JP2013091278A - Mold release film, method for producing the same, and mold release coating agent - Google Patents

Mold release film, method for producing the same, and mold release coating agent Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold release film, the surface of which to be released can be restrained from being contaminated since a mold release layer is formed by using the silica, as a main component, which is obtained by subjecting a hydrolysate of polyalkoxysiloxane, that has the volatility much lower than that of alkoxy siloxanes being organosilanes, to a condensation reaction.SOLUTION: The mold release layer 3, which is based on the silica obtained by subjecting the hydrolysate of polyalkoxysiloxane having much lower volatility to the condensation reaction, is layered on at least one main surface of a film-shaped base material 2 by means of a hydrogen bond and/or a covalent bond, which is created by the condensation reaction of the hydrogen bond, by using a catalyst for accelerating the condensation reaction, in which catalyst chlorine, sulfur, phosphorus and aluminum are not contained. As a result, the surface of the mold release film to be released can be restrained from being contaminated since there is no risk of transferring alkyl silane being low-molecular-weight organosilane or low-molecular-weight cyclic siloxane in the same manner as the risk of the conventional mold release film.

Description

この発明は、フィルム状の基材の少なくとも一方の主面に離型層が積層された離型フィルムおよび離型フィルムの製造方法、並びに、フィルム状の基材の少なくとも一方の主面に積層されることにより離型フィルムの離型層を形成する離型コート剤に関する。   The present invention relates to a release film in which a release layer is laminated on at least one principal surface of a film-like substrate, a method for producing the release film, and a laminate on at least one principal surface of a film-like substrate. It is related with the mold release coating agent which forms the mold release layer of a mold release film.

近年、プリント配線基板、インターポーザ基板、セラミック配線基板、セラミック積層部品、ゴムシート、偏光板や異方性導電フィルム等の各種フィルムなどの成型体の製造工程おいて使用されたり、接着フィルムや粘着フィルムの粘着面を保護する保護フィルムとして使用される離型フィルムの重要性が高まっている。離型フィルムは、ポリエステルなどの樹脂フィルムや紙などにより形成されるフィルム状の基材の少なくとも一方の主面に離型層が積層されたものが知られており、離型層は、シリコーンやフッ素樹脂、ポリオレフィンなどの離型性の高い材質により形成される。   In recent years, printed circuit boards, interposer boards, ceramic wiring boards, ceramic laminated parts, rubber sheets, polarizing films and anisotropic conductive films, etc., used in the manufacturing process of molded products, adhesive films and adhesive films The importance of a release film used as a protective film for protecting the adhesive surface is increasing. A release film is known in which a release layer is laminated on at least one main surface of a film-like substrate formed of a resin film such as polyester or paper, and the release layer is made of silicone or It is made of a highly releasable material such as fluororesin or polyolefin.

また、離型層を形成する材質は、離型フィルムの使用目的に応じて最適なものが選択されるが、優れた離型性および耐熱性を有すると共に安価であることから、離型層を形成するのにオルガノシランであるアルキルシランから生成されるシリコーンが多用されており、シリコーンを主成分とする離型コート剤がフィルム状の基材の少なくとも一方の主面に積層されることにより形成された離型層を有する種々の離型フィルムが提案されている(例えば、特許文献1〜5参照)。   The material for forming the release layer is selected in accordance with the purpose of use of the release film, but it has excellent release properties and heat resistance and is inexpensive. Silicone produced from alkylsilane, which is organosilane, is often used to form, and is formed by laminating a release coating agent based on silicone on at least one main surface of a film-like substrate. Various release films having a released release layer have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 5).

特開昭63−251465号公報JP-A-63-251465 特開2009−12317号公報JP 2009-12317 A 特開2010−17931号公報JP 2010-17931 A 特開2010−143037号公報JP 2010-143037 A 特開2007−237497号公報JP 2007-237497 A

ところで、シリコーンは優れた離型性を有するが、離型フィルムを成型体から剥離したときに、低分子量のシリコーンなどにより被離型面が汚染されることが問題となっている。すなわち、離型フィルムが使用された成型体の被離型面に、離型層を形成する低分子量のオルガノシランであるアルキルシランや低分子量の環状シロキサンが転写されることにより、被離型面に離型性が生じ、被離型面にさらに他の部材を積層するときの接着性に問題が生じるおそれがある。   By the way, although silicone has an excellent releasability, there is a problem that when a release film is peeled from a molded body, a surface to be released is contaminated by low molecular weight silicone or the like. In other words, the release surface of the molded body in which the release film is used is transferred by transfer of alkyl silane, which is a low molecular weight organosilane that forms a release layer, or low molecular weight cyclic siloxane, to the release surface. There is a possibility that the mold release property may occur, and there may be a problem in the adhesion property when another member is further laminated on the surface to be released.

また、フィルム状の基材に離型層を積層するときに用いられる離型コート剤に含まれる触媒や添加物、または、離型コート剤の溶剤に含まれるその他の不純物が成型体の被離型面に転写されることにより、被離型面が不純物により汚染されたり、被離型面の反応性が低下するなどの問題が生じるおそれがある。また、成型体の被離型面に転写されて残存した低分子量のオルガノシランや低分子量の環状シロキサンは高沸点物質だが揮発性が高いため、沸点以下の室温付近でも蒸気となって大気中へ拡散することにより、離型フィルムが用いられる配線基板等の製造工程において、蒸気が電気回路やリレー接点などの表面において電流による熱で分解され、絶縁性のシリカが析出し、接点不良が発生するおそれがあり問題となっていた。   In addition, the catalyst and additives contained in the release coating agent used when laminating the release layer on the film-like substrate, or other impurities contained in the solvent of the release coating agent are removed from the molded product. By being transferred to the mold surface, there is a possibility that problems such as contamination of the surface to be released with impurities and reduction in reactivity of the surface to be released. In addition, low molecular weight organosilanes and low molecular weight cyclic siloxanes that remain after being transferred to the mold release surface of the molded body are high boiling point substances but are highly volatile. Diffusion causes vapor to be decomposed by heat from the current on the surface of electrical circuits and relay contacts, etc., in the manufacturing process of wiring boards and the like where release films are used, and insulative silica is deposited, resulting in poor contact. There was a fear and it was a problem.

本発明は、上記した課題に鑑みてなされたものであり、オルガノシランであるアルコキシシロキサンの中でも揮発性が非常に小さいポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層が形成されることにより、被離型面が汚染されるのを抑制することができる離型フィルムおよび離型フィルムの製造方法を提供すると共に、フィルム状の基材に積層されることにより当該離型層を形成する離型コート剤を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and the main component is silica obtained by hydrolysis and condensation reaction of polyalkoxysiloxane having very low volatility among alkoxysiloxanes which are organosilanes. In addition to providing a release film and a release film manufacturing method capable of suppressing contamination of the release surface by forming a release layer to be laminated, the release layer is laminated on a film-like substrate It aims at providing the mold release coating agent which forms the said mold release layer by this.

上記した目的を達成するために、本発明の離型フィルムは、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材と、前記複数の水酸基を有する前記基材の少なくとも一方の主面に積層された離型層とを備え、前記離型層は、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とし、前記複数の水酸基を有する前記基材の少なくとも一方の主面に水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合により積層されて形成されていることを特徴としている(請求項1)。   In order to achieve the above-described object, a release film of the present invention includes at least one of a film-like substrate having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface, and the substrate having a plurality of hydroxyl groups. A release layer laminated on one main surface, and the release layer is subjected to a condensation reaction by hydrolysis of polyalkoxysiloxane using a condensation reaction promoting catalyst not containing chlorine, sulfur, phosphorus and aluminum. Silica obtained as a main component is formed by stacking hydrogen bonds and / or covalent bonds formed by condensation reaction of the hydrogen bonds on at least one main surface of the substrate having the plurality of hydroxyl groups. (Claim 1).

また、前記離型層は、複数の無機粒子をさらに含み、表面に前記複数の無機粒子による凹凸が形成されていてもよい(請求項2)。   The release layer may further include a plurality of inorganic particles, and the surface may have irregularities formed by the plurality of inorganic particles (Claim 2).

また、前記フィルム状の基材は、少なくとも一つの水酸基を有するビニルモノマーの重合体またはセルロース類から成るポリマーフィルムであるとよい(請求項3)。   The film-like substrate may be a polymer of a vinyl monomer having at least one hydroxyl group or a polymer film made of celluloses (Claim 3).

また、前記フィルム状の基材は、コロナ放電処理、プラズマ処理またはナトリウム/ナフタレン錯体溶液による処理による親水化処理により少なくとも一方の主面に水酸基が形成されたポリマーフィルムであるとよい(請求項4)。   The film-like substrate may be a polymer film in which a hydroxyl group is formed on at least one main surface by a corona discharge treatment, a plasma treatment, or a hydrophilic treatment by treatment with a sodium / naphthalene complex solution. ).

また、本発明の離型フィルムの製造方法は、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材の、当該複数の水酸基を有する少なくとも一方の主面に、溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて形成される離型コート剤を塗布し、加熱して乾燥させることにより、離型層を、水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合より前記フィルム状の基材に積層することを特徴としている(請求項5)。   Further, in the method for producing a release film of the present invention, a film-like substrate having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface is used as a solvent on at least one main surface having the plurality of hydroxyl groups. A mold release coating agent formed by dissolving a solute containing a condensation reaction accelerating catalyst that contains polyalkoxysiloxane as a main component and does not contain chlorine, sulfur, phosphorus, and aluminum is applied, heated and dried to release the mold. The layer is laminated on the film-like substrate by hydrogen bonds and / or covalent bonds resulting from condensation reaction of the hydrogen bonds (Claim 5).

また、前記縮合反応促進触媒は、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含むとよい(請求項6)。   The condensation reaction promoting catalyst may contain at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate, and a titanium-based organometallic compound. Item 6).

また、前記溶媒には、複数の無機粒子がさらに添加されているとよい(請求項7)。   In addition, a plurality of inorganic particles may be further added to the solvent.

また、本発明の離型コート剤は、フィルム状の基材の少なくとも一方の主面に積層されることにより離型フィルムの離型層を形成する離型コート剤であって、溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて形成されることを特徴としている(請求項8)。   The release coating agent of the present invention is a release coating agent that forms a release layer of a release film by being laminated on at least one main surface of a film-like substrate, and a polyalkoxy as a solvent. A solute containing a condensation reaction promoting catalyst containing siloxane as a main component and not containing chlorine, sulfur, phosphorus, or aluminum is dissolved and formed (claim 8).

