JP2012226498A - Touch switch - Google Patents

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Katsumasa Kono
勝正 鴻野
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Gunze Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch switch capable of achieving highly sensitive sensing.SOLUTION: In the capacitance type touch switch including a plurality of strip electrode bodies 6 formed on an insulating layer, the plurality of strip electrode bodies are arranged in the lateral direction of each strip electrode body in such a state that a first insulating area 7 is arranged between the strip electrode bodies, and configured to electrically insulate a gap between the adjacent strip electrode bodies in a plan view, and each strip electrode body includes: a plurality of touch electrode parts 8 arranged in the longitudinal direction; and a second insulating area 9 arranged between the touch electrodes, and configured to electrically insulate a gap between the adjacent touch electrode parts with both ends connected to the first insulating area. On a virtual area passing through each end of each second insulating area which is in parallel with the lateral direction of the strip electrode body, the ends of each second insulating area are arranged at one side interposed with each first insulating area adjacent to each second insulating area, and each touch electrode part adjacent to each first insulating area is arranged at the other side.

Description

本発明は、タッチスイッチに関する。   The present invention relates to a touch switch.

入力位置を検出するためのタッチスイッチの構成は、従来から種々検討されており、例えば、特許文献1や特許文献2等に開示されている静電容量式タッチスイッチが知られている。特許文献1に開示されている静電容量式タッチスイッチは、それぞれ所定のパターン形状を有する透明導電体を備えた一対の透明面状体の間に誘電体層が介在されて構成されており、指などが操作面に触れると、人体を介して接地されることによる静電容量の変化を利用して、タッチ位置を検出するものである。   Various configurations of touch switches for detecting an input position have been conventionally studied. For example, a capacitive touch switch disclosed in Patent Literature 1, Patent Literature 2, and the like is known. The capacitive touch switch disclosed in Patent Document 1 is configured with a dielectric layer interposed between a pair of transparent planar bodies each having a transparent conductor having a predetermined pattern shape, When a finger or the like touches the operation surface, the touch position is detected by utilizing a change in capacitance caused by being grounded through the human body.

また、特許文献2には、図12に示すように、絶縁性基板100の一方面上に形成される透明導電膜101と、透明導電膜101から構成される複数のタッチ電極部102のそれぞれから引き出される引き出し配線103が形成される第1絶縁領域104とを備える静電容量式タッチスイッチ110が開示されている。透明導電膜101は、数個のタッチ電極部102が帯状に一列配置された帯状電極体105が、互いに平行となるように複数配置されて構成されており、各帯状電極体105の間に第1絶縁領域104が帯状に形成されている。また、各帯状電極体105におけるタッチ電極部102間には第2絶縁領域106が形成されており、タッチ電極部102毎に指等が触れたか否かを検知できるように構成されている。このようなタッチスイッチ110においては、基板100の端部にいくにしたがって、引き出し配線103の数が増加するため、第1絶縁領域104をある程度大きく設定する必要がある。   Further, in Patent Document 2, as shown in FIG. 12, a transparent conductive film 101 formed on one surface of an insulating substrate 100 and a plurality of touch electrode portions 102 each including the transparent conductive film 101 are included. There is disclosed a capacitive touch switch 110 including a first insulating region 104 in which a lead wiring 103 to be drawn is formed. The transparent conductive film 101 is composed of a plurality of strip electrode bodies 105 each having a plurality of touch electrode portions 102 arranged in a line in a strip shape so as to be parallel to each other. One insulating region 104 is formed in a strip shape. In addition, a second insulating region 106 is formed between the touch electrode portions 102 in each belt-like electrode body 105, and configured to detect whether or not a finger or the like has touched each touch electrode portion 102. In such a touch switch 110, since the number of lead-out wirings 103 increases toward the end of the substrate 100, it is necessary to set the first insulating region 104 to be somewhat large.

このようなタッチスイッチは、例えば、ゲーム機や、券売機、会議テーブル、銀行端末(キャッシュディスペンサー)、パソコン、電子手帳、PDA、携帯電話等における表示画面上に設置されて、ゲーム機や券売機等の操作を行うために使用されている。   Such a touch switch is installed on a display screen in a game machine, a ticket machine, a conference table, a bank terminal (cash dispenser), a personal computer, an electronic notebook, a PDA, a mobile phone, etc. It is used to perform operations such as.

特開2003−173238号公報(図1、図5)JP2003-173238A (FIGS. 1 and 5) 特開2009−146419 (図1)JP2009-146419 (FIG. 1)

しかしながら、図12に示すようなタッチスイッチにおいては、指等が、帯状電極体105間に設けられる第1絶縁領域104と各帯状電極体105においてタッチ電極部102間に形成される第2絶縁領域106とが交差する位置に触れた場合、指の太さや指の置き方によっては、タッチスイッチ110がタッチされたことを感度よく認識することが困難であるという問題があった。   However, in the touch switch as shown in FIG. 12, a finger or the like is provided between the first insulating region 104 provided between the strip electrode bodies 105 and the second insulating region formed between the touch electrode portions 102 in each strip electrode body 105. When the position where the touch switch 110 intersects is touched, there is a problem that it is difficult to recognize with high sensitivity that the touch switch 110 has been touched depending on the thickness of the finger and how the finger is placed.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであって、高感度なセンシングが可能なタッチスイッチを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and an object thereof is to provide a touch switch capable of highly sensitive sensing.

本発明の上記目的は、絶縁層上に複数形成される帯状電極体を備える静電容量式のタッチスイッチであって、前記複数の帯状電極体は、平面視において、前記各帯状電極体の間に配置され隣接する各帯状電極体間を電気的に絶縁する第1絶縁領域を設けた状態で、前記各帯状電極体の短手方向に沿って配置されており、前記各帯状電極体は、その長手方向に沿って複数配置されるタッチ電極部と、前記各タッチ電極部の間に配置され隣接する各タッチ電極部間を電気的に絶縁すると共に両端部が前記第1絶縁領域に接続する第2絶縁領域とを備えており、前記帯状電極体の短手方向と平行であって前記各第2絶縁領域の各端部を通る仮想領域上において、前記各第2絶縁領域に隣接する前記各第1絶縁領域を挟んだ一方側に前記各第2絶縁領域の端部が配置されており、他方側に前記各第1絶縁領域に隣接する前記各タッチ電極部が配置されることを特徴とする静電容量式のタッチスイッチにより達成される。   An object of the present invention is a capacitive touch switch including a plurality of strip electrode bodies formed on an insulating layer, wherein the plurality of strip electrode bodies are arranged between the strip electrode bodies in a plan view. Are disposed along the short direction of each strip electrode body in a state where a first insulating region is provided to electrically insulate between the strip strip electrode bodies adjacent to each other. A plurality of touch electrode portions arranged along the longitudinal direction and the adjacent touch electrode portions arranged between the touch electrode portions are electrically insulated from each other, and both end portions are connected to the first insulating region. A second insulating region, and on a virtual region passing through each end of each second insulating region parallel to the short direction of the strip electrode body and adjacent to each second insulating region Each of the second insulation regions on one side of each first insulation region Of which ends are disposed are achieved by a capacitive touch switch, wherein the each touch electrode portion adjacent to the each first insulating region on the other side is arranged.

