JP2012214878A - Method for producing lithographic printing plate original plate and method for roughening surface of aluminum support body - Google Patents

Method for producing lithographic printing plate original plate and method for roughening surface of aluminum support body Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a lithographic printing plate original plate and a method for roughening a surface of an aluminum support body, in which pits whose average pit diameter is small and the size is uniform are dispersedly-formed on the surface of the aluminum support body in high density.SOLUTION: The method for producing the lithographic printing plate original plate includes an electrolytic surface-roughening treatment step of the aluminum support body. In the electrolytic surface-roughening treatment step, an electrolysis treatment is performed in an acidic solution having a dissolved oxygen concentration of 6.0 mg/l or less.

Description

本発明は、平版印刷版原版の製造方法及びアルミニウム支持体表面の粗面化方法に関し、特に平版印刷版に使用されるアルミニウム支持体を電解粗面化する際に形成されるピットの径を均一にすることができる平版印刷版原版の製造方法及びアルミニウム支持体表面の粗面化方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate precursor and a method for roughening the surface of an aluminum support, and in particular, uniform pit diameters formed when electrolytically roughening an aluminum support used in a lithographic printing plate. The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate precursor and a method for roughening the surface of an aluminum support.

従来より、純アルミニウム又はその合金(以下、「アルミニウム」ということがある。)及び陽極酸化皮膜を生成させたアルミニウム上に、着色、染色、塗装、あるいは平版印刷版用として感光性組成物を設ける際に、アルミニウム支持体との密着性をあげる方法として、アルミニウム支持体表面を粗面化することが一般的に行われている。   Conventionally, a photosensitive composition for coloring, dyeing, painting, or lithographic printing plate is provided on pure aluminum or an alloy thereof (hereinafter sometimes referred to as “aluminum”) and anodized aluminum. At this time, as a method for increasing the adhesion to the aluminum support, it is common practice to roughen the surface of the aluminum support.

このアルミニウム支持体表面の粗面化は、アルミニウム支持体を電解処理することにより行われ、電解粗面化処理と呼ばれる。   The roughening of the surface of the aluminum support is performed by subjecting the aluminum support to electrolytic treatment, and is called electrolytic roughening treatment.

電解粗面化処理は、酸性電解液中でアルミニウム支持体に正弦波電流、矩形波電流、又は台形波電流等の交番波形電流、もしくは直流を印加することにより行われる。   The electrolytic surface roughening treatment is performed by applying an alternating waveform current such as a sine wave current, a rectangular wave current, or a trapezoidal wave current, or a direct current to an aluminum support in an acidic electrolytic solution.

電解粗面化処理に用いられる酸性電解液は、通常、硝酸、硫酸、燐酸、もしくはこれらをある一定の比率で混合したものである。   The acidic electrolytic solution used for the electrolytic surface roughening treatment is usually nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, or a mixture of these at a certain ratio.

交流による電解粗面化処理では、アノード反応によりピットが生成するが、同時に酸化皮膜も生成するため、表面抵抗が上がりピットの分散性が低下する。ピットの分散性が低下すると、大きさの不均一なピットが生じやすい。このため、アルミニウム支持体の表面積があまり大きくならず、上層との密着性が劣る原因となる。   In the electrolytic surface roughening treatment by alternating current, pits are generated by the anode reaction, but at the same time, an oxide film is also generated, so that the surface resistance increases and the dispersibility of the pits decreases. When the dispersibility of the pits is lowered, pits having non-uniform sizes are likely to occur. For this reason, the surface area of the aluminum support is not so large, which causes poor adhesion to the upper layer.

直流による電解粗面化処理では、アルミニウム支持体上に陽極酸化皮膜を生成させるが、酸性電解液中に溶解している酸素(以下、溶存酸素)の濃度が一定ではないため、製品間に品質のばらつきが生じる。   Electrolytic surface roughening by direct current produces an anodized film on the aluminum support, but the concentration of oxygen dissolved in the acidic electrolyte (hereinafter referred to as dissolved oxygen) is not constant. Variation occurs.

ピットを分散させるための手段として、例えば特許文献1がある。特許文献1では、電気抵抗性を有する有機皮膜又は無機皮膜を設けた後、粗面化処理を行う方法が良いとされている。   As a means for dispersing pits, there is, for example, Patent Document 1. In Patent Document 1, a method of performing a roughening treatment after providing an organic film or an inorganic film having electrical resistance is considered good.

特許第2614744号公報Japanese Patent No. 2614744

しかしながら、上記特許文献1では、有機皮膜又は無機皮膜の膜厚の制御が困難であり、また電解液が汚れるという問題がある。   However, in the above-mentioned Patent Document 1, it is difficult to control the film thickness of the organic film or the inorganic film, and the electrolyte solution is contaminated.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、アルミニウム支持体を酸性溶液中で交流電解により粗面化処理する際に、酸化皮膜の形成を抑制して、ピットを分散させ、ピットを均一にすることにより上層との密着性を上げる方法の提供を目的とする。また、直流電解のアノード反応により粗面化処理する際に、一定の厚みと性質を持った陽極酸化皮膜を生成させ、製品間の品質のばらつきを抑える方法の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and when the aluminum support is roughened by AC electrolysis in an acidic solution, the formation of an oxide film is suppressed, the pits are dispersed, and the pits are formed. It aims at providing the method of raising adhesiveness with an upper layer by making uniform. Another object of the present invention is to provide a method for producing a anodic oxide film having a certain thickness and properties during surface roughening by an anode reaction of direct current electrolysis to suppress variation in quality between products.

上記課題は、以下の発明により解決することができる。即ち、本発明の平版印刷版の製造方法は、アルミニウム支持体の電解粗面化処理を行う電解粗面化処理工程を有する平版印刷版の製造方法であって、前記電解粗面化処理工程は、溶存酸素濃度が6.0mg/l以下の酸性溶液の中で電解処理が行われることを主要な特徴にしている。   The above problems can be solved by the following invention. That is, the method for producing a lithographic printing plate according to the present invention is a method for producing a lithographic printing plate having an electrolytic surface roughening treatment step for performing an electrolytic surface roughening treatment on an aluminum support, wherein the electrolytic surface roughening treatment step comprises: The main feature is that the electrolytic treatment is performed in an acidic solution having a dissolved oxygen concentration of 6.0 mg / l or less.

また、本発明のアルミニウム支持体表面の粗面化方法は、アルミニウム支持体を溶存酸素濃度が6.0mg/l以下の酸性溶液の中で電解処理することを主要な特徴にしている。   Further, the roughening method of the surface of the aluminum support of the present invention is characterized mainly by electrolytic treatment of the aluminum support in an acidic solution having a dissolved oxygen concentration of 6.0 mg / l or less.

これにより、交流電解処理のアノード反応での酸化皮膜の形成が抑制され、表面抵抗が下がり、電流が均一にかかるため、平均ピット径が小さく、大きさが均一なピットを高密度に形成することができる。ピット評価はSEM写真を解析して判断した。また、直流電解処理のアノード反応での陽極酸化皮膜の厚みと性質は、溶存酸素による影響が小さくなり、水の解離による酸素イオンのみで決まるため、品質を一定にすることができる。   This suppresses the formation of an oxide film in the anode reaction of AC electrolytic treatment, reduces the surface resistance, and applies a uniform current, so that pits with a small average pit diameter and a uniform size can be formed with high density. Can do. Pit evaluation was judged by analyzing SEM photographs. In addition, the thickness and properties of the anodized film in the anodic reaction of direct current electrolytic treatment are less affected by dissolved oxygen and are determined only by oxygen ions due to dissociation of water, so that the quality can be made constant.

本発明において、酸性溶液中の溶存酸素濃度は6mg/l以下であるが、3mg/l以下が好ましく、1mg/l以下がより好ましい。濃度測定には、溶存酸素計(セントラル科学株式会社製)を用いた。   In the present invention, the dissolved oxygen concentration in the acidic solution is 6 mg / l or less, preferably 3 mg / l or less, more preferably 1 mg / l or less. A dissolved oxygen meter (manufactured by Central Science Co., Ltd.) was used for concentration measurement.

溶存酸素の除去方法は、膜脱気、窒素パージ、減圧のいずれかである。いずれの方法も、電解浴槽と電解液タンク間の排管部に接続し、溶存酸素濃度がある一定以下になった液を循環させる方法である。   The method for removing dissolved oxygen is any one of membrane degassing, nitrogen purging, and decompression. Either method is a method in which a solution having a dissolved oxygen concentration below a certain level is circulated by connecting to a drain pipe portion between the electrolytic bath and the electrolyte tank.

減圧は、酸性電解溶液を減圧雰囲気に曝すことで液中の溶存酸素濃度を低下させる方法である。   Depressurization is a method of reducing the dissolved oxygen concentration in the liquid by exposing the acidic electrolytic solution to a reduced pressure atmosphere.

窒素パージは、酸性電解溶液中に窒素ガスを通気させることで液中の溶存酸素を置換して溶存酸素濃度を低下させる方法である。   Nitrogen purge is a method of reducing the dissolved oxygen concentration by replacing the dissolved oxygen in the liquid by passing nitrogen gas through the acidic electrolytic solution.

膜脱気は、例えば弱塩基性アニオン交換樹脂に還元性の銅を保持させてなる脱酸素樹脂を使って除去する方法や酸素等の気体は通すが液体は透過させない性質を有する脱気膜を装着した膜脱気装置による方法である。   Membrane degassing can be performed by using a deoxygenating resin in which reducing copper is held in a weakly basic anion exchange resin, or by using a degassing membrane having the property of allowing gas such as oxygen to pass but not allowing liquid to permeate. This is a method using an attached membrane deaerator.

本発明によれば、電解を用いた粗面化処理において、平均ピット径が小さく、大きさが均一なピットを高密度に形成することが可能となる。   According to the present invention, pits having a small average pit diameter and a uniform size can be formed at a high density in a roughening treatment using electrolysis.

本発明の実施形態におけるラジアル型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the electrolytic surface-roughening processing apparatus provided with the radial type | mold AC electrolytic cell in embodiment of this invention. 本発明に係る電解粗面化方法に用いられる装置系の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the apparatus system used for the electrolytic surface roughening method which concerns on this invention. 粗面化処理後のアルミニウム支持体表面のSEM写真である。It is a SEM photograph of the aluminum support body surface after a roughening process. 粗面化処理後のアルミニウム支持体表面のSEM写真である。It is a SEM photograph of the aluminum support body surface after a roughening process.

以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

〔電解処理方法〕
本発明で用いられる酸性溶液としては、硝酸溶液、塩酸溶液、燐酸溶液、及びそれらの混合溶液をあげることができるが、好ましくは硝酸溶液である。硝酸溶液の濃度は1〜20g/lが好ましく、5〜15g/lがより好ましい。電解処理時の液温は20〜60℃が好ましく、30〜50℃がより好ましい。交流電解電流密度は10〜60A/dm2が好ましく、25〜55A/dm2がより好ましい。総電気量は10〜400C/dm2が好ましく、60〜300C/dm2がより好ましい。アルミとカーボン電極間の距離は5〜50mmが好ましく、10〜20がより好ましい。
[Electrolytic treatment method]
Examples of the acidic solution used in the present invention include a nitric acid solution, a hydrochloric acid solution, a phosphoric acid solution, and a mixed solution thereof, and a nitric acid solution is preferable. The concentration of the nitric acid solution is preferably 1 to 20 g / l, and more preferably 5 to 15 g / l. The liquid temperature during the electrolytic treatment is preferably 20 to 60 ° C, more preferably 30 to 50 ° C. AC electrolytic current density is preferably 10~60A / dm 2, 25~55A / dm 2 is more preferable. The total quantity of electricity is preferably 10~400C / dm 2, 60~300C / dm 2 is more preferable. The distance between the aluminum and the carbon electrode is preferably 5 to 50 mm, more preferably 10 to 20.

〔平版印刷版用支持体及び平版印刷版原版の作製〕
本実施形態では、平版印刷版用アルミニウム支持体の製造工程のうち、硝酸溶液による交流粗面化処理に本発明を適用した一例を以下に説明する。
[Preparation of lithographic printing plate support and lithographic printing plate precursor]
In the present embodiment, an example in which the present invention is applied to an AC surface roughening treatment using a nitric acid solution in the manufacturing process of an aluminum support for a lithographic printing plate will be described below.

図1は、本発明に好適に用いられるラジアル型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の一例の断面模式図を示す。   FIG. 1: shows the cross-sectional schematic diagram of an example of the electrolytic surface-roughening processing apparatus provided with the radial type | mold alternating current electrolysis tank suitably used for this invention.

図1に示されるように、電解粗面化処理装置10は、酸性電解液が貯留される電解槽12Aが内部に設けられた電解槽本体12と、電解槽12A内部に、水平方向に伸びる軸線の周りに回転可能に配設され、帯状に連続した薄板であるアルミニウムウェブWを矢印aの方向、即ち図1における右方から左方に向かって送る送りローラ14と、を備えている。   As shown in FIG. 1, an electrolytic surface-roughening treatment apparatus 10 includes an electrolytic cell main body 12 in which an electrolytic cell 12A in which an acidic electrolytic solution is stored is provided, and an axis extending in the horizontal direction inside the electrolytic cell 12A. And a feed roller 14 that feeds the aluminum web W, which is a thin plate continuous in a strip shape, in the direction of arrow a, that is, from the right to the left in FIG.

