JP2013063865A - Method for producing silylated h-type zeolite having cha-type structure - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a simple production method in the production of a silylated H-type zeolite required to pass through a complicated production step.SOLUTION: The method for producing the silylated H-type zeolite having CHA-type structure is characterized by reacting a non-H-type zeolite having the CHA structure with a silylating agent in the presence of an acidic aqueous solution. Specifically, a non-H-type zeolite obtained by hydrothermal synthesis is subjected to silylation treatment using a concentration-adjusted acid-containing aqueous solution as a reaction solvent to thereby obtain the objective silylated H-type zeolite without collapsing the structure.

Description

本発明は、シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure.

従来、プロピレンを製造する方法としてはナフサのスチームクラッキング法や減圧軽油の流動接触分解法が一般的に実施されている。しかしスチームクラッキング法ではプロピレンの他にエチレンも大量に生産される上に、プロピレンとエチレンの製造割合を大きく変えることは難しいため、プロピレンとエチレンの需給バランスの変化に対応することは困難であった。そこでエチレンを原料として高い収率でプロピレンを製造する技術が望まれていた。   Conventionally, as a method for producing propylene, a naphtha steam cracking method and a fluidized catalytic cracking method of vacuum gas oil have been generally carried out. However, in the steam cracking method, in addition to propylene, a large amount of ethylene is produced, and it is difficult to greatly change the production ratio of propylene and ethylene, so it is difficult to cope with changes in the supply-demand balance between propylene and ethylene. . Therefore, a technique for producing propylene with high yield using ethylene as a raw material has been desired.

特許文献1には、シリル化されたCHA型ゼオライトを触媒として用い、エチレンを前記触媒と接触させることにより、プロピレンを高い選択率で得られることが提示されている。しかし、ゼオライトのシリル化に際しては、下記のような問題点があった。
ゼオライトを製造する際に、一般的に行なわれる水熱合成反応では、通常、原料を溶解させるためにアルカリ水溶液(以下、単にアルカリということがある)を 用いる。その
ため水熱合成反応後に、得られた生成物を焼成し、ゼオライトを得た時点では、ゼオライトは、アルカリ水溶液由来の金属、(例えばアルカリ金属やアルカリ土類金属等)を、Tサイトのカウンターカチオンに有している。アルミノシリケートの製造時を例に取ると、原料のケイ素原子源を溶解するために、アルカリとしてアルカリ金属を含むもの(例えば水酸化ナトリウム水溶液)を用いた場合、得られるアルミノシリケート中のアルミニウム原子は、用いたアルカリ由来のアルカリ金属をカウンターカチオンとして有する(以下、アルカリ金属型のゼオライトということがある)。
Patent Document 1 proposes that propylene can be obtained with high selectivity by using silylated CHA-type zeolite as a catalyst and bringing ethylene into contact with the catalyst. However, there are the following problems in silylation of zeolite.
When producing zeolite, in a hydrothermal synthesis reaction generally performed, an aqueous alkali solution (hereinafter sometimes simply referred to as alkali) is usually used to dissolve the raw material. Therefore, after the hydrothermal synthesis reaction, the obtained product is calcined, and when the zeolite is obtained, the zeolite is a metal derived from an alkaline aqueous solution (for example, an alkali metal or an alkaline earth metal), and a counter cation at the T site. Have. For example, when an aluminosilicate is produced, when an alkali metal (for example, an aqueous sodium hydroxide solution) is used as an alkali to dissolve the raw silicon atom source, the aluminum atoms in the resulting aluminosilicate are: The alkali metal derived from the alkali used as a counter cation (hereinafter sometimes referred to as an alkali metal type zeolite).

前記のアルカリ金属型のゼオライトをシリル化して酸触媒として利用するためには、シリル化処理を実施する前に、イオン交換をして、カウンターカチオンのアルカリ金属を、プロトンに変換する必要がある。
カウンターカチオンを、アルカリ金属からプロトンにイオン交換し、H型(プロトン型ともいうことがある)に変換する方法としては、酸を作用させる方法が想定される。
In order to silylate the alkali metal type zeolite and use it as an acid catalyst, it is necessary to convert the alkali metal of the counter cation to protons by performing ion exchange before performing the silylation treatment.
As a method of converting the counter cation from an alkali metal to a proton and converting it to an H type (sometimes referred to as a proton type), a method in which an acid is allowed to act is assumed.

ゼオライトに酸を作用させる方法として、特許文献2では、ゼオライトの結晶格子の欠陥を埋めるための処理方法として、硝酸水溶液を含んだ溶液で処理している。また特許文献3には、ゼオライトの層間距離を広げるため、硝酸水溶液を含んだ溶液で処理している。
しかし、一般的にゼオライトに酸を作用させた場合、Tサイトに入ったアルミニウム等の金属の脱離が起こり、程度によってはその結果構造の崩壊が起こる場合がある。金属の脱離、または構造崩壊が起こった場合、通常はゼオライトの機能、例えば触媒性能や吸着特性が悪化する。そのため、酸を作用させてイオン交換を行なうことは通常行なわない。特許文献2、3の例についても、酸の存在によってアルミニウムが骨格から脱離している(以下、脱Alということがある)可能性が考えられる。そしていずれの場合も構造規定剤を内包する状態でシリル化処理を行っているため、構造が安定に保たれているため、酸処理による構造の崩壊はみられていない。
As a method for allowing an acid to act on zeolite, Patent Document 2 treats with a solution containing a nitric acid aqueous solution as a treatment method for filling defects in the crystal lattice of the zeolite. Moreover, in patent document 3, in order to expand the interlayer distance of a zeolite, it processes with the solution containing nitric acid aqueous solution.
However, in general, when an acid is allowed to act on zeolite, metal such as aluminum entering the T site is detached, and depending on the degree, the structure may be collapsed as a result. When metal desorption or structural collapse occurs, usually the function of the zeolite, for example, the catalyst performance and the adsorption characteristics deteriorate. For this reason, it is not usual to perform ion exchange with the action of an acid. Also in the examples of Patent Documents 2 and 3, there is a possibility that aluminum is desorbed from the skeleton due to the presence of an acid (hereinafter sometimes referred to as de-Al). In any case, since the silylation treatment is performed in a state of including the structure-directing agent, the structure is kept stable, so that the structure is not collapsed by the acid treatment.

ゼオライトは、特に構造規定剤を内包していない場合には、アルミニウム等の金属が、ゼオライト骨格から脱離することにより、構造の規則性の低下、または構造崩壊を起こすことがある。CHA型ゼオライトにおいても酸で処理することでXRD測定によって得られるパターンにおいて、ピーク強度の減少が見られており、構造規則性が低下していると
考えられる(比較例2、3参照)。
When zeolite does not include a structure-directing agent, metals such as aluminum may be desorbed from the zeolite skeleton, resulting in a decrease in structural regularity or structural collapse. In the pattern obtained by XRD measurement by treating with CHA-type zeolite also with an acid, a decrease in peak intensity is observed, and it is considered that the structural regularity is reduced (see Comparative Examples 2 and 3).

そのため、通常H型へのイオン交換は、まずアンモニウム塩でイオン交換し、一旦アンモニウム型に変換したあとで、これを焼成することによってアンモニウムイオンを除去することで行なうのが一般的であり、アルカリ金属型等の非H型のゼオライトから、シリル化されたH型ゼオライトを直接製造する方法が求められていた。   Therefore, the ion exchange to the H type is usually performed by first exchanging with an ammonium salt and once converting it to the ammonium type, and then baking it to remove ammonium ions. There has been a demand for a method of directly producing silylated H-type zeolite from non-H-type zeolite such as metal type.

国際公開第2010/128664号International Publication No. 2010/128664 特開2008−063195号公報JP 2008-063195 A 特開2008−162846号公報JP 2008-162846 A

本発明は、シリル化されたH型ゼオライトの製造において、非H型ゼオライトから直接、シリル化し、かつ構造的に安定にゼオライトを得ることができる製造方法を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide a production method in which silylated H-type zeolite can be directly silylated from a non-H-type zeolite and the zeolite can be obtained structurally stably.

発明者は鋭意検討の結果、水熱合成で得られた非H型のゼオライトを、酸を含む水溶液を反応溶媒としてシリル化処理を行ったところ、イオン交換とシリル化が同時に行なわれ、構造の崩壊を起こすことなくシリル化されたH型ゼオライトが得られた。そして、得られたゼオライトにエチレンを接触させプロピレンを製造したところ、プロピレン選択率が上昇し、H型の状態からシリル化したものを使用した場合と同等の結果が得られることを
見出した。
As a result of intensive studies, the inventor conducted silylation treatment on non-H-type zeolite obtained by hydrothermal synthesis using an aqueous solution containing an acid as a reaction solvent. A silylated H-type zeolite was obtained without causing collapse. Then, when propylene was produced by bringing ethylene into contact with the obtained zeolite, it was found that the propylene selectivity was increased and the same result as that obtained when silylated from the H-type state was used was obtained.

すなわち本発明の要旨は、以下に存する。
(1)シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法であって、CHA型構造を有する非H型ゼオライトを、酸性水溶液存在下、シリル化剤と反応させることを特徴とする、シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
(2)前記非H型ゼオライトの窒素吸着等温線からBJH法によって得られる細孔径分布において細孔径100Å以上200Å以下の範囲の全細孔容積が、10×10―3ml/g以上である、上記(1)に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) A method for producing a H-type zeolite having a silylated CHA-type structure, characterized by reacting a non-H-type zeolite having a CHA-type structure with a silylating agent in the presence of an acidic aqueous solution. A method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure.
(2) In the pore diameter distribution obtained by the BJH method from the nitrogen adsorption isotherm of the non-H zeolite, the total pore volume in the range of pore diameters of 100 to 200 mm is 10 × 10 −3 ml / g or more. A method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure as described in (1) above.

(3)前記非H型ゼオライトが、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンのいずれかで置換されたものであることを特徴とする、上記(1)または(2)に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
(4)前記非H型ゼオライトが、アルミノシリケートである上記(1)〜(3)のいずれか1に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
(3) The silyl according to (1) or (2) above, wherein the non-H-type zeolite is substituted with any of alkali metal ions, alkaline earth metal ions, and ammonium ions For producing an H-type zeolite having a structured CHA-type structure.
(4) The method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure according to any one of (1) to (3), wherein the non-H-type zeolite is an aluminosilicate.

(5)前記酸性水溶液中の酸の濃度が、0.01M以上5M以下、上記(1)〜(4)のいずれか1に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
(6)前記酸性水溶液が硫酸である、上記(1)〜(5)のいずれか1に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
(7)前記非H型ゼオライトのSiO/M比(Mは3価の金属)が、5以上、50以下である、上記(1)〜(6)のいずれか1に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
(5) The method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure according to any one of (1) to (4), wherein the acid concentration in the acidic aqueous solution is 0.01 M or more and 5 M or less. .
(6) The method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure according to any one of (1) to (5), wherein the acidic aqueous solution is sulfuric acid.
(7) The SiO 2 / M 2 O 3 ratio (M is a trivalent metal) of the non-H zeolite is 5 or more and 50 or less, according to any one of (1) to (6) above A method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure.

(8)上記(1)〜(7)のいずれか1に記載の製造方法で得られたシリル化されたH
型ゼオライトを触媒として、エチレンを原料としてプロピレンを製造することを特徴とするプロピレンの製造方法。
(8) Silylated H obtained by the production method according to any one of (1) to (7) above
A method for producing propylene, characterized in that propylene is produced using ethylene zeolite as a raw material using a zeolite of a catalyst type as a catalyst.

本発明により、シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトを製造する際に、水熱合成後のゼオライト(非H型ゼオライト)から直接、かつゼオライトが構造的に安定に製造できる。この方法により、製造工程の煩雑さを解消できる上に、焼成工程も不要となるため、製造工程の大幅な短縮に加え、製造時のエネルギーコストの大幅な削減が可能となる。   According to the present invention, when producing a H-type zeolite having a silylated CHA type structure, the zeolite can be produced directly and structurally stably from the hydrothermally synthesized zeolite (non-H type zeolite). This method eliminates the complexity of the manufacturing process and eliminates the need for a baking process. This makes it possible to significantly reduce the energy cost during manufacturing, in addition to greatly shortening the manufacturing process.

比較例3で用いたゼオライトFのXRDパターン(図1(a))と、比較例3で得られたゼオライトGのXRDパターン(図1(b))である。It is the XRD pattern (FIG. 1 (a)) of the zeolite F used in the comparative example 3, and the XRD pattern (FIG. 1 (b)) of the zeolite G obtained in the comparative example 3. 参考例1で用いたゼオライトDのXRDパターン(図2(a))と、参考例1で得られたゼオライトHのXRDパターン(図2(b))である。It is an XRD pattern (FIG. 2 (a)) of zeolite D used in Reference Example 1, and an XRD pattern (FIG. 2 (b)) of zeolite H obtained in Reference Example 1.

以下に、本発明を実施するための代表的な態様を具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の形態に限定されるものではない。
本発明のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法は、CHA型構造を有する非H型ゼオライトを、酸性水溶液存在下、シリル化剤と反応させることを特徴とする。
Below, the typical aspect for implementing this invention is demonstrated concretely, However, This invention is not limited to the following forms, unless the summary is exceeded.
The method for producing a H-type zeolite having a silylated CHA-type structure according to the present invention is characterized by reacting a non-H-type zeolite having a CHA-type structure with a silylating agent in the presence of an acidic aqueous solution.

