JP2012220936A - Substrate processing apparatus and substrate processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、カラーフィルター用基材上に、例えば現像液(第1液)と例えばリンス液(第2液)を供給する基材処理装置および基材処理方法に係り、とりわけ第1液を十分液切りした後基材に対して第2液を供給することができる基材処理装置および基材処理方法に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method for supplying, for example, a developer (first liquid) and, for example, a rinsing liquid (second liquid) onto a color filter substrate. The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of supplying a second liquid to a substrate after draining.
近年、液晶表示パネルにおいて、プラスチック材料を基材として、その一面に、パターニングされたブラックマトリックス、並びに、複数の赤色画素、緑色画素、および青色画素を配設したカラーフィルターが開発されている。このように、基材をプラスチック製とすることにより、カラーフィルターを薄型化、低コスト化するとともに、基材が割れることを防止している(特許文献1および2参照)。 In recent years, in a liquid crystal display panel, a color filter in which a plastic material is used as a base material and a patterned black matrix and a plurality of red pixels, green pixels, and blue pixels are arranged on one surface has been developed. Thus, by making the base material made of plastic, the color filter is reduced in thickness and cost, and the base material is prevented from cracking (see Patent Documents 1 and 2).
このようなカラーフィルターはプラスチック基材に対して感光性材料を塗布し、感光性材料を露光し現像して赤色画素、緑色画素および青色画素を形成することにより得られる。カラーフィルターの製造にあたり、上述のようにプラスチック基材上に設けられた感光性材料に対して露光し現像する必要があるが、現像工程においてプラスチック基材上に現像液(第1液)を供給した後、プラスチック基材上にリンス液(第2液)を供給してプラスチック基材を洗浄している。 Such a color filter is obtained by applying a photosensitive material to a plastic substrate, exposing and developing the photosensitive material to form red pixels, green pixels, and blue pixels. In manufacturing the color filter, it is necessary to expose and develop the photosensitive material provided on the plastic substrate as described above. In the development process, the developer (first solution) is supplied to the plastic substrate. Thereafter, a rinsing liquid (second liquid) is supplied onto the plastic substrate to wash the plastic substrate.
しかしながら、プラスチック基材上の現像液が十分に液切りされない場合、この現像液がプラスチック基材上で乾燥し、乾燥した現像液がリンス液によって十分に除去できないことがある。 However, when the developer on the plastic substrate is not sufficiently drained, the developer may be dried on the plastic substrate, and the dried developer may not be sufficiently removed by the rinse solution.
あるいはプラスチック基材上にある薬液(第1液)を供給した後、プラスチック基材上に他の薬液(第2液)を供給した場合、第1液と第2液が混合してプラスチック基材に対して十分な処理を行なうことができない場合もある。 Alternatively, after supplying the chemical liquid (first liquid) on the plastic base material, when another chemical liquid (second liquid) is supplied on the plastic base material, the first liquid and the second liquid are mixed to form the plastic base material. In some cases, sufficient processing cannot be performed.
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基材上に、第1液を供給した後、この第1液を十分に液切りした後、基材上に第2液を供給することができる基材処理装置および基材処理方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such points. After supplying the first liquid onto the substrate, the first liquid is sufficiently drained, and then the second liquid is formed on the substrate. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that can supply the substrate.
本発明は、連続的に供給される帯状のカラーフィルター用基材に対して第1液を供給する第1液供給部を含む第1液室と、前記第1液室内で前記第1液が供給された前記基材に対して第2液を供給する第2液供給部を含む第2液室を備え、前記第1液室と前記第2液室は互いに水平方向に並んで配置され、前記第1液室において前記基材は第1処理位置をとり、前記第2液室において前記基材は第2処理位置をとり、前記第1液室と前記第2液室との間に、前記第1液室からの前記基材を前記第1処理位置および前記第2処理位置より高い上昇位置までもってきて前記基材上の第1液を液切りした後、前記第2液室へ送る段差形成エリアを設けたことを特徴とする基材処理装置である。 The present invention provides a first liquid chamber including a first liquid supply section that supplies a first liquid to a continuously-fed strip-shaped color filter substrate, and the first liquid is contained in the first liquid chamber. A second liquid chamber including a second liquid supply unit for supplying the second liquid to the supplied base material, the first liquid chamber and the second liquid chamber being arranged in a horizontal direction, In the first liquid chamber, the base material takes a first processing position, and in the second liquid chamber, the base material takes a second processing position, and between the first liquid chamber and the second liquid chamber, After the base material from the first liquid chamber is brought to the elevated position higher than the first processing position and the second processing position, the first liquid on the base material is drained, and then to the second liquid chamber. A substrate processing apparatus having a step forming area to be sent.
