JP2013040147A - Metal complex and adsorbing material, storing material, separating material comprising the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal complex having excellent gas adsorbing performance, gas storing performance, and gas separating performance.SOLUTION: The metal complex comprises anionic ligands, at least one metal ion selected from metal ions belonging to second to fifth periods of a group 2 and 7 to 12 groups in a periodic table, and organic ligands (I) of the metallic ions represented by a general formula (I), wherein R, R, R, R, R, R, R, R, R, Ridentically or differently are an alkyl group, an alkoxy group, a formyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a cyano group, an amino group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, an acylamino group, or a halogen atom in the formula.

Description

本発明は、金属錯体、並びにそれからなる吸着材、吸蔵材及び分離材に関する。さらに詳しくは、アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な特定の有機配位子とからなる金属錯体に関する。本発明の金属錯体は、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気などを吸着するための吸着材、吸蔵するための吸蔵材及び分離するための分離材として好ましい。   The present invention relates to a metal complex, and an adsorbent, an occlusion material, and a separation material comprising the same. More specifically, an anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to Groups 2 and 5 to 12 in the periodic table, and bidentate to the metal ion. The present invention relates to a metal complex composed of a specific organic ligand capable of positioning. The metal complex of the present invention is an adsorbent for adsorbing carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, water vapor or organic vapor, It is preferable as an occlusion material for occlusion and a separation material for separation.

これまで、脱臭、排ガス処理などの分野で種々の吸着材が開発されている。活性炭はその代表例であり、活性炭の優れた吸着性能を利用して、空気浄化、脱硫、脱硝、有害物質除去など各種工業において広く使用されている。近年は半導体製造プロセスなどへ窒素の需要が増大しており、かかる窒素を製造する方法として、分子ふるい炭を使用して圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により空気から窒素を製造する方法が使用されている。また、分子ふるい炭は、メタノール分解ガスからの水素精製など各種ガス分離精製にも応用されている。   So far, various adsorbents have been developed in fields such as deodorization and exhaust gas treatment. Activated carbon is a representative example, and is widely used in various industries such as air purification, desulfurization, denitration, and removal of harmful substances by utilizing the excellent adsorption performance of activated carbon. In recent years, the demand for nitrogen has increased for semiconductor manufacturing processes, etc., and as a method for producing such nitrogen, a method of producing nitrogen from air by pressure swing adsorption method or temperature swing adsorption method using molecular sieve charcoal is used. Has been. Molecular sieve charcoal is also applied to various gas separation and purification such as hydrogen purification from methanol cracked gas.

圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により混合ガスを分離する際には、一般に、分離吸着材として分子ふるい炭やゼオライトなどを使用し、その平衡吸着量または吸着速度の差により分離を行っている。しかしながら、平衡吸着量の差によって混合ガスを分離する場合、これまでの吸着材では除去したいガスのみを選択的に吸着することができないため分離係数が小さくなり、装置の大型化は不可避であった。また、吸着速度の差によって混合ガスを分離する場合、ガスの種類によっては除去したいガスのみを吸着できるが、吸着と脱着を交互に行う必要があり、この場合も装置は依然として大型にならざるを得なかった。   When separating mixed gas by pressure swing adsorption method or temperature swing adsorption method, generally, molecular sieve charcoal or zeolite is used as the separation adsorbent, and separation is performed by the difference in the equilibrium adsorption amount or adsorption rate. . However, when separating the mixed gas based on the difference in the amount of equilibrium adsorption, the conventional adsorbents cannot selectively adsorb only the gas to be removed, so the separation factor becomes small, and the size of the apparatus is inevitable. . In addition, when separating the mixed gas based on the difference in adsorption speed, only the gas to be removed can be adsorbed depending on the type of gas, but it is necessary to perform adsorption and desorption alternately, and in this case, the apparatus still has to be large. I didn't get it.

一方、より優れた吸着性能を与える吸着材として、外部刺激により動的構造変化を生じる高分子金属錯体が開発されている。この新規な動的構造変化高分子金属錯体をガス吸着材として使用した場合、ある一定の圧力まではガスを吸着しないが、ある一定圧を越えるとガス吸着が始まるという特異な現象が観測されている。また、ガスの種類によって吸着開始圧が異なる現象が観測されている。   On the other hand, polymer metal complexes that cause a dynamic structural change due to an external stimulus have been developed as adsorbents that give better adsorption performance. When this new dynamic structure change polymer metal complex is used as a gas adsorbent, a unique phenomenon is observed in which gas adsorption does not adsorb up to a certain pressure, but gas adsorption starts when a certain pressure is exceeded. Yes. In addition, a phenomenon has been observed in which the adsorption start pressure varies depending on the type of gas.

この現象を、例えば圧力スイング吸着方式のガス分離装置における吸着材に応用した場合、非常に効率良いガス分離が可能となる。また、圧力のスイング幅を狭くすることができ、省エネルギーにも寄与する。さらに、ガス分離装置の小型化にも寄与し得るため、高純度ガスを製品として販売する際のコスト競争力を高めることができることは勿論、自社工場内部で高純度ガスを用いる場合であっても、高純度ガスを必要とする設備に要するコストを削減できるため、結局最終製品の製造コストを削減する効果を有する。   When this phenomenon is applied to, for example, an adsorbent in a pressure swing adsorption type gas separation apparatus, very efficient gas separation is possible. In addition, the pressure swing width can be narrowed, contributing to energy saving. Furthermore, since it can contribute to miniaturization of the gas separation device, it is possible to increase cost competitiveness when selling high-purity gas as a product, of course, even when high-purity gas is used inside its own factory Since the cost required for the equipment that requires high purity gas can be reduced, the manufacturing cost of the final product can be reduced.

しかしながら、さらなる装置小型化によるコスト削減が求められているのが現状であり、これを達成するために吸着性能や吸蔵性能のさらなる向上が求められている。   However, the present situation is that cost reduction by further downsizing of the apparatus is required, and in order to achieve this, further improvement in adsorption performance and storage performance is required.

テレフタル酸誘導体と金属イオンと該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる高分子金属錯体が開示されている(特許文献1参照)。しかしながら、実施例に記載されているのはテレフタル酸と銅イオンとピラジンとからなる高分子金属錯体であり、テレフタル酸が有する置換基やピラジン以外の二座配位可能な有機配位子がガス吸着挙動に与える効果については何ら言及されていない。   A polymer metal complex comprising a terephthalic acid derivative, a metal ion, and an organic ligand capable of bidentate coordination with the metal ion has been disclosed (see Patent Document 1). However, what is described in the examples is a polymer metal complex composed of terephthalic acid, copper ion, and pyrazine, and the substituent of terephthalic acid and the organic ligand capable of bidentate coordination other than pyrazine are gases. No mention is made of the effect on the adsorption behavior.

テレフタル酸誘導体と金属イオンと該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる高分子金属錯体が開示されている(特許文献2参照)。しかしながら、実施例に記載されているのはテレフタル酸と銅イオンと1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンとからなる高分子金属錯体であり、テレフタル酸が有する置換基や1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン以外の二座配位可能な有機配位子がガス吸着挙動に与える効果については何ら言及されていない。   A polymer metal complex comprising a terephthalic acid derivative, a metal ion, and an organic ligand capable of bidentate coordination with the metal ion has been disclosed (see Patent Document 2). However, what is described in the examples is a polymer metal complex composed of terephthalic acid, a copper ion, and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane. -No mention is made of the effect of organic ligands capable of bidentate coordination other than diazabicyclo [2.2.2] octane on gas adsorption behavior.

