewpoint of high ion conductivity. A polymer having at least one unit of structural units represented by the following general formulas (I) to (III) is preferable.

Figure 2013097163
Figure 2013097163

一般式(I)中、Rは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−CHCOOを表す。Yは水素原子又は−COOを表す。Mはプロトン又はカチオンを表す。Lは−CONH−、−COO−、−CO−又は−O−を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Qは下記群Aから選ばれる基を表す。 In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or -CH 2 COO - represents an M +. Y represents a hydrogen atom or -COO - M + . M + represents a proton or a cation. L represents -CONH-, -COO-, -CO- or -O-. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. Q represents a group selected from the following group A.

Figure 2013097163
Figure 2013097163

式中、R、R’及びR’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Xはアニオンを表す。p及びqは、それぞれ独立に、0又は1を表す。 In the formula, R 2 , R 2 ′ and R 2 ″ each independently represents an alkyl group. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. X represents an anion. p and q each independently represents 0 or 1.

Figure 2013097163
Figure 2013097163

Figure 2013097163
Figure 2013097163

一般式(II)、(III)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、RとR及びRとRはそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
A、B及びDは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−を表す。Eは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−又は−NHCOR26CONH−を表す。R、R、R、R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19、R20、R22、R23、R25及びR26はアルキレン基を表す。R10、R13、R18、R21及びR24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。mは1〜4の正の整数を表す。Xはアニオンを表す。
、Zは−N=C−基とともに5員又は6員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡N[X]−なる4級塩の形でEに連結してもよい。
nは5〜300の整数を表す。
In the general formulas (II) and (III), R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, and R 3 and R 4 and R 5 and R 6 are bonded to each other. A nitrogen-containing heterocycle may be formed.
A, B and D are each independently an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylenealkylene group, -R 7 COR 8 -, - R 9 COOR 10 OCOR 11 -, - R 12 OCR 13 COOR 14 -, - R 15 - (oR 16) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - represents a. E represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylene alkylene group, —R 7 COR 8 —, —R 9 COOR 10 OCOR 11 —, —R 12 OCR 13 COOR 14 —, —R 15 — (OR 16 ) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - or an -NHCOR 26 CONH-. R 7 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 19 , R 20 , R 22 , R 23 , R 25 and R 26 represent an alkylene group. R 10 , R 13 , R 18 , R 21 and R 24 each independently represent a linking group selected from an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, an arylene alkylene group and an alkylene arylene group. m represents a positive integer of 1 to 4. X represents an anion.
Z 1, Z 2 represents a nonmetallic atomic group necessary for forming a 5-membered or 6-membered ring together with -N = C-group, ≡N + [X -] - becomes 4 to E in the form of quaternary salt You may connect.
n represents an integer of 5 to 300.

一般式(I)〜(III)の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数1〜4の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数1〜12のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数6〜15のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数2〜10のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数6〜12のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
The groups of general formulas (I) to (III) will be described.
Examples of the halogen atom include a chlorine atom and a bromine atom, and a chlorine atom is preferable.
The alkyl group is preferably a branched or straight chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
The alkylene group is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a methylene group, an ethylene group or a propylene group, and particularly preferably an ethylene group.
The arylene group is preferably an arylene group having 6 to 15 carbon atoms, more preferably phenylene, diphenylene, phenylmethylene group, phenyldimethylene group, or naphthylene group, and particularly preferably phenylmethylene group. These groups have a substituent. It may be.
The alkenylene group is preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and the arylene alkylene group is preferably an arylene alkylene group having 6 to 12 carbon atoms, and these groups may have a substituent.
Examples of the substituent that may be substituted for each group include a methyl group, an ethyl group, and a propyl group.

一般式(I)において、Rは水素原子が好ましい。
Yは、好ましくは水素原子である。
Jは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Qは、好ましくは群Aから選ばれる下記一般式(VI)であり、R、R’及びR’’は各々メチル基である。
は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
p及びqは、好ましくは0又は1であり、より好ましくはp=0、q=1である。
In general formula (I), R 1 is preferably a hydrogen atom.
Y is preferably a hydrogen atom.
J is preferably a phenylmethylene group.
Q is preferably the following general formula (VI) selected from group A, and R 2 , R 2 ′ and R 2 ″ are each a methyl group.
X includes a halogen ion, a sulfonate anion, a carboxylate anion and the like, preferably a halogen ion, and more preferably a chlorine ion.
p and q are preferably 0 or 1, more preferably p = 0 and q = 1.

Figure 2013097163
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一般式(II)及び(III)において、R、R、R及びRは、好ましくは炭素数1〜4の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
A、B及びDは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数2〜10の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Eは、好ましくはEは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
、Zが、−N=C−基とともに形成する5員又は6員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
In general formulas (II) and (III), R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group. A methyl group is particularly preferred.
A, B and D are preferably each independently a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an arylene group, an alkenylene group or an arylene alkylene group, preferably a phenyldimethylene group.
X includes a halogen ion, a sulfonate anion, a carboxylate anion and the like, preferably a halogen ion, and more preferably a chlorine ion.
E is preferably E represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, or an arylene alkylene group.
Examples of the 5-membered or 6-membered ring formed by Z 1 and Z 2 together with the —N═C— group include a diazoniabicyclooctane ring.

以下に、一般式(I)〜(III)で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字(m、x、y、z、r及び実際の数値)の内、mは各ユニットの繰り返し単位数を表し、x、y、z、rは各々のユニットのモル比を表す。   Specific examples of the compound having units having structures represented by the general formulas (I) to (III) are shown below, but the present invention is not limited thereto. Of the subscripts (m, x, y, z, r and actual numerical values) in the following specific examples, m represents the number of repeating units of each unit, and x, y, z, r represents the number of each unit. Represents the molar ratio.

Figure 2013097163
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(a)イオン導電性化合物としては、分子内に重合性基を有する化合物は帯電防止性ハードコート層の耐擦傷性(膜強度)も高めることができるので好ましい。   (A) As the ion conductive compound, a compound having a polymerizable group in the molecule is preferable because it can improve the scratch resistance (film strength) of the antistatic hard coat layer.

(a)イオン伝導性化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば製品名「ライトエステルDQ−100」(共栄社化学(株)製)、製品名「リオデュラスLAS−1211」(東洋インキ製造(株)製)、製品名「紫光UV−AS−102」(日本合成化薬(株)製)、「NKオリゴU−601、201」(新中村化学(株)製)などが挙げられる。   (A) As an ion conductive compound, a commercial item can also be used, for example, a product name "light ester DQ-100" (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), a product name "Rioduras LAS-1211" (Toyo Ink Manufacturing ( Product name "purple UV-AS-102" (manufactured by Nippon Synthetic Chemicals Co., Ltd.), "NK oligo U-601, 201" (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and the like.

本発明のイオン伝導性化合物として好適に用いられる4級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式(I)〜(III)で表される構造単位(イオン性構造単位)の他に、これ以外の重合単位を有していて良い。イオン伝導性化合物がイオン性構造単位以外の重合単位を持つことにより、組成物を作成する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。   The quaternary ammonium base-containing polymer suitably used as the ion conductive compound of the present invention is a polymer other than the structural units (ionic structural units) represented by the general formulas (I) to (III). May have units. By having polymerized units other than ionic structural units in the ion conductive compound, the solubility in a solvent and the compatibility with a compound having an unsaturated double bond and a photopolymerization initiator are increased when preparing a composition. be able to.

イオン性構造単位以外の重合単位として用いることができる単量体の例としては、次の化合物が挙げられる。   The following compounds are mentioned as an example of the monomer which can be used as superposition | polymerization units other than an ionic structural unit.

