JP2013071040A - Liquid imparting apparatus and inkjet recording apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid applicator which promotes the precipitation of a foreign substance in a liquid and controls the clogging of a filter without enlarging the size of the apparatus.SOLUTION: The treatment liquid sent from a liquid imparting part is supplied to a first precipitation tank 20 from a first channel 30. The first precipitation tank 20 stores the treatment liquid supplied from the first channel 30. When the height of the liquid surface of the treatment liquid stored in the first precipitation tank 20 exceeds the height h, the treatment liquid from an overflow channel 20a overflows to flow into a second precipitation tank 22. The second precipitation tank 22 stores the treatment liquid which flows in from the first precipitation tank 20. When the height of the liquid surface of the treatment liquid stored in the second precipitation tank 22 exceeds the height h, the treatment liquid flows into a filter channel 32. The filter channel 32 is connected with a filter 40, the treatment liquid which flows into the filter channel 32 passes the filter 40.

Description

本発明は、対象物に液体を付与する液体付与装置及びインクジェット記録装置に関し、特に、液体に混入した異物を除去するためのフィルタの詰まりを防止する技術に関する。   The present invention relates to a liquid applying apparatus and an ink jet recording apparatus for applying a liquid to an object, and more particularly to a technique for preventing clogging of a filter for removing foreign matters mixed in the liquid.

インクジェット記録装置では、用紙の記録面にインク中の色材を凝集させる機能を有する処理液を付与することが行われる。例えば、塗布皿から塗布液が付与された塗布ローラを用紙の表面に押圧当接させて、用紙の記録面に処理液を付与する。このような処理液を事前に付与してインクを打滴することにより、汎用の記録媒体を用いた場合であっても、高品位な記録を行うことができる。   In an ink jet recording apparatus, a treatment liquid having a function of aggregating a color material in ink is applied to a recording surface of a sheet. For example, the application roller to which the application liquid is applied from the application tray is pressed and brought into contact with the surface of the paper to apply the processing liquid to the recording surface of the paper. By applying such treatment liquid in advance and ejecting ink, high-quality recording can be performed even when a general-purpose recording medium is used.

また、インクジェット記録装置の排紙部(スタッカー部)で用紙が重ね置きされる際に、乾燥不良により用紙間でのインクの裏写り(スタッカーブロッキング)が発生することがある。このスタッカーブロッキング対策として、用紙と用紙の間にパウダーを均一に噴霧してインクどうしの密着を防止している。   Further, when sheets are stacked on the paper discharge unit (stacker unit) of the ink jet recording apparatus, ink show-through (stacker blocking) may occur between the sheets due to poor drying. As a countermeasure against this stacker blocking, powder is uniformly sprayed between sheets to prevent the inks from sticking to each other.

用紙上のゴミ、用紙紙粉、コート層成分等の異物や上記のパウダーは、裏面通紙の際に塗布ローラを介して塗布皿内の塗布液に混入する。塗布液は、液濃度及び液温度を均一にするために循環する構造となっている。この循環流路には、異物やパウダーを除去するためのフィルタが設置されており、異物等による塗布故障を防止している。   Foreign matter such as dust on the paper, paper dust, and coating layer components and the above powder are mixed into the coating liquid in the coating tray through the coating roller when the back side is passed. The coating liquid has a structure that circulates in order to make the liquid concentration and liquid temperature uniform. The circulation channel is provided with a filter for removing foreign substances and powders to prevent coating failure due to foreign substances.

塗布故障を防止するためには、φ20〜30μm以上の異物を循環流路から取り除く必要がある。したがって、開口径が20μm以上のフィルタが用いられるが、このフィルタがすぐに目詰まりするという問題が発生する。   In order to prevent a coating failure, it is necessary to remove foreign matters having a diameter of 20 to 30 μm or more from the circulation channel. Therefore, although a filter having an opening diameter of 20 μm or more is used, there arises a problem that this filter is clogged immediately.

このような課題に対し、フィルタの上流側に沈殿槽を設け、沈殿槽内に異物を沈殿させることで異物を除去することが考えられる。例えば、特許文献1には、循環供給機構に設けられた貯蔵槽の底面全体を覆うように補捉空間を形成し、その開口の形状を、異物を取り込みやすい形状とした技術が記載されている。この技術によれば、異物を捕捉空間に導くことができ、液体中の異物を除去することができる。   For such a problem, it is conceivable to provide a sedimentation tank on the upstream side of the filter and to remove the foreign material by precipitating the foreign material in the sedimentation tank. For example, Patent Document 1 describes a technique in which a capture space is formed so as to cover the entire bottom surface of a storage tank provided in a circulation supply mechanism, and the shape of the opening is a shape that easily captures foreign matter. . According to this technique, foreign matter can be guided to the capture space, and foreign matter in the liquid can be removed.

また、特許文献2には、循環流路内に設けられた貯蔵部の底部に、リブによって区画された複数の捕捉空間部を形成する技術が記載されている。この技術によれば、塗布液に混入している異物が捕捉空間部内に堆積し、塗布液から異物を除去することができる。   Patent Document 2 describes a technique for forming a plurality of capture spaces defined by ribs at the bottom of a storage section provided in a circulation channel. According to this technique, foreign matters mixed in the coating liquid are accumulated in the capturing space, and foreign matters can be removed from the coating liquid.

特開2007−44649号公報JP 2007-44649 A 特開2010−274255号公報JP 2010-274255 A

しかしながら、特許文献1、2の技術では、大量の異物が循環流路に混入した場合には、異物が沈殿せずに流路内に戻り、画像不良やフィルタの詰まりを引き起こすという問題点があった。   However, the techniques of Patent Documents 1 and 2 have a problem in that when a large amount of foreign matter is mixed into the circulation flow path, the foreign matter does not settle and returns to the flow path, causing image defects and filter clogging. It was.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、装置サイズを大きくすることなく、液体内の異物の沈殿を促進し、フィルタの詰まりを抑制することができる液体付与装置及びインクジェット記録装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a liquid applying apparatus and an ink jet recording apparatus that can promote precipitation of foreign matters in the liquid and suppress clogging of the filter without increasing the apparatus size. The purpose is to provide.

上記目的を達成するために、液体付与装置の一の態様は、所定の対象物に液体を付与する付与手段と、前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路とを備え、前記循環流路は、内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第1の流路と、前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第2の流路とを備えた。   In order to achieve the above object, one aspect of the liquid application device includes an application unit that applies a liquid to a predetermined object, a storage unit that stores the liquid applied by the application unit, and a storage unit that stores the liquid. A multi-stage tank having a plurality of settling tanks in which the liquid is stored and the liquid overflows when the liquid level reaches a predetermined height. And a multi-stage tank connected to the plurality of settling tanks so that the overflowed liquid sequentially flows into the next-stage settling tank, a filter for filtering the liquid that has passed through the multi-stage tank, and the storage section. A first channel for supplying the liquid to the multi-stage tank, and a second channel for returning the filtered liquid to the container.

本態様によれば、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように複数の沈殿槽を接続した多段槽により、液体に混入した異物を除去することができるので、装置サイズを大きくすることなく、液体内の異物の沈殿を促進し、フィルタの詰まりを抑制することで、フィルタ寿命を延ばすことができる。   According to this aspect, the foreign substance mixed in the liquid can be removed by the multistage tank in which the plurality of precipitation tanks are connected so that the overflowed liquid sequentially flows into the next-stage precipitation tank. Without accelerating the precipitation of foreign matter in the liquid and suppressing the clogging of the filter, the filter life can be extended.

前記第1の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽に水平方向から液体を供給することが好ましい。さらに前記第1の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽の前記所定の高さから液体を供給することが好ましい。これにより、多段槽の初段の沈殿槽の底に堆積した異物を巻き上げることなく、多段槽に液体を供給することができる。   The first flow path preferably supplies liquid from the horizontal direction to the first stage sedimentation tank of the multistage tank. Furthermore, it is preferable that the first flow path supplies liquid from the predetermined height of the first stage sedimentation tank of the multistage tank. Thereby, a liquid can be supplied to a multistage tank, without winding up the foreign material deposited on the bottom of the precipitation tank of the first stage of a multistage tank.

また、前記第1の流路は、前記多段槽に複数個所から液体を供給することが好ましい。これにより、多段槽の初段の沈殿槽の底に堆積した異物を巻き上げることなく、多段槽に液体を供給することができる。   Moreover, it is preferable that the said 1st flow path supplies a liquid from several places to the said multistage tank. Thereby, a liquid can be supplied to a multistage tank, without winding up the foreign material deposited on the bottom of the precipitation tank of the first stage of a multistage tank.

さらに、前記第1の流路の終端に対向する位置に液体の流れを遮る遮蔽手段を備えてもよい。これにより、多段槽の初段の沈殿槽の底に堆積した異物を巻き上げることなく、多段槽に液体を供給することができる。   Furthermore, you may provide the shielding means which interrupts | blocks the flow of a liquid in the position facing the terminal end of the said 1st flow path. Thereby, a liquid can be supplied to a multistage tank, without winding up the foreign material deposited on the bottom of the precipitation tank of the first stage of a multistage tank.

また、前記複数の沈殿槽は、後段の沈殿槽ほど体積が大きいことが好ましい。これにより、前段の沈殿槽では除去しきれなかった異物を、次段の沈殿槽で除去することができる。また、大きな異物を予め前段の沈殿槽で除去しておくことで、次段の沈殿槽に堆積した異物が大きな異物の移動によって巻き上げられることを防止することができる。   The plurality of precipitation tanks preferably have a larger volume as the subsequent precipitation tank. Thereby, the foreign material which could not be removed in the preceding precipitation tank can be removed in the subsequent precipitation tank. In addition, by removing large foreign substances in advance in the preceding sedimentation tank, it is possible to prevent the foreign substances accumulated in the subsequent precipitation tank from being wound up by the movement of the large foreign substances.

前記多段槽を通過した液体に含まれる異物の状態を判定する異物センサと、前記多段槽を通過した液体を前記多段槽の初段の沈殿槽に戻す第3の流路と、前記多段槽を通過した液体を前記フィルタ及び前記第3の流路のいずれに供給するかを切り換える流路切り換え手段と、前記異物センサにより異物の量が所定量未満であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記フィルタに供給させ、前記異物センサにより異物の量が所定量以上であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記第3の流路に供給させる制御手段とを備えることが好ましい。   A foreign matter sensor for determining the state of foreign matter contained in the liquid that has passed through the multistage tank, a third flow path for returning the liquid that has passed through the multistage tank to the first stage sedimentation tank of the multistage tank, and the multistage tank When the foreign matter sensor detects that the amount of the foreign matter is less than a predetermined amount, the multi-stage tank is opened. Control means for supplying the liquid that has passed through the filter and supplying the liquid that has passed through the multistage tank to the third flow path when the foreign matter sensor detects that the amount of foreign matter is greater than or equal to a predetermined amount; It is preferable to provide.

これにより、液体に含まれる異物が少ない場合にのみフィルタに供給させるので、フィルタの詰まりを抑制することができる。また、異物が多い場合には多段槽に戻すことで、再度異物の除去を行うことができる。   Thereby, since it is made to supply to a filter only when there are few foreign materials contained in a liquid, clogging of a filter can be controlled. Moreover, when there are many foreign substances, a foreign substance can be removed again by returning to a multistage tank.

