JP2008108878A - Color filter production line system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、カラーフィルタ製造ラインにおけるカセットの供給及び回収、並びにカラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペース比率の低減に関するものであり、特に、搬入装置に２個設けられているカセットポートの数を１個に減少させても、カセットの供給及び回収を良好に行うことが可能なカラーフィルタ製造ラインシステム、並びにこれによる初期建設コスト及び運用コストの増大を回避したカラーフィルタ製造ラインシステムに関する。 The present invention relates to cassette supply and recovery in a color filter production line, and reduction of the empty space ratio in a clean room occupied by the color filter production line. In particular, the present invention relates to two cassette ports provided in a carry-in device. The present invention relates to a color filter production line system that can satisfactorily supply and collect cassettes even if the number is reduced to one, and a color filter production line system that avoids an increase in initial construction cost and operation cost due to this.
図６は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図７は、図６に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図６、及び図７に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図６、及び図７はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
FIG. 6 is a plan view schematically showing an example of a color filter used in the liquid crystal display device. FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line XX ′ of the color filter shown in FIG.
As shown in FIGS. 6 and 7, the color filter (4) used in the liquid crystal display device has a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (40). Are formed sequentially.
FIGS. 6 and 7 schematically show a color filter, and 12 colored pixels (42) are represented. In an actual color filter, for example, several hundreds are displayed on a 17-inch diagonal screen. A large number of colored pixels of about μm are arranged.
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。 As a method for manufacturing a color filter having the above structure used in many liquid crystal display devices, first, a black matrix is formed on a glass substrate, and then the black matrix on the glass substrate on which the black matrix is formed. A method in which colored pixels are formed in alignment with a pattern and a transparent conductive film is further formed in alignment is widely used. The black matrix (41) is a matrix having light shielding properties, the colored pixels (42) have, for example, red, green, and blue filter functions, and the transparent conductive film (43) is transparent. Provided as a simple electrode.
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
The black matrix (41) is composed of a matrix portion (41A) between the colored pixels (42) and a frame portion (41B) surrounding the peripheral portion of the region (display portion) where the colored pixels (42) are formed. Yes.
The black matrix determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device, making the image of the display device uniform and uniform. In addition, it has a function of making an image with improved contrast.
このブラックマトリックスの形成は、クロム成膜の処理ラインを用いてガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、ブラックマトリックスの処理ラインを用いて、例えば、ポジ型のフォトレジストのエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
This black matrix is formed using a chromium film processing line on a glass substrate (40) with a metal such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrO x ) as a black matrix material or a metal compound in a thin film form. Then, using a black matrix processing line, for example, a positive photoresist etching resist pattern is formed on the formed thin film, and then the exposed portion of the formed metal thin film is formed. Etching and stripping of an etching resist pattern are performed to form a black matrix (41) made of a metal thin film such as Cr or CrO x .
Alternatively, the black matrix (41) is formed on the glass substrate (40) by photolithography using a black photosensitive resin for forming a black matrix.
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、着色画素の処理ラインを用いて、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、透明導電膜の処理ラインを用いて、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
In addition, the colored pixel (42) is formed by applying a negative photoresist coating film in which, for example, a pigment or other pigment is dispersed on the glass substrate on which the black matrix is formed, using a colored pixel processing line. And a colored pixel is formed by exposure and development on the coating film.
The transparent conductive film (43) is formed on a glass substrate on which colored pixels are formed using a transparent conductive film processing line, for example, by using ITO (Indium Tin Oxide) by sputtering. The method of forming is taken.
図６、及び図７に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
The color filter (4) shown in FIGS. 6 and 7 has a basic function as a color filter used in a liquid crystal display device. The liquid crystal display device incorporates such a color filter to realize full color display, and its application range is dramatically expanded, and many products using liquid crystal display devices such as liquid crystal color TVs and notebook PCs are created. It was done.
With the development and practical use of various liquid crystal display devices, the following various functions have been added to the color filters used in the liquid crystal display devices in addition to the above basic functions.
図６に示すカラーフィルタに追加される機能としては、例えば、保護層、フォトスペーサー、配向制御用突起、光路調整層、光散乱層などがあげられる。これら諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図６に示すカラーフィルタに追加される。 Examples of functions added to the color filter shown in FIG. 6 include a protective layer, a photo spacer, an alignment control protrusion, an optical path adjustment layer, and a light scattering layer. Among these functions, one function or a plurality of functions are added to the color filter shown in FIG. 6 based on the use and specification of the color filter.
図８は、前記各種の処理ラインの内、着色画素の処理ラインの一例を示す説明図である。図８に例示する着色画素の処理ラインは、洗浄装置（１２）、塗布装置（１３）、膜厚／ムラ検査装置（１４）、露光装置（１５）、現像装置（１６）、ポストベーク装置（１７）、検査装置（１８）などのプロセス装置（Ｐ）と、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）で構成されている。
尚、ガラス基板は図示していないが、ガラス基板の動線を実線矢印で表している。
FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating an example of a colored pixel processing line among the various processing lines. The processing line of the colored pixels illustrated in FIG. 8 includes a cleaning device (12), a coating device (13), a film thickness / unevenness inspection device (14), an exposure device (15), a developing device (16), a post-baking device ( 17), a process device (P) such as an inspection device (18), a carry-in device (LD), and a carry-out device (ULD).
Although the glass substrate is not shown, the flow line of the glass substrate is represented by a solid arrow.
