JP2002362046A - Method for manufacturing support for lithographic printing plate - Google Patents

Method for manufacturing support for lithographic printing plate

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JP2002362046A
JP2002362046A JP2001173968A JP2001173968A JP2002362046A JP 2002362046 A JP2002362046 A JP 2002362046A JP 2001173968 A JP2001173968 A JP 2001173968A JP 2001173968 A JP2001173968 A JP 2001173968A JP 2002362046 A JP2002362046 A JP 2002362046A
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JP
Japan
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lithographic printing
aluminum alloy
treatment
printing plate
mass
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Application number
JP2001173968A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Nishino
温夫 西野
Hirokazu Sawada
宏和 澤田
Akio Uesugi
彰男 上杉
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a support for a lithographic printing plate which is capable of forming a uniformly irregular rough surface on an aluminum alloy plate containing a large quantity of Cu without strictly adjusting conditions for a surface roughing process. SOLUTION: This method for manufacturing the support for a lithographic printing plate comprises the steps to obtain the support for a lithographic printing plate by applying a surface treatment including an electrochemical surface roughing process to the aluminum alloy plate. The Cu content of the aluminum alloy plate is 0.001 to 1 mass% and the electrochemical surface roughing process is performed in an aqueous acidic solution containing a chemical compound which can form Cu and a complex.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体の製造方法に関し、特に、原材料となるアルミニウム
合金板の組成に特に限定されずに安定的に粗面化処理を
施すことができるため、原材料コストを大幅に低減する
ことができ、かつ、印刷性能と面質に優れる平版印刷版
用支持体を得ることができる平版印刷版用支持体の製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a support for a lithographic printing plate, and more particularly to a method for stably performing a roughening treatment without being particularly limited to the composition of an aluminum alloy plate as a raw material. Therefore, the present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate support capable of significantly reducing raw material costs and obtaining a lithographic printing plate support excellent in printing performance and surface quality.

【0002】[0002]

【従来の技術】アルミニウム合金板を支持体とする感光
性平版印刷版はオフセット印刷に幅広く使用されてい
る。この平版印刷版は平版印刷版原版を製版して得られ
る。平版印刷版原版は、一般に、アルミニウム合金板の
表面の一方または両方に粗面化処理を行い、感光液を塗
布し乾燥して感光層を形成することによって得られる。
なお、平版印刷版の印刷時の耐摩耗性を向上させるた
め、粗面化処理後には陽極酸化処理を施すことも一般に
行われる。また、製版時の真空密着時間を短くするた
め、感光層の表面に、マット層といわれる表面に微小な
凹凸を有する層を設けることもある。
2. Description of the Related Art A photosensitive lithographic printing plate using an aluminum alloy plate as a support is widely used for offset printing. This lithographic printing plate is obtained by making a lithographic printing plate precursor. A lithographic printing plate precursor is generally obtained by subjecting one or both surfaces of an aluminum alloy plate to a surface roughening treatment, applying a photosensitive liquid, and drying to form a photosensitive layer.
In addition, in order to improve abrasion resistance during printing of the lithographic printing plate, anodizing treatment is generally performed after the surface roughening treatment. In order to shorten the vacuum contact time during plate making, a layer having fine irregularities on the surface called a mat layer may be provided on the surface of the photosensitive layer.

【0003】平版印刷版原版は画像露光、現像、水洗等
の処理を経て平版印刷版とされる。画像露光の方法とし
ては、画像を焼き付けたリスフィルムを平版印刷版原版
に密着させて光を当てることで画像部と非画像部との違
いを設ける方法、レーザを用いたり画像を投影したりす
ることにより平版印刷版原版に直接画像部または非画像
部を書き込み画像部と非画像部との違いを設ける方法等
が挙げられる。現像においては、ポジ型の平版印刷版原
版では露光部の感光層が除去され、ネガ型の平版印刷版
原版では非露光部の感光層が除去される。ここで、感光
層が除去され、平版印刷版用支持体の表面、即ち、アル
ミニウム合金板表面または陽極酸化皮膜表面が露出した
部分は親水性を示す非画像部となり、感光層が除去され
ずに残った部分は親インキ性(親油性)を示す画像部と
なる。現像後、必要に応じて、親水化処理、ガム引き、
バーニング処理等が行われる。
A lithographic printing plate precursor is made into a lithographic printing plate after processing such as image exposure, development, and washing with water. As a method of image exposure, a method of providing a difference between an image part and a non-image part by bringing a lithographic film on which an image is printed into close contact with a lithographic printing plate precursor and irradiating light, using a laser or projecting an image Thus, a method of directly writing an image portion or a non-image portion on a lithographic printing plate precursor to provide a difference between the image portion and the non-image portion, and the like can be given. In the development, the photosensitive layer in the exposed portion is removed in the positive type lithographic printing plate precursor, and the photosensitive layer in the non-exposed portion is removed in the negative type lithographic printing plate precursor. Here, the photosensitive layer is removed, and the surface of the lithographic printing plate support, that is, the portion where the aluminum alloy plate surface or the anodic oxide film surface is exposed becomes a non-image portion showing hydrophilicity, and the photosensitive layer is not removed. The remaining portion becomes an image portion showing lipophilicity (lipophilicity). After development, if necessary, hydrophilic treatment, gumming,
Burning processing and the like are performed.

【0004】このようにして得られた平版印刷版は、印
刷機の版胴に取り付けられ、印刷に供される。印刷にお
いては、平版印刷版の表面にインキと湿し水とが供給さ
れる。親油性である平版印刷版の画像部にはインキが付
着し、親水性である平版印刷版の非画像部には水が付着
する。画像部のインキはブランケット胴に転写された
後、更に、紙等の被印刷材に転写され、印刷が完了す
る。
[0004] The lithographic printing plate thus obtained is mounted on a plate cylinder of a printing press and used for printing. In printing, ink and fountain solution are supplied to the surface of a lithographic printing plate. The ink adheres to the image area of the lipophilic lithographic printing plate, and water adheres to the non-image area of the hydrophilic lithographic printing plate. After the ink in the image area is transferred to the blanket cylinder, it is further transferred to a printing material such as paper, and printing is completed.

【0005】上記のようにして用いられる平版印刷版用
支持体には、保水性、耐刷性、調子再現性等を向上させ
ることを目的として、表面に均一な凹凸を形成すべく、
粗面化処理が行われている。アルミニウム合金板の粗面
化方法としては、従来、硝酸を主体とする電解液を用い
て電解エッチングする電気化学的粗面化(以下「電解粗
面化」ともいう。)法、機械的粗面化法、化学的粗面化
法、またはこれらの組み合わせが一般的に用いられてい
る。中でも、硝酸を主体とする電解液を用いた電解粗面
化法は、均一な凹凸の粗面化形状を得られ、印刷性能に
優れる点で好適に用いられている。
[0005] The lithographic printing plate support used as described above is designed to have uniform unevenness on its surface for the purpose of improving water retention, printing durability, tone reproducibility and the like.
A roughening process has been performed. Conventionally, as a method of surface roughening of an aluminum alloy plate, an electrochemical surface roughening method (hereinafter also referred to as "electrolytic surface roughening") in which electrolytic etching is performed using an electrolytic solution mainly containing nitric acid, and a mechanically rough surface. A general method, a chemical surface roughening method, or a combination thereof is generally used. Among them, the electrolytic surface roughening method using an electrolytic solution mainly composed of nitric acid is suitably used because a uniform roughened surface with a rough surface is obtained and the printing performance is excellent.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、平版印刷版
原版の使用態様はユーザごとに異なり、その強度等の要
求特性も異なる。これに対して、従来、主にアルミニウ
ム合金板の合金成分の調整と、アルミニウム合金板の圧
延条件の調整とにより、強度等を調整している。特に、
アルミニウム合金板の合金成分の調整によるところが大
きい。一方、近年、全地球規模のエネルギーの有効利用
等の観点から、原材料として合金成分の調整を行ってい
ないアルミニウム材料、例えば、種々の不純物を含有す
るスクラップ材や、新地金に比べて市場価格が安い、多
くの不純物元素を含有する二次地金または再生地金と呼
ばれる地金を用いて、平版印刷版用支持体を製造するこ
との要求が大きくなってきた。
Incidentally, the use of the lithographic printing plate precursor differs for each user, and the required characteristics such as its strength also differ. On the other hand, conventionally, strength and the like are adjusted mainly by adjusting alloy components of the aluminum alloy sheet and adjusting rolling conditions of the aluminum alloy sheet. In particular,
This is largely due to the adjustment of the alloy components of the aluminum alloy plate. On the other hand, in recent years, from the viewpoint of effective use of global energy, etc., the market price is higher than that of aluminum materials without adjusting alloy components as raw materials, for example, scrap materials containing various impurities and new ingots. There has been an increasing demand for producing a lithographic printing plate support using inexpensive ingots containing secondary elements or reclaimed ingots containing many impurity elements.

【0007】しかしながら、従来、均一な凹凸を得られ
るとして用いられてきた、硝酸を主体とする水溶液を用
いた電解粗面化法においては、アルミニウム合金板の合
金成分の調整を厳密に行う必要がある。そして、合金成
分の組成が振れると粗面化形状が大きく変化するため、
粗面化処理の条件を一定とした場合に、種々のアルミニ
ウム材料からなるアルミニウム合金板、特に不純物元素
の含有量の多いアルミニウム合金板に対し、均一な凹凸
の粗面化形状を形成することができないという問題があ
った。中でも、飲料缶をスクラップし、リサイクルして
得られるアルミニウム合金板は、電気化学的粗面化処理
においてピットを粗大にする作用を有するCuを多く含
有しているため、好ましい均一なハニカムピットを形成
することが難しかった。したがって、本発明は、粗面化
処理の条件を厳密に調整することなく、Cuを多く含有
するアルミニウム合金板に対し、均一な凹凸の粗面化形
状を形成することができる平版印刷版用支持体の製造方
法を提供することを目的とする。
However, in the electrolytic surface roughening method using an aqueous solution mainly composed of nitric acid, which has been conventionally used to obtain uniform unevenness, it is necessary to strictly adjust the alloy components of the aluminum alloy plate. is there. And when the composition of the alloy component fluctuates, the roughened shape changes greatly,
When the conditions of the surface roughening treatment are fixed, it is possible to form a roughened shape with uniform irregularities on an aluminum alloy plate made of various aluminum materials, particularly an aluminum alloy plate having a high content of impurity elements. There was a problem that it was not possible. Among them, the aluminum alloy plate obtained by scraping a beverage can and recycling it contains a large amount of Cu having an effect of coarsening the pits in the electrochemical graining treatment, so that a preferable uniform honeycomb pit is formed. It was difficult to do. Therefore, the present invention provides a planographic printing plate support capable of forming a roughened surface with uniform irregularities on an aluminum alloy plate containing a large amount of Cu without strictly adjusting the conditions of the surface roughening treatment. It is intended to provide a method for producing a body.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究した結果、Cuと錯体を形成しうる
化合物を含有する酸性水溶液の中で電解粗面化処理を行
うと、Cu含有量の多い場合を含む広範囲の組成のアル
ミニウム合金板に対して、粗面化処理の条件を厳密に調
整することなく、ピット径が小さく、均一なハニカムピ
ットを有する表面形状を得ることができることを見出し
た。更に、本発明者は、このような表面形状を有する粗
面化処理を施されたアルミニウム合金板は、コンベンシ
ョナルタイプのポジ型またはネガ型の可視光露光型製版
層を有する平版印刷版原版の平版印刷版用支持体として
好適に用いることができるだけでなく、ポジ型またはネ
ガ型のレーザー製版層を有する平版印刷版原版の平版印
刷版用支持体としても好適に用いることができることを
見出し、本発明を完成した。
Means for Solving the Problems The present inventors have achieved the above object.
As a result of intensive research to achieve this, it can form a complex with Cu
Perform electrolytic surface roughening treatment in an acidic aqueous solution containing a compound.
Al with a wide range of compositions, including those with a high Cu content
Strictly adjust the surface roughening conditions for the minium alloy plate.
Pit diameter is small and uniform
Found that it is possible to obtain a surface shape with
Was. Further, the present inventor has proposed a rough surface having such a surface shape.
The aluminum alloy plate that has been subjected to surface treatment is
Positive-type or negative-type visible light exposure type plate making
Lithographic printing plate precursor with layer
Not only can it be used preferably,
Lithographic printing plate of lithographic printing plate precursor with laser-shaped plate
That it can be suitably used as a plate support
Heading, the present invention was completed.

【0009】即ち、本発明は、アルミニウム合金板に、
電気化学的粗面化処理を含む表面処理を施して平版印刷
版用支持体を得る平版印刷版用支持体の製造方法であっ
て、該アルミニウム合金板のCu含有量が0.001〜
1質量%であり、かつ、該電気化学的粗面化処理が、C
uと錯体を形成しうる化合物を含有する酸性水溶液の中
で行われることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造
方法を提供する。
That is, the present invention relates to an aluminum alloy plate,
A method for producing a lithographic printing plate support, wherein the lithographic printing plate support is subjected to a surface treatment including an electrochemical surface roughening treatment to obtain a lithographic printing plate support, wherein the Cu content of the aluminum alloy plate is 0.001 to 0.001.
1% by mass, and the electrochemical graining treatment
The present invention provides a method for producing a lithographic printing plate support, which is carried out in an acidic aqueous solution containing a compound capable of forming a complex with u.