以下、本発明における構成成分について説明する。
(1)CHA型構造を有するゼオライト
先ず、本発明の方法で製造されるCHA型構造を有するゼオライト(以下これを、「CHA型ゼオライト」ということがある。)の物理化学的性質について説明する。
本発明において、CHA構造とは、International Zeolite Association(以下これを
、「IZA」と略称することがある。)が定めるゼオライトの構造を規定するコードでCHA構造のものを示す。これは、天然に産出するチャバサイト(chabazite)と同等の結
晶構造を有するゼオライトである。
Hereinafter, the components in the present invention will be described.
(1) Zeolite having a CHA type structure First, the physicochemical properties of a zeolite having a CHA type structure produced by the method of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “CHA type zeolite”) will be described.
In the present invention, the CHA structure is a code that defines the structure of the zeolite defined by the International Zeolite Association (hereinafter may be abbreviated as “IZA”) and indicates the CHA structure. This is a zeolite having a crystal structure equivalent to that of naturally occurring chabazite.

CHA型構造を有するゼオライトは、3.8×3.8Åの径を有する酸素8員環からなる3次元細孔を有することを特徴とする構造をとり、その構造はX線回折データにより特徴付けられる。また、そのフレームワーク密度は14.5T/1000Åである。ここで、フレームワーク密度とは、ゼオライトの1000Åあたりの酸素以外の骨格を構成する元素の数を意味し、この値はゼオライトの構造により決まるものである。なおフレームワーク密度とゼオライトとの構造の関係はAtlas of Zeolite Framework Types, 6th revised edition, 2007に示されている。 A zeolite having a CHA-type structure has a structure characterized by having three-dimensional pores composed of an oxygen 8-membered ring having a diameter of 3.8 × 3.8 mm, and the structure is characterized by X-ray diffraction data. It is done. Further, the framework density is 14.5T / 1000Å 3. Here, the framework density means the number of elements constituting the skeleton other than oxygen per 1000 3 of the zeolite, and this value is determined by the structure of the zeolite. The relationship between the framework density and the structure of zeolite is shown in Atlas of Zeolite Framework Types, 6th revised edition, 2007.

本発明におけるCHA型ゼオライトは、通常Siと3価の金属Mの複合酸化物で構成される。金属Mとしては、例えばアルミニウム、ガリウム、鉄、ホウ素、チタン、ジルコニウム、スズ等が挙げられる。これらのうちアルミニウム、ガリウム、ホウ素が好ましく用いられ、より好ましくはアルミニウムであり、ケイ素とアルミニウムで構成されるアルミノシリケートや、さらにリンを含むシリコアルミノフォスフェートが、本発明のCHA型ゼオライトとして好ましく、アルミノシリケートがより好ましい。   The CHA-type zeolite in the present invention is usually composed of a complex oxide of Si and a trivalent metal M. Examples of the metal M include aluminum, gallium, iron, boron, titanium, zirconium, tin and the like. Of these, aluminum, gallium and boron are preferably used, more preferably aluminum, and aluminosilicate composed of silicon and aluminum, and further silicoaluminophosphate containing phosphorus are preferable as the CHA-type zeolite of the present invention, Aluminosilicate is more preferred.

アルミニウムを含んだものは適度に強い酸強度を持ち、また酸量も幅を持って合成することができ、触媒としての利用では適用できる幅が広くなる。またアルミニウムはクラー
ク数が大きく、豊富に存在する元素であり、安価であるため好ましい。
通常、上記の金属Mの原子源化合物(以下、M原子源ということがある)を、後述する水熱反応における反応混合物に、Si原子源とともに添加することで、結晶化後に骨格にとりこまれる。
A material containing aluminum has a moderately strong acid strength and can be synthesized with a wide range of acid amounts, and the applicable range is widened when used as a catalyst. Aluminum is preferable because it has a large Clarke number, is an abundant element, and is inexpensive.
Usually, the above atom source compound of metal M (hereinafter sometimes referred to as “M atom source”) is incorporated into the skeleton after crystallization by adding to the reaction mixture in the hydrothermal reaction described later together with the Si atom source.

CHA型ゼオライト中の構成原子の比率は、特に限定されるものではないが、CHA型ゼオライト中に含まれるM23(Mは3価の金属)に対するSiO2のモル比(SiO2/M23)で表した場合、通常5以上、好ましくは8以上、より好ましくは10以上、更に好ましくは15以上である。また上限は、通常300以下、好ましくは100以下、より好ましくは50以下、更に好ましくは30以下である。 The ratio of constituent atoms in the CHA-type zeolite is not particularly limited, but the molar ratio of SiO 2 to M 2 O 3 (M is a trivalent metal) contained in the CHA-type zeolite (SiO 2 / M When represented by 2 O 3 ), it is usually 5 or more, preferably 8 or more, more preferably 10 or more, and still more preferably 15 or more. Moreover, an upper limit is 300 or less normally, Preferably it is 100 or less, More preferably, it is 50 or less, More preferably, it is 30 or less.

なお、上記CHA型ゼオライト中のM23に対するSiO2のモル比は、生成したゼオ
ライト中のSi原子源がすべてSiO2として含まれ、M原子源がすべてM23として含
まれると仮定して求める値である。
このモル比は、後述する水熱合成における反応混合物中のSi原子源とM原子源の比によって決まるものである。上記のSiO2/M23モル比を持つものを、本明細書におい
て、高シリカゼオライトということがある。高シリカゼオライトは、高度な耐酸性と高い水熱安定性を有する。
The molar ratio of SiO 2 to M 2 O 3 in the CHA-type zeolite is assumed that all Si atom sources in the produced zeolite are included as SiO 2 and all M atom sources are included as M 2 O 3. This is the value to be obtained.
This molar ratio is determined by the ratio of the Si atom source and the M atom source in the reaction mixture in hydrothermal synthesis described later. Those with SiO 2 / M 2 O 3 molar ratio of the, in this specification, sometimes referred to high-silica zeolite. High silica zeolite has high acid resistance and high hydrothermal stability.

通常、ゼオライトは、酸性条件や水熱条件下に曝されると骨格を構成する金属がゼオライト骨格から脱離し、脱離する金属が多い場合には骨格が崩壊してしまうことがある。しかし、骨格中の金属原子の量が少ない高シリカゼオライトでは、金属原子が脱離しにくく、脱離した場合にも骨格崩壊に至りにくい。
本発明では酸性溶媒中でシリル化することから、この点で金属量が前記上限超過の場合には、骨格が崩壊する可能性がある。
Normally, when zeolite is exposed to acidic conditions or hydrothermal conditions, the metal constituting the skeleton may be desorbed from the zeolite skeleton, and the skeleton may be collapsed when there are many desorbed metals. However, in high silica zeolite with a small amount of metal atoms in the skeleton, metal atoms are difficult to desorb, and even when desorbed, skeleton collapse is difficult to occur.
In the present invention, since silylation is performed in an acidic solvent, there is a possibility that the skeleton collapses when the amount of metal exceeds the upper limit in this respect.

また、高シリカゼオライトは、疎水性となるので、吸着剤として用いた際には、炭化水素等の疎水性の分子の吸着が起こりやすくなる。また触媒として用いた際には、疎水性分子が細孔内に入りやすくなるために、疎水性分子の反応が進行しやすくなる。
ゼオライトの骨格構造内に3価の金属Mが入った際、電荷バランスを補償するために通常、ゼオライトの骨格中に、金属原子に対するカウンターカチオンが存在する。具体的な金属原子のカウンターカチオン種としては、特に限定されるものではないが、ナトリウムやカリウム等;のアルカリ金属カチオン、マグネシウム、カルシウム、バリウム等;のアルカリ土類金属カチオン、アンモニウムイオン、あるいはプロトン等が挙げられる。
上記カウンターカチオンが、プロトンであるものを、以下「H型」といい、それ以外のものを総称して「非H型」という。
Moreover, since high silica zeolite becomes hydrophobic, when used as an adsorbent, adsorption of hydrophobic molecules such as hydrocarbons easily occurs. In addition, when used as a catalyst, the hydrophobic molecules easily enter the pores, so that the reaction of the hydrophobic molecules easily proceeds.
When the trivalent metal M enters the framework structure of the zeolite, a counter cation for the metal atom is usually present in the framework of the zeolite in order to compensate the charge balance. Specific metal atom counter cation species are not particularly limited, but include alkali metal cations such as sodium and potassium, alkaline earth metal cations such as magnesium, calcium and barium, ammonium ions, or protons. Etc.
Those in which the counter cation is a proton are hereinafter referred to as “H type”, and others are collectively referred to as “non-H type”.

「H型」として好ましくは、後述するシリル化の際に、ゼオライトのカチオンサイトの当量以上に酸を作用させたものであり、より好ましくは、カウンターカチオンがすべてプロトンであるものである。
「非H型」として好ましくは、ゼオライト骨格中にアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムイオンをカウンターカチオンとして有するものであり、より好ましくは、アルカリ金属カチオン、アンモニウムイオン、さらに好ましくはナトリウムカチオン、カリウムカチオン、アンモニウムイオンをカウンターカチオンとして有するものである。(なお、これらを以下で「ナトリウム型」「カリウム型」「アンモニウム型」ということがある。)
後述する水熱反応により、通常は「非H型」のゼオライトが得られる。本発明は、「非H型」のゼオライトを、シリル化して、シリル化された「H型」のゼオライトを得る。
The “H type” is preferably one in which an acid is allowed to act at an amount equal to or more than the equivalent of the cation site of the zeolite in the silylation described later, and more preferably, all the counter cations are protons.
The “non-H type” is preferably one having an alkali metal cation, an alkaline earth metal cation, or an ammonium ion as a counter cation in the zeolite skeleton, more preferably an alkali metal cation, an ammonium ion, or more preferably a sodium cation. , Potassium cations and ammonium ions as counter cations. (Hereinafter, these may be referred to as “sodium type”, “potassium type”, and “ammonium type”.)
A “non-H” zeolite is usually obtained by the hydrothermal reaction described below. In the present invention, a “non-H-type” zeolite is silylated to obtain a silylated “H-type” zeolite.

本発明におけるCHA型ゼオライトの粒子径は、特に限定されるものではないが、以下
に記載の測定方法でBJH法により得られる細孔径分布の100Å以上200Å以下の範囲の全細孔容積が、通常10×10−3ml/g以上であり、好ましくは20×10−3ml/g以上であり、更に好ましくは30×10−3ml/g以上である。上限は特になく通常100×10−3ml/g以下である。この値は粒界に起因するものと考えられ、この値が大きいものは粒子径が小さく、小さいものは粒子径が大きいと考えられる。この値が前記下限未満では、粒子径が大きいために、触媒や吸着材として用いた場合に、基質が細孔の内部まで十分に進入せず、ゼオライトの利用率が低下すると考えられ、触媒として反応した際に重量あたりの活性が低下する。また重量あたりの外表面積が小さいために、シリル化が過度に進行して、細孔を閉塞してしまう可能性が考えられる。前記上限超過の場合には粒子径が細かいためにシリル化後のゼオライトと水溶液との分離が困難になることが考えられる。
細孔径の測定方法は特に限定されるものではないが、通常は窒素を吸着ガスとし、液体窒素温度での相対圧で吸着時および脱着時の平衡吸着量を測定することで窒素吸着等温線を測定し、得られた等温線からBJH法にて累積細孔容積を算出する。詳細は実施例にて述べる。
The particle size of the CHA-type zeolite in the present invention is not particularly limited, but the total pore volume in the range of 100 to 200 mm of the pore size distribution obtained by the BJH method by the measurement method described below is usually It is 10 × 10 −3 ml / g or more, preferably 20 × 10 −3 ml / g or more, more preferably 30 × 10 −3 ml / g or more. There is no upper limit, and it is usually 100 × 10 −3 ml / g or less. This value is considered to be due to the grain boundary. A large value is considered to have a small particle size, and a small value is considered to have a large particle size. If this value is less than the lower limit, the particle size is large, so when used as a catalyst or adsorbent, it is considered that the substrate does not sufficiently enter the inside of the pores, and the utilization rate of zeolite is reduced. When reacted, the activity per weight decreases. Moreover, since the outer surface area per weight is small, the silylation may proceed excessively, possibly blocking the pores. When the upper limit is exceeded, the particle size is small, and it is considered that separation of the zeolite after silylation from the aqueous solution becomes difficult.
The method for measuring the pore diameter is not particularly limited. Usually, nitrogen is used as the adsorption gas, and the nitrogen adsorption isotherm is obtained by measuring the equilibrium adsorption amount at the time of adsorption and desorption at the relative pressure at the liquid nitrogen temperature. The cumulative pore volume is calculated by the BJH method from the measured isotherm. Details will be described in Examples.

<シリル化されたゼオライト>
本発明により得られる、シリル化されたH型のCHA型ゼオライトは、前記非H型ゼオ
ライトをシリル化して得られる。
CHA型ゼオライトの骨格構造、粒子径には変化はなく、基本的にシリル化前と同じである。
<Silylated zeolite>
The silylated H-type CHA-type zeolite obtained by the present invention is obtained by silylating the non-H-type zeolite.
There is no change in the framework structure and particle diameter of the CHA-type zeolite, which is basically the same as before silylation.

本発明で得られるシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの外表面酸量は、特に限定されるものではないが、通常0.6mmol/g以下であり、好ましくは0.3mmol/g以下である。前記上限超過では、前記ゼオライトを触媒として用いた場合に、触媒の外表面で形状選択的でない反応が起こり、副生成物の増大を招く傾向がある。
本発明におけるゼオライトの全体の酸量(以下、単に全体酸量ということがある。)とは、ゼオライトの全体の酸量であり、具体的には外表面および細孔内部の酸量の総和をいう。
The outer surface acid amount of the H-type zeolite having a silylated CHA-type structure obtained in the present invention is not particularly limited, but is usually 0.6 mmol / g or less, preferably 0.3 mmol / g. It is as follows. When the upper limit is exceeded, when the zeolite is used as a catalyst, a reaction that is not shape-selective occurs on the outer surface of the catalyst, and there is a tendency to cause an increase in by-products.
The total acid amount of the zeolite in the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as the total acid amount) is the total acid amount of the zeolite, specifically, the total acid amount on the outer surface and inside the pores. Say.

