JP2013028578A - Method of producing amide group-containing tetracarboxylic dianhydride - Google Patents

Method of producing amide group-containing tetracarboxylic dianhydride Download PDF

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Shinpei Okamoto
紳平 岡本
Kentaro Tsukudaya
健太郎 佃屋
Tomonori Iwamoto
友典 岩本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of easily producing highly pure amide group-containing tetracarboxylic dianhydride.SOLUTION: In the method of producing amide group-containing tetracarboxylic dianhydride by reacting dicarboxylic anhydride-containing acid chloride with diamine in a solution, the reaction solution of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride forms an oversaturated state according to the progress of the reaction, and then, the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is precipitated.

Description

本発明はアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を純度良く製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride with high purity.

近年電子機器における耐熱絶縁材料として、ポリイミドの重要性が益々高まっている。ポリイミドは優れた耐熱性のみならず、耐薬品性、耐放射線性、電気絶縁信頼性、優れた機械的性質などの特性を併せ持つことから、フレキシブルプリント配線用基材、テープオートメーションボンディング回路基材、チップオンフィルム回路基材、光導波路材料、半導体素子の保護膜、多層回路における層間絶縁膜等、様々な用途に現在広く利用されている。ポリイミドはモノマーを変更することで物性改良を行いやすく、近年益々多様化する要求特性に対応しやすいという点においても有利である。   In recent years, the importance of polyimide as a heat-resistant insulating material in electronic devices has been increasing. Polyimide has not only excellent heat resistance, but also chemical resistance, radiation resistance, electrical insulation reliability, excellent mechanical properties, etc., so flexible printed wiring substrates, tape automation bonding circuit substrates, Currently, it is widely used in various applications such as chip-on-film circuit substrates, optical waveguide materials, protective films for semiconductor elements, and interlayer insulating films in multilayer circuits. Polyimide is advantageous in that it is easy to improve the physical properties by changing the monomer, and it is easy to meet the increasingly demanded characteristics in recent years.

近年多層配線化が進むにつれて、層間絶縁膜の要求特性として低線熱膨張特性が重要になりつつある。配線層上に形成されたポリイミド前駆体膜をイミド化する際、イミド化温度から室温へ冷却する過程で発生する熱応力は、金属配線層と膜の部分的剥離、割れ、CMP耐性の低下等、電気的信頼性上の深刻な問題を引き起こす恐れがあるため、熱応力をできるだけ低減する必要がある。   In recent years, with the progress of multilayer wiring, low linear thermal expansion characteristics are becoming important as required characteristics of interlayer insulating films. When the polyimide precursor film formed on the wiring layer is imidized, the thermal stress generated in the process of cooling from the imidization temperature to room temperature is caused by partial peeling of the metal wiring layer and the film, cracking, degradation of CMP resistance, etc. It is necessary to reduce the thermal stress as much as possible because it may cause a serious problem in electrical reliability.

また、イオンマイグレーションを抑制するという観点から、ポリイミドワニスを使用してこれを塗布・乾燥し層間絶縁膜を形成することが好ましいが、室温で安定なポリイミドワニスとするためには、ポリイミドが汎用の揮発性有機溶媒に対して室温で高い溶解性を有することが必要となる。   From the viewpoint of suppressing ion migration, it is preferable to use a polyimide varnish to coat and dry it to form an interlayer insulating film. In order to obtain a polyimide varnish that is stable at room temperature, polyimide is a general-purpose material. It is necessary to have a high solubility at room temperature in a volatile organic solvent.

これら上記の問題点を解決するポリイミドとして特定のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物とジアミンを有するポリアミドイミドが開示されている(特許文献1)。   A polyamideimide having a specific amide group-containing tetracarboxylic dianhydride and a diamine is disclosed as a polyimide for solving these problems (Patent Document 1).

特開2010−106225号公報JP 2010-106225 A

本発明者等の検討によると、ポリイミドの分子量が変化するとCTEや有機溶媒への溶解性が変化することが明らかとなった。また、重合によって得られるポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の分子量はジアミンと酸二無水物の化学純度が大きく影響することも分かった。特に、低純度の酸二無水物は不純物を含んでおり、重合にバラつきを与える原因となるため、安定的に良品質なポリマーを得るためには化学純度の高い酸二無水物を重合に用いる必要がある。   According to the study by the present inventors, it has been clarified that the solubility in CTE or organic solvent changes when the molecular weight of polyimide changes. It was also found that the molecular weight of polyamic acid, which is a polyimide precursor obtained by polymerization, is greatly influenced by the chemical purity of diamine and acid dianhydride. In particular, low-purity acid dianhydrides contain impurities and cause variations in the polymerization. Therefore, in order to stably obtain a good quality polymer, acid dianhydrides with high chemical purity are used for the polymerization. There is a need.