電解槽12Aの内壁面は、送りローラ14を囲むように略円筒状に形成され、電解槽12Aの内壁面上には、半円筒状の電極16A及び16Bが送りローラ14を挟んで設けられている。電極16A及び16Bは、それぞれ円周方向に沿って複数の小電極18A及び18Bに分割され、各小電極18A及び18Bの間には、それぞれ絶縁層20A及び20Bが介装されている。小電極18A及び18Bは、例えば、グラファイトや金属等を用いて形成でき、絶縁層20A及び20Bは、例えば塩化ビニル樹脂等により形成できる。絶縁層20A及び20Bの厚さは、1〜10mmが好ましい。また、図1では省略されているが、電極16A及び16Bの何れにおいても、小電極18A及び18Bは、それぞれ電源ACに接続されている。小電極18A、18B、及び絶縁層20A、20Bは、何れも絶縁性の電極ホルダー20Cによって保持されて電極16A及び16Bを形成している。   The inner wall surface of the electrolytic cell 12A is formed in a substantially cylindrical shape so as to surround the feed roller 14, and semicylindrical electrodes 16A and 16B are provided on the inner wall surface of the electrolytic cell 12A with the feed roller 14 interposed therebetween. Yes. The electrodes 16A and 16B are each divided into a plurality of small electrodes 18A and 18B along the circumferential direction, and insulating layers 20A and 20B are interposed between the small electrodes 18A and 18B, respectively. The small electrodes 18A and 18B can be formed using, for example, graphite or metal, and the insulating layers 20A and 20B can be formed using, for example, a vinyl chloride resin. The thickness of the insulating layers 20A and 20B is preferably 1 to 10 mm. Although omitted in FIG. 1, in both the electrodes 16A and 16B, the small electrodes 18A and 18B are connected to the power source AC, respectively. The small electrodes 18A and 18B and the insulating layers 20A and 20B are all held by an insulating electrode holder 20C to form the electrodes 16A and 16B.

電源ACは、交番波形電流を電極16A及び16Bに供給する機能を有する。電源ACは、誘導電圧調整器及び変圧器を用いて商用交流を電流・電圧調整することにより正弦波を発生させる正弦波発生回路、商用交流を整流する等の手段により得られた直流から台形波電流又は矩形波電流を発生させるサイリスタ回路等が挙げられる。   The power supply AC has a function of supplying an alternating waveform current to the electrodes 16A and 16B. The power source AC is a sine wave generating circuit that generates a sine wave by adjusting the current / voltage of commercial alternating current using an induction voltage regulator and a transformer, and a trapezoidal wave from direct current obtained by means such as rectifying the commercial alternating current. Examples include a thyristor circuit that generates a current or a rectangular wave current.

電解槽12Aの上部には、交流電解粗面化処理時において、本実施形態の金属板の一例であり、連続帯状のアルミニウム板であるアルミニウムウェブWが導入及び導出される開口部12Bが形成されている。開口部12Bにおける電極16Bの下流側末端近傍には、電解槽12Aに酸性電解液を補充する酸性電解液補充流路22が設けられている。このような酸性電解液としては、硝酸溶液及び塩酸溶液等が使用できる。   An opening 12B through which an aluminum web W, which is an example of a metal plate of the present embodiment and is a continuous strip-like aluminum plate, is introduced and led out at the top of the electrolytic cell 12A. ing. In the vicinity of the downstream end of the electrode 16B in the opening 12B, an acidic electrolyte replenishment flow path 22 for replenishing the electrolytic bath 12A with the acidic electrolyte is provided. As such an acidic electrolytic solution, a nitric acid solution, a hydrochloric acid solution, or the like can be used.

電解槽12Aの上方における開口部12B近傍には、アルミニウムウェブWを電解槽12A内部に案内する一群の上流側案内ローラ24Aと、電解槽12A内で電解粗面化処理されたアルミニウムウェブWを電解槽12Aの外部に案内する下流側案内ローラ24Bとが配設されている。   In the vicinity of the opening 12B above the electrolytic cell 12A, a group of upstream guide rollers 24A that guide the aluminum web W into the electrolytic cell 12A and the aluminum web W that has been subjected to electrolytic surface roughening in the electrolytic cell 12A are electrolyzed. A downstream guide roller 24B for guiding outside the tank 12A is provided.

電解槽本体12における電解槽12Aの上流側には、溢流槽12Cが設けられている。溢流槽12Cは、電解槽12Aから溢流した酸性電解液を一時貯留し、電解槽12Aの液面高さを一定に保持する機能を有する。   An overflow tank 12C is provided on the upstream side of the electrolytic cell 12A in the electrolytic cell main body 12. The overflow tank 12C temporarily stores the acidic electrolyte overflowed from the electrolytic tank 12A and has a function of keeping the liquid level of the electrolytic tank 12A constant.

アルミニウムウェブWを電解槽12A内部に案内する入口部近傍の電解液中には、アルミニウムウェブWの表面に対して5〜15mmの位置に、アルミニウムウェブWに負の直流電圧を印加する直流電流部26が設けられる。直流電流部26は、電解槽12A内部の入口において、常時、アルミニウムウェブWに負の直流電圧を印加して、アルミニウムウェブWに直流電流を流す機能を有している。   In the electrolyte near the inlet for guiding the aluminum web W into the electrolytic cell 12A, a direct current portion for applying a negative DC voltage to the aluminum web W at a position of 5 to 15 mm with respect to the surface of the aluminum web W 26 is provided. The direct current unit 26 has a function of constantly applying a negative direct current voltage to the aluminum web W and flowing a direct current through the aluminum web W at the entrance inside the electrolytic cell 12A.

電解槽本体12における電解槽12Aの下流側には、補助電解槽28が設けられている。補助電解槽28は、電解槽12Aよりも浅く、底面28Aが平面状に形成されている。そして、底面28A上には、円柱状の補助電極29が複数本設けられている。   An auxiliary electrolytic cell 28 is provided downstream of the electrolytic cell 12 </ b> A in the electrolytic cell main body 12. The auxiliary electrolytic cell 28 is shallower than the electrolytic cell 12A, and the bottom surface 28A is formed in a planar shape. A plurality of columnar auxiliary electrodes 29 are provided on the bottom surface 28A.

補助電極29は、白金等の高耐食性の金属又はフェライト等から形成されたものが好ましく、また、板状であってもよい。   The auxiliary electrode 29 is preferably formed of a highly corrosion-resistant metal such as platinum, ferrite, or the like, and may be plate-shaped.

補助電極29は、交流電源ACにおける電極16Aが接続される側に、電極16Aに対して並列に接続され、中間には、サイリスタTh1が、点弧時において交流電源ACにおける電極16Aに接続された側から補助電極29に向う方向に電流が流れるように接続されている。   The auxiliary electrode 29 is connected in parallel to the electrode 16A on the side to which the electrode 16A in the AC power source AC is connected, and in the middle, the thyristor Th1 is connected to the electrode 16A in the AC power source AC at the time of firing. They are connected so that current flows in the direction from the side toward the auxiliary electrode 29.

また、交流電源ACにおける電極16Bが接続された側にも、サイリスタTh2を介して補助電極29に接続されている。サイリスタTh2は、点弧時に交流電源ACにおける電極16Bに接続された側から補助電極29に向う方向に電流が流れるように接続されている。   Further, the side of the AC power supply AC to which the electrode 16B is connected is also connected to the auxiliary electrode 29 via the thyristor Th2. The thyristor Th2 is connected so that a current flows in a direction from the side connected to the electrode 16B in the AC power supply AC to the auxiliary electrode 29 at the time of ignition.

サイリスタTh1及びTh2の何れを点弧したときも、補助電極29にはアノード電流が流れる。従って、サイリスタTh1及びTh2を位相制御することにより、補助電極29に流れるアノード電流の電流値を制御でき、アルミニウムウェブWがカソードの時に流れる電気量Qcとアノードの時に流れる電気量Qaとの比率Qc/Qaも制御できる。   An anode current flows through the auxiliary electrode 29 when any of the thyristors Th1 and Th2 is ignited. Therefore, by controlling the phase of the thyristors Th1 and Th2, the current value of the anode current flowing through the auxiliary electrode 29 can be controlled, and the ratio Qc between the amount of electricity Qc flowing when the aluminum web W is the cathode and the amount of electricity Qa flowing when the aluminum web W is the anode. / Qa can also be controlled.

また、補助電極29と直流電流部26とは、直流電源を介して接続されている。   The auxiliary electrode 29 and the direct current unit 26 are connected via a direct current power source.

交流の周波数は、特に限定されないが、40〜120Hzであるのが好ましく、40〜80Hzであるのがより好ましく、50〜60Hzであるのが更に好ましい。   The AC frequency is not particularly limited, but is preferably 40 to 120 Hz, more preferably 40 to 80 Hz, and still more preferably 50 to 60 Hz.

また、アルミニウムウェブWに対して、アノード反応の時に流れる電気量Qaとカソード反応の時に流れる電気量Qcとの比Qc/Qaが0.9〜1であることが好ましく、0.95〜0.99であるよりことがより好ましい。これにより、アルミニウムウェブWの表面に均一なハニカムピットを形成することができる。   The ratio Qc / Qa of the amount of electricity Qa flowing during the anode reaction and the amount of electricity Qc flowing during the cathode reaction is preferably 0.9 to 1 with respect to the aluminum web W. More preferred is 99. Thereby, uniform honeycomb pits can be formed on the surface of the aluminum web W.

交流のdutyは、特に限定されないが、アルミニウムウェブWの表面に均一に粗面化処理を施す点及び電源装置の製作の点からは、0.33〜0.66であるのが好ましく、0.4〜0.6であるのがより好ましく、0.5であるのが最も好ましい。尚、本実施形態において「duty」とは、交流の周期をT、アルミニウム合金板が陽極反応する時間(アノード反応時間)をtaとしたときのta/Tをいう。   The duty of the alternating current is not particularly limited, but is preferably 0.33 to 0.66 from the viewpoint of uniformly roughening the surface of the aluminum web W and manufacturing the power supply device. It is more preferably 4 to 0.6, and most preferably 0.5. In this embodiment, “duty” refers to ta / T, where T is the period of alternating current and ta is the time during which the aluminum alloy plate undergoes an anodic reaction (anode reaction time).

交流における電流値がゼロから正又は負のピークに達するまでの時間TPは、台形波電流である場合においては、0.5〜6msecであるのが好ましく、0.6〜5msecであるのがより好ましい。これにより、アルミニウムウェブWの表面に、より均一なクレーター状の凹部(ピット)を形成できる。   The time TP until the current value in alternating current reaches a positive or negative peak from zero is preferably 0.5 to 6 msec, more preferably 0.6 to 5 msec in the case of a trapezoidal wave current. preferable. Thereby, a more uniform crater-like recess (pit) can be formed on the surface of the aluminum web W.

電解粗面化処理における開始時から終了時までの電気量は、アルミニウムウェブWがアノードの時の総和で、10〜1000C/dmであるのが好ましく、10〜800C/dm2であるのがより好ましく、40〜500C/dmであるのが更に好ましい。 The amount of electricity from the start to the end of the electrolytic surface-roughening treatment is preferably 10 to 1000 C / dm 2 , and preferably 10 to 800 C / dm 2 in terms of the total when the aluminum web W is the anode. More preferably, it is 40-500 C / dm < 2 >.

交流におけるアノードサイクル側のピーク時の電流Iap、及びカソードサイクル側のピーク時の電流Icpは、それぞれ10〜100A/dmであるのが好ましく、20〜80A/dm2であるのがより好ましく、30〜60A/dmであるのが更に好ましい。また、Icp/Iapは、0.9〜1.5であるのが好ましく、0.9〜1.0であるのがより好ましい。 Current Iap at the peak on the anode cycle side in an alternating current, and the current Icp at the peak on the cathode cycle side is preferably from 10 to 100 A / dm 2 respectively, more preferably from 20~80A / dm 2, even more preferably a 30~60A / dm 2. Icp / Iap is preferably 0.9 to 1.5, more preferably 0.9 to 1.0.

電解粗面化処理においては、1又は2以上の電解槽において、アルミニウムウェブWに交流が流れない休止期間を1回以上設け、休止期間の長さを0.001〜0.6秒とすると、ハニカムピットがアルミニウムウェブWの表面全体に均一に形成されるので好ましい。   In the electrolytic surface roughening treatment, in one or two or more electrolytic cells, when the rest period during which alternating current does not flow in the aluminum web W is provided once or more, and the length of the rest period is 0.001 to 0.6 seconds, The honeycomb pits are preferable because they are uniformly formed on the entire surface of the aluminum web W.

以下に、本発明を適用した例として、平版印刷版原版を製造する方法について説明する。ここで、平版印刷版原版とは、平版印刷版を作製する前のものであり、これに画像露光し現像することで平版印刷版が作製される。   Hereinafter, as an example to which the present invention is applied, a method for producing a lithographic printing plate precursor will be described. Here, the lithographic printing plate precursor is the one before producing a lithographic printing plate, and a lithographic printing plate is produced by exposing and developing the image.

