JP2013023667A - Epoxy resin material and multilayer substrate - Google Patents

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和義 塩見
Hidehiro Deguchi
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伸浩 森
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin material that can give a cured product having little dimensional change by heat and favorable embedding property.SOLUTION: The epoxy resin material contains a bisphenol S epoxy resin, a curing agent having an aminotriazine skeleton, inorganic filler and phenoxy resin. In 100 wt.% of the whole solid content included in the epoxy resin material excluding the inorganic filler, the content of the bisphenol S epoxy resin is 40 wt.% or more and 60 wt.% or less, and the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton is 10 wt.% or more and 20 wt.% or less. A multilayer substrate 11 includes a circuit board 12 and cured product layers 13 to 16 laid on the surface 12a of the circuit board 12 where a circuit is formed. The cured product layers 13 to 16 are formed by curing the above epoxy resin material.

Description

本発明は、例えば、多層基板において絶縁層を形成するために用いることができるエポキシ樹脂材料に関し、より詳細には、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとフェノキシ樹脂とを含むエポキシ樹脂材料、並びに該エポキシ樹脂材料を用いた多層基板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin material that can be used, for example, to form an insulating layer in a multilayer substrate, and more specifically, an epoxy resin material containing an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler, and a phenoxy resin, and the The present invention relates to a multilayer substrate using an epoxy resin material.

従来、積層板及びプリント配線板等の電子部品を得るために、様々な樹脂組成物が用いられている。例えば、多層プリント配線板では、内部の層間を絶縁するための絶縁層を形成したり、表層部分に位置する絶縁層を形成したりするために、樹脂組成物が用いられている。   Conventionally, various resin compositions have been used to obtain electronic components such as laminates and printed wiring boards. For example, in a multilayer printed wiring board, a resin composition is used in order to form an insulating layer for insulating inner layers or to form an insulating layer located in a surface layer portion.

上記樹脂組成物の一例として、下記の特許文献1には、多官能エポキシ樹脂と、硬化剤と、フェノキシ樹脂及びポリビニルアセタール樹脂の内の少なくとも一方と、無機充填材とを含む樹脂組成物が開示されている。ここでは、上記無機充填材は、シラザン化合物で表面処理された後に、シランカップリグ剤でさらに表面処理されている。   As an example of the resin composition, Patent Document 1 below discloses a resin composition containing a polyfunctional epoxy resin, a curing agent, at least one of a phenoxy resin and a polyvinyl acetal resin, and an inorganic filler. Has been. Here, the inorganic filler is surface-treated with a silazane compound and then further surface-treated with a silane coupling agent.

下記の特許文献2には、エポキシ樹脂と、活性エステル化合物と、脂環式構造含有フェノキシ樹脂とを含む樹脂組成物が開示されている。ここでは、樹脂組成物が無機充填材を含んでいてもよいことが記載されている。   Patent Document 2 below discloses a resin composition containing an epoxy resin, an active ester compound, and an alicyclic structure-containing phenoxy resin. Here, it is described that the resin composition may contain an inorganic filler.

特開2010−168470号公報JP 2010-168470 A 特開2010−111859号公報JP 2010-1111859 A

多層プリント配線板の絶縁層には、該絶縁層に積層される他の絶縁層又は回路などと剥離が生じ難いことが強く求められる。このため、上記絶縁層では、熱により寸法が大きく変化しないことが望まれる。すなわち、上記絶縁層の線膨張率が低いことが望ましい。   The insulating layer of the multilayer printed wiring board is strongly required to hardly peel off from other insulating layers or circuits laminated on the insulating layer. For this reason, in the said insulating layer, it is desired that a dimension does not change a lot with heat. That is, it is desirable that the insulating layer has a low coefficient of linear expansion.

また、近年、パッケージの高密度化に伴い、該パッケージに用いられている基板がそりやすくなっている。このため、基板のそりを小さくする要求が非常に高まっている。基板のそりを十分に抑制するためには、基板上に積層される上記絶縁層の線膨張率を低くする必要がある。   In recent years, as the density of a package increases, a substrate used in the package is easily warped. For this reason, the request | requirement which makes the curvature of a board | substrate small is increasing very much. In order to sufficiently suppress the warpage of the substrate, it is necessary to reduce the linear expansion coefficient of the insulating layer stacked on the substrate.

しかしながら、特許文献1,2に記載のような従来の樹脂組成物を用いた場合には、該樹脂組成物の硬化物の熱による寸法変化を十分に小さくすることができないことがあり、上記絶縁層の線膨張率が比較的高くなることがある。   However, when conventional resin compositions as described in Patent Documents 1 and 2 are used, the dimensional change due to heat of the cured product of the resin composition may not be sufficiently reduced, and the insulation The linear expansion coefficient of the layer may be relatively high.

本発明の目的は、熱による寸法変化が小さく、かつ埋め込み性が良好な硬化物を得ることができるエポキシ樹脂材料、並びに該エポキシ樹脂材料を用いた多層基板を提供することである。   An object of the present invention is to provide an epoxy resin material capable of obtaining a cured product having a small dimensional change due to heat and good embedding property, and a multilayer substrate using the epoxy resin material.

本発明の広い局面によれば、ビスフェノールS型エポキシ樹脂と、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤と、無機フィラーと、フェノキシ樹脂とを含み、エポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分100重量%中、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が40重量%以上、60重量%以下であり、かつ上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が10重量%以上、20重量%以下である、エポキシ樹脂材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, the bisphenol S-type epoxy resin, a curing agent having an aminotriazine skeleton, an inorganic filler, and a phenoxy resin, all solids excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material In 100% by weight, the content of the bisphenol S-type epoxy resin is 40% by weight or more and 60% by weight or less, and the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton is 10% by weight or more and 20% by weight or less. An epoxy resin material is provided.

本発明に係るエポキシ樹脂材料のある特定の局面では、該エポキシ樹脂材料に含まれている全固形分100重量%中、上記無機フィラーの含有量が50重量%以上、85重量%以下である。   On the specific situation with the epoxy resin material which concerns on this invention, content of the said inorganic filler is 50 to 85 weight% in 100 weight% of total solid content contained in this epoxy resin material.

本発明に係るエポキシ樹脂材料の別の特定の局面では、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂及び上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の重量平均分子量がそれぞれ1000以下である。   In another specific aspect of the epoxy resin material according to the present invention, the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having an aminotriazine skeleton each have a weight average molecular weight of 1000 or less.

本発明に係るエポキシ樹脂材料のさらに別の特定の局面では、硬化促進剤がさらに含まれている。   In still another specific aspect of the epoxy resin material according to the present invention, a curing accelerator is further included.

本発明に係るエポキシ樹脂材料の他の特定の局面では、該エポキシ樹脂材料は、フィルム状に成形されたBステージフィルムである。   In another specific aspect of the epoxy resin material according to the present invention, the epoxy resin material is a B-stage film formed into a film shape.

本発明に係る多層基板は、回路基板と、該回路基板の表面上に配置された硬化物層とを備えており、該硬化物層が、本発明に従って構成されたエポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている。   A multilayer board according to the present invention includes a circuit board and a cured product layer disposed on the surface of the circuit board, and the cured product layer cures the epoxy resin material configured according to the present invention. It is formed by.

本発明に係るエポキシ樹脂材料は、ビスフェノールS型エポキシ樹脂とアミノトリアジン骨格を有する硬化剤と無機フィラーとフェノキシ樹脂とを含み、更に上記エポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分100重量%中、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が40重量%以上、60重量%以下であり、かつ上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が10重量%以上、20重量%以下であるので、熱による寸法変化が小さく、かつ埋め込み性が良好な硬化物を得ることができる。   The epoxy resin material according to the present invention includes a bisphenol S-type epoxy resin, a curing agent having an aminotriazine skeleton, an inorganic filler, and a phenoxy resin, and further includes a total solid content excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material. In 100% by weight, the content of the bisphenol S-type epoxy resin is 40% by weight or more and 60% by weight or less, and the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton is 10% by weight or more and 20% by weight or less. Therefore, it is possible to obtain a cured product having a small dimensional change due to heat and good embedding property.

図1は、本発明の一実施形態に係るエポキシ樹脂材料を用いた多層基板を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a multilayer substrate using an epoxy resin material according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

(エポキシ樹脂材料)
本発明に係るエポキシ樹脂材料は、ビスフェノールS型エポキシ樹脂と、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤と、無機フィラーと、フェノキシ樹脂とを含む。
(Epoxy resin material)
The epoxy resin material according to the present invention includes a bisphenol S-type epoxy resin, a curing agent having an aminotriazine skeleton, an inorganic filler, and a phenoxy resin.

上記組成の採用により、特に上記フェノキシ樹脂とともに用いられる熱硬化性樹脂及び硬化剤が上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤とであることによって、熱による寸法変化が小さい硬化物を得ることが可能になる。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤とを併用した場合には、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂を用いていなかったり、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤を用いていなかったりする場合と比較して、硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができる。   By adopting the above composition, in particular, the thermosetting resin and the curing agent used together with the phenoxy resin are the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having the aminotriazine skeleton, so that a cured product with a small dimensional change due to heat is small. Can be obtained. When the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having the aminotriazine skeleton are used in combination, the bisphenol S-type epoxy resin is not used or the curing agent having the aminotriazine skeleton is not used. Compared with, the dimensional change by the heat | fever of hardened | cured material can be made small.

さらに、本発明に係るエポキシ樹脂材料では、該エポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分100重量%中、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が40重量%以上、60重量%以下であり、かつ上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が10重量%以上、20重量%以下であるので、硬化物の熱による寸法変化を効果的に小さくすることができる。   Furthermore, in the epoxy resin material according to the present invention, the content of the bisphenol S-type epoxy resin is 40% by weight or more and 60% by weight in 100% by weight of the total solid content excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material. %, And the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton is 10% by weight or more and 20% by weight or less, so that the dimensional change due to heat of the cured product can be effectively reduced.

本来フェノキシ樹脂を添加することでエポキシ樹脂材料の架橋密度が低下し、その結果硬化物の熱線膨張係数が増加するが、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤とを併用することで硬化物の熱線膨張係数が低くなり、結果的に硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができる。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤との併用は、硬化物の熱寸法安定性の向上に大きく寄与する。   Originally, the addition of phenoxy resin decreases the crosslink density of the epoxy resin material, resulting in an increase in the coefficient of thermal expansion of the cured product. However, the bisphenol S type epoxy resin and the curing agent having the aminotriazine skeleton are used in combination. As a result, the coefficient of thermal expansion of the cured product is lowered, and as a result, the dimensional change due to the heat of the cured product can be reduced. The combined use of the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having the aminotriazine skeleton greatly contributes to the improvement of the thermal dimensional stability of the cured product.

また、エポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂材料において、シリカなどの無機フィラーを多く配合することにより、硬化物の熱による寸法変化をより一層小さくすることができ、すなわち線膨張率を低くすることができる。   Moreover, in an epoxy resin material containing an epoxy resin and a curing agent, by adding a large amount of inorganic filler such as silica, the dimensional change due to heat of the cured product can be further reduced, that is, the linear expansion coefficient is lowered. be able to.

エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含む樹脂組成物において、溶剤を多く配合すると、樹脂組成物の粘度が低くなり、樹脂組成物を塗工したときに外観不良が発生しやすくなることがある。また、100μm以上の厚みに樹脂組成物を塗工することが困難である。これに対して、上記樹脂組成物がフェノキシ樹脂をさらに含むことにより、樹脂組成物の粘度が高くなり、樹脂組成物の製膜性及び塗工性が高くなり、更に樹脂組成物を塗工した時に外観不良が生じ難くなる。また、100μm以上の厚みに樹脂組成物を塗工することが容易になる。   In a resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, if a large amount of solvent is blended, the viscosity of the resin composition becomes low, and appearance defects may easily occur when the resin composition is applied. . Moreover, it is difficult to apply the resin composition to a thickness of 100 μm or more. On the other hand, when the resin composition further contains a phenoxy resin, the viscosity of the resin composition is increased, the film-forming property and coating property of the resin composition are increased, and the resin composition is further applied. Sometimes poor appearance is less likely to occur. Moreover, it becomes easy to apply the resin composition to a thickness of 100 μm or more.

また、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含むBステージフィルムにおいて、エポキシ樹脂及び硬化剤の内の一方又は双方の重量平均分子量が1000以下であると、Bステージフィルムの溶融粘度が低くなる。このため、基板上にBステージフィルムをラミネートしたときに、無機フィラーが不均一に存在しやすくなる。さらに、溶融粘度が低いと、硬化過程で、意図しない領域にBステージフィルムが濡れ拡がることがある。これに対して、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含むBステージフィルムであって、エポキシ樹脂及び硬化剤の内の一方又は双方の重量平均分子量が1000以下であるBステージフィルムが、フェノキシ樹脂をさらに含むことにより、Bステージフィルムの溶融粘度が高くなる。この結果、基板上にBステージフィルムをラミネートしたときに、無機フィラーを均一に存在させることができる。さらに、硬化過程で、Bステージフィルムが意図せずに濡れ拡がるのを抑制できる。   Moreover, in the B stage film containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, the melt viscosity of the B stage film is lowered when the weight average molecular weight of one or both of the epoxy resin and the curing agent is 1000 or less. For this reason, when a B-stage film is laminated on a substrate, the inorganic filler tends to exist non-uniformly. Furthermore, if the melt viscosity is low, the B-stage film may spread and spread in unintended areas during the curing process. On the other hand, a B stage film containing an epoxy resin, a curing agent and an inorganic filler, wherein one or both of the epoxy resin and the curing agent has a weight average molecular weight of 1000 or less, is a phenoxy resin. In addition, the melt viscosity of the B-stage film is increased. As a result, the inorganic filler can be uniformly present when the B-stage film is laminated on the substrate. Furthermore, it is possible to suppress the B stage film from spreading unintentionally during the curing process.

フェノキシ樹脂は、Bステージフィルムの溶融粘度を高くし、硬化物中での無機フィラーの分散性を高める役割を果たす。エポキシ樹脂及び硬化剤の内の一方又は双方の重量平均分子量が1000以下でない場合にも、フェノキシ樹脂は、Bステージフィルムの溶融粘度を高くし、硬化物中での無機フィラーの分散性を高める役割を果たす。   The phenoxy resin plays a role of increasing the melt viscosity of the B stage film and increasing the dispersibility of the inorganic filler in the cured product. Even when the weight average molecular weight of one or both of the epoxy resin and the curing agent is not 1000 or less, the phenoxy resin increases the melt viscosity of the B stage film and increases the dispersibility of the inorganic filler in the cured product. Fulfill.

また、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含むBステージフィルムがフェノキシ樹脂などの高分子成分を含まない場合には、溶融粘度によらず、基板上にBステージフィルムをラミネートして、Bステージフィルムを硬化させたときに、硬化物の外観が悪くなりやすい。これに対して、エポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含む樹脂組成物がフェノキシ樹脂を含む場合には、硬化物の外観が良好になる。   When the B stage film containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler does not contain a polymer component such as a phenoxy resin, the B stage film is laminated on the substrate regardless of the melt viscosity. When the film is cured, the appearance of the cured product tends to deteriorate. On the other hand, when the resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler contains a phenoxy resin, the appearance of the cured product is improved.

上記のように、フェノキシ樹脂の使用には、多くの利点がある。本発明においては、フェノキシ樹脂を用いて上記多くの利点を得ることに加え、線膨張率の低い、すなわち熱による寸法変化の小さい硬化物を得ることができ、本発明はこのことに1つの大きな特徴を有する。   As mentioned above, the use of phenoxy resins has many advantages. In the present invention, in addition to obtaining the above-mentioned many advantages using a phenoxy resin, a cured product having a low coefficient of linear expansion, that is, a small dimensional change due to heat, can be obtained. Has characteristics.

本発明に係るエポキシ樹脂材料は、ペースト状であってもよく、フィルム状であってもよい。本発明に係るエポキシ樹脂材料は、樹脂組成物であってもよく、該樹脂組成物フィルム状に成形されたBステージフィルムであってもよい。   The epoxy resin material according to the present invention may be a paste or a film. The epoxy resin material according to the present invention may be a resin composition or a B-stage film molded into the resin composition film.

以下、本発明に係るエポキシ樹脂材料に含まれているビスフェノールS型エポキシ樹脂、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤、無機フィラー及びフェノキシ樹脂などの各成分の詳細を説明する。   Hereinafter, details of each component such as a bisphenol S-type epoxy resin, a curing agent having an aminotriazine skeleton, an inorganic filler, and a phenoxy resin that are included in the epoxy resin material according to the present invention will be described.

[ビスフェノールS型エポキシ樹脂]
上記エポキシ樹脂材料はエポキシ樹脂を含む。該エポキシ樹脂は、少なくとも1個のエポキシ基を有する有機化合物をいう。
[Bisphenol S type epoxy resin]
The epoxy resin material includes an epoxy resin. The epoxy resin refers to an organic compound having at least one epoxy group.

上記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリシクロデカン骨格を有するエポキシ樹脂、及びトリアジン核を骨格に有するエポキシ樹脂等が存在する。   Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and fluorene type epoxy resin. , Phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, epoxy resin having adamantane skeleton, epoxy resin having tricyclodecane skeleton, and epoxy resin having triazine nucleus in skeleton Etc. exist.

これらの数多く知られたエポキシ樹脂の中で、本発明では、ビスフェノールS型エポキシ樹脂を選択して用いる。ビスフェノールS型エポキシ樹脂の使用により、硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができ、かつ凹凸表面に埋め込まれたエポキシ樹脂材料の表面の平坦性を高めることができる。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Among these many known epoxy resins, bisphenol S type epoxy resin is selected and used in the present invention. By using the bisphenol S type epoxy resin, the dimensional change due to heat of the cured product can be reduced, and the flatness of the surface of the epoxy resin material embedded in the uneven surface can be enhanced. As for the said bisphenol S type epoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

また、従来のエポキシ樹脂を含む樹脂組成物において、硬化物の熱による寸法変化を小さくするためには、すなわち線膨張率を低くするためには、シリカなどの無機フィラーを多く配合する必要がある。また、多層プリント配線板などの多層基板では、硬化物の表面には平坦性が求められる一方で、導電層の密着性を高めたり、ビア内のスミアを除去したりするために硬化物の表面が粗化処理又はデスミア処理されることがある。硬化物の線膨張率を低くするために無機フィラーを多く配合すると、エポキシ樹脂材料の硬化物の表面を粗化処理又はデスミア処理したときに、表面の表面粗さが大きくなる。   Moreover, in the resin composition containing the conventional epoxy resin, in order to reduce the dimensional change due to heat of the cured product, that is, in order to reduce the linear expansion coefficient, it is necessary to add a large amount of an inorganic filler such as silica. . In addition, in multilayer boards such as multilayer printed wiring boards, the surface of the cured product is required to be flat, while the surface of the cured product is used to improve the adhesion of the conductive layer and remove smear in the vias. May be roughened or desmeared. When a large amount of inorganic filler is blended in order to lower the linear expansion coefficient of the cured product, the surface roughness of the surface increases when the surface of the cured product of the epoxy resin material is roughened or desmeared.

これに対して、ビスフェノールS型エポキシ樹脂の使用により、硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができ、しかも粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さを小さくすることができる。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の使用により、無機フィラーの含有量が多くなくても、硬化物の線膨張率が充分に低くなる。   On the other hand, by using bisphenol S type epoxy resin, the dimensional change due to heat of the cured product can be reduced, and the surface roughness of the surface of the cured product subjected to the roughening treatment or desmear treatment can be reduced. it can. By using the bisphenol S-type epoxy resin, the linear expansion coefficient of the cured product is sufficiently low even if the content of the inorganic filler is not large.

上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の市販品としては、DIC社製の「EXA−1514」及び「EXA−1517」、並びに三菱化学社製の「YL7487」及び「YL7459」等が挙げられる。   Examples of commercially available products of the bisphenol S type epoxy resin include “EXA-1514” and “EXA-1517” manufactured by DIC, “YL7487” and “YL7459” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

硬化物の熱による寸法変化をより一層小さくし、かつ粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくする観点からは、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂は、2官能以上のビスフェノールS型エポキシ樹脂であることが好ましい。   From the viewpoint of further reducing the dimensional change due to heat of the cured product and further reducing the surface roughness of the roughened or desmeared cured product, the bisphenol S-type epoxy resin is bifunctional or higher. The bisphenol S type epoxy resin is preferable.

粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくする観点からは、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは90以上、より好ましくは100以上、好ましくは1000以下、より好ましくは800以下である。   From the viewpoint of further reducing the surface roughness of the roughened or desmeared cured product, the epoxy equivalent of the bisphenol S-type epoxy resin is preferably 90 or more, more preferably 100 or more, preferably 1000. Below, more preferably 800 or less.

上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の重量平均分子量は1000以下であることが好ましい。この場合には、エポキシ樹脂材料における無機フィラーの含有量を多くすることができる。さらに、無機フィラーの含有量が多くても、流動性が高いエポキシ樹脂材料である樹脂組成物を得ることができる。一方で、重量平均分子量が1000以下であるビスフェノールS型エポキシ樹脂と、フェノキシ樹脂との併用により、エポキシ樹脂材料であるBステージフィルムの溶融粘度の低下を抑制できる。このため、Bステージフィルムを基板上にラミネートした場合に、無機フィラーを均一に存在させることができる。   The bisphenol S type epoxy resin preferably has a weight average molecular weight of 1000 or less. In this case, the content of the inorganic filler in the epoxy resin material can be increased. Furthermore, even if there is much content of an inorganic filler, the resin composition which is an epoxy resin material with high fluidity | liquidity can be obtained. On the other hand, the combined use of a bisphenol S type epoxy resin having a weight average molecular weight of 1000 or less and a phenoxy resin can suppress a decrease in the melt viscosity of the B stage film that is an epoxy resin material. For this reason, when a B stage film is laminated on a board | substrate, an inorganic filler can be made to exist uniformly.