テレフタル酸と金属イオンと4,4’−ビピリジルとからなる高分子金属錯体が開示されている(特許文献3参照)。しかしながら、混合ガスの分離において、テレフタル酸が有する置換基や4,4’−ビピリジル以外の二座配位可能な有機配位子がガス吸着挙動に与える効果については何ら言及されていない。   A polymer metal complex composed of terephthalic acid, a metal ion, and 4,4'-bipyridyl has been disclosed (see Patent Document 3). However, in the separation of the mixed gas, no mention is made of the effect that the substituents of terephthalic acid and organic ligands capable of bidentate coordination other than 4,4'-bipyridyl have on gas adsorption behavior.

特開2000−109485公報JP 2000-109485 A 特開2001−348361公報JP 2001-348361 A 特開2003−342260公報JP 2003-342260 A

したがって、本発明の目的は、従来よりも吸着量が大きいガス吸着材、従来よりも有効吸蔵量が大きいガス吸蔵材、或いは混合ガスの分離性能が優れるガス分離材として使用することができる金属錯体を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to provide a metal complex that can be used as a gas adsorbent having a larger adsorption amount than the conventional one, a gas storage material having a larger effective occlusion amount than the conventional one, or a gas separation material having excellent mixed gas separation performance. Is to provide.

本発明者は鋭意検討し、アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体により、上記目的を達成することができることを見出し、本発明に至った。   The present inventor has intensively studied, an anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to Groups 2 and 7 to 12 in the periodic table, and the metal ion. It has been found that the above object can be achieved by a metal complex comprising an organic ligand capable of bidentate coordination to the present invention, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。
(1)アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、下記一般式(I);
That is, according to the present invention, the following is provided.
(1) An anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to groups 2 to 5 and groups 2 to 5 of the periodic table, and the following general formula (I):

(式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R及びR10はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子である。)で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子(I)とからなる金属錯体。
(2)該二座配位可能な有機配位子(I)が2,6−ジ(4−ピリジル)−ベンゾ[1,2−c:4,5−c’]ジピロール−1,3,5,7(2H,6H)−テトロンである(1)に記載の金属錯体。
(3)(1)または(2)に記載の金属錯体からなる吸着材。
(4)該吸着材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を吸着するための吸着材である(3)に記載の吸着材。
(5)(1)または(2)に記載の金属錯体からなる吸蔵材。
(6)該吸蔵材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気を吸蔵するための吸蔵材である(5)に記載の吸蔵材。
(7)(1)または(2)に記載の金属錯体からなる分離材。
(8)該分離材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を分離するための分離材である(7)に記載の分離材。
(9)該分離材が、メタンと二酸化炭素、エチレンと二酸化炭素、水素と二酸化炭素、窒素と二酸化炭素、空気とメタン、メタンとエタン、エタンとエチレン、エチレンとアセチレン、エタンとプロパン、プロパンとプロペン、またはメタンとエタンとプロパンを分離するための分離材である(7)に記載の分離材。
(10)アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子(I)とを溶媒中で反応させ、金属錯体を析出させる、(1)に記載の金属錯体の製造方法。
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 may be the same or different and each may have a hydrogen atom or a substituent. A good alkyl group, alkoxy group, formyl group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, nitro group, cyano group, amino group, monoalkylamino group, dialkylamino group, acylamino group or halogen atom. A metal complex comprising an organic ligand (I) capable of bidentate coordination with ions.
(2) The bidentate organic ligand (I) is 2,6-di (4-pyridyl) -benzo [1,2-c: 4,5-c ′] dipyrrole-1,3 The metal complex according to (1), which is 5,7 (2H, 6H) -tetron.
(3) An adsorbent comprising the metal complex according to (1) or (2).
(4) The adsorbent is carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxide, nitrogen oxide, siloxane, water vapor or The adsorbent according to (3), which is an adsorbent for adsorbing organic vapor.
(5) An occlusion material comprising the metal complex according to (1) or (2).
(6) The storage material is a storage material for storing carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, water vapor or organic vapor. The storage material according to (5).
(7) A separating material comprising the metal complex according to (1) or (2).
(8) The separator is carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxide, nitrogen oxide, siloxane, water vapor or The separating material according to (7), which is a separating material for separating organic vapor.
(9) The separator is methane and carbon dioxide, ethylene and carbon dioxide, hydrogen and carbon dioxide, nitrogen and carbon dioxide, air and methane, methane and ethane, ethane and ethylene, ethylene and acetylene, ethane and propane, propane The separation material according to (7), which is a separation material for separating propene or methane, ethane, and propane.
(10) An anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to 2 to 5 periods of Groups 2 and 7-12 of the periodic table, and bidentate coordination to the metal ions The method for producing a metal complex according to (1), wherein a possible organic ligand (I) is reacted in a solvent to precipitate a metal complex.

本発明により、アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な特定の有機配位子(I)とからなる金属錯体を提供することができる。   According to the present invention, an anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to 2 to 5 periods of Groups 2 and 7 to 12 of the periodic table, and bidentate to the metal ions It is possible to provide a metal complex comprising a specific organic ligand (I) capable of being positioned.

本発明の金属錯体は、各種ガスの吸着性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気などを吸着するための吸着材として使用することができる。   Since the metal complex of the present invention is excellent in the adsorption performance of various gases, carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxidation It can be used as an adsorbent for adsorbing substances, nitrogen oxides, siloxanes, water vapor, organic vapors and the like.

また、本発明の金属錯体は、各種ガスの吸蔵性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気などを吸蔵するための吸蔵材としても使用することができる。   Moreover, since the metal complex of the present invention is excellent in the occlusion performance of various gases, carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, It can also be used as a storage material for storing water vapor or organic vapor.

さらに、本発明の金属錯体は、各種ガスの分離性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気などを分離するための分離材としても使用することができる。   Furthermore, since the metal complex of the present invention is excellent in the separation performance of various gases, carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, It can also be used as a separating material for separating sulfur oxides, nitrogen oxides, siloxanes, water vapor or organic vapors.

本発明の金属錯体の吸脱着に伴う構造変化の模式図である。It is a schematic diagram of the structural change accompanying adsorption / desorption of the metal complex of this invention. 合成例1で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。3 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Synthesis Example 1. FIG. 合成例2で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。4 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Synthesis Example 2. FIG. 比較合成例1で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。3 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 1. FIG. 比較合成例2で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。4 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 2. FIG. 比較合成例3で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。4 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 3. FIG. 比較合成例4で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。6 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 4. FIG. 比較合成例5で得た金属錯体の粉末X線回折パターンである。7 is a powder X-ray diffraction pattern of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 5. FIG. 合成例1及び比較合成例1で得た金属錯体の195Kにおけるエタンの吸着等温線である。2 is an adsorption isotherm of ethane at 195 K for the metal complexes obtained in Synthesis Example 1 and Comparative Synthesis Example 1. 合成例1及び比較合成例2で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素の吸脱着等温線である。2 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide at 195 K of the metal complexes obtained in Synthesis Example 1 and Comparative Synthesis Example 2. FIG. 合成例1で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着等温線である。2 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and ethylene at 195 K of the metal complex obtained in Synthesis Example 1. FIG. 合成例2で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着等温線である。3 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and ethylene at 195 K of the metal complex obtained in Synthesis Example 2. FIG. 比較合成例2で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着等温線である。3 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and ethylene at 195 K of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 2. FIG. 比較合成例3で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着等温線である。3 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and ethylene at 195 K of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 3. FIG. 合成例1で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素と窒素の吸脱着等温線である。2 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and nitrogen at 195 K of the metal complex obtained in Synthesis Example 1. FIG. 合成例2で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素と窒素の吸脱着等温線である。2 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and nitrogen at 195 K of the metal complex obtained in Synthesis Example 2. FIG. 比較合成例4で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素と窒素の吸脱着等温線である。6 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and nitrogen at 195 K of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 4. FIG. 合成例1で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着等温線である。2 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and methane at 195 K of the metal complex obtained in Synthesis Example 1. FIG. 合成例2で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着等温線である。2 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and methane at 195 K of the metal complex obtained in Synthesis Example 2. FIG. 比較合成例4で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着等温線である。6 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and methane at 195 K of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 4. FIG. 比較合成例5で得た金属錯体の195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着等温線である。6 is an adsorption / desorption isotherm of carbon dioxide and methane at 195 K of the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 5. FIG.

