JP2012227376A - Layout design method and layout design program - Google Patents

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哲也 稲坂
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a chip size.SOLUTION: In a layout design method, in a higher-level hierarchy in a hierarchical layout design in which the layout design of a semiconductor integrated circuit is performed for each hierarchy, a layout design device sets, to a chip area 1, a hierarchical block arrangement area 2 that is an area where a hierarchical block having a predetermined function, by which arrangement and wiring are performed at a hierarchy under the higher-level hierarchy, is arranged and that includes a free unit cell arrangement area 3 and a unit cell arrangement area 4 for the hierarchical block. The layout design device performs arrangement and wiring using the unit cell arrangement area of a peripheral area 5, which surrounds the hierarchical block arrangement area 2 in the chip area 1, and the free unit cell arrangement area 3 in the hierarchical block arrangement area 2.

Description

本件は、半導体集積回路のレイアウト設計方法、および、レイアウト設計プログラムに関する。   The present invention relates to a layout design method for a semiconductor integrated circuit and a layout design program.

半導体集積回路のレイアウト設計の手法の1つとして、半導体集積回路を機能毎に複数のブロックに分けて設計を行う階層レイアウト設計が存在する。この複数のブロックは、それぞれ、階層ブロックと称される。   As one of layout design methods for a semiconductor integrated circuit, there is a hierarchical layout design in which a semiconductor integrated circuit is divided into a plurality of blocks for each function. Each of the plurality of blocks is referred to as a hierarchical block.

この手法によれば、一度に設計する回路の規模を小さくすることができるため、回路情報の量を小さくできる。これにより、設計に用いられるコンピュータへの負荷(例えば、使用メモリ容量の増大や、CPU(Central Processing Unit)への負荷等)を低減することが可能となる。また、この手法によれば、階層ブロック毎に並行して設計作業を進めることができるため、設計期間を短縮することが可能となる。   According to this method, since the scale of a circuit designed at a time can be reduced, the amount of circuit information can be reduced. As a result, it is possible to reduce the load on the computer used for the design (for example, increase in the memory capacity used, load on the CPU (Central Processing Unit), etc.). Also, according to this method, the design work can be advanced in parallel for each hierarchical block, so that the design period can be shortened.

また、階層レイアウト設計では、設計が階層別に行われ、上位階層では、階層ブロックが配置される階層ブロック配置領域を配置禁止領域としてチップ領域に設定した状態で、配置配線が行われる。ここで、上位階層における配置配線は、階層ブロック配置領域を避けて行われる。   In the hierarchical layout design, the design is performed for each hierarchy, and in the upper hierarchy, the placement and routing is performed in a state where the hierarchical block placement area where the hierarchical block is placed is set as the placement prohibited area in the chip area. Here, the placement and routing in the upper hierarchy is performed avoiding the hierarchical block placement area.

特開平4−333260号公報JP-A-4-333260 特開平5−151313号公報JP-A-5-151313 特開2000−156414号公報JP 2000-156414 A 特開2005−235804号公報JP 2005-235804 A

しかしながら、階層レイアウト設計では、上述したように、上位階層における配置配線は、階層ブロック配置領域を避けて行われるため、階層ブロックの規模が大きい場合には、配線を大きく迂回させる必要がある。   However, in the hierarchical layout design, as described above, the arrangement and wiring in the upper hierarchy is performed avoiding the hierarchical block arrangement area, and therefore it is necessary to largely bypass the wiring when the scale of the hierarchical block is large.

配線を大きく迂回させると、配線距離が長くなり、また、これに伴い配線に設けられるバッファ素子等の回路素子の数が多くなる。これにより、配線、および、バッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルによって占有されるチップ領域の面積が増大し、チップサイズが大きくなってしまう可能性がある。   If the wiring is largely detoured, the wiring distance becomes long, and the number of circuit elements such as buffer elements provided in the wiring increases accordingly. As a result, the area of the chip region occupied by the unit cells used for circuit elements such as wiring and buffer elements increases, which may increase the chip size.

発明の一観点によれば、以下のようなレイアウト設計方法が提供される。
このレイアウト設計方法は、レイアウト設計装置が、半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域と階層ブロック用のユニットセル配置領域とを含む階層ブロック配置領域を、チップ領域に設定し、チップ領域における階層ブロック配置領域を包囲する周辺領域のユニットセル配置領域、および、階層ブロック配置領域内の空きユニットセル配置領域を用いて、配置配線を行う。
According to one aspect of the invention, the following layout design method is provided.
In this layout design method, the layout design apparatus includes a hierarchical block having a predetermined function in which placement and routing is performed in a hierarchy below the upper hierarchy in the upper hierarchy in the hierarchical layout design in which the layout design of the semiconductor integrated circuit is performed by hierarchy. An area to be arranged, and a hierarchical block arrangement area including an empty unit cell arrangement area and a unit cell arrangement area for a hierarchical block is set as a chip area, and a peripheral area surrounding the hierarchical block arrangement area in the chip area is set. Placement and wiring is performed using the unit cell placement area and the empty unit cell placement area in the hierarchical block placement area.

開示のレイアウト設計方法、および、レイアウト設計プログラムによれば、チップサイズを縮小することが可能となる。   According to the disclosed layout design method and layout design program, the chip size can be reduced.

第1の実施の形態に係るレイアウト設計手順の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the layout design procedure which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施の形態に係るレイアウト設計装置のハードウェアの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the hardware of the layout design apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るレイアウト設計手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the layout design procedure which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る上位階層において設計される回路の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of the circuit designed in the upper hierarchy based on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る上位階層における配線配置の手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the procedure of the wiring arrangement | positioning in the upper hierarchy based on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the chip layout which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the chip layout which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the chip layout which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係る階層ブロックの配線配置の手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the procedure of wiring arrangement | positioning of the hierarchical block which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the chip layout which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the chip layout which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the chip layout which concerns on 2nd Embodiment. 上位階層において設計される回路の参考例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the reference example of the circuit designed in an upper hierarchy.

