JP2012506642A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. フォトリソグラフィを実行するための方法であって、
   パターニングされるべき材質を覆う、屈折率及び吸光度を有する下層反射防止膜を堆積させるステップと、
   前記下層反射防止膜を修正してその修正のステップの後に前記屈折率及び前記吸光度の値が前記下層反射防止膜の第１の表面での第１の値から前記下層反射防止膜の第２の表面での第２の値まで傾斜型になるようにするステップとを備え、
   前記修正のステップは前記堆積させるステップの後に実行される方法。
2. 前記修正のステップは、前記下層反射防止膜に約２２２ｎｍ以下の波長を有する光を照射することを備えている請求項１の方法。
3. 前記修正のステップは、前記光を照射するステップの後に前記下層反射防止膜を加熱することを更に備えている請求項２の方法。
4. 前記修正のステップは、前記光を照射するステップの間に前記下層反射防止膜を加熱することを更に備えている請求項２の方法。
5. フォトリソグラフィを実行するための方法であって、
   パターニングされるべき材質を覆う、互いに加算されたときに第１の和をもたらす第１の屈折率及び第１の吸光度を有する下層反射防止膜を堆積させるステップと、
   互いに加算されたときに第２の合計をもたらす第２の屈折率及び第２の吸光度を前記下層反射防止膜の表面が有するように前記下層反射防止膜を修正するステップであって、前記堆積させるステップの後に実行されるステップと、
   前記修正するステップの後に前記下層反射防止膜の前記表面を覆うフォトレジスト層を形成するステップとを備え、
   互いに合算されたときに第３の合計をもたらす第３の屈折率及び第３の吸光度を前記フォトレジスト層は有しており、
   前記第２の和と前記第３の和の差の絶対値は、前記第１の和と前記第３の和の差の絶対値よりも小さい方法。