本発明に用いる金属錯体は、アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な特定の有機配位子(I)とからなる。   The metal complex used in the present invention includes an anionic ligand, at least one metal ion selected from the ions of metals belonging to Groups 2 and 7 to 12 in the periodic table, and the metal ion. And a specific organic ligand (I) capable of bidentate coordination.

金属錯体は、アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な特定の有機配位子(I)とを、常圧下、溶媒中で数時間から数日間反応させ、析出させて製造することができる。例えば、金属塩の水溶液または有機溶媒溶液と、アニオン性配位子及び二座配位可能な有機配位子(I)を含有する有機溶媒溶液とを、常圧下で混合して反応させることにより得ることができる。   The metal complex includes an anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to Groups 2 and 7 to 12 in the periodic table, and bidentate to the metal ion. It can be produced by reacting a specific organic ligand (I) capable of being reacted in a solvent under normal pressure for several hours to several days and depositing it. For example, an aqueous solution or organic solvent solution of a metal salt and an organic solvent solution containing an anionic ligand and an organic ligand (I) capable of bidentate coordination are mixed and reacted under normal pressure. Can be obtained.

本発明に用いられるアニオン性配位子としては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロケイ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、ギ酸イオン、酢酸イオン、安息香酸イオン、2,5−ジヒドロキシ安息香酸イオン、3,7−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸イオン、2,6−ジヒドロキシ−1−ナフトエ酸イオン、4,4’−ジヒドロキシ−3−ビフェニルカルボン酸イオン、ニコチン酸イオン、イソニコチン酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、フマレートイオン、1,4−シクロヘキサンジカルボキシレートイオン、ピラジン−2,3−ジカルボキシレートイオン、ピリジン−2,5−ジカルボキシレートイオン、ピリジン−3,5−ジカルボキシレートイオン、1,3−ベンゼンジカルボキシレートイオン、1,4−ベンゼンジカルボキシレートイオン、2,5−チオフェンジカルボキシレートイオン、1,4−ナフタレンジカルボキシレートイオン、2,6−ナフタレンジカルボキシレートイオン、2,7−ナフタレンジカルボキシレートイオン、4,4’−ビフェニルジカルボキシレートイオン、2,2‘−ジチオフェンジカルボキシレートイオン、1,3,5−ベンゼントリカルボキシレートイオン、1,3,4−ベンゼントリカルボキシレートイオン及び1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボキシレートイオンなどを使用することができる。アニオン性配位子は、2種以上のアニオン性配位子を混合して用いても良い。ここで、アニオン性配位子とは金属イオンに対して配位する部位がアニオン性を有する配位子を意味する。上記のアニオン性配位子がカルボキシレートイオン、スルホン酸イオンなどの有機酸配位子の場合、該有機酸配位子はカルボン酸、スルホン酸などのアニオンになり得る置換基以外にイオン化しない置換基をさらに有していてもよい。例えば1,4−ベンゼンジカルボキシレートイオンは、2−ニトロ−1,4−ベンゼンジカルボキシレートイオンであってもよい。置換基の数は1,2又は3個が挙げられる。置換基としては、特に限定されないが、例えばアルキル基(メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基などの直鎖または分岐を有する炭素数1〜5のアルキル基)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基,n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など)、アミノ基、モノアルキルアミノ基(メチルアミノ基など)、ジアルキルアミノ基(ジメチルアミノ基など)、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基(アセトキシ基、n−プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基など)、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アセチル基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。   Examples of the anionic ligand used in the present invention include fluoride ion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorosilicate ion, hexafluorophosphate ion, and hexafluoro. Arsenate ion, hexafluoroantimonate ion, formate ion, acetate ion, benzoate ion, 2,5-dihydroxybenzoate ion, 3,7-dihydroxy-2-naphthoate ion, 2,6-dihydroxy-1-naphthoate Acid ion, 4,4′-dihydroxy-3-biphenylcarboxylic acid ion, nicotinic acid ion, isonicotinic acid ion, trifluoroacetic acid ion, trifluoromethanesulfonic acid ion, benzenesulfonic acid ion, fumarate ion, 1,4- Cyclohexane dicarboxylate ion Pyrazine-2,3-dicarboxylate ion, pyridine-2,5-dicarboxylate ion, pyridine-3,5-dicarboxylate ion, 1,3-benzenedicarboxylate ion, 1,4-benzenedicarboxylate ion Rate ion, 2,5-thiophene dicarboxylate ion, 1,4-naphthalenedicarboxylate ion, 2,6-naphthalenedicarboxylate ion, 2,7-naphthalenedicarboxylate ion, 4,4′-biphenyldi Carboxylate ion, 2,2'-dithiophene dicarboxylate ion, 1,3,5-benzenetricarboxylate ion, 1,3,4-benzenetricarboxylate ion and 1,2,4,5-benzenetetra Carboxylate ions and the like can be used. An anionic ligand may mix and use 2 or more types of anionic ligands. Here, the anionic ligand means a ligand in which a site coordinated with a metal ion has an anionic property. When the above anionic ligand is an organic acid ligand such as carboxylate ion or sulfonate ion, the organic acid ligand is a non-ionizable substituent other than a substituent that can be an anion such as carboxylic acid or sulfonic acid. It may further have a group. For example, the 1,4-benzenedicarboxylate ion may be a 2-nitro-1,4-benzenedicarboxylate ion. The number of substituents may be 1, 2 or 3. Although it does not specifically limit as a substituent, For example, linear or branched, such as an alkyl group (Methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, etc.). Having a C1-C5 alkyl group), halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, Isobutoxy group, tert-butoxy group, etc.), amino group, monoalkylamino group (methylamino group etc.), dialkylamino group (dimethylamino group etc.), formyl group, epoxy group, acyloxy group (acetoxy group, n-propanoyl) Oxy group, n-butanoyloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, etc.), alcohol Aryloxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc. n- butoxycarbonyl group), a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an acetyl group, and a trifluoromethyl group.

本発明に用いられる周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属イオンとしては、例えば、ベリリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、ストロンチウムイオン、バリウムイオン、マンガンイオン、鉄イオン、ルテニウムイオン、コバルトイオン、ロジウムイオン、ニッケルイオン、パラジウムイオン、銅イオン、銀イオン、亜鉛イオンまたはカドミウムイオンを使用することができる。金属イオンは、単一の金属イオンを使用することが好ましいが、2種以上の金属イオンを含む混合金属錯体であってもよい。また、本発明の金属錯体は、単一の金属イオンからなる金属錯体を2種以上混合して使用することもできる。   Examples of the metal ions belonging to the 2nd to 5th periods of Groups 2 and 7-12 of the periodic table used in the present invention include beryllium ions, magnesium ions, calcium ions, strontium ions, barium ions, manganese ions, iron ions, Ruthenium ions, cobalt ions, rhodium ions, nickel ions, palladium ions, copper ions, silver ions, zinc ions or cadmium ions can be used. The metal ion is preferably a single metal ion, but may be a mixed metal complex containing two or more metal ions. Moreover, the metal complex of this invention can also mix and use 2 or more types of metal complexes which consist of a single metal ion.

