JP2013071337A - Printing device and method of producing organic functional element - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing device having a means for removing foreign matters which may cause uneven brightness of pixels, short circuit and a lighting failure when an organic functional layer is printed, and a method of producing an organic functional element by using the printing device.SOLUTION: The printing device for printing minute patterns on a printed substrate includes: a first rotating plate cylinder 201 having a relief printing plate 202; a first foreign matter removal plate 302 installed on the first rotating plate cylinder 201 to remove foreign matters on a printed substrate surface 207; a second rotating plate cylinder 401 which is installed opposite the first rotating plate cylinder 201 having the relief printing plate 202 and has a second foreign matter removal plate 402 for removing foreign matters on the surface of the relief printing plate 202; a first cleaning chamber 303 for cleaning the relief printing plate 202 and the first foreign matter removal plate 302; and a second cleaning chamber 304 for cleaning the second foreign matter removal plate 402.

Description

本発明は、溶剤に溶解しているインキを被印刷基板上に印刷することにより高精細なパターンを形成するための印刷装置、及びその印刷装置を使用して有機機能素子を製造する方法に関する。   The present invention relates to a printing apparatus for forming a high-definition pattern by printing ink dissolved in a solvent on a substrate to be printed, and a method for producing an organic functional element using the printing apparatus.

近年、携帯電話、タブレット型PC、モバイルPC、車載用ナビゲーションシステム等における表示素子として、薄型、低電力、高輝度表示などの特徴を備える有機EL素子や、有機EL素子の駆動に使用される有機TFTが注目されている。   In recent years, as a display element in a mobile phone, a tablet PC, a mobile PC, an in-vehicle navigation system, etc., an organic EL element having features such as thinness, low power, high luminance display, and organic used for driving an organic EL element TFT is attracting attention.

有機EL素子は、二つの対向する電極の間に正孔輸送材料からなる正孔輸送層及び、有機発光材料からなる有機発光層が形成される。ここではこれらの層を合わせて有機発光媒体層と呼ぶことにするが、有機EL素子はこれらの有機発光媒体層に電流を流すことで発光させるものである。効率よく発光させるには有機発光媒体層の膜厚が重要であり、100nm程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイパネル化するには高精細にパターニングする必要がある。   In the organic EL element, a hole transport layer made of a hole transport material and an organic light emitting layer made of an organic light emitting material are formed between two opposing electrodes. Here, these layers are collectively referred to as an organic light emitting medium layer. However, the organic EL element emits light by passing a current through these organic light emitting medium layers. In order to emit light efficiently, the thickness of the organic light emitting medium layer is important, and it is necessary to form a thin film of about 100 nm. Furthermore, in order to make this a display panel, it is necessary to pattern it with high definition.

有機発光媒体層を形成する正孔輸送材料及び有機発光材料には、低分子材料と高分子材料が有り、一般に低分子材料は真空蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化するほどパターニング精度が出にくい、真空中で成膜するためにスループットが悪いという問題がある。   The hole transport material and the organic light emitting material for forming the organic light emitting medium layer include a low molecular material and a high molecular material. In general, a low molecular material is formed into a thin film by a vacuum deposition method or the like. Although this method is used for patterning, there is a problem that the patterning accuracy is less likely to be obtained as the substrate becomes larger, and the throughput is poor because the film is formed in a vacuum.

そこで、最近では高分子材料を溶剤に溶かして塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。高分子材料の塗液を用いてウェットコーティング法で有機発光層を含む有機発光媒体層を形成する場合の層構成は、陽極側から正孔輸送層、有機発光層と積層する二層構成が一般的である。このとき、有機発光層はカラーパネル化するために赤(R)、緑(G)、青(B)のそれぞれの発光色をもつ有機発光材料を溶剤中に溶解または安定して分散してなる有機発光インキを用いて塗り分ける必要がある。   Therefore, recently, a method in which a polymer material is dissolved in a solvent to form a coating solution and a thin film is formed by a wet coating method has been tried. In the case of forming an organic light emitting medium layer including an organic light emitting layer by a wet coating method using a coating material of a polymer material, the layer structure is generally a two-layer structure in which a hole transport layer and an organic light emitting layer are laminated from the anode side. Is. At this time, the organic light emitting layer is formed by dissolving or stably dispersing organic light emitting materials having respective emission colors of red (R), green (G), and blue (B) in a solvent in order to form a color panel. It is necessary to paint with organic luminescent ink.

上記のウェットコーティング法として、インクジェット法や凸版印刷法がある。凸版印刷法は、インクジェット法に比べスループットが良い特徴をもっている。   Examples of the wet coating method include an inkjet method and a relief printing method. The relief printing method has a characteristic that the throughput is better than that of the ink jet method.

図1は従来から用いられている凸版印刷装置の概略を示す図である。図1に示す凸版印刷装置は、インキタンク605からインキチャンバー604にインキを供給し、次にアニロックスロール603によって版胴601の周面に装着された印刷用凸版602にインキを付け、その後定盤606を矢印606aで示す方向に移動し、定盤606に載置された被印刷板607に、印刷用凸版602に付けられたインキを転移して印刷するものである。   FIG. 1 is a diagram showing an outline of a conventionally used relief printing apparatus. The letterpress printing apparatus shown in FIG. 1 supplies ink from the ink tank 605 to the ink chamber 604, and then inks the letterpress printing plate 602 mounted on the peripheral surface of the plate cylinder 601 by the anilox roll 603, and then the surface plate The ink 606 is moved in the direction indicated by the arrow 606a, and the ink attached to the printing relief plate 602 is transferred to the printing plate 607 placed on the surface plate 606 for printing.

特開2011−65081号公報JP 2011-65081 A 特開2011−113733号公報JP 2011-113733 A

しかし、これまで印刷方式では、大気下で数回に渡り印刷を繰り返すため、真空蒸着法に比べ、異物が混入しやすく、画素の輝度ムラや、ショート、非点灯の原因となったり、版に異物が付着した場合、同一の印刷不良が生じ、印刷膜厚のバラツキによる、輝度ムラ、色度のバラツキ、ショートの原因となることから問題となっていた。この問題を解決する方法として異物を除去する方法が提案されている。例えば、特許文献1では、凸版印刷法における、印刷版にインキを転写する際のドクタリング時に発生する金属異物を、磁性のあるローラで磁気吸着することで、磁性のある金属異物の除去を行なっている。しかし、この方法では、磁性のある金属異物のみ且つ、インキ中の異物しか除去できない欠点がある。
また、別の方法として、特許文献2では、有機膜を成膜後、異物を検出し、レーザー照射により異物を除去する方法が提案されている。しかし、この方法では、有機物の除去はできるが、金属異物の除去は難しく、有機層にレーザーを照射することにより、有機層の劣化が懸念されたり、検出に時間がかかるという問題がある。
However, until now, the printing method repeats printing several times in the atmosphere, which makes it easier for foreign objects to enter compared to the vacuum deposition method, causing uneven brightness of pixels, short-circuiting, non-lighting, When foreign matter adheres, the same printing failure occurs, which causes a problem of luminance unevenness, chromaticity variation, and short circuit due to variations in the printed film thickness. As a method for solving this problem, a method for removing foreign matter has been proposed. For example, in Patent Document 1, in a relief printing method, metallic foreign matter generated during doctoring when transferring ink to a printing plate is magnetically attracted by a magnetic roller to remove the magnetic metallic foreign matter. ing. However, this method has a drawback that only magnetic metal foreign matter and only foreign matter in ink can be removed.
As another method, Patent Document 2 proposes a method of detecting a foreign substance after forming an organic film and removing the foreign substance by laser irradiation. However, this method can remove organic substances, but it is difficult to remove metallic foreign matters, and there is a problem that the organic layer is deteriorated by irradiating the organic layer with a laser, and it takes time to detect.

