JP2012242224A - Measuring method of hardening rate of dimming film, manufacturing method for dimming film, and dimming film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measuring method of a hardening rate of a resin matrix in a dimming film having excellent swiftness and simplicity.SOLUTION: A method for measuring a hardening rate of a resin matrix by near-infrared spectroscopy in a dimming film is provided. The dimming film is formed by clamping a dimming layer between two transparent conductive resin substrates, the dimming layer including the resin matrix which is a hardened material of a polymer medium, and a light adjusting suspension dispersed in the resin matrix. When interference fringes are formed by transmitting the near-infrared light to the dimming film, the near-infrared spectrum is measured using a second dimming film including two transparent conductive resin substrates satisfying the following expression (I). The expression (I): (Ry)≥λ×1/2, where (Ry) is the maximum height of the surface roughness in the irradiation area of the near-infrared light and λ is the wavelength of the interference fringe.

Description

本発明は、 調光フィルムの硬化率の測定方法、調光フィルムの製造方法、及び調光フィルムに関する。   The present invention relates to a method for measuring a curing rate of a light control film, a method for manufacturing a light control film, and a light control film.

光調整懸濁液を含む調光硝子は、エドウィン・ランド(Edwin.Land)により最初に発明されたもので、その形態は、狭い間隔を有する2枚の透明導電性樹脂基材の間に、液体状態の光調整懸濁液を注入した構造になっている(例えば、特許文献1参照)。   The light control glass containing the light control suspension was first invented by Edwin. Land, and its form is between two transparent conductive resin substrates with a narrow spacing, It has a structure in which a liquid state light control suspension is injected (see, for example, Patent Document 1).

エドウィン・ランドの発明によると、2枚の透明導電性樹脂基材の間に注入されている液状の光調整懸濁液は、電界を印加していない状態では懸濁液中に分散されている光調整粒子のブラウン運動により、入射光の大部分が光調整粒子により反射、散乱又は吸収され、ごく一部分だけが透過することになる。また該調光ガラスに電界を印加すると、透明導電性基板を通じて光調整懸濁液に電場が形成され、光調整機能を表す光調整粒子が分極を起こし、電場に対して平行に配列され、光調整粒子と光調整粒子の間を光が透過し、最終的に調光硝子は透明になる。
即ち、光調整懸濁液に分散されている光調整粒子の形状、性質、濃度及び照射される光エネルギーの量により、透過、反射、散乱又は吸収の程度が決められる。
According to Edwin Land's invention, the liquid light control suspension injected between the two transparent conductive resin substrates is dispersed in the suspension when no electric field is applied. Due to the Brownian motion of the light conditioning particles, most of the incident light is reflected, scattered or absorbed by the light conditioning particles, and only a small portion is transmitted. Further, when an electric field is applied to the light control glass, an electric field is formed in the light adjustment suspension through the transparent conductive substrate, and the light adjustment particles representing the light adjustment function are polarized and arranged in parallel to the electric field. Light is transmitted between the adjusting particles and the light adjusting particles, and finally the light control glass becomes transparent.
That is, the degree of transmission, reflection, scattering, or absorption is determined by the shape, properties, concentration, and amount of light energy applied to the light control particles dispersed in the light control suspension.

しかし、このような初期の調光装置は、実用上、光調整懸濁液内での光調整粒子の凝集、自重による沈降、熱による色相変化、光学密度の変化、紫外線照射による劣化、基材の間隔維持及びその間隔内への光調整懸濁液の注入が困難等であるために、実用化が困難であった。   However, such an initial light control device is practically agglomeration of light control particles in a light control suspension, sedimentation due to its own weight, hue change due to heat, change in optical density, deterioration due to ultraviolet irradiation, base material However, it was difficult to put it to practical use because it was difficult to maintain the interval and to inject the light adjusting suspension into the interval.

ロバート・エル・サックス(Robert.L.Saxe)、エフ・シー・ローウェル(F.C.Lowell)、及びアール・アイ・トンプソン(R.I.Thompson)は、調光窓の初期問題点、即ち、光調整粒子の凝集及び沈降、光学密度の変化等を補完した調光硝子を用いた調光窓を開示している(例えば、特許文献2参照)。この特許等では、針状の光調整粒子、光調整粒子分散用の懸濁剤、分散調整剤及び安定剤等からなる液体状態の光調整懸濁液において、光調整粒子と懸濁剤の密度を殆ど同様に合わせて光調整粒子の沈降を防止しながら、分散調整剤を添加して光調整粒子の分散性を高めることにより光調整粒子の凝集を防止し、初期の問題点を解決している。   Robert L. Saxe, FC Lowell, and R. I. Thompson are the initial problems with dimming windows: Discloses a light control window using a light control glass supplemented with aggregation and sedimentation of light control particles, changes in optical density, and the like (see, for example, Patent Document 2). In this patent, etc., the density of the light adjusting particles and the suspending agent in the liquid state light adjusting suspension composed of the acicular light adjusting particles, the suspension for dispersing the light adjusting particles, the dispersion adjusting agent and the stabilizer, etc. In order to prevent the light adjustment particles from aggregating by adding a dispersion adjusting agent to improve the dispersibility of the light adjustment particles while preventing the precipitation of the light adjustment particles. Yes.

しかし、これらの調光硝子もやはり従来の調光硝子のように、2枚の透明導電性樹脂基材の間隙に液状の光調整懸濁液を封入した構造になっているため、調光硝子を大型化して製品を製造する場合、2枚の透明導電性樹脂基材の間隙への均一な懸濁液の封入が困難で、製品上下間の水圧差による下部の膨張現象が起こりやすくなる。また、外部環境、例えば、風圧によって基材の間隔が変化することにより、その結果、光学密度が変化して色相が不均質になり、又は透明導電性樹脂基材の間に液体を溜めるための周辺の密封材が破壊され、光調整材料が漏れる問題がある。また、紫外線による劣化、透明導電性樹脂基材の周辺部と中央部間の電圧降下により、応答時間にむらが発生する。   However, these light control glasses also have a structure in which a liquid light control suspension is sealed in the gap between two transparent conductive resin base materials, as in the case of conventional light control glasses. When manufacturing a product with a larger size, it is difficult to enclose a uniform suspension in the gap between the two transparent conductive resin base materials, and the lowering phenomenon tends to occur due to the difference in water pressure between the upper and lower parts of the product. In addition, since the interval between the substrates changes due to the external environment, for example, wind pressure, as a result, the optical density changes and the hue becomes inhomogeneous, or the liquid is accumulated between the transparent conductive resin substrates. There is a problem that the surrounding sealing material is broken and the light adjusting material leaks. Further, the response time varies due to deterioration due to ultraviolet rays and a voltage drop between the peripheral portion and the central portion of the transparent conductive resin substrate.

これを改善する方法として、液状の光調整懸濁液を硬化性の高分子樹脂の溶液と混合し、重合による相分離法、溶媒揮発による相分離法、又は温度による相分離法等を利用してフィルムを製造する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。   As a method for improving this, a liquid light control suspension is mixed with a curable polymer resin solution, and a phase separation method by polymerization, a phase separation method by solvent volatilization, or a phase separation method by temperature is used. A method of manufacturing a film has been proposed (see, for example, Patent Document 3).

米国特許第1,955,923号明細書US Pat. No. 1,955,923 米国特許第3,756,700号明細書US Pat. No. 3,756,700 特開2002−189123号公報JP 2002-189123 A

2枚の透明導電性樹脂基材の間隙に封入される硬化性の高分子媒体は、最終的な製品形態では硬化した状態で用いられる。例えば、硬化性の高分子媒体を紫外線により硬化する場合には、その硬化率は紫外線の照射量、硬化雰囲気の気体の種類、流量、硬化温度など様々な因子に依存する。従って、硬化性の高分子媒体を硬化する際、これらの因子をそれぞれ最適化する必要がある。しかしながら、これまでは、調光フィルム中の高分子媒体の硬化率を適切に測定することができず、信頼性評価の指標を定めるのが困難であった。   The curable polymer medium enclosed in the gap between the two transparent conductive resin substrates is used in a cured state in the final product form. For example, when a curable polymer medium is cured with ultraviolet rays, the curing rate depends on various factors such as the irradiation amount of ultraviolet rays, the type of gas in the curing atmosphere, the flow rate, and the curing temperature. Therefore, it is necessary to optimize each of these factors when curing a curable polymer medium. However, until now, the curing rate of the polymer medium in the light control film cannot be appropriately measured, and it has been difficult to determine an index for evaluating reliability.

そこで、本発明の課題は、迅速性、簡便性に優れた、調光フィルムにおける樹脂マトリックスの硬化率の測定方法、この測定方法を用いた調光フィルムの製造方法、及び調光フィルムを提供することにある。   Then, the subject of this invention is providing the measuring method of the hardening rate of the resin matrix in a light control film excellent in quickness and simplicity, the manufacturing method of a light control film using this measuring method, and a light control film. There is.

調光フィルムは、一般にロール・トゥ・ロール(Roll to Roll)の方法で作製されるため、調光層が2枚の透明導電性樹脂基材で挟持された状態で得られる。よって、透明導電性樹脂基材が付設された状態のまま、高分子媒体の硬化率を正確に測定することが望ましい。なお、透明導電性樹脂基材と調光層との密着性を高めることが望まれていることから、透明導電性樹脂基材を剥すことは困難であり、透明導電性樹脂基材を剥してから樹脂マトリックスの硬化率を測定する方法は迅速性、簡便性に劣る。   Since the light control film is generally produced by a roll to roll method, the light control layer is obtained in a state where the light control layer is sandwiched between two transparent conductive resin substrates. Therefore, it is desirable to accurately measure the curing rate of the polymer medium while the transparent conductive resin substrate is attached. Since it is desired to improve the adhesion between the transparent conductive resin substrate and the light control layer, it is difficult to remove the transparent conductive resin substrate. Therefore, the method for measuring the curing rate of the resin matrix is inferior in speediness and simplicity.

ここで、2枚の透明導電性樹脂基材に前記調光層が挟持された状態のまま、調光層に含まれる樹脂マトリックスの硬化率を測定する方法としては、赤外分光法による硬化率測定法が考えられる。しかしながら、400cm−1から4000cm−1の赤外領域では、調光フィルムを構成する多くの材料の吸収ピークが、アクリル基由来の吸収ピークと重なってしまい、未硬化に由来するアクリル基(重合性基)の吸収ピークを測定することが困難である。 Here, as a method of measuring the curing rate of the resin matrix contained in the light control layer while the light control layer is sandwiched between two transparent conductive resin base materials, the curing rate by infrared spectroscopy is used. A measurement method can be considered. However, in the infrared region from 400 cm -1 4000 cm -1, the absorption peak of the number of materials constituting the light control film, will overlap with the absorption peak derived from an acrylic group, an acryl group derived from the uncured (polymerizable Group) absorption peak is difficult to measure.

また、ラマン分光法による硬化率測定法も考えられるが、調光層に含まれる調光粒子による散乱が大きく、スペクトル全体が特徴の無いブロードなものになってしまうため、この硬化率測定も困難である。   A cure rate measurement method using Raman spectroscopy is also conceivable, but it is difficult to measure the cure rate because the entire spectrum is broad and unscattered by the light control particles contained in the light control layer. It is.

更に、前記2つの透明導電性樹脂基材に前記調光層が挟持された状態で硬化率を測定すると、透明導電性樹脂基材によって入射光の干渉が起こり、測定スペクトルにその干渉縞が重なるため、重合性基に由来する吸収ピークの増減が判別できなくなってしまうことが明らかとなった。   Furthermore, when the curing rate is measured in a state where the light control layer is sandwiched between the two transparent conductive resin base materials, interference of incident light occurs by the transparent conductive resin base material, and the interference fringes overlap the measurement spectrum. For this reason, it became clear that the increase or decrease in the absorption peak derived from the polymerizable group could not be discriminated.

以上の状況を踏まえ、発明者等が鋭意検討を重ねた結果、近赤外分光法を利用することにより上記課題を解決できることを見出した。特に、近赤外光が照射される領域の透明導電性樹脂基材の表面粗さを特定の範囲とすることで、干渉縞を抑えることができ、適切に樹脂マトリックスの硬化率を測定することができることを見出した。
したがって、本発明は以下のとおりである。
Based on the above situation, as a result of intensive studies by the inventors, it has been found that the above problem can be solved by using near infrared spectroscopy. In particular, interference fringes can be suppressed by appropriately setting the surface roughness of the transparent conductive resin base material in the region irradiated with near infrared light, and the curing rate of the resin matrix can be measured appropriately. I found out that I can.
Therefore, the present invention is as follows.

<1> 高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を2枚の透明導電性樹脂基材で挟持してなる調光フィルムにおける、前記樹脂マトリックスの硬化率を、近赤外分光スペクトルにより測定する方法であり、
近赤外光を調光フィルムに透過させたときに干渉縞が生ずる場合、下記式(I)を満たす前記透明導電性樹脂基材を2枚備えた第二の調光フィルムを用いて近赤外分光スペクトルを測定する、調光フィルム中の樹脂マトリックスの硬化率の測定方法。
式(I):
前記近赤外光の照射領域における表面粗さの最大高さ(Ry)≧前記干渉縞の波長λ×1/2
<1> A light control layer comprising a light control layer comprising a resin matrix which is a cured product of a polymer medium and a light control suspension dispersed in the resin matrix, sandwiched between two transparent conductive resin substrates. In the film, the curing rate of the resin matrix is a method of measuring by near infrared spectroscopy,
When interference fringes occur when near-infrared light is transmitted through the light control film, a near-red light is obtained using a second light control film provided with two transparent conductive resin substrates that satisfy the following formula (I). A method for measuring a curing rate of a resin matrix in a light control film, which measures an outer spectral spectrum.
Formula (I):
Maximum height (Ry) of surface roughness in the irradiation region of the near infrared light ≧ wavelength λ × 1/2 of the interference fringes

<2> 前記透明導電性樹脂基材を溶解可能な溶剤によって、前記近赤外光が照射される領域の前記2枚の透明導電性樹脂基材の表面を溶解して、前記式(I)を満たすように前記透明導電性樹脂基材の表面を加工する前記<1>に記載の調光フィルムの硬化率の測定方法。 <2> The surface of the two transparent conductive resin substrates in the region irradiated with the near infrared light is dissolved by a solvent capable of dissolving the transparent conductive resin substrate, and the formula (I) The measuring method of the curing rate of the light control film as described in said <1> which processes the surface of the said transparent conductive resin base material so that it may satisfy | fill.

<3> 前記2枚の透明導電性樹脂基材がポリエチレンテレフタレートで構成される場合、前記溶剤がヘキサフルオロイソプロパノールである前記<2>に記載の調光フィルムの硬化率の測定方法。 <3> The method for measuring a curing rate of a light control film according to <2>, wherein the solvent is hexafluoroisopropanol when the two transparent conductive resin base materials are made of polyethylene terephthalate.

<4> 前記近赤外光を、前記調光フィルムの面に対して30〜60°で入射する前記<1>〜<3>のいずれか1項に記載の調光フィルムの硬化率の測定方法。 <4> Measurement of the curing rate of the light control film according to any one of <1> to <3>, in which the near infrared light is incident on the surface of the light control film at 30 to 60 °. Method.

<5> 高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材で挟持する第一の調光フィルムを作製する工程と、
前記第一の調光フィルムに前記近赤外光を透過したときに干渉縞が発生する場合、下記式(I)を満たす前記透明導電性樹脂基材を2枚備えた第二の調光フィルムを作製する工程と、
前記第二の調光フィルムに近赤外光を透過させて近赤外分光スペクトルを測定し、前記第二の調光フィルム中の前記樹脂マトリックスの硬化率を測定する工程と、
前記測定により得られた前記硬化率を、予め求めておいた前記高分子媒体の硬化条件と硬化率との関係に当てはめて、予め定めた硬化率の範囲内となる前記高分子媒体の硬化条件を導き出す工程と、
前記導き出された硬化条件で前記高分子媒体を硬化した樹脂マトリックスと、前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液と、を含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材で挟持した第三の調光フィルムを作製する工程と、
を有する調光フィルムの製造方法。
式(I):
前記近赤外光の照射領域における表面粗さの最大高さ(Ry)≧前記干渉縞の波長λ×1/2
<5> A first light-controlling layer including a resin matrix that is a cured product of a polymer medium and a light-controlling suspension dispersed in the resin matrix, sandwiched between two transparent conductive resin substrates Producing a light control film;
When interference fringes are generated when the near-infrared light is transmitted through the first light control film, a second light control film including two transparent conductive resin substrates satisfying the following formula (I) A step of producing
A step of transmitting near infrared light to the second light control film to measure a near infrared spectrum, and measuring a curing rate of the resin matrix in the second light control film;
Applying the curing rate obtained by the measurement to the previously determined relationship between the curing condition and the curing rate of the polymer medium, the curing condition of the polymer medium that falls within a predetermined curing rate range The process of deriving
A dimming layer comprising a resin matrix obtained by curing the polymer medium under the derived curing conditions, and a light control suspension dispersed in the resin matrix is formed of two transparent conductive resin substrates. Producing a sandwiched third light control film;
The manufacturing method of the light control film which has these.
Formula (I):
Maximum height (Ry) of surface roughness in the irradiation region of the near infrared light ≧ wavelength λ × 1/2 of the interference fringes

<6> 前記第二の調光フィルムを作製する工程において、前記透明導電性樹脂基材を溶解可能な溶剤により、前記第一の調光フィルムの2枚の透明導電性樹脂基材の表面における前記近赤外光が照射される領域を溶解して、前記式(I)を満たすように前記透明導電性樹脂基材の表面を加工する前記<5>に記載の調光フィルムの製造方法。 <6> In the step of producing the second light control film, a solvent capable of dissolving the transparent conductive resin base material on the surface of the two transparent conductive resin base materials of the first light control film. The manufacturing method of the light control film as described in said <5> which melt | dissolves the area | region irradiated with the said near-infrared light, and processes the surface of the said transparent conductive resin base material so that the said Formula (I) may be satisfy | filled.

<7> 前記2枚の透明導電性樹脂基材がポリエチレンテレフタレートで構成される場合、前記溶剤がヘキサフルオロイソプロパノールである前記<6>に記載の調光フィルムの製造方法。 <7> The method for producing a light control film according to <6>, wherein when the two transparent conductive resin base materials are made of polyethylene terephthalate, the solvent is hexafluoroisopropanol.

<8> 前記硬化率を測定する工程において、前記近赤外光を前記第二の調光フィルムの面に対して30〜60°で入射する前記<5>〜<7>のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。 <8> In the step of measuring the curing rate, any one of the above <5> to <7>, wherein the near infrared light is incident on the surface of the second light control film at 30 to 60 °. The manufacturing method of the light control film as described in 1 ..

<9> 前記予め定めた硬化率が、75〜100%である前記<5>〜<8>のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。 <9> The method for producing a light control film according to any one of <5> to <8>, wherein the predetermined curing rate is 75 to 100%.

<10> 前記高分子媒体が(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン構造を有し、前記(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数が、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%である前記<5>〜<9>のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。 <10> The polymer medium has a polysiloxane structure having a (meth) acryloyl group, and the number of repeating units having the (meth) acryloyl group is 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units. The manufacturing method of the light control film of any one of said <5>-<9>.

<11> 前記高分子媒体の重量平均分子量が35,000〜60,000である前記<5>〜<10>のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。 <11> The method for producing a light control film according to any one of <5> to <10>, wherein the polymer medium has a weight average molecular weight of 35,000 to 60,000.

<12> 2枚の透明導電性樹脂基材と、
前記2枚の透明導電性樹脂基材に挟持された、高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層と、を有し、
前記高分子媒体が(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン構造を有し、前記(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数が、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%であり、
前記<1>〜<4>のいずれか1項に記載の硬化率の測定方法により得た前記樹脂マトリックスの硬化率が、75〜100%である調光フィルム。
<12> Two transparent conductive resin base materials;
A light control layer including a resin matrix, which is a cured product of a polymer medium, sandwiched between the two transparent conductive resin substrates, and a light control suspension dispersed in the resin matrix; ,
The polymer medium has a polysiloxane structure having a (meth) acryloyl group, and the number of repeating units having the (meth) acryloyl group is 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units,
The light control film whose cure rate of the said resin matrix obtained by the measuring method of the cure rate of any one of said <1>-<4> is 75 to 100%.