<アルキレンオキサイド鎖を有する化合物(a−2)>
アルキレンオキサイド鎖を有する化合物(a−2)は、下記一般式(2)で表され、例えば、エチレンオキシドのアルキルアルコールによる開環重合後、(メタ)アクリル酸メチルとのエステル交換反応、もしくは(メタ)アクリル酸クロライドとの反応により得ることができる。
CH=C(R)COO(AO) (2)
(式中、RはHまたはCH、Rは水素または炭素数が1〜22の炭化水素基、nは2〜200の整数、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を表す。)
<Compound (a-2) having an alkylene oxide chain>
The compound (a-2) having an alkylene oxide chain is represented by the following general formula (2). For example, after ring-opening polymerization of ethylene oxide with an alkyl alcohol, transesterification with methyl (meth) acrylate, or (meta ) It can be obtained by reaction with acrylic acid chloride.
CH 2 = C (R 5) COO (AO) n R 6 (2)
(In the formula, R 5 represents H or CH 3 , R 6 represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, n represents an integer of 2 to 200, and A represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms. )

前記一般式(2)において、アルキレンオキサイド基(AO)は、炭素数2〜4のアルキレンオキサイド基であり、例えば、エチレンオキサイド基、プロピレンオキサイド基、ブチレンオキサイド基が挙げられる。また、同一モノマー内に、炭素数が異なるアルキレンオキサイド基が存在していてもよい。
アルキレンオキサイド基数(n)は2〜200の整数であり、好ましくは10〜100の整数である。2〜200であると、後述する、不飽和二重結合を有する化合物との十分な相溶性が得られるため好ましい。
は水素または炭素数1〜22の炭化水素基である。炭素数23以上では、原料が高価であるため実用的ではない。
炭素数1〜22の炭化水素基としては、置換又は無置換のものが選択でき、無置換のものが好ましく、無置換のアルキル基が好ましい。無置換のアルキル基としては、分岐を有するもの、有しないもの、いずれをも使うことができる。これらは、2種類以上を併用しても良い。
In the general formula (2), the alkylene oxide group (AO) is an alkylene oxide group having 2 to 4 carbon atoms, and examples thereof include an ethylene oxide group, a propylene oxide group, and a butylene oxide group. Moreover, the alkylene oxide group from which carbon number differs may exist in the same monomer.
The number (n) of alkylene oxide groups is an integer of 2 to 200, preferably an integer of 10 to 100. It is preferable for it to be 2 to 200 since sufficient compatibility with a compound having an unsaturated double bond, which will be described later, is obtained.
R 6 is hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms. A carbon number of 23 or more is not practical because the raw material is expensive.
As the hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group can be selected, an unsubstituted group is preferable, and an unsubstituted alkyl group is preferable. As the unsubstituted alkyl group, any having or not having a branch can be used. Two or more of these may be used in combination.

アルキレンオキサイド鎖を有する化合物(a−2)としては、具体的には例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリ(プロピレングリコール−テトラメチレングリコール)モノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートオクチルエーテル、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートノニルフェニルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the compound (a-2) having an alkylene oxide chain include, for example, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol- Propylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (ethylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate, poly (propylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monomethyl ether, polyethylene Glycol mono (meth) acrylate monobutyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monooctyl ether, polyethylene glycol Cole mono (meth) acrylate monobenzyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monophenyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monodecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monododecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate Monotetradecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monohexadecyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate monooctadecyl ether poly (ethylene glycol-propylene glycol) mono (meth) acrylate octyl ether, poly (ethylene glycol-propylene glycol) ) Mono (meth) acrylate octadecyl ether, poly (ethylene) Glycol - propylene glycol) mono (meth) acrylate nonylphenyl ether.

<(a−2)と共重合可能な化合物(a−3)>
さらに必要に応じて任意に前記(a−2)と共重合可能な化合物(a−3)をラジカル共重合してもよい。
(a−2)と共重合可能な化合物(a−3)は、1つのエチレン性不飽和基を有する化合物であればよく、特に限定されるものでないが、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、シアノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートやスチレン、メチルスチレン等が挙げられる。
<Compound (a-3) copolymerizable with (a-2)>
Furthermore, you may radically copolymerize the compound (a-3) copolymerizable with the said (a-2) as needed.
The compound (a-3) copolymerizable with (a-2) is not particularly limited as long as it is a compound having one ethylenically unsaturated group. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate , Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate and hydroxybutyl (meth) acrylate; benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) Various types (meth) such as acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, cyanoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, etc. ) Acrylate, styrene, methylstyrene and the like.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中、(a)イオン導電性化合物は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用して用いることもできる。   In the composition for forming an antistatic hard coat layer, only one (a) ionic conductive compound may be used, or two or more may be used in combination.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の(a)イオン伝導性化合物の含有量は、帯電防止性を付与するのに十分な量でかつ膜硬度を減損しにくく、低コスト化という観点から、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して0.1質量%〜10質量%が好ましく、0.1質量%〜5質量%がより好ましく、0.1質量%〜1質量%が更に好ましい。   The content of the (a) ion conductive compound in the composition for forming an antistatic hard coat layer is an amount sufficient to impart antistatic properties and is difficult to reduce film hardness, from the viewpoint of cost reduction. The antistatic hard coat layer forming composition is preferably 0.1% by mass to 10% by mass, more preferably 0.1% by mass to 5% by mass, and more preferably 0.1% by mass to 0.1% by mass based on the total solid content in the composition. 1% by mass is more preferable.

[(b)成分:不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ分子中にイソシアヌル環又はリン酸基を有する化合物]
本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物は、(b)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ分子中にイソシアヌル環又はリン酸基を有する化合物を含有する。該(b)成分は、不飽和二重結合を3つ以上有するため、硬化させることにより膜硬度を向上させることができる。更に(b)成分はイソシアヌル環又はリン酸基を有するため、不飽和二重結合の重合により生じる共有結合よりも弱い相互作用を生じさせることができ、イソシアヌル環又はリン酸基を有さない多官能モノマーを用いた場合よりも膜の硬度を保ったまま脆性を改善させることができると考えられる。また、イソシアヌル環、リン酸基といった極性基があることにより、カウンターであるアニオンの移動度が大きくなるため、イオン伝導性化合物が少量でも十分な帯電防止性を発現することができると考えられる。
[Component (b): a compound having three or more unsaturated double bonds and having an isocyanuric ring or a phosphate group in the molecule]
The composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention contains (b) a compound having three or more unsaturated double bonds and having an isocyanuric ring or a phosphate group in the molecule. Since the component (b) has three or more unsaturated double bonds, the film hardness can be improved by curing. Furthermore, since the component (b) has an isocyanuric ring or a phosphate group, it can cause a weaker interaction than a covalent bond generated by polymerization of an unsaturated double bond, and it does not have many isocyanuric rings or phosphate groups. It is considered that the brittleness can be improved while maintaining the film hardness as compared with the case of using a functional monomer. In addition, the presence of a polar group such as an isocyanuric ring or a phosphate group increases the mobility of the counter anion, so that it is considered that sufficient antistatic properties can be exhibited even with a small amount of the ion conductive compound.

(b)成分は不飽和二重結合を3つ以上有するが、膜硬度の向上という理由から、不飽和二重結合を3つ以上6つ以下有することが好ましく、3つ以上4つ以下有することがより好ましい。
ここで、(b)成分が3つ以上有する不飽和二重結合は、光重合可能な基に含まれる不飽和二重結合であることが好ましく、該光重合可能な基としては、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基などが挙げられ他の不飽和二重結合を有する化合物との反応性が良好である観点から、(メタ)アクリロイルオキシ基が好ましく、より好ましくはアクリロイルオキシ基である。
The component (b) has 3 or more unsaturated double bonds, but preferably has 3 or more and 6 or less unsaturated double bonds, preferably 3 or more and 4 or less, for the purpose of improving film hardness. Is more preferable.
Here, the unsaturated double bond that the component (b) has three or more is preferably an unsaturated double bond contained in the photopolymerizable group. Examples of the photopolymerizable group include (meth) From the viewpoint of good reactivity with other unsaturated double bond compounds such as acryloyl group, (meth) acryloyloxy group, vinyl group, allyl group, etc., (meth) acryloyloxy group is preferred, An acryloyloxy group is preferred.

