JP2013004348A - Conductive particle with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure - Google Patents

Conductive particle with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure Download PDF

Info

Publication number
JP2013004348A
JP2013004348A JP2011135248A JP2011135248A JP2013004348A JP 2013004348 A JP2013004348 A JP 2013004348A JP 2011135248 A JP2011135248 A JP 2011135248A JP 2011135248 A JP2011135248 A JP 2011135248A JP 2013004348 A JP2013004348 A JP 2013004348A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
conductive
insulating
insulating particles
conductive particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011135248A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5620342B2 (en
Inventor
Shigeo Mahara
茂雄 真原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2011135248A priority Critical patent/JP5620342B2/en
Publication of JP2013004348A publication Critical patent/JP2013004348A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5620342B2 publication Critical patent/JP5620342B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive particle with insulating particles capable of enhancing the conduction reliability and the insulation reliability when used for connection between electrodes, and to provide an anisotropic conductive material.SOLUTION: A conductive particle with insulating particles 1 has a conductive particle 2 having a conductive layer 12 at least on a surface thereof, and a plurality of insulating particles 3 adhered on the surface of the conductive particle 2. An average particle size of the insulating particle 3 is larger than 1/10 of a particle size of the conductive particle 2 and equal to or smaller than 1/3 of the same. An anisotropic conductive material contains the conductive particle with insulating particles 1 and a binder resin.

Description

本発明は、導電性粒子の表面に複数の絶縁性粒子が付着している絶縁性粒子付き導電性粒子に関し、例えば、電極間の電気的な接続に用いることができる絶縁性粒子付き導電性粒子、並びに該絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた異方性導電材料及び接続構造体に関する。   The present invention relates to conductive particles with insulating particles in which a plurality of insulating particles are attached to the surface of the conductive particles, for example, conductive particles with insulating particles that can be used for electrical connection between electrodes. The present invention also relates to an anisotropic conductive material and a connection structure using the conductive particles with insulating particles.

異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。該異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。   Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In the anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in a binder resin.

上記異方性導電材料は、ICチップとフレキシブルプリント回路基板との接続、及びICチップとITO電極を有する回路基板との接続等に使用されている。例えば、ICチップの電極と回路基板の電極との間に異方性導電材料を配置した後、加熱及び加圧することにより、これらの電極を導電性粒子により電気的に接続できる。   The anisotropic conductive material is used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board, connection between an IC chip and a circuit board having an ITO electrode, and the like. For example, after disposing an anisotropic conductive material between the electrode of the IC chip and the electrode of the circuit board, these electrodes can be electrically connected by conductive particles by heating and pressing.

上記導電性粒子の一例として、下記の特許文献1,2には、導電性粒子と、該導電性粒子の表面を被覆している絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。   As an example of the conductive particles, the following Patent Documents 1 and 2 disclose conductive particles with insulating particles including conductive particles and insulating particles covering the surface of the conductive particles. ing.

特許文献1に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子では、該絶縁性粒子付き導電性粒子の比重が上記導電性粒子の比重の97/100〜99/100である。また、特許文献1には、上記絶縁性粒子の平均粒子径が上記導電性粒子の平均粒子径の1/40〜1/10であることが好ましいことが記載されている。   In the conductive particles with insulating particles described in Patent Document 1, the specific gravity of the conductive particles with insulating particles is 97/100 to 99/100 of the specific gravity of the conductive particles. Patent Document 1 describes that the average particle diameter of the insulating particles is preferably 1/40 to 1/10 of the average particle diameter of the conductive particles.

下記の特許文献2には、導電性粒子と、該導電性粒子の表面に固定化されており、固着性を有する絶縁性粒子とを有する絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。上記絶縁性粒子は、硬質粒子と、該硬質粒子の表面を被覆している高分子樹脂層とを有する。特許文献2では、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を固定化させるために、固定化方法として物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を用いている。   Patent Document 2 below discloses conductive particles with insulating particles having conductive particles and insulating particles fixed to the surface of the conductive particles and having fixing properties. The insulating particles include hard particles and a polymer resin layer covering the surfaces of the hard particles. In Patent Document 2, a physical / mechanical hybridization method is used as an immobilization method in order to immobilize insulating particles on the surface of conductive particles.

特許第4386148号公報Japanese Patent No. 4386148 特表2007−537570号公報Special table 2007-537570 gazette

特許文献1,2に記載のような従来の絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて、電極間を電気的に接続した場合には、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における複数の導電性粒子同士が接触して、接続されてはならない横方向に隣接する電極間が電気的に接続されることがある。すなわち、従来の絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体における電極間の絶縁信頼性が低いことがある。   When electrically connecting electrodes using conventional conductive particles with insulating particles as described in Patent Documents 1 and 2, a plurality of conductive particles in a plurality of conductive particles with insulating particles The electrodes adjacent to each other in the lateral direction that should not be connected to each other may be electrically connected. That is, the insulation reliability between the electrodes in the connection structure using the conventional conductive particles with insulating particles may be low.

特に、特許文献2に記載のように、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を固定化させるために、物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を用いた場合には、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しやすい。さらに、物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を用いた場合には、絶縁性粒子の上記高分子樹脂層が、導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分にも付着し、電極間の接続後に導電性が損なわれるという問題もある。   In particular, as described in Patent Document 2, when a physical / mechanical hybridization method is used to immobilize the insulating particles on the surface of the conductive particles, the insulating particles are made of conductive particles. Easily detached from the surface. Furthermore, when the physical / mechanical hybridization method is used, the polymer resin layer of the insulating particles adheres to a portion other than the portion where the insulating particles are attached on the surface of the conductive particles. There is also a problem that the conductivity is impaired after the connection between the electrodes.

本発明の目的は、電極間の接続に用いた場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる絶縁性粒子付き導電性粒子、並びに該絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた異方性導電材料及び接続構造体を提供することである。   An object of the present invention is to provide conductive particles with insulating particles that can improve conduction reliability and insulation reliability when used for connection between electrodes, and anisotropic using the conductive particles with insulating particles. Conductive material and connection structure.

本発明の広い局面によれば、導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備え、該絶縁性粒子の平均粒子径が、上記導電性粒子の粒子径の1/10を超え、1/3以下である、絶縁性粒子付き導電性粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, it comprises conductive particles having a conductive layer at least on the surface, and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles, and the average particle size of the insulating particles is The conductive particles with insulating particles, which are more than 1/10 of the particle diameter of the conductive particles and 1/3 or less, are provided.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、上記導電性粒子の粒子径は1μm以上、5μm以下である。   On the specific situation with the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on this invention, the particle diameter of the said electroconductive particle is 1 micrometer or more and 5 micrometers or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の他の特定の局面では、上記絶縁性粒子の平均粒子径は、上記導電性粒子の粒子径の1/8を超える。   In another specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the average particle size of the insulating particles exceeds 1/8 of the particle size of the conductive particles.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のさらに他の特定の局面では、上記絶縁性粒子は、絶縁性粒子本体と、該絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層とを有する。   In still another specific aspect of the conductive particle with insulating particles according to the present invention, the insulating particle includes an insulating particle body and a layer covering at least a partial region of the surface of the insulating particle body. And have.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の別の特定の局面では、上記絶縁性粒子は化学的方法により、上記導電性粒子の表面に付着している。   In another specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles are attached to the surface of the conductive particles by a chemical method.

本発明に係る異方性導電材料は、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。本発明に係る異方性導電材料は、ペースト状の異方性導電ペーストであることが好ましい。   The anisotropic conductive material according to the present invention includes the above-described conductive particles with insulating particles and a binder resin. The anisotropic conductive material according to the present invention is preferably a paste-like anisotropic conductive paste.

本発明に係る接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、該第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、該接続部が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む異方性導電材料により形成されている。   A connection structure according to the present invention includes a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion that connects the first and second connection target members. The conductive particles with insulating particles are formed by the above-described conductive particles, or the conductive particles with insulating particles and the anisotropic conductive material containing the binder resin.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面に複数の絶縁性粒子が付着しており、更に該絶縁性粒子の平均粒子径が上記導電性粒子の粒子径の1/10を超え、1/3以下であるので、電極間の接続に用いた場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。   In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, a plurality of insulating particles are attached to the surface of the conductive particles having at least a conductive layer on the surface, and the average particle diameter of the insulating particles is the above-described conductive particle. Since it exceeds 1/10 and 1/3 or less of the particle diameter of the particles, when used for connection between the electrodes, it is possible to improve conduction reliability and insulation reliability.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第4の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the fourth embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。FIG. 5 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. 図6は、ハイブリダイゼーション法を用いた従来の絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a conventional conductive particle with insulating particles using a hybridization method.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子と、該導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性粒子の平均粒子径は、上記導電性粒子の粒子径の1/10を超え、1/3以下である。   The conductive particles with insulating particles according to the present invention include conductive particles having a conductive layer on at least a surface, and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the average particle diameter of the insulating particles is more than 1/10 and 1/3 or less of the particle diameter of the conductive particles.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子における上記構成の採用により、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における複数の導電性粒子同士が接触するのを効果的に抑制できる。特に上記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む異方性導電材料を用いて電極間を電気的に接続する際に、複数の導電性粒子が接触するのを効果的に抑制できる。また、ペースト状の異方性導電材料を用いて電極間を電気的に接続する際に、複数の導電性粒子が接触するのをより一層効果的に抑制できる。このため、接続されてはならない横方向に隣り合う電極間が接続され難く、隣り合う電極間の短絡が生じるのを抑制できる。一方で、絶縁性粒子付き導電性粒子における絶縁性粒子は、電極と導電性粒子との間から圧着時に効果的に排除できる。このため、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性を充分に高めることができる。従って、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の使用により、接続されるべき上下の電極間の導通信頼性と、接続されてはならない横方向に隣接する電極間の絶縁信頼性との双方を高めることができる。   By adopting the above configuration in the conductive particles with insulating particles according to the present invention, it is possible to effectively suppress contact between the plurality of conductive particles in the conductive particles with insulating particles. In particular, when the electrodes are electrically connected using an anisotropic conductive material containing conductive particles with insulating particles and a binder resin, it is possible to effectively suppress contact between the plurality of conductive particles. Moreover, when electrically connecting electrodes using a paste-like anisotropic conductive material, it can suppress more effectively that several electroconductive particle contacts. For this reason, it is difficult to connect between electrodes adjacent in the lateral direction that should not be connected, and it is possible to suppress a short circuit between the adjacent electrodes. On the other hand, the insulating particles in the conductive particles with insulating particles can be effectively excluded from between the electrode and the conductive particles at the time of pressure bonding. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between the upper and lower electrodes which should be connected can fully be improved. Therefore, by using the conductive particles with insulating particles according to the present invention, both the conduction reliability between the upper and lower electrodes to be connected and the insulation reliability between the laterally adjacent electrodes that should not be connected. Can be increased.

また、導電性粒子の粒子径が小さいほど、上記絶縁性粒子の平均粒子径が上記導電性粒子の粒子径の1/10を超え、1/3以下であることによる絶縁信頼性の向上効果がかなり大きくなる。特に、導電性粒子の粒子径が1μm以上、5μm以下である場合に、上記絶縁性粒子の平均粒子径が上記導電性粒子の粒子径の1/10を超え、1/3以下であると、電極間の絶縁信頼性が効果的に高くなる。これは、導電性粒子の粒子径が小さいと、曲率が大きくなるので、絶縁性粒子間の距離が同じ場合、導電層部分の飛び出しが大きくなり絶縁性を確保するためには絶縁性粒子の粒子径を大きくする必要があるためである。   In addition, the smaller the particle diameter of the conductive particles, the better the insulation reliability is improved because the average particle diameter of the insulating particles exceeds 1/10 of the particle diameter of the conductive particles and is 1/3 or less. It gets quite big. In particular, when the particle diameter of the conductive particles is 1 μm or more and 5 μm or less, the average particle diameter of the insulating particles exceeds 1/10 of the particle diameter of the conductive particles, and is 1/3 or less. The insulation reliability between the electrodes is effectively increased. This is because, when the particle size of the conductive particles is small, the curvature becomes large. Therefore, when the distance between the insulating particles is the same, the conductive layer portion jumps out, and in order to ensure insulation, the particles of the insulating particles This is because it is necessary to increase the diameter.