前記異物センサは、光を投光する投光部と、該投光部の投光した光を、前記多段槽を通過した液体を介して受光する受光部とを有し、該受光部の受光光量に基づいて前記異物を検出することが好ましい。これにより、適切に液体中の異物量を検出することができる。   The foreign matter sensor has a light projecting unit that projects light, and a light receiving unit that receives the light projected by the light projecting unit through the liquid that has passed through the multistage tank. It is preferable to detect the foreign matter based on the amount of light. Thereby, the amount of foreign matter in the liquid can be detected appropriately.

前記異物センサの検出結果に基づいて、前記フィルタが捕捉した異物の積算量を算出する積算手段と、前記算出された積算量が所定量を超えたことを警告する第1の警告手段とを備えてもよい。このように、フィルタ詰まりの可能性をユーザに知らせることで、フィルタが詰まる前にフィルタ交換又はフィルタ清掃を促すことができる。   Based on the detection result of the foreign matter sensor, an integration unit that calculates an integrated amount of the foreign matter captured by the filter, and a first warning unit that warns that the calculated integrated amount exceeds a predetermined amount. May be. Thus, by notifying the user of the possibility of filter clogging, it is possible to prompt the user to replace or clean the filter before the filter is clogged.

前記第3の流路は前記液体を貯蔵する貯蔵槽を備え、前記制御手段は、前記多段槽から前記貯蔵槽への流量よりも前記貯蔵槽から前記多段槽への流量の方が小さくなるように第3の流路の流量を制御することが好ましい。これにより、液体が貯蔵槽に滞留する時間を長くすることができるので、貯蔵槽における異物の沈殿を促進することができる。   The third flow path includes a storage tank for storing the liquid, and the control means is configured such that the flow rate from the storage tank to the multistage tank is smaller than the flow rate from the multistage tank to the storage tank. It is preferable to control the flow rate of the third flow path. Thereby, since the time for a liquid to stay in a storage tank can be lengthened, precipitation of the foreign material in a storage tank can be accelerated | stimulated.

前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量を検出する液量センサと、前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量が所定量を超えたことを警告する第2の警告手段とを備えてもよい。これにより、貯蔵槽が満杯となったことをユーザに報知することができる。   You may provide the liquid quantity sensor which detects the quantity of the liquid stored in the said storage tank, and the 2nd warning means to alert | report that the quantity of the liquid stored in the said storage tank exceeded predetermined amount. Thereby, it can be notified to the user that the storage tank is full.

上記目的を達成するために、インクジェット記録装置の一の態様は、上記態様の液体付与装置により記録媒体の記録面に処理液を付与する処理液付与手段と、前記処理液が付与された記録媒体の記録面にインクを吐出する記録ヘッドとを備えた。   In order to achieve the above object, one aspect of an ink jet recording apparatus includes a processing liquid applying unit that applies a processing liquid to a recording surface of a recording medium by the liquid applying apparatus of the above aspect, and a recording medium to which the processing liquid is applied. And a recording head for discharging ink on the recording surface.

本態様によれば、記録媒体の記録面に異物が混入していない処理液を付与することができるため、記録ヘッドによる高品質な記録を行うことができる。   According to this aspect, it is possible to apply the processing liquid in which no foreign matter is mixed into the recording surface of the recording medium, and therefore it is possible to perform high-quality recording with the recording head.

本発明によれば、装置サイズを大きくすることなく、液体内の異物の沈殿を促進し、フィルタの詰まりを抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to promote precipitation of foreign matters in the liquid and suppress clogging of the filter without increasing the apparatus size.

第1の実施形態に係る異物除去装置を示す斜視図The perspective view which shows the foreign material removal apparatus which concerns on 1st Embodiment. 異物除去装置を構成する槽の構造を示す斜視図The perspective view which shows the structure of the tank which comprises a foreign material removal apparatus 第1の実施形態に係る他の態様の異物除去装置を示す斜視図The perspective view which shows the foreign material removal apparatus of the other aspect which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施形態に係る異物除去装置を示す斜視図The perspective view which shows the foreign material removal apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る他の態様の異物除去装置を示す斜視図The perspective view which shows the foreign material removal apparatus of the other aspect which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る他の態様の異物除去装置を示す斜視図The perspective view which shows the foreign material removal apparatus of the other aspect which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る異物除去装置を示す斜視図The perspective view which shows the foreign material removal apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施形態に係る異物除去装置を示す全体構成図Whole block diagram which shows the foreign material removal apparatus which concerns on 4th Embodiment 異物センサの構成を示す図Diagram showing the configuration of the foreign matter sensor 第4の実施形態に係る異物除去装置の動作を示すフローチャートThe flowchart which shows operation | movement of the foreign material removal apparatus which concerns on 4th Embodiment. 異物センサの検出結果と流路切り替え弁の制御を示す図The figure which shows the detection result of the foreign substance sensor and control of the flow path switching valve 時間の経過における積算値の変化の一例を示す図The figure which shows an example of the change of the integrated value in progress of time 異物除去装置が適用された塗布装置の概略構成を示す全体構成図Overall configuration diagram showing a schematic configuration of a coating apparatus to which a foreign matter removing apparatus is applied 塗布装置の制御系の概略構成を示すブロック図Block diagram showing the schematic configuration of the control system of the coating apparatus

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

〔第1の実施形態〕
図1は、本実施形態に係る異物除去装置10を示す斜視図である。異物除去装置10は、対象物に処理液(液体)を付与する液体付与装置において、処理液の循環流路に設けられるものであり、処理液中の異物を除去するための装置である。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a perspective view showing a foreign matter removing apparatus 10 according to the present embodiment. The foreign matter removing device 10 is a device for removing foreign matter in a processing liquid, which is provided in a circulation channel of the processing liquid in a liquid application device that applies a processing liquid (liquid) to an object.

図1に示すように、異物除去装置10は、第1の沈殿槽20、第2の沈殿槽22、第1の流路30、フィルタ流路32、第2の流路34、フィルタ40を備えて構成される。   As shown in FIG. 1, the foreign matter removing apparatus 10 includes a first settling tank 20, a second settling tank 22, a first flow path 30, a filter flow path 32, a second flow path 34, and a filter 40. Configured.

第1の沈殿槽20及び第2の沈殿槽22は、図2(a)に示すように、長さd、幅w、高さhの直方体形状の槽50及び仕切り板52により構成されている。仕切り板52は、槽50内部の所定の位置に鉛直方向に配置され、槽50を高さhにおいて2つに仕切っている。 As shown in FIG. 2A, the first sedimentation tank 20 and the second sedimentation tank 22 are constituted by a rectangular parallelepiped tank 50 having a length d, a width w, and a height h, and a partition plate 52. . The partition plate 52 is arranged in a vertical direction at a predetermined position inside the tank 50, and divides the tank 50 into two at a height ha.

なお、仕切り板として、図2(b)に示す仕切り板56を用いてもよい。この仕切り板56は、槽50内部の所定の位置に鉛直方向に配置され、槽50を2つに仕切っている。仕切り板56は、スリット56aを有しており、スリット56aは、最も低い位置の高さが、高さhとなるように設けられている。 In addition, you may use the partition plate 56 shown in FIG.2 (b) as a partition plate. The partition plate 56 is arranged in a vertical direction at a predetermined position inside the tank 50 and partitions the tank 50 into two. The partition plate 56 has a slit 56a, the slit 56a, the height of the lowest position are provided so that the height h a.

また、槽50の一側面には、貫通孔54が設けられている。貫通孔54は、最も低い位置の高さが、高さhとなるように設けられている。ここで、高さhと高さhは、h>hの関係を満たす。なお、貫通孔54の形状は円形に限られるものではなく、楕円、矩形、スリット形状等、適宜決めることができる。 A through hole 54 is provided on one side surface of the tank 50. Through hole 54, the height of the lowest position are provided so that the height h b. Here, the height h a and the height h b satisfy the relationship of h a > h b . The shape of the through hole 54 is not limited to a circle, and can be determined as appropriate, such as an ellipse, a rectangle, and a slit shape.

図1に戻り、液体付与部(不図示)から送液された処理液は、第1の流路30を流れ、第1の流路30の液供口30aから第1の沈殿槽20に供給される。第1の沈殿槽20は、第1の流路30から供給された処理液を貯留する。第1の沈殿槽20に貯留された処理液の液面の高さが高さhを超えると、仕切り板52の上部に該当するオーバーフロー路20aから処理液が溢れ出し(オーバーフローし)、このオーバーフローした処理液は第2の沈殿槽22に流入する。なお、図2(b)に示す仕切り板56を用いた場合には、スリット56aがオーバーフロー路20aとなる。 Returning to FIG. 1, the processing liquid sent from the liquid application unit (not shown) flows through the first flow path 30 and is supplied from the liquid supply port 30 a of the first flow path 30 to the first sedimentation tank 20. Is done. The first sedimentation tank 20 stores the processing liquid supplied from the first flow path 30. When the liquid level of the process liquid stored in the first settling tank 20 exceeds the height h a, from the overflow channel 20a corresponding to the upper portion of the partition plate 52 processing liquid overflowing (overflow), this The overflowed processing liquid flows into the second sedimentation tank 22. In addition, when the partition plate 56 shown in FIG. 2B is used, the slit 56a becomes the overflow path 20a.

第2の沈殿槽22は、第1の沈殿槽20から流入した処理液を貯留する。第2の沈殿槽22の側面には、貫通孔54が設けられている。したがって、第2の沈殿槽22に貯留された処理液の液面の高さが高さhを超えると、貫通孔54から処理液がオーバーフローする。 The second settling tank 22 stores the processing liquid that has flowed from the first settling tank 20. A through hole 54 is provided on the side surface of the second sedimentation tank 22. Therefore, if the height of the liquid surface of the process liquid stored in the second settling tank 22 exceeds the height h b, the processing solution overflows from the through hole 54.

貫通孔54には、フィルタ流路32の流入口32aが接続されており、このオーバーフローした処理液はフィルタ流路32に流入する。   The inflow port 32 a of the filter channel 32 is connected to the through hole 54, and the overflowed processing liquid flows into the filter channel 32.

フィルタ流路32にはフィルタ40が接続されており、フィルタ流路32に流入した処理液はフィルタ40を通過する。フィルタ40には第2の流路34が接続されており、フィルタ40を通過した処理液は、液体付与部(不図示)に送液される。   A filter 40 is connected to the filter flow path 32, and the processing liquid flowing into the filter flow path 32 passes through the filter 40. A second flow path 34 is connected to the filter 40, and the processing liquid that has passed through the filter 40 is sent to a liquid application unit (not shown).

このように、第1の沈殿槽20と第2の沈殿槽22は、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように、カスケード状に接続された多段槽となっている。   In this way, the first settling tank 20 and the second settling tank 22 are connected in a cascade manner so that the liquid overflowed from the upstream settling tank flows into the settling tank on the downstream side in sequence. It has become.

第1の流路30から第1の沈殿槽20に処理液が供給されると、処理液に混入している異物は、第1の沈殿槽20の底に沈殿(堆積)することで除去される。この異物が除去された処理液は、オーバーフロー路20aからオーバーフローし、第2の沈殿槽22に流入する。   When the processing liquid is supplied from the first flow path 30 to the first sedimentation tank 20, the foreign matters mixed in the processing liquid are removed by being deposited (deposited) on the bottom of the first sedimentation tank 20. The The processing liquid from which the foreign matter has been removed overflows from the overflow path 20 a and flows into the second sedimentation tank 22.

