JP2013072847A - Testing holder - Google Patents

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Yoshinori Wakabayashi
良典 若林
Akira Ujiie
亮 氏家
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Yamaichi Electronics Co Ltd
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Yamaichi Electronics Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low-cost testing holder capable of efficiently testing an object to be tested in accordance with the fine pitch and fine region of electrodes while suppressing the influence of the object to be tested on the electrodes.SOLUTION: The testing holder includes a testing probe 31 in which a plurality of contact shoes 33 having conductivity to be brought into contact with electrodes 22 of an object to be tested 21 are formed on a base plate 32 by a small electromechanical system technique, and a probe block 12 for supporting the testing probe 31, the testing probe 31 is arranged perpendicularly to the object to be tested 21, tip sides of the contact shoes 33 of the testing probe 31 are bent with respect to the surface of the base plate 32 at a predetermined angle, the probe block 12 and the object to be tested 21 are brought into close contact with each other, to thereby be brought into close contact with the object to be tested 21 from a perpendicular direction, and contact points 35 composed of tips of the contact shoes 33 are brought into contact with the electrodes 22 of the object to be tested 21.

Description

本発明は、電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどを検査する際に用いられる検査用治具に関する。   The present invention relates to an inspection jig used when inspecting an electronic device, a semiconductor device, a display device, or the like.

電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどは、検査用治具を用いて通電試験等が行われる。このような検査用治具として、カンチレバー構造のプローブ針を基板上に多数備え、絶縁チューブで被覆した各プローブ針の中間部を、基板上の接地配線に接続した一体状の導電材に埋め込んだカンチレバー方式の検査用治具が知られている(例えば、特許文献1参照)。   An electronic device, a semiconductor device, a display device, or the like is subjected to an energization test or the like using an inspection jig. As such an inspection jig, a large number of cantilever-type probe needles are provided on the substrate, and the intermediate portion of each probe needle covered with an insulating tube is embedded in an integrated conductive material connected to the ground wiring on the substrate. A cantilever type inspection jig is known (for example, see Patent Document 1).

また、測定対象物の電極パッドに接触する複数本のプローブと、このプローブが取り付けられるプローブヘッドと、プローブと接続される信号線が形成された基板と、信号線とプローブとを接続する導線とを具備し、基板には開口部が設けられており、開口部の縁部が内側に近い程低くなった略雛壇状に形成されており、各層において信号線が露出している垂直型プローブも知られている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, a plurality of probes that contact the electrode pad of the measurement object, a probe head to which the probes are attached, a substrate on which a signal line connected to the probe is formed, and a conductive wire that connects the signal line and the probe And a vertical probe in which the signal line is exposed in each layer. It is known (see, for example, Patent Document 2).

特開2006−71358号公報JP 2006-71358 A 特開2000−162239号公報JP 2000-162239 A

近年、電子機器に搭載される被検査体である電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどの微細化及び高集積化が積極的に行われており、これに伴い、これらの被検査体の電極も微細ピッチ化及び微細領域化されている。   In recent years, miniaturization and high integration of electronic devices, semiconductor devices, and display devices, which are inspected objects mounted on electronic equipment, have been actively performed. Fine pitch and fine area.

このような状況において、特許文献1に示されたカンチレバー方式のプローブでは、耐久性を維持すべく一定の針径が必要となるため、被検査体の電極の微細ピッチ化及び微細領域化への適用が困難である。しかも、被検査体の電極へ大きな針痕が形成され、検査工程後における実装工程での不良発生の要因となってしまう。また、電極が被検査体の表面よりも内側に凹んだ箇所に配置されているような段付き形状の被検査体を検査するためには、針先の長さを長くせざるを得ず、針先の接点の位置精度の確保及び電極への押し付け荷重の制御が困難になり、また、耐久性が低下してしまう。   In such a situation, the cantilever type probe shown in Patent Document 1 requires a certain needle diameter to maintain the durability. It is difficult to apply. In addition, large needle marks are formed on the electrodes of the object to be inspected, which causes a defect in the mounting process after the inspection process. Further, in order to inspect the stepped shape of the inspected object such that the electrode is disposed at a position recessed inward from the surface of the inspected object, the length of the needle tip must be increased, Ensuring the positional accuracy of the contact point of the needle tip and controlling the pressing load on the electrode becomes difficult, and the durability is lowered.

また、特許文献2に示された垂直型プローブでは、プローブを支持するセラミック板に対してプローブを支持するための孔部を、例えば、100μm以下の微細ピッチで形成することが困難である。このため、被検査体の電極の微細ピッチ化に対応することが困難であった。また、プローブを支持するセラミック板が干渉してプローブの接点の電極への接触箇所の確認が困難となる。このため、高価な位置合わせ装置が必要となり、検査コストの増大を招いてしまう。   In addition, in the vertical probe disclosed in Patent Document 2, it is difficult to form holes for supporting the probe with respect to the ceramic plate that supports the probe with a fine pitch of, for example, 100 μm or less. For this reason, it has been difficult to cope with the fine pitching of the electrodes of the object to be inspected. Also, the ceramic plate supporting the probe interferes, making it difficult to confirm the contact location of the probe contact to the electrode. For this reason, an expensive alignment device is required, which increases the inspection cost.

本発明の目的は、被検査体の電極への影響を抑えつつ電極の微細ピッチ化及び微細領域化に対応して効率的に被検査体の検査を行うことができる低コストの検査用治具を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a low-cost inspection jig capable of efficiently inspecting an object to be inspected in response to a fine pitch and a fine area of the electrode while suppressing an influence on the electrode of the object to be inspected. Is to provide.