電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子の平均粒子径は上記導電性粒子の粒子径の1/8を超えることが好ましく、1/7.5以上であることがより好ましく、1/3.5以下であることが好ましく、1/4以下であることが更に好ましい。上記絶縁性粒子の平均粒子径は上記導電性粒子の粒子径の1/5を超えていてもよく、1/4.5以上であってもよい。   From the viewpoint of further improving the conduction reliability and insulation reliability between the electrodes, the average particle diameter of the insulating particles is preferably more than 1/8 of the particle diameter of the conductive particles, and is 1 / 7.5 or more. Is more preferably 1 / 3.5 or less, and still more preferably 1/4 or less. The average particle diameter of the insulating particles may exceed 1/5 of the particle diameter of the conductive particles, or may be 1 / 4.5 or more.

上記導電性粒子の表面積全体に占める上記絶縁性粒子により被覆されている部分の面積である被覆率は好ましくは40%以上、より好ましくは60%以上である。上記被覆率が上記下限以上であると、隣接する導電性粒子がより一層接触し難くなる。上記被覆率は好ましくは95%以下、より好ましくは90%以下である。上記被覆率が上記上限以下であると、電極の接続の際に、熱及び圧力を必要以上に付与しなくても、絶縁性粒子を充分に排除できる。   The coverage, which is the area of the portion covered with the insulating particles in the entire surface area of the conductive particles, is preferably 40% or more, more preferably 60% or more. When the coverage is equal to or higher than the lower limit, adjacent conductive particles are more difficult to contact. The coverage is preferably 95% or less, more preferably 90% or less. If the coverage is less than or equal to the above upper limit, the insulating particles can be sufficiently eliminated without applying heat and pressure more than necessary when the electrodes are connected.

導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを抑制する観点からは、エタノール100重量部に、絶縁性粒子付き導電性粒子3重量部を添加した絶縁性粒子付き導電性粒子含有液を20℃及び38kHzの条件で5分間超音波処理したときに、下記式(1)により求められる絶縁性粒子の残存率は好ましくは60%以上、より好ましくは70%以上、好ましくは95%以下、より好ましくは90%以下である。上記絶縁性粒子の残存率が上記下限以上であると、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に添加し、混練する際に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離し難くなる。この結果、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続したときに、接続されてはならない隣り合う電極間で短絡が生じ難くなる。絶縁性粒子の残存率が上記上限以下であると、接続されるべき上下の電極間の導通性を十分に確保できる。   From the viewpoint of suppressing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles, the conductivity with insulating particles obtained by adding 3 parts by weight of conductive particles with insulating particles to 100 parts by weight of ethanol. When the particle-containing liquid is subjected to ultrasonic treatment for 5 minutes at 20 ° C. and 38 kHz, the residual ratio of the insulating particles obtained by the following formula (1) is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, preferably It is 95% or less, more preferably 90% or less. When the residual ratio of the insulating particles is equal to or more than the lower limit, the insulating particles are hardly detached from the surface of the conductive particles when the conductive particles with the insulating particles are added to the binder resin and kneaded. As a result, when the electrodes are connected using the conductive particles with insulating particles, a short circuit is unlikely to occur between adjacent electrodes that should not be connected. When the residual ratio of the insulating particles is equal to or lower than the above upper limit, it is possible to sufficiently ensure the conductivity between the upper and lower electrodes to be connected.

上記「絶縁性粒子の残存率」は、具体的には、以下のようにして求められる。   Specifically, the “residual ratio of insulating particles” is determined as follows.

下記の超音波処理前に、走査電子顕微鏡(SEM)での観察により100個の絶縁性粒子付き導電性粒子を観察し、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の被覆率X1(%)(付着率X1(%)ともいう)を求める。上記被覆率X1は、導電性粒子の表面積全体に占める絶縁性粒子により被覆されている部分の面積である。   Before the following ultrasonic treatment, 100 conductive particles with insulating particles were observed by observation with a scanning electron microscope (SEM), and the coverage X1 (%) of the conductive particles in the conductive particles with insulating particles was observed. (Also referred to as adhesion rate X1 (%)) is obtained. The said coverage X1 is an area of the part coat | covered with the insulating particle which occupies for the whole surface area of electroconductive particle.

次に、エタノール100重量部に、絶縁性粒子付き導電性粒子3重量部を添加し、絶縁性粒子付き導電性粒子含有液を得る。この絶縁性粒子付き導電性粒子含有液を超音波洗浄機で20℃及び40kHzの条件で5分間撹拌しながら、超音波処理する。超音波処理後に、SEMでの観察により100個の絶縁性粒子付き導電性粒子を観察し、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の表面積全体に占める絶縁性粒子により被覆されている部分の面積である被覆率X2(%)(付着率X2(%)ともいう)を求める。絶縁性粒子の残存率は、被覆率X1と被覆率X2とから、下記式(1)により表される値である。   Next, 3 parts by weight of conductive particles with insulating particles are added to 100 parts by weight of ethanol to obtain a conductive particle-containing liquid with insulating particles. This conductive particle-containing liquid with insulating particles is subjected to ultrasonic treatment while being stirred for 5 minutes at 20 ° C. and 40 kHz with an ultrasonic cleaner. After the ultrasonic treatment, 100 conductive particles with insulating particles are observed by observation with an SEM, and the portion of the conductive particles with insulating particles covered by the insulating particles occupying the entire surface area of the conductive particles. The area coverage ratio X2 (%) (also referred to as adhesion rate X2 (%)) is obtained. The residual rate of the insulating particles is a value represented by the following formula (1) from the coverage X1 and the coverage X2.

絶縁性粒子の残存率(%)=(超音波処理後の被覆率X2/超音波処理前の被覆率X1)×100 ・・・式(1)   Residual rate of insulating particles (%) = (coverage ratio X2 after ultrasonic treatment / coverage ratio X1 before ultrasonic treatment) × 100 Formula (1)

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性粒子が、絶縁性粒子本体と、該絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層とを有することが好ましい。これにより、異方性導電材料の作製の際の混練により、導電性粒子の表面から絶縁性粒子がより一層脱離し難くなる。さらに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離し難くなる。絶縁性粒子の意図しない脱離を効果的に抑制するために、上記絶縁性粒子本体の材料は、無機化合物であることが好ましく、上記絶縁性粒子本体は無機粒子であることが好ましい。絶縁性粒子の意図しない脱離を効果的に抑制するために、上記絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層は、有機化合物により形成されていることが好ましく、該有機化合物は高分子化合物であることが好ましい。   In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles preferably have an insulating particle body and a layer covering at least a part of the surface of the insulating particle body. Thereby, it becomes more difficult for the insulating particles to be detached from the surface of the conductive particles by kneading during the production of the anisotropic conductive material. Furthermore, when a plurality of conductive particles with insulating particles come into contact, the insulating particles are difficult to be detached from the surface of the conductive particles. In order to effectively suppress unintended detachment of the insulating particles, the material of the insulating particle body is preferably an inorganic compound, and the insulating particle body is preferably inorganic particles. In order to effectively suppress unintentional detachment of the insulating particles, the layer covering at least a part of the surface of the insulating particle main body is preferably formed of an organic compound. The compound is preferably a polymer compound.

上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆うように、高分子化合物又は高分子化合物となる化合物を用いて、高分子化合物により形成された層を形成し、絶縁性粒子を得る工程と、導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面に、上記絶縁性粒子を付着させ、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る工程を経て得ることが好ましい。   The conductive particles with insulating particles have a layer formed of a polymer compound using a polymer compound or a compound that becomes a polymer compound so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle body. It is preferably obtained through a step of forming and obtaining insulating particles and a step of attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles having at least the surface of the conductive layer to obtain conductive particles with insulating particles.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記導電性粒子の表面を被覆している被膜をさらに備えることが好ましい。該被膜は上記導電性粒子の表面と上記絶縁性粒子の表面とを被覆していることが好ましい。上記被膜によって、導電層の表面が露出しなくなるか、又は導電層の表面の露出面積が少なくなり、導電層に錆が生じ難くなる。このため、長期間にわたり高い導電性を維持でき、電極間の導通信頼性を高めることができる。   The conductive particles with insulating particles according to the present invention preferably further include a coating covering the surface of the conductive particles. The coating preferably covers the surface of the conductive particles and the surface of the insulating particles. By the coating film, the surface of the conductive layer is not exposed or the exposed area of the surface of the conductive layer is reduced, and rust is hardly generated in the conductive layer. For this reason, high conductivity can be maintained over a long period of time, and conduction reliability between the electrodes can be increased.

導電層に錆をより一層生じ難くする観点からは、上記被膜は、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物により形成されていることが好ましい。   From the viewpoint of making rust more difficult to occur in the conductive layer, the coating is preferably formed of a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、ペースト状の異方性導電ペーストに用いられる絶縁性粒子付き導電性粒子であることが好ましい。   The conductive particles with insulating particles according to the present invention are preferably conductive particles with insulating particles used in a paste-like anisotropic conductive paste.

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments and examples of the present invention with reference to the drawings.

(絶縁性粒子付き導電性粒子)
図1に、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。なお、図1及び図2〜4に示す絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性粒子及び導電性粒子の大きさは、上述した範囲内で適宜変更され得る。
(Conductive particles with insulating particles)
FIG. 1 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. In addition, in the electroconductive particle with an insulating particle shown in FIG.1 and FIGS.2-4, the magnitude | size of an insulating particle and an electroconductive particle can be suitably changed within the range mentioned above.

図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1は、導電性粒子2と、導電性粒子2の表面に付着している複数の絶縁性粒子3とを備える。絶縁性粒子3にかえて後述する絶縁性粒子43を用いてもよい。   A conductive particle 1 with insulating particles shown in FIG. 1 includes conductive particles 2 and a plurality of insulating particles 3 attached to the surface of the conductive particles 2. Insulating particles 43 described later may be used instead of the insulating particles 3.

絶縁性粒子3は、絶縁性粒子本体5と、絶縁性粒子本体5の表面を覆っており、かつ高分子化合物により形成された層6とを有する。絶縁性粒子3は、絶縁性を有する材料により形成されている。絶縁性粒子3は被覆粒子である。   The insulating particles 3 include an insulating particle body 5 and a layer 6 that covers the surface of the insulating particle body 5 and is formed of a polymer compound. The insulating particles 3 are made of an insulating material. The insulating particles 3 are coated particles.

層6は、絶縁性粒子本体5の表面全体を被覆している。従って、導電性粒子2と絶縁性粒子本体5との間に層6が配置されている。層6は、絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆うように存在していればよく、絶縁性粒子本体の表面全体を覆っていなくてもよい。層6は、導電性粒子と絶縁性粒子本体との間に配置されていることが好ましい。   The layer 6 covers the entire surface of the insulating particle body 5. Therefore, the layer 6 is disposed between the conductive particles 2 and the insulating particle main body 5. The layer 6 may be present so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle main body, and may not cover the entire surface of the insulating particle main body. The layer 6 is preferably disposed between the conductive particles and the insulating particle main body.

導電性粒子2は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電層12とを有する。導電層12は、基材粒子11の表面を覆っている。導電性粒子2は、基材粒子11の表面が導電層12により被覆された被覆粒子である。導電性粒子2は表面に導電層12を有する。   The conductive particles 2 include base material particles 11 and a conductive layer 12 disposed on the surface of the base material particles 11. The conductive layer 12 covers the surface of the base particle 11. The conductive particle 2 is a coated particle in which the surface of the base particle 11 is coated with the conductive layer 12. The conductive particles 2 have a conductive layer 12 on the surface.