<アルミニウムウェブ(圧延アルミ)>
本実施形態においてアルミニウムウェブWとして使用されるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属である。アルミニウム板には、既述したように、アルミニウム合金板も含まれており、以下、これらを総称してアルミニウム板という。
<Aluminum web (rolled aluminum)>
The aluminum plate used as the aluminum web W in the present embodiment is a metal mainly composed of dimensionally stable aluminum. As described above, the aluminum plate also includes an aluminum alloy plate. Hereinafter, these are collectively referred to as an aluminum plate.

アルミニウム板としては、アルミニウム合金がラミネートされ又は蒸着されたプラスチックフィルム又は紙を用いることもできる。更に、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを用いることもできる。また、アルミニウム板は、Bi、Ni等の元素や不可避不純物を含有することができる。   As the aluminum plate, a plastic film or paper on which an aluminum alloy is laminated or vapor-deposited can also be used. Furthermore, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 can also be used. The aluminum plate can contain elements such as Bi and Ni and inevitable impurities.

アルミニウム板は、従来から公知公用の素材のもの、例えば、JIS A1050、JIS A1100、JIS A3003、JIS A3004、JIS A3005、国際登録合金3103A等のアルミニウム板を適宜利用することができる。   As the aluminum plate, conventionally known materials such as JIS A1050, JIS A1100, JIS A3003, JIS A3004, JIS A3005, and internationally registered alloy 3103A can be appropriately used.

また、アルミニウム板の製造方法は、連続鋳造方式及びDC鋳造方式のいずれでもよく、DC鋳造方式の中間焼鈍や、均熱処理を省略したアルミニウム板も用いることができる。最終圧延においては、積層圧延や転写等により凹凸をつけたアルミニウム板を用いることもできる。また、アルミニウム板は、連続した帯状のシート材又は板材である、アルミニウムウェブであってもよく、製品として出荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。   Further, the aluminum plate may be produced by either a continuous casting method or a DC casting method, and an aluminum plate in which DC casting method intermediate annealing or soaking treatment is omitted can also be used. In the final rolling, it is possible to use an aluminum plate provided with unevenness by lamination rolling or transfer. The aluminum plate may be an aluminum web, which is a continuous strip-shaped sheet material or plate material, and is a sheet-like sheet cut to a size corresponding to a planographic printing plate precursor shipped as a product. Also good.

また、アルミニウム板の厚さは、通常、0.05〜1mm程度であり、0.1mm〜0.5mmであるのが好ましい。この厚さは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザの希望により適宜変更することができる。   Moreover, the thickness of an aluminum plate is about 0.05-1 mm normally, and it is preferable that it is 0.1 mm-0.5 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire.

本実施形態における平版印刷版原版の製造方法においては、上記アルミニウム板に、酸性水溶液の中での電解粗面化処理を含む各種表面処理を施して平版印刷版原版を得るが、この表面処理には、更に各種の処理が含まれていてもよい。   In the method for producing a lithographic printing plate precursor according to this embodiment, the aluminum plate is subjected to various surface treatments including an electrolytic surface roughening treatment in an acidic aqueous solution to obtain a lithographic printing plate precursor. Further, various types of processing may be included.

電解粗面化処理の前には、アルカリエッチング処理又はデスマット処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。また、電解粗面化処理の後には、アルカリエッチング処理又はデスマット処理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。また、電解粗面化処理後のアルカリエッチング処理は、省略することもできる。本発明においては、これらの処理の前に機械的粗面化処理を施すのも好ましい。また、電解粗面化処理を2回以上行ってもよい。また、これらの後に、陽極酸化処理、封孔処理、親水化処理等を施すのも好ましい。   Before the electrolytic surface roughening treatment, an alkali etching treatment or a desmut treatment is preferably performed, and an alkali etching treatment and a desmut treatment are also preferably performed in this order. Moreover, it is preferable to perform an alkali etching process or a desmut process after an electrolytic surface roughening process, and it is also preferable to perform an alkali etching process and a desmut process in this order. Further, the alkali etching treatment after the electrolytic surface roughening treatment can be omitted. In the present invention, it is also preferable to perform a mechanical surface roughening treatment before these treatments. Moreover, you may perform an electrolytic surface roughening process twice or more. Moreover, it is also preferable to perform an anodizing process, a sealing process, a hydrophilization process, etc. after these.

以下、機械的粗面化処理、第1アルカリエッチング処理、第1デスマット処理、電解粗面化処理、第2アルカリエッチング処理、第2デスマット処理、陽極酸化処理、封孔処理及び親水化処理のそれぞれについて、詳細に説明する。尚、本実施形態においては、電解粗面化処理の前に行う処理に「第1」という序数をつけて呼び、電解粗面化処理の後に行う処理に「第2」という序数をつけて呼ぶ場合がある。   Hereinafter, mechanical roughening treatment, first alkali etching treatment, first desmutting treatment, electrolytic surface roughening treatment, second alkali etching treatment, second desmutting treatment, anodizing treatment, sealing treatment, and hydrophilic treatment, respectively. Will be described in detail. In the present embodiment, the process performed before the electrolytic surface roughening process is called with an ordinal number “first”, and the process performed after the electrolytic surface roughening process is called with an ordinal number “second”. There is a case.

<機械的粗面化処理>
機械的粗面化処理は、電解粗面化処理の前に行うのが好ましい。機械的粗面化処理は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン(登録商標)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウムウェブの表面の一方又は両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシ及びスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。ローラ状ブラシにおけるブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径及び胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、10〜100mmである。
<Mechanical roughening>
The mechanical surface roughening treatment is preferably performed before the electrolytic surface roughening treatment. In general, the mechanical surface roughening treatment is a roller brush in which a large number of brush hairs such as synthetic resin hair made of synthetic resin such as nylon (registered trademark), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. Is used by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum web while spraying a slurry liquid containing an abrasive on a rotating roller brush. Instead of the roller brush and the slurry liquid, a polishing roller which is a roller having a polishing layer on the surface can be used. The length of the bristle in the roller brush can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller brush and the diameter of the body, but is generally 10 to 100 mm.

研磨剤は公知のものが使用できる。例えば、パミストン、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤、又はこれらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましいが、特にケイ砂はパミストンに比べて硬く、壊れにくいので、粗面化効率が優れる点で好ましい。研磨剤の平均粒径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、3〜50μmであるのが好ましく、6〜45μmであるのがより好ましい。研磨剤としてパミストンを用いる場合、平均粒径が40〜45μmであるのが特に好ましく、また、研磨剤としてケイ砂を用いる場合、平均粒径が20〜25μmであるのが特に好ましい。研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、研磨スラリー液として用いる。研磨スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等を含有させることができる。平均粒径とは、研磨スラリー液中に含有される全研磨剤の体積に対し、各粒径の研磨剤粒子の占める割合の累積分布をとったとき、累積割合が50%となる粒径をいう。   A well-known thing can be used for an abrasive | polishing agent. For example, abrasives such as pumiston, silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, volcanic ash, carborundum, and gold sand can be used, or a mixture thereof. Among them, pumiston and silica sand are preferable, but silica sand is particularly preferable in terms of excellent roughening efficiency because it is harder and less likely to break than pamiston. The average particle diameter of the abrasive is preferably 3 to 50 μm, and more preferably 6 to 45 μm in terms of excellent surface roughening efficiency and a narrow graining pitch. When using pumiston as an abrasive, the average particle size is particularly preferably 40 to 45 μm, and when using silica sand as the abrasive, the average particle size is particularly preferably 20 to 25 μm. For example, the abrasive is suspended in water and used as a polishing slurry. In addition to the abrasive, the polishing slurry liquid can contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), an antiseptic, and the like. The average particle diameter is the particle diameter at which the cumulative ratio is 50% when the cumulative distribution of the ratio of the abrasive particles of each particle diameter is taken with respect to the volume of the total abrasive contained in the polishing slurry liquid. Say.

また、機械的粗面化処理においては、まず、ブラシグレイニングを行うに先立ち、所望により、アルミニウムウェブの表面の圧延油を除去するための脱脂処理、例えば、界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われてもよい。   Further, in the mechanical surface roughening treatment, first, prior to performing brush graining, if necessary, a degreasing treatment for removing rolling oil on the surface of the aluminum web, for example, a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution. The degreasing process by etc. may be performed.

<第1アルカリエッチング処理>
第1アルカリエッチング処理は、上記アルミニウムウェブをアルカリ溶液に接触させることにより、エッチングを行う。第1アルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、アルミニウムウェブ(圧延アルミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜を除去することを目的として、また、機械的粗面化処理を行った場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、滑らかなうねりを持つ表面を得ることを目的として行われる。アルミニウムウェブをアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルカリ溶液を入れた槽の中にアルミニウムウェブを通過させる方法、
アルカリ溶液を入れた槽の中にアルミニウムウェブを浸漬させる方法、アルカリ溶液をアルミニウムウェブの表面に噴き付ける方法等が挙げられる。
<First alkali etching treatment>
In the first alkaline etching treatment, etching is performed by bringing the aluminum web into contact with an alkaline solution. The first alkali etching treatment is performed for the purpose of removing rolling oil, dirt, and natural oxide film on the surface of the aluminum web (rolled aluminum) when mechanical roughening treatment is not performed. When the roughening treatment is performed, it is performed for the purpose of obtaining a surface having smooth undulations by dissolving the uneven edge portions generated by the mechanical roughening treatment. As a method of bringing the aluminum web into contact with the alkaline solution, for example, a method of passing the aluminum web through a bath containing the alkaline solution,
Examples include a method of immersing an aluminum web in a tank containing an alkaline solution, a method of spraying an alkaline solution onto the surface of the aluminum web, and the like.

エッチング量は、次の工程で電解粗面化処理を施す面については、1〜15g/m2
あるのが好ましく、電解粗面化処理を施さない面については、0.1〜5g/m2(電解粗面化処理を施す面の約10〜40%)であるのが好ましい。
The etching amount is preferably 1 to 15 g / m 2 for the surface subjected to the electrolytic surface roughening treatment in the next step, and 0.1 to 5 g / m for the surface not subjected to the electrolytic surface roughening treatment. 2 (about 10 to 40% of the surface to be subjected to electrolytic surface roughening treatment) is preferable.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点及び安価である点から、カセイアルカリの溶液、及び、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, examples of caustic alkali include caustic soda and caustic potash. Examples of the alkali metal salt include alkali metal silicates such as sodium silicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate and alumina. Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldones such as sodium gluconate and potassium gluconate; dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic sodium phosphate, tertiary potassium phosphate, etc. An alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among these, a caustic alkali solution and a solution containing both a caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular, an aqueous solution of caustic soda is preferable.

アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、1〜50質量%であるのが好ましく、10〜35質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、0.01〜10質量%であるのが好ましく、3〜8質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。処理時間は1〜120秒であるのが好ましい。エッチング処理の量は、1〜15g/m2溶解するのが好ましく、3〜12g/m2溶解するのがより好ましい。第1アルカリエッチング処理は、アルミニウムウェブのエッチング処理に通常用いられるエッチング槽を用いて行うことができる。エッチング槽としては、バッチ式及び連続式のいずれも用いることができる。また、アルカリ溶液をアルミニウムウェブの表面に噴きかけて第1アルカリエッチング処理を行う場合は、スプレー装置を用いることができる。 Although the density | concentration of an alkaline solution can be determined according to the etching amount, it is preferable that it is 1-50 mass%, and it is more preferable that it is 10-35 mass%. When aluminum ions are dissolved in the alkaline solution, the concentration of aluminum ions is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. The temperature of the alkaline solution is preferably 20 to 90 ° C. The treatment time is preferably 1 to 120 seconds. The amount of the etching treatment is preferably for 1 to 15 g / m 2 dissolution, it is more preferable to 3~12g / m 2 dissolution. The first alkali etching treatment can be performed using an etching tank usually used for the etching treatment of the aluminum web. As the etching tank, either a batch type or a continuous type can be used. Moreover, when spraying an alkali solution on the surface of an aluminum web and performing a 1st alkali etching process, a spray apparatus can be used.

<第1デスマット処理>
第1デスマット処理は、例えば、上記アルミニウムウェブを塩酸、硝酸、硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液(アルミニウムイオン0.01〜5質量%を含有する。)に接触させることにより行う。アルミニウムウェブを酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、酸性溶液を入れた槽の中にアルミニウムウェブを通過させる方法、酸性溶液を入れた槽の中にアルミニウムウェブを浸漬させる方法、酸性溶液をアルミニウムウェブの表面に噴き付ける方法が挙げられる。第1デスマット処理においては、酸性溶液として、後述する電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、又は、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いるのが好ましい。第1デスマット処理の液温は、25〜90℃であるのが好ましい。また、第1デスマット処理の処理時間は、1〜180秒であるのが好ましい。
<First desmut treatment>
In the first desmutting treatment, for example, the aluminum web is brought into contact with an acidic solution (containing 0.01 to 5% by mass of aluminum ions) having a concentration of 0.5 to 30% by mass such as hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid. Do. Examples of the method of bringing the aluminum web into contact with the acidic solution include, for example, a method in which the aluminum web is passed through a tank containing the acidic solution, a method in which the aluminum web is immersed in a tank containing the acidic solution, and the acidic solution is made of aluminum. The method of spraying on the surface of a web is mentioned. In the first desmutting treatment, as an acidic solution, an aqueous solution mainly containing nitric acid or an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid discharged in an electrolytic surface-roughening treatment described later, or sulfuric acid discharged in an anodic oxidation treatment described later It is preferable to use a waste liquid of an aqueous solution mainly composed of. The liquid temperature of the first desmut treatment is preferably 25 to 90 ° C. Moreover, it is preferable that the processing time of a 1st desmut process is 1-180 second.