また、このタッチスイッチにおいて、前記各第2絶縁領域の一方の端部を通過する第1仮想領域と、他方の端部を通過する第2仮想領域とは、互いに重ならないように形成されていることが好ましい。   In this touch switch, the first virtual region passing through one end of each of the second insulating regions and the second virtual region passing through the other end are formed so as not to overlap each other. It is preferable.

また、前記帯状電極体は、前記絶縁層の一方面上に形成されていることが好ましい。   The strip electrode body is preferably formed on one surface of the insulating layer.

また、前記各帯状電極体は、互いに平行となるように形成されていることが好ましい。   The strip electrode bodies are preferably formed so as to be parallel to each other.

また、前記帯状電極体が備える複数のタッチ電極部は、前記帯状電極体の長手方向に沿って、前記帯状電極体の短手方向における幅寸法が段階的に短くなるように形成されていることが好ましい。   The plurality of touch electrode portions included in the band-shaped electrode body are formed so that the width dimension in the short direction of the band-shaped electrode body is gradually reduced along the longitudinal direction of the band-shaped electrode body. Is preferred.

また、前記各第1絶縁領域は、前記各タッチ電極部から前記絶縁層の端部に向けて引き出される金属線からなる引き出し配線がそれぞれ形成されていることが好ましい。   In addition, it is preferable that each first insulating region is formed with a lead-out wiring made of a metal wire led out from each touch electrode portion toward an end portion of the insulating layer.

また、前記タッチ電極部は、金属線を網目状にして形成されていることが好ましい。   Further, the touch electrode portion is preferably formed with a metal wire mesh.

本発明によれば、高感度なセンシングが可能なタッチスイッチを提供することができる。   According to the present invention, a touch switch capable of highly sensitive sensing can be provided.

(a)(b)は、それぞれ本発明の実施形態に係るタッチスイッチ1の概略構成例を示す断面図である。(A) (b) is sectional drawing which shows the schematic structural example of the touch switch 1 which concerns on embodiment of this invention, respectively. 図1の矢視A方向から見たタッチスイッチの平面図である。It is a top view of the touch switch seen from the arrow A direction of FIG. 図2の要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view of FIG. 本発明の一実施形態に係るタッチスイッチにおけるタッチ電極部、第1絶縁領域及び第2絶縁領域の位置関係を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the positional relationship of the touch electrode part in the touch switch which concerns on one Embodiment of this invention, a 1st insulating region, and a 2nd insulating region. 本発明の一実施形態に係るタッチスイッチにおけるタッチ電極部、第1絶縁領域及び第2絶縁領域の位置関係を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the positional relationship of the touch electrode part in the touch switch which concerns on one Embodiment of this invention, a 1st insulating region, and a 2nd insulating region. (a)は従来型のタッチスイッチにおけるタッチ電極部の配置を示す模式図であり、(b)は、本実施形態に係るタッチスイッチにおけるタッチ電極部の配置を示す模式図である。(A) is a schematic diagram which shows arrangement | positioning of the touch electrode part in the conventional touch switch, (b) is a schematic diagram which shows arrangement | positioning of the touch electrode part in the touch switch which concerns on this embodiment. 図2に示すタッチスイッチの変形例を示す要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view which shows the modification of the touch switch shown in FIG. 図2に示すタッチスイッチの変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the touch switch shown in FIG. 図2に示すタッチスイッチの変形例を示す要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view which shows the modification of the touch switch shown in FIG. 図2に示すタッチスイッチの変形例を示す要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view which shows the modification of the touch switch shown in FIG. 図2に示すタッチスイッチの変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of the touch switch shown in FIG. 従来のタッチスイッチ構成を示す平面図である。It is a top view which shows the conventional touch switch structure.

以下、本発明の実態形態にかかるタッチスイッチについて添付図面を参照して説明する。図1(a)(b)は、それぞれ本発明の実施形態に係るタッチスイッチ1の概略構成例を示す断面図であり、図2は、図1(a)又は図1(b)の矢視A方向から見た平面図である。図3は、図2の要部拡大平面図である。尚、各図面は、構成の理解を容易にするため、実寸比ではなく部分的に拡大又は縮小されている。   Hereinafter, a touch switch according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIGS. 1A and 1B are cross-sectional views each showing a schematic configuration example of a touch switch 1 according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view taken in the direction of FIG. 1A or FIG. It is the top view seen from A direction. FIG. 3 is an enlarged plan view of a main part of FIG. Each drawing is partially enlarged or reduced to facilitate understanding of the configuration, not the actual size ratio.