図2に、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。   FIG. 2 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention.

図2に示す絶縁性粒子付き導電性粒子21は、導電性粒子22と、導電性粒子22の表面に付着している複数の絶縁性粒子3とを備える。絶縁性粒子3にかえて後述する絶縁性粒子43を用いてもよい。   The conductive particles 21 with insulating particles shown in FIG. 2 include conductive particles 22 and a plurality of insulating particles 3 attached to the surface of the conductive particles 22. Insulating particles 43 described later may be used instead of the insulating particles 3.

導電性粒子22は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電層31とを有する。導電性粒子22は、基材粒子11の表面上に複数の芯物質32を有する。導電層31は、基材粒子11と芯物質32とを被覆している。芯物質32を導電層31が被覆していることにより、導電性粒子22は表面に、複数の突起33を有する。芯物質32により導電層31の表面が隆起されており、複数の突起33が形成されている。   The conductive particles 22 have base material particles 11 and a conductive layer 31 disposed on the surface of the base material particles 11. The conductive particles 22 have a plurality of core substances 32 on the surface of the substrate particles 11. The conductive layer 31 covers the base particle 11 and the core substance 32. By covering the core substance 32 with the conductive layer 31, the conductive particles 22 have a plurality of protrusions 33 on the surface. The surface of the conductive layer 31 is raised by the core substance 32, and a plurality of protrusions 33 are formed.

図3に、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 3, the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図3に示す絶縁性粒子付き導電性粒子41は、導電性粒子42と、導電性粒子42の表面に付着している複数の絶縁性粒子43とを備える。絶縁性粒子43にかえて絶縁性粒子3を用いてもよい。   A conductive particle 41 with insulating particles shown in FIG. 3 includes conductive particles 42 and a plurality of insulating particles 43 attached to the surface of the conductive particles 42. The insulating particles 3 may be used instead of the insulating particles 43.

導電性粒子42は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電層51とを有する。導電性粒子42は、導電性粒子22のように芯物質を有さない。導電層51は、第1の部分と、該第1の部分よりも厚みが厚い第2の部分とを有する。導電性粒子42は表面に、複数の突起52を有する。複数の突起52を除く部分が、導電層51の上記第1の部分である。複数の突起52は、導電層51の厚みが厚い上記第2の部分である。   The conductive particles 42 include base material particles 11 and a conductive layer 51 disposed on the surface of the base material particles 11. The conductive particles 42 do not have a core substance like the conductive particles 22. The conductive layer 51 has a first portion and a second portion that is thicker than the first portion. The conductive particles 42 have a plurality of protrusions 52 on the surface. A portion excluding the plurality of protrusions 52 is the first portion of the conductive layer 51. The plurality of protrusions 52 are the second portion where the conductive layer 51 is thick.

絶縁性粒子43は、被覆粒子ではない。   The insulating particles 43 are not coated particles.

図4に、本発明の第4の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。   FIG. 4 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the fourth embodiment of the present invention.

図4に示す絶縁性粒子付き導電性粒子61は、導電性粒子2と、導電性粒子2の表面に付着している複数の絶縁性粒子43と、導電性粒子2と絶縁性粒子43との表面を被覆している被膜62とを備える。導電性粒子2にかえて導電性粒子22,42を用いてもよい。絶縁性粒子43にかえて絶縁性粒子3を用いてもよい。   The conductive particles 61 with insulating particles shown in FIG. 4 include conductive particles 2, a plurality of insulating particles 43 attached to the surface of the conductive particles 2, and the conductive particles 2 and the insulating particles 43. And a coating 62 covering the surface. The conductive particles 22 and 42 may be used instead of the conductive particles 2. The insulating particles 3 may be used instead of the insulating particles 43.

なお、被膜62は、導電性粒子2及び絶縁性粒子43の表面全体を必ずしも被覆している必要はない。導電層12の表面の少なくとも一部の領域を被膜62が被覆していることにより、被膜62が形成されている部分において、導電層12の錆を抑制できる。   The coating 62 does not necessarily have to cover the entire surfaces of the conductive particles 2 and the insulating particles 43. By covering at least a part of the surface of the conductive layer 12 with the coating 62, the rust of the conductive layer 12 can be suppressed in the portion where the coating 62 is formed.

導電層12に錆をより一層生じ難くする観点からは、絶縁性粒子付き導電性粒子61を5重量%クエン酸水溶液で処理して被膜62を剥離することにより、剥離した被膜62を含む処理液を得た後、該処理液をろ過することにより得られたろ過液は、リン元素を50ppm以上、10000ppm以下含むことが好ましい。導電層12に錆をより一層生じ難くする観点からは、絶縁性粒子付き導電性粒子61を5重量%クエン酸水溶液で処理して被膜62を剥離することにより、剥離した被膜62を含む処理液を得た後、該処理液をろ過することにより得られたろ過液は、珪素元素を50ppm以上、10000ppm以下含むことが好ましい。上記ろ過液中の珪素元素又はリン元素の含有量は、より好ましくは100ppm以上、より好ましくは5000ppm以下、更に好ましくは1000ppm以下である。   From the viewpoint of making the conductive layer 12 more difficult to cause rust, the treatment liquid containing the peeled coating 62 is obtained by treating the conductive particles 61 with insulating particles with a 5 wt% aqueous citric acid solution and peeling the coating 62. It is preferable that the filtrate obtained by filtering the treatment liquid after obtaining the above contains 50 ppm or more and 10,000 ppm or less of the phosphorus element. From the viewpoint of making the conductive layer 12 more difficult to cause rust, the treatment liquid containing the peeled coating 62 is obtained by treating the conductive particles 61 with insulating particles with a 5 wt% aqueous citric acid solution and peeling the coating 62. It is preferable that the filtrate obtained by filtering the treatment liquid after obtaining the above contains 50 ppm or more and 10,000 ppm or less of silicon element. The content of silicon element or phosphorus element in the filtrate is more preferably 100 ppm or more, more preferably 5000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less.

上記リン元素及び珪素元素の含有量は、ICP発光分析装置を用いて測定できる。ICP発光分析装置の市販品としては、堀場製作所社製「ULTIMA2」等が挙げられる。   The contents of the phosphorus element and silicon element can be measured using an ICP emission analyzer. Examples of commercially available ICP emission analyzers include “ULTIMA2” manufactured by HORIBA, Ltd.

被膜62を有する絶縁性粒子付き導電性粒子61の場合には、上記リン元素及び上記珪素元素の含有量は、通常、被膜62により決まる。すなわち、上記リン元素及び上記珪素元素の含有量は、被膜62におけるリン元素及び珪素元素の割合を示す。   In the case of the conductive particles 61 with insulating particles having the coating 62, the contents of the phosphorus element and the silicon element are usually determined by the coating 62. That is, the contents of the phosphorus element and the silicon element indicate the ratio of the phosphorus element and the silicon element in the coating 62.

絶縁性粒子付き導電性粒子1,21,41,61では、絶縁性粒子3,43の平均粒子径が上記導電性粒子2,22,42の粒子径の1/10を超え、1/3以下である。このような絶縁性粒子付き導電性粒子1,21,41,61を用いて電極間を電気的に接続することで、上下の電極間の接続抵抗を効果的に低くすることができ、電極間をより一層確実に導通させることができる。さらに、接続されてはならない隣り合う電極間で短絡が生じ難くなる。   In the conductive particles 1, 21, 41, 61 with insulating particles, the average particle diameter of the insulating particles 3, 43 exceeds 1/10 of the particle diameter of the conductive particles 2, 22, 42, and is 1/3 or less. It is. By electrically connecting the electrodes using such conductive particles with insulating particles 1, 21, 41, 61, the connection resistance between the upper and lower electrodes can be effectively reduced. Can be more reliably conducted. Furthermore, it is difficult for a short circuit to occur between adjacent electrodes that should not be connected.

以下、導電性粒子、絶縁性粒子及び被膜の詳細を説明する。   Hereinafter, details of the conductive particles, the insulating particles, and the coating will be described.

[導電性粒子]
導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面に、上記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得ることができる。
[Conductive particles]
Conductive particles with insulating particles can be obtained by attaching the insulating particles to the surface of conductive particles having at least a conductive layer on the surface.

上記導電性粒子は、少なくとも表面に導電層を有していればよい。該導電性粒子は、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電層とを有する導電性粒子であってもよい。該導電性粒子は、全体が導電層である金属粒子であってもよい。なかでも、コストを低減したり、導電性粒子の柔軟性を高くして、電極間の導通信頼性を高めたりする観点からは、基材粒子と、該基材粒子の表面上に設けられた導電層を有する導電性粒子が好ましい。   The conductive particles only need to have a conductive layer on at least the surface. The conductive particles may be conductive particles having base particles and a conductive layer disposed on the surface of the base particles. The conductive particles may be metal particles whose entirety is a conductive layer. Among these, from the viewpoint of reducing the cost, increasing the flexibility of the conductive particles, and improving the conduction reliability between the electrodes, the base particles were provided on the surface of the base particles. Conductive particles having a conductive layer are preferred.

上記基材粒子としては、樹脂粒子、無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子及び金属粒子等が挙げられる。   Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles.

上記基材粒子は、樹脂により形成された樹脂粒子であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、絶縁性粒子付き導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより絶縁性粒子付き導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂粒子であると、上記圧着の際に導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。   The substrate particles are preferably resin particles formed of a resin. When connecting the electrodes using the conductive particles with insulating particles, the conductive particles with insulating particles are compressed by placing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and then pressing them. When the substrate particles are resin particles, the conductive particles are likely to be deformed during the pressure bonding, and the contact area between the conductive particles and the electrode is increased. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン及びポリエーテルスルホン等が挙げられる。基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。   Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resin, acrylic resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, polyethylene terephthalate, polysulfone, and polyphenylene. Examples thereof include oxides, polyacetals, polyimides, polyamideimides, polyetheretherketones, and polyethersulfones. Since the hardness of the base particles can be easily controlled within a suitable range, the resin for forming the resin particles is a polymer obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having an ethylenically unsaturated group. It is preferably a coalescence.

上記無機粒子を形成するための無機物としては、シリカ及びカーボンブラック等が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。   Examples of the inorganic substance for forming the inorganic particles include silica and carbon black. Examples of the organic / inorganic hybrid particles include organic / inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。   When the substrate particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium.

上記導電層を形成するための金属は特に限定されない。さらに、導電性粒子が、全体が導電層である金属粒子である場合、該金属粒子を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、銅、パラジウム、白金、パラジウム、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、ケイ素及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗がより一層低くなるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムがより好ましい。   The metal for forming the conductive layer is not particularly limited. Furthermore, when the conductive particles are metal particles that are conductive layers as a whole, the metal for forming the metal particles is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, copper, palladium, platinum, palladium, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, and silicon. And alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes becomes still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is more preferable.

なお、導電層の表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルにより形成された導電層の表面には、酸化により水酸基が存在する。このような水酸基を有する導電層は絶縁性粒子と化学結合しやすく、例えば水酸基を有する絶縁性粒子と化学結合する。   Note that hydroxyl groups often exist on the surface of the conductive layer due to oxidation. In general, hydroxyl groups are present on the surface of a conductive layer formed of nickel by oxidation. Such a conductive layer having a hydroxyl group is easily chemically bonded to the insulating particles, for example, chemically bonded to the insulating particles having a hydroxyl group.

上記導電層は、1つの層により形成されている。導電層は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電層は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電層が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は錫と銀とを含む合金層であることが好ましく、金層又はパラジウム層であることがより好ましく、金層であることが特に好ましい。最外層がこれらの好ましい導電層である場合には、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。   The conductive layer is formed of one layer. The conductive layer may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a stacked structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, and the gold layer or the palladium layer Is more preferable, and a gold layer is particularly preferable. When the outermost layer is these preferred conductive layers, the connection resistance between the electrodes is further reduced. Moreover, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further enhanced.

