JP2007001266A - Epoxy resin inorganic composite sheet, and molded article - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体用ウエハーのウエハーレベルでのアクティブ面（外部接続用端子等が形成される面）やその反対側の面のコーティングとしての用途、多層配線板の製造におけるＩＣその他の部品の封止などの用途に用いられるエポキシ樹脂無機複合シート及びその成形品（硬化物）に関するものである。 The present invention is intended for use as a coating on an active surface (surface on which external connection terminals or the like are formed) at the wafer level of a semiconductor wafer or on the opposite surface, and for sealing ICs and other components in the production of multilayer wiring boards. The present invention relates to an epoxy resin inorganic composite sheet used for applications such as fastening and molded articles (cured products) thereof.
近年、ＩＣやウエハー、受動部品の封止、コーティングの用途として、液状封止材料や、トランスファー成形用、直圧成形用等のタブレット材料が主に用いられている。このうち液状封止材料においては、印刷時や塗布時においてハンドリング性が悪く、取り扱いにくいなどの面がある。また、塗布量の制御に精密な粘度管理等が必要であり、厚み管理が容易ではない点や硬化時間が長い点などの課題を有している。さらに、液状封止材料において、無溶剤系のものでは高充填化が困難であり、硬化剤が限られるなどのデメリットがあり、溶剤系のものでは揮発分蒸発のために乾燥時間の長時間化を招くなどの問題を有している。一方、トランスファー成形、直圧成形等に用いられるタブレット材料においては、金型の初期投資に多額の費用がかかることから、少量多品種生産には一般に不向きである。また、タブレット形状であることから、流れ性（流動性）が良好でなければならず、流動性が不十分であった場合には、成形品の中央部と端部において厚みムラを生じやすくなり、充填剤（フィラー）の高充填化には不利となる。 In recent years, liquid sealing materials and tablet materials for transfer molding, direct pressure molding, and the like are mainly used as ICs, wafers, passive components for sealing and coating. Among these, the liquid sealing material has problems such as poor handling and difficulty in handling during printing and coating. In addition, precise viscosity management and the like are necessary for controlling the coating amount, and there are problems such as that the thickness management is not easy and the curing time is long. In addition, liquid-based sealing materials have disadvantages such as difficulty in achieving high filling with solvent-free materials and limited curing agents, and solvent-based materials have longer drying times due to volatile evaporation. Has problems such as inviting. On the other hand, tablet materials used for transfer molding, direct pressure molding and the like are generally unsuitable for low-volume, high-variety production because a large amount of initial investment is required for the mold. Moreover, since it is a tablet shape, fluidity (fluidity) must be good, and if the fluidity is insufficient, uneven thickness tends to occur at the center and end of the molded product. This is disadvantageous for increasing the filling of the filler (filler).
ところで、近年、半導体用ウエハーにおいては、大口径化や薄型化が顕著となっている。この大口径化や薄型化により、ウエハーレベルのパッケージにおいては、封止樹脂のコーティング後の硬化によりウエハーと封止樹脂との線膨張係数の差異により応力が生じ、ウエハーの反りが発生することとなる。一般にはウエハーの厚みに対してコーティング膜の厚みを相対的に薄くすることにより反りを低減することが可能であるが、上記のようなウエハーの薄型化や大口径化の波はますます反りを増大させる要因となっている。 By the way, in recent years, the increase in diameter and thickness of semiconductor wafers has become remarkable. Due to this large diameter and thinning, in wafer level packages, stress is generated due to the difference in linear expansion coefficient between the wafer and the sealing resin due to the curing after the coating of the sealing resin, and the wafer is warped. Become. In general, it is possible to reduce the warpage by making the coating film thickness relatively thin relative to the wafer thickness, but the above-mentioned wave of wafer thinning and large diameter is increasingly warped. It is a factor to increase.
このことからコーティング膜の厚みについても薄くする必要性が生じている。しかしながら、タブレット材料のような封止材料を用いて厚みの薄いコーティング膜を形成する場合には、ウエハー表面を均一に形成する必要もあるため、材料設計において封止材料の流動性を非常に高いものにせざるを得ず、これにより無機充填剤等のフィラーを減らすなどの制約が生じてくる。その結果、封止材料の線膨張係数が増加し、ウエハーとの線膨張係数の差が増大し、反りが増加するという結果につながってくる。 For this reason, it is necessary to reduce the thickness of the coating film. However, when a thin coating film is formed using a sealing material such as a tablet material, it is necessary to form the wafer surface uniformly, so that the fluidity of the sealing material is very high in material design. Inevitably, this causes restrictions such as reducing fillers such as inorganic fillers. As a result, the linear expansion coefficient of the sealing material increases, the difference in the linear expansion coefficient from the wafer increases, and the warpage increases.
また、半導体用ウエハー等の電子部品を封止したりコーティングしたりする場合には、上記のような液状封止材料やタブレット材料以外に、シート状エポキシ樹脂組成物（例えば、特許文献１参照。）や電子部品被覆用接着性フィルム（例えば、特許文献２参照。）も使用可能であるが、これらのものは低反り化についてなお改良の余地がある。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、半導体用ウエハーのアクティブ面や裏面のコーティングに特に有効であり、ウエハーの大口径化や薄型化に伴って課題となるコーティング膜の硬化後の反り量を著しく低減することができ、かつ、膜厚精度が良好であり、高強度のコーティング膜を形成することができるエポキシ樹脂無機複合シート及びその成形品を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above points, and is particularly effective for coating the active surface and the back surface of a semiconductor wafer. After curing of a coating film, which becomes a problem as the wafer becomes larger in diameter and thinner. It is an object to provide an epoxy resin inorganic composite sheet capable of remarkably reducing the amount of warping, having good film thickness accuracy, and capable of forming a high-strength coating film, and a molded product thereof. It is.