<電解粗面化処理>
電解粗面化処理で使用される酸性水溶液としては、特に限定されないが、硝酸を主体とする水溶液及び塩酸を主体とする水溶液が好ましい。硝酸を主体とする水溶液は、硝酸濃度が3〜20g/Lであるのが好ましく、5〜15g/Lであるのがより好ましく、また、アルミニウムイオン濃度が3〜15g/Lであるのが好ましく、3〜7g/Lであるのがより好ましい。硝酸を主体とする水溶液におけるアルミニウムイオンの濃度は、硝酸濃度の硝酸水溶液に硝酸アルミニウムを添加することにより調整することができる。塩酸を
主体とする水溶液は、塩酸濃度が3〜15g/Lであるのが好ましく、5〜10g/Lであるのがより好ましく、また、アルミニウムイオン濃度が3〜15g/Lであるのが好ましく、3〜7g/Lであるのがより好ましい。塩酸を主体とする水溶液におけるアルミニウムイオンの濃度は、上記塩酸濃度の塩酸水溶液に塩化アルミニウムを添加することにより調整することができる。
<Electrolytic roughening treatment>
The acidic aqueous solution used in the electrolytic surface roughening treatment is not particularly limited, but an aqueous solution mainly containing nitric acid and an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid are preferable. The aqueous solution mainly composed of nitric acid preferably has a nitric acid concentration of 3 to 20 g / L, more preferably 5 to 15 g / L, and preferably an aluminum ion concentration of 3 to 15 g / L. 3 to 7 g / L is more preferable. The concentration of aluminum ions in an aqueous solution mainly composed of nitric acid can be adjusted by adding aluminum nitrate to an aqueous nitric acid solution having a nitric acid concentration. The aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid preferably has a hydrochloric acid concentration of 3 to 15 g / L, more preferably 5 to 10 g / L, and preferably an aluminum ion concentration of 3 to 15 g / L. 3 to 7 g / L is more preferable. The concentration of aluminum ions in the aqueous solution mainly containing hydrochloric acid can be adjusted by adding aluminum chloride to the aqueous hydrochloric acid solution having the above hydrochloric acid concentration.

<第2アルカリエッチング処理>
第2アルカリエッチング処理は、上記アルミニウムウェブをアルカリ溶液に接触させることにより、エッチングを行う。アルカリの種類、アルミニウムウェブをアルカリ溶液に接触させる方法及びそれに用いる装置は、第1アルカリエッチング処理の場合と同様のものが挙げられる。エッチング量は、電解粗面化処理を施した面については、0.001〜5g/m2であるのが好ましく、0.01〜3g/m2であることがより好ましく、0.05〜2g/m2であることが更に好ましい。
<Second alkali etching treatment>
In the second alkali etching treatment, etching is performed by bringing the aluminum web into contact with an alkaline solution. Examples of the alkali type, the method of bringing the aluminum web into contact with the alkaline solution, and the apparatus used therefor are the same as in the case of the first alkaline etching treatment. The etching amount is preferably 0.001 to 5 g / m 2 , more preferably 0.01 to 3 g / m 2 , more preferably 0.05 to 2 g for the surface subjected to the electrolytic surface roughening treatment. further preferably / m 2.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、第1アルカリエッチング処理の場合と同様のものが挙げられる。アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、0.01〜80質量%であるのが好ましい。アルカリ溶液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。処理時間は1〜60秒であるのが好ましい。後述する第2デスマット処理において、硫酸を100g/L以上含有し、かつ、液温が60℃以上である酸性溶液を用いるときは、第2アルカリエッチング処理を省略することもできる。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include the same as in the case of the first alkali etching treatment. The concentration of the alkaline solution can be determined according to the etching amount, but is preferably 0.01 to 80% by mass. The temperature of the alkaline solution is preferably 20 to 90 ° C. The treatment time is preferably 1 to 60 seconds. In the second desmutting process to be described later, when an acidic solution containing 100 g / L or more of sulfuric acid and having a liquid temperature of 60 ° C. or higher is used, the second alkali etching process can be omitted.

<第2デスマット処理>
第2デスマット処理は、例えば、上記アルミニウムウェブをリン酸、塩酸、硝酸、硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液(アルミニウムイオン0.01〜5質量%を含有する。)に接触させることにより行う。アルミニウムウェブを酸性溶液に接触させる方法は、第1デスマット処理の場合と同様のものが挙げられる。第2デスマット処理においては、酸性溶液として、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸溶液の廃液を用いるのが好ましい。また、廃液の代わりに、硫酸濃度が100〜600g/L、アルミニウムイオン濃度が1〜10g/Lであり、液温が60〜90℃である硫酸溶液を用いることもできる。第2デスマット処理の液温は、25〜90℃であるのが好ましい。また、第2デスマット処理の処理時間は、1〜180秒であるのが好ましい。第2デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウム及びアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
<Second desmut treatment>
In the second desmut treatment, for example, the aluminum web is brought into contact with an acidic solution (containing aluminum ions 0.01 to 5% by mass) having a concentration of 0.5 to 30% by mass such as phosphoric acid, hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid. To do. The method for bringing the aluminum web into contact with the acidic solution may be the same as in the case of the first desmut treatment. In the second desmutting treatment, it is preferable to use a waste solution of a sulfuric acid solution discharged in an anodic oxidation treatment described later as the acidic solution. Further, instead of the waste liquid, a sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 100 to 600 g / L, an aluminum ion concentration of 1 to 10 g / L, and a liquid temperature of 60 to 90 ° C. can be used. The liquid temperature of the second desmut treatment is preferably 25 to 90 ° C. Moreover, it is preferable that the processing time of a 2nd desmut process is 1-180 second. Aluminum and aluminum alloy components may be dissolved in the acidic solution used for the second desmut treatment.

<陽極酸化処理>
上記の如く処理されたアルミニウムウェブには、更に、陽極酸化処理が施されるのが好ましい。陽極酸化処理はこの分野の従来の方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等の単独の又は2種以上を組み合わせた水溶液又は非水溶液である電解液の中で、アルミニウムウェブに直流、脈流又は交流を流すとアルミニウムウェブの表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
<Anodizing treatment>
It is preferable that the aluminum web treated as described above is further subjected to an anodizing treatment. The anodizing treatment can be performed by a conventional method in this field. Specifically, in an electrolytic solution that is an aqueous solution or a non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, amidesulfonic acid, etc. When direct current, pulsating flow or alternating current is passed through the web, an anodized film can be formed on the surface of the aluminum web.

中でも、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電解液中の硫酸濃度は、10〜300g/L(1〜30質量%)であるのが好ましく、また、アルミニウムイオン濃度は、1〜25g/L(0.1〜2.5質量%)であるのが好ましく、2〜10g/L(0.2〜1質量%)であるのがより好ましい。このような電解液は、例えば、硫酸濃度が50〜200g/Lである希硫酸にアルミニウムを添加することにより調製することができる。   Among these, it is preferable to use a sulfuric acid solution as the electrolytic solution. The sulfuric acid concentration in the electrolytic solution is preferably 10 to 300 g / L (1 to 30% by mass), and the aluminum ion concentration is 1 to 25 g / L (0.1 to 2.5% by mass). It is preferable that it is 2 to 10 g / L (0.2 to 1% by mass). Such an electrolytic solution can be prepared, for example, by adding aluminum to dilute sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 50 to 200 g / L.

硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウムウェブに直流を印加してもよく、交流を印加してもよい。アルミニウムウェブに直流を印加する場合においては、電流密度は、1〜60A/dm2であるのが好ましく、5〜40A/dm2であるのがより好ましい。連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウムウェブの一部に電流が集中していわゆる「焼け」が生じないように、陽極酸化処理の開始当初は、5〜10A/dm2の低電流密度で電流を流し、陽極酸化処理が進行するにつれ、30〜50A/dm2又はそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウムウェブに、電解液を介して給電する液給電方式により行うのが好ましい。 When anodizing is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid, direct current may be applied to the aluminum web, or alternating current may be applied. When a direct current is applied to the aluminum web, the current density is preferably 1 to 60 A / dm 2, and more preferably 5 to 40 A / dm 2. In the case of continuous anodizing treatment, a low current of 5 to 10 A / dm 2 is initially introduced so that the so-called “burn” does not occur due to concentration of current on a part of the aluminum web. It is preferable to increase the current density to 30 to 50 A / dm 2 or more as the current is passed at the density and the anodization process proceeds. In the case where the anodizing treatment is continuously performed, it is preferable to use a liquid feeding method in which the aluminum web is fed through an electrolytic solution.

アルミニウムウェブに給電する電極としては、鉛、酸化イリジウム、白金、フェライト等により形成された電極を用いることができる。中でも、主に酸化イリジウムから形成された電極、及び、基材の表面を酸化イリジウムで被覆した電極が好ましい。そのような基材としては、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム等のいわゆるバルブ金属を用いるのが好ましく、バルブ金属の中でも、チタン、ニオブが好ましい。バルブ金属は、比較的電気抵抗が大きいため、銅からなる芯材の表面にバルブ金属をクラッドして基材を形成させてもよい。銅からなる芯材の表面にバルブ金属をクラッドする場合には、複雑な形状の基材を作製することは困難であるため、基材を部品毎に分割した形態の芯材にバルブ金属をクラッドし、その後、各部品を組み合わせて基材を組み立ててもよい。   As an electrode for supplying power to the aluminum web, an electrode formed of lead, iridium oxide, platinum, ferrite, or the like can be used. Among these, an electrode formed mainly from iridium oxide and an electrode in which the surface of the substrate is coated with iridium oxide are preferable. As such a base material, it is preferable to use a so-called valve metal such as titanium, tantalum, niobium, zirconium, etc. Among the valve metals, titanium and niobium are preferable. Since the valve metal has a relatively large electric resistance, the valve metal may be clad on the surface of a core material made of copper to form a base material. When valve metal is clad on the surface of a copper core material, it is difficult to produce a base material with a complicated shape. Therefore, the valve metal is clad on the core material in which the base material is divided into parts. Then, the base material may be assembled by combining the components.

陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度1〜80質量%、液温5〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜300秒であるのが適当である。陽極酸化処埋は、陽極酸化皮膜量が1〜5g/m2になるように行うのが、平版印刷版の耐刷性の点から好ましい。また、アルミニウムウェブの中央部と縁部近傍との間の陽極酸化皮膜量の差が1g/m2以下になるように行うのが好ましい。 The conditions of the anodizing treatment cannot be determined unconditionally because they vary depending on the electrolytic solution used. In general, the electrolytic solution concentration is 1 to 80% by mass, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 1 to 60 A. / Dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 to 300 seconds are appropriate. The anodizing treatment is preferably performed so that the amount of the anodized film becomes 1 to 5 g / m 2 from the viewpoint of printing durability of the lithographic printing plate. Further, it is preferable that the difference in the amount of the anodized film between the center portion of the aluminum web and the vicinity of the edge portion is 1 g / m 2 or less.

<封孔処理>
陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム合金板を、沸騰水、熱水又は水蒸気に接触させて陽極酸化処理によって形成された小孔(マイクロポア)を封じる封孔処理を行うことが好ましい。
<Sealing treatment>
It is preferable to perform a sealing treatment in which the aluminum alloy plate on which the anodized film is formed is brought into contact with boiling water, hot water or steam to seal small holes (micropores) formed by anodizing treatment.

<親水化処理>
陽極酸化処理後又は封孔処理後、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマー又は親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。この方法に用いられる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、スルホン酸基を有するp−スチレンスルホン酸等のスルホン酸基含有ビニル重合性化合物と(メタ)アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−NH2基、−COOH基及びスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。
<Hydrophilic treatment>
After anodizing treatment or sealing treatment, soaking in an aqueous solution of alkali metal silicate such as sodium silicate, potassium silicate, etc., applying hydrophilic vinyl polymer or hydrophilic compound to form hydrophilic undercoat layer It is preferable to perform a hydrophilization treatment by a forming method or the like. Examples of the hydrophilic vinyl polymer used in this method include polyvinyl sulfonic acid, a sulfonic acid group-containing vinyl polymerizable compound such as p-styrene sulfonic acid having a sulfonic acid group, and an ordinary (meth) acrylic acid alkyl ester. Examples thereof include a copolymer with a vinyl polymerizable compound. Examples of hydrophilic compounds that may be used in this method include, -NH 2 group, compounds having at least one selected from the group consisting of -COOH group and sulfo group.

〔中間層及び感光層の形成〕
<中間層>
上記の親水化処理した平版印刷版用支持体、あるいは親水化処理後更に酸性水溶液処理した平版印刷版用支持体の上に直接感光層を設けることができるが、必要に応じて、上記各支持体上に中間層を設け、該中間層上に感光層を設けることもできる。
[Formation of intermediate layer and photosensitive layer]
<Intermediate layer>
A photosensitive layer can be provided directly on the lithographic printing plate support subjected to the above hydrophilic treatment or the lithographic printing plate support further treated with an acidic aqueous solution after the hydrophilic treatment. An intermediate layer may be provided on the body, and a photosensitive layer may be provided on the intermediate layer.