そこで、本発明は、有機機能層を印刷する際に、画素の輝度ムラや、ショート、非点灯の原因となる異物を除去する手段を備えた印刷装置及びその印刷装置を使用して有機機能素子を製造する方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention relates to a printing apparatus having means for removing foreign matters that cause uneven brightness of pixels, short circuits, and non-lighting when printing an organic functional layer, and an organic functional element using the printing apparatus. An object of the present invention is to provide a method of producing

上述の目的を達成するため、本発明の請求項1に係る発明は、被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷装置であって、
印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴と、
第一の回転式版胴上に設けられ、被印刷基板表面の異物を除去するための第一の異物除去版と、
印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴と対向して設けられ、印刷用凸版表面の異物を除去するための第二の異物除去版を備えた第二の回転式版胴と、
印刷用凸版と第一の異物除去版を洗浄するための第一の洗浄チャンバーと、
第二の異物除去版を洗浄する第二の洗浄チャンバーと、を備えていることを特徴とする印刷装置である。
In order to achieve the above object, an invention according to claim 1 of the present invention is a printing apparatus for printing a fine pattern on a substrate to be printed,
A first rotary plate cylinder with a relief printing plate;
A first foreign matter removing plate provided on the first rotary plate cylinder for removing foreign matter on the surface of the substrate to be printed;
A second rotary plate cylinder provided with a second rotary plate cylinder provided with a printing relief plate and provided with a second foreign material removal plate for removing foreign matter on the surface of the printing relief plate;
A first cleaning chamber for cleaning the printing relief plate and the first foreign matter removal plate;
And a second cleaning chamber for cleaning the second foreign material removal plate.

請求項2に係る発明は、前記第一の異物除去版及び第二の異物除去版は、金属異物を除去するためのマグネット層と、有機物あるいは磁性のない金属異物を除去するゴム層と、の2層以上からなることを特徴とする請求項1記載の印刷装置である。   According to a second aspect of the present invention, the first foreign matter removal plate and the second foreign matter removal plate include a magnet layer for removing metallic foreign matter and a rubber layer for removing organic foreign matter or non-magnetic metallic foreign matter. The printing apparatus according to claim 1, comprising two or more layers.

請求項3に係る発明は、前記マグネット層は、フェライト又はネオジウムのいずれかを含むラバーマグネットから成ることを特徴とする請求項2に記載の印刷装置である。   The invention according to claim 3 is the printing apparatus according to claim 2, wherein the magnet layer is made of a rubber magnet containing either ferrite or neodymium.

請求項4に係る発明は、前記ゴム層は、シリコーン系、ウレタン系、ブチル系、フッ素系のいずれかから成り、その硬度が10〜30度、粘着力が50〜500g/cmであることを特徴とする請求項2または3に記載の印刷装置である。 In the invention according to claim 4, the rubber layer is made of any one of silicone, urethane, butyl, and fluorine, and has a hardness of 10 to 30 degrees and an adhesive strength of 50 to 500 g / cm 2. The printing apparatus according to claim 2, wherein:

請求項5に係る発明は、前記第一の異物除去版及び第二の異物除去版は、第一の回転式版胴及び第二の回転式版胴に前記マグネット層の磁力で固定されていることを特徴とする請求項2から4のいずれかに記載の印刷装置である。   In the invention according to claim 5, the first foreign matter removing plate and the second foreign matter removing plate are fixed to the first rotary plate cylinder and the second rotary plate cylinder by the magnetic force of the magnet layer. The printing apparatus according to claim 2, wherein the printing apparatus is a printing apparatus.

請求項6に係る発明は、前記請求項1から5のいずれかに記載の印刷装置を用いて、第一の異物除去版で被印刷基板の異物を除去すると同時に、第二の異物除去版で印刷用凸版の異物を除去する異物除去過程と、有機機能層を印刷する成膜過程を経ることを特徴とする有機機能素子製造方法である。   The invention according to claim 6 uses the printing apparatus according to any one of claims 1 to 5 to remove foreign matter on the printed substrate with the first foreign matter removal plate and at the same time with the second foreign matter removal plate. An organic functional element manufacturing method comprising: a foreign matter removing process for removing foreign substances on a printing relief plate; and a film forming process for printing an organic functional layer.

請求項7に係る発明は、前記有機機能素子が有機EL素子であることを特徴とする請求項6に記載の有機機能素子製造方法である。   The invention according to claim 7 is the organic functional element manufacturing method according to claim 6, wherein the organic functional element is an organic EL element.

請求項8に係る発明は、前記有機機能層は一層以上からなり、複数回印刷することを特徴とする請求項6に記載の有機機能素子製造方法である。   The invention according to claim 8 is the organic functional element manufacturing method according to claim 6, wherein the organic functional layer comprises one or more layers and is printed a plurality of times.

本発明の印刷装置及び有機機能素子製造方法によれば、基板及び印刷版の有機物、金属異物にこだわらず異物を検出せずに除去できるため、短時間で簡易的に、異物による輝度ムラや色度のバラツキ及び非点灯画素の少ない有機EL素子を得ることができる効果がある。   According to the printing apparatus and the organic functional element manufacturing method of the present invention, it is possible to remove the foreign matter without detecting the foreign matter regardless of the organic matter and metal foreign matter on the substrate and the printing plate. There is an effect that an organic EL element with few variations and non-lighting pixels can be obtained.

従来の凸版印刷装置の概要を示す図。The figure which shows the outline | summary of the conventional relief printing apparatus. 本発明の実施の形態による有機ELパネルにおける有機EL素子の構造を示す断面を示す図。The figure which shows the cross section which shows the structure of the organic EL element in the organic EL panel by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態における凸版印刷装置の概要を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline | summary of the relief printing apparatus in embodiment of this invention. 本発明における凸版の版胴の断面図である。It is sectional drawing of the printing cylinder of the relief plate in this invention. 本発明における異物除去版の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the foreign material removal plate in this invention. 本発明の印刷方法を示す動作フロー図。The operation | movement flowchart which shows the printing method of this invention.

