JP2013024584A - Inspection apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体素子を検査対象物として検査する検査装置に関する。 The present invention relates to an inspection apparatus for inspecting a semiconductor element as an inspection object.
LEDチップ等の半導体素子に、種々の照明光を照射しつつその半導体素子を観察光学系で観察することにより、当該半導体素子を検査対象物として検査する検査装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この検査装置では、種々の照明光の1つとして、検査対象物から見て観察光学系とは反対側から当該検査対象物を照明する透過照明機構からの透過照明を用いている。 An inspection apparatus that inspects a semiconductor element such as an LED chip as an inspection object by irradiating the semiconductor element with an observation optical system while irradiating various illumination lights (for example, patents) is known. Reference 1). In this inspection apparatus, transmitted illumination from a transmission illumination mechanism that illuminates the inspection object from the side opposite to the observation optical system when viewed from the inspection object is used as one of various illumination lights.
ここで、半導体素子は、テープ(フィルム)に貼り付けられままウェハから切り出され、そのテープが環状部材に保持されている状態で取り扱われることが多く見られる。このため、上述した検査装置では、テープを透過する光を透過照明として用いて、環状部材に保持されたテープに貼り付けられた状態の検査対象物に対して、種々の照明光を照射しつつ検査対象物の検査を行う。 Here, it is often seen that the semiconductor element is cut out from the wafer while being stuck to a tape (film) and is handled in a state where the tape is held by the annular member. For this reason, in the inspection apparatus mentioned above, using the light which permeate | transmits a tape as transmission illumination, irradiating various illumination light with respect to the test target object in the state affixed on the tape hold | maintained at the annular member Inspect the inspection object.
ここで、観察光学系では、検査対象物を適切に観察するためには、その検査対象物を合焦位置に適切に配置させる必要がある。ところが、上述したように、検査対象物が環状部材に保持されたテープに貼り付けられた状態である場合、検査対象物を含む自重によりテープが撓んでしまうことから、検査対象物を合焦位置に適切に配置することが困難である。 Here, in the observation optical system, in order to appropriately observe the inspection object, it is necessary to appropriately arrange the inspection object at the in-focus position. However, as described above, when the inspection object is affixed to the tape held by the annular member, the tape is bent by its own weight including the inspection object. It is difficult to arrange properly.
このため、透過照明の透過を許す材料から為り、検査対象物が貼り付けられたテープの略全体を載せることのできる大きさ寸法の平坦な載置面を形成する透過部材を用いるとともに、その載置面にテープを吸引により吸着させることが考えられる。 For this reason, it is made of a material that allows transmission of transmitted illumination, and uses a transmission member that forms a flat mounting surface having a size and size on which substantially the entire tape to which the inspection object is attached can be placed, and It is conceivable that the tape is sucked on the mounting surface by suction.
しかしながら、透過部材では、透過照明の透過を許す材料で形成する必要があることから、載置面全体に吸引のための構成を設けることは困難である。このため、環状部材の近傍位置から載置面とテープとの間を吸引することが考えられるが、載置面とテープとの間に空気溜りが生じてしまうので、テープを載置面に沿わせることができず、検査対象物を合焦位置に適切に配置することが困難である。 However, since the transmission member needs to be formed of a material that allows transmission of transmitted illumination, it is difficult to provide a structure for suction on the entire mounting surface. For this reason, it is conceivable that the space between the mounting surface and the tape is sucked from the vicinity of the annular member. However, since an air pool is generated between the mounting surface and the tape, the tape is placed along the mounting surface. It is difficult to properly arrange the inspection object at the in-focus position.
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、テープに貼り付けられた検査対象物を透過照明で照明しつつ観察光学系により正確な情報を得ることのできる検査装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is an inspection apparatus capable of obtaining accurate information by an observation optical system while illuminating an inspection object attached to a tape with transmitted illumination. Is to provide.
請求項1に記載の発明は、観察光軸上の所定の位置を観察面とする観察光学系と、該観察光学系側から前記観察面を照明する反射照明機構と、前記観察光学系とは反対側から前記観察面を照明する透過照明機構と、該透過照明機構と前記観察光学系との間に前記観察面に沿う平坦面を形成する保持機構と、を備える検査装置であって、前記保持機構は、前記透過照明機構からの照明光の透過を許しかつ前記平坦面の少なくとも一部を形成する透過部材と、該透過部材を取り囲んで保持する保持部材と、を有し、該保持部材は、前記平坦面よりも前記観察光学系側へと突出しつつ前記平坦面を取り囲む環状突部と、該環状突部と前記平坦面とにより規定される内方凹所を外部に連通させる吸引孔と、を有し、該吸引孔には、前記内方凹所の空気を吸引する吸引装置が接続されていることを特徴とする。 The invention according to claim 1 is an observation optical system having a predetermined position on the observation optical axis as an observation surface, a reflection illumination mechanism for illuminating the observation surface from the observation optical system side, and the observation optical system. An inspection apparatus comprising: a transmission illumination mechanism that illuminates the observation surface from the opposite side; and a holding mechanism that forms a flat surface along the observation surface between the transmission illumination mechanism and the observation optical system, The holding mechanism has a transmissive member that allows transmission of illumination light from the transmissive illumination mechanism and forms at least a part of the flat surface, and a holding member that surrounds and holds the transmissive member, and the holding member Is a suction hole that communicates to the outside an annular protrusion that surrounds the flat surface while projecting to the observation optical system side from the flat surface, and an inward recess defined by the annular protrusion and the flat surface And the suction hole has air in the inner recess. Wherein the suction device for sucking is connected.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の検査装置であって、前記吸引孔は、前記環状突部における前記内方凹所に臨む内周面を開口して前記内方凹所に通じていることを特徴とする。 Invention of Claim 2 is an inspection apparatus of Claim 1, Comprising: The said suction hole opens the inner peripheral surface which faces the said inward recess in the said cyclic | annular protrusion, and the said inward recess It is characterized by that.
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の検査装置であって、前記保持部材は、前記透過部材の外方であって前記平坦面の他部を形成する環状底面を有していることを特徴とする。 A third aspect of the present invention is the inspection apparatus according to the first or second aspect, wherein the holding member is an annular bottom surface that forms the other part of the flat surface outside the transmitting member. It is characterized by having.
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の検査装置であって、前記吸引孔は、前記環状底面を開口して前記内方凹所に通じていることを特徴とする。 A fourth aspect of the present invention is the inspection apparatus according to the third aspect, wherein the suction hole opens the annular bottom surface and communicates with the inward recess.
請求項5に記載の発明は、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の検査装置であって、前記保持機構では、前記平坦面に対する前記環状突部の突出量が、検査対象物が貼付されるテープを前記環状突部の突出端面上に配置した際、前記テープが自重で撓み変形することにより前記平坦面に接することを防止することを可能とするとともに、前記テープが前記吸引装置での空気の吸引で撓み変形することにより前記平坦面の中心位置から所定の領域に渡り前記テープが接することを可能とすべく設定されていることを特徴とする。 Invention of Claim 5 is an inspection apparatus of any one of Claim 1 to 4, Comprising: In the said holding mechanism, the protrusion amount of the said annular protrusion with respect to the said flat surface is inspection object. When the tape to which an object is attached is disposed on the projecting end surface of the annular protrusion, the tape can be prevented from coming into contact with the flat surface by being bent and deformed by its own weight. The tape is set so as to be able to come into contact with a predetermined region from the center position of the flat surface by being bent and deformed by suction of air by a suction device.
本発明の検査装置によれば、テープに貼り付けられた検査対象物を透過照明で照明しつつ観察光学系により正確な情報を得ることができる。 According to the inspection apparatus of the present invention, accurate information can be obtained by the observation optical system while illuminating the inspection object attached to the tape with transmitted illumination.
上記した構成に加えて、前記吸引孔は、前記環状突部における前記内方凹所に臨む内周面を開口して前記内方凹所に通じていることとすると、中央位置から放射方向の外側へ向けてテープが平坦面に吸着されていっても、そのテープにより吸引孔の内方凹所に通じる箇所(開口)が塞がれることを防止することができるので、テープにおけるより広い領域を平坦面に吸着させることができる。 In addition to the above-described configuration, when the suction hole opens the inner peripheral surface facing the inner recess in the annular protrusion and communicates with the inner recess, Even if the tape is attracted to the flat surface toward the outside, it is possible to prevent the portion (opening) leading to the inward recess of the suction hole from being blocked by the tape, so a wider area on the tape Can be adsorbed on a flat surface.
上記した構成に加えて、前記保持部材は、前記透過部材の外方であって前記平坦面の他部を形成する環状底面を有していることとすると、平坦面のうち透過部材により形成される箇所の全領域に渡ってテープを吸着させることができる。 In addition to the above-described configuration, when the holding member has an annular bottom surface that forms the other part of the flat surface outside the transmission member, the holding member is formed by the transmission member of the flat surface. The tape can be adsorbed over the entire area.
上記した構成に加えて、前記吸引孔は、前記環状底面を開口して前記内方凹所に通じていることとすると、内方凹所の空気を吸引する吸引孔の形成を容易なものとすることができる。 In addition to the above-described configuration, if the suction hole opens the annular bottom surface and communicates with the inner recess, it is easy to form a suction hole for sucking air in the inner recess. can do.
上記した構成に加えて、前記保持機構では、前記平坦面に対する前記環状突部の突出量が、検査対象物が貼付されるテープを前記環状突部の突出端面上に配置した際、前記テープが自重で撓み変形することにより前記平坦面に接することを防止することを可能とするとともに、前記テープが前記吸引装置での空気の吸引で撓み変形することにより前記平坦面の中心位置から所定の領域に渡り前記テープが接することを可能とすべく設定されていることとすると、環状凸部の内方の内方凹所とテープとにより規定された空間の圧力の低下による押圧力を利用して、テープの中央位置から放射方向の外側に向けてテープと透過部材が形成する平坦面との間の空気を押し出しつつテープを平坦面に吸着することをより確実なものとすることができる。 In addition to the above-described configuration, in the holding mechanism, when the protruding amount of the annular protrusion with respect to the flat surface is arranged on the protruding end surface of the annular protrusion, the tape is attached to the inspection object. It is possible to prevent the tape from coming into contact with the flat surface by being bent and deformed by its own weight, and a predetermined region from the center position of the flat surface by being deformed by the suction of air by the suction device. If the tape is set so as to be able to come into contact with each other, the pressing force due to the pressure drop in the space defined by the inner recess of the annular convex portion and the tape is used. Further, it is possible to more reliably adsorb the tape to the flat surface while extruding air between the tape and the flat surface formed by the transmission member from the central position of the tape toward the outside in the radial direction.
以下に、本願発明に係る検査装置の一例について図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, an example of an inspection apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
先ず、本願発明に係る一実施例の検査装置10の概略的な構成について説明する。図1は、本願発明に係る検査装置の一例としての検査装置10の構成を模式的に示す説明図である。図2は、検査装置10の機能構成を示すブロック図である。なお、図6では、理解容易のために、検査対象ワーク40におけるウェハ41およびテープ42を省略して示している。 First, a schematic configuration of an inspection apparatus 10 according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a configuration of an inspection apparatus 10 as an example of an inspection apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a block diagram illustrating a functional configuration of the inspection apparatus 10. In FIG. 6, the wafer 41 and the tape 42 in the inspection target workpiece 40 are omitted for easy understanding.
検査装置10は、図1および図2に示すように、観察機構11と、反射照明機構12と、保持機構13と、透過照明機構14と、制御機構15と、から大略構成されている。この検査装置10は、図1に示すように、本体部21を有する。この本体部21には、図示は略すが、リレーレンズやレボルバー式のターレット部が設けられており、そのターレット部には複数個の対物レンズ鏡筒22(図1では1個のみ図示)が設けられている。この各対物レンズ鏡筒22には、対物レンズ23が設けられている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the inspection apparatus 10 is generally configured by an observation mechanism 11, a reflection illumination mechanism 12, a holding mechanism 13, a transmission illumination mechanism 14, and a control mechanism 15. As shown in FIG. 1, the inspection apparatus 10 has a main body 21. Although not shown, the main body 21 is provided with a relay lens and a revolver turret, and the turret is provided with a plurality of objective lens barrels 22 (only one is shown in FIG. 1). It has been. Each objective lens barrel 22 is provided with an objective lens 23.
