JP2013041958A - Printed wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents
Printed wiring board and method for manufacturing the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013041958A JP2013041958A JP2011177454A JP2011177454A JP2013041958A JP 2013041958 A JP2013041958 A JP 2013041958A JP 2011177454 A JP2011177454 A JP 2011177454A JP 2011177454 A JP2011177454 A JP 2011177454A JP 2013041958 A JP2013041958 A JP 2013041958A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder resist
- base material
- wiring board
- printed wiring
- type solder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、基材の両面または片面に形成された金属配線と、金属配線が形成された基材の両面または片面を覆って保護するソルダレジストと、を備えるプリント配線基板およびプリント配線基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a printed wiring board including a metal wiring formed on both surfaces or one surface of a base material, and a solder resist that covers and protects both surfaces or one surface of the base material on which the metal wiring is formed. Regarding the method.
プリント配線基板には、例えば可撓性を有する基材の両面または片面に金属配線を形成したTAB(Tape Automated Bonding)方式やTCP(Tape Carrier Package)方式等のものがある。図3に、従来例として、基材210の両面に金属配線220pを有するプリント配線基板2の製造方法を示した。まず、基材210の両面に金属配線220pを形成する(図3(a))。次に、個片化後の製品を象るよう基材210の一部を切断する外形加工を施し(図3(b))、また、基材210の両面を例えば液状(インクタイプ)のソルダレジスト250で覆う(図3(c))。ソルダレジスト250で覆われた金属配線220pは、一部を露出させる(図3(d))。なお、図3(b)の工程と、図3(c)及び(d)の工程とは前後する場合がある。
Examples of the printed wiring board include a TAB (Tape Automated Bonding) method and a TCP (Tape Carrier Package) method in which metal wiring is formed on both surfaces or one surface of a flexible substrate. FIG. 3 shows a method of manufacturing the printed
上記においては、例えば外形加工が施された基材210の端面2Eから発塵し、プリント配線基板2の品質を低下させてしまう場合があった。そこで、例えば端面2Eを覆うように樹脂等による被覆層255を形成していた(図3(e))。例えば特許文献1には、ポリイミドテープの端部に絶縁樹脂層を塗布形成する技術について開示されている。
In the above, for example, dust may be generated from the
しかしながら、上記のように、発塵を抑えるために被覆層255を形成することとすると、工程数が増加してコストが増大してしまう。また、基材210やソルダレジスト250と、被覆層255との接触面積が小さいため、充分な密着性が得られず、被覆層255が脱落してしまう場合があった。
However, as described above, if the
本発明の目的は、コストを増大させることなく、簡便に基材の端面からの発塵による品質低下を抑制することが可能なプリント配線基板およびプリント配線基板の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a printed wiring board and a printed wiring board manufacturing method capable of easily suppressing deterioration in quality due to dust generation from the end face of a base material without increasing costs.
本発明の第1の態様によれば、基材と、前記基材の両面または片面に形成された金属配線と、前記金属配線が形成された前記基材の両面または片面の上の少なくとも一部を覆って保護するフィルム型ソルダレジストと、を備え、前記フィルム型ソルダレジストは、前記基材の少なくとも一部の端面を覆うプリント配線基板が提供される。 According to the first aspect of the present invention, the base material, the metal wiring formed on both sides or one side of the base material, and at least a part on both sides or one side of the base material on which the metal wiring is formed. A printed wiring board that covers at least a part of the end surface of the base material.
本発明の第2の態様によれば、前記基材は、ポリイミド、ビスマレイミドトリアジンまたはエポキシの少なくともいずれかを主成分とする高分子樹脂を含む第1の態様に記載のプリント配線基板が提供される。 According to a second aspect of the present invention, there is provided the printed wiring board according to the first aspect, wherein the base material includes a polymer resin whose main component is at least one of polyimide, bismaleimide triazine, and epoxy. The
本発明の第3の態様によれば、前記フィルム型ソルダレジストは、フォトソルダレジス
トである第1又は第2の態様に記載のプリント配線基板が提供される。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the printed wiring board according to the first or second aspect, wherein the film type solder resist is a photo solder resist.
本発明の第4の態様によれば、前記フォトソルダレジストは、エポキシ、アクリル、ウレタンまたはポリイミドの少なくともいずれかを主成分とする第3の態様に記載のプリント配線基板が提供される。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the printed wiring board according to the third aspect, wherein the photo solder resist is mainly composed of at least one of epoxy, acrylic, urethane, or polyimide.