以下、本発明に係る印刷装置及び有機EL素子製造方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。尚、本発明に係る印刷装置は、以下に説明する実施の形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of a printing apparatus and an organic EL element manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings. The printing apparatus according to the present invention is not limited to the embodiment described below.

図2は本発明に係る印刷装置及び有機EL素子製造方法によって作成された有機EL素子の構造を示す断面図である。図3は本発明に係る印刷装置を有機EL素子の発光層印刷に適用した場合のフレキソ印刷装置の全体構成を示す概略図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the organic EL element produced by the printing apparatus and organic EL element manufacturing method according to the present invention. FIG. 3 is a schematic diagram showing the overall configuration of a flexographic printing apparatus when the printing apparatus according to the present invention is applied to light emitting layer printing of an organic EL element.

以下、本発明の実施の形態を、パッシブマトリックスタイプの有機EL素子に適用した例について説明する。有機EL素子の駆動方法としては、パッシブマトリックスタイプとアクティブマトリックスタイプがあるが、本発明の有機EL素子はパッシブマトリックス方式の有機EL素子、アクティブマトリックス方式の有機EL素子のどちらにも適用可能である。パッシブマトリックス方式とはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にトランジスタを形成した、いわゆる薄膜トランジスタ(TFT)基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。この有機EL素子が基板側から光を取り出すボトムエミッション方式の有機EL素子とする場合には、基板として透明なものを使用する必要があるが、基板と反対側から光を取り出すトップエミッション方式の場合は、基板は透光性を有する必要はない。   Hereinafter, an example in which the embodiment of the present invention is applied to a passive matrix type organic EL element will be described. There are a passive matrix type and an active matrix type as a driving method of the organic EL element, but the organic EL element of the present invention can be applied to both a passive matrix type organic EL element and an active matrix type organic EL element. . The passive matrix method is a method in which stripe-shaped electrodes are opposed to each other so as to be orthogonal to each other, and light is emitted at the intersection, whereas the active matrix method uses a so-called thin film transistor (TFT) substrate in which a transistor is formed for each pixel. Thus, the light is emitted independently for each pixel. When this organic EL element is a bottom emission type organic EL element that extracts light from the substrate side, it is necessary to use a transparent substrate, but in the case of the top emission type that extracts light from the opposite side of the substrate The substrate does not have to be translucent.

基板101としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻取りにより高分子EL素子の製造が可能となり、安価にディスプレイパネルを提供できる。また、その場合のプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、これらのフィルムは水蒸気バリア性、酸素バリア性を示す酸化ケイ素といった金属酸化物、窒化ケイ素といった酸化窒化物やポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物からなるバリア層が必要に応
じて設けられる。
As the substrate 101, a glass substrate or a plastic film or sheet can be used. If a plastic film is used, a polymer EL element can be produced by winding, and a display panel can be provided at a low cost. In addition, as the plastic in that case, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or the like can be used. Further, these films are barrier layers made of metal oxide such as silicon oxide showing water vapor barrier property and oxygen barrier property, oxynitride such as silicon nitride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer. Is provided as necessary.

また、基板101の上には陽極としてパターニングされた画素電極102が設けられる。画素電極102の材料としては、ITO(インジウム錫複合酸化物)、IZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。なお、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性があることなどからITOが好ましい。ITOはスパッタ法により基板上に形成されフォトリソ法によりパターニングされライン状の画素電極102となる。そして、このライン状の画素電極102を形成後、隣接する画素電極の間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィ法により隔壁103が形成される。   A pixel electrode 102 patterned as an anode is provided on the substrate 101. As the material of the pixel electrode 102, transparent electrode materials such as ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide composite oxide can be used. ITO is preferred because of its low resistance, solvent resistance, transparency, and the like. ITO is formed on the substrate by a sputtering method and patterned by a photolithography method to form a line-shaped pixel electrode 102. Then, after the line-shaped pixel electrode 102 is formed, a partition wall 103 is formed by a photolithography method using a photosensitive material between adjacent pixel electrodes.

本実施の形態における隔壁103は、厚みが0.5μmから5.0μmの範囲にあることが望ましい。また、隔壁103を隣接する画素電極102間に設けることによって、各画素電極102上に印刷された正孔輸送インキの広がりを抑え、ディスプレイ化した際に正孔輸送層104が隔壁103上にあることによるリーク電流の発生を防ぐことができる。なお、隔壁103が低すぎるとインキの広がりを防止できずに隔壁103上に正孔輸送層104が形成されることとなる。   The partition wall 103 in this embodiment preferably has a thickness in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. Further, by providing the partition wall 103 between the adjacent pixel electrodes 102, the spread of the hole transport ink printed on each pixel electrode 102 is suppressed, and the hole transport layer 104 is on the partition wall 103 when the display is made. It is possible to prevent the occurrence of leak current. If the partition wall 103 is too low, ink spreading cannot be prevented and the hole transport layer 104 is formed on the partition wall 103.

また、例えばパッシブマトリックスタイプの有機EL素子において、画素電極の間に隔壁を設けた場合、隔壁を直行して陰極層を形成することになる。このように隔壁をまたぐ形で陰極層を形成する場合、絶縁層が高すぎると陰極層の断線が起こってしまい表示不良となる。絶縁層の高さが5.0μmを超えると陰極の断線が起きやすくなってしまう。   Further, for example, in a passive matrix type organic EL element, when a partition is provided between pixel electrodes, the cathode layer is formed by directing the partition. When the cathode layer is formed in such a manner as to straddle the partition wall, if the insulating layer is too high, the cathode layer is disconnected, resulting in a display defect. When the height of the insulating layer exceeds 5.0 μm, disconnection of the cathode tends to occur.

また、隔壁103を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。なお、隔壁が十分な絶縁性を有さない場合には隔壁を通じて隣り合う画素電極102に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といったものが挙げられるが、これに限定するものではない。また、有機EL素子の表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。   The photosensitive material for forming the partition wall 103 may be either a positive type resist or a negative type resist, and may be a commercially available one, but it must have insulating properties. Note that if the partition does not have sufficient insulating properties, current flows through the partition to the adjacent pixel electrode 102, resulting in display failure. Specific examples thereof include polyimide, acrylic resin, novolac resin, and fluorene, but are not limited thereto. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL element, a light shielding material may be included in the photosensitive material.

また、隔壁103を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の塗布方法を用いて塗布され、フォトリソ法によりパターニングされる。また、感光性樹脂を用いずにグラビアオフセット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法等を用いて隔壁を形成してもよい。   The photosensitive resin forming the partition wall 103 is applied using a coating method such as a spin coater, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a gravure coater, and is patterned by a photolithography method. Alternatively, the partition walls may be formed using a gravure offset printing method, a reverse printing method, a flexographic printing method, or the like without using a photosensitive resin.