上記エポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分(以下、上記全固形分Bと略記することがある)100重量%中、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量は40重量%以上、好ましくは45重量%以上、60重量%以下、好ましくは55重量%以下である。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、より一層良好な硬化物が得られ、溶融粘度を調整することができるために無機フィラーの分散性を良好にすることができ、かつ硬化過程で、意図しない領域にBステージフィルムが濡れ拡がることを防止できる。さらに、硬化物の熱による寸法変化をより一層抑制できる。また、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が上記下限未満であると、樹脂組成物又はBステージフィルムの回路基板の穴又は凹凸に対する埋め込みが困難になり、さらに無機フィラーが不均一に存在しやすくなる傾向がある。また、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が上記上限を超えると、溶融粘度が低くなりすぎて硬化過程で、意図しない領域にBステージフィルムが濡れ広がりやすくなる傾向がある。「全固形分B」とは、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤と上記フェノキシ樹脂と必要に応じて配合される他の固形分との総和をいう。全固形分Bには、無機フィラーは含まれない。「固形分」とは、不揮発成分であり、成形又は加熱時に揮発しない成分をいう。   The content of the bisphenol S-type epoxy resin is 40% by weight in 100% by weight of the total solid content excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material (hereinafter sometimes abbreviated as the total solid content B). Above, preferably 45% by weight or more and 60% by weight or less, preferably 55% by weight or less. When the content of the bisphenol S-type epoxy resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, a better cured product can be obtained and the melt viscosity can be adjusted, so that the dispersibility of the inorganic filler is improved. In addition, it is possible to prevent the B-stage film from spreading into an unintended region during the curing process. Furthermore, the dimensional change due to heat of the cured product can be further suppressed. Further, when the content of the bisphenol S-type epoxy resin is less than the lower limit, it becomes difficult to embed the resin composition or the B stage film in the holes or irregularities of the circuit board, and the inorganic filler is likely to be unevenly present. Tend to be. When the content of the bisphenol S-type epoxy resin exceeds the upper limit, the melt viscosity becomes too low and the B stage film tends to wet and spread in an unintended region during the curing process. “Total solid content B” refers to the sum of the bisphenol S-type epoxy resin, the curing agent having an aminotriazine skeleton, the phenoxy resin, and other solid contents blended as necessary. The total solid content B does not contain an inorganic filler. “Solid content” refers to a non-volatile component that does not volatilize during molding or heating.

特に、本発明では、上記全固形分100重量%中、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が40重量%以上、60重量%以下であるので、熱による寸法変化が小さく、かつ埋め込み性が良好な硬化物を得ることができる。   In particular, in the present invention, the content of the bisphenol S-type epoxy resin is 40% by weight or more and 60% by weight or less in the total solid content of 100% by weight. A cured product can be obtained.

[硬化剤]
上記エポキシ樹脂材料は硬化剤を含む。該硬化剤としては、フェノール化合物(フェノール硬化剤)、アミン化合物(アミン硬化剤)、チオール化合物(チオール硬化剤)、イミダゾール化合物、ホスフィン化合物及び酸無水物等が存在する。
[Curing agent]
The epoxy resin material contains a curing agent. Examples of the curing agent include a phenol compound (phenol curing agent), an amine compound (amine curing agent), a thiol compound (thiol curing agent), an imidazole compound, a phosphine compound, and an acid anhydride.

これらの数多く知られた硬化剤の中で、本発明では、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤を選択して用いる。アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の使用により、硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができる。   Among these many known curing agents, the present invention selects and uses a curing agent having an aminotriazine skeleton. By using a curing agent having an aminotriazine skeleton, the dimensional change due to heat of the cured product can be reduced.

上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤として、アミノトリアジン骨格を有するフェノール化合物(フェノール硬化剤)を用いてもよく、アミノトリアジン骨格を有するアミン化合物(アミン硬化剤)を用いてもよく、アミノトリアジン骨格を有するチオール化合物(チオール硬化剤)を用いてもよく、アミノトリアジン骨格を有するイミダゾール化合物を用いてもよく、アミノトリアジン骨格を有するホスフィン化合物を用いてもよい。上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   As the curing agent having an aminotriazine skeleton, a phenol compound (phenol curing agent) having an aminotriazine skeleton may be used, or an amine compound having an aminotriazine skeleton (amine curing agent) may be used. The thiol compound (thiol curing agent) may be used, an imidazole compound having an aminotriazine skeleton may be used, or a phosphine compound having an aminotriazine skeleton may be used. As for the hardening | curing agent which has the said aminotriazine frame | skeleton, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の市販品としては、フェノール化合物の例としてDIC社製「LA1356」及び「LA3018−50P」等が挙げられ、アミン化合物の例として三井化学工業製「メラミン」等が挙げられる。   Examples of the commercially available curing agent having an aminotriazine skeleton include “LA1356” and “LA3018-50P” manufactured by DIC as examples of phenol compounds, and “melamine” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. as examples of amine compounds. Can be mentioned.

熱による寸法変化がより一層小さい硬化物を得る観点からは、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、アミン化合物又はフェノール化合物であることが好ましい。上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、アミン化合物であることが好ましく、フェノール化合物であることも好ましい。上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂のエポキシ基と反応可能な官能基を有することが好ましい。   From the viewpoint of obtaining a cured product having a smaller dimensional change due to heat, the curing agent having an aminotriazine skeleton is preferably an amine compound or a phenol compound. The curing agent having an aminotriazine skeleton is preferably an amine compound, and is preferably a phenol compound. The curing agent having an aminotriazine skeleton preferably has a functional group capable of reacting with the epoxy group of the bisphenol S-type epoxy resin.

粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面粗さをより一層小さくし、かつ硬化物の表面により一層微細な配線を形成する観点からは、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、フェノール化合物又はアミン化合物又はであることが好ましい。   From the viewpoint of further reducing the surface roughness of the roughened or desmeared cured product and forming finer wiring on the surface of the cured product, the curing agent having the aminotriazine skeleton is a phenol compound or It is preferably an amine compound.

上記フェノール化合物及びアミン化合物の使用により、硬化物と金属層との密着性をより一層高めることができる。また、上記フェノール化合物及びアミン化合物の使用により、例えば、樹脂組成物の硬化物の表面上に設けられた銅の表面を黒化処理又はCz処理することにより、硬化物と銅との密着性をより一層高めることができる。   By using the phenol compound and the amine compound, the adhesion between the cured product and the metal layer can be further enhanced. In addition, by using the phenol compound and the amine compound, for example, by performing blackening treatment or Cz treatment on the surface of the copper provided on the surface of the cured product of the resin composition, adhesion between the cured product and copper can be improved. It can be further increased.

上記フェノール化合物は特に限定されない。該フェノール化合物として、従来公知のフェノール化合物を使用可能である。上記フェノール化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The phenol compound is not particularly limited. A conventionally well-known phenol compound can be used as this phenol compound. As for the said phenol compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記フェノール化合物としては、ノボラック型フェノール、ビフェノール型フェノール、ナフタレン型フェノール、ジシクロペンタジエン型フェノール、アラルキル型フェノール及びジシクロペンタジエン型フェノール等が挙げられる。   Examples of the phenol compound include novolak type phenol, biphenol type phenol, naphthalene type phenol, dicyclopentadiene type phenol, aralkyl type phenol, dicyclopentadiene type phenol and the like.

上記アミン化合物は特に限定されない。該アミン化合物として、従来公知のアミン化合物を使用可能である。上記アミン化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The amine compound is not particularly limited. A conventionally known amine compound can be used as the amine compound. As for the said amine compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記アミン化合物としては、メラミン、グアナミン、ベンゾグアナミン及びアセトグアナミン等が挙げられる。   Examples of the amine compound include melamine, guanamine, benzoguanamine, and acetoguanamine.

粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくし、かつ硬化物の表面により一層微細な配線を形成する観点からは、上記フェノール化合物は、ビフェニルノボラック型フェノール、又はアラルキル型フェノール化合物であることが好ましい。   From the viewpoint of further reducing the surface roughness of the surface of the cured product subjected to the roughening treatment or desmear treatment and forming finer wiring on the surface of the cured product, the phenol compound is a biphenyl novolac type phenol, or An aralkyl type phenol compound is preferred.

熱による寸法変化を効果的に小さくし、かつ埋め込み性が良好な硬化物を得る観点からは、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、アミノトリアジン骨格を有するフェノール化合物であることが特に好ましい。   From the viewpoint of effectively reducing a dimensional change due to heat and obtaining a cured product having good embedding properties, the curing agent having an aminotriazine skeleton is particularly preferably a phenol compound having an aminotriazine skeleton.

粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面粗さをより一層小さくし、かつ硬化物の表面により一層微細な配線を形成し、かつ硬化剤により良好な絶縁信頼性を付与する観点からは、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤は、当量が250以下であるアミノトリアジン骨格を有する硬化剤を含むことが好ましい。上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の当量は、例えば、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤がフェノール化合物である場合にはフェノール性水酸基当量を示し、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤がアミン化合物である場合にはアミン基当量を示す。   From the viewpoint of further reducing the surface roughness of the cured product subjected to the roughening treatment or desmear treatment, forming finer wiring on the surface of the cured product, and imparting good insulation reliability with the curing agent, The curing agent having an aminotriazine skeleton preferably includes a curing agent having an aminotriazine skeleton having an equivalent weight of 250 or less. The equivalent of the curing agent having an aminotriazine skeleton indicates, for example, a phenolic hydroxyl group equivalent when the curing agent having the aminotriazine skeleton is a phenol compound, and the curing agent having the aminotriazine skeleton is an amine compound. In the case, the amine group equivalent is shown.

上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の重量平均分子量は1000以下であることが好ましい。この場合には、エポキシ樹脂材料における無機フィラーの含有量を多くすることができ、無機フィラーの含有量が多くても、流動性が高いエポキシ樹脂材料である樹脂組成物を得ることができる。一方で、重量平均分子量が1000以下であるアミノトリアジン骨格を有する硬化剤と、フェノキシ樹脂との併用により、エポキシ樹脂材料であるBステージフィルムの溶融粘度の低下を抑制できる。このため、Bステージフィルムを基板上にラミネートした場合に、無機フィラーを均一に存在させることができる。   The weight average molecular weight of the curing agent having an aminotriazine skeleton is preferably 1000 or less. In this case, the content of the inorganic filler in the epoxy resin material can be increased, and even if the content of the inorganic filler is large, a resin composition that is an epoxy resin material having high fluidity can be obtained. On the other hand, the combined use of a curing agent having an aminotriazine skeleton having a weight average molecular weight of 1000 or less and a phenoxy resin can suppress a decrease in the melt viscosity of the B stage film that is an epoxy resin material. For this reason, when a B stage film is laminated on a board | substrate, an inorganic filler can be made to exist uniformly.