本発明の第5の態様によれば、基材の両面または片面に金属配線を形成する工程と、前記金属配線が形成された前記基材の両面または片面の上の少なくとも一部をフィルム型ソルダレジストで覆って保護する工程と、を有し、前記フィルム型ソルダレジストで覆って保護する工程では、前記基材の少なくとも一部の端面を前記フィルム型ソルダレジストで覆うプリント配線基板の製造方法が提供される。 According to the fifth aspect of the present invention, the step of forming the metal wiring on both surfaces or one surface of the base material, and at least a part on both surfaces or one surface of the base material on which the metal wiring is formed are film-type solder. A method of manufacturing a printed wiring board in which at least a part of an end surface of the base material is covered with the film type solder resist in the step of covering and protecting with the film type solder resist. Provided.
本発明の第6の態様によれば、前記フィルム型ソルダレジストで覆って保護する工程では、真空ロールラミネート法または真空プレス法を用いて前記基材の両面または片面に前記フィルム型ソルダレジストを貼り付ける第5の態様に記載のプリント配線基板の製造方法が提供される。 According to the sixth aspect of the present invention, in the step of covering and protecting with the film type solder resist, the film type solder resist is affixed on both sides or one side of the substrate using a vacuum roll laminating method or a vacuum pressing method. A printed wiring board manufacturing method according to the fifth aspect is provided.
本発明によれば、コストを増大させることなく、簡便に基材の端面からの発塵による品質低下を抑制することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to easily suppress deterioration in quality due to dust generation from the end face of the base material without increasing the cost.
<本発明の一実施形態> <One Embodiment of the Present Invention>
(1)プリント配線基板の構造
まずは、本発明の一実施形態に係るプリント配線基板の構造について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るプリント配線基板1の一部を示す断面図である。図中の断面は、例えば長尺状に構成されるプリント配線基板1の幅方向に対して水平な断面である。
(1) Structure of Printed Wiring Board First, the structure of the printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a part of a printed wiring board 1 according to the present embodiment. The cross section in the figure is a horizontal cross section with respect to the width direction of the printed wiring board 1 configured in a long shape, for example.
図1に示すように、プリント配線基板1は、基材10と、基材10の両面に形成された金属配線20pと、を備えている。基材10は例えば柔軟性を有する樹脂からなり、プリント配線基板1は例えば可撓性を有するフレキシブル基板として構成されている。基材10を構成する樹脂は、例えばポリイミド、ビスマレイミドトリアジンまたはエポキシの少なくともいずれかを主成分とする高分子樹脂とすることができる。基材10は、製品として個片化される際の外形ラインの一部を切断する外形加工を施された切断面等を含む端面Eを有する。端面Eは、例えば回転刃やトムソン刃による機械加工や、エッチング加工、レーザ加工等による切断面等であって、例えば図1に示すように、基材10の幅方向の両端を切り落とした側面等が含まれていてもよい。
As shown in FIG. 1, the printed wiring board 1 includes a
基材10の両面に形成される金属配線20pは、例えば基材10の一方の面に形成された銅箔等をパターニングして形成された第1金属配線21pと、基材10の他方の面に形成された銅箔等をパターニングして形成された第2金属配線22pとにより構成される。また、金属配線20pは、半導体装置やその他の電子部品等が接続される図示しないパッ
ドやランド等を有している。
The