以上のようにして隔壁103を形成した後、次に正孔輸送層104を形成する。正孔輸送層104を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4―エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)等が挙げられる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させ、正孔輸送材料インキとなり、本実施の形態による印刷方法装置を用いて形成される。その場合、選択される正孔輸送材料は、発光材料との相性が重要で、前記正孔輸送材料は、発光材料とのイオン化ポテンシャル(IP)の差が0.2eV以下であることが重要である。なお、形成される正孔輸送層の体積抵抗率は発光効率の点から1×10Ω・cm以下のものが好ましい。また、正孔輸送材料として無機材料を用いる場合、無機材料としては、Cu O、Cr 、Mn 、FeO3、NiO、CoO、Pr
、Ag O、MoO 、Bi 、ZnO、TiO 、SnO 、ThO 、V 、Nb 、Ta 、MoO 、WO 、MnO などの無機材料を、蒸着法又は、スパッタリング法を用いて形成される。ただし材料はこれらに限定されるものではない。
After forming the partition wall 103 as described above, the hole transport layer 104 is formed next. Examples of the hole transport material forming the hole transport layer 104 include polyaniline derivatives, polythiophene derivatives, polyvinylcarbazole (PVK) derivatives, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), and the like. These materials are dissolved or dispersed in a solvent to form a hole transport material ink, which is formed using the printing method apparatus according to the present embodiment. In that case, it is important that the selected hole transport material has compatibility with the light emitting material, and the hole transport material has an ionization potential (IP) difference of 0.2 eV or less with respect to the light emitting material. is there. In addition, the volume resistivity of the formed hole transport layer is preferably 1 × 10 6 Ω · cm or less from the viewpoint of luminous efficiency. When an inorganic material is used as the hole transport material, examples of the inorganic material include Cu 2 O, Cr 2 O 3 , Mn 2 O 3 , FeO 3, NiO, CoO, and Pr 2 O 3.
, Ag 2 O, MoO 2 , Bi 2 O 3 , ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ThO 2 , V 2 O 5 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , MoO 3 , WO 3 , MnO 2, etc. The material is formed using a vapor deposition method or a sputtering method. However, the material is not limited to these.

また、正孔輸送材料を溶解または分散させる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸メチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、乳酸エチル、エチレングリコールジエチルエーテル、1−プロパノール、メトキシプロパノール、エトキシプロパノール、水等の単独またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。また、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されていても良い。   Examples of the solvent for dissolving or dispersing the hole transport material include toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, propylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, and ethyl acetate. , Butyl acetate, isopropyl acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ethyl lactate, ethylene glycol diethyl ether, 1-propanol, methoxypropanol, ethoxypropanol, water alone or a mixed solvent thereof Etc. Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. may be added as needed.

また、印刷する際は、正孔輸送層インキの粘度としては5〜100mPa・sであることが好ましい。これは、本実施の形態で用いる凸版印刷法ではアニロックスから凸版上へのインキの転写が最初に行われるが、100mPa・s以上の粘度ではアニロックスから凸版上へインキが転写した後、凸版上で十分インキがレベリングせず、ムラの原因になる。また、5mPa・s以下では、画素内ではじきムラが発生しやすく、ムラの原因になる。   Moreover, when printing, it is preferable that it is 5-100 mPa * s as a viscosity of hole transport layer ink. In the relief printing method used in the present embodiment, the ink is first transferred from the anilox to the relief plate. However, at a viscosity of 100 mPa · s or more, after the ink is transferred from the anilox to the relief plate, Insufficient ink leveling causes unevenness. In addition, when the pressure is 5 mPa · s or less, the mottling unevenness is likely to occur in the pixel, causing the unevenness.

また、正孔輸送層インキの固形分濃度としては0.5〜4.0%であることが好ましい。本実施の形態で用いる正孔輸送インキでは、4.0%以上の濃度ではインキの安定性が悪くなり、インキ凝集や正孔輸送層のムラの原因になる。   The solid content concentration of the hole transport layer ink is preferably 0.5 to 4.0%. In the hole transport ink used in the present embodiment, if the concentration is 4.0% or more, the stability of the ink is deteriorated, which causes ink aggregation and unevenness of the hole transport layer.

次に、以上のように正孔輸送層104の形成後、インターレイヤー105を形成する。インターレイヤー105に用いる材料として、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体などの、芳香族アミンを含むポリマーなどが挙げられる。   Next, after forming the hole transport layer 104 as described above, the interlayer 105 is formed. Examples of materials used for the interlayer 105 include polymers containing aromatic amines such as polyvinyl carbazole or derivatives thereof, polyarylene derivatives having aromatic amines in the side chain or main chain, arylamine derivatives, and triphenyldiamine derivatives. .

これらのインターレイヤー材料は溶媒に溶解または安定に分散させ有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。   These interlayer materials are dissolved or stably dispersed in a solvent to form an organic light emitting ink. Examples of the solvent for dissolving or dispersing the organic light-emitting material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or a mixed solvent thereof. Among these, aromatic organic solvents such as toluene, xylene, and anisole are preferable from the viewpoint of solubility of the organic light emitting material.

インターレイヤー105の形成方法としては、凸版印刷法を用いる場合は、有機発光インキに適した樹脂凸版を使用することができ、中でも水現像タイプの感光性樹脂凸版が好適である。   As a method for forming the interlayer 105, when using a letterpress printing method, a resin letterpress suitable for an organic light-emitting ink can be used, and a water-developable photosensitive resin letterpress is particularly preferable.

次に、有機発光層106を形成する。有機発光層106は電流を通すことにより発光する層であり、有機発光層106を形成する有機発光材料は、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系の高分子材料が挙げられる。   Next, the organic light emitting layer 106 is formed. The organic light emitting layer 106 is a layer that emits light by passing a current. Examples of the organic light emitting material that forms the organic light emitting layer 106 include coumarin, perylene, pyran, anthrone, porphyrene, quinacridone, N, N'-dialkyl-substituted quinacridone-based, naphthalimide-based, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based, iridium complex-based luminescent dyes dispersed in polymers such as polystyrene, polymethylmethacrylate, polyvinylcarbazole, etc. And polyarylene-based, polyarylene vinylene-based, and polyfluorene-based polymer materials.

これらの有機発光材料は溶媒に溶解または安定に分散させ有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族
有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。また、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されても良い。
These organic light emitting materials are dissolved or stably dispersed in a solvent to form an organic light emitting ink. Examples of the solvent for dissolving or dispersing the organic light-emitting material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or a mixed solvent thereof. Among these, aromatic organic solvents such as toluene, xylene, and anisole are preferable from the viewpoint of solubility of the organic light emitting material. Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. may be added to organic luminescent ink as needed.

有機発光層106の形成方法としては、凸版印刷法を用いる場合は、有機発光インキに適した樹脂凸版を使用することができ、中でも水現像タイプの感光性樹脂凸版が好適である。   As a method for forming the organic light emitting layer 106, when using a letterpress printing method, a resin letterpress suitable for organic light emitting ink can be used, and among these, a water developing type photosensitive resin letterpress is preferable.