本発明の請求項１に係るエポキシ樹脂無機複合シートは、エポキシ樹脂及び充填剤を含有するエポキシ樹脂組成物をキャリア材の表面に塗布し、これを加熱乾燥することによって得られる半硬化状態のエポキシ樹脂無機複合シートにおいて、エポキシ樹脂組成物全量に対して、充填材として、低弾性有機フィラーをＸ質量％（Ｘ＝２〜１５）及び無機フィラーを７０−Ｘ〜９０−Ｘ質量％用いると共に、キャリア材の表面に形成されるエポキシ樹脂無機複合シートの厚みが５〜２００μｍであることを特徴とするものである。 The epoxy resin inorganic composite sheet according to claim 1 of the present invention is an epoxy resin in a semi-cured state obtained by applying an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a filler to the surface of a carrier material and drying it by heating. In the resin-inorganic composite sheet, with respect to the total amount of the epoxy resin composition, as a filler, a low elastic organic filler is used in an amount of X mass% (X = 2 to 15) and an inorganic filler is used in an amount of 70-X to 90-X mass%. The epoxy resin inorganic composite sheet formed on the surface of the carrier material has a thickness of 5 to 200 μm.
請求項２の発明は、請求項１において、無機フィラーを８０−Ｘ〜８５−Ｘ質量％用いて成ることを特徴とするものである。 The invention of claim 2 is characterized in that in claim 1, the inorganic filler is used at 80-X to 85-X mass%.
請求項３の発明は、請求項１又は２において、Ｘ＝２〜１０であることを特徴とするものである。 The invention of claim 3 is characterized in that, in claim 1 or 2, X = 2 to 10.
請求項４の発明は、請求項１乃至３のいずれかにおいて、低弾性有機フィラーが、シリコーンゴム及びこれをコアとするコアシェル構造を有するものの少なくとも一方であることを特徴とするものである。 The invention of claim 4 is characterized in that, in any one of claims 1 to 3, the low-elasticity organic filler is at least one of silicone rubber and a core-shell structure having this as a core.
請求項５の発明は、請求項１乃至３のいずれかにおいて、低弾性有機フィラーが、架橋アクリルゴム及びこれをコアとするコアシェル構造を有するものの少なくとも一方であることを特徴とするものである。 The invention of claim 5 is characterized in that, in any one of claims 1 to 3, the low-elasticity organic filler is at least one of a crosslinked acrylic rubber and a core-shell structure having this as a core.
請求項６の発明は、請求項１乃至５のいずれかにおいて、エポキシ樹脂組成物全量に対して、カーボンブラックを０．１〜０．６質量％添加して成ることを特徴とするものである。 The invention of claim 6 is characterized in that in any one of claims 1 to 5, 0.1 to 0.6% by mass of carbon black is added to the total amount of the epoxy resin composition. .
請求項７の発明は、請求項１乃至６のいずれかにおいて、エポキシ樹脂の硬化剤として、フェノールビフェニルアラルキル樹脂をエポキシ樹脂組成物に配合して成ることを特徴とするものである。 A seventh aspect of the invention is characterized in that, in any one of the first to sixth aspects, a phenol biphenyl aralkyl resin is blended in an epoxy resin composition as a curing agent for an epoxy resin.
請求項８の発明は、請求項１乃至７のいずれかにおいて、エポキシ樹脂として、常温において液状のエポキシ樹脂及び平均分子量が４００以下の結晶性エポキシ樹脂の少なくとも一方を用いて成ることを特徴とするものである。 The invention of claim 8 is characterized in that in any one of claims 1 to 7, the epoxy resin is at least one of a liquid epoxy resin at room temperature and a crystalline epoxy resin having an average molecular weight of 400 or less. Is.
本発明の請求項９に係る成形品は、請求項１乃至８のいずれかに記載のエポキシ樹脂無機複合シートを成形硬化して成ることを特徴とするものである。 A molded product according to a ninth aspect of the present invention is obtained by molding and curing the epoxy resin inorganic composite sheet according to any one of the first to eighth aspects.
本発明の請求項１０に係る成形品は、請求項１乃至８のいずれかに記載のエポキシ樹脂無機複合シートを半導体用ウエハーの表面に貼り合わせ、これを直圧成形して硬化させることによってコーティング膜を形成して成ることを特徴とするものである。 A molded article according to claim 10 of the present invention is coated by bonding the epoxy resin inorganic composite sheet according to any one of claims 1 to 8 to the surface of a semiconductor wafer, and directly curing and curing it. It is characterized by forming a film.
本発明の請求項１に係るエポキシ樹脂無機複合シートによれば、半導体用ウエハーのアクティブ面や裏面のコーティングに特に有効であり、ウエハーの大口径化や薄型化に伴って課題となるコーティング膜の硬化後の反り量を著しく低減することができ、かつ、膜厚精度が良好であり、高強度のコーティング膜を形成することができるものである。また、簡易なプロセス、簡易な設備でコーティング膜を形成することができると共に、成形品の信頼性を高く得ることもできるものである。 According to the epoxy resin inorganic composite sheet according to claim 1 of the present invention, it is particularly effective for coating the active surface and the back surface of a semiconductor wafer, and a coating film that becomes a problem as the diameter of the wafer is increased and the thickness is reduced. The amount of warpage after curing can be remarkably reduced, the film thickness accuracy is good, and a high-strength coating film can be formed. In addition, the coating film can be formed with a simple process and simple equipment, and the reliability of the molded product can be increased.
請求項２の発明によれば、低反り化の効果をさらに高めることができるものである。 According to the invention of claim 2, the effect of reducing warpage can be further enhanced.
請求項３の発明によれば、エポキシ樹脂無機複合シートの流動性が上昇してウエハー等への密着性が向上すると共に、成形品の反り量をさらに低減することもできるものである。 According to invention of Claim 3, while the fluidity | liquidity of an epoxy resin inorganic composite sheet rises and the adhesiveness to a wafer etc. improves, the curvature amount of a molded article can also be reduced further.
請求項４の発明によれば、硬化物の耐熱性を高く得ることができると共に、低反り化の効果を一層高く得ることができるものである。 According to invention of Claim 4, while being able to obtain the heat resistance of hardened | cured material highly, the effect of low curvature can be acquired further higher.
請求項５の発明によれば、エポキシ樹脂無機複合シートの製造時においてエポキシ樹脂との相溶性や分散性が良好であり、かつ、硬化後において低そり化の効果を一層高く得ることができるものである。 According to the invention of claim 5, the compatibility and dispersibility with the epoxy resin are good during the production of the epoxy resin inorganic composite sheet, and the effect of reducing warpage can be further enhanced after curing. It is.