(b)成分は分子中にイソシアヌル環又はリン酸基を有する。すなわち、(b)成分は分子中に下記式(b−1)又は(b−2)の構造を有する。   The component (b) has an isocyanuric ring or a phosphate group in the molecule. That is, the component (b) has a structure of the following formula (b-1) or (b-2) in the molecule.

Figure 2013097163
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(b)成分としては市販品を用いることもできる。例えば、新中村化学工業(株)製NKエステル A−9300(エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート)、日立化成工業(株)製 ファンクリル FA−731A(トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート)、東亜合成(株)製 アロニックス M−315(イソシアヌル酸EO 変性トリアクリレート)、大阪有機化学工業(株)製 ビスコートV#3PA(トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート)等を挙げることができる。   (B) A commercial item can also be used as a component. For example, NK ester A-9300 (ethoxylated isocyanuric acid triacrylate) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Funkrill FA-731A (Tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., Toa Examples include Aronix M-315 (Isocyanuric acid EO-modified triacrylate) manufactured by Synthesizer Co., Ltd., Biscoat V # 3PA (Trisacryloyloxyethyl phosphate) manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., and the like.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中、(b)成分は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用して用いることもできる。   In the composition for forming an antistatic hard coat layer, only one type of component (b) may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明の帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の(b)成分の含有量は、帯電防止性を付与するのに十分な量でかつ膜硬度及び脆性を減損しにくいという観点から、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して20質量%以上80質量%以下が好ましく、25質量%以上75質量%以下がより好ましく、35質量%以上60質量%以下が更に好ましい。   In view of the fact that the content of the component (b) in the composition for forming an antistatic hard coat layer of the present invention is an amount sufficient to impart antistatic properties and the film hardness and brittleness are not easily impaired. 20 mass% or more and 80 mass% or less are preferable with respect to the total solid in the composition for prevention hard coat layer formation, 25 mass% or more and 75 mass% or less are more preferable, and 35 mass% or more and 60 mass% or less are further. preferable.

[(c)成分:不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ重量平均分子量が900以下である化合物]
本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物は、(c)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ重量平均分子量が900以下である化合物を含有する。該(c)成分は、不飽和二重結合を3つ以上有するため、硬化させることにより膜硬度を向上させることができる。更に(c)成分は重量平均分子量が900以下であるため、基材に塗布された際に基材に浸透しやすく、膜の脆性を改善させることができると考えられる。また、(c)成分が基材側に偏在するため、前記(a)イオン伝導性化合物は空気界面側(基材とは反対側)に偏在しやすくなるため、少量の(a)イオン伝導性化合物でも十分な帯電防止性を得ることができ、帯電防止性ハードコート層の低コスト化にも貢献することができる。
なお、(c)成分は前記(b)成分とは別の成分である。
[Component (c): Compound having three or more unsaturated double bonds and a weight average molecular weight of 900 or less]
The composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention contains (c) a compound having three or more unsaturated double bonds and a weight average molecular weight of 900 or less. Since the component (c) has three or more unsaturated double bonds, the film hardness can be improved by curing. Furthermore, since the component (c) has a weight average molecular weight of 900 or less, it is considered that the component (c) easily penetrates into the base material when applied to the base material and can improve the brittleness of the film. In addition, since the component (c) is unevenly distributed on the substrate side, the (a) ion conductive compound is likely to be unevenly distributed on the air interface side (the side opposite to the substrate), so that a small amount of (a) ion conductivity is obtained. Even with a compound, sufficient antistatic properties can be obtained, which can contribute to the cost reduction of the antistatic hard coat layer.
The component (c) is a component different from the component (b).

(c)成分は不飽和二重結合を3つ以上有するが、膜硬度の向上という理由から、不飽和二重結合を3つ以上6つ以下有することが好ましく、3つ以上4つ以下有することがより好ましい。
ここで、(c)成分が3つ以上有する不飽和二重結合は、光重合可能な基に含まれる不飽和二重結合であることが好ましく、該光重合可能な基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CHが好ましく、より好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
The component (c) has 3 or more unsaturated double bonds, but preferably has 3 or more and 6 or less unsaturated double bonds, preferably 3 or more and 4 or less, for the purpose of improving the film hardness. Is more preferable.
Here, the unsaturated double bond that the component (c) has three or more is preferably an unsaturated double bond contained in a photopolymerizable group, and the photopolymerizable group includes (meth) Examples include compounds having a polymerizable functional group such as acryloyl group, vinyl group, styryl group, and allyl group. Among them, (meth) acryloyl group and —C (O) OCH═CH 2 are preferable, and (meth) is more preferable. An acryloyl group.

(c)成分の重量平均分子量は膜硬度と帯電防止性の両立という理由から、200以上900以下が好ましく、250以上600以下がより好ましく、300以上600以下が更に好ましい。   The weight average molecular weight of component (c) is preferably 200 or more and 900 or less, more preferably 250 or more and 600 or less, and still more preferably 300 or more and 600 or less, for the reason that film hardness and antistatic properties are compatible.

(c)成分としては、アルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ウレタン(メタ)アクリレート類、ポリエステル(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。   Component (c) includes alkylene glycol (meth) acrylic acid diesters, polyoxyalkylene glycol (meth) acrylic acid diesters, polyhydric alcohol (meth) acrylic acid diesters, ethylene oxide or propylene oxide adducts. Examples include (meth) acrylic acid diesters, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, and polyester (meth) acrylates.

中でも、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Among these, esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable. For example, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO Modified tri (meth) acrylate phosphate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate Over DOO, polyester polyacrylate and caprolactone-modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate.

(c)成分としては市販品を用いることもできる。例えば、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、新中村化学工業(株)NKエステル A−TMMT、大阪有機化学工業(株)製V#295、ダイセルUCB(株)製EB5129、EB1290等を挙げることができる。   (C) A commercial item can also be used as a component. For example, KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK Ester A-TMMT, Osaka Organic Chemical Co., Ltd. V # 295, Daicel UCB Co., Ltd. EB5129, EB1290, etc. Can do.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中、(c)成分は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用して用いることもできる。   In the composition for forming an antistatic hard coat layer, only one type of component (c) may be used, or two or more types may be used in combination.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の(c)成分の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、20〜80質量%が好ましく、25〜75質量%がより好ましく、40〜65質量%が更に好ましい。   The content of the component (c) in the composition for forming an antistatic hard coat layer gives a sufficient polymerization rate and imparts hardness and the like, so that the total solid content in the composition for forming an antistatic hard coat layer 20-80 mass% is preferable, 25-75 mass% is more preferable, and 40-65 mass% is still more preferable.

[(d)成分:光重合開始剤]
本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物は(d)光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
[(D) component: photopolymerization initiator]
The composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention contains (d) a photopolymerization initiator.
As photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, Examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins. Specific examples, preferred embodiments, commercially available products, and the like of the photopolymerization initiator are described in paragraphs [0133] to [0151] of JP-A-2009-098658, and can be suitably used in the present invention as well. it can.

「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。   “Latest UV Curing Technology” {Technical Information Association, Inc.} (1991), p. 159, and “UV Curing System” written by Kiyomi Kato (published by General Technology Center in 1989), p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中、(d)光重合開始剤は、1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用して用いることもできる。   In the composition for forming an antistatic hard coat layer, only one type of (d) photopolymerization initiator may be used, or two or more types may be used in combination.

帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の(d)光重合開始剤の含有量は、帯電防止性ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。   The content of the (d) photopolymerization initiator in the antistatic hard coat layer forming composition is sufficiently high to polymerize the polymerizable compound contained in the antistatic hard coat layer forming composition, and From the reason that it is set to a sufficiently small amount so that the starting point does not increase too much, it is preferably 0.5 to 8% by mass, preferably 1 to 5% by mass with respect to the total solid content in the composition for forming an antistatic hard coat layer. % Is more preferable.

[(e)成分:溶剤]
本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物は(e)溶剤を含有する。
本発明における帯電防止性ハードコート層形成用組成物は、(a)イオン伝導性化合物との相溶性得る観点で、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2−エチル−1−ヘキサノール、2−メチル−1ヘキサノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、炭酸ジメチル(ジメチルカーボーネート)、炭酸ジエチル(ジエチルカーボネート)、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルn−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、アセトン、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
[(E) component: solvent]
The composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention contains (e) a solvent.
The composition for forming an antistatic hard coat layer in the present invention preferably contains a hydrophilic solvent from the viewpoint of obtaining compatibility with (a) an ion conductive compound. Examples of the hydrophilic solvent include alcohol solvents, carbonate solvents, ester solvents and the like, for example, methanol, ethanol, isopropanol, n-butyl alcohol, cyclohexyl alcohol, 2-ethyl-1-hexanol, 2-methyl-1 Hexanol, 2-methoxyethanol, 2-propoxyethanol, 2-butoxyethanol, diacetone alcohol, dimethyl carbonate (dimethyl carbonate), diethyl carbonate (diethyl carbonate), diisopropyl carbonate, methyl ethyl carbonate, methyl n-propyl carbonate, Ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl acetoacetate , Ethyl acetoacetate, methyl 2-methoxyacetate, methyl 2-ethoxyacetate, ethyl 2-ethoxyacetate, acetone, 1,2-diacetoxyacetone, acetylacetone, etc., are used alone or in combination of two or more. Can be used.

また、上記以外の溶剤を用いてもよい。例えば、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン(MEK)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Further, a solvent other than the above may be used. For example, ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents and the like can be mentioned. For example, dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole, methyl ethyl ketone (MEK), diethyl ketone, dipropyl Ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, methyl isobutyl ketone (MIBK), 2-octanone, 2-pentanone, 2-hexanone, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol butyl ether, propylene glycol methyl Ether, ethyl carbitol, butyl carbitol, hexane, heptane, octane, cyclohexane, methylcyclohexane Sun, ethylcyclohexane, benzene, toluene, xylene and the like, may be used in combination of at least one kind alone or two kinds.

帯電防止性の向上、基材とハードコート層との密着性の向上及び、干渉縞の発生防止という理由から、(e)溶剤としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、炭酸ジメチル、及び炭酸ジエチルからなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましく、メチルエチルケトン、酢酸メチル、炭酸ジメチルがより好ましい。   (E) Solvents include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, dimethyl carbonate because of the improvement in antistatic properties, the improvement in adhesion between the substrate and the hard coat layer, and the prevention of interference fringes. And at least one selected from the group consisting of diethyl carbonate, and methyl ethyl ketone, methyl acetate, and dimethyl carbonate are more preferable.

膜硬度と帯電防止性の両立という理由から、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の固形分濃度は20〜80質量%であることが好ましく、より好ましくは30〜75質量%であり、更に好ましくは40〜70質量%である。帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の(e)溶剤の含有量は、帯電防止性ハードコート層形成用組成物中の固形分濃度が上記範囲になるような含有量であることが好ましい。   The solid content concentration in the composition for forming an antistatic hard coat layer is preferably 20 to 80% by mass, more preferably 30 to 75% by mass, because the film hardness and antistatic property are compatible. More preferably, it is 40-70 mass%. The content of the solvent (e) in the antistatic hard coat layer forming composition is preferably such that the solid content concentration in the antistatic hard coat layer forming composition falls within the above range. .

本発明の帯電防止性ハードコート層形成用組成物には、上記した以外のその他の成分を添加することもできる。
以下、該その他の成分について説明する。
Other components other than those described above can also be added to the composition for forming an antistatic hard coat layer of the present invention.
Hereinafter, the other components will be described.

(界面活性剤)
本発明の帯電防止性ハードコート層形成用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、帯電防止層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、帯電防止化合物の分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。
(Surfactant)
It is also preferable to use various surfactants in the composition for forming an antistatic hard coat layer of the present invention. In general, a surfactant may suppress unevenness in film thickness due to drying variation due to local distribution of drying air, and may improve surface unevenness of an antistatic layer and repelling of a coated material. Furthermore, by improving the dispersibility of the antistatic compound, there are cases where more stable and high conductivity can be expressed, which is preferable.

界面活性剤としては、具体的にはフッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。   Specifically, the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant. Further, the surfactant is preferably an oligomer or a polymer rather than a low molecular compound.

界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加した帯電防止層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。帯電防止層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。   When a surfactant is added, the surfactant quickly moves to the surface of the applied liquid film and becomes unevenly distributed, and the surfactant is unevenly distributed on the surface even after the film is dried. The surface energy of the antistatic layer is reduced by the surfactant. From the viewpoint of preventing non-uniformity in film thickness, repellency, and unevenness of the antistatic layer, the surface energy of the film is preferably low.

フッ素系界面活性剤の好ましい態様、及び具体例は、特開2007−102206号公報の段落番号[0023]〜[0080]に記載されており、本発明においても同様である。   Preferred embodiments and specific examples of the fluorosurfactant are described in paragraph numbers [0023] to [0080] of JP-A-2007-102206, and the same applies to the present invention.

シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び/又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。   Preferable examples of the silicone surfactant include those having a substituent at the end of the compound chain and / or the side chain, containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include groups containing a polyether group, an alkyl group, an aryl group, an aryloxy group, an aryl group, a cinnamoyl group, an oxetanyl group, a fluoroalkyl group, a polyoxyalkylene group, and the like.

分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることがより好ましく、1000〜30000であることが特に好ましく、1000〜20000であることが最も好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is more preferable that it is 50,000 or less, It is especially preferable that it is 1000-30000, It is most preferable that it is 1000-20000.

好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業(株)製の“X−22−174DX”、“X−22−2426”、“X22−164C”、“X−22−176D”(以上商品名);チッソ(株)製の、“FM−7725”、“FM−5521”、“FM−6621”(以上商品名);Gelest製の“DMS−U22”、“RMS−033”(以上商品名);東レ・ダウコーニング(株)製の“SH200”、“DC11PA”、“ST80PA”、“L7604”、“FZ−2105”、“L−7604”、“Y−7006”、“SS−2801”(以上商品名);モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“TSF400”(商品名);などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
前記界面活性剤は、帯電防止性ハードコート層形成用塗布組成物の全固形分中に0.01〜0.5質量%含有されることが好ましく、0.01〜0.3質量%がより好ましい。
Examples of preferable silicone compounds include “X-22-174DX”, “X-22-2426”, “X22-164C”, “X-22-176D” (trade names) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ); “FM-7725”, “FM-5521”, “FM-6621” (above product names) manufactured by Chisso Corporation; “DMS-U22”, “RMS-033” (above product names) manufactured by Gelest ); “SH200”, “DC11PA”, “ST80PA”, “L7604”, “FZ-2105”, “L-7604”, “Y-7006”, “SS-2801” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. (Product name); “TSF400” (product name); manufactured by Momentive Performance Materials Japan, but not limited thereto.
The surfactant is preferably contained in the total solid content of the coating composition for forming an antistatic hard coat layer in an amount of 0.01 to 0.5% by mass, more preferably 0.01 to 0.3% by mass. preferable.