図８に示すように、ガラス基板は、搬入装置（ＬＤ）から洗浄装置（１２）へ搬入され、洗浄装置（１２）にて洗浄処理が施される。次に、洗浄装置（１２）から塗布装置（１３）へ搬送され、塗布装置（１３）にてフォトレジストが塗布される。塗布後に膜厚／ムラ検査装置（１４）へ搬送され、フォトレジストの塗膜の検査が行われる。 As shown in FIG. 8, a glass substrate is carried in from a carrying-in apparatus (LD) to a washing | cleaning apparatus (12), and a washing process is given in a washing | cleaning apparatus (12). Next, it is conveyed from the cleaning device (12) to the coating device (13), and a photoresist is applied by the coating device (13). After coating, the film is transferred to a film thickness / unevenness inspection apparatus (14), and a coating film of the photoresist is inspected.
続いて、露光装置（１５）での露光、現像装置（１６）での現像、ポストベーク装置（１７）でのポストベーク、検査装置（１８）での検査が施され、パターンが形成されたガラス基板は、検査装置（１８）から搬出装置（ＵＬＤ）へと搬出される。
フォトレジストの塗布後に行われる膜厚／ムラ検査装置（１４）は、例えば、光学式非接触の膜厚検査と、マクロ画像を撮像するムラ検査を行うものであり、着色画素の処理ライン内に組み込まれた、所謂、インラインの検査装置である。また、検査装置（１８）は、例えば、外観検査装置であり、形成されたパターンの検査を行う。
Subsequently, the glass on which the pattern is formed by performing exposure in the exposure device (15), development in the development device (16), post-bake in the post-bake device (17), and inspection in the inspection device (18). The substrate is unloaded from the inspection apparatus (18) to the unloading apparatus (ULD).
The film thickness / unevenness inspection apparatus (14) performed after the application of the photoresist performs, for example, an optical non-contact film thickness inspection and a nonuniformity inspection for capturing a macro image. It is a so-called in-line inspection device incorporated. The inspection device (18) is an appearance inspection device, for example, and inspects the formed pattern.
カラーフィルタを製造するための、前記各種の処理を行う複数の処理ラインへのガラス基板の供給、及び処理ラインからの回収は、ガラス基板の大型化に伴い、ガラス基板のサイズが５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度になった第３世代からは、例えば、無軌道の無人搬送台車（ＡＧＶ）を使い、ガラス基板が収納されたカセット及び空のカセットが保管されている自動倉庫から各処理ラインへ、或いは各処理ラインから自動倉庫へカセットを搬送していた。 In order to manufacture a color filter, the glass substrate is supplied to and recovered from the plurality of processing lines for performing the various processes, and the size of the glass substrate is about 550 mm × 650 mm as the size of the glass substrate increases. From the 3rd generation, for example, using an unmanned automatic guided vehicle (AGV), from an automated warehouse where glass cassettes and empty cassettes are stored to each processing line, or each processing line Was transporting cassettes to the automated warehouse.
しかし、ガラス基板のサイズが１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度になった第６世代からは、無軌道の無人搬送台車（ＡＧＶ）はスペースを取りすぎるために、カラーフィルタ製造ラインの配置を自動倉庫と各処理ラインを接続させた配置として、自動倉庫から各処理ライン、或いは各処理ラインから自動倉庫へ直接にカセットの供給及び回収を行う方式が採用されるようになった。 However, from the 6th generation when the size of the glass substrate is about 1500mm x 1800mm, the unmanned automatic guided vehicle (AGV) takes up too much space, so the arrangement of the color filter production line is separated from the automatic warehouse and each processing line. As a connected arrangement, a method of supplying and collecting cassettes directly from the automatic warehouse to each processing line or from each processing line to the automatic warehouse has come to be adopted.
図１は、自動倉庫と各処理ラインを接続させて配置し、カセットを直接に搬送する方式を採用した第６世代以降のカラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を示す平面図である。
図１に示すように、このカラーフィルタ製造ラインシステムは、各種の処理を行う複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）と自動倉庫（２０）で構成されている。複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）は、前記クロム成膜の処理ライン、ブラックマトリックスの処理ライン、着色画素の処理ライン、透明導電膜の処理ライン、追加される層の処理ライン等であり、ある処理ライン（Ｌｉ）は、プロセス装置（Ｐｉ）と、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）で構成されている。
FIG. 1 is a plan view showing an outline of an example of a color filter manufacturing line system for the sixth generation and subsequent generations that employs a system in which an automatic warehouse and each processing line are connected to each other and a cassette is directly conveyed.
As shown in FIG. 1, this color filter production line system is composed of a plurality of processing lines (L1 to Ln) for performing various processes and an automatic warehouse (20). A plurality of processing lines (L1 to Ln) are the chromium film forming line, the black matrix processing line, the colored pixel processing line, the transparent conductive film processing line, the additional layer processing line, and the like. The processing line (Li) includes a process device (Pi), a carry-in device (LD), and a carry-out device (ULD).
自動倉庫（２０）は、この複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）に対応した自動倉庫である。自動倉庫（２０）の長手方向（図１中、Ｙ軸方向）に対し、複数の処理ライン（Ｌ１〜Ｌｎ）は、その長手方向を垂直にして配置され、その搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）は、自動倉庫（２０）に接続されている。 The automatic warehouse (20) is an automatic warehouse corresponding to the plurality of processing lines (L1 to Ln). A plurality of processing lines (L1 to Ln) are arranged with the longitudinal direction perpendicular to the longitudinal direction (Y-axis direction in FIG. 1) of the automatic warehouse (20), and its loading device (LD) and unloading device. (ULD) is connected to the automatic warehouse (20).