上記課題を解決することのできる本発明の検査用治具は、複数の電極を有する被検査体の検査を行う検査用治具であって、
前記被検査体の前記電極に接触される導電性を有する複数の接触子が微小電気機械システム技術によって基板に形成された検査用プローブと、前記検査用プローブを支持するプローブブロックとを備え、
前記被検査体に対して前記検査用プローブが垂直に配置され、前記検査用プローブの前記接触子の先端側が前記基板の表面に対して所定角度で屈曲され、
前記プローブブロックと前記被検査体とが近接されることにより、前記被検査体に対して垂直方向から近接されて前記接触子の先端からなる接点が前記被検査体の電極に接触されることを特徴とする。
The inspection jig of the present invention that can solve the above problems is an inspection jig that inspects an object to be inspected having a plurality of electrodes,
A plurality of contacts having conductivity to be brought into contact with the electrodes of the object to be inspected, comprising a probe for inspection formed on a substrate by a microelectromechanical system technology, and a probe block that supports the probe for inspection;
The inspection probe is disposed perpendicular to the object to be inspected, and the tip end side of the contact of the inspection probe is bent at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate;
When the probe block and the object to be inspected are brought close to each other, the contact made of the tip of the contact is brought into contact with the electrode of the object to be inspected by being brought close to the object to be inspected from the vertical direction. Features.

本発明の検査用治具において、前記プローブブロックは、前記被検査体との近接時に、前記被検査体の前記電極に前記接触子が接触した時点からの近接方向への変位量を一定量に規制するストッパーが設けられていることが好ましい。   In the inspection jig of the present invention, when the probe block is in proximity to the object to be inspected, the amount of displacement in the proximity direction from the point in time when the contactor contacts the electrode of the object to be inspected is made constant. It is preferable that a stopper to be regulated is provided.

本発明の検査用治具において、前記プローブブロックと前記被検査体との近接方向への荷重が所定量となった時点で、前記プローブブロックをスライドさせて前記プローブブロックと前記被検査体との近接方向への荷重を一定にするスライド機構を備えることが好ましい。   In the inspection jig according to the present invention, when the load in the proximity direction between the probe block and the object to be inspected reaches a predetermined amount, the probe block is slid to move the probe block and the object to be inspected. It is preferable to provide a slide mechanism that makes the load in the proximity direction constant.

本発明によれば、被検査体の電極に接触される導電性を有する複数の接触子が微小電気機械システム技術によって基板に形成された検査用プローブを備えるので、被検査体が微細化及び高集積化された電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどであっても良好に対応して確実に検査することができる。また、微小電気機械システム技術で作製された耐久性の高い検査用プローブを用いることで、繰り返し使用しても不具合の発生を抑えることができ、長寿命化を図ることができる。   According to the present invention, the plurality of conductive contacts that are in contact with the electrodes of the object to be inspected include the inspection probe formed on the substrate by the microelectromechanical system technology. Even an integrated electronic device, semiconductor device, or display device can be inspected with good response. In addition, by using a highly durable inspection probe manufactured by a microelectromechanical system technology, it is possible to suppress the occurrence of defects even when repeatedly used, and to extend the service life.

また、接触子を屈曲させたので、被検査体の電極へ接点が接触した際に接触子が良好に弾性変形することとなる。これにより、被検査体の電極に対して接触子を安定した接触性を確保しつつ接触させることができ、電極に接触痕を残すような不具合をなくし、電極の損傷を極力防ぐことができる。したがって、検査工程後における被検査体の歩留まりを向上させることができ、被検査体の製造コストを削減することができる。   Further, since the contact is bent, the contact is favorably elastically deformed when the contact contacts the electrode of the object to be inspected. As a result, the contact can be brought into contact with the electrode of the object to be inspected while ensuring a stable contact, eliminating the problem of leaving a contact mark on the electrode and preventing the electrode from being damaged as much as possible. Therefore, the yield of the inspection object after the inspection process can be improved, and the manufacturing cost of the inspection object can be reduced.

しかも、被検査体に対して垂直方向から近接して検査を行うことができるので、高価な位置決め装置を用いずに、検査用プローブの接触子と被検査体の電極との位置決めの容易化を図ることができる。また、被検査体に対して垂直方向から近接して検査を行うので、電極が被検査体の表面よりも内側に凹んだ箇所に配置されているような段付き形状であっても、接触子の接点を電極へ接触させて容易に検査することができる。   In addition, since the inspection can be performed close to the object to be inspected from the vertical direction, it is easy to position the contact of the inspection probe and the electrode of the object to be inspected without using an expensive positioning device. Can be planned. Further, since the inspection is performed close to the object to be inspected from the vertical direction, even if the electrode has a stepped shape such that it is disposed at a position recessed inward from the surface of the object to be inspected, the contactor Can be easily inspected by bringing the contact points into contact with the electrodes.

本発明に係る検査用治具の一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view showing one embodiment of the inspection jig concerning the present invention. 本発明に係る検査用治具の一実施形態を示す図であって、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は正面図、(d)は背面図、(e)は裏面図である。It is a figure which shows one Embodiment of the jig | tool for an inspection which concerns on this invention, Comprising: (a) is a top view, (b) is a side view, (c) is a front view, (d) is a rear view, (e) Is a back view. 検査用治具の構成を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the structure of the jig | tool for an inspection. 検査用治具に設けられた検査用プローブの平面図である。It is a top view of the inspection probe provided in the inspection jig. 被検査体へ接触される検査用プローブの接触子の先端における側面図である。It is a side view in the front-end | tip of the contact of the probe for a test | inspection contacted to a to-be-inspected object. 被検査体への検査用プローブの接触子の接触の仕方を示す図であって、(a)及び(b)は、それぞれ接触子の先端における側面図である。It is a figure which shows the contact method of the contact of the probe for a test | inspection to a to-be-inspected object, Comprising: (a) And (b) is a side view in the front-end | tip of a contactor, respectively. 検査用治具の他の実施形態に係る斜視図である。It is a perspective view which concerns on other embodiment of the jig | tool for an inspection. 検査用治具の他の実施形態を示す図であって、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は正面図、(d)は裏面図である。It is a figure which shows other embodiment of the jig | tool for a test | inspection, Comprising: (a) is a top view, (b) is a side view, (c) is a front view, (d) is a back view. 検査用プローブの製造工程の一例を示す図であって、(a)から(i)は、それぞれ製造途中の検査用プローブの断面図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing process of a test probe, Comprising: (a)-(i) is sectional drawing of the test probe in the middle of manufacture, respectively.