【0010】前記アルミニウム合金板が、Fe、Si、
Cu、Mg、Mn、Zn、CrおよびTiからなる群か
ら選ばれる3種以上の元素を以下の範囲で含有し、か
つ、アルミニウム含有率が95〜99.4質量%である
のは、本発明の好適な態様の一つである。Fe:0.2
0〜1.0質量%、Si:0.10〜1.0質量%、C
u:0.03〜1.0質量%、Mg:0.1〜1.5質
量%、Mn:0.1〜1.5質量%、Zn:0.03〜
0.5質量%、Cr:0.005〜0.1質量%、T
i:0.01〜0.5質量%
The aluminum alloy plate is made of Fe, Si,
The present invention contains three or more elements selected from the group consisting of Cu, Mg, Mn, Zn, Cr and Ti in the following range, and has an aluminum content of 95 to 99.4 mass%. This is one of the preferable embodiments. Fe: 0.2
0 to 1.0% by mass, Si: 0.10 to 1.0% by mass, C
u: 0.03 to 1.0 mass%, Mg: 0.1 to 1.5 mass%, Mn: 0.1 to 1.5 mass%, Zn: 0.03 to
0.5% by mass, Cr: 0.005 to 0.1% by mass, T
i: 0.01 to 0.5% by mass

【0011】また、本発明は、上記平版印刷版用支持体
の製造方法により得られる平版印刷版用支持体を提供す
る。更に、本発明は、上記平版印刷版用支持体の上に感
光層を設けた平版印刷版原版を提供する。
The present invention also provides a lithographic printing plate support obtained by the method for producing a lithographic printing plate support described above. Further, the present invention provides a lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer provided on the lithographic printing plate support.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。 <アルミニウム合金板(圧延アルミ)>本発明に用いら
れるアルミニウム合金板は、寸度的に安定なアルミニウ
ムを主成分とする金属であり、Cu含有量が0.001
〜1質量%のアルミニウム合金からなる。 本発明におい
ては、Cu含有量が多いアルミニウム合金板を用いた場
合であっても、微細かつ均一なハニカムピットが得られ
る。アルミニウム合金板としては、アルミニウム合金が
ラミネートされまたは蒸着されたプラスチックフィルム
または紙を用いることもできる。更に、特公昭48−1
8327号公報に記載されているようなポリエチレンテ
レフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合さ
れた複合体シートを用いることもできる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. <Aluminum alloy plate (rolled aluminum)> The aluminum alloy plate used in the present invention is a dimensionally stable metal containing aluminum as a main component and having a Cu content of 0.001.
-1% by mass of an aluminum alloy. In the present invention, fine and uniform honeycomb pits can be obtained even when an aluminum alloy plate having a high Cu content is used. As the aluminum alloy plate, a plastic film or paper on which an aluminum alloy is laminated or vapor-deposited may be used. Furthermore, Japanese Patent Publication No. 48-1
A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-A-8327 can also be used.

【0013】アルミニウム合金板のアルミニウム含有率
は、特に限定されないが、アルミニウム含有率が95〜
99.4質量%であっても、好ましい粗面が得られるの
で、アルミニウム含有率が95〜99.4質量%である
のは、本発明の好適な態様の一つである。
Although the aluminum content of the aluminum alloy plate is not particularly limited, the aluminum content is 95 to 95%.
Even if the content is 99.4% by mass, a preferable rough surface can be obtained, so that the aluminum content of 95 to 99.4% by mass is one of the preferable embodiments of the present invention.

【0014】また、アルミニウム合金板が、Fe、S
i、Cu、Mg、Mn、Zn、CrおよびTiからなる
群から選ばれる3種以上の元素を以下の範囲で含有する
のが好ましい態様の一つである。そのようにすると、ア
ルミニウムの結晶粒が微細になるためである。
The aluminum alloy plate is made of Fe, S
It is one of the preferred embodiments to contain three or more elements selected from the group consisting of i, Cu, Mg, Mn, Zn, Cr and Ti in the following ranges. This is because crystal grains of aluminum become finer in such a case.

【0015】Fe:0.20〜1.0質量%、Si:
0.10〜1.0質量%、Cu:0.03〜1.0質量
%、Mg:0.1〜1.5質量%、Mn:0.1〜1.
5質量%、Zn:0.03〜0.5質量%、Cr:0.
005〜0.1質量%、Ti:0.01〜0.5質量%
Fe: 0.20 to 1.0% by mass, Si:
0.10 to 1.0 mass%, Cu: 0.03 to 1.0 mass%, Mg: 0.1 to 1.5 mass%, Mn: 0.1 to 1.
5 mass%, Zn: 0.03 to 0.5 mass%, Cr: 0.
005 to 0.1% by mass, Ti: 0.01 to 0.5% by mass

【0016】また、アルミニウム合金板は、本発明の効
果を損なわない範囲で、Bi、Ni等の元素や不可避不
純物を含有することができる。
Further, the aluminum alloy plate can contain elements such as Bi and Ni and unavoidable impurities as long as the effects of the present invention are not impaired.

【0017】本発明に用いられるアルミニウム合金板
は、Cu含有量が0.001〜1質量%であり、好まし
くはアルミニウム含有率が95〜99.4質量%であ
り、また、好ましくは上記3種以上の元素を上記範囲で
含有するが、その組成は特定されるものではなく、従来
より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A105
0、JIS A1100、JIS A3003、JIS
A3004、JIS A3005、国際登録合金 3
103A等のアルミニウム合金板を適宜利用することが
できる。 また、アルミニウム合金板の製造方法は、連続
鋳造方式およびDC鋳造方式のいずれでもよく、DC鋳
造方式の中間焼鈍や、均熱処理を省略したアルミニウム
合金板も用いることができる。最終圧延においては、積
層圧延や転写等により凹凸を付けたアルミニウム合金板
を用いることもできる。本発明に用いられるアルミニウ
ム合金板は、連続した帯状のシート材または板材であ
る、アルミニウムウェブであってもよく、製品として出
荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断され
た枚葉状シートであってもよい。また、本発明に用いら
れるアルミニウム合金板の厚みは、通常、0.05〜1
mm程度であり、0. 1mm〜0. 5mmであるのが好
ましい。この厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさお
よびユーザーの希望により適宜変更することができる。
The aluminum alloy plate used in the present invention has a Cu content of 0.001 to 1% by mass, preferably an aluminum content of 95 to 99.4% by mass. The above elements are contained in the above range, but the composition is not specified, and those of conventionally known and used materials, for example, JIS A105
0, JIS A1100, JIS A3003, JIS
A3004, JIS A3005, Internationally registered alloy 3
An aluminum alloy plate such as 103A can be used as appropriate. The method of manufacturing the aluminum alloy sheet may be either a continuous casting method or a DC casting method, and an aluminum alloy sheet in which the DC annealing method has not been subjected to intermediate annealing or soaking can be used. In the final rolling, an aluminum alloy plate having irregularities by lamination rolling, transfer, or the like may be used. The aluminum alloy plate used in the present invention may be a continuous band-shaped sheet material or plate material, which may be an aluminum web, and a sheet-like sheet cut to a size corresponding to a planographic printing plate precursor shipped as a product. It may be a sheet. The thickness of the aluminum alloy plate used in the present invention is usually 0.05 to 1
mm, and preferably 0.1 mm to 0.5 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the desire of the user.

【0018】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法に
おいては、上記アルミニウム合金板に、Cuと錯体を形
成しうる化合物を含有する酸性水溶液の中での電気化学
的粗面化処理を含む表面処理を施して平版印刷版用支持
体を得るが、この表面処理には、更に各種の処理が含ま
れていてもよい。なお、本発明に用いられる各種の工程
においては、その工程に用いられる処理液の中に使用す
るアルミニウム合金板の合金成分が溶出するので、処理
液はアルミニウム合金板の合金成分を含有していてもよ
く、特に、処理前にそれらの合金成分を添加して処理液
を定常状態にして用いるのが好ましい。
In the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention, the aluminum alloy plate includes an electrochemical surface roughening treatment in an acidic aqueous solution containing a compound capable of forming a complex with Cu. The surface treatment is performed to obtain a lithographic printing plate support. The surface treatment may further include various treatments. In the various steps used in the present invention, since the alloy component of the aluminum alloy plate used is eluted in the processing solution used in the process, the processing solution contains the alloy component of the aluminum alloy plate. In particular, it is preferable to add these alloy components before the treatment and use the treatment liquid in a steady state.

【0019】本発明においては、電気化学的粗面化処理
の前には、アルカリエッチング処理またはデスマット処
理を施すのが好ましく、また、アルカリエッチング処理
とデスマット処理とをこの順に施すのも好ましい。ま
た、電気化学的粗面化処理の後には、アルカリエッチン
グ処理またはデスマット処理を施すのが好ましく、ま
た、アルカリエッチング処理とデスマット処理とをこの
順に施すのも好ましい。また、電気化学的粗面化処理後
のアルカリエッチング処理は、省略することもできる。
本発明においては、これらの処理の前に機械的粗面化処
理を施すのも好ましい。また、電気化学的粗面化処理を
2回以上行ってもよい。また、これらの後に、陽極酸化
処理、封孔処理、親水化処理等を施すのも好ましい。
In the present invention, it is preferable to carry out an alkali etching treatment or a desmutting treatment before the electrochemical graining treatment, and it is also preferable to carry out the alkali etching treatment and the desmutting treatment in this order. After the electrochemical surface-roughening treatment, it is preferable to carry out an alkali etching treatment or a desmut treatment, and it is also preferable to carry out the alkali etching treatment and the desmut treatment in this order. Further, the alkali etching treatment after the electrochemical graining treatment can be omitted.
In the present invention, it is also preferable to perform a mechanical surface roughening treatment before these treatments. Further, the electrochemical graining treatment may be performed twice or more. After these, it is also preferable to perform anodizing treatment, sealing treatment, hydrophilic treatment, and the like.

【0020】特に、表面処理が、アルカリエッチング処
理、デスマット処理、Cuと錯体を形成しうる化合物を
含有する水溶液の中での電気化学的粗面化処理、アルカ
リエッチング処理および/またはデスマット処理、陽極
酸化処理をこの順に含むのは、本発明の好ましい態様の
一つである。この場合、表面処理が、陽極酸化処理の後
に、封孔処理および/または親水化処理を含むのは、本
発明の好ましい態様の一つである。また、この場合、表
面処理が、最初のアルカリエッチング処理の前に、機械
的粗面化処理を含むのは、本発明の好ましい態様の一つ
である。
In particular, the surface treatment includes an alkali etching treatment, a desmutting treatment, an electrochemical graining treatment in an aqueous solution containing a compound capable of forming a complex with Cu, an alkali etching treatment and / or a desmutting treatment, and an anode. Including the oxidation treatment in this order is one of the preferred embodiments of the present invention. In this case, it is one of preferred embodiments of the present invention that the surface treatment includes a sealing treatment and / or a hydrophilization treatment after the anodizing treatment. In this case, it is one of the preferable aspects of the present invention that the surface treatment includes a mechanical surface roughening treatment before the first alkali etching treatment.

【0021】以下、機械的粗面化処理、第1アルカリエ
ッチング処理、第1デスマット処理、電気化学的粗面化
処理、第2アルカリエッチング処理、第2デスマット処
理、陽極酸化処理、封孔処理および親水化処理のそれぞ
れについて、詳細に説明する。なお、本明細書において
は、電気化学的粗面化処理の前に行う処理に「第1」と
いう序数をつけて呼び、電気化学的粗面化処理の後に行
う処理に「第2」という序数をつけて呼ぶ場合がある。
Hereinafter, mechanical surface roughening treatment, first alkali etching treatment, first desmutting treatment, electrochemical surface roughening treatment, second alkali etching treatment, second desmutting treatment, anodic oxidation treatment, sealing treatment, Each of the hydrophilic treatments will be described in detail. In the present specification, the process performed before the electrochemical surface roughening process is called with an ordinal number of “first”, and the process performed after the electrochemical surface roughening process is called an “ordinal number” of “second”. Sometimes called with.

【0022】<機械的粗面化処理>機械的粗面化処理
は、電気化学的粗面化処理の前に行うのが好ましい。機
械的粗面化処理は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイ
ロン(商標名)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成
樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したロ
ーラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤
を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニ
ウム合金板の表面の一方または両方を擦ることにより行
う。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、
表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いる
こともできる。ローラ状ブラシにおけるブラシ毛の長さ
は、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜
決定することができるが、一般的には、10〜100m
mである。
<Mechanical surface-roughening treatment> The mechanical surface-roughening treatment is preferably performed before the electrochemical surface-roughening treatment. In general, mechanical surface roughening treatment is a roller-shaped brush in which a large number of brush bristles such as synthetic resin bristles made of synthetic resin such as nylon (trade name), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. Is performed by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum alloy plate while spraying a slurry liquid containing an abrasive onto a rotating roller brush. Instead of the roller brush and the slurry liquid,
A polishing roller which is a roller having a surface provided with a polishing layer can also be used. The length of the bristles in the roller-shaped brush can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller-shaped brush and the diameter of the body, but generally, 10 to 100 m.
m.

【0023】本発明に用いられる研磨剤は公知の物が使
用できる。例えば、パミストン、ケイ砂、水酸化アルミ
ニウム、アルミナ粉、火山灰、カーボランダム、金剛砂
等の研磨剤、またはこれらの混合物を用いることができ
る。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましいが、特にケ
イ砂はパミストンに比べて硬く、壊れにくいので、粗面
化効率が優れる点で好ましい。研磨剤の平均粒径は、粗
面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすること
ができる点で、3〜50μmであるのが好ましく、6〜
45μmであるのがより好ましい。研磨剤としてパミス
トンを用いる場合、平均粒径が40〜45μmであるの
が特に好ましく、また、研磨剤としてケイ砂を用いる場
合、平均粒径が20〜25μmであるのが特に好まし
い。研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、研磨スラリ
ー液として用いる。研磨スラリー液には、研磨剤のほか
に、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等
を含有させることができる。平均粒径とは、研磨スラリ
ー液中に含有される全研磨剤の体積に対し、各粒径の研
磨剤粒子の占める割合の累積分布をとったとき、累積割
合が50%となる粒径をいう。
Known abrasives can be used for the abrasive used in the present invention. For example, abrasives such as pumice stone, silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, volcanic ash, carborundum, diamond sand, or a mixture thereof can be used. Among them, pumistone and silica sand are preferred, and silica sand is particularly preferred because it is harder and less susceptible to breakage than pamistone, so that the surface roughening efficiency is excellent. The average particle size of the abrasive is preferably from 3 to 50 μm from the viewpoint that the surface roughening efficiency is excellent and the graining pitch can be narrowed, and from 6 to 50 μm.
More preferably, it is 45 μm. When using pamistone as the abrasive, the average particle size is particularly preferably 40 to 45 μm, and when using silica sand as the abrasive, the average particle size is particularly preferably 20 to 25 μm. The polishing slurry is used as a polishing slurry liquid, for example, by suspending it in water. The polishing slurry liquid may contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), a preservative, and the like, in addition to the abrasive. The average particle diameter is defined as the particle diameter at which the cumulative ratio is 50% when the cumulative distribution of the ratio of the abrasive particles of each particle diameter to the volume of the total abrasive contained in the polishing slurry liquid is taken. Say.