自動倉庫（２０）には、ガラス基板が収納されたカセット及び空のカセットが保管されている。自動倉庫（２０）は、搬入装置（ＬＤ）には、処理を行うガラス基板が収納されたカセットを供給し、また、ガラス基板が処理ラインへ投入されて空となった空のカセットを回収する。
また、自動倉庫（２０）は、搬出装置（ＵＬＤ）には、処理が施されたガラス基板を収納する空のカセットを供給し、また、ガラス基板が収納されたカセットを回収する。
In the automatic warehouse (20), a cassette containing a glass substrate and an empty cassette are stored. The automatic warehouse (20) supplies the loading apparatus (LD) with a cassette in which a glass substrate to be processed is stored, and collects an empty cassette that has been emptied when the glass substrate is put into the processing line. .
Further, the automatic warehouse (20) supplies an empty cassette for storing the processed glass substrate to the carry-out device (ULD), and collects the cassette in which the glass substrate is stored.
図２は、図１に示す、ある処理ライン（Ｌｉ）及び対応している自動倉庫（２０）の一部を拡大した平面図である。図２に示すように、例示する図１における処理ライン（Ｌｉ）の搬入装置（ＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、カセット（ＣＳ）からガラス基板をプロセス装置（Ｐｉ）へ投入する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ１）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は２個以上であり、各々にはカセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。 FIG. 2 is an enlarged plan view of a part of a certain processing line (Li) and a corresponding automatic warehouse (20) shown in FIG. As shown in FIG. 2, the carry-in device (LD) of the processing line (Li) in FIG. 1 illustrated is a cassette port (CSP) for placing the cassette (CS), and a glass substrate from the cassette (CS). (Pi) is composed of a transfer mechanism (for example, transfer robot) (R1). There are two or more cassette ports (CSP), each showing a state in which a cassette (CS) is placed.
また、搬出装置（ＵＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、処理が施されたガラス基板をカセット（ＣＳ）に収納する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ２）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は３個以上であり、各々にはカセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。 The carry-out device (ULD) also includes a cassette port (CSP) for placing the cassette (CS) and a transfer mechanism (for example, a transfer robot) that stores the processed glass substrate in the cassette (CS). R2). There are three or more cassette ports (CSP), each showing a state in which a cassette (CS) is placed.
例示する図１における自動倉庫（２０）は、第１自動倉庫（２０Ａ）と第２自動倉庫（２０Ｂ）で構成されている。第１自動倉庫（２０Ａ）は、カセット（ＣＳ）を載置・保管する多段の棚（２１）が図２中、Ｙ軸方向に直線状に配列した第１ストッカー（２５Ａ）と、第１走行レール（２３Ａ）上をＹ軸方向に移動自在な第１スタッカークレーン（２２Ａ）で構成されている。
第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、カセット（ＣＳ）を積載した状態で、上下移動が自在となっており、第１ストッカー（２５Ａ）の棚（２１）へカセット（ＣＳ）を載置し、或いは棚（２１）からカセット（ＣＳ）を取り出すことができるようになっている。
The automatic warehouse (20) in FIG. 1 illustrated is composed of a first automatic warehouse (20A) and a second automatic warehouse (20B). The first automatic warehouse (20A) includes a first stocker (25A) in which multistage shelves (21) on which cassettes (CS) are placed and stored are arranged linearly in the Y-axis direction in FIG. The first stacker crane (22A) is movable on the rail (23A) in the Y-axis direction.
The first stacker crane (22A) is movable up and down with the cassette (CS) loaded, and the cassette (CS) is placed on the shelf (21) of the first stocker (25A), or The cassette (CS) can be taken out from the shelf (21).
また、この第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、積載したカセット（ＣＳ）を搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）へ供給し、或いは、搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）からカセット（ＣＳ）を回収することができるようになっている。また、第２自動倉庫（２０Ｂ）は、第１自動倉庫（２０Ａ）と同様な構成である。
また、第１自動倉庫（２０Ａ）と第２自動倉庫（２０Ｂ）の間には、両者を接続する、例えば、コンベア（２４）が設けられており、両者間でカセットの搬送を行うことができる
ようになっている。
The first stacker crane (22A) supplies the loaded cassette (CS) to the cassette port (CSP) of the carry-in device (LD) or the carry-out device (ULD), or carries in the carry-in device (LD) or the carry-out device. The cassette (CS) can be collected from the cassette port (CSP) of (ULD). The second automatic warehouse (20B) has the same configuration as the first automatic warehouse (20A).
Moreover, between the 1st automatic warehouse (20A) and the 2nd automatic warehouse (20B), both are connected, for example, the conveyor (24) is provided, and a cassette can be conveyed between both. It is like that.