以下、本発明に係る検査用治具の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
図1に示すように、本実施形態に係る検査用治具11は、プローブブロック12を備えており、被検査体21の上方に配置される。この検査用治具11は、プローブブロック12が検査装置のベース板15に固定されて用いられる。被検査体21は、ステージである被検査体ブロック13の上面に保持されている。被検査体ブロック13は、プローブブロック12に対して上下に接離されるようになっている。そして、被検査体21を検査する際に、被検査体ブロック13が上昇してプローブブロック12に近接される。なお、検査用治具11と被検査体ブロック13とは別体であり、検査用治具11としては被検査体ブロック13を有していなくてもよい。
Hereinafter, an example of an embodiment of an inspection jig according to the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIG. 1, the inspection jig 11 according to the present embodiment includes a probe block 12 and is disposed above the object to be inspected 21. The inspection jig 11 is used with a probe block 12 fixed to a base plate 15 of an inspection apparatus. The inspection object 21 is held on the upper surface of the inspection object block 13 which is a stage. The inspected object block 13 is vertically contacted and separated from the probe block 12. When the inspection object 21 is inspected, the inspection object block 13 rises and approaches the probe block 12. The inspection jig 11 and the inspection object block 13 are separate bodies, and the inspection object block 13 may not include the inspection object block 13.

この検査用治具11は、高密度配線基板、段付き配線基板、電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどの被検査体21の通電試験を行う際に用いられるものであり、例えば、検査装置へ組み込まれて用いられる。被検査体21となる表示デバイスとしては、例えば、フラットパネルディスプレイ(FPD)や有機ELディスプレイなどがある。   This inspection jig 11 is used when conducting an energization test of an inspected object 21 such as a high-density wiring board, a stepped wiring board, an electronic device, a semiconductor device, or a display device. Incorporated and used. Examples of the display device to be inspected 21 include a flat panel display (FPD) and an organic EL display.

図2及び図3に示すように、プローブブロック12は、被検査体ブロック13側へ突出する支持ブロック部23を有しており、この支持ブロック部23の一側部に、固定ブロック24が固定されている。支持ブロック部23には、位置決めピン25及びネジ孔26が形成されている。また、固定ブロック24には、位置決めピン25が挿し込まれる位置決め孔27及びボルト28が挿通されるボルト挿通孔29が形成されている。そして、固定ブロック24は、その位置決め孔27に支持ブロック部23の位置決めピン25を挿通させ、ボルト挿通孔29に挿通させたボルト28を支持ブロック部23のネジ孔26へねじ込むことにより、支持ブロック部23に位置決めされて固定される。   As shown in FIGS. 2 and 3, the probe block 12 has a support block 23 that protrudes toward the object block 13, and a fixed block 24 is fixed to one side of the support block 23. Has been. A positioning pin 25 and a screw hole 26 are formed in the support block portion 23. Further, the fixing block 24 is formed with a positioning hole 27 into which the positioning pin 25 is inserted and a bolt insertion hole 29 into which the bolt 28 is inserted. The fixing block 24 is inserted into the positioning hole 27 through the positioning pin 25 of the support block portion 23, and the bolt 28 inserted into the bolt insertion hole 29 is screwed into the screw hole 26 of the support block portion 23. It is positioned and fixed to the portion 23.

支持ブロック部23に固定される固定ブロック24は、プローブ取付部30を有しており、このプローブ取付部30の両側面に、検査用プローブ31が固定されている。なお、固定ブロック24のプローブ取付部30への検査用プローブ31の固定の仕方としては、接着固定、ネジ止め固定あるいはクランプなどが好ましい。   The fixed block 24 fixed to the support block portion 23 has a probe mounting portion 30, and inspection probes 31 are fixed to both side surfaces of the probe mounting portion 30. As a method of fixing the inspection probe 31 to the probe mounting portion 30 of the fixing block 24, adhesive fixing, screwing fixing, clamping, or the like is preferable.

図4に示すように、検査用プローブ31は、絶縁性材料からなる基板32と、この基板32の縁部から外に延在して並列に配置された複数の接触子33とを有しており、接触子33は、その先端部が接点35とされている。この接触子33は、導電性材料からなり、その基端側が基板32上に配置されている。また、基板32には、接触子33と繋がって導通する配線パターン34が形成されている。   As shown in FIG. 4, the inspection probe 31 includes a substrate 32 made of an insulating material, and a plurality of contacts 33 that extend outward from the edge of the substrate 32 and are arranged in parallel. The tip of the contactor 33 is a contact 35. The contact 33 is made of a conductive material, and the base end side thereof is disposed on the substrate 32. In addition, a wiring pattern 34 is formed on the substrate 32 so as to be connected to the contact 33 to be conductive.

それぞれの検査用プローブ31の配線パターン34は、接触子33の延出方向に沿う垂直部34aと、接触子33の延出方向に対して直交方向に沿う水平部34bとを有している。各垂直部34aは、狭ピッチとされている接触子33と略同一ピッチに配置されており、水平部34bは、接触子33のピッチよりも大きなピッチに拡大されて配置されている。このように、接触子33と繋げられているために狭ピッチとされた垂直部34aに対して配線51が接続される水平部34bのピッチを変換して拡大することで、配線51を容易に接続することができる。   The wiring pattern 34 of each inspection probe 31 has a vertical portion 34 a along the extending direction of the contact 33 and a horizontal portion 34 b along the direction orthogonal to the extending direction of the contact 33. Each vertical portion 34 a is arranged at substantially the same pitch as the contact 33 having a narrow pitch, and the horizontal portion 34 b is arranged to be enlarged to a pitch larger than the pitch of the contact 33. Thus, the wiring 51 can be easily formed by converting and enlarging the pitch of the horizontal portion 34b to which the wiring 51 is connected to the vertical portion 34a having a narrow pitch because it is connected to the contact 33. Can be connected.