上記全固形分B100重量%中、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量は10重量%以上、好ましくは13重量%以上、20重量%以下、好ましくは18重量%以下である。上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、より一層良好な硬化物が得られ、溶融粘度を調整することができるために無機フィラーの分散性を良好にすることができ、かつ硬化過程で、意図しない領域にBステージフィルムが濡れ拡がることを防止できる。さらに、硬化物の熱による寸法変化をより一層抑制できる。また、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が上記下限未満であると、樹脂組成物又はBステージフィルムの回路基板の穴又は凹凸に対する埋め込みが困難になり、さらに無機フィラーが不均一に存在しやすくなる傾向がある。また、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が上記上限を超えると、溶融粘度が低くなりすぎて硬化過程で、意図しない領域にBステージフィルムが濡れ広がりやすくなる傾向がある。   In 100% by weight of the total solid content B, the content of the curing agent having an aminotriazine skeleton is 10% by weight or more, preferably 13% by weight or more and 20% by weight or less, preferably 18% by weight or less. When the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, a better cured product can be obtained and the melt viscosity can be adjusted, so that the dispersibility of the inorganic filler is good. It is possible to prevent the B-stage film from spreading into unintended areas during the curing process. Furthermore, the dimensional change due to heat of the cured product can be further suppressed. Further, if the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton is less than the lower limit, it becomes difficult to embed the resin composition or B-stage film in the holes or irregularities of the circuit board, and the inorganic filler is non-uniformly present. It tends to be easy to do. Moreover, when content of the hardening | curing agent which has the said aminotriazine skeleton exceeds the said upper limit, melt viscosity will become low too much and there exists a tendency for a B stage film to spread easily in the area | region which is not intended in the hardening process.

特に、本発明では、上記全固形分100重量%中、上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が10重量%以上、20重量%以下であるので、熱による寸法変化が小さく、かつ埋め込み性が良好な硬化物を得ることができる。   In particular, in the present invention, the content of the curing agent having an aminotriazine skeleton in the total solid content of 100% by weight is 10% by weight or more and 20% by weight or less, so that the dimensional change due to heat is small and embedding is possible. Can obtain a cured product.

上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤との配合比は特に限定されない。上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤との配合比は、上記全固形分B100重量%中の上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量とがそれぞれ上述した範囲内であれば、適宜変更可能である。   The compounding ratio of the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having the aminotriazine skeleton is not particularly limited. The blending ratio of the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having the aminotriazine skeleton is the content of the bisphenol S-type epoxy resin in the total solid content B100% by weight and the content of the curing agent having the aminotriazine skeleton. If the amount is within the above-mentioned range, it can be appropriately changed.

[無機フィラー]
上記エポキシ樹脂材料に含まれている無機フィラーは特に限定されない。該無機フィラーとして、従来公知の無機フィラーを使用可能である。上記無機フィラーは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Inorganic filler]
The inorganic filler contained in the epoxy resin material is not particularly limited. Conventional inorganic fillers can be used as the inorganic filler. As for the said inorganic filler, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記無機フィラーとしては、シリカ、タルク、クレイ、マイカ、ハイドロタルサイト、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素等が挙げられる。粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面粗さを小さくし、かつ硬化物の表面により一層微細な配線を形成し、かつ硬化物により良好な絶縁信頼性を付与する観点からは、上記無機フィラーは、シリカ又はアルミナであることが好ましく、シリカであることがより好ましく、溶融シリカであることが更に好ましい。シリカの使用により、硬化物の線膨張率をより一層低くすることができ、かつ粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さを効果的に小さくすることができる。シリカの形状は略球状であることが好ましい。   Examples of the inorganic filler include silica, talc, clay, mica, hydrotalcite, alumina, magnesium oxide, aluminum hydroxide, aluminum nitride, and boron nitride. From the viewpoint of reducing the surface roughness of the cured product subjected to the roughening treatment or desmear treatment, forming finer wiring on the surface of the cured product, and imparting good insulation reliability to the cured product, the above inorganic The filler is preferably silica or alumina, more preferably silica, and still more preferably fused silica. By using silica, the linear expansion coefficient of the cured product can be further lowered, and the surface roughness of the surface of the cured product subjected to the roughening treatment or desmear treatment can be effectively reduced. The shape of silica is preferably substantially spherical.

上記無機フィラーの平均粒子径は、好ましくは0.1μm以上、好ましくは20μm以下、より好ましくは1μm以下である。上記無機フィラーの平均粒子径として、50%となるメディアン径(d50)の値が採用される。上記平均粒子径は、レーザー回折散乱方式の粒度分布測定装置を用いて測定できる。   The average particle diameter of the inorganic filler is preferably 0.1 μm or more, preferably 20 μm or less, more preferably 1 μm or less. A median diameter (d50) value of 50% is adopted as the average particle diameter of the inorganic filler. The average particle size can be measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.

上記無機フィラーは、表面処理されていることが好ましく、カップリング剤により表面処理されていることがより好ましい。これにより、粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面粗さをより一層小さくすることができ、かつ硬化物の表面により一層微細な配線を形成することができ、かつ硬化物により良好な配線間絶縁信頼性及び層間絶縁信頼性を付与することができる。   The inorganic filler is preferably surface-treated, and more preferably surface-treated with a coupling agent. As a result, the surface roughness of the cured product subjected to the roughening treatment or the desmear treatment can be further reduced, and a finer wiring can be formed on the surface of the cured product, and the cured product has a better wiring. Interlayer insulation reliability and interlayer insulation reliability can be imparted.

上記カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤及びアルミニウムカップリング剤等が挙げられる。上記シランカップリング剤としては、アミノシラン、イミダゾールシラン、エポキシシラン及びビニルシラン等が挙げられる。   Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanate coupling agents, and aluminum coupling agents. Examples of the silane coupling agent include amino silane, imidazole silane, epoxy silane, and vinyl silane.

上記無機フィラーの含有量は特に限定されない。上記エポキシ樹脂材料に含まれている全固形分(以下、全固形分Aと略記することがある)100重量%中、上記無機フィラーの含有量は好ましくは50重量%以上、好ましくは85重量%以下、より好ましくは80重量%以下である。上記無機フィラーの含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さをより一層小さくすることができ、かつ硬化物の表面により一層微細な配線を形成することができると同時に、この無機フィラー量であれば金属銅並に硬化物の熱線膨張係数を低くすることも可能である。「全固形分A」とは、上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤と上記無機フィラーと上記フェノキシ樹脂と必要に応じて配合される固形分との総和をいう。「固形分」とは、不揮発成分であり、成形又は加熱時に揮発しない成分をいう。   The content of the inorganic filler is not particularly limited. The content of the inorganic filler is preferably 50% by weight or more, preferably 85% by weight in 100% by weight of the total solid content (hereinafter sometimes abbreviated as total solid content A) contained in the epoxy resin material. Hereinafter, it is more preferably 80% by weight or less. When the content of the inorganic filler is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the surface roughness of the surface of the cured product that has been roughened or desmeared can be further reduced, and the surface of the cured product can be further reduced. Fine wiring can be formed, and at the same time, if the amount of the inorganic filler, it is possible to reduce the thermal expansion coefficient of the cured product as well as metal copper. “Total solid content A” refers to the total of the bisphenol S type epoxy resin, the curing agent having the aminotriazine skeleton, the inorganic filler, the phenoxy resin, and the solid content blended as necessary. “Solid content” refers to a non-volatile component that does not volatilize during molding or heating.

上記全固形分A中の上記無機フィラーの含有量が50重量%以上である場合に、硬化物の熱による寸法変化がより一層小さくなり、更に上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂と上記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤との併用により、硬化物の熱寸法安定性の向上効果が特に大きくなる。   When the content of the inorganic filler in the total solid A is 50% by weight or more, the dimensional change due to heat of the cured product is further reduced, and the bisphenol S-type epoxy resin and the aminotriazine skeleton are included. The combined use with the curing agent particularly increases the effect of improving the thermal dimensional stability of the cured product.

[フェノキシ樹脂]
本発明に係るエポキシ樹脂材料は、フェノキシ樹脂を含む。該フェノキシ樹脂の使用により、溶融粘度を調整することができるために無機フィラーの分散性を良好にすることができ、かつ硬化過程で、意図しない領域にBステージフィルムが濡れ拡がることを防止できる。またフェノキシ樹脂の添加量を所定の範囲内にすることで、樹脂組成物又はBステージフィルムの回路基板の穴又は凹凸に対する埋め込み性の悪化や、無機フィラーの不均一化を生じ難くすることができる。
[Phenoxy resin]
The epoxy resin material according to the present invention includes a phenoxy resin. By using the phenoxy resin, the melt viscosity can be adjusted, so that the dispersibility of the inorganic filler can be improved, and the B stage film can be prevented from spreading and spreading in an unintended region during the curing process. Moreover, by making the addition amount of the phenoxy resin within a predetermined range, it is possible to make it difficult for the resin composition or the B-stage film to have poor embeddability in the holes or irregularities of the circuit board and to make the inorganic filler non-uniform. .

上記フェノキシ樹脂は特に限定されず、従来公知のフェノキシ樹脂を使用可能である。上記フェノキシ樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The phenoxy resin is not particularly limited, and a conventionally known phenoxy resin can be used. As for the said phenoxy resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型の骨格、ビスフェノールF型の骨格、ビスフェノールS型の骨格、ビフェニル骨格、ノボラック骨格、及びナフタレン骨格などの骨格を有するフェノキシ樹脂等が挙げられる。上記フェノキシ樹脂の重量平均分子量は、好ましくは5000以上、好ましくは100000以下である。   Examples of the phenoxy resin include phenoxy resins having a skeleton such as a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol S skeleton, a biphenyl skeleton, a novolac skeleton, and a naphthalene skeleton. The weight average molecular weight of the phenoxy resin is preferably 5000 or more, and preferably 100,000 or less.

上記フェノキシ樹脂の市販品としては、例えば、東都化成社製の「YP50」、「YP55」及び「YP70」、並びに三菱化学社製の「1256B40」、「4250」、「4256H40」、「4275」、「YX6954BH30」及び「YX8100BH30」などが挙げられる。   Examples of commercially available phenoxy resins include “YP50”, “YP55” and “YP70” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., and “1256B40”, “4250”, “4256H40”, “4275” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, Examples thereof include “YX6954BH30” and “YX8100BH30”.

硬化物の表面を粗化処理又はデスミア処理した後に、金属層をめっきした場合に、硬化物と金属層との接着強度を高めることができるので、上記フェノキシ樹脂は、ビフェニル骨格を有することが好ましく、ビフェノール骨格を有することがより好ましい。   When the metal layer is plated after the surface of the cured product is roughened or desmeared, the adhesive strength between the cured product and the metal layer can be increased. Therefore, the phenoxy resin preferably has a biphenyl skeleton. More preferably, it has a biphenol skeleton.