図２に示すように、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）には、カセットポート（ＣＳＰ）が各々複数個設けられている。これは、プロセス装置（Ｐｉ）の処理能力に対し、スタッカークレーンの処理能力が小さいために、すなわち、プロセス装置（Ｐｉ）が１枚のガラス基板を処理する時間よりも、スタッカークレーンがカセットを回収してから、次のカセットを供給するまでの時間の方が長いために、カセットの供給が間に合わず、プロセス装置が一時停止してしまうのを回避するためである。 As shown in FIG. 2, the carry-in device (LD) and the carry-out device (ULD) are each provided with a plurality of cassette ports (CSP). This is because the processing capacity of the stacker crane is smaller than the processing capacity of the process equipment (Pi), that is, the stacker crane collects the cassette more than the time for the processing equipment (Pi) to process one glass substrate. This is because the time until the next cassette is supplied is longer, so that the supply of the cassette is not in time and the process apparatus is temporarily stopped.
また、自動倉庫（２０）は、第１自動倉庫（２０Ａ）と第２自動倉庫（２０Ｂ）で構成されているが、これは、プロセス装置（Ｐｉ）の処理能力に対応したガラス基板（カセット）の収容能力を確保するために成されたものである。
尚、１基のスタッカークレーンが対応する処理ライン（Ｌｉ）の数は、３ライン程度である。
Moreover, although the automatic warehouse (20) is comprised by the 1st automatic warehouse (20A) and the 2nd automatic warehouse (20B), this is a glass substrate (cassette) corresponding to the processing capacity of a process apparatus (Pi). It was made in order to secure the capacity.
Note that the number of processing lines (Li) to which one stacker crane corresponds is about three lines.
さて、上述したカラーフィルタ製造ラインシステムにおいては、図２に示すように、プロセス装置（Ｐｉ）の幅（Ｂ）よりも、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）の幅（Ａ１、Ａ２）の方が大きくなるために、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）とプロセス装置（Ｐｉ）の間に空スペース（Ｃ１、Ｃ２）が生じる。
これにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率が増え、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストが増大するといった問題を引き起こしている。
In the above-described color filter production line system, as shown in FIG. 2, the width (A1, A2) of the carry-in device (LD) and the carry-out device (ULD) is larger than the width (B) of the process device (Pi). Therefore, empty spaces (C1, C2) are generated between the loading device (LD) and the unloading device (ULD) and the process device (Pi).
As a result, the ratio of the empty space in the clean room occupied by the color filter production line is increased, causing problems such as an increase in initial construction cost and operation cost of the color filter production line.
また、カセット（ＣＳ）が載置・保管されているストッカーの棚（２１）が、搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）から遠方にある棚であると、例えば、その棚が処理ライン（Ｌｉ）と接続している第１自動倉庫（２０Ａ）内の棚ではなく、第２自動倉庫（２０Ｂ）内の棚である場合には、その棚に載置・保管されているカセット（ＣＳ）を搬入装置（ＬＤ）又は搬出装置（ＵＬＤ）まで搬送するのには相応の搬送時間を要することになる。
この搬送時間が長くなると、カセット（ＣＳ）の供給が間に合わず処理ライン（Ｌｉ）が一時停止することもあり得るといった状況にある。
When this conveyance time becomes long, the supply of the cassette (CS) is not in time and the processing line (Li) may be temporarily stopped.
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、上述したカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、カセットが搬入装置から遠方の棚に保管されていても、搬入装置までの搬送時間が長くならず、従って、処理ラインが一時停止を引き起こすことはなく、カセットの供給及び回収を行うことができ、更には、プロセス装置の処理能力に対し、スタッカークレーンの処理能力を大きなものとし、すなわち、プロセス装置が１枚のガラス基板を処理する時間よりも、スタッカークレーンがカセットを回収し、次のカセットを供給する時間の方を充分に短くし、搬入装置に２個以上設けられているカセットポートの数を１個に減少させても、カセットの供給及び回収を良好に行うことが可能なカラーフィルタ製造ラインシステムを提供することを課題とするものである。 The present invention has been made in view of the above problems, and in the above-described color filter production line system, even if the cassette is stored on a shelf far from the loading device, the conveyance time to the loading device is not long, Therefore, the processing line does not cause a temporary stop, the cassette can be supplied and recovered, and the processing capacity of the stacker crane is made larger than the processing capacity of the process equipment. The time required for the stacker crane to collect the cassette and supply the next cassette is sufficiently shorter than the time to process one glass substrate, and the number of cassette ports provided in the carry-in device is two or more. To provide a color filter production line system capable of satisfactorily supplying and collecting cassettes even if the number is reduced to one. The one in which an object of the present invention.
また、上記カセットポートの数を１個に減少させることにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避することを課題とするものである。 Also, by reducing the number of cassette ports to one, the ratio of empty space in the clean room occupied by the color filter production line is reduced, thereby avoiding an increase in initial construction cost and operation cost of the color filter production line. This is a problem.
本発明は、自動倉庫と、複数の処理ラインの搬入装置及び搬出装置を接続させて配置し、該自動倉庫と、該搬入装置又は搬出装置との間でカセットの供給及び回収を行うカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、
１）前記処理ラインのプロセス装置内に、処理途上のガラス基板を待機・蓄積させるバッファー装置を設け、
２）前記バッファー装置より前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を、バッファー装置より後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとし、
３）前記搬入装置に１個のカセットポートを設け、
４）前記カセットポートから近い前記自動倉庫内の位置に、前記搬入装置へ次に供給するカセットを待機させる待機棚を設け、
前記カセットポートに載置された、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に搬入装置に供給するカセットを前記待機棚に移載しておくことを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステムである。
The present invention relates to a color filter manufacturing system in which an automatic warehouse is connected to a plurality of processing line carry-in devices and carry-out devices, and a cassette is supplied and recovered between the automatic warehouse and the carry-in device or the carry-out device. In the line system,
1) A buffer device for waiting and accumulating a glass substrate in the process is provided in the process device of the processing line,
2) The processing time per glass substrate of the process apparatus in the preceding stage from the buffer apparatus is shorter than the processing time of the process apparatus in the subsequent stage from the buffer apparatus,
3) Provide one cassette port in the carry-in device,
4) A standby shelf for waiting for the next cassette to be supplied to the carry-in device is provided at a position in the automatic warehouse near the cassette port,
Before all of the glass substrates stored in the preceding cassette placed in the cassette port are put into the process apparatus in the previous stage, the cassette to be supplied to the carry-in apparatus is moved to the standby shelf. It is a color filter production line system characterized by being placed.