本発明は、前記第1液室は前記基材を前記第1処理位置において搬送する複数の第1搬送ローラを有し、前記第2液室は前記基材を前記第2処理位置において搬送する複数の第2搬送ローラを有し、前記段差形成エリアには、前記第1搬送ローラおよび前記第2搬送ローラより高い位置にある上昇ローラが設けられ、前記段差形成エリアにおいて前記基材を上昇位置までもってくることを特徴とする基材処理装置である。 In the present invention, the first liquid chamber has a plurality of first transport rollers for transporting the base material at the first processing position, and the second liquid chamber transports the base material at the second processing position. There are a plurality of second transport rollers, and the step forming area is provided with a rising roller at a position higher than the first transport roller and the second transport roller, and the base material is lifted in the step forming area. The substrate processing apparatus is characterized in that the substrate processing apparatus is provided.
本発明は、前記第1液室は前記基材を前記第1処理位置において搬送する複数の第1搬送ローラを有し、前記第2液室は前記基材を前記第2処理位置において搬送する複数の第2搬送ローラを有し、前記第1液室内の出口側に前記第1搬送ローラより高い位置にある第1上昇ローラを設け、前記第2液室内の入口側に前記第2搬送ローラより高い位置にある第2上昇ローラを設け、前記段差形成エリアにおいて前記基材を上昇位置までもってくることを特徴とする基材処理装置である。 In the present invention, the first liquid chamber has a plurality of first transport rollers for transporting the base material at the first processing position, and the second liquid chamber transports the base material at the second processing position. A plurality of second conveying rollers, a first ascending roller provided at a position higher than the first conveying roller at an outlet side in the first liquid chamber, and the second conveying roller at an inlet side in the second liquid chamber; The substrate processing apparatus is characterized in that a second ascending roller is provided at a higher position, and the substrate is brought to the ascending position in the step forming area.
本発明は、上記記載の基材処理装置を用いた基材処理方法において、第1液室内に連続的に供給され第1処理位置をとる帯状のカラーフィルター用基材に対して第1液供給部から第1液を供給する工程と、前記第1液室内で前記第1液が供給された前記基材を前記段差形成エリアへ送り前記第1処理位置より高い上昇位置までもってきて、前記基材上の前記第1液を液切りする工程と、前記段差形成エリア内の基材を第2液室へ送り、前記上昇位置より低い第2処理位置まで降下させた後、第2液供給部から第2液を供給する工程と、を備えたことを特徴とする基材処理方法である。 According to the present invention, in the substrate processing method using the substrate processing apparatus described above, the first liquid is supplied to the belt-shaped color filter substrate that is continuously supplied into the first liquid chamber and takes the first processing position. A step of supplying a first liquid from a portion, and the base material supplied with the first liquid in the first liquid chamber is sent to the step forming area and brought to a rising position higher than the first processing position, The step of draining the first liquid on the base material, the base material in the step forming area being sent to the second liquid chamber and lowered to the second processing position lower than the ascending position, and then the second liquid supply And a step of supplying the second liquid from the section.
