JP6103992B2 - Polyimide - Google Patents

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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

本発明は、新規のポリイミド、その前駆体となるポリアミック酸、並びに、前記ポリイミド及びポリアミック酸の製造方法に関する。   The present invention relates to a novel polyimide, a polyamic acid as a precursor thereof, and a method for producing the polyimide and the polyamic acid.

ポリイミドは、耐熱性や機械特性に優れることから、エレクトロニクス分野で幅広く使用されている。従来、ポリイミドは溶媒に溶けないことが多いため、一般に、前駆体のポリアミド酸(ポリアミック酸)の溶液を基材に塗布し、250℃以上という高温で加熱することにより、溶媒の除去およびイミド化を行うことで成形(フィルム化)されていた。しかしながら、この方法には、高温での加熱により、基材や周辺材料が劣化する場合があるという欠点があった。そのため、より低温での成形が可能となるよう、溶媒に可溶なポリイミドが求められていた。   Polyimide is widely used in the electronics field because of its excellent heat resistance and mechanical properties. Conventionally, polyimide is often insoluble in a solvent, so in general, a solution of a precursor polyamic acid (polyamic acid) is applied to a substrate and heated at a high temperature of 250 ° C. or higher to remove the solvent and imidize. The film was formed (made into a film). However, this method has a drawback that the base material and peripheral materials may be deteriorated by heating at a high temperature. Therefore, a polyimide soluble in a solvent has been demanded so that molding at a lower temperature is possible.

ポリイミドを溶媒可溶型にする方法として、主鎖に脂肪族基を導入して柔軟な屈曲構造にする方法が知られている。しかし、この方法を用いた場合、ポリイミドのガラス転移点が下がることでポリイミド本来の特徴である耐熱性が損なわれるという問題があった。例えば、非特許文献1に示されるイソプロピル基含有ポリイミドでは、215℃と低いガラス転移点を示す。   As a method for making polyimide a solvent-soluble type, a method is known in which an aliphatic group is introduced into the main chain to form a flexible bent structure. However, when this method is used, there is a problem that the heat resistance, which is the original characteristic of polyimide, is impaired by lowering the glass transition point of polyimide. For example, the isopropyl group-containing polyimide shown in Non-Patent Document 1 shows a glass transition point as low as 215 ° C.

また、シリコーンジアミンを利用するポリイミドも溶剤可溶性となることが知られている。しかしながら、特許文献1に示されるシリコーン変性ポリイミドのガラス転移点は170から190℃であり、低いガラス転移点となっている。   It is also known that polyimides using silicone diamines are also solvent soluble. However, the glass transition point of the silicone-modified polyimide disclosed in Patent Document 1 is 170 to 190 ° C., which is a low glass transition point.

そのほか、嵩高い構造を有するポリイミドも、ポリマー間の凝集を抑え、溶剤可溶性を高めることが知られている。例えば、非特許文献2では、テトラフェニル基を持つポリイミドが開示されている。しかしながら、このようなポリイミドの原料は工業的に入手が困難という問題があった。   In addition, it is known that polyimide having a bulky structure also suppresses aggregation between polymers and enhances solvent solubility. For example, Non-Patent Document 2 discloses a polyimide having a tetraphenyl group. However, such a polyimide raw material has a problem that it is difficult to obtain industrially.

特開平5−112760号公報JP-A-5-112760

機能材料, vol.19, 1989, p.14Functional materials, vol.19, 1989, p.14 Polym. J., vol.29, 1994, p.273Polym. J., vol.29, 1994, p.273

本発明は、上記現状に鑑み、高い耐熱性を維持しながら、溶剤溶解性に優れたポリイミドを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the polyimide excellent in solvent solubility, maintaining high heat resistance in view of the said present condition.

本発明者らが鋭意検討した結果、ポリイミドを合成する際に使用するジアミン成分の全部又は一部として、アンヒドロヘキシトール型ジアミン成分を使用することによって、溶媒溶解性に優れ、高い耐熱性を示すポリイミドを合成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies by the present inventors, the use of an anhydrohexitol-type diamine component as all or part of the diamine component used when synthesizing a polyimide results in excellent solvent solubility and high heat resistance. The present inventors have found that a polyimide showing can be synthesized and have completed the present invention.

すなわち本発明は、以下の一般式(I)で表わされるポリアミック酸を脱水閉環することで形成されるポリイミドである。   That is, the present invention is a polyimide formed by dehydrating and ring-closing the polyamic acid represented by the following general formula (I).

Figure 0006103992
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[式中、Aの全てまたは一部が、以下の式(II)で表わされる基であり; Wherein all or part of A is a group represented by the following formula (II);

Figure 0006103992
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ここで、式(II)中の環上の水素原子の一部または全ては置換されていてもよく;
は、以下の式(III)で表わされる基であり;
Wherein some or all of the hydrogen atoms on the ring in formula (II) may be substituted;
B 1 is a group represented by the following formula (III);

Figure 0006103992
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は、Hであるか、または、以下の一般式(IV)、(V)もしくは(VI)で表わされる基であり; B 2 is H or a group represented by the following general formula (IV), (V) or (VI);

Figure 0006103992
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Figure 0006103992
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Figure 0006103992
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ここで、Dは、テトラカルボン酸残基であり;
は、ジカルボン酸残基であり;
nは、1〜200の整数である。]
また、本発明は、前記ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸にも関する。
Where D 1 is a tetracarboxylic acid residue;
D 2 is a dicarboxylic acid residue;
n is an integer of 1 to 200. ]
The present invention also relates to a polyamic acid that is a precursor of the polyimide.