そこで本発明では、特定のモノマーを高純度で簡便に製造する方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a method for easily producing a specific monomer with high purity.

ジカルボン酸無水物含有酸クロライドとジアミンを溶液中で反応して、アミド基含有テトラカルボン酸二無水物を製造する方法において、反応の進行によってアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の反応溶液が過飽和状態を形成し、その後にアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を析出するアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。これによれば、反応終了時に系がすでに過飽和状態になっていることで簡便に、しかも析出時の不純物を低減出来ることから高純度のモノマーを製造することができる。   In a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride by reacting a dicarboxylic acid anhydride-containing acid chloride and a diamine in a solution, the reaction solution of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is supersaturated as the reaction proceeds. Provided is a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride that forms a state and then precipitates an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride. According to this, since the system is already supersaturated at the end of the reaction, impurities at the time of precipitation can be easily reduced, and thus a high-purity monomer can be produced.

また、アミド化反応を−50℃以上、40℃以下で行うことを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   In addition, the present invention provides a method for producing the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, wherein the amidation reaction is performed at −50 ° C. or higher and 40 ° C. or lower.

また、反応溶液を構成する溶媒が酢酸エチルを含むこと、更には酢酸エチルであることを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   In addition, the present invention provides a method for producing the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, characterized in that the solvent constituting the reaction solution contains ethyl acetate, and further ethyl acetate.

また、前記ジカルボン酸無水物含有酸クロライドが芳香環を有することを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   Moreover, the manufacturing method of the said amide group containing tetracarboxylic dianhydride characterized by the said dicarboxylic anhydride containing acid chloride having an aromatic ring was provided.

また、前記ジカルボン酸無水物含有酸クロライドがトリメリット酸無水物クロライドであることを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   Further, the present invention provides a method for producing the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, wherein the dicarboxylic anhydride-containing acid chloride is trimellitic anhydride chloride.

また、前記ジアミンが芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンであることを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   In addition, the present invention provides a method for producing the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, wherein the diamine is an aromatic diamine or an aliphatic diamine.

また、前記ジアミンが2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(以下TFMBと称する)であることを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   Further, the present invention provides a method for producing the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, characterized in that the diamine is 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (hereinafter referred to as TFMB).

また、前記アミド化反応後に反応溶媒よりもアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の溶解度が低い溶媒を添加することを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   Further, the present invention provides a method for producing the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, characterized in that a solvent having a lower solubility of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride than the reaction solvent is added after the amidation reaction.

また、前記析出操作後に得られたアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を反応溶媒より溶解性の低い溶媒に加えて加熱した後に濾別する工程を含む前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   Further, the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride obtained by adding the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride obtained after the precipitation operation to a solvent having a lower solubility than the reaction solvent and heating and then separating the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride. A manufacturing method was provided.

また、前記アミド化反応において過飽和状態を形成した際にアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の濃度が0.15mmol/ml以上であることを特徴とする前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法を提供した。   The amide group-containing tetracarboxylic dianhydride has a concentration of 0.15 mmol / ml or more when a supersaturated state is formed in the amidation reaction. A manufacturing method was provided.

本発明のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法によれば、高純度のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を、簡便に製造することができる。   According to the method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride of the present invention, a highly pure amide group-containing tetracarboxylic dianhydride can be easily produced.

ジカルボン酸無水物含有酸クロライドとジアミンを溶液中で反応して、アミド基含有テトラカルボン酸二無水物を製造する方法において、反応の進行によってアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の反応溶液が過飽和状態を形成し、その後にアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を析出するアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法に関するものである。これによれば、反応終了時に系がすでに過飽和状態かつ均一になっていることで簡便に生成物を分離することが出来る。しかも過飽和状態を経由することで温和に析出させることが出来るので、結晶中に不純物を取り込むことが少なく、高純度のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を製造することができる。   In a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride by reacting a dicarboxylic acid anhydride-containing acid chloride and a diamine in a solution, the reaction solution of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is supersaturated as the reaction proceeds. The present invention relates to a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride in which a state is formed and thereafter an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is precipitated. According to this, the product can be easily separated because the system is already supersaturated and uniform at the end of the reaction. Moreover, since it can be gently precipitated by passing through the supersaturated state, impurities are hardly taken into the crystal, and a highly pure amide group-containing tetracarboxylic dianhydride can be produced.

本発明で使用するジカルボン酸無水物含有酸クロライドとしては、特に限定されないが、例えば無水トリメリット酸クロライドが好適に用いることができる。   Although it does not specifically limit as a dicarboxylic anhydride containing acid chloride used by this invention, For example, a trimellitic anhydride chloride can be used suitably.