この本体部21の上部に、撮像カメラ24が取り付けられている。この撮像カメラ24は、設定された対物レンズ23により定まる倍率にしたがって、当該対物レンズ23および本体部21(リレーレンズ)を経て、その光軸(観察光軸Oa)上の所定の位置の画像データを取得することができる。このため、撮像カメラ24、本体部21、各対物レンズ鏡筒22およびその対物レンズ23は、観察機構11における観察光学系として機能し、その光軸が観察光軸Oaとなる。この観察機構11(観察光学系)は、観察光軸Oaが鉛直方向と一致されて配置されている。また、観察光軸Oa上における撮像カメラ24が適切な画像を取得可能な位置すなわち観察光学系における焦点位置を含み当該観察光軸Oaに直交する平面(物体側の結像面)が観察面Fpとなる。以下では、観察光軸Oaの方向をZ軸方向とし、そこに直交する面をX−Y平面とする。この撮像カメラ24により取得された画像データは、後述する画像制御部61により、適宜解析されるとともにモニタ39に表示可能とされている(図2参照)。 An imaging camera 24 is attached to the upper part of the main body 21. The imaging camera 24 passes through the objective lens 23 and the main body portion 21 (relay lens) according to the magnification determined by the set objective lens 23, and image data at a predetermined position on the optical axis (observation optical axis Oa). Can be obtained. For this reason, the imaging camera 24, the main body 21, the objective lens barrel 22, and the objective lens 23 function as an observation optical system in the observation mechanism 11, and the optical axis thereof becomes the observation optical axis Oa. This observation mechanism 11 (observation optical system) is arranged with the observation optical axis Oa aligned with the vertical direction. In addition, a plane (object-side imaging plane) that includes the position where the imaging camera 24 can acquire an appropriate image on the observation optical axis Oa, that is, the focal position in the observation optical system and is orthogonal to the observation optical axis Oa is the observation plane Fp. It becomes. In the following, the direction of the observation optical axis Oa is the Z-axis direction, and the plane orthogonal to the direction is the XY plane. Image data acquired by the imaging camera 24 is appropriately analyzed by an image control unit 61 described later and can be displayed on the monitor 39 (see FIG. 2).
その本体部21の内部には、観察光軸Oa上に反射部材25が設けられている。この反射部材25は、ハーフミラーまたはプリズムで構成することができる。本体部21では、反射部材25による観察光軸Oaからの反射方向に、コネクタ部26を介して導光ファイバ27が取り付けられている。この導光ファイバ27は、同軸用光源28から出射された照射光を反射部材25へと導光することが可能とされている。その同軸用光源28は、図2に示すように、ハロゲンランプ28aとストロボ28bとの双方を選択的に発光させることが可能とされており、いずれが発光されても導光ファイバ27へと出射させることが可能とされている。この同軸用光源28から出射された照射光は、図1に示すように、導光ファイバ27および反射部材25を経て観察光軸Oa上を進行し、各対物レンズ鏡筒22の対物レンズ23を経て観察光軸Oa上で観察面Fpを照明することができる。このため、同軸用光源28、導光ファイバ27および反射部材25は、各対物レンズ鏡筒22の対物レンズ23との協働により、観察光学系に対して、後述する検査対象物(44)からの同軸方向での反射光を生成するための反射照明機構12、すなわち同軸落射照明機構29として機能する。 A reflection member 25 is provided on the observation optical axis Oa inside the main body 21. The reflecting member 25 can be constituted by a half mirror or a prism. In the main body portion 21, a light guide fiber 27 is attached via a connector portion 26 in the direction of reflection from the observation optical axis Oa by the reflecting member 25. The light guide fiber 27 can guide the irradiation light emitted from the coaxial light source 28 to the reflection member 25. As shown in FIG. 2, the coaxial light source 28 can selectively emit both the halogen lamp 28 a and the strobe light 28 b, and the light is emitted to the light guide fiber 27 regardless of which light is emitted. It is possible to make it. As shown in FIG. 1, the irradiation light emitted from the coaxial light source 28 travels on the observation optical axis Oa through the light guide fiber 27 and the reflecting member 25, and passes through the objective lens 23 of each objective lens barrel 22. Then, the observation surface Fp can be illuminated on the observation optical axis Oa. For this reason, the coaxial light source 28, the light guide fiber 27, and the reflection member 25 cooperate with the objective lens 23 of each objective lens barrel 22 from the inspection object (44) described later with respect to the observation optical system. It functions as the reflective illumination mechanism 12 for generating the reflected light in the coaxial direction, that is, the coaxial incident illumination mechanism 29.
この本体部21は、後述するZ軸駆動機構67(図2参照)により、観察光軸Oa方向(Z軸方向)に移動可能とされている。このため、観察機構11における観察光学系と、同軸落射照明機構29とは、一体的に観察光軸Oa方向(Z軸方向)に移動可能とされている。 The main body 21 is movable in the observation optical axis Oa direction (Z-axis direction) by a Z-axis drive mechanism 67 (see FIG. 2) described later. For this reason, the observation optical system in the observation mechanism 11 and the coaxial incident illumination mechanism 29 are integrally movable in the observation optical axis Oa direction (Z-axis direction).
また、本体部21には、図1に示すように、対物レンズ鏡筒22の外周を包囲するようにして照明光導出用リング盤30が設けられている。この照明光導出用リング盤30は、図示は略すが観察光軸Oaと所定の間隔を置いて当該観察光軸Oaを取り囲むように複数の発光部が設けられており、各発光部は観察光軸Oaに対して傾斜する方向から観察面Fpへ向けて照射可能とされている。照明光導出用リング盤30には、導光ファイバ31が取り付けられている。この導光ファイバ31は、リング用光源32から出射された照射光を照明光導出用リング盤30の各発光部(図示せず)へと導光することが可能とされている。そのリング用光源32は、図2に示すように、ハロゲンランプ32aとストロボ32bとの双方を選択的に発光させることが可能とされており、いずれが発光されても導光ファイバ31へと出射させることが可能とされている。このリング用光源32から出射された照射光は、図1に示すように、導光ファイバ31を経て、照明光導出用リング盤30の各発光部(図示せず)から観察光軸Oaに対して傾斜する方向で観察面Fpを照明することができる。このため、リング用光源32、導光ファイバ31および照明光導出用リング盤30(その各発光部)は、観察光学系に対して、後述する検査対象物(44)からの観察光軸Oaに傾斜する方向での反射光を生成するための反射照明機構12、すなわち斜光照明機構33として機能する。この照明光導出用リング盤30は、後述するZ軸駆動機構67(図2参照)により、観察光軸Oa方向(Z軸方向)に移動可能とされている。この観察光軸Oa方向への移動は、本体部21と一体的なものであってもよく、互いに独立するものであってもよい。 Further, as shown in FIG. 1, the main body 21 is provided with a ring plate 30 for illuminating light so as to surround the outer periphery of the objective lens barrel 22. Although not shown, the illumination light deriving ring board 30 is provided with a plurality of light emitting portions so as to surround the observation optical axis Oa at a predetermined interval from the observation optical axis Oa. Irradiation is possible from the direction inclined with respect to the axis Oa toward the observation surface Fp. A light guide fiber 31 is attached to the ring plate 30 for illuminating light. The light guide fiber 31 can guide the irradiation light emitted from the ring light source 32 to each light emitting unit (not shown) of the illumination light deriving ring board 30. As shown in FIG. 2, the ring light source 32 can selectively emit both the halogen lamp 32 a and the strobe 32 b, and the light is emitted to the light guide fiber 31 regardless of which light is emitted. It is possible to make it. As shown in FIG. 1, the irradiation light emitted from the ring light source 32 passes through the light guide fiber 31, and from each light emitting portion (not shown) of the illumination light deriving ring board 30 to the observation optical axis Oa. Thus, the observation surface Fp can be illuminated in a tilting direction. For this reason, the ring light source 32, the light guide fiber 31, and the illumination light deriving ring board 30 (the respective light emitting portions) are arranged on the observation optical axis Oa from the inspection object (44) described later with respect to the observation optical system. It functions as the reflective illumination mechanism 12 for generating the reflected light in the inclined direction, that is, the oblique illumination mechanism 33. The illumination light deriving ring board 30 is movable in the observation optical axis Oa direction (Z-axis direction) by a Z-axis drive mechanism 67 (see FIG. 2) described later. The movement in the direction of the observation optical axis Oa may be integrated with the main body 21 or may be independent of each other.
この本体部21および照明光導出用リング盤30の下方に、保持機構13が設けられている。この保持機構13は、保持ステージ34と透過ステージ35と吸引装置36とを備える。この保持ステージ34は、図3および図4に示すように、全体に円筒形状を呈し、外観形状が、上側(観察機構11側)となる一端側が相対的に径寸法(観察光軸Oa方向に直交する方向(径方向)で見た観察光軸Oaを基準とする外径寸法)の小さい段付きの形状とされている。この保持ステージ34では、径寸法の大きい拡径部に複数の固定部材34aが設けられている。この各固定部材34aは、図示を略す基台に保持ステージ34を固定するものである。 A holding mechanism 13 is provided below the main body 21 and the illumination light derivation ring board 30. The holding mechanism 13 includes a holding stage 34, a transmission stage 35, and a suction device 36. As shown in FIGS. 3 and 4, the holding stage 34 has a cylindrical shape as a whole, and the outer shape is relatively larger in the radial direction (in the direction of the observation optical axis Oa) at one end side which is the upper side (observation mechanism 11 side). It is a stepped shape having a small outer diameter dimension with respect to the observation optical axis Oa as viewed in the orthogonal direction (radial direction). In the holding stage 34, a plurality of fixing members 34a are provided in the enlarged diameter portion having a large diameter. Each fixing member 34a fixes the holding stage 34 to a base (not shown).
保持ステージ34では、透過ステージ35の保持のために、中心位置を観察光軸Oa方向に沿って貫通する貫通孔34bが設けられている。この貫通孔34bは、図4に示すように、上側(観察機構11側)が透過ステージ35よりも大きな内径寸法の大内径部34cとされており、その下側が大内径部34cよりも小さな内径寸法であって透過ステージ35に適合する内径寸法の中内径部34dとされており、その下側が中内径部34d(透過ステージ35)よりも小さな内径寸法の小内径部34eとされている。貫通孔34bでは、大内径部34cと中内径部34dとの内径寸法の差異により、観察光軸Oaを取り巻く環状底面34fが形成され、中内径部34dと小内径部34eとの内径寸法の差異により、観察光軸Oaを取り巻く環状係合面34gが形成されている。この環状底面34fおよび環状係合面34gは、観察光軸Oaに直交する面に沿って存在している。 The holding stage 34 is provided with a through hole 34b that penetrates the center position along the direction of the observation optical axis Oa in order to hold the transmission stage 35. As shown in FIG. 4, the through hole 34b has an upper side (observation mechanism 11 side) having a large inner diameter part 34c having an inner diameter larger than that of the transmission stage 35, and a lower side having an inner diameter smaller than that of the large inner diameter part 34c. The inner diameter portion 34d has an inner diameter size that is suitable for the transmission stage 35, and the lower side is a small inner diameter portion 34e that has a smaller inner diameter than the medium inner diameter portion 34d (transmission stage 35). In the through hole 34b, an annular bottom surface 34f surrounding the observation optical axis Oa is formed due to a difference in inner diameter between the large inner diameter portion 34c and the middle inner diameter portion 34d, and a difference in inner diameter between the inner inner diameter portion 34d and the small inner diameter portion 34e. Thus, an annular engagement surface 34g surrounding the observation optical axis Oa is formed. The annular bottom surface 34f and the annular engagement surface 34g exist along a plane orthogonal to the observation optical axis Oa.
このため、保持ステージ34では、環状底面34fを基準とすると、大内径部34cを規定する壁部により、環状底面34fよりも観察機構11側に突出しつつ環状底面34fを取り囲む環状凸部34hが形成されていることとなる。この環状凸部34hの突出端、すなわち保持ステージ34において照明光導出用リング盤30に最も近接する位置で対向される箇所には、観察光軸Oaに直交する突出端面34iが設けられている。保持ステージ34では、環状底面34fと突出端面34iとの観察光軸Oa方向で見た設定位置の差分(環状凸部34hの高さ寸法)が、後述するように検査対象ワーク40(そのテープ42)の特性を考慮して適宜設定され、本実施例では2.5mmとされている。この保持ステージ34では、環状係合面34g(後述する内方凹所34l)に封止部材37が設けられる。この封止部材37は、環状のシール部材である。 For this reason, in the holding stage 34, when the annular bottom surface 34f is used as a reference, an annular convex portion 34h that surrounds the annular bottom surface 34f while projecting to the observation mechanism 11 side from the annular bottom surface 34f is formed by the wall portion defining the large inner diameter portion 34c. Will be. A projecting end surface 34 i orthogonal to the observation optical axis Oa is provided at the projecting end of the annular projection 34 h, that is, at a position facing the holding stage 34 closest to the illumination light deriving ring disk 30. In the holding stage 34, the difference between the set positions of the annular bottom surface 34f and the projecting end surface 34i viewed in the direction of the observation optical axis Oa (height dimension of the annular convex portion 34h) is the inspection target workpiece 40 (the tape 42) as described later. ), And is set appropriately, and in this embodiment is 2.5 mm. In the holding stage 34, a sealing member 37 is provided in an annular engagement surface 34g (an inner recess 341 described later). The sealing member 37 is an annular seal member.