本発明の一実施形態に係るタッチスイッチ1は、例えば、銀行端末(キャッシュディスペンサー)、券売機、パソコン、OA機器、電子手帳、PDA、携帯電話等の表示装置に取り付けられて使用される静電容量式のタッチスイッチ1であり、図1(a)に示すタッチスイッチ1は、透明基板2と、透明基板2の一方面上に配置されるパターニングされた透明導電膜3と、当該透明導電膜3を被覆する保護層4とを備えている。保護層4は、粘着層5を介して透明導電膜3上に貼着されている。なお、銀行端末や券売機等の表示装置にタッチスイッチ1を取り付ける際には、保護層4側が露出面(タッチ面)となるように、透明な粘着層を介して表示装置に取り付けられる。図1(b)に示すタッチスイッチ1は、図1(a)に示すタッチスイッチ1の構成と同様に、透明基板2と、透明基板2上に配置されるパターニングされた透明導電膜3とを備えているが、透明導電膜3が図1(a)とは逆の透明基板2の面上に配置されている。また、透明基板2の一方面側は、粘着層5を介して表面保護層4aと貼着されており、透明導電膜3が形成された透明基板2の他方面側は、粘着層5を介して電極パターン保護層4bと貼着されている。なお、表示装置にタッチスイッチ1を取り付ける際には、保護層4a側が露出面(タッチ面)となるように、透明な粘着層を介して表示装置に取り付けられる。   The touch switch 1 according to an embodiment of the present invention is, for example, an electrostatic device that is attached to a display device such as a bank terminal (cash dispenser), a ticket machine, a personal computer, an OA device, an electronic notebook, a PDA, or a mobile phone. The touch switch 1 is a capacitive touch switch 1 and includes a transparent substrate 2, a patterned transparent conductive film 3 disposed on one surface of the transparent substrate 2, and the transparent conductive film. And a protective layer 4 covering 3. The protective layer 4 is stuck on the transparent conductive film 3 via the adhesive layer 5. When the touch switch 1 is attached to a display device such as a bank terminal or a ticket vending machine, the touch switch 1 is attached to the display device via a transparent adhesive layer so that the protective layer 4 side becomes an exposed surface (touch surface). A touch switch 1 shown in FIG. 1B includes a transparent substrate 2 and a patterned transparent conductive film 3 disposed on the transparent substrate 2 in the same manner as the touch switch 1 shown in FIG. The transparent conductive film 3 is disposed on the surface of the transparent substrate 2 opposite to that shown in FIG. Moreover, the one surface side of the transparent substrate 2 is adhered to the surface protective layer 4 a via the adhesive layer 5, and the other surface side of the transparent substrate 2 on which the transparent conductive film 3 is formed is interposed via the adhesive layer 5. The electrode pattern protective layer 4b is attached. When the touch switch 1 is attached to the display device, the touch switch 1 is attached to the display device through a transparent adhesive layer so that the protective layer 4a side becomes an exposed surface (touch surface).

透明基板2は、絶縁層を構成する誘電体基板であり、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド(PA)、アクリル、非晶性ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などの合成樹脂製の可撓性フィルムやこれら2種以上の積層体、或いは、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス板により形成される。透明基板2の厚みは、特に限定されないが、例えば、合成樹脂製の可撓性フィルムにより透明基板2を構成する場合には、10μm〜2000μm程度とすることが好ましく、50μm〜500μm程度とすることがさらに好ましい。また、ガラス板により透明基板2を構成する場合には、0.1mm〜5mm程度とすることが好ましい。   The transparent substrate 2 is a dielectric substrate constituting an insulating layer, and includes polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), Flexible made of synthetic resin such as polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyamide (PA), acrylic, amorphous polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, aliphatic cyclic polyolefin, norbornene thermoplastic transparent resin It is formed of a film, a laminate of two or more of these, or a glass plate such as soda glass, alkali-free glass, borosilicate glass, or quartz glass. The thickness of the transparent substrate 2 is not particularly limited. For example, when the transparent substrate 2 is formed of a synthetic resin flexible film, the thickness is preferably about 10 μm to 2000 μm, and preferably about 50 μm to 500 μm. Is more preferable. Moreover, when comprising the transparent substrate 2 with a glass plate, it is preferable to set it as about 0.1 mm-5 mm.

また、可撓性を有する材料から透明基板2を形成する場合、当該透明基板2に剛性を付与するために支持体を貼着してもよい。支持体としては、ガラス板や、ガラスに準ずる硬度を有する樹脂材料を例示することができ、その厚さは100μm以上であることが好ましく、0.2mm〜10mmであることがより好ましい。なお、透明基板2の表面に、濡れ性向上の為にプラズマ処理を行ったり、表面保護のためのハードコート層や、透明導電膜3の密着性改善や光学特性改善の為にアンダーコート層を設けるなど、必要な機能性膜を追加してもよい。   Moreover, when forming the transparent substrate 2 from the material which has flexibility, in order to provide rigidity to the said transparent substrate 2, you may stick a support body. Examples of the support include a glass plate and a resin material having a hardness equivalent to glass, and the thickness is preferably 100 μm or more, and more preferably 0.2 mm to 10 mm. In addition, the surface of the transparent substrate 2 is subjected to plasma treatment for improving wettability, a hard coat layer for protecting the surface, an undercoat layer for improving adhesion of the transparent conductive film 3 and optical characteristics. Necessary functional films may be added, such as providing them.

透明基板2の一方の主面上に配置されるパターニングされた透明導電膜3は、図2及び図3に示すように、所定間隔をあけて互いに平行に延びるように形成されている帯状電極体6の集合体として形成されている。複数の帯状電極体6は、平面視において、各帯状電極体6の間に配置され隣接する各帯状電極体間を電気的に絶縁する第1絶縁領域7を設けた状態で、各帯状電極体6の短手方向に沿って配置されている。第1絶縁領域7は、隣接する帯状電極体6間に形成される領域であり、各第1絶縁領域7は、互いに平行に延びるように形成されている。この第1絶縁領域7には、後述の複数のタッチ電極部8から透明基板2の端部に向けて引き出される引き出し配線10がそれぞれ形成されている。第1絶縁領域7の幅寸法(互いに隣接する帯状電極間の距離)は、引き出し配線の幅や本数によって決まるが、安定な検出のためには、人の指の太さ以下の寸法に設定することが好ましく、例えば、1mm〜10mm程度に設定するとよい。   The patterned transparent conductive film 3 disposed on one main surface of the transparent substrate 2 is formed to extend in parallel with each other at a predetermined interval, as shown in FIGS. It is formed as an aggregate of six. The plurality of band-shaped electrode bodies 6 are arranged in a state in which each band-shaped electrode body is provided with a first insulating region 7 disposed between the band-shaped electrode bodies 6 and electrically insulating the adjacent band-shaped electrode bodies in plan view. 6 are arranged along the short direction. The first insulating region 7 is a region formed between adjacent strip electrode bodies 6, and each first insulating region 7 is formed to extend in parallel to each other. In the first insulating region 7, lead-out wirings 10 that are led out from a plurality of touch electrode portions 8 described later toward the end of the transparent substrate 2 are formed. The width dimension of the first insulating region 7 (distance between adjacent strip electrodes) is determined by the width and number of lead wires, but for stable detection, it is set to a dimension equal to or smaller than the thickness of a human finger. Preferably, for example, it may be set to about 1 mm to 10 mm.