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、前記カセットに収納されるガラス基板が６０枚以上で、後段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間が４０秒以上である際に、前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間が３０秒以下であることを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステムである。 Further, according to the present invention, in the color filter production line system according to the above invention, the number of glass substrates stored in the cassette is 60 or more, and the processing time per one glass substrate of a process apparatus in the subsequent stage is 40 seconds or more In this case, the color filter production line system is characterized in that the processing time per one glass substrate of the process apparatus in the preceding stage is 30 seconds or less.
本発明は、自動倉庫と、搬入装置又は搬出装置との間でカセットの供給及び回収を直接に行うカラーフィルタ製造ラインシステムにおいて、１）処理ラインのプロセス装置内に、処理途上のガラス基板を待機・蓄積させるバッファー装置を設け、２）バッファー装置より前段にあるプロセス装置の処理時間を、バッファー装置より後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとし、３）自動倉庫内の、カセットポートから近い位置に、搬入装置へ次に供給するカセットを待機させる待機棚を設け、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に搬入装置に供給するカセットを待機棚に移載しておくカラーフィルタ製造ラインシステムであるので、処理ラインが一時停止を引き起こすことはなく、カセットの供給及び回収を行うことができ、更には、搬入装置に２個設けられているカセットポートの数を１個に減少させても、カセットの供給及び回収を良好に行うことが可能なカラーフィルタ製造ラインシステムとなる。 The present invention relates to a color filter manufacturing line system that directly supplies and collects cassettes between an automatic warehouse and a carry-in apparatus or a carry-out apparatus. 1) A glass substrate that is in the process of waiting is placed in the process apparatus of the treatment line.・ Provide a buffer device to store 2) The processing time of the process device upstream from the buffer device shall be shorter than the processing time of the process device downstream from the buffer device. 3) Close to the cassette port in the automatic warehouse A standby shelf for waiting for the next cassette to be supplied to the carry-in device is provided at the position, and the next carry-in device before all the glass substrates stored in the preceding cassette are put into the process device in the previous stage. Since this is a color filter production line system that transfers cassettes to be supplied to the standby shelf, the processing line is temporarily suspended. The cassette can be supplied and recovered without any occurrence, and even if the number of cassette ports provided in the carry-in device is reduced to one, the cassette can be supplied and recovered satisfactorily. It becomes a color filter production line system that can.
また、上記カセットポートの数を１個に減少させることにより、カラーフィルタ製造ラインが占めるクリーンルーム内での空スペースの比率を低減させ、カラーフィルタ製造ラインの初期建設コスト及び運用コストの増大を回避することが可能となる。 Also, by reducing the number of cassette ports to one, the ratio of empty space in the clean room occupied by the color filter production line is reduced, thereby avoiding an increase in initial construction cost and operation cost of the color filter production line. It becomes possible.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、自動倉庫と各処理ラインを接続させて配置し、カセットを直接に搬送する方式を採用した第６世代以降の前記カラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を示す平面図であるが、また、本発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムの一例の概略を示す平面図を兼ねたものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a plan view showing an outline of an example of the color filter production line system after the sixth generation adopting a method in which an automatic warehouse and each processing line are connected to each other and a cassette is directly conveyed. Moreover, it also serves as a plan view showing an outline of an example of a color filter production line system according to the present invention.
図１に示すように、本発明によるカラーフィルタ製造ラインシステムは、各種の処理を行う複数の処理ライン（（Ｌ１−２）〜（Ｌｉ−２）〜（Ｌｎ−２））と自動倉庫（２０−２）で構成されている。複数の処理ライン（（Ｌ１−２）〜（Ｌｉ−２）〜（Ｌｎ−２））は、前記クロム成膜の処理ライン、ブラックマトリックスの処理ライン、追加される層の処理ライン等であり、ある処理ライン（Ｌｉ−２）は、プロセス装置（Ｐｉ−２）と、搬入装置（ＬＤ）及び搬出装置（ＵＬＤ）で構成されている。 As shown in FIG. 1, the color filter manufacturing line system according to the present invention includes a plurality of processing lines ((L1-2) to (Li-2) to (Ln-2)) for performing various processes and an automatic warehouse (20). -2). A plurality of processing lines ((L1-2) to (Li-2) to (Ln-2)) are the chromium film forming processing line, the black matrix processing line, the additional layer processing line, and the like. A certain processing line (Li-2) includes a process device (Pi-2), a carry-in device (LD), and a carry-out device (ULD).