第2の沈殿槽22に流入した処理液のうち、第1の沈殿槽20では除去しきれなかった異物は、第2の沈殿槽22の底に沈殿することで除去される。この異物が除去された処理液は、貫通孔54からオーバーフローし、フィルタ流路32に流入する。   Of the processing liquid that has flowed into the second sedimentation tank 22, foreign substances that could not be removed by the first sedimentation tank 20 are removed by sedimentation at the bottom of the second sedimentation tank 22. The processing liquid from which the foreign matter has been removed overflows from the through hole 54 and flows into the filter channel 32.

フィルタ流路32に流入した処理液は、フィルタ40を通過する。このとき、第1の沈殿槽20及び第2の沈殿槽22では除去しきれなかった異物がフィルタ40によって捕捉(除去)される。   The processing liquid that has flowed into the filter flow path 32 passes through the filter 40. At this time, foreign matters that could not be removed by the first sedimentation tank 20 and the second sedimentation tank 22 are captured (removed) by the filter 40.

このように、異物除去装置10によれば、処理液に混入した異物を沈殿させることで除去し、フィルタ40の詰まりを抑制することができ、フィルタ寿命を延ばすことができる。   Thus, according to the foreign material removal apparatus 10, the foreign material mixed in the processing liquid is removed by precipitation, so that the clogging of the filter 40 can be suppressed and the filter life can be extended.

本実施形態では、1つの槽を仕切り板で仕切ることで2つの沈殿槽を構成したが、複数の沈殿槽をカスケード状に接続する形態はこの例に限定されるものではない。   In the present embodiment, two sedimentation tanks are configured by partitioning one tank with a partition plate. However, the form in which a plurality of sedimentation tanks are connected in cascade is not limited to this example.

例えば、図3(a)に示すように、2つの槽60及び62を、液面高さが異なるように接続することで、第1の沈殿槽20及び第2の沈殿槽22を構成してもよい。ここでは、槽60の側面のうち、槽62との接合面の上部をオーバーフロー路20aとする。槽60のオーバーフロー路20aからオーバーフローした処理液は、槽62へ流入する。   For example, as shown to Fig.3 (a), the 1st sedimentation tank 20 and the 2nd sedimentation tank 22 are comprised by connecting the two tanks 60 and 62 so that a liquid level height may differ. Also good. Here, the upper part of the joint surface with the tank 62 among the side surfaces of the tank 60 is defined as an overflow path 20a. The processing liquid overflowed from the overflow path 20 a of the tank 60 flows into the tank 62.

また、図3(b)に示すように、2つの槽64及び66のそれぞれの側面を接合し、全体を所定の角度だけ傾けることで、第1の沈殿槽20及び第2の沈殿槽22を構成してもよい。ここでは、槽64の側面のうち、槽66との接合面の上部をオーバーフロー路20aとする。槽64のオーバーフロー路20aからオーバーフローした処理液は、槽66へ流入する。   Moreover, as shown in FIG.3 (b), the 1st sedimentation tank 20 and the 2nd sedimentation tank 22 are joined by joining each side surface of the two tanks 64 and 66, and inclining the whole by a predetermined angle. It may be configured. Here, the upper part of the joint surface with the tank 66 among the side surfaces of the tank 64 is defined as an overflow path 20a. The processing liquid overflowed from the overflow path 20 a of the tank 64 flows into the tank 66.

本実施形態では、カスケード状に接続された多段槽の例として、第1の沈殿槽20と第2の沈殿槽22の2つの沈殿槽から構成される例を説明したが、多段槽は3つ以上の沈殿槽から構成してもよいことは言うまでもない。沈殿槽の数を増やすことで、異物の除去をより促進させることが可能となる。   In the present embodiment, as an example of a multistage tank connected in cascade, an example including two precipitation tanks, the first precipitation tank 20 and the second precipitation tank 22, has been described, but there are three multistage tanks. Needless to say, the above-described precipitation tank may be used. By increasing the number of sedimentation tanks, it is possible to further promote the removal of foreign matters.

〔第2の実施形態〕
図4(a)は、本実施形態に係る異物除去装置12を示す斜視図である。なお、図1に示す異物除去装置10と共通する部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 4A is a perspective view showing the foreign matter removing apparatus 12 according to the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the part which is common in the foreign material removal apparatus 10 shown in FIG. 1, and the detailed description is abbreviate | omitted.

異物除去装置12は、第1の流路36の液供口36aから第1の沈殿槽20へ処理液が供給される。第1の流路36は、少なくとも液供口36aの近傍において水平に設けられており、液供口36aは、第1の沈殿槽20の側面に設けられている。液供口36aは、最も低い位置の高さが、高さhとなっている。 In the foreign matter removing device 12, the processing liquid is supplied from the liquid supply port 36 a of the first flow path 36 to the first sedimentation tank 20. The first flow path 36 is provided horizontally at least in the vicinity of the liquid supply port 36 a, and the liquid supply port 36 a is provided on the side surface of the first sedimentation tank 20. Ekikyo port 36a, the height of the lowest position, and has a height h a.

即ち、第1の沈殿槽20の液面高さに設けられた液供口36aから、処理液が水平方向に流出する。したがって、処理液は第1の沈殿槽20の液面に対して水平方向から供給される。   That is, the processing liquid flows out in the horizontal direction from the liquid supply port 36 a provided at the liquid level of the first sedimentation tank 20. Therefore, the processing liquid is supplied from the horizontal direction with respect to the liquid level of the first sedimentation tank 20.

このように、複数の沈殿槽がカスケード状に接続された多段槽の最上流(初段)の沈殿槽である第1の沈殿槽20に、水平に処理液を供給する。これにより、第1の沈殿槽20の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第1の沈殿槽20に処理液を供給することができる。   In this way, the processing liquid is supplied horizontally to the first precipitation tank 20 which is the uppermost (first stage) precipitation tank of a multistage tank in which a plurality of precipitation tanks are connected in cascade. Thereby, the processing liquid can be supplied to the first sedimentation tank 20 without winding up the foreign matter accumulated on the bottom of the first sedimentation tank 20.

なお、図4(b)に示すように、第1の流路36を少なくとも液供口36aの近傍において水平に設けるとともに、液供給口36aを第1の沈殿槽20の液面よりも高い位置に設け、第1の沈殿槽20に対して水平方向から処理液を供給してもよい。この場合であっても、処理液は第1の沈殿槽20に対して水平に供給されるため、第1の沈殿槽20の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第1の沈殿槽20に処理液を供給することができる。   4B, the first flow path 36 is provided horizontally at least in the vicinity of the liquid supply port 36a, and the liquid supply port 36a is positioned higher than the liquid level of the first sedimentation tank 20. The treatment liquid may be supplied from the horizontal direction to the first sedimentation tank 20. Even in this case, the treatment liquid is supplied horizontally to the first sedimentation tank 20, so that the foreign matter accumulated on the bottom of the first sedimentation tank 20 is not rolled up in the first sedimentation tank 20. Treatment liquid can be supplied.

また、第1の流路36を複数設けてもよい。図5に示す例では、5つの第1の流路36−1〜36−5の5つの液供口36−1a〜36−5aから、第1の沈殿槽20へ処理液を供給する。各液供口36−1a〜36−5aは、それぞれ最も低い位置の高さがhとなるように、第1の沈殿槽20の側面に設けられている。したがって、5つの第1の流路36−1〜36−5の5つの液供口36−1a〜36−5aから、第1の沈殿槽20に水平に処理液を供給することができる。 A plurality of first flow paths 36 may be provided. In the example shown in FIG. 5, the processing liquid is supplied to the first sedimentation tank 20 from the five liquid supply ports 36-1 a to 36-5 a of the five first flow paths 36-1 to 36-5. Each liquid supply port 36-1a~36-5a, as the height of the lowest position respectively is h a, is provided on the side of the first settling tank 20. Accordingly, the processing liquid can be supplied horizontally to the first sedimentation tank 20 from the five liquid supply ports 36-1a to 36-5a of the five first flow paths 36-1 to 36-5.

このように、複数の流路から処理液を供給することで、処理液の流速を下げることができる。これにより、第1の沈殿槽20の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第1の沈殿槽20に処理液を供給することができる。   In this way, the flow rate of the processing liquid can be reduced by supplying the processing liquid from the plurality of flow paths. Thereby, the processing liquid can be supplied to the first sedimentation tank 20 without winding up the foreign matter accumulated on the bottom of the first sedimentation tank 20.

さらに、第1の流路36から供給される処理液の流れを遮ることで処理液の流速を落とす遮蔽板を設けてもよい。例えば、図6に示すように、液供口36に対向する位置に遮蔽板38を設けることができる。   Furthermore, a shielding plate that reduces the flow rate of the processing liquid by blocking the flow of the processing liquid supplied from the first flow path 36 may be provided. For example, as shown in FIG. 6, a shielding plate 38 can be provided at a position facing the liquid supply port 36.

液供口36から所定の流速で流出した処理液は、遮蔽板38によって流れが遮られ、流速が低下する。これにより、第1の沈殿槽20の底に堆積した異物を巻き上げることなく、第1の沈殿槽20に処理液を供給することができる。   The processing liquid flowing out from the liquid supply port 36 at a predetermined flow rate is blocked by the shielding plate 38, and the flow rate is reduced. Thereby, the processing liquid can be supplied to the first sedimentation tank 20 without winding up the foreign matter accumulated on the bottom of the first sedimentation tank 20.

〔第3の実施形態〕
図7は、本実施形態に係る異物除去装置14を示す斜視図である。なお、図4に示す異物除去装置12と共通する部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。異物除去装置14は、第1の沈殿槽20、第2の沈殿槽22、及び第3の沈殿槽24を備えている。この3つの沈殿槽は、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように、カスケード状に接続されている。
[Third Embodiment]
FIG. 7 is a perspective view showing the foreign matter removing apparatus 14 according to the present embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the part which is common in the foreign material removal apparatus 12 shown in FIG. 4, and the detailed description is abbreviate | omitted. The foreign matter removing device 14 includes a first settling tank 20, a second settling tank 22, and a third settling tank 24. The three settling tanks are connected in cascade so that the liquid overflowed from the upstream settling tank flows into the settling tank on the downstream side sequentially.

第1の沈殿槽20は、図7に示すように、幅w、長さd、高さhで構成されており、体積Vol=w×d×hの処理液を貯留することができる。 As shown in FIG. 7, the first sedimentation tank 20 is configured with a width w, a length d a , and a height ha, and stores a treatment liquid having a volume Vol 1 = w × d a × ha. be able to.