本発明によれば、迅速性、簡便性に優れた、調光フィルムにおける樹脂マトリックスの硬化率の測定方法を提供することができる。また、この硬化率の測定方法を用いることで、製造管理に優れた調光フィルムの製造方法を提供することができる。更に、この硬化率の測定方法を用いることで、耐熱性に優れた調光フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the measuring method of the hardening rate of the resin matrix in a light control film excellent in quickness and simplicity can be provided. Moreover, the manufacturing method of the light control film excellent in manufacture control can be provided by using the measuring method of this hardening rate. Furthermore, the light control film excellent in heat resistance can be provided by using the measuring method of this hardening rate.

本発明にかかる調光フィルムの一態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the one aspect | mode of the light control film concerning this invention. 図2(a)は、図1の調光フィルムの電界が印加されていない場合の作動を説明するための概略断面図であり、図2(b)は、電界が印加されていないときの液状の光調整懸濁液の液滴3の様子を示す図である。2A is a schematic cross-sectional view for explaining the operation when the electric field of the light control film of FIG. 1 is not applied, and FIG. 2B is a liquid state when the electric field is not applied. It is a figure which shows the mode of the droplet 3 of this light adjustment suspension liquid. 図3(a)は、図1の調光フィルムの電界が印加されている場合の作動を説明するための概略断面図であり、図3(b)は、電界が印加されているときの液状の光調整懸濁液の液滴3の様子を示す図である。3A is a schematic cross-sectional view for explaining the operation when the electric field of the light control film of FIG. 1 is applied, and FIG. 3B is a liquid state when the electric field is applied. It is a figure which shows the mode of the droplet 3 of this light adjustment suspension liquid. 本発明にかかる調光フィルムの端部の状態の一例を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating an example of the state of the edge part of the light control film concerning this invention. 表面粗さの指標の一つである最大高さRyを説明する図である。It is a figure explaining maximum height Ry which is one of the indices of surface roughness. 本発明の調光フィルムの製造方法の一例の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of an example of the manufacturing method of the light control film of this invention. 実施例2、5〜8、及び比較例3、4における紫外線の照射量と、本発明の方法で測定された硬化率の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the irradiation amount of the ultraviolet-ray in Example 2, 5-8, and Comparative Examples 3 and 4, and the hardening rate measured by the method of this invention.

本発明において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
また本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
更に本明細書において、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を意味し、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を意味し、(メタ)アクリル酸は、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方を意味する。
In the present invention, the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes.
In the present specification, numerical ranges indicated using “to” indicate ranges including the numerical values described before and after “to” as the minimum value and the maximum value, respectively.
Further, in the present specification, (meth) acryloyl group means at least one of acryloyl group and methacryloyl group, (meth) acrylate means at least one of acrylate and methacrylate, and (meth) acrylic acid means acrylic acid. And at least one of methacrylic acid.

本発明は、高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材で挟持してなる調光フィルムにおける、前記樹脂マトリックスの硬化率を測定する方法に関する。
まず始めに、測定対象である調光フィルムについて説明し、次に、調光フィルムの調光層における樹脂マトリックスの硬化率の測定方法を説明する。そして、この硬化率の測定方法を用いた調光フィルムの製造方法について説明する。
In the present invention, a light control layer including a resin matrix that is a cured product of a polymer medium and a light control suspension dispersed in the resin matrix is sandwiched between two transparent conductive resin substrates. The present invention relates to a method for measuring a curing rate of the resin matrix in a light control film.
First, a light control film as a measurement target will be described, and then a method for measuring the curing rate of the resin matrix in the light control layer of the light control film will be described. And the manufacturing method of the light control film using this measuring method of a cure rate is demonstrated.

<調光フィルム>
本発明の調光フィルムは、2枚の透明導電性樹脂基材(以下「基材」と称する場合がある)と、前記2枚の基材に挟持された調光層と、を有する。前記調光層は、樹脂マトリックスと、前記樹脂マトリックス中に分散した光調整懸濁液と、を含む。
<Light control film>
The light control film of the present invention has two transparent conductive resin base materials (hereinafter sometimes referred to as “base materials”) and a light control layer sandwiched between the two base materials. The light control layer includes a resin matrix and a light control suspension dispersed in the resin matrix.

前記調光層は、一般に調光材料を用いて形成することが可能である。調光材料は、エネルギー線を照射することにより硬化する高分子媒体と、光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散した光調整懸濁液とを含有する。光調整懸濁液に含まれる光調整粒子は、棒状又は針状であることが好ましい。   The light control layer can generally be formed using a light control material. The light-modulating material contains a polymer medium that cures when irradiated with energy rays, and a light-conditioning suspension that is dispersed in the dispersion medium in a state in which the light-adjusting particles can flow. The light adjusting particles contained in the light adjusting suspension are preferably rod-shaped or needle-shaped.

前記2枚の透明導電性樹脂基材の間に前記調光材料を付与した後に、調光材料中の高分子媒体を硬化させることにより、この高分子媒体が硬化した樹脂マトリックス中に光調整懸濁液が分散した調光層が形成される。   After the light control material is applied between the two transparent conductive resin base materials, the polymer medium in the light control material is cured, whereby light adjustment suspension is formed in the cured resin matrix. A light control layer in which the turbid liquid is dispersed is formed.

このように、調光フィルムの調光層では、液状の光調整懸濁液が、高分子媒体が硬化した固体状の樹脂マトリックス内に微細な液滴の形態で分散されている。したがって、前記光調整懸濁液中の前記高分子媒体は、高分子媒体及びその硬化物と相分離しうるものであることが好ましい。   As described above, in the light control layer of the light control film, the liquid light control suspension is dispersed in the form of fine droplets in the solid resin matrix in which the polymer medium is cured. Therefore, it is preferable that the polymer medium in the light control suspension can be phase-separated from the polymer medium and a cured product thereof.

ここで、図1に、本発明の調光フィルムの一態様を構造概略図として示す。図1に示す調光フィルムでは、透明導電膜5aがコーティングされた透明樹脂基材5bからなる透明導電性樹脂基材4の2枚の間に、調光層1が挟持されている。調光層1と透明導電性樹脂基材4の間にはプライマー層6が設けられている。   Here, in FIG. 1, an embodiment of the light control film of the present invention is shown as a structural schematic diagram. In the light control film shown in FIG. 1, the light control layer 1 is sandwiched between two sheets of a transparent conductive resin substrate 4 made of a transparent resin substrate 5b coated with a transparent conductive film 5a. A primer layer 6 is provided between the light control layer 1 and the transparent conductive resin substrate 4.

調光層1は、高分子媒体を硬化させたフィルム状の樹脂マトリックス2と、樹脂マトリックス2内に液滴3の形態で分散されている液状の光調整懸濁液と、を含む。光調整懸濁液の液滴3には、光調整粒子10が分散媒9の中に分散されている(図2(b)等参照)。   The light control layer 1 includes a film-like resin matrix 2 in which a polymer medium is cured, and a liquid light-conditioning suspension dispersed in the form of droplets 3 in the resin matrix 2. In the droplet 3 of the light adjustment suspension, the light adjustment particles 10 are dispersed in the dispersion medium 9 (see FIG. 2B and the like).

調光フィルムは、スイッチ8の切り換えにより、電源7と2枚の透明導電膜5aの接続、非接続を行う。   The light control film connects or disconnects the power source 7 and the two transparent conductive films 5 a by switching the switch 8.

図2(a)は、図1に示した調光フィルムの作動を説明するための概略断面図であり、スイッチ8が切られ、電界が印加されていない状態を示す。この状態では、液滴3中に分散している光調整粒子10は、図2(b)に示すようにブラウン運動により、それぞれランダムな方向を向いている。そのため、入射光11は光調整粒子10に吸収、散乱又は反射され、透過できない。   FIG. 2A is a schematic cross-sectional view for explaining the operation of the light control film shown in FIG. 1, and shows a state where the switch 8 is turned off and no electric field is applied. In this state, the light adjusting particles 10 dispersed in the droplet 3 are each directed in a random direction by Brownian motion as shown in FIG. Therefore, the incident light 11 is absorbed, scattered or reflected by the light adjusting particles 10 and cannot be transmitted.

一方、図3(a)は、図1の調光フィルムの電界が印加されている状態の作動を説明するための概略断面図である。図3(a)に示すように、スイッチ8を接続して電界を印加すると、電気的双極子モーメントをもつ光調整粒子10が、印加された電界によって形成される電場と平行に配列する。そのため入射光11は配列した光調整粒子10間を通過するようになる。このようにして、液滴3が入射光に対して透明な状態に転換され、視野角度による散乱、又は透明性低下が殆どない状態で入射光を透過させる。透明な状態における光透過率の増進と、着色された状態における鮮明度の増進のためには、液滴3の形態で分散されている液状の光調整懸濁液の屈折率と、樹脂マトリックス2の屈折率を一致させることが好ましい。   On the other hand, Fig.3 (a) is a schematic sectional drawing for demonstrating the action | operation of the state in which the electric field of the light control film of FIG. 1 is applied. As shown in FIG. 3A, when an electric field is applied by connecting the switch 8, the light adjusting particles 10 having an electric dipole moment are arranged in parallel with the electric field formed by the applied electric field. Therefore, the incident light 11 passes between the arranged light adjusting particles 10. In this way, the droplet 3 is converted to a transparent state with respect to the incident light, and the incident light is transmitted in a state where there is almost no scattering due to the viewing angle or a decrease in transparency. In order to increase the light transmittance in the transparent state and the sharpness in the colored state, the refractive index of the liquid light-adjusting suspension dispersed in the form of the droplet 3 and the resin matrix 2 It is preferable that the refractive indexes of these are matched.

以下、本発明の調光フィルムの各層構成について説明する。   Hereinafter, each layer structure of the light control film of this invention is demonstrated.

〔透明導電性樹脂基材〕
透明導電性樹脂基材としては、一般的に、透明樹脂基材に、光透過率が80%以上の透明導電膜(ITO、SnO、In、有機導電膜等の膜)がコーティングされている表面抵抗値が3〜3000Ωの透明導電性樹脂基材を使用することができる。なお、透明樹脂基材の光透過率はJIS K7105の全光線透過率の測定法に準拠して測定することができる。また、透明樹脂基材としては、例えば、高分子フィルム等を使用することができる。
[Transparent conductive resin substrate]
As a transparent conductive resin base material, a transparent conductive film (film such as ITO, SnO 2 , In 2 O 3 , organic conductive film) having a light transmittance of 80% or more is generally coated on the transparent resin base material. A transparent conductive resin substrate having a surface resistance value of 3 to 3000Ω can be used. In addition, the light transmittance of a transparent resin base material can be measured based on the measuring method of the total light transmittance of JISK7105. Moreover, as a transparent resin base material, a polymer film etc. can be used, for example.

上記高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル系フィルム、ポリプロピレン等のポリオレフィン系フィルム、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂系のフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム等の樹脂フィルムが挙げられるが、ポリエチレンテレフタレートフィルムが、透明性に優れ、成形性、接着性、加工性等に優れるので好ましい。   Examples of the polymer film include polyester films such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin films such as polypropylene, polyvinyl chloride, acrylic resin films, polyether sulfone films, polyarylate films, and polycarbonate films. The polyethylene terephthalate film is preferable because it is excellent in transparency and excellent in moldability, adhesiveness, workability, and the like.

透明樹脂基材にコーティングされる透明導電膜の厚みは、10〜5,000nmであることが好ましく、透明樹脂基材の厚みは特に制限はない。例えば、高分子フィルムの場合には10〜200μmが好ましい。   The thickness of the transparent conductive film coated on the transparent resin substrate is preferably 10 to 5,000 nm, and the thickness of the transparent resin substrate is not particularly limited. For example, in the case of a polymer film, 10 to 200 μm is preferable.

透明樹脂基材の間隔が狭く、異物質の混入等により発生する短絡現象を防止するために、透明導電膜の上に数nm〜1μm程度の厚さの透明絶縁層が形成されている透明樹脂導電性樹脂基材を使用してもよい。また、本発明の調光フィルムを反射型の調光窓に利用する場合(例えば、自動車用リアビューミラー等)は、反射体であるアルミニウム、金、又は銀のような導電性金属の薄膜を電極として直接用いてもよい。   A transparent resin in which a transparent insulating substrate having a thickness of several nm to 1 μm is formed on a transparent conductive film in order to prevent a short-circuit phenomenon caused by mixing of different substances, etc. A conductive resin substrate may be used. When the light control film of the present invention is used for a reflection type light control window (for example, a rear view mirror for automobiles), a thin film made of a conductive metal such as aluminum, gold, or silver which is a reflector is used as an electrode. May be used directly.

〔プライマー層〕
本発明の調光フィルムは、調光層と基材との密着性を向上させるためのプライマー層を備えていてもよい。プライマー層は、調光層に対向する基材の表面に設けられる。プライマー層は一方の基材のみに設けられていても、2枚の基材ともに設けられていてもよい。
[Primer layer]
The light control film of this invention may be equipped with the primer layer for improving the adhesiveness of a light control layer and a base material. The primer layer is provided on the surface of the base material facing the light control layer. The primer layer may be provided only on one base material or may be provided on both base materials.

上記プライマー層は、ペンタエリスリトール骨格を含有するウレタンアクリレートを含有する材料、分子内に水酸基を有する(メタ)アクリレートを含有する材料、金属酸化物微粒子を有機バインダー樹脂に分散させた材料、分子内に1つ以上の重合性基を有するリン酸エステル、アミノ基を有するシランカップリング剤等からなる薄膜で形成されるのが好ましい。   The primer layer includes a material containing a urethane acrylate containing a pentaerythritol skeleton, a material containing a (meth) acrylate having a hydroxyl group in the molecule, a material in which metal oxide fine particles are dispersed in an organic binder resin, The thin film is preferably formed of a phosphate ester having one or more polymerizable groups, a silane coupling agent having an amino group, or the like.

本発明における透明導電性樹脂基材のプライマー処理(プライマー層の形成)は、例えば、プライマー層を形成する材料を、バーコーター法、マイヤーバーコーター法、アプリケーター法、ドクターブレード法、ロールコーター法、ダイコーター法、コンマコーター法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独又は組み合わせて用いて、透明導電性樹脂基材に塗布することにより行うことができる。   The primer treatment (formation of the primer layer) of the transparent conductive resin substrate in the present invention includes, for example, a material for forming the primer layer, a bar coater method, a Mayer bar coater method, an applicator method, a doctor blade method, a roll coater method, A transparent conductive resin group using a die coater method, a comma coater method, a gravure coating method, a micro gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, a curtain coating method, etc. alone or in combination. This can be done by applying to the material.

なお、塗布する際は必要に応じて適当な溶剤で希釈し、プライマー層を形成する材料の溶液を用いてもよい。溶剤を用いた場合には、透明導電性樹脂基材上に塗布した後乾燥を要する。尚、プライマー層となる塗膜は必要に応じて透明導電性樹脂基材の片面のみ(透明導電膜側)に形成してもよいし、含浸法やディップコート法によって両面に形成してもよい。   In addition, when apply | coating, you may dilute with a suitable solvent as needed, and you may use the solution of the material which forms a primer layer. When a solvent is used, drying is required after coating on the transparent conductive resin substrate. In addition, the coating film used as a primer layer may be formed only on one side (transparent conductive film side) of the transparent conductive resin base material as necessary, or may be formed on both sides by an impregnation method or a dip coating method. .

プライマー層形成に用いる溶剤としては、プライマー層を形成する材料を溶解あるいは分散し、プライマー層形成後に乾燥等により除去できるものであればよく、イソプロピルアルコール、エタノール、メタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、アニソール、メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチルジグリコール、ジメチルジグリコール、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル等を用いることができ、これらの混合溶媒でもよい。   The solvent used for forming the primer layer may be any solvent that dissolves or disperses the material forming the primer layer and can be removed by drying or the like after forming the primer layer. Isopropyl alcohol, ethanol, methanol, 1-methoxy-2-propanol 2-methoxyethanol, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, anisole, methyl ethyl ketone, acetone, tetrahydrofuran, toluene, heptane, cyclohexane, ethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl diglycol, dimethyl diglycol, isoamyl acetate, hexyl acetate, etc. These solvents can be used.

〔調光層〕
本発明における調光層は、樹脂マトリックスと該樹脂マトリックス中に分散した光調整懸濁液とを含む調光材料を用いて形成される。なお、樹脂マトリックスは高分子媒体の硬化物であり、光調整懸濁液は光調整粒子が流動可能な状態で分散媒中に分散したものである。高分子媒体及び分散媒(光調整懸濁液中の分散媒)としては、高分子媒体及びその硬化物と分散媒とが、少なくともフィルム化したときに互いに相分離しうるものを用いる。互いに非相溶又は部分相溶性の高分子媒体と分散媒とを組み合わせて用いることが好ましい。
[Light control layer]
The light control layer in the present invention is formed by using a light control material including a resin matrix and a light control suspension dispersed in the resin matrix. The resin matrix is a cured product of a polymer medium, and the light adjustment suspension is a dispersion in a dispersion medium in a state where the light adjustment particles can flow. As the polymer medium and the dispersion medium (dispersion medium in the light control suspension), those in which the polymer medium and its cured product and the dispersion medium can be phase-separated at least when they are formed into a film are used. It is preferable to use a combination of an incompatible or partially compatible polymer medium and a dispersion medium.

(高分子媒体)
本発明において用いられる高分子媒体は、(A)エチレン性不飽和結合を有する置換基を持つ樹脂及び(B)光重合開始剤を含み、紫外線、可視光線、電子線等のエネルギー線を照射することにより硬化するものが挙げられる。高分子媒体はエネルギー線が照射されることにより硬化し、樹脂マトリックスを形成する。
(Polymer medium)
The polymer medium used in the present invention includes (A) a resin having a substituent having an ethylenically unsaturated bond and (B) a photopolymerization initiator, and irradiates energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, and electron beams. Can be cured. The polymer medium is cured by irradiation with energy rays to form a resin matrix.

(A)エチレン性不飽和結合を有する樹脂としては、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂等が、合成容易性、調光性能、耐久性等の点から好ましい。これらの樹脂は、置換基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基を有することが、調光性能、耐久性等の点から好ましい。   (A) As resin which has an ethylenically unsaturated bond, silicone type resin, acrylic resin, polyester resin, etc. are preferable from points, such as synthetic | combination ease, light control performance, and durability. These resins are substituted with alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, amyl group, isoamyl group, hexyl group, and cyclohexyl group, and phenyl group. It is preferable to have an aryl group such as a naphthyl group from the viewpoints of light control performance and durability.

前記シリコーン系樹脂の具体例としては、例えば、特公昭53−36515号公報、特公昭57−52371号公報、特公昭58−53656号公報、特公昭61−17863号公報等に記載の樹脂を挙げることができる。   Specific examples of the silicone resin include resins described in JP-B-53-36515, JP-B-57-52371, JP-B-58-53656, JP-B-61-17863, and the like. be able to.

前記シリコーン系樹脂は、例えば、両末端シラノール基含有ポリジメチルシロキサン、両末端シラノール基含有ポリジフェニルシロキサン、両末端シラノール基含有ポリジフェニルシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマー、両末端シラノール基含有ポリメチルフェニルシロキサン等の両末端シラノール基含有シロキサンポリマー;トリメチルエトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラン;(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン等のエチレン性不飽和結合含有シラン化合物等を、2−エチルヘキサン錫等の有機錫系触媒の存在下で、脱水素縮合反応及び脱アルコール反応させて合成される。シリコーン系樹脂の形態としては、無溶剤型が好ましく用いられる。すなわち、シリコーン系樹脂の合成に溶剤を用いた場合には、合成反応後に溶剤を除去することが好ましい。 Examples of the silicone resin include polydimethylsiloxane having both ends silanol groups, polydiphenylsiloxane having both ends silanol groups, polydiphenylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer having both ends silanol groups, and polymethylphenylsiloxane having both ends silanol groups. Silanol group-containing siloxane polymers at both terminals; trialkylalkoxysilanes such as trimethylethoxysilane; ethylenically unsaturated bond-containing silane compounds such as (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane; and organic tin such as 2-ethylhexanetin It is synthesized by dehydrogenative condensation reaction and dealcoholization reaction in the presence of a system catalyst. As the silicone resin, a solventless type is preferably used. That is, when a solvent is used for the synthesis of the silicone resin, it is preferable to remove the solvent after the synthesis reaction.