ゼオライトの全体の酸量は、ゼオライトの酸点に選択的に吸着させることができ、且つ細孔内部にも入ることができる物質を、ゼオライトに吸着させ、その吸着量を定量することにより測定することができる。前記の物質は、特に限定されるものではないが、具体的には、アンモニアを用いることができる。
全体酸量は、特に限定されるものではないが、通常4.8mmol/g以下であり、好ましくは2.8mmol/g以下である。また、通常0.15mmol/g以上であり、好ましくは0.30mmol/g以上である。前記上限超過では、前記ゼオライトを炭化水素転化反応の触媒として用いた場合に、コーク付着による失活が速くなる、金属が骨格から抜けやすくなる、酸点当たりの酸強度が弱くなるといった傾向があり、前記下限未満では、酸量が少ないため、触媒としての活性が低下する傾向がある。
The total acid amount of zeolite is measured by adsorbing a substance that can be selectively adsorbed on the acid sites of the zeolite and also entering the pores, and quantifying the adsorbed amount. be able to. The substance is not particularly limited, and specifically, ammonia can be used.
Although the total acid amount is not particularly limited, it is usually 4.8 mmol / g or less, preferably 2.8 mmol / g or less. Moreover, it is 0.15 mmol / g or more normally, Preferably it is 0.30 mmol / g or more. When the upper limit is exceeded, when the zeolite is used as a catalyst for hydrocarbon conversion reaction, deactivation due to coke adhesion tends to be accelerated, metal tends to escape from the skeleton, and acid strength per acid point tends to be weak. If the amount is less than the lower limit, the activity as a catalyst tends to decrease because the amount of acid is small.

(2)CHA型ゼオライトの製造方法
本発明のゼオライトの製造方法は、非H型ゼオライトを製造し、その非H型ゼオライトを、酸性水溶液存在下でシリル化してH型ゼオライトを得る。まず非H型ゼオライトの製造方法について述べる。
(2) Method for Producing CHA-Type Zeolite The method for producing a zeolite of the present invention produces non-H-type zeolite and silylates the non-H-type zeolite in the presence of an acidic aqueous solution to obtain H-type zeolite. First, a method for producing non-H zeolite will be described.

<非H型ゼオライトの製造方法>
本発明における、CHA型構造を有する非H型ゼオライトは、通常、特定の組成に調整された、Si原子源、M原子源、アルカリ水溶液を含む反応混合物を用いた水熱合成により製造することができる。前記反応混合物中には、各種の構造規定剤を添加してもよく、
また 種結晶を添加してもよい。ここで「反応混合物」とは、水熱合成に供するための原
料混合物を意味する。
<Method for producing non-H zeolite>
The non-H-type zeolite having a CHA-type structure in the present invention can be usually produced by hydrothermal synthesis using a reaction mixture containing a Si atom source, an M atom source, and an alkaline aqueous solution adjusted to a specific composition. it can. In the reaction mixture, various structure-directing agents may be added,
A seed crystal may be added. Here, the “reaction mixture” means a raw material mixture for use in hydrothermal synthesis.

前記反応混合物を、必要に応じて種結晶と共に、反応容器中に密閉して加熱し、ゼオライトを結晶化させる。結晶化したゼオライトには、通常反応混合物中のアルカリ源がカウンターカチオンとなり、非H型ゼオライトとなる。構造規定剤を添加した場合には構造規定剤がカウンターカチオンとして一部存在することがある。
前記Si原子源としては、特に限定されるものではないが、例えば、無定形シリカ、コロイダルシリカ、シリカゲル、ケイ酸ナトリウム、無定形アルミのシリケートゲル、テトラエトキシシラン(TEOS)、テトラメトキシシラン等が挙げられる。またSi元素源は、1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The reaction mixture is sealed in a reaction vessel together with seed crystals as necessary, and heated to crystallize the zeolite. In the crystallized zeolite, the alkali source in the reaction mixture usually becomes a counter cation and becomes a non-H type zeolite. When a structure directing agent is added, the structure directing agent may partially exist as a counter cation.
The Si atom source is not particularly limited, and examples thereof include amorphous silica, colloidal silica, silica gel, sodium silicate, amorphous aluminum silicate gel, tetraethoxysilane (TEOS), and tetramethoxysilane. Can be mentioned. Moreover, only 1 type may be used for Si element source, and 2 or more types may be mixed and used for it.

前記M原子源としては、特に限定されないが、前記3価の金属の水酸化物、酸化物、硫酸塩、硝酸塩、塩酸塩などの各種の金属塩、または金属シリケートゲルなどが用いられる。
例えばM原子がアルミニウム原子の場合、具体的には水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、塩化アルミニウム、アルミン酸ナトリウム、無定形アルミノシリケートゲル等が挙げられる。なお、M原子源としては、上記1種のみの原子源を用いてもよく、2種以上の原子源を混合して用いてもよい。
The M atom source is not particularly limited, and various metal salts such as hydroxides, oxides, sulfates, nitrates, and hydrochlorides of the trivalent metals, or metal silicate gels are used.
For example, when the M atom is an aluminum atom, specific examples include aluminum hydroxide, aluminum oxide, aluminum sulfate, aluminum nitrate, aluminum chloride, sodium aluminate, amorphous aluminosilicate gel, and the like. As the M atom source, only one kind of the above atom source may be used, or two or more kinds of atom sources may be mixed and used.

アルカリ水溶液に用いられるアルカリ源は、特に限定されないが、通常、金属を含有する(以下、アルカリ由来金属という)。アルカリ由来金属としては、通常、アルカリ金属、アルカリ土類金属等が挙げられ、好ましくは溶解性の高さからアルカリ金属である。
アルカリ金属源としては、例えば、LiOH、NaOH、KOH、CsOH等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。また、アルカリ土類金属源としては、Mg(OH)、Ca(OH)、Sr(OH)、Ba(OH)等のアルカリ土類金属水酸化物等が挙げられる。
Although the alkali source used for aqueous alkali solution is not specifically limited, Usually, a metal is contained (henceforth an alkali origin metal). Examples of the alkali-derived metal usually include alkali metals and alkaline earth metals, and are preferably alkali metals because of their high solubility.
Examples of the alkali metal source include alkali metal hydroxides such as LiOH, NaOH, KOH, and CsOH. Examples of the alkaline earth metal source include alkaline earth metal hydroxides such as Mg (OH) 2 , Ca (OH) 2 , Sr (OH) 2 and Ba (OH) 2 .

<構造規定剤>
本発明におけるCHA型構造を有するゼオライトの製造においては、必要に応じ反応混合物に構造規定剤を添加して水熱合成を行なうことができる。構造規定剤としては、反応混合物からCHA型ゼオライトの結晶化を促進しうるものであれば特に限定されないが、例えば、N,N,N−トリアルキル−1−アダマンタンアンモニウムカチオン、N,N,N−トリアルキルベンジルアンモニウムカチオン、3−キヌクリジナールから誘導されるカチオン、2−exo−アミノノルボルネンから誘導されるカチオン等の脂環式アミンから誘導されるカチオン、N,N,N−トリアルキルシクロヘキシルアンモニウムカチオン等が挙げられ、高シリカゼオライトの結晶化を促進する点で、N,N,N−トリアルキル−1−アダマンタンアンモニウムカチオン、N,N,N−トリアルキルベンジルアンモニウムカチオンが好ましい。N,N,N−トリアルキル−1−アダマンタンアンモニウムカチオンで好ましいのはN,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムカチオンであり、N,N,N−トリアルキルベンジルアンモニウムカチオンで好ましいのはN,N,N−ベンジルトリメチルアンモニウムカチオンである。これらの構造規定剤は、1種類のみ使用しても、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
<Structure directing agent>
In the production of a zeolite having a CHA-type structure in the present invention, a hydrothermal synthesis can be performed by adding a structure-directing agent to the reaction mixture as necessary. The structure directing agent is not particularly limited as long as it can promote crystallization of CHA-type zeolite from the reaction mixture. For example, N, N, N-trialkyl-1-adamantanammonium cation, N, N, N A cation derived from an alicyclic amine such as a cation derived from a trialkylbenzylammonium cation, a 3-quinuclidinal, a cation derived from 2-exo-aminonorbornene, an N, N, N-trialkylcyclohexylammonium cation N, N, N-trialkyl-1-adamantanammonium cation and N, N, N-trialkylbenzylammonium cation are preferable in terms of promoting crystallization of high silica zeolite. Preferred N, N, N-trialkyl-1-adamantanammonium cation is N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium cation, and preferred N, N, N-trialkylbenzylammonium cation is N , N, N-benzyltrimethylammonium cation. These structure directing agents may be used alone or in combination of two or more.

構造規定剤を使用した場合、結晶化が促進される面で有利である。またアルミニウム原子に対するケイ素原子の割合が高くなり、耐酸性、水熱合成反応における安定性が向上したアルミノシリケートを結晶化させることができる点で好ましい。
構造規定剤を使用する場合、構造規定剤とSi原子源の割合は、特に限定されるものではないが、Si原子に対する構造規定剤のモル比として、通常0.001以上、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.02以上であり、また上限は、通常1以下、好まし
くは0.5以下、より好ましくは0.3以下である。構造規定剤が、ゼオライト構造のCHAケージ4つに1つの割合で入る程度の量が存在すれば、結晶化が容易になる。
When a structure directing agent is used, it is advantageous in terms of promoting crystallization. Moreover, the ratio of the silicon atom with respect to an aluminum atom becomes high, and it is preferable at the point which can crystallize the aluminosilicate which the acid resistance and the stability in a hydrothermal synthesis reaction improved.
When a structure directing agent is used, the ratio between the structure directing agent and the Si atom source is not particularly limited, but the molar ratio of the structure directing agent to Si atoms is usually 0.001 or more, preferably 0.01. As mentioned above, More preferably, it is 0.02 or more, and an upper limit is 1 or less normally, Preferably it is 0.5 or less, More preferably, it is 0.3 or less. Crystallization is facilitated if the amount of the structure-directing agent is such that the structure-directing agent is contained in four CHA cages having a zeolite structure at a ratio of one.

前記下限未満では、CHA型ゼオライトの結晶化が促進されないことがあり、前記上限超過では結晶化は容易になるが、生成物の水熱安定性、耐酸性が低下する場合がある。
一方構造規定剤を使用しない場合、コスト面、または水熱合成後の廃液処理の手間が軽減する面で有利である。
If it is less than the lower limit, crystallization of CHA-type zeolite may not be promoted. If the upper limit is exceeded, crystallization becomes easy, but the hydrothermal stability and acid resistance of the product may be lowered.
On the other hand, when a structure directing agent is not used, it is advantageous in terms of cost and the labor of waste liquid treatment after hydrothermal synthesis.

<種結晶>
本発明におけるCHA型ゼオライトの製造においては、必要に応じ反応混合物に種結晶を添加して水熱合成を行なうことができる。
前記CHA型ゼオライトの製造において使用する種結晶は、結晶化を促進するものであれば種類は問わないが、効率よく結晶化させるためにはCHA型ゼオライト、中でもCHA型アルミノシリケートが好ましい。
種結晶の粒子径は小さいほうが望ましく、必要に応じて粉砕して用いても良い。種結晶の粒子径は、通常0.5nm以上、好ましくは1nm以上、より好ましくは2nm以上であり、また、通常5μm以下、好ましくは3μm以下、より好ましくは1μm以下である。ここで、種結晶の粒子径とは1次粒子の値であり、最小直径の値である。
<Seed crystal>
In the production of the CHA-type zeolite in the present invention, hydrothermal synthesis can be performed by adding seed crystals to the reaction mixture as necessary.
The seed crystal used in the production of the CHA-type zeolite is not particularly limited as long as it promotes crystallization, but CHA-type zeolite, particularly CHA-type aluminosilicate, is preferable for efficient crystallization.
It is desirable that the seed crystal has a small particle size, and it may be used after pulverization if necessary. The seed crystal has a particle size of usually 0.5 nm or more, preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more, and is usually 5 μm or less, preferably 3 μm or less, more preferably 1 μm or less. Here, the particle diameter of the seed crystal is the value of the primary particle and the value of the minimum diameter.

種結晶は、適当な溶媒、例えば水に分散させて反応混合物に添加してもよいし、分散させずに添加してもよい。
反応混合物に添加する種結晶の量は特に限定されないが、前述の反応混合物中のSi元素源に対する種結晶の添加量として、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上であり、また、通常40重量%以下、好ましくは30重量%以下、より好ましくは25重量%以下である。
The seed crystal may be added to the reaction mixture after being dispersed in an appropriate solvent such as water, or may be added without being dispersed.
The amount of seed crystals added to the reaction mixture is not particularly limited, but the amount of seed crystals added to the Si element source in the reaction mixture is usually 0.1 wt% or more, preferably 0.5 wt% or more, more Preferably it is 1 weight% or more, and is 40 weight% or less normally, Preferably it is 30 weight% or less, More preferably, it is 25 weight% or less.

種結晶の添加量が前記下限未満では、CHA構造を指向する前躯体が減ることになるので、CHA構造が得られ難くなる。種結晶の添加量が前記上限超過では、生成物の中に含まれる種結晶の割合が増えることで、反応混合物から新たに製造されるCHAが減ることとなり、生産性が低くなる。   If the amount of seed crystal added is less than the lower limit, the number of precursors directed to the CHA structure will decrease, making it difficult to obtain the CHA structure. When the amount of seed crystals added exceeds the upper limit, the proportion of seed crystals contained in the product increases, so that CHA newly produced from the reaction mixture decreases, resulting in low productivity.