保持ステージ34では、吸引孔38が設けられている。この吸引孔38は、保持ステージ34に孔加工が施されて形成されており、本実施例では、観察光軸Oaに直交する面に沿う方向で見て、観察光軸Oaを中心とする直交方向上の4箇所(図3および図4にはそれぞれ2箇所を図示)に設けられている。この各吸引孔38は、周面孔部38aと底面孔部38bと合流孔部38cとを有する。その周面孔部38aは、一端が大内径部34cの内周面34jを開口し、他端が合流孔部38cに連通している。底面孔部38bは、一端が環状底面34fを開口し、他端が合流孔部38cに連通している。合流孔部38cは、周面孔部38aと底面孔部38bとを合流させた後、保持ステージ34における下端面34kを開口している。このため、各吸引孔38は、大内径部34c(環状凸部34h)の内方の空間(後述する内方凹所34l)を、保持ステージ34の内部を通じて当該保持ステージ34の外部へと連通させている。 In the holding stage 34, a suction hole 38 is provided. The suction hole 38 is formed by drilling the holding stage 34. In this embodiment, the suction hole 38 is orthogonal to the observation optical axis Oa when viewed in a direction along a plane orthogonal to the observation optical axis Oa. There are four locations in the direction (two locations are shown in FIGS. 3 and 4). Each suction hole 38 has a peripheral hole 38a, a bottom hole 38b, and a merging hole 38c. One end of the peripheral surface hole portion 38a opens the inner peripheral surface 34j of the large inner diameter portion 34c, and the other end communicates with the junction hole portion 38c. One end of the bottom hole 38b opens the annular bottom 34f, and the other end communicates with the merge hole 38c. The merge hole 38c opens the lower end surface 34k of the holding stage 34 after the circumferential hole 38a and the bottom hole 38b merge. For this reason, each suction hole 38 communicates the space (inward recess 34l described later) inside the large inner diameter portion 34c (annular convex portion 34h) to the outside of the holding stage 34 through the inside of the holding stage 34. I am letting.
この保持ステージ34は、図1に示すように、後述するXY駆動機構65(図2参照)により、観察光軸Oa(観察光学系)に対して、そこに直交するX−Y平面上で移動可能とされている。また、保持ステージ34は、後述する回転駆動機構66(図2参照)により、Z軸回りに回転可能とされている。この保持ステージ34では、その内方に透過ステージ35が設けられる。 As shown in FIG. 1, the holding stage 34 is moved on an XY plane orthogonal to the observation optical axis Oa (observation optical system) by an XY drive mechanism 65 (see FIG. 2) described later. It is possible. The holding stage 34 can be rotated around the Z axis by a rotation drive mechanism 66 (see FIG. 2) described later. The holding stage 34 is provided with a transmission stage 35 on the inside thereof.
透過ステージ35は、図1、図3、図4、図6および図7に示すように、円板形状を呈し、上側(観察光学系側)の上端面35aが平坦面とされており、下側(透過照明機構14側)の下端面35bが散乱面とされている。この上端面35aは、本実施例では、研磨された平坦面とされており、下端面35bは、後述するような散乱効果を得る観点から拡散率等を適宜考慮して設定される。この透過ステージ35は、少なくとも透過照明機構14(その出射部53)から出射された透過光の透過を許す透明な部材(透過部材)で形成されており、本実施例では、ガラスで形成されている。透過ステージ35は、保持ステージ34の大内径部34c側(観察機構11側)の開口から貫通孔34bへと挿入されて、中内径部34dに嵌め込まれつつ周縁部の下端が環状係合面34gに押し当てられることにより、貫通孔34b内に収容される。このとき、封止部材37は、透過ステージ35の下端面35bと環状係合面34g(その凹所)とで適切に圧縮されることにより、その下端面35bと環状係合面34g(その凹所)との間、すなわち透過ステージ35と保持ステージ34との間での空気の出入りを防止する。このため、保持ステージ34では、透過ステージ35の周囲における十分な封止性能を有している。 As shown in FIGS. 1, 3, 4, 6, and 7, the transmission stage 35 has a disk shape, and an upper end surface 35a on the upper side (observation optical system side) is a flat surface. The lower end surface 35b on the side (transmission illumination mechanism 14 side) is a scattering surface. In the present embodiment, the upper end surface 35a is a polished flat surface, and the lower end surface 35b is set in consideration of the diffusivity and the like from the viewpoint of obtaining a scattering effect as described later. The transmission stage 35 is formed of a transparent member (transmission member) that allows transmission of transmitted light emitted from at least the transmission illumination mechanism 14 (the emission portion 53). In this embodiment, the transmission stage 35 is formed of glass. Yes. The transmission stage 35 is inserted from the opening on the large inner diameter portion 34c side (observation mechanism 11 side) of the holding stage 34 into the through hole 34b, and is fitted into the inner inner diameter portion 34d, while the lower end of the peripheral portion is an annular engagement surface 34g. Is accommodated in the through hole 34b. At this time, the sealing member 37 is appropriately compressed by the lower end surface 35b of the transmission stage 35 and the annular engagement surface 34g (its recess), so that the lower end surface 35b and the annular engagement surface 34g (its recess) are compressed. ), That is, the air is prevented from entering and exiting between the transmission stage 35 and the holding stage 34. For this reason, the holding stage 34 has sufficient sealing performance around the transmission stage 35.
このとき、透過ステージ35の上端面35aは、環状底面34fと同一の平坦面を形成している。このため、保持機構13では、透過ステージ35の上端面35aと保持ステージ34の環状底面34fとにより、観察光学系の観察光軸Oaに直交する(観察面Fpに平行な)平坦面が規定される。また、保持機構13では、大内径部34cの内方の空間に、当該平坦面と保持ステージ34の環状凸部34hとにより、後述するようにテープ42が載置される載置面としての保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iの内方を凹ませる内方凹所34lが規定される。 At this time, the upper end surface 35a of the transmission stage 35 forms the same flat surface as the annular bottom surface 34f. Therefore, in the holding mechanism 13, a flat surface perpendicular to the observation optical axis Oa of the observation optical system (parallel to the observation surface Fp) is defined by the upper end surface 35a of the transmission stage 35 and the annular bottom surface 34f of the holding stage 34. The Further, in the holding mechanism 13, a holding surface as a mounting surface on which the tape 42 is mounted as described later is formed in the space inside the large inner diameter portion 34 c by the flat surface and the annular convex portion 34 h of the holding stage 34. An inward recess 34l is defined that is recessed inward of the protruding end surface 34i of the annular protrusion 34h of the stage 34.
透過ステージ35では、厚さ寸法すなわち上端面35aと下端面35bとの間隔(貫通孔34bの中内径部34dの長さ寸法)が、透過ステージ35における光学的な特性および硬度特性を勘案しつつ、全体に均等なものとされるとともに、以下の3点を考慮して設定されている。 In the transmission stage 35, the thickness dimension, that is, the distance between the upper end surface 35a and the lower end surface 35b (the length dimension of the inner diameter part 34d of the through-hole 34b) takes into consideration the optical characteristics and hardness characteristics of the transmission stage 35. These are set to be uniform in consideration of the following three points.
1点目は、透過照明機構14から出射されて下端面35bへと入射し上端面35aから出射した透過光において、所定の光量を確保することができることである。これは、透過ステージ35では、観察光学系を経て撮像カメラ24で取得した画像で見て、後述する検査対象物(44)が適切に照明されている必要があることによる。この点は、主に透過ステージ35の厚さ寸法の上限値に影響する。 The first point is that a predetermined amount of light can be secured in the transmitted light emitted from the transmitted illumination mechanism 14 and incident on the lower end surface 35b and emitted from the upper end surface 35a. This is because the inspection stage (44), which will be described later, needs to be appropriately illuminated in the transmission stage 35 when viewed from an image acquired by the imaging camera 24 via the observation optical system. This point mainly affects the upper limit value of the thickness dimension of the transmission stage 35.
2点目は、周縁部の下端が下方から支持されていることに起因して、中央位置において、落ち込むような撓み変形の変形量が所定の範囲以内であることである。これは、透過ステージ35では、後述するように、上端面35aが、後述する検査対象物(44)を観察光学系における適切な位置である観察面Fp上に存在(配置)させる機能を有していることから、上端面35aを全面に渡って観察面Fpに沿うものとする必要があることによる。このため、上述した変形量における所定の範囲とは、最大で観察光学系における被写界深度となる。この点は、主に透過ステージ35の厚さ寸法の下限値に影響する。 The second point is that the deformation amount of the bending deformation that falls at the center position is within a predetermined range due to the lower end of the peripheral edge portion being supported from below. In the transmission stage 35, as will be described later, the upper end surface 35a has a function of causing an inspection target (44) described later to exist (arrange) on an observation surface Fp that is an appropriate position in the observation optical system. This is because the upper end surface 35a needs to be along the observation surface Fp over the entire surface. For this reason, the predetermined range in the deformation amount described above is the maximum depth of field in the observation optical system. This point mainly affects the lower limit value of the thickness dimension of the transmission stage 35.
3点目は、散乱面とされた下端面35bによる散乱効果が、上端面35aから出射される透過光において十分に得られていることである。この散乱効果とは、観察光学系を経て観察面Fp上を取得することにより得た撮像カメラ24からの画像データにおいて、観察面Fp上で透過照明機構14からの透過光が照射された後述するテープ42が一様に明るい状態となることを言う。これは、後述するテープ42では、透過照明が照射された状態を観察光学系(撮像カメラ24)からの画像データで観察すると、何らの部材が貼り付けられていない状態であっても、一様に明るい状態ではなく線状や点状の部分的に暗い箇所が存在してしまうことによる。この暗い箇所は、テープ42に塵埃等が付着していたり接着剤の斑が存在したりすることに起因するものと考えられる。検査装置10では、上述した散乱効果を十分に得ることにより、テープ42に影の部分が生じることを防止することができるので、画像データ上におけるノイズ成分を除去することができる。 The third point is that the scattering effect by the lower end surface 35b as a scattering surface is sufficiently obtained in the transmitted light emitted from the upper end surface 35a. This scattering effect will be described later, in which image data from the imaging camera 24 obtained by obtaining the observation surface Fp through the observation optical system is irradiated with transmitted light from the transmission illumination mechanism 14 on the observation surface Fp. The tape 42 is uniformly bright. This is because, in the tape 42 described later, when the transmitted illumination is observed with image data from the observation optical system (imaging camera 24), even if no member is attached, it is uniform. This is due to the presence of partially dark portions such as lines or dots rather than a bright state. This dark portion is considered to be caused by dust or the like adhering to the tape 42 or the presence of adhesive spots. In the inspection apparatus 10, by sufficiently obtaining the above-described scattering effect, it is possible to prevent a shadow portion from being generated on the tape 42, so that noise components on the image data can be removed.
この保持機構13では、図1に示すように、保持ステージ34の各吸引孔38に吸引装置36が接続されている。この吸引装置36は、各吸引孔38の合流孔部38cにおいて、保持ステージ34における下端面34kを開口する箇所に接続されている。吸引装置36は、後述する保持制御部64(図2参照)の制御下で、各吸引孔38から空気を吸引する(真空引きする)ことが可能とされている。このため、保持機構13では、吸引装置36による吸引により、各吸引孔38を経て、内方凹所34l(大内径部34c(環状凸部34h)の内方の空間)を真空引きすることができる。この各吸引孔38と吸引装置36とは、内方凹所34lの空気を吸引可能な吸引機構として機能する。このため、保持機構13では、保持ステージ34が透過ステージ35を封止して保持した状態において、その環状凸部34hの突出端面34i上に載置した検査対象ワーク40を吸着保持することができる(図10等参照)。この吸着保持およびその作用については、後に詳細に説明する。 In the holding mechanism 13, as shown in FIG. 1, a suction device 36 is connected to each suction hole 38 of the holding stage 34. The suction device 36 is connected to a location where the lower end surface 34k of the holding stage 34 is opened in the merging hole portion 38c of each suction hole 38. The suction device 36 is capable of sucking (evacuating) air from each suction hole 38 under the control of a holding control unit 64 (see FIG. 2) described later. Therefore, the holding mechanism 13 can evacuate the inner recess 34l (the inner space of the large inner diameter portion 34c (annular convex portion 34h)) through each suction hole 38 by suction by the suction device 36. it can. Each of the suction holes 38 and the suction device 36 function as a suction mechanism capable of sucking air in the inner recess 34l. For this reason, the holding mechanism 13 can suck and hold the workpiece 40 to be inspected placed on the protruding end surface 34 i of the annular convex portion 34 h in a state where the holding stage 34 seals and holds the transmission stage 35. (See FIG. 10 etc.). This adsorption holding and its operation will be described in detail later.