上記フェノキシ樹脂は、イミド骨格を有するフェノキシ樹脂を含有することが好ましい。この場合に、本発明に係るエポキシ樹脂材料に含まれているフェノキシ樹脂は、イミド骨格を有するフェノキシ樹脂に加えて、イミド骨格を有するフェノキシ樹脂ではない他のフェノキシ樹脂を含んでいてもよい。   The phenoxy resin preferably contains a phenoxy resin having an imide skeleton. In this case, the phenoxy resin contained in the epoxy resin material according to the present invention may contain another phenoxy resin that is not a phenoxy resin having an imide skeleton in addition to the phenoxy resin having an imide skeleton.

一般的なフェノキシ樹脂は、硬化剤と反応することがある。このため、エポキシ樹脂材料の硬化物の架橋密度が低下して、硬化物の線膨張率が高くなることがある。これに対して、上記イミド骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、エポキシ樹脂材料の硬化物の架橋密度の低下を抑制でき、硬化物の熱による寸法変化を効果的に小さくすることができ、硬化物の線膨張率を低くすることができる。上記イミド骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、硬化物の熱寸法安定性がかなりよくなる。   Common phenoxy resins may react with curing agents. For this reason, the crosslinking density of the hardened | cured material of an epoxy resin material may fall, and the linear expansion coefficient of hardened | cured material may become high. On the other hand, by using the phenoxy resin having the imide skeleton, it is possible to suppress a decrease in the crosslinking density of the cured product of the epoxy resin material, and to effectively reduce the dimensional change due to the heat of the cured product. The linear expansion coefficient can be lowered. By using the phenoxy resin having the imide skeleton, the thermal dimensional stability of the cured product is considerably improved.

上記イミド骨格を有するフェノキシ樹脂としては、具体的には、三菱化学社製の「YL7600DMAcH25」等が挙げられる。   Specific examples of the phenoxy resin having an imide skeleton include “YL7600DMAcH25” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

樹脂組成物の硬化物の表面を粗化処理した後に、金属層を形成するためにめっき処理した場合に、硬化物と金属層との接着強度を高めることができるので、上記他のフェノキシ樹脂は、ビフェニル骨格を有することが好ましく、ビフェノール骨格を有することがより好ましい。   When the surface of the cured product of the resin composition is roughened and then plated to form a metal layer, the adhesive strength between the cured product and the metal layer can be increased, so the other phenoxy resin is It preferably has a biphenyl skeleton, and more preferably has a biphenol skeleton.

上記フェノキシ樹脂の含有量は特に限定されない。上記エポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分B100重量%中、上記フェノキシ樹脂の含有量は、好ましくは1重量%以上、好ましくは15重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。上記フェノキシ樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、硬化物の熱による寸法変化をより一層抑制できる。また、樹脂組成物又はBステージフィルムの回路基板の穴又は凹凸に対する埋め込み性が良好になる。   The content of the phenoxy resin is not particularly limited. The content of the phenoxy resin is preferably 1% by weight or more, preferably 15% by weight or less, more preferably 10% by weight in 100% by weight of the total solid content B excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material. It is as follows. When the content of the phenoxy resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, dimensional change due to heat of the cured product can be further suppressed. Moreover, the embedding property with respect to the hole or the unevenness | corrugation of the circuit board of a resin composition or a B stage film becomes favorable.

上記フェノキシ樹脂がイミド骨格を有するフェノキシ樹脂とイミド骨格を有さない上記他のフェノキシ樹脂を含む場合には、上記エポキシ樹脂材料に含まれている上記無機フィラーを除く全固形分B100重量%中、上記他のフェノキシ樹脂の含有量は、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下、更に好ましくは3重量%以下である。   In the case where the phenoxy resin contains a phenoxy resin having an imide skeleton and the other phenoxy resin not having an imide skeleton, in a total solid content B of 100% by weight excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material, The content of the other phenoxy resin is preferably 10% by weight or less, more preferably 5% by weight or less, and still more preferably 3% by weight or less.

[他の成分及びエポキシ樹脂材料の詳細]
上記エポキシ樹脂材料は、必要に応じて硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化促進剤の使用により、硬化速度をより一層速くすることができる。エポキシ樹脂材料を速やかに硬化させることで、硬化物の架橋構造を均一にすることができると共に、未反応の官能基数を減らすことができ、結果的に架橋密度を高くすることができる。該硬化促進剤は特に限定されず、従来公知の硬化促進剤を用いることができる。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Details of other components and epoxy resin materials]
The said epoxy resin material may contain the hardening accelerator as needed. By using a curing accelerator, the curing rate can be further increased. By rapidly curing the epoxy resin material, the crosslinked structure of the cured product can be made uniform, the number of unreacted functional groups can be reduced, and as a result, the crosslinking density can be increased. The curing accelerator is not particularly limited, and a conventionally known curing accelerator can be used. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール化合物、リン化合物、アミン化合物及び有機金属化合物等が挙げられる。   Examples of the curing accelerator include imidazole compounds, phosphorus compounds, amine compounds, and organometallic compounds.

上記イミダゾール化合物としては、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール及び2−フェニル−4−メチル−5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the imidazole compound include 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-un Decylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2 ′ -Methyl Midazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-undecylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 [2′-Ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine Isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and 2-phenyl-4-methyl-5-dihydroxymethylimidazole Can be mentioned.

上記リン化合物としては、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。   Examples of the phosphorus compound include triphenylphosphine.

上記アミン化合物としては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジエチレンテトラミン、トリエチレンテトラミン及び4,4−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。   Examples of the amine compound include diethylamine, triethylamine, diethylenetetramine, triethylenetetramine and 4,4-dimethylaminopyridine.

上記有機金属化合物としては、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバルト、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、ビスアセチルアセトナートコバルト(II)及びトリスアセチルアセトナートコバルト(III)等が挙げられる。   Examples of the organometallic compound include zinc naphthenate, cobalt naphthenate, tin octylate, cobalt octylate, bisacetylacetonate cobalt (II), and trisacetylacetonate cobalt (III).

硬化物の絶縁信頼性を高める観点からは、上記硬化促進剤は、イミダゾール化合物であることが特に好ましい。   From the viewpoint of increasing the insulation reliability of the cured product, the curing accelerator is particularly preferably an imidazole compound.

上記硬化促進剤の含有量は特に限定されない。エポキシ樹脂材料を効率的に硬化させる観点からは、上記全固形分B100重量%中、上記硬化促進剤の含有量は好ましくは0.01重量%以上、好ましくは3重量%以下である。   The content of the curing accelerator is not particularly limited. From the viewpoint of efficiently curing the epoxy resin material, the content of the curing accelerator in the total solid content B of 100% by weight is preferably 0.01% by weight or more, and preferably 3% by weight or less.

耐衝撃性、耐熱性、樹脂の相溶性及び作業性等の改善を目的として、エポキシ樹脂材料には、カップリング剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線劣化防止剤、消泡剤、増粘剤、揺変性付与剤及び上述した樹脂以外の他の樹脂等を添加してもよい。   For the purpose of improving impact resistance, heat resistance, resin compatibility and workability, epoxy resin materials include coupling agents, colorants, antioxidants, UV degradation inhibitors, antifoaming agents, and thickeners. A thixotropic agent and other resins other than those mentioned above may be added.

上記カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤及びアルミニウムカップリング剤等が挙げられる。上記シランカップリング剤としては、ビニルシラン、アミノシラン、イミダゾールシラン及びエポキシシラン等が挙げられる。   Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanium coupling agents, and aluminum coupling agents. Examples of the silane coupling agent include vinyl silane, amino silane, imidazole silane, and epoxy silane.

上記カップリング剤の含有量は特に限定されない。上記全固形分B100重量%中、上記カップリング剤の含有量は0.01重量%以上、5重量%以下であることが好ましい。   The content of the coupling agent is not particularly limited. In the total solid content B of 100% by weight, the content of the coupling agent is preferably 0.01% by weight or more and 5% by weight or less.

上記他の樹脂としては、ポリフェニレンエーテル樹脂、ジビニルベンジルエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ベンゾオキサゾール樹脂、ビスマレイミド樹脂及びアクリレート樹脂等が挙げられる。   Examples of the other resin include polyphenylene ether resin, divinyl benzyl ether resin, polyarylate resin, diallyl phthalate resin, polyimide resin, benzoxazine resin, benzoxazole resin, bismaleimide resin, and acrylate resin.

(Bステージフィルムであるエポキシ樹脂材料)
上記樹脂組成物をフィルム状に成形する方法としては、例えば、押出機を用いて、樹脂組成物を溶融混練し、押出した後、Tダイ又はサーキュラーダイ等により、フィルム状に成形する押出成形法、樹脂組成物を有機溶剤等の溶剤に溶解又は分散させた後、キャスティングしてフィルム状に成形するキャスティング成形法、並びに従来公知のその他のフィルム成形法等が挙げられる。なかでも、薄型化を進めることができるので、押出成形法又はキャスティング成形法が好ましい。フィルムにはシートが含まれる。
(B-stage film epoxy resin material)
As a method for forming the resin composition into a film, for example, an extrusion molding method is used in which the resin composition is melt-kneaded using an extruder, extruded, and then formed into a film using a T-die or a circular die. Examples thereof include a casting molding method in which the resin composition is dissolved or dispersed in a solvent such as an organic solvent and then cast into a film, and other conventionally known film molding methods. Of these, the extrusion molding method or the casting molding method is preferable because the thickness can be reduced. The film includes a sheet.

上記樹脂組成物をフィルム状に成形し、熱による硬化が進行し過ぎない程度に、例えば90〜200℃で10〜180分間加熱乾燥させることにより、Bステージフィルムを得ることができる。   A B-stage film can be obtained by forming the resin composition into a film and drying it by heating at 90 to 200 ° C. for 10 to 180 minutes, for example, so that curing by heat does not proceed excessively.

上述のような乾燥工程により得ることができるフィルム状の樹脂組成物をBステージフィルムと称する。   The film-like resin composition that can be obtained by the drying process as described above is referred to as a B-stage film.

上記Bステージフィルムは、半硬化状態にある半硬化物である。半硬化物は、完全に硬化しておらず、硬化がさらに進行され得る。   The B-stage film is a semi-cured product in a semi-cured state. The semi-cured product is not completely cured and curing can proceed further.

上記樹脂組成物は、基材と、該基材の一方の表面に積層されたBステージフィルムとを備える積層フィルムを形成するために好適に用いることができる。積層フィルムのBステージフィルムが、上記樹脂組成物により形成される。   The said resin composition can be used suitably in order to form a laminated film provided with a base material and the B stage film laminated | stacked on one surface of this base material. A B-stage film of a laminated film is formed from the resin composition.

上記積層フィルムの上記基材としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム及びポリブチレンテレフタレートフィルムなどのポリエステル樹脂フィルム、ポリエチレンフィルム及びポリプロピレンフィルムなどのオレフィン樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、銅箔及びアルミニウム箔などの金属箔等が挙げられる。上記基材の表面は、必要に応じて、離型処理されていてもよい。   Examples of the base material of the laminated film include polyester resin films such as polyethylene terephthalate film and polybutylene terephthalate film, olefin resin films such as polyethylene film and polypropylene film, polyimide resin film, metal foil such as copper foil and aluminum foil, and the like. Can be mentioned. The surface of the base material may be subjected to a release treatment as necessary.