さらに本発明は、ポリアミック酸の製造方法であって、
以下の式(VII)で表わされる化合物または以下の式(VII)で表わされる化合物と他のジアミンとの混合物と、以下の一般式(VIII)で表わされる化合物とを反応させるアミド化工程を含む、製造方法にも関する。
Furthermore, the present invention is a method for producing a polyamic acid,
An amidation step of reacting a compound represented by the following formula (VII) or a mixture of a compound represented by the following formula (VII) and another diamine with a compound represented by the following general formula (VIII): Also related to the manufacturing method.

Figure 0006103992
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[式中、環上の水素原子の一部または全ては置換されていてもよい] [Wherein, some or all of the hydrogen atoms on the ring may be substituted]

Figure 0006103992
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[式中、Dは、テトラカルボン酸残基である]
前記製造方法では、前記アミド化工程において、前記式(VII)で表わされる化合物および前記一般式(VIII)で表わされる化合物と、以下の一般式(IX)で表わされる化合物とを同時に反応させるか、または、
前記アミド化工程により得られたポリアミック酸に、以下の一般式(IX)で表わされる化合物をさらに反応させることが好ましい。
[Wherein D 1 is a tetracarboxylic acid residue]
In the production method, the compound represented by the formula (VII) and the compound represented by the general formula (VIII) and the compound represented by the following general formula (IX) are simultaneously reacted in the amidation step. Or
It is preferable to further react the compound represented by the following general formula (IX) with the polyamic acid obtained by the amidation step.

Figure 0006103992
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[式中、Dは、ジカルボン酸残基である]。 [Wherein D 2 is a dicarboxylic acid residue].

さらにまた、本発明は、前記製造方法によりポリアミック酸を得た後、得られたポリアミック酸を脱水閉環する工程を含むことを特徴とする、ポリイミドの製造方法にも関する。   Furthermore, the present invention also relates to a method for producing polyimide, comprising a step of dehydrating and ring-closing the obtained polyamic acid after obtaining the polyamic acid by the above production method.

さらに本発明は、前記ポリイミド、前記ポリアミック酸、前記製造方法により得られるポリアミック酸、および前記製造方法により得られるポリイミドからなる群より選択される少なくとも1つの重合体、ならびに溶剤を含有する、樹脂組成物にも関する。   Furthermore, the present invention provides a resin composition comprising at least one polymer selected from the group consisting of the polyimide, the polyamic acid, the polyamic acid obtained by the production method, and the polyimide obtained by the production method, and a solvent. Also related to things.

また本発明は、前記樹脂組成物から形成された成形品にも関する。   The present invention also relates to a molded article formed from the resin composition.

本発明により提供されるポリイミドは、高い耐熱性を維持しながら、溶剤溶解性に優れたものである。このため、ポリイミドを溶媒に溶かして溶液とすることができ、この溶液を基材に塗布して溶媒の沸点以上という比較的低温に加熱するだけで、ポリイミドのフィルムを当該基材上に形成することができる。このように低温でのフィルム化が可能であるため、基材や周辺材料が熱劣化するのを回避することが可能となる。   The polyimide provided by the present invention is excellent in solvent solubility while maintaining high heat resistance. For this reason, the polyimide can be dissolved in a solvent to form a solution, and the polyimide film is formed on the substrate simply by applying the solution to the substrate and heating it to a relatively low temperature above the boiling point of the solvent. be able to. Since the film can be formed at a low temperature as described above, it is possible to avoid thermal degradation of the base material and peripheral materials.

本発明のポリイミドは、以下の一般式(I)で表わされるポリアミック酸を脱水閉環することで形成されるものである。当該ポリアミック酸はポリイミドの前駆体であり、高温下または脱水剤の存在下で反応させることにより、ポリアミック酸内部のアミド基中のNH基とカルボキシル基(B中のカルボキシル基)が脱水縮合して環を形成することで、ポリイミドが形成される。 The polyimide of the present invention is formed by dehydrating and ring-closing a polyamic acid represented by the following general formula (I). The polyamic acid is a precursor of polyimide, by reacting in the presence of a high temperature or dehydrating agent, NH group and (carboxyl groups in B 1) carboxyl groups in the polyamic acid internal amide group dehydration condensation By forming a ring, polyimide is formed.

Figure 0006103992
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式(I)中、Aの全てまたは一部が、以下の式(II)で表わされる基である。本発明のポリイミドは当該基が含まれるために、高い耐熱性を維持しながら、優れた溶剤溶解性を示すことができるものである。   In the formula (I), all or part of A is a group represented by the following formula (II). Since the polyimide of the present invention contains the group, it can exhibit excellent solvent solubility while maintaining high heat resistance.

Figure 0006103992
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本発明では、複数存在するAの全てが式(II)で表される基であってよい。また、Aの一部が式(II)で表される基であり、残りのAが、従来のポリイミドの合成で使用されるジアミン化合物の残基(ジアミン化合物から2つのアミノ基を除外した残りの基)であってもよい。この時、式(II)で表される基の含有比は、本発明の効果を達成できる限り特に限定されないが、A全体のうち10モル%以上のAが式(II)で表される基であることが好ましい。より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは50モル%以上、特に好ましくは70モル%以上である。なお、複数存在するジアミン化合物の残基は、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。   In the present invention, all of a plurality of A may be groups represented by the formula (II). In addition, a part of A is a group represented by the formula (II), and the remaining A is a residue of a diamine compound used in the synthesis of a conventional polyimide (residue excluding two amino groups from the diamine compound). Group). At this time, the content ratio of the group represented by the formula (II) is not particularly limited as long as the effect of the present invention can be achieved, but 10 mol% or more of A is a group represented by the formula (II). It is preferable that More preferably, it is 30 mol% or more, More preferably, it is 50 mol% or more, Most preferably, it is 70 mol% or more. A plurality of diamine compound residues may be the same or different from each other.