なお、後述する開口部51h,52hから露出した金属配線20pの表面、或いは、金属配線20pの表面全体が、金(Au)や錫(Sn)等の図示しないメッキを有していてもよい。これにより、半導体装置やその他の電子部品等と、金属配線20pとの接合性を向上させることができる。
Note that the surface of the
また、プリント配線基板1は、金属配線20pが形成された基材10の両面の上の少なくとも一部を覆って保護するフィルム型ソルダレジスト50を備えている。フィルム型ソルダレジスト50は、基材10の少なくとも一部の端面E、例えば基材10の幅方向の両端を切り落とした側面を覆っている。
Further, the printed wiring board 1 includes a film-type solder resist 50 that covers and protects at least a part of both surfaces of the
フィルム型ソルダレジスト50は、例えばフィルム状に成形されたフォトソルダレジスト(感光性ソルダレジスト)である。フォトソルダレジストは、例えばエポキシ、アクリル、ウレタンまたはポリイミドの少なくともいずれかを主成分とすることができる。フィルム型ソルダレジスト50として、例えば光硬化型、つまりネガ型のレジストを用いることで、後述するように、露光・現像により開口部51h,52hが設けられ、また、基材10の端面Eの近傍が所定の外形寸法となるように成形されている。開口部51h,52hからそれぞれ露出した第1及び第2金属配線21p,22p上には、図示しない半導体装置やその他の電子部品等が接続されるように構成される。
The film type solder resist 50 is, for example, a photo solder resist (photosensitive solder resist) formed into a film shape. The photo solder resist can contain, for example, at least one of epoxy, acrylic, urethane, or polyimide as a main component. As the film-type solder resist 50, for example, a photo-curing type, that is, a negative type resist, is used, and
上述したように、外形加工時の切断面等である基材10の端面Eからは、基材10を構成する樹脂の切削屑等により発塵することがある。しかし、上記のように、本実施形態では、金属配線20pが形成された基材10の両面を覆って保護するフィルム型ソルダレジスト50が、基材10の少なくとも一部の端面Eを覆うように構成されている。これにより、基材10の端面Eからの発塵を抑制し、プリント配線基板1の品質を向上させることができる。
As described above, dust may be generated from the end face E of the
また、本実施形態では、基材10の両面を覆うフィルム型ソルダレジスト50が、基材10の端面Eをも一体的に覆うように構成されている。これにより、上述した図3の従来例に係るプリント配線基板2のようにソルダレジスト250とは独立して設けられる被覆層255とは異なり、基材10の端面Eからのフィルム型ソルダレジスト50の脱落を抑制することができる。
In the present embodiment, the film-type solder resist 50 that covers both surfaces of the
また、本実施形態では、フィルム型ソルダレジスト50に、例えば光硬化型のレジストを用いている。これにより、露光・現像によって基材10の端面Eの近傍の形状を整えることができ、所定の外形寸法を有するプリント配線基板1とすることができる。
In the present embodiment, for example, a photo-curing resist is used for the film-type solder resist 50. Thereby, the shape of the vicinity of the end surface E of the
(2)プリント配線基板の製造方法
次に、本発明の一実施形態に係るプリント配線基板1の製造方法について、図2を用いて説明する。図2は、本実施形態に係るプリント配線基板1の製造方法の各工程を、図1と同方向側の断面図で示す工程図である。すなわち、図中の断面は、例えば長尺状に構成されるプリント配線基板1の幅方向に対して水平な断面である。
(2) Manufacturing method of printed wiring board Next, the manufacturing method of the printed wiring board 1 which concerns on one Embodiment of this invention is demonstrated using FIG. FIG. 2 is a process diagram showing each process of the method for manufacturing the printed wiring board 1 according to the present embodiment in a sectional view on the same direction side as FIG. That is, the cross section in the figure is a horizontal cross section with respect to the width direction of the printed wiring board 1 configured in a long shape, for example.