検査対象ワーク40は、図5に示すように、ウェハ41(ガラス基板等も含むものとする)が貼り付けられたテープ(フィルム)42を、環状部材43の内方で保持して構成されている。この検査対象ワーク40では、(a)に示すように、ウェハ41から形成される複数の半導体素子44が、テープ42に貼り付けられたまま各境界面で切断(ダイシング)された状態であるものと、(b)に示すように、テープ42に貼り付けられて切断された後にテープ42が引き伸ばされて各個に分断(エキスパンド)された状態であるものとがある。ここで、環状部材43は、本実施例では、状態の差異(検査対象ワーク40の種類)に拘らず、保持ステージ34の環状凸部34h(図3参照)よりも大きな径寸法とされて、その突出端面34iの外側と一部が重複可能な径寸法とされている。検査装置10では、それらのいずれの状態であっても、各半導体素子44が適切に形成されているか否かを検査するために用いられる。このため、各半導体素子44を検査対象物として、検査対象ワーク40の状態を維持したまま当該検査対象物の検査を行うことができる。この検査対象ワーク40は、上述したように、保持機構13により吸着保持される。このとき、検査対象ワーク40では、後述するように、テープ42が透過ステージ35の上端面35aに張り付くように平坦化されて、観察面Fp上に配置される(図10等参照)。 As shown in FIG. 5, the workpiece 40 to be inspected is configured by holding a tape (film) 42 to which a wafer 41 (including a glass substrate and the like) is attached inside an annular member 43. In this inspection target workpiece 40, as shown in FIG. 6A, a plurality of semiconductor elements 44 formed from the wafer 41 are in a state of being cut (diced) at each boundary surface while being stuck to the tape 42. And, as shown in (b), there is a state where the tape 42 is stretched and divided into individual pieces (expanded) after being attached to the tape 42 and cut. Here, in the present embodiment, the annular member 43 has a larger diameter dimension than the annular convex portion 34h (see FIG. 3) of the holding stage 34, regardless of the difference in state (the type of the workpiece 40 to be inspected). The projecting end surface 34i has a diameter dimension that can partially overlap the outside. The inspection apparatus 10 is used for inspecting whether or not each semiconductor element 44 is appropriately formed in any of these states. For this reason, each semiconductor element 44 can be used as an inspection object, and the inspection object can be inspected while maintaining the state of the inspection object workpiece 40. As described above, the workpiece 40 to be inspected is sucked and held by the holding mechanism 13. At this time, in the work 40 to be inspected, as will be described later, the tape 42 is flattened so as to stick to the upper end surface 35a of the transmission stage 35 and disposed on the observation surface Fp (see FIG. 10 and the like).
この透過ステージ35は、後述するように、上端面35aに張り付くように平坦化されるテープ42に貼り付けられた検査対象物(各半導体素子44)を、観察面Fp上の位置に存在させることを可能とすべく、保持ステージ34とともに観察光軸Oaに関して位置調整が為されて設けられている。その透過ステージ35(保持ステージ34)の下方に透過照明機構14が設けられている(図1参照)。 As will be described later, the transmission stage 35 has an inspection object (each semiconductor element 44) attached to the tape 42 flattened so as to stick to the upper end surface 35a at a position on the observation surface Fp. In order to enable this, the position of the observation optical axis Oa is adjusted together with the holding stage 34. A transmission illumination mechanism 14 is provided below the transmission stage 35 (holding stage 34) (see FIG. 1).
透過照明機構14は、図1に示すように、保持ステージ34により吸着保持された検査対象物(検査対象ワーク40の各半導体素子44)に対して、観察光学系(観察機構11)とは反対側から透過光を照射するものである。この透過照明機構14は、後述する導光部52を経て透過用光源51から出射された透過光を後述する出射部53へと導光することが可能とされている。その透過用光源51は、図2に示すように、ハロゲンランプ51aとストロボ51bとの双方を選択的に発光させることが可能とされており、いずれが発光されても導光部52へと出射させることが可能とされている。 As shown in FIG. 1, the transmitted illumination mechanism 14 is opposite to the observation optical system (observation mechanism 11) with respect to the inspection target (each semiconductor element 44 of the inspection target workpiece 40) attracted and held by the holding stage 34. The transmitted light is irradiated from the side. The transmitted illumination mechanism 14 can guide the transmitted light emitted from the light source 51 for transmission through the light guide unit 52 described later to the output unit 53 described later. As shown in FIG. 2, the transmissive light source 51 can selectively emit both the halogen lamp 51a and the strobe light 51b, and the light is emitted to the light guide 52 regardless of which light is emitted. It is possible to make it.
透過照明機構14は、上述した透過用光源51(図2参照)に加えて、図6および図7に示すように、導光部52と出射部53と支持部54とを有する。導光部52は、図示は略すが一端側に設けられた入射面が透過用光源51(図2参照)のハロゲンランプ51aおよびストロボ51bから発光された光(透過光)を入射可能とすべくそれぞれに対向されて設けられており、当該入射面から入射された透過用光源51(図2参照)からの透過光を他端側に設けられた出射面52a(図7参照)へと導く。この導光部52は、本実施例では、光ファイバで形成されている。導光部52の出射面52aに出射部53が接続されている(図7参照)。 In addition to the above-described light source 51 for transmission (see FIG. 2), the transmission illumination mechanism 14 includes a light guide unit 52, an emission unit 53, and a support unit 54 as shown in FIGS. Although not shown, the light guide portion 52 has an incident surface provided on one end side so that light (transmitted light) emitted from the halogen lamp 51a and the strobe light 51b of the transmissive light source 51 (see FIG. 2) can be incident. They are provided so as to face each other, and guide the transmitted light from the transmission light source 51 (see FIG. 2) incident from the incident surface to the emission surface 52a (see FIG. 7) provided on the other end side. In the present embodiment, the light guide portion 52 is formed of an optical fiber. The emission part 53 is connected to the emission surface 52a of the light guide part 52 (see FIG. 7).
その出射部53は、筒状の筐体53aに少なくとも1つ以上の光学素子53bが収容されて構成されている。この光学素子53bは、導光部52の出射面52aに対向する入射面53cと、そこから入射された透過光を出射する出射面53dと、を構成している。光学素子53bは、入射面53cから入射された透過光を所望の状態として出射面53dから出射すべく、所定の光学的特性を有するものとされている。この光学素子53bの中心軸位置となる回転対称軸を、透過照明機構14(透過照明系)の透過光軸Pa(図1参照)とする。この透過照明機構14では、導光部52から出射部53へと透過光が入射されると、出射部53から透過光軸Paに沿う透過光を出射する。光学素子53bにおける所定の光学的特性とは、進行方向となる透過光軸Paに直交する断面で見た光量分布が均一化されていることと、照射領域の拡がり(拡散)が抑制されていることと、を言う。この光学素子53bは、上述した所定の光学的特性(インテグレータ機能および拡散防止(集光)機能)を有する光学素子で構成されており、本実施例では、光学素子53bは、ロッドインテグレータ光学部材で構成されている。 The emission part 53 is configured by accommodating at least one or more optical elements 53b in a cylindrical casing 53a. The optical element 53b includes an incident surface 53c that faces the exit surface 52a of the light guide section 52, and an exit surface 53d that emits transmitted light incident therefrom. The optical element 53b has a predetermined optical characteristic so that the transmitted light incident from the incident surface 53c is emitted from the emission surface 53d in a desired state. A rotationally symmetric axis serving as the central axis position of the optical element 53b is defined as a transmitted optical axis Pa (see FIG. 1) of the transmitted illumination mechanism 14 (transmitted illumination system). In this transmissive illumination mechanism 14, when transmitted light is incident from the light guide unit 52 to the emission unit 53, transmitted light along the transmission optical axis Pa is emitted from the emission unit 53. The predetermined optical characteristics in the optical element 53b are that the light amount distribution seen in a cross section orthogonal to the transmission optical axis Pa, which is the traveling direction, is uniform, and the spread (diffusion) of the irradiation region is suppressed. Say that. This optical element 53b is composed of an optical element having the above-mentioned predetermined optical characteristics (integrator function and diffusion prevention (condensing) function). In this embodiment, the optical element 53b is a rod integrator optical member. It is configured.
また、本実施例では、筐体53aにおいて光学素子53bの入射面53cよりも下方の下端部53eが筒状とされており、導光部52の他端部(出射面52aが設けられている側の端部)を内方に嵌入可能とされている。このため、出射部53と導光部52とは、導光部52の他端部を出射部53の下端部53eに嵌入することにより、導光部52の出射面52aと出射部53の入射面53cとが突き合わされて連結(接続)される。この状態において、導光部52と出射部53とが、支持部54により固定的に支持されている。 In the present embodiment, the lower end portion 53e below the incident surface 53c of the optical element 53b in the casing 53a is cylindrical, and the other end portion of the light guide portion 52 (the emission surface 52a is provided). Side end) can be fitted inward. For this reason, the light emission part 53 and the light guide part 52 insert the other end part of the light guide part 52 into the lower end part 53e of the light emission part 53, thereby allowing the light emission part 52a and the light emission part 53 to enter. The face 53c is abutted and connected (connected). In this state, the light guide portion 52 and the emission portion 53 are fixedly supported by the support portion 54.
このため、透過照明機構14では、透過用光源51から出射した透過光を、導光部52を経て出射部53へと進行させ、均一な光量分布の略平行光として出射部53から透過光軸Pa(図1参照)方向へ向けて出射させて、透過ステージ35の下端面35bを照射することができる。この透過光は、散乱面とされた下端面35bにより、散乱光とされて観察面Fpを裏面側から照射する。この透過光は、少なくとも保持機構13に吸着保持された検査対象ワーク40のテープ42を透過して、観察光学系(撮像カメラ24)により観察可能とされている(図1参照)。このため、透過照明機構14(透過用光源51、導光部52および出射部53)は、散乱面とされた透過ステージ35の下端面35bと協働として、観察光学系とは反対側から観察面Fp(検査対象物(半導体素子44))を照射する適切に散乱された透過光を生成する。本実施例では、透過光軸PaがZ軸方向に平行に設定されており、透過光軸Paと観察光軸Oaとが一致するように、観察光学系に対する透過照明機構14の位置が設定されている。また、透過照明機構14は、ロッドインテグレータ光学部材で構成された光学素子53bにより、観察面Fp上で見た透過光の照射領域で、観察光学系(撮像カメラ24)により観察可能な観察領域を充足することを可能とするように設定されている。 For this reason, in the transmissive illumination mechanism 14, the transmitted light emitted from the transmissive light source 51 travels through the light guide unit 52 to the emission unit 53, and is transmitted from the emission unit 53 as a substantially parallel light with a uniform light amount distribution. It is possible to irradiate the lower end surface 35b of the transmission stage 35 by emitting the light toward the Pa (see FIG. 1) direction. This transmitted light is scattered by the lower end surface 35b, which is a scattering surface, and irradiates the observation surface Fp from the back surface side. This transmitted light passes through at least the tape 42 of the work 40 to be inspected and held by the holding mechanism 13 and can be observed by the observation optical system (imaging camera 24) (see FIG. 1). For this reason, the transmission illumination mechanism 14 (the transmission light source 51, the light guide unit 52, and the emission unit 53) cooperates with the lower end surface 35b of the transmission stage 35 as a scattering surface, and observes from the side opposite to the observation optical system. Properly scattered transmitted light that irradiates the surface Fp (inspection object (semiconductor element 44)) is generated. In this embodiment, the transmission optical axis Pa is set parallel to the Z-axis direction, and the position of the transmission illumination mechanism 14 with respect to the observation optical system is set so that the transmission optical axis Pa and the observation optical axis Oa coincide with each other. ing. In addition, the transmission illumination mechanism 14 has an observation region that can be observed by the observation optical system (the imaging camera 24) in the irradiation region of the transmitted light viewed on the observation surface Fp by the optical element 53b configured by the rod integrator optical member. It is set so that it can be satisfied.
この検査装置10では、上述したように構成された観察機構11、反射照明機構12、保持機構13および透過照明機構14が、制御機構15(図2参照)の制御下で統括的に制御される。この制御機構15は、図2に示すように、画像制御部61と、照明制御部62と、駆動制御部63と、保持制御部64と、を有している。 In this inspection apparatus 10, the observation mechanism 11, the reflection illumination mechanism 12, the holding mechanism 13 and the transmission illumination mechanism 14 configured as described above are controlled in an integrated manner under the control of the control mechanism 15 (see FIG. 2). . As illustrated in FIG. 2, the control mechanism 15 includes an image control unit 61, an illumination control unit 62, a drive control unit 63, and a holding control unit 64.