この検査用プローブ31は、基板32上にフォトリソグラフィー等の微小電気機械システム技術であるMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いて配線パターン34と微細な接点35となる接触子33とを一括形成したものである。   The probe 31 for inspection collectively forms a wiring pattern 34 and a contactor 33 to be a fine contact 35 on a substrate 32 by using a micro electro mechanical systems (MEMS) technique which is a micro electro mechanical system technique such as photolithography. It is a thing.

図5に示すように、検査用プローブ31は、基板32が被検査体ブロック13に保持される被検査体21に対して垂直に配置されており、接触子33は、基板32の下縁から被検査体21側へ延在されている。   As shown in FIG. 5, the inspection probe 31 is arranged perpendicular to the inspection object 21 in which the substrate 32 is held by the inspection object block 13, and the contact 33 is formed from the lower edge of the substrate 32. It extends to the inspected object 21 side.

また、それぞれの検査用プローブ31は、接触子33の先端近傍部分が基板32側へ屈曲されている。これにより、接触子33は、屈曲部36を境に、基板32に沿って延在する基端側部33aと、屈曲部36から所定角度に傾斜されて延在する先端側部33bとを有している。   Further, in each inspection probe 31, the vicinity of the tip of the contact 33 is bent toward the substrate 32. Thus, the contactor 33 has a proximal end side portion 33a extending along the substrate 32 with the bent portion 36 as a boundary, and a distal end side portion 33b extending inclined from the bent portion 36 at a predetermined angle. doing.

この接触子33の先端近傍部分を屈曲させるには、例えば、プレス加工などの機械的な曲げ加工を施すことが好ましく、このような機械的な曲げ加工によれば、低コストで様々な角度に接触子33を屈曲させることができる。   In order to bend the vicinity of the tip of the contactor 33, for example, it is preferable to perform mechanical bending such as press working. According to such mechanical bending, various angles can be obtained at low cost. The contact 33 can be bent.

上記の検査用プローブ31が固定された固定ブロック24のプローブ取付部30には、各検査用プローブ31同士の間における接触子33の配列の間に、被検査体ブロック13側へ突出するストッパー50が形成されている。このストッパー50は、各検査用プローブ31の接触子33よりも僅かに被検査体ブロック13側へ突出されている。   The probe mounting portion 30 of the fixed block 24 to which the inspection probe 31 is fixed is provided with a stopper 50 that protrudes toward the inspection object block 13 during the arrangement of the contacts 33 between the inspection probes 31. Is formed. The stopper 50 protrudes slightly toward the inspected object block 13 from the contact 33 of each inspection probe 31.

検査用プローブ31は、配線パターン34の水平部34bの端部に、半田付け等によって配線51が導通接続されている。これらの配線51は、プローブブロック12の上面を通して後方側へ導かれ、配線コネクタ52に接続されている。この配線コネクタ52は、検査装置に設けられた相手方のコネクタ(図示省略)に接続され、検査用プローブ31からの信号が検査装置へ導かれる。   In the inspection probe 31, the wiring 51 is conductively connected to the end of the horizontal portion 34 b of the wiring pattern 34 by soldering or the like. These wires 51 are guided to the rear side through the upper surface of the probe block 12 and connected to the wire connector 52. The wiring connector 52 is connected to a counterpart connector (not shown) provided in the inspection apparatus, and a signal from the inspection probe 31 is guided to the inspection apparatus.

プローブブロック12には、固定ブロック24の上方へ張り出す支持部60を有しており、この支持部60の下面に、固定ブロック24の上端部が当接されている。   The probe block 12 has a support portion 60 that projects upward from the fixed block 24, and the upper end portion of the fixed block 24 is in contact with the lower surface of the support portion 60.

また、プローブブロック12は、位置決め孔61を有しており、これらの位置決め孔61に、ベース板15に形成された位置決めピン62が挿し込まれてベース板15に位置決めされる。また、プローブブロック12は、ボルト挿通孔63を有しており、これらのボルト挿通孔63へ挿し込んだボルト64をベース板15のネジ孔65へねじ込むことにより、ベース板15に固定される。
また、ベース板15には、切欠き部67が形成されており、この切欠き部67に、プローブブロック12の支持ブロック部23及び固定ブロック24が配置されている。
Further, the probe block 12 has positioning holes 61, and positioning pins 62 formed on the base plate 15 are inserted into these positioning holes 61 to be positioned on the base plate 15. The probe block 12 has bolt insertion holes 63, and the bolts 64 inserted into these bolt insertion holes 63 are fixed to the base plate 15 by screwing them into the screw holes 65 of the base plate 15.
The base plate 15 is formed with a notch 67, and the support block 23 and the fixed block 24 of the probe block 12 are disposed in the notch 67.

次に、上記構成の検査用治具11で、高密度配線基板、段付き配線基板、電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどの被検査体21を検査する場合について説明する。
被検査体ブロック13に被検査体21を保持させた状態で、被検査体ブロック13を上昇させ、プローブブロック12に被検査体ブロック13を近接させる。
すると、図6(a)に示すように、被検査体21の電極22に対して検査用プローブ31の接触子33の接点35が接触する。
Next, a case where the inspection object 21 such as a high-density wiring board, a stepped wiring board, an electronic device, a semiconductor device, or a display device is inspected with the inspection jig 11 having the above configuration will be described.
In a state where the inspection object block 21 holds the inspection object 21, the inspection object block 13 is raised, and the inspection object block 13 is brought close to the probe block 12.
Then, as shown in FIG. 6A, the contact point 35 of the contact 33 of the inspection probe 31 comes into contact with the electrode 22 of the inspection object 21.