本発明で使用するジアミンとしては、特に限定されないが、p−フェニレンジアミン、2−メチル−1,4−フェニレンジアミン、2−トリフルオロメチル−1,4−フェニレンジアミン、2−メトキシ−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジメチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ビス(トリフルオロメチル)−1,4−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、2,4−ジアミノデュレン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−メチレンビス(2−メチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2−エチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジエチルアニリン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、2,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、ベンジジン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、o−トリジン、m−トリジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3,3’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、オクタフルオロベンジジン、3,3’,5,5’−テトラメチルベンジジン、2,2’,5,5’−テトラクロロベンジジン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、p−ターフェニレンジアミン等が挙げられ__が好適に用いることができる。   The diamine used in the present invention is not particularly limited, but p-phenylenediamine, 2-methyl-1,4-phenylenediamine, 2-trifluoromethyl-1,4-phenylenediamine, 2-methoxy-1,4. -Phenylenediamine, 2,5-dimethyl-1,4-phenylenediamine, 2,5-bis (trifluoromethyl) -1,4-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5 -Diaminotoluene, 2,4-diaminoxylene, 2,4-diaminodurene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-methylenebis (2-methylaniline), 4,4'-methylenebis (2-ethylaniline) ), 4,4′-methylenebis (2,6-dimethylaniline), 4,4′-methylenebis (2,6-die) Ruaniline), 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 2,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl sulfone, 3,3′-diamino Diphenylsulfone, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzanilide, benzidine, 3,3′-dihydroxybenzidine, 3,3′-dimethoxybenzidine, 3,3 ′ -Dichlorobenzidine, o-tolidine, m-tolidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 3,3'-bis (trifluoromethyl) benzidine, octafluorobenzidine, 3,3 ', 5,5 '-Tetramethylbenzidine, 2,2', 5,5 ' Tetrachlorobenzidine, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis ( 4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl ) Propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, p-terphenylenediamine, etc. It can be used suitably.

通常、本発明で過飽和状態を達成するためには反応終了時点でのアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の濃度が飽和濃度を上回る様に仕込み時に溶媒の量を制御することとなる。ただし、反応物であるジカルボン酸無水物含有酸クロライドとジアミンの両者を全量添加した際に溶解していることが望ましい。   Usually, in order to achieve a supersaturated state in the present invention, the amount of the solvent is controlled at the time of charging so that the concentration of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride at the end of the reaction exceeds the saturated concentration. However, it is desirable that the reactant is dissolved when both the dicarboxylic anhydride-containing acid chloride and the diamine are added.

前記アミド化反応について説明する。ジカルボン酸無水物含有酸クロライドのジアミンに対する添加量はどのような比率でも良いが、生成物の化学純度を鑑みると2倍以上が望ましい。さらに、副生成物を巻き込んで析出しない様にするためには、ジカルボン酸無水物含有酸クロライドのジアミンに対する添加量の比は2〜2.5倍が好ましい。   The amidation reaction will be described. The addition amount of the dicarboxylic acid anhydride-containing acid chloride with respect to the diamine may be any ratio, but is preferably twice or more in view of the chemical purity of the product. Furthermore, in order to prevent the by-product from being entrained and deposited, the ratio of the amount of the dicarboxylic anhydride-containing acid chloride to the diamine is preferably 2 to 2.5 times.

本発明で使用する反応溶媒としては、アミド基含有テトラカルボン酸二無水物を製造する方法において、反応終了時点でアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の濃度が飽和濃度を越える溶媒であれば各種溶剤を使用することができる。例えば、酢酸エチル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ピコリン、ピリジン、アセトン、クロロホルム、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド(以下DMAcと称する)、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド(以下DMFと称する)、ヘキサメチルホスホルアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,2−ジメトキシエタン−ビス(2−メトキシエチル)エーテル等の非プロトン性溶媒、n−ヘプタン、ヘキサン、ペンタン、およびフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、p−クロロフェノール等のプロトン性溶媒が挙げられる。また、これらの溶媒を単独でも、2種類以上混合して用いてもよい。反応後の処理のしやすさおよび原料の溶解性の観点から酢酸エチルが好適に用いられる。   As the reaction solvent used in the present invention, in the method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, various solvents can be used as long as the concentration of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride exceeds the saturation concentration at the end of the reaction. Solvents can be used. For example, ethyl acetate, tetrahydrofuran (THF), 1,4-dioxane, picoline, pyridine, acetone, chloroform, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N- Dimethylacetamide (hereinafter referred to as DMAc), N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF), hexamethylphosphoramide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2- Aprotic solvents such as imidazolidinone, 1,2-dimethoxyethane-bis (2-methoxyethyl) ether, n-heptane, hexane, pentane, and phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, o -Chlorophenol, m- Examples include protic solvents such as chlorophenol and p-chlorophenol. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Ethyl acetate is preferably used from the viewpoint of ease of treatment after the reaction and solubility of the raw materials.