(酸基とオニウム基とを有する高分子化合物の中間層)
中間層形成に用いる高分子化合物として、酸基を有する、あるいは、酸基を有する構成成分と共にオニウム基を有する構成成分をも有する高分子化合物が一層好適に用いられる。この高分子化合物の構成成分の酸基としては、酸解離指数(pKa)が7以下の酸基が好ましく、より好ましくは−COOH、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO、−SONHSO−であり、特に好ましくは−COOHである。好適なる酸基を有する構成成分は、下記の一般式(1)あるいは一般式(2)で表される重合可能な化合物である。
(Intermediate layer of polymer compound having acid group and onium group)
As the polymer compound used for forming the intermediate layer, a polymer compound having an acid group or having a component having an onium group together with a component having an acid group is more preferably used. As the acid group of the component of the polymer compound, an acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or less is preferable, more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 , —SO 2 NHSO 2 — and particularly preferably —COOH. A preferred component having an acid group is a polymerizable compound represented by the following general formula (1) or general formula (2).

式中、Aは2価の連結基を表す。Bは芳香族基あるいは置換芳香族基を表す。D及びEはそれぞれ独立して2価の連結基を表す。Gは3価の連結基を表す。X及びX′はそれぞれ独立してpKaが7以下の酸基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム塩を表す。R1 は水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0又は1を表す。tは1〜3の整数である。酸基を有する構成成分の中でより好ましくは、Aは−COO−又はCONH−を表し、Bはフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子あるいはアルキル基である。D及びEはそれぞれ独立してアルキレン基あるいは分子式がCnHnO、CnHnSあるいはCnH2n+1Nで表される2価の連結基を表す。Gは分子式がCnHn−1、CnHn−1O、CnHn−1SあるいはCnHnNで表される3価の連結基を表す。但し、ここでnは1〜12の整数を表す。X及びX′はそれぞれ独立してカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、硫酸モノエステルあるいは燐酸モノエステルを表す。R1は水素原子又はアルキル基を表す。a,b,d,eはそれぞれ独立して0又は1を表すが、aとbは同時に0ではない。酸基を有する構成成分の中で特に好ましくは一般式(1)で示す化合物であり、Bはフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基あるいは炭素数1〜3のアルキル基である。D及びEはそれぞれ独立して炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。R1は水素原子あるいはメチル基を表す。Xはカルボン酸基を表す。aは0であり、bは1である。 In the formula, A represents a divalent linking group. B represents an aromatic group or a substituted aromatic group. D and E each independently represent a divalent linking group. G represents a trivalent linking group. X and X ′ each independently represents an acid group having a pKa of 7 or less, or an alkali metal salt or ammonium salt thereof. R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom. a, b, d and e each independently represents 0 or 1; t is an integer of 1 to 3. More preferably, A represents —COO— or CONH—, B represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group, a halogen atom, or an alkyl group. D and E each independently represent an alkylene group or a divalent linking group having a molecular formula of CnH 2 nO, CnH 2 nS or CnH 2n + 1N. G represents a trivalent linking group having a molecular formula of CnH 2 n-1, CnH 2 n-1O, CnH 2 n-1S or CnH 2 nN. However, n represents the integer of 1-12 here. X and X ′ each independently represent carboxylic acid, sulfonic acid, phosphonic acid, sulfuric acid monoester or phosphoric acid monoester. R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. a, b, d and e each independently represent 0 or 1, but a and b are not 0 at the same time. Among the constituents having an acid group, a compound represented by the general formula (1) is particularly preferable. B represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. . D and E each independently represent an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom. R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. X represents a carboxylic acid group. a is 0 and b is 1.

酸基を有する構成成分の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等が挙げられ、更に下記のものが挙げられる。   Although the specific example of the structural component which has an acid group is shown below, it is not limited to these. Acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride and the like are listed, and the following are further listed.

上記のような酸基を有する構成成分は、1種類あるいは2種類以上組み合わせてもよい。   You may combine the structural component which has the above acid groups 1 type, or 2 or more types.

(オニウム基を有する高分子化合物の中間層)
また、上記中間層形成に用いられる高分子化合物の構成成分のオニウム基として好ましいものは、周期律表第V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいはイオウ原子からなるオニウム基であり、特に好ましくは窒素原子からなるオニウム基である。また、この高分子化合物は、その主鎖構造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマーあるいはウレタン樹脂あるいはポリエステルあるいはポリアミドであるポリマーが好ましい。中でも、主鎖構造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマーが更に好ましい。特に好ましい高分子化合物は、オニウム基を有する構成成分が下記の一般式(3)、一般式(4)あるいは一般式(5)で表される重合可能な化合物であるポリマーである。
(Intermediate layer of polymer compound having onium group)
Moreover, what is preferable as an onium group as a constituent component of the polymer compound used for forming the intermediate layer is an onium group composed of a group V or group VI atom in the periodic table, more preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. Alternatively, it is an onium group composed of a sulfur atom, and particularly preferably an onium group composed of a nitrogen atom. The polymer compound is preferably a polymer whose main chain structure is vinyl polymer such as acrylic resin, methacrylic resin or polystyrene, urethane resin, polyester or polyamide. Of these, vinyl polymers such as acrylic resin, methacrylic resin, and polystyrene are more preferable for the main chain structure. A particularly preferable polymer compound is a polymer in which a constituent component having an onium group is a polymerizable compound represented by the following general formula (3), general formula (4), or general formula (5).

式中、Jは2価の連結基を表す。Kは芳香族基あるいは置換芳香族基を表す。Mはそれぞれ独立して2価の連結基を表す。Y1 は周期律表第V族の原子を表し、Y2は周期律表第VI族の原子を表す。Z- は対アニオンを表す。R2は水素原子、アルキル基又はハロゲン原子を表す。R3,R4,R5,R7はそれぞれ独立して水素原子あるいは場合によっては置換基が結合してもよいアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R6はアルキリジン基あるいは置換アルキリジンを表すが、R3とR4あるいはR6とR7はそれぞれ結合して環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立して0又は1を表す。uは1〜3の整数を表す。オニウム基を有する構成成分の中でより好ましくは、Jは−COO−又はCONH−を表し、Kはフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基、ハロゲン原子あるいはアルキル基である。Mはアルキレン基あるいは分子式がCnHnO、CnHnSあるいはCn H2n+1Nで表される2価の連結基を表す。但し、ここでnは1〜12の整数を表す。Y1 は窒素原子又はリン原子を表し、Y2はイオウ原子を表す。Z- はハロゲンイオン、PF- 、BF- あるいはRSO- を表す。R2は水素原子又はアルキル基を表す。R3,R4,R5,R7はそれぞれ独立して水素原子あるいは場合によっては置換基が結合してもよい炭素数1〜10のアルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、R6は炭素数1〜10のアルキリジン基あるいは置換アルキリジンを表すが、R3とR4あるいはR6とR7はそれぞれ結合して環を形成してもよい。j,k,mはそれぞれ独立して0又は1を表すが、jとkは同時に0ではない。オニウム基を有する構成成分の中で特に好ましくは、Kはフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基あるいは炭素数1〜3のアルキル基である。Mは炭素数1〜2のアルキレン基あるいは酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。Z- は塩素イオンあるいはRSO- を表す。R2は水素原子あるいはメチル基を表す。jは0であり、kは1である。 In the formula, J represents a divalent linking group. K represents an aromatic group or a substituted aromatic group. M independently represents a divalent linking group. Y1 represents a group V atom in the periodic table, and Y2 represents a group VI atom in the periodic table. Z @-represents a counter anion. R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom. R3, R4, R5 and R7 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, an aromatic group or an aralkyl group to which a substituent may be bonded, and R6 represents an alkylidine group or a substituted alkylidine, And R4 or R6 and R7 may combine with each other to form a ring. j, k, and m each independently represents 0 or 1. u represents an integer of 1 to 3. More preferably, among the components having an onium group, J represents —COO— or CONH—, K represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group, a halogen atom or an alkyl group. M represents an alkylene group or a divalent linking group having a molecular formula of CnH 2 nO, CnH 2 nS, or Cn H 2n + 1N. However, n represents the integer of 1-12 here. Y1 represents a nitrogen atom or a phosphorus atom, and Y2 represents a sulfur atom. Z − represents a halogen ion, PF 6 −, BF 4 − or R 8 SO 3 −. R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R3, R4, R5 and R7 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group, aromatic group or aralkyl group to which a substituent may be bonded; 10 alkylidyne groups or substituted alkylidines are represented, and R3 and R4 or R6 and R7 may be bonded to each other to form a ring. j, k, and m each independently represent 0 or 1, but j and k are not 0 at the same time. Particularly preferably among the components having an onium group, K represents a phenylene group or a substituted phenylene group, and the substituent is a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. M represents an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms or an alkylene group having 1 to 2 carbon atoms linked by an oxygen atom. Z- represents a chlorine ion or R 8 SO 3- . R2 represents a hydrogen atom or a methyl group. j is 0 and k is 1.

<感光層>
上記中間層が形成される前の平版印刷版用支持体又は上記中間層が形成された平版印刷版用支持体に感光層を設けることにより、平版印刷版原版を得ることができる。
<Photosensitive layer>
A lithographic printing plate precursor can be obtained by providing a photosensitive layer on the lithographic printing plate support before the intermediate layer is formed or on the lithographic printing plate support on which the intermediate layer is formed.

感光層は、特に限定されないが、例えば、通常の可視光で露光する可視光露光型製版層、赤外線レーザ光等のレーザ光で露光するレーザ露光型製版層が挙げられる。以下、可視光露光型製版層及びレーザ露光型製版層について説明する。   Although a photosensitive layer is not specifically limited, For example, the visible light exposure type platemaking layer exposed with normal visible light, The laser exposure type platemaking layer exposed with laser beams, such as an infrared laser beam, are mentioned. Hereinafter, the visible light exposure type plate making layer and the laser exposure type plate making layer will be described.

(1)可視光露光型製版層
可視光露光型製版層は、感光性樹脂及び必要に応じて着色剤等を含有する組成物により形成することができる。感光性樹脂としては、光が当たると現像液に溶けるようになるポジ型感光性樹脂、光が当たると現像液に溶解しなくなるネガ型感光性樹脂が挙げられる。ポジ型感光性樹脂としては、例えば、キノンジアジド化合物、ナフトキノンジアジド化合物等のジアジド化合物と、フェノールノボラック樹脂、クレゾール−ノボラック樹脂等のフェノール樹脂との組み合わせが挙げられる。ネガ型感光性樹脂としては、例えば、ジアゾ樹脂(例えば、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等のアルデヒド類との縮合物)、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、前記ジアゾ樹脂の有機酸塩等のジアゾ化合物と、(メタ)アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等の結合剤との組み合わせ、(メタ)アクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂等のビニルポリマーと、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン等のビニル重合性化合物と、ベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等の光重合開始剤との組み合わせが挙げられる。
(1) Visible light exposure type plate making layer The visible light exposure type plate making layer can be formed of a composition containing a photosensitive resin and, if necessary, a colorant. Examples of the photosensitive resin include a positive photosensitive resin that dissolves in the developer when exposed to light, and a negative photosensitive resin that does not dissolve in the developer when exposed to light. Examples of the positive photosensitive resin include a combination of a diazide compound such as a quinone diazide compound or a naphthoquinone diazide compound and a phenol resin such as a phenol novolac resin or a cresol-novolak resin. Examples of the negative photosensitive resin include diazo compounds such as diazo resins (for example, condensation products of aromatic diazonium salts and aldehydes such as formaldehyde), inorganic acid salts of the diazo resins, and organic acid salts of the diazo resins. And combinations with binders such as (meth) acrylate resins, polyamide resins, polyurethane resins, vinyl polymers such as (meth) acrylate resins and polystyrene resins, and vinyl polymerizable compounds such as (meth) acrylate esters and styrene , A combination with a photopolymerization initiator such as a benzoin derivative, a benzophenone derivative, or a thioxanthone derivative.

上記着色剤としては、通常の色素のほか、露光により発色する露光発色色素、露光によりほとんど又は完全に無色になる露光消色色素等を用いることができる。露光発色色素としては、例えば、ロイコ色素が挙げられる。露光消色色素としては、例えば、トリフェニルメタン系色素、ジフェニルメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素、アントラキノン系色素が挙げられる。   As the colorant, in addition to ordinary dyes, an exposure coloring dye that develops color by exposure, an exposure decoloring dye that becomes almost or completely colorless by exposure, and the like can be used. Examples of the exposure coloring dye include a leuco dye. Examples of exposure decolorizing dyes include triphenylmethane dyes, diphenylmethane dyes, oxazine dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone dyes, azomethine dyes, and anthraquinone dyes.