また、本発明の効果を達成できる限りにおいて、式(II)中の環上の水素原子の一部または全ては置換されていてもよい。例えば、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等のC1−20アルキル基等)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3−10シクロアルキル基等)、シクロアルケニル基(シクロペンテル基、シクロヘキセル基等のC3−10シクロアルケニル基等)、複素環基(酸素原子、窒素原子、硫黄原子といったヘテロ原子を含むC2−10複素環基等)、アリール基[フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(トリル基)、ジメチルフェニル基(キシリル基)等)等のC6−10アリール基等]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基等のC6−10アリール−C1−4アルキル基等)、メチレン基、ビニル基、アリル基等の炭化水素基、アルコキシ基(メトキシ基等のC1−4アルコキシ基等)、ヒドロキシル基、ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルキレンオキシ基等)、アシル基(アセチル基等のC1−6アシル基等)、オキシ基、チオキシ基、ホスフィノ基、ハロゲノ基(フルオロ基、クロロ基等)、アミノ基、イミノ基、N−オキシド基、ニトロ基、シアノ基といった置換基でそれぞれ独立して置換されていてもよい。 In addition, as long as the effects of the present invention can be achieved, some or all of the hydrogen atoms on the ring in formula (II) may be substituted. For example, an alkyl group (C 1-20 alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group and t-butyl group), cycloalkyl group (cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) C 3-10 cycloalkyl group, etc.), cycloalkenyl groups (cyclo Pentel group, such as C 3-10 cycloalkenyl groups such as cyclohexylidene cell group), a Hajime Tamaki (an oxygen atom, a nitrogen atom, a hetero atom such as a sulfur atom C 2-10 heterocyclic group, etc.), aryl group [phenyl group, alkyl phenyl group (C 6-10 aryl group such as methylphenyl group (tolyl group), dimethylphenyl group (xylyl group)), etc.], aralkyl Carbon (C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl group such as benzyl group, phenethyl group, etc.), methylene group, vinyl group, allyl group, etc. Hydrogen group, alkoxy group (C 1-4 alkoxy group such as methoxy group), hydroxyl group, hydroxy (poly) alkyleneoxy group (hydroxy (poly) C 2-4 alkyleneoxy group etc.), acyl group (acetyl group) C 1-6 acyl group such as oxy group, thioxy group, phosphino group, halogeno group (fluoro group, chloro group, etc.), amino group, imino group, N-oxide group, nitro group, cyano group Each may be independently substituted.

また、式(I)中のBは、以下の式(III)で表わされる基である。 B 1 in the formula (I) is a group represented by the following formula (III).

Figure 0006103992
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当該式(III)で、Dは、テトラカルボン酸残基である。テトラカルボン酸としては、従来のポリイミドの合成で使用されるテトラカルボン酸(例えば無水ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等)が挙げられるが、カルボキシル基を4個有し、これらカルボキシル基が2個の酸無水物基を形成できる化合物であれば特に限定されない。テトラカルボン酸残基とは、テトラカルボン酸から4個のカルボキシル基を除外した残りの基をいう。複数のDは同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the formula (III), D 1 is a tetracarboxylic acid residue. Examples of the tetracarboxylic acid include tetracarboxylic acids (for example, pyromellitic anhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, etc.) used in conventional polyimide synthesis, and have four carboxyl groups, and these carboxyl groups Is not particularly limited as long as it is a compound capable of forming two acid anhydride groups. A tetracarboxylic acid residue means the remaining group which remove | excluded four carboxyl groups from tetracarboxylic acid. A plurality of D 1 may be the same or different.

さらに、式(I)中のBは、Hであるか、または、以下の一般式(IV)、(V)もしくは(VI)で表わされる基である。 Further, B 2 in the formula (I) is H or a group represented by the following general formula (IV), (V) or (VI).

Figure 0006103992
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式(IV)及び(V)中のDは、テトラカルボン酸残基であり、式(III)中のDと同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、式(IV)及び(V)中の複数のDは互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。 D 1 in the formulas (IV) and (V) is a tetracarboxylic acid residue, and may be the same as or different from D 1 in the formula (III). Further, a plurality of D 1 of the formula (IV) and (V) may be the same or may be different from one another.

式(VI)中のDは、ジカルボン酸残基である。ジカルボン酸としては、カルボキシル基を2個有し、これらカルボキシル基が酸無水物基を形成できる化合物であれば特に限定されない。ジカルボン酸残基とは、ジカルボン酸から2個のカルボキシル基を除外した残りの基をいう。複数のDは同一であってもよいし、異なっていてもよい。 D 2 in the formula (VI) is a dicarboxylic acid residue. The dicarboxylic acid is not particularly limited as long as it has two carboxyl groups and these carboxyl groups can form an acid anhydride group. A dicarboxylic acid residue means the remaining group which remove | excluded two carboxyl groups from dicarboxylic acid. A plurality of D 2 may be the same or different.

式(I)中のnは、繰り返し単位の数を表す数字であり、特に限定されないが、例えば、1〜200の整数である。   N in the formula (I) is a number representing the number of repeating units, and is not particularly limited, but is an integer of 1 to 200, for example.

式(I)で表されるポリアミック酸は、一部にイミド結合を持つものであってもよい。   The polyamic acid represented by the formula (I) may partially have an imide bond.

式(I)で表されるポリアミック酸を高温下または脱水剤の存在下に置くことにより、ポリアミック酸内部のアミド基中のNH基とカルボキシル基が脱水縮合して環を形成することで、本発明のポリイミドが形成される。   By placing the polyamic acid represented by the formula (I) at a high temperature or in the presence of a dehydrating agent, the NH group and the carboxyl group in the amide group inside the polyamic acid are dehydrated and condensed to form a ring. The inventive polyimide is formed.

式(I)で表されるポリアミック酸は、以下の式(VII)で表わされる化合物または以下の式(VII)で表わされる化合物と他のジアミンとの混合物と、以下の一般式(VIII)で表わされる化合物とを反応させるアミド化工程を実施することにより製造することが可能である。   The polyamic acid represented by the formula (I) is a compound represented by the following formula (VII) or a mixture of the compound represented by the following formula (VII) and another diamine, and the following general formula (VIII): It can be produced by carrying out an amidation step in which the compound represented is reacted.