前記高分子媒体が(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン構造を有するシリコーン系樹脂の場合、前記(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数は、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%であることが好ましく、1.5〜4.5質量%であることがより好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数が、1.3質量%以上の場合には、硬化後の樹脂マトリックスを含有する調光フィルムの耐構熱性に優れ、5.0質量%以下の場合にも硬化後の樹脂マトリックスを含有する調光フィルムの耐構熱性に優れる。   When the polymer medium is a silicone resin having a polysiloxane structure having a (meth) acryloyl group, the number of repeating units having the (meth) acryloyl group is 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units. It is preferable that it is 1.5-4.5 mass%. When the number of repeating units having a (meth) acryloyl group is 1.3% by mass or more, the light control film containing the cured resin matrix is excellent in heat resistance and is 5.0% by mass or less. In addition, the light control film containing the cured resin matrix is excellent in heat resistance.

(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン構造を形成するためのモノマーとしては、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−メタクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3−アクリロキシシプロピル)メチルジエトキシシラン、(3−メタクリロキシプロピル)メチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。   Monomers for forming a polysiloxane structure having a (meth) acryloyl group include (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) methyldimethoxysilane, and (3-acryloxypropyl) methyl. Diethoxysilane, (3-methacryloxypropyl) methyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxy Examples include silane.

前記アクリル系樹脂は、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸アリールエステル、(メタ)アクリル酸ベンジル、スチレン等の主鎖形成モノマーと、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸イソシアナトエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル等のエチレン性不飽和結合導入用官能基含有モノマー等を共重合して、プレポリマーを一旦合成し、次いで、このプレポリマーの官能基と反応させるべく(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸イソシアナトエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸等のモノマーを前記プレポリマーに付加反応させることにより得ることができる。   The acrylic resin includes, for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, (meth) acrylic acid aryl ester, (meth) acrylic acid benzyl, main chain forming monomers such as styrene, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic First, a prepolymer is synthesized by copolymerizing ethylenically unsaturated bond-introducing functional group-containing monomers such as hydroxyethyl acid, isocyanatoethyl (meth) acrylate, and glycidyl (meth) acrylate. By reacting monomers such as glycidyl (meth) acrylate, isocyanatoethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, etc. to the prepolymer to react with the functional group of the polymer Can be obtained.

また、前記ポリエステル樹脂は、特に制限はなく、公知の方法で容易に製造できるものが挙げられる。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the said polyester resin, What can be easily manufactured by a well-known method is mentioned.

(A)エチレン性不飽和結合を有する樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって得られるポリスチレン換算の重量平均分子量は、35,000〜60,000であることが好ましく、37,000〜58,000であることがさらに好ましく、40,000〜55,000であることがより好ましい。重量平均分子量が35,000以上の場合には、硬化後の樹脂マトリックスを含有する調光フィルムの耐構熱性に優れ、60,000以下の場合には、硬化前の樹脂マトリックスの流動性に優れる。   (A) The polystyrene-converted weight average molecular weight obtained by gel permeation chromatography of a resin having an ethylenically unsaturated bond is preferably 35,000 to 60,000, and 37,000 to 58,000. Is more preferable, and it is more preferable that it is 40,000-55,000. When the weight average molecular weight is 35,000 or more, the heat control property of the light control film containing the cured resin matrix is excellent, and when it is 60,000 or less, the fluidity of the resin matrix before curing is excellent. .

エチレン性不飽和結合を有する樹脂のエチレン性不飽和結合を含有する繰り返し単位数は、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%であることが好ましく、1.5〜4.5質量%であることがさらに好ましい。エチレン性不飽和結合を含有する繰り返し単位数が上記範囲内にあると、硬化後の樹脂マトリックスを含有する調光フィルムの耐熱性に優れる。   The number of repeating units containing an ethylenically unsaturated bond of the resin having an ethylenically unsaturated bond is preferably 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units, and 1.5 to 4.5% by mass. % Is more preferable. When the number of repeating units containing an ethylenically unsaturated bond is in the above range, the heat resistance of the light control film containing the cured resin matrix is excellent.

(A)エチレン性不飽和結合を有する樹脂のエチレン性不飽和結合の含有率は、NMRの水素の積分強度比から求められる。また、仕込み原料の樹脂への転化率がわかる場合は計算によっても求められる。   (A) The content of ethylenically unsaturated bonds in a resin having an ethylenically unsaturated bond is determined from the integral intensity ratio of hydrogen in NMR. Further, when the conversion rate of the charged raw material to the resin is known, it can also be obtained by calculation.

高分子媒体に用いる、(B)光重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始し得るものであればよい。(B)光重合開始剤としては例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   As the (B) photopolymerization initiator used in the polymer medium, any photopolymerization initiator may be used as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals and initiate polymerization of the polymerizable compound. (B) Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3 -Methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2- Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, -Isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- ( 2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and the like, but are not limited thereto.

光重合開始剤の市販品としては、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア500、イルガキュア2959、イルガキュア127、イルガキュア754、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア379EG、イルガキュア1300、イルガキュア819、イルガキュア819DW、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュア784、イルガキュアOXE01、イルガキュアOXE02、イルガキュア250、イルガキュアPAG103、イルガキュアPAG108、イルガキュアPAG121、イルガキュアPAG203、ダロキュア1173、ダロキュアMBF、ダロキュアTPO、ダロキュア4265、ダロキュアEDB、ダロキュアEHA(以上、BASFジャパン(株)製)、C0014、B1225、D1640、D2375、D2963、M1245、B0103、C1105、C0292、E0063、P0211、I0678、P1410、P1377、M1209、F0362、B0139、B1275、B0481、D1621、B1267、B1164、C0136、C1485、I0591、F0021、A0061、B0050、B0221、B0079、B0222、B1019、B1015、B0942、B0869、B0083、B2380、B2381、D1801、D3358、D2248、D2238、D2253、B1231、M0792、A1028、B0486、T0157、T2041、T2042、T1188、T1608(以上、東京化成工業(株)製)が挙げられる。   Commercially available photopolymerization initiators include IRGACURE 651, IRGACURE 184, IRGACURE 500, IRGACURE 2959, IRGACURE 127, IRGACURE 754, IRGACURE 907, IRGACURE 369, IRGACURE 379, IRGACURE 379EG, IRGACURE 1300, IRGACURE 819D, IRGACURE 819D, IRGACURE 819D 1800, Irgacure 1870, Irgacure 784, Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure 250, Irgacure PAG103, Irgacure PAG108, Irgacure PAG121, Irgacure PAG203, Darocur 1173, Darocure MBF, Darocure T65, FDA The Manufactured by Bread Co., Ltd.), C0014, B1225, D1640, D2375, D2963, M1245, B0103, C1105, C0292, E0063, P0211, I0678, P1410, P1377, M1209, F0362, B0139, B1275, B0481, D1621, B1267, B1164 , C0136, C1485, I0591, F0021, A0061, B0050, B0221, B0079, B0222, B1019, B1015, B0942, B0869, B0083, B2380, B2381, D1801, D3358, D2248, D2238, D2253, B1231, M0792, 04 T0157, T2041, T2042, T1188, T1608 (above, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ), And the like.

(B)光重合開始剤の使用量は、上記(A)樹脂100質量部に対して0.1〜20質量部であることが好ましく、0.2〜10質量部であることがより好ましい。   (B) It is preferable that it is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said (A) resin, and, as for the usage-amount of a photoinitiator, it is more preferable that it is 0.2-10 mass parts.

また、上記(A)エチレン性不飽和結合を有する置換基をもつ樹脂の他に、有機溶剤可溶型樹脂又は熱可塑性樹脂、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が1,000〜100,000のポリアクリル酸、ポリメタクリル酸等も高分子媒体の構成材料として併用することができる。   In addition to the above-mentioned (A) resin having a substituent having an ethylenically unsaturated bond, the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by an organic solvent-soluble resin or thermoplastic resin, for example, gel permeation chromatography is 1,000 to 100,000 polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and the like can also be used together as a constituent material of the polymer medium.

また、高分子媒体中には、ジブチル錫ジラウレート等の着色防止剤等の添加物を必要に応じて添加してもよい。さらに、高分子媒体には溶剤が含まれていてもよく、溶剤としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルアセテート、エタノール、メタノール、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル等を用いることができる。   Moreover, you may add additives, such as coloring inhibitors, such as dibutyltin dilaurate, in a polymer medium as needed. Furthermore, the polymer medium may contain a solvent, and as the solvent, tetrahydrofuran, toluene, heptane, cyclohexane, ethyl acetate, ethanol, methanol, isoamyl acetate, hexyl acetate, or the like can be used.

(光調整懸濁液)
本発明に係る光調整懸濁液は、分散媒9中に光調整粒子10が流動可能に分散されてなる。
(Light control suspension)
The light adjusting suspension according to the present invention is obtained by dispersing light adjusting particles 10 in a dispersion medium 9 so as to be flowable.

−分散媒−
光調整懸濁液中の分散媒としては、上記高分子媒体及びその硬化物である樹脂マトリックスと相分離するものが用いられる。好ましくは、光調整粒子を流動可能な状態で分散させる役割を果たし、また、光調整粒子に選択的に付着被覆し、高分子媒体との相分離の際に光調整粒子が相分離された液滴相に移動するように作用する分散媒が好ましい。また、電気導電性がなく、高分子媒体とは親和性がなく、調光フィルムとした際に高分子媒体から形成される樹脂マトリックスとの屈折率が近似した分散媒が好ましい。このような性質を有する分散媒として、液状共重合体を使用する。
-Dispersion medium-
As the dispersion medium in the light-adjusting suspension, one that is phase-separated from the polymer medium and a resin matrix that is a cured product thereof is used. Preferably, the light adjusting particles serve to disperse the light adjusting particles in a flowable state, and are selectively attached and coated on the light adjusting particles so that the light adjusting particles are phase-separated during phase separation from the polymer medium. A dispersion medium that acts to move to the droplet phase is preferred. Further, a dispersion medium that is not electrically conductive, has no affinity with a polymer medium, and has a refractive index approximate to that of a resin matrix formed from the polymer medium when a light control film is formed is preferable. A liquid copolymer is used as a dispersion medium having such properties.

分散媒としては、例えば、フルオロ基及び/又は水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーが好ましく、フルオロ基及び水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーがより好ましい。このような共重合体を使用すると、フルオロ基、水酸基のどちらか1つのモノマー単位は光調整粒子に親和性があり、残りのモノマー単位は高分子媒体中で光調整懸濁液が液滴として安定に維持するために働くことから、光調整懸濁液内に光調整粒子が分散しやすく、相分離の際に光調整粒子が相分離される液滴内に誘導されやすい。   As the dispersion medium, for example, a (meth) acrylic acid ester oligomer having a fluoro group and / or a hydroxyl group is preferable, and a (meth) acrylic acid ester oligomer having a fluoro group and a hydroxyl group is more preferable. When such a copolymer is used, one monomer unit of either a fluoro group or a hydroxyl group has an affinity for the light control particle, and the remaining monomer unit is a droplet of the light control suspension in a polymer medium. Since it works to maintain it stably, the light adjusting particles are easily dispersed in the light adjusting suspension, and the light adjusting particles are easily induced in the phase-separated liquid droplet during the phase separation.

このようなフルオロ基及び/又は水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーとしては、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸3,5,5−トリメチルヘキシル/アクリル酸2−ヒドロキシプロピル/フマール酸共重合体、アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸2,2,3,3−テトラフルオロプロピル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸2,2,3,3−テトラフルオロプロピル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル/アクリル酸ブチル/アクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ブチル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ヘキシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸オクチル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸デシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ウンデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ドデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸トリデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸テトラデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸ヘキサデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体、及びメタクリル酸オクタデシル/メタクリル酸2−ヒドロキシエチル共重合体等が挙げられる。   Examples of the (meth) acrylic acid ester oligomer having such a fluoro group and / or hydroxyl group include 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate / butyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer, acrylic acid 3 , 5,5-trimethylhexyl / 2-hydroxypropyl acrylate / fumaric acid copolymer, butyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate / acrylic Butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, acrylic acid 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl / butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, acrylic acid 1H, 1H, 2H, 2H-hepta Decafluorodecyl / butyl acrylate / 2-hydroxy acrylate Chill copolymer, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate / butyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate / butyl acrylate / acrylic Acid 2-hydroxyethyl copolymer, methacrylic acid 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl / butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, methacrylic acid 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl / Butyl acrylate / acrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, butyl methacrylate / methacrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, hexyl methacrylate / methacrylic acid 2-hydroxyethyl copolymer, octyl methacrylate / 2-methacrylic acid 2- Hydroxyethyl copolymer, decyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, undecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, dodecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, tridecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer Examples thereof include a polymer, a tetradecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, a hexadecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and an octadecyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer.

これらの(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が、1,000〜20,000であることが好ましく、2,000〜10,000であることがより好ましい。   These (meth) acrylic acid ester oligomers preferably have a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured by gel permeation chromatography of 1,000 to 20,000, preferably 2,000 to 10,000. It is more preferable.

これらの(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーの原料となるフルオロ基含有モノマーの使用量は、原料であるモノマー総量の6〜12質量%であることが好ましく、より効果的には7〜8質量%である。フルオロ基含有モノマーの使用量が12質量%以下の場合には、屈折率の上昇が抑えられ、光透過率に優れる傾向がある。   It is preferable that the usage-amount of the fluoro group containing monomer used as the raw material of these (meth) acrylic acid ester oligomers is 6-12 mass% of the monomer total amount which is a raw material, More effectively, it is 7-8 mass%. is there. When the usage-amount of a fluoro group containing monomer is 12 mass% or less, the raise of a refractive index is suppressed and there exists a tendency for it to be excellent in the light transmittance.

また、これらの(メタ)アクリル酸エステルオリゴマーの原料となる、水酸基含有モノマーの使用量は0.5〜22.0質量%であることが好ましく、より効果的には1〜8質量%である。水酸基含有モノマーの使用量が22.0質量%以下の場合には、屈折率の上昇が抑えられ、光透過率に優れる傾向がある。
分散媒の屈折率は、前記高分子媒体から形成される樹脂マトリックスの屈折率と近似していることが好ましく、具体的には、1.467〜1.477であることが好ましく、1.469〜1.475であることがより好ましく、1.470〜1.474であることが更に好ましい。
Moreover, it is preferable that the usage-amount of the hydroxyl-containing monomer used as the raw material of these (meth) acrylic acid ester oligomers is 0.5-22.0 mass%, and is 1-8 mass% more effectively. . When the usage-amount of a hydroxyl-containing monomer is 22.0 mass% or less, the raise of a refractive index is suppressed and there exists a tendency for it to be excellent in the light transmittance.
The refractive index of the dispersion medium is preferably close to the refractive index of the resin matrix formed from the polymer medium, specifically, preferably 1.467 to 1.477, and 1.469. More preferably, it is -1.475, and it is still more preferable that it is 1.470-1.474.

−光調整粒子−
光調整粒子としては、例えば、光調整粒子の前駆体であるピラジン−2,3−ジカルボン酸・2水和物、ピラジン−2,5−ジカルボン酸・2水和物、ピリジン−2,5−ジカルボン酸・1水和物からなる群の中から選ばれた1つの物質とヨウ素とヨウ化物とを反応させて作ったポリヨウ化物の針状小結晶が好ましく用いられる。光調整粒子は、高分子媒体、又は高分子媒体中の樹脂成分(即ち上記の(A)エチレン性不飽和結合を有する置換基をもつ樹脂等)と親和力がなく、また光調整粒子の分散性を高めることができる高分子分散剤の存在下で調製される。使用しうる高分子分散剤としては、例えば、ニトロセルロース等が挙げられる。ヨウ化物としては、ヨウ化カルシウム等が挙げられる。
-Light control particles-
Examples of the light adjusting particles include pyrazine-2,3-dicarboxylic acid dihydrate, pyrazine-2,5-dicarboxylic acid dihydrate, pyridine-2,5- A polyiodide needle-like crystal prepared by reacting one substance selected from the group consisting of dicarboxylic acid and monohydrate with iodine and iodide is preferably used. The light control particles have no affinity for the polymer medium or the resin component in the polymer medium (that is, the resin (A) having a substituent having an ethylenically unsaturated bond) and the dispersibility of the light control particles. Is prepared in the presence of a polymeric dispersant capable of increasing the viscosity. Examples of the polymer dispersant that can be used include nitrocellulose. Examples of iodide include calcium iodide.

このようにして得られるポリヨウ化物としては、例えば、下記一般式
CaI(C)・XHO (X:1〜2)
CaI(C・cHO (a:3〜7、b:1〜2、c:1〜3)
で表されるものが挙げられる。これらのポリヨウ化物は針状結晶であることが好ましい。
Examples of the polyiodide thus obtained include, for example, the following general formula CaI 2 (C 6 H 4 N 2 O 4 ) · XH 2 O (X: 1 to 2).
CaI a (C 6 H 4 N 2 O 4 ) b · cH 2 O (a: 3 to 7, b: 1 to 2, c: 1 to 3)
The thing represented by is mentioned. These polyiodides are preferably acicular crystals.

また、調光フィルム用光調整懸濁液に用いる光調整粒子として米国特許第2,041,138号明細書(E.H.Land)、米国特許第2,306,108号明細書(Landら)、米国特許第2,375,963号明細書(Thomas)、米国特許第4,270,841号明細書(R.L.Saxe)及び英国特許第433,455号明細書に開示されている光調整粒子も、使用することができる。これらの特許によって公知とされたポリヨウ化物の結晶は、ピラジンカルボン酸、又はピリジンカルボン酸の1つを選択して、ヨウ素、塩素又は臭素と反応させることにより、ポリヨウ化物、ポリ塩化物又はポリ臭化物等のポリハロゲン化物とすることによって作製されている。これらのポリハロゲン化物は、ハロゲン原子が無機質又は有機質と反応した錯化合物で、これらの詳しい製法は、例えば、サックスの米国特許第4,422,963号明細書に開示されている。   US Pat. No. 2,041,138 (E.H.Land) and US Pat. No. 2,306,108 (Land et al.) Are used as light control particles for light control suspensions for light control films. ), U.S. Pat. No. 2,375,963 (Thomas), U.S. Pat. No. 4,270,841 (RL Sax) and British Patent 433,455. Light conditioning particles can also be used. The polyiodide crystals known by these patents are obtained by selecting one of pyrazinecarboxylic acid or pyridinecarboxylic acid and reacting with iodine, chlorine or bromine to produce polyiodide, polychloride or polybromide. And so on. These polyhalides are complex compounds in which a halogen atom reacts with an inorganic substance or an organic substance, and their detailed production methods are disclosed, for example, in US Pat. No. 4,422,963 to Sax.

サックスが開示しているように、光調整粒子を合成する過程において、均一な大きさの光調整粒子を形成させるため、及び、特定の懸濁媒体内での光調整粒子の分散性を向上させるため、上述したように高分子分散剤としてニトロセルロースのような高分子物質を使用することが好ましい。しかしながら、ニトロセルロースを用いると、ニトロセルロースで被覆された結晶が得られ、このような結晶を光調整粒子として用いる場合、光調整粒子は相分離の時に分離される液滴内に浮遊せず、樹脂マトリックス内に残存することがある。   As disclosed by Sachs, in the process of synthesizing the light control particles, the light control particles of uniform size are formed, and the dispersibility of the light control particles in a specific suspension medium is improved. Therefore, as described above, it is preferable to use a polymer material such as nitrocellulose as the polymer dispersant. However, when nitrocellulose is used, crystals coated with nitrocellulose are obtained, and when such crystals are used as light control particles, the light control particles do not float in the droplets separated during phase separation, May remain in the resin matrix.

これを防ぐためには、高分子媒体の(A)エチレン性不飽和結合を有する置換基をもつ樹脂として、シリコーン系樹脂を用いることが好ましく、シリコーン系樹脂を用いた場合には、調光フィルム製造の際に光調整粒子が相分離により形成された微細な液滴内へ容易に分散、浮遊し、その結果、より優れた可変能力を得ることができる。   In order to prevent this, it is preferable to use a silicone-based resin as the resin having a substituent having an ethylenically unsaturated bond (A) in the polymer medium. In this case, the light adjusting particles are easily dispersed and suspended in the fine droplets formed by the phase separation, and as a result, a more excellent variable ability can be obtained.