【0024】また、機械的粗面化処理においては、ま
ず、ブラシグレイニングを行うに先立ち、所望により、
アルミニウム合金板の表面の圧延油を除去するための脱
脂処理、例えば、界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水
溶液等による脱脂処理が行われてもよい。
In the mechanical roughening process, first, prior to performing the brush graining, if necessary,
A degreasing treatment for removing rolling oil on the surface of the aluminum alloy plate, for example, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or the like may be performed.

【0025】<第1アルカリエッチング処理>第1アル
カリエッチング処理は、上記アルミニウム合金板をアル
カリ溶液に接触させることにより、エッチングを行う。
第1アルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行
っていない場合には、前記アルミニウム合金板(圧延ア
ルミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜を除去する
ことを目的として、また、機械的粗面化処理を行った場
合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッ
ジ部分を溶解させ、滑らかなうねりを持つ表面を得るこ
とを目的として行われる。アルミニウム合金板をアルカ
リ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウ
ム合金板をアルカリ溶液ルカリ溶液を入れた槽の中を通
過させる方法、アルミニウム合金板をアルカリ溶液を入
れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミ
ニウム合金板の表面に噴きかける方法が挙げられる。
<First Alkali Etching Process> In the first alkali etching process, etching is performed by bringing the aluminum alloy plate into contact with an alkaline solution.
The first alkali etching treatment is for removing rolling oil, dirt and natural oxide film on the surface of the aluminum alloy plate (rolled aluminum) when the mechanical surface roughening treatment is not performed, and When the mechanical surface roughening treatment is performed, it is performed for the purpose of dissolving the edge portion of the unevenness generated by the mechanical surface roughening treatment and obtaining a surface having a smooth undulation. As a method of bringing the aluminum alloy plate into contact with the alkali solution, for example, a method of passing the aluminum alloy plate through a tank containing an alkali solution lukari solution, a method of immersing the aluminum alloy plate in a tank containing an alkali solution And a method of spraying an alkaline solution onto the surface of the aluminum alloy plate.

【0026】エッチング量は、次の工程で電解粗面化処
理を施す面については、1〜15g/m2 であるのが好
ましく、電解粗面化処理を施さない面については、0.
1〜5g/m2 (電解粗面化処理を施す面の約10〜4
0%)であるのが好ましい。エッチング量が上記範囲で
あると、機械的粗面化処理を行っていない場合には、前
記アルミニウム合金板(圧延アルミ)の表面の圧延油
(油脂類)、汚れ、自然酸化皮膜が完全に除去されるた
め、平版印刷版としたときに、非画像部における保水性
に優れ、非画像部にインキが付着して起こる、いわゆる
ブラン汚れ(ブランケット汚れ)等が生じないので好ま
しい。また、機械的粗面化処理を行った場合には、機械
的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分の溶解
が十分となる。
The etching amount is preferably 1 to 15 g / m 2 for the surface subjected to the electrolytic surface roughening treatment in the next step, and 0.1 g / m 2 for the surface not subjected to the electrolytic surface roughening treatment.
1 to 5 g / m 2 (approximately 10 to 4 g
0%). When the etching amount is within the above range, the rolling oil (oils and fats), dirt, and natural oxide film on the surface of the aluminum alloy plate (rolled aluminum) are completely removed when the mechanical surface roughening treatment is not performed. Therefore, when a lithographic printing plate is used, the water retention in the non-image area is excellent, and so-called blank stain (blanket stain) or the like that occurs when ink adheres to the non-image area is preferable. In addition, when the mechanical surface roughening process is performed, the edge portions of the irregularities generated by the mechanical surface roughening process are sufficiently dissolved.

【0027】アルカリ溶液に用いられるアルカリとして
は、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げら
れる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、
カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカ
リ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソ
ーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケ
イ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸
塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金
属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等
のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二
リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のア
ルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチ
ング速度が速い点および安価である点から、カセイアル
カリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属ア
ルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、
カセイソーダの水溶液が好ましい。
Examples of the alkali used in the alkali solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, as caustic alkali, for example,
Kasei soda and Kaseikari. Examples of the alkali metal salt include alkali metal silicates such as sodium silicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate; Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldonates such as sodium gluconate and potassium gluconate; sodium diphosphate, potassium diphosphate, sodium tertiary phosphate, potassium tertiary phosphate, etc. Alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among them, a solution of caustic alkali and a solution containing both caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular,
An aqueous solution of caustic soda is preferred.

【0028】アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応
じて決定することができるが、1〜50質量%であるの
が好ましく、10〜35質量%であるのがより好まし
い。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解してい
る場合には、アルミニウムイオンの濃度は、0.01〜
10質量%であるのが好ましく、3〜8質量%であるの
がより好ましい。アルカリ溶液の温度は20〜90℃で
あるのが好ましい。処理時間は1〜120秒であるのが
好ましい。エッチング処理の量は、1〜15g/m2
解するのが好ましく、3〜12g/m2 溶解するのがよ
り好ましい。第1アルカリエッチング処理は、アルミニ
ウム板のエッチング処理に通常用いられるエッチング槽
を用いて行うことができる。エッチング槽としては、バ
ッチ式および連続式のいずれも用いることができる。ま
た、アルカリ溶液をアルミニウム合金板の表面に噴きか
けて第1アルカリエッチング処理を行う場合は、スプレ
ー装置を用いることができる。
Although the concentration of the alkaline solution can be determined according to the etching amount, it is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 10 to 35% by mass. When aluminum ions are dissolved in the alkaline solution, the concentration of aluminum ions is 0.01 to
It is preferably 10% by weight, more preferably 3 to 8% by weight. The temperature of the alkaline solution is preferably from 20 to 90C. The processing time is preferably from 1 to 120 seconds. The amount of the etching treatment is preferably for 1 to 15 g / m 2 dissolution, it is more preferable to 3~12g / m 2 dissolution. The first alkali etching treatment can be performed using an etching bath usually used for etching an aluminum plate. As the etching tank, either a batch type or a continuous type can be used. In the case where the first alkali etching treatment is performed by spraying an alkali solution onto the surface of the aluminum alloy plate, a spray device can be used.

【0029】<第1デスマット処理>第1デスマット処
理は、例えば、上記アルミニウム合金板を塩酸、硝酸、
硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液(アルミニ
ウムイオン0.01〜5質量%を含有する。)に接触さ
せることにより行う。アルミニウム合金板を酸性溶液に
接触させる方法としては、例えば、アルミニウム合金板
を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニ
ウム合金板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方
法、酸性溶液をアルミニウム合金板の表面に噴きかける
方法が挙げられる。第1デスマット処理においては、酸
性溶液として、後述する電解粗面化処理において排出さ
れる硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする
水溶液の廃液、または、後述する陽極酸化処理において
排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いるのが
好ましい。第1デスマット処理の液温は、25〜90℃
であるのが好ましい。また、第1デスマット処理の処理
時間は、1〜180秒であるのが好ましい。第1デスマ
ット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよ
びアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
<First Desmut Treatment> In the first desmut treatment, for example, the above aluminum alloy plate is treated with hydrochloric acid, nitric acid,
It is carried out by contacting with an acidic solution such as sulfuric acid having a concentration of 0.5 to 30% by mass (containing 0.01 to 5% by mass of aluminum ions). Examples of the method of bringing the aluminum alloy plate into contact with the acidic solution include a method of passing the aluminum alloy plate through a tank containing the acidic solution, a method of immersing the aluminum alloy plate in a tank containing the acidic solution, A method of spraying the solution onto the surface of the aluminum alloy plate can be used. In the first desmutting treatment, as an acidic solution, a waste solution of an aqueous solution mainly composed of nitric acid or an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid discharged in the electrolytic surface roughening treatment described later, or sulfuric acid discharged in an anodic oxidation treatment described later It is preferable to use a waste liquid of an aqueous solution mainly composed of The liquid temperature of the first desmutting treatment is 25 to 90 ° C.
It is preferred that Further, the processing time of the first desmutting process is preferably 1 to 180 seconds. Aluminum and aluminum alloy components may be dissolved in the acidic solution used for the first desmutting treatment.

【0030】<電解粗面化処理>本発明においては、電
解粗面化処理を、Cuと錯体を形成しうる化合物を含有
する酸性水溶液の中で行うことを特徴とする。酸性水溶
液としては、特に限定されないが、硝酸を主体とする水
溶液および塩酸を主体とする水溶液が好ましい。硝酸を
主体とする水溶液は、硝酸濃度が5〜15g/Lである
のが好ましく、7〜13g/Lであるのがより好まし
く、また、アルミニウムイオン濃度が3〜15g/Lで
あるのが好ましく、3〜7g/Lであるのがより好まし
い。硝酸を主体とする水溶液におけるアルミニウムイオ
ンの濃度は、上記硝酸濃度の硝酸水溶液に硝酸アルミニ
ウムを添加することにより調整することができる。塩酸
を主体とする水溶液は、塩酸濃度が5〜15g/Lであ
るのが好ましく、5〜10g/Lであるのがより好まし
く、また、アルミニウムイオン濃度が3〜15g/Lで
あるのが好ましく、3〜7g/Lであるのがより好まし
い。塩酸を主体とする水溶液におけるアルミニウムイオ
ンの濃度は、上記塩酸濃度の塩酸水溶液に塩化アルミニ
ウムを添加することにより調整することができる。ま
た、硝酸を主体とする水溶液および塩酸を主体とする水
溶液は、いずれもFe、Si、Cu、Mg、Mn、Z
n、Cr、Ti、不可避的不純物等のイオンを含有する
ことができる。硝酸を主体とする水溶液の液温は、30
〜70℃であるのが好ましく、40〜60℃であるのが
より好ましい。塩酸を主体とする水溶液の液温は、25
〜50℃であるのが好ましく、30〜45℃であるのが
より好ましい。
<Electrolytic surface-roughening treatment> The present invention is characterized in that the electrolytic surface-roughening treatment is performed in an acidic aqueous solution containing a compound capable of forming a complex with Cu. The acidic aqueous solution is not particularly limited, but an aqueous solution mainly containing nitric acid and an aqueous solution mainly containing hydrochloric acid are preferable. The aqueous solution mainly composed of nitric acid preferably has a nitric acid concentration of 5 to 15 g / L, more preferably 7 to 13 g / L, and an aluminum ion concentration of 3 to 15 g / L. And more preferably 3 to 7 g / L. The concentration of aluminum ions in the aqueous solution mainly containing nitric acid can be adjusted by adding aluminum nitrate to a nitric acid aqueous solution having the above-mentioned nitric acid concentration. The aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid preferably has a hydrochloric acid concentration of 5 to 15 g / L, more preferably 5 to 10 g / L, and an aluminum ion concentration of 3 to 15 g / L. And more preferably 3 to 7 g / L. The concentration of aluminum ions in the aqueous solution mainly containing hydrochloric acid can be adjusted by adding aluminum chloride to an aqueous solution of hydrochloric acid having the above-mentioned hydrochloric acid concentration. Further, the aqueous solution mainly composed of nitric acid and the aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid are Fe, Si, Cu, Mg, Mn, Z
It can contain ions such as n, Cr, Ti, and unavoidable impurities. The temperature of the aqueous solution mainly composed of nitric acid is 30
The temperature is preferably from 70 to 70 ° C, more preferably from 40 to 60 ° C. The temperature of the aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid is 25
The temperature is preferably from about 50 ° C to 50 ° C, more preferably from 30 to 45 ° C.

【0031】本発明に用いられる酸性水溶液は、Cuと
錯体を形成しうる化合物を含有する。ここで、「Cuと
錯体を形成しうる化合物」とは、アルミニウム合金板の
表面に合金元素として存在するCuと錯体を形成するこ
とができる分子、イオン等の化合物をいう。Cuと錯体
を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア;メ
チルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、ト
リエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、E
DTA(エチレンジアミン四酢酸)等のアンモニアの水
素原子を炭化水素基(脂肪族、芳香族等)等で置換して
得られるアミン類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、
硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウ
ム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモ
ニウム塩も挙げられる。これらのアンモニウム塩は、一
般に、アンモニアと酸との反応により得られる。
The acidic aqueous solution used in the present invention contains a compound capable of forming a complex with Cu. Here, the “compound capable of forming a complex with Cu” refers to a compound such as a molecule or an ion capable of forming a complex with Cu existing as an alloy element on the surface of the aluminum alloy plate. Compounds that can form a complex with Cu include, for example, ammonia; methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, cyclohexylamine, triethanolamine, triisopropanolamine, E
Amines obtained by replacing the hydrogen atom of ammonia such as DTA (ethylenediaminetetraacetic acid) with a hydrocarbon group (aliphatic, aromatic, etc.); and metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogencarbonate and the like. It is. Also,
Ammonium salts such as ammonium nitrate, ammonium chloride, ammonium sulfate, ammonium phosphate and ammonium carbonate are also included. These ammonium salts are generally obtained by reacting ammonia with an acid.