また、前記縮合反応促進触媒は、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含むとよい(請求項9)。   The condensation reaction promoting catalyst may contain at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate, and a titanium-based organometallic compound. Item 9).

また、前記溶媒には、複数の無機粒子がさらに添加されているとよい(請求項10)。   In addition, a plurality of inorganic particles may be further added to the solvent (claim 10).

また、前記溶媒は、アルコール系、エーテル系およびケトン系のいずれかであるとよい(請求項11)。   The solvent may be any of alcohol, ether and ketone.

また、前記溶媒には、ポリアルキルシランがポリアルコキシシロキサン100重量部に対して1から100重量部がさらに溶解されているとよい(請求項12)。   Further, it is preferable that 1 to 100 parts by weight of polyalkylsilane is further dissolved in 100 parts by weight of polyalkoxysiloxane in the solvent.

請求項1の発明によれば、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材の少なくとも一方の主面に、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層が、水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合により積層されている。したがって、オルガノシランであるアルコキシシロキサンの中でも揮発性が非常に小さいポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層がフィルム状の基材に形成されているため、従来の離型フィルムのように、低分子量のオルガノシランであるアルキルシランや低分子量の環状シロキサンが転写されることにより成型体の被離型面が汚染されるおそれがなく、被離型が汚染されるのを抑制することができる離型フィルムを提供することができる。   According to the first aspect of the present invention, at least one main surface of the film-like base material having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface does not contain chlorine, sulfur, phosphorus, or aluminum. A release layer mainly composed of silica obtained by hydrolyzing and condensing a polyalkoxysiloxane using a catalyst is laminated with a hydrogen bond and / or a covalent bond due to a hydrogen bond condensation reaction. Yes. Therefore, a release layer mainly composed of silica obtained by hydrolyzing and condensing a polyalkoxysiloxane having a very low volatility among alkoxysiloxanes, which are organosilanes, is formed on a film-like substrate. Therefore, unlike the conventional release film, there is no possibility that the release surface of the molded body will be contaminated by transferring the alkylsilane, which is a low molecular weight organosilane, or the low molecular weight cyclic siloxane. It is possible to provide a release film that can suppress the mold from being contaminated.

また、OH基を有するシリカを主成分とする離型層は、フィルム状の基材に水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合により直接接着されて積層されている。したがって、離型層をフィルム状の基材に接着するための接着層(アンカーコート層)が必要なく、従来のように、接着層を形成する物質が成型体の被離型面に転写することにより被離型面が汚染されるおそれがない離型フィルムを提供することができる。   The release layer mainly composed of silica having an OH group is laminated by being directly bonded to the film-like base material by a hydrogen bond and / or a covalent bond caused by a hydrogen bond condensation reaction. Therefore, there is no need for an adhesive layer (anchor coat layer) for adhering the release layer to the film-like substrate, and the substance forming the adhesive layer can be transferred to the release surface of the molded body as in the past. Thus, it is possible to provide a release film in which the release surface is not likely to be contaminated.

また、離型層は、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分として形成されている。したがって、縮合反応促進触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸や、スルホン酸や有機リン酸などの有機酸が使用されていないため、低分子量物質やイオン性化合物などが成型体の被離型面に転写することにより被離型面が汚染されるおそれがない離型フィルムを提供することができる。これらの塩素、硫酸、硝酸、リン酸、アルミニウム等のイオン性等の不純物は、各種配線基板や半導体に設けられたアルミニウム(Al)や銅(Cu)配線の腐食、エレクトロマイグレーション等の不良を引き起こすことが知られており、これらを含まない離型層が積層される離型フィルムが各種配線基板やセラミックス基板の製造用途には最適である。また、縮合反応促進触媒として、アルミニウム系の有機金属化合物が使用されていないため、離型層の離型性が低下するおそれがなく、優れた離型性を有する離型フィルムを提供することができる。   The release layer is formed mainly of silica obtained by using a condensation reaction promoting catalyst that does not contain chlorine, sulfur, phosphorus, and aluminum and hydrolyzing the polyalkoxysiloxane to undergo a condensation reaction. Therefore, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, and organic acids such as sulfonic acid and organic phosphoric acid are not used as condensation reaction promoting catalysts, so low molecular weight substances and ionic compounds can be molded. It is possible to provide a release film in which the release surface is not likely to be contaminated by transferring to the release surface. These ionic impurities such as chlorine, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and aluminum cause corrosion of aluminum (Al) and copper (Cu) wiring provided on various wiring boards and semiconductors, and defects such as electromigration. It is known that a release film on which a release layer that does not contain these is laminated is most suitable for manufacturing various wiring boards and ceramic substrates. Moreover, since an aluminum-based organometallic compound is not used as the condensation reaction promoting catalyst, there is no possibility that the releasability of the release layer is lowered, and a release film having excellent releasability can be provided. it can.

請求項2の発明によれば、離型層は、複数の無機粒子をさらに含み、表面に複数の無機粒子による凹凸が形成されているため、例えば、積層板等を形成する熱硬化性樹脂を成型する際に、成型体である熱硬化性樹脂の被離型面に凹凸が形成されるため、アンカー効果により、被離型面に熱硬化性樹脂をさらに積層するときに接着面の接着強度を向上することができる。また、例えば、接着剤や粘着剤の保護フィルムとして離型フィルムが使用される際に、離型層に凹凸が形成されているため、接着剤や粘着剤と離型層との接触部分の面積が減少するので、より剥がし易い離型フィルムを提供することができる。   According to the invention of claim 2, the release layer further includes a plurality of inorganic particles, and the surface has irregularities formed by the plurality of inorganic particles. For example, a thermosetting resin that forms a laminated plate or the like is used. When molding, unevenness is formed on the release surface of the thermosetting resin that is the molded body, so the adhesion strength of the adhesive surface when the thermosetting resin is further laminated on the release surface due to the anchor effect Can be improved. Also, for example, when a release film is used as a protective film for an adhesive or pressure-sensitive adhesive, since the unevenness is formed in the release layer, the area of the contact portion between the adhesive or pressure-sensitive adhesive and the release layer Therefore, it is possible to provide a release film that is easier to peel off.

請求項3,4の発明によれば、フィルム状の基材の少なくとも一方の主面に水酸基が形成されているため、ポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層が、水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合によりフィルム状の基材に確実に結合された離型フィルムを提供することができる。   According to the third and fourth aspects of the present invention, since a hydroxyl group is formed on at least one main surface of the film-like substrate, silica obtained by hydrolysis and condensation reaction of polyalkoxysiloxane is the main component. A release film in which the release layer is securely bonded to a film-like substrate by covalent bonding due to condensation reaction of hydrogen bonds and / or hydrogen bonds can be provided.

請求項5,8の発明によれば、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材の、当該複数の水酸基を有する少なくとも一方の主面に、溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて成る離型コート剤を塗布が塗布される。そして、塗布された離型コート剤が、加熱されて乾燥することにより、オルガノシランであるアルコキシシロキサンの中でも揮発性が非常に小さいポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層が、水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合よりフィルム状の基材に積層される。したがって、従来の離型フィルムのように、低分子量のオルガノシランであるアルキルシランや低分子量の環状シロキサンが転写されることにより成型体の被離型面が汚染されるおそれがなく、被離型面が汚染されるのを抑制することができる離型フィルムを製造することができる。   According to the inventions of claims 5 and 8, at least one main surface having a plurality of hydroxyl groups of the film-like substrate having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface is coated with a polyalkoxy as a solvent. Application is performed with a release coating agent in which a solute containing a condensation reaction promoting catalyst containing siloxane as a main component and not containing chlorine, sulfur, phosphorus, or aluminum is dissolved. Then, the coated release coating agent is heated and dried to hydrolyze a silica obtained by a hydrolysis reaction of polyalkoxysiloxane having a very low volatility among alkoxysiloxanes which are organosilanes. A release layer as a main component is laminated on a film-like substrate by hydrogen bonds and / or covalent bonds formed by condensation reaction of the hydrogen bonds. Therefore, unlike the conventional release film, there is no possibility that the release surface of the molded body will be contaminated by transferring the alkylsilane, which is a low molecular weight organosilane, or the low molecular weight cyclic siloxane. A release film that can prevent the surface from being contaminated can be produced.

請求項6,9の発明によれば、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含む縮合反応促進触媒が用いられることにより、離型性を損なうことが無く、成型体の被離型面に縮合反応促進触媒を形成する物質が転写することにより被離型面が汚染するのを抑制することができる離型層をフィルム状の基材に形成することができる。   According to the inventions of claims 6 and 9, a condensation reaction comprising at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate and a titanium-based organometallic compound. By using a promotion catalyst, the release property is not impaired and the release surface is prevented from being contaminated by the transfer of the substance that forms the condensation reaction promotion catalyst to the release surface of the molded body. It is possible to form a release layer that can be formed on a film-like substrate.

前述のように塩素、硫酸、硝酸、リン酸、アルミニウム等のイオン性等の不純物は、各種配線基板や半導体に設けられたアルミニウムや銅配線の腐食、エレクトロマイグレーション等の不良を引き起こすことが知られており、これらを含まない縮合反応促進触媒としては、各種アミン、チタン系有機金属化合物等が知られている。しかし各種アミンは非常に活性の高い触媒であることから、各種アミンを配合した離型コート剤は常温でも反応が進むため離型コート剤の保存安定性に欠ける。   As mentioned above, ionic impurities such as chlorine, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, and aluminum are known to cause defects such as corrosion and electromigration of aluminum and copper wiring provided on various wiring boards and semiconductors. Various amines, titanium-based organometallic compounds, and the like are known as condensation reaction promoting catalysts that do not contain these. However, since various amines are very active catalysts, release coating agents containing various amines are poor in storage stability of release coating agents because the reaction proceeds even at room temperature.