光調整粒子の粒子サイズは、調光フィルムとしたときの印加電圧に対する応答時間と、光調整懸濁液中の凝集及び沈殿との関係から、以下のサイズが好ましい。   The particle size of the light control particles is preferably the following size from the relationship between the response time with respect to the applied voltage when the light control film is used and the aggregation and precipitation in the light control suspension.

光調整粒子の平均長径は、225〜625nmが好ましく、250〜550nmがより好ましく、300〜500nmがさらに好ましい。   The average major axis of the light control particles is preferably 225 to 625 nm, more preferably 250 to 550 nm, and further preferably 300 to 500 nm.

光調整粒子の短径に対する長径の比率、すなわちアスペクト比の平均値は3〜8が好ましく、3.3〜7がより好ましく、3.6〜6が更に好ましい。   The ratio of the major axis to the minor axis of the light control particles, that is, the average aspect ratio is preferably 3-8, more preferably 3.3-7, and still more preferably 3.6-6.

本発明における光調整粒子の長径と短径は、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡等の電子顕微鏡で光調整粒子を撮影し、撮影した画像より任意に50個の光調整粒子を抽出し、各光調整粒子の長径と短径を平均値として算出することができる。ここで、長径とは、上記撮影した画像により二次元視野内に投影された光調整粒子について、最も長い部分の長さとする。また、短径とは、上記長径に直交する最も長い部分の長さとする。   The major axis and minor axis of the light adjusting particles in the present invention are obtained by photographing the light adjusting particles with an electron microscope such as a scanning electron microscope or a transmission electron microscope, and arbitrarily extracting 50 light adjusting particles from the photographed image, The major axis and minor axis of each light control particle can be calculated as an average value. Here, the major axis is the length of the longest part of the light control particles projected in the two-dimensional visual field by the photographed image. The minor axis is the length of the longest part orthogonal to the major axis.

また、本発明における光調整粒子の粒子径を評価する方法として、光子相関法や動的光散乱法の原理を用いた粒度分布計を用いることができる。この方法では直接粒子の大きさや形状を計測するのではなく、粒子を球状と仮定して相当径を評価することになり、SEM観察とは異なる値となる。特に、シスメックス株式会社製ゼータサイザーナノシリーズを用い、Z averageとして出力される相当径を粒子径とした場合に、光調整粒子の平均粒子径(以下、「粒度分布測定により求められる平均粒子径」ともいう)は135〜220nmが好ましく、140〜210nmがより好ましく、145〜205nmが更に好ましい。   In addition, as a method for evaluating the particle diameter of the light control particles in the present invention, a particle size distribution meter using the principle of a photon correlation method or a dynamic light scattering method can be used. In this method, the size and shape of the particles are not directly measured, but the equivalent diameter is evaluated on the assumption that the particles are spherical, which is different from the SEM observation. In particular, when using the Zetasizer Nano series manufactured by Sysmex Corporation and assuming that the equivalent diameter output as Z average is the particle diameter, the average particle diameter of the light control particles (hereinafter referred to as “average particle diameter determined by particle size distribution measurement”) 135-220 nm is preferable, 140-210 nm is more preferable, and 145-205 nm is still more preferable.

このZ average値は例えば光相関法や動的光散乱法に基づいた、違う粒度分布計の測定値、具体的には上述の透過型電子顕微鏡等の電子顕微鏡で測定される光調整粒子の長径、短径とよい相関を示すことが知られおり、粒子径を評価する指標として適当である。   This Z average value is a measured value of a different particle size distribution meter based on, for example, the optical correlation method or the dynamic light scattering method, specifically, the long diameter of the light adjusting particle measured by an electron microscope such as the transmission electron microscope described above. It is known to show a good correlation with the short diameter, and is suitable as an index for evaluating the particle diameter.

本発明における光調整粒子は、光調整懸濁液の全質量に対し、1〜15質量%含有することが好ましく、2〜10質量%含有することがより好ましい。1質量%以上の場合には、調光フィルムとした際の遮光効果が大きくなり好適である。また、15質量%以下の場合には、調光フィルム製造の際にエネルギー線によるシロキサン樹脂の硬化の阻害が抑えられる。   It is preferable to contain 1-15 mass% of light adjustment particles in this invention with respect to the total mass of light adjustment suspension, and it is more preferable to contain 2-10 mass%. When the content is 1% by mass or more, the light shielding effect when using the light control film is increased, which is preferable. Moreover, in the case of 15 mass% or less, inhibition of hardening of the siloxane resin by an energy ray can be suppressed at the time of light control film manufacture.

また、本発明における分散媒は、光調整懸濁液の全質量に対し、30〜99質量%含有することが好ましく、50〜96質量%含有することがより好ましい。30質量%以上の場合には遮光効果が大きくなり、99質量%以下の場合には、シロキサン樹脂の硬化の阻害が抑制される。   Moreover, it is preferable to contain the dispersion medium in this invention 30-99 mass% with respect to the total mass of light adjustment suspension, and it is more preferable to contain 50-96 mass%. In the case of 30% by mass or more, the light shielding effect is increased, and in the case of 99% by mass or less, inhibition of curing of the siloxane resin is suppressed.

また、調光材料は、光調整懸濁液を、高分子媒体100質量部に対して、1〜100質量部含有することが好ましく、4〜70質量部含有することがより好ましく、6〜60質量部含有することがさらに好ましく、8〜50質量部含有することが特に好ましい。光調整懸濁液の含有量が1質量%以上の場合には、遮光効果に優れ、100質量%以下の場合にはシロキサン樹脂の硬化の阻害が抑えられる。   Moreover, it is preferable that a light control material contains 1-100 mass parts of light adjustment suspensions with respect to 100 mass parts of polymer media, It is more preferable to contain 4-70 mass parts, 6-60 More preferably, it is contained in an amount of 8 to 50 parts by mass. When the content of the light control suspension is 1% by mass or more, the light shielding effect is excellent, and when the content is 100% by mass or less, inhibition of curing of the siloxane resin is suppressed.

本発明における高分子媒体の屈折率と分散媒の屈折率は近似していることが好ましい。具体的には、本発明における高分子媒体と分散媒との屈折率の差は、好ましくは0.005以下、より好ましくは0.003以下である。高分子媒体の屈折率と分散媒の屈折率との差が0.005以下の場合には、調光フィルムの濁度が低くなり、透明性に優れた調光フィルムとなる。   In the present invention, the refractive index of the polymer medium and the refractive index of the dispersion medium are preferably approximated. Specifically, the difference in refractive index between the polymer medium and the dispersion medium in the present invention is preferably 0.005 or less, more preferably 0.003 or less. When the difference between the refractive index of the polymer medium and the refractive index of the dispersion medium is 0.005 or less, the turbidity of the light control film is low, and the light control film is excellent in transparency.

<硬化率の測定方法>
本発明は、高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材(以下「基材」と称する場合がある)で挟持してなる調光フィルムにおける、前記樹脂マトリックスの硬化率を測定する方法に関する。
<Measurement method of curing rate>
The present invention relates to a light control layer comprising a resin matrix which is a cured product of a polymer medium and a light control suspension dispersed in the resin matrix, and includes two transparent conductive resin base materials (hereinafter referred to as “base materials”). It is related with the method of measuring the hardening rate of the said resin matrix in the light control film formed by pinching | interposing in.

本発明において前記樹脂マトリックスの硬化率は、前記調光フィルムに近赤外光を透過させ、その近赤外分光スペクトルにより測定する。測定に用いる調光フィルムは、この測定のために別途作製したサンプルであってもよく、製品である調光フィルムを直に用いてもよい。両者を併せて以下では、近赤外分光スペクトルを測定するのに用いる試料を「測定試料」と称する。   In the present invention, the curing rate of the resin matrix is measured by transmitting near infrared light through the light control film and measuring the infrared spectrum thereof. The light control film used for the measurement may be a sample prepared separately for this measurement, or the product light control film may be used directly. Hereinafter, the sample used for measuring the near-infrared spectrum is referred to as “measurement sample”.

硬化率の測定は、近赤外分光スペクトルの6170cm−1付近に現れる炭素−炭素二重結合に結合する炭素−水素結合の伸縮振動の第一倍音の吸収ピークの増減を確認することによって行う。前記測定試料に前記近赤外光を透過させたときに干渉縞が現れると、この6170cm−1付近の吸収ピークが確認しにくくなり、硬化率を正確に算出するのが難しくなる。 The curing rate is measured by confirming the increase or decrease in the absorption peak of the first overtone of the stretching vibration of the carbon-hydrogen bond that binds to the carbon-carbon double bond that appears in the vicinity of 6170 cm −1 in the near-infrared spectrum. If interference fringes appear when the near infrared light is transmitted through the measurement sample, it is difficult to confirm the absorption peak near 6170 cm −1, and it is difficult to accurately calculate the curing rate.

そこで本発明では、近赤外分光スペクトルの測定の際に干渉縞が発生する場合には、下記式(I)を満たす前記透明導電性樹脂基材を2枚備えた調光フィルムを用いて近赤外分光スペクトルを測定する。   Therefore, in the present invention, when interference fringes are generated during the measurement of the near-infrared spectrum, a light control film provided with two transparent conductive resin substrates that satisfy the following formula (I) is used. Infrared spectrum is measured.

式(I):前記近赤外光の照射領域における表面粗さの最大高さ(Ry)≧前記干渉縞の波長λ×1/2 Formula (I): Maximum height of surface roughness (Ry) in the irradiation region of the near infrared light ≧ wavelength λ × 1/2 of the interference fringes

以下、近赤外光の照射領域における表面粗さの最大高さ(Ry)が干渉縞の波長λ×1/2以上となっている透明導電性樹脂基材を「基材Ry」と称する。
また、干渉縞の波長を測定するための測定試料を「第一の測定試料」と称し、2枚の基材Ryを備える測定試料を「第二の測定試料」と称する。
Hereinafter, the transparent conductive resin base material in which the maximum height (Ry) of the surface roughness in the irradiation region of near infrared light is not less than the wavelength λ × 1/2 of the interference fringes is referred to as “base material Ry”.
A measurement sample for measuring the wavelength of interference fringes is referred to as a “first measurement sample”, and a measurement sample including two base materials Ry is referred to as a “second measurement sample”.

2枚の基材Ryを備える第二の測定試料を用いることにより、硬化率の測定を阻害する干渉縞の発生が抑えられる。この理由は以下のように考えられる。   By using the second measurement sample including the two base materials Ry, generation of interference fringes that hinder the measurement of the curing rate can be suppressed. The reason is considered as follows.

測定試料の一方の基板から近赤外光を入射すると、他方の基板からそのまま透過する光や、基板表面で1往復反射してから透過する光、数往復の反射を繰り返してから透過する光など、透過光には異なる位相を有する複数の波が含まれる。この複数の波の位相差が0の場合に最も増加的干渉が起こり、干渉縞が著しく発生する。他方、前記位相差が180°の場合には互いに打ち消しあって、干渉縞の発生が抑えられる。つまり、干渉縞の発生を抑えるには、複数の波の波形が山と谷で重なるよう、光路長をずらせばよい。本発明においては、測定試料の測定部位の基板の厚み差、すなわち基板の表面粗さによって、光路長を調整する。特に、本発明では、基板の表面粗さの指標のなかでも最大高さRyを用いて基板表面を調整する。   When near-infrared light is incident from one substrate of the measurement sample, light that is transmitted as it is from the other substrate, light that is transmitted after being reciprocated once on the substrate surface, light that is transmitted after being repeatedly reflected several times, etc. The transmitted light includes a plurality of waves having different phases. When the phase difference between the plurality of waves is 0, the most frequent interference occurs and the interference fringes are remarkably generated. On the other hand, when the phase difference is 180 °, they cancel each other, and the generation of interference fringes is suppressed. In other words, in order to suppress the occurrence of interference fringes, the optical path length may be shifted so that the waveforms of a plurality of waves overlap in a mountain and a valley. In the present invention, the optical path length is adjusted by the difference in thickness of the substrate at the measurement site of the measurement sample, that is, the surface roughness of the substrate. In particular, in the present invention, the substrate surface is adjusted using the maximum height Ry among the indicators of the surface roughness of the substrate.

前記基板の厚み差が、干渉縞の波長λの0.5倍、1.5倍、2.5倍のように、(x+0.5)倍(xは0又は1以上の整数)の場合に、複数の波の位相は打ち消しあって干渉縞の発生が抑えられる。他方、前記基板の厚み差が、干渉縞の波長λの1倍、2倍、3倍のように、x倍(xは1以上の整数)の場合には、むしろ増加的干渉が起こって干渉縞が著しく発生する。   When the thickness difference of the substrate is (x + 0.5) times (x is an integer of 0 or 1 or more), such as 0.5 times, 1.5 times, and 2.5 times the wavelength λ of the interference fringes The phases of the plurality of waves cancel each other, and the generation of interference fringes is suppressed. On the other hand, when the difference in thickness of the substrate is x times (x is an integer of 1 or more), such as 1 time, 2 times, or 3 times the wavelength λ of the interference fringes, the interference is rather increased. Streaks are noticeably generated.

したがって、前記基板の厚み差を正確に制御できるのであれば、前記基板の厚み差が干渉縞の波長λの(x+0.5)倍となるように調節することが干渉縞の抑制に効果的である。しかしながら、基板表面には通常凹凸があり、このような方法は現実的ではない。   Therefore, if the thickness difference of the substrate can be accurately controlled, adjusting the thickness difference of the substrate to be (x + 0.5) times the wavelength λ of the interference fringes is effective in suppressing the interference fringes. is there. However, the substrate surface usually has irregularities, and such a method is not practical.

ここで、表面粗さの最大高さRyについて説明する。図5に示すように最大高さRyは、粗さ曲線における高さの差の最大値を示す。よって、表面粗さの最大高さRyがAμmである前記基板の厚み差は、最大でAμmとなり、Aμmよりも小さい厚み差が基板に複合的に存在することになる。したがって、基板の表面粗さの最大高さRyが干渉縞の波長λの1/2以上であれば、透過光の位相が複合的に相殺され、干渉縞の発生が抑えられるものと考えられる。より好ましくは、基板の表面粗さの最大高さRyが干渉縞の波長λの1倍以上であり、2倍以上であることが更に好ましく、5倍以上であることが更に好ましく、8倍以上であることが更に好ましい。   Here, the maximum height Ry of the surface roughness will be described. As shown in FIG. 5, the maximum height Ry indicates the maximum value of the height difference in the roughness curve. Therefore, the thickness difference of the substrate having the maximum surface roughness height Ry of A μm is A μm at the maximum, and a thickness difference smaller than A μm exists in the substrate in a composite manner. Therefore, if the maximum height Ry of the surface roughness of the substrate is ½ or more of the wavelength λ of the interference fringes, it is considered that the phase of transmitted light is combined and the occurrence of interference fringes can be suppressed. More preferably, the maximum height Ry of the surface roughness of the substrate is 1 or more times the wavelength λ of the interference fringes, more preferably 2 or more, still more preferably 5 or more, and more preferably 8 or more. More preferably.

具体的には、透明導電性樹脂基材がPETフィルムであり、厚さが50μm〜200μm程度、調光層の厚さが50μm〜150μm程度、調光層の散乱時の屈折率1.465〜1.480程度の調光フィルムの場合には、近赤外光の照射領域におけるPETフィルムの表面粗さの最大高さRyは、0.2μm〜4.0μmに調整されることが好ましく、0.5μm〜3.7μmに調整されることがより好ましく、1.0μm〜3.5μmに調整されることが更に好ましい。   Specifically, the transparent conductive resin substrate is a PET film, the thickness is about 50 μm to 200 μm, the thickness of the light control layer is about 50 μm to 150 μm, and the refractive index at the time of scattering of the light control layer is 1.465. In the case of a light control film of about 1.480, the maximum height Ry of the surface roughness of the PET film in the near infrared light irradiation region is preferably adjusted to 0.2 μm to 4.0 μm. More preferably, the thickness is adjusted to 0.5 μm to 3.7 μm, and more preferably 1.0 μm to 3.5 μm.

以上から、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法によれば、基材を剥離せずに、基材を備えたまま、調光フィルムの調光層における樹脂マトリックスの硬化率を確実に測定することができる。よって、信頼性評価の指標として、本発明の硬化率の測定方法を用いることができ、その測定方法は迅速性、簡便性に優れる。
以下、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法を詳細に説明する。
From the above, according to the method for measuring the curing rate of the light control film of the present invention, the curing rate of the resin matrix in the light control layer of the light control film can be reliably maintained without peeling off the base material. Can be measured. Therefore, the measuring method of the curing rate of the present invention can be used as an index for reliability evaluation, and the measuring method is excellent in quickness and simplicity.
Hereinafter, the measuring method of the hardening rate of the light control film of this invention is demonstrated in detail.

〔測定試料の作製〕
まず、高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材で挟持した調光フィルムである第一の測定試料を作製する。調光フィルムの作製方法の詳細については後述する。基材には上述のプライマーを備えていてもよい。
[Preparation of measurement sample]
First, a light control film comprising a light control layer comprising a resin matrix which is a cured product of a polymer medium and a light control suspension dispersed in the resin matrix, sandwiched between two transparent conductive resin substrates. A certain first measurement sample is prepared. Details of the method for producing the light control film will be described later. The substrate may be provided with the above-described primer.

第一の測定試料に近赤外分光スペクトルを測定するための近赤外光を照射する。その際に、瞬間分光光度計F−20(フィルメトリクス(株)製)など用いて干渉縞が観測されるかを確認する。第一の測定試料において干渉縞が確認されなければ、引き続いて近赤外分光スペクトルを測定する。なお、基材の厚さや屈折率、調光層の厚さや屈折率、これらの組み合わせ等によっては、干渉縞が観察されない場合もある。   The first measurement sample is irradiated with near infrared light for measuring a near infrared spectrum. At that time, it is confirmed whether an interference fringe is observed using an instantaneous spectrophotometer F-20 (manufactured by Filmetrics Co., Ltd.) or the like. If no interference fringes are confirmed in the first measurement sample, the near-infrared spectrum is subsequently measured. Note that interference fringes may not be observed depending on the thickness and refractive index of the base material, the thickness and refractive index of the light control layer, and combinations thereof.

第一の測定試料において干渉縞が観測される場合には、その干渉縞の波長を測定する。そして、得られた干渉縞の波長λから、近赤外光の照射部位における表面粗さの最大高さがλ/2以上となる2枚の基材Ryで調光層を挟持した第二の測定試料を作製する。   When interference fringes are observed in the first measurement sample, the wavelength of the interference fringes is measured. Then, from the wavelength λ of the obtained interference fringes, the second dimming layer is sandwiched between two base materials Ry having a maximum surface roughness of λ / 2 or more at a near infrared light irradiation site. A measurement sample is prepared.

第二の測定試料の作製方法は、近赤外光が照射される領域の表面粗さが上記式(I)を満たすことができれば特に限定されない。例えば、第一の測定試料における両方の基材を溶解可能な溶剤によって溶解する方法がある。具体的には、例えば前記溶剤を染み込ませた綿棒や布で、2枚の基材の測定領域を擦るなどの方法が挙げられる。   The method for producing the second measurement sample is not particularly limited as long as the surface roughness of the region irradiated with near infrared light can satisfy the above formula (I). For example, there is a method of dissolving both base materials in the first measurement sample with a solvent that can be dissolved. Specifically, for example, a method of rubbing the measurement region of two substrates with a cotton swab or cloth soaked with the solvent can be used.

他の方法としては例えば、第一の測定試料から干渉縞の波長を測定しλ/2が算出されたら、別途、λ/2以上の最大高さRyを有する基材Ryを調達して、2枚の前記基材Ryで挟持された調光層を備える第二の測定試料を作製する方法が挙げられる。基材Ryの調達は、調光層を挟持する前に予め基材Ryを溶剤などで溶解したものであってもよいし、最大高さRyを有する基材Ryを購入して入手してもよい。   As another method, for example, when the wavelength of interference fringes is measured from the first measurement sample and λ / 2 is calculated, a base material Ry having a maximum height Ry of λ / 2 or more is separately procured. The method of producing the 2nd measurement sample provided with the light control layer pinched | interposed by the said base material Ry of sheet | seat is mentioned. Procurement of the base material Ry may be obtained by previously dissolving the base material Ry with a solvent or the like before sandwiching the light control layer, or by purchasing and obtaining a base material Ry having the maximum height Ry. Good.

