JP2013093513A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2013093513A
JP2013093513A JP2011235995A JP2011235995A JP2013093513A JP 2013093513 A JP2013093513 A JP 2013093513A JP 2011235995 A JP2011235995 A JP 2011235995A JP 2011235995 A JP2011235995 A JP 2011235995A JP 2013093513 A JP2013093513 A JP 2013093513A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
signal
conductivity type
transistor
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011235995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Hayashi
浩一郎 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micron Memory Japan Ltd
Original Assignee
Elpida Memory Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elpida Memory Inc filed Critical Elpida Memory Inc
Priority to JP2011235995A priority Critical patent/JP2013093513A/en
Publication of JP2013093513A publication Critical patent/JP2013093513A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can inhibit deterioration in a first conductivity type transistor in a standby state.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a plurality of cascade connected circuits each including a first conductivity type transistor; and a control circuit connected to connection input terminals connected to another circuit among connection input terminals of the respective plurality of circuits, for supplying, in response to activation of a control signal for controlling a voltage to the connection input terminal, a first voltage to the connection input terminal for causing the first conductivity type transistor to be in a non-conductive state in a circuit that receives a voltage from the connection input terminal.

Description

本発明は、半導体装置に関し、特には、トランジスタの劣化を抑制可能な半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device capable of suppressing deterioration of a transistor.

近年、半導体装置においてMOSトランジスタのゲート酸化膜の薄膜化が進んでいる。   In recent years, gate oxide films of MOS transistors have been made thinner in semiconductor devices.

しかしながら、ゲート酸化膜の薄膜化は、PチャネルMOSトランジスタ(以下「PMOSトランジスタ」と称する)においてNBTI(Negative Bias Temperature Instability)劣化を引き起こす。   However, the thinning of the gate oxide film causes NBTI (Negative Bias Temperature Instability) deterioration in a P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as “PMOS transistor”).

NBTI劣化は、特許文献1に記載されているように、PMOSトランジスタのゲートにオン電圧“L”が継続して印加されることで生じる。PMOSトランジスタでは、NBTI劣化によってしきい値電圧が変動する。   As described in Patent Document 1, the NBTI degradation occurs when the ON voltage “L” is continuously applied to the gate of the PMOS transistor. In the PMOS transistor, the threshold voltage varies due to NBTI degradation.

特開2006−140284号公報JP 2006-140284 A

MOSトランジスタを有する回路では、スタンバイ状態時に、劣化(例えば、NBTI劣化)が進行するという問題を本発明者は明らかにした。   The inventor has clarified the problem that deterioration (for example, NBTI deterioration) proceeds in a standby state in a circuit having a MOS transistor.

ここで、スタンバイ状態とは、電源はオン状態であり、MOSトランジスタを有する回路の入力および出力が、それぞれ、“H”と“L”とのいずれか一方に固定された状態のことである。   Here, the standby state is a state in which the power supply is on and the input and output of the circuit having the MOS transistor are fixed to either “H” or “L”, respectively.

以下、スタンバイ状態時に劣化が進行するという問題について説明する。   Hereinafter, the problem that the deterioration proceeds in the standby state will be described.

PMOSトランジスタを有する回路がスタンバイ状態になると、その回路内の様々なノードのレベルは、“H”と“L”とのいずれか一方に固定された状態となる。   When a circuit having a PMOS transistor enters a standby state, the levels of various nodes in the circuit are fixed to either “H” or “L”.

ここで、PMOSトランジスタのゲートと接続するノードのレベルが“L”に固定された状況でスタンバイ状態が継続する場合は、PMOSトランジスタでNBTI劣化が進行する。   Here, when the standby state continues in a state where the level of the node connected to the gate of the PMOS transistor is fixed to “L”, the NBTI deterioration proceeds in the PMOS transistor.

スタンバイ状態時におけるNBTI劣化を防止するためには、スタンバイ状態時にPMOSトランジスタのゲートのレベルをオフ電圧“H”にすればよい。   In order to prevent NBTI degradation in the standby state, the level of the gate of the PMOS transistor may be set to the off voltage “H” in the standby state.

しかしながら、例えば、PMOSトランジスタを有する複数の回路が縦列接続された回路、例えば、PMOSトランジスタを有する5つのインバータ回路が縦列接続された遅延回路では、遅延回路内のインバータ回路間の各ノードのレベルは、“H”→“L”→“H”→“L”となるか、“L”→“H”→“L”→“H”となるかのいずれかとなる。   However, for example, in a circuit in which a plurality of circuits having PMOS transistors are connected in cascade, for example, in a delay circuit in which five inverter circuits having PMOS transistors are connected in cascade, the level of each node between the inverter circuits in the delay circuit is “H” → “L” → “H” → “L”, or “L” → “H” → “L” → “H”.

このため、この遅延回路において、先頭のインバータ回路内のPMOSトランジスタでのNBTI劣化を防ぐために、先頭のインバータ回路の入力端子のレベルを“H”に設定しても、後段のインバータ回路の中に、入力端子のレベルが“L”となるインバータ回路が存在してしまい、NBTI劣化が進行してしまう。   Therefore, in this delay circuit, even if the level of the input terminal of the leading inverter circuit is set to “H” in order to prevent NBTI deterioration in the PMOS transistor in the leading inverter circuit, Inverter circuits whose input terminal level is “L” exist, and NBTI degradation proceeds.

このように、スタンバイ状態時にオン状態が継続するMOSトランジスタでは劣化が進行するという問題が生じていた。   Thus, there has been a problem that the deterioration of the MOS transistor in which the ON state continues in the standby state proceeds.

本発明の半導体装置は、
第1導電型のトランジスタを含み縦列接続された複数の回路と、
前記複数の回路の其々の入力端子のうち、他の前記回路と接続された接続入力端子と接続し、前記接続入力端子の電圧を制御するための制御信号の活性化に応じて、前記接続入力端子に、当該接続入力端子から電圧を受け付ける前記回路内の第1導電型のトランジスタを非導通状態とする第1の電圧を供給する制御回路と、
を備える。
The semiconductor device of the present invention is
A plurality of cascaded circuits including transistors of a first conductivity type;
Of the input terminals of the plurality of circuits, connected to a connection input terminal connected to the other circuit, and in response to activation of a control signal for controlling the voltage of the connection input terminal, the connection A control circuit for supplying, to the input terminal, a first voltage that makes the first conductivity type transistor in the circuit receiving voltage from the connection input terminal non-conductive;
Is provided.

制御回路は、制御信号の活性化に応じて、接続入力端子から電圧を受け付ける回路内の第1導電型のトランジスタを非導通状態とする。このため、例えば、スタンバイ状態時に、縦列接続された複数の回路のうちの先頭の回路の入力端子に第1の電圧を供給し、かつ、制御信号を活性化することで、スタンバイ状態時に、複数の回路の其々に含まれる第1導電型のトランジスタを非導通状態にすることができる。   In response to the activation of the control signal, the control circuit turns off the first conductivity type transistor in the circuit that receives the voltage from the connection input terminal. For this reason, for example, in the standby state, the first voltage is supplied to the input terminal of the first circuit among the plurality of cascade-connected circuits and the control signal is activated to The first conductivity type transistors included in each of the circuits can be turned off.

本発明によれば、スタンバイ状態時に、複数の回路の其々に含まれる第1導電型のトランジスタを非導通状態にすることが可能となり、よって、スタンバイ状態時における第1導電型のトランジスタでの劣化を抑制することが可能になる。   According to the present invention, it is possible to turn off the first conductivity type transistors included in each of the plurality of circuits in the standby state. Deterioration can be suppressed.

本発明の一実施形態の半導体装置100を示したブロック図である。1 is a block diagram illustrating a semiconductor device 100 according to an embodiment of the present invention. 劣化防止回路の第1実施形態を示した回路図である。1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a deterioration prevention circuit. FIG. 劣化防止回路1の動作を説明するためのタイミングチャートである。3 is a timing chart for explaining the operation of the deterioration prevention circuit 1; 劣化防止回路の第2実施形態を示した回路図である。It is the circuit diagram which showed 2nd Embodiment of the deterioration prevention circuit. 劣化防止回路1Yの動作を説明するためのタイミングチャートである。It is a timing chart for demonstrating operation | movement of the deterioration prevention circuit 1Y.

以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の一実施形態の半導体装置100を示したブロック図である。本実施形態では、半導体装置100としてDRAMが用いられる。   FIG. 1 is a block diagram showing a semiconductor device 100 according to an embodiment of the present invention. In the present embodiment, a DRAM is used as the semiconductor device 100.

半導体装置100は、外部端子として、クロック端子11aおよび11bと、複数のコマンド端子12と、複数のアドレス端子13と、複数のデータ入出力端子14と、電源端子15aおよび15bと、を含む。   Semiconductor device 100 includes clock terminals 11a and 11b, a plurality of command terminals 12, a plurality of address terminals 13, a plurality of data input / output terminals 14, and power supply terminals 15a and 15b as external terminals.

また、半導体装置100は、クロック入力回路21と、ヒューズ(FUSE)22と、タイミングジェネレータ23と、DLL回路24と、劣化防止回路25と、コマンド入力回路31と、コマンドデコード回路32と、リフレッシュ制御回路33と、アドレス入力回路41と、アドレスラッチ回路42と、モードレジスタ43と、劣化防止回路44と、メモリセルアレイ50と、ロウデコーダ51と、カラムデコーダ52と、FIFO回路53と、入出力回路54と、内部電源発生回路61と、を含む。   Further, the semiconductor device 100 includes a clock input circuit 21, a fuse (FUSE) 22, a timing generator 23, a DLL circuit 24, a deterioration prevention circuit 25, a command input circuit 31, a command decode circuit 32, and refresh control. Circuit 33, address input circuit 41, address latch circuit 42, mode register 43, deterioration prevention circuit 44, memory cell array 50, row decoder 51, column decoder 52, FIFO circuit 53, and input / output circuit 54 and an internal power generation circuit 61.