各種アミンをカルボン酸、炭酸塩とすると、温度をかけないとカルボン酸や炭酸が外れないため常温では反応活性の低いアミン触媒を得ることができる。さらに、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物は、空気中の水分と反応することによりアミンを発生することができるため、離型コート剤中に水分を含まなければ保存安定性のある縮合反応促進触媒を提供することができる。   When various amines are carboxylic acids and carbonates, the carboxylic acid and carbonic acid cannot be removed unless the temperature is applied, so that an amine catalyst having low reaction activity at room temperature can be obtained. Furthermore, compounds containing isocyanate groups or isocyanurate groups can generate amines by reacting with moisture in the air, so if the release coating agent does not contain moisture, it promotes condensation reactions that are storage stable. A catalyst can be provided.

請求項7,10の発明によれば、離型コート剤を形成する溶媒には、複数の無機粒子がさらに添加されているため、複数の無機粒子を含み、表面に複数の無機粒子による凹凸が形成された離型層をフィルム状の基材に容易に形成することができる。   According to the seventh and tenth aspects of the present invention, since a plurality of inorganic particles are further added to the solvent forming the release coating agent, the solvent contains a plurality of inorganic particles, and the surface has irregularities due to the plurality of inorganic particles. The formed release layer can be easily formed on a film-like substrate.

請求項11の発明によれば、アルコール系、エーテル系およびケトン系のいずれかの溶媒を用いて離型コート剤を形成することにより、実用的な構成の離型コート剤を提供することができる。   According to the eleventh aspect of the present invention, a release coating agent having a practical configuration can be provided by forming the release coating agent using any one of alcohol-based, ether-based, and ketone-based solvents. .

請求項12の発明によれば、離型コート剤の溶媒には、ポリアルキルシランがポリアルコキシシロキサン100重量部に対して1から100重量部がさらに溶解されているため、離型コート剤がフィルム状の基材に積層されることにより形成される離型層の離型性を向上することができる。   According to the invention of claim 12, since the polyalkylsilane is further dissolved in 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyalkoxysiloxane in the solvent of the release coating agent, the release coating agent is a film. The mold release property of the mold release layer formed by laminating | stacking on a shaped base material can be improved.

本発明の離型フィルムの第1実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st Embodiment of the release film of this invention. 本発明の離型フィルムの第2実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the release film of this invention. 本発明の離型フィルムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the release film of this invention. 本発明の離型フィルムの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the release film of this invention.

<第1実施形態>
本発明の離型フィルムの第1実施形態について図1を参照して説明する。図1は本発明の離型フィルムの第1実施形態を示す図である。
<First Embodiment>
1st Embodiment of the release film of this invention is described with reference to FIG. FIG. 1 is a view showing a first embodiment of a release film of the present invention.

図1に示すように、本発明の離型フィルム1は、フィルム状の基材2と、フィルム状の基材2に積層された離型層3とを備え、a)積層板やインターポーザなどの配線板、b)セラミックコンデンサー用グリーンシートを形成する際に使用されたり、c)半導体を製造する際に使用されるフィルム状の異方性導電フィルムやダイボンドフィルム等の剥離フィルムとして使用されたり、d)CFRP(炭素繊維強化プラスチック)の離型フィルムとして使用される。   As shown in FIG. 1, the release film 1 of the present invention includes a film-like substrate 2 and a release layer 3 laminated on the film-like substrate 2, and a) a laminate, an interposer, or the like Wiring board, b) used when forming a green sheet for a ceramic capacitor, c) used as a release film such as a film-like anisotropic conductive film or die bond film used when manufacturing a semiconductor, d) Used as a release film for CFRP (carbon fiber reinforced plastic).

離型フィルム1は、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材2の、当該複数の水酸基を有する少なくとも一方の主面に、離型コート剤が塗布され、塗布された離型コート剤がオーブン炉等により加熱されて乾燥することにより、水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合より基材2に離型層3が積層されて形成される。   The release film 1 has a release coating agent applied to at least one main surface having a plurality of hydroxyl groups of the film-like substrate 2 having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface, The applied release coating agent is heated by an oven furnace or the like and dried, whereby a release layer 3 is formed on the base material 2 by a covalent bond resulting from a hydrogen bond and / or a hydrogen bond condensation reaction. The

基材2は、少なくとも一方の主面の前面に渡って複数の水酸基を有している。具体的には、フィルム状の基材2は、少なくとも一つの水酸基を有するビニルモノマーの重合体から成るポリマーフィルムであって、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル部分ケン化物(ビニルアルコール酢酸ビニル共重合体)、エチレンビニルアルコール、ビニルアルコール共重合体、例えば特開2006−124682号公報に開示されている1,2−ジオール構造単位を側鎖に含有するポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルブチラ―ル等、またはセルロース(セロハン紙)、部分変性セルロース、紙等のセルロース類、もしくはこれら水酸基を有するポリマーを片面または両面にコートしたフィルムにより形成される。   The base material 2 has a plurality of hydroxyl groups over the front surface of at least one main surface. Specifically, the film-like substrate 2 is a polymer film made of a polymer of a vinyl monomer having at least one hydroxyl group, and is a polyvinyl alcohol, a partially saponified polyvinyl acetate (vinyl alcohol vinyl acetate copolymer). , Ethylene vinyl alcohol, vinyl alcohol copolymers, for example, polyvinyl alcohol resins containing 1,2-diol structural units disclosed in JP 2006-124682 A in the side chain, polyvinyl butyral, etc., or It is formed by cellulose (cellophane paper), partially modified cellulose, cellulose such as paper, or a film coated on one or both sides with a polymer having a hydroxyl group.

また、基材2は、ポリマーフィルムの表面にコロナ放電処理、プラズマ処理、ナトリウム/ナフタレン錯体溶液による親水化処理により少なくとも一方の主面に水酸基が形成されたポリマーフィルムであってもよい。   The substrate 2 may be a polymer film in which a hydroxyl group is formed on at least one main surface by corona discharge treatment, plasma treatment, or hydrophilic treatment with a sodium / naphthalene complex solution on the surface of the polymer film.

離型層3は、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とし、複数の水酸基を有する基材2の一方の主面に水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合により積層されている。   The release layer 3 is composed mainly of silica obtained by hydrolysis reaction of polyalkoxysiloxane using a condensation reaction promoting catalyst that does not contain chlorine, sulfur, phosphorus, and aluminum, and has a plurality of hydroxyl groups. It is laminated on one main surface of the substrate 2 by a hydrogen bond and / or a covalent bond caused by a condensation reaction of the hydrogen bond.

フィルム状の基材2の少なくとも一方の主面に積層されることにより離型フィルム1の離型層3を形成する離型コート剤は、溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて形成される。   The release coating agent for forming the release layer 3 of the release film 1 by being laminated on at least one main surface of the film-like base material 2 is mainly composed of polyalkoxysiloxane as a solvent, chlorine, sulfur, A solute containing a condensation reaction promoting catalyst not containing phosphorus or aluminum is dissolved and formed.

溶媒は、エタノールや2−プロパノールのようなアルコール系を用いることができる。また、離型コート剤を保管するときの安全性を考慮して、引火点が20℃未満にならないエーテル系やケトン系のような極性溶媒を用いてもよい。   As the solvent, an alcohol type such as ethanol or 2-propanol can be used. In consideration of safety when storing the release coating agent, a polar solvent such as an ether or ketone that does not have a flash point of less than 20 ° C. may be used.

具体的には、アルコール系溶媒としては、1−プロパノール、ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、n−ブトキシエタノール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコール−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコール−n−プロピルエーテル、プロピレングリコール−n−ブチルエーテルなどが例示される。また、離型コート剤を保管するときの安全性を考慮して、混合溶媒の引火点が20℃ 未満にならない範囲であれば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどの低引火性アルコールを配合してもよい。   Specifically, examples of the alcohol solvent include 1-propanol, butanol, 2-methyl-1-propanol, n-butoxyethanol, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, propylene glycol-n-propyl ether, di- Examples include propylene glycol-n-propyl ether and propylene glycol-n-butyl ether. In consideration of safety when storing the release coating agent, a low flammable alcohol such as methanol, ethanol or isopropyl alcohol may be blended if the flash point of the mixed solvent does not fall below 20 ° C. Also good.

また、ケトン系溶媒としては、メチル−n−ブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトンなどが例示される。また、エーテル系溶媒としては、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテートなどが例示される。   Examples of the ketone solvent include methyl-n-butyl ketone, methyl pentyl ketone, and diisobutyl ketone. Examples of the ether solvent include dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, and propylene glycol diacetate.

縮合反応促進触媒は、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含んでいる。   The condensation reaction promoting catalyst includes at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate, and a titanium-based organometallic compound.

イソシアネート基を含む化合物とは、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2―メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2―アクリロイルオキシエチルイソシアナート等が例示される。   Examples of the compound containing an isocyanate group include hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, and the like.

またイソシアネートをブロック化したイソシアネートブロック体は、加熱すると脱ブロックしてイソシアネートを再生させるものであり、加熱して離型層を硬化させる本発明には特に有効である。イソシアネートブロック体としては、例えばピラゾールブロックイソシアネート基をブロック剤とする2−[(3,5―ジメチルピラゾリル)カルボニルアミノ]エチルメタクリレート等、メチルエチルケトキシム基をブロック剤とするメタクリル酸 2−(0−[1'−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル等があり、その他のブロック剤としてはジエチルマロネート、カプロラクタム等が例示される。   In addition, an isocyanate block obtained by blocking an isocyanate is deblocked by heating to regenerate the isocyanate, and is particularly effective in the present invention in which the release layer is cured by heating. Examples of the isocyanate block body include 2-[(3,5-dimethylpyrazolyl) carbonylamino] ethyl methacrylate having a pyrazole-blocked isocyanate group as a blocking agent and methacrylic acid having a methylethylketoxime group as a blocking agent 2- (0- [ 1'-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl and the like, and examples of other blocking agents include diethyl malonate and caprolactam.

またイソシアヌレート基を含む化合物とは、旭化成ケミカルズのデュラネートTSA−100,TSS−100,TSE−100等、日華化学のNKアシストNY等が例示される。イソシアヌレート基は、イソシアネート基の3量体であり、同様に水と反応してアミンを生成することが知られている。   Examples of the compound containing an isocyanurate group include Asahi Kasei Chemicals' Duranate TSA-100, TSS-100, TSE-100 and the like, NK assist NY of Nikka Chemical, and the like. It is known that an isocyanurate group is a trimer of an isocyanate group and similarly reacts with water to produce an amine.

