JP2012235009A - Face-down type mounting structure - Google Patents

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Sukenori Sanada
祐紀 眞田
Toshihiko Takahata
利彦 高畑
Shingo Higuchi
晋吾 樋口
Norihisa Imaizumi
典久 今泉
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    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the proper visual check of a connecting state of a semiconductor chip and a substrate electrode, in a face-down type mounting structure in which the semiconductor is face-down mounted on a substrate.SOLUTION: A face-down mounting type mounting structure includes a semiconductor chip 10 having a main surface electrode 14 on one main surface 11, and a substrate 20 having a substrate electrode 22 on one surface 21. While the one main surface 11 is opposed to the one surface 21 of the substrate 20, the semiconductor chip 10 is mounted on the one surface 21 of the substrate 20. On a side surface 13 positioned on an outline of the one main surface 11 of the semiconductor chip 10, a conductor portion 15 electrically connected with a main surface electrode 14 and extended from the main surface 11 to the side surface 13 is provided. On the side surface 13 of the semiconductor 10, the conductor portion 15 and the substrate electrode 22 are connected with each other through a conductive joint material 30.

Description

本発明は、半導体などよりなるチップをフェイスダウンで基板上に搭載するフェイスダウン型実装構造に関する。   The present invention relates to a face-down type mounting structure in which a chip made of a semiconductor or the like is mounted on a substrate face-down.

一般に、この種のフェイスダウン型実装構造としては、一方の主面に主面電極を有する半導体などよりなるチップと、一面上に基板電極などの導電性を有する被接合体を有する基板とを備え、一方の主面を基板の一面に対向させた状態、いわゆるフェイスダウンの状態で、チップを基板の一面上に搭載し、チップと基板との間にて主面電極と基板電極とを、バンプ等を介して接続してなるものが提案されている(たとえば、特許文献1参照)。   In general, this type of face-down type mounting structure includes a chip made of a semiconductor having a main surface electrode on one main surface and a substrate having a conductive object such as a substrate electrode on one surface. The chip is mounted on one surface of the substrate with one main surface facing one surface of the substrate, so-called face down, and the main surface electrode and the substrate electrode are bumped between the chip and the substrate. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-260826 has been proposed.

特開2001−85471号公報JP 2001-85471 A

しかし、このフェイスダウン型実装構造においては、基板の一面上から見て、チップと基板との両電極同士の接続部がチップの下に隠れて見えないため、その接続状態を視認することができない。そのため、当該接続状態の確認は、別途行う電気的検査に委ねられる。   However, in this face-down type mounting structure, the connection between the electrodes of the chip and the substrate is hidden under the chip and cannot be seen when viewed from one side of the substrate, so that the connection state cannot be visually recognized. . For this reason, the confirmation of the connection state is left to a separate electrical inspection.

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、チップを基板にフェイスダウン実装してなるフェイスダウン型実装構造において、チップと被接合体との接続状態を適切に視認できるようにすることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and in a face-down type mounting structure in which a chip is mounted face-down on a substrate, the connection state between the chip and an object to be bonded can be appropriately visually confirmed. With the goal.

上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、一方の主面(11)に主面電極(14)を有するチップ(10)と、
一面(21)上に導電性を有する被接合体(22、23)を有する基板(20)とを備え、
一方の主面(11)を基板(20)の前記一面(21)に対向させた状態で、チップ(10)が基板(20)の一面(21)上に搭載されてなるフェイスダウン型実装構造において、
チップ(10)の一方の主面(11)の外郭に位置する側面(13)には、主面電極(14)と導通し一方の主面(11)から側面(13)に亘って延設された導体部(15)が設けられており、
チップ(10)の側面(13)にて、導体部(15)と被接合体(22、23)とが導電性接合材(30)を介して接続されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, in the invention according to claim 1, a chip (10) having a main surface electrode (14) on one main surface (11),
A substrate (20) having a conductive body (22, 23) having conductivity on one surface (21),
A face-down type mounting structure in which the chip (10) is mounted on one surface (21) of the substrate (20) with one main surface (11) facing the one surface (21) of the substrate (20). In
The side surface (13) located on the outer surface of one main surface (11) of the chip (10) is electrically connected to the main surface electrode (14) and extends from the one main surface (11) to the side surface (13). Conductor part (15) provided,
In the side surface (13) of the chip (10), the conductor portion (15) and the members to be joined (22, 23) are connected via the conductive bonding material (30).

それによれば、チップ(10)をフェイスダウン実装したときに、基板(20)の一面(21)上の被接合体(22)とチップ(10)の側面(13)の導体部(15)とが、導電性接合材(30)を介して接続されることで、チップ(10)と被接合体(22)との接続がなされるが、この導体部(15)における接続部分は、チップ(10)の下に隠れることなく視認できる。そのため、チップ(10)と被接合体(22)との接続状態を適切に視認することができる。   According to this, when the chip (10) is mounted face down, the joined body (22) on the one surface (21) of the substrate (20) and the conductor (15) on the side surface (13) of the chip (10) However, by connecting through the conductive bonding material (30), the chip (10) and the bonded body (22) are connected. 10) Visible without being hidden underneath. Therefore, it is possible to appropriately visually recognize the connection state between the chip (10) and the joined body (22).

ここで、請求項2に記載の発明のように、請求項1に記載のフェイスダウン型実装構造においては、導体部(15)は、一端が一方の主面(11)にて主面電極(14)に接続され、他端側が一方の主面(11)から側面(13)まで連続して延びる導体膜よりなるものにできる。   Here, as in the invention according to claim 2, in the face-down type mounting structure according to claim 1, one end of the conductor portion (15) is the main surface electrode (11) at one main surface (11). 14), and the other end side is made of a conductive film continuously extending from one main surface (11) to the side surface (13).

さらに、請求項3に記載の発明のように、請求項2のフェイスダウン型実装構造において、一方の主面(11)から側面(13)に渡って、導体部(15)と被接合体(22)とが導電性接合材(30)を介して接続されているものにすれば、導体部(15)と被接合体(22)との接続強度の向上という点で好ましい。   Further, as in the invention according to claim 3, in the face-down type mounting structure according to claim 2, the conductor portion (15) and the joined body (from the main surface (11) to the side surface (13) ( 22) is preferably connected through the conductive bonding material (30) in terms of improving the connection strength between the conductor portion (15) and the object to be bonded (22).

また、請求項4に記載の発明では、請求項1ないし3のいずれか1つに記載のフェイスダウン型実装構造において、半導体チップ(10)において一方の主面(11)と側面(13)とがなす内角(θ)が鈍角であることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the face-down type mounting structure according to any one of the first to third aspects, the one main surface (11) and the side surface (13) of the semiconductor chip (10) The interior angle (θ) formed by is an obtuse angle.

それによれば、一方の主面(11)と側面(13)とがなす内角(θ)が直角もしくはそれ未満である場合に比べて、導体部(15)が断線しにくいものとなる。   According to this, compared with the case where the internal angle (θ) formed by one main surface (11) and the side surface (13) is a right angle or less, the conductor portion (15) is less likely to be disconnected.