金属錯体の製造に用いる金属塩としては、例えば、ベリリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩、マンガン塩、鉄塩、ルテニウム塩、コバルト塩、ロジウム塩、ニッケル塩、パラジウム塩、銅塩、銀塩、亜鉛塩及びカドミウム塩から選択される金属塩を使用することができる。金属塩は、単一の金属塩を使用することが好ましいが、2種以上の金属塩を混合して用いてもよい。これらの金属塩としては、酢酸塩、ギ酸塩などの有機酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩などの無機酸塩を使用することができる。   Examples of the metal salt used for the production of the metal complex include beryllium salt, magnesium salt, calcium salt, strontium salt, barium salt, manganese salt, iron salt, ruthenium salt, cobalt salt, rhodium salt, nickel salt, palladium salt, copper Metal salts selected from salts, silver salts, zinc salts and cadmium salts can be used. The metal salt is preferably a single metal salt, but two or more metal salts may be mixed and used. As these metal salts, organic acid salts such as acetate and formate, and inorganic acid salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, nitrate and carbonate can be used.

本発明に用いられる該金属イオンに二座配位可能な有機配位子は下記一般式(I);   The organic ligand capable of bidentate coordination to the metal ion used in the present invention is represented by the following general formula (I)

で表される。式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R及びR10はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子である。 It is represented by In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 may be the same or different and each may have a hydrogen atom or a substituent. An alkyl group, an alkoxy group, a formyl group, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a cyano group, an amino group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, an acylamino group, or a halogen atom.

、R、R、R、R、R、R、R、R及びR10を構成することのできる置換基の内、アルキル基またはアルコキシ基の炭素原子数は1〜5が好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基などの直鎖または分岐を有するアルキル基が、アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロキシ基,n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基が、アシロキシ基の例としては、アセトキシ基、n−プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基が、アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基が、モノアルキルアミノ基の例としては、メチルアミノ基が、ジアルキルアミノ基の例としては、ジメチルアミノ基が、アシルアミノ基の例としては、アセチルアミノ基が、ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が、それぞれ挙げられる。また、該アルキル基等が有していてもよい置換基の例としては、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基,n−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など)、アミノ基、モノアルキルアミノ基(メチルアミノ基など)、ジアルキルアミノ基(ジメチルアミノ基など)、ホルミル基、エポキシ基、アシロキシ基(アセトキシ基、n−プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基など)、カルボン酸無水物基(−CO−OCO−R基)(Rは炭素数1〜5のアルキル基である)などが挙げられる。アルキル基の置換基の数は、1〜3個が好ましく、1個がより好ましい。 Among the substituents that can constitute R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 , the number of carbon atoms of the alkyl group or alkoxy group is 1-5 are preferable. Examples of the alkyl group include a linear or branched alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, and a pentyl group, and an alkoxy group. Examples of methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isoproxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, and examples of acyloxy group include acetoxy group, n-propanoyloxy group , N-butanoyloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group are examples of alkoxycarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group are examples of monoalkylamino group, methylamino Examples of groups where the dialkylamino group is dimethylamino group are acyl Examples of amino group, an acetylamino group, examples of the halogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, and the like, respectively. Examples of the substituent that the alkyl group may have include an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group). Etc.), amino group, monoalkylamino group (such as methylamino group), dialkylamino group (such as dimethylamino group), formyl group, epoxy group, acyloxy group (acetoxy group, n-propanoyloxy group, n-butanoyl) Oxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, etc.), carboxylic anhydride group (—CO—OCO—R group) (R is carbon And an alkyl group having a number of 1 to 5). 1-3 are preferable and, as for the number of the substituents of an alkyl group, one is more preferable.

二座配位可能な有機配位子としては、例えば、2,6−ジ(4−ピリジル)−ベンゾ[1,2−c:4,5−c’]ジピロール−1,3,5,7(2H,6H)−テトロンを使用することができる。ここで、二座配位可能な有機配位子とは非共有電子対で金属イオンに対して配位できる部位を少なくとも2箇所以上有する中性配位子を意味する。   As an organic ligand capable of bidentate coordination, for example, 2,6-di (4-pyridyl) -benzo [1,2-c: 4,5-c ′] dipyrrole-1,3,5,7 (2H, 6H) -Tetron can be used. Here, the bidentate organic ligand means a neutral ligand having at least two sites capable of coordinating with a metal ion by a lone pair.

金属錯体を製造するときのアニオン性配位子と二座配位可能な有機配位子(I)との混合比率は、アニオン性配位子:二座配位可能な有機配位子(I)=1:5〜8:1のモル比の範囲内が好ましく、1:3〜6:1のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下し、副反応も増えるために好ましくない。   The mixing ratio between the anionic ligand and the bidentate organic ligand (I) when producing the metal complex is as follows: anionic ligand: bidentate organic ligand (I ) = 1: 5 to 8: 1 molar ratio is preferable, and 1: 3 to 6: 1 molar ratio is more preferable. Even if the reaction is carried out in a range other than this, the desired metal complex can be obtained, but this is not preferable because the yield is lowered and the side reaction is also increased.

金属錯体を製造するときの金属塩と二座配位可能な有機配位子(I)の混合比率は、金属塩:二座配位可能な有機配位子(I)=3:1〜1:3のモル比の範囲内が好ましく、2:1〜1:2のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲では目的とする金属錯体の収率が低下し、また、未反応の原料が残留して得られた金属錯体の精製が困難になる。   When the metal complex is produced, the mixing ratio of the metal salt and the organic ligand (I) capable of bidentate coordination is as follows: metal salt: organic ligand capable of bidentate coordination (I) = 3: 1 to 1 : Within the range of the molar ratio of 3: 3, and more preferably within the range of the molar ratio of 2: 1 to 1: 2. In other ranges, the yield of the target metal complex decreases, and purification of the metal complex obtained by leaving unreacted raw materials becomes difficult.

金属錯体を製造するための混合溶液におけるアニオン性配位子のモル濃度は、0.005〜5.0mol/Lが好ましく、0.01〜2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では溶解性が低下し、反応が円滑に進行しない。   The molar concentration of the anionic ligand in the mixed solution for producing the metal complex is preferably 0.005 to 5.0 mol / L, and more preferably 0.01 to 2.0 mol / L. Even if the reaction is performed at a concentration lower than this, the desired metal complex can be obtained, but this is not preferable because the yield decreases. If the concentration is higher than this, the solubility is lowered and the reaction does not proceed smoothly.

金属錯体を製造するための混合溶液における金属塩のモル濃度は、0.005〜5.0mol/Lが好ましく、0.01〜2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では未反応の金属塩が残留し、得られた金属錯体の精製が困難になる。   The molar concentration of the metal salt in the mixed solution for producing the metal complex is preferably 0.005 to 5.0 mol / L, and more preferably 0.01 to 2.0 mol / L. Even if the reaction is performed at a concentration lower than this, the desired metal complex can be obtained, but this is not preferable because the yield decreases. Further, at a concentration higher than this, unreacted metal salt remains, and purification of the obtained metal complex becomes difficult.

金属錯体を製造するための混合溶液における二座配位可能な有機配位子(I)のモル濃度は、0.001〜5.0mol/Lが好ましく、0.005〜2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では溶解性が低下し、反応が円滑に進行しない。   The molar concentration of the bidentate organic ligand (I) in the mixed solution for producing the metal complex is preferably 0.001 to 5.0 mol / L, and preferably 0.005 to 2.0 mol / L. More preferred. Even if the reaction is performed at a concentration lower than this, the desired metal complex can be obtained, but this is not preferable because the yield decreases. If the concentration is higher than this, the solubility is lowered and the reaction does not proceed smoothly.