本発明の反応溶液におけるアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の過飽和状態を安定的に形成する点で、過飽和状態形成時のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の濃度は0.15mmol/ml以上であることが好ましい。また過飽和状態を形成するために一度加温した後に冷却する、あるいは加温した後に貧溶媒を加えて冷却する方法を用いても良い。   The concentration of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride during the formation of the supersaturated state is 0.15 mmol / ml or more in that the supersaturated state of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride in the reaction solution of the present invention is stably formed. It is preferable that In order to form a supersaturated state, a method of cooling after heating once, or a method of cooling by adding a poor solvent after heating may be used.

本発明のアミド化反応終了後にアミド基含有テトラカルボン酸二無水物が過飽和状態を安定的に形成するために、−50℃以上、さらに−30℃以上で行うことが好ましい。また、副反応を避けるために、40℃以下、さらに30℃以下で行うことが好ましい。また、上記範囲では、前記反応が素早く完結し、さらに操作が簡便になるという点で、20℃での反応が特に好ましい。   In order for the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride to stably form a supersaturated state after completion of the amidation reaction of the present invention, it is preferably carried out at −50 ° C. or higher, more preferably −30 ° C. or higher. Moreover, in order to avoid a side reaction, it is preferable to carry out at 40 degrees C or less and also 30 degrees C or less. Moreover, in the said range, the reaction at 20 degreeC is especially preferable at the point that the said reaction is completed quickly and operation becomes easy.

本発明ではアミド化反応で生じる塩酸が副反応を引き起こす可能性があるため、脱酸剤を用いることが好ましい。脱酸剤としてはプロピレンオキサイドの他に、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチルアミノピリジンなどの3級アミンを好適に用いることが出来る。副反応の抑制や、塩の除去の容易さからプロピレンオキサイドが特に好適に用いられる。   In the present invention, it is preferable to use a deoxidizing agent because hydrochloric acid generated in the amidation reaction may cause a side reaction. In addition to propylene oxide, tertiary amines such as pyridine, triethylamine, diisopropylethylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-dimethylaminopyridine can be suitably used as the deoxidizer. Propylene oxide is particularly preferably used because of the suppression of side reactions and the ease of salt removal.

前記アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の析出後は、収率をさらに向上させるためにアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の溶解性の低い溶媒を添加しても良い。一度過飽和状態を経由することで純度の高いアミド基含有テトラカルボン酸二無水物が得られているため、その後溶解度の低い溶媒を加えてさらに系からアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を析出させたとしても化学純度を低下させることは少ない。アミド基含有テトラカルボン酸二無水物の溶解度の低い溶媒としてはn−ヘプタン、ヘキサン、ペンタン、トルエンなどの炭化水素系有機溶媒を挙げることができ、これらを好適に用いることが出来る。   After precipitation of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, a solvent having low solubility of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride may be added to further improve the yield. Since a highly pure amide group-containing tetracarboxylic dianhydride has been obtained once through a supersaturated state, a solvent with low solubility is then added to further precipitate the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride from the system. Even if this is the case, there is little reduction in chemical purity. Examples of the solvent having low solubility of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride include hydrocarbon organic solvents such as n-heptane, hexane, pentane, and toluene, and these can be preferably used.

前記アミド化反応により得られたアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の分離および精製について説明する。反応終了後に析出物を濾別し、反応溶媒よりアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の溶解度が低い溶媒により洗浄することで、不純物や副生成物、脱酸剤と塩酸により形成された塩などを除去することが出来る。また、最後に生成物を30〜160℃で1〜24時間真空乾燥することで、高純度の乾燥アミド基含有テトラカルボン酸二無水物を得ることができる。尚、乾燥速度を考慮すると120℃以上で真空乾燥することが望ましい。   The separation and purification of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride obtained by the amidation reaction will be described. After completion of the reaction, the precipitate is filtered off and washed with a solvent having a lower solubility of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride than the reaction solvent, so that impurities, by-products, salts formed with deoxidizer and hydrochloric acid, etc. Can be removed. Finally, the product is vacuum-dried at 30 to 160 ° C. for 1 to 24 hours, whereby a highly purified amide group-containing tetracarboxylic dianhydride can be obtained. In consideration of the drying speed, it is desirable to vacuum dry at 120 ° C. or higher.