以下、実施の形態を図面を参照して説明する。
[第1の実施の形態]
第1の実施の形態は、階層レイアウト設計に関するものである。階層レイアウト設計では、半導体集積回路を機能毎に複数のブロックに分けて設計を行う。この複数のブロックは、それぞれ、階層ブロックと称される。また、階層レイアウト設計では、設計が階層別に行われる。
Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
[First Embodiment]
The first embodiment relates to hierarchical layout design. In hierarchical layout design, a semiconductor integrated circuit is divided into a plurality of blocks for each function. Each of the plurality of blocks is referred to as a hierarchical block. In the hierarchical layout design, the design is performed for each hierarchy.

上位階層では、階層ブロックが配置される階層ブロック配置領域を、チップ領域に設定した状態で、配置配線が行われる。階層ブロックの配置配線は、上位階層の下の階層で行われる。なお、上位階層のうち最も上位の階層を、最上位階層(トップ階層)と称する。第1の実施の形態は、上位階層におけるレイアウト設計方法に関するものである。   In the upper hierarchy, placement and routing is performed in a state where the hierarchical block placement area where the hierarchical blocks are placed is set as the chip area. Hierarchical block placement and routing is performed in a lower hierarchy. The highest hierarchy among the upper hierarchy is referred to as the highest hierarchy (top hierarchy). The first embodiment relates to a layout design method in an upper hierarchy.

図1は、第1の実施の形態に係るレイアウト設計手順の一例を示す図である。
まず、図1(A)に示すように、階層ブロックが配置される階層ブロック配置領域2を、チップ領域1に設定する。階層ブロック配置領域2には、空きユニットセル配置領域3と階層ブロック用のユニットセル配置領域4とが含まれている。なお、チップ領域1における階層ブロック配置領域2を包囲する領域は、周辺領域5とされる。周辺領域5には、複数のユニットセル配置領域が設定されている。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a layout design procedure according to the first embodiment.
First, as shown in FIG. 1A, a hierarchical block arrangement area 2 in which hierarchical blocks are arranged is set to a chip area 1. The hierarchical block arrangement area 2 includes an empty unit cell arrangement area 3 and a unit cell arrangement area 4 for a hierarchical block. An area surrounding the hierarchical block arrangement area 2 in the chip area 1 is a peripheral area 5. In the peripheral area 5, a plurality of unit cell arrangement areas are set.

次に、図1(B)に示すように、周辺領域5のユニットセル配置領域、および、階層ブロック配置領域2内の空きユニットセル配置領域3を用いて、配置配線を行う。ここで、階層ブロック用のユニットセル配置領域4は、配置禁止領域に設定されている。なお、図1(B)では、上位階層において配置されたユニットセル6、および、上位階層において引かれた配線7が図示されている。   Next, as shown in FIG. 1B, placement and routing is performed using the unit cell placement area in the peripheral area 5 and the empty unit cell placement area 3 in the hierarchical block placement area 2. Here, the unit cell arrangement area 4 for hierarchical blocks is set as an arrangement prohibition area. In FIG. 1B, the unit cells 6 arranged in the upper hierarchy and the wiring 7 drawn in the upper hierarchy are shown.

このように、第1の実施の形態によれば、上位階層においてチップ領域1に設定された階層ブロック配置領域2が空きユニットセル配置領域3を含み、この空きユニットセル配置領域3を用いて上位階層における配置配線が行われる。この構成によれば、配線に設けられるバッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルを、空きユニットセル配置領域3に配置させることが可能となる。   As described above, according to the first embodiment, the hierarchical block arrangement area 2 set in the chip area 1 in the upper hierarchy includes the empty unit cell arrangement area 3, and the empty unit cell arrangement area 3 is used to Placement and wiring in the hierarchy is performed. According to this configuration, unit cells used for circuit elements such as buffer elements provided in the wiring can be arranged in the empty unit cell arrangement region 3.

これにより、配線を階層ブロック配置領域2上に通すことができ、配線距離を短くすることができる。このため、配線、および、バッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルが占有するチップ領域1の面積を小さくすることができ、チップサイズを縮小することが可能となる。   Thereby, wiring can be passed over the hierarchical block arrangement | positioning area | region 2, and wiring distance can be shortened. For this reason, it is possible to reduce the area of the chip region 1 occupied by the unit cells used for wiring and circuit elements such as buffer elements, and to reduce the chip size.

また、配線距離を短くできることで、配線遅延の影響が低減されるため、タイミング収束を容易にすることが可能となる。また、配線距離を短くでき、バッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルを少なくできることで、半導体集積回路の消費電力を低減することも可能となる。   Further, since the wiring distance can be shortened, the influence of wiring delay is reduced, so that timing convergence can be facilitated. In addition, since the wiring distance can be shortened and the number of unit cells used for circuit elements such as buffer elements can be reduced, the power consumption of the semiconductor integrated circuit can be reduced.

[第2の実施の形態]
次に、第1の実施の形態のレイアウト設計方法をより具体的にした実施の形態を、第2の実施の形態として説明する。
[Second Embodiment]
Next, a more specific embodiment of the layout design method of the first embodiment will be described as a second embodiment.

第2の実施の形態のレイアウト設計は、レイアウト設計装置によって行われる。
図2は、第2の実施の形態に係るレイアウト設計装置のハードウェアの一例を示す図である。
The layout design of the second embodiment is performed by a layout design apparatus.
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of hardware of the layout design apparatus according to the second embodiment.

レイアウト設計装置10は、CPU11によって装置全体が制御されている。CPU11には、バス18を介してRAM(Random Access Memory)12と複数の周辺機器が接続されている。   The entire layout design apparatus 10 is controlled by the CPU 11. A RAM (Random Access Memory) 12 and a plurality of peripheral devices are connected to the CPU 11 via a bus 18.

RAM12は、レイアウト設計装置10の主記憶装置として使用される。RAM12には、CPU11に実行させるOS(Operating System)のプログラムやアプリケーションプログラムの少なくとも一部が一時的に格納される。また、RAM12には、CPU11による処理に必要な各種データが格納される。   The RAM 12 is used as a main storage device of the layout design apparatus 10. The RAM 12 temporarily stores at least part of an OS (Operating System) program and application programs to be executed by the CPU 11. The RAM 12 stores various data necessary for processing by the CPU 11.