異物除去装置14は、第1の流路36の液供口36aから第1の沈殿槽20へ処理液が供給される。第1の沈殿槽20は、第1の流路36から供給された処理液を貯留する。処理液に混入している異物は、第1の沈殿槽20の底に堆積する。第1の沈殿槽20に供給された処理液のうち体積Volを超えた分は、オーバーフロー路20aからオーバーフローし、このオーバーフローした処理液は第2の沈殿槽22に流入する。 In the foreign matter removing device 14, the processing liquid is supplied from the liquid supply port 36 a of the first flow path 36 to the first sedimentation tank 20. The first sedimentation tank 20 stores the processing liquid supplied from the first flow path 36. Foreign matter mixed in the processing liquid is deposited on the bottom of the first sedimentation tank 20. A portion of the processing liquid supplied to the first settling tank 20 that exceeds the volume Vol 1 overflows from the overflow path 20 a, and the overflowed processing liquid flows into the second settling tank 22.

第2の沈殿槽22は、図7に示すように、幅w、長さd、高さhで構成されており、体積Vol=w×d×hの処理液を貯留することができる。 The second sedimentation tank 22, as shown in FIG. 7, a width w, a length d b, is configured by a height h b, storing the processing solution volume Vol 2 = w × d b × h b be able to.

第2の沈殿槽22は、第1の沈殿槽20から流入した処理液を貯留する。第1の沈殿槽20によって除去しきれなかった異物は、第2の沈殿槽22の底に堆積する。第2の沈殿槽22に流入した処理液のうち体積Volを超えた分は、オーバーフロー路22aからオーバーフローし、このオーバーフローした処理液は第3の沈殿槽24に流入する。 The second settling tank 22 stores the processing liquid that has flowed from the first settling tank 20. Foreign matter that could not be removed by the first settling tank 20 is deposited on the bottom of the second settling tank 22. A portion of the processing liquid that has flowed into the second sedimentation tank 22 that exceeds the volume Vol 2 overflows from the overflow path 22 a, and this overflowed processing liquid flows into the third sedimentation tank 24.

第3の沈殿槽24は、図7に示すように、幅w、長さd、高さhで構成されており、体積Vol=w×db×hの処理液を貯留することができる。 As shown in FIG. 7, the third sedimentation tank 24 has a width w, a length d c , and a height h c , and stores a treatment liquid having a volume Vol 3 = w × db c × h c. be able to.

第3の沈殿槽24は、第2の沈殿槽22から流入した処理液を貯留する。第1の沈殿槽20及び第2の沈殿槽22によって除去しきれなかった異物は、第3の沈殿槽24の底に堆積する。第3の沈殿槽24に流入した処理液のうち体積Volを超えた分は、フィルタ流路32の流入口32aからオーバーフローし、このオーバーフローした処理液はフィルタ流路32に流入する。 The third settling tank 24 stores the processing liquid that has flowed in from the second settling tank 22. Foreign matter that cannot be removed by the first sedimentation tank 20 and the second sedimentation tank 22 is deposited on the bottom of the third sedimentation tank 24. A portion of the processing liquid that has flowed into the third settling tank 24 that exceeds the volume Vol 3 overflows from the inlet 32 a of the filter flow path 32, and the overflowed processing liquid flows into the filter flow path 32.

ここで、第1の沈殿槽20、第2の沈殿槽22、及び第3の沈殿槽24は、その体積がVol<Vol<Volとなるように構成されている。したがって、第1の沈殿槽20における処理液の滞留時間よりも第2の沈殿槽22における処理液の滞留時間が長くなる。これにより、第1の沈殿槽20では除去しきれなかった異物を、第2の沈殿槽22において沈殿させることができる。また、大きな異物を予め第1の沈殿槽20で除去しておくことで、第2の沈殿槽22に堆積した異物が大きな異物の移動によって巻き上げられることを防止することができる。 Here, the first precipitation tank 20, a second settling tank 22, and a third sedimentation tank 24 is configured so that the volume becomes Vol 1 <Vol 2 <Vol 3 . Therefore, the residence time of the treatment liquid in the second precipitation tank 22 is longer than the residence time of the treatment liquid in the first precipitation tank 20. Thereby, the foreign matter that could not be removed in the first sedimentation tank 20 can be precipitated in the second sedimentation tank 22. Moreover, it is possible to prevent the foreign matter accumulated in the second sedimentation tank 22 from being rolled up by the movement of the large foreign matter by removing the large foreign matter in advance in the first sedimentation tank 20.

さらに、第2の沈殿槽22における処理液の滞留時間よりも第3の沈殿槽24における処理液の滞留時間が長くなる。これにより、第2の沈殿槽22では除去しきれなかった異物を、第3の沈殿槽24において沈殿させることができる。また、大きな異物を予め第2の沈殿槽22で除去しておくことで、第3の沈殿槽24に堆積した異物が大きな異物の移動によって巻き上げられることを防止することができる。   Furthermore, the retention time of the treatment liquid in the third precipitation tank 24 is longer than the retention time of the treatment liquid in the second precipitation tank 22. As a result, foreign matters that could not be removed in the second sedimentation tank 22 can be precipitated in the third sedimentation tank 24. Further, by removing the large foreign matter in advance in the second sedimentation tank 22, it is possible to prevent the foreign matter accumulated in the third sedimentation tank 24 from being rolled up by the movement of the large foreign matter.

このように、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように、複数の沈殿槽がカスケード状に接続された多段槽において、下流側(後段側)の沈殿槽ほど体積を大きくすることで、下流側の沈殿槽ほど処理液の滞留時間を長くする。これにより、下流側の沈殿槽ほど小さな異物を沈殿させることができ、また上流側の沈殿槽で大きな異物を沈殿させておくことで、下流側の沈殿槽に堆積した異物が大きな異物が移動することで巻き上げられることを防止することができる。   In this way, in a multi-stage tank in which a plurality of settling tanks are connected in cascade so that the liquid overflowing from the upstream settling tank sequentially flows into the downstream settling tank, the settling tank on the downstream side (rear stage side) By increasing the volume as much as possible, the residence time of the treatment liquid is increased in the downstream sedimentation tank. As a result, a smaller foreign substance can be precipitated in the downstream sedimentation tank, and a large foreign object moves in the downstream sedimentation tank by precipitating a large foreign substance in the upstream sedimentation tank. Can be prevented from being wound up.

〔第4の実施形態〕
図8は、本実施形態に係る異物除去装置16を示す全体構成図である。同図に示すように、異物除去装置16は、多段槽70、異物センサS1、流路切り替え弁V、貯蔵槽76、液面検出センサS2、各ポンプP1、P2、P3等を備えて構成される。
[Fourth Embodiment]
FIG. 8 is an overall configuration diagram illustrating the foreign matter removing apparatus 16 according to the present embodiment. As shown in the figure, the foreign substance removing device 16 includes a multistage tank 70, a foreign substance sensor S1, a flow path switching valve V, a storage tank 76, a liquid level detection sensor S2, each pump P1, P2, and P3. The

多段槽70は、上流側の沈殿槽からオーバーフローした液体が順次下流側の沈殿槽に流入するように複数の沈殿槽がカスケード状に接続されたものであり、例えば図1に示す第1の沈殿槽20及び第2の沈殿槽22と同様の構成を用いることができる。   In the multistage tank 70, a plurality of settling tanks are connected in cascade so that the liquid overflowing from the upstream settling tank sequentially flows into the downstream settling tank. For example, the first settling tank shown in FIG. The same configuration as the tank 20 and the second sedimentation tank 22 can be used.

異物センサS1は、多段槽70の最下流(最後段)の沈殿槽からオーバーフローした処理液中に含まれる異物を検出するためのセンサである。異物センサS1の構成を図9に示す。   The foreign matter sensor S <b> 1 is a sensor for detecting foreign matter contained in the processing liquid that has overflowed from the most downstream (last stage) sedimentation tank of the multistage tank 70. The configuration of the foreign matter sensor S1 is shown in FIG.

図9に示すように、異物センサS1は、一対の投光部73a及び受光部73bから構成される光学式センサである。多段槽70から流路切り替え弁Vまでの処理液の検出流路72は、少なくとも異物センサS1が配置される位置において、光を透過する素材で形成される。   As shown in FIG. 9, the foreign matter sensor S1 is an optical sensor including a pair of light projecting units 73a and light receiving units 73b. The processing liquid detection flow path 72 from the multistage tank 70 to the flow path switching valve V is formed of a material that transmits light at least at a position where the foreign matter sensor S1 is disposed.

投光部73aの発光素子としては、例えばLEDを用いることができる。また、受光部73bの受光素子としては、例えばフォトダイオードを用いることができる。投光部73aの発光素子から発光された光は、検出流路72及び検出流路72の内部を流れる処理液を透過し、受光部73bの受光素子によって受光される。   As the light emitting element of the light projecting unit 73a, for example, an LED can be used. For example, a photodiode can be used as the light receiving element of the light receiving unit 73b. The light emitted from the light emitting element of the light projecting unit 73a passes through the detection flow path 72 and the processing liquid flowing through the detection flow path 72, and is received by the light receiving element of the light receiving unit 73b.

処理液の透過光量は、処理液に混入している異物によって変化する。したがって、受光部73bの受光光量は、検出流路72の内部を流れる処理液に混入している異物(図9において符号Gを付した)によって変化する。例えば処理液内に大きい異物が混入している場合や、多数の異物が混入している場合には、これらの異物により受光部73bの受光光量が低下する。このように、異物センサS1は、処理液内の異物の状態を判定することができる。   The amount of light transmitted through the processing liquid varies depending on the foreign matter mixed in the processing liquid. Accordingly, the amount of light received by the light receiving unit 73b varies depending on foreign matter (indicated by reference symbol G in FIG. 9) mixed in the processing liquid flowing inside the detection flow path 72. For example, when a large amount of foreign matter is mixed in the processing liquid or when many foreign matters are mixed, the amount of light received by the light receiving unit 73b is reduced by these foreign matters. Thus, the foreign matter sensor S1 can determine the state of the foreign matter in the processing liquid.

流路切り替え弁Vは、検出流路72から流れて来た処理液をフィルタ流路32へ流すか否かを制御する電磁バルブV1と、検出流路72から流れて来た処理液を第3の流路74へ流すか否かを制御する電磁バルブV2とを備えた弁手段である。電磁バルブV1、V2は、制御部(不図示)から印加される電力に応じて開閉する。   The flow path switching valve V controls the electromagnetic valve V1 for controlling whether or not the processing liquid flowing from the detection flow path 72 is flown to the filter flow path 32, and the processing liquid flowing from the detection flow path 72 is third. The valve means includes an electromagnetic valve V <b> 2 that controls whether or not to flow to the flow path 74. The electromagnetic valves V1 and V2 open and close according to electric power applied from a control unit (not shown).

電磁バルブV1が開弁状態、電磁バルブV2が閉弁状態にされると、ポンプP1により、処理液はフィルタ流路32を介してフィルタ40に送液される。   When the electromagnetic valve V1 is opened and the electromagnetic valve V2 is closed, the processing liquid is sent to the filter 40 via the filter flow path 32 by the pump P1.

また、電磁バルブV1が閉弁状態、電磁バルブV2が開弁状態にされると、ポンプP2により、処理液は第3の流路74を介して貯蔵槽76に送液され、貯蔵槽76に貯留される。   When the electromagnetic valve V 1 is closed and the electromagnetic valve V 2 is opened, the processing liquid is sent to the storage tank 76 via the third flow path 74 by the pump P 2, and is supplied to the storage tank 76. Stored.