また、有機発光インキの粘度としては5〜100mPa・sであることが好ましい。これは、本実施の形態で用いる凸版印刷法ではアニロックスから凸版上へのインキの転写が最初に行われるが、100mPa・s以上の粘度ではアニロックスから凸版上へインキが転写した後、凸版上で十分インキがレベリングせず、ムラの原因になる。また、5mPa・s以下では、画素内ではじきムラが発生しやすく、ムラの原因になる。   The viscosity of the organic light emitting ink is preferably 5 to 100 mPa · s. In the relief printing method used in the present embodiment, the ink is first transferred from the anilox to the relief plate. However, at a viscosity of 100 mPa · s or more, after the ink is transferred from the anilox to the relief plate, Insufficient ink leveling causes unevenness. In addition, when the pressure is 5 mPa · s or less, the mottling unevenness is likely to occur in the pixel, causing the unevenness.

次に、以上のような有機発光層106の形成後、陰極層107を画素電極102のラインパターンと直交するラインパターンで形成する。この陰極層6の材料としては、有機発光層106の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層の形成方法としてはマスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。   Next, after forming the organic light emitting layer 106 as described above, the cathode layer 107 is formed in a line pattern orthogonal to the line pattern of the pixel electrode 102. As the material of the cathode layer 6, a material corresponding to the light emission characteristics of the organic light emitting layer 106 can be used. For example, a simple metal such as lithium, magnesium, calcium, ytterbium, or aluminum or a stable metal such as gold or silver can be used. And alloys thereof. Alternatively, a conductive oxide such as indium, zinc, or tin can be used. Examples of the method for forming the cathode layer include a method using a vacuum vapor deposition method using a mask.

なお、本実施の形態の有機EL素子は、陽極である画素電極102と陰極層107の間に陽極層側から正孔輸送層104、インターレイヤー105と有機発光層106を積層した構成であるが、陽極層と陰極層の間において正孔輸送層104、有機発光層106以外に正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層といった層を必要に応じ選択した積層構造をとることができる。また、これらの層を形成する際にも本発明の製造方法を使用することができる。   Note that the organic EL element of the present embodiment has a configuration in which the hole transport layer 104, the interlayer 105, and the organic light emitting layer 106 are stacked from the anode layer side between the pixel electrode 102 as the anode and the cathode layer 107. In addition to the hole transport layer 104 and the organic light emitting layer 106, a layered structure in which layers such as a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are selected as necessary can be adopted between the anode layer and the cathode layer. Moreover, the manufacturing method of this invention can be used also when forming these layers.

最後に、これらの有機EL構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ108と接着剤109を用いて密閉封止し、有機EL素子を得ることができる。また、基板101が可撓性を有する場合には、封止剤と可撓性フィルムを用いて封止を行っても良い。   Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, a glass cap 108 and an adhesive 109 are hermetically sealed to obtain an organic EL element. In the case where the substrate 101 has flexibility, sealing may be performed using a sealing agent and a flexible film.

以下、本発明の実施の形態における印刷装置について説明する。この実施の形態に示すフレキソ印刷装置は、図3に示すように、定位置に回転可能に支持された第一の回転式版胴201と、第一の回転式版胴201の周面に装着された、発光パターン形成用の印刷用凸版(フレキソ版)202と基板の異物を除去するための第一異物除去版302と、第一の回転式版胴201と対向して矢印401aで示す方向に移動可能に設置された印刷用凸版202の異物を除去する第二の異物除去版402を備えた第二の回転式版胴401と、印刷用凸版202と第一の異物除去版を洗浄するための第一の洗浄チャンバー303と、第二の異物除去版402を洗浄する第二の洗浄チャンバー304を備えている。また、第一の回転式版胴201の下方で矢印206aで示される方向に移動可能に設置された定盤206と、定盤206上に載置された被印刷基板207と、印刷用凸版202の表面に発光層用のインキを供給するアニロックスロール203と、このアニロックスロール203にインキを供給するインキチャンバー204と、インキチャンバー204にインキを定期的に供給するインキタンク205と、を併せ備えている。   Hereinafter, a printing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described. As shown in FIG. 3, the flexographic printing apparatus shown in this embodiment is mounted on a first rotary plate cylinder 201 that is rotatably supported at a fixed position, and a peripheral surface of the first rotary plate cylinder 201. The direction indicated by the arrow 401a facing the first printing plate (flexographic printing plate) 202 for forming the light emitting pattern, the first foreign matter removal plate 302 for removing foreign matter on the substrate, and the first rotary plate cylinder 201. The second rotary plate cylinder 401 having the second foreign matter removing plate 402 for removing foreign matter from the printing relief plate 202 movably installed in the printer, and the printing relief plate 202 and the first foreign matter removing plate are washed. A first cleaning chamber 303 for cleaning, and a second cleaning chamber 304 for cleaning the second foreign matter removal plate 402. In addition, a surface plate 206 movably installed in a direction indicated by an arrow 206 a below the first rotary plate cylinder 201, a printed substrate 207 placed on the surface plate 206, and a printing relief plate 202. An anilox roll 203 for supplying ink for the light emitting layer to the surface of the ink, an ink chamber 204 for supplying ink to the anilox roll 203, and an ink tank 205 for periodically supplying ink to the ink chamber 204. Yes.

図4は第一の回転式版胴201の周面に装着された発光パターン形成用の印刷用凸版202と基板の異物を除去するための第一異物除去版302と、を示す図である。第一の回転式版胴201の同一周面に印刷用凸版202と基板の異物を除去するための第一異物除去版302が隣接して設けられている。また、定盤206は矢印201aで示す方向に移動可能となっており、印刷用凸版207の異物除去を第一異物除去版302で行い、次に矢印201aで示す方向に移動して印刷用凸版202によって印刷を行うことが出来る。   FIG. 4 is a diagram showing a printing relief plate 202 for forming a light emitting pattern mounted on the peripheral surface of the first rotary plate cylinder 201 and a first foreign matter removing plate 302 for removing foreign matter on the substrate. On the same peripheral surface of the first rotary plate cylinder 201, a printing relief plate 202 and a first foreign matter removal plate 302 for removing foreign matter on the substrate are provided adjacent to each other. Further, the surface plate 206 is movable in the direction indicated by the arrow 201a, and the foreign matter removal of the printing relief plate 207 is performed by the first foreign matter removal plate 302, and then the printing plate is moved in the direction indicated by the arrow 201a. Printing can be performed according to 202.

前記第一の異物除去版302と第二の異物除去版402は、それぞれ磁性金属異物を磁気吸着するマグネット層と、その他異物を粘着で吸着させるゴム層からなる。即ち、図5(a)で示すように第一の異物除去版302はマグネット層302aとゴム層302bで構成されている。また、図5(b)で示すように第二の異物除去版402はマグネット層402aとゴム層402bで構成されている。第一の異物除去版302と第二の異物除去版402は、ゴム層が最表面となっている。   Each of the first foreign matter removal plate 302 and the second foreign matter removal plate 402 includes a magnet layer that magnetically adsorbs magnetic metal foreign matters and a rubber layer that adsorbs other foreign matters with adhesive. That is, as shown in FIG. 5A, the first foreign substance removal plate 302 is composed of a magnet layer 302a and a rubber layer 302b. Further, as shown in FIG. 5B, the second foreign matter removing plate 402 is composed of a magnet layer 402a and a rubber layer 402b. The first foreign matter removing plate 302 and the second foreign matter removing plate 402 have the rubber layer as the outermost surface.