可視光露光型製版層は、例えば、上記感光性樹脂と上記着色剤とを溶剤に配合した感光性樹脂溶液を塗布し、その後、乾燥させることにより形成することができる。感光性樹脂溶液に用いられる溶剤としては、上記感光性樹脂を溶解することができ、かつ、室温である程度の揮発性を有する溶剤が挙げられる。具体的には、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミド系溶剤、炭酸エステル系溶剤が挙げられる。アルコール系溶剤としては、例えば、エタノール、プロパノール、ブタノールが挙げられる。ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトンが挙げられる。エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸メチル、ギ酸エチルが挙げられる。エーテル系溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサンが挙げられる。グリコールエーテル系溶剤としては、例えば、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられる。アミド系溶剤としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドが挙げられる。炭酸エステル系溶剤としては、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、炭酸ジブチルが挙げられる。   The visible light exposure type plate-making layer can be formed, for example, by applying a photosensitive resin solution in which the photosensitive resin and the colorant are blended in a solvent, and then drying. Examples of the solvent used in the photosensitive resin solution include a solvent that can dissolve the photosensitive resin and has a certain degree of volatility at room temperature. Specific examples include alcohol solvents, ketone solvents, ester solvents, ether solvents, glycol ether solvents, amide solvents, and carbonate esters. Examples of the alcohol solvent include ethanol, propanol, and butanol. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isopropyl ketone, and diethyl ketone. Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, and ethyl formate. Examples of the ether solvent include tetrahydrofuran and dioxane. Examples of the glycol ether solvent include ethyl cellosolve, methyl cellosolve, and butyl cellosolve. Examples of the amide solvent include dimethylformamide and dimethylacetamide. Examples of the carbonate ester solvent include ethylene carbonate, propylene carbonate, diethyl carbonate, and dibutyl carbonate.

感光性樹脂溶液の塗布方法は、特に限定されず、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法等の従来公知の方法を用いることができる。   The coating method of the photosensitive resin solution is not particularly limited, and conventionally known methods such as a spin coating method, a wire bar coating method, a dip coating method, an air knife coating method, a roll coating method, and a blade coating method can be used. .

(2)レーザ露光型製版層
レーザ露光型製版層としては、例えば、レーザ光を照射した部分が残存するネガ型レーザ製版層、レーザ光を照射した部分が除去されるポジ型レーザ製版層、レーザ光を照射すると光重合する光重合型レーザ製版層が主なものとして挙げられる。
(2) Laser exposure type plate making layer Examples of the laser exposure type plate making layer include a negative type laser plate making layer in which a portion irradiated with laser light remains, a positive type laser plate making layer in which a portion irradiated with laser light is removed, and a laser. A main example is a photopolymerization type laser plate making layer that undergoes photopolymerization when irradiated with light.

ネガ型レーザ製版層は、(A)熱又は光により分解して酸を発生させる酸前駆体、(B)酸前駆体(A)が分解して発生した酸により架橋する酸架橋性化合物、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)赤外線吸収剤、及び(E)フェノール性水酸基含有化合物を適当な溶剤に溶解させ、又は懸濁させたネガ型レーザ製版層形成液を用いて形成することができる。   The negative type laser plate-making layer comprises: (A) an acid precursor that decomposes with heat or light to generate an acid; (B) an acid crosslinkable compound that crosslinks with an acid generated by decomposition of the acid precursor (A); C) An alkali-soluble resin, (D) an infrared absorber, and (E) a phenolic hydroxyl group-containing compound can be formed using a negative type laser plate-making layer forming solution dissolved or suspended in an appropriate solvent. .

酸前駆体(A)としては、例えば、イミノフォスフェート化合物のように、紫外光、可視光又は熱により分解してスルホン酸を発生させる化合物が挙げられる。ほかには、光カチオン重合開始剤、光ラジカル重合開始剤、光変色剤等として一般に使用されている化合物も、酸前駆体(A)として用いることができる。酸架橋性化合物(B)としては、例えば、アルコキシメチル基及びヒドロキシル基のうち少なくとも一方を有する芳香族化合物、N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基又はN−アシルオキシメチル基を有する化合物、エポキシ化合物が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂(C)としては、例えば、ノボラック樹脂、ポリ(ヒドロシスチレン)等の側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーが挙げられる。   As an acid precursor (A), the compound which decomposes | disassembles with an ultraviolet light, visible light, or a heat | fever like an iminophosphate compound, for example is mentioned. In addition, compounds generally used as a cationic photopolymerization initiator, a radical photopolymerization initiator, a photochromic agent, and the like can also be used as the acid precursor (A). Examples of the acid crosslinkable compound (B) include an aromatic compound having at least one of an alkoxymethyl group and a hydroxyl group, a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group, or an N-acyloxymethyl group, and an epoxy. Compounds. Examples of the alkali-soluble resin (C) include polymers having a hydroxyaryl group in the side chain, such as a novolak resin and poly (hydroxystyrene).

赤外線吸収剤(D)としては、例えば、波長760〜1200nmの赤外線を吸収する染料及び顔料が挙げられる。具体的には、例えば、黒色顔料、赤色顔料、金属粉顔料、フタロシアニン系顔料;前記波長の赤外線を吸収するアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、シアニン色素が挙げられる。フェノール性水酸基含有化合物(E)としては、例えば、一般式(R1−X)n−Ar−(OH)m(式中、R1は、炭素数6〜32のアルキル基又はアルケニル基であり、Xは、単結合、O、S、COO又はCONHであり、Arは、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基であり、n及びmは、それぞれ1〜8の自然数である。)で表される化合物が挙げられる。そのような化合物としては、例えば、ノニルフェノール等のアルキルフェノール類が挙げられる。ネガ型レーザ製版層形成液には、上記各成分のほかに、可塑剤等を配合することもできる。   As an infrared absorber (D), the dye and pigment which absorb the infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm are mentioned, for example. Specific examples include black pigments, red pigments, metal powder pigments, phthalocyanine pigments; azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, and cyanine dyes that absorb infrared rays having the above wavelengths. Examples of the phenolic hydroxyl group-containing compound (E) include, for example, the general formula (R1-X) n-Ar- (OH) m (wherein R1 is an alkyl group or alkenyl group having 6 to 32 carbon atoms; Is a single bond, O, S, COO or CONH, Ar is an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group or a heterocyclic group, and n and m are natural numbers of 1 to 8, respectively. .). Examples of such compounds include alkylphenols such as nonylphenol. In addition to the above components, a plasticizer or the like can also be blended in the negative type laser plate making layer forming liquid.

ポジ型レーザ製版層は、(F)アルカリ可溶性高分子、(G)アルカリ溶解阻害剤、及び(H)赤外線吸収剤を適当な溶剤に溶解させ、又は懸濁させたポジ型レーザ製版層形成液を用いて形成することができる。アルカリ可溶性高分子(F)としては、例えば、フェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラック樹脂、ピロガロール樹脂、ポリ(ヒドロキシスチレン)等のフェノール性水酸基を有するフェノール系ポリマー;少なくとも一部のモノマー単位がスルホンアミド基を有するポリマーであるスルホンアミド基含有ポリマー;N−(p−トルエンスルホニル)(メタ)アクリルアミド基等の活性イミド基を有するモノマーの単独重合又は共重合により得られる活性イミド基含有ポリマーが挙げられる。   The positive type laser plate making layer is a positive type laser plate making layer solution in which (F) an alkali-soluble polymer, (G) an alkali dissolution inhibitor, and (H) an infrared absorber are dissolved or suspended in an appropriate solvent. Can be used. Examples of the alkali-soluble polymer (F) include phenolic polymers having a phenolic hydroxyl group such as phenol resin, cresol resin, novolac resin, pyrogallol resin, poly (hydroxystyrene); and at least some of the monomer units are sulfonamide groups. Examples thereof include sulfonamide group-containing polymers that are polymers having active imide groups; active imide group-containing polymers obtained by homopolymerization or copolymerization of monomers having an active imide group such as N- (p-toluenesulfonyl) (meth) acrylamide group.

アルカリ溶解阻害剤(G)としては、例えば、加熱等によりアルカリ可溶性高分子(F)と反応してアルカリ可溶性高分子(F)のアルカリ溶解性を低下させる化合物が挙げられる。具体的には、例えば、スルホン化合物、アンモニウム塩、スルホニウム塩、アミド化合物が挙げられる。アルカリ可溶性高分子(F)とアルカリ溶解阻害剤(G)の組み合わせとしては、アルカリ可溶性高分子(F)としてノボラック樹脂、アルカリ溶解阻害剤(G)としてスルホン化合物の一種であるシアニン色素の組み合わせが好適に挙げられる。赤外線吸収剤(H)としては、例えば、スクワリリウム色素、ピリリウム色素、カーボンブラック、不溶性アゾ染料、アントラキノン系染料等の波長750〜1200nmの赤外域に吸収領域があり、光/熱変換能を有する色素、染料及び顔料が挙げられる。   Examples of the alkali dissolution inhibitor (G) include compounds that react with the alkali-soluble polymer (F) by heating or the like to reduce the alkali solubility of the alkali-soluble polymer (F). Specific examples include sulfone compounds, ammonium salts, sulfonium salts, and amide compounds. As a combination of the alkali-soluble polymer (F) and the alkali dissolution inhibitor (G), a combination of a novolak resin as the alkali-soluble polymer (F) and a cyanine dye which is a kind of sulfone compound as the alkali dissolution inhibitor (G). Preferably mentioned. Examples of the infrared absorber (H) include dyes having an absorption region in the infrared region with a wavelength of 750 to 1200 nm, such as squarylium dye, pyrylium dye, carbon black, insoluble azo dye, and anthraquinone dye, and having light / heat conversion ability. , Dyes and pigments.

光重合型レーザ製版層は、(I)分子末端にエチレン性不飽和結合を有するビニル重合性化合物を含有する光重合型レーザ製版層形成液を用いて形成することができる。光重合型レーザ製版層形成液には、必要に応じて、(J)光重合開始剤、(K)増感剤等を配合することができる。ビニル重合性化合物(I)としては、例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコールとのエステルであるエチレン性不飽和カルボン酸多価エステル;前記エチレン性不飽和カルボン酸と多価アミンとからなるメチレンビス(メタ)アクリルアミド;キシリレン(メタ)アクリルアミド等のエチレン性不飽和カルボン酸多価アミドが挙げられる。ビニル重合性化合物(I)としては、ほかに、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等のエチレン性不飽和カルボン酸モノエステルが挙げられる。光重合開始剤(J)としては、ビニル系モノマーの光重合に通常使用される光重合開始剤を用いることができる。増感剤(K)としては、例えば、チタノセン化合物、トリアジン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、シアニン色素、メロシアニン色素、キサンテン色素、クマリン色素が挙げられる。   The photopolymerization type laser plate making layer can be formed using (I) a photopolymerization type laser plate making layer containing a vinyl polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond at the molecular end. In the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, (J) a photopolymerization initiator, (K) a sensitizer, and the like can be blended as necessary. Examples of the vinyl polymerizable compound (I) include an ethylenically unsaturated carboxylic acid polyvalent ester which is an ester of an ethylenically unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, itaconic acid and maleic acid and an aliphatic polyhydric alcohol. Examples include esters; ethylenically unsaturated carboxylic acid polyvalent amides such as methylene bis (meth) acrylamide; xylylene (meth) acrylamide composed of the ethylenically unsaturated carboxylic acid and polyvalent amine. Other examples of the vinyl polymerizable compound (I) include aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene; ethylenically unsaturated carboxylic acid monoesters such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate. Can be mentioned. As a photoinitiator (J), the photoinitiator normally used for photopolymerization of a vinyl-type monomer can be used. Examples of the sensitizer (K) include titanocene compounds, triazine compounds, benzophenone compounds, benzimidazole compounds, cyanine dyes, merocyanine dyes, xanthene dyes, and coumarin dyes.

上述したネガ型レーザ製版層形成液、ポジ型レーザ製版層形成液及び光重合型レーザ製版層形成液に使用される溶剤、ならびに、ネガ型レーザ製版層形成液、ポジ型レーザ製版層形成液及び光重合型レーザ製版層形成液の塗布方法については、上記感光性樹脂溶液について挙げた溶剤及び塗布方法を用いることができる。尚、光重合型レーザ製版層を形成させる場合においては、シラン化合物を水、アルコール又はカルボン酸で部分分解して得られる部分分解型シラン化合物等の反応性官能基を有するシリコーン化合物を用いて、平版印刷版用支持体の粗面化処理面を予め処理しておくと、支持体と光重合型レーザ製版層との接着性が向上するので、好ましい。   Solvents used in the negative type laser plate making layer forming liquid, the positive type laser plate making layer forming solution and the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, and the negative type laser plate making layer forming solution, the positive type laser plate making layer forming solution, and For the coating method of the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, the solvents and coating methods mentioned for the photosensitive resin solution can be used. In the case of forming a photopolymerization laser plate making layer, using a silicone compound having a reactive functional group such as a partially decomposed silane compound obtained by partially decomposing a silane compound with water, alcohol or carboxylic acid, It is preferable to treat the roughened surface of the lithographic printing plate support in advance, since the adhesion between the support and the photopolymerization laser plate making layer is improved.

<マット層>
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、かつ、焼きボケを防止するため、マット層が設けられてもよい。具体的には、特開昭50−125805号公報、特公昭57−6582号公報、同61−28986号公報に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭62−62337号公報に記載されているような固体粉末を熱蒸着させる方法等が挙げられる。
<Matte layer>
The surface of the photosensitive layer provided as described above may be provided with a matte layer in order to reduce the time for evacuation during close contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent printing blur. Good. Specifically, a method for providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582, and JP-A-61-2986, and JP-B-62-62337. And a method of thermally depositing a solid powder as described above.