クロック端子11aは、外部クロック信号CKを受け付ける。クロック端子11bは、外部クロック信号/CKを受け付ける。クロック端子11aが受け付けた外部クロック信号CKと、クロック端子11bが受け付けた外部クロック信号/CKとは、クロック入力回路21に供給される。   The clock terminal 11a receives an external clock signal CK. Clock terminal 11b receives external clock signal / CK. The external clock signal CK received by the clock terminal 11 a and the external clock signal / CK received by the clock terminal 11 b are supplied to the clock input circuit 21.

なお、本明細書において信号名の先頭に「/」が付されている信号は、対応する信号の反転信号またはローアクティブな信号であることを意味する。したがって、外部クロック信号CKと外部クロック信号/CKとは互いに相補の信号である。   In the present specification, a signal having “/” at the beginning of a signal name means an inverted signal of the corresponding signal or a low active signal. Therefore, external clock signal CK and external clock signal / CK are complementary signals.

クロック入力回路21は、外部クロック信号CKおよび/CKを受け付け、外部クロック信号CKおよび/CKを用いて、内部クロック信号ICLKを生成する。クロック入力回路21は、内部クロック信号ICLKを、タイミングジェネレータ23およびDLL回路24に供給する。   Clock input circuit 21 receives external clock signals CK and / CK and generates internal clock signal ICLK using external clock signals CK and / CK. The clock input circuit 21 supplies the internal clock signal ICLK to the timing generator 23 and the DLL circuit 24.

タイミングジェネレータ23は、内部クロック信号ICLKを受け付け、内部クロック信号ICLKを用いて、半導体装置100の種々の動作タイミングを特定するためのタイミング信号を生成する。   The timing generator 23 receives the internal clock signal ICLK and generates a timing signal for specifying various operation timings of the semiconductor device 100 using the internal clock signal ICLK.

ヒューズ(FUSE)22には、内部クロック信号ICLKの位相の調整量を表す位相調整情報が設定される。位相調整情報は、DLL回路24に供給される。   The fuse (FUSE) 22 is set with phase adjustment information indicating the amount of adjustment of the phase of the internal clock signal ICLK. The phase adjustment information is supplied to the DLL circuit 24.

DLL回路24は、内部クロック信号ICLKの位相を、位相調整情報が表す調整量ずらすことによって、入出力用クロック信号LCLKを生成する。DLL回路24は、入出力用クロック信号LCLKを、劣化防止回路25に出力する。   The DLL circuit 24 generates the input / output clock signal LCLK by shifting the phase of the internal clock signal ICLK by the adjustment amount represented by the phase adjustment information. The DLL circuit 24 outputs the input / output clock signal LCLK to the deterioration prevention circuit 25.

劣化防止回路25は、入出力用クロック信号LCLKを受け付ける回路であり、劣化防止回路25でのNBTI劣化を抑制する機能を有する。本実施形態では、劣化防止回路25は、バッファ回路の機能を有する。劣化防止回路25の出力、つまり、入出力用クロック信号LCLKは、FIFO回路53および入出力回路54に供給される。FIFO回路53および入出力回路54については後述する。   The deterioration prevention circuit 25 is a circuit that receives the input / output clock signal LCLK and has a function of suppressing NBTI deterioration in the deterioration prevention circuit 25. In the present embodiment, the deterioration prevention circuit 25 has a function of a buffer circuit. The output of the deterioration prevention circuit 25, that is, the input / output clock signal LCLK is supplied to the FIFO circuit 53 and the input / output circuit 54. The FIFO circuit 53 and the input / output circuit 54 will be described later.

コマンド端子12は、コマンド信号を受け付ける。コマンド信号は、例えば、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、および、リセット信号/RESETなどである。   The command terminal 12 receives a command signal. The command signals are, for example, a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS, and a reset signal / RESET.

コマンド入力回路31は、コマンド端子12からコマンド信号を受け付け、コマンド信号をコマンドデコード回路32に供給する。   The command input circuit 31 receives a command signal from the command terminal 12 and supplies the command signal to the command decoding circuit 32.

コマンドデコード回路32は、コマンド信号を受け付ける。コマンドデコード回路32は、コマンド信号の保持、コマンド信号のデコード、および、コマンド信号のカウントなどを行うことによって、内部コマンド信号を生成する。コマンドデコード回路32は、内部コマンド信号として、例えば、リフレッシュコマンド、書込みコマンド、読出しコマンド、および、STATE(ステート)信号等を生成する。なお、STATE信号は、制御信号の一例である。   The command decode circuit 32 receives a command signal. The command decode circuit 32 generates an internal command signal by holding the command signal, decoding the command signal, counting the command signal, and the like. The command decode circuit 32 generates, for example, a refresh command, a write command, a read command, and a STATE (state) signal as internal command signals. The STATE signal is an example of a control signal.

リフレッシュ制御回路33は、コマンドデコード回路32からリフレッシュコマンドを受け付ける。リフレッシュ制御回路33は、リフレッシュコマンドを受け付けると、ロウデコーダ51にリフレッシュ信号を供給する。   The refresh control circuit 33 receives a refresh command from the command decode circuit 32. The refresh control circuit 33 supplies a refresh signal to the row decoder 51 when receiving a refresh command.

アドレス端子13は、アドレス信号を受け付ける。   The address terminal 13 receives an address signal.

アドレス入力回路41は、アドレス端子13からアドレス信号を受け付け、アドレス信号をアドレスラッチ回路42に供給する。   The address input circuit 41 receives an address signal from the address terminal 13 and supplies the address signal to the address latch circuit 42.

アドレスラッチ回路42は、アドレス入力回路41からアドレス信号を受け付ける。アドレスラッチ回路42は、モードレジスタ43をセットする場合には、アドレス信号を、モードレジスタ43に供給する。また、アドレスラッチ回路42は、アドレス信号のうちロウアドレスをロウデコーダ51に供給し、アドレス信号のうちカラムアドレスを劣化防止回路44に供給する。   The address latch circuit 42 receives an address signal from the address input circuit 41. The address latch circuit 42 supplies an address signal to the mode register 43 when setting the mode register 43. The address latch circuit 42 supplies the row address of the address signal to the row decoder 51 and supplies the column address of the address signal to the deterioration prevention circuit 44.

モードレジスタ43は、半導体装置100の動作パラメータ(例えば、バースト長またはCASレイテンシ)が設定されるレジスタである。モードレジスタ43は、コマンドデコード回路32からの内部コマンド信号と、アドレスラッチ回路42からのアドレス信号と、を受け付け、内部コマンド信号とアドレス信号とに基づいて特定される動作パラメータを設定する。   The mode register 43 is a register in which operation parameters (for example, burst length or CAS latency) of the semiconductor device 100 are set. The mode register 43 receives the internal command signal from the command decode circuit 32 and the address signal from the address latch circuit 42, and sets an operation parameter specified based on the internal command signal and the address signal.

劣化防止回路44は、アドレスラッチ回路42からカラムアドレスを受け付け、カラムアドレスの出力タイミングを調整することによって、カラムアドレスと内部コマンド信号との出力タイミングの差を調整する。劣化防止回路44は、出力タイミングの差が調整されたカラムアドレスをカラムデコーダ52に出力する。また、劣化防止回路44は、劣化防止回路44でのNBTI劣化を抑制する機能を有する。   The deterioration prevention circuit 44 receives the column address from the address latch circuit 42 and adjusts the output timing of the column address, thereby adjusting the difference in output timing between the column address and the internal command signal. The deterioration prevention circuit 44 outputs the column address adjusted for the difference in output timing to the column decoder 52. Further, the deterioration prevention circuit 44 has a function of suppressing the NBTI deterioration in the deterioration prevention circuit 44.

メモリセルアレイ50は、複数のワード線WLと、複数のビット線BLと、複数のメモリセルMCと、を含む。各メモリセルMCは、ワード線WLとビット線BLにて特定される。   Memory cell array 50 includes a plurality of word lines WL, a plurality of bit lines BL, and a plurality of memory cells MC. Each memory cell MC is specified by a word line WL and a bit line BL.

ロウデコーダ51は、アドレスラッチ回路42からのロウアドレスと、コマンドデコード回路32からの書込みコマンドまたは読出しコマンドと、を受け付ける。また、ロウデコーダ51は、リフレッシュ制御回路33から、リフレッシュ信号を受け付ける。   The row decoder 51 receives a row address from the address latch circuit 42 and a write command or a read command from the command decode circuit 32. In addition, the row decoder 51 receives a refresh signal from the refresh control circuit 33.

ロウデコーダ51は、書込みコマンドまたは読出しコマンドを受け付けると、メモリセルアレイ50内の複数のワード線WLの中から、アドレス信号に応じたワード線WLを選択する。   When the row decoder 51 receives a write command or a read command, the row decoder 51 selects a word line WL corresponding to the address signal from the plurality of word lines WL in the memory cell array 50.

メモリセルアレイ50内では、複数のワード線WLと複数のビット線BLが交差しており、その交点には、メモリセルMCが配置されている。なお、図1では、説明の簡略化のため、1本のワード線WLと1本のビット線BLと1個のメモリセルMCのみが示されている。ビット線BLは、それぞれ、自ビット線BLに対応するセンスアンプ(不図示)に接続されている。   In the memory cell array 50, a plurality of word lines WL and a plurality of bit lines BL intersect, and memory cells MC are arranged at the intersections. In FIG. 1, only one word line WL, one bit line BL, and one memory cell MC are shown for simplicity of explanation. Each bit line BL is connected to a sense amplifier (not shown) corresponding to its own bit line BL.