液面検出センサS2は、貯蔵槽76に貯留された処理液の液面を検出するためのセンサである。液面検出センサS2は、貯蔵槽76に貯留された処理液の液面の位置が、貯蔵槽76に貯蔵可能な上限に達したか否かを検出することが可能なように、貯蔵槽76の開口部又はその近傍に設けられている。液面検出センサS2としては、静電容量センサや光学センサを用いることができるが、特に限定されない。   The liquid level detection sensor S <b> 2 is a sensor for detecting the liquid level of the processing liquid stored in the storage tank 76. The liquid level detection sensor S <b> 2 can detect whether or not the position of the liquid level of the processing liquid stored in the storage tank 76 has reached the upper limit that can be stored in the storage tank 76. At or near the opening. As the liquid level detection sensor S2, a capacitance sensor or an optical sensor can be used, but is not particularly limited.

貯蔵槽76に貯留された処理液は、ポンプP3により多段槽70の初段の沈殿槽に送液される。初段の沈殿槽に送液するのではなく、第1の流路30に合流するように送液してもよい。   The processing liquid stored in the storage tank 76 is sent to the first stage sedimentation tank of the multistage tank 70 by the pump P3. Instead of sending to the first stage sedimentation tank, the solution may be sent so as to join the first flow path 30.

次に、上記のように構成された異物除去装置16の動作について説明する。図10は、異物除去装置16の動作を示すフローチャートである。   Next, the operation of the foreign matter removing apparatus 16 configured as described above will be described. FIG. 10 is a flowchart showing the operation of the foreign matter removing apparatus 16.

液体付与部(不図示)から送液された処理液は、第1の流路30を流れ、多段槽70に供給される。多段槽70の各沈殿槽において異物が除去された処理液は、多段槽70の最後段の沈殿槽からオーバーフローし、検出流路72に流入する。   The processing liquid sent from the liquid application unit (not shown) flows through the first flow path 30 and is supplied to the multistage tank 70. The processing liquid from which the foreign matter has been removed in each settling tank of the multistage tank 70 overflows from the final settling tank of the multistage tank 70 and flows into the detection flow path 72.

異物センサS1は、検出流路72を流れる処理液内の異物を検出するためのセンサである。制御部(不図示)は、異物センサS1の検出結果から、処理液内の異物の有無を判断する。   The foreign matter sensor S <b> 1 is a sensor for detecting foreign matter in the processing liquid flowing through the detection flow path 72. The control unit (not shown) determines the presence or absence of foreign matter in the processing liquid from the detection result of the foreign matter sensor S1.

ここで、処理液内に異物が全く混入していない状態において、投光部73aから投光された光を受光部73bが受光した場合の受光光量を基準受光量yとする。制御部は、受光部73bの受光光量と基準受光量yとの差y(低下光量)を算出し、低下光量yがα以上の場合に、処理液内に異物が混入しているものと判断する。 Here, in a state where foreign matter in the processing solution is not at all mixed, the light projected from the light projecting unit 73a receiving unit 73b is a reference received light amount y 0 the amount of light received when the received light. Control unit calculates the difference y (decrease amount) between the received light amount and the reference received light amount y 0 of the light receiving portion 73b, when reduced quantity y is greater than or alpha, as a foreign object in the processing liquid are mixed to decide.

制御部は、受光部73bの低下光量yがαより大きいか否かを判定する(ステップSt1)。低下光量yの方が小さい場合には、処理液内の異物がない、又は少ないと判断し、流路切り替え弁Vの電磁バルブV1を開弁状態、電磁バルブV2を閉弁状態とする(ステップSt2)。   The control unit determines whether or not the reduced light amount y of the light receiving unit 73b is larger than α (step St1). If the amount of decrease y is smaller, it is determined that there is no or little foreign matter in the processing liquid, and the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is opened and the electromagnetic valve V2 is closed (step) St2).

さらに、ポンプP1を駆動状態とし、フィルタ40を負圧にする(ステップSt3)。これにより、処理液はフィルタ流路32を介してフィルタ40に送液される。このとき、ポンプP2、P3は停止状態とする。   Further, the pump P1 is driven and the filter 40 is set to a negative pressure (step St3). As a result, the processing liquid is sent to the filter 40 via the filter channel 32. At this time, the pumps P2 and P3 are stopped.

また、制御部は、フィルタ40に捕捉された異物量を積算するために、低下光量yの積算値Σyを算出する(ステップSt4)。そして、この積算値Σyが、閾値ymaxを超えたか否かを判定する(ステップSt5)。閾値ymaxは、フィルタ40の目詰まりが発生する異物の積算量から算出された低下光量の積算値Σyの値に設定されている。 Further, the control unit calculates an integrated value Σy of the reduced light amount y in order to integrate the amount of foreign matter captured by the filter 40 (step St4). Then, it is determined whether or not the integrated value Σy has exceeded the threshold value y max (step St5). The threshold value y max is set to the integrated value Σy of the reduced light amount calculated from the integrated amount of foreign matter that causes clogging of the filter 40.

積算値Σyが閾値ymax以下の場合は、処理を終了する。また、積算値Σyが閾値ymaxより大きい場合は、フィルタ詰まりの警告を出す(ステップSt6)。警告は、表示部(不図示)に表示してもよいし、警告音による報知を行ってもよい。 Integrated value Σy is the case of less than the threshold value y max, the process ends. Further, when the integrated value Σy is larger than the threshold value y max is a warning of filter clogging (Step St6). The warning may be displayed on a display unit (not shown) or may be notified by a warning sound.

このように、フィルタ詰まりの可能性をユーザに知らせることで、フィルタが詰まる前にフィルタ交換又はフィルタ清掃を促すことができる。なお、ユーザがフィルタ40を交換した場合、又はフィルタ40を清掃した場合には、積算値Σyはリセットされる。   Thus, by notifying the user of the possibility of filter clogging, it is possible to prompt the user to replace or clean the filter before the filter is clogged. When the user replaces the filter 40 or cleans the filter 40, the integrated value Σy is reset.

積算値Σyのリセットは、フィルタ40が取り外されたことを検出して自動的に行ってもよいし、ユーザが入力部(不図示)によって行ってもよい。   The integrated value Σy may be reset automatically by detecting that the filter 40 has been removed, or by the user through an input unit (not shown).

図10のフローチャートに戻り、ステップSt1において、受光部73bの低下光量yがαより大きい場合には、制御部は処理液内の異物が多いと判断し、流路切り替え弁Vの電磁バルブV1を閉弁状態、電磁バルブV2を開弁状態とする(ステップSt7)。   Returning to the flowchart of FIG. 10, in step St1, when the light amount y of the light receiving unit 73b is larger than α, the control unit determines that there is a large amount of foreign matter in the processing liquid, and the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is turned The valve is closed and the electromagnetic valve V2 is opened (step St7).

さらに、ポンプP2を駆動状態とし、ポンプP1を停止状態とする(ステップSt8)。これにより、処理液は第3の流路74を介して貯蔵槽76に送液される。また、同時にポンプP3も駆動状態とされ、貯蔵槽76に貯留された処理液は、多段槽70の初段の沈殿槽に送液される。   Further, the pump P2 is set in a driving state, and the pump P1 is set in a stopped state (step St8). As a result, the processing liquid is sent to the storage tank 76 via the third flow path 74. At the same time, the pump P 3 is also driven, and the processing liquid stored in the storage tank 76 is sent to the first stage sedimentation tank of the multistage tank 70.

ここで、ポンプP2の送液量とポンプP3の送液量とは、(ポンプP2の送液量)>(ポンプP3の送液量)の関係を満たしている。即ち、多段槽70から貯蔵槽76への流量よりも貯蔵槽76から多段槽70への流量の方が小さくなるように制御される。   Here, the amount of liquid supplied by the pump P2 and the amount of liquid supplied by the pump P3 satisfy the relationship of (the amount of liquid supplied by the pump P2)> (the amount of liquid supplied by the pump P3). That is, the flow rate from the storage tank 76 to the multistage tank 70 is controlled to be smaller than the flow rate from the multistage tank 70 to the storage tank 76.

また、ポンプP1の送液量とポンプP2の送液量とは、(ポンプP1の送液量)>(ポンプP2の送液量)の関係を満たしている。即ち、多段槽70からフィルタ40への流量よりも多段槽70から貯蔵槽76への流量の方が小さくなるように制御される。   Further, the amount of liquid delivered by the pump P1 and the amount of liquid delivered by the pump P2 satisfy the relationship of (amount of liquid delivered by the pump P1)> (amount of liquid delivered by the pump P2). That is, the flow rate from the multistage tank 70 to the storage tank 76 is controlled to be smaller than the flow rate from the multistage tank 70 to the filter 40.

このように、処理液内の異物が多いと判断された場合には、この処理液は貯蔵槽76を介して多段槽70に戻される。このとき、ポンプP3の送液量をポンプP2の送液量よりも小さくすることで流速を落とし、貯蔵槽76での滞留時間を延ばすことで、貯蔵槽76での異物の沈殿を促進することができる。このように、貯蔵槽76は、多段槽70への戻り流量を下げるための貯留槽として機能するとともに、処理液内の異物を沈殿させる沈殿槽としても機能する。   Thus, when it is determined that there are many foreign substances in the processing liquid, the processing liquid is returned to the multistage tank 70 via the storage tank 76. At this time, the flow rate of the pump P3 is made smaller than that of the pump P2, the flow rate is lowered, and the residence time in the storage tank 76 is extended, thereby promoting foreign matter precipitation in the storage tank 76. Can do. Thus, the storage tank 76 functions as a storage tank for lowering the return flow rate to the multistage tank 70 and also functions as a sedimentation tank that precipitates foreign substances in the processing liquid.

また、貯蔵槽76においては、液面検出センサS2が処理液の水面を検出している。制御部は、液面検出センサS2が、貯蔵槽76に貯留された処理液の液面の位置が貯蔵槽76に貯蔵可能な上限に達したことを検出したか否かを判定する(ステップSt9)。   In the storage tank 76, the liquid level detection sensor S2 detects the water level of the processing liquid. The control unit determines whether or not the liquid level detection sensor S2 has detected that the position of the liquid level of the processing liquid stored in the storage tank 76 has reached the upper limit that can be stored in the storage tank 76 (step St9). ).

貯蔵可能な上限に達していない場合には、処理を終了する。貯蔵可能な上限に達した場合には、ポンプP2、P3を停止し、警告を発生する(ステップSt10)。警告は、表示部(不図示)に表示してもよいし、警告音による報知を行ってもよい。   If the storable upper limit has not been reached, the process is terminated. When the upper limit is reached, the pumps P2 and P3 are stopped and a warning is generated (step St10). The warning may be displayed on a display unit (not shown) or may be notified by a warning sound.

このように、処理液内の異物が多く、多段槽70における異物の除去能力では処理しきれない場合には、貯蔵槽76に貯留された処理液が貯蔵可能な上限に達する。この場合には、処理液内に異物が多く、貯蔵槽76が満杯となったことをユーザに報知する。   Thus, when there are many foreign substances in a process liquid and it cannot process with the foreign material removal capability in the multistage tank 70, the upper limit which can store the process liquid stored in the storage tank 76 will be reached. In this case, the user is notified that there are many foreign substances in the processing liquid and the storage tank 76 is full.

上記の処理を、所定時間毎に行う。   The above processing is performed every predetermined time.