上記基材粒子の表面上に導電層を形成する方法は特に限定されない。導電層を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電層の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。   The method for forming the conductive layer on the surface of the substrate particles is not particularly limited. As a method for forming the conductive layer, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of base particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder Etc. Especially, since formation of a conductive layer is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.

上記基材粒子の表面上に導電層を形成する方法として物理的な衝突による方法も、生産性を高める観点で有効である。物理的な衝突により形成する方法としては、例えばシータコンポーザ(徳寿工作所社製)を用いてコーティングする方法がある。   As a method for forming a conductive layer on the surface of the substrate particles, a method by physical collision is also effective from the viewpoint of improving productivity. As a method of forming by physical collision, for example, there is a method of coating using a theta composer (manufactured by Tokuju Kogakusha Co., Ltd.).

上記導電性粒子の粒子径及び平均粒子径はそれぞれ、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは5μm以下である。導電性粒子の平均粒子径が上記下限以上及び上限以下であると、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電層を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電層が基材粒子の表面から剥離し難くなる。   The particle diameter and average particle diameter of the conductive particles are each preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 5 μm or less. When the average particle diameter of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrodes becomes sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles with insulating particles. And it becomes difficult to form the agglomerated conductive particles when the conductive layer is formed. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive layer is difficult to peel from the surface of the base material particles.

上記導電性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “average particle size” of the conductive particles indicates a number average particle size. The average particle diameter of the conductive particles can be obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

上記導電層の厚みは好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、充分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が充分に変形する。   The thickness of the conductive layer is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, sufficient conductivity is obtained, and the conductive particles do not become too hard, and the conductive particles are sufficiently deformed when connecting the electrodes. .

上記導電層が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電層の厚みは、特に最外層が金層である場合の金層の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電層による被覆を均一にでき、耐腐食性が充分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が充分に低くなる。   When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably the thickness of the gold layer when the outermost layer is a gold layer. It is 0.01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. When the thickness of the outermost conductive layer is not less than the lower limit and not more than the upper limit, the outermost conductive layer can be uniformly coated, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficiently high. Lower.

上記導電層の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子又は絶縁性粒子付き導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。   The thickness of the conductive layer can be measured, for example, by observing the cross section of the conductive particles or the conductive particles with insulating particles using a transmission electron microscope (TEM).

上記導電性粒子は表面に突起を有することが好ましい。上記導電性粒子は、導電層の表面に複数の突起を有することが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。さらに、上記導電性粒子の導電層の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。突起を有する導電性粒子の使用により、電極間に絶縁性粒子付き導電性粒子を配置した後、圧着させることにより、突起により酸化被膜が効果的に排除される。このため、電極と導電性粒子とがより一層確実に接触し、電極間の接続抵抗が低くなる。さらに、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性粒子を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。   The conductive particles preferably have protrusions on the surface. The conductive particles preferably have a plurality of protrusions on the surface of the conductive layer. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles with insulating particles. Furthermore, an oxide film is often formed on the surface of the conductive layer of the conductive particles. By using the conductive particles having protrusions, the oxide film is effectively excluded by the protrusions by placing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and then pressing them. For this reason, an electrode and electroconductive particle contact still more reliably and the connection resistance between electrodes becomes low. Furthermore, the insulating particles between the conductive particles and the electrode can be effectively excluded by the protrusions of the conductive particles. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

導電性粒子の表面に突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電層を形成する方法、並びに基材粒子の表面に無電解めっきにより導電層を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電層を形成する方法等が挙げられる。また、無電解めっき等により導電層を形成する際に、導電層の厚みを部分的に異ならせることによっても、上記突起を形成できる。   As a method of forming protrusions on the surface of the conductive particles, a method of forming a conductive layer by electroless plating after attaching a core substance to the surface of the base particles, and by electroless plating on the surface of the base particles Examples of the method include forming a conductive layer, then attaching a core substance, and further forming a conductive layer by electroless plating. Further, when the conductive layer is formed by electroless plating or the like, the protrusion can also be formed by partially varying the thickness of the conductive layer.

上記基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法としては、例えば、基材粒子の分散液中に、芯物質となる導電性物質を添加し、基材粒子の表面に芯物質を、例えば、ファンデルワールス力により集積させ、付着させる方法、並びに基材粒子を入れた容器に、芯物質となる導電性物質を添加し、容器の回転等による機械的な作用により基材粒子の表面に芯物質を付着させる方法等が挙げられる。なかでも、付着させる芯物質の量を制御しやすいため、分散液中の基材粒子の表面に芯物質を集積させ、付着させる方法が好ましい。   As a method for attaching the core substance to the surface of the base particle, for example, a conductive substance that becomes the core substance is added to the dispersion of the base particle, and the core substance is added to the surface of the base particle, for example, A method of accumulating and adhering by van der Waals force, and adding a conductive substance as a core substance to the container containing the base particle, and then the core on the surface of the base particle by mechanical action such as rotation of the container Examples include a method of attaching a substance. Especially, since the quantity of the core substance to adhere is easy to control, the method of making a core substance accumulate and adhere on the surface of the base particle in a dispersion liquid is preferable.

上記芯物質を構成する導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。なかでも、導電性を高めることができるので、金属が好ましい。   Examples of the conductive material constituting the core material include conductive non-metals such as metals, metal oxides, and graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Among them, metal is preferable because conductivity can be increased.

上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム等の金属、並びに錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金及び錫−鉛−銀合金等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。なかでも、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電層を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。   Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium, and cadmium, and tin-lead. Examples include alloys composed of two or more metals such as alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, and tin-lead-silver alloys. Of these, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core material may be the same as or different from the metal constituting the conductive layer.

上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。   The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably a lump. Examples of the core substance include a particulate lump, an agglomerate in which a plurality of fine particles are aggregated, and an irregular lump.

[絶縁性粒子]
上記絶縁性粒子は、絶縁性を有する粒子である。絶縁性粒子は導電性粒子よりも小さい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続すると、絶縁性粒子により、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子間には絶縁性粒子が存在するので、上下の電極間ではなく、横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で絶縁性粒子付き導電性粒子を加圧することにより、導電層と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。導電性粒子の表面に突起が設けられているので、導電層と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。さらに突起部分が電極との接触を容易にするため接続信頼性が向上する。
[Insulating particles]
The insulating particles are particles having insulating properties. Insulating particles are smaller than conductive particles. When the electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the insulating particles can prevent a short circuit between adjacent electrodes. Specifically, when the conductive particles with a plurality of insulating particles are in contact with each other, there are insulating particles between the conductive particles in the conductive particles with a plurality of insulating particles. Short circuit between the electrodes adjacent in the lateral direction can be prevented. Note that the insulating particles between the conductive layer and the electrode can be easily excluded by pressurizing the conductive particles with insulating particles with the two electrodes when connecting the electrodes. Since the protrusion is provided on the surface of the conductive particle, the insulating particle between the conductive layer and the electrode can be easily excluded. Furthermore, since the protruding portion facilitates contact with the electrode, connection reliability is improved.

上記絶縁性粒子を構成する材料としては、絶縁性の樹脂、及び絶縁性の無機物等が挙げられる。上記絶縁性の樹脂としては、基材粒子として用いることが可能な樹脂粒子を形成するための樹脂として挙げた上記樹脂が挙げられる。上記絶縁性の無機物としては、基材粒子として用いることが可能な無機粒子を形成するための無機物として挙げた上記無機物が挙げられる。   Examples of the material constituting the insulating particles include an insulating resin and an insulating inorganic substance. As said insulating resin, the said resin quoted as resin for forming the resin particle which can be used as a base particle is mentioned. As said insulating inorganic substance, the said inorganic substance quoted as an inorganic substance for forming the inorganic particle which can be used as a base particle is mentioned.

上記絶縁性粒子の材料である絶縁性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン類、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the insulating resin that is the material of the insulating particles include polyolefins, (meth) acrylate polymers, (meth) acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked thermoplastic resins, heat Examples thereof include curable resins and water-soluble resins.

上記ポリオレフィン類としては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート及びポリブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。なかでも、水溶性樹脂が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。   Examples of the polyolefins include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include vinyl polymers and vinyl copolymers. As said thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, etc. are mentioned. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Of these, water-soluble resins are preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable.

熱圧着時の絶縁性粒子の脱離性をより一層高める観点からは、絶縁性粒子又は絶縁性粒子本体は、無機粒子であることが好ましく、シリカ粒子であることが好ましい。無機粒子は比較的硬く、特にシリカ粒子は比較的硬い。このような硬い絶縁性粒子をそのまま絶縁性粒子として用いた絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に添加して混練すると、絶縁性粒子が硬いので、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しやすい傾向がある。絶縁性粒子が上記高分子化合物により形成された層を有する場合には、硬い絶縁性粒子を用いたとしても、上記混練の際に、硬い絶縁性粒子が脱離するのを抑制できる。   From the viewpoint of further improving the detachability of the insulating particles during thermocompression bonding, the insulating particles or the insulating particle main body is preferably inorganic particles, and is preferably silica particles. Inorganic particles are relatively hard, especially silica particles are relatively hard. When conductive particles with insulating particles using such hard insulating particles as insulating particles are added to a binder resin and kneaded, the insulating particles are hard, so that the insulating particles are removed from the surface of the conductive particles. There is a tendency to detach easily. In the case where the insulating particles have a layer formed of the polymer compound, even if hard insulating particles are used, it is possible to suppress the separation of the hard insulating particles during the kneading.

上記有機化合物により形成された層及び上記高分子化合物により形成された層は、例えば柔軟層としての役割を果たす。上記高分子化合物により形成された層における高分子化合物又は重合等により該高分子化合物となる化合物としては、重合可能な反応性官能基を有する化合物であることが好ましい。該重合可能な反応性官能基は、不飽和二重結合であることが好ましい。上記高分子化合物としては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物及びビニル基を有する化合物等が挙げられる。絶縁性粒子付き導電性粒子を分散する際などに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子の脱離を抑制する観点からは、上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物は、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基及びビニル基からなる群から選択された少なくとも1種の反応性官能基を有することが好ましい。なかでも、絶縁性粒子の脱離をより一層抑制する観点からは、上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物は、(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。   The layer formed of the organic compound and the layer formed of the polymer compound serve as a flexible layer, for example. The polymer compound in the layer formed of the polymer compound or the compound that becomes the polymer compound by polymerization or the like is preferably a compound having a polymerizable reactive functional group. The polymerizable reactive functional group is preferably an unsaturated double bond. Examples of the polymer compound include a compound having a (meth) acryloyl group, a compound having an epoxy group, and a compound having a vinyl group. From the viewpoint of suppressing detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles when dispersing the conductive particles with insulating particles, the polymer compound or the compound to be the polymer compound is (meth) It preferably has at least one reactive functional group selected from the group consisting of an acryloyl group, a glycidyl group and a vinyl group. Among these, from the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles, the polymer compound or the compound to be the polymer compound preferably has a (meth) acryloyl group.

上記(メタ)アクリロイル基を有する化合物の具体例としては、メタクリル酸及びヒドロキシエチルアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the compound having the (meth) acryloyl group include methacrylic acid and hydroxyethyl acrylate.

上記エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂及びレゾルシノールグリシジルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A type epoxy resin and resorcinol glycidyl ether.

上記ビニル基を有する化合物の具体例としては、スチレン及び酢酸ビニル等が挙げられる。   Specific examples of the compound having a vinyl group include styrene and vinyl acetate.