【0032】本発明に用いられるCuと錯体を形成しう
る化合物は、上記酸性水溶液中で安定なCuの錯体を形
成することができる。例えば、アンモニアおよびアミン
類は、Cuのアンモニア錯体を形成することができる。
具体的には、アンモニアは化学式[Cu(NH3)4(H2
O)2]2+ で表されるCuのアンモニア錯体を形成するこ
とができる。このCuのアンモニア錯体は、Cu原子の
周囲に平面正方形型に四つのNH3 が存在し、Cu原子
の上下に二つのH2 Oが存在するという立体配置をとっ
ている。また、例えば、金属炭酸塩類は、いずれも化学
式[Cu(CO 3)2]2+で表されるCuの炭酸イオン錯体
を形成することができる。
Form a complex with Cu used in the present invention
Compounds form stable Cu complexes in the above acidic aqueous solution.
Can be achieved. For example, ammonia and amines
Can form an ammonia complex of Cu.
Specifically, ammonia has the chemical formula [Cu (NHThree)Four(HTwo
O)Two]2+Form an ammonia complex of Cu represented by
Can be. This Cu ammonia complex has a
Four NHs in a square around the peripheryThreeExists and a Cu atom
Two H's above and belowTwoThe configuration that O exists
ing. Also, for example, metal carbonates are all chemically
The formula [Cu (CO Three)Two]2+Cu carbonate ion complex represented by
Can be formed.

【0033】本発明における電気化学的粗面化処理にお
いては、酸性水溶液の含有するCuと錯体を形成しうる
化合物が、アルミニウム合金板の表面に合金元素として
存在するCuと選択的に反応して錯体を形成し、酸性水
溶液中にCuの錯イオンとして安定に存在する。その結
果、アルミニウム合金板の表面から溶出したCuを選択
的に除去することとなり、また、アルミニウム合金板の
表面に再度付着することがない。これにより、Cuのピ
ットの直径を大きくする作用が抑制され、極めて微細で
均一なハニカムピットが得られる。このような表面形状
は、Cu含有量の多い場合を含む広範囲の組成のアルミ
ニウム合金板について得られ、特に、レーザー製版層を
有する平版印刷版原版に用いられる平版印刷版用支持体
として極めて好適である。
In the electrochemical graining treatment according to the present invention, a compound capable of forming a complex with Cu contained in the acidic aqueous solution selectively reacts with Cu existing as an alloy element on the surface of the aluminum alloy plate. It forms a complex and is stably present as a complex ion of Cu in an acidic aqueous solution. As a result, Cu eluted from the surface of the aluminum alloy plate is selectively removed, and does not adhere again to the surface of the aluminum alloy plate. Thereby, the effect of increasing the diameter of the Cu pit is suppressed, and an extremely fine and uniform honeycomb pit can be obtained. Such a surface shape is obtained for an aluminum alloy plate having a wide range of compositions including a case where the Cu content is large, and is particularly suitable as a lithographic printing plate support used for a lithographic printing plate precursor having a laser plate-making layer. is there.

【0034】また、アルミニウム合金板の表面に存在す
るCuの除去を、比較的低温で、かつ、短時間の反応に
より、実用的に行うためには、Cuと錯体を形成しうる
化合物の錯体形成反応を促進させる条件を選択するのが
好ましい。そのためには、酸性水溶液に、Cuと錯体を
形成しうる化合物に加えて、酸化剤を含有させるのが好
ましい。酸化剤としては、例えば、過酸化水素(H2
2)、過マンガン酸カリウム(KMnO4)が挙げられる。
酸性水溶液における酸化剤の含有量は、酸化剤の種類、
Cuと錯体を形成しうる化合物の含有量等によって異な
るが、通常、濃度が1〜100g/Lであるのが好まし
い。
Further, in order to remove Cu present on the surface of the aluminum alloy plate practically by a reaction at a relatively low temperature and in a short time, it is necessary to form a complex of a compound capable of forming a complex with Cu. It is preferable to select conditions that promote the reaction. For this purpose, it is preferable that the acidic aqueous solution contains an oxidizing agent in addition to the compound capable of forming a complex with Cu. As the oxidizing agent, for example, hydrogen peroxide (H 2 O
2 ) and potassium permanganate (KMnO 4 ).
The content of the oxidizing agent in the acidic aqueous solution depends on the type of the oxidizing agent,
Although it depends on the content of the compound capable of forming a complex with Cu and the like, the concentration is usually preferably 1 to 100 g / L.

【0035】電気化学的粗面化処理は、交流または直流
を用いて行われるが、本発明においては、交流を用いる
のが好ましい。電解粗面化処理に用いられる交流は、特
に限定されず、例えば、正弦波(サイン波)電流、矩形
波電流、三角波電流、台形波電流を用いることができ
る。中でも、正弦波電流および台形波電流が好ましい。
本発明において、交流は、単相、二相、三相等のいずれ
でもよいが、二相以上とすると、粗面化効率に優れるの
で好ましい。また、交流と直流とを重畳した電流を用い
ることもできる。交流の周波数は、特に限定されない
が、40〜120Hzであるのが好ましく、40〜80
Hzであるのがより好ましく、50〜60Hzであるの
が更に好ましい。交流の周波数が40〜120Hzであ
ると、電源装置を製作するコストを抑制することができ
る。
The electrochemical graining treatment is carried out using alternating current or direct current. In the present invention, it is preferable to use alternating current. The alternating current used for the electrolytic surface roughening treatment is not particularly limited, and for example, a sine wave (sine wave) current, a rectangular wave current, a triangular wave current, and a trapezoidal wave current can be used. Among them, a sine wave current and a trapezoidal wave current are preferable.
In the present invention, the alternating current may be any of a single phase, a two phase, a three phase and the like, but it is preferable to use two or more phases because the surface roughening efficiency is excellent. Alternatively, a current obtained by superimposing an alternating current and a direct current can be used. The AC frequency is not particularly limited, but is preferably 40 to 120 Hz, and 40 to 80 Hz.
Hz, more preferably 50-60 Hz. When the frequency of the alternating current is 40 to 120 Hz, the cost of manufacturing the power supply device can be reduced.

【0036】また、アルミニウム合金板が陽極になると
きの電気量、即ち、陽極時電気量Q a と、陰極になると
きの電気量、即ち、陰極時電気量Qc との比Qc /Qa
が0.9〜1であると、アルミニウム合金板の表面に均
一なハニカムピットを形成することができるので好まし
い。より好ましくは、Qc /Qa は0.95〜0.99
である。電解租面化処理を、主極のアノード電流を分流
する補助電極を有する交流電解槽を用いて行う場合に
は、特開昭60−43500号公報および特開平1−5
2098号公報に記載されているように、補助電極に分
流するアノード電流の電流値を制御することにより、Q
c /Qa を制御することができる。
When the aluminum alloy plate becomes the anode,
Quantity of electricity, ie, quantity of electricity at the time of anode Q aAnd when it comes to the cathode
Quantity of electricity, that is, the quantity of electricity at the time of cathode QcAnd the ratio Qc/ Qa
Is 0.9 to 1, the surface of the aluminum alloy plate is evenly distributed.
Preferred because it can form a uniform honeycomb pit
No. More preferably, Qc/ QaIs 0.95 to 0.99
It is. Dividing the anode current of the main electrode through electrolytic surface treatment
When using an AC electrolytic cell with auxiliary electrodes
Are disclosed in JP-A-60-43500 and JP-A-1-5
As described in US Pat.
By controlling the current value of the flowing anode current, Q
c/ QaCan be controlled.

【0037】交流のdutyは、特に限定されないが、
アルミニウム合金板の表面に均一に粗面化処理を施す点
および電源装置の製作の点からは、0.33〜0.66
であるのが好ましく、0.4〜0.6であるのがより好
ましく、0.5であるのが最も好ましい。なお、本発明
において「duty」とは、交流の周期をT、アルミニ
ウム合金板が陽極反応する時間(アノード反応時間)を
a としたときのta/Tをいう。アルミニウム合金板
の表面には、カソード反応時に、水酸化アルミニウムを
主体とする酸化皮膜が生成し、更に、酸化皮膜の溶解や
破壊が生じることがある。そして、酸化皮膜の溶解や破
壊が生じると、溶解や破壊が生じた部分は、次のアルミ
ニウム合金板のアノード反応時におけるピッティング反
応の開始点となる。したがって、交流のdutyの選択
は均一な電解粗面化処理を行う点で、特に重要である。
The duty of the alternating current is not particularly limited.
From the viewpoint of uniformly roughening the surface of the aluminum alloy plate and manufacturing the power supply device, 0.33 to 0.66
Is preferable, more preferably 0.4 to 0.6, and most preferably 0.5. Note that the "duty" in the present invention, the period of the AC T, the aluminum alloy plate refers to a t a / T when the time for anodic reaction (anode reaction time) was t a. During the cathode reaction, an oxide film mainly composed of aluminum hydroxide is formed on the surface of the aluminum alloy plate, and further, the oxide film may be dissolved or broken. When dissolution or destruction of the oxide film occurs, the portion where dissolution or destruction occurs becomes a starting point of the pitting reaction at the time of the next anodic reaction of the aluminum alloy plate. Therefore, the selection of the duty of the alternating current is particularly important in performing a uniform electrolytic surface roughening treatment.

【0038】交流における電流値がゼロから正または負
のピークに達するまでの時間TPは、台形波電流である
場合においては、0.5〜6msecであるのが好まし
く、0.6〜5msecであるのがより好ましく、0.
7〜3msecであるのが更に好ましい。上記範囲であ
ると、アルミニウム合金板の表面に、より均一なクレー
ター状の凹部(ピット)が形成される。電解粗面化処理
における開始時から終了時までの電気量は、アルミニウ
ム合金板が陽極のときの総和で、10〜1000C/d
2 であるのが好ましく、10〜800C/dm2 であ
るのがより好ましく、40〜500C/dm2 であるの
が更に好ましい。交流におけるアノードサイクル側のピ
ーク時の電流Iap、およびカソードサイクル側のピーク
時の電流Icpは、それぞれ20〜100A/dm2 であ
るのが好ましく、30〜80A/dm2 であるのがより
好ましく、40〜60A/dm2であるのが更に好まし
い。また、Icp/Iapは、0.9〜1.5であるのが好
ましく、0.9〜1.0であるのがより好ましい。
In the case of a trapezoidal wave current, the time TP until the current value in the alternating current reaches zero or a positive or negative peak is preferably 0.5 to 6 msec, and is 0.6 to 5 msec. Is more preferable, and
More preferably, it is 7 to 3 msec. Within the above range, more uniform crater-shaped concave portions (pits) are formed on the surface of the aluminum alloy plate. The amount of electricity from the start to the end of the electrolytic surface roughening treatment is 10 to 1000 C / d in total when the aluminum alloy plate is the anode.
m 2 is preferable, 10 to 800 C / dm 2 is more preferable, and 40 to 500 C / dm 2 is further preferable. Current I cp Peak anode current I ap peak cycle side, and the cathode cycle side in an alternating current is preferably from 20 to 100 A / dm 2 respectively, more that a 30~80A / dm 2 More preferably, it is 40 to 60 A / dm 2 . Further, I cp / I ap is preferably from 0.9 to 1.5, and more preferably from 0.9 to 1.0.

【0039】電解粗面化処理においては、1または2以
上の交流電解槽において、アルミニウム合金板に交流が
流れない休止期間を1回以上設け、前記休止期間の長さ
を0.001〜0.6秒とすると、ハニカムピットがア
ルミニウム合金板の表面全体に均一に形成されるので好
ましい。より好ましくは0.005〜0.55秒、更に
好ましくは0.01〜0.5秒である。直列に配置され
た2以上の交流電解槽を用いる場合には、一の交流電解
槽と他の交流電解層との間におけるアルミニウム合金板
に交流が流れない時間を0.001〜20秒とするのが
好ましい。より好ましくは0.1〜15秒、更に好まし
くは1〜12秒である。
In the electrolytic surface roughening treatment, in one or two or more AC electrolytic cells, at least one pause period in which no alternating current flows through the aluminum alloy plate is provided, and the length of the pause period is 0.001 to 0. The time of 6 seconds is preferable because the honeycomb pits are uniformly formed on the entire surface of the aluminum alloy plate. The time is more preferably 0.005 to 0.55 seconds, and still more preferably 0.01 to 0.5 seconds. When two or more AC electrolytic cells arranged in series are used, the time during which no AC flows through the aluminum alloy plate between one AC electrolytic cell and another AC electrolytic layer is set to 0.001 to 20 seconds. Is preferred. More preferably, it is 0.1 to 15 seconds, and still more preferably 1 to 12 seconds.

【0040】電解粗面化処理には、縦型、フラット型、
ラジアル型等の各種の交流電解槽を備える電解粗面化処
理装置を用いることができるが、中でも、フラット型ま
たはラジアル型の交流電解槽を備えるものが好ましい。
また、交流電解槽を複数台直列に配設した電解粗面化処
理装置も好適に用いることができる。図1に、本発明に
好適に用いられるフラット型交流電解槽を備える電解粗
面化処理装置の一例の断面模式図を示す。電解粗面化処
理装置100は、アルミニウムウェブWを略水平方向に
搬送しつつ三相の交流(以下「三相交流電流」ともい
う。)を印加して電解粗面化処理を施す電解粗面化処理
装置である。
For the electrolytic surface roughening treatment, a vertical type, a flat type,
An electrolytic surface roughening treatment device having various types of AC electrolytic cells such as a radial type can be used. Among them, a device having a flat type or radial type AC electrolytic cell is preferable.
Further, an electrolytic surface roughening treatment apparatus in which a plurality of AC electrolytic cells are arranged in series can also be suitably used. FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of an example of an electrolytic surface roughening treatment apparatus including a flat type AC electrolytic cell suitably used in the present invention. The electrolytic surface roughening apparatus 100 performs an electrolytic surface roughening treatment by applying a three-phase alternating current (hereinafter also referred to as a “three-phase alternating current”) while conveying the aluminum web W in a substantially horizontal direction. It is a chemical treatment device.