また、ロウデコーダ51は、リフレッシュ信号を受け付けると、複数のワード線WLの中から、ロウアドレスに応じたワード線WLを選択し、選択されたワード線WLに対応するメモリセルMCをリフレッシュするセルフリフレッシュを実行する。   When the row decoder 51 receives the refresh signal, the row decoder 51 selects the word line WL corresponding to the row address from the plurality of word lines WL, and refreshes the memory cell MC corresponding to the selected word line WL. Perform a refresh.

カラムデコーダ52は、劣化防止回路44からのカラムアドレスと、コマンドデコード回路32からの書込みコマンドまたは読出しコマンドと、を受け付ける。   The column decoder 52 receives the column address from the deterioration prevention circuit 44 and the write command or read command from the command decode circuit 32.

カラムデコーダ52は、カラムアドレスと、書込みコマンドまたは読出しコマンドと、を受け付けると、複数のセンスアンプの中から、カラムアドレスに応じたセンスアンプを選択する。   When the column decoder 52 receives the column address and the write command or the read command, the column decoder 52 selects a sense amplifier corresponding to the column address from the plurality of sense amplifiers.

読出し動作時(読出しコマンド発生時)には、カラムデコーダ52にて選択されたセンスアンプと接続するビット線BLと、ロウデコーダ51にて選択されたワード線WLと、の交点に存在するメモリセルMC(以下「選択メモリセル」と称する)内のデータ(リードデータ)は、カラムデコーダ52にて選択されたセンスアンプにて増幅され、FIFO回路53に供給され、その後、入出力回路54に供給される。一方、書込み動作時(書込みコマンド発生時)には、カラムデコーダ52にて選択されたセンスアンプは、FIFO回路53からのライトデータを選択メモリセルに書き込む。   During a read operation (when a read command is generated), a memory cell that exists at the intersection of the bit line BL connected to the sense amplifier selected by the column decoder 52 and the word line WL selected by the row decoder 51 Data (read data) in the MC (hereinafter referred to as “selected memory cell”) is amplified by the sense amplifier selected by the column decoder 52, supplied to the FIFO circuit 53, and then supplied to the input / output circuit 54. Is done. On the other hand, at the time of a write operation (when a write command is generated), the sense amplifier selected by the column decoder 52 writes the write data from the FIFO circuit 53 to the selected memory cell.

FIFO回路53は、劣化防止回路25から入出力用クロック信号LCLKを受け付け、入出力用クロック信号LCLKに同期して、メモリセルアレイ50と入出力回路54との間で、リードデータとライトデータのやり取りを行う。   The FIFO circuit 53 receives the input / output clock signal LCLK from the deterioration prevention circuit 25, and exchanges read data and write data between the memory cell array 50 and the input / output circuit 54 in synchronization with the input / output clock signal LCLK. I do.

データ入出力端子14は、リードデータの出力と、ライトデータの入力と、を行う。データ入出力端子14は、入出力回路54に接続されている。   The data input / output terminal 14 performs output of read data and input of write data. The data input / output terminal 14 is connected to the input / output circuit 54.

入出力回路54は、劣化防止回路25から入出力用クロック信号LCLKを受け付け、リード動作時においては入出力用クロック信号LCLKに同期してリードデータをデータ入出力端子14に出力する。   The input / output circuit 54 receives the input / output clock signal LCLK from the deterioration prevention circuit 25 and outputs read data to the data input / output terminal 14 in synchronization with the input / output clock signal LCLK during a read operation.

電源端子15aは、電源電圧の高電位側の電圧VDDを受け付ける。電源端子15bは、電源電圧の低電位側の電圧VSSを受け付ける。   The power supply terminal 15a receives the voltage VDD on the high potential side of the power supply voltage. The power supply terminal 15b receives the voltage VSS on the low potential side of the power supply voltage.

内部電源発生回路61は、電源端子15aから電圧VDDを受け付け、電源端子15bから電圧VSSを受け付け、電圧VPP、電圧VRERDおよび電圧VPERI等の内部電源電圧を発生する。   The internal power supply generation circuit 61 receives the voltage VDD from the power supply terminal 15a, receives the voltage VSS from the power supply terminal 15b, and generates internal power supply voltages such as the voltage VPP, the voltage VRERD, and the voltage VPERI.

図1に示した半導体装置100では、スタンバイ状態が存在する。   In the semiconductor device 100 shown in FIG. 1, a standby state exists.

本実施形態において、スタンバイ状態時とは、アクティブコマンド(行選択)からリード/ライトコマンド(列選択)が入力されるまでのいわゆるアクティブスタンバイ状態であってもよいし、コマンドが入力されていないアイドル状態やセルフリフレッシュ状態などの特定の回路が待機状態であるような状態を指す。   In this embodiment, the standby state may be a so-called active standby state from when an active command (row selection) to a read / write command (column selection) is input, or an idle state where no command is input. A state where a specific circuit such as a state or a self-refresh state is in a standby state.

図1に示した半導体装置100では、スタンバイ状態時に待機状態となる、入出力用クロック信号LCLK用のバッファ回路の機能を有する劣化防止回路25と、内部コマンド信号とアドレス信号(ロウアドレスやカラムアドレス)との出力タイミングの差の調整を行うための遅延回路の機能を有する劣化防止回路44とを、それぞれ、スタンバイ状態時にNBTI劣化を防止するための機能を有する回路の一例として挙げている。   In the semiconductor device 100 shown in FIG. 1, a deterioration preventing circuit 25 having a function of a buffer circuit for the input / output clock signal LCLK, which is in a standby state in the standby state, an internal command signal and an address signal (row address or column address). The deterioration prevention circuit 44 having the function of a delay circuit for adjusting the difference in output timing with respect to () is exemplified as an example of a circuit having a function for preventing NBTI deterioration in the standby state.

これらの回路におけるNBTI劣化は、半導体装置100の制御に大きな影響を及ぼす。   The NBTI degradation in these circuits greatly affects the control of the semiconductor device 100.

例えば、入出力用クロック信号LCLK用のバッファ回路部分、つまり、劣化防止回路25で、NBTI劣化が起こると、そのバッファ回路内の第1導電型トランジスタ(ここでは「PMOSトランジスタ」)の動作は遅く、そのバッファ回路内の第2導電型トランジスタ(ここでは「NMOSトランジスタ」)は相対的に早く動作する。このため、入出力用クロック信号LCLKのデューティが50:50からずれてしまい、入出力回路54でのデータ出力に支障をもたらす。   For example, when the NBTI deterioration occurs in the buffer circuit portion for the input / output clock signal LCLK, that is, the deterioration prevention circuit 25, the operation of the first conductivity type transistor (here, “PMOS transistor”) in the buffer circuit is slow. The second conductivity type transistor (here, “NMOS transistor”) in the buffer circuit operates relatively quickly. For this reason, the duty of the input / output clock signal LCLK is deviated from 50:50, causing a problem in data output in the input / output circuit 54.

また、内部コマンド信号とアドレス信号との出力タイミングの差の調整を行うための遅延回路、つまり、劣化防止回路44で、NBTI劣化が起こると、内部コマンド信号とアドレス信号との間の出力タイミングの差量が大きくなってしまい、内部コマンド信号とアドレス信号との間で論理を正確に取れなくなる可能性がある。   Further, when NBTI deterioration occurs in the delay circuit for adjusting the difference in output timing between the internal command signal and the address signal, that is, the deterioration preventing circuit 44, the output timing between the internal command signal and the address signal is changed. There is a possibility that the difference amount becomes large and the logic cannot be accurately obtained between the internal command signal and the address signal.

図2は、劣化防止回路25や劣化防止回路44として使用可能な劣化防止回路の第1実施形態を示した回路図である。   FIG. 2 is a circuit diagram showing a first embodiment of a deterioration preventing circuit that can be used as the deterioration preventing circuit 25 and the deterioration preventing circuit 44.

図2において、劣化防止回路1は、制御対象回路1aと制御回路1bとを含む。   In FIG. 2, the deterioration prevention circuit 1 includes a control target circuit 1a and a control circuit 1b.

制御対象回路1aは、縦列接続された3つのインバータ回路1a1〜1a3を含む。3つのインバータ回路1a1〜1a3は、縦列接続された複数の回路の一例である。   The control target circuit 1a includes three inverter circuits 1a1 to 1a3 connected in cascade. The three inverter circuits 1a1 to 1a3 are an example of a plurality of circuits connected in cascade.

インバータ回路1a1は、PMOSトランジスタ1a11と、NMOSトランジスタ1a12と、を含む。PMOSトランジスタは、第1導電型のトランジスタの一例であり、NMOSトランジスタは、第2導電型のトランジスタの一例である。   Inverter circuit 1a1 includes a PMOS transistor 1a11 and an NMOS transistor 1a12. The PMOS transistor is an example of a first conductivity type transistor, and the NMOS transistor is an example of a second conductivity type transistor.

PMOSトランジスタ1a11のゲートと、NMOSトランジスタ1a12のゲートは、端子1a13と接続する。端子1a13は、制御対象回路1aの入力端子およびインバータ回路1a1の入力端子である。   The gate of the PMOS transistor 1a11 and the gate of the NMOS transistor 1a12 are connected to the terminal 1a13. The terminal 1a13 is an input terminal of the control target circuit 1a and an input terminal of the inverter circuit 1a1.