請求項６の発明によれば、レーザーマーキング性及び絶縁性の良好なエポキシ樹脂無機複合シートを得ることができるものである。 According to the invention of claim 6, an epoxy resin inorganic composite sheet having good laser marking properties and insulation properties can be obtained.
請求項７の発明によれば、反りをさらに低減することができるものである。 According to the invention of claim 7, warpage can be further reduced.
請求項８の発明によれば、エポキシ樹脂無機複合シートの可撓性をさらに高めることができると共に、コーティング後の反り量をさらに低減することができるものである。 According to invention of Claim 8, while being able to further improve the flexibility of an epoxy resin inorganic composite sheet, the curvature amount after coating can further be reduced.
本発明の請求項９に係る成形品によれば、コーティング膜の硬化後の反り量が著しく低減されており、かつ、膜厚精度が良好であり、高強度のコーティング膜が形成されているので、信頼性を高く得ることもできるものである。 According to the molded product according to claim 9 of the present invention, the amount of warpage after curing of the coating film is remarkably reduced, the film thickness accuracy is good, and a high-strength coating film is formed. High reliability can also be obtained.
本発明の請求項１０に係る成形品によれば、コーティング膜の硬化後の反り量が著しく低減されており、かつ、膜厚精度が良好であり、高強度のコーティング膜が形成されているので、信頼性を高く得ることもできるものである。 According to the molded product according to claim 10 of the present invention, the amount of warping after curing of the coating film is remarkably reduced, the film thickness accuracy is good, and a high-strength coating film is formed. High reliability can also be obtained.
以下、本発明の実施の形態を説明する。 Embodiments of the present invention will be described below.
本発明に係るエポキシ樹脂無機複合シートは、エポキシ樹脂及び充填剤を含有するエポキシ樹脂組成物をキャリア材の表面に塗布し、これを加熱乾燥することによって得られる半硬化状態のものである。 The epoxy resin inorganic composite sheet according to the present invention is in a semi-cured state obtained by applying an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a filler to the surface of a carrier material and heating and drying it.
本発明においてエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、アラルキル型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂など公知慣用のものを使用することができるが、これらに限定されるものではない。 As the epoxy resin in the present invention, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, alkylphenol novolac type epoxy resin, aralkyl type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type Epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, anthracene type epoxy resins, epoxidized products of condensation products of phenols and aromatic aldehydes having phenolic hydroxyl groups, triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resins, etc. Known and conventional ones can be used, but are not limited thereto.
また、エポキシ樹脂としては、常温（２５℃）において液状のエポキシ樹脂及び平均分子量が４００以下（実質上の下限は２６０程度）の結晶性エポキシ樹脂の少なくとも一方を用いるのが好ましい。これにより、エポキシ樹脂無機複合シートの可撓性をさらに高めることができると共に、コーティング後の反り量をさらに低減することができるものである。ここで、常温において液状のエポキシ樹脂及び平均分子量が４００以下の結晶性エポキシ樹脂としては、上述したビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。 As the epoxy resin, it is preferable to use at least one of a liquid epoxy resin at room temperature (25 ° C.) and a crystalline epoxy resin having an average molecular weight of 400 or less (substantially lower limit is about 260). Thereby, the flexibility of the epoxy resin inorganic composite sheet can be further increased, and the amount of warpage after coating can be further reduced. Here, the epoxy resin that is liquid at room temperature and the crystalline epoxy resin having an average molecular weight of 400 or less include the above-described bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, and naphthalene type. An epoxy resin, an anthracene type epoxy resin, etc. can be illustrated, but it is not limited to these.
なお、後述する充填剤（低弾性有機フィラー及び無機フィラー）の合計量がエポキシ樹脂組成物全量に対して８０質量％を超える場合においては、軟化温度が８０℃以下のエポキシ樹脂（常温において液状のものを含む）を用いるのが好ましい。その理由は、乾燥後のエポキシ樹脂無機複合シートの可撓性を損なわないようにすることができるからである。 When the total amount of fillers (low elastic organic filler and inorganic filler) described later exceeds 80% by mass with respect to the total amount of the epoxy resin composition, an epoxy resin having a softening temperature of 80 ° C. or less (liquid at normal temperature) Are preferably used). The reason is that the flexibility of the epoxy resin inorganic composite sheet after drying can be prevented from being impaired.
また、本発明においては、エポキシ樹脂を硬化させるために硬化剤を配合することができるが、このエポキシ樹脂の硬化剤としては、ジシアンジアミド、フェノール、酸無水物等を用いることができる。このうちフェノールとしては、ノボラック型、アラルキル型、テルペン型等を用いることができるが、特に、上述したエポキシ樹脂と同様に軟化温度が８０℃以下のもの（常温において液状のものを含む）を用いるのが好ましい。また、エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノールフェニルアラルキル樹脂やフェノールビフェニルアラルキル樹脂などのアラルキル型フェノールをエポキシ樹脂組成物に配合しておくのが好ましく、特に、フェノールビフェニルアラルキル樹脂を配合しておくのが好ましい。これにより、反りをさらに低減することができるものであり、また、成形品の耐衝撃性を著しく向上させることができるものである。さらに、アラルキル型フェノールを用いたエポキシ樹脂無機複合シートは、低吸湿率、高密着性を併せ持っているので、プリント回路基板用材料、ＩＣ及び部品保護用コーティング材料として用いると、信頼性の高い成形品を得ることができるものである。また、酸無水物系の硬化剤に関しては、液状、結晶のどちらでも使用可能であるが、常温で液状のものや低分子量のものを用いることで、無機フィラーの量を増やしてもエポキシ樹脂無機複合シートの可撓性を保持することができるものである。エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は、エポキシ基／硬化剤のフェノール性水酸基＝０．５〜２．５となるように設定するのが好ましい。 In the present invention, a curing agent can be blended in order to cure the epoxy resin. As the curing agent for the epoxy resin, dicyandiamide, phenol, acid anhydride, or the like can be used. Among these, as the phenol, a novolak type, an aralkyl type, a terpene type, or the like can be used, and in particular, those having a softening temperature of 80 ° C. or less (including liquids at room temperature) are used as in the above-described epoxy resin. Is preferred. Further, as the curing agent for the epoxy resin, it is preferable to blend an aralkyl type phenol such as a phenol phenyl aralkyl resin or a phenol biphenyl aralkyl resin into the epoxy resin composition, and in particular, a phenol biphenyl aralkyl resin is blended. Is preferred. Thereby, the warpage can be further reduced, and the impact resistance of the molded product can be remarkably improved. In addition, the epoxy resin inorganic composite sheet using aralkyl type phenol has both low moisture absorption and high adhesion, so when used as a coating material for printed circuit boards, IC and component protection, it is a highly reliable molding. You can get a product. In addition, acid anhydride type curing agents can be used in either liquid or crystal form, but by using a liquid or low molecular weight liquid at room temperature, an epoxy resin inorganic material can be used even if the amount of inorganic filler is increased. The flexibility of the composite sheet can be maintained. The blending ratio of the epoxy resin and the curing agent is preferably set so that epoxy group / phenolic hydroxyl group of the curing agent = 0.5 to 2.5.