各帯状電極体6は、その長手方向に沿って複数配置されるタッチ電極部8と、各タッチ電極部8の間に配置される第2絶縁領域9とを備えている。各タッチ電極部8は、帯状電極体6の長手方向に沿う方向に延びる対向辺を有する平行四辺形状となるように構成されており、タッチ電極部8の上記対向辺が、第1絶縁領域7との境界線を構成している。また、第2絶縁領域9は、上記のように各タッチ電極部8の間に形成され、隣接する各タッチ電極部間を電気的に絶縁する領域であり、両端部が、各帯状電極体6の両側に配置される第1絶縁領域7に接続するように構成されている。この第2絶縁領域9は、各タッチ電極間の寸法が、0.05mm〜1mm、好ましくは0.1mm〜0.3mmとなるように構成されている。また、図3に示すように、第1絶縁領域7を挟んだ一方側に配置される帯状電極体6に形成される各第2絶縁領域9aと、他方側に配置される帯状電極体6に形成され、この第2絶縁領域9aに最も隣接して配置される第2絶縁領域9bとの離間距離は、タッチ電極部8の大きさによって種々変更可能ではあるが、例えば、第1絶縁領域7を挟んで一方側に配置される第2絶縁領域9aの端部と、他方側に配置される第2絶縁領域9bの端部との上下方向(帯状電極体6の長手方向に沿う方向)の離間距離Dが、人の指先の幅寸法の半分程度以上、つまり、約3mm以上となるように構成することが好ましい。なお、上記離間距離Dの最大値は、タッチ電極部8の側辺であって帯状電極体6の長手方向に沿って延びる側辺の長さの1/2程度に設定することが好ましい。   Each strip-shaped electrode body 6 includes a plurality of touch electrode portions 8 disposed along the longitudinal direction thereof, and a second insulating region 9 disposed between the touch electrode portions 8. Each touch electrode portion 8 is configured to have a parallelogram shape having opposing sides extending in a direction along the longitudinal direction of the strip-shaped electrode body 6, and the opposing sides of the touch electrode portion 8 are formed in the first insulating region 7. And constitutes the boundary line. The second insulating region 9 is a region that is formed between the touch electrode portions 8 as described above and electrically insulates between the adjacent touch electrode portions. It connects to the 1st insulation area | region 7 arrange | positioned at both sides of this. The second insulating region 9 is configured such that the dimension between the touch electrodes is 0.05 mm to 1 mm, preferably 0.1 mm to 0.3 mm. Further, as shown in FIG. 3, each of the second insulating regions 9 a formed on the strip electrode body 6 disposed on one side across the first insulating region 7 and the strip electrode body 6 disposed on the other side. The separation distance from the second insulating region 9b that is formed and arranged closest to the second insulating region 9a can be variously changed depending on the size of the touch electrode portion 8. For example, the first insulating region 7 In the vertical direction (the direction along the longitudinal direction of the strip-shaped electrode body 6) between the end of the second insulating region 9a disposed on one side and the end of the second insulating region 9b disposed on the other side The separation distance D is preferably configured to be about half or more of the width dimension of a human fingertip, that is, about 3 mm or more. The maximum value of the separation distance D is preferably set to about ½ of the length of the side of the touch electrode portion 8 and extending along the longitudinal direction of the strip electrode body 6.

また、本発明におけるタッチスイッチ1においては、図4の説明図に示すように、帯状電極体6の短手方向と平行であって各第2絶縁領域9の各端部を通る仮想領域Lを想定した場合に、この仮想領域L上において、各第2絶縁領域9に隣接する各第1絶縁領域7を挟んだ一方側に各第2絶縁領域9の端部が配置されており、他方側に各第1絶縁領域7に隣接する各タッチ電極部8が配置されるように構成されている。ここで、仮想領域Lとは、仮想的な直線状領域のことであって、各第2絶縁領域9の各端部を挟んで上下方向(帯状電極体6の長手方向)に配置される各タッチ電極部のコーナー部がその側縁上(帯状電極体6の短手方向に沿って延びる側縁上)に配置される領域のことをいう。特に本実施形態においては、タッチ電極部8を平行四辺形状となるように構成しているため、図5に示すように、各第2絶縁領域9の一方の端部を通過する第1仮想領域L1と、他方の端部を通過する第2仮想領域L2とは、互いに重ならないように形成されている。   Further, in the touch switch 1 according to the present invention, as shown in the explanatory diagram of FIG. 4, a virtual region L that is parallel to the short direction of the strip electrode body 6 and passes through each end of each second insulating region 9 is provided. Assuming that, on the virtual region L, the end of each second insulating region 9 is arranged on one side across each first insulating region 7 adjacent to each second insulating region 9, and the other side Further, each touch electrode portion 8 adjacent to each first insulating region 7 is arranged. Here, the virtual region L is a virtual linear region, and is arranged in the vertical direction (longitudinal direction of the strip-shaped electrode body 6) across each end portion of each second insulating region 9. It refers to a region where the corner portion of the touch electrode portion is disposed on the side edge (on the side edge extending along the short side direction of the belt-like electrode body 6). In particular, in the present embodiment, since the touch electrode portion 8 is configured to have a parallelogram shape, the first virtual region that passes through one end portion of each second insulating region 9 as shown in FIG. L1 and the second virtual region L2 passing through the other end are formed so as not to overlap each other.

透明導電膜3の材料としては、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系、酸化亜鉛、スズ酸化膜等の透明導電材料、或いは、スズ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロムなどの金属材料、金属酸化物材料を例示することができ、これら2種以上を複合して形成してもよい。また、酸やアルカリに弱い金属単体でも導電材料として使用できる。   Examples of the material of the transparent conductive film 3 include indium tin oxide (ITO), indium oxide, antimony-added tin oxide, fluorine-added tin oxide, aluminum-added zinc oxide, potassium-added zinc oxide, silicon-added zinc oxide, and zinc oxide-oxide. Transparent conductive materials such as tin, indium oxide-tin oxide, zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide, zinc oxide, tin oxide film, or metal materials such as tin, copper, aluminum, nickel, chromium, metal oxide Physical materials can be exemplified, and two or more of these materials may be combined to form. In addition, a simple metal weak against acid or alkali can be used as a conductive material.