本発明によれば、第1液室内で第1液が供給された基材を段差形成エリアへ送り、この段差形成エリア内で基材を第1液室の第1処理位置より高い上昇位置までもってくることができる。このため基材上の第1液を十分液切りした後、第2液室へ送り、第2液室内において基材上に第2液を供給することができる。 According to the present invention, the base material supplied with the first liquid in the first liquid chamber is sent to the step forming area, and the base material is moved to a higher position in the step forming area than the first processing position of the first liquid chamber. You can bring it. For this reason, after fully draining the 1st liquid on a base material, it can send to a 2nd liquid chamber, and can supply a 2nd liquid on a base material in a 2nd liquid chamber.
第1の実施の形態
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。ここで、図1乃至図5は、本発明の第1の実施の形態における基材処理装置および基材処理方法を示す図である。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS First Embodiment Hereinafter, an embodiment of the invention will be described with reference to the drawings. Here, FIG. 1 thru | or FIG. 5 is a figure which shows the base-material processing apparatus and base-material processing method in the 1st Embodiment of this invention.
まず、図5により本実施の形態における基材処理装置および基材処理方法により得られるカラーフィルター1の断面構成について説明する。 First, the cross-sectional configuration of the color filter 1 obtained by the substrate processing apparatus and the substrate processing method in the present embodiment will be described with reference to FIG.
図5に示すように、本実施の形態における基材処理装置および基材処理方法により得られるカラーフィルター1は、プラスチック基材2と、このプラスチック基材2上に形成され、複数のバンク(隔壁)3bを含むブラックマトリックス3とを備えている。このうちブラックマトリックス3は、複数のバンク3bによって形成された略矩形状の複数の開口部3cを有している。このような、ブラックマトリックス3は、感光性を有する感光性樹脂材料(以下、「感光性材料」とも言う)によりパターニングされた感光性材料層3aからなっている。
As shown in FIG. 5, the color filter 1 obtained by the substrate processing apparatus and the substrate processing method in the present embodiment is formed on a
通常、プラスチック基材2上のブラックマトリックス3の各開口部3c内に、複数色の画素が形成されている。すなわち、ブラックマトリックス3の各開口部3c内に、赤色(R)画素用感光性材料、緑色(G)画素用感光性材料、および青色(B)画素用感光性材料により、複数の赤色画素4、緑色画素5、および青色画素6が形成されている。各画素4、5、6の配列は、図示しないが、ストライプ配列、デルタ配列(トライアングル配列)、正方配列(四画素配列)等の公知の配列とすることができる。このように異なる色を有した三つの隣り合う画素によって、画面上における一つの表示画素が形成されるようになっている。更に、黄色画素(図示せず)等を追加して4色以上の画素が形成されるようにしても良い。
Usually, a plurality of color pixels are formed in each opening 3 c of the
また、これらの画素4、5、6は、保護層7で覆われている。この保護層7上に、インジウム錫酸化物(ITO(Indium Tin Oxide))からなる透明電極膜8が形成されている。
Further, these
このようなカラーフィルター1は、例えば、各画素4、5、6に対応して配列されたTFT等のスイッチング素子と液晶層とを含む液晶素子、および面光源と組み合わされて、液晶ディスプレイ(以下、「LCD」とも言う)、または電子ペーパー等に用いられる。この構成において、液晶はスイッチング素子によって制御されてシャッターとして機能し、面光源からの光を所望の色の画素のみを介して出射させる。このようにして、画面上にカラー映像が表示されるにようになっている。
Such a color filter 1 is combined with, for example, a liquid crystal element including a switching element such as a TFT and a liquid crystal layer arranged corresponding to each of the
次に、カラーフィルター1の各構成部材の材料について説明する。 Next, the material of each component of the color filter 1 will be described.