<バックコート層>
上述したようにして得られる平版印刷版原版には、重ねても感光層が傷付かないように、裏面(感光層が設けられない側の面)に、有機高分子化合物からなる被覆層(以下「バックコート層」ともいう。)を必要に応じて設けてもよい。バックコート層の主成分としては、ガラス転移点が20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂及び塩化ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を用いるのが好ましい。
<Back coat layer>
In the planographic printing plate precursor obtained as described above, a coating layer (hereinafter referred to as an organic polymer compound) is formed on the back surface (the surface on which the photosensitive layer is not provided) so that the photosensitive layer is not damaged even if it is stacked. (Also referred to as “backcoat layer”) may be provided as necessary. As the main component of the backcoat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin, and a vinylidene chloride copolymer resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used. Is preferred.

飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。   The saturated copolyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit. Examples of the dicarboxylic acid unit include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, and tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid, suberic acid, and sebacic acid , Saturated aliphatic dicarboxylic acids such as malonic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

バックコート層は、更に、着色のための染料や顔料、支持体との密着性を向上させるためのシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜含有することができる。   The backcoat layer further comprises a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving the adhesion to the support, a diazo resin comprising a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid, a cationic polymer, Wax, higher fatty acids, higher fatty acid amides, silicone compounds composed of dimethylsiloxane, modified dimethylsiloxane, polyethylene powder and the like that are usually used as slipping agents can be appropriately contained.

バックコート層の厚さは、基本的には合紙がなくても、感光層を傷付けにくい程度であればよく、0.01〜8μmであるのが好ましい。厚さが0.01μm未満であると、平版印刷版原版を重ねて取り扱った場合の感光層の擦れ傷を防ぐことが困難である。また、厚さが8μmを超えると、印刷中、平版印刷版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させることがある。   The thickness of the backcoat layer may be basically a level that does not damage the photosensitive layer even without interleaf, and is preferably 0.01 to 8 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, it is difficult to prevent the photosensitive layer from being scratched when the planographic printing plate precursors are handled in layers. On the other hand, when the thickness exceeds 8 μm, the backcoat layer swells due to chemicals used around the lithographic printing plate during printing, the thickness varies, and the printing pressure may change to deteriorate the printing characteristics.

バックコート層を平版印刷版原版の裏面に設ける方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、又は乳化分散液して塗布し、乾燥する方法;予めフイルム状に成形したものを接着剤や熱での平版印刷版原版に貼り合わせる方法;溶融押出機で溶融被膜を形成し、平版印刷版原版に貼り合わせる方法が挙げられる。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいのは、バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、乾燥する方法である。   Various methods can be used for providing the backcoat layer on the back surface of the lithographic printing plate precursor. For example, a method in which the above components for the back coat layer are dissolved in an appropriate solvent and applied as a solution, or an emulsified dispersion is applied and dried; lithographic printing using a film-shaped material previously formed with an adhesive or heat A method of bonding to a plate precursor; a method of forming a melt film with a melt extruder and bonding to a lithographic printing plate precursor. The most preferable method for securing a suitable thickness is a method in which the components for the backcoat layer are dissolved in an appropriate solvent, applied as a solution, and dried.

平版印刷版原版の製造においては、裏面のバックコート層と表面の感光層のどちらを先に支持体上に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。   In the production of a lithographic printing plate precursor, either the back coat layer on the back surface or the photosensitive layer on the front surface may be provided on the support first, or both may be provided simultaneously.

このようにして得られた平版印刷版原版を、必要に応じて、適当な大きさに裁断して、露光し現像して製版することにより、平版印刷版が得られる。可視光露光型製版層(感光性製版層)を設けた平版印刷版原版の場合には、印刷画像が形成された透明フイルムを重ねて通常の可視光を照射することにより露光し、その後、現像を行うことにより製版することができる。レーザ露光型製版層を設けた平版印刷版原版の場合には、各種レーザ光を照射して印刷画像を直接書き込むことにより露光し、その後、現像することにより製版することができる。   The lithographic printing plate precursor thus obtained is cut into an appropriate size, if necessary, exposed and developed to produce a lithographic printing plate. In the case of a lithographic printing plate precursor provided with a visible light exposure type plate-making layer (photosensitive plate-making layer), the transparent film on which the printed image is formed is overlaid and exposed by irradiating with normal visible light, and then developed. It is possible to make a plate by performing. In the case of a lithographic printing plate precursor provided with a laser exposure type plate making layer, exposure can be performed by directly writing a printed image by irradiating various types of laser light, and then developing can be carried out.

以上、平版印刷版用支持体の製造方法に本発明を適用する例について説明したが、金属板の表面を電解粗面化処理する工程を備えたその他の技術分野にも、本発明を適用できる。   As mentioned above, although the example which applies this invention to the manufacturing method of the support body for lithographic printing plates was demonstrated, this invention is applicable also to the other technical field provided with the process of carrying out the electrolytic roughening process on the surface of a metal plate. .

[実施例]
次に、実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example.

図2を参照して説明する。図2は、本発明に係る電解粗面化方法に用いられる装置系の一例を示す説明図である。100×100×100mmの大きさの容器200中で、硝酸溶液を用いた交流による電解粗面化処理を実施した。   This will be described with reference to FIG. FIG. 2 is an explanatory view showing an example of an apparatus system used in the electrolytic surface roughening method according to the present invention. In a container 200 having a size of 100 × 100 × 100 mm, an electrolytic surface roughening treatment was performed by alternating current using a nitric acid solution.

図2に示す装置系において、硝酸溶液210の濃度を10g/l、液温を35℃に設定し、硝酸溶液210に窒素ガス220を注入することにより窒素パージを行った。窒素パージにより硝酸溶液210中の溶存酸素濃度を調整した。溶存酸素濃度は溶存酸素計(セントラル科学株式会社製)で測定した。   In the apparatus system shown in FIG. 2, the concentration of the nitric acid solution 210 was set to 10 g / l, the liquid temperature was set to 35 ° C., and nitrogen gas 220 was injected into the nitric acid solution 210 to perform nitrogen purging. The dissolved oxygen concentration in the nitric acid solution 210 was adjusted by nitrogen purge. The dissolved oxygen concentration was measured with a dissolved oxygen meter (manufactured by Central Science Co., Ltd.).

アルミニウム支持体230とカーボン電極240とを硝酸溶液210中でそれぞれの平面同士を対向させて配置し、アルミニウム支持体230とカーボン電極240とをそれぞれ交流電源250に接続した。アルミニウム支持体230とカーボン電極240との間の距離は10mmとした。また、アルミニウム支持体230は、アルミニウム材としてA1050を使用した。   The aluminum support 230 and the carbon electrode 240 were arranged in the nitric acid solution 210 with their respective planes facing each other, and the aluminum support 230 and the carbon electrode 240 were connected to the AC power source 250, respectively. The distance between the aluminum support 230 and the carbon electrode 240 was 10 mm. The aluminum support 230 used A1050 as an aluminum material.

1%の硝酸溶液210が静止した状態でアルミニウム支持体230を電解粗面化処理した。交流電解電流密度を35A/dm2、総電気量を240C/dm2とした。このとき、電解粗面化処理は、パラメータとして硝酸溶液210中の溶存酸素濃度を変更して行った。溶存酸素の変更は、上述したように窒素パージによって行った。 The aluminum support 230 was subjected to an electrolytic surface roughening treatment while the 1% nitric acid solution 210 was stationary. The AC electrolysis current density was 35 A / dm 2 and the total electricity was 240 C / dm 2 . At this time, the electrolytic surface roughening treatment was performed by changing the dissolved oxygen concentration in the nitric acid solution 210 as a parameter. The dissolved oxygen was changed by nitrogen purge as described above.

粗面化されたアルミニウム支持体230表面のSEM写真撮影を行い、表面を観察することにより、ピットの均一性を評価した。評価結果を表1に示す。この時撮影したSEM写真を図3、図4に示す。図3は、硝酸溶液210中の溶存酸素を除去せずに電解粗面化処理を行ったアルミニウム支持体表面のSEM写真である。図4は、硝酸溶液210中の溶存酸素を除去し、溶存酸素濃度が3mg/lで電解粗面化処理を行ったアルミニウム支持体表面のSEM写真である。   SEM photography was performed on the surface of the roughened aluminum support 230, and the uniformity of the pits was evaluated by observing the surface. The evaluation results are shown in Table 1. SEM photographs taken at this time are shown in FIGS. FIG. 3 is an SEM photograph of the surface of an aluminum support that has been subjected to electrolytic surface roughening without removing dissolved oxygen in the nitric acid solution 210. FIG. 4 is an SEM photograph of the surface of an aluminum support from which dissolved oxygen in the nitric acid solution 210 was removed and electrolytic surface roughening was performed with a dissolved oxygen concentration of 3 mg / l.

ピット平均径とピット密度は、174×254μmのSEM写真を解析することにより算出した。ピット均一性の評価レベルとしては、比較例を基準に以下の4段階評価とした。 The average pit diameter and pit density were calculated by analyzing a 174 × 254 μm SEM photograph. As the evaluation level of pit uniformity, the following four-level evaluation was made based on the comparative example.

○…………ピット均一性優良
○〜○△…ピット均一性良
○△〜△…ピット均一性やや良
△…………ピット均一性可
この表1から分かるように、溶存酸素濃度6mg/l以下の硝酸溶液中で電解祖面化処理を行うことが好ましい。これにより、ピット平均径が小さく、ピット密度が大きく、ピットの均一性が良好なアルミニウム支持体を製造することができる。
○ ………… Excellent pit uniformity ○ ~ ○ △… Good pit uniformity ○ △ ~ △… Slightly good pit uniformity △ ………… Pit uniformity acceptable As shown in Table 1, dissolved oxygen concentration 6mg / It is preferable to perform the electrolytic surface treatment in a nitric acid solution of l or less. As a result, an aluminum support having a small pit average diameter, a large pit density, and good pit uniformity can be produced.

また、溶存酸素濃度が3mg/l以下の硝酸溶液中で電解祖面化処理を行うことが更に好ましく、溶存酸素濃度が1mg/l以下の硝酸溶液中で電解祖面化処理を行うことが最も好ましい。これにより、ピット平均径が小さく、ピット密度が更に大きく、かつ、ピットの均一性が更に良好なアルミニウム支持体を製造することができる。   Further, it is more preferable to perform the electrolytic surface treatment in a nitric acid solution having a dissolved oxygen concentration of 3 mg / l or less, and most preferably to perform the electrolytic surface treatment in a nitric acid solution having a dissolved oxygen concentration of 1 mg / l or less. preferable. Thereby, an aluminum support having a small pit average diameter, a larger pit density, and a better pit uniformity can be manufactured.

ここで、図3、図4を比較する。図3は表1の比較例の条件で製造したアルミニウム支持体表面のSEM写真であり、図4は表1の実施例2の条件で製造したアルミニウム支持体表面のSEM写真である。   Here, FIG. 3 and FIG. 4 are compared. FIG. 3 is an SEM photograph of the aluminum support surface manufactured under the conditions of the comparative example in Table 1, and FIG. 4 is an SEM photograph of the aluminum support surface manufactured under the conditions of Example 2 in Table 1.

図3、図4より明らかに、実施例2の条件で製造したものの方が、比較例の条件で製造したものよりも、ピット平均径が小さく、ピット密度が大きく、均一である。   As apparent from FIGS. 3 and 4, the sample manufactured under the conditions of Example 2 has a smaller pit average diameter, a larger pit density, and is uniform than the sample manufactured under the conditions of the comparative example.

〔平版印刷版用支持体としての利用〕
(酸性水溶液中でのデスマット処理)
得られた粗面化処理されたアルミニウム板に、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン濃度5g/L、温度50℃の水溶液をスプレー管から吹き付けて、5秒間デスマット処理を行った。硫酸水溶液としては、後述する陽極酸化処理工程の廃液を用いた。
[Use as a support for lithographic printing plates]
(Desmutting treatment in acidic aqueous solution)
The obtained roughened aluminum plate was sprayed with an aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 170 g / L, an aluminum ion concentration of 5 g / L, and a temperature of 50 ° C. from a spray tube to perform desmutting treatment for 5 seconds. As the sulfuric acid aqueous solution, the waste liquid of the anodizing process described later was used.

その後、ニップローラで液切りした。液切り後、水洗処理を行わずに、陽極酸化処理工程に供した。   Then, the liquid was drained with a nip roller. After draining, it was subjected to an anodizing treatment step without performing a water washing treatment.

(陽極酸化処理)
電解液としては、170g/L硫酸水溶液に硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を5g/Lとした電解液(温度50℃)を用いた。陽極酸化処理は、アルミニウム板がアノード反応する間の平均電流密度が15A/dm2となるように行い、最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(Anodizing treatment)
As the electrolytic solution, an electrolytic solution (temperature: 50 ° C.) in which aluminum sulfate was dissolved in a 170 g / L sulfuric acid aqueous solution to have an aluminum ion concentration of 5 g / L was used. The anodizing treatment was performed so that the average current density during the anodic reaction of the aluminum plate was 15 A / dm 2 , and the final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

その後、ニップローラで液切りし、更に、扇状に噴射水が広がるスプレーチップを有するスプレー管を用いて5秒間水洗処理し、更に、ニップローラで液切りした。   Thereafter, the liquid was drained with a nip roller, and further washed with water for 5 seconds using a spray tube having a spray tip in which spray water spread in a fan shape, and further drained with a nip roller.