バス18に接続されている周辺機器としては、ハードディスクドライブ(HDD:Hard Disk Drive)13、グラフィック処理装置14、入力インタフェース15、光学ドライブ装置16、および通信インタフェース17がある。   Peripheral devices connected to the bus 18 include a hard disk drive (HDD) 13, a graphic processing device 14, an input interface 15, an optical drive device 16, and a communication interface 17.

HDD13は、内蔵したディスクに対して、磁気的にデータの書き込みおよび読み出しを行う。HDD13は、レイアウト設計装置10の二次記憶装置として使用される。HDD13には、OSのプログラム、アプリケーションプログラム、および各種データが格納される。なお、二次記憶装置としては、フラッシュメモリなどの半導体記憶装置を使用することもできる。   The HDD 13 magnetically writes and reads data to and from the built-in disk. The HDD 13 is used as a secondary storage device of the layout design apparatus 10. The HDD 13 stores an OS program, application programs, and various data. Note that a semiconductor storage device such as a flash memory can also be used as the secondary storage device.

グラフィック処理装置14には、モニタ14aが接続されている。グラフィック処理装置14は、CPU11からの命令に従って、画像をモニタ14aの画面に表示させる。モニタ14aとしては、CRT(Cathode Ray Tube)を用いた表示装置や液晶表示装置などがある。   A monitor 14 a is connected to the graphic processing device 14. The graphic processing device 14 displays an image on the screen of the monitor 14 a in accordance with a command from the CPU 11. Examples of the monitor 14a include a display device using a CRT (Cathode Ray Tube) and a liquid crystal display device.

入力インタフェース15には、キーボード15aとマウス15bとが接続されている。入力インタフェース15は、キーボード15aやマウス15bから送られてくる信号をCPU11に送信する。なお、マウス15bは、ポインティングデバイスの一例であり、他のポインティングデバイスを使用することもできる。他のポインティングデバイスとしては、タッチパネル、タブレット、タッチパッド、トラックボールなどがある。   A keyboard 15 a and a mouse 15 b are connected to the input interface 15. The input interface 15 transmits signals sent from the keyboard 15a and the mouse 15b to the CPU 11. The mouse 15b is an example of a pointing device, and other pointing devices can also be used. Examples of other pointing devices include a touch panel, a tablet, a touch pad, and a trackball.

光学ドライブ装置16は、レーザ光などを利用して、光ディスク16aに記録されたデータの読み取りを行う。光ディスク16aは、光の反射によって読み取り可能なようにデータが記録された可搬型の記録媒体である。光ディスク16aには、DVD(Digital Versatile Disc)、DVD−RAM、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、CD−R(Recordable)/RW(ReWritable)などがある。   The optical drive device 16 reads data recorded on the optical disc 16a using a laser beam or the like. The optical disk 16a is a portable recording medium on which data is recorded so that it can be read by reflection of light. The optical disc 16a includes a DVD (Digital Versatile Disc), a DVD-RAM, a CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory), a CD-R (Recordable) / RW (ReWritable), and the like.

通信インタフェース17は、ネットワーク19に接続されている。通信インタフェース17は、ネットワーク19を介して、他のコンピュータまたは通信機器との間でデータの送受信を行う。   The communication interface 17 is connected to the network 19. The communication interface 17 transmits and receives data to and from other computers or communication devices via the network 19.

以上のようなハードウェアによって、第2の実施の形態の処理機能を実現することができる。
次に、第2の実施の形態のレイアウト設計の手順について説明する。
The processing functions of the second embodiment can be realized by the hardware as described above.
Next, a layout design procedure according to the second embodiment will be described.

図3は、第2の実施の形態に係るレイアウト設計手順の一例を示すフローチャートである。
[ステップS10]レイアウト設計装置10が、上位階層における配置配線を行う。
FIG. 3 is a flowchart showing an example of a layout design procedure according to the second embodiment.
[Step S10] The layout design apparatus 10 performs placement and routing in the upper hierarchy.

[ステップS20]レイアウト設計装置10が、階層ブロックの配置配線を行う。
[ステップS30]レイアウト設計装置10が、階層ブロックに対して、タイミング解析や物理検証等の検証を行う。
[Step S20] The layout design apparatus 10 performs placement and routing of hierarchical blocks.
[Step S30] The layout design apparatus 10 performs verification such as timing analysis and physical verification on the hierarchical block.

[ステップS40]レイアウト設計装置10が、上位階層に対して、タイミング解析や物理検証等の検証を行う。なお、ステップS40は、ステップS30と並行して行われる。   [Step S40] The layout design apparatus 10 performs verification such as timing analysis and physical verification on the upper layer. Step S40 is performed in parallel with step S30.

[ステップS50]レイアウト設計装置10が、階層ブロックと上位階層とを合成した状態で、最終検証を行って処理を終了する。
なお、上記のステップS10〜S50は、それぞれ、異なるレイアウト設計装置によって行うこととしてもよい。すなわち、レイアウト設計装置10の処理機能を、複数のレイアウト設計装置によって実現するようにしてもよい。
[Step S50] The layout design apparatus 10 performs final verification in a state where the hierarchical block and the upper hierarchy are synthesized, and ends the processing.
The above steps S10 to S50 may be performed by different layout design apparatuses. That is, the processing function of the layout design apparatus 10 may be realized by a plurality of layout design apparatuses.

次に、上記ステップS10に示される上位階層における配線配置の詳細について説明する。まず、上位階層において設計される回路の概要について説明する。
図4は、第2の実施の形態に係る上位階層において設計される回路の一例を示すブロック図である。チップ領域21には、階層ブロック配置領域22が設定されている。この状態で、フリップフロップ(FF:Flip Flop)回路23,24の配置配線が行われ、さらに、フリップフロップ回路23とフリップフロップ回路24との間を接続する配線25が引かれる。
Next, details of the wiring arrangement in the upper hierarchy shown in step S10 will be described. First, an outline of a circuit designed in the upper hierarchy will be described.
FIG. 4 is a block diagram illustrating an example of a circuit designed in the upper hierarchy according to the second embodiment. A hierarchical block arrangement area 22 is set in the chip area 21. In this state, the placement and wiring of the flip-flop (FF) circuits 23 and 24 are performed, and further, the wiring 25 connecting the flip-flop circuit 23 and the flip-flop circuit 24 is drawn.