Figure 0006103992
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本発明の効果を達成できる限りにおいて、式(VII)中の環上の水素の一部または全ては置換されていてもよい。例えば、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等のC1−20アルキル基等)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3−10シクロアルキル基等)、シクロアルケニル基(シクロペンテル基、シクロヘキセル基等のC3−10シクロアルケニル基等)、複素環基(酸素原子、窒素原子、硫黄原子といったヘテロ原子を含むC2−10複素環基等)、アリール基[フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(トリル基)、ジメチルフェニル基(キシリル基)等)等のC6−10アリール基等]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基等のC6−10アリール−C1−4アルキル基等)、メチレン基、ビニル基、アリル基等の炭化水素基、アルコキシ基(メトキシ基等のC1−4アルコキシ基等)、ヒドロキシル基、ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルキレンオキシ基等)、アシル基(アセチル基等のC1−6アシル基等)、オキシ基、チオキシ基、ホスフィノ基、ハロゲノ基(フルオロ基、クロロ基等)、アミノ基、イミノ基、N−オキシド基、ニトロ基、シアノ基といった置換基でそれぞれ独立して置換されていてもよい。 As long as the effects of the present invention can be achieved, some or all of the hydrogen atoms on the ring in formula (VII) may be substituted. For example, an alkyl group (C 1-20 alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group and t-butyl group), cycloalkyl group (cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) C 3-10 cycloalkyl group, etc.), cycloalkenyl groups (cyclo Pentel group, such as C 3-10 cycloalkenyl groups such as cyclohexylidene cell group), a Hajime Tamaki (an oxygen atom, a nitrogen atom, a hetero atom such as a sulfur atom C 2-10 heterocyclic group, etc.), aryl group [phenyl group, alkyl phenyl group (C 6-10 aryl group such as methylphenyl group (tolyl group), dimethylphenyl group (xylyl group)), etc.], aralkyl Carbon (C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl group such as benzyl group, phenethyl group, etc.), methylene group, vinyl group, allyl group, etc. Hydrogen group, alkoxy group (C 1-4 alkoxy group such as methoxy group), hydroxyl group, hydroxy (poly) alkyleneoxy group (hydroxy (poly) C 2-4 alkyleneoxy group etc.), acyl group (acetyl group) C 1-6 acyl group such as oxy group, thioxy group, phosphino group, halogeno group (fluoro group, chloro group, etc.), amino group, imino group, N-oxide group, nitro group, cyano group Each may be independently substituted.

式(VII)で表される化合物は、例えば、ソルビトールから取得されたイソソルビドが持つ2つの水酸基を、2つのアミノ基に変換することで合成することができる。具体的な合成方法はTetrahedron, 67, 2011, p.383-389に開示されている。本願の実施例で使用したイソソルビドジアミンの構造を以下に示す。   The compound represented by the formula (VII) can be synthesized, for example, by converting two hydroxyl groups of isosorbide obtained from sorbitol into two amino groups. A specific synthesis method is disclosed in Tetrahedron, 67, 2011, p.383-389. The structure of isosorbide diamine used in the examples of the present application is shown below.

Figure 0006103992
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式(VII)で表される化合物と併用可能な他のジアミンとしては特に限定されず、ポリイミドの原料として使用可能な、アミノ基を2個有する化合物であればよく、例えば、芳香族ジアミン、脂環族ジアミン、脂肪族ジアミン等を挙げることができる。芳香族ジアミンとしては、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジアミノジフェニルエスルフィド、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ) ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、4,4−ビス[3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル等が挙げられる。また、脂環族ジアミンとしては、イソホロンジアミン、4,4‘−メチレンビス(4−シクロヘキシルアミン)、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビシクロ[2.2.1]ヘプタンビス(メチルアミン)、1,3−ジアミノアダマンタン、1,3−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(アミノメチル)ベンゼン等が、脂肪族ジアミンとしては、エチレンジアミン、1,4−ジアミノブタン、1,6−ジアミノヘキサン等が挙げられる。このようなジアミンは本発明において使用してもよいし、使用しなくともよいが、使用する場合には、1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The other diamine that can be used in combination with the compound represented by the formula (VII) is not particularly limited, and may be any compound having two amino groups that can be used as a raw material for polyimide. Examples thereof include cyclic diamines and aliphatic diamines. Aromatic diamines include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl esulfide, 4 , 4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2'-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, bis [4- ( 3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- ( 4-Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) Enyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoro Propane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4- Aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4 -(4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminopheno) Shi) benzoyl] benzene, 4,4-bis [3- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenylether, 4,4-bis [3- (3-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether. Examples of the alicyclic diamine include isophorone diamine, 4,4′-methylenebis (4-cyclohexylamine), 1,4-diaminocyclohexane, bicyclo [2.2.1] heptanebis (methylamine), 1,3- Diaminoadamantane, 1,3-bis (aminomethyl) benzene, 1,4-bis (aminomethyl) benzene, etc., and aliphatic diamines include ethylenediamine, 1,4-diaminobutane, 1,6-diaminohexane, etc. Can be mentioned. Such a diamine may or may not be used in the present invention, but when used, only one type may be used or two or more types may be used in combination.