【0041】電解粗面化処理装置100は、アルミニウ
ムウェブWの搬送方向aに沿って延在し上面が開放され
た浅い箱状の交流電解槽2と、交流電解槽2の底面近傍
に搬送方向aに沿って、アルミニウムウェブWの搬送経
路である搬送面Tに対して平行に配設された三つの板状
の主極4A、4Bおよび4Cと、交流電解槽2の内部に
おける搬送方向aに対して上流側(以下、単に「上流
側」という。)および搬送方向aに対して下流側(以
下、単に「下流側」という。)の端部近傍に配設され、
交流電解槽2内部においてアルミニウムウェブWを搬送
する搬送ローラ6Aおよび6Bと、交流電解槽2の上方
における上流側に位置し、アルミニウムウェブWを交流
電解槽2の内部に導入する導入ローラ8Aと、交流電解
槽2の上方における下流側に位置し、交流電解槽2内部
を通過したアルミニウムウェブWを交流電解槽2の外部
に導出する導出ローラ8Bとを備える。交流電解槽2内
部には、上述した酸性水溶液が貯留されている。主極4
A、4Bおよび4Cは、それぞれ三相の交流を発生させ
る交流電源TacのU端子、V端子およびW端子に接続さ
れている。したがって、主極4A、4Bおよび4Cに印
加される交流は、位相が120°ずつずれている。
The electrolytic surface-roughening treatment apparatus 100 includes a shallow box-shaped AC electrolytic cell 2 extending along the conveying direction a of the aluminum web W and having an open upper surface, and a conveying direction near the bottom of the AC electrolytic cell 2. 3A, three plate-shaped main poles 4A, 4B, and 4C arranged in parallel with the transfer surface T, which is a transfer path of the aluminum web W, and in the transfer direction a inside the AC electrolytic cell 2. In the vicinity of an end on the upstream side (hereinafter, simply referred to as “upstream side”) and on the downstream side (hereinafter, simply referred to as “downstream side”) with respect to the transport direction a,
Transport rollers 6A and 6B for transporting the aluminum web W inside the AC electrolytic cell 2, an introduction roller 8A located upstream of the AC electrolytic cell 2 and introducing the aluminum web W into the AC electrolytic cell 2, A lead roller 8B is provided on the downstream side above the AC electrolytic cell 2 and guides the aluminum web W that has passed through the inside of the AC electrolytic cell 2 to the outside of the AC electrolytic cell 2. The acidic aqueous solution described above is stored inside the AC electrolytic cell 2. Main pole 4
A, 4B, and 4C are connected to a U terminal, a V terminal, and a W terminal of an AC power supply Tac that generates three-phase AC, respectively. Therefore, the alternating currents applied to the main poles 4A, 4B and 4C are out of phase by 120 °.

【0042】電解粗面化処理装置100の作用について
以下に説明する。アルミニウムウェブWは、導入ローラ
8Aによって交流電解槽2の内部に導入され、搬送ロー
ラ6Aおよび6Bによって搬送方向aに沿って一定速度
で搬送される。交流電解槽2の内部において、アルミニ
ウムウェブWは、主極4A、4Bおよび4Cに対して平
行に移動するとともに、主極4A、4Bおよび4Cから
交流を印加される。これにより、アルミニウムウェブW
において、アノード反応とカソード反応とが交互に起
き、アノード反応が起きているときには主にハニカムピ
ットが生じ、カソード反応が起きているときには主に水
酸化アルミニウムの皮膜が生じて、表面が粗面化され
る。主極4A、4Bおよび4Cに印加される交流は、上
述したように位相が120°ずつずれているから、主極
4Bにおいては、主極4Aの位相(U相)よりも120
°遅れた位相(V相)でアノード反応とカソード反応と
が繰り返され、主極4Cにおいては、主極4Bよりも1
20°遅れた位相(W相)でアノード反応とカソード反
応とが繰り返される。したがって、アルミニウムウェブ
Wにおいては、周波数の同一の単相の交番波形電流を印
加した場合に比べて、3倍の頻度でアノード反応とカソ
ード反応とが繰り返されるから、高い搬送速度および電
流密度で電解粗面化処理を行う場合においても、幅方向
の縞であるチャタマークが生じにくい。
The operation of the electrolytic surface roughening apparatus 100 will be described below. The aluminum web W is introduced into the AC electrolytic cell 2 by the introduction roller 8A, and is transported at a constant speed along the transport direction a by the transport rollers 6A and 6B. Inside the AC electrolytic cell 2, the aluminum web W moves parallel to the main poles 4A, 4B and 4C, and an alternating current is applied from the main poles 4A, 4B and 4C. Thereby, the aluminum web W
In, the anodic reaction and the cathodic reaction occur alternately. When the anodic reaction is occurring, mainly honeycomb pits are generated, and when the cathodic reaction is occurring, a film of aluminum hydroxide is mainly generated, and the surface is roughened. Is done. The alternating current applied to the main poles 4A, 4B and 4C is shifted in phase by 120 ° as described above, so that the main pole 4B has a phase difference of 120 ° from the phase (U phase) of the main pole 4A.
The anodic reaction and the cathodic reaction are repeated at a delayed phase (V phase), and the main electrode 4C is one cycle longer than the main electrode 4B.
The anodic reaction and the cathodic reaction are repeated at a phase (W phase) delayed by 20 °. Therefore, in the aluminum web W, the anodic reaction and the cathodic reaction are repeated three times as frequently as when a single-phase alternating waveform current of the same frequency is applied. Even when the surface roughening process is performed, chatter marks, which are stripes in the width direction, are less likely to occur.

【0043】図2に、本発明に好適に用いられるフラッ
ト型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の他の一例
の断面模式図を示す。図2において、図1と同一の符号
は、図1において前記符号が示す要素と同一の要素を示
す。電解粗面化処理装置102は、上述した電解粗面化
処理装置100が備える交流電解槽2の後段に補助電解
槽10を配設した電解粗面化処理装置である。補助電解
槽10は、上面が開放された箱型であり、底面近傍に、
アルミニウムウェブWの搬送面Tに対して平行に板状の
補助電極12が設けられている。補助電解槽10の上流
側壁面の近傍と下流側壁面の近傍とには、アルミニウム
ウェブWを補助電極12の上方において搬送する搬送ロ
ーラ14Aおよび14Bが配設されている。また、補助
電解槽10の上方における上流側には、アルミニウムウ
ェブWを補助電解槽10の内部に導入する導入ローラ1
6Aが設けられ、補助電解槽10の上方における下流側
には、補助電解槽10内部を通過したアルミニクムウェ
ブWを外部に導出する導出ローラ16Bが設けられてい
る。補助電解槽10内部には、上述した酸性水溶液が貯
留されている。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of another example of an electrolytic surface roughening treatment apparatus having a flat type AC electrolytic cell suitably used in the present invention. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 indicate the same elements as those shown in FIG. The electrolytic surface-roughening treatment device 102 is an electrolytic surface-roughening treatment device in which the auxiliary electrolytic cell 10 is disposed at a stage subsequent to the AC electrolytic cell 2 included in the above-described electrolytic surface-roughening treatment device 100. The auxiliary electrolytic cell 10 has a box shape with an open top, and has
A plate-shaped auxiliary electrode 12 is provided in parallel with the transport surface T of the aluminum web W. In the vicinity of the upstream side wall surface and the vicinity of the downstream side wall surface of the auxiliary electrolytic cell 10, conveying rollers 14A and 14B for conveying the aluminum web W above the auxiliary electrode 12 are provided. In addition, on the upstream side above the auxiliary electrolytic cell 10, an introduction roller 1 for introducing the aluminum web W into the inside of the auxiliary electrolytic cell 10 is provided.
6A is provided, and on the downstream side above the auxiliary electrolytic cell 10, a lead-out roller 16B for outputting the aluminum web W having passed through the inside of the auxiliary electrolytic cell 10 to the outside is provided. The above-mentioned acidic aqueous solution is stored inside the auxiliary electrolytic cell 10.

【0044】交流電源TacのU相、V相およびW相は、
それぞれ補助電極12に接続され、U相、V相およびW
相のそれぞれと補助電極12との間には、サイリスタT
h1、Th2およびTh3が介装されている。サイリス
タTh1、Th2およびTh3は、いずれも点弧時に交
流電源Tacから補助電極12に向って電流が流れるよう
に接続されている。したがって、サイリスタTh1、T
h2およびTh3のいずれを点弧したときも、補助電極
12にはアノード電流が流れるから、サイリスタTh
1、Th2およびTh3を位相制御することにより、補
助電極12に流れるアノード電流の電流値を制御するこ
とができ、したがって、Qc /Qa の値も制御すること
ができる。
The U phase, V phase and W phase of the AC power supply T ac
U-phase, V-phase and W-phase
Between each of the phases and the auxiliary electrode 12, a thyristor T
h1, Th2 and Th3 are interposed. The thyristors Th1, Th2, and Th3 are all connected so that current flows from the AC power supply Tac toward the auxiliary electrode 12 at the time of ignition. Therefore, the thyristors Th1, T
Regardless of which of h2 and Th3 is fired, the anode current flows through the auxiliary electrode 12, so that the thyristor Th
1, by the Th2 and Th3 phase control, it is possible to control the current value of anode current flowing to the auxiliary electrode 12, thus, it is possible to control the values of Q c / Q a.

【0045】図3に、本発明に好適に用いられるラジア
ル型交流電解槽を備える電解粗面化処理装置の一例の断
面模式図を示す。電解粗面化処理装置104は、酸性水
溶液が貯留される交流電解槽本体22を備える交流電解
槽20と、交流電解槽本体22内部に収容され、水平方
向に伸びる軸線の周りに回転可能に配設され、アルミニ
ウムウェブWを、図3における左方から右方に向かっ
て、搬送方向aで送る送りローラ24とを備えている。
交流電解槽本体22内部には、上述した酸性水溶液が貯
留されている。交流電解槽本体22の内壁面は、送りロ
ーラ24を囲むように略円筒状に形成されており、前記
内壁面上には、半円筒状の主極26Aおよび26Bが送
りローラ24を挟んで設けられている。主極26Aおよ
び26Bは、複数の小電極に分割され、それぞれの小電
極の間には、絶縁性のスペーサーが介装されている。小
電極は、例えば、グラファイトや金属を用いて形成する
ことができ、スペーサーは、例えば、塩化ビニル樹脂に
より形成することができる。スペーサーの厚さは1〜1
0mmであるのが好ましい。また、図3においては簡略
的に示したが、主極26Aおよび26Bのいずれにおい
ても、スペーサーにより分割された小電極のそれぞれが
交流電源Tacに接続されている。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an example of an electrolytic surface-roughening apparatus having a radial AC electrolytic cell suitably used in the present invention. The electrolytic surface-roughening treatment device 104 includes an AC electrolytic cell 20 having an AC electrolytic cell main body 22 in which an acidic aqueous solution is stored, and an AC electrolytic cell 20 housed inside the AC electrolytic cell main body 22 and rotatably arranged around an axis extending in a horizontal direction. And a feed roller 24 that feeds the aluminum web W from left to right in FIG. 3 in the transport direction a.
The acidic aqueous solution described above is stored inside the AC electrolytic cell main body 22. The inner wall surface of the AC electrolytic cell main body 22 is formed in a substantially cylindrical shape so as to surround the feed roller 24, and semi-cylindrical main poles 26A and 26B are provided on the inner wall surface with the feed roller 24 interposed therebetween. Have been. The main poles 26A and 26B are divided into a plurality of small electrodes, and an insulating spacer is interposed between the small electrodes. The small electrode can be formed using, for example, graphite or a metal, and the spacer can be formed, for example, from a vinyl chloride resin. Spacer thickness is 1 to 1
It is preferably 0 mm. Further, although simplified in FIG. 3, in each of the main electrodes 26A and 26B, each of the small electrodes divided by the spacer is connected to the AC power supply Tac .

【0046】交流電解槽20の上部には、アルミニウム
ウェブWを交流電解槽本体22に導入し、また、導出す
るための開口部22Aが形成されている。交流電解槽本
体22における開口部22Aの近傍には、交流電解槽本
体22に酸性水溶液を補充する給液ノズル28Aが設け
られている。また、給液ノズル28Bも別途設けられて
いる。交流電解槽20の上方における開口部22A近傍
には、アルミニウムウェブWを交流電解槽本体22内部
に案内する一群の上流側案内ローラ30Aと、交流電解
槽本体22内で電解粗面化処理されたアルミニウムウェ
ブWを外部に案内する一群の下流側案内ローラ30Bと
が配設されている。
In the upper part of the AC electrolytic cell 20, an opening 22A for introducing and leading out the aluminum web W into the AC electrolytic cell main body 22 is formed. In the vicinity of the opening 22A in the AC electrolytic cell main body 22, a liquid supply nozzle 28A for replenishing the AC electrolytic cell main body 22 with an acidic aqueous solution is provided. Also, a liquid supply nozzle 28B is provided separately. In the vicinity of the opening 22A above the AC electrolytic cell 20, a group of upstream guide rollers 30A for guiding the aluminum web W into the AC electrolytic cell main body 22 and electrolytic roughening treatment in the AC electrolytic cell main body 22 are performed. A group of downstream guide rollers 30B for guiding the aluminum web W to the outside is provided.