本発明において充填剤としては、低弾性有機フィラー及び無機フィラーを用いる。ここで、低弾性とは、常温においてエラストマーであることを意味する。 In the present invention, a low elastic organic filler and an inorganic filler are used as the filler. Here, low elasticity means that it is an elastomer at room temperature.
低弾性有機フィラーとしては、特に限定されるものではないが、シリコーンゴム（単体であって、パウダー状のものを含む）及びこれをコアとするコアシェル構造を有するものの少なくとも一方を用いるのが好ましい。このようにシリコーンゴムを用いる場合においては、原料がシリコーンであることから、高温下において長時間放置しても熱分解が生じにくく耐熱性の良好なエポキシ樹脂組成物を得ることができ、また、この硬化物の耐熱性も高く得ることができる。しかも、シリコーンゴムを用いることにより、コーティング膜の硬化後の反り量を十分に低減することができ、低反り化の効果を一層高く得ることができるものである。シリコーンゴムの具体例としては、東レ・ダウコーニング（株）製「トレフィル」や旭化成ワッカーシリコーン（株）製「ＳＰＭ」等を挙げることができる。また、低弾性有機フィラーとしては、架橋アクリルゴム（単体）及びこれをコアとするコアシェル構造を有するものの少なくとも一方を用いるのも好ましい。この場合においてもシリコーンゴムを用いるのと同様に、コーティング膜の硬化後の反り量を十分に低減することができ、低反り化の効果を一層高く得ることができるものである。しかも、架橋アクリルゴムを用いることにより、エポキシ樹脂との極性差が小さくなり、エポキシ樹脂無機複合シートの製造時において相溶性や分散安定性を向上させることができるものである。架橋アクリルゴムをコアとするコアシェル構造を有するものの具体例としては、ガンツ化成（株）製「スタフィロイド」等を挙げることができる。なお、コアシェル構造とは、シリコーンゴムや架橋アクリルゴムのようなゴム状ポリマーからなるコア層を、ガラス状ポリマーからなるシェル層で被覆した構造をいう。そして、低弾性有機フィラーは、一種のみを用いたり二種以上を組み合わせて用いたりすることができる。 The low-elasticity organic filler is not particularly limited, but it is preferable to use at least one of silicone rubber (including a simple substance including a powdery one) and a core-shell structure having the core as a core. In the case of using silicone rubber in this way, since the raw material is silicone, it is possible to obtain an epoxy resin composition having good heat resistance that hardly causes thermal decomposition even when left at high temperature for a long time. High heat resistance of the cured product can also be obtained. In addition, the use of silicone rubber can sufficiently reduce the amount of warping after curing of the coating film, and the effect of reducing warpage can be further enhanced. Specific examples of the silicone rubber include “Trefill” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. and “SPM” manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd. In addition, as the low-elasticity organic filler, it is also preferable to use at least one of a cross-linked acrylic rubber (single unit) and a core-shell structure having this as a core. In this case as well, when the silicone rubber is used, the amount of warping after the coating film is cured can be sufficiently reduced, and the effect of reducing warpage can be further enhanced. Moreover, by using the crosslinked acrylic rubber, the polarity difference from the epoxy resin is reduced, and the compatibility and dispersion stability can be improved during the production of the epoxy resin inorganic composite sheet. Specific examples of those having a core-shell structure having a cross-linked acrylic rubber as a core include “STAPHYLOID” manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd. The core-shell structure refers to a structure in which a core layer made of a rubber-like polymer such as silicone rubber or crosslinked acrylic rubber is covered with a shell layer made of a glass-like polymer. And a low elastic organic filler can use only 1 type, or can be used in combination of 2 or more type.
一方、無機フィラーとしては、特に限定されるものではないが、溶融シリカ（ＳｉＯ２）、結晶シリカ（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）等を用いることができ、また、これらの他に、高誘電率性チタン酸バリウムや酸化チタンのような高誘電率フィラーや、ハードフェライトや、ハードフェライトのような磁性フィラー、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、グアニジン塩、ホウ酸亜鉛、モリブデン化合物、スズ酸亜鉛等の無機系難燃剤や、タルク、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、雲母粉等を用いることができる。そして、これらの無機フィラーは、一種のみを用いたり二種以上を組み合わせて用いたりすることができる。 On the other hand, the inorganic filler is not particularly limited, but is fused silica (SiO 2 ), crystalline silica (SiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN). Aluminum nitride (AlN) can be used, and besides these, high dielectric constant fillers such as high dielectric constant barium titanate and titanium oxide, magnetic ferrites such as hard ferrite, and hard ferrite , Magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, antimony trioxide, antimony pentoxide, guanidine salt, zinc borate, molybdenum compound, zinc stannate and other inorganic flame retardants, talc, barium sulfate, calcium carbonate, mica powder, etc. Can be used. These inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more.
また、本発明においては、エポキシ樹脂組成物中における上記充填剤の分散性を向上させるために、エポキシシラン系、メルカプトシラン系、アミノシラン系、ビニルシラン系、スチリルシラン系、メタクリロキシシラン系、アクリロキシシラン系、チタネート系等のカップリング剤や、アルキルエーテル系、ソルビタンエステル系、アルキルポリエーテルアミン系、高分子系等の分散剤を適宜エポキシ樹脂組成物に添加するのが好ましい。 In the present invention, in order to improve the dispersibility of the filler in the epoxy resin composition, epoxy silane, mercapto silane, amino silane, vinyl silane, styryl silane, methacryloxy silane, acryloxy It is preferable that a coupling agent such as a silane or titanate, or a dispersant such as an alkyl ether, sorbitan ester, alkyl polyether amine, or polymer is appropriately added to the epoxy resin composition.