一般式(VIII)で表わされる化合物は、テトラカルボン酸の酸無水物である。本発明で使用できるテトラカルボン酸としては特に限定されず、ポリイミドの原料として使用可能な、酸無水物基を2個有する化合物であればよく、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環族テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,4,3′,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3′,4′−オキシジフタル酸無水物、3,4,3′,4′−オキシジフタル酸無水物、3,4,3′,4′−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、4,4′−ヘキサフルオロイソプロピリデンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。また、脂環族テトラカルボン酸二無水物としては、シクロブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、1−カルボキシメチル−2,3,5−シクロペンタントリカルボン酸−2,6:3,5−二無水物、シクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸二無水物等が、脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。テトラカルボン酸の酸無水物としては1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   The compound represented by the general formula (VIII) is a tetracarboxylic acid anhydride. The tetracarboxylic acid that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any compound having two acid anhydride groups that can be used as a raw material for polyimide. For example, aromatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic ring Aliphatic tetracarboxylic dianhydride, aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the like. Aromatic tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride, 3,4,3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,4,3', 4'-diphenylsulfone tetracarboxylic Acid dianhydride, 3,4,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4 ′ -Oxydiphthalic anhydride, 3,4,3 ', 4'-oxydiphthalic anhydride, 3,4,3', 4'-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,4,3 ', 4' -Tetraphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-hexafluoroisopropylidene tetracarboxylic dianhydride and the like. The alicyclic tetracarboxylic dianhydrides include cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1-carboxymethyl-2,3,5-cyclopentanetricarboxylic acid-2,6. : 3,5-dianhydride, cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride and the like, but as aliphatic tetracarboxylic dianhydride, butane-1,2,3,4-tetra Examples thereof include carboxylic dianhydrides. As an acid anhydride of tetracarboxylic acid, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

ジアミン(式(VII)で表される化合物と他のジアミンの合計)とテトラカルボン酸の酸無水物は実質的に等モルとなるように使用すればよい。これらを有機溶媒中で反応させることでポリアミック酸を合成することができる。   The diamine (the total of the compound represented by the formula (VII) and other diamine) and the tetracarboxylic acid anhydride may be used so as to be substantially equimolar. A polyamic acid can be synthesized by reacting these in an organic solvent.

この際に使用できる有機溶媒としては、ジアミンと酸無水物を溶解できるものであり、例えば、N,N′−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N′−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ヘキサメチルフォスフォラミド(HMPA)等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらは1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。   Examples of the organic solvent that can be used in this case include those capable of dissolving diamine and acid anhydride, such as N, N'-dimethylformamide (DMF), N, N'-dimethylacetamide (DMAc), N-methyl- Examples include aprotic polar solvents such as 2-pyrrolidone (NMP), dimethyl sulfoxide (DMSO), and hexamethylphosphoramide (HMPA). These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

また、ジアミンとテトラカルボン酸の酸無水物を反応させる際には、ジカルボン酸の酸無水物を同時に反応させてもよく、また、ジアミンとテトラカルボン酸の酸無水物を反応させた後に、ジカルボン酸の酸無水物をさらに反応させてもよい。ジカルボン酸の酸無水物は、以下の一般式(IX)で表わされる。このようなジカルボン酸の酸無水物を反応させることで、ポリアミック酸又はポリイミドの末端に、上述した式(VI)で表される基を導入することができる。   In addition, when the diamine and the acid anhydride of the tetracarboxylic acid are reacted, the acid anhydride of the dicarboxylic acid may be reacted at the same time, or after the diamine and the acid anhydride of the tetracarboxylic acid are reacted, An acid anhydride of an acid may be further reacted. The acid anhydride of dicarboxylic acid is represented by the following general formula (IX). By reacting such an acid anhydride of a dicarboxylic acid, the group represented by the above formula (VI) can be introduced into the terminal of the polyamic acid or polyimide.

Figure 0006103992
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以上のようにして得られたポリアミック酸を脱水閉環することによりイミド化を実施し、本発明のポリイミドを得ることができる。脱水閉環は、加熱下または脱水剤の存在下で実施することができる。   The polyimide of the present invention can be obtained by performing imidization by dehydrating and ring-closing the polyamic acid obtained as described above. Dehydration ring closure can be carried out under heating or in the presence of a dehydrating agent.

加熱下でイミド化を行う際の温度としては、従来のイミド化時と同様の温度を適用することができる。例えば、200〜500℃程度であるが、この温度に限定されるものではない。   As temperature at the time of imidation under heating, the same temperature as at the time of conventional imidization can be applied. For example, although it is about 200-500 degreeC, it is not limited to this temperature.

脱水剤の存在下でイミド化を行う場合には、従来のイミド化時と同様、例えば、脱水剤として、無水酢酸、無水プロピオン酸等の有機酸無水物を利用し、触媒として、ピリジン、ピコリン、トリエチルアミン等の有機塩基を併用することができる。イミド化後、脱水剤、触媒塩基を除去してもよい。   When imidation is performed in the presence of a dehydrating agent, as in the case of conventional imidization, for example, an organic acid anhydride such as acetic anhydride or propionic anhydride is used as a dehydrating agent, and pyridine, picoline as a catalyst. An organic base such as triethylamine can be used in combination. After the imidization, the dehydrating agent and the catalyst base may be removed.

本発明のポリイミドまたはポリアミック酸は、これを溶解する溶媒に溶解させることで樹脂組成物を構成することができる。特に本発明のポリイミドは、溶剤溶解性を持つものであるので、ポリイミドの溶液を得ることができ、従来のポリイミドと比較して有利である。   The polyimide or polyamic acid of this invention can comprise a resin composition by making it melt | dissolve in the solvent which melt | dissolves this. In particular, since the polyimide of the present invention has solvent solubility, a polyimide solution can be obtained, which is advantageous as compared with conventional polyimides.