上記エポキシ樹脂材料を回路の絶縁層として用いる場合、エポキシ樹脂材料により形成された層の厚さは、回路を形成する導体層の厚さ以上であることが好ましい。上記エポキシ樹脂材料により形成された層の厚さは、好ましくは5μm以上、好ましくは200μm以下である。   When the epoxy resin material is used as an insulating layer of a circuit, the thickness of the layer formed of the epoxy resin material is preferably equal to or greater than the thickness of the conductor layer that forms the circuit. The thickness of the layer formed of the epoxy resin material is preferably 5 μm or more, and preferably 200 μm or less.

(プリント配線板)
上記エポキシ樹脂材料は、プリント配線板において絶縁層を形成するために好適に用いられる。
(Printed wiring board)
The said epoxy resin material is used suitably in order to form an insulating layer in a printed wiring board.

上記プリント配線板は、例えば、上記樹脂組成物により形成されたBステージフィルムを用いて、該Bステージフィルムを加熱加圧成形することにより得られる。   The printed wiring board can be obtained, for example, by heat-pressing the B stage film using a B stage film formed of the resin composition.

上記Bステージフィルムに対して、片面又は両面に金属箔を積層できる。上記Bステージフィルムと金属箔とを積層する方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、平行平板プレス機又はロールラミネーター等の装置を用いて、加熱しながら又は加熱せずに加圧しながら、上記Bステージフィルムを金属箔に積層できる。   A metal foil can be laminated on one side or both sides of the B-stage film. The method for laminating the B-stage film and the metal foil is not particularly limited, and a known method can be used. For example, the B-stage film can be laminated on the metal foil using an apparatus such as a parallel plate press or a roll laminator while applying pressure while heating or without heating.

(銅張り積層板及び多層基板)
上記エポキシ樹脂材料は、銅張り積層板を得るために好適に用いられる。上記銅張り積層板の一例として、銅箔と、該銅箔の一方の表面に積層されたBステージフィルムとを備える銅張り積層板が挙げられる。この銅張り積層板のBステージフィルムが、本発明に係るエポキシ樹脂材料により形成される。
(Copper-clad laminate and multilayer board)
The said epoxy resin material is used suitably in order to obtain a copper clad laminated board. An example of the copper-clad laminate is a copper-clad laminate comprising a copper foil and a B stage film laminated on one surface of the copper foil. The copper-clad laminate B-stage film is formed of the epoxy resin material according to the present invention.

上記銅張り積層板の上記銅箔の厚さは特に限定されない。上記銅箔の厚さは、1〜50μmの範囲内であることが好ましい。また、エポキシ樹脂材料を硬化させた硬化物層と銅箔との接着強度を高めるために、上記銅箔は微細な凹凸を表面に有することが好ましい。凹凸の形成方法は特に限定されない。上記凹凸の形成方法としては、公知の薬液を用いた処理による形成方法等が挙げられる。   The thickness of the copper foil of the copper-clad laminate is not particularly limited. The thickness of the copper foil is preferably in the range of 1 to 50 μm. Moreover, in order to raise the adhesive strength of the hardened | cured material layer which hardened the epoxy resin material, and copper foil, it is preferable that the said copper foil has a fine unevenness | corrugation on the surface. The method for forming the unevenness is not particularly limited. Examples of the method for forming the unevenness include a formation method by treatment using a known chemical solution.

また、本発明に係るエポキシ樹脂材料は、多層基板を得るために好適に用いられる。上記多層基板の一例として、回路基板と、該回路基板の表面上に積層された硬化物層とを備える多層基板が挙げられる。この多層基板の硬化物層が、上記エポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成される。上記硬化物層は、回路基板の回路が設けられた表面上に積層されていることが好ましい。上記硬化物層の一部は、上記回路間に埋め込まれていることが好ましい。   Moreover, the epoxy resin material according to the present invention is suitably used for obtaining a multilayer substrate. As an example of the multilayer substrate, there is a multilayer substrate including a circuit board and a cured product layer laminated on the surface of the circuit board. The cured product layer of the multilayer substrate is formed by curing the epoxy resin material. It is preferable that the said hardened | cured material layer is laminated | stacked on the surface in which the circuit of the circuit board was provided. Part of the cured product layer is preferably embedded between the circuits.

上記多層基板では、上記硬化物層の上記回路基板が積層された表面とは反対側の表面が粗化処理又はデスミア処理されていることが好ましく、粗化処理されていることがより好ましい。   In the multilayer substrate, the surface of the cured product layer opposite to the surface on which the circuit substrate is laminated is preferably roughened or desmeared, and more preferably roughened.

粗化処理方法は、従来公知の粗化処理方法を用いることができ特に限定されない。上記硬化物層の表面は、粗化処理の前に膨潤処理されていてもよい。   The roughening method can be any conventionally known roughening method and is not particularly limited. The surface of the cured product layer may be swelled before the roughening treatment.

また、上記多層基板は、上記硬化物層の粗化処理された表面に積層された銅めっき層をさらに備えることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said multilayer substrate is further equipped with the copper plating layer laminated | stacked on the surface by which the roughening process of the said hardened | cured material layer was carried out.

また、上記多層基板の他の例として、回路基板と、該回路基板の表面上に積層された硬化物層と、該硬化物層の上記回路基板が積層された表面とは反対側の表面に積層された銅箔とを備える回路基板が挙げられる。上記硬化物層及び上記銅箔が、銅箔と該銅箔の一方の表面に積層されたBステージフィルムとを備える銅張り積層板を用いて、上記Bステージフィルムを硬化させることにより形成されていることが好ましい。さらに、上記銅箔はエッチング処理されており、銅回路であることが好ましい。   Further, as another example of the multilayer board, a circuit board, a cured product layer laminated on the surface of the circuit board, and a surface of the cured product layer opposite to the surface on which the circuit board is laminated are provided. A circuit board provided with the laminated copper foil is mentioned. The cured product layer and the copper foil are formed by curing the B-stage film using a copper-clad laminate comprising a copper foil and a B-stage film laminated on one surface of the copper foil. Preferably it is. Furthermore, it is preferable that the copper foil is etched and is a copper circuit.

上記多層基板の他の例として、回路基板と、該回路基板の表面上に積層された複数の硬化物層とを備える回路基板が挙げられる。上記複数層の硬化物層の内の少なくとも1層がが、上記エポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成される。上記多層基板は、上記エポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている上記硬化物層の少なくとも一方の表面に積層されている回路をさらに備えることが好ましい。   Another example of the multilayer board is a circuit board including a circuit board and a plurality of cured product layers stacked on the surface of the circuit board. At least one of the plurality of cured product layers is formed by curing the epoxy resin material. It is preferable that the multilayer substrate further includes a circuit laminated on at least one surface of the cured product layer formed by curing the epoxy resin material.

図1に本発明の一実施形態に係るエポキシ樹脂材料を用いた多層基板を模式的に部分切欠正面断面図で示す。   FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a multilayer substrate using an epoxy resin material according to an embodiment of the present invention.

図1に示す多層基板11では、回路基板12の上面12aに、複数層の硬化物層13〜16が積層されている。硬化物層13〜16は、絶縁層である。回路基板12の上面12aの一部の領域には、金属層17が形成されている。複数層の硬化物層13〜16のうち、回路基板12側とは反対の外側の表面に位置する硬化物層16以外の硬化物層13〜15には、上面の一部の領域に金属層17が形成されている。金属層17は回路である。回路基板12と硬化物層13の間、及び積層された硬化物層13〜16の各層間に、金属層17がそれぞれ配置されている。下方の金属層17と上方の金属層17とは、図示しないビアホール接続及びスルーホール接続の内の少なくとも一方により互いに接続されている。   In the multilayer substrate 11 shown in FIG. 1, a plurality of cured product layers 13 to 16 are laminated on the upper surface 12 a of the circuit substrate 12. The cured product layers 13 to 16 are insulating layers. A metal layer 17 is formed in a partial region of the upper surface 12 a of the circuit board 12. Among the plurality of cured product layers 13 to 16, the cured product layers 13 to 15 other than the cured product layer 16 located on the outer surface opposite to the circuit board 12 side include a metal layer in a partial region of the upper surface. 17 is formed. The metal layer 17 is a circuit. Metal layers 17 are respectively arranged between the circuit board 12 and the cured product layer 13 and between the laminated cured product layers 13 to 16. The lower metal layer 17 and the upper metal layer 17 are connected to each other by at least one of via hole connection and through hole connection (not shown).

多層基板11では、硬化物層13〜16が、本発明に係るエポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている。本実施形態では、硬化物層13〜16の表面が粗化処理又はデスミア処理されているので、硬化物層13〜16の表面に図示しない微細な孔が形成されている。また、微細な孔の内部に金属層17が至っている。また、多層基板11では、金属層17の幅方向寸法(L)と、金属層17が形成されていない部分の幅方向寸法(S)とを小さくすることができる。また、多層基板11では、図示しないビアホール接続及びスルーホール接続で接続されていない上方の金属層と下方の金属層との間に、良好な絶縁信頼性が付与されている。   In the multilayer substrate 11, the cured product layers 13 to 16 are formed by curing the epoxy resin material according to the present invention. In this embodiment, since the surfaces of the cured product layers 13 to 16 are roughened or desmeared, fine holes (not shown) are formed on the surfaces of the cured product layers 13 to 16. Further, the metal layer 17 reaches the inside of the fine hole. Moreover, in the multilayer substrate 11, the width direction dimension (L) of the metal layer 17 and the width direction dimension (S) of the part in which the metal layer 17 is not formed can be made small. In the multilayer substrate 11, good insulation reliability is imparted between an upper metal layer and a lower metal layer that are not connected by via-hole connection and through-hole connection (not shown).

(粗化処理及び膨潤処理)
本発明に係るエポキシ樹脂材料は、粗化処理又はデスミア処理される硬化物を得るために用いられることが好ましい。上記硬化物には、更に硬化が可能な予備硬化物も含まれる。
(Roughening treatment and swelling treatment)
The epoxy resin material according to the present invention is preferably used in order to obtain a cured product that is roughened or desmeared. The cured product includes a precured product that can be further cured.

本発明に係るエポキシ樹脂材料を予備硬化させることにより得られた予備硬化物の表面に微細な凹凸を形成するために、予備硬化物は粗化処理されることが好ましい。粗化処理の前に、予備硬化物は膨潤処理されることが好ましい。硬化物は、予備硬化の後、かつ粗化処理される前に、膨潤処理されており、さらに粗化処理の後に硬化されていることが好ましい。ただし、予備硬化物は、必ずしも膨潤処理されなくてもよい。   In order to form fine irregularities on the surface of the precured material obtained by precuring the epoxy resin material according to the present invention, the precured material is preferably subjected to a roughening treatment. Prior to the roughening treatment, the precured product is preferably subjected to a swelling treatment. The cured product is preferably subjected to a swelling treatment after preliminary curing and before the roughening treatment, and is further cured after the roughening treatment. However, the pre-cured product may not necessarily be subjected to the swelling treatment.