金属錯体の製造に用いる溶媒としては、有機溶媒、水またはそれらの混合溶媒を使用することができる。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの混合溶媒を使用することができる。反応温度としては、253〜423Kが好ましい。   As a solvent used for producing the metal complex, an organic solvent, water, or a mixed solvent thereof can be used. Specifically, methanol, ethanol, propanol, diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, hexane, cyclohexane, heptane, benzene, toluene, methylene chloride, chloroform, acetone, ethyl acetate, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, water or These mixed solvents can be used. The reaction temperature is preferably 253 to 423K.

反応が終了したことはガスクロマトグラフィーまたは高速液体クロマトグラフィーにより原料の残存量を定量することにより確認することができる。反応終了後、得られた混合液を吸引濾過に付して沈殿物を集め、有機溶媒による洗浄後、373K程度で数時間真空乾燥することにより、本発明の金属錯体を得ることができる。   The completion of the reaction can be confirmed by quantifying the remaining amount of the raw material by gas chromatography or high performance liquid chromatography. After completion of the reaction, the obtained mixed solution is subjected to suction filtration to collect a precipitate, washed with an organic solvent, and then vacuum dried at about 373 K for several hours to obtain the metal complex of the present invention.

本発明の金属錯体は、溶媒分子が吸着した状態ではガス分子を吸着しない。そのため、吸着剤、吸蔵材及び分離材として用いる際には、予め得られた金属錯体について真空乾燥を行い、細孔内の溶媒分子を取り除くことが必要である。   The metal complex of the present invention does not adsorb gas molecules when solvent molecules are adsorbed. Therefore, when using it as an adsorbent, an occlusion material, and a separation material, it is necessary to vacuum-dry the metal complex obtained in advance to remove solvent molecules in the pores.

以上のようにして得られる本発明の金属錯体は、用いるアニオン性配位子の種類によらず、ガス分子を選択的に吸脱着可能である。   The metal complex of the present invention obtained as described above can selectively adsorb and desorb gas molecules regardless of the type of anionic ligand used.

本発明の金属錯体は、アニオン性配位子の種類に応じて、一次元、二次元、或いは三次元の集積構造をとることができ、例えば、アニオン性配位子として1,4−ベンゼンジカルボキシレートイオンを用いた場合は、カルボキシレートイオン、金属イオン及び該金属イオンに二座配位可能な有機配位子(I)から形成されるジャングルジム骨格が多重に相互貫入した三次元構造を構築することができる。   The metal complex of the present invention can have a one-dimensional, two-dimensional, or three-dimensional integrated structure depending on the type of anionic ligand. When a carboxylate ion is used, a three-dimensional structure in which a jungle gym skeleton formed from a carboxylate ion, a metal ion, and an organic ligand (I) capable of bidentate coordination to the metal ion is interpenetrated multiple times. Can be built.

本明細書において、「ジャングルジム骨格」とは、カルボキシレートイオンと金属イオンとからなるパドルホイール骨格中の金属イオンのアキシャル位に二座配位可能な有機配位子(I)が配位し、カルボキシレートイオンと金属イオンとからなる二次元格子状シート間を連結することで形成されるジャングルジム様の三次元構造と定義する。   In this specification, the “jungle gym skeleton” means that an organic ligand (I) capable of bidentate coordination with an axial position of a metal ion in a paddle wheel skeleton composed of a carboxylate ion and a metal ion is coordinated. It is defined as a jungle gym-like three-dimensional structure formed by connecting two-dimensional lattice-like sheets composed of carboxylate ions and metal ions.

本明細書において、「ジャングルジム骨格が多重に相互貫入した構造」とは、二以上のジャングルジム骨格が互いの細孔を埋める形で貫入し合った三次元集積構造と定義する。   In the present specification, “a structure in which multiple jungle gym skeletons interpenetrate” is defined as a three-dimensional integrated structure in which two or more jungle gym skeletons penetrate each other so as to fill the pores of each other.

金属錯体がジャングルジム骨格が多重に相互貫入した構造を構築することは、例えば単結晶X線構造解析、粉末X線結晶構造解析などにより確認することができる。   It can be confirmed by, for example, single crystal X-ray structural analysis, powder X-ray crystal structural analysis, and the like that the metal complex constructs a structure in which the jungle gym skeleton is interpenetrated multiple times.

本発明の金属錯体における集積構造は、合成後の結晶においても変化できるため、その変化に伴って、細孔の構造や大きさも変化する。この構造が変化する条件は、吸着される物質の種類、吸着圧力、吸着温度に依存する。本発明の金属錯体が前記三次元構造を構築する場合の吸脱着に伴う構造変化の模式図を図1に示す。本発明では、アニオン性配位子と一般式(I)で表される二座配位可能な有機配位子(I)を用いて細孔形状及び細孔表面の電荷密度を制御することで、高いガス吸着性能、高いガス吸蔵性能及び高いガス分離性能が発現する。吸着された物質が脱着した後は、元の構造に戻るので、細孔の大きさも元に戻る。   Since the integrated structure in the metal complex of the present invention can be changed in the synthesized crystal, the structure and size of the pores change with the change. The conditions for changing the structure depend on the type of substance to be adsorbed, the adsorption pressure, and the adsorption temperature. FIG. 1 shows a schematic diagram of a structural change accompanying adsorption / desorption when the metal complex of the present invention constructs the three-dimensional structure. In the present invention, the charge density of the pore shape and the pore surface is controlled by using the anionic ligand and the organic ligand (I) capable of bidentate coordination represented by the general formula (I). High gas adsorption performance, high gas storage performance and high gas separation performance are manifested. After the adsorbed substance is desorbed, it returns to its original structure, so the pore size also returns.

前記の吸着メカニズムは推定ではあるが、例え前記メカニズムに従っていない場合でも、本発明で規定する要件を満足するのであれば、本発明の技術的範囲に包含される。   Although the said adsorption mechanism is presumption, even if it does not follow the said mechanism, if the requirements prescribed | regulated by this invention are satisfied, it will be included in the technical scope of this invention.

本発明の金属錯体は、各種ガスの吸着性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素(メタン、エタン、エチレン、アセチレン、プロパン、プロペン、メチルアセチレン、プロパジエンなど)、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど)、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン(ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど)、水蒸気または有機蒸気などを吸着するための吸着材として好ましい。有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トリメチルアミン、トリエチルアミンなどのアミン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類;炭素数5〜16の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;塩化メチル、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。   Since the metal complex of the present invention is excellent in the adsorption performance of various gases, carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms (methane, ethane, ethylene, acetylene, propane, Propene, methylacetylene, propadiene, etc.), noble gases (helium, neon, argon, krypton, xenon, etc.), hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxide, nitrogen oxide, siloxane (hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane) Etc.), and is preferable as an adsorbent for adsorbing water vapor or organic vapor. The organic vapor means a vaporized organic substance that is liquid at normal temperature and pressure. Examples of such organic substances include alcohols such as methanol and ethanol; amines such as trimethylamine and triethylamine; aldehydes such as acetaldehyde; aliphatic hydrocarbons having 5 to 16 carbon atoms; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. Ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; halogenated hydrocarbons such as methyl chloride, methylene chloride and chloroform;

また、本発明の金属錯体は、各種ガスの吸蔵性能に優れているので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素(メタン、エタン、エチレン、アセチレン、プロパン、プロペン、メチルアセチレン、プロパジエンなど)、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど)、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気などを吸蔵するための吸蔵材としても好ましい。有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トリメチルアミンなどのアミン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類;炭素数5〜16の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;塩化メチル、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。   In addition, since the metal complex of the present invention is excellent in the occlusion performance of various gases, carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms (methane, ethane, ethylene, acetylene, Propane, propene, methylacetylene, propadiene, etc.), noble gases (helium, neon, argon, krypton, xenon, etc.), hydrogen sulfide, ammonia, water vapor, or organic vapor are also preferred as occlusion materials. The organic vapor means a vaporized organic substance that is liquid at normal temperature and pressure. Examples of such organic substances include alcohols such as methanol and ethanol; amines such as trimethylamine; aldehydes such as acetaldehyde; aliphatic hydrocarbons having 5 to 16 carbon atoms; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; acetone And ketones such as methyl ethyl ketone; halogenated hydrocarbons such as methyl chloride and chloroform.