インバータ回路1a2は、PMOSトランジスタ1a21と、NMOSトランジスタ1a22と、を含む。PMOSトランジスタ1a21のゲートと、NMOSトランジスタ1a22のゲートは、端子1a23と接続する。端子1a23は、インバータ回路1a2の入力端子であり、接続入力端子の一例である。   Inverter circuit 1a2 includes a PMOS transistor 1a21 and an NMOS transistor 1a22. The gate of the PMOS transistor 1a21 and the gate of the NMOS transistor 1a22 are connected to the terminal 1a23. The terminal 1a23 is an input terminal of the inverter circuit 1a2, and is an example of a connection input terminal.

インバータ回路1a3は、PMOSトランジスタ1a31と、NMOSトランジスタ1a32と、を含む。PMOSトランジスタ1a31のゲートと、NMOSトランジスタ1a32のゲートは、端子1a33と接続する。端子1a33は、インバータ回路1a3の入力端子であり、接続入力端子の一例である。   Inverter circuit 1a3 includes a PMOS transistor 1a31 and an NMOS transistor 1a32. The gate of the PMOS transistor 1a31 and the gate of the NMOS transistor 1a32 are connected to the terminal 1a33. The terminal 1a33 is an input terminal of the inverter circuit 1a3 and is an example of a connection input terminal.

制御回路1bは、NMOSトランジスタ(ソーストランジスタ)m0と、PMOSトランジスタm1〜m3と、を含む。   The control circuit 1b includes an NMOS transistor (source transistor) m0 and PMOS transistors m1 to m3.

NMOSトランジスタm0は、電流制御用トランジスタの一例である。   The NMOS transistor m0 is an example of a current control transistor.

NMOSトランジスタm0のゲートと、PMOSトランジスタm1〜m3の各ゲートは、互いに接続され、STATE信号が供給される。   The gate of the NMOS transistor m0 and the gates of the PMOS transistors m1 to m3 are connected to each other and supplied with a STATE signal.

PMOSトランジスタ1a11、1a21、1a31、m1、m2およびm3の各ソースは、電源電圧の高電位側または内部電源電圧の高電位側と接続されている。   The sources of the PMOS transistors 1a11, 1a21, 1a31, m1, m2, and m3 are connected to the high potential side of the power supply voltage or the high potential side of the internal power supply voltage.

NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32の各ソースは、NMOSトランジスタm0のドレインと接続されている。   The sources of the NMOS transistors 1a12, 1a22, and 1a32 are connected to the drain of the NMOS transistor m0.

NMOSトランジスタm0のソースは、電源電圧の低電位側または内部電源電圧の低電位側と接続されている。   The source of the NMOS transistor m0 is connected to the low potential side of the power supply voltage or the low potential side of the internal power supply voltage.

PMOSトランジスタ1a11のドレインと、PMOSトランジスタm1のドレインと、NMOSトランジスタ1a12のドレインと、端子1a23とは、配線L1によって互いに接続されている。   The drain of the PMOS transistor 1a11, the drain of the PMOS transistor m1, the drain of the NMOS transistor 1a12, and the terminal 1a23 are connected to each other by a wiring L1.

PMOSトランジスタ1a21のドレインと、PMOSトランジスタm2のドレインと、NMOSトランジスタ1a22のドレインと、端子1a33とは、配線L2によって互いに接続されている。   The drain of the PMOS transistor 1a21, the drain of the PMOS transistor m2, the drain of the NMOS transistor 1a22, and the terminal 1a33 are connected to each other by a wiring L2.

PMOSトランジスタ1a31のドレインと、PMOSトランジスタm3のドレインと、NMOSトランジスタ1a32のドレインは、互いに接続され、制御対象回路1aの出力端子として機能する。   The drain of the PMOS transistor 1a31, the drain of the PMOS transistor m3, and the drain of the NMOS transistor 1a32 are connected to each other and function as an output terminal of the control target circuit 1a.

本実施形態では、制御対象回路1a内の各トランジスタとして、MOSトランジスタのしきい値電圧(Vt)が標準よりも低く設定されたMOSトランジスタ(以下「低Vt(LV)MOSトランジスタ」と称する)が用いられる。   In the present embodiment, as each transistor in the control target circuit 1a, a MOS transistor in which the threshold voltage (Vt) of the MOS transistor is set lower than the standard (hereinafter referred to as “low Vt (LV) MOS transistor”). Used.

具体的には、PMOSトランジスタ1a11、1a21および1a31として、それぞれ、低Vt(LV)PMOSトランジスタが用いられ、NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32として、それぞれ、低Vt(LV)NMOSトランジスタが用いられる。   Specifically, low Vt (LV) PMOS transistors are used as the PMOS transistors 1a11, 1a21, and 1a31, respectively, and low Vt (LV) NMOS transistors are used as the NMOS transistors 1a12, 1a22, and 1a32, respectively.

また、本実施形態では、NMOSトランジスタm0として、MOSトランジスタのしきい値電圧(Vt)が標準に設定された通常VtNMOSトランジスタが用いられる。   In this embodiment, a normal VtNMOS transistor in which the threshold voltage (Vt) of the MOS transistor is set as a standard is used as the NMOS transistor m0.

また、本実施形態では、PMOSトランジスタm1〜m3として、MOSトランジスタのしきい値電圧(Vt)が標準に設定された通常VtPMOSトランジスタが用いられる。   In the present embodiment, as the PMOS transistors m1 to m3, normal VtPMOS transistors in which the threshold voltage (Vt) of the MOS transistor is set as a standard are used.

このように、本実施形態による半導体装置100は、第1導電型のトランジスタ1a11、1a21および1a31を含み縦列接続された複数の回路1a1〜1a3と、複数の回路1a1〜1a3の其々の入力端子1a13、1a23および1a33のうち他の回路1a1または1a2と接続された接続入力端子1a23および1a33と接続し、接続入力端子1a23および1a33の電圧を制御するための制御信号(STATE信号)の活性化に応じて、接続入力端子1a23および1a33に、接続入力端子1a23から電圧を受け付ける回路1a2内の第1導電型のトランジスタ1a21および接続入力端子1a33から電圧を受け付ける回路1a3内の第1導電型のトランジスタ1a31を非導通状態とする第1の電圧(“H”)を供給する制御回路1bと、を備える。   As described above, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the plurality of circuits 1a1 to 1a3 including the first conductivity type transistors 1a11, 1a21, and 1a31 and connected in cascade, and the input terminals of the plurality of circuits 1a1 to 1a3, respectively. 1a13, 1a23 and 1a33 are connected to connection input terminals 1a23 and 1a33 connected to other circuit 1a1 or 1a2, and a control signal (STATE signal) for controlling the voltage of connection input terminals 1a23 and 1a33 is activated. Accordingly, the first conductivity type transistor 1a21 in the circuit 1a3 in the circuit 1a3 and the first conductivity type transistor 1a31 in the circuit 1a3 in the circuit 1a2 that receives the voltage from the connection input terminal 1a23 are connected to the connection input terminals 1a23 and 1a33, respectively. First voltage ("H") to turn off And a control circuit 1b supplies.

また、本実施形態による半導体装置100では、第1導電型のトランジスタ1a11、1a21および1a31は、PMOSトランジスタである。   In the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the first conductivity type transistors 1a11, 1a21, and 1a31 are PMOS transistors.

また、本実施形態による半導体装置100では、複数の回路1a1〜1a3の其々は、インバータ回路であり、インバータ回路1a1〜1a3の其々は、第1導電型のトランジスタ1a11、1a21または1a31と、第2導電型のトランジスタ1a12、1a22または1a32と、を含み、第1導電型のトランジスタと第2導電型のトランジスタとは、ゲート同士が接続し、ドレイン同士が直接的または間接的に接続している。   In the semiconductor device 100 according to the present embodiment, each of the plurality of circuits 1a1 to 1a3 is an inverter circuit, and each of the inverter circuits 1a1 to 1a3 includes a first conductivity type transistor 1a11, 1a21, or 1a31. Second conductivity type transistor 1a12, 1a22 or 1a32, the first conductivity type transistor and the second conductivity type transistor are connected to each other with the gates connected to each other and the drains connected directly or indirectly to each other. Yes.

また、本実施形態による半導体装置100では、制御信号(STATE信号)の活性化に応じて、第2導電型のトランジスタ1a12、1a22および1a32を流れる電流を抑制する。   In the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the current flowing through the second conductivity type transistors 1a12, 1a22, and 1a32 is suppressed according to the activation of the control signal (STATE signal).

また、本実施形態による半導体装置100では、制御回路1bは、第2導電型のトランジスタ1a12、1a22および1a32の其々のソースと接続された電流制御用トランジスタm0を含み、電流制御用トランジスタm0は、制御信号(STATE信号)の活性化に応じて非導通状態となる。   In the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the control circuit 1b includes the current control transistor m0 connected to the respective sources of the second conductivity type transistors 1a12, 1a22, and 1a32. In response to activation of the control signal (STATE signal), the non-conduction state is established.

次に、劣化防止回路1の動作を説明する。   Next, the operation of the deterioration preventing circuit 1 will be described.

図3は、劣化防止回路1の動作を説明するためのタイミングチャートである。   FIG. 3 is a timing chart for explaining the operation of the deterioration preventing circuit 1.

コマンドデコード回路32は、読出しコマンド(READ)等の、非スタンバイ状態を表す内部コマンド信号を出力する際に、STATE信号のレベルを“H”(非活性状態)にする。   The command decode circuit 32 sets the level of the STATE signal to “H” (inactive state) when outputting an internal command signal indicating a non-standby state such as a read command (READ).

STATE信号のレベルが“H”のときには、NMOSトランジスタm0がオン状態となり、PMOSトランジスタm1〜m3はオフ状態となる。このため、STATE信号のレベルが“H”のときには、制御対象回路1aは、3つのインバータ回路が直列接続された回路として動作する。   When the level of the STATE signal is “H”, the NMOS transistor m0 is turned on, and the PMOS transistors m1 to m3 are turned off. For this reason, when the level of the STATE signal is “H”, the control target circuit 1a operates as a circuit in which three inverter circuits are connected in series.