上記高分子化合物の重量平均分子量は、1000以上であることが好ましい。該重量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定されたポリスチレン換算での値を示す。   The polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 1000 or more. The weight average molecular weight indicates a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

上記絶縁性粒子本体の表面に上記高分子化合物により形成された層を形成する方法は特に限定されない。絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆うように、高分子化合物又は高分子化合物となる化合物を用いて、高分子化合物により形成された層を形成し、絶縁性粒子を得ることが好ましい。上記高分子化合物により形成された層の形成方法の一例としては、ビニル基などの反応性官能基を表面に有する絶縁性粒子本体に反応性二重結合と水酸基とを有する化合物を絶縁性粒子本体の表面上で重合させる方法等が挙げられる。ただし、この形成方法以外の方法を用いてもよい。   A method for forming the layer formed of the polymer compound on the surface of the insulating particle body is not particularly limited. Using a polymer compound or a compound that becomes a polymer compound so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle main body, a layer formed of the polymer compound is formed to obtain insulating particles. preferable. As an example of a method for forming a layer formed of the polymer compound, a compound having a reactive double bond and a hydroxyl group is formed on an insulating particle body having a reactive functional group such as a vinyl group on the surface. And a method of polymerizing on the surface. However, methods other than this forming method may be used.

上記高分子化合物により形成された層の具体的な製造条件の一例としては、以下の製造条件が挙げられる。   The following manufacturing conditions are mentioned as an example of the specific manufacturing conditions of the layer formed with the said high molecular compound.

先ず、水などの溶媒100〜500重量部中に、反応性官能基を表面に有する絶縁性粒子本体1〜3重量部、反応性二重結合と水酸基とを有する化合物0.1〜1重量部、架橋剤0.01〜1重量部、分散剤0.1〜3重量部及び熱重合開始剤0.1〜3重量部を加える。次に、スリーワンモーターで撹拌しながらオイルバスで熱重合開始剤の反応温度以上まで昇温し、重合を開始し、その状態を5時間以上保持して反応させる。その後、遠心分離機を用いて、未反応の化合物を除去して、絶縁性粒子本体の表面が上記層により覆われている絶縁性粒子を得る。   First, in 100 to 500 parts by weight of a solvent such as water, 1 to 3 parts by weight of an insulating particle body having a reactive functional group on the surface, and 0.1 to 1 part by weight of a compound having a reactive double bond and a hydroxyl group , 0.01 to 1 part by weight of a crosslinking agent, 0.1 to 3 parts by weight of a dispersant and 0.1 to 3 parts by weight of a thermal polymerization initiator are added. Next, while stirring with a three-one motor, the temperature is raised to a temperature higher than the reaction temperature of the thermal polymerization initiator in an oil bath, polymerization is started, and the state is maintained for 5 hours or longer to react. Thereafter, unreacted compounds are removed using a centrifuge to obtain insulating particles in which the surface of the insulating particle main body is covered with the layer.

上記絶縁性粒子の表面と上記導電性粒子の表面とに水酸基がある場合には、脱水反応により絶縁性粒子と導電性粒子との付着力が適度に高くなる。   When there are hydroxyl groups on the surface of the insulating particles and the surface of the conductive particles, the adhesion between the insulating particles and the conductive particles is moderately increased by the dehydration reaction.

水酸基を導入するための水酸基を有する化合物としては、P−OH基含有化合物及びSi−OH基含有化合物等が挙げられる。   Examples of the compound having a hydroxyl group for introducing a hydroxyl group include a P—OH group-containing compound and a Si—OH group-containing compound.

上記P−OH基含有化合物の具体例としては、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレート等が挙げられる。上記P−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the P-OH group-containing compound include acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, and acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monomethacrylate. As for the said P-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記Si−OH基含有化合物の具体例としては、ビニルトリヒドロキシシラン、及び3−メタクリロキシプロピルトリヒドロキシシラン等が挙げられる。上記Si−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the Si-OH group-containing compound include vinyltrihydroxysilane and 3-methacryloxypropyltrihydroxysilane. As for the said Si-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

例えば、水酸基を表面に有する絶縁性粒子は、シランカップリング剤を用いた処理により得ることができる。上記シランカップリング剤としては、例えば、ヒドロキシトリメトキシシラン等が挙げられる。   For example, insulating particles having a hydroxyl group on the surface can be obtained by a treatment using a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include hydroxytrimethoxysilane.

上記絶縁性粒子の平均粒子径は、導電性粒子の粒子径を考慮して適宜選択できる。上記絶縁性粒子の平均粒子径は好ましくは0.01μm以上、好ましくは5μm以下、より好ましくは2.5μm以下、更に好ましくは1μm以下、特に好ましくは0.5μm以下である。絶縁性粒子の平均粒子径が上記下限以上であると、絶縁性粒子付き導電性粒子がバインダー樹脂に分散されたときに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子同士が接触し難くなる。絶縁性粒子の平均粒子径が上記上限以下であると、電極間の接続の際に、電極と導電性粒子との間の絶縁性粒子を排除するために、圧力を高くしすぎる必要がなくなり、高温に加熱する必要もなくなる。   The average particle diameter of the insulating particles can be appropriately selected in consideration of the particle diameter of the conductive particles. The average particle size of the insulating particles is preferably 0.01 μm or more, preferably 5 μm or less, more preferably 2.5 μm or less, still more preferably 1 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less. When the average particle diameter of the insulating particles is not less than the above lower limit, the conductive particles in the plurality of conductive particles with insulating particles are difficult to contact when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin. Become. When the average particle diameter of the insulating particles is not more than the above upper limit, it is not necessary to make the pressure too high in order to eliminate the insulating particles between the electrodes and the conductive particles when connecting the electrodes, There is no need to heat to high temperatures.

なお、上記絶縁性粒子の平均粒子径は、導電性粒子に付着している絶縁性粒子の数平均粒子径を示す。絶縁性粒子の平均粒子径は、粒度分布測定装置等を用いて求められる。   In addition, the average particle diameter of the said insulating particle shows the number average particle diameter of the insulating particle adhering to electroconductive particle. The average particle size of the insulating particles is determined using a particle size distribution measuring device or the like.

[被膜]
上記被膜は、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物(以下、化合物Aともいう)により形成されていることが好ましい。上記アルキル基の炭素数が6以上であると、導電層の表面に錆がより一層生じ難くなる。上記アルキル基の炭素数が22以下であると、絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性が高くなる。絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性をより一層高める観点からは、上記化合物Aにおける上記アルキル基の炭素数は16以下であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖構造を有していてもよく、分岐構造を有していてもよい。上記アルキル基は、直鎖構造を有することが好ましい。
[Coating]
The coating is preferably formed of a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms (hereinafter also referred to as compound A). When the number of carbon atoms of the alkyl group is 6 or more, rust is further hardly generated on the surface of the conductive layer. When the carbon number of the alkyl group is 22 or less, the conductivity of the conductive particles with insulating particles is increased. From the viewpoint of further increasing the conductivity of the conductive particles with insulating particles, the alkyl group in the compound A preferably has 16 or less carbon atoms. The alkyl group may have a linear structure or a branched structure. The alkyl group preferably has a linear structure.

上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基を有していれば特に限定されない。上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基を有するリン酸エステル又はその塩、炭素数6〜22のアルキル基を有する亜リン酸エステル又はその塩、炭素数6〜22のアルキル基を有するアルコキシシラン、炭素数6〜22のアルキル基を有するアルキルチオール、及び炭素数6〜22のアルキル基を有するジアルキルジスルフィドからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましい化合物Aの使用により、導電層に錆をより一層生じ難くすることができる。錆をより一層生じ難くする観点からは、上記化合物Aは、上記リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩及びアルコキシシランからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましく、上記リン酸エステル又はその塩及び亜リン酸エステル又はその塩の内の少なくとも1種であることがより好ましい。上記化合物Aは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The compound A is not particularly limited as long as it has an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. The compound A has a phosphate ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof, a phosphite ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof, and an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. It is preferably at least one selected from the group consisting of alkoxysilanes, alkylthiols having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms, and dialkyl disulfides having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. By using these preferable compounds A, it is possible to further prevent rust from being generated in the conductive layer. From the viewpoint of making rust less likely to occur, the compound A is preferably at least one selected from the group consisting of the phosphate ester or a salt thereof, a phosphite ester or a salt thereof and an alkoxysilane, More preferably, the phosphoric acid ester or a salt thereof and a phosphorous acid ester or a salt thereof are at least one of them. As for the said compound A, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記化合物Aは、導電性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記化合物Aは、絶縁性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。被膜は、皮膜を除く絶縁性粒子付き導電性粒子部分(導電性粒子又は絶縁性粒子)と化学結合していることが好ましい。被膜は、導電性粒子と化学結合していることが好ましい。被膜は、絶縁性粒子と化学結合していることが好ましい。被膜は、導電性粒子及び絶縁性粒子と化学結合していることがより好ましい。上記反応性官能基の存在により、及び上記化学結合により、被膜の剥離が生じ難くなり、この結果導電層に錆がより一層生じ難くなり、かつ導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずにより一層脱離し難くなる。   The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive particles. The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with insulating particles. It is preferable that the coating is chemically bonded to the conductive particle portion with insulating particles (conductive particles or insulating particles) excluding the coating. The coating is preferably chemically bonded to the conductive particles. The coating is preferably chemically bonded to the insulating particles. More preferably, the coating is chemically bonded to the conductive particles and the insulating particles. Due to the presence of the reactive functional group and the chemical bond, peeling of the film is less likely to occur, and as a result, rust is less likely to occur in the conductive layer, and insulating particles are not intended from the surface of the conductive particles. Makes it more difficult to detach.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するリン酸エステル又はその塩としては、例えば、リン酸ヘキシルエステル、リン酸ヘプチルエステル、リン酸モノオクチルエステル、リン酸モノノニルエステル、リン酸モノデシルエステル、リン酸モノウンデシルエステル、リン酸モノドデシルエステル、リン酸モノトリデシルエステル、リン酸モノテトラデシルエステル、リン酸モノペンタデシルエステル、リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩及びリン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。上記リン酸エステルのカリウム塩を用いてもよい。   Examples of the phosphoric acid ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof include, for example, phosphoric acid hexyl ester, phosphoric acid heptyl ester, phosphoric acid monooctyl ester, phosphoric acid monononyl ester, phosphoric acid monodecyl ester, Monoundecyl phosphate, monododecyl phosphate, monotridecyl phosphate, monotetradecyl phosphate, monopentadecyl phosphate, monohexyl phosphate monosodium salt, monoheptyl phosphate monosodium Salts, monooctyl phosphate monosodium salt, monononyl phosphate monosodium salt, monodecyl phosphate monosodium salt, monoundecyl phosphate monosodium salt, monododecyl phosphate monosodium salt, Phosphate mono tridecyl ester monosodium salt, phosphate acid mono tetradecyl ester monosodium salt and phosphoric acid mono pentadecyl ester monosodium salt. You may use the potassium salt of the said phosphate ester.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有する亜リン酸エステル又はその塩としては、例えば、亜リン酸ヘキシルエステル、亜リン酸ヘプチルエステル、亜リン酸モノオクチルエステル、亜リン酸モノノニルエステル、亜リン酸モノデシルエステル、亜リン酸モノウンデシルエステル、亜リン酸モノドデシルエステル、亜リン酸モノトリデシルエステル、亜リン酸モノテトラデシルエステル、亜リン酸モノペンタデシルエステル、亜リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩及び亜リン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。上記亜リン酸エステルのカリウム塩を用いてもよい。   Examples of the phosphite ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof include, for example, hexyl phosphite ester, heptyl phosphite ester, monooctyl phosphite ester, monononyl phosphite ester, Phosphoric acid monodecyl ester, phosphorous acid monoundecyl ester, phosphorous acid monododecyl ester, phosphorous acid monotridecyl ester, phosphorous acid monotetradecyl ester, phosphorous acid monopentadecyl ester, phosphorous acid monohexyl Ester monosodium salt, phosphorous acid monoheptyl ester monosodium salt, phosphorous acid monooctyl ester monosodium salt, phosphorous acid monononyl ester monosodium salt, phosphorous acid monodecyl ester monosodium salt, phosphorous acid monoun Decyl ester monosodium salt, phosphorous acid Dodecyl ester monosodium salt, phosphorous acid mono-tridecyl ester monosodium salt, phosphorous acid mono-tetradecyl ester monosodium salt and phosphorous acid mono-pentadecyl ester monosodium salt. You may use the potassium salt of the said phosphite.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するアルコキシシランとしては、例えば、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ノニルトリメトキシシラン、ノニルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、トリデシルトリメトキシシラン、トリデシルトリエトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリエトキシシラン、ペンタデシルトリメトキシシラン及びペンタデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, and nonyltri. Methoxysilane, nonyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, undecyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, tridecyltrimethoxysilane, tridecyltriethoxy Examples include silane, tetradecyltrimethoxysilane, tetradecyltriethoxysilane, pentadecyltrimethoxysilane, and pentadecyltriethoxysilane.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するアルキルチオールとしては、例えば、ヘキシルチオール、ヘプチルチオール、オクチルチオール、ノニルチオール、デシルチオール、ウンデシルチオール、ドデシルチオール、トリデシルチオール、テトラデシルチオール、ペンタデシルチオール及びヘキサデシルチオール等が挙げられる。上記アルキルチオールは、アルキル鎖の末端にチオール基を有することが好ましい。   Examples of the alkyl thiol having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include hexyl thiol, heptyl thiol, octyl thiol, nonyl thiol, decyl thiol, undecyl thiol, dodecyl thiol, tridecyl thiol, tetradecyl thiol, pentadecyl. Examples include thiol and hexadecyl thiol. The alkyl thiol preferably has a thiol group at the end of the alkyl chain.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するジアルキルジスルフィドとしては、例えば、ジヘキシルジスルフィド、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジノニルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ジウンデシルジスルフィド、ジドデシルジスルフィド、ジトリデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジペンタデシルジスルフィド及びジヘキサデシルジスルフィド等が挙げられる。   Examples of the dialkyl disulfide having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include dihexyl disulfide, diheptyl disulfide, dioctyl disulfide, dinonyl disulfide, didecyl disulfide, diundecyl disulfide, didodecyl disulfide, ditridecyl disulfide, ditetradecyl disulfide. Examples include decyl disulfide, dipentadecyl disulfide, and dihexadecyl disulfide.