また、カーボンナノチューブやカーボンナノホーン、カーボンナノワイヤ、カーボンナノファイバー、グラファイトフィブリルなどの極細導電炭素繊維や銀素材からなる極細導電繊維をバインダーとして機能するポリマー材料に分散させた複合材を透明導電膜3の材料として用いることもできる。ここでポリマー材料としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリp−フェニレン、ポリ複素環ビニレン、PEDOT:poly(3,4-ethylenedioxythiophene)などの導電性ポリマーを採用することができる。また、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド(PA)、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などの非導電性ポリマーを採用することができる。   In addition, a composite material in which ultrafine conductive carbon fibers such as carbon nanotubes, carbon nanohorns, carbon nanowires, carbon nanofibers, graphite fibrils, and the like, or a fine conductive fiber made of a silver material is dispersed in a polymer material functioning as a binder is used for the transparent conductive film 3. It can also be used as a material. Here, a conductive polymer such as polyaniline, polypyrrole, polyacetylene, polythiophene, polyphenylene vinylene, polyphenylene sulfide, poly p-phenylene, polyheterocyclic vinylene, PEDOT: poly (3,4-ethylenedioxythiophene) should be adopted as the polymer material. Can do. In addition, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyamide (PA), acrylic, polyimide, Non-conductive polymers such as epoxy resins, phenol resins, aliphatic cyclic polyolefins, norbornene-based thermoplastic transparent resins can be employed.

透明導電膜3の材料として、特にカーボンナノチューブを非導電性ポリマー材料に分散させたカーボンナノチューブ複合材を採用した場合、カーボンナノチューブは、直径が一般的には0.8nm〜1.4nm(1nm前後)と極めて細いので、1本或いは1束ずつ非導電性ポリマー材料中に分散することでカーボンナノチューブが光透過を阻害することが少なくなり透明導電膜3の透明性を確保する上で好ましい。   When a carbon nanotube composite material in which carbon nanotubes are dispersed in a non-conductive polymer material is adopted as the material of the transparent conductive film 3, the carbon nanotubes generally have a diameter of 0.8 nm to 1.4 nm (around 1 nm). ), The carbon nanotubes are less likely to obstruct light transmission by being dispersed in the non-conductive polymer material one by one or one bundle, which is preferable for ensuring the transparency of the transparent conductive film 3.

透明導電膜3の形成方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのPVD法や、CVD法、塗工法、印刷法などを例示することができる。また、透明導電膜3の厚みは、例えばスパッタリング法でITO膜を成膜する場合は、60nm以下であることが好ましく、30nm以下であることがより好ましい。なお、膜厚が5nm以下では連続した膜になり難く、安定な導電層を形成することは困難である。   Examples of the method for forming the transparent conductive film 3 include PVD methods such as sputtering, vacuum deposition, and ion plating, CVD, coating, and printing. Moreover, the thickness of the transparent conductive film 3 is preferably 60 nm or less, and more preferably 30 nm or less when an ITO film is formed by, for example, a sputtering method. Note that when the film thickness is 5 nm or less, it is difficult to form a continuous film, and it is difficult to form a stable conductive layer.

透明導電膜3のパターニングは、透明基板2上に形成された透明導電膜3の表面に、所望のパターン形状を有するマスク部を形成して露出部分を酸液などでエッチング除去した後、アルカリ液などによりマスク部を溶解させて行うことができる。   The patterning of the transparent conductive film 3 is performed by forming a mask portion having a desired pattern shape on the surface of the transparent conductive film 3 formed on the transparent substrate 2 and removing the exposed portion by etching with an acid solution or the like. For example, the mask portion can be dissolved.

引き出し配線10の形成方法は、(A)極微細な導電性粒子を含む導電性ペーストを透明基板2上にスクリーン印刷する方法(特開2007−142334等参照)、(B)銅などの金属箔を透明基板2上に積層し、金属箔の上にレジストパターンを形成し、金属箔をエッチングする方法(特開2008−32884等参照)が挙げられる。また、引き出し配線10を上述の透明導電膜3と同様の材料(インジウム錫酸化物(ITO)や導電性ポリマー等)により形成してもよい。引き出し配線10を透明導電膜3と同じ材料で形成する場合、透明導電膜3のパターニング手法と同手法や、上記(B)の形成方法、レーザー照射により不要な透明導電膜3を除去する方法等を採用することができる。   The method of forming the lead-out wiring 10 includes: (A) a method of screen-printing a conductive paste containing extremely fine conductive particles on the transparent substrate 2 (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-142334, etc.), and (B) a metal foil such as copper. Can be laminated on the transparent substrate 2, a resist pattern is formed on the metal foil, and the metal foil is etched (see, for example, JP-A-2008-32884). Further, the lead-out wiring 10 may be formed of the same material (indium tin oxide (ITO), conductive polymer, etc.) as the transparent conductive film 3 described above. When forming the lead-out wiring 10 with the same material as the transparent conductive film 3, the same method as the patterning method of the transparent conductive film 3, the forming method (B), a method of removing the unnecessary transparent conductive film 3 by laser irradiation, etc. Can be adopted.

上記(A)の形成方法における導電性粒子としては、銀を主成分とする微粒子を挙げることができる。また、例えば、金、銀、銅、金と銀の合金、金と銅の合金、銀と銅の合金、金と銀と銅の合金のいずれか一を主成分とする微粒子でもよい。また、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化インジウムに酸化亜鉛を混合した導電性酸化物(IZO[indium
zinc oxide])、または酸化インジウムに酸化珪素を混合した導電性酸化物(ITSO)を主成分とする微粒子でもよい。
Examples of the conductive particles in the forming method (A) include fine particles containing silver as a main component. Further, for example, fine particles mainly containing any one of gold, silver, copper, an alloy of gold and silver, an alloy of gold and copper, an alloy of silver and copper, and an alloy of gold, silver, and copper may be used. In addition, indium tin oxide (ITO), conductive oxide in which zinc oxide is mixed with indium oxide (IZO [indium
zinc oxide]), or fine particles mainly composed of conductive oxide (ITSO) in which silicon oxide is mixed with indium oxide.

また、引き出し配線10の形成方法は、上記(A)(B)の形成方法に限定されることはなく、上記(A)以外のグラビア印刷などの印刷方法や上記(B)以外のフォトリソグラフィを使用してもよい。   Further, the formation method of the lead-out wiring 10 is not limited to the formation method of the above (A) and (B), and a printing method such as gravure printing other than the above (A) or a photolithography other than the above (B). May be used.