プラスチック基材2に用いる材料としては、LCD用途では、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネートが、高耐熱性、低吸水率、低リタデーションのため好ましい。電子ペーパー用途では、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが、量産品で低コストのため好ましい。これ以外にも、ポリエーテルスルフォン、ポリエチレンナフトール、ポリイミド、有機無機複合樹脂が、高耐熱性を有しているため用いることができる。また、プラスチック基材2の厚さは、50〜300μmであることが好ましく、とりわけ、ハンドリングのしやすさから、100μm程度であることが好ましい。このことにより、製造工程を終了したプラスチック基材2をロール状に巻き付けることができるとともに、必要な強度を確保することができる。
As a material used for the
感光性材料層3aを形成する感光性材料としては、遮光性を有する黒色の顔料と溶剤と接合性樹脂(バインダー)とを含む顔料分散型の感光性樹脂組成物を用いることが好ましい。また、各色の画素用感光性材料としては、同様にして、各色の顔料を分散させた感光性樹脂組成物を用いることが好ましい。
As the photosensitive material for forming the
このようなカラーフィルター1を製造する場合、まずプラスチック基材2上にブラックマトリック3を形成する。この場合プラスチック基材2上に感光性材料を塗布し、感光性材料を露光した後、現像液を感光性材料に供給する。そしてリンス液によりプラスチック基材を洗浄する。このことによりプラスチック基材2上にブラックマトリック3を形成することができる。
When manufacturing such a color filter 1, first, a
同様にしてプラスチック基材2上に、順次赤色画素4、緑色画素5および青色画素6を形成することができる。
Similarly, the
本発明による基材処理装置および基材処理方法は、上述したプラスチック基材上の感光性材料を現像液で現像し、リンス液を用いてリンスするものである。あるいはカラーフィルターの製造工程において、本発明による基材処理装置および基材処理方法を用いて、プラスチック基材上の配線層に対してエッチング処理を行ってもよい。 The substrate processing apparatus and the substrate processing method according to the present invention develop the photosensitive material on the plastic substrate described above with a developer and rinse it with a rinse solution. Or in the manufacturing process of a color filter, you may etch with respect to the wiring layer on a plastic base material using the base-material processing apparatus and base-material processing method by this invention.
以下、本発明による基材処理装置および基材処理方法について述べる。 Hereinafter, the substrate processing apparatus and the substrate processing method according to the present invention will be described.
図1乃至図4に示すように、基材処理装置10は連続的に供給される帯状のカラーフィルター用プラスチック基材2を受け入れるとともに、プラスチック基材2に対して、例えば現像液等の第1液Aを供給する第1液供給ノズル(第1液供給部)13を含む第1液室11と、第1液室11内で第1液Aが供給されたプラスチック基材2を受け入れるとともに、プラスチック基材2に対して、例えば水等のリンス液(第2液)Bを供給する第2液供給ノズル(第1液供給部)13を含む第2液室21とを備えている。
As shown in FIGS. 1 to 4, the
この場合、第1液室11内に供給されるプラスチック基材2上には予め感光性材料が塗布されており、第1液室11の前工程において感光性材料に対して所望パターンを有するマスクを用いて露光処理が施されている。
In this case, a photosensitive material is applied in advance on the
次に第1液室11および第2液室21について詳述する。
Next, the first
第1液室11と第2液室21は、略同一の構造をもっているため、ここでは、第1液室11について説明する。
Since the first
図3および図4に示すように、第1液室11は、密閉タイプの第1液室本体11Aと、第1液室本体11Aに配置されプラスチック基材2を搬送する複数の第1搬送ローラ12aとを有している。また第1液室本体11A内上部には上述したように、第1液Aをプラスチック基材2に対して供給する複数の第1液供給ノズル13が配置され、各液供給ノズル13は第1液供給ヘッダー14に取り付けられている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the first