1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩とは、まず高分子型のアミンを含む1―3級アミンにカルボン酸または炭酸を反応させて得られる塩をいう。カルボン酸にはアンモニア、酢酸等が例示されるが、酢酸が1−3級アミンと反応すると1−3級アミンの酢酸塩が得られる。また4級アミンのカルボン酸、炭酸塩は4級アンモニウム塩のアニオン交換により得られる。1級アミンとしてはエチレンジアミン、2−アミノエタノール、ヘキサメチレンジアミン、アニリン、アミノシラン等、2級アミンとしてはジエチルアミン、3級アミンとしてはN,N-ジメチル-2-プロパンアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリエタノールアミン、高分子型のアミンとしてはポリエチレンイミン、ポリエチレンジアミン、ポリアリルアミン等が例示される。   The carboxylic acid and carbonate of the 1-4th class amine refers to a salt obtained by reacting a 1st to 3rd class amine containing a polymer type amine with carboxylic acid or carbonic acid. Examples of the carboxylic acid include ammonia, acetic acid, and the like. When acetic acid reacts with a tertiary amine, an acetate of the tertiary amine is obtained. Further, carboxylic acids and carbonates of quaternary amines can be obtained by anion exchange of quaternary ammonium salts. Primary amine is ethylenediamine, 2-aminoethanol, hexamethylenediamine, aniline, aminosilane, etc. Secondary amine is diethylamine, tertiary amine is N, N-dimethyl-2-propanamine, tetramethylethylenediamine, triethanol Examples of amines and polymer-type amines include polyethyleneimine, polyethylenediamine, and polyallylamine.

一般的にオルガノシラン(アルキルシランとアルコキシシラン)の縮合反応促進触媒には、塩酸、硫酸、リン酸のような無機酸が使用される。また、カルボン酸、スルホン酸、有機リン酸等の有機酸や各種アミン、さらにチタンやアルミニウム系の有機金属化合物も使用することができる。縮合反応促進触媒は、シラノール、アルコキシ基の縮合を促進するものであれば特に限定はされないが、縮合反応促進触媒としては、特に、無機酸、アミン、チタン系触媒が、硬化速度や塗膜の強度の点で好ましい。   In general, an inorganic acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or phosphoric acid is used as a catalyst for condensing reaction of organosilane (alkylsilane and alkoxysilane). In addition, organic acids such as carboxylic acid, sulfonic acid, and organic phosphoric acid, various amines, and titanium and aluminum-based organometallic compounds can also be used. The condensation reaction accelerating catalyst is not particularly limited as long as it promotes the condensation of silanol and alkoxy groups, but as the condensation reaction accelerating catalyst, in particular, inorganic acids, amines, and titanium-based catalysts are used for curing speed and coating film. It is preferable in terms of strength.

ところが、離型フィルム1の基材2および離型層3からの低分子量物質やイオン性化合物等が成型体の被離型面に移行したり転写したりすることによる被離型面の汚染を考えると、塩酸、硫酸、リン酸のような無機酸、スルホン酸、有機リン酸等の有機酸、アルミニウム系の有機金属化合物を縮合反応促進触媒に使用することは適当ではなく、また、アルミニウム系の有機金属化合物を縮合反応促進触媒に使用すると、離型層3の離型性が非常に小さく、アルミニウム系の有機金属化合物を縮合反応促進触媒に使用することは適当ではない。   However, contamination of the release surface due to transfer or transfer of low molecular weight substances, ionic compounds, and the like from the substrate 2 and the release layer 3 of the release film 1 to the release surface of the molded body. Considering this, it is not appropriate to use inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as sulfonic acid and organic phosphoric acid, and aluminum-based organometallic compounds as condensation reaction accelerating catalysts. When this organometallic compound is used as the condensation reaction promoting catalyst, the release property of the release layer 3 is very small, and it is not appropriate to use an aluminum-based organometallic compound as the condensation reaction promoting catalyst.

したがって、離型コート剤(離型層3)から物質が成型体の被離型面に移行または転写することによる被離型面の成型物の汚染を考慮すると、縮合反応促進触媒として各種アミン系の触媒が使用するのが最適であるが、アミン系の触媒は室温での反応活性が高いため、離型コート剤を保管するときの安定性に欠け不適当である。   Accordingly, in consideration of the contamination of the molded product on the release surface due to the transfer or transfer of the substance from the release coating agent (release layer 3) to the release surface of the molded product, various amine-based catalysts are used as condensation reaction promoting catalysts. However, since amine-based catalysts have high reaction activity at room temperature, they are unsuitable due to lack of stability when storing a release coating agent.

これを解決するために、本発明者は種々の実験を繰り返すことにより、微アルカリ性から微酸性になるように、各種アミンに150℃以下の沸点を有する炭酸またはカルボン酸を添加することで、各種アミンの室温での反応活性を抑制し、保存安定性に優れた離型コート剤を得ることができた。   In order to solve this problem, the present inventor repeated various experiments to add various carbonic acid or carboxylic acid having a boiling point of 150 ° C. or lower to various amines so that the acidity is changed from slightly alkaline to slightly acidic. It was possible to obtain a release coating agent that suppresses the reaction activity of amine at room temperature and has excellent storage stability.

カルボン酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸が例示され特に酢酸が好ましい。各種アミンに関しては、1つ以上のアミノ基を有する低分子化合物から高分子化合物まで広範な化合物が使用することができるが、離型層3(離型コート剤)から成型体の被離型面へ物質が移行または転写することによる被離型面の汚染を考慮すると、1つ以上のアミノ基を有する高分子化合物が最適である。1つ以上のアミノ基を有する高分子化合物としては、ポリエチレンイミン、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン等、またはこれらのモノマーとビニルアルコールの共重合体が例示される。   Examples of the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, and propionic acid, and acetic acid is particularly preferable. For various amines, a wide range of compounds can be used, from low molecular compounds having one or more amino groups to high molecular compounds, but from the release layer 3 (release coating agent) to the release surface of the molded product. In consideration of contamination of the surface to be separated due to migration or transfer of a substance, a polymer compound having one or more amino groups is optimal. Examples of the polymer compound having one or more amino groups include polyethyleneimine, polyvinylamine, polyallylamine and the like, or a copolymer of these monomers and vinyl alcohol.

また、1つ以上のアミノ基を有する化合物としては、ポリアルコキシシロキサンと反応することにより、離型層3から成型体の被離型面に物質が移行または転写することができるので、アミノシランや1つ以上の水酸基およびアミノ基を含む化合物も最適である。アミノシランとしては、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン等が例示される。また、1つ以上の水酸基およびアミノ基を含む化合物としては、2−アミノエタノール、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、あるいは、カナマイシン等のアミノグルコキシド類等が例示される。   Further, as the compound having one or more amino groups, the substance can be transferred or transferred from the release layer 3 to the release surface of the molded body by reacting with the polyalkoxysiloxane. Also suitable are compounds containing one or more hydroxyl and amino groups. Examples of aminosilane include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, and 3- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane. Is done. Examples of the compound containing one or more hydroxyl groups and amino groups include 2-aminoethanol, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and aminoglucooxides such as kanamycin.

また、イソシアネート基を含む化合物は水と反応して、二酸化炭素とアミノ基に変換することが一般的に知られている。この反応を利用して室温での反応活性の低い縮合反応促進触媒を提供することができる。離型コート剤の溶媒および溶質の水含量を極度に制限することにより、離型コート剤の液中では水が存在しなければ、イソシアネート基を含む化合物はアミノ基に変換されない。ところが、フィルム状の基材2に離型コート剤を塗布することにより離型フィルム1を製造する際に、環境中の雰囲気(空気)の湿度から水を得ることによりイソシアネート基がアミノ基に変換反応することで、ポリアルコキシシロキサンの縮合反応促進触媒として機能する。したがって、水と反応してアミノ基に変換されるイソシアネート基を含む化合物、さらには前記化合物にブロック剤を添加して、高温でのみそのブロック剤がイソシアネート基から解離することにより反応性を制御する方法も本発明の縮合反応触媒として使用することができる。   In addition, it is generally known that a compound containing an isocyanate group reacts with water and is converted into carbon dioxide and an amino group. By utilizing this reaction, a condensation reaction promoting catalyst having a low reaction activity at room temperature can be provided. By extremely limiting the water content of the solvent and solute of the release coating agent, the compound containing an isocyanate group is not converted to an amino group unless water is present in the release coating agent solution. However, when the release film 1 is produced by applying a release coating agent to the film-like substrate 2, the isocyanate group is converted into an amino group by obtaining water from the humidity of the atmosphere (air) in the environment. By reacting, it functions as a condensation reaction promoting catalyst for polyalkoxysiloxane. Therefore, a compound containing an isocyanate group that reacts with water to be converted to an amino group, and further, a blocking agent is added to the compound, and the blocking agent dissociates from the isocyanate group only at a high temperature to control the reactivity. The method can also be used as the condensation reaction catalyst of the present invention.

また、イソシアネート基を含む化合物は、 イソシアネート基を含む化合物とは、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2―メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2―アクリロイルオキシエチルイソシアナート等が例示される。   Examples of the compound containing an isocyanate group include hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, and the like. .

またイソシアネートをブロック化したイソシアネートブロック体は、加熱すると脱ブロックしてイソシアネートを再生させるものであり、加熱して離型層を硬化させる本発明には特に有効である。イソシアネートブロック体としては、例えばピラゾールブロックイソシアネート基をブロック剤とする2−[(3,5―ジメチルピラゾリル)カルボニルアミノ]エチルメタクリレート等、メチルエチルケトキシム基をブロック剤とするメタクリル酸 2−(0−[1'−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ)エチル等があり、その他のブロック剤としてはジエチルマロネート、カプロラクタム等が例示される。   In addition, an isocyanate block obtained by blocking an isocyanate is deblocked by heating to regenerate the isocyanate, and is particularly effective in the present invention in which the release layer is cured by heating. Examples of the isocyanate block body include 2-[(3,5-dimethylpyrazolyl) carbonylamino] ethyl methacrylate having a pyrazole-blocked isocyanate group as a blocking agent and methacrylic acid having a methylethylketoxime group as a blocking agent 2- (0- [ 1'-methylpropylideneamino] carboxyamino) ethyl and the like, and examples of other blocking agents include diethyl malonate and caprolactam.