前記析出操作後に得られたアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を、反応溶媒より溶解性の低い溶媒に加えて加熱した後に濾別することで、より純度の高いアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を得ることも出来る。また、この操作によりアミド基含有テトラカルボン酸二無水物が開環したアミド基含有テトラカルボン酸を再閉環することが出来る。前記加熱操作で用いる溶媒はアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の溶解性が反応溶媒より低いものであれば各種溶媒を使用することが出来るが、酢酸エチル、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ピコリン、ピリジン、アセトン、クロロホルム、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド(以下DMAcと称する)、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド(以下DMFと称する)、ヘキサメチルホスホルアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,2−ジメトキシエタン−ビス(2−メトキシエチル)エーテル等の非プロトン性溶媒、n−ヘプタン、ヘキサン、ペンタン、およびフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、p−クロロフェノール等のプロトン性溶媒、酢酸、無水酢酸、トルエンなどを好適に使用することができる。尚、これらの溶媒は単独でも2種類以上混合して用いても良い。特に無水酢酸とトルエンの混合溶媒中で加熱した後に濾別することで効率良く精製することが出来る。   The amide group-containing tetracarboxylic dianhydride obtained after the precipitation operation is added to a solvent having a lower solubility than the reaction solvent, heated and then separated by filtration, whereby a higher purity amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is obtained. You can also get things. Further, by this operation, the amide group-containing tetracarboxylic acid opened by the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride can be reclosed. As the solvent used in the heating operation, various solvents can be used as long as the solubility of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is lower than that of the reaction solvent, but ethyl acetate, tetrahydrofuran (THF), 1,4- Dioxane, picoline, pyridine, acetone, chloroform, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide (hereinafter referred to as DMAc), N, N-diethyl Acetamide, N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF), hexamethylphosphoramide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,2-dimethoxyethane-bis (2 -Aprotic solvent such as -methoxyethyl) ether, Protic solvents such as n-heptane, hexane, pentane, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, o-chlorophenol, m-chlorophenol, p-chlorophenol, acetic acid, acetic anhydride, toluene, etc. Can be preferably used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. In particular, it can be purified efficiently by heating in a mixed solvent of acetic anhydride and toluene followed by filtration.

本発明の製造方法で製造したアミド基含有テトラカルボン酸二無水物は各種ポリイミドの重合に用いることが出来る。   The amide group-containing tetracarboxylic dianhydride produced by the production method of the present invention can be used for polymerization of various polyimides.

以下、本発明の実験例を示して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。以下の例における物性値は次の方法により測定した。   Hereinafter, although an experimental example of the present invention will be shown and described, the present invention is not limited to this. The physical property values in the following examples were measured by the following methods.

<HPLC>
WATERS2690を用いて分析を行い、検出器にはWATERS996を用いた。カラムはDAISOPAK SP−200−5−ODS−BP 250mm×4.6mm、プレカラムはDAISOPAK SP−200−5−ODS―BP 35mm×4.6mmを用いた。カラム温度は40℃、検出波長は254nm、流速は1ml/minに設定した。溶離液はメタノール/蒸留水/トリフルオロ酢酸=600/400/1(体積比)。サンプルは約0.05wt%となる様にメタノールに溶解させ30分撹拌して調整した。検出波長は254nmとし、吸光から化学純度を決定した。
<HPLC>
Analysis was performed using WATERS2690, and WATERS996 was used as a detector. DAISOPAK SP-200-5-ODS-BP 250 mm × 4.6 mm was used as the column, and DAISOPAK SP-200-5-ODS-BP 35 mm × 4.6 mm was used as the precolumn. The column temperature was set to 40 ° C., the detection wavelength was set to 254 nm, and the flow rate was set to 1 ml / min. The eluent is methanol / distilled water / trifluoroacetic acid = 600/400/1 (volume ratio). The sample was dissolved in methanol and adjusted by stirring for 30 minutes so that the concentration was about 0.05 wt%. The detection wavelength was 254 nm and the chemical purity was determined from the absorbance.

<赤外吸収スペクトル>
フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光社製FT−IR5300)を用い、KBr法にて本発明のテトラカルボン酸二無水物の赤外線吸収スペクトルを測定した。また透過法にて本発明のポリイミドの薄膜(5μm厚)の赤外線吸収スペクトルを測定した。
<Infrared absorption spectrum>
The infrared absorption spectrum of the tetracarboxylic dianhydride of the present invention was measured by the KBr method using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR5300 manufactured by JASCO Corporation). Further, an infrared absorption spectrum of the polyimide thin film (5 μm thickness) of the present invention was measured by a transmission method.