上記膨潤処理の方法としては、例えば、エチレングリコールなどを主成分とする化合物の水溶液又は有機溶媒分散溶液などにより、予備硬化物を処理する方法が用いられる。膨潤処理に用いる膨潤液は、一般にpH調整剤などとして、アルカリを含む。膨潤液は、水酸化ナトリウムを含むことが好ましい。具体的には、例えば、上記膨潤処理は、40重量%エチレングリコール水溶液等を用いて、処理温度30〜85℃で1〜30分間、予備硬化物を処理することにより行なわれる。上記膨潤処理の温度は50〜85℃の範囲内であることが好ましい。上記膨潤処理の温度が低すぎると、膨潤処理に長時間を要し、更に硬化物と金属層との粗化接着強度が低くなる傾向がある。   As a method for the swelling treatment, for example, a method of treating a precured product with an aqueous solution or an organic solvent dispersion solution of a compound mainly composed of ethylene glycol or the like is used. The swelling liquid used for the swelling treatment generally contains an alkali as a pH adjuster or the like. The swelling liquid preferably contains sodium hydroxide. Specifically, for example, the swelling treatment is performed by treating a precured product with a 40 wt% ethylene glycol aqueous solution at a treatment temperature of 30 to 85 ° C. for 1 to 30 minutes. The swelling treatment temperature is preferably in the range of 50 to 85 ° C. When the temperature of the swelling treatment is too low, it takes a long time for the swelling treatment, and the roughened adhesive strength between the cured product and the metal layer tends to be low.

上記粗化処理には、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等が用いられる。これらの化学酸化剤は、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。粗化処理に用いられる粗化液は、一般にpH調整剤などとしてアルカリを含む。粗化液は、水酸化ナトリウムを含むことが好ましい。   For the roughening treatment, for example, a chemical oxidizing agent such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfuric acid compound is used. These chemical oxidizers are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after water or an organic solvent is added. The roughening liquid used for the roughening treatment generally contains an alkali as a pH adjuster or the like. The roughening solution preferably contains sodium hydroxide.

上記マンガン化合物としては、過マンガン酸カリウム及び過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。上記クロム化合物としては、重クロム酸カリウム及び無水クロム酸カリウム等が挙げられる。上記過硫酸化合物としては、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム及び過硫酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the manganese compound include potassium permanganate and sodium permanganate. Examples of the chromium compound include potassium dichromate and anhydrous potassium chromate. Examples of the persulfate compound include sodium persulfate, potassium persulfate, and ammonium persulfate.

上記粗化処理の方法は特に限定されない。上記粗化処理の方法として、例えば、30〜90g/L過マンガン酸又は過マンガン酸塩溶液及び30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理温度30〜85℃及び1〜30分間の条件で、1回又は2回、予備硬化物を処理する方法が好適である。上記粗化処理の温度は50〜85℃の範囲内であることが好ましい。   The method for the roughening treatment is not particularly limited. As a method of the said roughening process, 30-90 g / L permanganic acid or a permanganate solution and 30-90 g / L sodium hydroxide solution are used, for example, process temperature 30-85 degreeC and 1-30 minutes. A method of treating a precured product once or twice under conditions is preferable. It is preferable that the temperature of the said roughening process exists in the range of 50-85 degreeC.

デスミア処理又は粗化処理された硬化物の表面の算術平均粗さRaが、50nm以上、350nm以下であることが好ましい。この場合には、硬化物と金属層又は配線との接着強度を高くすることができ、更に硬化物層の表面により一層微細な配線を形成することができる。   The arithmetic average roughness Ra of the surface of the cured product that has been desmeared or roughened is preferably 50 nm or more and 350 nm or less. In this case, the adhesive strength between the cured product and the metal layer or wiring can be increased, and further finer wiring can be formed on the surface of the cured product layer.

(デスミア処理)
また、本発明に係るエポキシ樹脂材料を予備硬化させることにより得られた予備硬化物又は硬化物に、貫通孔が形成されることがある。上記多層基板などでは、貫通孔として、ビア又はスルーホール等が形成される。例えば、ビアは、COレーザー等のレーザーの照射により形成できる。ビアの直径は特に限定されないが、60〜80μm程度である。上記貫通孔の形成により、ビア内の底部には、硬化物層に含まれている樹脂成分に由来する樹脂の残渣であるスミアが形成されることが多い。
(Desmear treatment)
Moreover, a through-hole may be formed in the precured material or hardened | cured material obtained by precuring the epoxy resin material which concerns on this invention. In the multilayer substrate or the like, a via or a through hole is formed as a through hole. For example, the via can be formed by irradiation with a laser such as a CO 2 laser. The diameter of the via is not particularly limited, but is about 60 to 80 μm. Due to the formation of the through hole, a smear that is a resin residue derived from the resin component contained in the cured product layer is often formed at the bottom of the via.

上記スミアを除去するために、硬化物層の表面は、デスミア処理されることが好ましい。デスミア処理が粗化処理を兼ねることもある。   In order to remove the smear, the surface of the cured product layer is preferably desmeared. The desmear process may also serve as a roughening process.

上記デスミア処理には、上記粗化処理と同様に、例えば、マンガン化合物、クロム化合物又は過硫酸化合物などの化学酸化剤等が用いられる。これらの化学酸化剤は、水又は有機溶剤が添加された後、水溶液又は有機溶媒分散溶液として用いられる。デスミア処理に用いられるデスミア処理液は、一般にアルカリを含む。デスミア処理液は、水酸化ナトリウムを含むことが好ましい。   In the desmear treatment, for example, a chemical oxidant such as a manganese compound, a chromium compound, or a persulfate compound is used in the same manner as the roughening treatment. These chemical oxidizers are used as an aqueous solution or an organic solvent dispersion after water or an organic solvent is added. The desmear treatment liquid used for the desmear treatment generally contains an alkali. The desmear treatment liquid preferably contains sodium hydroxide.

上記デスミア処理の方法は特に限定されない。上記デスミア処理の方法として、例えば、30〜90g/L過マンガン酸又は過マンガン酸塩溶液及び30〜90g/L水酸化ナトリウム溶液を用いて、処理温度30〜85℃及び1〜30分間の条件で、1回又は2回、予備硬化物又は硬化物を処理する方法が好適である。上記デスミア処理の温度は50〜85℃の範囲内であることが好ましい。   The method for the desmear treatment is not particularly limited. As a method for the desmear treatment, for example, using a 30 to 90 g / L permanganate or permanganate solution and a 30 to 90 g / L sodium hydroxide solution, a treatment temperature of 30 to 85 ° C. and a condition of 1 to 30 minutes A method of treating a precured product or a cured product once or twice is preferable. It is preferable that the temperature of the said desmear process exists in the range of 50-85 degreeC.

本発明に係るエポキシ樹脂材料の使用により、デスミア処理された硬化物の表面の表面粗さを十分に小さくすることができる。   By using the epoxy resin material according to the present invention, the surface roughness of the surface of the cured product subjected to the desmear treatment can be sufficiently reduced.

以下、実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by giving examples and comparative examples. The present invention is not limited to the following examples.

(エポキシ樹脂)
ビスフェノールS型エポキシ樹脂(DIC社製「EXA−1517」、重量平均分子量1000以下)
ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂(日本化薬社製「XD−1000」、重量平均分子量1000以下)
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(DIC社製「830S」、エポキシ当量168、重量平均分子量500以下)
(Epoxy resin)
Bisphenol S type epoxy resin (DIC Corporation "EXA-1517", weight average molecular weight 1000 or less)
Dicyclopentadiene skeleton-containing epoxy resin (“XD-1000” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 1000 or less)
Bisphenol F type epoxy resin (“830S” manufactured by DIC, epoxy equivalent 168, weight average molecular weight 500 or less)

(硬化剤)
アミノトリアジン骨格クレゾールノボラック硬化剤含有液(DIC社製「LA3018−50P」、重量平均分子量1000以下、固形分50重量%とプロピレングリコールモノメチルエーテル含有溶剤50重量%とを含む)
(Curing agent)
Aminotriazine skeleton cresol novolac curing agent-containing liquid (“LA3018-50P” manufactured by DIC, including weight average molecular weight of 1000 or less, solid content of 50% by weight and propylene glycol monomethyl ether-containing solvent of 50% by weight)

(硬化促進剤)
イミダゾール化合物(2−フェニル−4−メチルイミダゾール、四国化成工業社製「2P4MZ」)
(Curing accelerator)
Imidazole compound (2-phenyl-4-methylimidazole, “2P4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)

(フェノキシ樹脂)
イミド骨格含有フェノキシ樹脂含有液(三菱化学社製「YL7600DMAcH25」、固形分25重量%とジメチルアセトアミド37.5重量%とシクロヘキサノン37.5重量%とを含む)
(Phenoxy resin)
Imide skeleton-containing phenoxy resin-containing liquid ("YL7600DMAcH25" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, containing 25 wt% solids, 37.5 wt% dimethylacetamide, and 37.5 wt% cyclohexanone)

(無機フィラー)
シリカ含有スラリー(アドマテックス社製「SC2050HNF」、平均粒子径0.5μmの溶融シリカを含む、固形分70重量%とシクロヘキサノン30重量%とを含む)
(Inorganic filler)
Silica-containing slurry (admatechs “SC2050HNF”, containing fused silica with an average particle size of 0.5 μm, solid content 70 wt% and cyclohexanone 30 wt%)

(実施例1)
上記ビスフェノールSエポキシ樹脂(DIC社製「EXA−1517」)50重量部、ジシクロペンタジエン骨格含有エポキシ樹脂(日本化薬社製「XD−1000」)25重量部、アミノトリアジン骨格クレゾールノボラック硬化剤含有液(DIC社製「LA3018−50P」)を固形分で15重量部(溶剤を含めて30重量部)、イミダゾール化合物(四国化成工業社製「2P4MZ」)0.2重量部、イミド骨格含有フェノキシ樹脂含有液(三菱化学社製「YL7600DMAcH25」)を固形分で10重量部(溶剤を含めて40重量部)、シリカ含有スラリーを固形分で344重量部(溶剤を含めて492重量部)を混合し、均一な液となるまで常温で攪拌し、樹脂組成物ワニスを得た。
Example 1
50 parts by weight of the above bisphenol S epoxy resin (“EXA-1517” manufactured by DIC), 25 parts by weight of an epoxy resin containing dicyclopentadiene skeleton (“XD-1000” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and containing an aminotriazine skeleton cresol novolac curing agent 15 parts by weight (30 parts by weight including solvent) of liquid (“LA3018-50P” manufactured by DIC), 0.2 parts by weight of imidazole compound (“2P4MZ” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), imide skeleton-containing phenoxy 10 parts by weight (40 parts by weight including solvent) of resin-containing liquid (Mitsubishi Chemical Corporation “YL7600DMAcH25”) and 344 parts by weight (492 parts by weight including solvent) of silica-containing slurry And it stirred at normal temperature until it became a uniform liquid, and the resin composition varnish was obtained.