配線25には、一定間隔毎にバッファ素子26が設けられる。ここで、配線25は、階層ブロック配置領域22上を通って引かれる。また、バッファ素子26は、階層ブロック配置領域22内にも配置される。なお、配線25には、バッファ素子26の他に、抵抗素子やキャパシタ素子等の他の回路素子が設けられる場合もある。   The wiring elements 25 are provided with buffer elements 26 at regular intervals. Here, the wiring 25 is drawn through the hierarchical block arrangement region 22. The buffer element 26 is also arranged in the hierarchical block arrangement area 22. The wiring 25 may be provided with other circuit elements such as a resistance element and a capacitor element in addition to the buffer element 26.

次に、上位階層における配線配置の手順について図5〜図8を用いて説明する。
図5は、第2の実施の形態に係る上位階層における配線配置の手順の一例を示すフローチャートである。図6〜図8は、第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。以下、図5のフローチャートに沿って、図6〜図8を参照しながら説明を行う。
Next, the wiring arrangement procedure in the upper hierarchy will be described with reference to FIGS.
FIG. 5 is a flowchart illustrating an example of a wiring arrangement procedure in the upper hierarchy according to the second embodiment. 6 to 8 are diagrams illustrating an example of a chip layout according to the second embodiment. Hereinafter, description will be made along the flowchart of FIG. 5 with reference to FIGS.

[ステップS11]図6に示すように、レイアウト設計装置10が、チップ領域21に階層ブロック配置領域22を設定する。このステップは、例えば、チップのフロアプランと称される。階層ブロック配置領域22は、X方向の辺と、X方向と交差するY方向の辺とで囲まれた矩形を備える。   [Step S11] As shown in FIG. 6, the layout design apparatus 10 sets a hierarchical block arrangement area 22 in the chip area 21. This step is referred to as a chip floor plan, for example. The hierarchical block arrangement area 22 includes a rectangle surrounded by a side in the X direction and a side in the Y direction that intersects the X direction.

階層ブロック配置領域22には、複数の空きユニットセル配置領域と、階層ブロック用の複数のユニットセル配置領域とが含まれている。空きユニットセル配置領域は、X方向およびY方向において、一定間隔毎に配置されている。すなわち、空きユニットセル配置領域は、階層ブロック配置領域22内において格子状に設定される。   The hierarchical block arrangement area 22 includes a plurality of empty unit cell arrangement areas and a plurality of unit cell arrangement areas for hierarchical blocks. The empty unit cell arrangement areas are arranged at regular intervals in the X direction and the Y direction. That is, the empty unit cell arrangement area is set in a grid pattern in the hierarchical block arrangement area 22.

また、空きユニットセル配置領域は、階層ブロック配置領域22の一端から対向する他端まで、一定間隔を空けて設定されている。図6に示す例では、空きユニットセル配置領域は、間に1つの階層ブロック用のユニットセル配置領域を挟んで設定されている。階層ブロック配置領域22における空きユニットセル配置領域の割合は、例えば、25%程度である。この割合は、例えば、設計する半導体集積回路の規模等に応じて適宜設定することができる。   In addition, the empty unit cell arrangement area is set with a certain interval from one end of the hierarchical block arrangement area 22 to the other opposite end. In the example shown in FIG. 6, the empty unit cell arrangement area is set with a unit cell arrangement area for one hierarchical block in between. The ratio of the empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area 22 is, for example, about 25%. This ratio can be appropriately set according to, for example, the scale of the semiconductor integrated circuit to be designed.

なお、図6に示す例では、チップ領域21に設定される階層ブロック配置領域は1つであるが、他の複数の階層ブロック配置領域を設定してもよい。また、チップ領域21における階層ブロック配置領域22を包囲する領域は、周辺領域21aとされる。周辺領域21aには、複数のユニットセル配置領域が設定されている。   In the example shown in FIG. 6, one hierarchical block arrangement area is set in the chip area 21, but a plurality of other hierarchical block arrangement areas may be set. An area surrounding the hierarchical block arrangement area 22 in the chip area 21 is a peripheral area 21a. A plurality of unit cell arrangement areas are set in the peripheral area 21a.

[ステップS12]図7に示すように、レイアウト設計装置10が、階層ブロック配置領域22内の階層ブロック用のユニットセル配置領域を、配置禁止領域に設定する。すなわち、階層ブロック配置領域22内の空きユニットセル配置領域と、周辺領域21aのユニットセル配置領域とが、配置許可領域とされる。   [Step S12] As shown in FIG. 7, the layout design apparatus 10 sets the unit cell arrangement area for hierarchical blocks in the hierarchical block arrangement area 22 as an arrangement prohibited area. That is, the empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area 22 and the unit cell arrangement area of the peripheral area 21a are set as arrangement permission areas.

[ステップS13]図8に示すように、レイアウト設計装置10が、周辺領域21aのユニットセル配置領域、および、階層ブロック配置領域22内の空きユニットセル配置領域を用いて、上位階層におけるユニットセルの配置を行う。ここで、ユニットセルの配置は固定される。   [Step S13] As shown in FIG. 8, the layout designing apparatus 10 uses the unit cell arrangement area in the peripheral area 21a and the empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area 22 to Perform placement. Here, the arrangement of the unit cells is fixed.

[ステップS14]図8に示すように、レイアウト設計装置10が、上位階層における配線を行って処理を終了する。これにより、上位階層において配置されたユニットセル間が結線される。ここで、配線の配置は固定される。   [Step S14] As shown in FIG. 8, the layout design apparatus 10 performs wiring in the upper hierarchy and ends the process. As a result, the unit cells arranged in the upper hierarchy are connected. Here, the wiring arrangement is fixed.