【0047】交流電解槽20においては、交流電解槽本
体22の下流側に隣接して溢流槽32が設けられてい
る。溢流槽32内部には、上述した酸性水溶液が貯留さ
れている。溢流槽32は、交流電解槽本体22から溢流
した酸性水溶液を一時貯留し、交流電解槽本体22にお
ける酸性水溶液の液面の高さを一定に保持する機能を有
する。
In the AC electrolytic cell 20, an overflow tank 32 is provided adjacent to the downstream side of the AC electrolytic cell main body 22. The above-mentioned acidic aqueous solution is stored inside the overflow tank 32. The overflow tank 32 has a function of temporarily storing the acidic aqueous solution overflowing from the AC electrolytic cell main body 22 and maintaining the level of the acidic aqueous solution in the AC electrolytic tank main body 22 at a constant level.

【0048】交流電解槽本体22と溢流槽32との間に
は、補助電解槽34が設けられている。補助電解槽34
は、交流電解槽本体22よりも浅く、底面34Aが平面
状に形成されている。そして、底面34A上には、円柱
状の補助電極36が複数本儲けられている。補助電解槽
34内部には上述した酸性水溶液が貯留されている。補
助電極36は、白金等の高耐食性の金属、フェライト等
により形成されているのが好ましい。また、補助電極3
6は板状であってもよい。補助電極36は、交流電源T
acにおける主極26Bが接続される側に、主極26Bに
対して並列に接続され、中間には、サイリスタTh4
が、点弧時に交流電源Tacにおける前記側から補助電極
36に向かって電流が流れるように接続されている。ま
た、交流電源Tacにおける主極26Aが接続された側
も、サイリスタTh5を介して補助電極36に接続され
ている。サイリスタTh5も、点弧時に交流電源Tac
おける主極26Aが接続された側から補助電極36に向
かって電流が流れるように接続されている。サイリスタ
Th4およびTh5のいずれを点弧したときも、補助電
極36にはアノード電流が流れる。したがって、サイリ
スタTh4およびTh5を位相制御することにより、補
助電極36に流れるアノード電流の電流値を制御するこ
とができ、したがって、Qc /Qa の値も制御すること
ができる。
An auxiliary electrolytic cell 34 is provided between the AC electrolytic cell main body 22 and the overflow cell 32. Auxiliary electrolytic cell 34
Is shallower than the AC electrolytic cell main body 22, and the bottom surface 34A is formed in a planar shape. A plurality of columnar auxiliary electrodes 36 are provided on the bottom surface 34A. The above-mentioned acidic aqueous solution is stored inside the auxiliary electrolytic cell 34. The auxiliary electrode 36 is preferably formed of a highly corrosion-resistant metal such as platinum, ferrite, or the like. The auxiliary electrode 3
6 may be plate-shaped. The auxiliary electrode 36 is connected to an AC power source T
The thyristor Th4 is connected in parallel with the main pole 26B on the side of the ac where the main pole 26B is connected.
There are connected as a current flows to the auxiliary electrode 36 from the side of the AC power source T ac during ignition. Also, the side main pole 26A in an alternating current power source T ac is connected, it is connected to the auxiliary electrode 36 through the thyristor Th5. Thyristor Th5 is also connected to a current flows from the side where the main pole 26A is connected in an alternating current power source T ac upon ignition an auxiliary electrode 36. The anode current flows through the auxiliary electrode 36 regardless of which of the thyristors Th4 and Th5 is fired. Therefore, by controlling the phases of the thyristors Th4 and Th5, the current value of the anode current flowing through the auxiliary electrode 36 can be controlled, and therefore, the value of Q c / Q a can also be controlled.

【0049】電解粗面化処理装置104の作用について
以下に説明する。図3における左方から、交流電解槽2
0に案内されたアルミニウム合金板Wは、まず、上流側
案内ローラ30Aによって交流電解槽本体22に案内さ
れる。そして、送りローラ24によって図3における左
方から右方に向かって送られ、下流側案内ロ一ラ30B
によって補助電解槽34内に導かれる。交流電解槽本体
22および補助電解槽34の内部において、アルミニウ
ムウェブWは、主極26Aおよび26Bに印加された交
流電流と、補助電極36に印加されたアノード電流とに
より、主極26Aおよび26Bに面する側の表面が粗面
化され、ほぼ均一なハニカムピットが形成される。
The operation of the electrolytic surface roughening treatment device 104 will be described below. From the left side in FIG.
The aluminum alloy plate W guided to 0 is first guided to the AC electrolytic cell main body 22 by the upstream guide roller 30A. Then, the paper is sent from the left to the right in FIG.
Is guided into the auxiliary electrolytic cell 34 by the above. Inside the AC electrolytic cell main body 22 and the auxiliary electrolytic cell 34, the aluminum web W is applied to the main electrodes 26A and 26B by the AC current applied to the main electrodes 26A and 26B and the anode current applied to the auxiliary electrode 36. The surface on the facing side is roughened, and almost uniform honeycomb pits are formed.

【0050】<第2アルカリエッチング処理>第2アル
カリエッチング処理は、上記アルミニウム合金板をアル
カリ溶液に接触させることにより、エッチングを行う。
アルカリの種類、アルミニウム合金板をアルカリ溶液に
接触させる方法およびそれに用いる装置は、第1アルカ
リエッチング処理の場合と同様のものが挙げられる。エ
ッチング量は、電解粗面化処理を施した面については、
0.001〜1g/m2 であるのが好ましい。アルカリ
溶液に用いられるアルカリとしては、第1アルカリエッ
チング処理の場合と同様のものが挙げられる。アルカリ
溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することがで
きるが、0.01〜80質量%であるのが好ましい。ア
ルカリ溶液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。
処理時間は1〜60秒であるのが好ましい。後述する第
2デスマット処理において、硫酸を100g/L以上含
有し、かつ、液温が60℃以上である酸性溶液を用いる
ときは、第2アルカリエッチング処理を省略することも
できる。
<Second Alkali Etching Process> In the second alkali etching process, etching is performed by bringing the aluminum alloy plate into contact with an alkaline solution.
The kind of alkali, the method of bringing the aluminum alloy plate into contact with the alkali solution, and the apparatus used therefor include those similar to those in the case of the first alkali etching treatment. The etching amount is as follows for the surface subjected to electrolytic surface roughening.
It is preferably 0.001 to 1 g / m 2 . As the alkali used for the alkali solution, the same alkali as that used in the first alkali etching treatment can be used. The concentration of the alkali solution can be determined according to the etching amount, but is preferably 0.01 to 80% by mass. The temperature of the alkaline solution is preferably from 20 to 90C.
The processing time is preferably 1 to 60 seconds. In the later-described second desmutting treatment, when an acidic solution containing 100 g / L or more of sulfuric acid and having a liquid temperature of 60 ° C. or more is used, the second alkali etching treatment can be omitted.

【0051】<第2デスマット処理>第2デスマット処
理は、例えば、上記アルミニウム合金板をリン酸、塩
酸、硝酸、硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液
(アルミニウムイオン0.01〜5質量%を含有す
る。)に接触させることにより行う。アルミニウム合金
板を酸性溶液に接触させる方法は、第1デスマット処理
の場合と同様のものが挙げられる。第2デスマット処理
においては、酸性溶液として、後述する陽極酸化処理に
おいて排出される硫酸溶液の廃液を用いるのが好まし
い。また、前記廃液の代わりに、硫酸濃度が100〜6
00g/L、アルミニウムイオン濃度が1〜10g/L
であり、液温が60〜90℃である硫酸溶液を用いるこ
ともできる。第2デスマット処理の液温は、25〜90
℃であるのが好ましい。また、第2デスマット処理の処
理時間は、1〜180秒であるのが好ましい。第2デス
マット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムお
よびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
<Second Desmut Treatment> The second desmut treatment is performed, for example, by subjecting the aluminum alloy plate to an acidic solution of 0.5 to 30% by mass of phosphoric acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid or the like (aluminum ions 0.01 to 30% by mass). 5% by mass.). The method of bringing the aluminum alloy plate into contact with the acidic solution may be the same as in the case of the first desmutting treatment. In the second desmutting treatment, it is preferable to use a waste solution of a sulfuric acid solution discharged in an anodic oxidation treatment described later as the acidic solution. Further, instead of the waste liquid, a sulfuric acid concentration of 100 to 6
00 g / L, aluminum ion concentration of 1 to 10 g / L
It is also possible to use a sulfuric acid solution having a liquid temperature of 60 to 90 ° C. The liquid temperature of the second desmutting treatment is 25 to 90
C. is preferred. The processing time of the second desmutting process is preferably 1 to 180 seconds. Aluminum and aluminum alloy components may be dissolved in the acidic solution used for the second desmutting treatment.

【0052】<陽極酸化処理>以上のように処理された
アルミニウム合金板には、更に、陽極酸化処理が施され
るのが好ましい。陽極酸化処理はこの分野で従来より行
われている方法で行うことができる。具体的には、硫
酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等の単独のまたは
2種以上を組み合わせた水溶液または非水溶液である電
解液の中で、アルミニウム合金板に直流、脈流または交
流を流すとアルミニウム合金板の表面に陽極酸化皮膜を
形成することができる。
<Anodic oxidation treatment> The aluminum alloy plate treated as described above is preferably further subjected to anodizing treatment. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally performed in this field. Specifically, in an electrolytic solution that is an aqueous solution or a non-aqueous solution alone or in combination of two or more of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, and amidesulfonic acid, aluminum When a direct current, a pulsating flow or an alternating current is applied to the alloy plate, an anodic oxide film can be formed on the surface of the aluminum alloy plate.

【0053】この際、少なくともアルミニウム合金板、
電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中
に含まれていても構わない。更には、第2、第3の成分
が添加されていても構わない。ここでいう第2、第3の
成分としては、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、
Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn等の金属のイオン;アンモニウムイオン等の陽
イオン;硝酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン
酸イオン、フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イ
オン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げ
られ、0〜10000ppm程度の濃度で含まれていて
もよい。
At this time, at least an aluminum alloy plate,
Components normally contained in electrodes, tap water, groundwater, and the like may be contained in the electrolytic solution. Further, the second and third components may be added. As the second and third components here, for example, Na, K, Mg, Li, Ca,
Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, C
ions of metals such as u and Zn; cations such as ammonium ion; nitrate ion, carbonate ion, chloride ion, phosphate ion, fluoride ion, sulfite ion, titanate ion, silicate ion, borate ion, etc. Anions are mentioned, and may be contained at a concentration of about 0 to 10000 ppm.

【0054】中でも、特開昭54−12853号公報お
よび特開昭48−45303号公報に記載されているよ
うに、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電
解液中の硫酸濃度は、10〜300g/L(1〜30質
量%)であるのが好ましく、また、アルミニウムイオン
濃度は、1〜25g/L(0.1〜2.5質量%)であ
るのが好ましく、2〜10g/L(0.2〜1質量%)
であるのがより好ましい。このような電解液は、例え
ば、硫酸濃度が50〜200g/Lである希硫酸にアル
ミニウムを添加することにより調製することができる。
In particular, as described in JP-A-54-12853 and JP-A-48-45303, it is preferable to use a sulfuric acid solution as an electrolyte. The concentration of sulfuric acid in the electrolyte is preferably 10 to 300 g / L (1 to 30% by mass), and the concentration of aluminum ion is 1 to 25 g / L (0.1 to 2.5% by mass). Preferably, there is 2 to 10 g / L (0.2 to 1% by mass)
Is more preferable. Such an electrolytic solution can be prepared, for example, by adding aluminum to dilute sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 50 to 200 g / L.

【0055】硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を
行う場合には、アルミニウム合金板に直流を印加しても
よく、交流を印加してもよい。アルミニウム合金板に直
流を印加する場合においては、電流密度は、1〜60A
/dm2 であるのが好ましく、5〜40A/dm2 であ
るのがより好ましい。連続的に陽極酸化処理を行う場合
には、アルミニウム合金板の一部に電流が集中していわ
ゆる「焼け」が生じないように、陽極酸化処理の開始当
初は、5〜10A/m2 の低電流密度で電流を流し、陽
極酸化処理が進行するにつれ、30〜50A/dm2
たはそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。連
続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム合金
板に、電解液を介して給電する液給電方式により行うの
が好ましい。
When the anodic oxidation treatment is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid, a direct current or an alternating current may be applied to the aluminum alloy plate. When a direct current is applied to the aluminum alloy plate, the current density is 1 to 60 A
/ Dm 2 , and more preferably 5 to 40 A / dm 2 . In the case where the anodic oxidation treatment is performed continuously, a low level of 5 to 10 A / m 2 is used at the beginning of the anodic oxidation treatment so that current is not concentrated on a part of the aluminum alloy plate and so-called “burn” does not occur. It is preferable to supply a current at a current density and increase the current density to 30 to 50 A / dm 2 or more as the anodizing treatment proceeds. In the case where the anodic oxidation treatment is continuously performed, it is preferable to perform the anodic oxidation treatment by a liquid power supply system in which the aluminum alloy plate is supplied with power through an electrolytic solution.

【0056】アルミニウム合金板に給電する電極として
は、鉛、酸化イリジウム、白金、フェライト等により形
成された電極を用いることができる。中でも、主に酸化
イリジウムから形成された電極、および、基材の表面を
酸化イリジウムで被覆した電極が好ましい。そのような
基材としては、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニウ
ム等のいわゆるバルブ金属を用いるのが好ましく、バル
ブ金属の中でも、チタン、ニオブが好ましい。バルブ金
属は、比較的電気抵抗が大きいため、銅からなる芯材の
表面にバルブ金属をクラッドして基材を形成させてもよ
い。銅からなる芯材の表面にバルブ金属をクラッドする
場合には、複雑な形状の基材を作製することは困難であ
るため、基材を各部品毎に分割した形態の芯材にバルブ
金属をクラッドし、その後、各部品を組み合わせて基材
を組み立ててもよい。
As an electrode for supplying power to the aluminum alloy plate, an electrode formed of lead, iridium oxide, platinum, ferrite, or the like can be used. Among them, an electrode mainly formed of iridium oxide and an electrode in which the surface of a substrate is covered with iridium oxide are preferable. As such a substrate, it is preferable to use a so-called valve metal such as titanium, tantalum, niobium, and zirconium. Among the valve metals, titanium and niobium are preferable. Since the valve metal has relatively high electric resistance, the base material may be formed by cladding the valve metal on the surface of a core material made of copper. When a valve metal is clad on the surface of a copper core material, it is difficult to produce a base material having a complicated shape. After cladding, the base material may be assembled by combining the components.