また、本発明においては、エポキシ樹脂組成物全量に対して、カーボンブラックを０．１〜０．６質量％添加しておくのが好ましい。これにより、絶縁性の低下を防止しつつ、レーザーマーキング性を向上させることができるものである。しかし、カーボンブラックの添加量が０．１質量％未満である場合には、レーザーマーキング性を向上させることができないおそれがあり、逆に、０．６質量％を超える場合には、絶縁性に問題が生じるおそれがある。 Moreover, in this invention, it is preferable to add 0.1-0.6 mass% of carbon black with respect to the epoxy resin composition whole quantity. Thereby, laser marking property can be improved, preventing the insulation fall. However, if the amount of carbon black added is less than 0.1% by mass, the laser marking property may not be improved. Problems may arise.
そして、本発明においては、エポキシ樹脂組成物全量に対して、充填材として、低弾性有機フィラーをＸ質量％（Ｘ＝２〜１５）及び無機フィラーを７０−Ｘ〜９０−Ｘ質量％用いる。すなわち、低弾性有機フィラー及び無機フィラーの合計量は７０〜９０質量％である。この合計量が７０質量％よりも低い場合においては、エポキシ樹脂無機複合シートに高いタック性が生じ、半導体用ウエハー等へラミネートする際に気泡をかみこみやすくなり、そのため界面にボイドが発現することになる。逆に、上記合計量が９０質量％よりも高い場合においては、エポキシ樹脂無機複合シートをラミネートする際に流動性が低下し、半導体用ウエハー等への密着性が不足するので実用的ではなく、また、シート性状としても硬く脆いものとなりやすいなどの面があり、ハンドリング性に欠けるものである。 And in this invention, X mass% (X = 2-15) and an inorganic filler 70-X-90-X mass% are used for a low elastic organic filler as a filler with respect to the epoxy resin composition whole quantity. That is, the total amount of the low elastic organic filler and the inorganic filler is 70 to 90% by mass. When this total amount is lower than 70% by mass, the epoxy resin inorganic composite sheet has high tackiness, and it is easy to entrap air bubbles when laminating to a semiconductor wafer or the like, so that voids appear at the interface. become. On the contrary, in the case where the total amount is higher than 90% by mass, the fluidity is lowered when laminating the epoxy resin inorganic composite sheet, and it is not practical because the adhesion to a semiconductor wafer or the like is insufficient. In addition, the sheet properties tend to be hard and brittle and lack handling properties.
また、無機フィラーは８０−Ｘ〜８５−Ｘ質量％用いるのが好ましい。すなわち、低弾性有機フィラー及び無機フィラーの合計量は８０〜８５質量％であることが好ましい。この場合には、ラミネート、硬化、さらには高温処理（２３０℃）を行った後の成形品の反りを著しく著しく低減することができるものである。 The inorganic filler is preferably used at 80-X to 85-X mass%. That is, the total amount of the low elastic organic filler and the inorganic filler is preferably 80 to 85% by mass. In this case, it is possible to remarkably reduce the warpage of the molded product after being laminated, cured, and further subjected to a high temperature treatment (230 ° C.).
また、Ｘ＝２〜１０であることが好ましい。すなわち、低弾性有機フィラーは２〜１０質量％用いるのが好ましい。これにより、エポキシ樹脂無機複合シートの流動性が上昇してウエハー等への密着性が向上すると共に、成形品の反り量をさらに低減することもできるものである。 Moreover, it is preferable that X = 2-10. That is, it is preferable to use 2 to 10% by mass of the low elastic organic filler. Thereby, the fluidity | liquidity of an epoxy resin inorganic composite sheet rises, the adhesiveness to a wafer etc. improves, and also the curvature amount of a molded article can be reduced further.
そして、本発明に係るエポキシ樹脂無機複合シートは、次のようにして製造することができる。すなわち、上述したエポキシ樹脂、充填剤、硬化剤を有機溶剤（例えば、メチルエチルケトンやＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）に溶解・分散させることによって、エポキシ樹脂組成物からなる樹脂ワニスを調製し、次にこの樹脂ワニスをキャリア材（これについては後述）の片面あるいは両面に塗布した後に、熱風吹き付けなどにより、これを加熱乾燥させるものである。このようにして、常温で固形のエポキシ樹脂組成物からなるエポキシ樹脂無機複合シートをキャリア材の表面に形成することができる。このエポキシ樹脂無機複合シートは、キャリア材の表面上に半硬化状態で形成されている。すなわち、上記加熱乾燥は、Ｂステージ化することであり、キャリア材の表面に塗布されたエポキシ樹脂組成物を加熱することにより、エポキシ樹脂組成物の反応を一部行わせているものである。従って、本発明に係るエポキシ樹脂無機複合シートは、プリプレグと同様に、積層成形の加熱加圧によって一旦溶融した後に硬化する性質を備えているものである。 And the epoxy resin inorganic composite sheet which concerns on this invention can be manufactured as follows. That is, a resin varnish composed of an epoxy resin composition is prepared by dissolving and dispersing the above-described epoxy resin, filler, and curing agent in an organic solvent (for example, methyl ethyl ketone or N, N-dimethylformamide). The resin varnish is applied to one or both sides of a carrier material (which will be described later), and then heated and dried by spraying hot air or the like. Thus, the epoxy resin inorganic composite sheet which consists of an epoxy resin composition solid at normal temperature can be formed on the surface of a carrier material. This epoxy resin inorganic composite sheet is formed in a semi-cured state on the surface of the carrier material. That is, the heat drying is to make a B stage, and the epoxy resin composition applied to the surface of the carrier material is heated to cause a partial reaction of the epoxy resin composition. Accordingly, the epoxy resin inorganic composite sheet according to the present invention has a property of being once melted by heat-pressing of lamination molding and then cured, like the prepreg.