(金属配線形成工程)
まず、図2(a)に示すように、一方の面に第1金属層21を有し、他方の面に第2金属層22を有する基材10を用意する。第1及び第2金属層21,22は、例えば図示しない接着剤により銅箔等を基材10に貼り付けて形成することができるほか、蒸着やスパッタ等により形成してもよい。また、基材10の幅方向の両端の近傍には、例えば基材10の搬送や位置合わせ等に用いる図示しないスプロケットホール等が形成されていてもよ
い。
(Metal wiring formation process)
First, as shown in FIG. 2A, a
金属配線形成工程では、この第1及び第2金属層21,22にパターニング等を施して、基材10の両面に金属配線20pを形成する。すなわち、まずは、図2(b)に示すように、基材10の一方の面に形成された第1金属層21上に例えばフォトレジスト30を塗布して露光・現像し、図2(c)に示すように、レジストパターン30pを形成する。このとき、フォトレジスト30の代わりにドライフィルム等を用いてもよい。
In the metal wiring forming step, the first and second metal layers 21 and 22 are subjected to patterning or the like to form the
続いて、図2(d)に示すように、レジストパターン30pをマスクとして第1金属層21をエッチングし、第1金属配線21pを形成する。その際、基材10の他方の面に形成された第2金属層22上に、例えば図示しないマスキングテープ等を貼付して、第2金属層22がエッチングされないようマスキングする。第1金属層21のエッチング終了後、レジストパターン30p及びマスキングテープを剥離する。
Subsequently, as shown in FIG. 2D, the
次に、図2(e)に示すように、基材10の他方の面に形成された第2金属層22上に例えばフォトレジスト40を塗布して露光・現像し、図2(f)に示すように、レジストパターン40pを形成する。このとき、フォトレジスト40の代わりにドライフィルム等を用いてもよい。
Next, as shown in FIG. 2 (e), for example, a photoresist 40 is applied on the
続いて、図2(g)に示すように、レジストパターン40pをマスクとして第2金属層22をエッチングし、第2金属配線22pを形成する。その際、基材10の一方の面に形成された第1金属配線21p上に、例えば図示しないマスキングテープ等を貼付して、第1金属配線21pがエッチングされないようマスキングする。第2金属層22のエッチング終了後、レジストパターン40p及びマスキングテープを剥離する。
Subsequently, as shown in FIG. 2G, the
以上により、基材10の両面に金属配線20pが形成される。なお、図2(b)〜(d)の工程と、図2(e)〜(g)の工程とは、順番を入れ替えて実施してもよい。
Thus, the
(外形加工工程)
次に、図2(h)に示すように、個片化後の製品を象るよう基材10の一部を切断する外形加工を行う。具体的には、基材10が製品として個片化される際の外形ラインに沿って、製品部分が基材10から完全に切り離されることのないよう、係る外形ラインの一部を回転刃やトムソン刃等による機械加工や、エッチング加工、レーザ加工等により切断する。これによって、基材10の所定位置、例えば図2(i)に示すように、基材10の幅方向の両端に、切断面である端面Eが露出する。
(Outline processing process)
Next, as shown in FIG. 2 (h), an outer shape process is performed in which a part of the
(フィルム型ソルダレジスト被覆工程)
次に、金属配線20pが形成された基材10の両面の上の少なくとも一部をフィルム型ソルダレジスト50で被覆する。これにより、金属配線20pや基材10の両面が保護される。
(Film type solder resist coating process)
Next, at least a part of both surfaces of the
具体的には、図2(j)に示すように、第1金属配線21pが形成された基材10の一方の面に第1フィルム型ソルダレジスト51を貼り付け、第2金属配線22pが形成された基材10の他方の面に第2フィルム型ソルダレジスト52を貼り付ける。第1及び第2フィルム型ソルダレジスト51,52には例えばフィルム状に成形されたフォトソルダレジスト、より具体的には光硬化型のレジスト等を使用し、真空ロールラミネート法や真空プレス法等を用いて熱を加えながら貼り付けることができる。また、第1及び第2フィルム型ソルダレジスト51,52の幅は、基材10の幅よりも広くすることが好ましい。これにより、基材10からはみ出した第1及び第2フィルム型ソルダレジスト51,52の両端が互いに貼り合わされ、基材10の少なくとも一部の端面E、例えば幅方向の両端を
切り落とした側面等を含めた基材10の略全体が、第1及び第2フィルム型ソルダレジスト51,52により覆われる。
Specifically, as shown in FIG. 2 (j), a first film-type solder resist 51 is pasted on one surface of the
続いて、フィルム型ソルダレジスト50に開口部51h,52hを形成するとともに、基材10の端面Eの近傍の形状を整える。具体的には、図2(k)に示すように、フォトマスク60を用いて第1フィルム型ソルダレジスト51を露光する。次に、図2(l)に示すように、フォトマスク70を用いて第2フィルム型ソルダレジスト52を露光する。
Subsequently,
これにより、例えば光硬化型のレジスト等により構成される第1及び第2フィルム型ソルダレジスト51,52は、露光光の当たった部分が硬化し、これを現像することで、図2(m)に示すように、露光されなかった部分が除去され、第1金属配線21pが露出した開口部51hと、第2金属配線22pが露出した52hとがそれぞれ形成される。また、基材10の端面Eの近傍の形状が整えられ、基材10の幅方向が所定の外形寸法に成形される。このように、本実施形態では、フィルム型ソルダレジスト50はネガ型のレジストとして作用している。
Accordingly, for example, the first and second film type solder resists 51 and 52 constituted by, for example, a photo-curing resist or the like are cured at a portion exposed to the exposure light, and developed, thereby FIG. As shown in FIG. 5, the unexposed portion is removed, and an
以上により、フィルム型ソルダレジスト被覆工程が完了する。なお、図2(k)の工程と、図2(l)の工程とは、順番を入れ替えて実施してもよい。 Thus, the film type solder resist coating step is completed. In addition, you may implement the process of FIG.2 (k), and the process of FIG.2 (l), changing order.