またイソシアヌレート基を含む化合物とは、旭化成ケミカルズのデュラネートTSA−100,TSS−100,TSE−100等、日華化学のNKアシストNY等が例示される。イソシアヌレート基は、イソシアネート基の3量体であり、同様に水と反応してアミンを生成することが知られている。   Examples of the compound containing an isocyanurate group include Asahi Kasei Chemicals' Duranate TSA-100, TSS-100, TSE-100 and the like, NK assist NY of Nikka Chemical, and the like. It is known that an isocyanurate group is a trimer of an isocyanate group and similarly reacts with water to produce an amine.

1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩とは、まず高分子型のアミンを含む1―3級アミンにカルボン酸または炭酸を反応させて得られる塩をいう。カルボン酸にはアンモニア、酢酸等が例示されるが、酢酸が1−3級アミンと反応すると1−3級アミンの酢酸塩が得られる。また4級アミンのカルボン酸、炭酸塩は4級アンモニウム塩のアニオン交換により得られる。1級アミンとしてはエチレンジアミン、2−アミノエタノール、ヘキサメチレンジアミン、アニリン、アミノシラン等、2級アミンとしてはジエチルアミン、3級アミンとしてはN,N-ジメチル-2-プロパンアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリエタノールアミン、高分子型のアミンとしてはポリエチレンイミン、ポリエチレンジアミン、ポリアリルアミン等が例示される。   The carboxylic acid and carbonate of the 1-4th class amine refers to a salt obtained by reacting a 1st to 3rd class amine containing a polymer type amine with carboxylic acid or carbonic acid. Examples of the carboxylic acid include ammonia, acetic acid, and the like. When acetic acid reacts with a tertiary amine, an acetate of the tertiary amine is obtained. Further, carboxylic acids and carbonates of quaternary amines can be obtained by anion exchange of quaternary ammonium salts. Primary amine is ethylenediamine, 2-aminoethanol, hexamethylenediamine, aniline, aminosilane, etc. Secondary amine is diethylamine, tertiary amine is N, N-dimethyl-2-propanamine, tetramethylethylenediamine, triethanol Examples of amines and polymer-type amines include polyethyleneimine, polyethylenediamine, and polyallylamine.

また、本発明者による鋭意検討の結果、用途によってはイオン性化合物の被離型面への移行、転写が問題となる場合があるが、チタン系有機金属触媒を用いた場合の離型層3の離型性の発現が良好であることから、チタン系有機金属触媒も、本発明の縮合反応促進触媒として用いることができる。   Further, as a result of intensive studies by the present inventor, the transfer and transfer of the ionic compound to the release surface may become a problem depending on the use, but the release layer 3 in the case of using a titanium-based organometallic catalyst. Therefore, titanium-based organometallic catalysts can also be used as the condensation reaction promoting catalyst of the present invention.

チタン系有機金属触媒としては、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトライソプロピルチタネート、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、ジイソプロポキシチタンビス(アセチルアセトネート)、イソプロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)等が例示される。   Examples of titanium-based organometallic catalysts include tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetraisopropyl titanate, tetra (2-ethylhexyl) titanate, diisopropoxy titanium bis (acetylacetonate), isopropoxy titanium bis (ethyl acetoacetate) and the like. Is done.

なお、縮合反応促進触媒の含有量は、触媒量であり、通常、ポリアルコキシシロキサン等の固形分の合計100質量部に対して、0.1〜20質量部であるとよい。   In addition, content of a condensation reaction acceleration | stimulation catalyst is a catalyst amount, and it is good in it being 0.1-20 mass parts normally with respect to a total of 100 mass parts of solid content, such as polyalkoxysiloxane.

また、離型コート剤をフィルムに塗布する方法としては、例えば、原崎勇次著、「コーティング方式」(槙書店、1979年発行)に記載されている周知の塗布技術を用いることができる。具体的には、エアドクターコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロールコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、キスロールコーター、キャストコーター、スプレイコーター、カーテンコーター、カレンダコーター、押出コーター、バーコーター等のような塗布技術が例示される。   In addition, as a method for applying the release coating agent to the film, for example, a well-known coating technique described in Yuji Harasaki's “Coating Method” (Tsubaki Shoten, published in 1979) can be used. Specifically, air doctor coater, blade coater, rod coater, knife coater, squeeze coater, impregnation coater, reverse roll coater, transfer roll coater, gravure coater, kiss roll coater, cast coater, spray coater, curtain coater, calendar coater Examples thereof include coating techniques such as an extrusion coater and a bar coater.

また、離型コート剤層の膜厚は、最終的なコート膜として、通常、0.001〜1.0ミクロン、好ましくは0.001〜0.05ミクロンである。離型コート剤層の膜厚が0.001ミクロン未満の場合は、離型層3の十分な離型性が得られない恐れがあり、1.0ミクロンを超える離型コート剤の膜厚では、離型層3表面の鏡面性劣化や、離型フィルム1の製造コストの増大を招くため好ましくない。   Moreover, the film thickness of a mold release coating agent layer is 0.001-1.0 micron normally as a final coating film, Preferably it is 0.001-0.05 micron. When the film thickness of the release coating agent layer is less than 0.001 micron, there is a possibility that sufficient release property of the release layer 3 may not be obtained. Further, it is not preferable because it causes deterioration of the specularity of the surface of the release layer 3 and an increase in the manufacturing cost of the release film 1.

以上のように、上記した実施形態では、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材2の少なくとも一方の主面に、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層3が、水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合により積層されている。したがって、オルガノシランであるアルコキシシロキサンの中でも揮発性が非常に小さいポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層3がフィルム状の基材2に形成されているため、従来の離型フィルムのように、低分子量のオルガノシランであるアルキルシランや低分子量の環状シロキサンが転写されることにより成型体の被離型面が汚染されるおそれがなく、被離型が汚染されるのを抑制することができる離型フィルムを提供することができる。   As described above, in the above-described embodiment, at least one main surface of the film-like substrate 2 having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface does not contain chlorine, sulfur, phosphorus, or aluminum. The release layer 3 mainly composed of silica obtained by hydrolyzing the polyalkoxysiloxane using a condensation reaction promoting catalyst and undergoing a condensation reaction is covalently bonded by a hydrogen bond and / or a hydrogen bond condensation reaction. Are stacked. Therefore, a release layer 3 mainly composed of silica formed by hydrolysis reaction of polyalkoxysiloxane having very low volatility among alkoxysiloxanes, which are organosilanes, is formed on the film-like substrate 2. Therefore, unlike the conventional release film, there is no possibility that the release surface of the molded body is contaminated by transferring the alkyl silane, which is a low molecular weight organosilane, or the low molecular weight cyclic siloxane, It is possible to provide a release film that can suppress contamination of the release mold.

また、OH基を有するシリカを主成分とする離型層3は、フィルム状の基材2に水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合により直接接着されて積層されている。したがって、離型層3をフィルム状の基材2に接着するための接着層(アンカーコート層)が必要なく、従来のように、接着層を形成する物質が成型体の被離型面に転写することにより被離型面が汚染されるおそれがない離型フィルムを提供することができる。   Further, the release layer 3 mainly composed of silica having an OH group is laminated by being directly bonded to the film-like substrate 2 by a covalent bond caused by a condensation reaction of hydrogen bonds and / or hydrogen bonds. Therefore, there is no need for an adhesive layer (anchor coat layer) for adhering the release layer 3 to the film-like substrate 2, and the substance that forms the adhesive layer is transferred to the release surface of the molded body as in the past. By doing so, it is possible to provide a release film in which the release surface is not likely to be contaminated.

また、離型層3は、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分として形成されている。したがって、縮合反応促進触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸や、スルホン酸、有機リン酸などの有機酸が使用されていないため、低分子量物質やイオン性化合物などが成型体の被離型面に転写することにより被離型面が汚染されるおそれがない離型フィルム1を提供することができる。また、縮合反応促進触媒として、アルミニウム系の有機金属化合物が使用されていないため、離型層3の離型性が低下するおそれがなく、優れた離型性を有する離型フィルム1を提供することができる。   Further, the release layer 3 is formed mainly using silica obtained by hydrolysis reaction of polyalkoxysiloxane using a condensation reaction promoting catalyst which does not contain chlorine, sulfur, phosphorus and aluminum. . Therefore, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, and organic acids such as sulfonic acid and organic phosphoric acid are not used as condensation reaction promoting catalysts. The release film 1 can be provided in which the release surface is not likely to be contaminated by transferring it to the release surface. Moreover, since an aluminum-based organometallic compound is not used as the condensation reaction promoting catalyst, there is no fear that the releasability of the release layer 3 is lowered, and a release film 1 having excellent releasability is provided. be able to.

また、フィルム状の基材2の少なくとも一方の主面に水酸基が形成されているため、ポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層3が、水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合によりフィルム状の基材2に確実に結合された離型フィルム1を提供することができる。   In addition, since a hydroxyl group is formed on at least one main surface of the film-like substrate 2, the release layer 3 mainly composed of silica obtained by hydrolysis and condensation reaction of the polyalkoxysiloxane includes: It is possible to provide a release film 1 that is reliably bonded to a film-like substrate 2 by a covalent bond resulting from a condensation reaction of hydrogen bonds and / or hydrogen bonds.

また、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材2の、当該複数の水酸基を有する少なくとも一方の主面に、溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて成る離型コート剤を塗布が塗布される。そして、塗布された離型コート剤が、加熱されて乾燥することにより、オルガノシランであるアルコキシシロキサンの中でも揮発性が非常に小さいポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とする離型層3が、水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合よりフィルム状の基材2に積層される。したがって、従来の離型フィルムのように、低分子量のオルガノシランであるアルキルシランや低分子量の環状シロキサンが転写されることにより成型体の被離型面が汚染されるおそれがなく、被離型面が汚染されるのを抑制することができる離型フィルム1を容易に製造することができる。   Further, at least one main surface of the film-like substrate 2 having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface, the polyalkoxysiloxane as a main component in the solvent, chlorine, Application is performed by applying a release coating agent in which a solute containing a condensation reaction promoting catalyst not containing sulfur, phosphorus or aluminum is dissolved. Then, the coated release coating agent is heated and dried to hydrolyze a silica obtained by a hydrolysis reaction of polyalkoxysiloxane having a very low volatility among alkoxysiloxanes which are organosilanes. The release layer 3 as a main component is laminated on the film-like substrate 2 by hydrogen bonds and / or covalent bonds resulting from condensation reaction of the hydrogen bonds. Therefore, unlike the conventional release film, there is no possibility that the release surface of the molded body will be contaminated by transferring the alkylsilane, which is a low molecular weight organosilane, or the low molecular weight cyclic siloxane. The release film 1 which can suppress that a surface is contaminated can be manufactured easily.