この状態から、さらにプローブブロック12に被検査体ブロック13を近接させると、図6(b)に示すように、被検査体21の電極22に接触子33の接点35が押し付けられる。これにより、接触子33は、被検査体21の電極22に押し付けられることにより先端側部33bが弾性変形し、この接触子33の弾性力によって接点35が被検査体21の電極22に押圧され、電極22と接触子33とが導通接触される。   When the inspection object block 13 is further brought closer to the probe block 12 from this state, the contact point 35 of the contact 33 is pressed against the electrode 22 of the inspection object 21 as shown in FIG. As a result, the contact 33 is pressed against the electrode 22 of the device under test 21, whereby the tip side portion 33 b is elastically deformed, and the contact point 35 is pressed against the electrode 22 of the device under test 21 by the elastic force of the contact 33. The electrode 22 and the contact 33 are brought into conductive contact.

また、プローブブロック12の固定ブロック24に形成されたストッパー50の下端が、被検査体21に当接し、この時点で被検査体21の電極22への接触子33の押圧が規制される。   Further, the lower end of the stopper 50 formed on the fixed block 24 of the probe block 12 comes into contact with the object to be inspected 21, and at this time, the pressing of the contactor 33 to the electrode 22 of the object to be inspected 21 is restricted.

したがって、この状態からプローブブロック12に被検査体ブロック13がさらに近接されても、被検査体21に固定ブロック24のストッパー50が当接されて被検査体21の電極22への接触子33の押圧が規制されて接触子33の変位が停止されるので、接触子33への過負荷を防止することができる。これにより、接触子33への過負荷の防止による接触子33の負担を低減させることができる。   Therefore, even if the inspection object block 13 is further brought closer to the probe block 12 from this state, the stopper 50 of the fixed block 24 is brought into contact with the inspection object 21 and the contactor 33 to the electrode 22 of the inspection object 21 is Since the pressing is restricted and the displacement of the contactor 33 is stopped, an overload to the contactor 33 can be prevented. Thereby, the burden of the contactor 33 by prevention of the overload to the contactor 33 can be reduced.

そして、上記のようにプローブブロック12と被検査体ブロック13とを近接させて検査用プローブ31の接触子33の接点35を被検査体21の電極22に接触させた状態で、被検査体21の検査を良好に行うことができる。   Then, in the state where the probe block 12 and the inspection object block 13 are brought close to each other and the contact 35 of the contact 33 of the inspection probe 31 is brought into contact with the electrode 22 of the inspection object 21 as described above, the inspection object 21. Can be satisfactorily performed.

このように、上記実施形態に係る検査用治具によれば、被検査体21の電極22に接触される導電性を有する複数の接触子33がMEMS技術によって基板32に形成された検査用プローブ31を備えるので、被検査体21が微細化及び高集積化された電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどであっても良好に対応して確実に検査することができる。また、MEMS技術で作製された耐久性の高い検査用プローブ31を用いることで、繰り返し使用しても不具合の発生を抑えることができ、長寿命化を図ることができる。   Thus, according to the inspection jig according to the above-described embodiment, the inspection probe in which the plurality of conductive contacts 33 that are in contact with the electrode 22 of the object to be inspected 21 are formed on the substrate 32 by the MEMS technique. Therefore, even if the device under test 21 is a miniaturized and highly integrated electronic device, semiconductor device, display device, or the like, it can be inspected with good response. Further, by using the highly durable inspection probe 31 manufactured by the MEMS technology, it is possible to suppress the occurrence of defects even when repeatedly used, and to extend the life.

また、接触子33を屈曲させたので、被検査体21の電極22へ接点35が接触した際に接触子33が良好に弾性変形することとなる。これにより、被検査体21の電極22に対して接触子33を安定した接触性を確保しつつ接触させることができ、電極22に接触痕を残すような不具合をなくし、電極22の損傷を極力防ぐことができる。したがって、検査工程後における被検査体21の歩留まりを向上させることができ、被検査体21の製造コストを削減することができる。   Further, since the contact 33 is bent, the contact 33 is elastically deformed satisfactorily when the contact point 35 contacts the electrode 22 of the device under test 21. As a result, the contact 33 can be brought into contact with the electrode 22 of the object to be inspected 21 while ensuring stable contact, eliminating the problem of leaving a contact mark on the electrode 22, and damaging the electrode 22 as much as possible. Can be prevented. Therefore, the yield of the inspection object 21 after the inspection process can be improved, and the manufacturing cost of the inspection object 21 can be reduced.

しかも、被検査体21に対して垂直方向から近接して検査を行うことができるので、高価な位置決め装置を用いずに、検査用プローブ31の接触子33と被検査体21の電極22との位置決めの容易化を図ることができ、位置決めにかかる作業工数を大幅(約1/10程度)に低減させることができる。また、被検査体21に対して垂直方向から近接して検査を行うので、電極22が被検査体21の表面よりも内側に凹んだ箇所に配置されているような段付き形状であっても、接触子33の接点35を電極22へ接触させて容易に検査することができる。   In addition, since the inspection can be performed close to the inspection object 21 from the vertical direction, the contact 33 of the inspection probe 31 and the electrode 22 of the inspection object 21 can be connected without using an expensive positioning device. Positioning can be facilitated, and the number of work steps for positioning can be greatly reduced (about 1/10). Further, since the inspection is performed close to the inspected object 21 from the vertical direction, even if the stepped shape is such that the electrode 22 is disposed at a position recessed inward from the surface of the inspected object 21. The contact 35 of the contactor 33 can be brought into contact with the electrode 22 for easy inspection.