このような樹脂組成物から溶媒を除去することで成形品を製造することができる。具体的には、前記樹脂組成物を基材上に塗布し、その後、溶媒を加熱下又は減圧下除去することにより、基材上にフィルムを形成することができる。ポリアミック酸を含む樹脂組成物の場合、塗布後にイミド化を進行させて、ポリイミドからなる成形品を得るために、基材上の樹脂組成物を、イミド化可能な高温下に置くことが好ましい。一方、ポリイミドを含む樹脂組成物の場合、基材に塗布後、溶媒が揮発するのに必要な温度下に置くだけで、基材上にフィルムを形成することができる。そのため、より低温での成形が可能となり、基材及び周辺部材として、耐熱性の高いものを使用する必要がないという利点がある。   A molded article can be produced by removing the solvent from such a resin composition. Specifically, a film can be formed on a substrate by applying the resin composition onto a substrate and then removing the solvent under heating or reduced pressure. In the case of a resin composition containing a polyamic acid, it is preferable to place the resin composition on the substrate under a high temperature at which imidization is possible in order to proceed with imidization after coating to obtain a molded article made of polyimide. On the other hand, in the case of a resin composition containing polyimide, a film can be formed on a substrate simply by placing it at a temperature necessary for the solvent to volatilize after application to the substrate. Therefore, molding at a lower temperature is possible, and there is an advantage that it is not necessary to use a base material and a peripheral member having high heat resistance.

本発明のポリイミドは、溶剤溶解性を示すことに加えて、高い耐熱性を示すものである。従って、従来のポリイミドの代替品として好適に使用することができる。本発明の樹脂組成物および成形品を使用できる用途としては特に限定されないが、例えば、電子回路材料の絶縁基材、多層配線基板の層間絶縁材料、半導体素子の表層の保護膜、レジスト材料、顔料分散体のバインダー樹脂、塗料およびインキ組成物、各種耐熱性樹脂組成物の添加剤、繊維強化プラスチックのマトリックス樹脂等が挙げられる。   In addition to exhibiting solvent solubility, the polyimide of the present invention exhibits high heat resistance. Therefore, it can be suitably used as a substitute for conventional polyimide. The use of the resin composition and molded product of the present invention is not particularly limited. For example, an insulating base material for electronic circuit materials, an interlayer insulating material for multilayer wiring boards, a protective film for a surface layer of a semiconductor element, a resist material, and a pigment Examples of the binder resin of the dispersion, paints and ink compositions, additives for various heat-resistant resin compositions, and matrix resins for fiber-reinforced plastics.

(ガラス転移温度の測定方法)
JIS K7121に基づき、セイコーインスツル社製 DSC6220により、窒素を毎分50mlで流しながら、毎分20℃の速度で100℃から300℃まで昇温し、ガラス転移温度を測定した。
(Measurement method of glass transition temperature)
Based on JIS K7121, the temperature was raised from 100 ° C. to 300 ° C. at a rate of 20 ° C. per minute while flowing nitrogen at 50 ml per minute using DSC 6220 manufactured by Seiko Instruments Inc., and the glass transition temperature was measured.

(5%重量減少温度の測定方法)
JISK−7210に基づき、セイコーインスツル社 TG/DTA6200により、窒素を毎分100mlで流しながら、毎分10℃の速度で100℃から600℃まで昇温し、初期重量から5%減量した時の温度を測定した。
(Measurement method of 5% weight loss temperature)
Based on JISK-7210, when the temperature was raised from 100 ° C. to 600 ° C. at a rate of 10 ° C./min while flowing nitrogen at 100 ml / min by Seiko Instruments TG / DTA6200, the weight was reduced by 5% from the initial weight. The temperature was measured.

(実施例1:樹脂A)
300mL四つ口フラスコ中に、イソソルビドジアミン14.4gおよびN−メチル−2−ピロリドン144.8gを仕込み、窒素ガスを流入させながら溶解させた。溶解後、撹拌しながら無水ピロメリット酸21.8gを、1時間かけて仕込み、室温で8時間、200℃に加熱して24時間撹拌し、ポリイミドのN−メチル−2−ピロリドン溶液(固形分20%)を得た。得られたポリイミド溶液を1000mlのメタノール中に注ぎ、沈殿したポリイミドをろ過により回収し、200℃にて2時間乾燥させることにより、淡褐色粉末状のポリイミド35gを得た。
(Example 1: Resin A)
In a 300 mL four-necked flask, 14.4 g of isosorbide diamine and 144.8 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved while flowing nitrogen gas. After dissolution, 21.8 g of pyromellitic anhydride was added over 1 hour with stirring, heated at 200 ° C. for 8 hours at room temperature, and stirred for 24 hours to obtain an N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyimide (solid content) 20%). The obtained polyimide solution was poured into 1000 ml of methanol, and the precipitated polyimide was collected by filtration and dried at 200 ° C. for 2 hours to obtain 35 g of a light brown powdery polyimide.

得られたポリイミドについて、ガラス転移温度、および5%重量減少温度を測定した。結果を表1に示す。なお、ガラス転移温度、および5%重量減少温度は耐熱性の指標である。   About the obtained polyimide, the glass transition temperature and the 5% weight loss temperature were measured. The results are shown in Table 1. The glass transition temperature and the 5% weight reduction temperature are indicators of heat resistance.

また、得られたポリイミドについて、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンそれぞれに対する溶解性(ポリイミド20重量%、常温下で攪拌)を確認したところ、いずれの溶媒にも溶解した。   Moreover, about the obtained polyimide, solubility with respect to N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, chloroform, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane (polyimide 20% by weight, normal temperature) As a result, it was dissolved in any solvent.