図３は、図１に示す、ある処理ライン（Ｌｉ−２）及び対応している自動倉庫（２０−２）の一部を拡大した平面図である。図３に示すように、処理ライン（Ｌｉ−２）のプロセス装置（Ｐｉ−２）内には、処理している途上のガラス基板を待機・蓄積させるためのバッファー装置（ＢＦ）が設けられている。
バッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）のガラス基板１枚当たりの処理時間は、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとなっている。
FIG. 3 is an enlarged plan view of a part of a processing line (Li-2) and a corresponding automatic warehouse (20-2) shown in FIG. As shown in FIG. 3, a buffer device (BF) is provided in the process device (Pi-2) of the processing line (Li-2) for waiting and accumulating a glass substrate being processed. Yes.
The processing time per glass substrate of the process apparatus (Pi-be) at the front stage of the buffer apparatus (BF) is shorter than the processing time of the process apparatus at the rear stage of the buffer apparatus (BF). .
また、処理ライン（Ｌｉ−２）の搬入装置（ＬＤ−２）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、カセット（ＣＳ）からガラス基板をバッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ１）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は１個であり、カセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。 The carry-in device (LD-2) of the processing line (Li-2) includes a cassette port (CSP) for placing the cassette (CS) and a glass substrate from the cassette (CS) in front of the buffer device (BF). It is comprised by the transfer mechanism (for example, transfer robot) (R1) thrown into the process apparatus (Pi-be) in. There is one cassette port (CSP), and the state where the cassette (CS) is placed is shown.
また、搬出装置（ＵＬＤ）は、カセット（ＣＳ）を載置するカセットポート（ＣＳＰ）と、処理が施されたガラス基板をカセット（ＣＳ）に収納する移載機構（例えば、移載ロボット）（Ｒ２）で構成されている。カセットポート（ＣＳＰ）は３個であり、各々にはカセット（ＣＳ）が載置されている状態が示されている。 The carry-out device (ULD) also includes a cassette port (CSP) for placing the cassette (CS) and a transfer mechanism (for example, a transfer robot) that stores the processed glass substrate in the cassette (CS). R2). There are three cassette ports (CSP), each showing a state in which a cassette (CS) is placed.
自動倉庫（２０−２）は、第１自動倉庫（２０Ａ−２）と第２自動倉庫（２０Ｂ）で構成されている。第１自動倉庫（２０Ａ−２）は、カセット（ＣＳ）を載置・保管する多段の棚（２１）が図３中、Ｙ軸方向に直線状に配列した第１ストッカー（２５Ａ）と、第１走行レール（２３Ａ）上をＹ軸方向に移動自在な第１スタッカークレーン（２２Ａ）で構成されている。
第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、カセット（ＣＳ）を積載した状態で、上下移動が自在となっており、第１ストッカー（２５Ａ）の棚（２１）へカセット（ＣＳ）を載置し、或いは棚（２１）からカセット（ＣＳ）を取り出すことができるようになっている。
The automatic warehouse (20-2) includes a first automatic warehouse (20A-2) and a second automatic warehouse (20B). The first automatic warehouse (20A-2) includes a first stocker (25A) in which multistage shelves (21) on which cassettes (CS) are placed and stored are arranged linearly in the Y-axis direction in FIG. The first stacker crane (22A) is movable on the one traveling rail (23A) in the Y-axis direction.
The first stacker crane (22A) can move up and down with the cassette (CS) loaded, and the cassette (CS) is placed on the shelf (21) of the first stocker (25A), or The cassette (CS) can be taken out from the shelf (21).
また、この第１スタッカークレーン（２２Ａ）は、積載したカセット（ＣＳ）を搬入装置（ＬＤ−２）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）へ供給し、或いは、搬入装置（ＬＤ−２）又は搬出装置（ＵＬＤ）のカセットポート（ＣＳＰ）からカセット（ＣＳ）を回収することができるようになっている。 Further, the first stacker crane (22A) supplies the loaded cassette (CS) to the cassette port (CSP) of the carry-in device (LD-2) or the carry-out device (ULD), or the carry-in device (LD-2). ) Or a cassette (CS) can be recovered from a cassette port (CSP) of the unloading device (ULD).
本発明における第１自動倉庫（２０Ａ−２）には、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）へ次に供給するカセットを待機させるための待機棚（２１Ｔ）が設けられている。待機棚（２１Ｔ）は、第１自動倉庫（２０Ａ−２）内にあって、カセットポート（ＣＳＰ）から近い位置に、例えば、第１ストッカー（２５Ａ）の棚内でカセットポート（ＣＳＰ）に最も近い位置にある棚を待機棚（２１Ｔ）として設定する。 The first automatic warehouse (20A-2) in the present invention is provided with a standby shelf (21T) for waiting for a cassette to be supplied next to the cassette port (CSP) of the carry-in device (LD-2). The standby shelf (21T) is in the first automatic warehouse (20A-2) and is located closest to the cassette port (CSP). For example, the standby shelf (21T) is closest to the cassette port (CSP) in the shelf of the first stocker (25A). A shelf at a close position is set as a standby shelf (21T).
搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）に供給されたカセット（ＣＳ）から、移載機構（Ｒ１）によって、バッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）に投入されるガラス基板は、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置の処理時間より短い時間で前段の処理が終了するので、バッファー装置（ＢＦ）には次第にガラス基板が蓄積されてくる。 The cassette (CS) supplied to the cassette port (CSP) of the carry-in device (LD-2) is loaded into the process device (Pi-be) upstream from the buffer device (BF) by the transfer mechanism (R1). Since the glass substrate to be processed is processed in the former stage in a time shorter than the processing time of the process apparatus in the latter stage of the buffer device (BF), the glass substrate is gradually accumulated in the buffer device (BF).