次に、次に、本発明に係る検査用治具の他の形態例(変形例)について説明する。
図7及び図8に示すように、この検査用治具11Aは、スライド機構70が設けられている。
このスライド機構70は、プローブブロック12の上部に固定された支持部71を有している。この支持部71は、その上端部に、前方へ張り出す支持片72を有しており、この支持片72には、その下面に可動部73が固定されている。この可動部73は、軸方向へ伸縮可能とされている。また、この可動部73の下端部には、可動ブロック74が固定されており、この可動ブロック74に、検査用プローブ31が装着された固定ブロック24が一体的に設けられている。可動部73には、その内部にスプリング(図示省略)が収容されており、このスプリングによって可動ブロック74が下方側へ付勢されている。
Next, another embodiment (modification) of the inspection jig according to the present invention will be described.
As shown in FIGS. 7 and 8, the inspection jig 11 </ b> A is provided with a slide mechanism 70.
The slide mechanism 70 has a support portion 71 fixed to the upper portion of the probe block 12. The support portion 71 has a support piece 72 projecting forward at the upper end thereof, and a movable portion 73 is fixed to the lower surface of the support piece 72. The movable portion 73 can be expanded and contracted in the axial direction. A movable block 74 is fixed to the lower end portion of the movable portion 73, and a fixed block 24 to which the inspection probe 31 is attached is integrally provided on the movable block 74. The movable portion 73 accommodates a spring (not shown) therein, and the movable block 74 is urged downward by this spring.

上記構成の検査用治具11Aで電子デバイス、半導体デバイスあるいは表示デバイスなどの被検査体21を検査する場合も、被検査体ブロック13に被検査体21を保持させた状態で、被検査体ブロック13を上昇させ、プローブブロック12に被検査体ブロック13を近接させる。
すると、図6(a)に示すように、被検査体21の電極22に対して検査用プローブ31の接触子33の接点35が接触する。
Even when the inspection object 21 such as an electronic device, a semiconductor device, or a display device is inspected with the inspection jig 11A having the above configuration, the inspection object block is held in the state where the inspection object block 21 is held by the inspection object block 13. 13 is raised, and the inspection object block 13 is brought close to the probe block 12.
Then, as shown in FIG. 6A, the contact point 35 of the contact 33 of the inspection probe 31 comes into contact with the electrode 22 of the inspection object 21.

この状態から、さらにプローブブロック12に被検査体ブロック13を近接させると、図6(b)に示すように、被検査体21の電極22に接触子33の接点35が押し付けられる。これにより、接触子33は、被検査体21の電極22に押し付けられることにより先端側部33bが弾性変形し、この接触子33の弾性力によって接点35が被検査体21の電極22に押圧され、電極22と接触子33とが導通接触される。   When the inspection object block 13 is further brought closer to the probe block 12 from this state, the contact point 35 of the contact 33 is pressed against the electrode 22 of the inspection object 21 as shown in FIG. As a result, the contact 33 is pressed against the electrode 22 of the device under test 21, whereby the tip side portion 33 b is elastically deformed, and the contact point 35 is pressed against the electrode 22 of the device under test 21 by the elastic force of the contact 33. The electrode 22 and the contact 33 are brought into conductive contact.

また、プローブブロック12の固定ブロック24に形成されたストッパー50の下端が、被検査体21に当接し、この時点で被検査体21への検査用プローブ31の接触子33の押圧が規制される。
この状態からプローブブロック12に被検査体ブロック13がさらに近接されると、スライド機構70のスプリングが収容された可動部73が収縮する。これにより、可動ブロック74が上方へスライドして、固定ブロック24の検査用プローブ31が被検査体21とともに上方へ移動する。
Further, the lower end of the stopper 50 formed on the fixed block 24 of the probe block 12 abuts on the inspection object 21, and at this time, the pressing of the contact 33 of the inspection probe 31 against the inspection object 21 is restricted. .
When the inspection object block 13 is further brought closer to the probe block 12 from this state, the movable portion 73 in which the spring of the slide mechanism 70 is accommodated contracts. As a result, the movable block 74 slides upward, and the inspection probe 31 of the fixed block 24 moves upward together with the inspection object 21.

したがって、ストッパー50の下端が被検査体21に当接して被検査体21への検査用プローブ31の接触子33の押圧が規制され、プローブブロック12と被検査体21との近接方向の荷重が所定量となった時点からプローブブロック12に被検査体ブロック13がさらに近接されても、被検査体ブロック13の移動が可動部73で吸収されることとなる。これにより、プローブブロック12と被検査体21との近接方向の荷重が一定に維持され、接触子33への過負荷を確実に防止することができる。したがって、接触子33への過負荷の防止による接触子33の負担をさらに良好に低減させることができ、また、被検査体21への負荷によるダメージも抑えることができる。   Therefore, the lower end of the stopper 50 abuts on the inspection object 21 and the pressing of the contact 33 of the inspection probe 31 against the inspection object 21 is restricted, and the load in the proximity direction between the probe block 12 and the inspection object 21 is reduced. Even if the inspection object block 13 is further brought closer to the probe block 12 from the time when the predetermined amount is reached, the movement of the inspection object block 13 is absorbed by the movable portion 73. Thereby, the load of the proximity | contact direction of the probe block 12 and the to-be-inspected object 21 is maintained constant, and the overload to the contactor 33 can be prevented reliably. Therefore, the burden on the contact 33 due to prevention of overload on the contact 33 can be further reduced, and damage due to the load on the device under test 21 can be suppressed.