また第1液室本体11Aには、プラスチック基材2が供給される供給口11aと、プラスチック基材2が排出される排出口11bとが設けられている。
The first
さらに第1液室本体11Aの底部には、第1液室本体11Aからの第1液Aを受け、この第1液Aを貯留する第1液タンク16が接続されており、第1液タンク16内の第1液Aはポンプ17を有する送りライン18を介して第1液供給ヘッダー14に送られる。そして第1液供給ヘッダー14に取付けられた各第1液供給ノズル13から第1液Aがプラスチック基材2上に供給される。
Further, a
なお、第1液室11の第1液室本体11Aおよび第2液室21の第2液室本体21Aは、いずれも覆いカバー10Aにより一体として覆われている。
The first liquid chamber
また第1液室11内において、プラスチック基材2は第1搬送ローラ12aによって第1処理位置P1をとるとともに、水平方向に搬送され、この間プラスチック基材2に対して第1液供給ノズル13から第1液Aが供給される。
In the first
同様に第2液室21内において、プラスチック基材2は第2搬送ローラ22aによって第2処理位置P2をとるとともに、水平方向に搬送され、この間プラスチック基材2に対して第2液供給ノズルから第2液Bが供給される。この場合、第1液室11内の第1処理位置P1と、第2液室21内の第2処理位置P2は同一の高さをもつが、この第1処理位置P1と第2処理位置P2は互いに異なっていてもよい。
Similarly, in the second
また第1液室11の第1液室本体11Aと第2液室21の第2液室本体21Aは、水平方向に並んで配置されている。
The first liquid chamber
また第1液室11の第1液室本体11Aと第2液室21の第2液室本体21Aとの間に、第1液室本体21Aから排出されたプラスチック基材2を第1処理位置P1および第2処理位置P2より高い上昇位置P3までもってきて、プラスチック基材2上の第1液Aを第1液室11の第1液室本体11A側へ戻す段差形成エリア30が設けられている。
Further, the
そして段差形成エリア30内の上昇位置P3をとるプラスチック基材2は、その後降下して第2液室21の第2液室本体21A側へ送られ、第2処理位置P2をとるようになっている。
And the
すなわち、図1および図2に示すように、第1液室11の第1液室本体11A内にはプラスチック基材2を第1処理位置P1において搬送する複数の第1搬送ローラ12aが設けられ、出口側の第1搬送ローラ12a上に、この第1搬送ローラ12aとともにプラスチック基材2を狭持する押えローラ12bが設けられている。そして出口側の第1搬送ローラ12aおよび押えローラ12bの下流側であって押えローラ12bより上方の第1液室本体11A内にプラスチック基材2を上昇位置P3まで上昇させる上昇ローラ31が設けられている。
That is, as shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of
また第2液室21は、密閉タイプの第2液室本体21Aと、第2液室本体21Aに配置されプラスチック基材2を搬送する複数の第2搬送ローラ22aとを有している。また第2液室本体21A内上部には上述したように、第2液Bをプラスチック基材2に対して供給する複数の第2液供給ノズル23が配置され、各液供給ノズル23は第2液供給ヘッダー24に取り付けられている。
The second
第2液室21のその他の構成は、第1液室11の構成と略同一である。
Other configurations of the second
また図1および図2に示すように、第2液室21の第2液室本体21A内にはプラスチック基材2を第2処理位置P2において搬送する複数の第2搬送ローラ22aが設けられ、入口側の第2搬送ローラ22a上にこの第2搬送ローラ22aとともにプラスチック基材2を狭持する押えローラ22bが設けられている。そして入口側の第2搬送ローラ22aおよび押えローラ22bの上流側であって押えローラ22bより上方の第2液室本体21A内にプラスチック基材2を上昇位置P3に保つ上昇ローラ32が設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a plurality of
このように第1液室11の第1液室本体11A内に上昇ローラ31を設け、第2液室21の第2液室本体21A内に上昇ローラ32を設けることにより、第1液室本体11Aと第2液室本体21Aとの間の段差形成エリア30においてプラスチック基材2を第1処理位置P1および第2処理位置P2のいずれもよりも高い上昇位置P3までもってくることができる。このため、第1プラスチック基材2上の第1液Aを第1液室11の第1液室本体11A側へ戻すことができる。
Thus, by providing the rising
同様にして第2液室21の第2液室本体21A内において供給された第2液Bが、プラスチック基材2を伝って第1液室11の第1液室本体11A側へ移行することもない。
Similarly, the second liquid B supplied in the second liquid chamber
次のような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。 The operation of the present embodiment having the following configuration will be described.