従って、従来よりも、投入開始からの経過時間が短い時間内で、カセット（ＣＳ）に収納されていたガラス基板の全ての投入は終了し、短い時間内に空のカセットの回収を開始することが可能となる。
また、空のカセットを回収してから、ガラス基板が収納されている次のカセットを供給するまでの間も、バッファー装置（ＢＦ）からの投入によりガラス基板には滞りなく、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置での各処理が施されることになる。
Therefore, all the glass substrates stored in the cassette (CS) have been put into the cassette (CS) within a short period of time since the start of loading, and collection of empty cassettes can be started within a short time. Is possible.
In addition, since the empty cassette is collected and before the next cassette in which the glass substrate is stored is supplied, the buffer substrate (BF) does not stagnate due to the insertion from the buffer device (BF). Each process in the process apparatus in the latter stage is performed.
また、本発明における自動倉庫（２０−２）では、カセットポート（ＣＳＰ）に供給された、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが移載機構（Ｒ１）によって、バッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入される前までに、次に搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）へ供給するカセットは、自動倉庫（２０−２）内の棚（２１）から待機棚（２１Ｔ）へと移載が完了するようになっている。 Moreover, in the automatic warehouse (20-2) in this invention, all the glass substrates accommodated in the preceding cassette supplied to the cassette port (CSP) are transferred to the buffer device (BF) by the transfer mechanism (R1). The cassette to be supplied to the cassette port (CSP) of the carry-in device (LD-2) before being loaded into the process device (Pi-be) in the previous stage is stored in the automatic warehouse (20-2). The transfer from the shelf (21) to the standby shelf (21T) is completed.
この待機棚（２１Ｔ）は、カセットポート（ＣＳＰ）から近い位置に設けられているために、空のカセットを回収してから、ガラス基板が収納されている次のカセットを供給するまでの時間は極めて短い時間となる。
従って、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）は１個であっても、時間の余裕は充分なものであり、滞りなくカセットの回収及び供給を行うとが可能となる。
Since this standby shelf (21T) is provided at a position close to the cassette port (CSP), the time from when an empty cassette is collected until the next cassette containing a glass substrate is supplied is It will be a very short time.
Therefore, even if there is only one cassette port (CSP) in the carry-in device (LD-2), there is sufficient time margin, and the cassette can be collected and supplied without delay.
図４は、カセットポート（ＣＳＰ）に供給された、先行するカセット（ＣＳ１）に収納されているガラス基板が、移載機構（Ｒ１）によってバッファー装置（ＢＦ）よりも前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入されている段階の説明図である。プロセス装置（Ｐｉ−２）での処理が終了したガラス基板は、順次に搬出装置（ＵＬＤ）のカセットへ収納されている。
また、バッファー装置（ＢＦ）には、投入開始から次第にガラス基板が蓄積され始めている。
FIG. 4 shows a process apparatus (Pi) in which the glass substrate housed in the preceding cassette (CS1) supplied to the cassette port (CSP) is in front of the buffer apparatus (BF) by the transfer mechanism (R1). It is explanatory drawing of the stage currently thrown into -be). The glass substrates that have been processed in the process apparatus (Pi-2) are sequentially stored in a cassette of the carry-out apparatus (ULD).
In addition, glass substrates are gradually accumulated in the buffer device (BF) from the start of charging.
例示するように、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）へ、次に供給するカセット（ＣＳ２）は、第２自動倉庫（２０Ｂ）の棚（２１）に保管されている。点線矢印は、先行するカセット（ＣＳ１）に収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入される前までに、次に供給するカセット（ＣＳ２）を待機棚（２１Ｔ）に移載しておく際の動線を表している。 As illustrated, the cassette (CS2) to be supplied next to the cassette port (CSP) of the carry-in device (LD-2) is stored on the shelf (21) of the second automatic warehouse (20B). The dotted line arrow indicates that the cassette (CS2) to be supplied next is a standby shelf before all the glass substrates stored in the preceding cassette (CS1) are put into the process apparatus (Pi-be) at the preceding stage. The flow line at the time of transferring to (21T) is shown.
図５は、先行するカセット（ＣＳ１）に収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入される前までに、次に供給するカセット（ＣＳ２）の待機棚（２１Ｔ）への移載が完了した段階の説明図である。
次に供給するカセット（ＣＳ２）は、この状態で待機し、先行するカセット（ＣＳ１）が空になりカセットポート（ＣＳＰ）から回収された時点で優先的に直ちに待機棚（２１Ｔ）からカセットポート（ＣＳＰ）へ供給される。
FIG. 5 shows the standby shelf of the cassette (CS2) to be supplied next before all the glass substrates stored in the preceding cassette (CS1) are put into the process apparatus (Pi-be) in the preceding stage. It is explanatory drawing of the stage which the transfer to (21T) was completed.
The next cassette (CS2) to be supplied stands by in this state, and when the preceding cassette (CS1) is emptied and collected from the cassette port (CSP), the cassette port (21T) immediately preferentially receives the cassette port (21T). CSP).