図11は、時間の経過における異物センサS1の検出結果と流路切り替え弁Vの制御を示す図である。   FIG. 11 is a diagram illustrating the detection result of the foreign matter sensor S1 and the control of the flow path switching valve V over time.

時間tにおいて、低下光量の積算値Σyはリセットされているものとする。 At time t 0, the accumulated value Σy reduction amount is assumed to be reset.

時間tにおいて、受光部73bの低下光量yはyである。ここで、y<αであるので、流路切り替え弁Vの電磁バルブV1は開弁状態、電磁バルブV2は閉弁状態とされる。同時にポンプP1が駆動され、処理液はフィルタ40に送液される。また、Σyにyが加算される。 At time t 1 , the reduced light amount y of the light receiving unit 73 b is y 1 . Here, since y 1 <α, the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is opened, and the electromagnetic valve V2 is closed. At the same time, the pump P <b> 1 is driven and the processing liquid is sent to the filter 40. In addition, y 1 is added to Σy.

同様に、時間t、t及びtにおいて、受光部73bの低下光量yは、それぞれαより小さい。したがって、引き続き流路切り替え弁Vの電磁バルブV1は開弁状態、電磁バルブV2は閉弁状態とされ、ポンプP1が駆動される。これにより、処理液はフィルタ40に送液される。また、Σyにはy、y、yが加算される。 Similarly, at times t 2 , t 3, and t 4 , the reduced light amount y of the light receiving unit 73 b is smaller than α. Therefore, the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is continuously opened, the electromagnetic valve V2 is closed, and the pump P1 is driven. Thereby, the processing liquid is sent to the filter 40. In addition, y 2 , y 3 , and y 4 are added to Σy.

次に、時間tにおいて、受光部73bの低下光量yはyである。ここで、y>αであるので、流路切り替え弁Vの電磁バルブV1は閉弁状態、電磁バルブV2は開弁状態とされる。また、ポンプP1が停止され、ポンプP2、P3が駆動される。これにより、処理液は貯蔵槽76に送液される。なお、時間tからtにおいてフィルタ40に処理液が送液されていることから、Σyにyを加算する。 Next, at time t 5 , the amount of reduced light y of the light receiving unit 73 b is y 5 . Here, since y 5 > α, the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is closed, and the electromagnetic valve V2 is opened. Further, the pump P1 is stopped and the pumps P2 and P3 are driven. Thereby, the processing liquid is sent to the storage tank 76. Incidentally, since the processing liquid in the filter 40 is fed at t 5 from the time t 4, it adds y 5 to .sigma.y.

同様に、時間t及びtにおいて、受光部73bの低下光量yは、それぞれαより大きい。したがって、引き続き流路切り替え弁Vの電磁バルブV1は閉弁状態、電磁バルブV2は開弁状態とされ、ポンプP2、P3が駆動される。これにより、処理液は貯蔵槽76に送液される。この間は、フィルタ40には処理液が送液されていないので、y06、yはΣyには積算されない。 Similarly, at times t 6 and t 7 , the amount of reduced light y of the light receiving unit 73 b is greater than α. Therefore, the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is continuously closed, the electromagnetic valve V2 is opened, and the pumps P2 and P3 are driven. Thereby, the processing liquid is sent to the storage tank 76. During this period, since the processing liquid in the filter 40 is not fed, y 06, y 7 is not integrated in the .sigma.y.

続いて、時間tにおいて、受光部73bの低下光量yは、yである。ここで、y<αであるので、流路切り替え弁Vの電磁バルブV1は開弁状態、電磁バルブV2は閉弁状態とされる。また、ポンプP2、P3が停止され、ポンプP1が駆動される。これにより、処理液はフィルタ40に送液される。また、Σyにyが加算される。 Subsequently, at time t 8 , the amount of reduced light y of the light receiving unit 73 b is y 8 . Here, since y 8 <α, the electromagnetic valve V1 of the flow path switching valve V is opened, and the electromagnetic valve V2 is closed. Further, the pumps P2 and P3 are stopped and the pump P1 is driven. Thereby, the processing liquid is sent to the filter 40. Further, y 8 is added to .sigma.y.

このように、流路切り替え弁V及びポンプP1、P2、P3が制御される。また、処理液がフィルタ40に送液されている間、受光部73bの低下光量を積算することで、フィルタ40に捕捉される異物量を算出することができる。   Thus, the flow path switching valve V and the pumps P1, P2, and P3 are controlled. In addition, while the processing liquid is being sent to the filter 40, the amount of foreign matter captured by the filter 40 can be calculated by integrating the amount of light reduced by the light receiving unit 73b.

図12に、時間の経過における積算値Σyの変化の一例を示す。同図に示すように、時間の経過と共に、積算値Σyが増加していく。時間t10において積算値Σyが閾値ymaxに達すると、警告が発生する。その後、時間t11においてフィルタ交換又はフィルタ清掃が行われると、積算値Σyはリセットされ、再び0から積算を開始する。 FIG. 12 shows an example of a change in the integrated value Σy over time. As shown in the figure, the integrated value Σy increases with time. When the integration value Σy reaches the threshold y max at time t 10, a warning is generated. Thereafter, the filter replacement or filter cleaning takes place at time t 11, the integrated value Σy is reset, starts integration from 0 again.

〔液体付与装置の全体構成〕
図13は、上記の異物除去装置が適用された塗布装置100の概略構成を示す全体構成図である。同図に示す塗布装置100は、被塗布媒体(不図示)に塗布液(処理液)を塗布する塗布部112(付与手段に相当)と、塗布部112が塗布する塗布液を収容する塗布皿124(収容部に相当)と、塗布皿124内の塗布液をサブタンク132へ送液する循環流路164、及びサブタンク132内の塗布液を塗布皿124へ供給する液供給路136(循環流路に相当)と、循環する塗布液の異物を除去するフィルタ装置166と、を含んで構成されている。
[Overall configuration of liquid applicator]
FIG. 13 is an overall configuration diagram showing a schematic configuration of a coating apparatus 100 to which the above foreign matter removing apparatus is applied. The coating apparatus 100 shown in the figure includes a coating unit 112 (corresponding to an applying unit) that applies a coating liquid (processing liquid) to a medium to be coated (not shown), and a coating dish that stores the coating liquid that the coating unit 112 applies. 124 (corresponding to the container), a circulation channel 164 for feeding the coating liquid in the coating tray 124 to the sub tank 132, and a liquid supply path 136 (circulation channel) for feeding the coating liquid in the sub tank 132 to the coating tray 124. And a filter device 166 that removes foreign matters in the circulating coating liquid.

(塗布部の説明)
塗布部112は、被塗布媒体を固定保持して搬送する圧胴120と、被塗布媒体に接触させて塗布液を塗布する塗布ローラ122と、塗布皿124に溜められた塗布液を計量して塗布ローラ122へ転写(供給)するアニロックスローラ(計量ローラ)126と、を備えている。
(Description of application part)
The application unit 112 measures the application liquid stored in the application tray 124, the impression cylinder 120 that holds and applies the application medium, the application roller 122 that applies the application liquid in contact with the application medium, and the application liquid. An anilox roller (measuring roller) 126 that transfers (supplies) to the application roller 122.

圧胴120は不図示の駆動機構と連結され、該駆動機構の動作に応じて所定方向(図中符号Cを付した反時計回り方向)へ回転動作する。圧胴120の外周面に固定保持被塗布媒体は、圧胴120の回転動作に応じて圧胴120の外周面に沿って搬送される。   The impression cylinder 120 is connected to a drive mechanism (not shown), and rotates in a predetermined direction (counterclockwise direction indicated by a symbol C in the drawing) according to the operation of the drive mechanism. The medium to be fixedly held on the outer circumferential surface of the impression cylinder 120 is conveyed along the outer circumferential surface of the impression cylinder 120 in accordance with the rotation operation of the impression cylinder 120.

塗布ローラ122は、不図示の駆動機構と連結され、該駆動機構の動作に応じて所定方向(図中符号Dを付した時計回り方向)へ回転動作する。塗布ローラ122の回転速度は、圧胴120の接触位置における線速度が圧胴120と一致するように決められている。   The application roller 122 is connected to a drive mechanism (not shown), and rotates in a predetermined direction (clockwise direction indicated by a symbol D in the drawing) according to the operation of the drive mechanism. The rotation speed of the application roller 122 is determined so that the linear velocity at the contact position of the impression cylinder 120 matches that of the impression cylinder 120.

また、塗布ローラ122は、被塗布媒体に対して塗布液の塗布を行う塗布時には、被塗布媒体(圧胴120)を所定の圧力により押圧し、塗布液の塗布を行わない非塗布時には、圧胴120から離間させるように圧胴120との相対位置が制御される。符号Eを付した白抜き矢印線は、圧胴120の押圧方向及び離間方向を表している。   The application roller 122 presses the application medium (the impression cylinder 120) with a predetermined pressure at the time of application for applying the application liquid to the application medium, and the pressure at the time of non-application when the application liquid is not applied. The relative position with respect to the impression cylinder 120 is controlled so as to be separated from the cylinder 120. White arrow lines with a symbol E represent the pressing direction and the separating direction of the impression cylinder 120.

塗布皿124は、液供給部114から供給された塗布液が溜められる貯留部124Aと、貯留部124Aから溢れた塗布液が収容される収容部124Bと、貯留部124Aと収容部124Bとを区画する区画壁124Cと、区画壁124Cに設けられた開口部124Dとを有している。   The application tray 124 divides a storage part 124A in which the application liquid supplied from the liquid supply part 114 is stored, a storage part 124B in which the coating liquid overflowing from the storage part 124A is stored, and a storage part 124A and a storage part 124B. A partition wall 124C to be opened, and an opening 124D provided in the partition wall 124C.

液供給部114から供給された塗布液の水面が区画壁124Cの開口部124Dに達すると、貯留部124Aから収容部124Bへ塗布液が溢れ出すので、貯留部124Aに貯留される塗布液の水位が一定に保たれる。貯留部124Aの塗布液の水位を一定に保つことで、アニロックスローラ126による塗布液の計量のばらつきが防止される。   When the water level of the coating liquid supplied from the liquid supply unit 114 reaches the opening 124D of the partition wall 124C, the coating liquid overflows from the storage unit 124A to the storage unit 124B, so the water level of the coating liquid stored in the storage unit 124A Is kept constant. By keeping the water level of the coating liquid in the reservoir 124A constant, variations in the coating liquid metering by the anilox roller 126 are prevented.

収容部124Bへ溢れ出した塗布液は、不図示の排出口と連通される循環流路164を介して液供給部114(サブタンク132)へ戻される。   The coating liquid overflowing into the storage unit 124B is returned to the liquid supply unit 114 (sub tank 132) via a circulation channel 164 communicating with a discharge port (not shown).

貯留部124Aの底面124Eは、不図示の排出口が設けられており、該排出口を介して貯留部124Aに貯留される塗布液を外部へ排出することができる。   The bottom surface 124E of the storage unit 124A is provided with a discharge port (not shown), and the coating liquid stored in the storage unit 124A can be discharged to the outside through the discharge port.