画像制御部61は、撮像カメラ24により取得された画像データを適宜解析する。この解析とは、テープ42に貼り付けられた複数の検査対象物(半導体素子44)の輪郭線を認識することや、観察点におけるフォーカス状態を判断することや、各検査対象物における欠陥を認識することや、各検査対象物に設けられた電極や配線等の不備を認識することや、ウェハ41からの各検査対象物(半導体素子44)の切り出し不良を認識すること等があげられる。また、画像制御部61は、撮像カメラ24により取得された画像データに基づく映像をモニタ39に表示させる。 The image control unit 61 appropriately analyzes the image data acquired by the imaging camera 24. This analysis refers to recognizing the contour lines of a plurality of inspection objects (semiconductor elements 44) affixed to the tape 42, determining the focus state at the observation point, and recognizing defects in each inspection object. For example, recognizing defects of electrodes, wirings, etc. provided on each inspection object, recognizing defective cutting of each inspection object (semiconductor element 44) from the wafer 41, and the like. In addition, the image control unit 61 causes the monitor 39 to display a video based on the image data acquired by the imaging camera 24.
照明制御部62は、同軸用光源28とリング用光源32と透過用光源51とを適宜点消灯制御を行う。すなわち、照明制御部62は、同軸用光源28、リング用光源32および透過用光源51において、ハロゲンランプ(28a、32a、51a)もしくはストロボ(28b、32b、51b)を選択的に適宜点消灯させるとともに、同軸用光源28、リング用光源32および透過用光源51を、同時にまたは個別に点灯および消灯させる。このハロゲンランプ(28a、32a、51a)は、観察用照明として用いるものであり、ストロボ(28b、32b、51b)は検査用照明として用いるものである。また、照明制御部62は、各光源(28、32、51)において、検査用照明としてのストロボ(28b、32b、51b)の明るさ調整が可能とされている。この明るさ調整は、例えば、複数のNDフィルタのいずれかを適宜選択することで、実現することができる。 The illumination control unit 62 appropriately turns on / off the coaxial light source 28, the ring light source 32, and the transmission light source 51. That is, the illumination control unit 62 selectively turns on and off the halogen lamps (28a, 32a, 51a) or the strobes (28b, 32b, 51b) appropriately in the coaxial light source 28, the ring light source 32, and the transmissive light source 51. At the same time, the coaxial light source 28, the ring light source 32, and the transmissive light source 51 are turned on and off simultaneously or individually. The halogen lamps (28a, 32a, 51a) are used as observation illumination, and the strobes (28b, 32b, 51b) are used as inspection illumination. In addition, the illumination control unit 62 can adjust the brightness of the strobes (28b, 32b, 51b) as the inspection illumination in each light source (28, 32, 51). This brightness adjustment can be realized, for example, by appropriately selecting one of a plurality of ND filters.
駆動制御部63は、XY駆動機構65、回転駆動機構66およびZ軸駆動機構67を適宜駆動制御する。すなわち、駆動制御部63は、Z軸駆動機構67を駆動制御することにより、観察機構11における観察光学系および同軸落射照明機構29を観察光軸Oa方向(Z軸方向)に適宜移動させることができるとともに、斜光照明機構33を観察光軸Oa方向(Z軸方向)に適宜移動させることができる。これにより、保持機構13に吸着保持された検査対象ワーク40の検査対象物(各半導体素子44)を、適切な照明の下で、適切に観察することを可能とする。また、駆動制御部63は、XY駆動機構65および回転駆動機構66を駆動制御することにより、保持ステージ34すなわちそこに吸着保持された検査対象ワーク40を、観察光軸Oa(観察光学系)および透過光軸Pa(透過照明機構14)に対して、そこに直交するX−Y平面上で適宜移動させることができるとともに、観察光軸Oa(透過光軸Pa(Z軸方向))回りに適宜回転させることができる。これにより、保持ステージ34に吸着保持された検査対象ワーク40における任意の位置の検査対象物(半導体素子44)を検査することが可能となる。 The drive control unit 63 appropriately drives and controls the XY drive mechanism 65, the rotation drive mechanism 66, and the Z-axis drive mechanism 67. That is, the drive control unit 63 can appropriately move the observation optical system and the coaxial incident illumination mechanism 29 in the observation mechanism 11 in the observation optical axis Oa direction (Z-axis direction) by driving and controlling the Z-axis drive mechanism 67. In addition, the oblique illumination mechanism 33 can be appropriately moved in the observation optical axis Oa direction (Z-axis direction). Thereby, it becomes possible to appropriately observe the inspection object (each semiconductor element 44) of the inspection object workpiece 40 held by suction by the holding mechanism 13 under appropriate illumination. Further, the drive control unit 63 controls the XY drive mechanism 65 and the rotation drive mechanism 66 to control the holding stage 34, that is, the workpiece 40 to be inspected and held on the observation optical axis Oa (observation optical system) and The transmission optical axis Pa (transmission illumination mechanism 14) can be appropriately moved on an XY plane orthogonal to the transmission optical axis Pa (transmission illumination mechanism 14) and appropriately around the observation optical axis Oa (transmission optical axis Pa (Z-axis direction)). Can be rotated. As a result, it is possible to inspect an inspection object (semiconductor element 44) at an arbitrary position on the inspection target work 40 held by suction on the holding stage 34.
保持制御部64は、吸引装置36を適宜駆動制御する。すなわち、保持制御部64は、吸引装置36を適宜駆動制御することにより、保持機構13が検査対象ワーク40を吸着保持することと、それを解除することと、を切り替えることができる。 The holding control unit 64 controls driving of the suction device 36 as appropriate. That is, the holding control unit 64 can switch between holding the inspection target workpiece 40 by suction and releasing it by appropriately driving and controlling the suction device 36.
制御機構15では、この他にも、検査のための画像データの比較等が可能とされている。この制御機構15の制御下で統括的に制御される検査装置10では、次のように検査対象ワーク40のテープ42に貼り付けられたすべての検査対象物(半導体素子44)の検査を行う。 In addition to this, the control mechanism 15 can compare image data for inspection. In the inspection apparatus 10 that is comprehensively controlled under the control of the control mechanism 15, all inspection objects (semiconductor elements 44) attached to the tape 42 of the inspection object workpiece 40 are inspected as follows.
検査装置10では、先ず、保持制御部64により吸引装置36を駆動させることにより、保持機構13で検査対象ワーク40を吸着保持して、チップスキャンを行う。このチップスキャンでは、保持機構13における透過ステージ35の上端面35aすなわち検査対象ワーク40(テープ42)において上端面35aに吸着された箇所を全面に渡って走査するように、駆動制御部63により、観察光軸Oaに直交する面(X−Y平面)に沿って保持ステージ34を移動させる。この走査では、透過照明機構14からの透過光を照射しつつ撮像カメラ24による画像の取得を行う。 In the inspection apparatus 10, first, the suction device 36 is driven by the holding control unit 64, so that the inspection target workpiece 40 is sucked and held by the holding mechanism 13 to perform chip scanning. In this chip scan, the drive control unit 63 scans the upper end surface 35a of the transmission stage 35 in the holding mechanism 13, that is, the portion adsorbed to the upper end surface 35a of the workpiece 40 (tape 42) to be inspected, over the entire surface. The holding stage 34 is moved along a plane (XY plane) orthogonal to the observation optical axis Oa. In this scanning, an image is acquired by the imaging camera 24 while irradiating the transmitted light from the transmission illumination mechanism 14.
次に、チップマップの作成を行う。このチップマップとは、検査対象ワーク40(テープ42)における各検査対象物(半導体素子44)の位置、および姿勢を示すものである。制御機構15では、チップスキャンにより、輪郭線を認識することでテープ42に貼り付けられた複数の検査対象物(半導体素子44)を判別するとともに、駆動制御部63による移動位置情報を加味することで、各検査対象物(半導体素子44)の位置および姿勢を取得する。 Next, a chip map is created. This chip map indicates the position and orientation of each inspection object (semiconductor element 44) on the inspection object work 40 (tape 42). The control mechanism 15 discriminates a plurality of inspection objects (semiconductor elements 44) affixed to the tape 42 by recognizing the outline by chip scanning, and considers movement position information by the drive control unit 63. Thus, the position and orientation of each inspection object (semiconductor element 44) are acquired.
次に、検査対象物(半導体素子44)の判定を行う。この判定では、作成したチップマップに基づいて、観察光学系による観察位置を決定し、その決定に応じて駆動制御部63により保持ステージ34を移動させる。その後、その観察位置にある検査対象物(半導体素子44)を、その検査対象物の良品のデータと比較し、当該検査対象物(半導体素子44)の良否の判断を行う。この良否の判断は、撮像カメラ24からの画像データを画像制御部61で解析することにより行う。 Next, the inspection object (semiconductor element 44) is determined. In this determination, an observation position by the observation optical system is determined based on the created chip map, and the holding stage 34 is moved by the drive control unit 63 according to the determination. Thereafter, the inspection object (semiconductor element 44) at the observation position is compared with non-defective data of the inspection object, and the quality of the inspection object (semiconductor element 44) is determined. This quality determination is performed by analyzing image data from the imaging camera 24 by the image control unit 61.
この検査対象物(半導体素子44)の判定を、作成したチップマップに基づいて、検査対象ワーク40(テープ42)上のすべての検査対象物(半導体素子44)に対して順次行うことにより、当該検査対象ワーク40に対する検査が終了する。なお、この検査は、画像制御部61の制御下でモニタ39に表示された、撮像カメラ24により取得された画像データに基づく映像を目視することにより、行うこともできる。
(技術の課題)
次に、従来の検査装置における技術の課題について、図8を用いて説明する。この図8は、比較のための他の構成の検査装置90における保持機構91を示す図4と同様の説明図である。この検査装置90は、保持機構91の構成を除くと他の構成は検査装置10と同様であることから図示を略しており、その図示を略す他の構成に関しては検査装置10と同様の名称および符号を用いて説明する。なお、図8では、理解容易のために、空気溜りApを強調して示しているが、実際に形成される空気溜りApと必ずしも一致するものではない。
By sequentially determining all the inspection objects (semiconductor elements 44) on the inspection object workpiece 40 (tape 42) based on the created chip map, the inspection object (semiconductor element 44) is determined. The inspection for the inspection target workpiece 40 is completed. This inspection can also be performed by visually observing an image based on image data acquired by the imaging camera 24 displayed on the monitor 39 under the control of the image control unit 61.
(Technical issues)
Next, a technical problem in the conventional inspection apparatus will be described with reference to FIG. FIG. 8 is an explanatory view similar to FIG. 4 showing a holding mechanism 91 in an inspection apparatus 90 having another configuration for comparison. The inspection device 90 is not shown because the other configuration is the same as that of the inspection device 10 except for the configuration of the holding mechanism 91, and the same names and the same names as those of the inspection device 10 are used for other configurations that are not shown. This will be described using reference numerals. In FIG. 8, for the sake of easy understanding, the air reservoir Ap is shown in an emphasized manner, but it does not necessarily coincide with the actually formed air reservoir Ap.
検査装置10と同様の検査装置では、観察光学系(観察機構11)で検査対象物を適切に観察するためには、その検査対象物を合焦位置に適切に配置させる必要がある。ここで、上述したようなテープ42に貼り付けられた各半導体素子44を検査対象物として、検査対象ワーク40の状態を維持したまま当該検査対象物の検査を行う場合、その検査対象物を含む自重によりテープが撓んでしまうことから、観察光学系(観察機構11)の合焦位置となる観察面Fpに沿う状態としつつその観察面Fp上に存在させることが困難であるので、その観察面Fp上に検査対象物を適切に配置することが困難である。 In the inspection apparatus similar to the inspection apparatus 10, in order to appropriately observe the inspection object with the observation optical system (observation mechanism 11), it is necessary to appropriately arrange the inspection object at the in-focus position. Here, when the inspection target object is inspected while maintaining the state of the inspection target workpiece 40 using each semiconductor element 44 attached to the tape 42 as described above as the inspection target object, the inspection target object is included. Since the tape bends due to its own weight, it is difficult for the tape to be present on the observation surface Fp while being in a state along the observation surface Fp that is the in-focus position of the observation optical system (observation mechanism 11). It is difficult to properly arrange the inspection object on the Fp.
このため、検査対象ワーク40のテープ42を平坦な状態で保持するために、図示は略すが平坦な載置面を有する載置台を用いるとともに、その載置面に複数の吸着孔を設けることにより、テープ42を載置面に吸着させて保持する構成とすることが考えられる。ところが、載置台では、少なくとも透過照明機構14から出射された透過光の透過を許す透明な部材(透過部材)で形成し、その透過照明機構14からの透過光による検査対象物(各半導体素子44)の照射を可能とする必要がある。このため、載置台の載置面に複数の吸着孔を設ける構成とすることは困難である。 For this reason, in order to hold the tape 42 of the workpiece 40 to be inspected in a flat state, a mounting table having a flat mounting surface (not shown) is used, and a plurality of suction holes are provided on the mounting surface. It is conceivable to adopt a configuration in which the tape 42 is adsorbed and held on the mounting surface. However, the mounting table is formed of at least a transparent member (transmission member) that allows transmission of the transmitted light emitted from the transmission illumination mechanism 14, and an inspection object (each semiconductor element 44) by the transmission light from the transmission illumination mechanism 14. ) Irradiation is necessary. For this reason, it is difficult to have a configuration in which a plurality of suction holes are provided on the mounting surface of the mounting table.