また、請求項5に記載の発明では、請求項1ないし4のいずれか1つに記載のフェイスダウン型実装構造において、半導体チップ(10)の一方の主面(11)と基板(20)の一面(21)との間には、半導体チップ(10)と基板(20)とを接着する非導電性のアンダーフィル材(40)が介在していることを特徴とする。   In the invention according to claim 5, in the face-down type mounting structure according to any one of claims 1 to 4, one main surface (11) of the semiconductor chip (10) and the substrate (20) A non-conductive underfill material (40) for bonding the semiconductor chip (10) and the substrate (20) is interposed between the one surface (21).

それによれば、アンダーフィル材(40)によって半導体チップ(10)と基板(20)との機械的接続強度が補強される。   According to this, the mechanical connection strength between the semiconductor chip (10) and the substrate (20) is reinforced by the underfill material (40).

また、請求項6に記載の発明では、請求項1ないし5のいずれか1つに記載のフェイスダウン型実装構造において、半導体チップ(10)は複数個備えられ、
すべての半導体チップ(10)が一方の主面(11)を基板(20)の一面(21)に向けた状態で、複数個の前記半導体チップ(10)は積層されて積層体(100)を形成しており、
複数個の前記半導体チップ(10)の側面(13)に、個々の半導体チップ(10)の導体部(15)同士をつなぐように導電性材料(60)が設けられることにより、複数個の半導体チップ(10)同士が電気的に接続されており、
積層体(100)のうち基板(20)の一面(21)と対向する半導体チップ(10)の側面(13)にて、導体部(15)と被接合体(22、23)との導電性接合材(30)を介した接続が行われていることを特徴とする。
In the invention according to claim 6, in the face-down type mounting structure according to any one of claims 1 to 5, a plurality of semiconductor chips (10) are provided.
With all the semiconductor chips (10) having one main surface (11) facing one surface (21) of the substrate (20), a plurality of the semiconductor chips (10) are stacked to form the stacked body (100). Formed,
By providing a conductive material (60) on the side surface (13) of the plurality of semiconductor chips (10) so as to connect the conductor portions (15) of the individual semiconductor chips (10), a plurality of semiconductor chips is obtained. The chips (10) are electrically connected to each other,
Conductivity between the conductor portion (15) and the joined body (22, 23) on the side surface (13) of the semiconductor chip (10) facing the one surface (21) of the substrate (20) in the multilayer body (100). The connection via the bonding material (30) is performed.

それによれば、複数個の半導体チップ(10)を積層した構成を容易に実現することができ、小型化等の点で好ましい。   According to this, the structure which laminated | stacked the several semiconductor chip (10) can be implement | achieved easily, and it is preferable at points, such as size reduction.

なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。   In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each means described in the claim and this column is an example which shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.

(a)は本発明の第1実施形態にかかるフェイスダウン型実装構造の概略断面図であり、(b)は(a)中の半導体チップのA矢視平面図であり、(c)は、(a)中の半導体チップのB矢視平面図である。(A) is a schematic sectional drawing of the face-down type mounting structure concerning 1st Embodiment of this invention, (b) is an A arrow top view of the semiconductor chip in (a), (c), It is a B arrow top view of the semiconductor chip in (a). 上記第1実施形態にかかる実装構造における半導体チップの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the semiconductor chip in the mounting structure concerning the said 1st Embodiment. 図2(c)に示される導体部形成工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the conductor part formation process shown by FIG.2 (c). 本発明の第2実施形態にかかる半導体チップの製造工程および実装工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process and mounting process of the semiconductor chip concerning 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態にかかるフェイスダウン型実装構造の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the face-down type mounting structure concerning 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態にかかるフェイスダウン型実装構造の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the face-down type mounting structure concerning 4th Embodiment of this invention. 上記第4実施形態の他の例としてのフェイスダウン型実装構造の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the face down type mounting structure as another example of the said 4th Embodiment. 本発明の第5実施形態にかかる半導体チップの製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of the semiconductor chip concerning 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6実施形態にかかる半導体チップの製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of the semiconductor chip concerning 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7実施形態にかかる半導体チップの実装工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the mounting process of the semiconductor chip concerning 7th Embodiment of this invention. 上記第7実施形態の他の例としての半導体チップの実装工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the mounting process of the semiconductor chip as another example of the said 7th Embodiment. 上記第7実施形態のもう一つ他の例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows another example of the said 7th Embodiment. 本発明の第8実施形態にかかるフェイスダウン型実装構造の概略平面図である。It is a schematic plan view of the face-down type mounting structure concerning 8th Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, parts that are the same or equivalent to each other are given the same reference numerals in the drawings in order to simplify the description.

(第1実施形態)
図1において、(a)は本発明の第1実施形態に係るフェイスダウン型実装構造S1の概略断面構成を示す図であり、(b)は、(a)中の矢印A方向から視たときの半導体チップ10の一方の主面11の概略平面構成を示す図であり、(c)は、(b)中の矢印B方向から視たときの半導体チップ10の側面13の概略平面構成を示す図である。
(First embodiment)
In FIG. 1, (a) is a figure which shows schematic sectional structure of the face-down type mounting structure S1 which concerns on 1st Embodiment of this invention, (b) is when it sees from the arrow A direction in (a). It is a figure which shows the schematic plane structure of one main surface 11 of the semiconductor chip 10 of this, (c) shows the schematic plane structure of the side surface 13 of the semiconductor chip 10 when it sees from the arrow B direction in (b). FIG.

本実施形態の実装構造S1は、大きくは、一方の主面11に主面電極14を有する半導体チップ10と、一面21上に導電性の被接合体としての基板電極22を有する基板20とを備え、半導体チップ10が基板20の一面21上にフェイスダウンで実装されてなるフェイスダウン実装型のものである。   The mounting structure S1 of the present embodiment roughly includes a semiconductor chip 10 having a main surface electrode 14 on one main surface 11 and a substrate 20 having a substrate electrode 22 as a conductive bonded body on one surface 21. The semiconductor chip 10 is a face-down mounting type in which the semiconductor chip 10 is mounted face-down on the one surface 21 of the substrate 20.

半導体チップ10は、一般的なシリコン半導体などよりなる板状のICチップなどであって、典型的には矩形板状をなし、表裏の関係にある両板面11、12が主面とされるものである。このような半導体チップ10は一般的な半導体プロセスにより形成される。   The semiconductor chip 10 is a plate-shaped IC chip made of a general silicon semiconductor or the like, and typically has a rectangular plate shape. Both plate surfaces 11 and 12 having a front-back relationship are the main surfaces. Is. Such a semiconductor chip 10 is formed by a general semiconductor process.

主面電極14は、アルミニウムなどよりなるパターニングされた電極であり、半導体チップ10を外部と電気的に接続するものである。この主面電極14は、半導体チップ10における表面である一方の主面11に配置されていればよいものであり、単数でもよいが、ここでは、典型的なものと同様に、当該一方の主面11の周辺部に複数個配置されている。   The main surface electrode 14 is a patterned electrode made of aluminum or the like, and electrically connects the semiconductor chip 10 to the outside. The main surface electrode 14 only needs to be disposed on one main surface 11 which is the surface of the semiconductor chip 10 and may be singular, but here, as in a typical case, the one main surface electrode 14 is provided. A plurality of peripheral portions of the surface 11 are arranged.