保護層4は、透明基板2の一方面側に配置される透明導電膜3を保護するものであり、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド(PI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリプロピレン(PP)、ポリアミド(PA)、アクリル等から形成した透明なフィルム体や、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス板により構成される。なお、フィルム体やガラス板の代わりに、透明な樹脂を透明導電膜3上に積層して保護層4を形成してもよい。この保護層4の厚みは、特に限定されないが、0.1mm〜10mm程度とすることが好ましい。   The protective layer 4 protects the transparent conductive film 3 disposed on one side of the transparent substrate 2, and includes polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone ( Transparent film bodies made of PES), polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyamide (PA), acrylic, etc., soda glass, alkali-free glass, borosilicate glass, quartz glass It is composed of a glass plate. Note that the protective layer 4 may be formed by laminating a transparent resin on the transparent conductive film 3 instead of the film body or the glass plate. The thickness of the protective layer 4 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 mm to 10 mm.

粘着層5は、エポキシ系やアクリル系など、一般的な透明接着剤を用いることができ、ポリエステル系樹脂の透明性フィルムからなる芯材を含むものであってもよい。また、シート状粘着材を複数枚重ね合わせることにより粘着層5を形成してもよく、更に、複数種類のシート状粘着材を重ね合わせて形成してもよい。粘着層5の厚みは、特に指定はないが、実用上では200μm以下であることが好ましい。   The adhesive layer 5 can be made of a general transparent adhesive such as epoxy or acrylic, and may include a core made of a polyester resin transparent film. Further, the adhesive layer 5 may be formed by overlapping a plurality of sheet-like adhesive materials, and further, a plurality of types of sheet-like adhesive materials may be overlapped. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 5 is not particularly specified, but is preferably 200 μm or less for practical use.

以上の構成を備えるタッチスイッチ1において、タッチ位置の検出方法は、従来の静電容量式のタッチスイッチと同様であり、タッチスイッチ1の表面側に指などで触れると、タッチ電極部8で静電容量の変化が生じる。引き出し配線10を介して接続された検出回路で前記静電容量の変化を検出することによって、タッチ電極部8に指などが触れたか否かを判定する。   In the touch switch 1 having the above configuration, the method for detecting the touch position is the same as that of the conventional capacitive touch switch. When the surface of the touch switch 1 is touched with a finger or the like, the touch electrode unit 8 A change in capacitance occurs. It is determined whether or not a finger or the like has touched the touch electrode portion 8 by detecting the change in the capacitance with a detection circuit connected via the lead wiring 10.

本実施形態に係るタッチスイッチ1は、上述のように、帯状電極体6の短手方向(隣接方向)と平行であって各第2絶縁領域9の各端部を通る仮想領域L上において、各第2絶縁領域9に隣接する各第1絶縁領域7を挟んだ一方側に各第2絶縁領域9の端部が配置されており、他方側に各第1絶縁領域7に隣接する各タッチ電極部8が配置される構成を有しているため、精度よくセンシングを行うことが可能となる。図6を用いて具体的に説明する。なお、図6(a)は従来型のタッチスイッチ110におけるタッチ電極部102の配置を示す模式図であり、図6(b)は、本実施形態に係るタッチスイッチ1におけるタッチ電極部8の配置を示す模式図である。   As described above, the touch switch 1 according to the present embodiment is parallel to the short-side direction (adjacent direction) of the strip-shaped electrode body 6 and on the virtual region L passing through each end of each second insulating region 9. An end of each second insulating region 9 is arranged on one side of each first insulating region 7 adjacent to each second insulating region 9, and each touch adjacent to each first insulating region 7 on the other side. Since the electrode unit 8 is arranged, sensing can be performed with high accuracy. This will be specifically described with reference to FIG. 6A is a schematic diagram showing the arrangement of the touch electrode unit 102 in the conventional touch switch 110, and FIG. 6B is the arrangement of the touch electrode unit 8 in the touch switch 1 according to the present embodiment. It is a schematic diagram which shows.

まず、従来型の構成においては、第1絶縁領域104とこの第1絶縁領域104の両側に配置される2つの第2絶縁領域106とが十字状に交差するため、この交差位置(図6(a)中において○で示される位置)を指でタッチした場合、人体を介して接地されることによる静電容量の変化は、交差位置近傍の4つのタッチ電極部102に分散されることになる。その結果、一つ当たりのタッチ電極部102おいて検出される静電容量の変化が小さくなってしまい、感度良くタッチ検出を行うことが困難となる。   First, in the conventional configuration, since the first insulating region 104 and the two second insulating regions 106 arranged on both sides of the first insulating region 104 intersect in a cross shape, this intersection position (FIG. In the case where the position indicated by ◯ in (a) is touched with a finger, the change in electrostatic capacitance due to grounding via the human body is distributed to the four touch electrode portions 102 near the intersection position. . As a result, the change in capacitance detected in each touch electrode unit 102 becomes small, and it is difficult to perform touch detection with high sensitivity.

これに対し、図6(b)に示す本発明に係るタッチおパネルによれば、第1絶縁領域7と第2絶縁領域9とが十字状に交差する領域が存在しないため、従来型のタッチスイッチ1において発生していたような問題が発生せず、高感度でタッチ位置をセンシングすることが可能となる。つまり、図6(b)において○で示す位置(第1絶縁領域7と一つの第2絶縁領域9が交差する位置)を指でタッチした場合であっても、No1で示されるタッチ電極部8に相当する領域と指との接触面積を大きく確保することが可能となるため、このNo1で示されるタッチ電極部8が静電容量の変化を確実に検出することができ、第1絶縁領域7上のどの位置をタッチしたとしても、タッチスイッチ1は感度良くタッチ位置を検出することができることになる。   On the other hand, according to the touch panel according to the present invention shown in FIG. 6B, there is no region where the first insulating region 7 and the second insulating region 9 intersect in a cross shape. The problem that occurs in the switch 1 does not occur, and the touch position can be sensed with high sensitivity. That is, even when the position indicated by ◯ in FIG. 6B (the position where the first insulating region 7 and one second insulating region 9 intersect) is touched with a finger, the touch electrode portion 8 indicated by No1. It is possible to ensure a large contact area between the region corresponding to the finger and the finger, so that the touch electrode portion 8 indicated by No1 can reliably detect the change in the capacitance, and the first insulating region 7 Whichever position is touched, the touch switch 1 can detect the touch position with high sensitivity.

また、本実施形態においては、各第2絶縁領域9の一方の端部を通過する第1仮想領域L1と、他方の端部を通過する第2仮想領域L2とが、互いに重ならないように形成されている。このような構成によれば、帯状電極体6の隣接方向(帯状電極体6の短手方向)に並ぶ各タッチ電極部8の中心位置が一直線上に並ぶように、各タッチ電極部8を配列させることが可能となり、タッチスイッチ1をゲーム機や券売機等の各種装置の操作手段として活用する際の利便性を向上させることができる。   In the present embodiment, the first virtual region L1 that passes through one end of each second insulating region 9 and the second virtual region L2 that passes through the other end are formed so as not to overlap each other. Has been. According to such a configuration, the touch electrode portions 8 are arranged so that the center positions of the touch electrode portions 8 aligned in the adjacent direction of the strip electrode body 6 (the short direction of the strip electrode body 6) are aligned. Therefore, it is possible to improve convenience when the touch switch 1 is used as an operation means of various devices such as a game machine and a ticket machine.