<水熱合成条件>
前記水熱合成に用いる反応容器は、それ自体既知の水熱合成に用い得るものであれば特に限定されず、オートクレーブなどの耐熱耐圧容器であればよい。
前記水熱合成における反応温度(加熱温度)は特に限定されず、通常100℃以上、好ましくは120℃以上、より好ましくは150℃以上であり、また上限は、通常200℃以下、好ましくは190℃以下、より好ましくは180℃以下である。前記の温度域が、反応混合物を結晶化させる上で好適である。反応温度が低すぎると、CHA型アルミノシリケートが結晶化しないことがある。また、反応温度が高すぎると、CHA型とは異なるタイプのアルミノシリケートが生成することがある。
<Hydrothermal synthesis conditions>
The reaction vessel used for the hydrothermal synthesis is not particularly limited as long as it can be used for hydrothermal synthesis known per se, and may be a heat and pressure resistant vessel such as an autoclave.
The reaction temperature (heating temperature) in the hydrothermal synthesis is not particularly limited, and is usually 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, and the upper limit is usually 200 ° C. or lower, preferably 190 ° C. Below, more preferably 180 ° C. or less. The above temperature range is suitable for crystallizing the reaction mixture. When the reaction temperature is too low, the CHA type aluminosilicate may not crystallize. Moreover, when reaction temperature is too high, the type of aluminosilicate different from CHA type may be produced | generated.

結晶化時の圧力は特に限定されず、密閉容器中に入れた反応混合物を上記温度範囲に加熱したときに生じる自生圧力で十分であるが、必要に応じて、窒素などの不活性ガスを加えてもよい。
水熱合成後のゼオライトは、反応ゲル中に含まれるアルカリ由来金属イオンが、ゼオライトのカウンターカチオンとして存在するため、通常、アルカリ金属型、アルカリ土類金属型、好ましくはナトリウム型、カリウム型で得られる。
The pressure at the time of crystallization is not particularly limited, and the self-generated pressure generated when the reaction mixture placed in a closed vessel is heated to the above temperature range is sufficient, but if necessary, an inert gas such as nitrogen is added. May be.
Zeolite after hydrothermal synthesis is usually obtained in alkali metal type, alkaline earth metal type, preferably sodium type or potassium type because alkali-derived metal ions contained in the reaction gel exist as the counter cation of the zeolite. It is done.

またゼオライトが結晶化した後に、種々の方法でゼオライトに金属を担持することもできる。担持する金属源としては例えば、銅、鉄、コバルト、クロム、白金などが挙げられ
る。またこれらの金属源は1種のみを用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
Further, after the zeolite is crystallized, the metal can be supported on the zeolite by various methods. Examples of the metal source to be supported include copper, iron, cobalt, chromium, platinum and the like. Moreover, these metal sources may use only 1 type, and may mix and use 2 or more types.

<シリル化>
本発明で得られるCHA型構造を有するH型ゼオライトは、CHA型構造を有する非H型ゼオライトを、酸性水溶液存在下でシリル化剤と反応させ、シリル化を行なうことによって得られる。以下、シリル化工程について述べる。
本発明で得られるCHA型ゼオライトは、通常ゼオライトの外表面をシリル化して得る。ゼオライトの外表面をシリル化することにより、ゼオライト外表面の酸量を低下させることができる。また本発明においては同時に非H型から、H型へのイオン交換も起こる。
<Silylation>
The H-type zeolite having a CHA-type structure obtained in the present invention can be obtained by reacting a non-H-type zeolite having a CHA-type structure with a silylating agent in the presence of an acidic aqueous solution to carry out silylation. Hereinafter, the silylation step will be described.
The CHA-type zeolite obtained in the present invention is usually obtained by silylating the outer surface of the zeolite. By silylating the outer surface of the zeolite, the acid amount on the outer surface of the zeolite can be reduced. In the present invention, ion exchange from non-H type to H type occurs at the same time.

本発明における酸性水溶液中でのシリル化においては、上記のカウンターカチオンが、一部もしくは大部分がシリル化中にプロトンにイオン交換される。プロトン型にイオン交換されるため、シリル化処理後はプロトン型へのイオン交換を実施しなくても、酸触媒として利用が可能になる。   In the silylation in an acidic aqueous solution in the present invention, the above counter cation is partially or mostly ion-exchanged with protons during silylation. Since it is ion-exchanged into the proton type, it can be used as an acid catalyst after the silylation treatment without performing ion exchange into the proton type.

シリル化剤としては特に限定されるものではないが、アルコキシシランとしては具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の4級のアルコキシシラン;トリメトキシメチルシラン、トリエトキシメチルシラン等の3級のアルコキシシラン;ジメトキジメチルシシラン、ジエトキシジメチルシラン等の2級アルコキシシラン;メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン等の1級のアルコキシシラン;等、が挙げられる。またクロロシランとしては具体的にはテトラクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン等が使用できる。これらのうちシリル化層を積み重ねるという観点において好ましいのは、アルコキシシランではテトラエトキシシランであり、クロロシランではテトラクロロシランである。シリル化層を単層としたい場合にはアルコキシシランではメトキシトリメチルシラン、クロロシランではトリメチルクロロシランが用いられる。   The silylating agent is not particularly limited, but specific examples of the alkoxysilane include quaternary alkoxysilanes such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane; and 3 such as trimethoxymethylsilane and triethoxymethylsilane. Grade alkoxysilanes; secondary alkoxysilanes such as dimethoxydimethylsilane and diethoxydimethylsilane; primary alkoxysilanes such as methoxytrimethylsilane and ethoxytrimethylsilane; and the like. Specific examples of chlorosilane include tetrachlorosilane, dimethyldichlorosilane, and trimethylchlorosilane. Of these, tetraethoxysilane is preferable for alkoxysilane and tetrachlorosilane is preferable for chlorosilane from the viewpoint of stacking silylated layers. When a single silylated layer is desired, methoxytrimethylsilane is used for alkoxysilane, and trimethylchlorosilane is used for chlorosilane.

本発明の製造方法において、シリル化は酸性水溶液中で行なう。前記酸性水溶液に用いる酸の種類としては、特に限定されるものではないが、硫酸、硝酸、塩酸、りん酸などの無機酸、蟻酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸、シュウ酸、マロン酸などのジカルボン酸などが使用できる。これらのうち好ましいのは無機酸では硫酸、カルボン酸では酢酸、ジカルボン酸ではシュウ酸である。   In the production method of the present invention, silylation is carried out in an acidic aqueous solution. The type of acid used in the acidic aqueous solution is not particularly limited, but includes inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and phosphoric acid, carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, and propionic acid, oxalic acid, and malonic acid. The dicarboxylic acid or the like can be used. Of these, sulfuric acid is preferred for inorganic acids, acetic acid for carboxylic acids, and oxalic acid for dicarboxylic acids.

前記酸性水溶液中の酸の濃度としては、特に限定されるものではないが、通常0.01M以上、好ましくは0.05M以上、より好ましくは0.1M以上であり、通常5M以下であり、好ましくは2M以下であり、より好ましくは1M以下である。酸の濃度が、前記下限未満では、シリル化反応の進行が遅くなるため、処理時間が長くなり、またイオン交換も十分に進行しない場合がある。酸濃度が前記上限超過の場合には骨格を形成する金属が抜け易くなり、場合によっては構造が崩壊してしまう場合がある。   The acid concentration in the acidic aqueous solution is not particularly limited, but is usually 0.01M or more, preferably 0.05M or more, more preferably 0.1M or more, and usually 5M or less, preferably Is 2M or less, more preferably 1M or less. When the acid concentration is less than the lower limit, the progress of the silylation reaction is slowed down, so that the treatment time becomes long and the ion exchange may not proceed sufficiently. When the acid concentration exceeds the above upper limit, the metal forming the skeleton is easily removed, and in some cases, the structure may collapse.

前記酸性水溶液中のシリル化剤の濃度としては、特に限定されるものではないが、通常0.01重量%以上で、好ましくは0.3重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上である。また通常25重量%以下であり、好ましくはは20重量%以下であり、より好ましくは10重量%以下である。シリル化剤濃度が前記下限未満では、シリル化の進行が遅くなるため、処理時間が長くなる場合があり、濃度が前記上限超過では、シリル化剤同士の縮合が起こりやすくなる傾向がある。   The concentration of the silylating agent in the acidic aqueous solution is not particularly limited, but is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.3% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more. is there. Moreover, it is 25 weight% or less normally, Preferably it is 20 weight% or less, More preferably, it is 10 weight% or less. When the concentration of the silylating agent is less than the lower limit, the progress of silylation is slowed down, so that the treatment time may be longer. When the concentration is higher than the upper limit, condensation between the silylating agents tends to occur.

ゼオライトに対するシリル化剤の量は特に限定されないが、ゼオライト1モルに対して通常0.001モル以上で、好ましくは0.005モル以上、より好ましくは0.01モル以上である。また通常0.3モル以下であり、好ましくは0.2モル以下であり、より
好ましくは0.1モル以下である。シリル化剤の量が前記下限未満ではシリル化が十分でなく、シリル化の効果が小さくなることがあり、前記上限超過では、シリル化剤が積層して細孔を塞いでしまうことがある。
The amount of the silylating agent with respect to the zeolite is not particularly limited, but is usually 0.001 mol or more, preferably 0.005 mol or more, more preferably 0.01 mol or more with respect to 1 mol of the zeolite. Moreover, it is 0.3 mol or less normally, Preferably it is 0.2 mol or less, More preferably, it is 0.1 mol or less. When the amount of the silylating agent is less than the lower limit, silylation is not sufficient, and the effect of silylation may be reduced. When the amount exceeds the upper limit, the silylating agent may be stacked to block the pores.

ゼオライトに対する酸性水溶液の量としては、特に制限されるものではないが、ゼオライト1gに対して、酸性水溶液の総量で通常3g以上、好ましくは5g以上、より好ましくは10g以上であり、また通常100g以下、好ましくは80g以下、より好ましくは50g以下である。ゼオライトに対する酸性水溶液の総量が前記下限未満では、溶液の攪拌がされにくくなる傾向があり、一方前記上限超過では、生産性が低くなる場合がある。   The amount of the acidic aqueous solution with respect to the zeolite is not particularly limited, but is usually 3 g or more, preferably 5 g or more, more preferably 10 g or more, and usually 100 g or less in total amount of the acidic aqueous solution with respect to 1 g of zeolite. , Preferably 80 g or less, more preferably 50 g or less. If the total amount of the acidic aqueous solution relative to zeolite is less than the lower limit, the solution tends to be difficult to stir, whereas if the upper limit is exceeded, productivity may be lowered.

シリル化温度は、特に限定されるものではないが、常圧においては通常室温から100℃で行われ、さらにシリル化温度を上げるために、耐圧容器内で100℃以上で行うことも可能である。好ましくは60℃以上、より好ましくは80℃以上であり、更に好ましくは90℃以上である。また通常200℃以下であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは150℃以下、更に好ましくは120℃以下である。温度が前記下限値未満では、シリル化の進行が遅く、またH型へのイオン交換も進行が遅くなる。一方、温度が前記上限超過では、ゼオライト骨格に欠陥が生成してしまい、また骨格中の金属が抜け易くなる場合がある。   Although the silylation temperature is not particularly limited, it is usually carried out at room temperature to 100 ° C. at normal pressure, and can be carried out at 100 ° C. or higher in a pressure resistant vessel to further increase the silylation temperature. . Preferably it is 60 degreeC or more, More preferably, it is 80 degreeC or more, More preferably, it is 90 degreeC or more. Moreover, it is 200 degrees C or less normally, Preferably it is 180 degrees C or less, More preferably, it is 150 degrees C or less, More preferably, it is 120 degrees C or less. When the temperature is less than the lower limit, the progress of silylation is slow, and the progress of ion exchange to H-type is also slow. On the other hand, if the temperature exceeds the upper limit, defects may be generated in the zeolite framework and the metal in the framework may be easily removed.

シリル化反応時の反応圧力は、特に限定されるものではないが、通常大気圧から0.9MPa以下である。好ましくは0.05MPa以上、より好ましくは0.1MPa以上であり、また上限は好ましくは0.7MPa以下でありより好ましくは0.5MPa以下で
ある。圧力が前記下限値未満ではシリル化の進行が遅く、またイオン交換も進行が遅くなる傾向がある。一方、圧力が前記上限超過では、ゼオライト骨格に欠陥が生成する場合や、また骨格中の金属が抜け易くなる傾向がある。圧力の調整は温度を調整して水溶液の蒸気圧を変えてもよいし外部からガスを入れて印加してもよい。
The reaction pressure during the silylation reaction is not particularly limited, but is usually from atmospheric pressure to 0.9 MPa. Preferably, it is 0.05 MPa or more, more preferably 0.1 MPa or more, and the upper limit is preferably 0.7 MPa or less, more preferably 0.5 MPa or less. If the pressure is less than the lower limit, silylation proceeds slowly and ion exchange also tends to progress slowly. On the other hand, if the pressure exceeds the upper limit, defects may be generated in the zeolite framework or the metal in the framework tends to escape. The pressure may be adjusted by changing the vapor pressure of the aqueous solution by adjusting the temperature, or by applying gas from the outside.

(3)CHA型を有するH型ゼオライトを用いた触媒
本発明で得られたCHA型構造を有するH型ゼオライトを、触媒として反応に用いる場合は、そのまま触媒として反応に用いても良いし、反応に不活性な物質やバインダーを用いて、造粒・成型して、或いはこれらを混合して反応に用いても良い。なお成型により、前記外表面酸量を全体酸量に対して低下させることも可能である。なお、本発明において得られるゼオライトを触媒として用いる場合、通常はゼオライトが触媒の活性成分となることから、触媒中のゼオライトを指して「触媒活性成分」ということがある。
(3) Catalyst using H-type zeolite having CHA type When the H-type zeolite having a CHA type structure obtained in the present invention is used as a catalyst in the reaction, it may be used as it is as a catalyst or in the reaction. Inert materials and binders may be granulated and molded, or these may be mixed for use in the reaction. The outer surface acid amount can be decreased with respect to the total acid amount by molding. In addition, when the zeolite obtained in the present invention is used as a catalyst, since the zeolite is usually an active component of the catalyst, the zeolite in the catalyst is sometimes referred to as a “catalytic active component”.