マグネット層302aと402aの材料としては、例えば、フェライト、ネオジウムのいずれかを含むラバーマグネットが好ましい。磁場は、等方性、異方性に因らない。   As a material of the magnet layers 302a and 402a, for example, a rubber magnet containing either ferrite or neodymium is preferable. The magnetic field does not depend on isotropic or anisotropy.

ゴム層302bと402bの材料としては、硬度が、10〜30度、粘着力が50〜500g/cmで、ゴム自体に粘着力があるシリコーン系、ウレタン系、ブチル系、フッ素系の合成ゴムが挙げられるが、これに、限定するものではない。また、帯電防止加工されており、ゴム層の成分が残留しない加工がされていることや、画素面に接触するように、画素に合わせてパターニングされていることが好ましい。 As a material of the rubber layer 302b and 402b, hardness, 10-30 degrees, in adhesive strength is 50 to 500 g / cm 2, a silicone with adhesive strength to the rubber itself, urethane, butyl-based, fluorine-based synthetic rubber However, it is not limited to this. Further, it is preferably antistatic processed and processed so that no component of the rubber layer remains, or is patterned according to the pixel so as to be in contact with the pixel surface.

また、第一の異物除去版302は、印刷用凸版202に近接して設けられており、第一の異物除去版で被印刷基板207の異物を除去すると同時に、第二の異物除去版402で印刷用凸版202の異物を除去する。   The first foreign matter removal plate 302 is provided in the vicinity of the printing relief plate 202. At the same time as the foreign matter on the printing substrate 207 is removed by the first foreign matter removal plate, the second foreign matter removal plate 402 is used. Foreign matter on the printing relief plate 202 is removed.

また、第一と第二の異物除去版302、402は、マグネットの磁力で固定されており、特別に固定する箇所を設けていないため、固定箇所の干渉が問題にならない。   In addition, the first and second foreign substance removal plates 302 and 402 are fixed by the magnetic force of the magnet, and no special fixing portion is provided, so that interference of the fixing portion does not become a problem.

以下、本発明の実施の形態における印刷装置の印刷方法について説明する。本発明の印刷方法を図6に示す動作フロー図を用いて説明する。本発明の印刷方法は異物を除去する異物除去過程と、有機機能膜を印刷して成膜する成膜過程を経る。開始後(S1)、異物除去過程に際しては、被印刷基板207が設置された定盤が第一の異物除去版302の下に移動して異物を除去できるように、図示しない方法で第一の回転式版胴201の軸と水平方向に移動する(S2)と同時に、版胴201と対向に設置された、第二の異物除去版を備えた第二の回転式版胴301が、図示しない方法で印刷用凸版に接するまで、版胴201の軸方に垂直方向に水平移動する(S3)。第一の異物除去版302が、印刷用凸版201の延長上にある場合は、定盤206を移動させる必要がない。   Hereinafter, a printing method of the printing apparatus according to the embodiment of the present invention will be described. The printing method of the present invention will be described with reference to the operation flowchart shown in FIG. The printing method of the present invention goes through a foreign matter removing process for removing foreign matter and a film forming process for printing an organic functional film. After the start (S1), in the foreign matter removal process, the first plate is formed by a method (not shown) so that the surface plate on which the printing substrate 207 is placed can move under the first foreign matter removal plate 302 and remove the foreign matter. The second rotary plate cylinder 301 provided with the second foreign material removing plate installed opposite to the plate cylinder 201 simultaneously moves in the horizontal direction with the axis of the rotary plate cylinder 201 (S2). The plate is moved horizontally in the vertical direction in the axial direction of the plate cylinder 201 until the printing plate comes into contact with the printing method (S3). When the first foreign matter removing plate 302 is on the extension of the printing relief plate 201, it is not necessary to move the surface plate 206.

その後、被印刷基板207を、第一の異物除去版302で、画素間の異物を除去する(S4)と同時に、印刷用版胴201に接触した異物除去版を備えた第一の回転式版胴301を同じ回転数で、お互い逆方向に回転させることで、印刷用凸版201上に付着した異物を除去する(S5)。   Thereafter, the first substrate for removing the foreign matter between pixels is removed from the printing substrate 207 with the first foreign matter removing plate 302 (S4), and at the same time, the first rotary plate provided with the foreign matter removing plate in contact with the printing plate cylinder 201. By rotating the cylinder 301 in the opposite directions at the same rotational speed, foreign matter adhering to the printing relief plate 201 is removed (S5).

異物除去過程終了後、次に定盤206は印刷用凸版202の下に移動して(S6)、次に印刷による成膜(成膜過程)を行う(S7)。成膜過程に際しては、アニロックスロール204の回転に伴い、アニロックスロール203表面上に供給されたインキ層は、アニロックスロール203に近接して回転する駆動される版胴201にマウントされた印刷用凸版202の凸部に転移する。印刷用凸版202の凸部にあるインキは被印刷基板207に対して印刷され、必要に応じて乾燥工程を経て被印刷基板207上に、有機膜が成膜される。   After completion of the foreign matter removal process, the surface plate 206 moves below the printing relief plate 202 (S6), and then performs film formation (film formation process) by printing (S7). During the film formation process, the ink layer supplied on the surface of the anilox roll 203 is rotated along with the rotation of the anilox roll 204, and the printing relief plate 202 mounted on the driven plate cylinder 201 that rotates in the vicinity of the anilox roll 203. Transition to the convex part. The ink on the convex portion of the printing relief plate 202 is printed on the printing substrate 207, and an organic film is formed on the printing substrate 207 through a drying process as necessary.

印刷終了後、図示しない方法で、第二の回転式版胴401を、洗浄液の溜められた第二の洗浄チャンバー304まで移動させ、第二の回転式版胴401を回転させることにより、第二の異物除去版402の洗浄を行なう。また、同時に、同様にして、第一の回転式版胴201を、洗浄液の溜められた第一の洗浄チャンバー303まで、図示しない方法で移動させ、第一の回転式版胴201を回転させることにより、印刷用凸版202と第一の異物除去版302の洗浄を行なう。   After the printing is finished, the second rotary plate cylinder 401 is moved to the second cleaning chamber 304 in which the cleaning liquid is stored by a method (not shown), and the second rotary plate cylinder 401 is rotated to rotate the second rotary plate cylinder 401. The foreign matter removing plate 402 is cleaned. At the same time, similarly, the first rotary plate cylinder 201 is moved to the first cleaning chamber 303 in which the cleaning liquid is stored by a method not shown, and the first rotary plate cylinder 201 is rotated. Thus, the printing relief plate 202 and the first foreign matter removal plate 302 are cleaned.

