JP2012529163A - 二成分エッチング - Google Patents
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Abstract
Description
・非接触方法であり、したがって、脆い基板をパターン化するのに有利である。
・スクリーン印刷よりも良好な解像度を提供するのに有用であり、また、迅速な方法である。
・物質的、金銭的および環境的影響の使用において有効である。
a)インクを表面上に精密に噴射すること、および
b)有効なエッチングが発生することを確実にすること。
・インクは、印刷ヘッドと適合しなければならない;構築が主にケイ素および金属成分製であり、酸性フッ化物によって腐食されるため、商業的に入手できる大多数の印刷ヘッドによって単純な酸性フッ化物エッチャントを分配することはできない。
・例えば表面張力、粘度および粘弾性などのインクの物理的特性は、インクジェット印刷のための要件を満たさなければならない。
・例えば高温などのプロセス条件の影響によってエッチング化合物の濃度の上昇がもたらされ、これが、エッチングプロセスに対して悪影響を有することがないようにしなければならないため、エッチャントは、小さい体積で適用するのに好適でなければならない。
・エッチャントは、デバイスの、または太陽電池の他の材料と適合する条件下でエッチングする(すなわちケイ素を顕著にエッチングしない)のに好適でなければならない。
・エッチャントは、処理した表面の所望されないドーピングおよび汚染をもたらす金属カチオンなどの元素を含んでいてはならない。
・いくつかの用途において、エッチング段階が、パターン全体で均一な深さをもたらさなければならない。
1)単一の堆積アプローチ:エッチャントを、基板表面上に印刷し、ここでこれを、熱的に、光化学的に、または、インク溶液中に、もしくは気相中に含まれる活性化剤との反応によって活性化することができる。
3)酸/塩基化学を用いた二重の堆積アプローチ:第3のアプローチにおいて、酸を、フッ化物を含むスピンコートしたフィルム上に、またはインクジェット印刷したトラックもしくは線上に印刷する。
項目1)において特徴づけたように、この手順において、有効なエッチャントを、熱的および/もしくは光化学的段階によって、または活性化剤の溶液へのバルク曝露によって発生させる。
不都合なことに、この手順は、蒸発によって生じた特定の量の塩基性成分の損失と関連する。
好適な、インクジェット印刷可能な組成物についての例は、20重量%のEt3NHFおよび10重量%のPEGを水中に含むインクである。
他のアプローチは、非酸性フッ化物化合物での高温におけるエッチングである。
特に、これらの源を、高温での熱分解条件で酸性環境において保持する場合には、フッ化物イオンが放出され、それはHF、すなわち活性エッチャントの源である。このアプローチに適する好ましいフッ化物含有化合物は、テトラフルオロホウ酸アンモニウム、テトラフルオロホウ酸、Selectafluor(1−クロロメチル−4−フルオロ−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタンビス(テトラフルオロボレート))および例えばベンジルフルオリドなどの有機酸フッ化物の群から選択される。
本発明の他の態様において、組成物は、光化学反応において解離し、プロトンを放出する化合物を含んでいてもよい。
本発明の他の態様において、フッ化物を、光化学的に放出してもよい。
本発明の他の態様は、印刷されたインクのバルクの、活性化剤を含む第2の溶液への曝露である。
例えば水などの外部の反応体と反応し、酸を発生する成分、
例えばNaFなどのフッ化物または他のフッ化物塩の源、
酸無水物
および任意に好適な無水溶媒
を含有するインクを、処方する。
無水物の加水分解の際に、プロトンが放出され、HFの源を生み出し、それは、基板をエッチングしてもよい。
他の態様において、活性エッチャントの生成のための補完的な組成物の堆積の二重のアプローチを、酸/塩基化学によって達成してもよい。
スピンコートした層の調製に好適なスピンコート可能なフッ化物源は、アルカリ金属フッ化物、アンモニア、トリアルキルアミン、テトラアルキルアンモニウムフルオリドおよびポリマーアミンを含むアミン、ならびに例えばポリアリルアミンおよびポリビニルピリジンなどの窒素複素環類のHF塩を有する電解質担持ポリマーを含んでいてもよい。
この概念は、酸含有インクを、第1の層を含有するフッ化物源上に印刷することに極めて類似しているが、酸をその上に印刷する場合であっても、処方物を変化させて、最初に堆積するフッ化物源が依然として固定されているのを確実にする。