前記反応に不活性な物質やバインダーとしては、アルミナまたはアルミナゾル、シリカ、シリカゾル、石英、およびそれらの混合物等が挙げられる。成型による酸量低下の方法としては、例えば、バインダーとゼオライト表面の酸点を結合させる等の方法が挙げられる。   Examples of the substance or binder inert to the reaction include alumina or alumina sol, silica, silica sol, quartz, and a mixture thereof. As a method for reducing the acid amount by molding, for example, a method of bonding the acid sites on the surface of the binder and the zeolite can be mentioned.

尚、アルミナ等の、酸点を有するバインダーを使用した場合には、前記外表面酸量および全体酸量の測定方法では、ゼオライトの酸量と共にバインダーの酸量も含んだ合計値として測定される。その場合はバインダーの酸量を別法により求め、その値を差し引くことによってバインダー酸量を含まない外表面酸量および全体酸量を求めることが可能である。前記バインダーの酸量を求める方法は特に限定されないが、例えば、27Al−NMRにおいてゼオライト酸点に由来する4配位Alのピーク強度からゼオライト全体酸量を求め、アンモニア昇温脱離法によって求まるゼオライト全体酸量とバインダー酸量の合計値から差し引く方法などが挙げられる。 When a binder having an acid point, such as alumina, is used, the outer surface acid amount and the total acid amount are measured as a total value including the acid amount of the binder as well as the acid amount of the zeolite. . In that case, it is possible to determine the acid amount of the binder by another method and subtract the value to determine the outer surface acid amount and the total acid amount not including the binder acid amount. The method for determining the acid amount of the binder is not particularly limited. For example, in 27 Al-NMR, the total acid amount of the zeolite is determined from the peak intensity of 4-coordinated Al derived from the zeolitic acid point, and determined by the ammonia temperature programmed desorption method. Examples include a method of subtracting from the total value of the total zeolite acid amount and the binder acid amount.

(4)CHA型構造を有する非H型ゼオライトを用いたプロピレンの製造方法
<得られた触媒を用いたプロピレンの製造方法>
次に得られたシリル化されたH型ゼオライトを触媒としてエチレンを触媒と接触させることにより反応させ(以下、エチレン転化反応ということがある)、プロピレンを製造する方法について説明する。(以下、本発明におけるプロピレンの製造方法という。)
(4) Propylene production method using non-H-type zeolite having CHA type structure <Propylene production method using the obtained catalyst>
Next, a method for producing propylene by reacting the obtained silylated H-type zeolite with a catalyst by contacting ethylene with the catalyst (hereinafter sometimes referred to as ethylene conversion reaction) will be described. (Hereinafter referred to as a method for producing propylene in the present invention.)

(a)反応方法
<反応原料>
原料となるエチレンは特に限定されるものではない。例えば、石油供給源から接触分解法または蒸気分解法等により製造されるエチレン、石炭のガス化により得られる水素/CO混合ガスを原料としてフィッシャートロプシュ合成を行うことにより得られるエチレン、エタンの脱水素または酸化脱水素で得られたものプロピレンのメタセシス反応およびホモロゲーション反応により得られるエチレン、MTO(Methanol to Olefin)反応によって得られるエチレン、エタノールの脱水反応から得られるエチレン、メタンの酸化カップリングで得られるエチレン等、公知の各種方法により得られるエチレンを任意に用いることができる。このとき各種製造方法に起因するエチレン以外の化合物を任意に混合した状態のものをそのまま用いてもよいし、精製したエチレンを用いてもよいが、好ましくは精製したエチレンである。
(A) Reaction method
<Reaction raw materials>
The raw material ethylene is not particularly limited. For example, dehydrogenation of ethylene and ethane obtained by conducting Fischer-Tropsch synthesis using ethylene produced from a petroleum source by catalytic cracking or steam cracking, etc., and hydrogen / CO mixed gas obtained by gasification of coal Or obtained by oxidative dehydrogenation Ethylene obtained by metathesis reaction and homologation reaction of propylene, ethylene obtained by MTO (Methanol to Olefin) reaction, obtained by oxidative coupling of ethylene and methane obtained from dehydration reaction of ethanol Ethylene obtained by various known methods such as ethylene can be arbitrarily used. At this time, a state in which a compound other than ethylene resulting from various production methods is arbitrarily mixed may be used as it is, or purified ethylene may be used, but purified ethylene is preferable.

尚、ゼオライト内に存在する酸点により、エタノールは容易に脱水されてエチレンに変換される。そのため、反応器に原料としてエタノールを直接導入しても本発明に記載の反応を行うことができる。
また、本発明におけるプロピレンの製造方法でプロピレンを製造する際、反応器出口ガスに含まれるオレフィンをリサイクルしてもよい。
Incidentally, ethanol is easily dehydrated and converted to ethylene by the acid sites present in the zeolite. Therefore, the reaction described in the present invention can be carried out even if ethanol is directly introduced into the reactor as a raw material.
Moreover, when manufacturing propylene with the manufacturing method of propylene in this invention, you may recycle the olefin contained in reactor outlet gas.

リサイクルするオレフィンとしては、通常エチレンだが、その他のオレフィンをリサイクルしても良い。原料となるオレフィンは低級オレフィンが好ましく、分岐鎖オレフィンはその分子の大きさからゼオライト細孔内への進入が困難であるため好ましくない。オレフィンとしては好ましくはエチレン、直鎖ブテンであり、最も好ましくはエチレンである。   The olefin to be recycled is usually ethylene, but other olefins may be recycled. The olefin used as a raw material is preferably a lower olefin, and a branched olefin is not preferred because it is difficult to enter the zeolite pores due to its molecular size. The olefin is preferably ethylene or linear butene, and most preferably ethylene.

<反応器>
本発明のプロピレンの製造方法においては、通常エチレンを、反応器中で触媒と接触させ、プロピレンを製造することが好ましい。用いる反応器の形態に特に制限はないが、通常連続式の固定床反応器や流動床反応器が選ばれる。好ましくは流動床反応器である。
なお、流動床反応器に前述の触媒を充填する際、触媒層の温度分布を小さく抑えるために、石英砂、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ等の、反応に不活性な粒状物を、触媒と混合して充填しても良い。この場合、石英砂等の反応に不活性な粒状物の使用量は特に制限はない。なお、この粒状物は、触媒との均一混合性の面から、触媒と同程度の粒径であることが好ましい。
<Reactor>
In the method for producing propylene of the present invention, it is usually preferable to produce propylene by bringing ethylene into contact with a catalyst in a reactor. Although there is no restriction | limiting in particular in the form of the reactor to be used, Usually, a continuous type fixed bed reactor and a fluidized bed reactor are selected. A fluidized bed reactor is preferred.
In order to keep the temperature distribution of the catalyst layer small when the fluidized bed reactor is charged with the above-mentioned catalyst, granular materials inert to the reaction, such as quartz sand, alumina, silica, and silica-alumina, are combined with the catalyst. You may mix and fill. In this case, there is no particular limitation on the amount of granular material inactive to the reaction such as quartz sand. In addition, it is preferable that this granular material is a particle size comparable as a catalyst from the surface of uniform mixing property with a catalyst.

<希釈剤>
前記反応器内には、エチレンの他に、ヘリウム、アルゴン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素、水、パラフィン類、メタン等の炭化水素類、芳香族化合物類、および、それらの混合物など、反応に不活性な気体を存在させることができるが、この中でも水(水蒸気)が共存しているのが好ましい。
<Diluent>
In the reactor, in addition to ethylene, helium, argon, nitrogen, carbon monoxide, carbon dioxide, hydrogen, water, paraffins, hydrocarbons such as methane, aromatic compounds, and mixtures thereof, etc. A gas inert to the reaction can be present, and among these, water (water vapor) is preferably present together.

(b)反応条件
<基質濃度>
前記反応器に供給する全供給成分中のエチレンの濃度(即ち、基質濃度)に関して特に制限はないが、通常エチレンは全供給成分中、90モル%以下である。好ましくは70モ
ル%以下である。また通常5モル%以上である。基質濃度が前記上限超過では、芳香族化合物やパラフィン類の生成が顕著になり、プロピレンの選択率が低下する傾向がある。基質濃度が前記下限未満では、反応速度が遅くなるため、多量の触媒が必要となり、反応器が大きくなりすぎる傾向がある。
従って、このような基質濃度となるように、必要に応じて以下に記載する希釈剤でエチレンを希釈することが好ましい。
(B) Reaction conditions
<Substrate concentration>
There is no particular limitation on the concentration of ethylene in all the feed components fed to the reactor (ie, the substrate concentration), but usually ethylene is less than 90 mol% in all feed components. Preferably it is 70 mol% or less. Moreover, it is 5 mol% or more normally. When the substrate concentration exceeds the above upper limit, the production of aromatic compounds and paraffins becomes remarkable, and the propylene selectivity tends to decrease. If the substrate concentration is less than the lower limit, the reaction rate becomes slow, so a large amount of catalyst is required, and the reactor tends to be too large.
Therefore, it is preferable to dilute ethylene with a diluent described below as necessary so as to obtain such a substrate concentration.

<空間速度>
ここで言う空間速度とは、触媒(触媒活性成分)の重量当たりの反応原料であるエチレンの流量(重量/時間)である。ここで触媒の重量とは触媒の造粒・成型に使用する不活性成分やバインダーを含まない触媒活性成分の重量である。
<Space velocity>
The space velocity mentioned here is a flow rate (weight / hour) of ethylene as a reaction raw material per weight of the catalyst (catalytic active component). Here, the weight of the catalyst is the weight of an inactive component used for granulation / molding of the catalyst or a catalytically active component not containing a binder.

空間速度は、特に制限されるものではないが、0.01Hr−1から500Hr−1の間が好ましく、0.1Hr−1から100Hr−1の間がさらに好ましい。空間速度が高すぎると反応器出口ガス中のエチレンが多くなり、プロピレン収率が低くなるため好ましくない。また、空間速度が低すぎると、パラフィン類等の好ましくない副生成物が生成し、プロピレン選択率が低下するため好ましくない。 Space velocity, but it is not particularly limited but is preferably between 0.01 hr -1 for 500HR -1, more preferably between 0.1 hr -1 to 100 Hr -1. If the space velocity is too high, the amount of ethylene in the reactor outlet gas increases, which is not preferable because the propylene yield decreases. On the other hand, when the space velocity is too low, undesirable by-products such as paraffins are generated, and the propylene selectivity is lowered, which is not preferable.

<反応温度>
反応温度は、エチレンが触媒と接触してプロピレンが製造されれば特に制限されるものではないが、通常約200℃以上、好ましくは300℃以上であり、通常700℃以下、好ましくは600℃以下である。反応温度が前記下限未満では、反応速度が低く、未反応原料が多く残る傾向となり、さらにプロピレンの収率も低下する傾向がある。一方で反応温度が前記上限超過ではプロピレンの収率が著しく低下する場合がある。
<Reaction temperature>
The reaction temperature is not particularly limited as long as ethylene is brought into contact with the catalyst to produce propylene, but is usually about 200 ° C or higher, preferably 300 ° C or higher, and usually 700 ° C or lower, preferably 600 ° C or lower. It is. When the reaction temperature is less than the lower limit, the reaction rate is low, a large amount of unreacted raw material tends to remain, and the propylene yield also tends to decrease. On the other hand, if the reaction temperature exceeds the above upper limit, the yield of propylene may be significantly reduced.

<反応圧力>
反応圧力は特に制限されるものではないが、通常2MPa(絶対圧、以下同様)以下、好ましくは1MPa以下であり、より好ましくは0.7MPa以下である。また、通常1kPa以上、好ましくは50kPa以上である。反応圧力が前記上限超過ではパラフィン類等の好ましくない副生成物の生成量が増え、プロピレンの選択率が低下する傾向がある。反応圧力が前記下限未満では反応速度が遅くなる傾向がある。
<Reaction pressure>
The reaction pressure is not particularly limited, but is usually 2 MPa (absolute pressure, the same shall apply hereinafter) or less, preferably 1 MPa or less, more preferably 0.7 MPa or less. Moreover, it is 1 kPa or more normally, Preferably it is 50 kPa or more. When the reaction pressure exceeds the upper limit, the amount of undesired by-products such as paraffins increases, and the propylene selectivity tends to decrease. When the reaction pressure is less than the lower limit, the reaction rate tends to be slow.

<触媒の再生>
反応に供した触媒は再生して使用することができる。具体的にはエチレン転化率が低下した触媒は、各種公知の触媒の再生方法を使用して再生することができる。(例えば特開2011−78962号公報に記載の方法)
再生方法は特に限定されるものではないが、具体的には例えば空気、窒素、水蒸気、水素等を用いて再生することができ、水素を用いて再生することが好ましい。
<Catalyst regeneration>
The catalyst subjected to the reaction can be regenerated and used. Specifically, the catalyst having a reduced ethylene conversion rate can be regenerated using various known catalyst regeneration methods. (For example, the method described in JP2011-78962A)
The regeneration method is not particularly limited, and specifically, for example, regeneration can be performed using air, nitrogen, water vapor, hydrogen or the like, and it is preferable to perform regeneration using hydrogen.