図3に示した例では、STATE信号のレベルが“H”である状況下で、インバータ回路1a1の入力端子1a13に入出力用クロック信号LCLK1が入力すると、入出力用クロック信号LCLK1は、インバータ回路1a1、1a2および1a3にてそれぞれ反転および遅延される。   In the example shown in FIG. 3, when the input / output clock signal LCLK1 is input to the input terminal 1a13 of the inverter circuit 1a1 under the situation where the level of the STATE signal is “H”, the input / output clock signal LCLK1 is Inverted and delayed at 1a1, 1a2, and 1a3, respectively.

図3では、インバータ回路1a1からの出力信号を入出力用クロック信号LCLK2として示し、インバータ回路1a2からの出力信号を入出力用クロック信号LCLK3として示し、インバータ回路1a3からの出力信号を入出力用クロック信号LCLK4として示している。入出力用クロック信号LCLK4は、制御対象回路1aの出力信号として用いられる。   In FIG. 3, the output signal from the inverter circuit 1a1 is shown as an input / output clock signal LCLK2, the output signal from the inverter circuit 1a2 is shown as an input / output clock signal LCLK3, and the output signal from the inverter circuit 1a3 is shown as an input / output clock. This is shown as signal LCLK4. The input / output clock signal LCLK4 is used as an output signal of the control target circuit 1a.

また、コマンドデコード回路32は、セルフリフレッシュコマンドSREFまたはパワーダウン信号PWDN等の、スタンバイ状態に切り替わる内部コマンド信号を出力する際に、STATE信号のレベルを“L”(活性状態)にする。   Further, the command decode circuit 32 sets the level of the STATE signal to “L” (active state) when outputting an internal command signal such as the self-refresh command SREF or the power-down signal PWDN that switches to the standby state.

STATE信号のレベルが“L”のときには、PMOSトランジスタm1〜m3はオン状態となり、NMOSトランジスタm0はオフ状態となる。本実施形態では、STATE信号のレベルが“L”のときには、制御対象回路1aの入力端子、つまり、インバータ回路1a1の入力端子1a13には、“H”が印加される。   When the level of the STATE signal is “L”, the PMOS transistors m1 to m3 are turned on, and the NMOS transistor m0 is turned off. In the present embodiment, when the level of the STATE signal is “L”, “H” is applied to the input terminal of the control target circuit 1a, that is, the input terminal 1a13 of the inverter circuit 1a1.

このため、STATE信号のレベルが“L” であり入力端子1a13に“H”が印加されるときには、入力端子1a13、1a23および1a33には“H”(第1の電圧)が供給される(図3の矢印A1参照)。よって、PMOSトランジスタ1a11、1a21および1a31がオフ状態となり、スタンバイ状態時におけるPMOSトランジスタ1a11、1a21および1a31でのNBTI劣化を防止できる。   Therefore, when the level of the STATE signal is “L” and “H” is applied to the input terminal 1a13, “H” (first voltage) is supplied to the input terminals 1a13, 1a23, and 1a33 (FIG. 3 arrow A1). Therefore, the PMOS transistors 1a11, 1a21 and 1a31 are turned off, and the NBTI deterioration in the PMOS transistors 1a11, 1a21 and 1a31 in the standby state can be prevented.

また、STATE信号のレベルが“L”であり入力端子1a13に“H”が印加されるときには、NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32がオン状態となるが、NMOSトランジスタm0がオフ状態であるため、NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32を貫通電流が流れることを抑制でき、スタンバイ状態時の消費電流を少なくすることが可能になる。   When the level of the STATE signal is “L” and “H” is applied to the input terminal 1a13, the NMOS transistors 1a12, 1a22, and 1a32 are turned on, but the NMOS transistor m0 is turned off. It is possible to suppress a through current from flowing through the transistors 1a12, 1a22, and 1a32, and to reduce current consumption in the standby state.

なお、本実施形態では、スタンバイ状態時にNMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32を流れる電流を抑えるべく、NMOSトランジスタm0として、低Vt(LV)NMOSトランジスタではなく、MOSトランジスタのしきい値電圧(Vt)が標準に設定された通常VtNMOSトランジスタが用いられている。   In this embodiment, in order to suppress the current flowing through the NMOS transistors 1a12, 1a22 and 1a32 during the standby state, the threshold voltage (Vt) of the MOS transistor is not the low Vt (LV) NMOS transistor as the NMOS transistor m0. A normal VtNMOS transistor set to standard is used.

また、コマンドデコード回路32は、セルフリフレッシュ動作やパワーダウン動作を終了するためのEXIT信号(内部コマンド信号)を出力する際には、STATE信号のレベルを“H”(非活性状態)にする。このため、NMOSトランジスタm0がオン状態となり、PMOSトランジスタm1〜m3はオフ状態となり、制御対象回路1aは、3つのインバータ回路が直列接続された回路として動作する(図3の矢印A2参照)。   Further, the command decode circuit 32 sets the level of the STATE signal to “H” (inactive state) when outputting the EXIT signal (internal command signal) for ending the self-refresh operation or the power-down operation. Therefore, the NMOS transistor m0 is turned on, the PMOS transistors m1 to m3 are turned off, and the control target circuit 1a operates as a circuit in which three inverter circuits are connected in series (see arrow A2 in FIG. 3).

次に、本実施形態の効果を説明する。   Next, the effect of this embodiment will be described.

制御回路1bは、複数のインバータ回路1a1、1a2および1a3の其々の入力端子1a13、1a23および1a33のうち、他のインバータ回路と接続された接続入力端子1a23および1a33と接続し、接続入力端子1a23および1a33の電圧を制御するための制御信号(STATE信号)の活性化に応じて、接続入力端子1a23および1a33に、第1導電型のトランジスタ1a21および1a31を非導通状態とする第1の電圧を供給する。   The control circuit 1b is connected to connection input terminals 1a23 and 1a33 connected to other inverter circuits among the input terminals 1a13, 1a23 and 1a33 of the plurality of inverter circuits 1a1, 1a2 and 1a3, and connected to the connection input terminal 1a23. In response to activation of a control signal (STATE signal) for controlling the voltage of 1a33 and 1a33, a first voltage that makes the first conductivity type transistors 1a21 and 1a31 non-conductive at connection input terminals 1a23 and 1a33 Supply.

このため、例えば、スタンバイ状態時に、縦列接続された複数のインバータ回路1a1〜1a3のうちの先頭のインバータ回路1a1の入力端子1a13に第1の電圧を供給し、かつ、制御信号を活性化することで、スタンバイ状態時に、複数のインバータ回路1a1、1a2および1a3の其々に含まれる第1導電型のトランジスタ1a11、1a21および1a31を非導通状態にすることができる。よって、スタンバイ状態時における第1導電型のトランジスタ1a11、1a21および1a31での劣化を抑制することが可能になる。   For this reason, for example, in the standby state, the first voltage is supplied to the input terminal 1a13 of the first inverter circuit 1a1 among the plurality of inverter circuits 1a1 to 1a3 connected in cascade, and the control signal is activated. Thus, in the standby state, the first conductivity type transistors 1a11, 1a21, and 1a31 included in each of the plurality of inverter circuits 1a1, 1a2, and 1a3 can be turned off. Therefore, it is possible to suppress deterioration in the first conductivity type transistors 1a11, 1a21, and 1a31 in the standby state.

本実施形態では、第1導電型のトランジスタとして、PMOSトランジスタが使用される。   In the present embodiment, a PMOS transistor is used as the first conductivity type transistor.

このため、スタンバイ状態時におけるPMOSトランジスタでのNBTI劣化を抑制することが可能になる。   For this reason, it becomes possible to suppress NBTI deterioration in the PMOS transistor in the standby state.

本実施形態では、各インバータ回路は、第1導電型のトランジスタと第2導電型のトランジスタとを含み、第1導電型のトランジスタと第2導電型のトランジスタとのゲート同士が接続し、第1導電型のトランジスタと第2導電型のトランジスタとのドレイン同士が直接的に接続している。   In this embodiment, each inverter circuit includes a first conductivity type transistor and a second conductivity type transistor, and the gates of the first conductivity type transistor and the second conductivity type transistor are connected to each other, The drains of the conductivity type transistor and the second conductivity type transistor are directly connected to each other.

このため、スタンバイ状態時におけるインバータ回路内の第1導電型のトランジスタでの劣化を抑制することが可能になる。   For this reason, it is possible to suppress deterioration in the first conductivity type transistor in the inverter circuit in the standby state.

本実施形態では、制御回路1bは、制御信号の活性化に応じて、第2導電型のトランジスタを流れる電流を抑制する。   In the present embodiment, the control circuit 1b suppresses the current flowing through the second conductivity type transistor in response to the activation of the control signal.

このため、第1導電型のトランジスタを非導通状態にしているときに、第2導電型のトランジスタを流れる電流を抑制でき、消費電流を少なくすることが可能になる。   For this reason, when the first conductivity type transistor is in a non-conducting state, the current flowing through the second conductivity type transistor can be suppressed, and current consumption can be reduced.

本実施形態では、制御回路1bは、第2導電型のトランジスタの其々のソースと接続された電流制御用トランジスタm0を含み、電流制御用トランジスタm0は、制御信号の活性化に応じて非導通状態となる。   In the present embodiment, the control circuit 1b includes a current control transistor m0 connected to each source of the second conductivity type transistor, and the current control transistor m0 is non-conductive in response to activation of the control signal. It becomes a state.