このことから、検査装置90では、図8に示すように、保持機構91を用いることが考えられる。この保持機構91は、少なくとも透過照明機構14から出射された透過光の透過を許す透明な部材(透過部材)で形成された透過ステージ92を、全体に円筒形状を呈する保持ステージ93で保持する構成とされている。その透過ステージ92は、上側(観察機構11側)となる上端面92aが平坦とされており、載置面を構成している。保持ステージ93は、上側(観察機構11側)となる上端面93aが透過ステージ92の上端面92aと同一の平面を形成している。その保持ステージ93には、複数の吸引孔94(図8では2つのみを図示している)が設けられている。各吸引孔94は、一端が上端面93aを開口するとともに、他端が保持ステージ93の下端面93bを開口している。この各吸引孔94の他端には、空気を吸引する(真空引きする)ことのできる吸引装置95が接続されている。この保持機構91では、検査対象ワーク40のテープ42を、透過ステージ92の上端面92aおよび保持ステージ93の上端面93aに載置させた状態で、吸引装置95により各吸引孔94の空気を吸引する(真空引きする)ことにより、テープ42を上端面92aおよび上端面93aに吸着させて保持することができる。 For this reason, in the inspection apparatus 90, it is conceivable to use a holding mechanism 91 as shown in FIG. The holding mechanism 91 is configured to hold a transmission stage 92 formed of a transparent member (transmission member) allowing transmission of transmitted light emitted from at least the transmission illumination mechanism 14 with a holding stage 93 having a cylindrical shape as a whole. It is said that. The transmission stage 92 has a flat upper end surface 92a on the upper side (observation mechanism 11 side), and constitutes a mounting surface. In the holding stage 93, the upper end surface 93 a on the upper side (the observation mechanism 11 side) forms the same plane as the upper end surface 92 a of the transmission stage 92. The holding stage 93 is provided with a plurality of suction holes 94 (only two are shown in FIG. 8). Each suction hole 94 has one end opening the upper end surface 93 a and the other end opening the lower end surface 93 b of the holding stage 93. A suction device 95 capable of sucking air (evacuating) is connected to the other end of each suction hole 94. In the holding mechanism 91, the air in each suction hole 94 is sucked by the suction device 95 in a state where the tape 42 of the workpiece 40 to be inspected is placed on the upper end surface 92 a of the transmission stage 92 and the upper end surface 93 a of the holding stage 93. By doing (evacuating), the tape 42 can be adsorbed and held on the upper end surface 92a and the upper end surface 93a.
ところが、このような構成の保持機構91では、透過ステージ92の上端面92a上において、テープ42を平坦な状態とする、すなわちテープ42を上端面92aに満遍なく沿わせつつ張り付かせることが困難である。これは、保持ステージ93の各吸引孔94から吸引すると、テープ42と透過ステージ92の上端面92aとの間には、複数の空気溜りApが生じてしまうことによる。この各空気溜りApは、各吸引孔94に近い箇所から、テープ42が上端面92aに吸着することに起因して生じるものと考えられる。このため、保持機構91を用いる検査装置90では、各空気溜りApによりテープ42を平坦な状態とすることができないので、観察光学系(観察機構11)の合焦位置となる観察面Fp上に検査対象物(各半導体素子44)を適切に配置することが困難であり、正確な検査を行うことができなくなってしまう。
(保持機構13における作用)
次に、検査装置10の保持機構13における作用について、図9および図10を用いて説明する。この図9は、保持機構13による検査対象ワーク40の吸着保持の過程を示す図4と同様の説明図であり、(a)は保持機構13に検査対象ワーク40を載置した様子を示し、(b)は吸引が開始された後の様子を示し、(c)は(b)の後に吸引が継続された様子を示す。図10は、保持機構13において、載置された検査対象ワーク40を吸着保持した様子を示す図4と同様の説明図である。なお、図9および図10では、理解容易のために、検査対象ワーク40におけるテープ42の撓み状態を強調して示しているが、実際のテープ42の撓み状態と必ずしも一致するものではない。
However, in the holding mechanism 91 having such a configuration, it is difficult to make the tape 42 flat on the upper end surface 92a of the transmission stage 92, that is, to stick the tape 42 while keeping it evenly along the upper end surface 92a. is there. This is because, when sucked from the suction holes 94 of the holding stage 93, a plurality of air pockets Ap are generated between the tape 42 and the upper end surface 92 a of the transmission stage 92. Each air pocket Ap is considered to be caused by the tape 42 adsorbing to the upper end surface 92a from a location close to each suction hole 94. For this reason, in the inspection apparatus 90 using the holding mechanism 91, the tape 42 cannot be made flat by the respective air reservoirs Ap, so that the inspection apparatus 90 on the observation surface Fp serving as a focusing position of the observation optical system (observation mechanism 11). It is difficult to properly arrange inspection objects (each semiconductor element 44), and accurate inspection cannot be performed.
(Operation in the holding mechanism 13)
Next, the effect | action in the holding mechanism 13 of the inspection apparatus 10 is demonstrated using FIG. 9 and FIG. FIG. 9 is an explanatory view similar to FIG. 4 showing the process of attracting and holding the workpiece 40 to be inspected by the holding mechanism 13, and (a) shows a state in which the workpiece 40 to be inspected is placed on the holding mechanism 13. (B) shows a state after the suction is started, and (c) shows a state in which the suction is continued after (b). FIG. 10 is an explanatory view similar to FIG. 4 showing a state in which the held inspection target workpiece 40 is sucked and held in the holding mechanism 13. In FIGS. 9 and 10, the bending state of the tape 42 in the workpiece 40 to be inspected is emphasized for easy understanding, but this does not necessarily match the actual bending state of the tape 42.
検査装置10の保持機構13では、図9(a)に示すように、各半導体素子44を検査対象物として検査対象ワーク40の状態を維持したまま、保持ステージ34の突出端面34i上に検査対象ワーク40の環状部材43の一部とともに内方位置のテープ42を載置する。すると、検査対象ワーク40では、テープ42の周縁部が下方から支持されていることに起因して、テープ42上に大きな偏りなく貼り付けられた各半導体素子44(検査対象物)の重さを含む自重により、中央位置が落ち込むように撓み変形する。ここで、保持機構13では、内方凹所34lが形成されている、すなわち透過ステージ35の上端面35aおよび保持ステージ34の環状底面34fが、保持ステージ34の突出端面34iに対して、観察光軸Oa方向(鉛直方向)の下方側に同一の平坦面を形成していることから、テープ42における中央位置が落ち込むように撓み変形することを可能としている。この内方凹所34lは、保持機構13において載置面としての保持ステージ34の突出端面34iに載置された検査対象ワーク40のテープ42の中央位置が落ち込むように撓み変形することを許容する機能を有する。 In the holding mechanism 13 of the inspection apparatus 10, as shown in FIG. 9A, each semiconductor element 44 is used as an inspection object, and the inspection target workpiece 40 is maintained on the protruding end surface 34 i of the holding stage 34 while maintaining the state of the inspection target workpiece 40. The tape 42 at the inward position is placed together with a part of the annular member 43 of the work 40. Then, in the work 40 to be inspected, the weight of each semiconductor element 44 (inspection object) pasted on the tape 42 without a large deviation due to the peripheral edge of the tape 42 being supported from below. Due to its own weight, it bends and deforms so that the center position falls. Here, in the holding mechanism 13, an inward recess 34 l is formed, that is, the upper end surface 35 a of the transmission stage 35 and the annular bottom surface 34 f of the holding stage 34 are observed light with respect to the protruding end surface 34 i of the holding stage 34. Since the same flat surface is formed on the lower side of the axis Oa direction (vertical direction), it is possible to bend and deform so that the central position of the tape 42 falls. The inward recess 34l allows the holding mechanism 13 to bend and deform so that the center position of the tape 42 of the workpiece 40 to be inspected placed on the protruding end surface 34i of the holding stage 34 as a placement surface falls. It has a function.
その後、保持機構13では、保持制御部64(図2参照)の制御下で、吸引装置36を駆動させて各吸引孔38から空気を吸引する(真空引きする)。このとき、保持機構13では、保持ステージ34が透過ステージ35を封止して保持するとともに、平坦とされた保持ステージ34の突出端面34iにテープ42が載置されていることにより、内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の気密性が確保されている。このため、内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間、すなわち透過ステージ35の上端面35a、保持ステージ34の環状底面34f、保持ステージ34の環状凸部34hおよび保持ステージ34の突出端面34iに載置されたテープ42により規定された空間の圧力が低下する。すると、テープ42は、当該空間とその周辺雰囲気との圧力の差により、中央近傍から透過ステージ35の上端面35aに張り付き(図9(b)参照)、そのテープ42の上端面35aに張り付く領域が放射状に広がっていく(図9(c)参照)。これは、次のことが考えられる。 Thereafter, in the holding mechanism 13, under the control of the holding control unit 64 (see FIG. 2), the suction device 36 is driven and air is sucked (evacuated) from each suction hole 38. At this time, in the holding mechanism 13, the holding stage 34 seals and holds the transmission stage 35, and the tape 42 is placed on the projecting end surface 34 i of the holding stage 34 that is flattened. The air tightness of the space defined by the location 34l and the tape 42 is ensured. Therefore, the space defined by the inward recess 34l and the tape 42, that is, the upper end surface 35a of the transmission stage 35, the annular bottom surface 34f of the holding stage 34, the annular convex portion 34h of the holding stage 34, and the protruding end surface of the holding stage 34 The pressure in the space defined by the tape 42 placed on 34i decreases. Then, the tape 42 sticks to the upper end surface 35a of the transmission stage 35 from the vicinity of the center due to the pressure difference between the space and the surrounding atmosphere (see FIG. 9B), and the region that sticks to the upper end surface 35a of the tape 42. Spreads radially (see FIG. 9C). This can be considered as follows.
当該空間とその周辺雰囲気との間で圧力差が生じると、当該空間を規定する部材には外方から内方へ向けた押圧力が作用する。すると、当該空間を規定する部材のうち、最も柔軟なテープ42が変形する。ここで、テープ42は、周辺雰囲気から当該空間に向けて同一の力が全体に均等に作用すると、環状部材43により周辺が全周に渡って保持されていることから、中央部分が最も大きく変位して、透過ステージ35の上端面35aに到達する。その後、さらに当該空間の圧力が低下することにより、テープ42における上端面35aに到達した箇所の周辺が上端面35aに到達する。このため、テープ42では、中央近傍から放射方向へと環状部材43(突出端面34i)へ向かう順に、透過ステージ35の上端面35aに張り付く(図9(b)から(c)参照)。すると、保持機構13では、図10に示すように、透過ステージ35の上端面35aから、そこと同一の平坦面を形成する保持ステージ34の環状底面34fに渡って、テープ42が張り付くこととなる。このとき、テープ42では、中央近傍から放射方向へと環状部材43(突出端面34i)へ向かう順に上端面35aおよび環状底面34fに張り付くことから、上端面35aおよび環状底面34fとの間の空気を放射方向外側すなわち各吸引孔38側へと押し出すことができるので、上端面35aおよび環状底面34fとの間に空気溜りが形成されることを防止することができる(図9(b)から(c)参照)。このため、保持機構13では、内方凹所34lとテープ42とにより規定される空間の空気を吸引することにより、テープ42を透過ステージ35の上端面35aおよび保持ステージ34の環状底面34fに張り付くように平坦化させて保持(吸着保持)することができ、このテープ42に貼り付けられた各半導体素子44(検査対象物)を観察面Fp上に適切に配置することができる。 When a pressure difference is generated between the space and the surrounding atmosphere, a pressing force directed from the outside to the inside acts on the member defining the space. As a result, the most flexible tape 42 of the members defining the space is deformed. Here, when the same force acts evenly on the entire surface from the surrounding atmosphere toward the space, the tape 42 is held around the entire circumference by the annular member 43, so that the central portion is displaced the most. Then, it reaches the upper end surface 35 a of the transmission stage 35. Thereafter, when the pressure in the space further decreases, the periphery of the portion of the tape 42 that has reached the upper end surface 35a reaches the upper end surface 35a. For this reason, the tape 42 sticks to the upper end surface 35a of the transmission stage 35 in the order from the center to the annular member 43 (projecting end surface 34i) in the radial direction (see FIGS. 9B to 9C). Then, in the holding mechanism 13, as shown in FIG. 10, the tape 42 sticks from the upper end surface 35 a of the transmission stage 35 to the annular bottom surface 34 f of the holding stage 34 that forms the same flat surface there. . At this time, since the tape 42 sticks to the upper end surface 35a and the annular bottom surface 34f in the radial direction from the vicinity of the center toward the annular member 43 (projecting end surface 34i), the air between the upper end surface 35a and the annular bottom surface 34f is removed. Since it can be pushed out radially outward, that is, to each suction hole 38 side, an air pocket can be prevented from being formed between the upper end surface 35a and the annular bottom surface 34f (from FIG. 9 (b) to (c )reference). Therefore, in the holding mechanism 13, the tape 42 is attached to the upper end surface 35 a of the transmission stage 35 and the annular bottom surface 34 f of the holding stage 34 by sucking the air in the space defined by the inward recess 34 l and the tape 42. Thus, each semiconductor element 44 (inspection object) affixed to the tape 42 can be appropriately arranged on the observation surface Fp.