まず前工程においてプラスチック基材2上に感光性材料が塗布され、この感光性材料に対して所望パターンを有するマスクを用いて露光処理が行われる。
First, a photosensitive material is applied on the
次にプラスチック基材2が第1液室11の第1液室本体11A内に供給口11aを介して供給され、第1液室本体11A内においてプラスチック基材2は第1搬送ローラ12aにより第1処理位置P1をとって搬送される。この間、第1液室本体11A内において、プラスチック基材2に対して第1液供給ノズル13から現像液(第1液)Aが供給され、プラスチック基材2上の感光性材料が現像される。
Next, the
次に第1液室本体11A内のプラスチック基材2は、出口側の第1搬送ローラ12aと押えローラ12bとの間で狭持された後、上昇ローラ31により第1液室本体11A内で上昇位置P3まで上昇する。
Next, the
第1液室本体11Aにおいてプラスチック基材2が第1処理位置P1から上昇位置P3まで上昇する間、プラスチック基材2上の第1液Aを下流側に戻し、このことによりプラスチック基材2上の第1液Aを効果的に水切り(あるいは液切りともいう)することができる。
While the
次に第1液室本体11A内のプラスチック基材2は、排出口11bから段差形成エリア30側へ送られ、この段差形成エリア30内において上昇位置P3を維持する。
Next, the
その後、プラスチック基材2は段差形成エリア30から第2液室21の第2液室本体21A内に供給され、第2液室本体21A内の上昇ローラ32を通った後、第2液室本体21A内の搬送ローラ22aおよび押えローラ22bにより狭持されて第2処理位置P2をとる。
Thereafter, the
第2液室本体21A内において、プラスチック基材2は第2搬送ローラ22aにより第2処理位置P2をとって搬送される。この間、第2液室21A内において、プラスチック基材2に対して第2液供給ノズル23から水等のリンス液(第2液)Bが供給され、プラスチック基材2上に不要な感光性材料等の不純物が洗浄される。
In the second liquid chamber
この場合、第2液室本体21A内において、プラスチック基材2は第2処理位置P2をとるので、第2液室本体21A内でプラスチック基材2に対して供給された第2液Bがプラスチック基材2を伝って第1液室本体11A側へ移行することもない。
In this case, since the
以上のように本実施の形態によれば、第1液室11の第1液室本体11A内で第1処理位置P1をとって搬送されたプラスチック基材2に対して第1液Aを供給する。その後プラスチック基材2を第1液室本体11A内で第1処理位置P1より高い上昇位置P3までもってくることにより、プラスチック基材2上に残る第1液Aを下流側に戻し、プラスチック基材2上の第1液Aを効果的に水切り(あるいは液切りともいう)することができる。
なお、上記実施の形態において、カラーフィルター用基材として、プラスチック基材2を用いた例を示したが、これに限らず、プラスチック基材2の代わりにガラス基材を用いても良い。
このようなガラス基材としては、例えば、無アルカリガラス(日本電気硝子製 OA−10G)のような材料を用いることができる。
As described above, according to the present embodiment, the first liquid A is supplied to the
In the above embodiment, an example in which the
As such a glass substrate, for example, a material such as non-alkali glass (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass) can be used.