なお、スライド機構70としては、例えば、固定ブロック24に作用する荷重を検出し、その検出結果に基づいて電磁的に収縮する可動部73を備えるものでも良い。
また、上記実施形態では、プローブブロック12に対して下方側から被検査体ブロック13を近接させて検査する場合を例示して説明したが、被検査体ブロック13に対してプローブブロック12を近接させ検査しても良い。
Note that the slide mechanism 70 may include, for example, a movable portion 73 that detects a load acting on the fixed block 24 and electromagnetically contracts based on the detection result.
In the above-described embodiment, the case where the inspection object block 13 is inspected from the lower side with respect to the probe block 12 is described as an example. However, the probe block 12 is in proximity to the inspection object block 13. You may inspect.

次に、上記の検査用治具11,11Aに設けられた検査用プローブ31を製造する方法について説明する。
検査用プローブ31を製造するには、まず、図9(a)に示すように、印刷法、スピンコーティング法等によって所望の厚さ(例えば、0.1ミクロン〜5.0ミクロン)になるように基板32上にフォトレジスト43を塗布する。その後、溶媒分除去のためにプリベーク処理を行い、露光及び現像を行う。ポストベークが必要な場合は、適正な条件で実施する。
Next, a method for manufacturing the inspection probe 31 provided in the inspection jigs 11 and 11A will be described.
To manufacture the inspection probe 31, first, as shown in FIG. 9A, a desired thickness (for example, 0.1 to 5.0 microns) is obtained by a printing method, a spin coating method, or the like. A photoresist 43 is applied on the substrate 32. Thereafter, pre-bake processing is performed to remove the solvent, and exposure and development are performed. If post-baking is necessary, carry out under appropriate conditions.

図9(b)に示すように、基板32上に金属膜からなる犠牲層44を所望の材質と厚さで形成する。例えば、TiとCuからなる犠牲層34を、Ti/Cu=(100Å〜500Å)/(100Å〜5000Å)でスパッタリング法により加工する。
次に、図9(c)に示すように、不要なフォトレジスト43と犠牲層44を、例えば、リフトオフ法によって除去する。
As shown in FIG. 9B, a sacrificial layer 44 made of a metal film is formed on the substrate 32 with a desired material and thickness. For example, the sacrificial layer 34 made of Ti and Cu is processed by sputtering using Ti / Cu = (100 to 500%) / (100 to 5000%).
Next, as shown in FIG. 9C, the unnecessary photoresist 43 and sacrificial layer 44 are removed by, for example, a lift-off method.

図9(d)に示すように、基板32上に、メッキ給電層となる所望の材料のシード層45を所望の厚さが得られるように形成する。例えば、TiとNi合金からなるシード層45を、Ti/Ni合金=(100Å〜2000Å)/(500Å〜5000Å)でスパッタリング法により形成する。   As shown in FIG. 9D, a seed layer 45 of a desired material to be a plating power feeding layer is formed on the substrate 32 so as to obtain a desired thickness. For example, the seed layer 45 made of Ti and Ni alloy is formed by sputtering using Ti / Ni alloy = (100 to 2000%) / (500 to 5000%).

印刷法、スピンコーティング法等によって、接触子33及び配線パターン34を形成するためのフォトレジスト46を所望の厚さ(例えば、10ミクロン〜50ミクロン)になるように塗布し、その後、溶媒分除去のためプリベーク処理を行い、露光及び現像を行う。フォトレジスト46として化学増幅型のレジストを用いる場合、反応促進のため、露光後に加熱処理(Post Exposure Bake)を適正条件で実施した後に現像処理を行う。   A photoresist 46 for forming the contactor 33 and the wiring pattern 34 is applied by a printing method, a spin coating method or the like so as to have a desired thickness (for example, 10 to 50 microns), and then the solvent is removed. Therefore, pre-baking is performed, and exposure and development are performed. When a chemically amplified resist is used as the photoresist 46, a post-exposure heat treatment (Post Exposure Bake) is performed after exposure under appropriate conditions to promote the reaction.

図9(e)に示すように、メッキ処理を施すことにより配線層48を形成する。配線層48は、例えば、Ni合金(NiCo,NiMn,NiFe,NiPd等)から形成し、所望のばね性能が確保できる厚さに形成する。
配線層48の形成後、図9(f)に示すように、フォトレジスト46の除去及びシード層45の除去を行う。
ここで、基板32が最終の所望厚より厚い寸法である場合、基板32の裏面に研削加工や研磨加工を施し、基板32の厚さを所望の厚さまで薄化加工する。
As shown in FIG. 9E, the wiring layer 48 is formed by performing a plating process. The wiring layer 48 is formed from, for example, a Ni alloy (NiCo, NiMn, NiFe, NiPd, etc.) and formed to a thickness that can ensure a desired spring performance.
After the formation of the wiring layer 48, the photoresist 46 and the seed layer 45 are removed as shown in FIG.
Here, when the substrate 32 is thicker than the final desired thickness, the back surface of the substrate 32 is ground or polished to reduce the thickness of the substrate 32 to a desired thickness.

次に、図9(g)に示すように、ダイシング加工によって個片外形カットを行って個々の検査用プローブ31とし、基板32の裏面に溝47を形成する。このとき、基板32を加熱発泡タイプの接着シートでガラス基板に貼り付ける。加工完了後ガラス基板から剥離するときは、接着シートを加熱発泡させて個片化させたチップをテープから取り出す。   Next, as shown in FIG. 9G, the individual outer shape is cut by dicing to form individual inspection probes 31, and grooves 47 are formed on the back surface of the substrate 32. At this time, the board | substrate 32 is affixed on a glass substrate with a heating foam type adhesive sheet. When peeling from the glass substrate after the processing is completed, the chip that is made by heating and foaming the adhesive sheet and taking it into pieces is taken out from the tape.