(透光性樹脂粒子)
本発明の帯電防止性ハードコート層には、防眩性(表面散乱性)や内部散乱性を付与するため、各種の透光性樹脂粒子を用いることができる。
(Translucent resin particles)
In the antistatic hard coat layer of the present invention, various translucent resin particles can be used in order to impart antiglare properties (surface scattering properties) and internal scattering properties.

透光性樹脂粒子は、粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が前述のような数値になるものが好ましい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)等が用いられる。
As the translucent resin particles have no variation in particle size, the scattering characteristics are less varied and the design of the haze value becomes easier. As the translucent particles, plastic beads are preferable, and those having particularly high transparency and a difference in refractive index with the binder are preferable.
As organic particles, polymethyl methacrylate particles (refractive index 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index 1.54), melamine resin particles (refractive index 1.57), polycarbonate particles ( Refractive index 1.57), polystyrene particles (refractive index 1.60), crosslinked polystyrene particles (refractive index 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (refractive index 1. 68) etc. are used.

なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。   Of these, cross-linked polystyrene particles, cross-linked poly ((meth) acrylate) particles, and cross-linked poly (acryl-styrene) particles are preferably used, and a binder is selected according to the refractive index of each light-transmitting particle selected from these particles. By adjusting the refractive index, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness of the present invention can be achieved.

本発明に用いることができるバインダーと透光性樹脂粒子との屈折率の差(透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030である。屈折率の差がこの範囲であるとフィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じない。   The difference in refractive index between the binder and the translucent resin particles that can be used in the present invention (the refractive index of the translucent particles−the refractive index of the binder) is preferably 0.001 to 0.030 as an absolute value. . When the difference in refractive index is within this range, problems such as film character blurring, dark room contrast reduction, and surface turbidity do not occur.

透光性樹脂粒子の平均粒子径(体積基準)は0.5〜20μmが好ましい。平均粒径がこの範囲であると、光の散乱角度分布が広角になりすぎなないためディスプレイの文字ボケがない。   The average particle diameter (volume basis) of the translucent resin particles is preferably 0.5 to 20 μm. When the average particle diameter is within this range, the light scattering angle distribution does not become too wide, and there is no character blur on the display.

また、粒子径の異なる2種以上の透光性樹脂粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性樹脂粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。   Moreover, you may use together and use 2 or more types of translucent resin particles from which a particle diameter differs. It is possible to impart an antiglare property with a light-transmitting resin particle having a larger particle diameter, and to reduce surface roughness with a light-transmitting particle having a smaller particle diameter.

前記透光性粒子を配合する際は、帯電防止性ハードコート層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合されることが好ましい。含有量がこの範囲であると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題も防止でき、帯電防止性も損なわれない。   When blending the translucent particles, it is preferably blended so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the antistatic hard coat layer. When the content is within this range, problems such as image blur, surface turbidity and glare can be prevented, and antistatic properties are not impaired.

[光学フィルム]
以下、本発明の光学フィルムについて説明する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記帯電防止性ハードコート層形成用組成物を用いて形成された帯電防止性ハードコート層を有する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上に帯電防止性ハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層(低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層)などを設けることができる。
[Optical film]
Hereinafter, the optical film of the present invention will be described.
The optical film of the present invention has an antistatic hard coat layer formed on the transparent substrate using the antistatic hard coat layer forming composition.
The optical film of the present invention has an antistatic hard coat layer on a transparent substrate, and may further include a single or a plurality of necessary functional layers depending on the purpose. For example, an antireflection layer (a layer having a refractive index adjusted, such as a low refractive index layer, a medium refractive index layer, or a high refractive index layer) can be provided.

本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。
透明支持体/帯電防止性ハードコート層
透明支持体/帯電防止性ハードコート層/低屈折率層
透明支持体/帯電防止性ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
透明支持体/帯電防止性ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
The example of the more concrete layer structure of the optical film of this invention is shown below.
Transparent support / Antistatic hard coat layer Transparent support / Antistatic hard coat layer / Low refractive index layer Transparent support / Antistatic hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Transparent support / Charge Preventive hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer

[透明基材]
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材(支持体)として種々用いることができるが、セルロース系ポリマーを含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、25μm〜1000μm程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる40μm〜200μmが好ましい。
[Transparent substrate]
In the optical film of the present invention, various materials can be used as the transparent substrate (support), but a substrate containing a cellulose-based polymer is preferable, and a cellulose acylate film is more preferable.
Although it does not specifically limit as a cellulose acylate film, When installing in a display, since a cellulose triacetate film can be used as it is as a protective film which protects the polarizing layer of a polarizing plate, it is cellulose triacetate in terms of productivity and cost. A film is particularly preferred.
The thickness of the cellulose acylate film is usually about 25 μm to 1000 μm, but 40 μm to 200 μm is preferable because the handleability is good and the necessary substrate strength is obtained.

本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が59.0〜61.5%であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験法)におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることが更に好ましい。   In the present invention, it is preferable to use cellulose acetate having an acetylation degree of 59.0 to 61.5% for the cellulose acylate film. The degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation follows the measurement and calculation of the degree of acetylation in ASTM: D-817-91 (test method for cellulose acetate and the like). The viscosity average degree of polymerization (DP) of cellulose acylate is preferably 250 or more, and more preferably 290 or more.

また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)の値が1.0に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜1.7であることが好ましく、1.3〜1.65であることが更に好ましく、1.4〜1.6であることが最も好ましい。   The cellulose acylate used in the present invention has a Mw / Mn (Mw is a mass average molecular weight, Mn is a number average molecular weight) value by gel permeation chromatography close to 1.0, in other words, a molecular weight distribution. Narrow is preferred. The specific value of Mw / Mn is preferably 1.0 to 1.7, more preferably 1.3 to 1.65, and most preferably 1.4 to 1.6. preferable.

一般に、セルロースアシレートの2,3,6位の水酸基は全体の置換度の1/3ずつに均等に分配されるわけではなく、6位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの6位水酸基の置換度が、2,3位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して6位の水酸基が32%以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には33%以上、特に34%以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの6位アシル基の置換度が0.88以上であることが好ましい。6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMRによって求めることができる。
In general, the hydroxyl groups at 2, 3, and 6 positions of cellulose acylate are not evenly distributed by 1/3 of the total substitution degree, and the substitution degree of the 6-position hydroxyl group tends to be small. In the present invention, it is preferable that the substitution degree of the 6-position hydroxyl group of cellulose acylate is larger than that of the 2- and 3-positions.
The hydroxyl group at the 6-position with respect to the total substitution degree is preferably substituted with 32% or more of an acyl group, more preferably 33% or more, and particularly preferably 34% or more. Furthermore, the substitution degree of the 6-position acyl group of cellulose acylate is preferably 0.88 or more. The 6-position hydroxyl group may be substituted with a propionyl group, butyroyl group, valeroyl group, benzoyl group, acryloyl group or the like, which is an acyl group having 3 or more carbon atoms, in addition to the acetyl group. The degree of substitution at each position can be determined by NMR.

本発明ではセルロースアシレートとして、特開平11−5851号公報の段落番号0043〜0044、実施例、合成例1、段落番号0048〜0049、合成例2、段落番号0051〜0052、合成例3に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。   In the present invention, cellulose acylate is described in paragraph Nos. 0043 to 0044, Examples, Synthesis Example 1, Paragraph Nos. 0048 to 0049, Synthesis Examples 2, Paragraph Nos. 0051 to 0052, and Synthesis Example 3 of JP-A No. 11-5851. The cellulose acetate obtained by the method can be used.