以上、本発明に係るタッチスイッチ1の一実施形態について説明したが、具体的構成は、上記実施形態に限定されない。例えば、上記実施形態において、タッチスイッチ1が有する各タッチ電極部8を、金属線により網目状となるように構成してもよい。網目状の具体例としては、図7に示すように、金属線を格子状にした形状を挙げることができる。格子状形状としては、透明基板2の各辺に平行となるように金属線を配置して格子状形状を形成してもよく(図7(a))、透明基板2の各辺に対して所定角度傾くように金属線を配置して格子状形状を形成してもよい(図7(b))。金属線は、極細線であり、金属線同士は略等間隔に並べられている。金属線の線幅は、5μm〜50μmの範囲とすることが好ましく、特に10μm〜30μmの範囲とすることが好ましい。また、隣接する金属線同士の間隔は、100μm〜1000μmの範囲とすることが好ましい。タッチ電極部8を構成する金属線の形成方法は、上述の引き出し配線10の形成方法と同様であり、(A)極微細な導電性粒子を含む導電性ペーストを透明基板2上にスクリーン印刷する方法、(B)銅などの金属箔を透明基板2上に積層し、金属箔の上にレジストパターンを形成し、金属箔をエッチングする方法が挙げられる。   As mentioned above, although one Embodiment of the touch switch 1 which concerns on this invention was described, a specific structure is not limited to the said embodiment. For example, in the above-described embodiment, each touch electrode portion 8 included in the touch switch 1 may be configured to have a mesh shape with a metal wire. As a specific example of the mesh shape, as shown in FIG. 7, a shape in which metal wires are arranged in a lattice shape can be exemplified. As the grid shape, metal lines may be arranged so as to be parallel to each side of the transparent substrate 2 (FIG. 7A), and for each side of the transparent substrate 2. A metal wire may be arranged so as to be inclined at a predetermined angle to form a lattice shape (FIG. 7B). The metal wires are very thin wires, and the metal wires are arranged at substantially equal intervals. The line width of the metal wire is preferably in the range of 5 μm to 50 μm, particularly preferably in the range of 10 μm to 30 μm. Moreover, it is preferable to make the space | interval of adjacent metal wires into the range of 100 micrometers-1000 micrometers. The method for forming the metal line constituting the touch electrode portion 8 is the same as the method for forming the lead wiring 10 described above. (A) A conductive paste containing extremely fine conductive particles is screen-printed on the transparent substrate 2. (B) A method in which a metal foil such as copper is laminated on the transparent substrate 2, a resist pattern is formed on the metal foil, and the metal foil is etched.

また、上記実施形態においては、透明基板2の一方面側に複数の帯状電極体6を形成することによりタッチスイッチ1を構成しているが、タッチスイッチ1の平面視において、複数の帯状電極体6が、各帯状電極体6の間に配置される第1絶縁領域7を設けた状態で、各帯状電極体6の短手方向に沿って配置されていればよい。したがって、タッチスイッチ1の一方面側から見た場合に、図2に示すような配置で複数の帯状電極体6が設けられている構成を採用することが可能であり、例えば、図2の平面図において奇数番号で示される帯状電極体6を透明基板2の一方面側に形成し、偶数番号で示される帯状電極体6を透明基板2の他方面側に形成してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the touch switch 1 is comprised by forming the some strip | belt-shaped electrode body 6 in the one surface side of the transparent substrate 2, in the planar view of the touch switch 1, a some strip | belt-shaped electrode body. 6 should just be arrange | positioned along the transversal direction of each strip | belt-shaped electrode body 6 in the state which provided the 1st insulation area | region 7 arrange | positioned between each strip | belt-shaped electrode body 6. FIG. Therefore, when viewed from one side of the touch switch 1, it is possible to employ a configuration in which a plurality of strip-like electrode bodies 6 are provided in an arrangement as shown in FIG. In the figure, the strip-shaped electrode body 6 indicated by odd numbers may be formed on one side of the transparent substrate 2, and the strip-shaped electrode body 6 indicated by even numbers may be formed on the other side of the transparent substrate 2.

また、上記実施形態においては、全てのタッチ電極部8の形状が平行四辺形状となるように構成しているが、このような構成に特に限定されず、例えば、図8に示すように、タッチスイッチ1の上辺部側及び下辺部側に配置されるタッチ電極部8の形状を台形形状となるように形成してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although it has comprised so that the shape of all the touch electrode parts 8 may become a parallelogram shape, it is not specifically limited to such a structure, For example, as shown in FIG. You may form so that the shape of the touch electrode part 8 arrange | positioned at the upper side part side and lower side part side of the switch 1 may become a trapezoid shape.

また、上記実施形態においては、各タッチ電極部8を平行四辺形状となるように構成しているため、図5に示すように、各第2絶縁領域9の一方の端部を通過する第1仮想領域L1と、他方の端部を通過する第2仮想領域L2とは、互いに重ならないように形成されているが、このような構成に特に限定されず、例えば、図9に示すように、各タッチ電極部8を矩形状となるように構成し、各第2絶縁領域9の一方の端部を通過する第1仮想領域L1と、他方の端部を通過する第2仮想領域L2とが重なるように構成してもよい。更に、図10に示すように、各帯状電極体6が備える複数のタッチ電極部8は、帯状電極体6の長手方向(図10においては上下方向)に沿って、帯状電極体6の短手方向(図10においては左右方向)における幅寸法が段階的に短くなるように形成してもよい。   Moreover, in the said embodiment, since each touch electrode part 8 is comprised so that it may become a parallelogram shape, as shown in FIG. 5, the 1st which passes through one edge part of each 2nd insulation area | region 9 is shown. The virtual region L1 and the second virtual region L2 passing through the other end are formed so as not to overlap each other, but are not particularly limited to such a configuration, for example, as shown in FIG. Each touch electrode portion 8 is configured to have a rectangular shape, and a first virtual region L1 that passes through one end of each second insulating region 9 and a second virtual region L2 that passes through the other end are provided. You may comprise so that it may overlap. Furthermore, as shown in FIG. 10, the plurality of touch electrode portions 8 included in each band-shaped electrode body 6 are short in the band-shaped electrode body 6 along the longitudinal direction (vertical direction in FIG. 10) of the band-shaped electrode body 6. You may form so that the width dimension in a direction (left-right direction in FIG. 10) may become short in steps.