基板20は、セラミック基板やプリント基板、あるいはリードフレームのアイランドなどの板状をなすものであり、その一面21には、被接合体としての基板電極22が設けられている。この基板電極22は、銅の膜や、タングステンにNiめっきを施した膜などよりなるもので、半導体チップ10の主面電極14と電気的に接続されるものである。   The substrate 20 has a plate shape such as a ceramic substrate, a printed substrate, or an island of a lead frame, and a substrate electrode 22 as an object to be joined is provided on one surface 21 thereof. The substrate electrode 22 is made of a copper film, a film obtained by applying nickel plating to tungsten, or the like, and is electrically connected to the main surface electrode 14 of the semiconductor chip 10.

そして、一方の主面11を基板20の一面21に対向させ、他方の主面12を基板20とは反対側に向けた状態で、半導体チップ10が基板20の一面21上に搭載されてなる。このように、半導体チップ10は、基板20の一面21上にフェイスダウン実装されている。   The semiconductor chip 10 is mounted on the one surface 21 of the substrate 20 with one main surface 11 facing the one surface 21 of the substrate 20 and the other main surface 12 facing the opposite side of the substrate 20. . Thus, the semiconductor chip 10 is mounted face down on the one surface 21 of the substrate 20.

ここで、半導体チップ10の一方の主面11の外郭に位置する側面13、ここでは、矩形板状の半導体チップ10における4辺に位置する側面13には、主面電極14と導通し一方の主面11から側面13に亘って延設された導体部15が設けられている。   Here, the side surface 13 positioned on the outer side of one main surface 11 of the semiconductor chip 10, here, the side surface 13 positioned on the four sides of the semiconductor chip 10 having a rectangular plate shape, is electrically connected to the main surface electrode 14. A conductor portion 15 extending from the main surface 11 to the side surface 13 is provided.

具体的には、導体部15は、一端が一方の主面11にて主面電極14に接続され、他端側が一方の主面11から側面13まで連続して延びる導体膜よりなる。このような導体膜としての導体部15は、一般的な無電解めっきにより形成されるNiめっきやCuめっき等よりなる。   Specifically, the conductor portion 15 is made of a conductor film having one end connected to the main surface electrode 14 at one main surface 11 and the other end continuously extending from the one main surface 11 to the side surface 13. The conductor portion 15 as such a conductor film is made of Ni plating, Cu plating, or the like formed by general electroless plating.

そして、図1に示されるように、半導体チップ10の側面13にて、導体部15と基板電極22とが導電性接合材30を介して、電気的および機械的に接続されている。ここでは、基板20の一面21上にて被接合体である基板電極22は、一部が半導体チップ10の一方の主面11と重なり、残部が当該一方の主面11の外側に位置している。   As shown in FIG. 1, the conductor portion 15 and the substrate electrode 22 are electrically and mechanically connected via the conductive bonding material 30 on the side surface 13 of the semiconductor chip 10. Here, a part of the substrate electrode 22 which is a bonded body on the one surface 21 of the substrate 20 overlaps with one main surface 11 of the semiconductor chip 10, and the remaining part is located outside the one main surface 11. Yes.

そして、半導体チップ10の側面13においては、基板電極22のうち当該一方の主面11の外側に位置する部位と導体部15とが導電性接合材30を介して接続されている。この導電性接合材30は、一般的なAgペーストなどの導電性接着剤やはんだ等よりなるものである。   On the side surface 13 of the semiconductor chip 10, a portion of the substrate electrode 22 located outside the one main surface 11 is connected to the conductor portion 15 via a conductive bonding material 30. The conductive bonding material 30 is made of a conductive adhesive such as a general Ag paste, solder, or the like.

次に、本実施形態の半導体チップ10の基板20への実装構造S1の形成方法、つまり、本実施形態のフェイスダウン型実装構造S1の製造方法について、図2、図3を参照して述べる。   Next, a method for forming the mounting structure S1 on the substrate 20 of the semiconductor chip 10 of this embodiment, that is, a method for manufacturing the face-down type mounting structure S1 of this embodiment will be described with reference to FIGS.

図2は、本実装構造S1における半導体チップ10の製造方法を示す工程図であり、各工程におけるワークの概略断面を示している。また、図3は、図2(c)に示される導体部形成工程を示す工程図であり、(a)は斜視図、(b)〜(e)は(a)中の矢印C方向から視たときの各工程の状態を示す概略平面図である。   FIG. 2 is a process diagram showing a method of manufacturing the semiconductor chip 10 in the mounting structure S1, and shows a schematic cross section of a work in each process. 3A and 3B are process diagrams showing the conductor portion forming process shown in FIG. 2C, where FIG. 3A is a perspective view, and FIGS. 3B to 3E are viewed from the direction of arrow C in FIG. It is a schematic plan view which shows the state of each process at the time.

まず、図2(a)に示されるように、シリコン半導体などよりなる半導体ウェハ1に対して、一般的な半導体プロセスにより、図示しないトランジスタなどの素子および主面電極14を形成する(主面電極形成工程)。   First, as shown in FIG. 2A, an element such as a transistor (not shown) and a main surface electrode 14 are formed on a semiconductor wafer 1 made of a silicon semiconductor or the like by a general semiconductor process (main surface electrode). Forming step).

次に、図2(b)に示されるように、ダイシングカットやエッチングなどにより、半導体ウェハ1のスクライブ領域をハーフカットする(ハーフカット工程)。ここで、半導体チップ10における一方の主面11側からハーフカットを行い、これにより、ハーフカットされた部分に形成された溝の側面13が、最終的に半導体チップ10における側面13となる。   Next, as shown in FIG. 2B, the scribe region of the semiconductor wafer 1 is half-cut by dicing cut or etching (half-cut process). Here, half cutting is performed from the one main surface 11 side of the semiconductor chip 10, whereby the side surface 13 of the groove formed in the half-cut portion finally becomes the side surface 13 of the semiconductor chip 10.

続いて、図2(c)に示される導体部形成工程を行い、フォトリソグラフ法を用いて上記NiめっきやCuめっき等よりなる導体部15を形成する。   Then, the conductor part formation process shown by FIG.2 (c) is performed, and the conductor part 15 which consists of said Ni plating, Cu plating, etc. is formed using the photolithographic method.

この導体部形成工程では、まず、図3(a)、(b)に示されるハーフカット終了直後の状態から、図3(c)に示されるように、半導体ウェハ1において、ハーフカット部分の溝を含む半導体チップ10の一方の主面11側の面の全体に、フォトレジスト2を形成する。   In this conductor portion forming step, first, from the state immediately after the end of the half cut shown in FIGS. 3A and 3B, as shown in FIG. The photoresist 2 is formed on the entire surface of the semiconductor chip 10 including the main surface 11 side.

次に、図3(d)に示されるように、フォトレジスト2をパターニングすることにより、フォトレジスト2を、ハーフカット部分の溝および導体部13を形成する部位にて開口した形状とする。   Next, as shown in FIG. 3D, by patterning the photoresist 2, the photoresist 2 is formed in an opening shape at a portion where the groove of the half cut portion and the conductor portion 13 are formed.

続いて、図3(e)に示されるように、このフォトレジスト2の開口部に、無電解めっきなどにより導体部15を形成し、その後、図3(f)に示されるように、フォトレジスト2を除去する。こうして、導体部15が形成される。なお、この状態では、各導体部15は、上記溝に形成される連結部15aにより一体化されているが、この連結部15aは後に行われる研磨工程による半導体ウェハ1の分割により除去される。   Subsequently, as shown in FIG. 3E, a conductor portion 15 is formed in the opening of the photoresist 2 by electroless plating or the like, and then, as shown in FIG. 2 is removed. In this way, the conductor part 15 is formed. In this state, each conductor portion 15 is integrated by a connecting portion 15a formed in the groove, but this connecting portion 15a is removed by dividing the semiconductor wafer 1 by a polishing process performed later.