なお、フィルム型ソルダレジスト50に開口部51h,52hを形成した後、開口部51h,52hから露出した金属配線20pの表面に、金(Au)や錫(Sn)等の図示しないメッキを施してもよい。或いは、金属配線形成工程の後であって、フィルム型ソルダレジスト被覆工程の前のいずれかのタイミングで、係るメッキを施してもよい。
After forming the
以上により、本実施形態に係るプリント配線基板1が製造される。 With the above, the printed wiring board 1 according to the present embodiment is manufactured.
このように、本実施形態では、フィルム型ソルダレジスト50により、金属配線20pが形成された基材10の両面を覆って保護するとともに、基材10の端面Eも一体的に覆っている。これにより、基板10の端面Eからの発塵を抑制することができ、また、端面Eからのソルダレジスト50の脱落を起こり難くすることができる。よって、プリント配線基板1の品質を向上させることができる。
Thus, in this embodiment, the film type solder resist 50 covers and protects both surfaces of the
また、本実施形態では、金属配線20pが形成された基材10の両面を覆って保護するフィルム型ソルダレジスト被覆工程において、基材10の端面Eをフィルム型ソルダレジスト50で覆っている。これにより、フィルム型ソルダレジスト被覆工程が、基材10の端面Eからの発塵対策を兼ねることとなり、工程数を増やすことなく発塵を抑制することができる。よって、工程数の増加によるコストの増大を招くことなく、簡便にプリント基板1の品質を向上させることができる。
In the present embodiment, the end surface E of the
また、本実施形態では、フィルム型ソルダレジスト50を露光・現像により成形している。これにより、所定の外形寸法を有するプリント配線基板1を精度よく製造することができる。よって、プリント配線基板1の品質をさらに向上させることができる。 In the present embodiment, the film type solder resist 50 is formed by exposure and development. Thereby, the printed wiring board 1 which has a predetermined external dimension can be manufactured accurately. Therefore, the quality of the printed wiring board 1 can be further improved.
<本発明の他の実施形態>
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
<Other Embodiments of the Present Invention>
As mentioned above, although embodiment of this invention was described concretely, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, It can change variously in the range which does not deviate from the summary.
例えば、上述の実施形態においては、プリント配線基板1は可撓性を有するフレキシブル基板として構成されることとしたが、硬質のリジッド基板であってもかまわない。この場合の基材としては、例えばポリイミド、ビスマレイミドトリアジンまたはエポキシの少
なくともいずれかを主成分とする高分子樹脂を含ませたガラスクロス等から構成されたシート状の基材であってもよい。
For example, in the above-described embodiment, the printed wiring board 1 is configured as a flexible flexible board, but may be a rigid rigid board. The base material in this case may be a sheet-like base material composed of, for example, a glass cloth containing a polymer resin whose main component is at least one of polyimide, bismaleimide triazine, and epoxy.
また、上述の実施形態においては、基材10の両面にそれぞれ第1及び第2金属配線21p,22pが形成されることとしたが、金属配線は、基材の片面にのみ形成されていてもよい。この場合、金属配線の形成された片面のみをフィルム型ソルダレジストで覆うこととしてもよい。片面のみのフィルム型ソルダレジストで基材の端面を覆うには、例えば基材の外形加工の幅よりも幅広のフィルム型ソルダレジストを、熱を加えながら基材の片面に貼り付ける。フィルム型ソルダレジストは貼り付け時の熱により溶融し、外形加工の幅からはみ出した部分により基材の端面を覆うことができる。なお、フィルム型ソルダレジストを溶融させて基材の端面を覆う手法は、フィルム型ソルダレジストを両面に貼り付ける場合にも用いることができる。
In the above-described embodiment, the first and
また、上述の実施形態においては、基材10の端面Eは、外形加工により製品の外形ラインの一部が切断された基材10の切断面であるとしたが、端面はこれに限られない。例えば、短冊状に切断した場合の基材の外周4辺の端面や、上述のように基材をシート状に構成した場合の各端面等、外形加工により生じた端面か否か、切断面であるか否かにかかわらず、およそ発塵のおそれのある端面に対し、本発明を適用することができる。
Moreover, in the above-mentioned embodiment, although the end surface E of the
また、上述の実施形態においては、フィルム型ソルダレジスト50はネガ型のレジストにより構成されることとしたが、ポジ型であってもかまわない。また、フィルム状に成形されたレジストを貼り付ける場合にかぎらず、インクタイプのレジストを塗布することとしてもよい。 In the above-described embodiment, the film type solder resist 50 is composed of a negative type resist, but it may be a positive type. Moreover, it is good also as apply | coating an ink type resist not only when sticking the resist shape | molded by the film form.