アニロックスローラ126は、表面に所定の体積を有するセル(不図示)が多数形成された構造を有し、該セルの中に保持された塗布液が塗布ローラ122へ供給される。アニロックスローラ126を一定速度で回転させることで(符号Fを付した矢印線により回転方向を図示)、塗布皿124内の塗布液を一定量計量しながらくみ上げることができる。   The anilox roller 126 has a structure in which a large number of cells (not shown) having a predetermined volume are formed on the surface, and the coating liquid held in the cells is supplied to the coating roller 122. By rotating the anilox roller 126 at a constant speed (the direction of rotation is indicated by an arrow line with a symbol F), the application liquid in the application tray 124 can be pumped while measuring a predetermined amount.

(液供給部の説明)
次に、液供給部114について詳述する。図13に示すように、液供給部114は、メインタンク130と、サブタンク132と、液供給路136と、循環流路164と、廃液タンク172と、排出流路174と、を備えている。
(Description of liquid supply unit)
Next, the liquid supply unit 114 will be described in detail. As shown in FIG. 13, the liquid supply unit 114 includes a main tank 130, a sub tank 132, a liquid supply path 136, a circulation flow path 164, a waste liquid tank 172, and a discharge flow path 174.

メインタンク130は塗布液が貯留されており、フィルタ130Aが内蔵されている。メインタンク130は、補充流路133及び補充流路133に設けられた補充ポンプ134を介してサブタンク132と連通している。   The main tank 130 stores a coating liquid and has a built-in filter 130A. The main tank 130 communicates with the sub tank 132 via a replenishment flow path 133 and a replenishment pump 134 provided in the replenishment flow path 133.

サブタンク132内の塗布液量が所定量未満になると、補充ポンプ134を動作させてメインタンク130からサブタンク132へ塗布液が補充される。   When the amount of the coating liquid in the sub tank 132 becomes less than a predetermined amount, the replenishing pump 134 is operated to replenish the coating liquid from the main tank 130 to the sub tank 132.

サブタンク132は、液供給路136を介して塗布部112(塗布皿124)と連通されている。サブタンク132は、フィルタ132Aが内蔵されるとともに、収容されている塗布液量を検出するための液量センサ(不図示)が設けられている。   The sub tank 132 communicates with the application unit 112 (application tray 124) via the liquid supply path 136. The sub tank 132 includes a filter 132A, and is provided with a liquid amount sensor (not shown) for detecting the amount of the applied coating liquid.

液供給路136は、供給バルブ138、供給ポンプ140が設けられている。供給バルブ138が開かれた状態で供給ポンプ140を動作させると、サブタンク132から塗布部112へ塗布液が供給される。   The liquid supply path 136 is provided with a supply valve 138 and a supply pump 140. When the supply pump 140 is operated while the supply valve 138 is opened, the coating liquid is supplied from the sub tank 132 to the coating unit 112.

液供給路136は、供給バルブ138と供給ポンプ140との間において、フィルタ142Aが内蔵される希釈液タンク142と連通される希釈液流路144が接続されている。希釈液流路144には希釈液流路バルブ146が設けられており、供給バルブ138が閉じられて希釈液流路バルブ146が開かれると、塗布液に代わり希釈液が塗布部112へ供給される。   The liquid supply path 136 is connected between the supply valve 138 and the supply pump 140 with a diluent flow path 144 communicating with the diluent tank 142 in which the filter 142A is built. The diluent channel 144 is provided in the diluent channel 144. When the supply valve 138 is closed and the diluent channel valve 146 is opened, the diluent is supplied to the coating unit 112 instead of the coating solution. The

液供給路136は、液供給路136内の塗布液の濃度を検出するための濃度計148と、液供給路136内の塗布液の温度を検出する温度センサ152と、液供給路136内の温度調整を行うヒータ156が設けられている。   The liquid supply path 136 includes a concentration meter 148 for detecting the concentration of the coating liquid in the liquid supply path 136, a temperature sensor 152 for detecting the temperature of the coating liquid in the liquid supply path 136, and a liquid supply path 136. A heater 156 for adjusting the temperature is provided.

液供給路136内の塗布液は、濃度計148によって濃度が監視され、所定の濃度範囲が維持されるように管理される。また、温度センサ152によって温度が監視され、所定の温度範囲が維持されるように、温度が管理される。   The concentration of the coating liquid in the liquid supply path 136 is monitored by a densitometer 148 and managed so as to maintain a predetermined concentration range. Further, the temperature is monitored by the temperature sensor 152, and the temperature is managed so that a predetermined temperature range is maintained.

循環流路164は、液供給部114からサブタンク132へ塗布液を循環させるための流路であり、液供給部114(塗布皿124)と連通している循環流路164から分岐されている。   The circulation channel 164 is a channel for circulating the coating liquid from the liquid supply unit 114 to the sub tank 132 and is branched from the circulation channel 164 communicating with the liquid supply unit 114 (application tray 124).

塗布皿124と連通する循環流路164は、貯留部124Aの排出口と連通する流路に設けられる第1循環バルブ160と、収容部124Bの底面に設けられる第2循環バルブ162が設けられるとともに、フィルタ装置166、循環ポンプ168が設けられている。   The circulation channel 164 that communicates with the application tray 124 is provided with a first circulation valve 160 that is provided in a channel that communicates with the discharge port of the storage portion 124A and a second circulation valve 162 that is provided on the bottom surface of the storage portion 124B. A filter device 166 and a circulation pump 168 are provided.

第2循環バルブ162が開かれた状態で循環ポンプ168を動作させると、フィルタ装置166、循環ポンプ168を介して塗布液がサブタンク132へ戻される。   When the circulation pump 168 is operated with the second circulation valve 162 opened, the coating liquid is returned to the sub tank 132 via the filter device 166 and the circulation pump 168.

供給ポンプ140の送液量と循環ポンプ168の送液量とは、(供給ポンプの送液量)>(循環ポンプの送液量)の関係を満たしている。即ち、アニロックスローラ126が浸された貯留部124Aは、塗布液がオーバーフローした状態で使用される。貯留部124Aからオーバーフローした塗布液は、収容部124Bを介して循環ポンプ168により回収され、サブタンク132へ戻され、再使用される。   The liquid feed amount of the supply pump 140 and the liquid feed amount of the circulation pump 168 satisfy the relationship of (liquid feed amount of the supply pump)> (liquid feed amount of the circulation pump). That is, the storage portion 124A in which the anilox roller 126 is immersed is used in a state where the coating liquid overflows. The coating liquid overflowed from the storage unit 124A is collected by the circulation pump 168 via the storage unit 124B, returned to the sub tank 132, and reused.

塗布皿124からオーバーフローした塗布液は、一般的な汚れや塗布装置100の後段の処理工程において、被塗布媒体をスタックする際のブロッキングの発生を抑制するためのパウダーなどが混入している。   The coating liquid overflowed from the coating tray 124 is mixed with powder for suppressing the occurrence of blocking when stacking the medium to be coated in the general dirt or the subsequent processing step of the coating apparatus 100.

したがって、塗布部112から回収された塗布液は、混入している汚れやパウダーなどがフィルタ装置166によって除去された後に、サブタンク132へ送られる。   Therefore, the coating liquid collected from the coating unit 112 is sent to the sub tank 132 after the contaminated dirt or powder is removed by the filter device 166.

図13に示すフィルタ装置166は、先に説明した異物除去装置10、12、14、又は16が適用される。ここで、異物除去装置10、16の第1の流路30、異物除去装置12、14の第1の流路36が、循環流路164に相当する。また、異物除去装置10、12、14、又は16の処理液は、塗布装置100の塗布液に相当する。   As the filter device 166 shown in FIG. 13, the foreign matter removing device 10, 12, 14, or 16 described above is applied. Here, the first flow path 30 of the foreign matter removal apparatuses 10 and 16 and the first flow path 36 of the foreign matter removal apparatuses 12 and 14 correspond to the circulation flow path 164. Further, the treatment liquid of the foreign matter removing apparatus 10, 12, 14, or 16 corresponds to the coating liquid of the coating apparatus 100.

なお、異物除去装置16が適用される場合には、循環ポンプ168は省略することができる。   In addition, when the foreign material removal apparatus 16 is applied, the circulation pump 168 can be omitted.

また、塗布皿124の貯留部124A及び収容部124Bは、排出流路174を介して廃液タンク172と連通される。排出流路174にはドレインバルブ170及び排出ポンプ176が設けられており、ドレインバルブ170が開かれた状態で排出ポンプ176を動作させると、貯留部124A及び収容部124Bの塗布液は、廃液タンク172へ送られる。   In addition, the storage portion 124 </ b> A and the storage portion 124 </ b> B of the application tray 124 are communicated with the waste liquid tank 172 via the discharge channel 174. The drain passage 174 is provided with a drain valve 170 and a drain pump 176. When the drain pump 176 is operated with the drain valve 170 opened, the coating liquid in the storage portion 124A and the storage portion 124B is discharged from the waste liquid tank. 172.

なお、図13に図示された構成以外の構成を適宜付加してもよいし、図13に図示された構成を適宜削除することも可能である。   Note that a configuration other than the configuration illustrated in FIG. 13 may be added as appropriate, and the configuration illustrated in FIG. 13 may be deleted as appropriate.

図14は、図13に示す塗布装置100の制御系の概略構成を示すブロック図である。   FIG. 14 is a block diagram showing a schematic configuration of a control system of the coating apparatus 100 shown in FIG.

システム制御部200は、塗布装置100を統括的に制御する手段であり、塗布制御部220、バルブ制御部230、ポンプ制御部240、及びヒータ制御部260へ制御指令信号を送出する。   The system control unit 200 is a unit that comprehensively controls the coating apparatus 100 and sends control command signals to the coating control unit 220, the valve control unit 230, the pump control unit 240, and the heater control unit 260.

警告部210は、フィルタ40の詰まりの警告や、貯蔵槽76の処理液の液面が貯蔵可能な上限に達した場合の警告を行う。警告部210は、モニタ等の表示手段でもよいし、警告音の発音手段であってもよい。   The warning unit 210 issues a warning about clogging of the filter 40 and a warning when the liquid level of the processing liquid in the storage tank 76 reaches an upper limit that can be stored. The warning unit 210 may be a display unit such as a monitor, or may be a warning sound generation unit.

塗布制御部220は、塗布部112(塗布ローラ122)の動作を制御する。即ち、塗布ローラ122の回転制御、押圧制御、アニロックスローラ126の回転制御、圧胴120の回転制御は、塗布制御部220によって行われる。   The application control unit 220 controls the operation of the application unit 112 (application roller 122). That is, the application control unit 220 performs rotation control, pressure control, anilox roller 126 rotation control, and impression cylinder 120 rotation control of the application roller 122.

バルブ制御部230は、システム制御部200の制御指令信号に基づいて、供給バルブ138、希釈液流路バルブ146、第1循環バルブ160、第2循環バルブ162、及びドレインバルブ170等のバルブの開閉を制御する。   The valve control unit 230 opens and closes valves such as the supply valve 138, the diluent flow path valve 146, the first circulation valve 160, the second circulation valve 162, and the drain valve 170 based on the control command signal of the system control unit 200. To control.

また、バルブ制御部230は、異物センサS1の検出結果に基づいて、流路切り替え弁Vの電磁バルブV1、V2の開閉を制御する。   The valve controller 230 controls the opening and closing of the electromagnetic valves V1 and V2 of the flow path switching valve V based on the detection result of the foreign matter sensor S1.