このため、1つの電流制御用トランジスタm0を非導通状態とすることにより、各インバータ回路内の第2導電型のトランジスタを流れる電流を抑制できる。よって、第2導電型のトランジスタを流れる電流を抑制するための構成を小さくでき、半導体装置100の小型化を図ることが可能になる。   For this reason, the current flowing through the second conductivity type transistor in each inverter circuit can be suppressed by making one current control transistor m0 nonconductive. Therefore, the structure for suppressing the current flowing through the second conductivity type transistor can be reduced, and the semiconductor device 100 can be downsized.

本実施形態では、電流制御用トランジスタm0として、低Vt(LV)MOSトランジスタではなく、通常VtNMOSトランジスタが用いられる。   In the present embodiment, a normal VtNMOS transistor is used as the current control transistor m0 instead of a low Vt (LV) MOS transistor.

このため、電流制御用トランジスタm0を非導通状態にするための電圧として電圧VSSが用いられた状況下において、電流制御用トランジスタm0にて生じるリーク電流を、電流制御用トランジスタm0として低Vt(LV)MOSトランジスタが用いられた場合に生じるリーク電流よりも少なくすることが可能になる。   For this reason, in the situation where the voltage VSS is used as the voltage for making the current control transistor m0 non-conductive, the leakage current generated in the current control transistor m0 is reduced to a low Vt (LV) as the current control transistor m0. It is possible to reduce the leakage current that occurs when a MOS transistor is used.

図4は、劣化防止回路の第2実施形態を示した回路図である。なお、図4において、図2に示したものと同一構成のものには同一符号を付してある。   FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the deterioration preventing circuit. In FIG. 4, the same components as those shown in FIG.

図4において、劣化防止回路1Yは、制御対象回路1aYと制御回路1bYとを含む。   In FIG. 4, the deterioration prevention circuit 1Y includes a control target circuit 1aY and a control circuit 1bY.

制御対象回路1aYは、PMOSトランジスタ1a11、1a21および1a31と、NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32と、を含む。   Control target circuit 1aY includes PMOS transistors 1a11, 1a21 and 1a31, and NMOS transistors 1a12, 1a22 and 1a32.

PMOSトランジスタ1a11とNMOSトランジスタ1a12とでインバータ1a1を構成し、PMOSトランジスタ1a21とNMOSトランジスタ1a22とでインバータ1a2を構成し、PMOSトランジスタ1a31とNMOSトランジスタ1a32とでインバータ1a3を構成する。   The PMOS transistor 1a11 and the NMOS transistor 1a12 constitute an inverter 1a1, the PMOS transistor 1a21 and the NMOS transistor 1a22 constitute an inverter 1a2, and the PMOS transistor 1a31 and the NMOS transistor 1a32 constitute an inverter 1a3.

制御回路1bYは、NMOSトランジスタ(ソーストランジスタ)m0Y〜m2Yと、NMOSトランジスタm3Y〜m5Yと、を含む。   The control circuit 1bY includes NMOS transistors (source transistors) m0Y to m2Y and NMOS transistors m3Y to m5Y.

本実施形態では、NMOSトランジスタm0Y〜m5Yとして、低Vt(LV)NMOSトランジスタが用いられる。   In the present embodiment, low Vt (LV) NMOS transistors are used as the NMOS transistors m0Y to m5Y.

NMOSトランジスタm0Y〜m2Yは、電流制御用トランジスタの一例である。NMOSトランジスタm0Y〜m2Yの其々のゲートには、STATE_A信号が供給される。STATE_A信号は、制御信号の一例である。   The NMOS transistors m0Y to m2Y are examples of current control transistors. A STATE_A signal is supplied to each gate of the NMOS transistors m0Y to m2Y. The STATE_A signal is an example of a control signal.

NMOSトランジスタm0Yは、PMOSトランジスタ1a11のドレインとNMOSトランジスタ1a12のドレインとの間に設けられている。   The NMOS transistor m0Y is provided between the drain of the PMOS transistor 1a11 and the drain of the NMOS transistor 1a12.

NMOSトランジスタm1Yは、PMOSトランジスタ1a21のドレインとNMOSトランジスタ1a22のドレインとの間に設けられている。   The NMOS transistor m1Y is provided between the drain of the PMOS transistor 1a21 and the drain of the NMOS transistor 1a22.

NMOSトランジスタm2Yは、PMOSトランジスタ1a31のドレインとNMOSトランジスタ1a32のドレインとの間に設けられている。   The NMOS transistor m2Y is provided between the drain of the PMOS transistor 1a31 and the drain of the NMOS transistor 1a32.

NMOSトランジスタm3Y〜m4Yは、電圧供給用トランジスタの一例である。   The NMOS transistors m3Y to m4Y are examples of voltage supply transistors.

NMOSトランジスタm3Y〜m5Yの其々のゲートには、STATE_B信号が供給される。STATE_B信号は、STATE_A信号の反転信号である。STATE_A信号とSTATE_B信号とは、コマンドデコード回路32から供給される。   A STATE_B signal is supplied to each gate of the NMOS transistors m3Y to m5Y. The STATE_B signal is an inverted signal of the STATE_A signal. The STATE_A signal and the STATE_B signal are supplied from the command decode circuit 32.

NMOSトランジスタm3Y、m4Yおよびm5Yの各ソースは、電源電圧の高電位側または内部電源電圧の高電位側と接続されている。NMOSトランジスタm3Y、m4Yおよびm5Yの各ドレインは、それぞれ、端子N1、N2およびN3と接続されている。   The sources of the NMOS transistors m3Y, m4Y and m5Y are connected to the high potential side of the power supply voltage or the high potential side of the internal power supply voltage. The drains of the NMOS transistors m3Y, m4Y, and m5Y are connected to terminals N1, N2, and N3, respectively.

このように、本実施形態による半導体装置100では、制御回路1bYは、インバータ回路1a1、1a2および1a3ごとに、インバータ回路内の第1導電型のトランジスタ1a11、1a21または1a31のドレインと第2導電型のトランジスタ1a12、1a22または1a32のドレインとの間に設けられた複数の電流制御用トランジスタm0Y〜m2Yを含み、複数の電流制御用トランジスタm0Y〜m2Yの其々は、制御信号(STATE_A信号)の活性化に応じて非導通状態となる。   As described above, in the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the control circuit 1bY includes the drain of the first conductivity type transistor 1a11, 1a21, or 1a31 in the inverter circuit and the second conductivity type for each of the inverter circuits 1a1, 1a2, and 1a3. Including a plurality of current control transistors m0Y to m2Y provided between the drains of the transistors 1a12, 1a22, and 1a32, and each of the plurality of current control transistors m0Y to m2Y is an activation of a control signal (STATE_A signal). It becomes a non-conducting state according to conversion.

また、本実施形態による半導体装置100では、制御回路1bYは、接続入力端子1a23または1a33と接続し、制御信号(STATE_A信号)の活性化に応じて、接続入力端子1a23または1a33に第1の電圧(“H”)を供給する電圧供給用トランジスタm3Yおよびm4Yを含み、第1導電型のトランジスタは、PMOSトランジスタであり、第2導電型のトランジスタと電圧供給用トランジスタと複数の電流制御用トランジスタは、NMOSトランジスタである。   In the semiconductor device 100 according to the present embodiment, the control circuit 1bY is connected to the connection input terminal 1a23 or 1a33, and the first voltage is applied to the connection input terminal 1a23 or 1a33 in response to the activation of the control signal (STATE_A signal). Voltage supply transistors m3Y and m4Y for supplying ("H"), the first conductivity type transistor is a PMOS transistor, the second conductivity type transistor, the voltage supply transistor, and the plurality of current control transistors are , An NMOS transistor.

次に、劣化防止回路1Yの動作を説明する。   Next, the operation of the deterioration preventing circuit 1Y will be described.

図5は、劣化防止回路1Yの動作を説明するためのタイミングチャートである。   FIG. 5 is a timing chart for explaining the operation of the deterioration preventing circuit 1Y.

コマンドデコード回路32は、読出しコマンド(READ)等の、非スタンバイ状態を表す内部コマンド信号を出力する際には、STATE_A信号のレベルを“H”(非活性状態)にし、STATE_A信号の反転信号であるSTATE_B信号のレベルを“L”にする。   When the command decode circuit 32 outputs an internal command signal indicating a non-standby state such as a read command (READ), the command decode circuit 32 sets the level of the STATE_A signal to “H” (inactive state) and uses an inverted signal of the STATE_A signal. The level of a certain STATE_B signal is set to “L”.

STATE_A信号のレベルが“H”のときには、NMOSトランジスタm0Y〜m2Yがオン状態となり、STATE_A信号のレベルが“H”のときにSTATE_B信号のレベルが“L”となるため、NMOSトランジスタm3Y〜m5Yはオフ状態となる。   When the level of the STATE_A signal is “H”, the NMOS transistors m0Y to m2Y are turned on. When the level of the STATE_A signal is “H”, the level of the STATE_B signal is “L”, so that the NMOS transistors m3Y to m5Y Turns off.

このため、STATE_A信号が“H”のときには、制御対象回路1aYは、3つのインバータ回路が直列接続された回路として動作する。   Therefore, when the STATE_A signal is “H”, the control target circuit 1aY operates as a circuit in which three inverter circuits are connected in series.

図5に示した例では、STATE_A信号のレベルが“H”でありSTATE_B信号のレベルが“L”である状況下で、入力端子1a13に入出力用クロック信号LCLK5が入力すると、入出力用クロック信号LCLK5は、インバータ回路1a1、1a2および1a3にてそれぞれ反転および遅延される。   In the example shown in FIG. 5, when the input / output clock signal LCLK5 is input to the input terminal 1a13 in a situation where the level of the STATE_A signal is “H” and the level of the STATE_B signal is “L”, the input / output clock signal is input. Signal LCLK5 is inverted and delayed by inverter circuits 1a1, 1a2, and 1a3, respectively.