[帯電防止性ハードコート層の物性]
本発明における帯電防止性ハードコート層は、屈折率が1.48〜1.65であることが好ましい。更に望ましくは1.48〜1.60、最も好ましくは1.48〜1.55である。上記範囲内とすることで基材との干渉ムラを抑制し、更に低屈折率層を積層した際には反射色味をニュートラルにすることができるため好ましい。
[Physical properties of antistatic hard coat layer]
The antistatic hard coat layer in the present invention preferably has a refractive index of 1.48 to 1.65. It is more desirably 1.48 to 1.60, and most preferably 1.48 to 1.55. Within the above range, interference unevenness with the substrate is suppressed, and when a low refractive index layer is further laminated, the reflection color can be neutralized, which is preferable.

帯電防止性ハードコート層の膜厚は、1μm以上であることが好ましく、3μm〜20μmがより好ましく、5μm〜15μmが更に好ましく、6μm〜15μmが最も好ましい。上記範囲とすることで物理強度と帯電防止性を両立することができる。
また、帯電防止性ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、2H以上であることが好ましく、3H以上であることがより好ましい。更に、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
The film thickness of the antistatic hard coat layer is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm to 20 μm, still more preferably 5 μm to 15 μm, and most preferably 6 μm to 15 μm. By setting it as the said range, physical strength and antistatic property can be made compatible.
Further, the strength of the antistatic hard coat layer is preferably 2H or more, more preferably 3H or more, in a pencil hardness test. Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

帯電防止性ハードコート層の透過率は80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることが最も好ましい。   The transmittance of the antistatic hard coat layer is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and most preferably 90% or more.

[光学フィルムの物性]
本発明の光学フィルムの表面抵抗率は帯電防止性の観点から低いほど好ましく、25℃60%環境下で1010Ω/sq.(Ω/□)以下であることが好ましく、5×10Ω/sq.以下であることがより好ましく、更に好ましくは10Ω/sq.以下である。表面抵抗率を上記範囲にすることで優れた防塵性を付与することが可能となる。
[Physical properties of optical film]
The surface resistivity of the optical film of the present invention is preferably as low as possible from the viewpoint of antistatic properties, and is 10 10 Ω / sq. (Ω / □) or less is preferable, and 5 × 10 9 Ω / sq. Or less, more preferably 10 9 Ω / sq. It is as follows. By setting the surface resistivity within the above range, excellent dust resistance can be imparted.

(光学フィルムの製造方法)
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず帯電防止性ハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法(米国特許2681294号明細書、特開2006−122889号公報参照)がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
(Optical film manufacturing method)
The optical film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
First, an antistatic hard coat layer forming composition is prepared. Next, the composition is applied onto a transparent support by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, die coating, or the like, and heated and dried. A micro gravure coating method, a wire bar coating method, and a die coating method (see US Pat. No. 2,681,294 and JP-A-2006-122889) are more preferable, and a die coating method is particularly preferable.

塗布した後、乾燥、光照射して帯電防止性ハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これにより帯電防止性ハードコート層が形成される。必要に応じて、透明支持体上にあらかじめその他の層(以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層など)を塗設しておき、その上に帯電防止性ハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。
本発明の光学フィルムの製造方法としては、セルロースアシレートフィルム基材上に、前記帯電防止性ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化して帯電防止性ハードコート層を形成する工程を有する方法が好ましい。
After the coating, the layer formed from the composition for forming an antistatic hard coat layer is cured by drying and light irradiation, whereby an antistatic hard coat layer is formed. If necessary, other layers (layers constituting the film described below, for example, a hard coat layer, an antiglare layer, etc.) are coated on the transparent support in advance, and an antistatic hard coat is formed thereon. It is also possible to form layers. In this way, the optical film of the present invention is obtained.
The method for producing an optical film of the present invention includes a step of forming an antistatic hard coat layer by applying and curing the antistatic hard coat layer forming composition on a cellulose acylate film substrate. Is preferred.

(高屈折率層及び中屈折率層)
本発明の光学フィルムは、更に高屈折率層や中屈折率層を有してもよい。
高屈折率層の屈折率は、1.65〜2.20であることが好ましく、1.70〜1.80であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.65であることが好ましく、1.58〜1.63であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
(High refractive index layer and medium refractive index layer)
The optical film of the present invention may further have a high refractive index layer or a medium refractive index layer.
The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.65 to 2.20, and more preferably 1.70 to 1.80. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.55 to 1.65, and more preferably 1.58 to 1.63.
The high refractive index layer and the medium refractive index layer are formed by chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD), particularly by vacuum vapor deposition or sputtering, which is a kind of physical vapor deposition, to form an inorganic oxide transparent thin film. Although it can be used, an all wet coating method is preferred.

中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開2008−262187の段落番号[0074]〜[0094]に示される。   The medium refractive index layer and the high refractive index layer are not particularly limited as long as they are in the above refractive index range, but known components can be used as the constituent components. Specifically, paragraph number [0074] of JP-A-2008-262187 can be used. ] To [0094].

(低屈折率層)
本発明の光学フィルムは、前記帯電防止性ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
この場合、低屈折率層は、屈折率が1.30〜1.51であることが好ましい。1.30〜1.46であることが好ましく、1.32〜1.38が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
(Low refractive index layer)
The optical film of the present invention preferably has a low refractive index layer on the antistatic hard coat layer directly or via another layer. In this case, the optical film of the present invention can function as an antireflection film.
In this case, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.30 to 1.51. It is preferably 1.30 to 1.46, more preferably 1.32 to 1.38. Within the above range, the reflectance can be suppressed and the film strength can be maintained, which is preferable. The low refractive index layer can be formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, particularly a vacuum vapor deposition method or a sputtering method, which is a kind of physical vapor deposition method. It is preferable to use an all wet coating method using the composition for a low refractive index layer.

低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開2007−298974号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開2002−317152号公報、特開2003−202406号公報、及び特開2003−292831号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。   The low refractive index layer is not particularly limited as long as it is a layer having the above refractive index range, but a known component can be used as a constituent component. Specifically, the fluorine-containing curability described in JP-A-2007-298974 can be used. A composition containing a resin and inorganic fine particles and a hollow silica fine particle-containing low refractive index coating described in JP-A Nos. 2002-317152, 2003-202406, and 2003-292831 are preferably used. be able to.

[偏光板用保護フィルム]
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の2枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
[Protective film for polarizing plate]
When the optical film is used as a surface protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate), the surface of the transparent support opposite to the side having the thin film layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film is hydrophilized. By performing so-called saponification treatment, it is possible to improve adhesiveness with a polarizing film containing polyvinyl alcohol as a main component.
Of the two protective films of the polarizer, the film other than the optical film is preferably an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optical anisotropic layer. The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.

上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から3分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が3質量%〜25質量%であり、処理温度は30℃〜70℃、処理時間は15秒〜5分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。
The saponification process described above will be described. The saponification treatment is a treatment in which an optical film is immersed in a heated alkaline aqueous solution for a certain period of time and washed with water, followed by acid washing for neutralization. As long as the surface of the transparent support to be bonded to the polarizing film is submerged, any processing conditions can be used. The concentration of the processing agent, the temperature of the processing agent solution, and the processing time are appropriately determined. The processing conditions are determined so that processing can be performed within 3 minutes from the need to ensure the performance. As general conditions, the alkali concentration is 3% by mass to 25% by mass, the treatment temperature is 30 ° C. to 70 ° C., and the treatment time is 15 seconds to 5 minutes. Sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable as the alkali species used for the alkali treatment, sulfuric acid is preferable as the acid used for the acid cleaning, and ion-exchanged water or pure water is preferable as the water used for the water cleaning.
Even if the antistatic layer of the optical film of the present invention is exposed to an alkaline aqueous solution by such a saponification treatment, the antistatic performance is maintained well.

本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム(偏光板用保護フィルム)として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。   When the optical film of the present invention is used as a surface protective film for a polarizing film (protective film for polarizing plate), the cellulose acylate film is preferably a cellulose triacetate film.