【0057】陽極酸化処理の条件は、使用される電解液
によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一
般的には電解液濃度1〜80質量%、液温5〜70℃、
電流密度1〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10〜300秒であるのが適当である。陽極酸化処
埋は、陽極酸化皮膜量が1〜5g/m2 になるように行
うのが、平版印刷版の耐刷性の点から好ましい。また、
アルミニウム合金板の中央部と縁部近傍との間の陽極酸
化皮膜量の差が1g/m2 以下になるように行うのが好
ましい。
The conditions of the anodic oxidation treatment cannot be unconditionally determined because it varies depending on the electrolytic solution to be used.
It is appropriate that the current density is 1 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 to 300 seconds. The anodic oxidation treatment is preferably performed so that the amount of the anodic oxide film becomes 1 to 5 g / m 2 from the viewpoint of the printing durability of the lithographic printing plate. Also,
It is preferable to carry out the process so that the difference in the amount of the anodic oxide film between the center and the vicinity of the edge of the aluminum alloy plate is 1 g / m 2 or less.

【0058】<封孔処理>本発明においては、陽極酸化
皮膜を形成させたアルミニウム合金板を、沸騰水、熱水
または水蒸気に接触させて陽極酸化処理に存在する小孔
(マイクロポア)を封じる封孔処理を行ってもよい。こ
れらは、公知の方法に従って行うことができる。
<Pore Sealing> In the present invention, the aluminum alloy plate having the anodic oxide film formed thereon is brought into contact with boiling water, hot water or steam to seal the small holes (micropores) present in the anodic oxidation. A sealing treatment may be performed. These can be performed according to a known method.

【0059】<親水化処理>陽極酸化処理後または封孔
処理後、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケ
イ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリ
マーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗り層を
形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好まし
い。ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸
塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,71
4,066号明細書および米国特許第3,181,46
1号明細書に記載されている方法および手順に従って行
うことができる。また、親水性の下塗り層の形成による
親水化処理は、特開昭59−101651号公報および
特開昭60−149491号公報に記載されている条件
および手順に従って行うことができる。この方法に用い
られる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビ
ニルスルホン酸、スルホン酸基を有するp−スチレンス
ルホン酸等のスルホン酸基含有ビニル重合性化合物と
(メタ)アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル
重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方
法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−NH
2 基、−COOH基およびスルホ基からなる群から選ば
れる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。
<Hydrophilic treatment> After anodic oxidation treatment or pore sealing treatment, a method of dipping in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate, potassium silicate, or the like, by applying a hydrophilic vinyl polymer or a hydrophilic compound. It is preferable to perform a hydrophilization treatment by a method of forming a hydrophilic undercoat layer by a method such as the above. The hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is disclosed in US Pat.
No. 4,066 and US Pat. No. 3,181,46.
It can be carried out according to the method and procedure described in the specification. The hydrophilization treatment by forming a hydrophilic undercoat layer can be performed in accordance with the conditions and procedures described in JP-A-59-101651 and JP-A-60-149491. Examples of the hydrophilic vinyl polymer used in this method include, for example, polyvinyl sulfonic acid, a sulfonic acid group-containing vinyl polymerizable compound such as p-styrenesulfonic acid having a sulfonic acid group, and a normal (meth) acrylic acid alkyl ester. A copolymer with a vinyl polymerizable compound is exemplified. Further, as the hydrophilic compound used in this method, for example, -NH
Compounds having at least one selected from the group consisting of two groups, a -COOH group and a sulfo group are exemplified.

【0060】上記に詳細に説明した本発明の平版印刷版
用支持体の製造方法によれば、アルミニウム含有率が低
く、低価格のアルミニウム合金板を用いた場合であって
も、表面の凹凸が均一な平版印刷版用支持体を得ること
ができる。また、本発明の平版印刷版用支持体の製造方
法により得られた平版印刷版用支持体は、後述するよう
に感光層を設け平版印刷版原版とすると、これを製版し
て平版印刷版としたときに、印刷性能に優れ、かつ、版
切れが起こりにくい。
According to the method for manufacturing a lithographic printing plate support of the present invention described in detail above, even when a low-priced aluminum alloy plate having a low aluminum content is used, the unevenness of the surface is reduced. A uniform lithographic printing plate support can be obtained. The lithographic printing plate support obtained by the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention is provided with a photosensitive layer as described below to form a lithographic printing plate precursor. When printing is performed, the printing performance is excellent and the plate is hardly broken.

【0061】<感光層>本発明により得られる平版印刷
版用支持体に、感光層を設けて、平版印刷版原版が得ら
れる。感光層は、特に限定されないが、例えば、通常の
可視光で露光する可視光露光型製版層、赤外線レーザ光
等のレーザ光で露光するレーザ露光型製版層が挙げられ
る。以下、可視光露光型製版層およびレーザ露光型製版
層について説明する。
<Photosensitive layer> A lithographic printing plate precursor is obtained by providing a photosensitive layer on the lithographic printing plate support obtained by the present invention. The photosensitive layer is not particularly limited, and examples thereof include a visible light exposure type plate making layer that is exposed with ordinary visible light and a laser exposure type plate making layer that is exposed with a laser beam such as an infrared laser beam. Hereinafter, the visible light exposure type plate making layer and the laser exposure type plate making layer will be described.

【0062】(1)可視光露光型製版層 可視光露光型製版層は、感光性樹脂および必要に応じて
着色剤等を含有する組成物により形成することができ
る。感光性樹脂としては、光が当たると現像液に溶ける
ようになるボジ型感光性樹脂、光が当たると現像液に溶
解しなくなるネガ型感光性樹脂が挙げられる。ポジ型感
光性樹脂としては、例えば、キノンジアジド化合物、ナ
フトキノンジアジド化合物等のジアジド化合物と、フェ
ノールノボラック樹脂、クレゾール−ノボラック樹脂等
のフェノール樹脂との組み合わせが挙げられる。ネガ型
感光性樹脂としては、例えば、ジアゾ樹脂(例えば、芳
香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等のアルデヒド
類との縮合物)、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、前記ジア
ゾ樹脂の有機酸塩等のジアゾ化合物と、(メタ)アクリ
レート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等の結
合剤との組み合わせ、(メタ)アクリレート樹脂、ポリ
スチレン樹脂等のビニルポリマーと、(メタ)アクリル
酸エステル、スチレン等のビニル重合性化合物と、ベン
ゾイン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン
誘導体等の光重合開始剤との組み合わせが挙げられる。
(1) Visible Light Exposure Type Plate Making Layer The visible light exposure type plate making layer can be formed of a composition containing a photosensitive resin and, if necessary, a coloring agent and the like. Examples of the photosensitive resin include a bodi-type photosensitive resin which becomes soluble in a developing solution when exposed to light, and a negative-type photosensitive resin which becomes insoluble in a developing solution when exposed to light. Examples of the positive photosensitive resin include a combination of a diazide compound such as a quinonediazide compound or a naphthoquinonediazide compound and a phenol resin such as a phenol novolak resin or a cresol-novolak resin. Examples of the negative photosensitive resin include diazo resins (for example, a condensate of an aromatic diazonium salt with an aldehyde such as formaldehyde), an inorganic acid salt of the diazo resin, and a diazo compound such as an organic acid salt of the diazo resin. And a binder such as a (meth) acrylate resin, a polyamide resin, or a polyurethane resin; a vinyl polymer such as a (meth) acrylate resin or a polystyrene resin; and a vinyl polymerizable compound such as a (meth) acrylate or styrene. Benzoin derivatives, benzophenone derivatives, thioxanthone derivatives and the like.

【0063】着色剤としては、通常の色素のほか、露光
により発色する露光発色色素、露光によりほとんどまた
は完全に無色になる露光消色色素等を用いることができ
る。露光発色色素としては、例えば、ロイコ色素が挙げ
られる。露光消色色素としては、例えば、トリフェニル
メタン系色素、ジフェニルメタン系色素、オキザジン系
色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、
アゾメチン系色素、アントラキノン系色素が挙げられ
る。
As the coloring agent, besides ordinary dyes, there can be used, for example, an exposed coloring dye which develops a color upon exposure, an exposure decoloring dye which becomes almost or completely colorless upon exposure. Examples of the exposure coloring dye include a leuco dye. Exposure decolorizable dyes, for example, triphenylmethane dyes, diphenylmethane dyes, oxazine dyes, xanthene dyes, iminonaphthoquinone dyes,
Azomethine dyes and anthraquinone dyes are exemplified.

【0064】可視光露光型製版層は、例えば、上記感光
性樹脂と上記着色剤とを溶剤に配合した感光性樹脂溶液
を塗布し、その後、乾燥させることにより形成すること
ができる。感光性樹脂溶液に用いられる溶剤としては、
上記感光性樹脂を溶解することができ、かつ、室温であ
る程度の揮発性を有する溶剤が挙げられる。具体的に
は、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステ
ル系溶剤、エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶
剤、アミド系溶剤、炭酸エステル系溶剤が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、例えば、エタノール、プロ
パノール、ブタノールが挙げられる。ケトン系溶剤とし
ては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチル
ケトンが挙げられる。エステル系溶剤としては、例え
ば、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸メチル、ギ酸エチ
ルが挙げられる。エーテル系溶剤としては、例えば、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンが挙げられる。グリコー
ルエーテル系溶剤としては、例えば、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられ
る。アミド系溶剤としては、例えば、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドが挙げられる。炭酸エステ
ル系溶剤としては、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピ
レン、炭酸ジエチル、炭酸ジブチルが挙げられる。
The visible light exposure type plate-making layer can be formed, for example, by applying a photosensitive resin solution prepared by mixing the above-mentioned photosensitive resin and the above-mentioned coloring agent in a solvent, and then drying it. As the solvent used in the photosensitive resin solution,
Examples of the solvent include a solvent that can dissolve the photosensitive resin and has a certain degree of volatility at room temperature. Specific examples include alcohol solvents, ketone solvents, ester solvents, ether solvents, glycol ether solvents, amide solvents, and carbonate solvents.
Examples of the alcohol-based solvent include ethanol, propanol, and butanol. Examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl isopropyl ketone, and diethyl ketone. Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, and ethyl formate. Examples of the ether solvent include tetrahydrofuran and dioxane. Examples of the glycol ether solvent include ethyl cellosolve, methyl cellosolve, and butyl cellosolve. Examples of the amide-based solvent include dimethylformamide and dimethylacetamide. Examples of the carbonate-based solvent include ethylene carbonate, propylene carbonate, diethyl carbonate, and dibutyl carbonate.

【0065】感光性樹脂溶液の塗布方法は、特に限定さ
れず、回転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布
法、エアーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布
法等の従来公知の方法を用いることができる。
The method of applying the photosensitive resin solution is not particularly limited, and conventionally known methods such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, and blade coating are used. be able to.

【0066】(2)レーザ露光型製版層 レーザ露光型製版層としては、例えば、レーザ光を照射
した部分が残存するネガ型レーザ製版層、レーザ光を照
射した部分が除去されるポジ型レーザ製版層、レーザ光
を照射すると光重合する光重合型レーザ製版層が主なも
のとして挙げられる。
(2) Laser exposure type plate making layer As the laser exposure type plate making layer, for example, a negative type laser plate making layer in which a portion irradiated with a laser beam remains, or a positive type laser plate making in which a portion irradiated with a laser beam is removed The main layer is a photopolymerization type laser plate making layer which is photopolymerized when irradiated with a laser beam.

【0067】ネガ型レーザ製版層は、(A)熱または光
により分解して酸を発生させる酸前駆体、(B)酸前駆
体(A)が分解して発生した酸により架橋する酸架橋性
化合物、(C)アルカリ可溶性樹脂、(D)赤外線吸収
剤、および(E)フェノール性水酸基含有化合物を適当
な溶剤に溶解させ、または懸濁させたネガ型レーザ製版
層形成液を用いて形成することができる。
The negative type laser plate making layer is composed of (A) an acid precursor which decomposes by heat or light to generate an acid, and (B) an acid crosslinkable crosslinkable by an acid generated by decomposing the acid precursor (A). It is formed using a negative type laser plate making layer forming solution in which a compound, (C) an alkali-soluble resin, (D) an infrared absorber, and (E) a phenolic hydroxyl group-containing compound are dissolved or suspended in an appropriate solvent. be able to.

【0068】酸前駆体(A)としては、例えば、イミノ
フォスフェート化合物のように、紫外光、可視光または
熱により分解してスルホン酸を発生させる化合物が挙げ
られる。ほかには、光カチオン重合開始剤、光ラジカル
重合開始剤、光変色剤等として一般に使用されている化
合物も、酸前駆体(A)として用いることができる。酸
架橋性化合物(B)としては、例えば、アルコキシメチ
ル基およびヒドロキシル基のうち少なくとも一方を有す
る芳香族化合物、N−ヒドロキシメチル基、N−アルコ
キシメチル基またはN−アシルオキシメチル基を有する
化合物、エポキシ化合物が挙げられる。アルカリ可溶性
樹脂(C)としては、例えば、ノボラック樹脂、ポリ
(ヒドロシスチレン)等の側鎖にヒドロキシアリール基
を有するポリマーが挙げられる。
As the acid precursor (A), for example, a compound such as an iminophosphate compound, which is decomposed by ultraviolet light, visible light or heat to generate a sulfonic acid, can be mentioned. In addition, compounds generally used as a photocationic polymerization initiator, a photoradical polymerization initiator, a photochromic agent, and the like can also be used as the acid precursor (A). Examples of the acid-crosslinkable compound (B) include an aromatic compound having at least one of an alkoxymethyl group and a hydroxyl group, a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, and an epoxy compound. Compounds. Examples of the alkali-soluble resin (C) include a polymer having a hydroxyaryl group in a side chain such as a novolak resin and poly (hydroxystyrene).