また、本発明において、キャリア材の表面に形成されるエポキシ樹脂無機複合シートの厚みは５〜２００μｍである。この厚みが５μｍ未満である場合においては、コーティング時に充填剤の粒子径が微細化してくることから、充填性に問題を生じやすくなり、低線膨張化には不利となる。すなわち、一般に充填剤の平均粒子径は上記厚みの１／５〜１／１０以下にしなければシート製造時にスジの発生や成形時の流動性の低下を引き起こす。従って、上記厚みが薄くなればなるほど充填剤の粒子径としては微細化したものを用いなければならなくなる。しかしながら、充填剤の粒子径の低下は充填性の著しい低下を招くこととなり、その結果、硬化物の充填剤比率が下がることから、線膨張の低減を目的とした用途には不利となるのである。また、５μｍの厚みは、コーティングでの表面状態を良好なものにするための限界となるものであり、本発明においては、これよりも薄い厚みでのシート化では、エポキシ樹脂無機複合シートにスジが発生しやすくなるものである。逆に、上記厚みが２００μｍを超える場合においては、ウエハー等へコーティングしてこれを硬化した後やリフロー後において、反りが大きくなるものである。 Moreover, in this invention, the thickness of the epoxy resin inorganic composite sheet formed on the surface of a carrier material is 5-200 micrometers. When the thickness is less than 5 μm, the particle size of the filler becomes finer during coating, which tends to cause a problem in filling properties, which is disadvantageous for low linear expansion. That is, generally, unless the average particle diameter of the filler is 1/5 to 1/10 or less of the above thickness, streaks are generated during sheet production and fluidity is lowered during molding. Therefore, the thinner the thickness is, the more finer the particle size of the filler has to be used. However, a decrease in the particle size of the filler causes a significant decrease in the filling property, resulting in a decrease in the filler ratio of the cured product, which is disadvantageous for applications aimed at reducing linear expansion. . In addition, the thickness of 5 μm is a limit for improving the surface condition of the coating, and in the present invention, when the sheet is formed with a thickness smaller than this, a streak is added to the epoxy resin inorganic composite sheet. Is likely to occur. On the other hand, when the thickness exceeds 200 μm, the warpage increases after coating on a wafer or the like and curing or after reflowing.
本発明においてキャリア材としては、高分子フィルムあるいは金属シートを用いるのが好ましい。高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、アセチルセルローズ、テトラフルオロエチレン等を例示することができる。また、金属シートとしては、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔のような金属箔等を例示することができる。さらには、キャリア材としては、離型紙等を用いてもよい。特に、キャリア材としては、価格や耐熱性の点で、ポリエステルフィルムを用いるのが好ましい。また、キャリア材の厚みとしては、特に限定されるものではないが、１０〜２００μｍが一般的である。また、キャリア材の片面あるいは両面には、樹脂ワニスを塗布する前に、離型処理を行っておくことが好ましい。例えば、オルガノポリシロキサンやフッ素系ポリマーをキャリア材の表面にコートすることによって離型処理を行うことができ、これにより、塗布後乾燥したエポキシ樹脂無機複合シートは、加熱しなくても、キャリア材から容易に剥がすことができるものである。ここで、離型性の指標として、キャリア材の表面に形成されたエポキシ樹脂無機複合シートとキャリア材との剥離強度を用いることができるが、この剥離強度は５０ｍｍ／分の引張速度の条件において０．６〜６０Ｎ／ｍの範囲であることが好ましい。剥離強度が０．６Ｎ／ｍ未満である場合においては、塗布乾燥後にエポキシ樹脂無機複合シートをキャリア材と共に巻き取る段階において、エポキシ樹脂無機複合シートがキャリア材から剥がれてしまうなどの問題が生じるおそれがある。逆に、剥離強度が６０Ｎ／ｍを超える場合においては、剥離が困難であり、キャリア材から剥離する際にエポキシ樹脂無機複合シートが破壊されるおそれがある。また、エポキシ樹脂無機複合シートの引張強度は０．５〜１５ＭＰａの範囲であることが好ましく、この範囲であれば、巻き取り時には不用意にキャリア材から剥離せず、硬化後においてはキャリア材からの剥離が容易で、破れにくいエポキシ樹脂無機複合シートを得ることができる。 In the present invention, a polymer film or a metal sheet is preferably used as the carrier material. Examples of the polymer film include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride, polyesters such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, acetyl cellulose, and tetrafluoroethylene. Examples of the metal sheet include metal foil such as copper foil, aluminum foil, and nickel foil. Furthermore, release paper or the like may be used as the carrier material. In particular, as the carrier material, it is preferable to use a polyester film from the viewpoint of cost and heat resistance. Further, the thickness of the carrier material is not particularly limited, but is generally 10 to 200 μm. Moreover, it is preferable to perform a mold release treatment on one side or both sides of the carrier material before applying the resin varnish. For example, the release treatment can be performed by coating the surface of the carrier material with an organopolysiloxane or a fluorine-based polymer, whereby the epoxy resin inorganic composite sheet dried after application can be heated without being heated. Can be easily peeled off. Here, as an index of releasability, the peel strength between the epoxy resin inorganic composite sheet formed on the surface of the carrier material and the carrier material can be used. This peel strength is obtained under the condition of a tensile speed of 50 mm / min. A range of 0.6 to 60 N / m is preferable. When the peel strength is less than 0.6 N / m, there is a possibility that problems such as the epoxy resin inorganic composite sheet peeling off from the carrier material at the stage of winding the epoxy resin inorganic composite sheet together with the carrier material after coating and drying. There is. Conversely, when the peel strength exceeds 60 N / m, it is difficult to peel off, and the epoxy resin inorganic composite sheet may be destroyed when peeling from the carrier material. In addition, the tensile strength of the epoxy resin inorganic composite sheet is preferably in the range of 0.5 to 15 MPa. If it is within this range, it does not inadvertently peel off from the carrier material at the time of winding, and after curing, from the carrier material. It is possible to obtain an epoxy resin inorganic composite sheet that is easy to peel off and is not easily torn.