また、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含む縮合反応促進触媒が用いられることにより、離型性を損なうことが無く、成型体の被離型面に縮合反応促進触媒を形成する物質が転写することにより成型体の被離型面が汚染するのを抑制することができる離型層3をフィルム状の基材2に形成することができる。   Further, by using a condensation-promoting catalyst containing at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate and a titanium-based organometallic compound, A mold release layer 3 that can prevent contamination of the mold release surface of the molded article by transferring a substance that forms a condensation reaction promoting catalyst to the mold release face of the molded article without impairing moldability. Can be formed on the film-like substrate 2.

また、アルコール系、エーテル系およびケトン系のいずれかの溶媒を用いて離型コート剤を形成することにより、実用的な構成の離型コート剤を提供することができる。   In addition, a release coating agent having a practical configuration can be provided by forming the release coating agent using any one of alcohol-based, ether-based, and ketone-based solvents.

また、離型コート剤の溶媒には、ポリアルキルシランがポリアルコキシシロキサン100重量部に対して1から100重量部がさらに溶解されていてもよい。このようにすると、離型コート剤がフィルム状の基材2に積層されることにより形成される離型層3の離型性を向上することができる。   Further, 1 to 100 parts by weight of polyalkylsilane may be further dissolved in 100 parts by weight of polyalkoxysiloxane in the solvent of the release coating agent. If it does in this way, the mold release property of the mold release layer 3 formed when a mold release coating agent is laminated | stacked on the film-form base material 2 can be improved.

また、セラミックコンデンサー用のグリーンシート形成用途等に用いられる離型フィルム1は、一般的に、表面抵抗値を約9×1012Ω/□以下にしないと、半硬化したグリーンシートを離型フィルム1から剥離するときに静電気による不具合が生じることが知られている。しかしながら、ビニルアルコールを含むポリマーフィルムはフィルム自体が帯電防止性能(1010Ω/□程度)を有するため、帯電防止剤を添加する必要がない離型フィルム1を提供することができる。 In addition, the release film 1 used for forming a green sheet for a ceramic capacitor generally has a semi-cured green sheet as a release film unless the surface resistance is about 9 × 10 12 Ω / □ or less. It is known that problems due to static electricity occur when peeling from 1. However, since the polymer film containing vinyl alcohol has antistatic performance (about 10 10 Ω / □), the release film 1 that does not require the addition of an antistatic agent can be provided.

<第2実施形態>
本発明の離型フィルムの第2実施形態について図2を参照して説明する。図2は本発明の離型フィルムの第2実施形態を示す図である。
Second Embodiment
A second embodiment of the release film of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a view showing a second embodiment of the release film of the present invention.

この実施形態が上記した第1実施形態と異なるのは、図2に示すように、離型層3が、複数の無機粒子4をさらに含み、離型層3の表面に複数の無機粒子4による凹凸が形成されている点である。その他の構成は上記した第1実施形態と同一であるため、その構成の説明については説明を省略する。   This embodiment is different from the first embodiment described above, as shown in FIG. 2, the release layer 3 further includes a plurality of inorganic particles 4, and a plurality of inorganic particles 4 are formed on the surface of the release layer 3. This is a point where irregularities are formed. Since the other configuration is the same as that of the first embodiment described above, the description of the configuration is omitted.

離型フィルム10は、少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材2の、当該複数の水酸基を有する少なくとも一方の主面に、離型コート剤が塗布され、塗布された離型コート剤が加熱されて乾燥することにより、水素結合および/または水素結合が縮合反応することによる共有結合より基材2に離型層3が積層されて形成される。このとき、この実施形態の離型コート剤には、複数の無機粒子4がさらに添加されている。   The release film 10 has a release coating agent applied to at least one main surface having a plurality of hydroxyl groups of the film-like substrate 2 having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface, When the applied release coating agent is heated and dried, the release layer 3 is formed by laminating the substrate 2 by the covalent bond resulting from the condensation reaction of hydrogen bonds and / or hydrogen bonds. At this time, a plurality of inorganic particles 4 are further added to the release coating agent of this embodiment.

無機粒子4は、1nmから100ミクロンまでの粒子が好ましいが、粒子の大きさは特に限定されるものではない。また、各種のフィルム状の基材2および離型コート剤に含まれる他の物質との密着性のよい粒子を選択することが好ましい。したがって、水素結合を作る表面官能基であるOH基を有する無機粒子であるタルク、ベントナイト、シリカ等の粒子を溶媒に添加するとよい。また、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を成型する際に生成されるガスや液体を吸収する粒子を選択することにより、前記ガスや液体を吸収することができるので好ましい。   The inorganic particles 4 are preferably particles of 1 nm to 100 microns, but the size of the particles is not particularly limited. Moreover, it is preferable to select particles having good adhesion to other substances contained in various film-like base materials 2 and the release coating agent. Therefore, particles such as talc, bentonite, and silica, which are inorganic particles having OH groups that are surface functional groups that form hydrogen bonds, may be added to the solvent. In addition, it is preferable to select the particles that absorb the gas or liquid generated when molding the thermoplastic resin or the thermosetting resin because the gas or liquid can be absorbed.

具体的には、無機粒子4は、タルク(一般式[MgSi10(OH)]で表わされる含水珪酸マグネシウム)、カオリン(一般式[AlSi(OH)]で表わされる含水珪酸アルミニウム)、ベントナイト、マイカ、クレー(白色粘土)等の天然鉱物および類似の合成鉱物の粒子で構成することができる。 Specifically, the inorganic particles 4 include talc (hydrous magnesium silicate represented by a general formula [Mg 3 Si 4 O 10 (OH) 2 ]), kaolin (general formula [Al 2 Si 2 O 5 (OH) 4 ]). (Hydrous aluminum silicate represented by the following formula), bentonite, mica, clay (white clay) and other natural minerals and similar synthetic mineral particles.

また、無機粒子4は、シリカ(一般式[SiO]で表わされる二酸化ケイ素)、ガラス、アルミナ(一般式[Al]で表わされる酸化アルミニウム)、水酸化アルミ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化鉄、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、窒化アルミ、窒化ケイ素、窒化ホウ素、塩化カルシウム、塩化アルミニウム等の酸化ケイ素、酸化金属、炭酸金属、塩化金属化合物の粒子で構成することができる。また、無機粒子4は、カーボンブラック、グラファイトまたはカーボンナノチューブ等の炭素化合物の粒子で構成することができる。 The inorganic particles 4 are silica (silicon dioxide represented by the general formula [SiO 2 ]), glass, alumina (aluminum oxide represented by the general formula [Al 2 O 3 ]), aluminum hydroxide, zinc oxide, titanium oxide. , Iron oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, aluminum nitride, silicon nitride, boron nitride, calcium chloride, aluminum chloride and other silicon oxide, metal oxide, metal carbonate, metal chloride compound particles. The inorganic particles 4 can be composed of carbon compound particles such as carbon black, graphite, or carbon nanotubes.

このように構成すると、離型層3は、複数の無機粒子4をさらに含み、表面に複数の無機粒子4による凹凸が形成されているため、例えば、積層板等を形成する熱硬化性樹脂を成型する際に、成型体である熱硬化性樹脂の被離型面に凹凸が形成されるため、アンカー効果により、被離型面に熱硬化性樹脂をさらに積層するときに接着面の接着強度を向上することができる。また、被離型面に塗装をする場合の塗装面の被離型面に対する接着強度を向上することができる。また、例えば、接着剤や粘着剤の保護フィルムとして離型フィルムが使用される際に、離型層3に凹凸が形成されているため、接着剤や粘着剤と離型層3との接触部分の面積が減少するので、より剥がし易い離型フィルム10を提供することができる。   If comprised in this way, since the mold release layer 3 further contains the some inorganic particle 4, and the unevenness | corrugation by the some inorganic particle 4 is formed in the surface, for example, thermosetting resin which forms a laminated board etc. is used. When molding, unevenness is formed on the release surface of the thermosetting resin that is the molded body, so the adhesion strength of the adhesive surface when the thermosetting resin is further laminated on the release surface due to the anchor effect Can be improved. Moreover, the adhesive strength with respect to the to-be-released surface of a coating surface in the case of coating on a to-be-released surface can be improved. Further, for example, when a release film is used as a protective film for an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, since unevenness is formed on the release layer 3, a contact portion between the adhesive or the pressure-sensitive adhesive and the release layer 3 is used. Therefore, it is possible to provide the release film 10 that is easier to peel off.

また、離型コート剤を形成する溶媒に、複数の無機粒子4がさらに添加されることにより、複数の無機粒子4を含み、表面に複数の無機粒子4による凹凸が形成された離型層3をフィルム状の基材2に容易に形成することができる。   In addition, a plurality of inorganic particles 4 are further added to the solvent for forming the release coating agent, so that the release layer 3 includes the plurality of inorganic particles 4 and has irregularities formed by the plurality of inorganic particles 4 on the surface. Can be easily formed on the film-like substrate 2.

なお、上記したように、離型コート剤層の膜厚は、最終的なコート膜として、通常、0.001〜1.0ミクロン、好ましくは0.001〜0.05ミクロンとするのが好ましい。しかしながら、この第2実施形態のように、離型層3が、複数の無機粒子4をさらに含むことにより、離型層3の表面に無機粒子4による凹凸が形成されている場合には、離型層3の膜厚は上記した膜厚に制限されるものではなく、無機粒子4の形状や大きさに応じて、離型層3の膜厚を適宜設定すればよい。   As described above, the film thickness of the release coating agent layer is usually 0.001 to 1.0 microns, preferably 0.001 to 0.05 microns as the final coating film. . However, as in the second embodiment, when the release layer 3 further includes a plurality of inorganic particles 4, the surface of the release layer 3 has irregularities formed by the inorganic particles 4. The film thickness of the mold layer 3 is not limited to the above-described film thickness, and the film thickness of the release layer 3 may be appropriately set according to the shape and size of the inorganic particles 4.