しかし、引き換えに、印刷ヘッドはまた、用いたインク組成物と適合しなければならない。
所望のエッチング結果に影響する最も重要なパラメーターの1つは、印刷されたインクと、パターン化しなければならない基板との間の相互作用である。
適切なパターンを発生させるために、適用されたインクの物理的特性は、影響値の中で最も決定的である。
・インク処方物の粘度を、噴出温度にて>2cpsおよび<20cpsの範囲内としなければならない。
・適用されるインクの表面張力に影響を及ぼし、所要に応じて界面活性剤のような成分の、または例えば低表面張力の共溶媒(co-solvent)および包括的なフッ化された溶媒の添加によって低減することができる。
・したがって、熱的に、および光化学的に架橋可能な結合剤を加えて、インクを基板上に固定してもよい。
・種々の担体溶媒または溶媒の混合物を用いて、インク処方物を組成し、ひいては乾燥の速度および粘度の変化に影響を及ぼし、それによって、高度にコーヒー染みの特長がプログラムされ得、インクの二次的な堆積が回避され得るという効果による影響を印刷された構造の形態に及ぼすことができる。
・したがって、バンク材料を適用することによる所定の構造を調製してもよく(例えばフォトリソグラフィーを用いた疎水性ポリマーのIJによるもの)、疎水性/親水性領域を、基板上に適用してもよい(例えばフォトリソグラフィーを用いるもの)。
・印刷を、加熱した、または冷却した基板表面上で行う場合には、相互作用もまた変化する。同時に、インクの乾燥またはエッチング特性が変化し、エッチング結果に、所望に応じて影響を及ぼすことができる。
・本発明の特定の態様において、湿潤したインクジェットフィルムを、高温にて乾燥し、これによってエッチャントを固定することができる。
本発明の上述の目的とは別に、特に、SiNx層を構造化する目的のみならず、以下の層を構造化することもまた、対象である:
・これに限定されないが、反射防止層の目的のための、特に太陽電池のためのSiNx
・これに限定されないが、半導体材料の表面安定化の目的のためのSiNx
・これに限定されないが、半導体材料の表面安定化の目的のためのSiOx
・これに限定されないが、太陽電池を製造するための反射防止コーティングとしてのTiOx
・これに限定されないが、拡散障壁の目的のためのTaNおよびTiN
・これに限定されないが、デバイス金属化の目的のための金属、例えばAlなどである。
しかし、前の段落の下で述べた材料および層の堆積物を、標準的な、または慣用の太陽電池の製造の間に、および先端的な、いわゆる高効率のデバイスのために適用してもよく、上記で具体的に述べたものに限定されない。用語「標準的な太陽電池」により、図1に示した特長を含むデバイスを意味する。
・エミッタを、太陽電池の端部の周囲が大部分覆われた前側上/中に配置する。
・ARCの最上部上で、実質的に、金属接点を、大部分は厚膜堆積によって何らかの形で形成して、電荷担体が、ARC層を通した侵入の後に外部の回路を横断するためのデバイスとするのを可能にする。
a)1段階選択性エミッタ、または
b)2段階選択性エミッタ
を含む、選択性エミッタ太陽電池
2.「直接金属アプローチ」または「直接金属化」によって金属化した太陽電池
3.局所的な裏面電界を有する太陽電池
5.PERC−太陽電池(passivated emitter rear contact)
6.PERT(passivated emitter rear totally diffused)
7.交差指型背面接触電池(interdigitated back contact cells)
8.両面太陽電池
である。
本明細書で述べたすべての出願、特許明細書および刊行物の完全な開示は、本出願中に参照によって組み込まれ、疑義がある場合に明確化の役割を果たす。
例1
揮発性の塩基性成分の熱蒸発。
10重量パーセントの(2 Et3N:1 HF)の混合物、水中5重量パーセントのPVPを含むインクを、窒化ケイ素基板の表面上にインクジェット印刷し、それを次に、80℃の温度まで加熱し、適用されたインク中に含まれる水の蒸発の後に、薄膜が残留する。温度を80℃に維持して、Et3Nを放出させ、蒸発によって除去し、エッチングを、残留するHFによって行う。10分後、エッチング生成物を、温かいDI水(脱イオン水)で洗浄することによって除去する。
エッチャントの熱活性化