(絶縁性粒子付き導電性粒子の他の詳細)
上記導電性粒子の表面及び上記導電層の表面に絶縁性粒子を付着させる方法としては、化学的方法、及び物理的もしくは機械的方法等が挙げられる。上記化学的方法としては、例えば、界面重合法、粒子存在下での懸濁重合法及び乳化重合法等が挙げられる。上記物理的もしくは機械的方法としては、スプレードライ、ハイブリダイゼーション、静電付着法、噴霧法、ディッピング及び真空蒸着による方法等が挙げられる。ただし、ハイブリダイゼーション法では、絶縁性粒子の脱離が生じやすい傾向がある。このため、上記導電性粒子及び上記導電層の表面に絶縁性粒子を付着させる方法は、ハイブリダイゼーション法以外の方法であることが好ましい。なかでも、絶縁性粒子が脱離し難いことから、上記導電性粒子の表面及び上記導電層の表面に、化学結合を介して絶縁性粒子を付着させる方法が好ましい。すなわち、化学的方法が好ましく、絶縁性粒子は化学的方法により、導電性粒子の表面に付着していることが好ましい。
(Other details of conductive particles with insulating particles)
Examples of the method for attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles and the surface of the conductive layer include a chemical method and a physical or mechanical method. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, and an emulsion polymerization method. Examples of the physical or mechanical method include spray drying, hybridization, electrostatic adhesion, spraying, dipping, and vacuum deposition. However, the hybridization method tends to cause desorption of insulating particles. For this reason, the method of attaching insulating particles to the surfaces of the conductive particles and the conductive layer is preferably a method other than the hybridization method. In particular, a method in which insulating particles are attached to the surface of the conductive particles and the surface of the conductive layer through a chemical bond is preferable because the insulating particles are not easily detached. That is, a chemical method is preferable, and the insulating particles are preferably attached to the surface of the conductive particles by a chemical method.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子において、絶縁性粒子はハイブリダイゼーション法により付着されていないことが好ましい。導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分には、高分子化合物は付着していないことが好ましい。このような絶縁性粒子付き導電性粒子は、ハイブリダイゼーション法を使用しないことで得ることができる。   In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles are preferably not attached by a hybridization method. It is preferable that the polymer compound is not attached to a portion other than the portion to which the insulating particles are attached on the surface of the conductive particles. Such conductive particles with insulating particles can be obtained without using a hybridization method.

なお、図6に示すように、ハイブリダイゼーション法を用いた従来の絶縁性粒子付き導電性粒子101では、導電性粒子102の表面の絶縁性粒子103が付着している部分102a以外の部分102bにも高分子化合物104が付着する。これは、ハイブリダイゼーション法では、圧縮剪断力がかかり、絶縁性粒子の付着と脱離とが繰り返し起こり、徐々に絶縁性粒子が付着するためである。圧縮剪断力により、絶縁性粒子の高分子化合物により形成された層が剥がれて、剥がれた高分子化合物が、導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分に付着する。導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分に付着した高分子化合物は、導電性粒子の体積抵抗率を高くしたり、電極間の接続抵抗を低下させたりする。   As shown in FIG. 6, in the conventional conductive particles 101 with insulating particles using the hybridization method, the portions 102 b other than the portions 102 a on the surface of the conductive particles 102 are attached to the portions 102 b. Also, the polymer compound 104 adheres. This is because in the hybridization method, a compressive shear force is applied, the insulating particles are repeatedly attached and detached, and the insulating particles are gradually attached. The layer formed of the polymer compound of the insulating particles is peeled off by the compressive shearing force, and the peeled polymer compound is attached to a portion other than the portion where the insulating particles are attached on the surface of the conductive particles. The polymer compound adhering to the portion other than the portion to which the insulating particles adhere on the surface of the conductive particles increases the volume resistivity of the conductive particles or decreases the connection resistance between the electrodes.

上記導電性粒子の表面及び上記導電層の表面に絶縁性粒子を付着させる方法の一例としては、以下の方法が挙げられる。   As an example of the method of attaching insulating particles to the surface of the conductive particles and the surface of the conductive layer, the following methods may be mentioned.

先ず、水などの溶媒中に、導電性粒子を入れ、撹拌しながら、絶縁性粒子を徐々に添加する。十分に撹拌した後、絶縁性粒子付き導電性粒子を分離し、真空乾燥機などにより乾燥して、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る。   First, the conductive particles are put in a solvent such as water, and the insulating particles are gradually added while stirring. After sufficiently stirring, the conductive particles with insulating particles are separated and dried by a vacuum dryer or the like to obtain conductive particles with insulating particles.

上記導電層は表面に、絶縁性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。絶縁性粒子は表面に、導電層と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。これらの反応性官能基により、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離し難くなる。   The conductive layer preferably has a reactive functional group capable of reacting with insulating particles on the surface. The insulating particles preferably have a reactive functional group capable of reacting with the conductive layer on the surface. These reactive functional groups make it difficult for the insulating particles to be unintentionally detached from the surface of the conductive particles.

上記反応性官能基として、反応性を考慮して適宜の基が選択される。上記反応性官能基としては、水酸基、ビニル基及びアミノ基等が挙げられる。反応性に優れているので、上記反応性官能基は水酸基であることが好ましい。上記導電性粒子は表面に、水酸基を有することが好ましい。上記絶縁性粒子は表面に、水酸基を有することが好ましい。   As the reactive functional group, an appropriate group is selected in consideration of reactivity. Examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. Since the reactivity is excellent, the reactive functional group is preferably a hydroxyl group. The conductive particles preferably have a hydroxyl group on the surface. The insulating particles preferably have a hydroxyl group on the surface.

(異方性導電材料)
本発明に係る異方性導電材料は、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。
(Anisotropic conductive material)
The anisotropic conductive material according to the present invention includes the above-described conductive particles with insulating particles and a binder resin.

上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂としては、一般的には絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体又はエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The binder resin is not particularly limited. In general, an insulating resin is used as the binder resin. Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers, and elastomers. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。   Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin, and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyamide resins. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene. -Hydrogenated product of a styrene block copolymer. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

上記異方性導電材料は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。   In addition to the conductive particles with insulating particles and the binder resin, the anisotropic conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, and an antioxidant. In addition, various additives such as a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant may be contained.

上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ特に限定されない。上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を分散させる方法としては、例えば、上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー樹脂中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、並びに上記バインダー樹脂を水又は有機溶剤等で希釈した後、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法等が挙げられる。   The method for dispersing the conductive particles with insulating particles in the binder resin is not particularly limited, and a conventionally known dispersion method can be used. As a method for dispersing the conductive particles with insulating particles in the binder resin, for example, the conductive particles with insulating particles are added to the binder resin and then kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like. A method, a method in which the conductive particles with insulating particles are uniformly dispersed in water or an organic solvent using a homogenizer or the like, then added to the binder resin, and kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like; and Examples include a method of diluting the binder resin with water or an organic solvent, adding the conductive particles with insulating particles, and kneading and dispersing with a planetary mixer or the like.

本発明に係る異方性導電材料は、異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等として使用され得る。上記異方性導電ペーストは、異方性導電インク又は異方性導電粘接着剤であってもよい。また、上記異方性導電フィルムには、異方性導電シートが含まれる。本発明の導電性粒子を含む異方性導電材料が、異方性導電フィルム等のフィルム状の接着剤として使用される場合には、絶縁性粒子付き導電性粒子を含むフィルム状の接着剤に、絶縁性粒子付き導電性粒子を含まないフィルム状の接着剤が積層されていてもよい。ただし、上述のように、本発明に係る異方性導電材料は、ペースト状であることが好ましく、異方性導電ペーストであることが好ましい。ペースト状には液状が含まれる。   The anisotropic conductive material according to the present invention can be used as an anisotropic conductive paste and an anisotropic conductive film. The anisotropic conductive paste may be an anisotropic conductive ink or an anisotropic conductive adhesive. The anisotropic conductive film includes an anisotropic conductive sheet. When the anisotropic conductive material containing the conductive particles of the present invention is used as a film-like adhesive such as an anisotropic conductive film, the film-like adhesive containing the conductive particles with insulating particles is used. A film-like adhesive that does not contain conductive particles with insulating particles may be laminated. However, as described above, the anisotropic conductive material according to the present invention is preferably in the form of a paste, and is preferably an anisotropic conductive paste. The paste form includes liquid.

異方性導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に絶縁性粒子付き導電性粒子が効率的に配置され、異方性導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the anisotropic conductive material, the content of the binder resin is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably It is 99.99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the connection reliability of the connection target member in which the conductive particles with insulating particles are efficiently arranged between the electrodes and connected by the anisotropic conductive material The nature becomes even higher.

異方性導電材料100重量%中、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。上記絶縁性粒子付き導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the anisotropic conductive material, the content of the conductive particles with insulating particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably Is 10% by weight or less. When the content of the conductive particles with insulating particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.

(接続構造体)
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて、又は本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む異方性導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
By connecting the connection target members using the conductive particles with insulating particles according to the present invention, or using the anisotropic conductive material including the conductive particles with insulating particles according to the present invention and a binder resin. A connection structure can be obtained.

上記接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、該接続部が本発明の絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む異方性導電材料により形成されている接続構造体であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、接続部自体が絶縁性粒子付き導電性粒子である。すなわち、第1,第2の接続対象部材が絶縁性粒子付き導電性粒子により接続される。   The connection structure includes a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first and second connection target members, and the connection portion is an insulating material according to the present invention. It is preferable that the connection structure is formed of conductive particles with conductive particles or an anisotropic conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin. In the case where conductive particles with insulating particles are used, the connecting portion itself is conductive particles with insulating particles. That is, the first and second connection target members are connected by the conductive particles with insulating particles.

図5に、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に正面断面図で示す。   FIG. 5 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.