<NMR>
日本電子社製NMR分光光度計(ECP400)を用いて重水素化ジメチルスルホキシド中でテトラカルボン酸二無水物のH−NMRスペクトルを測定した。
<NMR>
A 1 H-NMR spectrum of tetracarboxylic dianhydride was measured in deuterated dimethyl sulfoxide using a JEOL NMR spectrophotometer (ECP400).

<DSC>
テトラカルボン酸二無水物の融点および融解曲線は、ブルカーエイエックス社製示差走査熱量分析装置(DSC3100)を用いて、窒素雰囲気中、昇温速度5℃/分で測定した。
<DSC>
The melting point and melting curve of tetracarboxylic dianhydride were measured using a differential scanning calorimeter (DSC3100) manufactured by Bruker Ax in a nitrogen atmosphere at a heating rate of 5 ° C./min.

(実施例1)
式(1)で表されるアミド基含有テトラカルボン酸二無水物(以下TATFMBと称する)をTFMBとトリメリット酸無水物クロライドより合成した。セパラブルフラスコにトリメリット酸無水物クロライド42.44g(201.54mmol)を入れ、酢酸エチル84.79gを加えて溶解し、溶液Aを調整した。他方で別のセパラブルフラスコにTFMB29.34g(91.62mmol)を入れ、酢酸エチル88.02gと脱酸剤としてプロピレンオキサイド10.65gを加えて溶解し、溶液Bを調整した。
Example 1
An amide group-containing tetracarboxylic dianhydride (hereinafter referred to as TATFMB) represented by the formula (1) was synthesized from TFMB and trimellitic anhydride chloride. Solution 44 was prepared by adding 42.44 g (201.54 mmol) of trimellitic anhydride chloride to a separable flask and adding 84.79 g of ethyl acetate to dissolve. On the other hand, 29.34 g (91.62 mmol) of TFMB was placed in another separable flask, and 88.02 g of ethyl acetate and 10.65 g of propylene oxide as a deoxidizer were added and dissolved to prepare Solution B.

Figure 2013028578
Figure 2013028578

反応容器を10℃となる様に恒温槽で調製し、溶液Aに溶液Bを1時間かけて滴下した。滴下終了時点では系内は溶解度の限界を超えているにもかかわらず均一であり、さらに撹拌を30分続けることで結晶が析出した。その後内温が20℃になる様に昇温し、2時間熟成した。その後反応容器にn−ヘプタン129.68gを加え、1時間撹拌した後に濾別し、白色の生成物を得た。この白色生成物を酢酸エチル84.79gとn−ヘプタン58.68gの混合溶液で洗浄することで副生成物を除去し、120℃の真空オーブンで乾燥を行い、粗結晶を54.66g取得した(収率89.25%)。   The reaction vessel was prepared in a thermostatic bath so as to be 10 ° C., and the solution B was added dropwise to the solution A over 1 hour. At the end of dropping, the system was uniform despite exceeding the solubility limit, and further, stirring was continued for 30 minutes to precipitate crystals. Thereafter, the temperature was raised so that the internal temperature became 20 ° C., and aging was performed for 2 hours. Thereafter, 129.68 g of n-heptane was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred for 1 hour and then filtered to obtain a white product. By-product was removed by washing this white product with a mixed solution of 84.79 g of ethyl acetate and 58.68 g of n-heptane, and dried in a vacuum oven at 120 ° C. to obtain 54.66 g of crude crystals. (Yield 89.25%).

これを無水酢酸50.08gとトルエン497gの混合溶媒に加え、110℃に加温して3時間加熱撹拌した。反応容器を10℃まで冷却し、白色の結晶を濾別した後に、トルエン50.01gを用いて洗浄し、120℃のオーブンで12時間乾燥することで目的のTATFMBを49.19g取得した(総収率80.33%)。   This was added to a mixed solvent of 50.08 g of acetic anhydride and 497 g of toluene, heated to 110 ° C. and stirred for 3 hours. The reaction vessel was cooled to 10 ° C., white crystals were filtered off, washed with 50.01 g of toluene, and dried in an oven at 120 ° C. for 12 hours to obtain 49.19 g of the target TATFMB (total) Yield 80.33%).

得られたTATFMBの化学純度を表1に示した。   The chemical purity of the obtained TATFMB is shown in Table 1.