エチレングリコール、40重量パーセントの水および10重量パーセントのKFからなるインクを、窒化ケイ素で被覆したシリコンウエハ上にインクジェット印刷する。このパターン化した基板を300℃の温度まで1分間加熱することによって、包含されるKFを活性化して、窒化物表面をエッチングする。この反応の後、ウエハを、超音波での5分間の照射の下で0.1%KOH溶液に浸漬して、エッチング生成物を除去する。
触媒によるフッ化物の放出
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、10重量パーセントのトルエンスルホニルフルオリドおよび5重量パーセントのPVPで構成されたインクを、窒化物で被覆した基板上に100℃の温度にてインクジェット印刷し(この高温によって、コーヒー染みが誘発され、それは、スルホニルフルオリド層上に堆積する次のインクの閉じ込めを支持する)、トルエンスルホニルフルオリドおよびPVPの乾燥フィルムが残留する。
PEG/KFフィルム上へのリン酸の印刷
フッ化物の薄膜を、水、20重量パーセントのPEGおよび20重量パーセントのKFからなる溶液からスピンコートする。スピンコーティングの結果、約700nmの層の厚さを有するフィルムが得られる。
Claims (15)
- エッチャントおよび、エッチャントを不活性にし、非荷電の複合体を生成する第2の成分からなる複合体を含む、インクジェット可能な組成物。
- 塩からなる非荷電の複合体を含む、請求項1に記載の組成物。
- アルカリ金属フッ化物、アンモニア、モノ、ジおよびトリアルキルアミンを含むアミンのHF塩、ならびにポリマーアミン、例えばポリアリルアミンおよびポリビニルピリジンのフッ化物など窒素複素環類のポリマーのHF塩、もしくはフルオロアセトンまたはその混合物の群から選択された塩を含む、請求項1または2に記載の組成物。
- NH4F、(CH3)3NHF、(CH3CH2)3NHFおよび(i−プロピレン)3NHFの群から選択された塩を含む、請求項1または2に記載の組成物。
- アンモニウムテトラフルオロボレート、テトラフルオロホウ酸、Selectafluor(1−クロロメチル−4−フルオロ−1,4−ジアゾニアビシクロ[2.2.2]オクタンビス(テトラフルオロボレート))および例えばベンジルフルオリド、アリールスルホニルフルオリド、特にp−トルエンスルホニルフルオリドなどの有機酸フルオリドまたはその混合物の群から選択されたフッ化物含有化合物を含む、請求項1または2に記載の組成物。
- N−スルホニルオキシイミド、オキシムスルホネート、アンモニウムスルホネート、ベンゾイントシレートおよび2−ニトロベンゼントシレートの群から選択されたプロトン発生化合物を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
- ヒドロキシアレーンの群から選択された、好ましくは1−ナフトール、2−ナフトールおよびジフェニルヨードニウムフルオリドの群から選択された、照射下でプロトンを放出する化合物を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物。
- フッ化物発生成分を約5〜約25重量%の範囲内で含む、請求項3、4、5、6または7に記載の組成物。
- 多価アルコールを約5〜約15重量%の範囲内の量で含む、請求項8に記載の組成物。
- グリセロール、エチレンクロロヒドリン、ジオキサンピナコールまたはその混合物の群から選択された多価アルコール、水および適用可能な場合にはポリエチレングリコール、ポリメチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテルを含む、請求項9に記載の組成物。
- 周囲温度にて不活性であり、かつ高温にてそのエッチング特性を生じる、請求項10に記載の組成物。
- 活性化剤またはプロトン供与化合物を含む第2の組成物の存在下で活性である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の組成物。
- カルボン酸塩、例えば酢酸およびその他の有機酸、例えばリン酸およびその他の鉱酸またはその混合物からなる群から選択された酸性成分を含む組成物の存在下で活性である、請求項10に記載の組成物。
- ポリスチレンスルホン酸、ポリ酢酸の群から選択されたポリ酸を含む、あるいは酢酸もしくは他の有機酸、リン酸もしくは他の鉱酸またはその混合物の群から選択された酸を含む組成物の存在下で活性である、請求項10に記載の組成物。
- SiO2またはSiNx層のエッチング用のインクジェット印刷可能な組成物としての、請求項10に記載の組成物の使用。
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