(実施例2:樹脂B)
300mL四つ口フラスコ中に、イソソルビドジアミン14.4gおよびN−メチル−2−ピロリドン151gを仕込み、窒素ガスを流入させながら溶解させた。溶解後、撹拌しながら無水ピロメリット酸17.4gを、1時間かけて仕込み、室温で8時間撹拌した。その後、無水フタル酸5.9gを1時間かけて仕込み、室温で8時間撹拌した。200℃に加熱して24時間撹拌し、ポリイミドのN−メチル−2−ピロリドン溶液(固形分20%)を得た。得られたポリイミド溶液を1000mlのメタノール中に注ぎ、沈殿したポリイミドをろ過により回収し、200℃にて2時間乾燥させることにより、淡褐色粉末状のポリイミド35gを得た。
(Example 2: Resin B)
In a 300 mL four-necked flask, 14.4 g of isosorbide diamine and 151 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved while introducing nitrogen gas. After dissolution, 17.4 g of pyromellitic anhydride was charged over 1 hour with stirring and stirred at room temperature for 8 hours. Thereafter, 5.9 g of phthalic anhydride was charged over 1 hour and stirred at room temperature for 8 hours. The mixture was heated to 200 ° C. and stirred for 24 hours to obtain an N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyimide (solid content 20%). The obtained polyimide solution was poured into 1000 ml of methanol, and the precipitated polyimide was collected by filtration and dried at 200 ° C. for 2 hours to obtain 35 g of a light brown powdery polyimide.

得られたポリイミドについて、ガラス転移温度、および5%重量減少温度を測定した。結果を表1に示す。   About the obtained polyimide, the glass transition temperature and the 5% weight loss temperature were measured. The results are shown in Table 1.

また、得られたポリイミドについて、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンそれぞれに対する溶解性(ポリイミド20重量%、常温下で攪拌)を確認したところ、いずれの溶媒にも溶解した。   Moreover, about the obtained polyimide, solubility with respect to N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, chloroform, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane (polyimide 20% by weight, normal temperature) As a result, it was dissolved in any solvent.

(実施例3:樹脂C)
300mL四つ口フラスコ中に、イソソルビドジアミン14.4gおよびN−メチル−2−ピロリドン175.2gを仕込み、窒素ガスを流入させながら溶解させた。溶解後、撹拌しながらビフェニルテトラカルボン酸二無水物29.4gを、1時間かけて仕込み、室温で8時間撹拌した。その後、室温で8時間撹拌した。200℃に加熱して24時間撹拌し、ポリイミドのN−メチル−2−ピロリドン溶液(固形分20%)を得た。得られたポリイミド溶液を1000mlのメタノール中に注ぎ、沈殿したポリイミドをろ過により回収し、200℃にて2時間乾燥させることにより、淡褐色粉末状のポリイミド35gを得た。
(Example 3: Resin C)
In a 300 mL four-necked flask, 14.4 g of isosorbide diamine and 175.2 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved while introducing nitrogen gas. After dissolution, 29.4 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride was charged over 1 hour with stirring and stirred at room temperature for 8 hours. Then, it stirred at room temperature for 8 hours. The mixture was heated to 200 ° C. and stirred for 24 hours to obtain an N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyimide (solid content 20%). The obtained polyimide solution was poured into 1000 ml of methanol, and the precipitated polyimide was collected by filtration and dried at 200 ° C. for 2 hours to obtain 35 g of a light brown powdery polyimide.

得られたポリイミドについて、ガラス転移温度、および5%重量減少温度を測定した。結果を表1に示す。   About the obtained polyimide, the glass transition temperature and the 5% weight loss temperature were measured. The results are shown in Table 1.

また、得られたポリイミドについて、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンそれぞれに対する溶解性(ポリイミド20重量%、常温下で攪拌)を確認したところ、いずれの溶媒にも溶解した。   Moreover, about the obtained polyimide, solubility with respect to N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, chloroform, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane (polyimide 20% by weight, normal temperature) As a result, it was dissolved in any solvent.

(実施例4:樹脂D)
300mL四つ口フラスコ中に、イソソルビドジアミン11.5g、4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメタン4.2gおよびN−メチル−2−ピロリドン149.8gを仕込み、窒素ガスを流入させながら溶解させた。溶解後、撹拌しながら無水ピロメリット酸21.8gを、1時間かけて仕込み、室温で8時間撹拌した。その後、200℃に加熱して24時間撹拌し、ポリイミドのN−メチル−2−ピロリドン溶液(固形分20%)を得た。得られたポリイミド溶液を1000mlのメタノール中に注ぎ、沈殿したポリイミドをろ過により回収し、200℃にて2時間乾燥させることにより、淡褐色粉末状のポリイミド40gを得た。
(Example 4: Resin D)
In a 300 mL four-necked flask, 11.5 g of isosorbide diamine, 4.2 g of 4,4′-diaminodicyclohexylmethane and 149.8 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved while introducing nitrogen gas. After dissolution, 21.8 g of pyromellitic anhydride was charged over 1 hour with stirring and stirred at room temperature for 8 hours. Then, it heated at 200 degreeC and stirred for 24 hours, and obtained the N-methyl- 2-pyrrolidone solution (solid content 20%) of the polyimide. The obtained polyimide solution was poured into 1000 ml of methanol, and the precipitated polyimide was collected by filtration and dried at 200 ° C. for 2 hours to obtain 40 g of a light brown powdery polyimide.

得られたポリイミドについて、ガラス転移温度、および5%重量減少温度を測定した。結果を表1に示す。   About the obtained polyimide, the glass transition temperature and the 5% weight loss temperature were measured. The results are shown in Table 1.

また、得られたポリイミドについて、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンそれぞれに対する溶解性(ポリイミド20重量%、常温下で攪拌)を確認したところ、いずれの溶媒にも溶解した。   Moreover, about the obtained polyimide, solubility with respect to N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, chloroform, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane (polyimide 20% by weight, normal temperature) As a result, it was dissolved in any solvent.