以上のようにして、上位階層における配置配線が行われる。
次に、図3のステップS20に示される階層ブロックの配線配置の詳細な手順について図9〜図12を用いて説明する。
As described above, placement and routing in the upper hierarchy is performed.
Next, a detailed procedure of the wiring arrangement of the hierarchical block shown in step S20 of FIG. 3 will be described with reference to FIGS.

図9は、第2の実施の形態に係る階層ブロックの配線配置の手順の一例を示すフローチャートである。図10〜図12は、第2の実施の形態に係るチップレイアウトの一例を示す図である。以下、図9のフローチャートに沿って、図10〜図12を参照しながら説明を行う。   FIG. 9 is a flowchart illustrating an example of a wiring layout procedure of the hierarchical block according to the second embodiment. 10 to 12 are diagrams illustrating an example of a chip layout according to the second embodiment. Hereinafter, description will be made along the flowchart of FIG. 9 with reference to FIGS.

[ステップS21]図10に示すように、レイアウト設計装置10が、上記ステップS12で設定された、階層ブロック用のユニットセル配置領域に対する配置禁止領域の設定を解除する。   [Step S21] As shown in FIG. 10, the layout design apparatus 10 cancels the setting of the placement prohibited area for the unit cell placement area for the hierarchical block set in step S12.

[ステップS22]図10に示すように、レイアウト設計装置10が、階層ブロック配置領域22内の空きユニットセル配置領域を、配置禁止領域に設定する。すなわち、階層ブロック配置領域22内の階層ブロック用のユニットセル配置領域が配置許可領域とされる。   [Step S22] As shown in FIG. 10, the layout design apparatus 10 sets an empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area 22 as an arrangement prohibition area. That is, the unit cell arrangement area for hierarchical blocks in the hierarchical block arrangement area 22 is set as an arrangement permission area.

[ステップS23]図11に示すように、レイアウト設計装置10が、階層ブロック配置領域22内の階層ブロック用のユニットセル配置領域を用いて、階層ブロックのユニットセルの配置を行う。ここで、上記ステップS13において上位階層において階層ブロック配置領域22内に配置されたユニットセルは、階層ブロックのユニットセルとして同じ位置に再配置される。   [Step S23] As shown in FIG. 11, the layout designing apparatus 10 uses the unit cell arrangement area for the hierarchical block in the hierarchical block arrangement area 22 to arrange the unit cells of the hierarchical block. Here, the unit cells arranged in the hierarchical block arrangement area 22 in the upper hierarchy in step S13 are rearranged at the same position as the unit cells of the hierarchical block.

[ステップS24]図11に示すように、レイアウト設計装置10が、階層ブロック配置領域22内において階層ブロックの配線を行う。ここで、上記ステップS14において上位階層において階層ブロック配置領域22内に引かれた配線は、階層ブロックの配線として同じ位置に再配置される。   [Step S24] As shown in FIG. 11, the layout design apparatus 10 performs wiring of hierarchical blocks in the hierarchical block arrangement area 22. Here, the wiring drawn in the hierarchical block arrangement area 22 in the upper hierarchy in step S14 is rearranged at the same position as the wiring of the hierarchical block.

[ステップS25]図12に示すように、レイアウト設計装置10が、空きユニットセル配置領域に対する配置禁止領域の設定を解除する。すなわち、階層ブロック配置領域22内の空きユニットセル配置領域、および、階層ブロック用のユニットセル配置領域が配置許可領域とされる。   [Step S25] As shown in FIG. 12, the layout design apparatus 10 cancels the setting of the placement prohibited area for the empty unit cell placement area. That is, the empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area 22 and the unit cell arrangement area for the hierarchical block are set as arrangement permission areas.

[ステップS26]レイアウト設計装置10が、階層ブロック配置領域22内に配置されたユニットセルおよび配線の最適化を行って処理を終了する。
以上のようにして、階層ブロックの配置配線が行われる。
[Step S26] The layout design apparatus 10 optimizes the unit cells and wirings arranged in the hierarchical block arrangement region 22 and ends the process.
As described above, placement and routing of hierarchical blocks is performed.

なお、以上の手順に基づいて設計され、生成された半導体集積回路では、半導体基板上に、階層ブロックにより実現される機能モジュールが配置された機能モジュール配置領域と、機能モジュール配置領域上を横切る配線と、この配線に設けられたバッファ素子等の回路素子とが配置される。   In a semiconductor integrated circuit designed and generated based on the above procedure, a functional module placement area in which functional modules realized by hierarchical blocks are placed on a semiconductor substrate, and wiring crossing over the functional module placement area And a circuit element such as a buffer element provided in the wiring.

そして、機能モジュール配置領域には、使用されていないユニットセル配置領域、および、バッファ素子等の回路素子用のユニットセルが配置されるユニットセル配置領域が、格子状に配置される。そして、機能モジュール配置領域のうち、その他のユニットセル配置領域に、機能モジュールの機能を実現するためのユニットセルが配置される。   In the functional module arrangement area, unused unit cell arrangement areas and unit cell arrangement areas in which unit cells for circuit elements such as buffer elements are arranged are arranged in a grid pattern. Then, unit cells for realizing the functions of the functional modules are arranged in other unit cell arrangement areas in the functional module arrangement area.

以上、説明してきたように、第2の実施の形態によれば、上位階層においてチップ領域21に設定された階層ブロック配置領域22が空きユニットセル配置領域を含み、この空きユニットセル配置領域を用いて上位階層における配置配線が行われる。この構成によれば、配線に設けられるバッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルを、空きユニットセル配置領域に配置させることが可能となる。   As described above, according to the second embodiment, the hierarchical block arrangement area 22 set in the chip area 21 in the upper hierarchy includes the empty unit cell arrangement area, and this empty unit cell arrangement area is used. Thus, placement and routing in the upper hierarchy is performed. According to this configuration, unit cells used for circuit elements such as buffer elements provided in the wiring can be arranged in the empty unit cell arrangement region.

これにより、配線を階層ブロック配置領域22上に通すことができ、配線距離を短くすることができる。このため、配線、および、バッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルが占有するチップ領域21の面積を小さくすることができ、チップサイズを縮小することが可能となる。   Thereby, the wiring can be passed over the hierarchical block arrangement region 22, and the wiring distance can be shortened. For this reason, it is possible to reduce the area of the chip region 21 occupied by the unit cells used for circuit elements such as wiring and buffer elements, and to reduce the chip size.