離型処理された透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(リンテック社製「PET5011 550」、厚み50μm)を用意した。このPETフィルム上にアプリケーターを用いて、乾燥後の厚みが50μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスを塗工した。次に、100℃のギアオーブン内で2分間乾燥して、縦200mm×横200mm×厚み50μmの樹脂シートの未硬化物(Bステージフィルム)とポリエチレンテレフタレートフィルムとの積層フィルムを作製した。次に、積層フィルムからポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、樹脂シートの未硬化物を180℃のギアオーブン内で80分間加熱して、樹脂シートの一次硬化物を作製した。   A release-treated transparent polyethylene terephthalate (PET) film (“PET5011 550” manufactured by Lintec Corporation, thickness 50 μm) was prepared. The obtained resin composition varnish was applied onto the PET film using an applicator so that the thickness after drying was 50 μm. Next, it was dried in a gear oven at 100 ° C. for 2 minutes to prepare a laminated film of an uncured resin sheet (B stage film) having a length of 200 mm × width of 200 mm × thickness of 50 μm and a polyethylene terephthalate film. Next, the polyethylene terephthalate film was peeled off from the laminated film, and the uncured product of the resin sheet was heated in a gear oven at 180 ° C. for 80 minutes to produce a primary cured product of the resin sheet.

(実施例2及び比較例1〜4)
使用した材料の種類及び配合量(固形分重量部)を下記の表1に示すように変更したこと以外は実施例1と同様にして、積層フィルム及び樹脂シートの一次硬化物を作製した。
(Example 2 and Comparative Examples 1 to 4)
A primary cured product of a laminated film and a resin sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the type and blending amount (parts by weight of solid content) of the material used were changed as shown in Table 1 below.

(評価)
(1)平均線膨張率
得られた樹脂シートの一次硬化物を、190℃で3時間加熱し、更に硬化させ、硬化物Aを得た。得られた硬化物Aを、3mm×25mmの大きさに裁断した。線膨張率計(セイコーインスツルメンツ社製「TMA/SS120C」)を用いて、引張り荷重3.3×10−2N、昇温速度5℃/分の条件で、裁断された硬化物Aのガラス転移温度以下での平均線膨張率(α1)を測定した。
(Evaluation)
(1) Average linear expansion coefficient The primary cured product of the obtained resin sheet was heated at 190 ° C. for 3 hours and further cured to obtain a cured product A. The obtained cured product A was cut into a size of 3 mm × 25 mm. Glass transition of cured product A cut using a linear expansion meter (“TMA / SS120C” manufactured by Seiko Instruments Inc.) under the conditions of a tensile load of 3.3 × 10 −2 N and a heating rate of 5 ° C./min. The average linear expansion coefficient (α1) below the temperature was measured.

(2)エポキシ樹脂材料の最低溶融粘度
Rheometer装置(TAインスツルメント社製「AR−2000」)を用いて、歪み21.6%及び周波数1Hzの条件で、得られた樹脂シートの未硬化物(Bステージフィルム)の50〜150℃の温度領域での粘度を測定し、粘度が最も低くなる値を最低溶融粘度とした。
(2) Minimum melt viscosity of epoxy resin material Uncured resin sheet obtained using a Rheometer device ("AR-2000" manufactured by TA Instruments) under the conditions of 21.6% strain and 1 Hz frequency The viscosity of the (B stage film) in the temperature range of 50 to 150 ° C. was measured, and the value at which the viscosity was the lowest was taken as the minimum melt viscosity.

(3)ラミネート性(埋め込み性)
銅張り積層板(厚さ150μmのガラスエポキシ基板と厚さ25μmの銅箔との積層体)を用意した。銅箔をエッチング処理し、L/Sが50μm/50μm及び長さが1cmである銅パターンを26本作製し、凹凸基板を得た。
(3) Laminating properties (embedding properties)
A copper-clad laminate (a laminate of a 150 μm thick glass epoxy substrate and a 25 μm thick copper foil) was prepared. The copper foil was etched to produce 26 copper patterns having an L / S of 50 μm / 50 μm and a length of 1 cm to obtain an uneven substrate.

実施例及び比較例で得られた樹脂シートの未硬化物(厚さ50μm)を凹凸基板の凹凸表面に重ねて、名機製作所製真空加圧式ラミネーター機(型番MVLP−500)を用い、ラミネート圧0.4MPa及びラミネート温度90℃で20秒、更にプレス圧力0.8MPa及びプレス温度90℃で20秒の各条件で、ラミネート及びプレスした。このようにして、凹凸基板上に樹脂シートの未硬化物が積層されている積層体を得た。   The uncured product (thickness 50 μm) of the resin sheet obtained in the examples and comparative examples was stacked on the concavo-convex surface of the concavo-convex substrate, and laminate pressure was applied using a vacuum pressurizing laminator machine (model number MVLP-500) manufactured by Meiki Seisakusho. Lamination and pressing were performed at 0.4 MPa and a laminating temperature of 90 ° C. for 20 seconds, and further at a pressing pressure of 0.8 MPa and a pressing temperature of 90 ° C. for 20 seconds. Thus, the laminated body by which the uncured material of the resin sheet was laminated | stacked on the uneven substrate was obtained.

得られた積層体において、樹脂シートの未硬化物を180℃のギアオーブン内で80分間加熱して、硬化物Cを得た。   In the obtained laminate, an uncured product of the resin sheet was heated in a gear oven at 180 ° C. for 80 minutes to obtain a cured product C.

[ラミネート性の評価]
硬化物Cを、各銅パターンの長手方向に直交する方向に切断し、硬化物Cの断面を露出させた。
[Lamination evaluation]
The cured product C was cut in a direction orthogonal to the longitudinal direction of each copper pattern to expose the cross section of the cured product C.

次に、各銅パターン間の銅パターンが形成されていない部分(凹部)に対応する硬化物C部分の状態を、光学顕微鏡を用いて観察した。銅パターンが形成されていない部分(凹部)に対応する硬化物C部分25箇所中、埋め込みができていない箇所の数T1を計測し、凹凸表面に対する硬化物Cの密着性(埋め込み性)を評価した。   Next, the state of the hardened | cured material C part corresponding to the part (recessed part) in which the copper pattern between each copper pattern is not formed was observed using the optical microscope. Of the 25 portions of the cured product C corresponding to the portion (concave portion) where the copper pattern is not formed, the number T1 of the portions that cannot be embedded is measured, and the adhesion (embedding property) of the cured product C to the uneven surface is evaluated. did.

さらに、光学顕微鏡を用いて、銅パターン(凸部)に対応する硬化物C部分26箇所の各厚みを測定した。   Furthermore, each thickness of 26 places of the hardened | cured material C part corresponding to a copper pattern (convex part) was measured using the optical microscope.

ラミネート性を下記の判定基準で判定した。   The laminate property was judged according to the following judgment criteria.

[ラミネート性の判定基準]
○○:埋め込みができていない箇所の数T1が0かつ各パターン26箇所全てのパターンにおいて最小厚みが42μm以上
○:埋め込みができていない箇所の数T1が0かつ各パターン26箇所全てのパターンにおいて最小厚みが35μm以上42μm未満
×:埋め込みができていない箇所の数T1が1以上又は各パターン26箇所全てのパターンにおいて最小厚みが35μm未満
[Judgment criteria for laminating properties]
◯: The number T1 of the unembedded portions is 0 and the minimum thickness is 42 μm or more in all the patterns of 26 portions of each pattern. The minimum thickness is 35 μm or more and less than 42 μm. X: The number T1 of the unembedded portions is 1 or more, or the minimum thickness is less than 35 μm in all 26 patterns.

なお、硬化物Cの埋め込み性及び厚みは、ラミネート後のエポキシ樹脂材料の埋め込み性及び厚みと相関がある。   The embedding property and thickness of the cured product C have a correlation with the embedding property and thickness of the epoxy resin material after lamination.

結果を下記の表1に示す。下記の表1において、「全固形分A」は、上記エポキシ樹脂材料に含まれている全固形分を示し、「全固形分B」は、上記エポキシ樹脂材料に含まれている無機フィラーを除く全固形分を示す。   The results are shown in Table 1 below. In Table 1 below, “total solid content A” indicates the total solid content contained in the epoxy resin material, and “total solid content B” excludes the inorganic filler contained in the epoxy resin material. Total solids are shown.

Figure 2013023667
Figure 2013023667

11…多層基板
12…回路基板
12a…上面
13〜16…硬化物層
17…金属層(配線)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Multilayer substrate 12 ... Circuit board 12a ... Upper surface 13-16 ... Hardened | cured material layer 17 ... Metal layer (wiring)

Claims (6)

ビスフェノールS型エポキシ樹脂と、アミノトリアジン骨格を有する硬化剤と、無機フィラーと、フェノキシ樹脂とを含み、
エポキシ樹脂材料に含まれている前記無機フィラーを除く全固形分100重量%中、前記ビスフェノールS型エポキシ樹脂の含有量が40重量%以上、60重量%以下であり、かつ前記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の含有量が10重量%以上、20重量%以下である、エポキシ樹脂材料。
Including a bisphenol S-type epoxy resin, a curing agent having an aminotriazine skeleton, an inorganic filler, and a phenoxy resin,
The content of the bisphenol S type epoxy resin is 40% by weight or more and 60% by weight or less in 100% by weight of the total solid content excluding the inorganic filler contained in the epoxy resin material, and has the aminotriazine skeleton. The epoxy resin material whose content of a hardening | curing agent is 10 to 20 weight%.
エポキシ樹脂材料に含まれている全固形分100重量%中、前記無機フィラーの含有量が50重量%以上、85重量%以下である、請求項1に記載のエポキシ樹脂材料。   The epoxy resin material according to claim 1, wherein the content of the inorganic filler is 50% by weight or more and 85% by weight or less in 100% by weight of the total solid content contained in the epoxy resin material. 前記ビスフェノールS型エポキシ樹脂及び前記アミノトリアジン骨格を有する硬化剤の重量平均分子量がそれぞれ1000以下である、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂材料。   The epoxy resin material according to claim 1 or 2, wherein the bisphenol S-type epoxy resin and the curing agent having an aminotriazine skeleton each have a weight average molecular weight of 1000 or less. 硬化促進剤をさらに含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂材料。   The epoxy resin material according to any one of claims 1 to 3, further comprising a curing accelerator. フィルム状に成形されたBステージフィルムである、請求項1〜4のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂材料。   The epoxy resin material according to claim 1, wherein the epoxy resin material is a B-stage film formed into a film shape. 回路基板と、
前記回路基板の表面上に配置された硬化物層とを備え、
前記硬化物層が、請求項1〜5のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている、多層基板。
A circuit board;
A cured product layer disposed on the surface of the circuit board,
The multilayer substrate in which the said hardened | cured material layer is formed by hardening the epoxy resin material of any one of Claims 1-5.
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