図5に示す接続構造体81は、第1の接続対象部材82と、第2の接続対象部材83と、第1,第2の接続対象部材82,83を接続している接続部84とを備える。接続部84は、絶縁性粒子付き導電性粒子1を含む異方性導電材料により形成されている。具体的には、絶縁性粒子付き導電性粒子1を複数含む異方性導電材料を硬化させることにより形成されている。なお、図5では、絶縁性粒子付き導電性粒子1は、図示の便宜上、略図的に示されている。   A connection structure 81 shown in FIG. 5 includes a first connection target member 82, a second connection target member 83, and a connection portion 84 connecting the first and second connection target members 82 and 83. Prepare. The connecting portion 84 is formed of an anisotropic conductive material including the conductive particles 1 with insulating particles. Specifically, it is formed by curing an anisotropic conductive material including a plurality of conductive particles 1 with insulating particles. In FIG. 5, the conductive particles 1 with insulating particles are schematically shown for convenience of illustration.

第1の接続対象部材82は上面82aに、複数の電極82bを有する。第2の接続対象部材83は下面83aに、複数の電極83bを有する。電極82bと電極83bとが、1つ又は複数の絶縁性粒子付き導電性粒子1により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材82,83が絶縁性粒子付き導電性粒子1により電気的に接続されている。   The first connection target member 82 has a plurality of electrodes 82b on the upper surface 82a. The second connection target member 83 has a plurality of electrodes 83b on the lower surface 83a. The electrode 82b and the electrode 83b are electrically connected by one or a plurality of conductive particles 1 with insulating particles. Therefore, the first and second connection target members 82 and 83 are electrically connected by the conductive particles 1 with insulating particles.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例としては、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記異方性導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×10〜4.9×10Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of the manufacturing method of the connection structure, the anisotropic conductive material is disposed between the first connection target member and the second connection target member to obtain a laminate, and then the laminate is heated. And a method of applying pressure. The pressure of the said pressurization is about 9.8 * 10 < 4 > -4.9 * 10 < 6 > Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC.

上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板及びガラス基板等の回路基板などの電子部品等が挙げられる。上記異方性導電材料は、電子部品を接続するための異方性導電材料であることが好ましい。上記異方性導電材料はペースト状の異方性導電ペーストであり、ペースト状の状態で接続対象部材上に塗工されることが好ましい。   Specific examples of the connection target member include electronic components such as a semiconductor chip, a capacitor, and a diode, and circuit components such as a printed board, a flexible printed board, and a glass board. The anisotropic conductive material is preferably an anisotropic conductive material for connecting electronic components. The anisotropic conductive material is a paste-like anisotropic conductive paste, and is preferably applied on the connection target member in a paste-like state.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。   Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible printed board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the metal oxide include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.1μm)を用意した。
Example 1
Conductive particles (average particle diameter: 3.01 μm, conductive layer thickness: 0.1 μm) having a nickel plating layer (conductive layer) formed on the surface of divinylbenzene resin particles were prepared.

また、ゾルゲル法を使用して作製したシリカ粒子(平均粒子径250nm)の表面をビニルトリエトキシシランで被覆し、ビニル基を表面に有する絶縁性粒子を絶縁性粒子本体として得た。   Moreover, the surface of the silica particle (average particle diameter 250nm) produced using the sol-gel method was coat | covered with vinyltriethoxysilane, and the insulating particle which has a vinyl group on the surface was obtained as an insulating particle main body.

水200mL中に、上記絶縁性粒子本体1重量部と、高分子化合物となる化合物であるメタクリル酸5重量部と、高分子化合物となる化合物であるジメタクリル酸エチレングリコール0.3重量部と、開始剤(和光純薬工業社製「V−50」)0.1重量部とを超音波照射機で十分乳化させた後、スリーワンモーターで十分に攪拌しながら70℃まで昇温し、70℃で6時間保持して、上記モノマーを重合させた。   In 200 mL of water, 1 part by weight of the insulating particle main body, 5 parts by weight of methacrylic acid as a polymer compound, 0.3 part by weight of ethylene glycol dimethacrylate as a compound as a polymer compound, After fully emulsifying 0.1 parts by weight of an initiator (“V-50” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) with an ultrasonic irradiator, the temperature was raised to 70 ° C. with sufficient stirring with a three-one motor, and 70 ° C. For 6 hours to polymerize the monomer.

その後、冷却し、遠心分離機で固液分離を2回行い、余分なモノマーを洗浄により除去し、高分子化合物により表面全体が被覆された絶縁性粒子を得た。次に、得られた絶縁性粒子を純水30mLに分散して、絶縁性粒子の分散液を得た。   Then, it cooled, solid-liquid separation was performed twice with the centrifuge, the excess monomer was removed by washing | cleaning, and the insulating particle by which the whole surface was coat | covered with the high molecular compound was obtained. Next, the obtained insulating particles were dispersed in 30 mL of pure water to obtain a dispersion of insulating particles.

この分散液をマイクロトラック粒度分布径で測定したところ、高分子層を被覆した絶縁性粒子の平均粒子径は410nmであった。   When this dispersion was measured by the microtrack particle size distribution diameter, the average particle diameter of the insulating particles covering the polymer layer was 410 nm.

1Lのセパラブルフラスコに純水250mLと、エタノール50mLと、上記導電性粒子15重量部とを入れ、十分に攪拌し、導電性粒子を含む液を得た。この導電性粒子を含む液に、超音波を当てながら上記絶縁性粒子の分散液を10分間かけて滴下した後、40℃に昇温し1時間攪拌した。その後、ろ過し、真空乾燥機により100℃で8時間乾燥させ、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   A 1 L separable flask was charged with 250 mL of pure water, 50 mL of ethanol, and 15 parts by weight of the conductive particles, and stirred sufficiently to obtain a liquid containing conductive particles. To the liquid containing the conductive particles, the dispersion liquid of the insulating particles was dropped over 10 minutes while applying ultrasonic waves, and then heated to 40 ° C. and stirred for 1 hour. Then, it filtered and it was made to dry at 100 degreeC with a vacuum dryer for 8 hours, and the electroconductive particle with an insulating particle was obtained.

(実施例2)
高分子化合物により表面全体が被覆された絶縁性粒子を得る際に、高分子化合物となる化合物を、メタクリル酸15重量部と、ジビニルベンゼン0.5重量部とに変更したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 2)
Example 1 except that when obtaining insulating particles whose entire surface was coated with a polymer compound, the compound to be the polymer compound was changed to 15 parts by weight of methacrylic acid and 0.5 parts by weight of divinylbenzene. In the same manner, conductive particles with insulating particles were obtained.

実施例1と同様に分散液をマイクロトラック粒度分布径で測定したところ、高分子層を被覆した絶縁性粒子の平均粒子径は880nmであった。   When the dispersion was measured by the microtrack particle size distribution diameter in the same manner as in Example 1, the average particle diameter of the insulating particles covering the polymer layer was 880 nm.

(実施例3)
シリカ粒子の表面をメタクリロキシプロピルトリエトキシシランで被覆し、メタクリロイル基を表面に有する絶縁性粒子を絶縁性粒子本体として得たこと、並びに該絶縁性粒子本体を用いて高分子化合物により表面全体が被覆された絶縁性粒子を得る際に、高分子化合物となる化合物を、酢酸ビニル5重量部と、N,N−メチレンビスアクリルアミド0.3重量部とに変更したこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 3)
The surface of the silica particles was coated with methacryloxypropyltriethoxysilane to obtain insulating particles having methacryloyl groups on the surface as the insulating particle main body, and the entire surface was made of a polymer compound using the insulating particle main body. When obtaining the coated insulating particles, the same procedure as in Example 1 was performed except that the compound to be a polymer compound was changed to 5 parts by weight of vinyl acetate and 0.3 parts by weight of N, N-methylenebisacrylamide. Thus, conductive particles with insulating particles were obtained.

実施例1と同様に分散液をマイクロトラック粒度分布径で測定したところ、高分子層を被覆した絶縁性粒子の平均粒子径は390nmであった。   When the dispersion was measured by the microtrack particle size distribution diameter in the same manner as in Example 1, the average particle diameter of the insulating particles covering the polymer layer was 390 nm.

(実施例4)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面に芯物質としてニッケル粉体(100nm)が付着しており、かつニッケル粉体が付着したジビニルベンゼン粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.03μm、導電層の厚み0.11μm)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
Example 4
Conductivity in which nickel powder (100 nm) is attached as a core material to the surface of divinylbenzene resin particles, and a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of divinylbenzene particles to which nickel powder is attached Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that particles (average particle size: 3.03 μm, conductive layer thickness: 0.11 μm) were used.

(実施例5)
絶縁性粒子を付着させる時の導電性粒子の投入量を25重量部に変更した以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 5)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the input amount of the conductive particles when attaching the insulating particles was changed to 25 parts by weight.

(実施例6)
絶縁性粒子を付着させる時の導電性粒子の投入量を8重量部に変更した以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 6)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the input amount of the conductive particles when attaching the insulating particles was changed to 8 parts by weight.

(実施例7)
物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を使用して、実施例1で作製した絶縁性粒子を、実施例1で用意した導電性粒子に付着させて、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 7)
Using the physical / mechanical hybridization method, the insulating particles produced in Example 1 were attached to the conductive particles prepared in Example 1 to obtain conductive particles with insulating particles.

(比較例1)
絶縁性粒子本体の表面を高分子化合物により被覆しなかったこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 1)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface of the insulating particle main body was not coated with the polymer compound.

すなわち、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を付着させる際に、上記絶縁性粒子の分散液として、上記ビニル基を表面に有する絶縁性粒子(高分子化合物により被覆されていない)を、純水30mLに分散した分散液を用いた。   That is, when the insulating particles are attached to the surface of the conductive particles, the insulating particles (not coated with the polymer compound) having the vinyl group on the surface are used as pure water as a dispersion of the insulating particles. A dispersion liquid dispersed in 30 mL was used.

(比較例2)
高分子化合物により表面全体が被覆された絶縁性粒子を得る際に、メタクリル酸の配合量を1重量部に変更した以外は実施例1と同様にして絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 2)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that when the insulating particles whose entire surface was coated with the polymer compound were obtained, the amount of methacrylic acid was changed to 1 part by weight.

実施例1と同様に分散液をマイクロトラック粒度分布径で測定したところ、高分子層を被覆した絶縁性粒子の平均粒子径は240nmであった。   When the dispersion was measured by the microtrack particle size distribution diameter in the same manner as in Example 1, the average particle diameter of the insulating particles covering the polymer layer was 240 nm.

(比較例3)
高分子化合物により表面全体が被覆された絶縁性粒子を得る際に、メタクリル酸の配合量を25重量部に変更した以外は実施例1と同様にして絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 3)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that when the insulating particles whose entire surface was coated with the polymer compound were obtained, the amount of methacrylic acid was changed to 25 parts by weight.

実施例1と同様に分散液をマイクロトラック粒度分布径で測定したところ、高分子層を被覆した絶縁性粒子の平均粒子径は1270nmであった。   When the dispersion was measured by the microtrack particle size distribution diameter in the same manner as in Example 1, the average particle diameter of the insulating particles covering the polymer layer was 1270 nm.

(実施例1〜7及び比較例1〜3の評価)
(1)絶縁性粒子付き導電性粒子における被覆率及び絶縁性粒子の残存率
超音波処理前に、SEMでの観察により100個の実施例及び比較例の絶縁性粒子付き導電性粒子を観察した。絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の表面積全体に占める絶縁性粒子により被覆されている部分の投影面積である被覆率X1を求めた。
(Evaluation of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-3)
(1) Coverage rate of conductive particles with insulating particles and residual rate of insulating particles Before sonication, 100 conductive particles with insulating particles of Examples and Comparative Examples were observed by observation with an SEM. . The coverage X1 which is the projected area of the portion covered with the insulating particles in the entire surface area of the conductive particles in the conductive particles with the insulating particles was determined.