図5では、インバータ回路1a1からの出力信号を入出力用クロック信号LCLK6として示し、インバータ回路1a2からの出力信号を入出力用クロック信号LCLK7として示し、インバータ回路1a3からの出力信号を入出力用クロック信号LCLK8として示している。入出力用クロック信号LCLK8は、制御対象回路1aYの出力信号として用いられる。   In FIG. 5, the output signal from the inverter circuit 1a1 is shown as an input / output clock signal LCLK6, the output signal from the inverter circuit 1a2 is shown as an input / output clock signal LCLK7, and the output signal from the inverter circuit 1a3 is shown as an input / output clock. This is shown as signal LCLK8. The input / output clock signal LCLK8 is used as an output signal of the control target circuit 1aY.

また、コマンドデコード回路32は、セルフリフレッシュコマンドSREFまたはパワーダウン信号PWDN等の、スタンバイ状態に切り替わる内部コマンド信号を出力する際に、STATE_A信号のレベルを“L”(活性状態)にし、STATE_B信号のレベルを“H”にする。   When the command decode circuit 32 outputs an internal command signal that switches to the standby state, such as the self-refresh command SREF or the power-down signal PWDN, the level of the STATE_A signal is set to “L” (active state), and the STATE_B signal Set the level to “H”.

STATE_A信号のレベルが“L”でありSTATE_B信号のレベルが“H”であるときには、NMOSトランジスタm3Y〜m5Yはオン状態となり、NMOSトランジスタm0Y〜m2Yはオフ状態となる。本実施形態では、STATE_A信号のレベルが“L”のときには、制御対象回路1aYの入力端子、つまり、インバータ回路1a1の入力端子1a13には、“H”が印加される。   When the level of the STATE_A signal is “L” and the level of the STATE_B signal is “H”, the NMOS transistors m3Y to m5Y are turned on and the NMOS transistors m0Y to m2Y are turned off. In the present embodiment, when the level of the STATE_A signal is “L”, “H” is applied to the input terminal of the control target circuit 1aY, that is, the input terminal 1a13 of the inverter circuit 1a1.

このため、STATE_A信号のレベルが“L”でありSTATE_B信号のレベルが“H”であり力端子1a13に“H”が印加されているときには、入力端子1a13、1a23および1a33には“H”(第1の電圧)が供給される(図5の矢印B1参照)。よって、PMOSトランジスタ1a11、1a21および1a31がオフ状態となり、スタンバイ状態時におけるPMOSトランジスタ1a11、1a21および1a31でのNBTI劣化を防止できる。   For this reason, when the level of the STATE_A signal is “L”, the level of the STATE_B signal is “H”, and “H” is applied to the force terminal 1a13, the input terminals 1a13, 1a23, and 1a33 have “H” ( (First voltage) is supplied (see arrow B1 in FIG. 5). Therefore, the PMOS transistors 1a11, 1a21 and 1a31 are turned off, and the NBTI deterioration in the PMOS transistors 1a11, 1a21 and 1a31 in the standby state can be prevented.

また、STATE_A信号のレベルが“L”でありSTATE_B信号のレベルが“H”であり入力端子1a13に“H”が印加されるときには、NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32がオン状態となるが、このとき、NMOSトランジスタm0Y〜m2Yがオフ状態であるため、NMOSトランジスタ1a12、1a22および1a32を貫通電流が流れることを抑制でき、スタンバイ状態時の消費電流を少なくすることが可能になる。   When the level of the STATE_A signal is “L” and the level of the STATE_B signal is “H” and “H” is applied to the input terminal 1a13, the NMOS transistors 1a12, 1a22, and 1a32 are turned on. At this time, since the NMOS transistors m0Y to m2Y are in the off state, it is possible to suppress the through current from flowing through the NMOS transistors 1a12, 1a22, and 1a32, and it is possible to reduce current consumption in the standby state.

なお、図4に示した劣化防止回路1Yでは、NMOSトランジスタ(ソーストランジスタ)m0Y〜m2Yとして、低Vt(LV)NMOSトランジスタが用いられている。   In the deterioration prevention circuit 1Y shown in FIG. 4, low Vt (LV) NMOS transistors are used as the NMOS transistors (source transistors) m0Y to m2Y.

このため、本実施形態では、図5に示したように、STATE_A信号のロー(“L”)側の電圧として、ネガティブレベル電圧VKK(VKK<VSS)が用いられる。よって、NMOSトランジスタm0Y〜m2Yにおけるリーク電流を抑えることが可能となる。なお、ネガティブレベル電圧VKKは、内部電源発生回路61にて生成される。また、NMOSトランジスタm0Y〜m2Yのいずれかに直列接続されている第2導電型のトランジスタ(NMOSトランジスタ1a12〜1a32)のVds(ソース−ドレイン間電圧)も、NMOSトランジスタm0Y〜m2Yにより抑えられる。よって、総じてスタンバイ状態時の消費電流を抑えることができる。   Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 5, the negative level voltage VKK (VKK <VSS) is used as the low (“L”) side voltage of the STATE_A signal. Therefore, the leakage current in the NMOS transistors m0Y to m2Y can be suppressed. The negative level voltage VKK is generated by the internal power supply generation circuit 61. In addition, Vds (source-drain voltage) of the second conductivity type transistors (NMOS transistors 1a12 to 1a32) connected in series to any of the NMOS transistors m0Y to m2Y are also suppressed by the NMOS transistors m0Y to m2Y. Therefore, the current consumption in the standby state can be suppressed as a whole.

また、図4に示した劣化防止回路1Yでは、図2に示した制御回路1bにて用いられていた第1導電型のトランジスタ(PMOSトランジスタm1〜m3)が、第2導電型のトランジスタ(NMOSトランジスタm3Y〜m5Y)に置き換えられている。このため、STATE_A信号のレベルが“L”のとき、つまり、STATE_B信号のレベルが“H”のときの端子N1、N2およびN3のレベルは、VDD−Vtとなるが(なお、Vtは、NMOSトランジスタm3Y〜m5Yの其々のしきい値電圧である)、この場合にも、十分にNBTI劣化を防止することができる。   In the deterioration preventing circuit 1Y shown in FIG. 4, the first conductivity type transistors (PMOS transistors m1 to m3) used in the control circuit 1b shown in FIG. 2 are replaced with the second conductivity type transistors (NMOS). Transistors m3Y to m5Y). Therefore, when the level of the STATE_A signal is “L”, that is, when the level of the STATE_B signal is “H”, the levels of the terminals N1, N2, and N3 are VDD−Vt (where Vt is NMOS) In this case, the NBTI deterioration can be sufficiently prevented.

図4に示した劣化防止回路1Yでは、制御回路1bYは、インバータ回路1a1、1a2および1a3ごとに、インバータ回路内の第1導電型のトランジスタ1a11、1a21または1a31のドレインと第2導電型のトランジスタ1a12、1a22または1a32のドレインとの間に設けられた複数の電流制御用トランジスタm0Y〜m2Yを含み、複数の電流制御用トランジスタm0Y〜m2Yの其々は、制御信号(STATE_A信号)の活性化に応じて非導通状態となる。   In the deterioration prevention circuit 1Y shown in FIG. 4, the control circuit 1bY includes a drain of the first conductivity type transistor 1a11, 1a21 or 1a31 in the inverter circuit and a second conductivity type transistor for each of the inverter circuits 1a1, 1a2, and 1a3. Including a plurality of current control transistors m0Y to m2Y provided between the drains of 1a12, 1a22, and 1a32. Each of the plurality of current control transistors m0Y to m2Y is used to activate a control signal (STATE_A signal). Accordingly, a non-conduction state is established.

このため、第1導電型のトランジスタを非導通状態にしているときに、第2導電型のトランジスタを流れる電流を抑制でき、消費電流を少なくすることが可能になる。   For this reason, when the first conductivity type transistor is in a non-conducting state, the current flowing through the second conductivity type transistor can be suppressed, and current consumption can be reduced.

また、図4に示した劣化防止回路1Yでは、制御回路1bYは、接続入力端子1a23または1a33と接続し、制御信号(STATE_A信号)の活性化に応じて、接続入力端子1a23または1a33に第1の電圧(“H”)を供給する電圧供給用トランジスタm3Yおよびm4Yを含み、第1導電型のトランジスタは、PMOSトランジスタであり、第2導電型のトランジスタと電圧供給用トランジスタと複数の電流制御用トランジスタは、NMOSトランジスタである。   Further, in the deterioration preventing circuit 1Y shown in FIG. 4, the control circuit 1bY is connected to the connection input terminal 1a23 or 1a33, and the first connection is made to the connection input terminal 1a23 or 1a33 in response to the activation of the control signal (STATE_A signal). The first conductivity type transistor is a PMOS transistor, the second conductivity type transistor, the voltage supply transistor, and a plurality of current control transistors are included. The transistor is an NMOS transistor.

このため、劣化防止回路1Y内の全てのトランジスタを、低Vt(LV)MOSトランジスタとすることが可能になる。   For this reason, all the transistors in the deterioration preventing circuit 1Y can be made to be low Vt (LV) MOS transistors.

なお、上記各実施形態では、縦列接続されたインバータ回路の数を3としたが、縦列接続されたインバータ回路の数は2以上の整数であればよい。   In each of the above embodiments, the number of cascade-connected inverter circuits is 3, but the number of cascade-connected inverter circuits may be an integer of 2 or more.