さらに、本発明の金属錯体は、各種ガスを選択的に吸着することができるので、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素(メタン、エタン、エチレン、アセチレン、プロパン、プロペン、メチルアセチレン、プロパジエンなど)、希ガス(ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど)、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン(ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど)、水蒸気または有機蒸気などを分離するための分離材としても好ましく、特に、メタン中の二酸化炭素、エチレン中の二酸化炭素、水素中の二酸化炭素、窒素中の二酸化炭素、空気中のメタン、メタン中のエタン、エタン中のエチレン、エチレン中のアセチレン、エタン中のプロパン、プロパン中のプロペン、またはメタン中のエタンとプロパンなどを、圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により分離するのに適している。有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;トリメチルアミンなどのアミン類;アセトアルデヒドなどのアルデヒド類;炭素数5〜16の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;塩化メチル、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。   Furthermore, since the metal complex of the present invention can selectively adsorb various gases, carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, C 1-4 hydrocarbons (methane, ethane, ethylene, Acetylene, propane, propene, methylacetylene, propadiene, etc.), noble gases (helium, neon, argon, krypton, xenon, etc.), hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxide, nitrogen oxide, siloxane (hexamethylcyclotrisiloxane, octane) Methylcyclotetrasiloxane, etc.), and is also preferable as a separating material for separating water vapor or organic vapor, and in particular, carbon dioxide in methane, carbon dioxide in ethylene, carbon dioxide in hydrogen, carbon dioxide in nitrogen, air Methane in methane, ethane in methane, ethylene in ethane, acetylene in ethylene, Propane in Tan, propene in propane or ethane and propane in methane, is suitable for separation by pressure swing adsorption or temperature swing adsorption. The organic vapor means a vaporized organic substance that is liquid at normal temperature and pressure. Examples of such organic substances include alcohols such as methanol and ethanol; amines such as trimethylamine; aldehydes such as acetaldehyde; aliphatic hydrocarbons having 5 to 16 carbon atoms; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; acetone And ketones such as methyl ethyl ketone; halogenated hydrocarbons such as methyl chloride and chloroform.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例および比較例における分析および評価は次のようにして行った。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Analysis and evaluation in the following examples and comparative examples were performed as follows.

(1)粉末X線回折パターンの測定
粉末X線回折装置を用いて、回折角(2θ)=5〜50°の範囲を走査速度1°/分で走査し、対称反射法で測定した。分析条件の詳細を以下に示す。
<分析条件>
装置:株式会社リガク製RINT2400
X線源:CuKα(λ=1.5418Å) 40kV 200mA
ゴニオメーター:縦型ゴニオメーター
検出器:シンチレーションカウンター
ステップ幅:0.02°
スリット:発散スリット=0.5°
受光スリット=0.15mm
散乱スリット=0.5°
(1) Measurement of powder X-ray diffraction pattern Using a powder X-ray diffractometer, a range of diffraction angle (2θ) = 5 to 50 ° was scanned at a scanning speed of 1 ° / min, and measured by a symmetric reflection method. Details of the analysis conditions are shown below.
<Analysis conditions>
Apparatus: RINT2400 manufactured by Rigaku Corporation
X-ray source: CuKα (λ = 1.5418Å) 40 kV 200 mA
Goniometer: Vertical goniometer Detector: Scintillation counter Step width: 0.02 °
Slit: Divergent slit = 0.5 °
Receiving slit = 0.15mm
Scattering slit = 0.5 °

(2)吸脱着等温線の作成
ガス吸着量測定装置を用いて容量法(JIS Z8831−2に準拠)によりガス吸着量の測定を行い、吸脱着等温線を作成した。このとき、測定に先立って試料を373K、50Paで8時間乾燥し、吸着水などを除去した。測定条件の詳細を以下に示す。
<分析条件>
装置:日本ベル株式会社製BELSORP−18PLUS
平衡待ち時間:500秒
(2) Creation of adsorption / desorption isotherm
A gas adsorption amount was measured by a capacity method (based on JIS Z8831-2) using a gas adsorption amount measuring device, and an adsorption / desorption isotherm was created. At this time, prior to the measurement, the sample was dried at 373 K and 50 Pa for 8 hours to remove adsorbed water and the like. Details of the measurement conditions are shown below.
<Analysis conditions>
Device: Nippon Bell Co., Ltd. BELSORP-18PLUS
Equilibrium waiting time: 500 seconds

<合成例1>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g(9.5mmol)、2−ニトロ−1,4−ベンゼンジカルボン酸2.00g(9.5mmol)及び2,6−ジ(4−ピリジル)−ベンゾ[1,2−c:4,5−c’]ジピロール−1,3,5,7(2H,6H)−テトロン1.75g(4.7mmol)を容量比でN,N−ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N−ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体4.13g(収率95%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図2に示す。
<Synthesis Example 1>
Under a nitrogen atmosphere, zinc nitrate hexahydrate 2.81 g (9.5 mmol), 2-nitro-1,4-benzenedicarboxylic acid 2.00 g (9.5 mmol) and 2,6-di (4-pyridyl)- Benzo [1,2-c: 4,5-c ′] dipyrrole-1,3,5,7 (2H, 6H) -tetron 1.75 g (4.7 mmol) in a volume ratio of N, N-dimethylformamide: It was dissolved in 800 mL of a mixed solvent of N, N-dimethylformamide and ethanol consisting of ethanol = 1: 1 and stirred at 363 K for 24 hours. The precipitated metal complex was recovered by suction filtration, and then washed with methanol three times. Then, it dried at 373 K and 50 Pa for 8 hours, and obtained the target metal complex 4.13g (yield 95%). The powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex is shown in FIG.

<合成例2>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g(9.5mmol)、1,4−ベンゼンジカルボン酸1.57g(9.5mmol)及び2,6−ジ(4−ピリジル)−ベンゾ[1,2−c:4,5−c’]ジピロール−1,3,5,7(2H,6H)−テトロン1.75g(4.7mmol)を容量比でN,N−ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N−ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで48時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体3.72g(収率95%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図3に示す。
<Synthesis Example 2>
Under a nitrogen atmosphere, zinc nitrate hexahydrate 2.81 g (9.5 mmol), 1,4-benzenedicarboxylic acid 1.57 g (9.5 mmol) and 2,6-di (4-pyridyl) -benzo [1, 2-c: 4,5-c ′] dipyrrole-1,3,5,7 (2H, 6H) -tetron 1.75 g (4.7 mmol) in a volume ratio of N, N-dimethylformamide: ethanol = 1: This was dissolved in 800 mL of a mixed solvent of N, N-dimethylformamide and ethanol consisting of 1 and stirred at 363 K for 48 hours. The precipitated metal complex was recovered by suction filtration, and then washed with methanol three times. Then, it dried at 373 K and 50 Pa for 8 hours, and obtained the objective metal complex 3.72g (yield 95%). The powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex is shown in FIG.

<比較合成例1>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物5.03g(17mmol)、2−ニトロ−1,4−ベンゼンジカルボン酸3.57g(17mmol)及びトランス−1,2−ビス(4−ピリジル)エテン1.55g(8.5mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド690mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体4.05g(収率65%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図4に示す。
<Comparative Synthesis Example 1>
In a nitrogen atmosphere, zinc nitrate hexahydrate 5.03 g (17 mmol), 2-nitro-1,4-benzenedicarboxylic acid 3.57 g (17 mmol) and trans-1,2-bis (4-pyridyl) ethene 55 g (8.5 mmol) was dissolved in 690 mL of N, N-dimethylformamide and stirred at 393 K for 24 hours. The precipitated metal complex was collected by suction filtration, and then washed with ethanol three times. Then, it dried at 373K and 50Pa for 8 hours, and obtained the target metal complex 4.05g (yield 65%). The powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex is shown in FIG.