次に、本発明に係る実施例について説明する。 Next, examples according to the present invention will be described.
まずは、上述の実施形態と同様の手法で、基材の端面を覆うフィルム型ソルダレジストを有するプリント配線基板を製造した。基材として、宇部興産製の厚さが20μmのユピセル(登録商標)を用い、金属層として、古河電工製の厚さが12μmの電解銅箔F2−WSを用いた。フィルム型ソルダレジストには、光硬化型のレジストとしてニチゴー・モートン株式会社製のDM325を用いた。フィルム型ソルダレジストの被覆は、真空ロールラミネート法により行った。 First, the printed wiring board which has the film type solder resist which covers the end surface of a base material with the method similar to the above-mentioned embodiment was manufactured. As the base material, Upicel (registered trademark) made by Ube Industries with a thickness of 20 μm was used, and as the metal layer, electrolytic copper foil F2-WS made by Furukawa Electric with a thickness of 12 μm was used. For the film type solder resist, DM325 manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd. was used as a photo-curing resist. The film type solder resist was coated by a vacuum roll laminating method.
上記のように作成したプリント配線基板では、基材の端面からの発塵が低減した。また、基材の端面の近傍におけるフィルム型ソルダレジストの脱落は認められなかった。また、プリント配線基板の外形寸法は、設計値に対して±10μm以内の誤差とすることができ、プリント配線基板の加工精度を高めることができた。 In the printed wiring board produced as described above, dust generation from the end face of the base material was reduced. Further, the film type solder resist was not removed in the vicinity of the end face of the substrate. Further, the external dimensions of the printed wiring board can be within ± 10 μm with respect to the design value, and the processing accuracy of the printed wiring board can be improved.
1 プリント配線基板
10 基材
20p 金属配線
21p 第1金属配線
22p 第2金属配線
50 フィルム型ソルダレジスト
51 第1フィルム型ソルダレジスト
52 第2フィルム型ソルダレジスト
51h,52h 開口部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed
Claims (6)
前記基材の両面または片面に形成された金属配線と、
前記金属配線が形成された前記基材の両面または片面の上の少なくとも一部を覆って保護するフィルム型ソルダレジストと、を備え、
前記フィルム型ソルダレジストは、前記基材の少なくとも一部の端面を覆う
ことを特徴とするプリント配線基板。 A substrate;
Metal wiring formed on both sides or one side of the substrate;
A film type solder resist that covers and protects at least a part of both sides or one side of the base material on which the metal wiring is formed, and
The printed wiring board, wherein the film-type solder resist covers at least a part of an end surface of the base material.
ことを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板。 The printed wiring board according to claim 1, wherein the base material includes a polymer resin mainly containing at least one of polyimide, bismaleimide triazine, and epoxy.
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプリント配線基板。 The printed wiring board according to claim 1, wherein the film type solder resist is a photo solder resist.
ことを特徴とする請求項3に記載のプリント配線基板。 The printed wiring board according to claim 3, wherein the photo solder resist contains at least one of epoxy, acrylic, urethane, and polyimide as a main component.
前記金属配線が形成された前記基材の両面または片面の上の少なくとも一部をフィルム型ソルダレジストで覆って保護する工程と、を有し、
前記フィルム型ソルダレジストで覆って保護する工程では、
前記基材の少なくとも一部の端面を前記フィルム型ソルダレジストで覆う
ことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。 Forming metal wiring on both sides or one side of the substrate;
Covering and protecting at least a part of both sides or one side of the base material on which the metal wiring is formed with a film-type solder resist,
In the process of covering and protecting with the film type solder resist,
A printed wiring board manufacturing method, wherein at least a part of an end surface of the base material is covered with the film type solder resist.