Figure 2013028578
Figure 2013028578

生成物の確認はFT−IRとNMRにより行った。
FT−IR: 3378cm−1(アミド基NH伸縮振動)、3108cm−1(芳香族C−H伸縮振動)、1858cm−1、1782cm−1(酸無水物基C=O伸縮振動)、676cm−1(アミド基C=O伸縮振動)
1H−NMR: δ11.06ppm(s、NH、2H)、δ8.65ppm(s、フタルイミド上、3位CaromH、2H)、δ8.37ppm(フタルイミド上、5および6位CaromH、4H)、δ7.46ppm(d、中央ビフェニル上、6および6’位CaromH、2H)、δ8.13ppm(d、中央ビフェニル上、5および5’位CaromH、2H)、δ8.27ppm(s、中央ビフェニル上、3および3’位CaromH、2H)
DSC:融点267℃
The product was confirmed by FT-IR and NMR.
FT-IR: 3378 cm −1 (amide group NH stretching vibration), 3108 cm −1 (aromatic C—H stretching vibration), 1858 cm −1, 1782 cm −1 (acid anhydride group C═O stretching vibration), 676 cm −1 (Amido group C = O stretching vibration)
1H-NMR: δ 11.06 ppm (s, NH, 2H), δ 8.65 ppm (s, on phthalimide, 3-position CaromH, 2H), δ 8.37 ppm (on phthalimide, 5- and 6-position CaromH, 4H), δ 7.46 ppm (D, 6 and 6'-position CaromH, 2H on central biphenyl), δ 8.13 ppm (d, on central biphenyl, 5 and 5'-position CaromH, 2H), δ 8.27 ppm (s, on central biphenyl, 3 and 3 'Position CaromH, 2H)
DSC: melting point 267 ° C.

(実施例2)
反応容器の温度を−20℃とする以外は実施例1と同一の方法で合成を行った。滴下終了時点では均一であり、実施例1と同様過飽和状態を形成した。その後の精製操作も実施例1と同様に行ったところ、TATFMB49.02gを取得した(収率80.05%)。
(Example 2)
The synthesis was performed in the same manner as in Example 1 except that the temperature of the reaction vessel was −20 ° C. It was uniform at the end of dropping and formed a supersaturated state as in Example 1. Subsequent purification was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain 49.02 g of TATFMB (yield 80.05%).

得られたTATFMBの化学純度を表1に示した。   The chemical purity of the obtained TATFMB is shown in Table 1.

(実施例3)
n−ヘプタン129.68gを加えて1時間撹拌する工程を行わなかった以外は、実施例1と同一の方法で各工程を行ったところ、TATFMB42.32gを取得した(収率69.11%)。
(Example 3)
Each step was performed in the same manner as in Example 1 except that 129.68 g of n-heptane was added and the step of stirring for 1 hour was not performed. As a result, 42.32 g of TATFMB was obtained (yield 69.11%). .

得られたTATFMBの化学純度を表1に示した。   The chemical purity of the obtained TATFMB is shown in Table 1.

(比較例1)
セパラブルフラスコにトリメリット酸無水物クロライド19.37g(91.98mmol)を入れ、酢酸エチル58.12gを加えて溶解し、溶液Aを調整した。他方で別のセパラブルフラスコにTFMB14.38g(44.91mmol)を入れ、酢酸エチル53.25g、ヘプタン44.73gと脱酸剤としてプロピレンオキサイド5.219gを加えて溶解し、溶液Bを調整した。
(Comparative Example 1)
Solution 37 was prepared by adding 19.37 g (91.98 mmol) of trimellitic anhydride chloride to a separable flask and adding 58.12 g of ethyl acetate to dissolve. On the other hand, 14.38 g (44.91 mmol) of TFMB was placed in another separable flask, and 53.25 g of ethyl acetate and 44.73 g of heptane and 5.219 g of propylene oxide as a deoxidizer were added and dissolved to prepare solution B. .

反応容器を10℃となる様に恒温槽で調製し、溶液Aに溶液Bを1時間かけて滴下した。滴下時から白色結晶が析出し、過飽和状態にはならなかった。その後内温が20℃になる様に昇温し、2時間熟成した。その後反応容器にn−ヘプタン46.01gを加え、1時間撹拌した後に濾別し、白色の生成物を得た。この白色生成物を酢酸エチル41.56gとn−ヘプタン28.76gの混合溶液で洗浄することで副生成物を除去し、120℃の真空オーブンで乾燥を行い、粗結晶を26.67g取得した(収率88.85%)。   The reaction vessel was prepared in a thermostatic bath so as to be 10 ° C., and the solution B was added dropwise to the solution A over 1 hour. White crystals were precipitated from the time of dropping and did not become supersaturated. Thereafter, the temperature was raised so that the internal temperature became 20 ° C., and aging was performed for 2 hours. Thereafter, 46.01 g of n-heptane was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred for 1 hour and then filtered to obtain a white product. By-product was removed by washing this white product with a mixed solution of 41.56 g of ethyl acetate and 28.76 g of n-heptane, followed by drying in a vacuum oven at 120 ° C. to obtain 26.67 g of crude crystals. (Yield 88.85%).