測定試料の廃棄量の削減や、基材Ryの調達の煩雑さを鑑みると、測定試料の基材の表面を溶剤で溶解して前記式(I)を満たすように調整する方法が望ましい。   In view of the reduction of the amount of measurement sample discarded and the complexity of procurement of the base material Ry, a method of adjusting the surface of the base material of the measurement sample so as to satisfy the above formula (I) by dissolving with a solvent is desirable.

前記溶剤としては、前記2枚の基材がポリエチレンテレフタレート(PET)で構成される場合には、例えばトリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸/ジクロロエタン混合溶媒、1,1,2,2−テトラクロロエタン/フェノール混合溶媒、テレフタル酸ジメチル又はヘキサフルオロイソプロパノールを挙げることができ、入手の容易性や基材の溶解性を考慮すると、ヘキサフルオロイソプロパノールが好適である。   As the solvent, when the two substrates are composed of polyethylene terephthalate (PET), for example, trifluoroacetic acid, trifluoroacetic acid / dichloroethane mixed solvent, 1,1,2,2-tetrachloroethane / phenol A mixed solvent, dimethyl terephthalate or hexafluoroisopropanol can be mentioned, and hexafluoroisopropanol is preferable in view of availability and solubility of the base material.

なお、一般に調光フィルムは、ロール・トゥ・ロール(Roll to Roll)の方法で連続した一枚のフィルムとして作製されるため、溶剤で表面を溶かした第二の測定試料が、製品である連続した調光フィルムの一部であってもよい。製品の一部を硬化率測定のための第二の測定試料として用いる場合には、製品の硬化率を確実に把握することができ、信頼性評価の指標として極めて優れたものとなる。   In general, the light control film is produced as a continuous film by the roll-to-roll method, so the second measurement sample whose surface is dissolved with a solvent is a product. It may be a part of the light control film. When a part of the product is used as the second measurement sample for measuring the curing rate, the curing rate of the product can be surely grasped, which is extremely excellent as an index for reliability evaluation.

〔近赤外光の照射による分光の測定〕
上記作製した測定試料に近赤外光を入射して分光スペクトルを測定する。硬化率の測定は6170cm−1付近に現れる炭素−炭素二重結合に結合する炭素−水素結合の伸縮振動の第一倍音の吸収ピークの増減から行うのが好ましい。近赤外分光スペクトルの測定には、例えば、FT/IR−6000(日本分光(株)製、InGaAs検出器、分解能4cm−1)などを用いることができる。
[Spectroscopic measurement by near-infrared light irradiation]
Near-infrared light is incident on the prepared measurement sample and a spectrum is measured. The measurement of the curing rate is preferably performed from the increase or decrease of the absorption peak of the first overtone of the stretching vibration of the carbon-hydrogen bond bonded to the carbon-carbon double bond appearing in the vicinity of 6170 cm −1 . For example, FT / IR-6000 (manufactured by JASCO Corporation, InGaAs detector, resolution 4 cm −1 ) or the like can be used for the measurement of the near-infrared spectrum.

近赤外分光スペクトルにおいて、6050cm−1付近に観測されるピークは硬化前後で変化しない成分に由来するピークであるため、このピークを内部標準とし、6170cm−1付近に観測されるC=C結合由来の第一倍音の吸収ピーク面積と内部標準ピーク面積の比から硬化率を算出する。 In the near-infrared spectrum, since the peak observed in the vicinity of 6050 cm −1 is a peak derived from a component that does not change before and after curing, the C═C bond observed in the vicinity of 6170 cm −1 using this peak as an internal standard. The curing rate is calculated from the ratio of the absorption peak area of the first overtone derived from the internal standard peak area.

未硬化のC=C結合由来の第1倍音吸収ピーク面積を(A)、硬化後の面積を(A)とし、未硬化時の内部標準ピーク面積を(B)、硬化後の面積を(B)とすると、完全に硬化したときはA=0となるので、硬化率(%)は次式から算出される。 The first overtone absorption peak area derived from uncured C = C bond is (A 0 ), the area after curing is (A x ), the internal standard peak area when uncured is (B 0 ), the area after curing Is (B x ), A x = 0 when completely cured, so the curing rate (%) is calculated from the following equation.

硬化率(%)=[1−(A/B)/(A/B)]×100 Curing rate (%) = [1- (A x / B x ) / (A 0 / B 0 )] × 100

近赤外分光スペクトルの測定に際し、測定試料の面に対して近赤外光の入射角度を20〜70°とすることが好ましく、30〜60°とすることがより好ましい。近赤外光の入射角度を30°以上60°以下とすると、干渉縞がより抑制されて好適である。   In the measurement of the near-infrared spectrum, the incident angle of near-infrared light is preferably 20 to 70 °, more preferably 30 to 60 ° with respect to the surface of the measurement sample. When the incident angle of near infrared light is 30 ° or more and 60 ° or less, interference fringes are further suppressed, which is preferable.

<調光フィルムの製造方法>
前記本発明の硬化率の測定方法を用いることで、製造管理に優れた調光フィルムの製造方法を提供することができる。更に、この硬化率の測定方法を用いることで、耐熱性に優れた調光フィルムを提供することができる。
<Manufacturing method of light control film>
By using the method for measuring the curing rate of the present invention, a method for producing a light control film excellent in production management can be provided. Furthermore, the light control film excellent in heat resistance can be provided by using the measuring method of this hardening rate.

調光フィルムを得るためには、まず、液状の光調整懸濁液を、高分子媒体と均質に混合し、光調整懸濁液が高分子媒体中に液滴状態で分散した混合液からなる調光材料を調製する。   In order to obtain a light control film, first, a liquid light adjusting suspension is homogeneously mixed with a polymer medium, and the light adjusting suspension is composed of a mixed liquid dispersed in the polymer medium in the form of droplets. A dimming material is prepared.

具体的には、以下のようにして調光材料を調製する。光調整粒子を溶媒に分散した液と光調整懸濁液の分散媒とを混合し、ロータリーエバポレーター等で溶媒を留去し、光調整懸濁液を作製する。
次いで、光調整懸濁液及び高分子媒体を混合し、光調整懸濁液が高分子媒体中に液滴状態で分散した混合液(調光材料)とする。調光材料は、前記高分子媒体100質量部に対して、前記光調整懸濁液を通常1〜100質量部、好ましくは6〜70質量部、より好ましくは6〜60質量部含有する。
Specifically, the light control material is prepared as follows. A liquid in which the light control particles are dispersed in a solvent and a dispersion medium of the light control suspension are mixed, and the solvent is distilled off with a rotary evaporator or the like to prepare a light control suspension.
Next, the light control suspension and the polymer medium are mixed to obtain a mixed liquid (light control material) in which the light control suspension is dispersed in a droplet state in the polymer medium. The light-modulating material usually contains 1 to 100 parts by mass, preferably 6 to 70 parts by mass, and more preferably 6 to 60 parts by mass of the light adjusting suspension with respect to 100 parts by mass of the polymer medium.

この調光材料を、前記透明導電性樹脂基材の透明導電層上に一定な厚さで塗布し、調光層を形成する。調光材料の塗布には、例えば、バーコーター、アプリケーター、ドクターブレード、ロールコーター、ダイコーター、コンマコーター等の公知の塗工手段を用いることができる。調光材料を、基材上に設けたプライマー層面に塗布し、又は、一方にプライマー層を有さない基材を用いる場合には、基材に直接塗布することもできる。なお、塗布する際は、必要に応じて、適当な溶剤で希釈してもよい。溶剤を用いた場合には、透明導電性樹脂基材上に塗布した後に乾燥を要する。   This light control material is apply | coated by fixed thickness on the transparent conductive layer of the said transparent conductive resin base material, and a light control layer is formed. For application of the light-modulating material, for example, known coating means such as a bar coater, applicator, doctor blade, roll coater, die coater, and comma coater can be used. When the light-modulating material is applied to the surface of the primer layer provided on the substrate, or when a substrate having no primer layer is used on one side, it can be directly applied to the substrate. In addition, when apply | coating, you may dilute with a suitable solvent as needed. When a solvent is used, drying is required after coating on the transparent conductive resin substrate.

調光材料の塗布に用いる溶剤としては、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘプタン、シクロヘキサン、エチルアセテート、エタノール、メタノール、酢酸イソアミル、酢酸ヘキシル等を用いることができる。液状の光調整懸濁液が、固体の樹脂マトリックス中に微細な液滴形態で分散されているフィルムを形成するためには、調光材料をホモジナイザー、超音波ホモジナイザー等で混合して高分子媒体中に光調整懸濁液を微細に分散させる方法、高分子媒体中の樹脂成分の重合による相分離法、溶媒揮発による相分離法、又は温度による相分離法等を利用することができる。   Tetrahydrofuran, toluene, heptane, cyclohexane, ethyl acetate, ethanol, methanol, isoamyl acetate, hexyl acetate, etc. can be used as a solvent used for application of the light modulating material. In order to form a film in which the liquid light control suspension is dispersed in the form of fine droplets in a solid resin matrix, the light control material is mixed with a homogenizer, an ultrasonic homogenizer, or the like, and then a polymer medium. A method of finely dispersing the light control suspension therein, a phase separation method by polymerization of a resin component in a polymer medium, a phase separation method by solvent volatilization, a phase separation method by temperature, or the like can be used.

調光材料を塗布した後、又は必要に応じて調光材料に含有される溶剤を乾燥除去した後、高圧水銀灯等を用いて紫外線を照射し高分子媒体を硬化させる。その結果、硬化した高分子媒体からなる樹脂マトリックス中に、光調整懸濁液が液滴状に分散されている調光層が形成される。高分子媒体と光調整懸濁液の混合比率を様々に変えることにより、調光層の光透過率を調節することができる。   After applying the light-modulating material or, if necessary, drying and removing the solvent contained in the light-modulating material, the polymer medium is cured by irradiating ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp or the like. As a result, a light control layer in which the light control suspension is dispersed in the form of droplets is formed in a resin matrix made of a cured polymer medium. The light transmittance of the light control layer can be adjusted by variously changing the mixing ratio of the polymer medium and the light control suspension.

樹脂マトリックス中に分散されている光調整懸濁液の液滴の大きさ(平均液滴径)は、通常0.5〜100μm、好ましくは0.5〜20μm、より好ましいくは1〜5μmである。液滴の大きさは、光調整懸濁液を構成している各成分の濃度、光調整懸濁液及び高分子媒体の粘度、光調整懸濁液中の分散媒の高分子媒体に対する相溶性等により決められる。   The size (average droplet diameter) of the light control suspension dispersed in the resin matrix is usually 0.5 to 100 μm, preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 5 μm. is there. The size of the droplets depends on the concentration of each component constituting the light control suspension, the viscosity of the light control suspension and the polymer medium, and the compatibility of the dispersion medium in the light control suspension with the polymer medium. It is decided by etc.

平均液滴径は、例えば、SEMを用いて、調光フィルムの一方の面方向から写真等の画像を撮影し、任意に選択した複数の液滴直径を測定し、その平均値として算出することができる。また、調光フィルムの光学顕微鏡での視野画像をデジタルデータとしてコンピュータに取り込み、画像処理インテグレーションソフトウェアを使用し算出することも可能である。   The average droplet diameter is calculated, for example, by taking an image such as a photograph from one surface direction of the light control film using SEM, measuring a plurality of arbitrarily selected droplet diameters, and calculating the average value thereof. Can do. It is also possible to capture a visual field image of the light control film with an optical microscope into a computer as digital data and calculate it using image processing integration software.

このようにして形成された調光層の上に、もう一方の透明導電性樹脂基材を密着させることにより、調光フィルムが得られる。   A light control film is obtained by sticking the other transparent conductive resin base material on the light control layer formed in this way.

または、前記調光材料を、基材上に一定な厚さで塗布し、必要に応じて調光材料中の溶剤を乾燥除去した後、もう一方の基材でラミネートした後に、紫外線を照射して高分子媒体を硬化させてもよい。   Alternatively, the light-modulating material is applied on a substrate with a constant thickness, and if necessary, the solvent in the light-modulating material is dried and removed, and then laminated on the other substrate, and then irradiated with ultraviolet rays. The polymer medium may be cured.

更には、2枚の透明導電性樹脂基材の両方の透明導電層上に調光層を形成し、その調光層同士が密着するようにして積層してもよい。   Furthermore, a light control layer may be formed on both transparent conductive layers of the two transparent conductive resin substrates, and the light control layers may be laminated so as to be in close contact with each other.

調光層の厚みは、5〜1,000μmが好ましく、20〜100μmがより好ましい。   The thickness of the light control layer is preferably 5 to 1,000 μm, and more preferably 20 to 100 μm.

本発明の調光フィルムの製造方法では、上記の方法で作製した調光フィルム中の、又は上記同様の方法で別途作製した測定試料中の樹脂マトリックスの硬化率を測定した後、この硬化率を基に、予め定めた硬化率となる硬化条件を求めて、その硬化条件で硬化した調光フィルムを作製する。このように硬化条件のフィードバックを行うことで、製品ロッド間での硬化率のばらつきを極めて低減することができる。   In the manufacturing method of the light control film of this invention, after measuring the hardening rate of the resin matrix in the light control film produced by said method, or in the measurement sample produced separately by the same method as the above, this hardening rate is calculated | required. Based on this, a curing condition with a predetermined curing rate is obtained, and a light control film cured under the curing condition is produced. By performing the feedback of the curing conditions in this way, the variation in the curing rate between the product rods can be extremely reduced.

樹脂マトリックスの硬化率の測定は、表面粗さが上記式(I)を満たす2枚の基材に前記調光層が挟持された第二の測定試料に、近赤外光を照射して行う。第二の測定試料の作製方法は上述の通りである。また、第二の測定試料中の樹脂マトリックスの硬化率の測定方法は、上述の通りである。   The measurement of the curing rate of the resin matrix is performed by irradiating the second measurement sample in which the light control layer is sandwiched between two substrates whose surface roughness satisfies the above formula (I) with near infrared light. . The method for producing the second measurement sample is as described above. The method for measuring the curing rate of the resin matrix in the second measurement sample is as described above.

硬化率の測定により得られた前記硬化率は、予め求めておいた前記高分子媒体の硬化条件と硬化率との関係に当てはめて、予め定めた硬化率となる前記高分子媒体の硬化条件を導き出す。   The curing rate obtained by measuring the curing rate is applied to the previously determined relationship between the curing condition of the polymer medium and the curing rate, and the curing condition of the polymer medium that gives a predetermined curing rate is determined. derive.

前記予め定めた硬化率は、耐熱性及び耐光性などの観点から、75〜100%であることが好ましく、85〜100%であることがより好ましく、90〜100%であることが更に好ましい。特に、硬化により樹脂マトリックスを形成する前記高分子媒体における、硬化に供するエチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位数が、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%のときに、前記硬化率を75〜100%とすることが好ましい。エチレン性不飽和結合を有する繰り返し単位数の占める割合と、その硬化率を上記範囲内とすることで、耐熱性に優れた調光フィルムとなる。その理由は明らかではないが、硬化率が75%以下の場合、加熱により調光フィルムの未硬化部分の粘度が小さくなり液滴どうしの結合などが生じるためではないかと推測される。   The predetermined curing rate is preferably 75 to 100%, more preferably 85 to 100%, and still more preferably 90 to 100% from the viewpoints of heat resistance and light resistance. In particular, in the polymer medium that forms a resin matrix by curing, the curing is performed when the number of repeating units having an ethylenically unsaturated bond used for curing is 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units. The rate is preferably 75 to 100%. By adjusting the proportion of the number of repeating units having an ethylenically unsaturated bond and the curing rate within the above range, a light control film having excellent heat resistance can be obtained. The reason is not clear, but when the curing rate is 75% or less, it is presumed that the viscosity of the uncured portion of the light control film is reduced by heating, and bonding of droplets is caused.

硬化率に関係する高分子媒体の硬化条件としては、硬化のための紫外線の照射量、硬化雰囲気の気体の種類、流量、及び硬化温度などが挙げられる。これら硬化率に関係する因子と硬化率の関係を予め検量する。この中でも硬化率に直接的に関係するのが紫外線の照射量であるため、少なくとも、紫外線の照射量と硬化率との関係は予め検量しておくことが好ましい。   Examples of the curing conditions of the polymer medium related to the curing rate include the irradiation amount of ultraviolet rays for curing, the type of gas in the curing atmosphere, the flow rate, and the curing temperature. The relationship between the factors related to the curing rate and the curing rate is calibrated in advance. Among these, since it is the ultraviolet irradiation amount that is directly related to the curing rate, it is preferable that at least the relationship between the ultraviolet irradiation amount and the curing rate is calibrated in advance.

このように予め検量しておいた高分子媒体の硬化条件と硬化率との関係に、近赤外分光スペクトルの測定により得た前記硬化率を当てはめる。そして、予め定めた硬化率(例えば、75〜100%)の範囲内となる硬化条件を校正し直して導き出す。具体的には、例えば、近赤外分光スペクトルの測定により得た硬化率が50%であり、目標の75〜100%の硬化率の範囲から外れていた場合、硬化率を75〜100%にするための硬化条件(例えば、紫外線の照射量)を予め作成した検量線から求める。   Thus, the said hardening rate obtained by the measurement of the near-infrared spectroscopy spectrum is applied to the relationship between the hardening conditions and hardening rate of the polymer medium which weighed beforehand. Then, the curing conditions that fall within a predetermined curing rate (for example, 75 to 100%) are calibrated and derived. Specifically, for example, when the curing rate obtained by measurement of the near-infrared spectrum is 50% and is outside the target curing rate range of 75 to 100%, the curing rate is set to 75 to 100%. The curing conditions (for example, the irradiation amount of ultraviolet rays) for obtaining are determined from a calibration curve prepared in advance.

そして、前記導き出された硬化条件に変えて高分子媒体を硬化した樹脂マトリックスを含有する調光フィルムを作製する。この調光フィルムについて、上記同様の硬化率の測定を行い、目標の硬化率の範囲内に入っているかを確認する。目標の硬化率から外れている場合には、予め検量しておいた硬化条件と硬化率との関係から、再度、目標の硬化率の範囲内となる硬化条件を求め、その硬化条件で硬化した調光フィルムを作製する。   Then, a light control film containing a resin matrix obtained by curing the polymer medium is produced under the derived curing conditions. About this light control film, the same cure rate as the above is measured and it is confirmed whether it is in the range of the target cure rate. If it is outside the target curing rate, find the curing condition within the range of the target curing rate again from the relationship between the curing condition and the curing rate weighed in advance, and cured under that curing condition A light control film is produced.

以降、近赤外分光スペクトルによる調光フィルムの硬化率の測定工程、硬化条件の導出工程、及び導出した硬化条件での調光フィルムの作製工程は、目標の硬化率の範囲内となるまで繰り返す。或いは、樹脂マトリックスの硬化率の測定は1回のみ行い、その硬化率を基に所望の硬化率となる硬化条件を導き出し、その硬化条件で製品を製造してもよい。   Thereafter, the process of measuring the curing rate of the light control film by the near-infrared spectrum, the process of deriving the curing conditions, and the process of producing the light control film under the derived curing conditions are repeated until it falls within the target curing rate range. . Alternatively, the measurement of the curing rate of the resin matrix may be performed only once, and a curing condition for obtaining a desired curing rate may be derived based on the curing rate, and a product may be manufactured under the curing condition.

図6に、本発明の調光フィルムの作製の一例の手順をフローチャートで示す。
図6において、ステップ11では、上記方法により近赤外分光スペクトルにより硬化率を測定するための第二の測定試料を作製する。第二の測定試料は、近赤外分光の照射領域における両方の基材の表面粗さ(最大高さRy)が上記式(I)を満たすものである。表面粗さの最大高さRyは、干渉縞が観察される第一の測定試料から求める。なお、第一の測定試料において干渉縞が観察されない場合には、第一の測定試料を用いて近赤外分光スペクトルを測定する。
In FIG. 6, the procedure of an example of preparation of the light control film of this invention is shown with a flowchart.
In FIG. 6, in step 11, a second measurement sample for measuring the curing rate by the near-infrared spectrum is prepared by the above method. In the second measurement sample, the surface roughness (maximum height Ry) of both base materials in the irradiation region of near-infrared spectroscopy satisfies the above formula (I). The maximum height Ry of the surface roughness is obtained from the first measurement sample in which interference fringes are observed. When no interference fringes are observed in the first measurement sample, the near-infrared spectrum is measured using the first measurement sample.