こうして、導体部形成工程を行った後、次に、図2(d)に示されるように、研磨工程を行い、図2(e)に示されるように、半導体ウェハ1を個々の半導体チップ10の単位に分割する。   After performing the conductor portion forming step in this way, next, as shown in FIG. 2D, a polishing step is performed, and as shown in FIG. 2E, the semiconductor wafer 1 is divided into individual semiconductor chips 10. Divide into units.

具体的には、半導体ウェハ1を支持台4に搭載して支持し、砥石3を用いて、半導体ウェハ1における半導体チップ10の一方の主面11となる面とは反対側の面から研磨を行い、半導体ウェハ1を当該反対側の面からハーフカット部分の溝まで薄肉化するとともに、上記連結部15aを除去する。これにより、図2(e)に示されるように、導体部15を有する半導体チップ10ができあがる。   Specifically, the semiconductor wafer 1 is mounted on and supported by the support base 4, and polishing is performed using a grindstone 3 from a surface opposite to the surface that becomes one main surface 11 of the semiconductor chip 10 in the semiconductor wafer 1. The semiconductor wafer 1 is thinned from the opposite surface to the half-cut groove, and the connecting portion 15a is removed. Thereby, as shown in FIG. 2E, the semiconductor chip 10 having the conductor portion 15 is completed.

こうして、できあがった半導体チップ10は、上記図1に示されるように、基板20の一面21上にフェイスダウン実装される。この実装工程では、具体的には、基板10の一面21の基板電極22に導電性接合材30を配設しておき、一方の主面11を基板20の一面21に対向させ、他方の主面12を基板20とは反対側に向けた状態で、導電性接合材30を介して、半導体チップ10を基板20の一面21上に搭載する。   Thus, the completed semiconductor chip 10 is face-down mounted on one surface 21 of the substrate 20 as shown in FIG. Specifically, in this mounting process, the conductive bonding material 30 is disposed on the substrate electrode 22 on the one surface 21 of the substrate 10, one main surface 11 is opposed to the one surface 21 of the substrate 20, and the other main surface 11 is disposed. With the surface 12 facing away from the substrate 20, the semiconductor chip 10 is mounted on the one surface 21 of the substrate 20 via the conductive bonding material 30.

そして、導電性接合材30を硬化または固化させる処理等を行えば、導体部15と基板電極22とが導電性接合材30を介して、機械的および電気的に接続される。その結果として、半導体チップ10と基板電極22との機械的および電気的接続がなされ、図1に示される本実施形態の実装構造S1ができあがるのである。   And if the process etc. which harden | cure or solidify the electroconductive joining material 30 are performed, the conductor part 15 and the board | substrate electrode 22 will be connected mechanically and electrically via the electroconductive joining material 30. FIG. As a result, the semiconductor chip 10 and the substrate electrode 22 are mechanically and electrically connected, and the mounting structure S1 of this embodiment shown in FIG. 1 is completed.

このように、本実施形態によれば、半導体チップ10を基板20上にフェイスダウン実装したときに、基板20の一面21上の被接合体である基板電極22と半導体チップ10の側面13の導体部15とが、導電性接合材30を介して接続されることで、半導体チップ10と基板電極22との接続がなされる。   As described above, according to this embodiment, when the semiconductor chip 10 is mounted face-down on the substrate 20, the substrate electrode 22 that is the bonded body on the one surface 21 of the substrate 20 and the conductor on the side surface 13 of the semiconductor chip 10. The part 15 is connected via the conductive bonding material 30, whereby the semiconductor chip 10 and the substrate electrode 22 are connected.

そのため、この導体部15の接続部分は、半導体チップ10の一方の主面11と基板20の一面21との間から半導体チップ10の側面13にはみ出して位置するので、半導体チップ10の下に隠れることなく視認できる。よって、本実施形態によれば、半導体チップ10と被接合体である基板電極22との接続状態を適切に視認することができる。   Therefore, the connection portion of the conductor portion 15 is located so as to protrude from the side surface 13 of the semiconductor chip 10 from between the one main surface 11 of the semiconductor chip 10 and the one surface 21 of the substrate 20, and is hidden under the semiconductor chip 10. Visible without any problem. Therefore, according to this embodiment, it is possible to appropriately visually recognize the connection state between the semiconductor chip 10 and the substrate electrode 22 that is the bonded body.

(第2実施形態)
図4は、本発明の第2実施形態に係る半導体チップ10の製造工程および実装工程を示す工程図であり、各工程におけるワークの概略断面を示している。本実施形態は、最終的に、図4(d)に示されるフェイスダウン型実装構造S2を製造するものであるが、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
(Second Embodiment)
FIG. 4 is a process diagram showing a manufacturing process and a mounting process of the semiconductor chip 10 according to the second embodiment of the present invention, and shows a schematic cross section of a work in each process. In the present embodiment, the face-down type mounting structure S2 shown in FIG. 4D is finally manufactured. The difference from the first embodiment will be mainly described.

まず、本実施形態では、上記同様の主面電極形成工程によって形成された半導体ウェハ1を用意し、これをハーフカット工程に供する。本実施形態のハーフカット工程では、図4(a)に示されるように、ハーフカット部分の溝が断面V字形状の溝となるように、ハーフカットを行う。このようなハーフカットは、ダイシングにおける刃具形状の調整やテーパエッチングなどにより可能である。   First, in this embodiment, the semiconductor wafer 1 formed by the main surface electrode forming process similar to the above is prepared, and this is subjected to a half-cut process. In the half-cut process of the present embodiment, as shown in FIG. 4A, half-cut is performed so that the groove in the half-cut portion is a groove having a V-shaped cross section. Such half-cutting is possible by adjusting the cutting tool shape in dicing, taper etching, or the like.

次に、図4(b)に示されるように、上記同様にして、導体部形成工程を行い、導体部15を形成する。その後、図4(c)に示されるように、上記同様にして研磨工程を行い、半導体ウェハ1を個々の半導体チップ10の単位に分割する。   Next, as shown in FIG. 4B, the conductor part forming step is performed in the same manner as described above to form the conductor part 15. Thereafter, as shown in FIG. 4C, a polishing step is performed in the same manner as described above, and the semiconductor wafer 1 is divided into individual semiconductor chip 10 units.

こうして、できあがった半導体チップ10は、図4(d)に示されるように、一方の主面11と側面13とがなす内角θが鈍角となっている。そして、この半導体チップ10を、上記同様に、基板20の一面21上にフェイスダウン実装することにより、図4(d)に示される本実施形態のフェイスダウン型実装構造S2ができあがる。   As shown in FIG. 4D, the semiconductor chip 10 thus completed has an obtuse angle of the internal angle θ formed by the one main surface 11 and the side surface 13. Then, by mounting the semiconductor chip 10 face down on the one surface 21 of the substrate 20 in the same manner as described above, the face down type mounting structure S2 of this embodiment shown in FIG. 4D is completed.