具体的な実施例について、図3および図4を参照して説明する。図3および図4は本発明の離型フィルムの一例を示す図である。なお、本発明は後述する実施例に限定されるものではない。   A specific embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4 are views showing an example of the release film of the present invention. In addition, this invention is not limited to the Example mentioned later.

A.エポキシ接着剤に対する離型性(配線板、CFRP等)   A. Releasability for epoxy adhesive (wiring board, CFRP, etc.)

(1)離型フィルム
図3中の実施例1〜11に示す離型フィルムを以下のようにして作成した。各離型コート剤の調整は、ポリアルコキシシランであるシリケート45またはシリケート51を5g(必要に応じてKR500を添加)と、各触媒をシリケートに対して重量で1%から5%を溶媒のIPA(イソプロピルアルコール)またはMEK(メチルエチルケトン)の95gに添加して、室温で撹拌させることにより各離型コート剤を得た。得られた離型コート剤は常温で1カ月放置し、各離型コート液の安定性を確認した。
(1) Release film The release films shown in Examples 1 to 11 in Fig. 3 were prepared as follows. Each release coating agent is prepared by adjusting the polyalkoxysilane silicate 45 or silicate 51 (adding KR500 if necessary), and each catalyst to 1% to 5% by weight of the IPA solvent. Each release coating agent was obtained by adding to 95 g of (isopropyl alcohol) or MEK (methyl ethyl ketone) and stirring at room temperature. The obtained release coating agent was allowed to stand at room temperature for 1 month, and the stability of each release coating solution was confirmed.

得られた各離型コート剤をバーコーターで厚み12μmのボブロンフィルム(ポリビニルアルコール(PVA):日本合成化学工業(株)製)または厚み21μmのセロハンフィルム(フタムラ化学(株)製)にウエット膜厚で約10μm塗布(コート)し、各所定の温度で5分間加熱処理後、室温で1日乾燥固化させることにより各離型フィルムを得た。なお、図3中の実施例11の無機粒子であるタルクを添加する場合には、シリケート51を5g、タルクSG95を2.5g、触媒をシリケートに対して重量で5%、分散剤を0.2gを溶媒のIPA(イソプロピルアルコール)25gに添加して、室温で撹拌させて離型コート剤を得た。   Wet each obtained release coating agent on a 12 μm-thick boblon film (polyvinyl alcohol (PVA): manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) or a 21 μm-thick cellophane film (made by Phutamura Chemical Co., Ltd.) with a bar coater. Each release film was obtained by coating (coating) with a film thickness of about 10 μm, heat-treating at each predetermined temperature for 5 minutes, and drying and solidifying at room temperature for 1 day. In addition, when adding the talc which is an inorganic particle of Example 11 in FIG. 3, silicate 51 is 5g, talc SG95 is 2.5g, a catalyst is 5% by weight with respect to the silicate, and a dispersing agent is 0.00. 2 g was added to 25 g of IPA (isopropyl alcohol) as a solvent and stirred at room temperature to obtain a release coating agent.

(2)エポキシ接着剤に対する離型性の確認
図3中の実施例1〜11に示すように、各離型コート剤により作成された各離型フィルムに各種硬化性エポキシ樹脂を塗布し当該エポキシ樹脂の剥離性を確認した。ボブロンフィルムおよびセロハンフィルムにおける各種エポキシ樹脂の剥離性結果は同様であった。なお、同図中に示す「剥離性」において、”○”は剥製性が良好であった場合を示し、”×”は剥離性が不良であった場合を示す。また、同図中に示す「常温安定性」において、”○”は安定性が良好であった場合を示し、”×”は安定性が不良であった場合を示す。
(2) Confirmation of releasability with respect to epoxy adhesive As shown in Examples 1 to 11 in FIG. 3, various curable epoxy resins were applied to each release film prepared with each release coating agent, and the epoxy The peelability of the resin was confirmed. The peelability results of various epoxy resins in the Bobron film and the cellophane film were the same. In the “peelability” shown in the figure, “◯” indicates a case where the peelability is good, and “x” indicates a case where the peelability is poor. Further, in the “room temperature stability” shown in the figure, “◯” indicates a case where the stability is good, and “x” indicates a case where the stability is poor.

硬化性エポキシ樹脂Aは、ビスフェノールAエポキシ樹脂JER827[ジャパンエポキシレジン(株)製;商品名(JERは登録商標):エポキシ当量180](BISAEP)を5g、無水フタル酸NH2000[日立化成工業(株)製:3or4−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸]を4.5g、さらに2−エチル−4−メチルイミダゾールを0.05g混ぜ合わせて得たものを、各離型フィルムの上に150℃で3時間硬化後、剥離性を確認した結果を示す。   The curable epoxy resin A is bisphenol A epoxy resin JER827 [manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd .; trade name (JER is a registered trademark): epoxy equivalent 180] (BISAEP), 5 g of phthalic anhydride NH2000 [Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. ) Manufactured by mixing 4.5 g of 3or4-methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride] and 0.05 g of 2-ethyl-4-methylimidazole. The result of having confirmed peelability after curing for 3 hours at 150 ° C. is shown.

硬化性エポキシ樹脂Bは、脂肪族環状エポキシ(ダイセル化学、セロキサイド2021)5gとエーテル系ポリオール(保土ケ谷化学製PTG1000)5gにジアミノジフェニルメタン0.15gを混ぜ合わせて得たものを、各離型フィルムの上に150℃で1時間硬化後、剥離性を確認した結果を示す。   The curable epoxy resin B was obtained by mixing 5 g of aliphatic cyclic epoxy (Daicel Chemical, Celoxide 2021) and 5 g of ether-based polyol (PTG1000 manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) with 0.15 g of diaminodiphenylmethane. The result of confirming the peelability after curing at 150 ° C. for 1 hour is shown.

硬化性エポキシ樹脂Cは、脂肪族環状エポキシ(ダイセル化学、セロキサイド2021)5gとエーテル系ポリオール(保土ケ谷化学製PTG1000)5gにカチオン重合開始剤(三新化学工業、サイエイドSI−60L)0.15gを混ぜ合わせて得たものを、各離型フィルムの上に110℃で1時間硬化後、剥離性を確認した結果を示す。   The curable epoxy resin C is composed of 5 g of an aliphatic cyclic epoxy (Daicel Chemical, Celoxide 2021) and 5 g of an ether-based polyol (PTG1000 manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.15 g of a cationic polymerization initiator (Sanshin Chemical Industry, Sciade SI-60L). The result obtained by confirming peelability after curing at 110 ° C. for 1 hour on each release film is shown.

また、図3中の各実施例1〜11では、シリケー45:多摩化学工業(株)製、シリケート51:扶桑化学工業(株)製、KR500:信越化学工業(株)製、エチレンジアミン:東京化成工業製、2−アミノエタノール:東京化成工業製、ポリエチレンジアミン:東京化成工業製、イソシアネート系(NKアシストIS100N):日華化学(株)製、イソシアヌレート系(NKアシストNY):日華化学(株)製、リン酸系(X40−2309A):信越化学工業(株)製、アルミ系(DX9740):信越化学工業(株)製、チタン系(D25):信越化学工業(株)製、タルクSG95(2μ品):日本タルク(株)製が使用されている。   In each of Examples 1 to 11 in FIG. 3, silicate 45: manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd., silicate 51: manufactured by Fuso Chemical Industry Co., Ltd., KR500: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., ethylenediamine: Tokyo Chemical Industry Industrial, 2-Aminoethanol: Tokyo Chemical Industry, Polyethylenediamine: Tokyo Chemical Industry, Isocyanate (NK Assist IS100N): Nikka Chemical Co., Ltd. Isocyanurate (NK Assist NY): Nikka Chemical ( Co., Ltd., Phosphoric acid (X40-2309A): Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Aluminum (DX9740): Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Titanium (D25): Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., talc SG95 (2μ product): manufactured by Nippon Talc Co., Ltd. is used.

(3)離型フィルムの特性
エポキシは、プリント基板およびCFRP(炭素繊維)において主に使用されている接着剤であり、他の接着剤であるポリエステルやポリイミド等に比べてより強い接着強度を発現する。エポキシ樹脂は、エポキシおよび硬化剤を含んでいるが、エポキシは、ビスフェノールA系の芳香族エポキシと脂肪族環状エポキシに分別され、硬化剤は、酸無水物、アミン、カチオン重合剤に分別される。そして、用途に応じて、これらが組み合わされることにより、所定の特性を有するエポキシ樹脂が形成される。一般的には芳香族エポキシと酸無水物の組み合わせが、最も用途が広く、離型しにくいエポキシ樹脂となる。
(3) Properties of release film Epoxy is an adhesive mainly used in printed circuit boards and CFRP (carbon fiber), and exhibits stronger adhesive strength than other adhesives such as polyester and polyimide. To do. The epoxy resin contains an epoxy and a curing agent. The epoxy is classified into an aromatic epoxy and an aliphatic cyclic epoxy based on bisphenol A, and the curing agent is classified into an acid anhydride, an amine, and a cationic polymerization agent. . And according to a use, the epoxy resin which has a predetermined characteristic is formed by combining these. In general, a combination of an aromatic epoxy and an acid anhydride is the most versatile epoxy resin that is difficult to release.

一般的にエポキシは水酸基と反応するが、本発明の離型コート剤のうち、リン系およびアルミ系の縮合反応促進触媒が用いられて離型層が形成された離型フィルムは、芳香族エポキシと酸無水物の組み合わせにおいて離型性に問題が生じている。これは、縮合反応促進触媒の種類により、離型層(シリカ層)の表面状態が異なっていることを示唆しており、アミン系、イソシアネート系、イソシヌアレート系、チタン系の縮合反応促進触媒が用いられて離型層が形成された離型フィルムでは、離型層(シリカ層)表面に水酸基に生成されるのが抑制されていると考えられる。   In general, epoxy reacts with a hydroxyl group, but among the release coating agents of the present invention, a release film in which a release layer is formed using a phosphorus-based and aluminum-based condensation reaction promoting catalyst is an aromatic epoxy. There is a problem in the releasability in the combination of styrene and acid anhydride. This suggests that the surface state of the release layer (silica layer) varies depending on the type of condensation reaction promoting catalyst, and amine, isocyanate, isocyanurate, and titanium condensation reaction promoting catalysts are used. In the release film having the release layer formed thereon, it is considered that generation of hydroxyl groups on the surface of the release layer (silica layer) is suppressed.