[偏光板]
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムである。
[Polarizer]
Next, the polarizing plate of the present invention will be described.
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a polarizing film and two protective films for protecting both surfaces of the polarizing film, and at least one of the protective films is the optical film or the antireflection film of the present invention.

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。   Examples of the polarizing film include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film can be generally produced using a polyvinyl alcohol film.

光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。   A structure in which the cellulose acylate film of the optical film is adhered to the polarizing film through an adhesive layer made of polyvinyl alcohol, if necessary, and a protective film is also provided on the other side of the polarizing film. The surface of the other protective film opposite to the polarizing film may have an adhesive layer.

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。   By using the optical film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a polarizing plate excellent in physical strength, antistatic properties and durability can be produced.

また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、2枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。   Moreover, the polarizing plate of the present invention can also have an optical compensation function. In that case, only one side of either the front surface or the back surface of the two surface protective films is formed using the optical film, and the side having the optical film of the polarizing plate is the surface protective film on the other surface side. Is preferably an optical compensation film.

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。   By producing a polarizing plate using the optical film of the present invention as one of the protective films for polarizing plates and the optical compensation film having optical anisotropy as the other protective film of the polarizing film, It can improve the contrast in the bright room and the viewing angle of up, down, left and right.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、及び偏光板は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型/半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された2枚の偏光板を有し、液晶セルは、2枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に2枚配置されることもある。
液晶セルは、TNモード、VAモード、OCBモード、IPSモード又はECBモードであることが好ましい。
[Image display device]
The image display device of the present invention has the optical film or polarizing plate of the present invention on the outermost surface of the display.
The optical film and the polarizing plate of the present invention are preferably used for an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display device (CRT). it can.
In particular, it can be advantageously used in an image display device such as a liquid crystal display device, and in a transmissive / semi-transmissive liquid crystal display device, it is particularly preferably used as the outermost layer on the backlight side of a liquid crystal cell.
In general, a liquid crystal display device has a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged on both sides thereof, and the liquid crystal cell carries a liquid crystal between two electrode substrates. Furthermore, one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and both polarizing plates.
The liquid crystal cell is preferably in TN mode, VA mode, OCB mode, IPS mode or ECB mode.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the scope of the present invention should not be construed as being limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

〔光学フィルムの作製〕
下記に示す通りに、帯電防止性ハードコート層形成用の塗布液を調製し、透明基材上に帯電防止性ハードコート層を形成して、光学フィルム試料を作製した。
[Production of optical film]
As shown below, a coating solution for forming an antistatic hard coat layer was prepared, and an antistatic hard coat layer was formed on a transparent substrate to prepare an optical film sample.

(帯電防止性ハードコート層用塗布液の調製)
下記表1に記載の(a)成分、(b)成分、(c)成分、(d)成分、及び(e)成分を添加し、得られた組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌し、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して実施例1〜15、比較例1〜4の帯電防止性ハードコート層塗布液とした。
表1において、(a)成分、(b)成分、(c)成分、及び(d)成分の含有量は、帯電防止性ハードコート層用塗布液の全固形分に対する割合(質量%)で表し、(e)成分の含有量は、帯電防止性ハードコート層用塗布液の全質量に対する割合(質量%)で表した。
(Preparation of coating solution for antistatic hard coat layer)
(A) component, (b) component, (c) component, (d) component, and (e) component described in Table 1 below are added, and the resulting composition is put into a mixing tank and stirred. It filtered with the filter made from a polypropylene with the hole diameter of 0.4 micrometer, and was set as the antistatic hard-coat layer coating liquid of Examples 1-15 and Comparative Examples 1-4.
In Table 1, the content of the component (a), the component (b), the component (c), and the component (d) is expressed as a ratio (% by mass) to the total solid content of the coating solution for the antistatic hard coat layer. The content of the component (e) was expressed as a ratio (% by mass) to the total mass of the coating solution for an antistatic hard coat layer.

(帯電防止性ハードコート層の作製)
層厚60μmの透明支持体としてのセルローストリアセテートフィルム(TDH60UF、富士フイルム(株)製、屈折率1.48)上に、前記帯電防止性ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。60℃で約2分間乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量150mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ10μmの帯電防止性ハードコート層を形成し、実施例1〜15、比較例1〜4の光学フィルム試料を作製した。
(Preparation of antistatic hard coat layer)
The antistatic hard coat layer coating solution was applied on a cellulose triacetate film (TDH60UF, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., refractive index 1.48) as a transparent support having a layer thickness of 60 μm using a gravure coater. After drying at 60 ° C. for about 2 minutes, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0% by volume or less, the illuminance The coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 to form an antistatic hard coat layer having a thickness of 10 μm. Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 4 A film sample was prepared.

(光学フィルムの評価)
以下の方法により光学フィルムの諸特性の評価を行った。
(Evaluation of optical film)
Various characteristics of the optical film were evaluated by the following methods.

(1)表面抵抗
光学フィルム試料を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、4339B ハイレジスタンスメーター(アジレント・テクノロジー製)を用いて測定し、印加電圧100Vでの表面抵抗値を以下の基準で評価した。
◎:1.0×10Ω/sq.以下
○:1.0×10Ω/sq.より大きく、5×10Ω/sq.以下
△:5×10Ω/sq.より大きく、1.0×1010Ω/sq.以下
×:1.0×1010Ω/sq.より大きい
(1) Surface resistance An optical film sample was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, then measured using a 4339B high resistance meter (manufactured by Agilent Technologies), and the surface resistance at an applied voltage of 100V. Values were evaluated according to the following criteria.
A: 1.0 × 10 9 Ω / sq. Or less ○: 1.0 × 10 9 Ω / sq. Larger, 5 × 10 9 Ω / sq. Δ: 5 × 10 9 Ω / sq. Larger, 1.0 × 10 10 Ω / sq. X: 1.0 × 10 10 Ω / sq. Greater than

(2)鉛筆硬度
光学フィルム試料を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆(硬度H〜4H)を用いて、JIS K5600−5−4(1999)が規定する鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて実施した。鉛筆硬度2H以上が好ましく、3H以上が特に好ましい。
(2) Pencil hardness After conditioning the optical film sample for 2 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, a test pencil (hardness H to 4H) specified by JIS-S-6006 is used. In accordance with the pencil hardness evaluation method specified by -5-4 (1999), the load was 4.9N. The pencil hardness is preferably 2H or higher, particularly preferably 3H or higher.

(3)脆性
光学フィルム試料を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、帯電防止性ハードコート層を外側にして直径の異なるロールに巻きつけ、帯電防止性ハードコート層におけるひび割れの有無を判定し、ひび割れの入らなかった最も小さい直径を脆性の値とし、以下の基準で評価した。
◎:5mm未満
○:5mm以上8mm未満
△:8mm以上10mm未満
×:10mm以上
(3) Brittleness After the optical film sample was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the antistatic hard coat layer was wound around a roll having a different diameter with the antistatic hard coat layer outside. The presence or absence of cracks was determined, and the smallest diameter that did not crack was defined as the brittleness value, and evaluated according to the following criteria.
A: Less than 5 mm
○: 5 mm or more and less than 8 mm △: 8 mm or more and less than 10 mm ×: 10 mm or more