真空ロールラミネート法または真空プレス法を用いて前記基材の両面または片面に前記フィルム型ソルダレジストを貼り付ける
ことを特徴とする請求項5に記載のプリント配線基板の製造方法。 In the process of covering and protecting with the film type solder resist,
6. The method for producing a printed wiring board according to claim 5, wherein the film type solder resist is attached to both sides or one side of the base material using a vacuum roll laminating method or a vacuum pressing method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011177454A JP2013041958A (en) | 2011-08-15 | 2011-08-15 | Printed wiring board and method for manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011177454A JP2013041958A (en) | 2011-08-15 | 2011-08-15 | Printed wiring board and method for manufacturing the same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013041958A true JP2013041958A (en) | 2013-02-28 |
Family
ID=47890092
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011177454A Withdrawn JP2013041958A (en) | 2011-08-15 | 2011-08-15 | Printed wiring board and method for manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013041958A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015216332A (en) * | 2013-05-22 | 2015-12-03 | 三菱製紙株式会社 | Method for manufacturing wiring board |
JP2016051797A (en) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | Laminate, method of manufacturing wiring board using laminate, wiring board, and method of manufacturing mounting board including wiring board |
KR20210040168A (en) * | 2013-09-04 | 2021-04-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Uv-assisted stripping of hardened photoresist to create chemical templates for directed self-assembly |
-
2011
- 2011-08-15 JP JP2011177454A patent/JP2013041958A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015216332A (en) * | 2013-05-22 | 2015-12-03 | 三菱製紙株式会社 | Method for manufacturing wiring board |
KR20210040168A (en) * | 2013-09-04 | 2021-04-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Uv-assisted stripping of hardened photoresist to create chemical templates for directed self-assembly |
KR102394998B1 (en) | 2013-09-04 | 2022-05-04 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | Uv-assisted stripping of hardened photoresist to create chemical templates for directed self-assembly |
JP2016051797A (en) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | Laminate, method of manufacturing wiring board using laminate, wiring board, and method of manufacturing mounting board including wiring board |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7935891B2 (en) | Wiring board manufacturing method | |
US20080251947A1 (en) | Cof flexible printed wiring board and semiconductor device | |
US8058562B2 (en) | Wiring substrate and method of manufacturing the same | |
JP5464760B2 (en) | Multilayer circuit board manufacturing method | |
JP2006278929A (en) | Manufacturing method of flexible substrate | |
US20170033037A1 (en) | Packaging substrate | |
JP5607604B2 (en) | Carrier material | |
US20050205972A1 (en) | COF flexible printed wiring board and semiconductor device | |
JP2007173727A (en) | Method of manufacturing wiring board | |
KR20090029508A (en) | Fabricating method of printed circuit board using the carrier | |
JP2013041958A (en) | Printed wiring board and method for manufacturing the same | |
KR100905574B1 (en) | Fabricating Method of Printed Circuit Board | |
JP4952044B2 (en) | Multilayer wiring board manufacturing method, semiconductor package, and long wiring board | |
US11081368B2 (en) | Method of dicing wiring substrate, and packaging substrate | |
KR101269746B1 (en) | Producing method of wired circuit board | |
US8603858B2 (en) | Method for manufacturing a semiconductor package | |
JP6986926B2 (en) | Manufacturing method of tape base material for wiring board and tape base material for wiring board | |
JP2011187911A (en) | Side packaged type printed circuit board | |
JP7002238B2 (en) | Manufacturing method of tape base material for wiring board and tape base material for wiring board | |
JP7406955B2 (en) | 2-layer single-sided flexible board and method for manufacturing a 2-layer single-sided flexible board | |
JP2012086531A (en) | Mask for printing solder paste, method of manufacturing the same, and device for printing solder paste | |
JP2018164023A (en) | Wiring board with cavity and method for manufacturing the same | |
JP2018164021A (en) | Wiring board with cavity | |
JP2014206512A (en) | Microchannel chip and method for manufacturing the same | |
JP2013041963A (en) | Method of manufacturing printed wiring board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20141104 |