具体的には、例えば、バッファー装置（ＢＦ）よりも後段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を４５秒、また前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を３０秒とすると、ガラス基板１枚の処理当たり１５秒の余裕時間が生じる。
この際のカセットが収納できるガラス基板の枚数を６０枚とすると、１５秒×６０枚＝９００秒・枚、すなわち、カセット当たり１５分（９００秒／６０秒＝１５分）の余裕時間となる。
Specifically, for example, the processing time per glass substrate of the process apparatus at the rear stage of the buffer apparatus (BF) is 45 seconds, and the processing time per glass substrate of the process apparatus at the front stage is 30 seconds. Then, a margin time of 15 seconds is generated per processing of one glass substrate.
If the number of glass substrates that can accommodate the cassette at this time is 60, then 15 seconds × 60 sheets = 900 seconds · sheet, that is, 15 minutes per cassette (900 seconds / 60 seconds = 15 minutes).
つまり、カセットの回収及び供給に対し、１５分間の時間が与えられたことになる。更には、待機棚（２１Ｔ）は、カセットポート（ＣＳＰ）から近い位置に設けられているので、空のカセットを回収してから、待機棚（２１Ｔ）にある次に供給するカセット（ＣＳ２）をカセットポート（ＣＳＰ）へ供給するまでの時間は極めて短い時間となる。従って、搬入装置（ＬＤ−２）のカセットポート（ＣＳＰ）は１個であっても、時間の余裕は充分なものであり、滞りなくカセットの回収及び供給を行うとが可能となる。
尚、カセット内に収納されたガラス基板６０枚の全てを前段にあるプロセス装置（Ｐｉ−ｂｅ）へ投入するのに要する時間は、３０秒×６０枚＝１８００秒（３０分）程度である。
That is, a time of 15 minutes is given for the collection and supply of the cassette. Furthermore, since the standby shelf (21T) is provided at a position close to the cassette port (CSP), the cassette (CS2) to be supplied next in the standby shelf (21T) is collected after the empty cassette is collected. The time until supply to the cassette port (CSP) is extremely short. Therefore, even if there is only one cassette port (CSP) in the carry-in device (LD-2), there is sufficient time margin, and the cassette can be collected and supplied without delay.
The time required to put all 60 glass substrates stored in the cassette into the process apparatus (Pi-be) in the previous stage is about 30 seconds × 60 sheets = 1800 seconds (30 minutes).
４・・・カラーフィルタ
１２・・・洗浄装置
１３・・・塗布装置
１４・・・膜厚／ムラ検査装置
１５・・・露光装置
１６・・・現像装置
１７・・・ポストベーク装置
１８・・・検査装置
２０・・・自動倉庫
２０−２・・・本発明における自動倉庫
２０Ａ・・・第１自動倉庫
２０Ａ−２・・・本発明における第１自動倉庫
２０Ｂ・・・第２自動倉庫
２１・・・カセットを載置・保管する棚
２１Ｔ・・・次にカセットを待機させる待機棚
２２Ａ・・・第１スタッカークレーン
２３Ａ・・・第１走行レール
２５Ａ・・・第１ストッカー
４０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
ＢＦ・・・バッファ機構
ＣＳ・・・カセット
ＣＳＰ・・・カセットポート
Ｌ１〜Ｌｉ〜Ｌｎ・・・処理ライン
（Ｌ１−２）〜（Ｌｉ−２）〜（Ｌｎ−２）・・・本発明における処理ライン
ＬＤ・・・搬入装置
ＬＤ−２・・・本発明における搬入装置
Ｐ、Ｐｉ・・・プロセス装置
Ｐｉ−２・・・本発明におけるプロセス装置
Ｐｉ−ｂｅ・・・バッファー装置よりも前段にあるプロセス装置
Ｒ１、Ｒ２・・・移載機構
ＵＬＤ・・・搬出装置
4 ...
Claims (2)
１）前記処理ラインのプロセス装置内に、処理途上のガラス基板を待機・蓄積させるバッファー装置を設け、
２）前記バッファー装置より前段にあるプロセス装置のガラス基板１枚当たりの処理時間を、バッファー装置より後段にあるプロセス装置の処理時間より短いものとし、
３）前記搬入装置に１個のカセットポートを設け、
４）前記カセットポートから近い前記自動倉庫内の位置に、前記搬入装置へ次に供給するカセットを待機させる待機棚を設け、
前記カセットポートに載置された、先行するカセットに収納されているガラス基板の全てが、前段にあるプロセス装置へ投入される前までに、次に搬入装置に供給するカセットを前記待機棚に移載しておくことを特徴とするカラーフィルタ製造ラインシステム。 In a color filter production line system for connecting and arranging an automatic warehouse and a plurality of processing line carrying-in apparatuses and carrying-out apparatuses, and supplying and collecting cassettes between the automatic warehouse and the carrying-in apparatus or the carrying-out apparatus,
1) A buffer device for waiting and accumulating a glass substrate in the process is provided in the process device of the processing line,
2) The processing time per glass substrate of the process apparatus in the preceding stage from the buffer apparatus is shorter than the processing time of the process apparatus in the subsequent stage from the buffer apparatus,
3) Provide one cassette port in the carry-in device,
4) A standby shelf for waiting for the next cassette to be supplied to the carry-in device is provided at a position in the automatic warehouse near the cassette port,
Before all of the glass substrates stored in the preceding cassette placed in the cassette port are put into the process apparatus in the previous stage, the cassette to be supplied to the carry-in apparatus is moved to the standby shelf. A color filter production line system characterized by being placed.
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