(比較例1:樹脂E)
300mL四つ口フラスコ中に、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル20.0gおよびN−メチル−2−ピロリドン167.2gを仕込み、窒素ガスを流入させながら溶解させた。溶解後、撹拌しながら無水ピロメリット酸21.8gを、1時間かけて仕込み、室温で8時間撹拌した。その後、200℃に加熱して24時間撹拌し、ポリイミドのN−メチル−2−ピロリドン分散液(固形分20%)を得た。得られたポリイミド溶液を1000mlのメタノール中に注ぎ、沈殿したポリイミドをろ過により回収し、200℃にて2時間乾燥させることにより、淡褐色粉末状のポリイミド35gを得た。
(Comparative Example 1: Resin E)
In a 300 mL four-necked flask, 20.0 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 167.2 g of N-methyl-2-pyrrolidone were charged and dissolved while introducing nitrogen gas. After dissolution, 21.8 g of pyromellitic anhydride was charged over 1 hour with stirring and stirred at room temperature for 8 hours. Then, it heated at 200 degreeC and stirred for 24 hours, and obtained the N-methyl-2-pyrrolidone dispersion liquid (solid content 20%) of the polyimide. The obtained polyimide solution was poured into 1000 ml of methanol, and the precipitated polyimide was collected by filtration and dried at 200 ° C. for 2 hours to obtain 35 g of a light brown powdery polyimide.

得られたポリイミドについて、ガラス転移温度、および5%重量減少温度を測定した。結果を表1に示す。   About the obtained polyimide, the glass transition temperature and the 5% weight loss temperature were measured. The results are shown in Table 1.

また、得られたポリイミドについて、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンそれぞれに対する溶解性(ポリイミド20重量%、常温下で攪拌)を確認したところ、いずれの溶媒にも不溶であった。   Moreover, about the obtained polyimide, solubility with respect to N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, chloroform, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane (polyimide 20% by weight, normal temperature) As a result, it was insoluble in any solvent.

Figure 0006103992
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以上の結果から、本発明のポリイミドは、高い耐熱性(ガラス転移温度、5%重量減少温度)を維持しながら、溶剤溶解性に優れたものであることが分かる。
From the above results, it can be seen that the polyimide of the present invention has excellent solvent solubility while maintaining high heat resistance (glass transition temperature, 5% weight loss temperature).

Claims (7)

以下の一般式(I)で表わされるポリアミック酸を脱水閉環することで形成されるポリイミド。
Figure 0006103992
[式中、Aの全てまたは一部が、以下の式(II)で表わされる基であり;
Figure 0006103992
ここで、式(II)中の環上の水素原子の一部または全ては置換されていてもよく;
は、以下の式(III)で表わされる基であり;
Figure 0006103992
は、Hであるか、または、以下の一般式(IV)、(V)もしくは(VI)で表わされる基であり;
Figure 0006103992
Figure 0006103992
Figure 0006103992
ここで、Dは、テトラカルボン酸残基であり;
は、ジカルボン酸残基であり;
nは、1〜200の整数である。]
A polyimide formed by dehydrating and ring-closing a polyamic acid represented by the following general formula (I).
Figure 0006103992
Wherein all or part of A is a group represented by the following formula (II);
Figure 0006103992
Wherein some or all of the hydrogen atoms on the ring in formula (II) may be substituted;
B 1 is a group represented by the following formula (III);
Figure 0006103992
B 2 is H or a group represented by the following general formula (IV), (V) or (VI);
Figure 0006103992
Figure 0006103992
Figure 0006103992
Where D 1 is a tetracarboxylic acid residue;
D 2 is a dicarboxylic acid residue;
n is an integer of 1 to 200. ]
請求項1に記載のポリイミドの前駆体であるポリアミック酸。   A polyamic acid which is a precursor of the polyimide according to claim 1. ポリアミック酸の製造方法であって、
以下の式(VII)で表わされる化合物または以下の式(VII)で表わされる化合物と他のジアミンとの混合物と、以下の一般式(VIII)で表わされる化合物とを反応させるアミド化工程を含む、製造方法。
Figure 0006103992
[式中、環上の水素原子の一部または全ては置換されていてもよい]
Figure 0006103992
[式中、Dは、テトラカルボン酸残基である]
A method for producing a polyamic acid, comprising:
An amidation step of reacting a compound represented by the following formula (VII) or a mixture of a compound represented by the following formula (VII) and another diamine with a compound represented by the following general formula (VIII): ,Production method.
Figure 0006103992
[Wherein, some or all of the hydrogen atoms on the ring may be substituted]
Figure 0006103992
[Wherein D 1 is a tetracarboxylic acid residue]
前記アミド化工程において、前記式(VII)で表わされる化合物および前記一般式(VIII)で表わされる化合物と、以下の一般式(IX)で表わされる化合物とを同時に反応させるか、または、
前記アミド化工程により得られたポリアミック酸に、以下の一般式(IX)で表わされる化合物をさらに反応させる、請求項3に記載の製造方法。
Figure 0006103992
[式中、Dは、ジカルボン酸残基である]。
In the amidation step, the compound represented by the formula (VII) and the compound represented by the general formula (VIII) are simultaneously reacted with a compound represented by the following general formula (IX), or
The manufacturing method of Claim 3 which further makes the compound represented by the following general formula (IX) react with the polyamic acid obtained by the said amidation process.
Figure 0006103992
[Wherein D 2 is a dicarboxylic acid residue].
請求項3又は4に記載の製造方法によりポリアミック酸を得た後、得られたポリアミック酸を脱水閉環する工程を含むことを特徴とする、ポリイミドの製造方法。   A method for producing polyimide, comprising a step of dehydrating and ring-closing the obtained polyamic acid after obtaining the polyamic acid by the production method according to claim 3 or 4. 請求項1に記載のポリイミド、および請求項2に記載のポリアミック酸からなる群より選択される少なくとも1つの重合体、ならびに溶剤を含有する、樹脂組成物。 A resin composition comprising at least one polymer selected from the group consisting of the polyimide according to claim 1 and the polyamic acid according to claim 2, and a solvent. 請求項6に記載の樹脂組成物から形成された成形品。   A molded article formed from the resin composition according to claim 6.
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