また、配線距離を短くできることで、配線遅延の影響が低減されるため、タイミング収束を容易にすることが可能となる。また、配線距離を短くでき、バッファ素子等の回路素子に用いられるユニットセルを少なくできることで、半導体集積回路の消費電力を低減することも可能となる。   Further, since the wiring distance can be shortened, the influence of wiring delay is reduced, so that timing convergence can be facilitated. In addition, since the wiring distance can be shortened and the number of unit cells used for circuit elements such as buffer elements can be reduced, the power consumption of the semiconductor integrated circuit can be reduced.

なお、ここで、配線を階層ブロック配置領域22を迂回するように配置した場合について、図4に示した例を用いて説明する。
図13は、上位階層において設計される回路の参考例を示すブロック図である。
Here, the case where the wiring is arranged so as to bypass the hierarchical block arrangement area 22 will be described using the example shown in FIG.
FIG. 13 is a block diagram illustrating a reference example of a circuit designed in an upper hierarchy.

フリップフロップ回路23とフリップフロップ回路24とを接続する配線25を、階層ブロック配置領域22を迂回するように配置した場合、図13に示すように、配線25の配線距離が長くなり、バッファ素子26の数も増大する。   When the wiring 25 connecting the flip-flop circuit 23 and the flip-flop circuit 24 is arranged so as to bypass the hierarchical block arrangement area 22, the wiring distance of the wiring 25 becomes long as shown in FIG. The number of increases.

これに対して、第2の実施の形態では、図4に示すように、配線25を、階層ブロック配置領域22上を通して引くことができるため、配線距離を短くでき、さらに、バッファ素子26の数を少なくすることができる。   On the other hand, in the second embodiment, as shown in FIG. 4, since the wiring 25 can be drawn through the hierarchical block arrangement region 22, the wiring distance can be shortened, and the number of buffer elements 26 can be reduced. Can be reduced.

さらに、第2の実施の形態によれば、チップ領域21に設定された階層ブロック配置領域22内の空きユニットセル配置領域を、配置禁止領域に設定して、階層ブロックの配置配線を行う。すなわち、階層ブロックの配置配線において、階層ブロック配置領域22内の空きユニットセル配置領域は使用されない。   Furthermore, according to the second embodiment, the empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area 22 set in the chip area 21 is set as the arrangement prohibition area, and the arrangement and wiring of the hierarchical blocks are performed. That is, the empty unit cell arrangement area in the hierarchy block arrangement area 22 is not used in the arrangement and wiring of the hierarchy block.

このため、上位階層に設計変更があり、ユニットセルが配置される空きユニットセル配置領域の位置が変更したとしても、階層ブロックのユニットセルの配置位置(上位階層において配置されたユニットセルを再配置したものは除く)は変更する必要がない。これにより、階層ブロックの設計を容易にすることが可能となる。   For this reason, even if there is a design change in the upper hierarchy and the position of the empty unit cell arrangement area where the unit cell is arranged is changed, the unit cell arrangement position of the hierarchical block (the unit cell arranged in the upper hierarchy is rearranged) Do not need to be changed. This makes it possible to easily design the hierarchical block.

さらに、第2の実施の形態によれば、空きユニットセル配置領域は、階層ブロック配置領域22内において格子状に設定されている。このため、上位階層において配置されるユニットセルを、階層ブロック配置領域22内において分散させることが可能となる。これにより、階層ブロックの配線が一部に密集することを抑制でき、配線が複雑化することを抑制できる。これにより、例えば、配線層の数を抑制したり、配線間容量に起因する信号ノイズの影響を抑制することができる。   Furthermore, according to the second embodiment, the empty unit cell arrangement area is set in a lattice shape in the hierarchical block arrangement area 22. For this reason, unit cells arranged in the upper hierarchy can be distributed in the hierarchical block arrangement area 22. Thereby, it can suppress that the wiring of a hierarchical block is concentrated in part, and can suppress that wiring becomes complicated. Thereby, for example, the number of wiring layers can be suppressed, and the influence of signal noise due to inter-wiring capacitance can be suppressed.

さらに、第2の実施の形態によれば、空きユニットセル配置領域は、階層ブロック配置領域22の一端から対向する他端まで、一定間隔を空けて設定されている。この構成によれば、上位階層において、バッファ素子等の回路素子用のユニットセルを階層ブロック配置領域22を横切るようにして一定間隔で配置することが可能となる。   Furthermore, according to the second embodiment, the empty unit cell arrangement area is set with a certain interval from one end of the hierarchical block arrangement area 22 to the other opposite end. According to this configuration, unit cells for circuit elements such as buffer elements can be arranged at regular intervals so as to cross the hierarchical block arrangement area 22 in the upper hierarchy.

これにより、上位階層において引かれる階層ブロック配置領域22を横切る配線に、一定間隔でバッファ素子等の回路素子を設けることができる。このため、階層ブロック配置領域22の規模が大きい場合であっても、上位階層において階層ブロック配置領域22を横切るように配線を引くことが可能となる。   As a result, circuit elements such as buffer elements can be provided in the wiring crossing the hierarchical block arrangement region 22 drawn in the upper hierarchy at regular intervals. For this reason, even when the scale of the hierarchical block arrangement area 22 is large, it is possible to draw wiring so as to cross the hierarchical block arrangement area 22 in the upper hierarchy.