この内方凹所34lの観察光軸Oa方向で見た段差、すなわち保持ステージ34の突出端面34iと、透過ステージ35の上端面35a(保持ステージ34の環状底面34f)と、の観察光軸Oa方向で見た設定位置の差分は、以下の2点を考慮して設定している。 The step of the inward recess 34l viewed in the direction of the observation optical axis Oa, that is, the observation optical axis Oa between the protruding end surface 34i of the holding stage 34 and the upper end surface 35a of the transmission stage 35 (the annular bottom surface 34f of the holding stage 34). The difference between the setting positions viewed in the direction is set in consideration of the following two points.
1点目は、対象とする検査対象ワーク(40)のテープ(42)を突出端面34iに載置した状態において、自重による撓み変形により、テープ(42)の中央位置が上端面35aに接することのないものとする、もしくは上端面35aとの間の空気を放射方向外側(各吸引孔38側)へと押し出すことを可能とする観点から、上端面35aへの接触箇所を少なくする。ここで自重による撓み変形とは、テープ(42)とそこに貼付された検査対象物(本実施例では各半導体素子44)との重さに起因して撓み変形することをいう。この点は、主に内方凹所34lの段差(当該設定位置の差分)の下限値に影響する。 The first point is that the center position of the tape (42) is in contact with the upper end surface 35a due to bending deformation due to its own weight in a state where the tape (42) of the work to be inspected (40) is placed on the protruding end surface 34i. From the viewpoint of making it possible to push the air between the upper end surface 35a and the outside in the radial direction (each suction hole 38 side), the number of contact points with the upper end surface 35a is reduced. Here, the bending deformation due to its own weight refers to bending deformation due to the weight of the tape (42) and the inspection object (each semiconductor element 44 in this embodiment) attached thereto. This point mainly affects the lower limit value of the step (difference between the set positions) of the inward recess 34l.
2点目は、対象とする検査対象ワーク(40)のテープ(42)を突出端面34iに載置した状態において、吸引装置36での空気の吸引による撓み変形により、少なくとも上端面35aの中心位置から所定の領域に渡ってテープ(42)が平坦化して接する状態とすることを可能とする。このテープ(42)における中心位置からの所定の領域とは、検査対象物(本実施例では各半導体素子44)が貼付されている領域をいう。この点は、主に内方凹所34lの段差(当該設定位置の差分)の上限値に影響する。 The second point is that at least the center position of the upper end surface 35a is caused by the bending deformation due to air suction by the suction device 36 in a state where the tape (42) of the work to be inspected (40) is placed on the protruding end surface 34i. The tape (42) can be flattened and contacted over a predetermined area. The predetermined area from the center position on the tape (42) refers to an area where an inspection object (each semiconductor element 44 in this embodiment) is affixed. This point mainly affects the upper limit value of the step (difference in the set position) of the inward recess 34l.
なお、テープ(42)における撓み変形の量および状態と、変形可能な量とは、テープ42の材質や、環状部材43によるテープ42の保持位置(テープ42の突出端面34iに載置された位置)、テープ42に貼付された各半導体素子44の位置および個数等に応じて異なるものであることから、検査対象ワーク40の種類に応じて異なるものとなる。このため、当該設定位置の差分は、対象とする検査対象ワーク(40)(そのテープ(42))に応じて、適宜設定する必要がある。本実施例では、上述したように、この設定位置の差分を2.5mmとしている。なお、2.5mm以外の差分としても良く、適時設定可能である。 The amount and state of the bending deformation in the tape (42) and the deformable amount are the material of the tape 42, the holding position of the tape 42 by the annular member 43 (the position placed on the protruding end surface 34i of the tape 42). ), Which differs depending on the position and number of the semiconductor elements 44 attached to the tape 42, and therefore differs depending on the type of the workpiece 40 to be inspected. For this reason, it is necessary to appropriately set the difference between the set positions in accordance with the work to be inspected (40) (tape (42)). In the present embodiment, as described above, the difference between the set positions is 2.5 mm. Note that the difference may be other than 2.5 mm and can be set as appropriate.
このように、本発明に係る検査装置10では、保持機構13において、透過ステージ35を取り囲んで保持する保持ステージ34の環状凸部34h(その突出端面34i)に検査対象ワーク40のテープ42を載置するとともに、その保持ステージ34に形成した各吸引孔38から吸引装置36で空気を吸引することにより、環状凸部34h(大内径部34c)の内方の内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の圧力の低下による押圧力を利用して、テープ42の中央位置から放射方向の外側に向けてテープ42と透過ステージ35の上端面35aとの間の空気を押し出しつつテープ42を上端面35aに吸着することができる。このため、空気溜りが形成されることを防止して、テープ42を上端面35aに張り付くように平坦化させることができるので、テープ42に貼り付けられた検査対象物(本実施例では各半導体素子44)を観察面Fp上に適切に配置することができ、当該検査対象物を観察光学系により適切に観察することができ、その情報を正確に得ることができる。 As described above, in the inspection apparatus 10 according to the present invention, the tape 42 of the workpiece 40 to be inspected is placed on the annular convex portion 34 h (its projecting end surface 34 i) of the holding stage 34 that surrounds and holds the transmission stage 35 in the holding mechanism 13. At the same time, the suction device 36 sucks air from the suction holes 38 formed in the holding stage 34, whereby the inner recess 34l and the tape 42 on the inner side of the annular convex portion 34h (large inner diameter portion 34c) The tape 42 is pushed out while extruding air between the tape 42 and the upper end surface 35a of the transmission stage 35 from the central position of the tape 42 toward the outside in the radial direction using the pressing force due to the decrease in the pressure of the space defined by Can be adsorbed to the upper end surface 35a. For this reason, it is possible to prevent the formation of air pockets and to flatten the tape 42 so as to stick to the upper end surface 35a. Therefore, the inspection object attached to the tape 42 (in this embodiment, each semiconductor The element 44) can be appropriately arranged on the observation plane Fp, the inspection object can be appropriately observed by the observation optical system, and the information can be obtained accurately.
また、検査装置10では、保持機構13において、透過ステージ35を取り囲んで保持する保持ステージ34の環状凸部34h(大内径部34c)の内方に内方凹所34lを形成していることから、保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iに検査対象ワーク40のテープ42を載置して、内方凹所34lの空気を吸引装置36で吸引することにより、テープ42の中央位置が落ち込むように撓み変形することを許容することができるので、中央位置から放射方向の外側に向けてテープ42を上端面35aに吸着させることができる。 Further, in the inspection apparatus 10, the holding mechanism 13 has an inward recess 34 l formed inside the annular convex portion 34 h (large inner diameter portion 34 c) of the holding stage 34 that surrounds and holds the transmission stage 35. The tape 42 of the workpiece 40 to be inspected is placed on the projecting end surface 34i of the annular projection 34h of the holding stage 34, and the air in the inward recess 34l is sucked by the suction device 36, so that the center position of the tape 42 is adjusted. Since it is allowed to bend and deform so as to fall, the tape 42 can be adsorbed to the upper end surface 35a from the central position toward the outside in the radial direction.
さらに、検査装置10では、保持機構13において、環状凸部34h(大内径部34c)の内方に内方凹所34lを形成していることから、透過ステージ35を取り囲んで保持する保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iに検査対象ワーク40のテープ42を載置した際、自重によりテープ42の中央位置が落ち込むように撓み変形した状態とすることができるので、各吸引孔38からの吸引によるテープ42の中央位置からの上端面35aへの吸着をより確実なものとすることができる。 Further, in the inspection apparatus 10, the holding mechanism 13 has an inward recess 34 l formed inward of the annular convex portion 34 h (large inner diameter portion 34 c), so that the holding stage 34 that surrounds and holds the transmission stage 35. When the tape 42 of the workpiece 40 to be inspected is placed on the projecting end surface 34i of the annular convex portion 34h, it can be bent and deformed so that the center position of the tape 42 falls due to its own weight. The suction to the upper end surface 35a from the center position of the tape 42 can be made more reliable.
検査装置10では、保持機構13において、透過ステージ35を取り囲んで保持する保持ステージ34に形成した各吸引孔38から内方凹所34lの空気を吸引するものであることから、テープ42の中央位置が上端面35aに吸着されてもその吸着箇所を取り囲む環状の空間の圧力を均一に低下させることができるので、テープ42の中央位置から放射方向の外側に向けた上端面35aへの吸着をより確実なものとすることができる。 In the inspection apparatus 10, the holding mechanism 13 sucks air in the inward recesses 34 l from the suction holes 38 formed in the holding stage 34 that surrounds and holds the transmission stage 35. Even if the upper surface 35a is adsorbed, the pressure in the annular space surrounding the adsorbed portion can be reduced uniformly, so that the upper surface 35a is more adsorbed toward the outer side in the radial direction from the central position of the tape 42. It can be certain.
検査装置10では、保持機構13の各吸引孔38が、透過ステージ35を取り囲んで保持する保持ステージ34に形成されていることから、中央位置から放射方向の外側へ向けてテープ42が上端面35aに吸着されていっても、当該吸着箇所が保持ステージ34(その各吸引孔38が設けられた位置)に至るまでは上述した環状の空間の圧力を均一に低下させることができるので、中央位置から放射方向の外側へ向けてテープ42における保持ステージ34の各吸引孔38が設けられた位置まで偏りなく吸着させることができ、テープ42を透過ステージ35の上端面35aの全領域に渡ってより確実に吸着させることができる。 In the inspection apparatus 10, since each suction hole 38 of the holding mechanism 13 is formed in the holding stage 34 that surrounds and holds the transmission stage 35, the tape 42 extends from the center position toward the outer side in the radial direction. Since the pressure in the annular space described above can be reduced uniformly until the suction location reaches the holding stage 34 (the position where each suction hole 38 is provided) To the outside in the radial direction, the tape 42 can be adsorbed evenly to the position where each suction hole 38 of the holding stage 34 is provided, and the tape 42 is spread over the entire area of the upper end surface 35a of the transmission stage 35. Adsorption can be ensured.
検査装置10では、保持機構13の各吸引孔38が、一端が大内径部34cの内周面34jを開口する周面孔部38aを有するものであることから、中央位置から放射方向の外側へ向けてテープ42が上端面35aに吸着されていっても、テープ42により周面孔部38aが塞がれることを防止することができるので、テープ42におけるより広い領域を透過ステージ35の上端面35aおよびそこと同一の平坦面を形成する保持ステージ34の環状底面34fに吸着させることができる。これは、テープ42の撓み変形の量には限界があることによる。 In the inspection apparatus 10, each suction hole 38 of the holding mechanism 13 has a peripheral surface hole portion 38 a having one end opening the inner peripheral surface 34 j of the large inner diameter portion 34 c, and therefore, outward from the center position in the radial direction. Even if the tape 42 is adsorbed to the upper end surface 35a, it is possible to prevent the peripheral hole 38a from being blocked by the tape 42, so that a wider area in the tape 42 can be separated from the upper end surface 35a of the transmission stage 35 and It can be adsorbed to the annular bottom surface 34f of the holding stage 34 that forms the same flat surface. This is because the amount of bending deformation of the tape 42 is limited.
検査装置10では、保持機構13の各吸引孔38が、一端が大内径部34cの内周面34jを開口する周面孔部38aと、一端が環状底面34fを開口する底面孔部38bと、を有するものであることから、環状凸部34h(大内径部34c)の内方の内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の空気を効率よく吸引することができる。 In the inspection apparatus 10, each suction hole 38 of the holding mechanism 13 has a peripheral surface hole portion 38a having one end opening the inner peripheral surface 34j of the large inner diameter portion 34c, and a bottom surface hole portion 38b having one end opening the annular bottom surface 34f. Therefore, the air in the space defined by the inner recess 34l and the tape 42 inside the annular convex portion 34h (large inner diameter portion 34c) can be efficiently sucked.