また、上記実施形態においては、各第2絶縁領域9の一方の端部を通過する第1仮想領域L1と、他方の端部を通過する第2仮想領域L2とが重ならないように構成されるタッチ電極部8として、帯状電極体6の長手方向に沿う方向に延びる対向辺を有する平行四辺形状のタッチ電極部8を例示したが、このような形状に特に限定されず、例えば、図11に示すような形状となるようにタッチ電極部8を構成してもよい。図11においては、タッチ電極部8間に形成される第2絶縁領域9は、互いに平行な水平直線部91,91と、水平直線部91,91に垂直な垂直直線部92とを備えており、一方の水平直線部91の一端部と、他方の水平直線部91の一端部とを、垂直直線部92が接続するように構成して、上下に並ぶタッチ電極部8を区画するように形成されている。   Moreover, in the said embodiment, it is comprised so that the 1st virtual area | region L1 which passes through one edge part of each 2nd insulation area | region 9 and the 2nd virtual area | region L2 which passes the other edge part may not overlap. The touch electrode portion 8 is exemplified by the parallelogram-shaped touch electrode portion 8 having opposing sides extending in the direction along the longitudinal direction of the strip-shaped electrode body 6, but is not particularly limited to such a shape. For example, FIG. The touch electrode unit 8 may be configured to have a shape as shown. In FIG. 11, the second insulating region 9 formed between the touch electrode portions 8 includes horizontal straight portions 91 and 91 that are parallel to each other, and vertical straight portions 92 that are perpendicular to the horizontal straight portions 91 and 91. The one end portion of one horizontal straight line portion 91 and the one end portion of the other horizontal straight line portion 91 are configured to be connected to the vertical straight line portion 92 so as to partition the touch electrode portions 8 arranged vertically. Has been.

1 タッチスイッチ
2 透明基板
3 透明導電膜
4 保護層
5 粘着層
6 帯状電極体
7 第1絶縁領域
8 タッチ電極部
9 第2絶縁領域
10 引き出し配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Touch switch 2 Transparent substrate 3 Transparent conductive film 4 Protective layer 5 Adhesive layer 6 Strip electrode body 7 1st insulation area 8 Touch electrode part 9 2nd insulation area 10 Lead-out wiring

Claims (7)

絶縁層上に複数形成される帯状電極体を備える静電容量式のタッチスイッチであって、
前記複数の帯状電極体は、平面視において、前記各帯状電極体の間に配置され隣接する各帯状電極体間を電気的に絶縁する第1絶縁領域を設けた状態で、前記各帯状電極体の短手方向に沿って配置されており、
前記各帯状電極体は、その長手方向に沿って複数配置されるタッチ電極部と、前記各タッチ電極部の間に配置され隣接する各タッチ電極部間を電気的に絶縁すると共に両端部が前記第1絶縁領域に接続する第2絶縁領域とを備えており、
前記帯状電極体の短手方向と平行であって前記各第2絶縁領域の各端部を通る仮想領域上において、前記各第2絶縁領域に隣接する前記各第1絶縁領域を挟んだ一方側に前記各第2絶縁領域の端部が配置されており、他方側に前記各第1絶縁領域に隣接する前記各タッチ電極部が配置されることを特徴とする静電容量式のタッチスイッチ。
A capacitive touch switch comprising a plurality of strip-shaped electrode bodies formed on an insulating layer,
Each of the plurality of strip electrode bodies is provided with a first insulating region that is disposed between the strip electrode bodies and electrically insulates adjacent strip electrode bodies in a plan view. Is arranged along the short direction of
Each strip-shaped electrode body is electrically insulated between touch electrode portions arranged in plural along the longitudinal direction, and adjacent touch electrode portions arranged between the touch electrode portions, and both end portions are A second insulating region connected to the first insulating region,
One side sandwiching each first insulating region adjacent to each second insulating region on a virtual region that is parallel to the lateral direction of the strip-shaped electrode body and passes through each end of each second insulating region An end of each of the second insulating regions is arranged on the other side, and each touch electrode portion adjacent to each of the first insulating regions is arranged on the other side.
前記各第2絶縁領域の一方の端部を通過する第1仮想領域と、他方の端部を通過する第2仮想領域とは、互いに重ならないように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の静電容量式のタッチスイッチ。   The first virtual region passing through one end of each of the second insulating regions and the second virtual region passing through the other end are formed so as not to overlap each other. 1. The capacitive touch switch according to 1. 前記帯状電極体は、前記絶縁層の一方面上に形成されている請求項1又は2に記載の静電容量式のタッチスイッチ。   The capacitive touch switch according to claim 1, wherein the strip electrode body is formed on one surface of the insulating layer. 前記各帯状電極体は、互いに平行となるように形成されている請求項1から3のいずれかに記載の静電容量式のタッチスイッチ。   The capacitive touch switch according to any one of claims 1 to 3, wherein each of the strip electrode bodies is formed to be parallel to each other. 前記帯状電極体が備える複数のタッチ電極部は、前記帯状電極体の長手方向に沿って、前記帯状電極体の短手方向における幅寸法が段階的に短くなるように形成されている請求項1から4のいずれかに記載の静電容量式のタッチスイッチ。   The plurality of touch electrode portions included in the band-shaped electrode body are formed such that a width dimension in a short direction of the band-shaped electrode body is gradually reduced along a longitudinal direction of the band-shaped electrode body. To 4. The electrostatic capacitance type touch switch according to any one of 1 to 4. 前記各第1絶縁領域は、前記各タッチ電極部から前記絶縁層の端部に向けて引き出される金属線からなる引き出し配線がそれぞれ形成されている請求項1から5のいずれかに記載の静電容量式のタッチスイッチ。   6. The electrostatic according to claim 1, wherein each first insulating region is formed with a lead-out wiring made of a metal wire led out from each touch electrode portion toward an end of the insulating layer. Capacitive touch switch. 前記タッチ電極部は、金属線を網目状にして形成されている請求項1から6のいずれかに記載のタッチスイッチ装置。

The touch switch device according to claim 1, wherein the touch electrode portion is formed by forming a metal wire in a mesh shape.

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