第一及び第二の測定試料、更に製品である調光フィルムにおける調光層の硬化は、基材で挟み込む前に硬化してもよいし、未硬化の調光層を基材で挟持した後、調光層を硬化してもよい。しかしながら、製品である調光フィルムの硬化率の正確を期すために、第一及び第二の測定試料の硬化時期は、製品である調光フィルムの硬化時期に合わせる。   The curing of the light control layer in the first and second measurement samples and the light control film as a product may be cured before being sandwiched between the substrates, or after the uncured light control layer is sandwiched between the substrates. The light control layer may be cured. However, in order to ensure the accuracy of the curing rate of the light control film as a product, the curing time of the first and second measurement samples is matched with the curing time of the light control film as a product.

ステップ13では、上記方法に基づき、第二の測定試料における樹脂マトリックスの硬化率を、近赤外分光スペクトルにより測定する。   In step 13, based on the above method, the curing rate of the resin matrix in the second measurement sample is measured by a near infrared spectrum.

ステップ15では、近赤外分光スペクトルの測定により得た硬化率が、目標の硬化率の範囲内であるかを判定する。目標の硬化率の範囲内であるならば本操作を終了する。目標の硬化率の範囲外であるならばステップ17へ進む。   In step 15, it is determined whether the curing rate obtained by measuring the near-infrared spectrum is within the target curing rate range. If it is within the target curing rate range, this operation is terminated. If it is outside the range of the target curing rate, the process proceeds to step 17.

ステップ17では、予め検量しておいた硬化条件と硬化率との関係から、再度、目標の硬化率の範囲内となる硬化条件を求める。そして、ステップ11に戻り、求めた硬化条件に変えて硬化した第二の測定試料を作製する。   In step 17, a curing condition that falls within the range of the target curing rate is obtained again from the relationship between the curing condition and the curing rate that have been calibrated in advance. Then, returning to step 11, a second measurement sample cured by changing to the obtained curing conditions is prepared.

ステップ11からステップ17までは、近赤外分光スペクトルの測定により得た硬化率が、目標の硬化率の範囲内となるまで繰り返される。目標の硬化率の範囲内となったところで、本操作を終了する。   Steps 11 to 17 are repeated until the curing rate obtained by measuring the near-infrared spectrum is within the target curing rate range. This operation is terminated when the target curing rate is within the range.

なお、図6のフローチャートでは、目標の硬化率の範囲内となるまでステップ11からステップ17を繰り返すとして説明したが、硬化率の測定は1回のみ行い、その後は、その硬化率から求めた硬化条件で調光フィルムを製造してもよい。   In the flowchart of FIG. 6, it has been described that Step 11 to Step 17 are repeated until the target curing rate is within the range, but the curing rate is measured only once, and thereafter the curing rate obtained from the curing rate is obtained. You may manufacture a light control film on condition.

本発明の調光フィルムの製造方法によれば、基材を剥離するなどの煩雑な操作を必要とせず、基材を付設したままの状態で測定した硬化率を基に、一定水準の硬化率を有する調光フィルムを作製することができる。また、紫外線の照射量や硬化雰囲気などの要因を個別に勘案することなく一定値として硬化率の値が得られるため、本発明の調光フィルムの製造方法は、製造管理が容易であるという効果を奏する。更に、本発明の製造方法で用いる硬化率は、炭素−炭素二重結合に起因する吸収ピークから算出されるものであり、よって、炭素−炭素二重結合の量を直接的に表した値である。したがって、正確な硬化率に基づき調光フィルムを製造することができるため、信頼性に優れた調光フィルムを製造することができる。   According to the method for producing a light control film of the present invention, a constant level of cure rate is obtained based on the cure rate measured with the substrate remaining attached, without requiring a complicated operation such as peeling the substrate. The light control film which has can be produced. Moreover, since the value of the curing rate can be obtained as a constant value without individually considering factors such as the irradiation amount of ultraviolet rays and the curing atmosphere, the production method of the light control film of the present invention has an effect that production management is easy. Play. Furthermore, the curing rate used in the production method of the present invention is calculated from the absorption peak due to the carbon-carbon double bond, and thus is a value that directly represents the amount of the carbon-carbon double bond. is there. Therefore, since a light control film can be manufactured based on an exact cure rate, a light control film excellent in reliability can be manufactured.

<調光フィルムによる調光>
本発明の調光フィルムの製造方法により得られる調光フィルムは、電場の形成により任意に光透過率を調節できる。この調光フィルムは、電場が形成されていない場合にも、光の散乱のない鮮明な着色状態を維持し、電場が形成されると透明な状態に転換される。この能力は、20万回以上の可逆的反復特性を示す。
<Light control by light control film>
The light control film obtained by the manufacturing method of the light control film of this invention can adjust light transmittance arbitrarily by formation of an electric field. Even when no electric field is formed, the light control film maintains a clear coloring state without light scattering, and is converted into a transparent state when the electric field is formed. This ability exhibits a reversible repeat characteristic of over 200,000 times.

調光フィルムを作動させるための使用電源は交流で、10〜100ボルト(実効値)、30Hz〜500kHzの周波数範囲とすることができる。本発明の調光フィルムは、電界に対する応答時間を、消色時には1〜50秒以内、着色時には1〜100秒以内とすることができる。   The power source used for operating the light control film is alternating current, and can be in the frequency range of 10 to 100 volts (effective value) and 30 Hz to 500 kHz. The light control film of this invention can make the response time with respect to an electric field within 1-50 seconds at the time of decoloring, and within 1-100 seconds at the time of coloring.

また、紫外線耐久性は、750W紫外線等を利用した紫外線照射試験の結果、250時間が経過した後にも安定な可変特性を示し、−50℃〜90℃で長時間放置した場合にも、初期の可変特性を維持することが可能である。   In addition, as a result of an ultraviolet irradiation test using 750 W ultraviolet rays or the like, the ultraviolet durability shows a stable variable characteristic even after 250 hours have passed, and even when left at -50 ° C. to 90 ° C. for a long time, It is possible to maintain variable characteristics.

従来技術である液晶を使用した調光フィルムの製造において、水を用いたエマルジョンによる方法を使用すると、液晶が水分と反応して光調整特性を失うことが多く、同一の特性のフィルムを製造しにくいという課題がある。
しかし、本発明においては、液晶ではなく、光調整粒子が光調整懸濁液内に分散されている液状の光調整懸濁液を使用するため、液晶を利用した調光フィルムとは異なり、電界が印加されていない場合にも光が散乱せず、鮮明度が優れて視野角の制限のない着色状態を表す。そして、光調整粒子の含量、液滴形態や層厚を調節したり、又は電界強度を調節したりすることにより、光可変度を任意に調節できる。
In the production of a light control film using liquid crystal, which is a conventional technique, when a method using an emulsion using water is used, the liquid crystal often reacts with moisture and loses its light adjustment characteristics. There is a problem that it is difficult.
However, in the present invention, not a liquid crystal but a liquid light adjusting suspension in which light adjusting particles are dispersed in the light adjusting suspension is used. Therefore, unlike a light control film using liquid crystal, an electric field is used. Even when no is applied, light is not scattered, and the coloration state is excellent and the viewing angle is not limited. The light variability can be arbitrarily adjusted by adjusting the content of the light adjusting particles, the droplet shape and the layer thickness, or adjusting the electric field strength.

また、本発明の調光フィルムは、液晶を用いないことから、紫外線露光による可変能力の低下、大型製品特有の透明導電性樹脂基材の周辺部と中央部間に生ずる電圧降下に伴う応答時間差も解消される。   In addition, since the light control film of the present invention does not use liquid crystal, the response time difference due to a decrease in variable ability due to ultraviolet exposure and a voltage drop that occurs between the peripheral part and the central part of the transparent conductive resin base material unique to large products Is also resolved.

図2に示すように、本発明による調光フィルムに電界が印加されていないときには、光調整懸濁液内の光調整粒子のブラウン運動のため、光調整粒子の光吸収、2色性効果による鮮明な着色状態を示す。しかし、図3に示すように、電界が印加されると、液滴又は液滴連結体の中の光調整粒子が電場に平行に配列され、透明な状態に転換される。   As shown in FIG. 2, when no electric field is applied to the light control film according to the present invention, due to the Brownian motion of the light control particles in the light control suspension, the light absorption of the light control particles is due to the dichroic effect. It shows a clear coloring state. However, as shown in FIG. 3, when an electric field is applied, the light adjusting particles in the droplet or the droplet connected body are arranged in parallel to the electric field and converted into a transparent state.

また、本発明の調光フィルムはフィルム状態であるので、液状の光調整懸濁液をそのまま使用する従来技術による調光硝子の問題点が解消される。即ち、2枚の透明導電性樹脂基材の間への液状の懸濁液の注入の困難性、製品の上下間の水圧差による下部の膨張現象、風圧等の外部環境による基材間隔の変化による局部的な色相変化、透明導電性樹脂基材の間の密封材の破壊による調光材料の漏洩が解決される。   Moreover, since the light control film of this invention is a film state, the problem of the light control glass by the prior art which uses a liquid light adjustment suspension as it is is eliminated. That is, difficulty in injecting a liquid suspension between two transparent conductive resin substrates, expansion of the bottom due to the difference in water pressure between the upper and lower parts of the product, changes in the substrate spacing due to the external environment such as wind pressure The local hue change due to, and the leakage of the light control material due to the destruction of the sealing material between the transparent conductive resin base materials are solved.

また、液晶を利用した従来技術による調光窓の場合には、液晶が紫外線により容易に劣化し、またネマチック液晶の熱的特性によりその使用温度の範囲も狭い。更に、光学特性面においても、電界が印加されていない場合には光散乱による乳白色の半透明な状態を示し、電界が印加される場合にも、完全には鮮明化せず、乳濁状態が残存する課題がある。従って、このような調光窓では、既存の液晶表示素子で動作原理として利用されている光の遮断及び透過による表示機能が不可能である。しかし、本発明による調光フィルムを使用すれば、このような課題が解決できる。   Further, in the case of a light control window according to the prior art using liquid crystal, the liquid crystal is easily deteriorated by ultraviolet rays, and the operating temperature range is narrow due to the thermal characteristics of nematic liquid crystal. Furthermore, also in terms of optical characteristics, when no electric field is applied, it shows a milky white translucent state due to light scattering, and even when an electric field is applied, it is not completely sharpened and the milky state is There are remaining issues. Therefore, in such a light control window, a display function based on light blocking and transmission, which is used as an operation principle in existing liquid crystal display elements, is impossible. However, such a problem can be solved by using the light control film according to the present invention.

本発明の調光フィルムは、例えば、室内外の仕切り(パーティッション)、建築物用の窓硝子/天窓、電子産業及び映像機器に使用される各種平面表示素子、各種計器板と既存の液晶表示素子の代替品、光シャッター、各種室内外広告及び案内標示板、航空機/鉄道車両/船舶用の窓硝子、自動車用の窓硝子/バックミラー/サンルーフ、眼鏡、サングラス、サンバイザー等の用途に好適に使用することができる。   The light control film of the present invention includes, for example, indoor and outdoor partitions, window glass / skylights for buildings, various flat display elements used in the electronics industry and video equipment, various instrument panels, and existing liquid crystal display elements. Suitable for applications such as light shutters, various indoor / outdoor advertisements and signboards, window glass for aircraft / railway vehicles / ships, window glass / back mirror / sunroof for automobiles, glasses, sunglasses, sun visors, etc. Can be used.

適用法としては、本発明の調光フィルムを直接使用することも可能であるが、用途によっては、例えば、本発明の調光フィルムを2枚の基材に挟持させて使用したり、基材の片面に貼り付けて使用したりしてもよい。前記基材としては、例えば、ガラスや、上記透明樹脂基材と同様の高分子フィルム等を使用することができる。   As an application method, it is possible to directly use the light control film of the present invention. However, depending on the application, for example, the light control film of the present invention may be sandwiched between two base materials or used. It may be used by pasting it on one side. As said base material, glass, the polymer film similar to the said transparent resin base material, etc. can be used, for example.

以下、本発明の実施例及びその比較例によって本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples of the present invention and comparative examples thereof, but the present invention is not limited to these examples.

(光調整粒子の製造例)
ヨウ素(JIS試薬特級、和光純薬工業(株)製)と酢酸イソペンチル(試薬特級、和光純薬工業(株)製)から8.5質量%ヨウ素の酢酸イソペンチル溶液(以下「ヨウ素溶液」と称する)を調製した。またニトロセルロース1/4LIG(商品名:ベルジュラックNC社製)と酢酸イソペンチルから20.0質量%硝酸セルロースの酢酸イソペンチル溶液(以下「硝酸セルロース溶液」と称する)を調製した。更に、ヨウ化カルシウム水和物(化学用、和光純薬工業(株)製)を加熱乾燥して無水化した後、酢酸イソペンチルに溶解させ、20.9質量%ヨウ化カルシウム溶液を調整した。
(Production example of light control particles)
8.5% by mass iodine isopentyl acetate solution (hereinafter referred to as “iodine solution”) from iodine (special grade of JIS reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and isopentyl acetate (special grade reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ) Was prepared. Further, a 20.0 mass% cellulose nitrate isopentyl acetate solution (hereinafter referred to as “cellulose nitrate solution”) was prepared from nitrocellulose 1 / 4LIG (trade name: manufactured by Bergerac NC) and isopentyl acetate. Further, calcium iodide hydrate (chemical use, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dried by heating and dehydrated, and then dissolved in isopentyl acetate to prepare a 20.9 mass% calcium iodide solution.

300mlの四口フラスコに撹拌機と冷却管を備え、前記ヨウ素溶液の65.6g、前記硝酸セルロース溶液の82.93gを加え、水浴温度を35〜40℃としてフラスコを加熱した。フラスコ内容物の温度が35〜40℃となった後、脱水メタノール(試薬特級、和光純薬工業(株)製)を7.41g、精製水(和光純薬工業(株)製)を0.525g加えて撹拌した。そこに、ヨウ化カルシウム溶液を15.6g、次いでピラジン−2,5−ジカルボン酸(日化テクノサービス(株)製)を3.70g加えた。水浴温度を42〜44℃として4時間撹拌した後、放冷し、光調整粒子を含む合成液を得た。   A 300 ml four-necked flask was equipped with a stirrer and a condenser, 65.6 g of the iodine solution and 82.93 g of the cellulose nitrate solution were added, and the flask was heated at a water bath temperature of 35 to 40 ° C. After the temperature of the flask contents reached 35 to 40 ° C., 7.41 g of dehydrated methanol (special grade reagent, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 0.71 of purified water (produced by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added. 525 g was added and stirred. Thereto was added 15.6 g of calcium iodide solution and then 3.70 g of pyrazine-2,5-dicarboxylic acid (manufactured by Nikka Techno Service Co., Ltd.). The water bath temperature was set at 42 to 44 ° C. and the mixture was stirred for 4 hours and then allowed to cool to obtain a synthetic solution containing light adjusting particles.

得られた光調整粒子は、粒度分布測定(サブミクロン粒子アナライザ(製品名:N4MD、ベックマン・コールタ社製)で測定)で求められる平均粒子径が185nm、SEM観察による平均長径は310nm、平均アスペクト比は4.4であった。なお、SEMによる観察では、100個の光調整粒子から、長径及びアスペクト比の平均値を求めた。   The obtained light control particles have an average particle size of 185 nm determined by particle size distribution measurement (measured with a submicron particle analyzer (product name: N4MD, manufactured by Beckman Coulter)), an average major axis by SEM observation of 310 nm, and an average aspect. The ratio was 4.4. In addition, in the observation by SEM, the average value of the major axis and the aspect ratio was obtained from 100 light adjusting particles.

また、得られた合成液を9260Gで5時間遠心分離後、傾斜して上澄み液を除き、底部に残存した沈殿にこの沈殿の質量の5倍の酢酸イソペンチルを加え、超音波で沈殿を分散し、液全体の質量を測定した。この分散した液を1g金属プレートに秤量し、120℃1時間で乾燥後、再び質量を測定し、不揮発分比率を求めた。この不揮発分比と液全体の質量から全不揮発分量、すなわち沈殿収量4.15gを求めた。   In addition, after centrifuging the obtained synthetic liquid at 9260 G for 5 hours, the supernatant liquid is removed by decantation, isopentyl acetate 5 times the mass of the precipitate is added to the precipitate remaining at the bottom, and the precipitate is dispersed by ultrasound. The mass of the whole liquid was measured. The dispersed liquid was weighed on a 1 g metal plate, dried at 120 ° C. for 1 hour, then weighed again to determine the nonvolatile content ratio. From the nonvolatile content ratio and the mass of the entire liquid, the total nonvolatile content, that is, the precipitation yield of 4.15 g was determined.

(光調整懸濁液の製造例)
前記の「光調整粒子の製造例」で得た光調整粒子45.5gを、光調整懸濁液の分散媒としてのアクリル酸ブチル(和光特級、和光純薬工業(株)製)/メタクリル酸2,2,2−トリフルオロエチル(工業用、共栄社化学工業(株)製)/アクリル酸2−ヒドロキシエチル(和光1級、和光純薬工業(株)製)の共重合体(モノマーモル比:18/1.5/0.5、重量平均分子量:3,800、屈折率1.4719)50gに加え、撹拌機により30分間混合した。次いで酢酸イソアミルを、ロータリーエバポレーターを用いて133Paの真空で80℃、3時間減圧除去し、光調整粒子の沈降及び凝集現象のない安定な液状の光調整懸濁液を製造した。
(Production example of light control suspension)
45.5 g of the light control particles obtained in the above-mentioned “Production Example of Light Control Particles” was added to butyl acrylate (Wako Special Grade, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) / Methacrylic acid as a dispersion medium for the light control suspension. Copolymer (monomer molar ratio: 2,2,2-trifluoroethyl (for industrial use, manufactured by Kyoeisha Chemical Industry Co., Ltd.) / 2-hydroxyethyl acrylate (Wako Grade 1, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 18 / 1.5 / 0.5, weight average molecular weight: 3,800, refractive index 1.4719) In addition to 50 g, the mixture was mixed with a stirrer for 30 minutes. Subsequently, isoamyl acetate was removed under reduced pressure at 80 ° C. for 3 hours under a vacuum of 133 Pa using a rotary evaporator to produce a stable liquid light-conditioning suspension free of sedimentation and aggregation of light-conditioning particles.

(エネルギー線硬化型ポリシロキサン系樹脂の製造例)
ディーンスタークトラップ、冷却管、撹拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、(3−アクリロキシプロピル)メチルジメトキシシラン(商品名:KBM−5102、信越化学工業(株)製)15.0g、蒸留水1.9g、酢酸(和光純薬工業(株)製)0.04g、質量比でエタノール/メタノール=9/1の混合溶媒8.9gを仕込み、65℃に昇温して5時間反応させた。反応溶液を40℃以下まで冷却した後、100Paに減圧して70℃まで昇温して2時間、脱溶工程を行った。その後、室温まで冷却してアルコキシシランの一部をシラノールへ変換した化合物14.0gを得た。また、シラノールへの変換率は54.5%であった。
(Production example of energy ray curable polysiloxane resin)
In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, a condenser, a stirrer, and a heating device, 15.0 g of (3-acryloxypropyl) methyldimethoxysilane (trade name: KBM-5102, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) , 1.9 g of distilled water, 0.04 g of acetic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 8.9 g of a mixed solvent of ethanol / methanol = 9/1 by mass ratio, heated to 65 ° C. for 5 hours Reacted. After cooling the reaction solution to 40 ° C. or lower, the pressure was reduced to 100 Pa, the temperature was raised to 70 ° C., and a desolubilization step was performed for 2 hours. Then, it cooled to room temperature and obtained 14.0g of compounds which converted a part of alkoxysilane into silanol. The conversion rate to silanol was 54.5%.