このように、本実施形態によれば、半導体チップ10において一方の主面11と側面13とがなす内角θが鈍角であるものとなるから、当該内角θが直角もしくはそれ未満である場合に比べて、導体部15が断線しにくいものとなる。   As described above, according to the present embodiment, the internal angle θ formed by one main surface 11 and the side surface 13 in the semiconductor chip 10 is an obtuse angle, so that the internal angle θ is a right angle or less than that when the internal angle θ is a right angle. Thus, the conductor portion 15 is difficult to be disconnected.

つまり、当該内角θが直角あるいは鋭角の場合、一方の主面11と側面13との角部における導体部15の厚さが薄くなってしまうなどの理由により、当該角部における導体部15の断線が懸念されるが、本実施形態のように、当該内角θを鈍角にすれば、そのような導体部15の断線の懸念が低減する。   That is, when the internal angle θ is a right angle or an acute angle, the conductor portion 15 at the corner portion is disconnected due to a decrease in the thickness of the conductor portion 15 at the corner portion between the one main surface 11 and the side surface 13. However, if the inner angle θ is made obtuse as in the present embodiment, the concern about disconnection of the conductor portion 15 is reduced.

(第3実施形態)
図5は、本発明の第3実施形態に係るフェイスダウン型実装構造S3の概略断面構成を示す図である。本実施形態では、上記第1実施形態の実装構造S1との相違点を中心に述べることとする。
(Third embodiment)
FIG. 5 is a diagram showing a schematic cross-sectional configuration of a face-down type mounting structure S3 according to the third embodiment of the present invention. In the present embodiment, the difference from the mounting structure S1 of the first embodiment will be mainly described.

図5に示されるように、本実装構造においては、半導体チップ10の一方の主面11と基板20の一面21との間に、半導体チップ10と基板20とを接着する非導電性のアンダーフィル材40が介在している。   As shown in FIG. 5, in this mounting structure, a non-conductive underfill that bonds the semiconductor chip 10 and the substrate 20 between one main surface 11 of the semiconductor chip 10 and one surface 21 of the substrate 20. A material 40 is interposed.

具体的に、このアンダーフィル材40としては、半導体電子分野で一般に用いられるアンダーフィル材料である電気絶縁性の樹脂が用いられ、たとえばエポキシ樹脂などよりなる接着剤や、エポキシ樹脂などよりなるフィルム(いわゆるダイアタッチフィルム)などが適用される。   Specifically, as this underfill material 40, an electrically insulating resin, which is an underfill material generally used in the field of semiconductor electronics, is used. For example, an adhesive made of an epoxy resin or a film made of an epoxy resin ( A so-called die attach film) is applied.

本実施形態の実装構造S3は、アンダーフィル材40を介して、基板20上に半導体チップ10をフェイスダウン実装することにより形成される。そして、本実施形態によれば、アンダーフィル材40によって、半導体チップ10と基板20との機械的接続強度が補強されるという効果が期待される。なお、本実施形態は、上記第2実施形態とも組み合わせて適用できることはもちろんである。   The mounting structure S3 of the present embodiment is formed by mounting the semiconductor chip 10 face down on the substrate 20 with the underfill material 40 interposed therebetween. And according to this embodiment, the effect that the mechanical connection strength of the semiconductor chip 10 and the board | substrate 20 is reinforced with the underfill material 40 is anticipated. Of course, this embodiment can be applied in combination with the second embodiment.

(第4実施形態)
図6は、本発明の第4実施形態に係るフェイスダウン型実装構造S4の概略断面構成を示す図である。本実施形態では、上記第1実施形態の実装構造S1との相違点を中心に述べることとする。
(Fourth embodiment)
FIG. 6 is a diagram showing a schematic cross-sectional configuration of a face-down type mounting structure S4 according to the fourth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the difference from the mounting structure S1 of the first embodiment will be mainly described.

図6に示されるように、本実装構造S4においては、基板電極22の一部が半導体チップ10の一方の主面11と重なり合ったものではなく、基板電極22の全体が半導体チップ10の一方の主面11の外側に位置している。   As shown in FIG. 6, in this mounting structure S <b> 4, a part of the substrate electrode 22 is not overlapped with one main surface 11 of the semiconductor chip 10, and the entire substrate electrode 22 is one of the semiconductor chips 10. It is located outside the main surface 11.

換言すれば、半導体チップ10は、基板20の一面21上において基板電極22の内側に位置している。このような場合においても、半導体チップ10の側面13において、導体部15と基板電極22とが導電性接合材30を介して接続されており、半導体チップ10と基板電極22との機械的および電気的接続がなされている。   In other words, the semiconductor chip 10 is located inside the substrate electrode 22 on the one surface 21 of the substrate 20. Even in such a case, on the side surface 13 of the semiconductor chip 10, the conductor portion 15 and the substrate electrode 22 are connected via the conductive bonding material 30, and the mechanical and electrical connection between the semiconductor chip 10 and the substrate electrode 22. Connection is made.

また、図7は、本第4実施形態の他の例としてのフェイスダウン型実装構造S5の概略断面構成を示す図である。この図7の例では、本実施形態の実装構造において、さらに、上記図5に示したものと同様のアンダーフィル材40を、半導体チップ10の一方の主面11と基板20の一面21との間に介在させている。   FIG. 7 is a diagram showing a schematic cross-sectional configuration of a face-down type mounting structure S5 as another example of the fourth embodiment. In the example of FIG. 7, in the mounting structure of this embodiment, an underfill material 40 similar to that shown in FIG. 5 is further applied between one main surface 11 of the semiconductor chip 10 and one surface 21 of the substrate 20. It is interposed in between.

この場合も、上記同様のアンダーフィル材40による機械的強度の補強という効果が期待される。なお、図6、図7に示した本実施形態の実装構造S4、S5は、上記第2実施形態とも組み合わせて適用できることはもちろんである。   Also in this case, the effect of reinforcing the mechanical strength by the underfill material 40 similar to the above is expected. Of course, the mounting structures S4 and S5 of the present embodiment shown in FIGS. 6 and 7 can be applied in combination with the second embodiment.

(第5実施形態)
図8は、本発明の第5実施形態に係る半導体チップ10の製造工程を示す工程図であり、各工程におけるワークの概略断面を示している。本実施形態は、上記図5、図7に示したアンダーフィル材40を用い、このアンダーフィル材40に上記ダイアタッチフィルム(以下、DAFと略す)を用いた例を提供するものである。
(Fifth embodiment)
FIG. 8 is a process diagram showing a manufacturing process of the semiconductor chip 10 according to the fifth embodiment of the present invention, and shows a schematic cross section of a work in each process. This embodiment provides an example in which the underfill material 40 shown in FIGS. 5 and 7 is used, and the die attach film (hereinafter abbreviated as DAF) is used for the underfill material 40.

まず、本実施形態では、上記同様の主面電極形成工程によって形成された半導体ウェハ1を用意し、これをハーフカット工程に供し、その後、上記同様にして導体部形成工程を行い、導体部15を形成する(図8(a)参照)。   First, in the present embodiment, a semiconductor wafer 1 formed by the same principal surface electrode forming process as described above is prepared, and this is subjected to a half-cut process. (See FIG. 8A).