<転化率>
本発明においては、転化率は特に制限されるものではないが、通常エチレンの転化率が20%以上、好ましくは40%以上、より好ましくは50%以上、また通常95%以下、好ましくは90%以下となるような条件で反応を行うことが好ましい。
この転化率が前記下限値未満では、未反応のエチレンが多く、プロピレン収率が低いため好ましくないことがある。一方、前記上限値以上では、パラフィン類等の望ましくない副生成物が増え、プロピレン選択率が低下するため好ましくないことがある。
<Conversion rate>
In the present invention, the conversion is not particularly limited, but usually the conversion of ethylene is 20% or more, preferably 40% or more, more preferably 50% or more, and usually 95% or less, preferably 90%. The reaction is preferably performed under the following conditions.
If this conversion rate is less than the lower limit, there are a lot of unreacted ethylene and the propylene yield is low, which is not preferable. On the other hand, when the amount is not less than the upper limit, undesirable by-products such as paraffins increase and the propylene selectivity decreases, which may not be preferable.

流動床反応器で反応を行う場合には、触媒の反応器内の滞留時間と再生器内での滞留時間を調整することにより、好ましい転化率で運転することができる。
なお、転化率は次の式により算出される値である。
エチレン転化率(%)=〔[反応器入口エチレン(mol/hr)−反応器出口エチレン(mol/hr)]/反応器入口エチレン(mol/hr)〕×100
When the reaction is carried out in a fluidized bed reactor, the catalyst can be operated at a preferable conversion rate by adjusting the residence time of the catalyst in the reactor and the residence time in the regenerator.
The conversion rate is a value calculated by the following formula.
Ethylene conversion (%) = [[Reactor inlet ethylene (mol / hr) −Reactor outlet ethylene (mol / hr)] / Reactor inlet ethylene (mol / hr)] × 100

<選択率>
本明細における選択率とは、以下の各式により算出される値である。下記の各式において、プロピレン、ブテン、C+、パラフィンまたは芳香族化合物由来カーボン(mol)とは、各成分を構成する炭素原子のモル数を意味する。尚、パラフィンは炭素数1から3のパラフィンの合計、芳香族化合物はベンゼン、トルエン、キシレンの合計、C+は前記芳香族化合物を除いたC以上の炭化水素の合計値である。
<Selectivity>
The selectivity in this specification is a value calculated by the following equations. In each of the following formulas, propylene, butene, C 5 +, paraffin or aromatic compound-derived carbon (mol) means the number of moles of carbon atoms constituting each component. Paraffin is the sum of paraffins having 1 to 3 carbon atoms, aromatic compounds are the sum of benzene, toluene and xylene, and C 5 + is the sum of C 5 or more hydrocarbons excluding the aromatic compounds.

プロピレン選択率(%)=〔反応器出口プロピレン由来カーボン(mol/hr)/
[反応器出口総カーボン(mol/hr)−反応器出口エチ
レン由来カーボン(mol/hr)]〕×100
ブテン選択率(%)=〔反応器出口ブテン由来カーボン(mol/hr)/[反応器出
口総カーボン(mol/hr)−反応器出口エチレン由来カー
ボン(mol/hr)]〕×100
+選択率(%)=〔反応器出口C+由来カーボン(mol/hr)/[反応器出
総カーボン(mol/hr)−反応器出口エチレン由来カーボ
ン(mol/hr)]〕×100
パラフィン選択率(%)=〔反応器出口パラフィン由来カーボン(mol/hr)/
[反応器出口総カーボン(mol/hr)−反応器出口エチ
レン由来カーボン(mol/hr)]〕×100
芳香族化合物選択率(%)=〔反応器出口芳香族化合物由来カーボン(mol/hr)
/[反応器出口総カーボン(mol/hr)−反応器出口
エチレン由来カーボン(mol/hr)]〕×100
なお本明細における収率とは、前記エチレン転化率と、生成した各成分の選択率の積により求められ、具体的にプロピレン収率は、次の式で表される値である。
プロピレン収率(%)=エチレン転化率(%)×プロピレン選択率(%)/100
Propylene selectivity (%) = [Propylene outlet derived carbon (mol / hr) /
[Reactor outlet total carbon (mol / hr) -reactor outlet Eth
Len derived carbon (mol / hr)]] × 100
Butene selectivity (%) = [reactor outlet butene-derived carbon (mol / hr) / [reactor outlet
Total carbon (mol / hr) -reactor outlet ethylene-derived car
Bonn (mol / hr)]] × 100
C 5 + selectivity (%) = [reactor outlet C 5 + derived carbon (mol / hr) / [reactor outlet
Total carbon (mol / hr) -reactor outlet ethylene-derived carbon
(Mol / hr)]] × 100
Paraffin selectivity (%) = [Carbon derived from reactor paraffin (mol / hr) /
[Reactor outlet total carbon (mol / hr) -reactor outlet Eth
Len derived carbon (mol / hr)]] × 100
Aromatic compound selectivity (%) = [reactor outlet aromatic compound-derived carbon (mol / hr)
/ [Reactor outlet total carbon (mol / hr)-reactor outlet
Ethylene-derived carbon (mol / hr)]] × 100
In addition, the yield in this specification is calculated | required by the product of the said ethylene conversion rate and the selectivity of each produced | generated component, and a propylene yield is a value specifically represented by the following formula.
Propylene yield (%) = ethylene conversion (%) × propylene selectivity (%) / 100

(c)反応生成物
反応器出口ガス(反応器流出物)としては、反応生成物であるプロピレン、未反応のエチレン、副生成物および希釈剤を含む混合ガスが得られる。該混合ガス中のプロピレン濃度は通常1重量%以上、好ましくは2重量%以上であり、通常95重量%以下、好ましくは80重量%以下である。
(C) Reaction product
As the reactor outlet gas (reactor effluent), a mixed gas containing reaction product propylene, unreacted ethylene, by-products and a diluent is obtained. The propylene concentration in the mixed gas is usually 1% by weight or more, preferably 2% by weight or more, and usually 95% by weight or less, preferably 80% by weight or less.

この混合ガス中には通常エチレンが含まれるが、この混合ガス中のエチレンはその少なくとも一部を反応器にリサイクルして反応原料として再利用することが好ましい。
なお、副生成物としては炭素数が4以上のオレフィン類およびパラフィン類が挙げられる。
本発明におけるプロピレンの製造方法によって得られたプロピレンを重合することによりポリプロピレンを製造することができる。重合の方法は特に限定されないが、得られたプロピレンを直接重合系の原料として導入して使用することができる。また、その他のプロピレン誘導品の原料としても利用できる。例えばアンモニア酸化によりアクリロニトリル、選択酸化によりアクロレイン、アクリル酸及びアクリル酸エステル、オキソ反応によりノルマルブチルアルコール、2−エチルヘキサノール等のオキソアルコール、選択酸化によりプロピレンオキサイド及びプロピレングリコール等が製造できる。またワッカー反応によりアセトンが製造でき、更にアセトンよりメチルイソブチルケトンを製造できる。アセトンからはまたアセトンシアンヒドリンが製造でき、これは最終的にメチルメタクリレ−トに転換される。プロピレン水和によりイソプロピルアルコ-ルも製造できる。また
プロピレンをベンゼンと反応することにより製造したキュメンを原料にフェノール、ビス
フェノールA、またはポリカーボネ−ト樹脂が製造できる。
The mixed gas usually contains ethylene, but it is preferable that at least a part of the ethylene in the mixed gas is recycled to the reactor and reused as a reaction raw material.
Examples of by-products include olefins having 4 or more carbon atoms and paraffins.
Polypropylene can be produced by polymerizing propylene obtained by the method for producing propylene in the present invention. The method of polymerization is not particularly limited, but the obtained propylene can be directly used as a raw material for the polymerization system. It can also be used as a raw material for other propylene derivatives. For example, acrylonitrile can be produced by ammonia oxidation, acrolein, acrylic acid and acrylic acid esters can be produced by selective oxidation, oxo alcohols such as normal butyl alcohol and 2-ethylhexanol can be produced by oxo reaction, and propylene oxide and propylene glycol can be produced by selective oxidation. In addition, acetone can be produced by Wacker reaction, and methyl isobutyl ketone can be produced from acetone. Acetone cyanohydrin can also be produced from acetone, which is finally converted to methyl methacrylate. Isopropyl alcohol can also be produced by propylene hydration. Phenol, bisphenol A, or polycarbonate resin can be produced from a cumene produced by reacting propylene with benzene.

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に何ら限定されるものではない。
<細孔分布測定方法>
細孔分布の測定は、ユアサアイオニクス社製 NOVA1200を用いて測定した。10mg程度のゼオライトを200℃で1時間、真空条件下で前処理し吸着物の脱離を行った後に、窒素ガスを吸着ガスとして等温線測定を行った。液体窒素温度での相対圧で吸着時および脱着時に平衡吸着量を測定することで吸着等温線を取得した。吸着量測定時の相対圧力領域は0.02から0.99であり、その間を0.02から0.1刻みで相対圧力を変化させる。吸着量の変化が大きい領域では相対圧の変化量を小さくして測定する。
得られた等温線からBJH法にて累積細孔容積を算出した。なおBJH法とは、相対圧と、水蒸気の吸着等温線の関係から細孔分布を求める測定法の一つである。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded.
<Pore distribution measurement method>
The pore distribution was measured using NOVA1200 manufactured by Yuasa Ionics. About 10 mg of zeolite was pretreated at 200 ° C. for 1 hour under vacuum conditions to desorb the adsorbate, and then an isotherm was measured using nitrogen gas as the adsorbed gas. The adsorption isotherm was obtained by measuring the equilibrium adsorption amount at the time of adsorption and desorption with the relative pressure at the liquid nitrogen temperature. The relative pressure region during the adsorption amount measurement is 0.02 to 0.99, and the relative pressure is changed in increments of 0.02 to 0.1. In a region where the change in adsorption amount is large, the measurement is performed with a small change in relative pressure.
The cumulative pore volume was calculated from the obtained isotherm by the BJH method. The BJH method is one of measurement methods for obtaining the pore distribution from the relationship between the relative pressure and the adsorption isotherm of water vapor.

<XRD測定>
XRD測定は以下の条件に基づき行った。
・装置名:オランダPANalytical社製X’PertPro MPD
・測定条件 X線出力(CuKα):45kV、40mA
走査軸:θ/2θ
走査範囲(2θ):5.0−70.0°
測定モード:Continuous
読込幅:0.05°
計数時間:99.7sec
自動可変スリット(Automatic−DS):1mm(照射幅)
横発散マスク:10mm(照射幅)
<XRD measurement>
XRD measurement was performed based on the following conditions.
-Device name: X'PertPro MPD manufactured by PANalytical, the Netherlands
Measurement conditions X-ray output (CuKα): 45 kV, 40 mA
Scanning axis: θ / 2θ
Scanning range (2θ): 5.0-70.0 °
Measurement mode: Continuous
Reading width: 0.05 °
Counting time: 99.7 sec
Automatic variable slit (Automatic-DS): 1 mm (irradiation width)
Horizontal divergence mask: 10 mm (irradiation width)

(合成例1)
25重量%のN,N,N-トリメチル-1-アダマンタンアンモニウムハイドロキサイド水溶液
(N,N,n-trimethyl-1-adamantammonium hydroxide)水溶液を47.3gと水酸化ナトリ
ウム4.5gと水408gを混合し、これに水酸化アルミニウム(酸化アルミニウム換算で50〜57重量%換算)4.3gを加え攪拌した後に、シリカ源としてフュームドシリカを33.6g加えて十分攪拌した。
(Synthesis Example 1)
25 wt% of 47.3 g of an aqueous solution of N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide (N, N, n-trimethyl-1-adamantammonium hydroxide), 4.5 g of sodium hydroxide and 408 g of water After mixing and adding 4.3 g of aluminum hydroxide (50 to 57% by weight in terms of aluminum oxide) and stirring, 33.6 g of fumed silica as a silica source was added and sufficiently stirred.

さらに加えたフュームドシリカの重量に対して2重量%のCHA型ゼオライトを種結晶として加えてさらに攪拌した。得られたゲルをオートクレーブに仕込み、攪拌条件下で160℃、42時間加熱した。生成物をろ過、水洗した後、100℃で乾燥させた。
乾燥後に、空気雰囲気下、580℃まで6時間で昇温し、その後580℃で6時間保つことによって、焼成し、ナトリウム型のゼオライトAを得た。
Further, 2% by weight of CHA-type zeolite was added as a seed crystal to the weight of the added fumed silica and further stirred. The resulting gel was charged into an autoclave and heated at 160 ° C. for 42 hours under stirring conditions. The product was filtered, washed with water, and dried at 100 ° C.
After drying, the temperature was raised to 580 ° C. in an air atmosphere over 6 hours, and then calcined by maintaining at 580 ° C. for 6 hours to obtain sodium-type zeolite A.

前記で得られたナトリウム型ゼオライトAを用いて、更にH型のゼオライトを製造した。
ゼオライトAを、1Mの硝酸アンモニウム水溶液で80℃、1時間のイオン交換を行った後、ろ過を行い、さらに1Mの硝酸アンモニウム水溶液で80℃、1時間加熱しイオン交換を行った。その後、再びろ過を行い、100℃で乾燥した後、空気雰囲気下、500℃まで6時間で昇温し、その後6時間保持することでH型のゼオライトBを得た。
Using the sodium-type zeolite A obtained above, an H-type zeolite was further produced.
Zeolite A was ion-exchanged with a 1M aqueous ammonium nitrate solution at 80 ° C. for 1 hour, filtered, and further heated with a 1M aqueous ammonium nitrate solution at 80 ° C. for 1 hour for ion exchange. Then, after filtering again and drying at 100 degreeC, it heated up to 500 degreeC by the air atmosphere in 6 hours, and H type zeolite B was obtained by hold | maintaining for 6 hours after that.