第2の実施の形態
本発明において、第1液室11内で第1液Aが供給された基材2を段差形成エリアへ送り、この段差形成エリア30内で基材2を第1液室11の第1処理位置P1より高い上昇位置P3までもってくることができ、基材2上の第1液Aを十分液切りした後、第2液室21へ送り、第2液室21内において基材2上に第2液Bを供給することができれば、上記第1の実施の形態に限られない。次に図6により本発明の第2の実施の形態について説明する。
Second Embodiment In the present invention, the
図6に示す第2の実施の形態は、第1液室本体11Aおよび第2液室本体21Aの各々に上昇ローラ31、32を設ける代わりに、第1液室本体11Aと第2液室本体21Aとの間の段差形成エリア30内に、第1液室本体11Aおよび第2液室本21Aの外方に位置する上昇ローラ33を設けたものであり、他の構成は図1乃至図5に示す第1の実施の形態と略同一である。
The second embodiment shown in FIG. 6 is different from the first liquid chamber
図6に示す第2の実施の形態において、図1乃至図5に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。 In the second embodiment shown in FIG. 6, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 5 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
図6に示す第2の実施の形態において、まず前工程においてプラスチック基材2上に感光性材料が塗布され、この感光性材料に対して所望パターンを有するマスクを用いて露光処理が行われる。
In the second embodiment shown in FIG. 6, a photosensitive material is first applied onto the
次にプラスチック基材2が第1液室11の第1液室本体11A内に供給口11aを介して供給され、第1液室本体11A内においてプラスチック基材2は第1搬送ローラ12aにより第1処理位置P1をとって搬送される。この間、第1液室本体11A内において、プラスチック基材2に対して第1液供給ノズル13から現像液(第1液)Aが供給され、プラスチック基材2上の感光性材料が現像される。
Next, the
次に第1液室本体11A内のプラスチック基材2は、出口側の第1搬送ローラ12aと押えローラ12bとの間で狭持された後、排出口11bから段差形成エリア30側へ送られ、上昇ローラ33により段差形成エリア30において上昇位置P3まで上昇する。
Next, the
第1液室本体11Aにおいて第1処理位置P1をとるプラスチック基材2が段差形成エリア30内において上昇位置P3まで上昇する間、プラスチック基材2上の第1液Aを下流側に戻し、このことによりプラスチック基材2上の第1液Aを効果的に水切りすることができる。
While the
その後、プラスチック基材2は段差形成エリア30から第2液室21の第2液室本体21A内に供給され、第2液室本体21A内の搬送ローラ22aおよび押えローラ22bにより狭持されて第2処理位置P2をとる。
Thereafter, the
第2液室本体21A内において、プラスチック基材2は第2搬送ローラ22aにより第2処理位置P2をとって搬送される。この間、第2液室21A内において、プラスチック基材2に対して第2液供給ノズル23から水等のリンス液(第2液)Bが供給され、プラスチック基材2上に不要な感光性材料等の不純物が洗浄される。
In the second liquid chamber
この場合、第2液室本体21A内において、プラスチック基材2は第2処理位置P2をとるので、第2液室本体21A内でプラスチック基材2に対して供給された第2液Bがプラスチック基材2を伝って第1液室本体11A側へ移行することもない。
In this case, since the
以上のように本実施の形態によれば、第1液室11の第1液室本体11A内で第1処理位置P1をとって搬送されたプラスチック基材2に対して第1液Aを供給する。その後プラスチック基材2を段差形成エリア30内において第1処理位置P1より高い上昇位置P3までもってくることにより、プラスチック基材2上に残る第1液Aを下流側に戻し、プラスチック基材2上の第1液Aを効果的に水切りすることができる。また、上記第1の実施の形態に比べて、段差形成エリア30の構造が簡素化されており、そのため設置スペースの省スペース化を図ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the first liquid A is supplied to the
なお、上記各実施例において、第1液Aとして現像液を用い、第2液Bとしてリンス液を用いた例を示したが、これに限らず基材処理装置をプラスチック基材2上に形成された配線層を感光性材料をマスクとしてエッチングするエッチング処理装置として用いてもよい。この場合第1液Aとしてエッチング液を用いることができ、第2液Bとして不要な配線層を除去するリンス液を用いることができる。
In each of the above-described embodiments, the example in which the developer is used as the first liquid A and the rinse liquid is used as the second liquid B is shown. However, the present invention is not limited to this, and the substrate processing apparatus is formed on the
10 基材処理装置
10A 覆いカバー
11 第1液室
11A 第1液室本体
12a 第1搬送ローラ
12b 押えローラ
13 第1液供給ノズル
14 第1液供給ヘッダー
16 第1液タンク
17 ポンプ
18 送りライン
21 第2液室
21A 第2液室本体
22a 第1搬送ローラ
22b 押えローラ
23 第1液供給ノズル
24 第1液供給ヘッダー
30 段差形成エリア
31、32、33 上昇ローラ
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記第1液室内で前記第1液が供給された前記基材に対して第2液を供給する第2液供給部を含む第2液室を備え、
前記第1液室と前記第2液室は互いに水平方向に並んで配置され、前記第1液室において前記基材は第1処理位置をとり、前記第2液室において前記基材は第2処理位置をとり、
前記第1液室と前記第2液室との間に、前記第1液室からの前記基材を第1処理位置および前記第2処理位置より高い上昇位置までもってきて前記基材上の第1液を液切りした後、前記第2液室へ送る段差形成エリアを設けたことを特徴とする基材処理装置。 A first liquid chamber including a first liquid supply unit for supplying the first liquid to the continuously-fed strip-shaped color filter substrate;
A second liquid chamber including a second liquid supply unit configured to supply a second liquid to the base material supplied with the first liquid in the first liquid chamber;