ポンプ制御部240は、システム制御部200の制御指令信号に基づいて、補充ポンプ134、供給ポンプ140、及び循環ポンプ168等のポンプの動作(オンオフ、回転数、回転方向等)を制御する。   The pump control unit 240 controls operations (ON / OFF, rotation speed, rotation direction, etc.) of pumps such as the replenishment pump 134, the supply pump 140, and the circulation pump 168 based on the control command signal of the system control unit 200.

また、ポンプ制御部240は、液面検出センサS2の検出結果に基づいて、ポンプP1、P2、P3の動作を制御する。   The pump control unit 240 controls the operations of the pumps P1, P2, and P3 based on the detection result of the liquid level detection sensor S2.

濃度計148により取得された塗布液の濃度情報は、システム制御部200へ送られる。システム制御部200は、塗布液の濃度情報に基づいて希釈液の供給を制御する。   The concentration information of the coating liquid acquired by the densitometer 148 is sent to the system control unit 200. The system control unit 200 controls the supply of the dilution liquid based on the concentration information of the coating liquid.

温度センサ152により取得された塗布液の温度情報は、システム制御部200へ送られる。システム制御部200は、塗布液の温度情報に基づいてヒータ156の制御指令信号をヒータ制御部250へ送出する。ヒータ制御部250は、該制御指令信号に基づいてヒータ156の動作を制御する。   The temperature information of the coating liquid acquired by the temperature sensor 152 is sent to the system control unit 200. The system control unit 200 sends a control command signal for the heater 156 to the heater control unit 250 based on the temperature information of the coating liquid. The heater control unit 250 controls the operation of the heater 156 based on the control command signal.

なお、図14に図示された構成以外の構成を付加することも可能である。例えば、ユーザインターフェイスとして機能する操作部(キーボード、マウス、タッチパネル等)や、各種情報が表示されるモニタ装置を備えることも可能である。   It is also possible to add a configuration other than the configuration shown in FIG. For example, an operation unit (keyboard, mouse, touch panel, etc.) that functions as a user interface and a monitor device that displays various types of information can be provided.

また、図13に図示した塗布装置100から、液供給部114の構成を分離させて液供給装置として構成する形態も可能である。   Moreover, the form which isolate | separates the structure of the liquid supply part 114 from the coating device 100 illustrated in FIG. 13 and comprises as a liquid supply apparatus is also possible.

以上説明した塗布装置100は、記録媒体上で処理液とインクとを反応させて、インクに含まれる色材を凝集又は不溶化させる二液方式のインクジェット記録装置に適用することができる。   The coating apparatus 100 described above can be applied to a two-component ink jet recording apparatus that causes a treatment liquid and ink to react on a recording medium to aggregate or insolubilize a color material contained in the ink.

即ち、二液方式のインクジェット記録装置における、カラーインクが打滴される前工程として、記録媒体の全面に処理液(酸性液)を均一に塗布する処理塗布部として構成することも可能である。   That is, in the two-component ink jet recording apparatus, as a pre-process for ejecting the color ink, it is possible to configure as a processing application section that uniformly applies the processing liquid (acidic liquid) to the entire surface of the recording medium.

これによれば、記録媒体の記録面に異物が混入していない処理液を付与することができるため、記録ヘッドによる高品質な記録を行うことができる。   According to this, it is possible to apply the treatment liquid in which no foreign matter is mixed into the recording surface of the recording medium, and therefore it is possible to perform high-quality recording with the recording head.

本発明の技術的範囲は、上記実施形態に記載の範囲には限定されない。各実施形態における構成等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、各実施形態間で適宜組み合せることができる。   The technical scope of the present invention is not limited to the scope described in the above embodiment. The configurations and the like in the respective embodiments can be appropriately combined among the respective embodiments without departing from the spirit of the present invention.

10,12,14,16…異物除去装置、20…第1の沈殿槽、20a…オーバーフロー路、22…第2の沈殿槽、24…第3の沈殿槽、30,36…第1の流路、34…第2の流路、38…遮蔽板、40…フィルタ、70…多段槽、73a…投光部、73b…受光部、74…第3の流路、76…貯蔵槽、100…塗布装置、112…塗布部、124…塗布皿、132…サブタンク、166…フィルタ装置、P1,P2,P3…ポンプ、S1…異物センサ、S2…液面検出センサ   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 12, 14, 16 ... Foreign material removal apparatus, 20 ... 1st sedimentation tank, 20a ... Overflow path, 22 ... 2nd sedimentation tank, 24 ... 3rd sedimentation tank, 30, 36 ... 1st flow path 34 ... second flow path, 38 ... shielding plate, 40 ... filter, 70 ... multistage tank, 73a ... light projecting part, 73b ... light receiving part, 74 ... third flow path, 76 ... storage tank, 100 ... coating Device, 112 ... coating unit, 124 ... coating plate, 132 ... sub tank, 166 ... filter device, P1, P2, P3 ... pump, S1 ... foreign matter sensor, S2 ... liquid level detection sensor

Claims (12)

所定の対象物に液体を付与する付与手段と、
前記付与手段が付与する液体を収容する収容部と、
前記収容部に収容された液体を循環させる循環流路と、
を備え、
前記循環流路は、
内部に液体を貯留し、液面の高さが所定の高さに達すると液体がオーバーフローする複数の沈殿槽を有する多段槽であって、オーバーフローした液体が順次次段の沈殿槽に流入するように前記複数の沈殿槽が接続された多段槽と、
前記多段槽を通過した液体をろ過するフィルタと、
前記収容部に収容された液体を前記多段槽に供給する第1の流路と、
前記ろ過された液体を前記収容部に戻す第2の流路と、
を備えたことを特徴とする液体付与装置。
Applying means for applying a liquid to a predetermined object;
A storage section for storing the liquid applied by the applying means;
A circulation channel for circulating the liquid stored in the storage unit;
With
The circulation channel is
A multi-stage tank that has a plurality of settling tanks in which the liquid is stored and the liquid overflows when the liquid level reaches a predetermined height, so that the overflowed liquid sequentially flows into the next settling tank. A multi-stage tank connected to the plurality of settling tanks;
A filter for filtering the liquid that has passed through the multistage tank;
A first flow path for supplying the liquid stored in the storage portion to the multistage tank;
A second flow path for returning the filtered liquid to the container;
A liquid applicator characterized by comprising:
前記第1の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽に水平方向から液体を供給することを特徴とする請求項1に記載の液体付与装置。   The liquid applicator according to claim 1, wherein the first flow path supplies liquid from a horizontal direction to a first-stage sedimentation tank of the multistage tank. 前記第1の流路は、前記多段槽の初段の沈殿槽の前記所定の高さから液体を供給することを特徴とする請求項2に記載の液体付与装置。   The liquid application apparatus according to claim 2, wherein the first flow path supplies a liquid from the predetermined height of the first stage sedimentation tank of the multistage tank. 前記第1の流路は、前記多段槽に複数個所から液体を供給することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の液体付与装置。   The liquid application apparatus according to claim 1, wherein the first flow path supplies liquid from a plurality of locations to the multistage tank. 前記第1の流路の終端に対向する位置に液体の流れを遮る遮蔽手段を備えたことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の液体付与装置。   5. The liquid applying apparatus according to claim 1, further comprising: a shielding unit that blocks a liquid flow at a position facing the end of the first flow path. 前記複数の沈殿槽は、後段の沈殿槽ほど体積が大きいこと特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の液体付与装置。   The liquid applicator according to any one of claims 1 to 5, wherein the plurality of settling tanks have a larger volume as a subsequent settling tank. 前記多段槽を通過した液体に含まれる異物の状態を判定する異物センサと、
前記多段槽を通過した液体を前記多段槽の初段の沈殿槽に戻す第3の流路と、
前記多段槽を通過した液体を前記フィルタ及び前記第3の流路のいずれに供給するかを切り換える流路切り換え手段と、
前記異物センサにより異物の量が所定量未満であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記フィルタに供給させ、前記異物センサにより異物の量が所定量以上であることが検出されると、前記多段槽を通過した液体を前記第3の流路に供給させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の液体付与装置。
A foreign matter sensor for determining the state of foreign matter contained in the liquid that has passed through the multistage tank;
A third flow path for returning the liquid that has passed through the multistage tank to the first stage sedimentation tank of the multistage tank;
A flow path switching means for switching to which of the filter and the third flow path the liquid that has passed through the multistage tank is supplied;
When the foreign matter sensor detects that the amount of foreign matter is less than a predetermined amount, the liquid that has passed through the multistage tank is supplied to the filter, and the foreign matter sensor detects that the amount of foreign matter is greater than or equal to a predetermined amount. Then, the control means for supplying the liquid that has passed through the multistage tank to the third flow path,
The liquid applicator according to any one of claims 1 to 6, further comprising:
前記異物センサは、光を投光する投光部と、該投光部の投光した光を、前記多段槽を通過した液体を介して受光する受光部とを有し、該受光部の受光光量に基づいて前記異物を検出することを特徴とする請求項7に記載の液体付与装置。   The foreign matter sensor has a light projecting unit that projects light, and a light receiving unit that receives the light projected by the light projecting unit through the liquid that has passed through the multistage tank. The liquid application apparatus according to claim 7, wherein the foreign matter is detected based on a light amount. 前記異物センサの検出結果に基づいて、前記フィルタが捕捉した異物の積算量を算出する積算手段と、
前記算出された積算量が所定量を超えたことを警告する第1の警告手段と、
を備えたことを特徴とする請求項7又は8に記載の液体付与装置。
Based on the detection result of the foreign matter sensor, integrating means for calculating the cumulative amount of foreign matter captured by the filter;
First warning means for warning that the calculated integrated amount exceeds a predetermined amount;
The liquid applicator according to claim 7 or 8, further comprising:
前記第3の流路は前記液体を貯蔵する貯蔵槽を備え、
前記制御手段は、前記多段槽から前記貯蔵槽への流量よりも前記貯蔵槽から前記多段槽への流量の方が小さくなるように第3の流路の流量を制御することを特徴とする請求項7から9のいずれか1項に記載の液体付与装置。
The third flow path includes a storage tank for storing the liquid,
The said control means controls the flow volume of a 3rd flow path so that the flow volume from the said storage tank to the said multistage tank may become smaller than the flow volume from the said multistage tank to the said storage tank. Item 10. The liquid applicator according to any one of Items 7 to 9.
前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量を検出する液量センサと、
前記貯蔵槽に貯蔵された液体の量が所定量を超えたことを警告する第2の警告手段と、
を備えたことを特徴とする請求項10に記載の液体付与装置。
A liquid amount sensor for detecting the amount of liquid stored in the storage tank;
A second warning means for warning that the amount of liquid stored in the storage tank exceeds a predetermined amount;
The liquid applicator according to claim 10, further comprising:
請求項1から11のいずれか1項に記載の液体付与装置により記録媒体の記録面に処理液を付与する処理液付与手段と、
前記処理液が付与された記録媒体の記録面にインクを吐出する記録ヘッドと、
を備えたことを特徴とするインクジェット記録装置。
A treatment liquid application means for applying a treatment liquid to the recording surface of the recording medium by the liquid application apparatus according to claim 1;
A recording head that ejects ink onto a recording surface of a recording medium to which the treatment liquid is applied;
An ink jet recording apparatus comprising:
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