検査装置10では、保持機構13の各吸引孔38として、一端が環状底面34fを開口する底面孔部38bが設けられていることから、透過ステージ35を取り囲んで保持する保持ステージ34に内方凹所34lの空気を吸引する各吸引孔38の形成を容易なものとすることができる。 In the inspection apparatus 10, each suction hole 38 of the holding mechanism 13 is provided with a bottom hole 38 b whose one end opens the annular bottom 34 f, so that the holding stage 34 that surrounds and holds the transmission stage 35 has an inward recess. The suction holes 38 for sucking the air at the location 34l can be easily formed.
検査装置10では、保持機構13の保持ステージ34が、透過ステージ35の上端面35aと同一の平坦面を形成する環状底面34fを有するものとされていることから、透過ステージ35の上端面35aの全領域に渡ってテープ42を吸着させることができ、観察光軸Oa(透過光軸Pa)に直交する方向で見て透過ステージ35の全領域で検査対象物(本実施例では各半導体素子44)を適切に検査することができる。これは、環状底面34fが設けられていることにより、検査対象ワーク40のテープ42が載置される保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iと、透過ステージ35の上端面35aの最外位置と、を観察光軸Oaに直交する方向で見て間隔を置くものとすることができるので、撓み変形の量には限界があるテープ42であっても最外位置まで上端面35aに吸着させることが可能となることによる。 In the inspection apparatus 10, the holding stage 34 of the holding mechanism 13 has an annular bottom surface 34 f that forms the same flat surface as the upper end surface 35 a of the transmission stage 35. The tape 42 can be adsorbed over the entire region, and the inspection object (in this embodiment, each semiconductor element 44 in the entire region of the transmission stage 35 as viewed in the direction orthogonal to the observation optical axis Oa (transmission optical axis Pa). ) Can be properly inspected. This is because the annular bottom surface 34f is provided, so that the projecting end surface 34i of the annular convex portion 34h of the holding stage 34 on which the tape 42 of the workpiece 40 to be inspected is placed and the outermost end surface 35a of the transmission stage 35 are arranged. Since the position of the tape 42 can be set at a distance from the observation optical axis Oa in a direction perpendicular to the observation optical axis Oa, even the tape 42 having a limit in the amount of deformation is attracted to the upper end surface 35a up to the outermost position. It is possible to make it possible.
検査装置10では、保持機構13の保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iにテープ42を載置することにより、環状凸部34h(大内径部34c)の内方の内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の気密性を確保するものであることから、簡易な構成とすることができるとともに検査作業を簡易なものとすることができる。 In the inspection apparatus 10, the tape 42 is placed on the projecting end surface 34 i of the annular convex portion 34 h of the holding stage 34 of the holding mechanism 13, whereby an inward recess 34 l on the inner side of the annular convex portion 34 h (large inner diameter portion 34 c). Since the air tightness of the space defined by the tape 42 and the tape 42 is ensured, the configuration can be simplified and the inspection work can be simplified.
検査装置10では、保持機構13において、保持ステージ34が透過ステージ35を封止して保持するものであることから、簡易な構成で環状凸部34h(大内径部34c)の内方の内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の気密性を確保することができる。 In the inspection apparatus 10, since the holding stage 34 seals and holds the transmission stage 35 in the holding mechanism 13, the inside of the annular convex portion 34 h (large inner diameter portion 34 c) has a simple configuration. The airtightness of the space defined by the recess 34l and the tape 42 can be ensured.
検査装置10では、上端面35aが設けられた透過ステージ35の下端面35bが散乱面とされていることから、透明のテープ42に貼り付けられた検査対象物(本実施例では各半導体素子44)を検査する場合、そのテープ42の画像データ上におけるノイズ成分を除去することができるので、より適切な検査を行うことができる。 In the inspection apparatus 10, since the lower end surface 35b of the transmission stage 35 provided with the upper end surface 35a is a scattering surface, the inspection object attached to the transparent tape 42 (in this embodiment, each semiconductor element 44). ), Noise components on the image data of the tape 42 can be removed, so that more appropriate inspection can be performed.
したがって、本発明に係る検査装置10では、テープ42に貼り付けられた検査対象物(各半導体素子44)を、透過照明で照明しつつ観察光学系により正確な情報を得ることができる。 Therefore, in the inspection apparatus 10 according to the present invention, accurate information can be obtained by the observation optical system while illuminating the inspection object (each semiconductor element 44) attached to the tape 42 with transmitted illumination.
なお、上記した実施例では、本発明に係る検査装置の一例について説明したが、観察光軸上の所定の位置を観察面とする観察光学系と、該観察光学系側から前記観察面を照明する反射照明機構と、前記観察光学系とは反対側から前記観察面を照明する透過照明機構と、該透過照明機構と前記観察光学系との間に前記観察面に沿う平坦面を形成する保持機構と、を備える検査装置であって、前記保持機構は、前記透過照明機構からの照明光の透過を許しかつ前記平坦面の少なくとも一部を形成する透過部材と、該透過部材を取り囲んで保持する保持部材と、を有し、該保持部材は、前記平坦面よりも前記観察光学系側へと突出しつつ前記平坦面を取り囲む環状突部と、該環状突部と前記平坦面とにより規定される内方凹所を外部に連通させる吸引孔と、を有し、該吸引孔には、前記内方凹所の空気を吸引する吸引装置が接続されている検査装置であればよく、上記した実施例に限定されるものではない。 In the above-described embodiments, an example of the inspection apparatus according to the present invention has been described. However, the observation optical system having a predetermined position on the observation optical axis as the observation surface, and the observation surface from the observation optical system side are illuminated. A reflective illumination mechanism that performs illumination, a transmission illumination mechanism that illuminates the observation surface from the opposite side of the observation optical system, and a holding that forms a flat surface along the observation surface between the transmission illumination mechanism and the observation optical system And a holding member that surrounds and holds the transmissive member, the transmissive member allowing transmission of illumination light from the transmissive illumination mechanism and forming at least a part of the flat surface. A holding member, and the holding member is defined by an annular protrusion that surrounds the flat surface while protruding to the observation optical system side from the flat surface, and the annular protrusion and the flat surface. Suction that communicates the inner recess with the outside Has a hole, and the suction hole may be any inspection device suction device for sucking air of the inner recess is connected, is not limited to the aforementioned embodiments.
また、上記した実施例では、各吸引孔38が、周面孔部38aと底面孔部38bとを有する構成とされていたが、吸引装置36により環状凸部34h(大内径部34c)の内方の内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の空気を吸引することを可能とすべく保持ステージ34に設けられているものであれば、周面孔部38aのみを有する構成であっても、底面孔部38bのみを有する構成であっても、他の構成であってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。 In the above-described embodiment, each suction hole 38 is configured to have the peripheral hole 38a and the bottom hole 38b. However, the suction device 36 causes the inner side of the annular convex portion 34h (large inner diameter portion 34c). As long as it is provided in the holding stage 34 so as to be able to suck air in the space defined by the inward recess 34l and the tape 42, it has only the peripheral hole 38a. However, it may be a configuration having only the bottom hole 38b or another configuration, and is not limited to the above-described embodiment.
さらに、上記した実施例では、観察光軸Oaを中心とする直交方向上の4箇所に吸引孔38が設けられていたが、内方凹所34lの空気を吸引することにより保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iに載置したテープ42を、中央位置から放射方向の外側に向けて上端面35aに吸着させることを可能とするものであれば、個数および配置位置は適宜設定すればよく、上記した実施例に限定されるものではない。 Further, in the above-described embodiment, the suction holes 38 are provided at four positions in the orthogonal direction with the observation optical axis Oa as the center. However, by holding the air in the inner recess 34l, the annular shape of the holding stage 34 is obtained. As long as the tape 42 placed on the protruding end surface 34i of the convex portion 34h can be adsorbed to the upper end surface 35a from the central position toward the outer side in the radial direction, the number and the arrangement position can be appropriately set. Well, it is not limited to the embodiments described above.
上記した実施例では、保持機構13の保持ステージ34が、透過ステージ35の上端面35aと同一の平坦面を形成する環状底面34fを有するものとされていたが、透過ステージ35を取り囲んで保持するとともに、その透過ステージ35の平坦面である上端面35aよりも観察光学系側へと突出しつつ当該平坦面(上端面35a)を取り囲む環状凸部34h(大内径部34c)を有するものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。 In the above-described embodiment, the holding stage 34 of the holding mechanism 13 has the annular bottom surface 34 f that forms the same flat surface as the upper end surface 35 a of the transmission stage 35, but surrounds and holds the transmission stage 35. At the same time, if it has an annular convex portion 34 h (large inner diameter portion 34 c) surrounding the flat surface (upper end surface 35 a) while projecting toward the observation optical system side from the upper end surface 35 a which is a flat surface of the transmission stage 35. Well, it is not limited to the embodiments described above.
上記した実施例では、保持ステージ34の環状凸部34hの突出端面34iに、環状部材43の一部とその内方位置のテープ42を載置していたが、テープ42を利用して環状凸部34h(大内径部34c)の内方の内方凹所34lとテープ42とにより規定された空間の気密性を確保することを可能とするものであれば、環状部材43全体を突出端面34iに載置するものであってもよく、テープ42のみを突出端面34iに載置するものであってもよく、上記した実施例に限定されるものではない。 In the above-described embodiment, a part of the annular member 43 and the tape 42 at the inner position thereof are placed on the protruding end surface 34 i of the annular convex portion 34 h of the holding stage 34. If it is possible to ensure the airtightness of the space defined by the inner recess 34l inside the portion 34h (large inner diameter portion 34c) and the tape 42, the entire annular member 43 is projected to the end surface 34i. The tape may be placed on the protruding end face 34i, and is not limited to the above-described embodiment.
上記した実施例では、透過ステージ35の下端面35bと環状係合面34g(その凹所)との間に環状の封止部材37を設けていたが、透過ステージ35と保持ステージ34との間での空気の出入りを防止することができるものであればよく、上記した実施例に限定されるものではない。 In the above-described embodiment, the annular sealing member 37 is provided between the lower end surface 35 b of the transmission stage 35 and the annular engagement surface 34 g (its recess), but between the transmission stage 35 and the holding stage 34. Any material can be used as long as it can prevent air from entering and exiting, and is not limited to the above-described embodiment.
以上、本発明の検査装置を実施例に基づき説明してきたが、具体的な構成については、この実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。 As described above, the inspection apparatus of the present invention has been described based on the embodiment. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and design changes, additions, and the like can be made without departing from the gist of the present invention. Permissible.
10 検査装置
11 (観察光学系としての)観察機構
12 反射照明機構
13 保持機構
14 透過照明機構
24 (観察光学系としての)撮像カメラ
34 (保持部材としての)保持ステージ
34f 環状底面
34h 環状凸部
34i 突出端面
34j 内周面
34l 内方凹所
35 (透過部材としての)透過ステージ
35a (平坦面としての)上端面
36 吸引装置
38 吸引孔
42 テープ
44 (検査対象物としての)半導体素子
Fp 観察面
Oa 観察光軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Inspection apparatus 11 Observation mechanism (As observation optical system) 12 Reflection illumination mechanism 13 Holding mechanism 14 Transmission illumination mechanism 24 Imaging camera (As observation optical system) Holding stage 34 (As holding member) Annular bottom face 34h Annular convex part 34i Projection end surface 34j Inner peripheral surface 34l Inward recess 35 Transmission stage 35a (as a transmission member) Upper end surface 36a (as a flat surface) 36 Suction device 38 Suction hole 42 Tape 44 Semiconductor element Fp observation (as inspection object) Surface Oa Observation optical axis
Claims (5)
前記保持機構は、前記透過照明機構からの照明光の透過を許しかつ前記平坦面の少なくとも一部を形成する透過部材と、該透過部材を取り囲んで保持する保持部材と、を有し、
該保持部材は、前記平坦面よりも前記観察光学系側へと突出しつつ前記平坦面を取り囲む環状突部と、該環状突部と前記平坦面とにより規定される内方凹所を外部に連通させる吸引孔と、を有し、
該吸引孔には、前記内方凹所の空気を吸引する吸引装置が接続されていることを特徴とする検査装置。 An observation optical system having a predetermined position on the observation optical axis as an observation surface, a reflection illumination mechanism for illuminating the observation surface from the observation optical system side, and illuminating the observation surface from a side opposite to the observation optical system An inspection apparatus comprising: a transmission illumination mechanism; and a holding mechanism that forms a flat surface along the observation surface between the transmission illumination mechanism and the observation optical system,
The holding mechanism has a transmission member that allows transmission of illumination light from the transmission illumination mechanism and forms at least a part of the flat surface, and a holding member that surrounds and holds the transmission member,
The holding member communicates to the outside an annular protrusion that surrounds the flat surface while projecting to the observation optical system side from the flat surface, and an inward recess defined by the annular protrusion and the flat surface. A suction hole for allowing
An inspection device, wherein a suction device for sucking air in the inward recess is connected to the suction hole.
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