次に、本発明の実施例について説明する。   Next, examples of the present invention will be described.

<実施例>
基板は、支持体上に設けられたスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタを備えたアクティブマトリクス基板を用いた。基板のサイズは200mm×200mm、対角5インチである。
<Example>
As the substrate, an active matrix substrate provided with a thin film transistor functioning as a switching element provided on a support was used. The size of the substrate is 200 mm × 200 mm and the diagonal is 5 inches.

この基板上に設けられている第一電極の端部を被覆し画素を区画するような形状で隔壁103を形成した。隔壁103形成は、日本ゼオン(株)製、ポジレジスト、商品名「ZWD6216−6」を用いて、スピンコーター法にて基板全面に厚み2μmで形成した後、フォトリソグラフィー法を用いて幅40μmにパターニングして隔壁103を形成した。これによりサブピクセル数960×240ドット、0.12mm×0.36mmピッチ画素領域が区画された。   A partition wall 103 was formed in such a shape as to cover the end portion of the first electrode provided on the substrate and partition the pixels. The partition wall 103 is formed by using a positive resist, a product name “ZWD6216-6” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., with a thickness of 2 μm on the entire surface of the substrate by a spin coater method, and then using a photolithography method to a width of 40 μm. A partition wall 103 was formed by patterning. As a result, a pixel area of 960 × 240 dots and a pitch of 0.12 mm × 0.36 mm was defined.

第一電極102上に正孔輸送層104として、厚み20nmの酸化モリブデンをスパッタ法により成膜した。   On the first electrode 102, molybdenum oxide having a thickness of 20 nm was formed as a hole transport layer 104 by a sputtering method.

次に本発明の印刷装置を用いて、第一の異物除去版で基板の異物を除去し、同時に第二の異物除去版で印刷用凸版の異物を除去した後、印刷用凸版で濃度2%になるようにトルエンでインキ化したインターレイヤー105を印刷し成膜を行なった。その際使用した第一の異物除去版302及び第二の異物除去版402は、ゴム層の硬度が15度、粘着力が、200g/cmかつ、マグネット層の吸着力が、440g/cmのネオジウムラバーマグネットを使用した。印刷、乾燥後の膜厚は、30nmとなった。印刷後は、印刷装置に備え付けられた第一の洗浄チャンバーで第一の異物除去版と印刷用凸版の洗浄し、また第二の洗浄チャンバーで第二の異物除去版を洗浄をした。 Next, using the printing apparatus of the present invention, the foreign matter on the substrate is removed with the first foreign matter removing plate, and the foreign matter on the printing relief plate is simultaneously removed with the second foreign matter removing plate, and then the density is 2% with the printing relief plate. The interlayer 105 inked with toluene was printed to form a film. The first foreign matter removal plate 302 and the second foreign matter removal plate 402 used at that time have a rubber layer hardness of 15 degrees, an adhesive strength of 200 g / cm 2, and a magnet layer adsorption force of 440 g / cm 2. Neodymium rubber magnet was used. The film thickness after printing and drying was 30 nm. After printing, the first foreign matter removing plate and the relief printing plate were washed in the first washing chamber provided in the printing apparatus, and the second foreign matter removing plate was washed in the second washing chamber.

次に、インターレイヤー105と同様の方法により、濃度2%になるようにトルエンでインキ化したインキ化した発光層106を印刷、乾燥後、その膜厚は、60nmになった。   Next, in the same manner as the interlayer 105, the light-emitting layer 106, which was inked with toluene to a concentration of 2%, was printed and dried, and the film thickness was 60 nm.

その上に、Ca、Alからなる陰極層107を画素電極のラインパターンと直行するようなラインパターンで抵抗加熱蒸着法により、マスク蒸着して形成した。最後にこれらの有機EL構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ108、接着剤109を用いて密閉封止し、有機ELディスプレイパネルを作製した。   On top of this, a cathode layer 107 made of Ca and Al was formed by mask vapor deposition using a resistance heating vapor deposition method in a line pattern perpendicular to the pixel electrode line pattern. Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, a glass cap 108 and an adhesive 109 were hermetically sealed to produce an organic EL display panel.

これにより得られた有機ELディスプレイパネルの表示部の周辺部には各画素電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ELディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
<比較例1>
In the periphery of the display portion of the organic EL display panel obtained in this way, there are an extraction electrode on the anode side connected to each pixel electrode and an extraction electrode on the cathode side, which are obtained by connecting them to a power source. The lighting display of the organic EL display panel was confirmed, and the light emission state was checked.
<Comparative Example 1>

異物除去版のマグネット層を除き、ゴム層の1層のみ以外は、実施例と同じとした。
<比較利2>
Except for the magnet layer of the foreign substance removal plate, the same as the example except for only one rubber layer.
<Comparative interest 2>

異物除去版のゴム層を除き、マグネット層の1層のみ以外は、実施例と同じとした。
<比較例3>
Except for the rubber layer of the foreign substance removal plate, the same as the example except for only one magnet layer.
<Comparative Example 3>

異物を除去するための、異物除去版による基板の異物を除去と、印刷用凸版の異物を除去する機構がないこれまでの印刷装置(図1)を用いた以外は、実施例と同様とした。   Except for using the conventional printing apparatus (FIG. 1) that does not have a mechanism for removing foreign matter on the substrate with a foreign matter removal plate and removing the foreign matter on the printing relief plate to remove foreign matter, the same as the embodiment .

表1に実施例と比較例1から3の評価結果を示す。実施例及び比較例1のように作成した有機ELパネルの異物数評価、表示状態での発光形状に異常がある画素や、極端に輝度が低い画素を異常発光画素とし評価している。表1に示されるように実施例は、比較例に比べて異物が10分の1以下であることや、異物によるショート画素が格段に少ないことから、良好な結果が得られることがわかる。また、ゴム層のみの単層では、異物数は、減るが、ショート画素が多い、また、逆に、マグネット層のみの単層では、ショート画素は減るが、異物数が多いことと、異常発光画素が多いことが分かる。これは、ゴム層のみでは、異物除去能力は高いが、ショートの原因となる金属異物の除去が不足している。それに比べ、マグネット層のみでは、ショートの原因となる金属異物の除去能力は高いが、その他、有機物などの異物の除去ができないため、異物数が多い。よって、実施例のように、ゴム層、マグネット層の異物除去能力を併せ持った2層構造が望ましい。   Table 1 shows the evaluation results of Examples and Comparative Examples 1 to 3. Evaluation of the number of foreign matters in the organic EL panel produced as in the example and the comparative example 1, and a pixel having an abnormal light emission shape in a display state or a pixel having extremely low luminance is evaluated as an abnormal light emission pixel. As shown in Table 1, it can be seen that the example provides good results because the number of foreign matters is 1/10 or less than that of the comparative example and the number of short pixels due to the foreign matters is remarkably small. In addition, the number of foreign matters is reduced in a single layer consisting of only a rubber layer, but there are many short pixels. Conversely, in a single layer consisting only of a magnet layer, the number of short pixels is reduced, but there are a large number of foreign matters and abnormal light emission. It can be seen that there are many pixels. This is because the rubber layer alone has a high foreign matter removing ability, but lacks removal of metallic foreign matters that cause a short circuit. In comparison, the magnet layer alone has a high ability to remove metallic foreign matters that cause a short circuit, but the number of foreign matters is large because other foreign matters such as organic matter cannot be removed. Therefore, as in the embodiment, a two-layer structure having both the rubber layer and magnet layer foreign matter removing ability is desirable.