また、上記各実施形態では、縦列接続された複数の回路として、複数のインバータ回路が用いられたが、縦列接続された複数の回路は、複数のインバータ回路に限らず、各々が第1導電型のトランジスタを含む複数の回路であればよい。   In each of the above embodiments, a plurality of inverter circuits are used as the plurality of cascade-connected circuits. However, the plurality of cascade-connected circuits is not limited to the plurality of inverter circuits, and each of them is a first conductivity type. A plurality of circuits including these transistors may be used.

また、上記各実施形態では、第1導電型のトランジスタとして、PMOSトランジスタが用いられたが、第1導電型のトランジスタとしてNMOSトランジスタが用いられてもよい。なお、この場合、制御回路が接続入力端子に供給する第1の電圧は“L”となる。この場合、NMOSトランジスタでのPBTI劣化を抑制することが可能になる。また、この場合、第2導電型のトランジスタは、PMOSトランジスタとなる。   In each of the above embodiments, a PMOS transistor is used as the first conductivity type transistor, but an NMOS transistor may be used as the first conductivity type transistor. In this case, the first voltage supplied from the control circuit to the connection input terminal is “L”. In this case, it becomes possible to suppress the PBTI deterioration in the NMOS transistor. In this case, the second conductivity type transistor is a PMOS transistor.

また、上記各実施形態において、半導体装置100は、DRAMに限らず適宜変更可能である。   In each of the above embodiments, the semiconductor device 100 is not limited to the DRAM and can be changed as appropriate.

以上説明した各実施形態において、図示した構成は単なる一例であって、本発明はその構成に限定されるものではない。   In each embodiment described above, the illustrated configuration is merely an example, and the present invention is not limited to the configuration.

100 半導体装置
11a、11b クロック端子
12 コマンド端子
13 アドレス端子
14 データ入出力端子
15a、15b 電源端子
21 クロック入力回路
22 FUSE
23 タイミングジェネレータ
24 DLL回路
25 劣化防止回路
31 コマンド入力回路
32 コマンドデコード回路
33 リフレッシュ制御回路
41 アドレス入力回路
42 アドレスラッチ回路
43 モードレジスタ
44 劣化防止回路
50 メモリセルアレイ
51 ロウデコーダ
52 カラムデコーダ
53 FIFO回路
54 入出力回路
61 内部電源発生回路
BL ビット線
WL ワード線
MC メモリセル
1、1Y 劣化防止回路
1a、1aY 制御対象回路
1a1〜1a3 インバータ回路
1a11、1a21、1a31、m1〜m3 PMOSトランジスタ
1a12、1a22、1a32、m0、m0Y〜m5Y NMOSトランジスタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Semiconductor device 11a, 11b Clock terminal 12 Command terminal 13 Address terminal 14 Data input / output terminal 15a, 15b Power supply terminal 21 Clock input circuit 22 FUSE
23 Timing Generator 24 DLL Circuit 25 Degradation Prevention Circuit 31 Command Input Circuit 32 Command Decode Circuit 33 Refresh Control Circuit 41 Address Input Circuit 42 Address Latch Circuit 43 Mode Register 44 Degradation Prevention Circuit 50 Memory Cell Array 51 Row Decoder 52 Column Decoder 53 FIFO Circuit 54 Input / output circuit 61 Internal power generation circuit BL Bit line WL Word line MC Memory cell 1, 1Y Deterioration prevention circuit 1a, 1aY Control target circuit 1a1-1a3 Inverter circuit 1a11, 1a21, 1a31, m1-m3 PMOS transistors 1a12, 1a22, 1a32 , M0, m0Y to m5Y NMOS transistors

Claims (7)

第1導電型のトランジスタを含み縦列接続された複数の回路と、
前記複数の回路の其々の入力端子のうち、他の前記回路と接続された接続入力端子と接続し、前記接続入力端子の電圧を制御するための制御信号の活性化に応じて、前記接続入力端子に、当該接続入力端子から電圧を受け付ける前記回路内の第1導電型のトランジスタを非導通状態とする第1の電圧を供給する制御回路と、
を備える半導体装置。
A plurality of cascaded circuits including transistors of a first conductivity type;
Of the input terminals of the plurality of circuits, connected to a connection input terminal connected to the other circuit, and in response to activation of a control signal for controlling the voltage of the connection input terminal, the connection A control circuit for supplying, to the input terminal, a first voltage that makes the first conductivity type transistor in the circuit receiving voltage from the connection input terminal non-conductive;
A semiconductor device comprising:
請求項1に記載の半導体装置において、
前記第1導電型のトランジスタは、PチャネルMOSトランジスタである、半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor device, wherein the first conductivity type transistor is a P-channel MOS transistor.
請求項1または2に記載の半導体装置において、
前記複数の回路の其々は、インバータ回路であり、
前記インバータ回路は、前記第1導電型のトランジスタと第2導電型のトランジスタとを含み、前記第1導電型のトランジスタと前記第2導電型のトランジスタとは、ゲート同士が接続し、ドレイン同士が直接的または間接的に接続している、半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1 or 2,
Each of the plurality of circuits is an inverter circuit,
The inverter circuit includes a first conductivity type transistor and a second conductivity type transistor, wherein the first conductivity type transistor and the second conductivity type transistor have gates connected to each other and drains to each other. A semiconductor device connected directly or indirectly.
請求項3に記載の半導体装置において、
前記制御回路は、前記制御信号の活性化に応じて、前記第2導電型のトランジスタを流れる電流を抑制する、半導体装置。
The semiconductor device according to claim 3.
The control circuit is a semiconductor device that suppresses a current flowing through the second conductivity type transistor in response to activation of the control signal.
請求項4に記載の半導体装置において、
前記制御回路は、前記第2導電型のトランジスタの其々のソースと接続された電流制御用トランジスタを含み、
前記電流制御用トランジスタは、前記制御信号の活性化に応じて非導通状態となる、半導体装置。
The semiconductor device according to claim 4,
The control circuit includes a current control transistor connected to each source of the second conductivity type transistor;
The semiconductor device, wherein the current control transistor is turned off in response to activation of the control signal.
請求項4に記載の半導体装置において、
前記制御回路は、前記インバータ回路ごとに、当該インバータ回路内の前記第1導電型のトランジスタのドレインと前記第2導電型のトランジスタのドレインとの間に設けられた複数の電流制御用トランジスタを含み、
前記複数の電流制御用トランジスタの其々は、前記制御信号の活性化に応じて非導通状態となる、半導体装置。
The semiconductor device according to claim 4,
The control circuit includes, for each inverter circuit, a plurality of current control transistors provided between a drain of the first conductivity type transistor and a drain of the second conductivity type transistor in the inverter circuit. ,
Each of the plurality of current control transistors is in a non-conductive state in response to the activation of the control signal.
請求項6に記載の半導体装置において、
前記制御回路は、
前記接続入力端子と接続し、前記制御信号の活性化に応じて、前記接続入力端子に前記第1の電圧を供給する電圧供給用トランジスタを含み、
前記第1導電型のトランジスタは、PチャネルMOSトランジスタであり、
前記第2導電型のトランジスタと前記電圧供給用トランジスタと前記複数の電流制御用トランジスタは、NチャネルMOSトランジスタである、半導体装置。
The semiconductor device according to claim 6.
The control circuit includes:
A voltage supply transistor connected to the connection input terminal and supplying the first voltage to the connection input terminal in response to activation of the control signal;
The first conductivity type transistor is a P-channel MOS transistor,
The semiconductor device, wherein the second conductivity type transistor, the voltage supply transistor, and the plurality of current control transistors are N-channel MOS transistors.
JP2011235995A 2011-10-27 2011-10-27 Semiconductor device Pending JP2013093513A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011235995A JP2013093513A (en) 2011-10-27 2011-10-27 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011235995A JP2013093513A (en) 2011-10-27 2011-10-27 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013093513A true JP2013093513A (en) 2013-05-16

Family

ID=48616408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011235995A Pending JP2013093513A (en) 2011-10-27 2011-10-27 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013093513A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10998893B2 (en) 2018-08-01 2021-05-04 Micron Technology, Inc. Semiconductor device, delay circuit, and related method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10998893B2 (en) 2018-08-01 2021-05-04 Micron Technology, Inc. Semiconductor device, delay circuit, and related method
US11342906B2 (en) 2018-08-01 2022-05-24 Micron Technology, Inc. Delay circuits, and related semiconductor devices and methods

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10242729B2 (en) Semiconductor device suppressing BTI deterioration
US10665271B2 (en) Driving circuit, semiconductor device including the same, and control method of the driving circuit
KR100680441B1 (en) VPP voltage generator for generating stable VPP voltage
US9780786B2 (en) Apparatus and method for standby current control of signal path
JP2005353172A (en) Memory device
US8947971B2 (en) Semiconductor device generating a clock signal when required
JP3667700B2 (en) Input buffer circuit and semiconductor memory device
US7283421B2 (en) Semiconductor memory device
JP2012252733A (en) Semiconductor device
JP5595240B2 (en) Semiconductor device
US7639553B2 (en) Data bus sense amplifier circuit
US7215594B2 (en) Address latch circuit of memory device
US8331165B2 (en) Semiconductor device
JP2013196732A (en) Semiconductor device
US9001610B2 (en) Semiconductor device generating internal voltage
JP2005222574A (en) Semiconductor memory device
KR100745072B1 (en) Discharge Circuit of Internal Voltage
US7557632B2 (en) Internal clock generator and method of generating internal clock
JP2013093513A (en) Semiconductor device
JP2008226384A (en) Semiconductor memory device and its testing method
JP2013172395A (en) Semiconductor device
WO2014156711A1 (en) Semiconductor device
KR20080033017A (en) Internal voltage generator of semiconductor memory device
US8169840B2 (en) Address latch circuit and semiconductor memory apparatus using the same
JP2011060358A (en) Semiconductor device and control method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20130730

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20140411