<比較合成例2>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g(9.5mmol)、2−ニトロ−1,4−ベンゼンジカルボン酸2.00g(9.5mmol)及び4,4’−ビピリジル0.739g(4.7mmol)を容量比でN,N−ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N−ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体2.89g(収率87%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図5に示す。
<Comparative Synthesis Example 2>
Under a nitrogen atmosphere, zinc nitrate hexahydrate 2.81 g (9.5 mmol), 2-nitro-1,4-benzenedicarboxylic acid 2.00 g (9.5 mmol) and 4,4′-bipyridyl 0.739 g (4 0.7 mmol) was dissolved in 800 mL of a mixed solvent of N, N-dimethylformamide and ethanol having a volume ratio of N, N-dimethylformamide: ethanol = 1: 1 and stirred at 363 K for 24 hours. The precipitated metal complex was recovered by suction filtration, and then washed with methanol three times. Then, it dried at 373K and 50Pa for 8 hours, and obtained the target metal complex 2.89g (yield 87%). FIG. 5 shows a powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex.

<比較合成例3>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物2.81g(9.5mmol)、1,4−ベンゼンジカルボン酸1.57g(9.5mmol)及び4,4’−ビピリジル0.739g(4.7mmol)を容量比でN,N−ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N−ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒800mLに溶解させ、363Kで48時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。その後、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体2.75g(収率95%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図6に示す。
<Comparative Synthesis Example 3>
Under a nitrogen atmosphere, 2.81 g (9.5 mmol) of zinc nitrate hexahydrate, 1.57 g (9.5 mmol) of 1,4-benzenedicarboxylic acid and 0.739 g (4.7 mmol) of 4,4′-bipyridyl were added. The mixture was dissolved in 800 mL of a mixed solvent of N, N-dimethylformamide and ethanol having a volume ratio of N, N-dimethylformamide: ethanol = 1: 1 and stirred at 363 K for 48 hours. The precipitated metal complex was recovered by suction filtration, and then washed with methanol three times. Then, it dried at 373 K and 50 Pa for 8 hours, and obtained 2.75 g (yield 95%) of the target metal complex. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex is shown in FIG.

<比較合成例4>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物1.78g(6.0mmol)、2−ニトロ−1,4−ベンゼンジカルボン酸1.27g(6.0mmol)及びN,N’−ジ(4−ピリジル)−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボキシジイミド1.26g(3.0mmol)を容量比でN,N−ジメチルホルムアミド:エタノール=1:1からなるN,N−ジメチルホルムアミドとエタノールの混合溶媒540mLに溶解させ、363Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体2.66g(収率91%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図7に示す。
<Comparative Synthesis Example 4>
Under nitrogen atmosphere, zinc nitrate hexahydrate 1.78 g (6.0 mmol), 2-nitro-1,4-benzenedicarboxylic acid 1.27 g (6.0 mmol) and N, N′-di (4-pyridyl) A mixed solvent of N, N-dimethylformamide and ethanol comprising 1.26 g (3.0 mmol) of 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxydiimide in a volume ratio of N, N-dimethylformamide: ethanol = 1: 1 Dissolve in 540 mL and stir at 363 K for 24 hours. The precipitated metal complex was recovered by suction filtration, and then washed with methanol three times. Then, it dried at 373 K and 50 Pa for 8 hours, and obtained 2.66 g (yield 91%) of the target metal complex. FIG. 7 shows a powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex.

<比較合成例5>
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物5.35g(18mmol)、1,4−ベンゼンジカルボン酸0.598g(3.6mmol)及びN,N’−ジ(4−ピリジル)−1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボキシジイミド1.51g(3.6mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド1800mLに溶解させ、353Kで72時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体0.648g(収率41%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図8に示す。
<Comparative Synthesis Example 5>
Under nitrogen atmosphere, zinc nitrate hexahydrate 5.35 g (18 mmol), 1,4-benzenedicarboxylic acid 0.598 g (3.6 mmol) and N, N′-di (4-pyridyl) -1,4,5 , 8-Naphthalenetetracarboxydiimide (1.51 g, 3.6 mmol) was dissolved in 1800 mL of N, N-dimethylformamide and stirred at 353 K for 72 hours. The precipitated metal complex was recovered by suction filtration, and then washed with methanol three times. Then, it dried at 373 K and 50 Pa for 8 hours, and obtained the target metal complex 0.648g (yield 41%). The powder X-ray diffraction pattern of the obtained metal complex is shown in FIG.

<実施例1>
合成例1で得た金属錯体について、195Kにおけるエタンの吸着量を容量法により測定し、吸着等温線を作成した。結果を図9に示す。
<Example 1>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 1, the amount of ethane adsorbed at 195 K was measured by the volumetric method, and an adsorption isotherm was prepared. The results are shown in FIG.

<比較例1>
比較合成例1で得た金属錯体について、195Kにおけるエタンの吸着量を容量法により測定し、吸着等温線を作成した。結果を図9に示す。
<Comparative Example 1>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 1, the amount of ethane adsorbed at 195 K was measured by the volumetric method, and an adsorption isotherm was prepared. The results are shown in FIG.

図9より、本発明の金属錯体はエタンの吸着量が多いので、エタンの吸着材として優れていることがわかる。   FIG. 9 shows that the metal complex of the present invention is excellent as an adsorbent for ethane because it has a large amount of ethane adsorbed.

<実施例2>
合成例1で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素の吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図10に示す。
<Example 2>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 1, the adsorption / desorption amount of carbon dioxide at 195 K was measured by the volume method, and an adsorption / desorption isotherm was prepared. The results are shown in FIG.

<比較例2>
比較合成例2で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素の吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図10に示す。
<Comparative example 2>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 2, the adsorption / desorption amount of carbon dioxide at 195 K was measured by the volume method, and an adsorption / desorption isotherm was prepared. The results are shown in FIG.

図10より、本発明の金属錯体は二酸化炭素の有効吸着量が多いので、二酸化炭素の吸蔵材として優れていることがわかる。   From FIG. 10, it can be seen that the metal complex of the present invention is excellent as a storage material for carbon dioxide because it has a large effective adsorption amount of carbon dioxide.

<実施例3>
合成例1で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図11に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaでの二酸化炭素とエチレンの吸着量比を表1に示す。
<Example 3>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 1, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and ethylene at 195 K were measured by the volume method, and adsorption and desorption isotherms were created. The results are shown in FIG. Table 1 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and ethylene at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<実施例4>
合成例2で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図12に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaでの二酸化炭素とエチレンの吸着量比を表1に示す。
<Example 4>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 2, the adsorption and desorption amount of carbon dioxide and ethylene at 195 K was measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 1 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and ethylene at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<比較例3>
比較合成例2で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図13に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaでの二酸化炭素とエチレンの吸着量比を表1に示す。
<Comparative Example 3>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 2, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and ethylene at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 1 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and ethylene at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<比較例4>
比較合成例3で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とエチレンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図14に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaでの二酸化炭素とエチレンの吸着量比を表1に示す。
<Comparative example 4>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 3, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and ethylene at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 1 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and ethylene at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

表1より、本発明の金属錯体はエチレンに対する二酸化炭素の吸着量比が大きく、高い二酸化炭素選択吸着能を有するので、エチレンと二酸化炭素の分離材として優れていることがわかる。   From Table 1, it can be seen that the metal complex of the present invention has a large adsorption ratio of carbon dioxide with respect to ethylene and has a high carbon dioxide selective adsorption ability, and thus is excellent as a separator for ethylene and carbon dioxide.