また、図3中の実施例11に示すように、離型層が無機粒子であるタルクを含む場合であっても、離型層は良好な離型性を有している。   Moreover, as shown in Example 11 in FIG. 3, even when the release layer contains talc which is inorganic particles, the release layer has good release properties.

B.セラミックシートの離型フィルム   B. Ceramic sheet release film

(1)離型フィルム
図4中の実施例12〜17に示す離型フィルムを以下のようにして作成した。各離型コート剤の調整は、ポリアルコキシシランであるシリケート45またはシリケート51を5g(必要に応じてKR500を添加)と、各触媒をシリケートに対して重量で1%から5%を溶媒のIPA(イソプロピルアルコール)またはMEK(メチルエチルケトン)の95gに添加して、室温で撹拌させて各離型コート剤を得た。
(1) Release film The release films shown in Examples 12 to 17 in Fig. 4 were prepared as follows. Each release coating agent is prepared by adjusting the polyalkoxysilane silicate 45 or silicate 51 (adding KR500 if necessary), and each catalyst to 1% to 5% by weight of the IPA solvent. (Isopropyl alcohol) or MEK (methyl ethyl ketone) was added to 95 g and stirred at room temperature to obtain each release coating agent.

得られた離型コート剤を、厚み12μmのポリエステル(PET)フィルム(ルミラーS10、東レ製)にコロナ放電処理に親水化処理を施し、その処理面にバーコーターによりウエット膜厚で約10μm塗布(コート)し、150℃で5分間の加熱処理後、室温で1日乾燥固化させることにより離型フィルムを得た。また、厚み12μのボブロンフィルム(ポリビニルアルコール(PVA):日本合成化学工業(株)製)については、コロナ放電処理なしで離型コート剤をバーコーターによりウエット膜厚で約10μm塗布し、150℃で5分間の加熱処理後、室温で1日乾燥固化させることにより離型フィルムを得た。なお、得られた各離型フィルムの表面抵抗値を測定したところ1011Ω/□以下であったので、ボブロンフィルムに関してはセラミックシートの離型フィルムに必要な帯電防止処理を行う必要がない。 The obtained release coating agent is subjected to a hydrophilization treatment for corona discharge treatment on a polyester (PET) film (Lumirror S10, manufactured by Toray) having a thickness of 12 μm, and a wet film thickness is applied to the treated surface by a bar coater ( Coating), and after heat treatment at 150 ° C. for 5 minutes, a release film was obtained by drying and solidifying at room temperature for 1 day. For a 12 μm-thick boblon film (polyvinyl alcohol (PVA): manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), a release coating agent was applied with a wet coat thickness of about 10 μm by a bar coater without corona discharge treatment, and 150 After heat treatment at 5 ° C. for 5 minutes, a release film was obtained by drying and solidifying at room temperature for 1 day. Since the surface resistance value of each of the obtained release films was measured to be 10 11 Ω / □ or less, it is not necessary to perform antistatic treatment necessary for the release film of the ceramic sheet for the boblon film. .

(2)セラミックシートに対する離型性の確認
各離型コート剤により作成された各離型フィルムの離型層上に、チタン酸バリウム:100重量部、水分散性酢酸ビニル樹脂:10重量部、ポリカルボン酸:1重量部、水:20重量部の組成の水系セラミックスラリーをドクターブレード法にてコートし、乾燥固化させたのち、セラミックシートを剥離し、厚さ50μmのセラミックシートを得たときの、セラミックシートの剥離性を確認した。
(2) Confirmation of releasability with respect to ceramic sheet On the release layer of each release film prepared with each release coating agent, barium titanate: 100 parts by weight, water dispersible vinyl acetate resin: 10 parts by weight, When a water-based ceramic slurry having a composition of 1 part by weight of polycarboxylic acid and 20 parts by weight of water is coated by a doctor blade method and dried and solidified, the ceramic sheet is peeled off to obtain a ceramic sheet having a thickness of 50 μm. The peelability of the ceramic sheet was confirmed.

図4中の実施例12〜17に示すように、各離型シートは、良好な剥離性を有している。なお、同図中に示す「剥離性」において、”◎”は剥離性が非常に良好であった場合を示し、”○”は剥製性が良好であった場合を示し、”×”は剥離性が不良であった場合を示す。また、同図中に示す「コート性」において、”○”は離型フィルムの離型層を水系セラミックスラリーで良好にコートできたことを示す。   As shown in Examples 12 to 17 in FIG. 4, each release sheet has good peelability. In “Removability” shown in the figure, “◎” indicates that the releasability was very good, “○” indicates that the releasability was good, and “×” indicates that the releasability was good. The case where the property was poor is shown. In the “coatability” shown in the figure, “◯” indicates that the release layer of the release film was successfully coated with the aqueous ceramic slurry.

なお、本発明は上記した各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上記したもの以外に種々の変更を行なうことが可能であり、フィルム状の基材の両面に離型層を形成してもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. A release layer may be formed.

1,10 離型フィルム
2 フィルム状の基材
3 離型層
4 無機粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,10 Release film 2 Film-like base material 3 Release layer 4 Inorganic particle

Claims (12)

少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材と、
前記複数の水酸基を有する前記基材の少なくとも一方の主面に積層された離型層とを備え、
前記離型層は、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒が用いられてポリアルコキシシロキサンが加水分解して縮合反応することにより得られるシリカを主成分とし、前記複数の水酸基を有する前記基材の少なくとも一方の主面に水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合により積層されて形成されている
ことを特徴とする離型フィルム。
A film-like substrate having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface;
A release layer laminated on at least one main surface of the substrate having the plurality of hydroxyl groups,
The release layer is mainly composed of silica obtained by hydrolysis reaction of polyalkoxysiloxane using a condensation reaction accelerating catalyst not containing chlorine, sulfur, phosphorus, and aluminum, and the plurality of hydroxyl groups. A release film, wherein the release film is formed by laminating a hydrogen bond and / or a covalent bond formed by a condensation reaction of the hydrogen bond on at least one main surface of the substrate.
前記離型層は、複数の無機粒子をさらに含み、表面に前記複数の無機粒子による凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, wherein the release layer further includes a plurality of inorganic particles, and the surface has irregularities formed by the plurality of inorganic particles. 前記フィルム状の基材は、少なくとも一つの水酸基を有するビニルモノマーの重合体またはセルロース類から成るポリマーフィルムであることを特徴とする請求項1または2に記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1 or 2, wherein the film-like substrate is a polymer of a vinyl monomer having at least one hydroxyl group or a cellulose. 前記フィルム状の基材は、コロナ放電処理、プラズマ処理またはナトリウム/ナフタレン錯体溶液による処理による親水化処理により少なくとも一方の主面に水酸基が形成されたポリマーフィルムであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の離型フィルム。   2. The film-like substrate is a polymer film in which a hydroxyl group is formed on at least one principal surface by corona discharge treatment, plasma treatment, or hydrophilic treatment by treatment with a sodium / naphthalene complex solution. The release film in any one of thru | or 3. 少なくとも一方の主面の全面に渡って複数の水酸基を有するフィルム状の基材の、当該複数の水酸基を有する少なくとも一方の主面に、溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて形成される離型コート剤を塗布し、加熱して乾燥させることにより、離型層を、水素結合および/または前記水素結合が縮合反応することによる共有結合より前記フィルム状の基材に積層することを特徴とする離型フィルムの製造方法。   A film-like substrate having a plurality of hydroxyl groups over the entire surface of at least one main surface, and at least one main surface having the plurality of hydroxyl groups, the main component of which is a polyalkoxysiloxane, chlorine, sulfur, phosphorus By applying a release coating agent formed by dissolving a solute containing a condensation reaction promoting catalyst not containing aluminum, and heating and drying, the release layer is condensed with hydrogen bonds and / or the hydrogen bonds. A method for producing a release film, wherein the film-like base material is laminated by a covalent bond by reaction. 前記縮合反応促進触媒は、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含むことを特徴とする請求項5に記載の離型フィルムの製造方法。   The condensation reaction promoting catalyst contains at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate and a titanium-based organometallic compound. Item 6. A method for producing a release film according to Item 5. 前記溶媒には、複数の無機粒子がさらに添加されていることを特徴とする請求項5または6に記載の離型フィルムの製造方法。   The method for producing a release film according to claim 5 or 6, wherein a plurality of inorganic particles are further added to the solvent. フィルム状の基材の少なくとも一方の主面に積層されることにより離型フィルムの離型層を形成する離型コート剤であって、
溶媒にポリアルコキシシロキサンを主成分とし、塩素、硫黄、リン、アルミニウムを含まない縮合反応促進触媒を含む溶質が溶解されて形成される
ことを特徴とする離型コート剤。
A release coating agent that forms a release layer of a release film by being laminated on at least one main surface of a film-like substrate,
A mold release coating agent characterized in that it is formed by dissolving a solute containing a condensation reaction promoting catalyst containing polyalkoxysiloxane as a main component and not containing chlorine, sulfur, phosphorus or aluminum.
前記縮合反応促進触媒は、少なくも、イソシアネート基またはイソシアヌレート基を含む化合物、1−4級アミンのカルボン酸、炭酸塩およびチタン系有機金属化合物のいずれか1つを含むことを特徴とする請求項8に記載の離型コート剤。   The condensation reaction promoting catalyst contains at least one of a compound containing an isocyanate group or an isocyanurate group, a carboxylic acid of a quaternary amine, a carbonate and a titanium-based organometallic compound. Item 9. A release coating agent according to Item 8. 前記溶媒には、複数の無機粒子がさらに添加されていることを特徴とする請求項8または9に記載の離型コート剤。   The release coating agent according to claim 8 or 9, wherein a plurality of inorganic particles are further added to the solvent. 前記溶媒は、アルコール系、エーテル系およびケトン系のいずれかであることを特徴とする請求項8ないし10のいずれかに記載の離型コート剤。   The release coating agent according to any one of claims 8 to 10, wherein the solvent is any one of alcohol, ether and ketone. 前記溶媒には、ポリアルキルシランがポリアルコキシシロキサン100重量部に対して1から100重量部がさらに溶解されていることを特徴とする8ないし11のいずれかに記載の離型コート剤。   12. The release coating agent according to any one of 8 to 11, wherein 1 to 100 parts by weight of polyalkylsilane is further dissolved in 100 parts by weight of polyalkoxysiloxane in the solvent.
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