そして、本発明に係る成形品は、上述したエポキシ樹脂無機複合シートを成形硬化することによって得ることができる。すなわち、本発明に係る成形品は、エポキシ樹脂無機複合シートを簡易ラミネーター、真空ラミネーター、直圧成形等により成形した硬化物であるが、例えば、エポキシ樹脂無機複合シートを半導体用ウエハーの表面（アクティブ面やその反対側の面）に配置し、これを８０〜１８０℃で数秒〜５分間加熱することにより貼り合わせ、キャリア材を剥離した後、乾燥機に入れて１００〜２００℃で３０分〜６時間再度加熱して完全硬化させることによって、成形品として、表面にコーティング膜が形成された半導体用ウエハーを得ることができる。 And the molded article which concerns on this invention can be obtained by shape-hardening the epoxy resin inorganic composite sheet mentioned above. That is, the molded product according to the present invention is a cured product obtained by molding an epoxy resin inorganic composite sheet by a simple laminator, a vacuum laminator, direct pressure molding or the like. For example, an epoxy resin inorganic composite sheet is formed on the surface of a semiconductor wafer (active Are placed on the surface and the opposite surface) and heated together at 80 to 180 ° C. for several seconds to 5 minutes, peeled off the carrier material, and then placed in a dryer for 30 minutes at 100 to 200 ° C. By heating again for 6 hours and completely curing, a semiconductor wafer having a coating film formed on the surface can be obtained as a molded product.
以上説明したように、本発明に係るエポキシ樹脂無機複合シートは、半導体用ウエハー（例えば、ＩＣ等）のアクティブ面や裏面のコーティング（バックコート）に特に有効であり、ウエハーの大口径化や薄型化に伴って課題となるコーティング膜の硬化後の反り量を著しく低減することができ、かつ、膜厚精度が良好であり、高強度のコーティング膜を形成することができるものである。また、本発明に係るエポキシ樹脂無機複合シートは少量多品種生産に好適な材料であって、この材料によれば、簡易なプロセス、簡易な設備でコーティング膜を形成することができると共に、成形品の信頼性を高く得ることもできるものである。 As described above, the epoxy resin inorganic composite sheet according to the present invention is particularly effective for the coating (back coat) of the active surface and back surface of a semiconductor wafer (for example, IC), and the wafer has a large diameter and is thin. As a result, the amount of warping after curing of the coating film that becomes a problem can be significantly reduced, the film thickness accuracy is good, and a high-strength coating film can be formed. In addition, the epoxy resin inorganic composite sheet according to the present invention is a material suitable for small-quantity, multi-product production, and according to this material, a coating film can be formed with a simple process and simple equipment, and a molded product. High reliability can be obtained.
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
（実施例１〜１０、比較例１〜４）
下記［表１］に示すエポキシ樹脂、硬化剤、充填剤（低弾性有機フィラー及び無機フィラー）、カーボンブラックをプラネタリーミキサーを用いて混練し、これにメチルエチルケトンを配合することによって、粘度を３０００ｃｐｓ（３０００ｍＰａ・ｓ）に調整した樹脂ワニスを得た。なお、エポキシ樹脂と硬化剤の配合比率は、エポキシ基／フェノール性水酸基＝１．０となるように設定した。次に、この樹脂ワニスを厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製フィルムからなるキャリア材（表面をあらかじめオルガノポリシロキサンで離型処理）に塗布した後、これを１１０℃で３分間加熱乾燥することによって、キャリア材の片面に厚み５０μｍの半硬化状態（Ｂステージ状態）のエポキシ樹脂組成物からなるエポキシ樹脂無機複合シートを形成した。
(Examples 1-10, Comparative Examples 1-4)
An epoxy resin, a curing agent, a filler (low-elasticity organic filler and inorganic filler) shown in [Table 1] below, and carbon black are kneaded using a planetary mixer, and methyl ethyl ketone is blended therein, whereby a viscosity of 3000 cps ( A resin varnish adjusted to 3000 mPa · s) was obtained. The mixing ratio of the epoxy resin and the curing agent was set so that epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1.0. Next, this resin varnish was applied to a carrier material (surface release treatment with organopolysiloxane in advance) made of a film made of polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 75 μm, and then heated and dried at 110 ° C. for 3 minutes. Then, an epoxy resin inorganic composite sheet made of an epoxy resin composition in a semi-cured state (B stage state) having a thickness of 50 μm was formed on one side of the carrier material.
（樹脂流動性）
樹脂流動性を評価するため、ホットプレスを用い、１３０℃、２ＭＰａの圧力により、直径１００ｍｍに打ち抜いたエポキシ樹脂無機複合シートを成形し、材料のフローを質量換算により算出した。その結果を下記［表１］に示す。なお、樹脂流動性（％）の算出式は次のとおりである。樹脂流動性（％）＝（１００ｍｍφよりはみ出したフロー樹脂分質量）／（初期１００ｍｍφ樹脂分質量）×１００
（反り量）
上記のようにして得られたエポキシ樹脂無機複合シートを用い、シリコンウエハー（厚み２００μｍ、直径１００ｍｍ）に１００℃、数秒でラミネートを行った後、キャリア材であるポリエステルフィルムを剥離した。その後、１００℃で３０分、さらに１８０℃で９０分の硬化条件で、硬化させることによって、反り量評価のためのサンプルを作製した。その後、このサンプルを３０分間、２３０℃のオーブンに投入し、ウエハーとの複合化による反り量評価を行った。オーブンから取り出したサンプルについて、歪ゲージを用いて複数箇所の反り量を測定し、そのうち最大値をサンプルの反り量とした。その結果を下記［表１］に示す。
(Resin fluidity)
In order to evaluate the resin fluidity, an epoxy resin inorganic composite sheet punched to a diameter of 100 mm was molded using a hot press at a pressure of 130 ° C. and 2 MPa, and the material flow was calculated in terms of mass. The results are shown in [Table 1] below. In addition, the calculation formula of resin fluidity (%) is as follows. Resin fluidity (%) = (mass of flow resin protruding from 100 mmφ) / (initial mass of 100 mmφ resin) × 100
(Warpage amount)
The epoxy resin inorganic composite sheet obtained as described above was laminated on a silicon wafer (thickness 200 μm, diameter 100 mm) at 100 ° C. for several seconds, and then the polyester film as the carrier material was peeled off. Then, the sample for evaluation of curvature amount was produced by making it harden | cure on the hardening conditions for 30 minutes at 100 degreeC, and also for 90 minutes at 180 degreeC. Thereafter, this sample was placed in an oven at 230 ° C. for 30 minutes, and the amount of warpage due to the combination with the wafer was evaluated. About the sample taken out from oven, the curvature amount of several places was measured using the strain gauge, and the maximum value was made into the curvature amount of the sample. The results are shown in [Table 1] below.