次に、本実施形態では、図8(b)に示されるように、半導体ウェハ1における一方の主面11となる面を、DAF5に押し付けて貼り付ける。このDAF5は、半導体ウェハ1とは反対側の面がフィルム支持体6に貼り付けられて支持されている。   Next, in the present embodiment, as shown in FIG. 8B, the surface to be one main surface 11 in the semiconductor wafer 1 is pressed against the DAF 5 and pasted. The surface of the DAF 5 opposite to the semiconductor wafer 1 is supported by being attached to the film support 6.

そして、上記同様に、砥石3を用いて、半導体ウェハ1における半導体チップ10の一方の主面11となる面とは反対側の面から研磨を行い、半導体ウェハ1を当該反対側の面からハーフカット部分の溝まで薄肉化するとともに、上記連結部15aを除去する。   In the same manner as described above, the grindstone 3 is used to polish the semiconductor wafer 1 from the surface opposite to the one main surface 11 of the semiconductor chip 10, and the semiconductor wafer 1 is half-cut from the opposite surface. While the thickness of the cut portion is reduced, the connecting portion 15a is removed.

ここまでの状態が図8(c)に示され、分割された半導体チップ10は共通のDAF5に貼り付けられている。その後、図8(d)に示されるように、ダイシングやエッチングなどにより、半導体チップ10間の余分なDAF5を除去する。   The state up to this point is shown in FIG. 8C, and the divided semiconductor chip 10 is attached to the common DAF 5. Thereafter, as shown in FIG. 8D, excess DAF 5 between the semiconductor chips 10 is removed by dicing, etching, or the like.

そして、この一方の主面11にDAF5が貼りついている個々の半導体チップ10を、フィルム支持体6から剥がし、これを基板電極22に導電性接合材30が配設されている基板20の一面21に対して、DAF5を介して搭載する。これにより、上記図5、図7に示したようなDAFよりなるアンダーフィル材40を適用した半導体チップ10の実装構造ができあがる。   Then, the individual semiconductor chip 10 having the DAF 5 bonded to the one main surface 11 is peeled off from the film support 6, and the one surface 21 of the substrate 20 in which the conductive bonding material 30 is disposed on the substrate electrode 22. On the other hand, it is mounted via DAF5. Thereby, a mounting structure of the semiconductor chip 10 to which the underfill material 40 made of DAF as shown in FIGS. 5 and 7 is applied is completed.

本実施形態の場合、半導体チップ10とアンダーフィル材40としてのDAFとが一体化しているので、半導体チップ10の基板20への搭載前に、アンダーフィル材40を基板20上に配設する工程が不要となるから、製造コストの低減等が期待できる。なお、本実施形態は、上記第2実施形態とも組み合わせて適用できることはもちろんである。   In the case of this embodiment, since the semiconductor chip 10 and the DAF as the underfill material 40 are integrated, the step of disposing the underfill material 40 on the substrate 20 before mounting the semiconductor chip 10 on the substrate 20. Therefore, the production cost can be reduced. Of course, this embodiment can be applied in combination with the second embodiment.

(第6実施形態)
図9は、本発明の第6実施形態に係る半導体チップ10の製造工程を示す工程図であり、同工程におけるワークの概略断面を示している。
(Sixth embodiment)
FIG. 9 is a process diagram showing a manufacturing process of the semiconductor chip 10 according to the sixth embodiment of the present invention, and shows a schematic cross section of a work in the process.

上記実施形態では、導体部15をめっきによる導体膜としたが、AgペーストやCuペーストなどにより形成される導体膜であってもよい。この場合、図9に示されるように、たとえばインクジェットノズル7によりペーストを塗布し、これを硬化させることで導体部15を形成できる。   In the above embodiment, the conductor portion 15 is a conductor film formed by plating. However, a conductor film formed of Ag paste, Cu paste, or the like may be used. In this case, as shown in FIG. 9, the conductor portion 15 can be formed by applying a paste with, for example, the inkjet nozzle 7 and curing it.

(第7実施形態)
図10は、本発明の第7実施形態に係る半導体チップ10の実装工程を示す工程図であり、各工程におけるワークの概略断面を示している。本実施形態は、最終的に、図10(c)に示されるフェイスダウン型実装構造S6を製造するものであるが、上記第1実施形態との相違点を中心に述べることとする。
(Seventh embodiment)
FIG. 10 is a process diagram showing a mounting process of the semiconductor chip 10 according to the seventh embodiment of the present invention, and shows a schematic cross section of a work in each process. In the present embodiment, the face-down type mounting structure S6 shown in FIG. 10C is finally manufactured. The difference from the first embodiment will be mainly described.

本実施形態の実装構造S6においては、図10(c)に示されるように、半導体チップ10が複数個備えられており、すべての半導体チップ10が一方の主面11を基板20の一面21に向けた状態で、複数個の半導体チップ10は積層されて積層体100を形成している。そして、この積層体100は、その積層方向を基板20の一面21に垂直な方向に沿わせた状態で、基板20の一面21に搭載されている。   In the mounting structure S6 of this embodiment, as shown in FIG. 10C, a plurality of semiconductor chips 10 are provided, and all the semiconductor chips 10 have one main surface 11 on one surface 21 of the substrate 20. In the state of being directed, the plurality of semiconductor chips 10 are stacked to form a stacked body 100. The stacked body 100 is mounted on the one surface 21 of the substrate 20 in a state in which the stacking direction is along a direction perpendicular to the one surface 21 of the substrate 20.

ここで、個々の半導体チップ10間、すなわち互いに隣り合う一方の半導体チップ10の一方の主面11と他方の半導体チップ10の他方の主面12との間には、導電性もしくは非導電性の接着部材50が介在しており、この接着部材50により半導体チップ10同士が固定されている。この接着部材50としては、たとえばエポキシ系の接着剤や接着フィルムなどが挙げられる。   Here, between the semiconductor chips 10, that is, between one main surface 11 of one semiconductor chip 10 adjacent to each other and the other main surface 12 of the other semiconductor chip 10, there is conductive or nonconductive. An adhesive member 50 is interposed, and the semiconductor chips 10 are fixed by the adhesive member 50. Examples of the adhesive member 50 include an epoxy adhesive and an adhesive film.

そして、積層体100においては、複数個の半導体チップ10の側面13にて、個々の半導体チップ10の導体部15同士をつなぐように導電性材料60が設けられることにより、複数個の半導体チップ10同士が電気的に接続されている。この導電性材料60としては、上記した導電性接合材30に適用されるペースト材料の中から選択されたものを採用することができ、ディスペンス法などで塗布することにより形成される。   In the stacked body 100, the conductive material 60 is provided on the side surfaces 13 of the plurality of semiconductor chips 10 so as to connect the conductor portions 15 of the individual semiconductor chips 10. They are electrically connected to each other. As the conductive material 60, a material selected from the paste materials applied to the conductive bonding material 30 described above can be adopted, and the conductive material 60 is formed by application by a dispensing method or the like.

そして、積層体100のうち基板20の一面21と対向する半導体チップ10、すなわち最も基板20に近い最下層の半導体チップ10の側面13にて、上記第1実施形態と同様に、導体部15と被接合体である基板電極22との導電性接合材30を介した接続が行われている。   Then, in the semiconductor chip 10 facing the one surface 21 of the substrate 20 in the multilayer body 100, that is, on the side surface 13 of the lowermost semiconductor chip 10 closest to the substrate 20, the conductor portion 15 and A connection is made to the substrate electrode 22, which is an object to be bonded, via the conductive bonding material 30.