なお、上記の処理機能は、コンピュータによって実現することができる。その場合、レイアウト設計装置10が有すべき機能の処理内容を記述したプログラムが提供される。そのプログラムをコンピュータで実行することにより、上記処理機能がコンピュータ上で実現される。処理内容を記述したプログラムは、コンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録しておくことができる。コンピュータで読み取り可能な記録媒体としては、磁気記憶装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリなどがある。磁気記憶装置には、ハードディスク装置(HDD)、フレキシブルディスク(FD)、磁気テープなどがある。光ディスクには、DVD、DVD−RAM、CD−ROM/RWなどがある。光磁気記録媒体には、MO(Magneto-Optical disk)などがある。   The above processing functions can be realized by a computer. In that case, a program describing the processing contents of the functions that the layout design apparatus 10 should have is provided. By executing the program on a computer, the above processing functions are realized on the computer. The program describing the processing contents can be recorded on a computer-readable recording medium. Examples of the computer-readable recording medium include a magnetic storage device, an optical disk, a magneto-optical recording medium, and a semiconductor memory. Examples of the magnetic storage device include a hard disk device (HDD), a flexible disk (FD), and a magnetic tape. Optical discs include DVD, DVD-RAM, CD-ROM / RW, and the like. Magneto-optical recording media include MO (Magneto-Optical disk).

プログラムを流通させる場合には、例えば、そのプログラムが記録されたDVD、CD−ROMなどの可搬型記録媒体が販売される。また、プログラムをサーバコンピュータの記憶装置に格納しておき、ネットワークを介して、サーバコンピュータから他のコンピュータにそのプログラムを転送することもできる。   When distributing the program, for example, a portable recording medium such as a DVD or a CD-ROM in which the program is recorded is sold. It is also possible to store the program in a storage device of a server computer and transfer the program from the server computer to another computer via a network.

プログラムを実行するコンピュータは、例えば、可搬型記録媒体に記録されたプログラムもしくはサーバコンピュータから転送されたプログラムを、自己の記憶装置に格納する。そして、コンピュータは、自己の記憶装置からプログラムを読み取り、プログラムに従った処理を実行する。なお、コンピュータは、可搬型記録媒体から直接プログラムを読み取り、そのプログラムに従った処理を実行することもできる。また、コンピュータは、ネットワークを介して接続されたサーバコンピュータからプログラムが転送されるごとに、逐次、受け取ったプログラムに従った処理を実行することもできる。   The computer that executes the program stores, for example, the program recorded on the portable recording medium or the program transferred from the server computer in its own storage device. Then, the computer reads the program from its own storage device and executes processing according to the program. The computer can also read the program directly from the portable recording medium and execute processing according to the program. In addition, each time a program is transferred from a server computer connected via a network, the computer can sequentially execute processing according to the received program.

また、上記の処理機能の少なくとも一部を、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、PLD(Programmable Logic Device)などの電子回路で実現することもできる。   In addition, at least a part of the above processing functions can be realized by an electronic circuit such as a DSP (Digital Signal Processor), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), or a PLD (Programmable Logic Device).

以上説明した第1および第2の実施の形態を含む実施の形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
(付記1) レイアウト設計装置が、
半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、
前記上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域と前記階層ブロック用のユニットセル配置領域とを含む階層ブロック配置領域を、チップ領域に設定し、
前記チップ領域における前記階層ブロック配置領域を包囲する周辺領域のユニットセル配置領域、および、前記階層ブロック配置領域内の前記空きユニットセル配置領域を用いて、配置配線を行う、
ことを特徴とするレイアウト設計方法。
The following additional notes are further disclosed with respect to the embodiments including the first and second embodiments described above.
(Appendix 1) The layout design device
In the upper hierarchy in the hierarchical layout design that performs layout design of semiconductor integrated circuits by hierarchy,
A hierarchical block having a hierarchical block having a predetermined function for performing placement and routing in a hierarchy below the upper hierarchy, including a free unit cell placement area and a unit cell placement area for the hierarchy block Set the placement area to the chip area,
Place and route using the unit cell placement area in the peripheral area surrounding the hierarchical block placement area in the chip area and the empty unit cell placement area in the hierarchical block placement area,
A layout design method characterized by that.

(付記2) 前記レイアウト設計装置が、
前記上位階層の下の階層において、
前記チップ領域に設定された前記階層ブロック配置領域内の前記空きユニットセル配置領域を、配置禁止領域に設定して、前記階層ブロックの配置配線を行う、
ことを特徴とする付記1記載のレイアウト設計方法。
(Supplementary Note 2) The layout design apparatus is
In a hierarchy below the upper hierarchy,
The empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area set in the chip area is set as an arrangement prohibition area, and the arrangement and wiring of the hierarchical block is performed.
The layout design method according to appendix 1, wherein:

(付記3) 前記階層ブロック配置領域は、複数の空きユニットセル配置領域を含み、前記複数の空きユニットセル配置領域は、前記階層ブロック配置領域内において格子状に設定されている、
ことを特徴とする付記1または2記載のレイアウト設計方法。
(Supplementary Note 3) The hierarchical block arrangement area includes a plurality of empty unit cell arrangement areas, and the plurality of empty unit cell arrangement areas are set in a grid pattern in the hierarchical block arrangement area.
The layout design method according to appendix 1 or 2, wherein:

(付記4) 前記階層ブロック配置領域は、複数の空きユニットセル配置領域を含み、前記複数の空きユニットセル配置領域は、前記階層ブロック配置領域の一端から対向する他端まで、一定間隔を空けて設定されている、
ことを特徴とする付記1〜3のいずれか1つに記載のレイアウト設計方法。
(Supplementary Note 4) The hierarchical block arrangement area includes a plurality of empty unit cell arrangement areas, and the plurality of empty unit cell arrangement areas are spaced from one end of the hierarchical block arrangement area to the opposite other end. Set,
The layout design method according to any one of appendices 1 to 3, wherein:

(付記5) レイアウト設計装置が、
前記空きユニットセル配置領域に対する配置禁止領域の設定を解除して、配置配線が行われた階層ブロック内の最適化を行う、
ことを特徴とする付記2記載のレイアウト設計方法。
(Appendix 5) The layout design device
Canceling the setting of the placement prohibition area with respect to the empty unit cell placement area, and performing optimization within the hierarchical block in which placement and routing has been performed,
The layout design method according to appendix 2, characterized in that:

(付記6) コンピュータに、
半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、
前記上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域と前記階層ブロック用のユニットセル配置領域とを含む階層ブロック配置領域を、チップ領域に設定し、
前記チップ領域における前記階層ブロック配置領域を包囲する周辺領域のユニットセル配置領域、および、前記階層ブロック配置領域内の前記空きユニットセル配置領域を用いて、配置配線を行う、
処理を実行させることを特徴とするレイアウト設計プログラム。
(Appendix 6)
In the upper hierarchy in the hierarchical layout design that performs layout design of semiconductor integrated circuits by hierarchy,
A hierarchical block having a hierarchical block having a predetermined function for performing placement and routing in a hierarchy below the upper hierarchy, including a free unit cell placement area and a unit cell placement area for the hierarchy block Set the placement area to the chip area,
Place and route using the unit cell placement area in the peripheral area surrounding the hierarchical block placement area in the chip area and the empty unit cell placement area in the hierarchical block placement area,
A layout design program characterized by causing processing to be executed.