<実施例5>
合成例1で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素と窒素の吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図15に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素と窒素の吸着量比を表2に示す。
<Example 5>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 1, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and nitrogen at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 2 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and nitrogen at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<実施例6>
合成例2で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素と窒素の吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図16に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素と窒素の吸着量比を表2に示す。
<Example 6>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 2, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and nitrogen at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 2 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and nitrogen at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<比較例5>
比較合成例4で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素と窒素の吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図17に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素と窒素の吸着量比を表2に示す。
<Comparative Example 5>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 4, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and nitrogen at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 2 shows the adsorption amount ratio of carbon dioxide and nitrogen at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

表2より、本発明の金属錯体は窒素に対する二酸化炭素の吸着量比が大きく、高い二酸化炭素選択吸着能を有するので、窒素と二酸化炭素の分離材として優れていることがわかる。   From Table 2, it can be seen that the metal complex of the present invention has a large adsorption ratio of carbon dioxide with respect to nitrogen and has a high carbon dioxide selective adsorption ability, and thus is excellent as a separator for nitrogen and carbon dioxide.

<実施例7>
合成例1で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図18に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素とメタンの吸着量比を表3に示す。
<Example 7>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 1, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and methane at 195 K were measured by the volume method, and adsorption and desorption isotherms were created. The results are shown in FIG. Table 3 shows the adsorption ratio of carbon dioxide and methane at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<実施例8>
合成例2で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図19に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素とメタンの吸着量比を表3に示す。
<Example 8>
For the metal complex obtained in Synthesis Example 2, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and methane at 195 K were measured by the volume method, and adsorption and desorption isotherms were created. The results are shown in FIG. Table 3 shows the adsorption ratio of carbon dioxide and methane at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<比較例6>
比較合成例4で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図20に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素とメタンの吸着量比を表3に示す。
<Comparative Example 6>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 4, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and methane at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 3 shows the adsorption ratio of carbon dioxide and methane at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

<比較例7>
比較合成例5で得た金属錯体について、195Kにおける二酸化炭素とメタンの吸脱着量を容量法により測定し、吸脱着等温線を作成した。結果を図21に示す。また、10kPa、50kPa及び90kPaにおける二酸化炭素とメタンの吸着量比を表3に示す。
<Comparative Example 7>
For the metal complex obtained in Comparative Synthesis Example 5, the adsorption and desorption amounts of carbon dioxide and methane at 195 K were measured by the volume method, and an adsorption and desorption isotherm was created. The results are shown in FIG. Table 3 shows the adsorption ratio of carbon dioxide and methane at 10 kPa, 50 kPa, and 90 kPa.

表3より、本発明の金属錯体はメタンに対する二酸化炭素の吸着量比が大きく、高い二酸化炭素選択吸着能を有するので、メタンと二酸化炭素の分離材として優れていることがわかる。   From Table 3, it can be seen that the metal complex of the present invention has a large adsorption ratio of carbon dioxide with respect to methane and has a high carbon dioxide selective adsorption ability, and thus is excellent as a separator for methane and carbon dioxide.

実施例1〜8及び比較例1〜7の結果より、本発明の構成要件を満たす合成例1〜2で得た金属錯体は、本発明の構成要件を満たさない比較合成例1〜5で得た金属錯体に比べ、各種ガスの吸着性能、吸蔵性能及び分離性能に優れていることは明らかである。このような差が生じる理由は必ずしも定かではないが、本発明の金属錯体の構成配位子を用いることにより、ガス分子と細孔表面との相互作用が大きくなるため、優れたガス吸着性能、優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を発現するためであると考えられる。   From the results of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 7, the metal complexes obtained in Synthesis Examples 1 and 2 that satisfy the constituent requirements of the present invention are obtained in Comparative Synthesis Examples 1 to 5 that do not satisfy the constituent requirements of the present invention. It is clear that the adsorption performance, occlusion performance, and separation performance of various gases are superior to those of the above metal complexes. The reason why such a difference occurs is not necessarily clear, but by using the constituent ligand of the metal complex of the present invention, the interaction between the gas molecules and the pore surface is increased, so that excellent gas adsorption performance, This is thought to be due to the development of excellent gas storage performance and gas separation performance.

Claims (10)

アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、下記一般式(I);
(式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R及びR10はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子である。)で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子(I)とからなる金属錯体。
An anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to groups 2 to 5 and groups 2 to 5 of Groups 7 to 12, and the following general formula (I);
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 may be the same or different and each may have a hydrogen atom or a substituent. A good alkyl group, alkoxy group, formyl group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, nitro group, cyano group, amino group, monoalkylamino group, dialkylamino group, acylamino group or halogen atom. A metal complex comprising an organic ligand (I) capable of bidentate coordination with ions.
該二座配位可能な有機配位子(I)が2,6−ジ(4−ピリジル)−ベンゾ[1,2−c:4,5−c’]ジピロール−1,3,5,7(2H,6H)−テトロンである請求項1に記載の金属錯体。 The bidentate organic ligand (I) is 2,6-di (4-pyridyl) -benzo [1,2-c: 4,5-c ′] dipyrrole-1,3,5,7. The metal complex according to claim 1, which is (2H, 6H) -tetron. 請求項1または2に記載の金属錯体からなる吸着材。 An adsorbent comprising the metal complex according to claim 1. 該吸着材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を吸着するための吸着材である請求項3に記載の吸着材。 The adsorbent is carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxide, nitrogen oxide, siloxane, water vapor or organic vapor. The adsorbent according to claim 3, which is an adsorbent for adsorbing. 請求項1または2に記載の金属錯体からなる吸蔵材。 An occlusion material comprising the metal complex according to claim 1. 該吸蔵材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、水蒸気または有機蒸気を吸蔵するための吸蔵材である請求項5に記載の吸蔵材。 The occlusion material is an occlusion material for occluding carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbons having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, water vapor or organic vapor. 5. The occlusion material according to 5. 請求項1または2に記載の金属錯体からなる分離材。 A separating material comprising the metal complex according to claim 1. 該分離材が、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数1〜4の炭化水素、希ガス、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン、水蒸気または有機蒸気を分離するための分離材である請求項7に記載の分離材。 The separation material is carbon dioxide, hydrogen, carbon monoxide, oxygen, nitrogen, hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms, rare gas, hydrogen sulfide, ammonia, sulfur oxide, nitrogen oxide, siloxane, water vapor or organic vapor. The separation material according to claim 7, which is a separation material for separation. 該分離材が、メタンと二酸化炭素、エチレンと二酸化炭素、水素と二酸化炭素、窒素と二酸化炭素、空気とメタン、メタンとエタン、エタンとエチレン、エチレンとアセチレン、エタンとプロパン、プロパンとプロペン、またはメタンとエタンとプロパンを分離するための分離材である請求項7に記載の分離材。 The separator is methane and carbon dioxide, ethylene and carbon dioxide, hydrogen and carbon dioxide, nitrogen and carbon dioxide, air and methane, methane and ethane, ethane and ethylene, ethylene and acetylene, ethane and propane, propane and propene, or The separation material according to claim 7, which is a separation material for separating methane, ethane and propane. アニオン性配位子と、周期表の2族及び7〜12族の2〜5周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子(I)とを溶媒中で反応させ、金属錯体を析出させる、請求項1に記載の金属錯体の製造方法。 An anionic ligand, at least one metal ion selected from ions of metals belonging to groups 2 to 5 and groups 2 to 5 of groups 7 to 12, and an organic compound capable of bidentate coordination with the metal ion The method for producing a metal complex according to claim 1, wherein the ligand (I) is reacted in a solvent to precipitate a metal complex.
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