(親水化処理)
アルミニウム板をケイ酸ソーダ1質量%水溶液(温度20℃)に10秒間浸せきさせた。蛍光X線分析装置で測定したアルミニウム板表面のSi量は、3.5mg/m2であった。その後、ニップローラで液切りし、更に、扇状に噴射水が広がるスプレーチップを有するスプレー管を用いて5秒間水洗処理し、更に、ニップローラで液切りした。更に、90℃の風を10秒間吹き付けて乾燥させて、平版印刷版用支持体を得た。
(Hydrophilic treatment)
The aluminum plate was immersed in a 1% by weight aqueous solution of sodium silicate (temperature: 20 ° C.) for 10 seconds. The amount of Si on the surface of the aluminum plate measured with a fluorescent X-ray analyzer was 3.5 mg / m 2 . Thereafter, the liquid was drained with a nip roller, and further washed with water for 5 seconds using a spray tube having a spray tip in which spray water spread in a fan shape, and further drained with a nip roller. Furthermore, 90 degreeC wind was sprayed for 10 seconds, it was made to dry, and the support body for lithographic printing plates was obtained.

平版印刷版原版の作製
上記で得られた各平版印刷版用支持体に、以下のようにしてサーマルポジタイプの画像記録層を設けて平版印刷版原版を得た。尚、画像記録層を設ける前には、後述するように下塗層を設けた。
Preparation of lithographic printing plate precursor A lithographic printing plate precursor was obtained by providing each lithographic printing plate support obtained above with a thermal positive type image recording layer as follows. Before providing the image recording layer, an undercoat layer was provided as described later.

平版印刷版用支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、下塗層の塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。 An undercoat solution having the following composition was applied onto a lithographic printing plate support and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film of an undercoat layer. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

<下塗液組成>
・下記高分子化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
<Undercoat liquid composition>
・ The following polymer compound 0.3g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

更に、下記組成の感熱層塗布液を調製し、下塗層を設けた平版印刷版用支持体に、この感熱層塗布液を乾燥後の塗布量(感熱層塗布量)が1.8g/m2になるよう塗布し、乾燥させて感熱層(サーマルポジタイプの画像記録層)を形成させ、平版印刷版原版を得た。 Furthermore, a heat-sensitive layer coating solution having the following composition was prepared, and the coating amount after drying the heat-sensitive layer coating solution (heat-sensitive layer coating amount) on a lithographic printing plate support provided with an undercoat layer was 1.8 g / m. 2 was applied and dried to form a heat sensitive layer (thermal positive type image recording layer) to obtain a lithographic printing plate precursor.

<感熱層塗布液組成>
・ノボラック樹脂(m−クレゾール/p−クレゾール=60/40、重量平均分子量7,000、未反応クレゾール0.5質量%含有) 0.90g
・メタクリル酸エチル/メタクリル酸イソブチル/メタクリル酸共重合体(モル比35/35/30) 0.10g
・下記構造式で表されるシアニン染料A 0.1g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g
・p−トルエンスルホン酸 0.002g
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの 0.02g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780F、大日本インキ化学工業社製、固形分30質量%) 0.0045g(固形分換算)
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−781F、大日本インキ化学工業社製、固形分100質量%) 0.035g
・メチルエチルケトン 12g
<Thermosensitive layer coating solution composition>
Novolak resin (m-cresol / p-cresol = 60/40, weight average molecular weight 7,000, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.90 g
・ Ethyl methacrylate / isobutyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (molar ratio 35/35/30) 0.10 g
-Cyanine dye A 0.1 g represented by the following structural formula
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.05g
・ 0.002 g of p-toluenesulfonic acid
-Ethyl violet counter ion with 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid 0.02 g
・ Fluorosurfactant (Megafac F-780F, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, solid content: 30% by mass) 0.0045 g (solid content conversion)
・ Fluorosurfactant (Megafac F-781F, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., solid content: 100% by mass) 0.035 g
・ Methyl ethyl ketone 12g

平版印刷版原版の評価
得られた平版印刷版原版について露光・現像の感度、及び、上層との密着性について評価を行った。
Evaluation of lithographic printing plate precursor The obtained lithographic printing plate precursor was evaluated for exposure / development sensitivity and adhesion to the upper layer.

(1)露光・現像の感度評価
得られた平版印刷版原版をCreo社製TrendSetterを用いてドラム回転速度150rpm、ビーム強度10Wで画像状に描き込みを行った。その後、下記組成のアルカリ現像液を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー940Hを用い、液温を30℃に保ち、現像時間20秒で現像し、平版印刷版を得た。
(1) Sensitivity evaluation of exposure / development The obtained lithographic printing plate precursor was drawn in an image using a TrendSetter manufactured by Creo at a drum rotation speed of 150 rpm and a beam intensity of 10 W. Thereafter, using a PS processor 940H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., charged with an alkali developer having the following composition, the solution temperature was maintained at 30 ° C. and development was performed for 20 seconds to obtain a lithographic printing plate.

その結果、上記、表1の実施例1〜3,比較例のいずれの条件で作製した平版印刷版原版も感度は良好であった。   As a result, the sensitivity of the lithographic printing plate precursor produced under any of the conditions of Examples 1 to 3 and Comparative Example in Table 1 was also good.

上記露光・現像の感度評価に用いたアルカリ現像液の組成を以下に示す。   The composition of the alkaline developer used for the sensitivity evaluation of the exposure / development is shown below.

<アルカリ現像液組成>
・D−ソルビット 2.5質量%
・水酸化ナトリウム 0.85質量%
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル(重量平均分子量1,000) 0.5質量%
・水 96.15質量%
(2)上層との密着性評価(耐刷性評価)
次に、上層との密着性評価を行った。ここで、上層との密着性評価とは、ピットが形成されたアルミニウム支持体表面と、そのアルミニウム支持体表面の上に形成された層との密着性を評価するものである。ここで、上層との密着性は耐刷性を評価することにより判断した。耐刷性の評価は、各条件(表1の実施例1〜3、比較例)での印刷可能枚数を評価することにより行い、比較例の印刷可能枚数を100%としたときの指数で表した。
<Alkali developer composition>
・ D-Sorbit 2.5% by mass
-Sodium hydroxide 0.85 mass%
・ Polyethylene glycol lauryl ether (weight average molecular weight 1,000) 0.5 mass%
・ Water 96.15% by mass
(2) Adhesion evaluation with upper layer (printing durability evaluation)
Next, adhesion evaluation with the upper layer was performed. Here, the adhesion evaluation with the upper layer is to evaluate the adhesion between the surface of the aluminum support on which pits are formed and the layer formed on the surface of the aluminum support. Here, the adhesion with the upper layer was judged by evaluating the printing durability. Evaluation of printing durability is performed by evaluating the number of printable sheets under each condition (Examples 1 to 3 in Table 1, comparative example), and is expressed as an index when the printable number of sheets in the comparative example is 100%. did.

〔耐刷試験の条件〕
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、通常耐刷性を評価した。
[Conditions for printing durability test]
The resulting lithographic printing plate was printed on a Lithrone printing machine manufactured by Komori Corporation using DIC-GEOS (N) black ink manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. Usually, printing durability was evaluated by the number of printed sheets at the time when it was visually recognized.

[試験結果]
試験結果を表2に示す(溶存酸素処理をしていない場合の耐刷枚数を指数100とした)。この表において、各実施例1〜3、比較例は、表1の各実施例1〜3、比較例と同じ条件で電解祖面化処理を行ったサンプルである。
[Test results]
The test results are shown in Table 2 (the printing durability when the dissolved oxygen treatment is not performed is taken as index 100). In this table, Examples 1 to 3 and Comparative Examples are samples that were subjected to electrolytic surface formation treatment under the same conditions as Examples 1 to 3 and Comparative Examples in Table 1.

表2に示されるように、実施例1〜3は、すべて比較例よりも耐刷性が向上した。これは、硝酸溶液中の溶存酸素濃度を低下させることにより、ピットの均一性が向上して、上層との密着性が良くなることにより耐刷性が向上したものと考えられる。これにより、アルミニウムウェブWを酸性電解液中に搬送しつつ交番波形電流により連続的に交流電解処理する際に、大きさの均一なピットを形成させることが可能となり、耐刷性を効果的に向上させることができることが立証された。   As shown in Table 2, in Examples 1 to 3, the printing durability was improved as compared with the comparative example. It is considered that this is because the pit uniformity is improved by reducing the dissolved oxygen concentration in the nitric acid solution, and the printing durability is improved by improving the adhesion to the upper layer. This makes it possible to form pits of uniform size when the aluminum web W is continuously AC electrolyzed with an alternating waveform current while conveying the aluminum web W into the acidic electrolyte, thereby effectively improving the printing durability. It was proved that it can be improved.

特に、実施例1〜3の結果から分かるように、溶存酸素濃度が1mg/l以下で最も効果の
あることが分かる。このことから、硝酸液中の溶存酸素を除去することがピットの均一性、つまり耐刷性に寄与していることが分かる。
In particular, as can be seen from the results of Examples 1 to 3, it can be seen that the dissolved oxygen concentration is most effective when the concentration is 1 mg / l or less. This shows that removal of dissolved oxygen in the nitric acid solution contributes to pit uniformity, that is, printing durability.

一方、溶存酸素を除去しなかった比較例は、耐刷性が乏しくなることが分かった。   On the other hand, it turned out that the comparative example which did not remove dissolved oxygen becomes poor in printing durability.

10…電解粗面化処理装置、12…電解槽本体、12A…電解槽、12B…開口部、12C…溢流槽、14…ローラ、16A…電極、18A…小電極、20A…絶縁層、20C…電極ホルダー、22…酸性電解液補充流路、24A…上流側案内ローラ、24B…下流側案内ローラ、26…直流電流部、28…補助電解槽、28A…底面、29…補助電極、29…補助電極、200…容器、210…硝酸溶液、220…窒素ガス、230…アルミニウム支持体、240…カーボン電極、250…交流電源   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Electrolytic surface roughening apparatus, 12 ... Electrolyzer main body, 12A ... Electrolyzer, 12B ... Opening part, 12C ... Overflow tank, 14 ... Roller, 16A ... Electrode, 18A ... Small electrode, 20A ... Insulating layer, 20C DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Electrode holder, 22 ... Acid electrolyte replenishment flow path, 24A ... Upstream guide roller, 24B ... Downstream guide roller, 26 ... Direct current part, 28 ... Auxiliary electrolytic cell, 28A ... Bottom, 29 ... Auxiliary electrode, 29 ... Auxiliary electrode, 200 ... container, 210 ... nitric acid solution, 220 ... nitrogen gas, 230 ... aluminum support, 240 ... carbon electrode, 250 ... AC power supply

Claims (7)

アルミニウム支持体の電解粗面化処理を行う電解粗面化処理工程を有する平版印刷版原版の製造方法であって、
前記電解粗面化処理工程は、溶存酸素濃度が6.0mg/l以下の酸性溶液の中で電解処理が行われる平版印刷版原版の製造方法。
A method for producing a lithographic printing plate precursor having an electrolytic surface roughening treatment step of performing an electrolytic surface roughening treatment on an aluminum support,
The electrolytic surface-roughening treatment step is a method for producing a lithographic printing plate precursor in which the electrolytic treatment is performed in an acidic solution having a dissolved oxygen concentration of 6.0 mg / l or less.
前記電解処理が、交流電解処理、又はアノード反応による直流電解処理であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版の製造方法。   2. The method for producing a lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the electrolytic treatment is alternating current electrolytic treatment or direct current electrolytic treatment by an anode reaction. 前記酸性溶液に含まれる酸素を、膜脱気、窒素パージ、減圧のいずれかの方法で除去することにより、溶存酸素濃度を6.0mg/l以下に調整する請求項1又は2に記載の平版印刷版原版の製造方法。   3. The lithographic plate according to claim 1, wherein the dissolved oxygen concentration is adjusted to 6.0 mg / l or less by removing oxygen contained in the acidic solution by any one of membrane degassing, nitrogen purging, and decompression. A method for producing a printing plate precursor. アルミニウム支持体を溶存酸素濃度が6.0mg/l以下の酸性溶液の中で電解処理するアルミニウム支持体表面の粗面化方法。   A method for roughening a surface of an aluminum support, comprising subjecting the aluminum support to electrolytic treatment in an acidic solution having a dissolved oxygen concentration of 6.0 mg / l or less. 前記電解処理が、交流電解処理、又はアノード反応による直流電解処理であることを特徴とする請求項4に記載のアルミニウム支持体表面の粗面化方法。   The method for roughening an aluminum support surface according to claim 4, wherein the electrolytic treatment is an alternating current electrolytic treatment or a direct current electrolytic treatment by an anode reaction. 前記酸性溶液に含まれる酸素を、膜脱気、窒素パージ、減圧のいずれかの方法で除去することにより、溶存酸素濃度を6.0mg/l以下に調整する請求項4又は5に記載のアルミニウム支持体表面の粗面化方法。   The aluminum according to claim 4 or 5, wherein the dissolved oxygen concentration is adjusted to 6.0 mg / l or less by removing oxygen contained in the acidic solution by any one of membrane degassing, nitrogen purging, and decompression. A method for roughening the surface of a support. 前記アルミニウム支持体が、平版印刷版用の支持体であることを特徴とする請求項4〜6のいずれか一項に記載のアルミニウム支持体表面の粗面化方法。   The said aluminum support body is a support body for lithographic printing plates, The roughening method of the aluminum support body surface as described in any one of Claims 4-6 characterized by the above-mentioned.
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