アルコキシシランのシラノールへの変換率は、赤外分光測定における水酸基由来のピーク(3435cm−1付近)の強度(A)とアルコキシ基由来のピーク(2835cm−1付近)の強度(B)から変換率=A/(A+B)×100により求められる。ジメトキシシランをシラノールに変換後の赤外分光測定より、(A)がAbs=0.250、(B)がAbs=0.211であったことから、変換率は54.5%と算出した。 The conversion rate of alkoxysilane to silanol is determined based on the intensity (A) of a peak derived from a hydroxyl group (near 3435 cm −1 ) and the intensity (B) of a peak derived from an alkoxy group (near 2835 cm −1 ) in infrared spectroscopy. = A / (A + B) × 100. From the infrared spectroscopic measurement after conversion of dimethoxysilane to silanol, (A) was Abs = 0.250, and (B) was Abs = 0.221, so the conversion rate was calculated to be 54.5%.

ディーンスタークトラップ、冷却管、撹拌機、加熱装置を備えた四つ口フラスコに、両末端シラノールポリジメチルシロキサン(商品名:X−21−3114、信越化学工業(株)製)48.0g、両末端シラノールポリジメチルジフェニルシロキサン(商品名:X−21−3193B、信越化学工業(株)製)170.0g、前記KBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換したもの9.0g、ビス(2−エチルヘキサン酸)錫(商品名:KCS−405T、城北化学工業(株)製)0.01gを仕込み、ヘプタン中100℃で5時間還流し、反応を行った。温度を50℃まで冷却し、トリメチルエトキシシラン(商品名:KBM−31、信越化学工業(株)製)109.0gを添加し、再び85℃において2時間還流してエンドキャップ反応させた。   In a four-necked flask equipped with a Dean-Stark trap, condenser, stirrer, and heating device, both ends silanol polydimethylsiloxane (trade name: X-21-3114, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 48.0 g, both 170.0 g of terminal silanol polydimethyldiphenylsiloxane (trade name: X-21-3193B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 9.0 g obtained by converting the methoxy group of the KBM-5102 into silanol, bis (2-ethyl Hexanoic acid) tin (trade name: KCS-405T, manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.) (0.01 g) was charged, and the reaction was performed by refluxing in heptane at 100 ° C. for 5 hours. The temperature was cooled to 50 ° C., 109.0 g of trimethylethoxysilane (trade name: KBM-31, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added, and the mixture was refluxed at 85 ° C. for 2 hours to cause an end cap reaction.

次いで温度を75℃に冷却してリン酸ジエチル(別名:エチルアシッドホスフェート)(商品名:JP−502、城北化学工業(株)製)0.01g(脱水縮合触媒ビス(2−エチルヘキサン酸)錫と同質量)を添加し20分攪拌した後、30℃まで冷却した。次いでメタノールを210g、エタノールを90g添加し20分攪拌した。12時間静置した後アルコール層を除去し、100Paに減圧して115℃に昇温し5時間、脱溶を行い、重量平均分子量46,700、粘度16,000、屈折率1.4744のポリシロキサン樹脂148.8gを得た。   Next, the temperature was cooled to 75 ° C. and diethyl phosphate (also known as ethyl acid phosphate) (trade name: JP-502, manufactured by Johoku Chemical Co., Ltd.) 0.01 g (dehydration condensation catalyst bis (2-ethylhexanoic acid)) The same mass as tin) was added and stirred for 20 minutes, and then cooled to 30 ° C. Next, 210 g of methanol and 90 g of ethanol were added and stirred for 20 minutes. After standing for 12 hours, the alcohol layer was removed, the pressure was reduced to 100 Pa, the temperature was raised to 115 ° C. and desolubilization was performed for 5 hours. 148.8 g of siloxane resin was obtained.

このとき、ポリシロキサンの繰り返し単位の原料シロキサン及びシラン化合物総量に対するKBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換したものの割合は、4.2質量%であった。
また、NMRの水素積分比から、この樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン繰り返し単位数は、1.9質量%であった。なお、エチレン性不飽和結合濃度は下記の方法により測定した。
At this time, the ratio of the methoxy group of KBM-5102 converted to silanol with respect to the total amount of raw material siloxane and silane compound of the repeating unit of polysiloxane was 4.2% by mass.
From the hydrogen integration ratio of NMR, the number of repeating units of 3-acryloxypropylmethylsiloxane of this resin was 1.9% by mass. The ethylenically unsaturated bond concentration was measured by the following method.

−エチレン性不飽和結合濃度の測定方法−
3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン繰り返し単位数を、NMRの水素積分比から算出した。NMRチャートにおいて、エチレン性不飽和結合の水素の6ppm近傍の積分値、フェニル基の水素の7.5ppm近傍の積分値、及びメチル基の水素の0.1ppm近傍の積分値を使用した。測定溶媒はCDClとした。
-Measurement method of ethylenically unsaturated bond concentration-
The number of repeating units of 3-acryloxypropylmethylsiloxane was calculated from the hydrogen integration ratio of NMR. In the NMR chart, an integral value near 6 ppm of hydrogen of an ethylenically unsaturated bond, an integral value around 7.5 ppm of hydrogen of a phenyl group, and an integral value of around 0.1 ppm of hydrogen of a methyl group were used. Measurement solvent was CDCl 3.

上記で製造した樹脂において、NMRの水素積分比から算出した(ジフェニルシロキサンのメチル基由来H):(ジメチルシロキサンのフェニル基由来H):(3−アクリロキシプロピルメチルシロキサンのビニル基に結合するH)=10.00:27.89:0.61、であった。各繰り返し単位に含まれる水素数は、ジフェニルシロキサンが10個、ジメチルシロキサンが6個、3−アクリロキシプロピルメチルシロキサンのビニル基に結合する水素が3個であるから、全体の中の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン繰り返し単位数は1.9質量%と算出した。 In the resin prepared above, bonded to a vinyl group of the calculated hydrogen integral ratio (derived from methyl groups of diphenylsiloxane 1 H) :( from phenyl dimethylsiloxane 1 H) :( 3- acryloxypropyl methyl siloxane NMR to 1 H) = 10.00: 27.89: 0.61, was. The number of hydrogen contained in each repeating unit is 10 for diphenylsiloxane, 6 for dimethylsiloxane, and 3 for hydrogen bonded to the vinyl group of 3-acryloxypropylmethylsiloxane. The number of repeating units of loxypropylmethylsiloxane was calculated to be 1.9% by mass.

(調光材料の製造例)
上記「エネルギー線硬化型シリコーン系樹脂の製造例」で得たエネルギー線硬化型ポリシロキサン系樹脂7.0g、光重合開始剤としてのビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(商品名:イルガキュア819、BASFジャパン(株)製)0.2g、前記「光調整懸濁液の製造例」で得た光調整懸濁液3.0gを添加し、1分間機械的に混合し、調光材料を製造した。
(Manufacturing example of light control material)
7.0 g of energy beam curable polysiloxane resin obtained in the above “Production Example of Energy Beam Curable Silicone Resin”, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide as a photopolymerization initiator ( Product name: Irgacure 819, manufactured by BASF Japan Co., Ltd.) 0.2 g, and 3.0 g of the light control suspension obtained in the above “Production Example of Light Control Suspension” were added and mixed mechanically for 1 minute. A light-modulating material was manufactured.

(調光フィルムの製造例)
ITO(インジウム錫の酸化物)の透明導電膜(厚み300Å)がコーティングされているPETフィルム(300R、東洋紡績(株)製、厚み125μm、表面電気抵抗値200〜700Ω)からなる透明導電性樹脂基材を2枚準備した。2枚の透明導電性樹脂基材の上には、それぞれプライマー層を形成した。プライマー層は、以下の方法により形成した。
(Manufacturing example of light control film)
Transparent conductive resin made of PET film (300R, manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 125 μm, surface electrical resistance value 200 to 700Ω) coated with ITO (indium tin oxide) transparent conductive film (thickness 300 mm) Two substrates were prepared. A primer layer was formed on each of the two transparent conductive resin substrates. The primer layer was formed by the following method.

AY42−151(商品名、東レ・ダウコーニング(株))をイソプロピルアルコール:1−メトキシ−2−プロパノール=3:7混合溶媒に1.0質量%となるように溶解しし、プライマー層形成用塗布液を調製した。AY42−151には光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)が含有されている。   AY42-151 (trade name, Toray Dow Corning Co., Ltd.) is dissolved in a mixed solvent of isopropyl alcohol: 1-methoxy-2-propanol = 3: 7 so as to be 1.0% by mass and used for forming a primer layer. A coating solution was prepared. AY42-151 contains a photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone).

前記ITO付き透明導電性樹脂基材の透明導電膜上に、前記プライマー層形成用塗布液を、マイクログラビア法(メッシュ#150)を用いて、全面塗布してプライマー層を形成し、50℃/30s、60℃/30s、70℃/1min乾燥後、UV照射1000mJ/cm(メタルハライドランプ)で光硬化してプライマー層を形成した。
得られたプライマー層の厚みは、73nmであった。プライマー層の膜厚は、瞬間分光光度計F−20(フィルメトリクス(株)製)を用いて測定した。
On the transparent conductive film of the transparent conductive resin substrate with ITO, the primer layer forming coating solution is applied over the entire surface using a microgravure method (mesh # 150) to form a primer layer, After drying at 30 s, 60 ° C./30 s, and 70 ° C./1 min, a primer layer was formed by photocuring with UV irradiation 1000 mJ / cm 2 (metal halide lamp).
The obtained primer layer had a thickness of 73 nm. The film thickness of the primer layer was measured using an instantaneous spectrophotometer F-20 (manufactured by Filmetrics Co., Ltd.).

上記、プライマー層を形成した透明導電性樹脂基材の上に、上記で得られた調光材料を全面塗布し、塗布層を形成した。次いでその上にもう1枚のプライマー層付き透明導電性樹脂基材における透明導電膜が、前記塗布層に対向するようにして積層して密着させた後、メタルハライドランプを用いて4000mJ/cmの紫外線を前記積層した透明導電性樹脂基材のPETフィルム側から照射した。これにより、紫外線硬化した樹脂マトリックス内に、光調整懸濁液が球形の液滴として分散形成された調光フィルムを得た。調光フィルムにおける調光層の厚みは90μmであり、調光フィルムの総厚は340μmであった。 On the transparent conductive resin substrate on which the primer layer was formed, the light control material obtained above was applied over the entire surface to form a coating layer. Next, the transparent conductive film in the other transparent conductive resin substrate with a primer layer was laminated and adhered to the coating layer so as to face the coating layer, and then 4000 mJ / cm 2 using a metal halide lamp. Ultraviolet rays were irradiated from the PET film side of the laminated transparent conductive resin substrate. As a result, a light control film was obtained in which the light control suspension was dispersed and formed as spherical droplets in an ultraviolet cured resin matrix. The thickness of the light control layer in the light control film was 90 micrometers, and the total thickness of the light control film was 340 micrometers.

得られた調光フィルムの一方の面方向からSEM写真を撮影し、任意に選択した複数の光調整懸濁液の液滴の直径を測定し、その平均値として算出した。光調整懸濁液の液滴の平均径は3μmであった。   An SEM photograph was taken from one surface direction of the obtained light control film, the diameters of the droplets of a plurality of arbitrarily selected light control suspensions were measured, and the average value was calculated. The average diameter of the droplets of the light control suspension was 3 μm.

[比較例0]
<干渉縞の波長の測定>
上記得られた調光フィルムに対して入射角が0°となるようにして近赤外光を入射し、8000〜4000cm−1の領域の近赤外分光スペクトルを観察した。測定はFT/IR−6000(日本分光(株)製、InGaAs検出器、分解能4cm−1)を用いた。しかしながら、干渉縞が発生し、内部標準である6050cm−1付近に観測されるピーク、及び6170cm−1付近に観測されるC=C結合由来の第一倍音の吸収ピークを確認することができなかった。干渉縞の波長は、0.26μmであった。
[Comparative Example 0]
<Measurement of interference fringe wavelength>
Near-infrared light was incident on the obtained light control film so that the incident angle was 0 °, and a near-infrared spectrum in the region of 8000 to 4000 cm −1 was observed. The measurement was performed using FT / IR-6000 (manufactured by JASCO Corporation, InGaAs detector, resolution 4 cm −1 ). However, interference fringes are generated, and it is impossible to confirm the peak observed in the vicinity of 6050 cm −1, which is the internal standard, and the absorption peak of the first overtone derived from the C═C bond observed in the vicinity of 6170 cm −1. It was. The wavelength of the interference fringes was 0.26 μm.

[実施例1]
<硬化率の測定>
上記得られた調光フィルムのPETフィルムの表面を、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)の染み込んだ綿棒に200gの荷重を掛けて10往復させてPETフィルムを溶解させた。溶解させた部分の表面粗さの最大高さ(Ry)を、触針式段差・表面形状測定装置(AMBiOS社製、XP−2)を用いて測定したところ、2.5μmであった。
[Example 1]
<Measurement of curing rate>
The PET film surface of the light control film obtained above was reciprocated 10 times by applying a load of 200 g to a cotton swab soaked with hexafluoroisopropanol (HFIP) to dissolve the PET film. When the maximum height (Ry) of the surface roughness of the dissolved part was measured using a stylus type step / surface shape measuring device (manufactured by AMBiOS, XP-2), it was 2.5 μm.

調光フィルムの法線に対して入射角が0°となるようにして、この溶解させた部分に近赤外光を入射し、8000〜4000cm−1の領域の近赤外分光スペクトルを測定した。
また、上記と同様にHFIPの染み込んだ綿棒で表面を溶解させたPETフィルムで未硬化の調光材料を挟んで、同様に近赤外分光スペクトルを測定した。
Near-infrared light was incident on this dissolved portion so that the incident angle was 0 ° with respect to the normal line of the light control film, and a near-infrared spectrum in the region of 8000 to 4000 cm −1 was measured. .
Further, a near-infrared spectroscopic spectrum was similarly measured by sandwiching an uncured light control material with a PET film having the surface dissolved with a cotton swab soaked with HFIP as described above.

6050cm−1付近に観測されるピークは硬化前後で変化しない成分に由来するピークであるであるため、このピークを内部標準とし、6170cm−1付近に観測されるC=C結合由来の第一倍音の吸収ピーク面積と内部標準ピーク面積の比から、下記式により硬化率を算出した。上記で作製した調光フィルムの硬化率は94.3%であった。 Since the peak observed in the vicinity of 6050 cm −1 is a peak derived from a component that does not change before and after curing, the first overtone derived from the C═C bond observed in the vicinity of 6170 cm −1 using this peak as an internal standard. From the ratio between the absorption peak area and the internal standard peak area, the curing rate was calculated by the following formula. The curing rate of the light control film produced above was 94.3%.

硬化率(%)=[1−(A/B)/(A/B)]×100 Curing rate (%) = [1- (A x / B x ) / (A 0 / B 0 )] × 100

は未硬化時(調光材料)のC=C結合由来の第1倍音吸収ピーク面積を表し、Aは硬化後の面積を表し、Bは未硬化時の内部標準ピーク面積を表し、Bは硬化後の面積を表す。完全に硬化した時はA=0となる。 A 0 represents the first overtone absorption peak area derived from the C═C bond when uncured (light control material), A x represents the area after curing, and B 0 represents the internal standard peak area when uncured. , B x represents the area after curing. When completely cured, A x = 0.

<光透過率の評価>
次いで、電圧印加用の通電をとるため、この調光フィルムの端部から調光層の一部を除去し、端部の透明導電膜を露出させた(図4参照)。この調光フィルムに交流電圧を印加して、分光式色差計SZ−Σ90(日本電色工業(株)製)を使用し、A光源、視野角2度で測定したY値(%)を光透過率として測定した。
<Evaluation of light transmittance>
Next, in order to energize for voltage application, a part of the light control layer was removed from the end of the light control film, and the transparent conductive film at the end was exposed (see FIG. 4). An AC voltage was applied to the light control film, and a spectroscopic color difference meter SZ-Σ90 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) was used to measure the Y value (%) measured with an A light source and a viewing angle of 2 degrees. Measured as transmittance.

調光フィルムの光透過率は、交流電圧を印加しない場合(未印加時:Toff)は1.0%であった。また、50Hzの交流電圧100V(実効値)の印加時の調光フィルムの光透過率(Ton)は49%であり、電界印加時と電界未印加時の光透過率の差(ΔT=Ton−Toff)が48と大きく、良好であった。 The light transmittance of the light control film was 1.0% when no AC voltage was applied (not applied: T off ). Further, the light transmittance (T on ) of the light control film when an AC voltage of 100 Hz (effective value) of 50 Hz was applied was 49%, and the difference in light transmittance between when an electric field was applied and when no electric field was applied (ΔT = T on- T off ) was as large as 48 and was good.

<耐熱性の評価>
さらに、110℃で2時間保管した後後の調光フィルムについて、上記光透過率の測定と同様の方法で光透過率を測定し、耐熱性(%)を次式から求めた。その結果、本調光フィルムの耐熱性は95.4%と良好であった。
耐熱性=(耐熱試験後のΔT)/(耐熱試験前のΔT)×100
<Evaluation of heat resistance>
Furthermore, about the light control film after storing at 110 degreeC for 2 hours, the light transmittance was measured by the method similar to the measurement of the said light transmittance, and heat resistance (%) was calculated | required from following Formula. As a result, the heat resistance of the light control film was as good as 95.4%.
Heat resistance = (ΔT after heat test) / (ΔT before heat test) × 100

[実施例2]
実施例1と同様に作製した調光フィルムのPETフィルムの表面を、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)の染み込んだ綿棒に200gの荷重を掛けて10往復させてPETフィルムを溶解させた。調光フィルムの法線に対して近赤外光の入射角が30°となるようにして、この溶解させた部分に近赤外光を入射し、近赤外分光スペクトルを測定した。このときの各ピーク面積から、上記方法により算出した硬化率は、94.4%であり、耐熱性は95.4%であった。
った。
[Example 2]
The PET film surface of the light control film produced in the same manner as in Example 1 was reciprocated 10 times by applying a load of 200 g to a cotton swab soaked with hexafluoroisopropanol (HFIP) to dissolve the PET film. Near-infrared light was incident on this dissolved portion so that the incident angle of near-infrared light was 30 ° with respect to the normal line of the light control film, and a near-infrared spectrum was measured. The curing rate calculated by the above method from each peak area at this time was 94.4%, and the heat resistance was 95.4%.
It was.

なお、近赤外光の入射角を30°とした実施例2の方が、入射角0°の実施例1に比べて、干渉縞の発生が抑えられていた。これは、入射角を傾けることにより基材フィルム表面で1往復あるいは数往復の反射を繰り返した光が検出器に入る確率が減るためではないかと考えられる。   In the second example in which the incident angle of near-infrared light was 30 °, generation of interference fringes was suppressed compared to the first example in which the incident angle was 0 °. This is thought to be because the probability that light having repeated one or several rounds of reflection on the substrate film surface enters the detector by tilting the incident angle is reduced.

[実施例3]
調光フィルムの法線に対する赤外線の入射角度を45°としたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときの硬化率は94.4%であり、耐熱性は95.4%であった。また、近赤外光の入射角を45°とした実施例3の方が、入射角0°の実施例1に比べて、干渉縞の発生が抑えられていた。
[Example 3]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the incident angle of infrared rays with respect to the normal line of the light control film was 45 °. The curing rate at this time was 94.4%, and the heat resistance was 95.4%. Further, in Example 3 in which the incident angle of near-infrared light was 45 °, generation of interference fringes was suppressed compared to Example 1 in which the incident angle was 0 °.

[実施例4]
調光フィルムの法線に対する赤外線の入射角度を60°としたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときの硬化率は94.3%であり、耐熱性は95.4%であった。
また、近赤外光の入射角を60°とした実施例4の方が、入射角0°の実施例1に比べて、干渉縞の発生が抑えられていた。
[Example 4]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the incident angle of infrared rays with respect to the normal line of the light control film was 60 °. The curing rate at this time was 94.3%, and the heat resistance was 95.4%.
Further, in Example 4 in which the incident angle of near-infrared light was 60 °, generation of interference fringes was suppressed compared to Example 1 in which the incident angle was 0 °.