（界面ボイド）
反り量の測定が終了したサンプルに関して断面観察を行い、硬化物層とウエハーとの界面にボイドが存在しているか否か確認した。その結果を下記［表１］に示す。
(Interface void)
The cross section of the sample for which the measurement of the amount of warpage was completed was observed, and it was confirmed whether or not a void was present at the interface between the cured product layer and the wafer. The results are shown in [Table 1] below.
（貼り合わせ性）
１００℃、数秒でラミネートを行う際及びその後のポリエステルフィルムの剥離時において、ウエハーとの密着が不十分なため全面的に又は部分的に剥離を生じていたかどうかを目視で観察した。一部でも剥離を生じていたものは「剥離あり」とし、それ以外のものは「○」とした。その結果を下記［表１］に示す。
(Adhesiveness)
When laminating at 100 ° C. for several seconds and at the time of subsequent peeling of the polyester film, it was visually observed whether peeling occurred entirely or partially due to insufficient adhesion to the wafer. Some of the samples that had peeled off were marked as “with peeling”, and the others were marked as “◯”. The results are shown in [Table 1] below.
上記［表１］において「Ａ１」「Ａ２」「Ｂ１」「Ｂ２」「Ｆ１」「Ｆ２」「Ｆ３」は下記のものを示す。 In the above [Table 1], “A1”, “A2”, “B1”, “B2”, “F1”, “F2”, and “F3” represent the following.
「Ａ１」：Ｂｉｓ−Ｆエポキシ樹脂（液状ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂）、東都化成（株）製「ＹＤＦ８１７０」
「Ａ２」：ビフェニル型エポキシ樹脂、ジャパンエポキシレジン（株）製「ＹＸ４０００Ｈ」、平均分子量３８４
「Ｂ１」：フェノールビフェニルアラルキル樹脂、明和化成（株）製「ＭＥＨ７８５１ＳＳ」、軟化温度６６℃
「Ｂ２」：フェノールノボラック、明和化成（株）製「Ｈ４」、軟化温度７３℃
「Ｆ１」：架橋アクリル系ゴムフィラー（コアシェル構造を有するもの）、ガンツ化成（株）製「スタフィロイド ＡＣ３３５５」
「Ｆ２」：シリコーンゴムフィラー、旭化成ワッカーシリコーン（株）製「ＳＰＭ」
「Ｆ３」：シリコーンゴムフィラー、東レ・ダウコーニング（株）製「トレフィル Ｅ６０１」
また、無機フィラーとしては、溶融シリカを用いた。
“A1”: Bis-F epoxy resin (liquid bisphenol F type epoxy resin), “YDF8170” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.
“A2”: biphenyl type epoxy resin, “YX4000H” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., average molecular weight 384
“B1”: phenol biphenyl aralkyl resin, “MEH7851SS” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., softening temperature: 66 ° C.
“B2”: phenol novolak, “H4” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., softening temperature 73 ° C.
“F1”: Cross-linked acrylic rubber filler (having a core-shell structure), “STAPHYLOID AC3355” manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.
“F2”: Silicone rubber filler, “SPM” manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd.
“F3”: Silicone rubber filler, “Torefill E601” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
Moreover, fused silica was used as the inorganic filler.
上記［表１］にみられるように、低弾性有機フィラーを全く使用していない比較例１に比べて、低弾性有機フィラーを使用した実施例１〜１０の方が、反り量を大きく低減することができ、樹脂流動性、界面ボイド、貼り合わせ性の点においても優れていることが確認される。 As seen in the above [Table 1], the amount of warpage is greatly reduced in Examples 1 to 10 using the low elastic organic filler compared to Comparative Example 1 in which the low elastic organic filler is not used at all. It is confirmed that the resin is excellent in terms of resin fluidity, interface voids, and bonding properties.
また、実施例２、１０を対比すると、実施例２に比べて、平均分子量が３８４の結晶性エポキシ樹脂を使用した実施例１０の方が、反り量をさらに低減できることが確認される。 Further, when Examples 2 and 10 are compared, it is confirmed that the amount of warpage can be further reduced in Example 10 using a crystalline epoxy resin having an average molecular weight of 384 as compared with Example 2.
また、実施例１、３、６については、いずれも低弾性有機フィラー及び無機フィラーの合計量が同じ（８０質量％）であるが、各樹脂流動性の結果から、低弾性有機フィラーの含有量を２、１０、１５質量％と増加させていくと、樹脂流動性は逆に５１、４０、５％と低下していくことが確認され、ウエハーとの密着性を得る上では不利であることが考えられる。しかし、実施例６のように樹脂流動性が５％であっても、これは許容範囲内である。 In Examples 1, 3, and 6, the total amount of the low elastic organic filler and the inorganic filler is the same (80% by mass). From the results of the resin flow properties, the content of the low elastic organic filler is the same. It is confirmed that the resin fluidity decreases to 51, 40, and 5% when the content is increased to 2, 10, and 15% by mass, which is disadvantageous in obtaining adhesion to the wafer. Can be considered. However, even if the resin fluidity is 5% as in Example 6, this is within the allowable range.
一方、比較例１、２においては、低弾性有機フィラー及び無機フィラーの合計量が７０質量％未満であるので、エポキシ樹脂無機複合シートのタック性が高くなり、ウエハーに貼り合わせる際に気泡をかみこんで、硬化後、この気泡がエポキシ樹脂無機複合シートとウエハーとの界面においてボイドとして残存した。 On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since the total amount of the low-elasticity organic filler and the inorganic filler is less than 70% by mass, the tackiness of the epoxy resin inorganic composite sheet is increased, and bubbles are not formed when being bonded to the wafer. After being cured and cured, the bubbles remained as voids at the interface between the epoxy resin inorganic composite sheet and the wafer.
また、比較例３、４においては、低弾性有機フィラー及び無機フィラーの合計量が９０質量％を超えているので、樹脂流動性が全くなく、ウエハーとの貼り合わせが不可能であった。 Further, in Comparative Examples 3 and 4, since the total amount of the low elastic organic filler and the inorganic filler exceeded 90% by mass, there was no resin fluidity, and bonding with the wafer was impossible.
Claims (10)
A molded article comprising a coating film formed by bonding the epoxy resin inorganic composite sheet according to any one of claims 1 to 8 to a surface of a semiconductor wafer and curing it.
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