図10の例では、図10(a)に示されるように、複数個の半導体チップ10の一方の主面11にそれぞれ接着部材50を取り付け、次に、最下層の半導体チップ10を基板20の一面21に搭載し、その上に、順に上層の半導体チップ10を積み重ねていき、すべての半導体チップ10を積層した積層体100を形成する。   In the example of FIG. 10, as shown in FIG. 10A, the adhesive members 50 are respectively attached to one main surface 11 of the plurality of semiconductor chips 10, and then the lowermost semiconductor chip 10 is attached to the substrate 20. It is mounted on one surface 21, and the upper semiconductor chips 10 are sequentially stacked on the surface 21, thereby forming a stacked body 100 in which all the semiconductor chips 10 are stacked.

その後、側面13の導体部15同士をつなぐように、導電性材料60を塗布して配設するとともに、最下層の半導体チップ10の側面13の導体部15と基板電極22とをつなぐように、導電性接合材30を塗布などより配設する。ここで、導電性接合材30と導電性材料60とは異種材料であって別々に配設するものでもよいが、同一材料として一括して配設するようにしてもよい。   Thereafter, the conductive material 60 is applied and disposed so as to connect the conductor portions 15 on the side surfaces 13, and the conductor portion 15 on the side surface 13 of the lowermost semiconductor chip 10 and the substrate electrode 22 are connected. The conductive bonding material 30 is disposed by coating or the like. Here, the conductive bonding material 30 and the conductive material 60 may be different materials and may be separately disposed, but may be collectively disposed as the same material.

こうして、導電性接合材30および導電性材料60を硬化させる等により、本実施形態のフェイスダウン型実装構造S6が完成する。本実施形態によれば、複数個の半導体チップ10を積層した構成を容易に実現することができ、基板20の一面21における占有スペースの低減に有利であり、体格の小型化等の利点がある。なお、図10の例の場合、最下層の半導体チップ10と基板20との間の接着部材50が上記アンダーフィル材の機能を有する。   In this way, the face-down type mounting structure S6 of the present embodiment is completed by curing the conductive bonding material 30 and the conductive material 60, for example. According to the present embodiment, a configuration in which a plurality of semiconductor chips 10 are stacked can be easily realized, which is advantageous in reducing the occupied space on the first surface 21 of the substrate 20 and has advantages such as downsizing the physique. . In the case of the example of FIG. 10, the adhesive member 50 between the lowermost semiconductor chip 10 and the substrate 20 has the function of the underfill material.

また、図11は、本第7実施形態の他の例としての半導体チップ10の実装工程を示す工程図である。上記図10の例では、複数個の半導体チップ10を1個ずつ、基板20の一面21上に積み重ねていったが、この図11の例では、予め積層体100を形成してから、これを基板20に搭載するものである。   FIG. 11 is a process diagram showing a mounting process of the semiconductor chip 10 as another example of the seventh embodiment. In the example of FIG. 10, a plurality of semiconductor chips 10 are stacked one by one on the one surface 21 of the substrate 20, but in the example of FIG. It is mounted on the substrate 20.

この場合、接着部材60を介して積層体100を形成した後、図11(a)に示されるように、側面13の導体部15同士をつなぐように、導電性材料60を塗布して配設する。   In this case, after forming the laminated body 100 via the adhesive member 60, as shown in FIG. 11A, the conductive material 60 is applied and disposed so as to connect the conductor portions 15 of the side surfaces 13. To do.

その後は、この導電性材料60が設けられた積層体100を、上記第1実施形態と同様に、導電性接合材30を介して基板20の一面21に搭載すれば、図11(b)に示されるフェイスダウン型実装構造S7ができあがる。なお、図11の例においても、最下層の半導体チップ10と基板20との間に上記アンダーフィル材を介在させてよいことはもちろんである。   After that, if the laminate 100 provided with the conductive material 60 is mounted on the one surface 21 of the substrate 20 via the conductive bonding material 30 as in the first embodiment, FIG. The face-down type mounting structure S7 shown is completed. Also in the example of FIG. 11, it goes without saying that the underfill material may be interposed between the lowermost semiconductor chip 10 and the substrate 20.

また、図12は、本第7実施形態のもう一つの例を示す概略平面図である。図12に示されるように、積層体100の各半導体チップ10について、側面13の導体部15同士を導電性材料60により接続する場合は、各半導体チップ10間で同じ列に位置する導体部15同士を導電性材料60で接続してもよいが、導電性材料60を千鳥状に形成することで異なる列に位置する導体部15同士を接続するようにしてもよい。   FIG. 12 is a schematic plan view showing another example of the seventh embodiment. As shown in FIG. 12, for each semiconductor chip 10 of the multilayer body 100, when the conductor portions 15 on the side surfaces 13 are connected by the conductive material 60, the conductor portions 15 located in the same row between the semiconductor chips 10. The conductive materials 60 may be connected to each other, but the conductive portions 60 may be connected to each other in different rows by forming the conductive materials 60 in a staggered manner.

なお、本実施形態のような積層体100においても、上記第2実施形態のように、一方の主面11と側面13とがなす内角θを鈍角である構成を採用できることは、もちろんである。   Of course, in the laminated body 100 as in the present embodiment, it is possible to employ a configuration in which the internal angle θ formed by one main surface 11 and the side surface 13 is an obtuse angle, as in the second embodiment.

(第8実施形態)
図13は、本発明の第8実施形態に係るフェイスダウン型実装構造S8の概略平面構成を示す図である。基板20の一面21上において半導体チップ10の導体部15と導電性接合材30を介して接続される被接合体としては、電子部品23であってもよい。
(Eighth embodiment)
FIG. 13 is a diagram showing a schematic plan configuration of a face-down type mounting structure S8 according to the eighth embodiment of the present invention. An electronic component 23 may be used as a member to be connected to the conductor portion 15 of the semiconductor chip 10 via the conductive bonding material 30 on the one surface 21 of the substrate 20.

図13の例では、基板20の一面21に部品ランド24が設けられ、この部品ランド24上にダイマウント材などにより電子部品23が搭載されている。この電子部品23としては、たとえば表面に電極を有するチップコンデンサなどが挙げられる。   In the example of FIG. 13, a component land 24 is provided on one surface 21 of the substrate 20, and an electronic component 23 is mounted on the component land 24 by a die mount material or the like. Examples of the electronic component 23 include a chip capacitor having an electrode on the surface.

そして、半導体チップ10は、側面13の導体部15を電子部品23に対向させて、電子部品23の隣に配置され、導体部15と電子部品23の図示しない電極とが導電性接合材30を介して電気的および機械的に接続されている。   The semiconductor chip 10 is disposed next to the electronic component 23 with the conductor portion 15 on the side surface 13 facing the electronic component 23, and the conductive portion 15 and an electrode (not shown) of the electronic component 23 connect the conductive bonding material 30. Connected electrically and mechanically.