Figure 2013097163
Figure 2013097163

A−9300:エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート(新中村化学製)
V#3PA:トリスアクリロイルオキシエチルフォスフェート(大阪有機化学製)
A−TMMT:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学製)
V#295:トリメチロールプロパントリアクリレート(大阪有機化学製)
EB5129:ウレタンアクリレート(6官能、ダイセルUCB製)
DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬製)
UV−1700B:ウレタンアクリレート(10官能、日本合成化学製)
DPCA−60:DPHAのカプロラクトン変性品(6官能、日本化薬製)
A−600:ポリエチレングリコールジアクリレート(2官能、新中村化学製)
EB1290:ウレタンアクリレート(6官能、ダイセルUCB製)
Irg.184:イルガキュア184(光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
ブレンマーQA:N,N,N−トリメチル−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル)−アンモニウムクロライド(日油製)
DQ−100:ジメチルアミノエチルメタクリレート 四級化物(共栄社化学製)
A-9300: Ethoxylated isocyanuric acid triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical)
V # 3PA: Trisacryloyloxyethyl phosphate (Osaka Organic Chemical)
A-TMMT: Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical)
V # 295: Trimethylolpropane triacrylate (Osaka Organic Chemical)
EB5129: Urethane acrylate (hexafunctional, manufactured by Daicel UCB)
DPHA: Dipentaerythritol pentaacrylate (Nippon Kayaku)
UV-1700B: urethane acrylate (10 functional, manufactured by Nippon Synthetic Chemical)
DPCA-60: DPHA caprolactone modified product (hexafunctional, Nippon Kayaku)
A-600: Polyethylene glycol diacrylate (bifunctional, manufactured by Shin-Nakamura Chemical)
EB1290: Urethane acrylate (hexafunctional, manufactured by Daicel UCB)
Irg. 184: Irgacure 184 (photopolymerization initiator, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
BLEMMER QA: N, N, N-trimethyl- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl) -ammonium chloride (manufactured by NOF Corporation)
DQ-100: dimethylaminoethyl methacrylate quaternized product (manufactured by Kyoeisha Chemical)

Claims (10)

下記(a)、(b)、(c)、(d)、及び(e)を含有する帯電防止性ハードコート層形成用組成物。
(a)イオン伝導性化合物
(b)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ分子中にイソシアヌル環又はリン酸基を有する化合物
(c)不飽和二重結合を3つ以上有し、かつ重量平均分子量が900以下である化合物
(d)光重合開始剤
(e)溶剤
An antistatic hard coat layer forming composition containing the following (a), (b), (c), (d), and (e).
(A) an ion conductive compound (b) a compound having three or more unsaturated double bonds and having an isocyanuric ring or a phosphate group in the molecule (c) having three or more unsaturated double bonds, And a compound having a weight average molecular weight of 900 or less (d) a photopolymerization initiator (e) a solvent
前記帯電防止性ハードコート層形成用組成物の全固形分に対する前記(b)成分の割合が20〜80質量%である、請求項1に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。   The composition for forming an antistatic hard coat layer according to claim 1, wherein the ratio of the component (b) to the total solid content of the composition for forming an antistatic hard coat layer is 20 to 80% by mass. 前記(e)成分が、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、炭酸ジメチル、及び炭酸ジエチルからなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項1又は2に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。   The antistatic hard according to claim 1 or 2, wherein the component (e) includes at least one selected from the group consisting of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, dimethyl carbonate, and diethyl carbonate. A composition for forming a coat layer. 前記(a)成分が4級アンモニウム塩基含有ポリマーである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。   The composition for forming an antistatic hard coat layer according to any one of claims 1 to 3, wherein the component (a) is a quaternary ammonium base-containing polymer. 前記(a)成分が、下記一般式(I)〜(III)で表される構造単位の少なくとも1つの単位を有するポリマーである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物。
Figure 2013097163

一般式(I)中、Rは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−CHCOOを表す。Yは水素原子又は−COOを表す。Mはプロトン又はカチオンを表す。Lは−CONH−、−COO−、−CO−又は−O−を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Qは下記群Aから選ばれる基を表す。
Figure 2013097163

式中、R、R’及びR’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Jはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Xはアニオンを表す。p及びqは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
Figure 2013097163

Figure 2013097163

一般式(II)、(III)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、アルキル基を表し、RとR及びRとRはそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
A、B及びDは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−を表す。Eは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−RCOR−、−RCOOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−又は―R23NHCONHR24NHCONHR25−又は−NHCOR26CONH−を表す。R、R、R、R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19、R20、R22、R23、R25及びR26はアルキレン基を表す。R10、R13、R18、R21及びR24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。mは1〜4の正の整数を表す。Xはアニオンを表す。
、Zは−N=C−基とともに5員又は6員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡N[X]−なる4級塩の形でEに連結してもよい。
nは5〜300の整数を表す。
The antistatic property according to any one of claims 1 to 4, wherein the component (a) is a polymer having at least one unit of structural units represented by the following general formulas (I) to (III). A composition for forming a hard coat layer.
Figure 2013097163

In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom or -CH 2 COO - represents an M +. Y represents a hydrogen atom or -COO - M + . M + represents a proton or a cation. L represents -CONH-, -COO-, -CO- or -O-. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. Q represents a group selected from the following group A.
Figure 2013097163

In the formula, R 2 , R 2 ′ and R 2 ″ each independently represents an alkyl group. J represents an alkylene group, an arylene group, or a group formed by combining these. X represents an anion. p and q each independently represents 0 or 1.
Figure 2013097163

Figure 2013097163

In the general formulas (II) and (III), R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, and R 3 and R 4 and R 5 and R 6 are bonded to each other. A nitrogen-containing heterocycle may be formed.
A, B and D are each independently an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylenealkylene group, -R 7 COR 8 -, - R 9 COOR 10 OCOR 11 -, - R 12 OCR 13 COOR 14 -, - R 15 - (oR 16) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - represents a. E represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, an alkenylene group, an arylene alkylene group, —R 7 COR 8 —, —R 9 COOR 10 OCOR 11 —, —R 12 OCR 13 COOR 14 —, —R 15 — (OR 16 ) m -, - R 17 CONHR 18 NHCOR 19 -, - R 20 OCONHR 21 NHCOR 22 - or -R 23 NHCONHR 24 NHCONHR 25 - or an -NHCOR 26 CONH-. R 7 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 19 , R 20 , R 22 , R 23 , R 25 and R 26 represent an alkylene group. R 10 , R 13 , R 18 , R 21 and R 24 each independently represent a linking group selected from an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, an arylene alkylene group and an alkylene arylene group. m represents a positive integer of 1 to 4. X represents an anion.
Z 1 and Z 2 represent a group of nonmetallic atoms necessary to form a 5-membered or 6-membered ring together with —N═C— group, and are represented by E in the form of a quaternary salt of ≡N + [X ] —. You may connect.
n represents an integer of 5 to 300.
透明基材上に、請求項1〜5のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物から形成された帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルム。   The optical film which has the antistatic hard-coat layer formed from the composition for antistatic hard-coat layer formation of any one of Claims 1-5 on a transparent base material. 前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである請求項6に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 6, wherein the transparent substrate is a cellulose acylate film. 偏光膜と該偏光膜の両面を保護する2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が請求項6又は7に記載の光学フィルムである偏光板。   A polarizing plate comprising a polarizing film and two protective films protecting both surfaces of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is the optical film according to claim 6 or 7. 請求項6若しくは7に記載の光学フィルム、又は請求項8に記載の偏光板を有する画像表示装置。   An image display device comprising the optical film according to claim 6 or 7, or the polarizing plate according to claim 8. セルロースアシレートフィルム基材上に、帯電防止性ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に請求項1〜5のいずれか1項に記載の帯電防止性ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化して帯電防止性ハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。   It is a manufacturing method of the optical film which has an antistatic hard-coat layer on a cellulose acylate film base material, Comprising: On this cellulose acylate film base material, antistatic of any one of Claims 1-5 A method for producing an optical film comprising a step of applying and curing a composition for forming a hard coat layer to form an antistatic hard coat layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016212224A (en) * 2015-05-07 2016-12-15 大日本印刷株式会社 Laminate, image display device, manufacturing method of laminate, and transfer method of protective layer

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