これを無水酢酸24.55gとトルエン243gの混合溶媒に加え、110℃に加温して3時間加熱撹拌した。反応容器を8〜12℃まで冷却し、白色の結晶を濾別した後に、トルエン24.50gを用いて洗浄し、120℃のオーブンで12時間乾燥することで目的のTATFMBを23.90g取得した(総収率79.63%)。   This was added to a mixed solvent of 24.55 g of acetic anhydride and 243 g of toluene, heated to 110 ° C., and heated and stirred for 3 hours. The reaction vessel was cooled to 8-12 ° C., white crystals were filtered off, washed with 24.50 g of toluene, and dried in an oven at 120 ° C. for 12 hours to obtain 23.90 g of the desired TATFMB. (Total yield 79.63%).

得られたTATFMBの化学純度を表1に示した。   The chemical purity of the obtained TATFMB is shown in Table 1.

(比較例2)
反応においてヘプタン44.73gの代わりにトルエン44.73gを用いた以外は比較例1と同一の方法で合成を行った。その際滴下終了時点ですでに白色結晶が析出していた。その後の精製操作は比較例1と同様に行ったところ、目的のTATFMBを13.52g取得した(収率45.05%)。
(Comparative Example 2)
Synthesis was performed in the same manner as in Comparative Example 1 except that 44.73 g of toluene was used instead of 44.73 g of heptane. At that time, white crystals had already been deposited at the end of dropping. Subsequent purification operations were carried out in the same manner as in Comparative Example 1. As a result, 13.52 g of the target TATFMB was obtained (yield 45.05%).

Claims (10)

ジカルボン酸無水物含有酸クロライドとジアミンを溶液中でアミド化反応して、アミド基含有テトラカルボン酸二無水物を製造する方法において、反応の進行によってアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の反応溶液が過飽和状態を形成し、その後にアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を析出するアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   In a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride by amidating a dicarboxylic acid anhydride-containing acid chloride and a diamine in a solution, a reaction solution of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride as the reaction proceeds Forming a supersaturated state, and then depositing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride, a method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride. アミド化反応を−50℃以上、40℃以下で行うことを特徴とする請求項1記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride according to claim 1, wherein the amidation reaction is performed at -50 ° C or higher and 40 ° C or lower. 前記反応溶液を構成する溶媒が酢酸エチルを含むことを特徴とする請求項1または2のいずれか一項に記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride according to any one of claims 1 and 2, wherein a solvent constituting the reaction solution contains ethyl acetate. 前記ジカルボン酸無水物含有酸クロライドが芳香環を有する請求項1〜3のいずれか一項記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride according to any one of claims 1 to 3, wherein the dicarboxylic anhydride-containing acid chloride has an aromatic ring. 前記ジカルボン酸無水物含有酸クロライドがトリメリット酸無水物クロライドであることを特徴とする請求項4記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   5. The method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride according to claim 4, wherein the dicarboxylic anhydride-containing acid chloride is trimellitic anhydride chloride. 前記ジアミンが芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride according to any one of claims 1 to 5, wherein the diamine is an aromatic diamine or an aliphatic diamine. 前記ジアミンが2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンであることを特徴とする請求項6記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The method for producing an amide group-containing tetracarboxylic dianhydride according to claim 6, wherein the diamine is 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine. 前記アミド化反応後に、反応溶媒よりもアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の溶解度が低い溶媒を添加することを特徴とする請求項1〜7いずれか一項記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The amide group-containing tetracarboxylic acid diester according to any one of claims 1 to 7, wherein a solvent having a lower solubility of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride than the reaction solvent is added after the amidation reaction. Method for producing anhydride. 析出したアミド基含有テトラカルボン酸二無水物を、反応溶媒より溶解性の低い溶媒に加えて加熱した後に濾別する工程を含む請求項1〜8のいずれか一項記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The amide group-containing tetracarboxylic acid according to any one of claims 1 to 8, which comprises a step of adding the precipitated amide group-containing tetracarboxylic dianhydride to a solvent having a lower solubility than the reaction solvent and heating it, followed by filtration. Method for producing acid dianhydride. 前記アミド化反応において過飽和状態を形成した際にアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の濃度が0.15mmol/ml以上であることを特徴とする請求項1〜9いずれか一項記載のアミド基含有テトラカルボン酸二無水物の製造方法。   The amide group according to any one of claims 1 to 9, wherein a concentration of the amide group-containing tetracarboxylic dianhydride is 0.15 mmol / ml or more when a supersaturated state is formed in the amidation reaction. A method for producing a containing tetracarboxylic dianhydride.
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