(付記7) 半導体基板上に、所定の機能を備えた機能モジュールが配置された機能モジュール配置領域と、前記機能モジュール配置領域上を横切る配線と、前記配線に設けられた回路素子とが配置され、
前記機能モジュール配置領域には、使用されていないユニットセル配置領域、および、前記回路素子用のユニットセルが配置されるユニットセル配置領域が、格子状に設定されていること、
を特徴とする半導体集積回路。
(Additional remark 7) On the semiconductor substrate, a functional module arrangement area where functional modules having a predetermined function are arranged, wiring crossing over the functional module arrangement area, and circuit elements provided in the wiring are arranged. ,
In the functional module arrangement area, unit cell arrangement areas that are not used and unit cell arrangement areas in which unit cells for the circuit elements are arranged are set in a lattice pattern,
A semiconductor integrated circuit.

1,21 チップ領域
2,22 階層ブロック配置領域
3 空きユニットセル配置領域
4 階層ブロック用のユニットセル配置領域
5,21a 周辺領域
6 上位階層で配置されたユニットセル
7 上位階層で引かれた配線
23,24 フリップフロップ回路
25 配線
26 バッファ素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,21 Chip area | region 2,22 Hierarchical block arrangement | positioning area | region 3 Unoccupied unit cell arrangement | positioning area | region 4 Unit cell arrangement | positioning area | region for hierarchical blocks 5,21a Peripheral area | region 6 Unit cell arrange | positioned by the upper hierarchy 7 Wiring drawn by the upper hierarchy 23 , 24 Flip-flop circuit 25 Wiring 26 Buffer element

Claims (5)

レイアウト設計装置が、
半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、
前記上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域と前記階層ブロック用のユニットセル配置領域とを含む階層ブロック配置領域を、チップ領域に設定し、
前記チップ領域における前記階層ブロック配置領域を包囲する周辺領域のユニットセル配置領域、および、前記階層ブロック配置領域内の前記空きユニットセル配置領域を用いて、配置配線を行う、
ことを特徴とするレイアウト設計方法。
Layout design equipment
In the upper hierarchy in the hierarchical layout design that performs layout design of semiconductor integrated circuits by hierarchy,
A hierarchical block having a hierarchical block having a predetermined function for performing placement and routing in a hierarchy below the upper hierarchy, including a free unit cell placement area and a unit cell placement area for the hierarchy block Set the placement area to the chip area,
Place and route using the unit cell placement area in the peripheral area surrounding the hierarchical block placement area in the chip area and the empty unit cell placement area in the hierarchical block placement area;
A layout design method characterized by that.
前記レイアウト設計装置が、
前記上位階層の下の階層において、
前記チップ領域に配置された前記階層ブロック配置領域内の前記空きユニットセル配置領域を、配置禁止領域に設定して、前記階層ブロックの配置配線を行う、
ことを特徴とする請求項1記載のレイアウト設計方法。
The layout design apparatus comprises:
In a hierarchy below the upper hierarchy,
The empty unit cell arrangement area in the hierarchical block arrangement area arranged in the chip area is set as an arrangement prohibition area, and the arrangement and wiring of the hierarchical block is performed.
The layout design method according to claim 1, wherein:
前記階層ブロック配置領域は、複数の空きユニットセル配置領域を含み、前記複数の空きユニットセル配置領域は、前記階層ブロック配置領域内において格子状に設定されている、
ことを特徴とする請求項1または2記載のレイアウト設計方法。
The hierarchical block arrangement area includes a plurality of empty unit cell arrangement areas, and the plurality of empty unit cell arrangement areas are set in a lattice shape in the hierarchical block arrangement area.
3. The layout design method according to claim 1 or 2, wherein
前記階層ブロック配置領域は、複数の空きユニットセル配置領域を含み、前記複数の空きユニットセル配置領域は、前記階層ブロック配置領域の一端から対向する他端まで、一定間隔を空けて設定されている、
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のレイアウト設計方法。
The hierarchical block arrangement area includes a plurality of empty unit cell arrangement areas, and the plurality of empty unit cell arrangement areas are set at regular intervals from one end of the hierarchical block arrangement area to the other opposite end. ,
The layout design method according to claim 1, wherein:
コンピュータに、
半導体集積回路のレイアウト設計を階層別に行う階層レイアウト設計における上位階層において、
前記上位階層の下の階層で配置配線が行われる所定の機能を備えた階層ブロックが配置される領域であって、空きユニットセル配置領域と前記階層ブロック用のユニットセル配置領域とを含む階層ブロック配置領域を、チップ領域に設定し、
前記チップ領域における前記階層ブロック配置領域を包囲する周辺領域のユニットセル配置領域、および、前記階層ブロック配置領域内の前記空きユニットセル配置領域を用いて、配置配線を行う、
処理を実行させることを特徴とするレイアウト設計プログラム。
On the computer,
In the upper hierarchy in the hierarchical layout design that performs layout design of semiconductor integrated circuits by hierarchy,
A hierarchical block having a hierarchical block having a predetermined function for performing placement and routing in a hierarchy below the upper hierarchy, including a free unit cell placement area and a unit cell placement area for the hierarchy block Set the placement area to the chip area,
Place and route using the unit cell placement area in the peripheral area surrounding the hierarchical block placement area in the chip area and the empty unit cell placement area in the hierarchical block placement area,
A layout design program characterized by causing processing to be executed.
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