次に、エタノール100重量部に、絶縁性粒子付き導電性粒子3重量部を添加し、絶縁性粒子付き導電性粒子含有液を得た。この絶縁性粒子付き導電性粒子含有液を出力400Wの超音波洗浄機で20℃及び38kHzの条件で5分間撹拌しながら、超音波処理した。超音波処理後に、SEMでの観察により100個の絶縁性粒子付き導電性粒子を観察し、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の表面積全体に占める絶縁性粒子により被覆されている部分の投影面積である被覆率X2を求めた。絶縁性粒子の残存率は、被覆率X1と被覆率X2とから、下記式(1)により求めた。   Next, 3 parts by weight of conductive particles with insulating particles was added to 100 parts by weight of ethanol to obtain a conductive particle-containing liquid with insulating particles. The conductive particle-containing liquid with insulating particles was subjected to ultrasonic treatment while being stirred for 5 minutes at 20 ° C. and 38 kHz with an ultrasonic cleaner having an output of 400 W. After the ultrasonic treatment, 100 conductive particles with insulating particles are observed by observation with an SEM, and the portion of the conductive particles with insulating particles covered by the insulating particles occupying the entire surface area of the conductive particles. The coverage X2, which is the projected area, was determined. The remaining rate of the insulating particles was obtained from the following formula (1) from the coverage X1 and the coverage X2.

絶縁性粒子の残存率(%)=(超音波処理後の被覆率X2/超音波処理前の被覆率X1)×100 ・・・式(1)   Residual rate of insulating particles (%) = (coverage ratio X2 after ultrasonic treatment / coverage ratio X1 before ultrasonic treatment) × 100 Formula (1)

(2)接続構造体の作製
実施例及び比較例の絶縁性粒子付き導電性粒子を含有量が10重量%となるように、三井化学社製「ストラクトボンドXN−5A」に添加し、分散させ、異方性導電ペーストを得た。
(2) Preparation of connection structure The conductive particles with insulating particles of Examples and Comparative Examples were added to and dispersed in “Struct Bond XN-5A” manufactured by Mitsui Chemicals so that the content would be 10% by weight. An anisotropic conductive paste was obtained.

L/Sが20μm/20μmであるITO電極パターンが上面に形成された透明ガラス基板を用意した。また、L/Sが20μm/20μm、電極面積が2000μmである銅電極パターンが下面に形成された半導体チップを用意した。 A transparent glass substrate having an ITO electrode pattern with an L / S of 20 μm / 20 μm formed on the upper surface was prepared. Further, a semiconductor chip was prepared in which a copper electrode pattern having an L / S of 20 μm / 20 μm and an electrode area of 2000 μm 2 was formed on the lower surface.

上記透明ガラス基板上に、得られた異方性導電ペーストを厚さ30μmとなるように塗工し、異方性導電ペースト層を形成した。次に、異方性導電ペースト層上に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電ペースト層の温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、1MPaの圧力をかけて異方性導電ペースト層を185℃で完全硬化させ、接続構造体を得た。   On the transparent glass substrate, the obtained anisotropic conductive paste was applied to a thickness of 30 μm to form an anisotropic conductive paste layer. Next, the semiconductor chip was stacked on the anisotropic conductive paste layer so that the electrodes face each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the anisotropic conductive paste layer becomes 185 ° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip and a pressure of 1 MPa is applied to form the anisotropic conductive paste layer. Completely cured at 185 ° C. to obtain a connection structure.

(3)導通評価(上下の電極間)
得られた接続構造体の上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。2つの接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。接続抵抗の平均値が2.0Ω以下である場合を「○」、接続抵抗の平均値が2.0Ωを超える場合を「×」と判定した。
(3) Conductivity evaluation (between upper and lower electrodes)
The connection resistance between the upper and lower electrodes of the obtained connection structure was measured by a four-terminal method. The average value of the two connection resistances was calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The case where the average value of the connection resistance was 2.0Ω or less was judged as “◯”, and the case where the average value of the connection resistance exceeded 2.0Ω was judged as “X”.

(4)絶縁評価(横方向に隣り合う電極間)
得られた接続構造体において、隣接する電極間のリークの有無を、テスターで抵抗を測定することにより評価した。抵抗が500MΩを超える場合にリーク無しと判断して結果を「○」と判定し、抵抗が500MΩ以下の場合にリーク有りと判断して結果を「×」と判定した。
(4) Insulation evaluation (between adjacent electrodes in the horizontal direction)
In the obtained connection structure, the presence or absence of leakage between adjacent electrodes was evaluated by measuring resistance with a tester. When the resistance exceeded 500 MΩ, it was judged that there was no leak and the result was judged as “◯”, and when the resistance was 500 MΩ or less, it was judged that there was a leak and the result was judged as “X”.

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 2013004348
Figure 2013004348

なお、実施例1〜7で得られた絶縁性粒子において、絶縁性粒子の圧縮回復率を測定することにより、高分子化合物により形成された層は、シリカ粒子よりも柔軟性が高いことを確認した。   In addition, in the insulating particles obtained in Examples 1 to 7, it was confirmed that the layer formed of the polymer compound was higher in flexibility than the silica particles by measuring the compression recovery rate of the insulating particles. did.

また、実施例1〜6の絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分には、高分子化合物は付着していないことを確認した。実施例7では、物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を用いているので、導電性粒子の表面の絶縁性粒子が付着している部分以外の部分に、高分子化合物が付着している箇所があった。   Moreover, in the electroconductive particle with an insulating particle of Examples 1-6, it confirmed that the polymer compound did not adhere to parts other than the part to which the insulating particle of the surface of electroconductive particle has adhered. . In Example 7, since the physical / mechanical hybridization method is used, there is a portion where the polymer compound is attached to a portion other than the portion where the insulating particles are attached on the surface of the conductive particles. It was.

1…絶縁性粒子付き導電性粒子
2…導電性粒子
3…絶縁性粒子
5…絶縁性粒子本体
6…層
11…基材粒子
12…導電層
21…絶縁性粒子付き導電性粒子
22…導電性粒子
31…導電層
32…芯物質
33…突起
41…絶縁性粒子付き導電性粒子
42…導電性粒子
43…絶縁性粒子
51…導電層
52…突起
61…絶縁性粒子付き導電性粒子
62…被膜
81…接続構造体
82…第1の接続対象部材
82a…上面
82b…電極
83…第2の接続対象部材
83a…下面
83b…電極
84…接続部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive particle with insulating particle 2 ... Conductive particle 3 ... Insulating particle 5 ... Insulating particle body 6 ... Layer 11 ... Base material particle 12 ... Conductive layer 21 ... Conductive particle 22 with insulating particle ... Conductivity Particle 31 ... Conductive layer 32 ... Core substance 33 ... Protrusion 41 ... Conductive particle 42 with insulating particle ... Conductive particle 43 ... Insulating particle 51 ... Conductive layer 52 ... Protrusion 61 ... Conductive particle 62 with insulating particle ... Coating 81 ... Connection structure 82 ... First connection object member 82a ... Upper surface 82b ... Electrode 83 ... Second connection object member 83a ... Lower surface 83b ... Electrode 84 ... Connection part

Claims (8)

導電層を少なくとも表面に有する導電性粒子と、
前記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備え、
絶縁性粒子の平均粒子径が、前記導電性粒子の粒子径の1/10を超え、1/3以下である、絶縁性粒子付き導電性粒子。
Conductive particles having at least a conductive layer on the surface;
A plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles,
Conductive particles with insulating particles, wherein the average particle size of the insulating particles exceeds 1/10 of the particle size of the conductive particles and is 1/3 or less.
前記導電性粒子の粒子径が1μm以上、5μm以下である、請求項1に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein a particle diameter of the conductive particles is 1 μm or more and 5 μm or less. 前記絶縁性粒子の平均粒子径が、前記導電性粒子の粒子径の1/8を超える、請求項1又は2に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1 or 2, wherein an average particle size of the insulating particles exceeds 1/8 of a particle size of the conductive particles. 前記絶縁性粒子が、絶縁性粒子本体と、該絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層とを有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The insulating particle according to any one of claims 1 to 3, wherein the insulating particle has an insulating particle body and a layer covering at least a partial region of the surface of the insulating particle body. With conductive particles. 前記絶縁性粒子が化学的方法により、前記導電性粒子の表面に付着している、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein the insulating particles are attached to the surface of the conductive particles by a chemical method. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、異方性導電材料。   The anisotropic conductive material containing the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-5, and binder resin. ペースト状の異方性導電ペーストである、請求項6に記載の異方性導電材料。   The anisotropic conductive material according to claim 6, which is a paste-like anisotropic conductive paste. 第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、該第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む異方性導電材料により形成されている、接続構造体。
A first connection target member, a second connection target member, and a connection part connecting the first and second connection target members;
The said connection part is formed with the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-5, or anisotropic conductivity containing this electroconductive particle with an insulating particle and binder resin. A connection structure made of a material.
JP2011135248A 2011-06-17 2011-06-17 Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure Active JP5620342B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011135248A JP5620342B2 (en) 2011-06-17 2011-06-17 Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011135248A JP5620342B2 (en) 2011-06-17 2011-06-17 Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013004348A true JP2013004348A (en) 2013-01-07
JP5620342B2 JP5620342B2 (en) 2014-11-05

Family

ID=47672711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011135248A Active JP5620342B2 (en) 2011-06-17 2011-06-17 Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5620342B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014241281A (en) * 2013-05-14 2014-12-25 積水化学工業株式会社 Conductive film and connection structure
JP2015005503A (en) * 2013-05-22 2015-01-08 積水化学工業株式会社 Connection structure
JP2015028920A (en) * 2013-06-26 2015-02-12 積水化学工業株式会社 Connection structure

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007537570A (en) * 2004-05-12 2007-12-20 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド Insulating conductive fine particles and anisotropic conductive adhesive film containing the same
JP2011029178A (en) * 2009-07-01 2011-02-10 Hitachi Chem Co Ltd Coated conductive particle and manufacturing method therefor
WO2011030715A1 (en) * 2009-09-08 2011-03-17 積水化学工業株式会社 Conductive particles with attached insulating particles, method for producing conductive particles with attached insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP2011060502A (en) * 2009-09-08 2011-03-24 Sekisui Chem Co Ltd Conductive particle with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007537570A (en) * 2004-05-12 2007-12-20 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド Insulating conductive fine particles and anisotropic conductive adhesive film containing the same
JP2011029178A (en) * 2009-07-01 2011-02-10 Hitachi Chem Co Ltd Coated conductive particle and manufacturing method therefor
WO2011030715A1 (en) * 2009-09-08 2011-03-17 積水化学工業株式会社 Conductive particles with attached insulating particles, method for producing conductive particles with attached insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP2011060502A (en) * 2009-09-08 2011-03-24 Sekisui Chem Co Ltd Conductive particle with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014241281A (en) * 2013-05-14 2014-12-25 積水化学工業株式会社 Conductive film and connection structure
JP2015005503A (en) * 2013-05-22 2015-01-08 積水化学工業株式会社 Connection structure
JP2015028920A (en) * 2013-06-26 2015-02-12 積水化学工業株式会社 Connection structure

Also Published As

Publication number Publication date
JP5620342B2 (en) 2014-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4977276B2 (en) Method for producing conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP6205004B2 (en) Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP5060655B2 (en) Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP5548053B2 (en) Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP6084850B2 (en) Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP6188456B2 (en) Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP5703149B2 (en) Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP6212374B2 (en) Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP6453032B2 (en) Conductive particles, conductive materials, and connection structures
JP5620342B2 (en) Conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP6084866B2 (en) Conductive particles, conductive materials, and connection structures
JP6431411B2 (en) Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP6564302B2 (en) Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP6438186B2 (en) Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP6151990B2 (en) Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure
JP5484265B2 (en) Conductive particles, conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure
JP6357347B2 (en) Conductive particles, conductive materials, and connection structures
JP6357348B2 (en) Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140203

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140603

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140729

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140826

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140918

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5620342

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151