(合成例2)
25重量%のN,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムハイドロキサイド水溶液(N,N,n-trimethyl-1-adamantammonium hydroxide)水溶液を5.9kgと水酸
化ナトリウム0.56gと水51kgを混合し、これに水酸化アルミニウム(酸化アルミニウム換算で50〜57重量%換算)を0.53kgを加え攪拌した後に、シリカ源としてフュームドシリカを4.2kg加えて十分攪拌した。
(Synthesis Example 2)
5.9 kg of a 25 wt% aqueous solution of N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide (N, N, n-trimethyl-1-adamantammonium hydroxide), 0.56 g of sodium hydroxide and 51 kg of water After mixing and adding 0.53 kg of aluminum hydroxide (50 to 57 wt% in terms of aluminum oxide) to this and stirring, 4.2 kg of fumed silica as a silica source was added and sufficiently stirred.

さらに加えたフュームドシリカの重量に対して2重量%のCHA型ゼオライトを種結晶として加えてさらに攪拌した。得られたゲルをオートクレーブに仕込み、攪拌条件下で160℃、48時間加熱した。生成物を遠心分離、水洗した後、100℃で乾燥させた。
乾燥後に、空気雰囲気下、580度で焼成し、ナトリウム型のゼオライトを得た。このゼオライトをゼオライトCとした。
Further, 2% by weight of CHA-type zeolite was added as a seed crystal to the weight of the added fumed silica and further stirred. The resulting gel was charged into an autoclave and heated at 160 ° C. for 48 hours under stirring conditions. The product was centrifuged and washed with water, and then dried at 100 ° C.
After drying, it was calcined at 580 degrees in an air atmosphere to obtain a sodium-type zeolite. This zeolite was designated as zeolite C.

上記で得られたゼオライトはCHA型のナトリウム型のアルミノシリケートであり、SiO/Al比は16(モル比)である。
得られたナトリウム型ゼオライトCを用いて、さらにH型ゼオライトを製造した。
ゼオライトCを1Mの硝酸アンモニウム水溶液を用いて、80℃で1時間加熱し、イオン交換を行った。イオン交換後、ろ過を行い、さらに1Mの硝酸アンモニウム水溶液で80℃、1時間のイオン交換を行った。その後、再びろ過を行い、100℃で乾燥した後、空気雰囲気下、500℃まで6時間で昇温し、その後6時間保持することでH型のゼオライトDを得た。
The zeolite obtained above is a CHA-type sodium-type aluminosilicate, and the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio is 16 (molar ratio).
Using the obtained sodium-type zeolite C, an H-type zeolite was further produced.
Zeolite C was heated at 80 ° C. for 1 hour using a 1M aqueous ammonium nitrate solution for ion exchange. After ion exchange, filtration was performed, and ion exchange was further performed with a 1M ammonium nitrate aqueous solution at 80 ° C. for 1 hour. Then, after filtering again and drying at 100 degreeC, it heated up to 500 degreeC by the air atmosphere in 6 hours, and H type zeolite D was obtained by hold | maintaining for 6 hours after that.

(合成例3)
25重量%のN,N,N−トリメチル−1−アダマンタンアンモニウムハイドロキサイド水溶液(N,N,n-trimethyl-1-adamantammonium hydroxide)水溶液を47.3gと水酸
化ナトリウム4.5gと水408gを混合し、これに水酸化アルミニウム(酸化アルミニウム換算で50〜57重量%換算)7.2gを加え攪拌した後に、シリカ源としてフュームドシリカを33.6g加えて十分攪拌した。
(Synthesis Example 3)
47.3 g of an aqueous solution of 25 wt% N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide (N, N, n-trimethyl-1-adamantammonium hydroxide), 4.5 g of sodium hydroxide and 408 g of water After mixing, 7.2 g of aluminum hydroxide (50 to 57% by weight in terms of aluminum oxide) was added and stirred, and then 33.6 g of fumed silica was added as a silica source and sufficiently stirred.

さらに加えたフュームドシリカの重量に対して2重量%のCHA型ゼオライトを種結晶として加えてさらに攪拌した。得られたゲルをオートクレーブに仕込み、攪拌条件下で160℃、42時間加熱した。生成物をろ過、水洗した後、100℃で乾燥させた。
乾燥後に、空気雰囲気下、580度で焼成し、ナトリウム型のゼオライトEを得た。
上記で得られたゼオライトはCHA型のナトリウム型のアルミノシリケートであり、SiO/Al比は14(モル比)である。
Further, 2% by weight of CHA-type zeolite was added as a seed crystal to the weight of the added fumed silica and further stirred. The resulting gel was charged into an autoclave and heated at 160 ° C. for 42 hours under stirring conditions. The product was filtered, washed with water, and dried at 100 ° C.
After drying, it was calcined at 580 degrees in an air atmosphere to obtain sodium-type zeolite E.
The zeolite obtained above is a CHA-type sodium-type aluminosilicate, and the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio is 14 (molar ratio).

得られたナトリウム型ゼオライトEを用いて、更にH型ゼオライトを製造した。
前記ゼオライトEを1Mの硝酸アンモニウム水溶液で80℃、1時間のイオン交換を行った後、ろ過を行い、さらに1Mの硝酸アンモニウム水溶液で80℃、1時間のイオン交換を行った。その後、再びろ過を行い、100℃で乾燥した後、空気雰囲気下、500℃まで6時間で昇温し、その後6時間保つことでH型のゼオライトFを得た。
Using the obtained sodium-type zeolite E, an H-type zeolite was further produced.
The zeolite E was ion-exchanged with a 1M ammonium nitrate aqueous solution at 80 ° C. for 1 hour, filtered, and further ion-exchanged with a 1M ammonium nitrate aqueous solution at 80 ° C. for 1 hour. Then, after filtering again and drying at 100 degreeC, it heated up to 500 degreeC by the air atmosphere in 6 hours, and H type zeolite F was obtained by hold | maintaining for 6 hours after that.

(実施例1)
合成例1で得られたゼオライトAに対して、硫酸溶液中でシリル化を行った。ゼオライトA0.5gに対して溶媒の0.1M硫酸を25g、シリル化剤のテトラエトキシシラン(以下、TEOSと略すことがある。)を0.15g加えて、オートクレーブに仕込み、100℃で20時間加熱処理した。処理後、ろ過によって固液分離し、得られたゼオライトを100℃で乾燥した。こうして得られた触媒を触媒1とした。
Example 1
The zeolite A obtained in Synthesis Example 1 was silylated in a sulfuric acid solution. To 0.5 g of zeolite A, 25 g of 0.1 M sulfuric acid as a solvent and 0.15 g of tetraethoxysilane (hereinafter sometimes abbreviated as TEOS) as a silylating agent are added and charged in an autoclave at 100 ° C. for 20 hours. Heat-treated. After the treatment, solid-liquid separation was performed by filtration, and the obtained zeolite was dried at 100 ° C. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 1.

得られた触媒1を用いてエチレンの転化反応を行った。常圧固定床流通反応装置を用い、内径6mmの石英製反応管に触媒100mgと石英砂400mgの混合物を充填した。エチレン30体積%、窒素70体積%の混合ガスをエチレンの重量空間速度が0.36Hr−1になるように反応器に供給し、400℃、0.1MPaで反応を行った。反応開始
後ガスクロマトグラフィで生成物の分析を行った。またゼオライトの細孔容量を、前記測定方法に基づいて測定した。結果を表1に示す。反応成績については反応開始後3.0時間後のデータを示した。
The obtained catalyst 1 was used for ethylene conversion reaction. Using a normal pressure fixed bed flow reactor, a quartz reaction tube having an inner diameter of 6 mm was filled with a mixture of 100 mg of catalyst and 400 mg of quartz sand. A mixed gas of 30% by volume of ethylene and 70% by volume of nitrogen was supplied to the reactor so that the weight space velocity of ethylene was 0.36 Hr −1 , and the reaction was performed at 400 ° C. and 0.1 MPa. After starting the reaction, the product was analyzed by gas chromatography. Further, the pore volume of the zeolite was measured based on the measurement method. The results are shown in Table 1. About the reaction result, the data 3.0 hours after the reaction start were shown.

(実施例2)
処理時間を6時間に短縮した以外は実施例1に記載の触媒の調整方法と同様にシリル化、ろ過、乾燥を行った。こうして得られた触媒を触媒2とした。
触媒2を用いて、実施例1と同条件でエチレン転化反応を行なった。結果を表1に示す。反応成績については、実施例1で得られたエチレンの転化率と同等の転化率が得られた時点で比較するため、反応開始後3.2時間後のデータを示した。
(Example 2)
Silylation, filtration, and drying were performed in the same manner as the catalyst preparation method described in Example 1, except that the treatment time was shortened to 6 hours. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 2.
Using the catalyst 2, an ethylene conversion reaction was carried out under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1. The reaction results are shown at 3.2 hours after the start of the reaction for comparison at the time when the conversion rate equivalent to the ethylene conversion rate obtained in Example 1 was obtained.

(実施例3)
硫酸量、テトラエトキシシラン量を半分にした以外は実施例1に記載の触媒の調整方法と同様にシリル化、ろ過、乾燥を行った。こうして得られた触媒を触媒3とした。
触媒3を用いて、実施例1と同条件でエチレン転化反応を行なった。結果を表1に示す。反応成績については、実施例1で得られたエチレンの転化率と同等の転化率が得られた時点で比較するため、反応開始後3.4時間後のデータを示した。
(Example 3)
Silylation, filtration, and drying were performed in the same manner as the catalyst preparation method described in Example 1 except that the amount of sulfuric acid and the amount of tetraethoxysilane were halved. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 3.
Using the catalyst 3, an ethylene conversion reaction was carried out under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1. The reaction results were compared at the time when a conversion rate equivalent to the ethylene conversion rate obtained in Example 1 was obtained, and data after 3.4 hours from the start of the reaction are shown.

(比較例1)
ゼオライトAをゼオライトBに変更した以外は実施例1に記載の調整方法と同様にシリル化、ろ過、乾燥を行った。こうして得られた触媒を触媒4とした。
触媒4を用いて、実施例1と同条件でエチレン転化反応を行なった。結果を表1に示す。反応成績については、実施例1で得られたエチレンの転化率と同等の転化率が得られた時点で比較するため、反応開始後3.0時間後のデータを示した。
(Comparative Example 1)
Silylation, filtration, and drying were performed in the same manner as the preparation method described in Example 1 except that zeolite A was changed to zeolite B. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 4.
Using the catalyst 4, an ethylene conversion reaction was carried out under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1. About the reaction results, in order to compare when the conversion rate equivalent to the ethylene conversion rate obtained in Example 1 was obtained, data after 3.0 hours from the start of the reaction are shown.

(比較例2)
ゼオライトBに対して硫酸処理を行った。ゼオライトB 0.5gに対して0.1M硫酸を25g加えて、オートクレーブに仕込み、100℃で20時間加熱処理した。処理後、ろ過によって固液分離し、得られたゼオライトを100℃で乾燥した。こうして得られた触媒を触媒5とした。
(Comparative Example 2)
Zeolite B was treated with sulfuric acid. 25 g of 0.1M sulfuric acid was added to 0.5 g of zeolite B, charged in an autoclave, and heat-treated at 100 ° C. for 20 hours. After the treatment, solid-liquid separation was performed by filtration, and the obtained zeolite was dried at 100 ° C. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 5.

触媒5を用いて、実施例1と同条件でエチレン転化反応を行なった。結果を表1に示す。反応成績については、実施例1で得られたエチレンの転化率と同等の転化率が得られた時点で比較するため、反応開始後4.0時間後のデータを示した。   Using the catalyst 5, an ethylene conversion reaction was carried out under the same conditions as in Example 1. The results are shown in Table 1. The reaction results were compared at the time when a conversion rate equivalent to the ethylene conversion rate obtained in Example 1 was obtained, and data after 4.0 hours from the start of the reaction are shown.

(実施例4)
合成例2で得られたゼオライトCに対して、硫酸溶液中でシリル化を行った。ゼオライトC、1gに対して溶媒の1M硫酸を50g、シリル化剤のテトラエトキシシランを0.3g加えて、オートクレーブに仕込み、100℃で20時間加熱処理した。処理後、ろ過によって固液分離し、得られたゼオライトを100℃で乾燥した。こうして得られた触媒を触媒6とした。
Example 4
The zeolite C obtained in Synthesis Example 2 was silylated in a sulfuric acid solution. To 1 g of zeolite C, 50 g of 1M sulfuric acid as a solvent and 0.3 g of tetraethoxysilane as a silylating agent were added and charged in an autoclave, followed by heat treatment at 100 ° C. for 20 hours. After the treatment, solid-liquid separation was performed by filtration, and the obtained zeolite was dried at 100 ° C. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 6.

触媒6を用いてエチレンの転化反応を行った。常圧固定床流通反応装置を用い、内径6mmの石英製反応管に触媒100mgと石英砂400mgの混合物を充填した。エチレン30体積%、窒素70体積%の混合ガスをエチレンの重量空間速度が0.36Hr−1になるように反応器に供給し、400℃、0.1MPaで反応を行った。反応開始後2.1時間後にガスクロマトグラフィで生成物の分析を行った。またゼオライトの細孔容量を、前記測定方法に基づいて測定した。結果を表1に示す。 Using the catalyst 6, an ethylene conversion reaction was carried out. Using a normal pressure fixed bed flow reactor, a quartz reaction tube having an inner diameter of 6 mm was filled with a mixture of 100 mg of catalyst and 400 mg of quartz sand. A mixed gas of 30% by volume of ethylene and 70% by volume of nitrogen was supplied to the reactor so that the weight space velocity of ethylene was 0.36 Hr −1 , and the reaction was performed at 400 ° C. and 0.1 MPa. The product was analyzed by gas chromatography 2.1 hours after the start of the reaction. Further, the pore volume of the zeolite was measured based on the measurement method. The results are shown in Table 1.