101・・・・・基板
102・・・・・画素電極
103・・・・・隔壁
104・・・・・正孔輸送層
105・・・・・インターレイヤー
106・・・・・有機発光層
107・・・・・陰極層
108・・・・・ガラスキャップ
109・・・・・接着剤
201・・・・・第一の回転式版胴(印刷用版胴)
201a・・・・定盤の移動する方向を示す矢印
202・・・・・印刷用凸版
203・・・・・アニロックスロール
204・・・・・インキチャンバー
205・・・・・インキタンク
206・・・・・定盤
206a・・・・定盤が移動する方向を示す矢印
207・・・・・印刷用基板
302・・・・・第一の異物除去版
302a・・・・マグネット層
302b・・・・ゴム層
303・・・・・印刷用洗浄チャンバー
304・・・・・異物除去版用洗浄チャンバー
401・・・・・異物除去版用版胴
402・・・・・第二の異物除去版
402a・・・・マグネット層
402b・・・・ゴム層
501・・・・・マグネット層
502・・・・・ゴム層
601・・・・・版胴
602・・・・・印刷用凸版
603・・・・・アニロックスロール
604・・・・・インキチャンバー
605・・・・・インキタンク
606・・・・・定盤
606a・・・・定盤が移動する方向を示す矢印
607・・・・・被印刷板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Substrate 102 ... Pixel electrode 103 ... Partition 104 ... Hole transport layer 105 ... Interlayer 106 ... Organic light emitting layer 107・ ・ ・ ・ ・ Cathode layer 108 ...... Glass cap 109 ...... Adhesive 201 ...... First rotary plate cylinder (printing plate cylinder)
201a... Arrow 202 indicating the direction of movement of the platen... Printing relief plate 203... Anilox roll 204... Ink chamber 205. ... Surface plate 206a .... Arrow 207 indicating the direction in which the surface plate moves .... Printing substrate 302 ... First foreign material removal plate 302a .... Magnet layer 302b ... .. Rubber layer 303... Cleaning chamber for printing 304. Cleaning chamber for foreign matter removal plate 401... Plate cylinder 402 for foreign matter removal plate. 402a ··· Magnet layer 402b ··· Rubber layer 501 ··· Magnet layer 502 · · · Rubber layer 601 · · · Plate cylinder 602 · · · Printing relief plate 603 ··· ... Anilox roll 604 ... arrow indicating the direction in which the ink chamber 605 ----- ink tank 606 ----- plate 606a · · · · platen moved 607 ----- printing plate

Claims (8)

被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷装置であって、
印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴と、
第一の回転式版胴上に設けられ、被印刷基板表面の異物を除去するための第一の異物除去版と、
印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴と対向して設けられ、印刷用凸版表面の異物を除去するための第二の異物除去版を備えた第二の回転式版胴と、
印刷用凸版と第一の異物除去版を洗浄するための第一の洗浄チャンバーと、
第二の異物除去版を洗浄する第二の洗浄チャンバーと、を備えていることを特徴とする印刷装置。
A printing apparatus for printing a fine pattern on a substrate to be printed,
A first rotary plate cylinder with a relief printing plate;
A first foreign matter removing plate provided on the first rotary plate cylinder for removing foreign matter on the surface of the substrate to be printed;
A second rotary plate cylinder provided with a second rotary plate cylinder provided with a printing relief plate and provided with a second foreign material removal plate for removing foreign matter on the surface of the printing relief plate;
A first cleaning chamber for cleaning the printing relief plate and the first foreign matter removal plate;
And a second cleaning chamber for cleaning the second foreign substance removal plate.
前記第一の異物除去版及び第二の異物除去版は、金属異物を除去するためのマグネット層と、有機物あるいは磁性のない金属異物を除去するゴム層と、の2層以上からなることを特徴とする請求項1記載の印刷装置。   The first foreign matter removing plate and the second foreign matter removing plate are composed of two or more layers of a magnet layer for removing metallic foreign matter and a rubber layer for removing organic foreign matter or non-magnetic metallic foreign matter. The printing apparatus according to claim 1. 前記マグネット層は、フェライト又はネオジウムのいずれかを含むラバーマグネットから成ることを特徴とする請求項2に記載の印刷装置。   The printing apparatus according to claim 2, wherein the magnet layer is made of a rubber magnet containing either ferrite or neodymium. 前記ゴム層は、シリコーン系、ウレタン系、ブチル系、フッ素系のいずれかから成り、その硬度が10〜30度、粘着力が50〜500g/cmであることを特徴とする請求項2または3に記載の印刷装置。 The rubber layer is a silicone, urethane, butyl-based, consists either of a fluorine-based, the hardness of 10 to 30 degrees, according to claim 2 adhesive force is characterized by a 50 to 500 g / cm 2 or The printing apparatus according to 3. 前記第一の異物除去版及び第二の異物除去版は、第一の回転式版胴及び第二の回転式版胴に前記マグネット層の磁力で固定されていることを特徴とする請求項2から4のいずれかに記載の印刷装置。   3. The first foreign matter removing plate and the second foreign matter removing plate are fixed to the first rotary plate cylinder and the second rotary plate cylinder by the magnetic force of the magnet layer. 5. The printing apparatus according to any one of 4. to 4. 前記請求項1から5のいずれかに記載の印刷装置を用いて、第一の異物除去版で被印刷基板の異物を除去すると同時に、第二の異物除去版で印刷用凸版の異物を除去する異物除去過程と、有機機能層を印刷する成膜過程を経ることを特徴とする有機機能素子製造方法。   Using the printing apparatus according to any one of claims 1 to 5, the foreign matter on the printing substrate is removed with the first foreign matter removing plate, and at the same time, the foreign matter on the printing relief plate is removed with the second foreign matter removing plate. A method for producing an organic functional element, comprising a foreign matter removing process and a film forming process for printing an organic functional layer. 前記有機機能素子が有機EL素子であることを特徴とする請求項6に記載の有機機能素子製造方法。   The organic functional element manufacturing method according to claim 6, wherein the organic functional element is an organic EL element. 前記有機機能層は一層以上からなり、複数回印刷することを特徴とする請求項6に記載の有機機能素子製造方法。   The organic functional element manufacturing method according to claim 6, wherein the organic functional layer comprises one or more layers and is printed a plurality of times.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022114748A (en) * 2021-01-27 2022-08-08 株式会社村田製作所 Printing method and printing device

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