The first liquid chamber and the second liquid chamber are arranged side by side in the horizontal direction, the base material takes a first processing position in the first liquid chamber, and the base material is second in the second liquid chamber. Take the processing position,
Between the first liquid chamber and the second liquid chamber, the base material from the first liquid chamber is brought to a first processing position and an elevated position higher than the second processing position, and is on the base material. A substrate processing apparatus comprising a step forming area for feeding the first liquid to the second liquid chamber after draining the first liquid.
前記段差形成エリアには、前記第1搬送ローラおよび前記第2搬送ローラより高い位置にある上昇ローラが設けられ、前記段差形成エリアにおいて前記基材を上昇位置までもってくることを特徴とする請求項1記載の基材処理装置。 The first liquid chamber has a plurality of first transport rollers for transporting the substrate at the first processing position, and the second liquid chamber has a plurality of second transports for transporting the substrate at the second processing position. Having a transport roller,
The step forming area is provided with a rising roller at a position higher than the first conveying roller and the second conveying roller, and the base material is brought to a rising position in the step forming area. 1. The substrate processing apparatus according to 1.
前記第1液室内の出口側に前記第1搬送ローラより高い位置にある第1上昇ローラを設け、前記第2液室内の入口側に前記第2搬送ローラより高い位置にある第2上昇ローラを設け、前記段差形成エリアにおいて前記基材を上昇位置までもってくることを特徴とする請求項1記載の基材処理装置。 The first liquid chamber has a plurality of first transport rollers for transporting the substrate at the first processing position, and the second liquid chamber has a plurality of second transports for transporting the substrate at the second processing position. Having a transport roller,
A first raising roller at a position higher than the first conveying roller is provided on the outlet side in the first liquid chamber, and a second raising roller at a position higher than the second conveying roller is provided on the inlet side in the second liquid chamber. The base material processing apparatus according to claim 1, wherein the base material processing apparatus is provided to bring the base material to a raised position in the step forming area.
第1液室内に連続的に供給され第1処理位置をとる帯状のカラーフィルター用基材に対して第1液供給部から第1液を供給する工程と、
前記第1液室内で前記第1液が供給された前記基材を段差形成エリアへ送り前記第1処理位置より高い上昇位置までもってきて、前記基材上の前記第1液を液切りする工程と、
前記段差形成エリア内の基材を第2液室へ送り、前記上昇位置より低い第2処理位置まで降下させた後、第2液供給部から第2液を供給する工程と、
を備えたことを特徴とする基材処理方法。 In the base-material processing method using the base-material processing apparatus of Claim 1,
Supplying the first liquid from the first liquid supply unit to the band-shaped color filter substrate that is continuously supplied into the first liquid chamber and takes the first processing position;
The base material supplied with the first liquid in the first liquid chamber is sent to a step forming area and brought to an elevated position higher than the first processing position, and the first liquid on the base material is drained. Process,
A step of supplying the second liquid from the second liquid supply unit after the substrate in the step forming area is sent to the second liquid chamber and lowered to the second processing position lower than the rising position;
A substrate processing method characterized by comprising:
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