(他の実施形態)
なお、たとえば上記図2に示したように、半導体ウェハ1をハーフカットして側面13を形成し、そこに導体部15をめっきで形成する場合、ハーフカット後、紫外線を半導体ウェハ1のうちめっき形成部分に選択的に照射することにより、照射部位を親水面、非照射部位を疎水面とすれば、親水面にのみめっきが付くことで導体部15の形成が容易となる。
(Other embodiments)
For example, as shown in FIG. 2, when the semiconductor wafer 1 is half-cut to form the side surface 13 and the conductor portion 15 is formed thereon by plating, ultraviolet rays are plated out of the semiconductor wafer 1 after the half-cut. By selectively irradiating the formation portion, if the irradiated portion is a hydrophilic surface and the non-irradiated portion is a hydrophobic surface, the conductive portion 15 can be easily formed by plating only on the hydrophilic surface.

また、導体部としては、主面電極14と同一材料、たとえばスパッタなどにより形成されるアルミの膜などであってもよい。この場合、主面電極14と導体部15とが一体の連続した膜となるが、たとえば上記ハーフカット後に、主面電極14と導体部15とをスパッタなどにより形成すればよい。   The conductor portion may be the same material as the main surface electrode 14, for example, an aluminum film formed by sputtering or the like. In this case, the main surface electrode 14 and the conductor portion 15 form an integral continuous film. For example, the main surface electrode 14 and the conductor portion 15 may be formed by sputtering or the like after the half cut.

また、基板20の一面21上の被接合体としては、当該一面21上に存在して半導体チップ10の導体部15と導電性接合材30を介して接続される導電性のものであればよく、上記した基板電極22や電子部品23等に限定されるものではない。   In addition, the object to be bonded on the one surface 21 of the substrate 20 may be any conductive material that exists on the one surface 21 and is connected to the conductor portion 15 of the semiconductor chip 10 via the conductive bonding material 30. The substrate electrode 22 and the electronic component 23 are not limited to the above.

また、チップとしては、上記した半導体よりなる半導体チップ10に限定するものではなく、たとえば、絶縁性のセラミックや金属、あるいは樹脂などよりなるものであってもよい。   Further, the chip is not limited to the semiconductor chip 10 made of the semiconductor described above, and may be made of, for example, an insulating ceramic, metal, or resin.

10 半導体チップ
11 半導体チップの一方の主面
13 半導体チップの側面
14 主面電極
15 導体部
20 基板
21 基板の一面
22 基板電極
23 電子部品
30 導電性接合材
40 アンダーフィル材
60 導電性材料
100 積層体
S1〜S8 フェイスダウン型実装構造
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor chip 11 One main surface of semiconductor chip 13 Side surface of semiconductor chip 14 Main surface electrode 15 Conductor part 20 Substrate 21 One side of substrate 22 Substrate electrode 23 Electronic component 30 Conductive bonding material 40 Underfill material 60 Conductive material 100 Lamination Body S1-S8 Face-down type mounting structure

Claims (6)

一方の主面(11)に主面電極(14)を有するチップ(10)と、
一面(21)上に導電性を有する被接合体(22、23)を有する基板(20)とを備え、
前記一方の主面(11)を前記基板(20)の前記一面(21)に対向させた状態で、前記チップ(10)が前記基板(20)の前記一面(21)上に搭載されてなるフェイスダウン型実装構造において、
前記チップ(10)の前記一方の主面(11)の外郭に位置する側面(13)には、前記主面電極(14)と導通し前記一方の主面(11)から前記側面(13)に亘って延設された導体部(15)が設けられており、
前記チップ(10)の前記側面(13)にて、前記導体部(15)と前記被接合体(22、23)とが導電性接合材(30)を介して接続されていることを特徴とするフェイスダウン型実装構造。
A chip (10) having a main surface electrode (14) on one main surface (11);
A substrate (20) having a conductive body (22, 23) having conductivity on one surface (21),
The chip (10) is mounted on the one surface (21) of the substrate (20) with the one main surface (11) facing the one surface (21) of the substrate (20). In face-down mounting structure,
The side surface (13) positioned on the outer surface of the one main surface (11) of the chip (10) is electrically connected to the main surface electrode (14) and the one main surface (11) to the side surface (13). A conductor portion (15) extending over the area is provided,
In the side surface (13) of the chip (10), the conductor portion (15) and the joined body (22, 23) are connected via a conductive bonding material (30). Face down type mounting structure.
前記導体部(15)は、一端が前記一方の主面(11)にて前記主面電極(14)に接続され、他端側が前記一方の主面(11)から前記側面(13)まで連続して延びる導体膜よりなるものであることを特徴とする請求項1に記載のフェイスダウン型実装構造。   One end of the conductor portion (15) is connected to the main surface electrode (14) at the one main surface (11), and the other end side is continuous from the one main surface (11) to the side surface (13). 2. The face-down type mounting structure according to claim 1, wherein the face-down type mounting structure is made of a conductive film extending in the form of a conductor. 前記一方の主面(11)から前記側面(13)に渡って、前記導体部(15)と前記被接合体(22)とが導電性接合材(30)を介して接続されていることを特徴とする請求項2に記載のフェイスダウン型実装構造。   The conductor portion (15) and the joined body (22) are connected via the conductive bonding material (30) from the one main surface (11) to the side surface (13). The face-down type mounting structure according to claim 2, wherein 前記半導体チップ(10)において前記一方の主面(11)と前記側面(13)とがなす内角(θ)が鈍角であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載のフェイスダウン型実装構造。   The internal angle (θ) formed by the one main surface (11) and the side surface (13) in the semiconductor chip (10) is an obtuse angle, according to any one of claims 1 to 3. Face-down mounting structure. 前記半導体チップ(10)の前記一方の主面(11)と前記基板(20)の前記一面(21)との間には、前記半導体チップ(10)と前記基板(20)とを接着する非導電性のアンダーフィル材(40)が介在していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載のフェイスダウン型実装構造。   The semiconductor chip (10) and the substrate (20) are bonded to each other between the one main surface (11) of the semiconductor chip (10) and the one surface (21) of the substrate (20). The face-down type mounting structure according to any one of claims 1 to 4, wherein a conductive underfill material (40) is interposed. 前記半導体チップ(10)は複数個備えられ、
すべての前記半導体チップ(10)が前記一方の主面(11)を前記基板(20)の前記一面(21)に向けた状態で、前記複数個の前記半導体チップ(10)は積層されて積層体(100)を形成しており、
前記複数個の前記半導体チップ(10)の前記側面(13)に、個々の前記半導体チップ(10)の前記導体部(15)同士をつなぐように導電性材料(60)が設けられることにより、前記複数個の前記半導体チップ(10)同士が電気的に接続されており、
前記積層体(100)のうち前記基板(20)の前記一面(21)と対向する前記半導体チップ(10)の前記側面(13)にて、前記導体部(15)と前記被接合体(22、23)との前記導電性接合材(30)を介した接続が行われていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1つに記載のフェイスダウン型実装構造。
A plurality of the semiconductor chips (10) are provided,
All the semiconductor chips (10) are stacked with the one main surface (11) facing the one surface (21) of the substrate (20). Forming a body (100),
A conductive material (60) is provided on the side surface (13) of the plurality of semiconductor chips (10) so as to connect the conductor portions (15) of the individual semiconductor chips (10). The semiconductor chips (10) are electrically connected to each other,
On the side surface (13) of the semiconductor chip (10) facing the one surface (21) of the substrate (20) in the multilayer body (100), the conductor portion (15) and the joined body (22). 23), the face-down type mounting structure according to any one of claims 1 to 5, wherein the connection is made via the conductive bonding material (30).
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