実施例1〜4に示されるように、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法によれば、再現性良く硬化率が測定されることが分かる。また、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法によって得られた硬化率が75〜100%の実施例1〜4の調光フィルムは耐熱性に優れていることが分かる。   As shown in Examples 1 to 4, it can be seen that according to the method for measuring the curing rate of the light control film of the present invention, the curing rate is measured with good reproducibility. Moreover, it turns out that the light control film of Examples 1-4 whose cure rate obtained by the measuring method of the cure rate of the light control film of this invention is 75 to 100% is excellent in heat resistance.

[実施例5]
調光フィルム硬化のための紫外線の照射量を5000mJ/cmとしたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときのRyは2.4μmであり、硬化率は95.4%であり、耐熱性は97.3%であった。
[Example 5]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays for curing the light control film was set to 5000 mJ / cm 2 . At this time, Ry was 2.4 μm, the curing rate was 95.4%, and the heat resistance was 97.3%.

[実施例6]
調光フィルム硬化のための紫外線の照射量を3500mJ/cmとしたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときのRyは2.7μmであり、硬化率は89.4%であり、耐熱性は93.5%であった。
[Example 6]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays for curing the light control film was 3500 mJ / cm 2 . At this time, Ry was 2.7 μm, the curing rate was 89.4%, and the heat resistance was 93.5%.

[実施例7]
調光フィルム硬化のための紫外線の照射量を3000mJ/cmとしたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときRyは2.3μmであり、硬化率は85.1%であり、耐熱性は91.8%であった。
[Example 7]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays for curing the light control film was set to 3000 mJ / cm 2 . At this time, Ry was 2.3 μm, the curing rate was 85.1%, and the heat resistance was 91.8%.

[実施例8]
調光フィルム硬化のための紫外線の照射量を2500mJ/cmとしたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときのRyは2.5μmであり、硬化率は82.9%であり、耐熱性は91.8%であった。
[Example 8]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays for curing the light control film was 2500 mJ / cm 2 . At this time, Ry was 2.5 μm, the curing rate was 82.9%, and the heat resistance was 91.8%.

実施例5〜8に示されるように、本発明の硬化率の測定方法によれば、紫外線の照射率に対応した硬化率となっている。以上から、本発明の硬化率の測定方法によれば、調光フィルムの硬化率が精度良く測定されることが分かる。
また、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法によって得られた硬化率が75〜100%の実施例5〜8の調光フィルムは、耐熱性に優れていることが分かる。
As shown in Examples 5 to 8, according to the method for measuring the curing rate of the present invention, the curing rate corresponds to the irradiation rate of ultraviolet rays. From the above, it can be seen that according to the method of measuring the curing rate of the present invention, the curing rate of the light control film is measured with high accuracy.
Moreover, it turns out that the light control film of Examples 5-8 whose cure rate obtained by the measuring method of the cure rate of the light control film of this invention is 75 to 100% is excellent in heat resistance.

[比較例1]
2枚のKBr板で上記調光材料を挟み、4000〜400cm−1の領域の赤外分光スペクトルを測定した。測定はFTS−6000(BIORAD製、MCT検出器、分解能4cm−1)を用いた。また、上記で製造した調光フィルムを透明導電性樹脂基材から剥がし、2枚のKBr板で挟んで、同様に赤外分光スペクトルを測定した。C=C伸縮振動の指紋領域である1618cm−1及び1636cm−1付近には硬化前後で明瞭なピークは観測されず、硬化率の算出は不可能であった。
[Comparative Example 1]
The light control material was sandwiched between two KBr plates, and the infrared spectrum in the region of 4000 to 400 cm −1 was measured. For the measurement, FTS-6000 (manufactured by BIORAD, MCT detector, resolution 4 cm −1 ) was used. In addition, the light control film produced above was peeled off from the transparent conductive resin substrate, sandwiched between two KBr plates, and the infrared spectrum was measured in the same manner. C = C stretching vibration is fingerprint area of 1618cm -1 and a clear peak in before and after curing in the vicinity 1636 cm -1 is not observed, the calculation of the hardening rate was not possible.

[比較例2]
ガラス製マイクロチューブに調光材料を入れ、3500cm−1〜50cm−1の領域でラマン分光スペクトルを測定した。測定はRFS100(BRUKER製、Nd・YAGレーザー(1064nm))を用いて、レーザー出力300mW、積算回数512回で行った。ほぼ全波数領域でわたって特徴の少ないブロードな散乱ピークが観測されたのみで、硬化率の算出は不可能であった。
[Comparative Example 2]
Put light modulating material in a glass microtube was measured Raman spectrum in the region of 3500 cm -1 to 50 cm -1. The measurement was performed using RFS100 (manufactured by BRUKER, Nd · YAG laser (1064 nm)) with a laser output of 300 mW and an integration count of 512 times. Only a broad scattering peak with few features over almost the entire wavenumber region was observed, and the cure rate could not be calculated.

[調光フィルムの比較例3]
調光フィルム硬化のための紫外線の照射量を2000mJ/cmとしたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときのRyは2.5μmであり、硬化率は73.3%であり、耐熱性は86.4%であった。
[Comparative Example 3 of Light Control Film]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays for curing the light control film was 2000 mJ / cm 2 . At this time, Ry was 2.5 μm, the curing rate was 73.3%, and the heat resistance was 86.4%.

[調光フィルムの比較例4]
調光フィルム硬化のための紫外線の照射量を1500mJ/cmとしたことを除いては、実施例2と同様にして硬化率と耐熱性を測定した。このときのRyは2.7μmであり、硬化率は68.8%であり、耐熱性は81.2%であった。
[Comparative Example 4 of Light Control Film]
The curing rate and heat resistance were measured in the same manner as in Example 2 except that the irradiation amount of ultraviolet rays for curing the light control film was set to 1500 mJ / cm 2 . At this time, Ry was 2.7 μm, the curing rate was 68.8%, and the heat resistance was 81.2%.

実施例1〜8と比較例3及び4との対比により、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法によって得られた硬化率が75%未満の調光フィルムは、耐熱性が急激に低下していることが分かる。   By contrast with Examples 1-8 and Comparative Examples 3 and 4, the light control film having a curing rate of less than 75% obtained by the method for measuring the curing rate of the light control film of the present invention has a sharp decrease in heat resistance. You can see that

図7に、実施例2、5〜8、及び比較例3、4における紫外線の照射量と、本発明の方法で測定された硬化率の関係をグラフに示す。図7に示されるように、紫外線の照射量が多くなるにつれ硬化率が大きくなっており、且つ近似曲線からの誤差も少ないことから、本発明の硬化率の測定方法は、迅速性及び簡便性に優れながら、信頼性にも優れる方法であることが分かる。   In FIG. 7, the relationship between the irradiation amount of the ultraviolet-ray in Example 2, 5-8, and Comparative Examples 3 and 4 and the hardening rate measured by the method of this invention is shown on a graph. As shown in FIG. 7, the curing rate increases as the amount of UV irradiation increases, and the error from the approximate curve is small. Therefore, the method for measuring the curing rate of the present invention is rapid and simple. It can be seen that this method is excellent in reliability but also in reliability.

[調光フィルムの比較例5]
KBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換せずにそのままシロキサン樹脂合成に用いたことを除いては、実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂を合成し、3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン繰り返し単位数が0.8質量%、重量平均分子量45,000、粘度13,500のポリシロキサン樹脂180.5gを得た。このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの硬化率は93.4%であったが、耐熱性は75.2%であった。また、このときのRyは2.3μmであった。
[Comparative Example 5 of Light Control Film]
A polysiloxane resin was synthesized in the same manner as in Example 1 except that the methoxy group of KBM-5102 was used as it was for the synthesis of siloxane resin without being converted to silanol, and the number of repeating units of 3-acryloxypropylmethylsiloxane was Of polysiloxane resin having a weight average molecular weight of 45,000 and a viscosity of 13,500 was obtained. The curing rate of the light control film produced using this polysiloxane resin was 93.4%, but the heat resistance was 75.2%. At this time, Ry was 2.3 μm.

[調光フィルムの比較例6]
仕込み原料を、X−21−3114を48.0g、X−21−3193Bを171.0g、KBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換したもの6.0g、KBM−31を109.0gとしたことを除いては実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂を合成し、重量平均分子量66,600、粘度27,600のポリシロキサン樹脂159.4gを得た。
このときの、ポリシロキサンの繰り返し単位の原料シロキサン及びシラン化合物総量に対するKBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換したものの割合は、2.3質量%であった。また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン繰り返し単位数は、1.2質量%であった。
また、このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの硬化率は92.9%であったが、耐熱性は83.4%であった。また、このときのRyは2.6μmであった。
[Comparative Example 6 of Light Control Film]
The charged raw materials were 48.0 g of X-21-3114, 171.0 g of X-21-3193B, 6.0 g obtained by converting the methoxy group of KBM-5102 to silanol, and 109.0 g of KBM-31. Except for the above, a polysiloxane resin was synthesized in the same manner as in Example 1 to obtain 159.4 g of a polysiloxane resin having a weight average molecular weight of 66,600 and a viscosity of 27,600.
At this time, the ratio of the methoxy group of KBM-5102 converted to silanol with respect to the total amount of raw material siloxane and silane compound of the repeating unit of polysiloxane was 2.3% by mass. From the NMR hydrogen integration ratio, the number of repeating units of 3-acryloxypropylmethylsiloxane of this resin was 1.2% by mass.
Moreover, although the hardening rate of the light control film produced using this polysiloxane resin was 92.9%, heat resistance was 83.4%. At this time, Ry was 2.6 μm.

[調光フィルムの比較例7]
仕込み原料を、X−21−3114を46.0g、X−21−3193Bを164.0g、KBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換したもの47.0g、KBM−31を105.0gとしたことを除いては実施例1と同様にしてポリシロキサン樹脂を合成し、重量平均分子量48,700、粘度9,100のポリシロキサン樹脂169.7gを得た。
このときの、ポリシロキサンの繰り返し単位の原料シロキサン及びシラン化合物総量に対するKBM−5102のメトキシ基をシラノールに変換したものの割合は、18.4質量%であった。また、NMRの水素積分比からこの樹脂の3−アクリロキシプロピルメチルシロキサン繰り返し単位数は、7.6質量%であった。
また、このポリシロキサン樹脂を用いて作製した調光フィルムの硬化率は94.4%であったが、耐熱性は21.2%であった。また、このときのRyは2.4μmであった。
[Comparative Example 7 of Light Control Film]
The charged materials were 46.0 g of X-21-3114, 164.0 g of X-21-3193B, 47.0 g of KBM-5102 converted to silanol, and 105.0 g of KBM-31. Except for the above, a polysiloxane resin was synthesized in the same manner as in Example 1 to obtain 169.7 g of a polysiloxane resin having a weight average molecular weight of 48,700 and a viscosity of 9,100.
At this time, the ratio of the methoxy group of KBM-5102 converted to silanol with respect to the total amount of raw material siloxane and silane compound of the repeating unit of polysiloxane was 18.4% by mass. From the NMR hydrogen integration ratio, the number of repeating units of 3-acryloxypropylmethylsiloxane of this resin was 7.6% by mass.
Moreover, although the cure rate of the light control film produced using this polysiloxane resin was 94.4%, heat resistance was 21.2%. At this time, Ry was 2.4 μm.

実施例1〜8と比較例5〜7との対比により、本発明の調光フィルムの硬化率の測定方法によって得られた硬化率が75〜100%の調光フィルムであっても、前記高分子媒体における(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数が、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%の範囲外の場合には、耐熱性が急激に低下していることが分かる。   By contrast with Examples 1-8 and Comparative Examples 5-7, even if the hardening rate obtained by the measuring method of the hardening rate of the light control film of this invention is 75-100%, the said high It can be seen that when the number of repeating units having a (meth) acryloyl group in the molecular medium is outside the range of 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units, the heat resistance is drastically decreased.

1 調光層
2 樹脂マトリックス
3 液滴
4 透明導電性樹脂基材
5a 透明導電膜
5b 透明樹脂基材
6 プライマー層
7 電源
8 スイッチ
9 分散媒
10 光調整粒子
11 入射光
12 調光層を除去して露出した透明導電膜の表面
13 透明導電膜に電圧印加する導線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light control layer 2 Resin matrix 3 Droplet 4 Transparent conductive resin base material 5a Transparent conductive film 5b Transparent resin base material 6 Primer layer 7 Power supply 8 Switch 9 Dispersion medium 10 Light adjustment particle 11 Incident light 12 The light control layer is removed. Exposed surface 13 of transparent conductive film Conductive wire for applying voltage to transparent conductive film

Claims (12)

高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を2枚の透明導電性樹脂基材で挟持してなる調光フィルムにおける、前記樹脂マトリックスの硬化率を、近赤外分光スペクトルにより測定する方法であり、
近赤外光を調光フィルムに透過させたときに干渉縞が生ずる場合、下記式(I)を満たす前記透明導電性樹脂基材を2枚備えた第二の調光フィルムを用いて近赤外分光スペクトルを測定する、調光フィルム中の樹脂マトリックスの硬化率の測定方法。
式(I):
前記近赤外光の照射領域における表面粗さの最大高さ(Ry)≧前記干渉縞の波長λ×1/2
In a light control film formed by sandwiching a light control layer comprising a resin matrix that is a cured product of a polymer medium and a light control suspension dispersed in the resin matrix between two transparent conductive resin substrates, It is a method of measuring the curing rate of the resin matrix by a near infrared spectrum,
When interference fringes occur when near-infrared light is transmitted through the light control film, a near-red light is obtained using a second light control film provided with two transparent conductive resin substrates that satisfy the following formula (I). A method for measuring a curing rate of a resin matrix in a light control film, which measures an outer spectral spectrum.
Formula (I):
Maximum height (Ry) of surface roughness in the irradiation region of the near infrared light ≧ wavelength λ × 1/2 of the interference fringes
前記透明導電性樹脂基材を溶解可能な溶剤によって、前記近赤外光が照射される領域の前記2枚の透明導電性樹脂基材の表面を溶解して、前記式(I)を満たすように前記透明導電性樹脂基材の表面を加工する請求項1に記載の調光フィルムの硬化率の測定方法。   The surface of the two transparent conductive resin substrates in the region irradiated with the near-infrared light is dissolved by a solvent capable of dissolving the transparent conductive resin substrate to satisfy the formula (I). The method for measuring the curing rate of the light control film according to claim 1, wherein the surface of the transparent conductive resin substrate is processed. 前記2枚の透明導電性樹脂基材がポリエチレンテレフタレートで構成される場合、前記溶剤がヘキサフルオロイソプロパノールである請求項2に記載の調光フィルムの硬化率の測定方法。   3. The method for measuring a curing rate of a light control film according to claim 2, wherein when the two transparent conductive resin substrates are made of polyethylene terephthalate, the solvent is hexafluoroisopropanol. 前記近赤外光を、前記調光フィルムの面に対して30〜60°で入射する請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の調光フィルムの硬化率の測定方法。   The measuring method of the hardening rate of the light control film of any one of Claims 1-3 which injects the said near infrared light at 30-60 degrees with respect to the surface of the said light control film. 高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材で挟持する第一の調光フィルムを作製する工程と、
前記第一の調光フィルムに前記近赤外光を透過したときに干渉縞が発生する場合、下記式(I)を満たす前記透明導電性樹脂基材を2枚備えた第二の調光フィルムを作製する工程と、
前記第二の調光フィルムに近赤外光を透過させて近赤外分光スペクトルを測定し、前記第二の調光フィルム中の前記樹脂マトリックスの硬化率を測定する工程と、
前記測定により得られた前記硬化率を、予め求めておいた前記高分子媒体の硬化条件と硬化率との関係に当てはめて、予め定めた硬化率の範囲内となる前記高分子媒体の硬化条件を導き出す工程と、
前記導き出された硬化条件で前記高分子媒体を硬化した樹脂マトリックスと、前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液と、を含む調光層を、2枚の透明導電性樹脂基材で挟持した第三の調光フィルムを作製する工程と、
を有する調光フィルムの製造方法。
式(I):
前記近赤外光の照射領域における表面粗さの最大高さ(Ry)≧前記干渉縞の波長λ×1/2
1st light control film which sandwiches the light control layer containing the resin matrix which is the hardened | cured material of a polymer medium, and the light adjustment suspension disperse | distributed in the said resin matrix with two transparent conductive resin base materials A step of producing
When interference fringes are generated when the near-infrared light is transmitted through the first light control film, a second light control film including two transparent conductive resin substrates satisfying the following formula (I) A step of producing
A step of transmitting near infrared light to the second light control film to measure a near infrared spectrum, and measuring a curing rate of the resin matrix in the second light control film;
Applying the curing rate obtained by the measurement to the previously determined relationship between the curing condition and the curing rate of the polymer medium, the curing condition of the polymer medium that falls within a predetermined curing rate range The process of deriving
A dimming layer comprising a resin matrix obtained by curing the polymer medium under the derived curing conditions, and a light control suspension dispersed in the resin matrix is formed of two transparent conductive resin substrates. Producing a sandwiched third light control film;
The manufacturing method of the light control film which has these.
Formula (I):
Maximum height (Ry) of surface roughness in the irradiation region of the near infrared light ≧ wavelength λ × 1/2 of the interference fringes
前記第二の調光フィルムを作製する工程において、前記透明導電性樹脂基材を溶解可能な溶剤により、前記第一の調光フィルムの2枚の透明導電性樹脂基材の表面における前記近赤外光が照射される領域を溶解して、前記式(I)を満たすように前記透明導電性樹脂基材の表面を加工する請求項5に記載の調光フィルムの製造方法。   In the step of producing the second light control film, the near red color on the surface of the two transparent conductive resin base materials of the first light control film by a solvent capable of dissolving the transparent conductive resin base material. The manufacturing method of the light control film of Claim 5 which melt | dissolves the area | region to which external light is irradiated, and processes the surface of the said transparent conductive resin base material so that the said Formula (I) may be satisfy | filled. 前記2枚の透明導電性樹脂基材がポリエチレンテレフタレートで構成される場合、前記溶剤がヘキサフルオロイソプロパノールである請求項6に記載の調光フィルムの製造方法。   The method for producing a light control film according to claim 6, wherein when the two transparent conductive resin substrates are composed of polyethylene terephthalate, the solvent is hexafluoroisopropanol. 前記硬化率を測定する工程において、前記近赤外光を前記第二の調光フィルムの面に対して30〜60°で入射する請求項5〜請求項7のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。   The process according to any one of claims 5 to 7, wherein in the step of measuring the curing rate, the near infrared light is incident on the surface of the second light control film at 30 to 60 °. Manufacturing method of optical film. 前記予め定めた硬化率が、75〜100%である請求項5〜請求項8のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。   The method for producing a light control film according to any one of claims 5 to 8, wherein the predetermined curing rate is 75 to 100%. 前記高分子媒体が(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン構造を有し、前記(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数が、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%である請求項5〜請求項9のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。   The polymer medium has a polysiloxane structure having a (meth) acryloyl group, and the number of repeating units having the (meth) acryloyl group is 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units. The manufacturing method of the light control film of any one of Claims 5-9. 前記高分子媒体の重量平均分子量が35,000〜60,000である請求項5〜請求項10のいずれか1項に記載の調光フィルムの製造方法。   The method for producing a light control film according to any one of claims 5 to 10, wherein the polymer medium has a weight average molecular weight of 35,000 to 60,000. 2枚の透明導電性樹脂基材と、
前記2枚の透明導電性樹脂基材に挟持された、高分子媒体の硬化物である樹脂マトリックスと前記樹脂マトリックス中に分散された光調整懸濁液とを含む調光層と、を有し、
前記高分子媒体が(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサン構造を有し、前記(メタ)アクリロイル基を有する繰り返し単位数が、繰り返し単位数全体の1.3〜5.0質量%であり、
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の硬化率の測定方法により得た前記樹脂マトリックスの硬化率が、75〜100%である調光フィルム。
Two transparent conductive resin substrates;
A light control layer including a resin matrix, which is a cured product of a polymer medium, sandwiched between the two transparent conductive resin substrates, and a light control suspension dispersed in the resin matrix; ,
The polymer medium has a polysiloxane structure having a (meth) acryloyl group, and the number of repeating units having the (meth) acryloyl group is 1.3 to 5.0% by mass of the total number of repeating units,
The light control film whose cure rate of the said resin matrix obtained by the measuring method of the cure rate of any one of Claims 1-4 is 75 to 100%.
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