その後、図9(h)に示すように、選択エッチングによって犠牲層44を除去する。この選択エッチングでは、例えば、銅(Cu)除去用液に一定時間浸漬して銅(Cu)成分を除去した後、チタニウム(Ti)除去のためアンモニウム過水に浸漬してチタニウム(Ti)成分を除去する。
その後、図9(i)に示すように、基板32を溝47の箇所で切断し、犠牲層44を除去した部分における基板32を除去する。
最後に、接触子33の先端近傍部分にプレス加工などの機械的な曲げ加工を施すことにより、接触子33を基板32側へ屈曲させる。
Thereafter, as shown in FIG. 9H, the sacrificial layer 44 is removed by selective etching. In this selective etching, for example, the copper (Cu) component is removed by immersing in a copper (Cu) removal solution for a certain period of time, and then immersed in ammonium perhydration to remove the titanium (Ti), thereby removing the titanium (Ti) component. Remove.
Thereafter, as shown in FIG. 9I, the substrate 32 is cut at the position of the groove 47, and the substrate 32 in the portion where the sacrificial layer 44 is removed is removed.
Finally, the contactor 33 is bent toward the substrate 32 by performing a mechanical bending process such as a press process on the vicinity of the tip of the contactor 33.

上記のように、MEMS技術を用いた製造プロセスを行うことにより、接触子33が形成された検査用プローブ31を短いリードタイムで製造することができ、検査用プローブ31の製造コストを大幅に低減させることができる。   As described above, by performing the manufacturing process using the MEMS technology, the inspection probe 31 on which the contactor 33 is formed can be manufactured in a short lead time, and the manufacturing cost of the inspection probe 31 is greatly reduced. Can be made.

11,11A:検査用治具、12:プローブブロック、13:被検査体ブロック、21:被検査体、22:電極、31:検査用プローブ、32:基板、33:接触子、35:接点、50:ストッパー、70:スライド機構 11, 11A: Inspection jig, 12: Probe block, 13: Inspection object block, 21: Inspection object, 22: Electrode, 31: Inspection probe, 32: Substrate, 33: Contact, 35: Contact, 50: Stopper, 70: Slide mechanism

Claims (3)

複数の電極を有する被検査体の検査を行う検査用治具であって、
前記被検査体の前記電極に接触される導電性を有する複数の接触子が微小電気機械システム技術によって基板に形成された検査用プローブと、前記検査用プローブを支持するプローブブロックとを備え、
前記被検査体に対して前記検査用プローブが垂直に配置され、前記検査用プローブの前記接触子の先端側が前記基板の表面に対して所定角度で屈曲され、
前記プローブブロックと前記被検査体とが近接されることにより、前記被検査体に対して垂直方向から近接されて前記接触子の先端からなる接点が前記被検査体の電極に接触されることを特徴とする検査用治具。
An inspection jig for inspecting an object to be inspected having a plurality of electrodes,
A plurality of contacts having conductivity to be brought into contact with the electrodes of the object to be inspected, comprising a probe for inspection formed on a substrate by a microelectromechanical system technology, and a probe block that supports the probe for inspection;
The inspection probe is disposed perpendicular to the object to be inspected, and the tip end side of the contact of the inspection probe is bent at a predetermined angle with respect to the surface of the substrate;
When the probe block and the object to be inspected are brought close to each other, the contact made of the tip of the contact is brought into contact with the electrode of the object to be inspected by being brought close to the object to be inspected from the vertical direction. Characteristic inspection jig.
請求項1に記載の検査用治具であって、
前記プローブブロックは、前記被検査体との近接時に、前記被検査体の前記電極に前記接触子が接触した時点からの近接方向への変位量を一定量に規制するストッパーが設けられていることを特徴とする検査用治具。
The inspection jig according to claim 1,
The probe block is provided with a stopper for restricting the amount of displacement in the proximity direction from the point of contact of the contact to the electrode of the object to be inspected when the probe block is in proximity to the object to be inspected. Inspection jig characterized by
請求項2に記載の検査用治具であって、
前記プローブブロックと前記被検査体との近接方向への荷重が所定量となった時点で、前記プローブブロックをスライドさせて前記プローブブロックと前記被検査体との近接方向への荷重を一定にするスライド機構を備えることを特徴とする検査用治具。
The inspection jig according to claim 2,
When the load in the proximity direction between the probe block and the object to be inspected reaches a predetermined amount, the probe block is slid to make the load in the proximity direction between the probe block and the object to be inspected constant. An inspection jig comprising a slide mechanism.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180042672A (en) * 2016-10-18 2018-04-26 삼성전기주식회사 Probe installaition system, probe unit and test apparatus for electirical characteristics
KR20180042669A (en) * 2016-10-18 2018-04-26 삼성전기주식회사 Unit for measuring electrical characteristics
KR20200133660A (en) * 2019-05-20 2020-11-30 니혼 고꾸 덴시 고교 가부시끼가이샤 Connector inspection apparatus and connector module
CN113960373A (en) * 2020-07-20 2022-01-21 川升股份有限公司 Antenna radiation pattern measuring system

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180042672A (en) * 2016-10-18 2018-04-26 삼성전기주식회사 Probe installaition system, probe unit and test apparatus for electirical characteristics
KR20180042669A (en) * 2016-10-18 2018-04-26 삼성전기주식회사 Unit for measuring electrical characteristics
KR102653197B1 (en) 2016-10-18 2024-04-01 삼성전기주식회사 Probe installaition system, probe unit and test apparatus for electirical characteristics
KR102653198B1 (en) 2016-10-18 2024-04-01 삼성전기주식회사 Unit for measuring electrical characteristics
KR20200133660A (en) * 2019-05-20 2020-11-30 니혼 고꾸 덴시 고교 가부시끼가이샤 Connector inspection apparatus and connector module
KR102243996B1 (en) 2019-05-20 2021-04-26 니혼 고꾸 덴시 고교 가부시끼가이샤 Connector inspection apparatus and connector module
CN113960373A (en) * 2020-07-20 2022-01-21 川升股份有限公司 Antenna radiation pattern measuring system

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