(実施例5)
硫酸濃度を0.5Mとした以外は実施例4と同様にシリル化、ろ過、乾燥を行った。こうして得られた触媒を触媒7とした。
触媒7を用いて、実施例4と同条件でエチレン転化反応を行なった。反応開始後2.1時間後にガスクロマトグラフィで生成物の分析を行った。結果を表1に示す。
(Example 5)
Silylation, filtration, and drying were performed in the same manner as in Example 4 except that the sulfuric acid concentration was changed to 0.5M. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 7.
Using the catalyst 7, an ethylene conversion reaction was carried out under the same conditions as in Example 4. The product was analyzed by gas chromatography 2.1 hours after the start of the reaction. The results are shown in Table 1.

(実施例6)
硫酸濃度を0.25Mとした以外は実施例4と同様にシリル化、ろ過、乾燥を行った。こうして得られた触媒を触媒8とした。
触媒8を用いて、実施例5と同条件でエチレン転化反応を行なった。反応開始後2.1時間後にガスクロマトグラフィで生成物の分析を行った。結果を表1に示す。
(Example 6)
Silylation, filtration, and drying were performed in the same manner as in Example 4 except that the sulfuric acid concentration was changed to 0.25M. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 8.
Using the catalyst 8, an ethylene conversion reaction was performed under the same conditions as in Example 5. The product was analyzed by gas chromatography 2.1 hours after the start of the reaction. The results are shown in Table 1.

(実施例7)
合成例3で得られたゼオライトCに対して、硫酸溶液中でシリル化を行った。ゼオライトC 0.5gに対して溶媒の0.1M硫酸を25g、シリル化剤のテトラエトキシシラ
ンを0.15g加えて、オートクレーブに仕込み、100℃で20時間加熱処理した。処理後、ろ過によって固液分離し、得られたゼオライトを100℃で乾燥した。こうして得られた触媒を触媒9とした。
(Example 7)
The zeolite C obtained in Synthesis Example 3 was silylated in a sulfuric acid solution. 25 g of 0.1M sulfuric acid as a solvent and 0.15 g of tetraethoxysilane as a silylating agent were added to 0.5 g of zeolite C, and the mixture was charged in an autoclave and heat-treated at 100 ° C. for 20 hours. After the treatment, solid-liquid separation was performed by filtration, and the obtained zeolite was dried at 100 ° C. The catalyst thus obtained was designated as Catalyst 9.

触媒9を用いて、実施例4と同条件でエチレン転化反応を行なった。反応開始後1.4時間後にガスクロマトグラフィで生成物の分析を行った。結果を表1に示す。   Using the catalyst 9, an ethylene conversion reaction was performed under the same conditions as in Example 4. The product was analyzed by gas chromatography 1.4 hours after the start of the reaction. The results are shown in Table 1.

Figure 2013063865
Figure 2013063865

表1記載の実施例1〜3から、ナトリウム(Na)型であるゼオライトAを硫酸存在下でシリル化処理した触媒1〜3で、エチレンを基質にプロピレンを製造する反応を行うと、高い選択率が得られた。実施例1〜3は硫酸中でシリル化処理することにより、イオン交換反応と外表面のシリル化が一連の反応で起こるため、目的とする外表面がシリル化された触媒が得られたと考えられる。外表面をシリル化処理することによって被毒したために、形状選択性の発揮されない、外表面の反応が抑制され、プロピレンよりも大きな生成
物の生成量が低下し、プロピレン選択率が向上したものと考えられる。
From Examples 1 to 3 shown in Table 1, when a reaction for producing propylene using ethylene as a substrate is performed with catalysts 1 to 3 obtained by silylation treatment of zeolite A which is sodium (Na) type in the presence of sulfuric acid, high selection The rate was obtained. In Examples 1 to 3, since the silylation treatment in sulfuric acid causes the ion exchange reaction and the silylation of the outer surface to occur in a series of reactions, it is considered that the catalyst having the target outer surface silylated was obtained. . Because the outer surface was poisoned by silylation treatment, the shape selectivity was not exhibited, the reaction on the outer surface was suppressed, the production amount of products larger than propylene was reduced, and the propylene selectivity was improved. Conceivable.

実施例1〜3と、比較例1との比較から、一旦H型ゼオライトを製造した後にシリル化処理をしたものと同様の成績であり、本発明の製造方法により、H型への変換工程であるイオン交換および焼成を減ることなく、同等の性能の触媒が得られることが分かる。これにより、H型への変換工程にかかる時間およびエネルギーが削減できることが分かる。
また、実施例4〜6から、ナトリウム(Na)型であるゼオライトCを硫酸存在下でシリル化処理する際に、幅広い酸濃度でシリル化処理の効果が得られることが確認された。シリル化処理することで、シリル化処理をしないゼオライトに比べ、実施例1〜3と同様に高いプロピレン選択率が得られた。
さらに、実施例7から、細孔容積の小さいゼオライトCにおいても硫酸存在下でシリル化処理することができることが示された。
From the comparison between Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, the results are the same as those obtained after once producing the H-type zeolite and then subjected to the silylation treatment. It can be seen that equivalent performance catalysts can be obtained without reducing certain ion exchanges and calcinations. Thereby, it turns out that the time and energy concerning the conversion process to H type | mold can be reduced.
In addition, from Examples 4 to 6, it was confirmed that the effect of the silylation treatment can be obtained with a wide range of acid concentrations when the zeolite C of sodium (Na) type is subjected to silylation treatment in the presence of sulfuric acid. By performing the silylation treatment, a higher propylene selectivity was obtained as in Examples 1 to 3, compared to zeolite not subjected to the silylation treatment.
In addition, Example 7 showed that zeolite C having a small pore volume can be silylated in the presence of sulfuric acid.

<構造保持性の確認>
次に硫酸シリル化の構造の保持性についての例を示す。
(比較例3)
H型ゼオライトFに対して硫酸処理を行った。ゼオライトF 1gに対して0.1M硫酸を50g加えて、オートクレーブに仕込み、100℃で20時間加熱処理した。処理後、ろ過によって固液分離し、得られたゼオライトを100℃で乾燥した。こうして得られたゼオライトをゼオライトGとし、ゼオライトFと合わせて前記の方法でXRD測定を行った。
<Confirmation of structure retention>
Next, an example of the retention of the sulfate silylation structure is shown.
(Comparative Example 3)
H-type zeolite F was treated with sulfuric acid. 50 g of 0.1M sulfuric acid was added to 1 g of zeolite F, charged in an autoclave, and heat-treated at 100 ° C. for 20 hours. After the treatment, solid-liquid separation was performed by filtration, and the obtained zeolite was dried at 100 ° C. The zeolite thus obtained was designated as zeolite G, and XRD measurement was performed by the above method together with zeolite F.

XRD測定結果を元に、2θ=29°のピーク強度を、処理前後で比較することにより、ゼオライトの構造破壊の程度を確認した。その結果を表2に示す。またそれぞれのXRDパターンを、図1に示した。
なおNa型とH型の間では、XRD測定の結果に差異はなく、またNa型をイオン交換してH型に変換した際もXRD測定の結果に差異はないため、添加する酸濃度を合わせるため、一旦H型にしたものを用いて酸がゼオライトに与える影響を確認した。
Based on the XRD measurement results, the peak intensity at 2θ = 29 ° was compared before and after the treatment to confirm the degree of structural destruction of the zeolite. The results are shown in Table 2. Each XRD pattern is shown in FIG.
In addition, there is no difference in the result of XRD measurement between Na type and H type, and there is no difference in the result of XRD measurement when Na type is ion-exchanged and converted to H type. Therefore, the effect of the acid on the zeolite was confirmed using the H-type once.

(参考例1)
H型ゼオライトDに対して、硫酸溶液中でシリル化を行った。ゼオライトD 0.5g
に対して溶媒の0.1M硫酸を25g、シリル化剤のテトラエトキシシランを0.15g加えて、オートクレーブに仕込み、100℃で20時間加熱処理した。処理後、ろ過によって固液分離し、得られたゼオライトを100℃で乾燥した。こうして得られたゼオライトをゼオライトHとし、ゼオライトDと合わせてXRD測定を行った。
(Reference Example 1)
H-type zeolite D was silylated in a sulfuric acid solution. Zeolite D 0.5g
25 g of 0.1M sulfuric acid as a solvent and 0.15 g of tetraethoxysilane as a silylating agent were added to an autoclave and heat-treated at 100 ° C. for 20 hours. After the treatment, solid-liquid separation was performed by filtration, and the obtained zeolite was dried at 100 ° C. The zeolite thus obtained was designated as zeolite H, and XRD measurement was performed together with zeolite D.

XRDの測定結果から、比較例3と同様の方法により、ゼオライトの構造破壊の程度を確認した。結果を表2に示した。またそれぞれのXRDパターンを図2に示した。   From the measurement results of XRD, the degree of structural destruction of the zeolite was confirmed by the same method as in Comparative Example 3. The results are shown in Table 2. Each XRD pattern is shown in FIG.

Figure 2013063865
Figure 2013063865

比較例3から、2θ=29°のピーク強度が硫酸処理後に64%に低下したことがわかる。ここから、ゼオライトを酸性条件におくと、構造崩壊を招くことがわかる。
一方、参考例1からは、H型のゼオライトを本発明のシリル化方法によってシリル化した場合でも、ゼオライトの構造が維持されていることがわかった。一般的には、同じ酸の量で同じ重量のゼオライトを処理した場合、H型を処理する方がより過酷な条件で処理す
ることになり壊れやすい傾向にあるが、構造は維持されていた。
From Comparative Example 3, it can be seen that the peak intensity at 2θ = 29 ° decreased to 64% after the sulfuric acid treatment. From this, it can be seen that when the zeolite is subjected to acidic conditions, the structure collapses.
On the other hand, it was found from Reference Example 1 that the structure of the zeolite was maintained even when the H-type zeolite was silylated by the silylation method of the present invention. In general, when the same amount of zeolite is treated with the same amount of acid, the H-type treatment tends to be fragile because it is treated under severer conditions, but the structure is maintained.

比較例2から、H型であるゼオライトBを硫酸処理した触媒5で同反応を行うと、プロピレン選択率が低下したことがわかる。これは硫酸処理により、ゼオライトの構造破壊が起こり、触媒としての性能が低下したためと考えられる。比較例2と実施例1〜3の比較によって、シリル化剤が共存すれば、構造破壊は起こらず、かつナトリウム(Na)型から直接、シリル化されたH型に変換できたことがわかる。   From Comparative Example 2, it can be seen that when the same reaction was carried out with the catalyst 5 obtained by treating H-type zeolite B with sulfuric acid, the propylene selectivity was lowered. This is presumably because the structure of the zeolite was destroyed by the sulfuric acid treatment and the performance as a catalyst was lowered. From the comparison between Comparative Example 2 and Examples 1 to 3, it can be seen that if a silylating agent coexists, structural destruction does not occur and the sodium (Na) type can be directly converted to the silylated H type.

本発明により、シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトを簡便な方法で製造する方法を提供できる。またこの方法を用いて得られたH型ゼオライトを用いて、エチレンからプロピレンを製造することにより、効率よくプロピレンを製造することができる。   The present invention can provide a method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure by a simple method. Propylene can be efficiently produced by producing propylene from ethylene using the H-type zeolite obtained by this method.

Claims (8)

シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法であって、
CHA型構造を有する非H型ゼオライトを、酸性水溶液存在下、シリル化剤と反応させることを特徴とする、シリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。
A method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure,
A method for producing a H-type zeolite having a silylated CHA-type structure, characterized by reacting a non-H-type zeolite having a CHA-type structure with a silylating agent in the presence of an acidic aqueous solution.
前記非H型ゼオライトの窒素吸着等温線からBJH法によって得られる細孔径分布において細孔径100Å以上200Å以下の範囲の全細孔容積が、10×10―3ml/g以上である、請求項1に記載のシリル化されたCHA構造を有するH型ゼオライトの製造方法。 2. The total pore volume in the range of 100 to 200 μm in pore diameter distribution obtained by the BJH method from the nitrogen adsorption isotherm of the non-H zeolite is 10 × 10 −3 ml / g or more. A process for producing an H-type zeolite having a silylated CHA structure as described in 1. 前記非H型ゼオライトが、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンのいずれかで置換されたものであることを特徴とする、請求項1または2に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。   The silylated CHA type structure according to claim 1 or 2, wherein the non-H type zeolite is substituted with any one of an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, and an ammonium ion. The manufacturing method of the H-type zeolite which has this. 前記非H型ゼオライトが、アルミノシリケートである請求項1〜3のいずれか1項に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。   The method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the non-H-type zeolite is an aluminosilicate. 前記酸性水溶液中の酸の濃度が、0.01M以上5M以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。   The manufacturing method of the H-type zeolite which has the silylated CHA type structure of any one of Claims 1-4 whose density | concentration of the acid in the said acidic aqueous solution is 0.01M or more and 5M or less. 前記酸性水溶液が硫酸である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。   The method for producing an H-type zeolite having a silylated CHA-type structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the acidic aqueous solution is sulfuric acid. 前記非H型ゼオライトのSiO/M比が、5以上、50以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のシリル化されたCHA型構造を有するH型ゼオライトの製造方法。 SiO 2 / M 2 O 3 ratio of the non-H-type zeolite, 5 or more and 50 or less, the H-type zeolite having a silylated CHA structure according to any one of claims 1 to 6 Production method. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法で得られたシリル化されたH型ゼオライトを触媒として、エチレンを原料としてプロピレンを製造することを特徴とするプロピレンの製造方法。   A method for producing propylene, characterized in that propylene is produced from ethylene as a raw material using the silylated H-type zeolite obtained by the production method according to any one of claims 1 to 7 as a catalyst.
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