【0069】赤外線吸収剤(D)としては、例えば、波
長760〜1200nmの赤外線を吸収する染料および
顔料が挙げられる。具体的には、例えば、黒色顔料、赤
色顔料、金属粉顔料、フタロシアニン系顔料;前記波長
の赤外線を吸収するアゾ染料、アントラキノン染料、フ
タロシアニン染料、シアニン色素が挙げられる。フェノ
ール性水酸基含有化合物(E)としては、例えば、一般
式(R1 −X) n −Ar−(OH)m (式中、R1 は、
炭素数6〜32のアルキル基またはアルケニル基であ
り、Xは、単結合、O、S、COOまたはCONHであ
り、Arは、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基また
は複素環基であり、nおよびmは、それぞれ1〜8の自
然数である。)で表される化合物が挙げられる。そのよ
うな化合物としては、例えば、ノニルフェノール等のア
ルキルフェノール類が挙げられる。ネガ型レーザ製版層
形成液には、上記各成分のほかに、可塑剤等を配合する
こともできる。
As the infrared absorbing agent (D), for example,
A dye that absorbs infrared light having a length of 760 to 1200 nm;
Pigments. Specifically, for example, black pigment, red
Color pigment, metal powder pigment, phthalocyanine pigment;
Azo dyes, anthraquinone dyes,
Talocyanine dyes and cyanine dyes are exemplified. Pheno
As the hydroxyl group-containing compound (E), for example,
The formula (R1-X) n-Ar- (OH)m(Where R1Is
An alkyl or alkenyl group having 6 to 32 carbon atoms;
X is a single bond, O, S, COO or CONH
Ar represents an aromatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group or
Is a heterocyclic group, and n and m are each independently 1 to 8
It is a number. )). That's it
Such compounds include, for example, compounds such as nonylphenol.
Alkylphenols. Negative type laser plate making layer
In the forming liquid, in addition to the above components, a plasticizer and the like are blended.
You can also.

【0070】ボジ型レーザ製版層は、(F)アルカリ可
溶性高分子、(G)アルカリ溶解阻害剤、および(H)
赤外線吸収剤を適当な溶剤に溶解させ、または懸濁させ
たポジ型レーザ製版層形成液を用いて形成することがで
きる。アルカリ可溶性高分子(F)としては、例えば、
フェノール樹脂、クレゾール樹脂、ノボラック樹脂、ピ
ロガロール樹脂、ポリ(ヒドロキシスチレン)等のフェ
ノール性水酸基を有するフェノール系ポリマー;少なく
とも一部のモノマー単位がスルホンアミド基を有するポ
リマーであるスルホンアミド基含有ポリマー;N−(p
−トルエンスルホニル)(メタ)アクリルアミド基等の
活性イミド基を有するモノマーの単独重合または共重合
により得られる活性イミド基含有ポリマーが挙げられ
る。
The Boji type laser plate making layer comprises (F) an alkali-soluble polymer, (G) an alkali dissolution inhibitor, and (H)
It can be formed using a positive-type laser plate making layer forming solution in which an infrared absorber is dissolved or suspended in an appropriate solvent. As the alkali-soluble polymer (F), for example,
A phenolic polymer having a phenolic hydroxyl group such as a phenolic resin, a cresol resin, a novolak resin, a pyrogallol resin, or poly (hydroxystyrene); a polymer having a sulfonamide group in which at least a part of the monomer unit has a sulfonamide group; − (P
Active imide group-containing polymer obtained by homopolymerization or copolymerization of a monomer having an active imide group such as -toluenesulfonyl) (meth) acrylamide group.

【0071】アルカリ溶解阻害剤(G)としては、例え
ば、加熱等によりアルカリ可溶性高分子(F)と反応し
てアルカリ可溶性高分子(F)のアルカリ溶解性を低下
させる化合物が挙げられる。具体的には、例えば、スル
ホン化合物、アンモニウム塩、スルホニウム塩、アミド
化合物が挙げられる。アルカリ可溶性高分子(F)とア
ルカリ溶解阻害剤(G)の組み合わせとしては、アルカ
リ可溶性高分子(F)としてノボラック樹脂、アルカリ
溶解阻害剤(G)としてスルホン化合物の一種であるシ
アニン色素の組み合わせが好適に挙げられる。赤外線吸
収剤(H)としては、例えば、スクワリリウム色素、ピ
リリウム色素、カーボンブラック、不溶性アゾ染料、ア
ントラキノン系染料等の波長750〜1200nmの赤
外域に吸収領域があり、光/熱変換能を有する色素、染
料および顔料が挙げられる。
Examples of the alkali dissolution inhibitor (G) include compounds that react with the alkali-soluble polymer (F) by heating or the like to reduce the alkali solubility of the alkali-soluble polymer (F). Specific examples include a sulfone compound, an ammonium salt, a sulfonium salt, and an amide compound. Examples of the combination of the alkali-soluble polymer (F) and the alkali dissolution inhibitor (G) include a combination of a novolak resin as the alkali-soluble polymer (F) and a cyanine dye which is a kind of a sulfone compound as the alkali dissolution inhibitor (G). Preferred examples are given. Examples of the infrared absorbing agent (H) include a squarylium dye, a pyrylium dye, carbon black, an insoluble azo dye, and an anthraquinone dye, which have an absorption region in an infrared region of a wavelength of 750 to 1200 nm and have a light / heat conversion ability. , Dyes and pigments.

【0072】光重合型レーザ製版層は、(I)分子末端
にエチレン性不飽和結合を有するビニル重合性化合物を
含有する光重合型レーザ製版層形成液を用いて形成する
ことができる。光重合型レーザ製版層形成液には、必要
に応じて、(J)光重合開始剤、(K)増感剤等を配合
することができる。ビニル重合性化合物(I)として
は、例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイ
ン酸等のエチレン性不飽和カルボン酸と脂肪族多価アル
コールとのエステルであるエチレン性不飽和カルボン酸
多価エステル;前記エチレン性不飽和カルボン酸と多価
アミンとからなるメチレンビス(メタ)アクリルアミ
ド;キシリレン(メタ)アクリルアミド等のエチレン性
不飽和カルボン酸多価アミドが挙げられる。ビニル重合
性化合物(I)としては、ほかに、スチレン、α−メチ
ルスチレン等の芳香族ビニル化合物;(メタ)アクリル
酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等のエチレン性不
飽和カルボン酸モノエステルが挙げられる。光重合開始
剤(J)としては、ビニル系モノマーの光重合に通常使
用される光重合開始剤を用いることができる。増感剤
(K)としては、例えば、チタノセン化合物、トリアジ
ン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイミダゾー
ル系化合物、シアニン色素、メロシアニン色素、キサン
テン色素、クマリン色素が挙げられる。
The photopolymerization type laser plate making layer can be formed using (I) a photopolymerization type laser plate making layer forming solution containing a vinyl polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond at a molecular terminal. The photopolymerization type laser plate making layer forming liquid may optionally contain (J) a photopolymerization initiator, (K) a sensitizer, and the like. Examples of the vinyl polymerizable compound (I) include, for example, ethylenically unsaturated carboxylic acid polyvalent, which is an ester of an ethylenically unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, and maleic acid with an aliphatic polyhydric alcohol. Esters; methylene bis (meth) acrylamide comprising the above ethylenically unsaturated carboxylic acid and a polyvalent amine; and polyethylenically unsaturated carboxylic acid amides such as xylylene (meth) acrylamide. Other examples of the vinyl polymerizable compound (I) include aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene; and ethylenically unsaturated carboxylic acid monoesters such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate. No. As the photopolymerization initiator (J), a photopolymerization initiator generally used for photopolymerization of a vinyl monomer can be used. Examples of the sensitizer (K) include titanocene compounds, triazine compounds, benzophenone compounds, benzimidazole compounds, cyanine dyes, merocyanine dyes, xanthene dyes, and coumarin dyes.

【0073】上述したネガ型レーザ製版層形成液、ポジ
型レーザ製版層形成液および光重合型レーザ製版層形成
液に使用される溶剤、ならびに、ネガ型レーザ製版層形
成液、ポジ型レーザ製版層形成液および光重合型レーザ
製版層形成液の塗布方法については、上記感光性樹脂溶
液について挙げた溶剤および塗布方法を用いることがで
きる。なお、光重合型レーザ製版層を形成させる場合に
おいては、シラン化合物を水、アルコールまたはカルボ
ン酸で部分分解して得られる部分分解型シラン化合物等
の反応性官能基を有するシリコーン化合物を用いて、平
版印刷版用支持体の粗面化処理面をあらかじめ処理して
おくと、支持体と光重合型レーザ製版層との接着性が向
上するため好ましい。
Solvents used in the negative type laser plate making layer forming liquid, the positive type laser plate making layer forming liquid and the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, and the negative type laser plate making layer forming liquid and the positive type laser plate making layer As for the method of applying the forming liquid and the photopolymerization type laser plate making layer forming liquid, the solvents and coating methods described for the above photosensitive resin solution can be used. In the case of forming a photopolymerization type laser plate making layer, using a silicone compound having a reactive functional group such as a partially decomposed silane compound obtained by partially decomposing a silane compound with water, alcohol or carboxylic acid, It is preferable to treat the roughened surface of the lithographic printing plate support in advance, since the adhesion between the support and the photopolymerization type laser plate making layer is improved.

【0074】<マット層>上記のようにして設けられた
感光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の
真空引きの時間を短縮し、かつ、焼きボケを防止するた
め、マット層が設けられてもよい。具体的には、特開昭
50−125805号公報、特公昭57−6582号公
報、同61−28986号公報に記載されているような
マット層を設ける方法、特公昭62−62337号公報
に記載されているような固体粉末を熱蒸着させる方法等
が挙げられる。
<Matte layer> On the surface of the photosensitive layer provided as described above, in order to reduce the time for evacuation during contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent burning blur, A mat layer may be provided. Specifically, a method of providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582, and JP-A-61-28986 is described in JP-B-62-62337. And a method of thermally depositing such a solid powder.

【0075】<バックコート層>上述したようにして得
られる平版印刷版原版には、重ねても感光層が傷付かな
いように、裏面(感光層が設けられない側の面)に、有
機高分子化合物からなる被覆層(以下「バックコート
層」ともいう。)を必要に応じて設けてもよい。バック
コート層の主成分としては、ガラス転移点が20℃以上
の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポ
リビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共重合樹
脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を用い
るのが好ましい。
<Backcoat layer> The lithographic printing plate precursor obtained as described above is provided with an organic coating on the back surface (the surface on which the photosensitive layer is not provided) so that the photosensitive layer is not damaged even when it is overlaid. A coating layer made of a molecular compound (hereinafter, also referred to as a “backcoat layer”) may be provided as necessary. As a main component of the back coat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin and a vinylidene chloride copolymerized resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used. Is preferred.

【0076】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボ
ン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル
酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロ
ルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼ
ライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン
酸、マロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等
の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。
The saturated copolymerized polyester resin comprises a dicarboxylic acid unit and a diol unit. Examples of the dicarboxylic acid unit include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, and tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid, suberic acid, and sebacic acid , Malonic acid, saturated aliphatic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

【0077】バックコート層は、更に、着色のための染
料や顔料、支持体との密着性を向上させるためのシラン
カップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、
有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑
り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級
脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン
化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等
を適宜含有することができる。
The back coat layer further comprises a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving adhesion to a support, a diazo resin comprising a diazonium salt,
An organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid, a cationic polymer, a wax usually used as a slipping agent, a higher fatty acid, a higher fatty acid amide, a silicone compound composed of dimethylsiloxane, a modified dimethylsiloxane, a polyethylene powder and the like can be appropriately contained.

【0078】バックコート層の厚さは、基本的には合紙
がなくても、感光層を傷付けにくい程度であればよく、
0.01〜8μmであるのが好ましい。厚さが0.01
μm未満であると、平版印刷版原版を重ねて取り扱った
場合の感光層の擦れ傷を防ぐことが困難である。また、
厚さが8μmを超えると、印刷中、平版印刷版周辺で用
いられる薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが
変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させることがあ
る。
The thickness of the back coat layer may be basically such that the photosensitive layer is not easily damaged even without the slip sheet.
It is preferably from 0.01 to 8 μm. Thickness 0.01
If it is less than μm, it is difficult to prevent the photosensitive layer from being scratched when the lithographic printing plate precursors are handled in an overlapping manner. Also,
If the thickness exceeds 8 μm, during printing, the back coat layer swells due to chemicals used around the lithographic printing plate, causing the thickness to fluctuate, changing the printing pressure and deteriorating printing characteristics.

【0079】バックコート層を平版印刷版原版の裏面に
設ける方法としては、種々の方法を用いることができ
る。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に
溶解させ溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗
布し、乾燥する方法;あらかじめフィルム状に成形した
ものを接着剤や熱での平版印刷版原版に貼り合わせる方
法;溶融押出機で溶融被膜を形成し、平版印刷版原版に
貼り合わせる方法が挙げられる。好適な厚さを確保する
うえで最も好ましいのは、バックコート層用成分を適当
な溶媒に溶解させ溶液にして塗布し、乾燥する方法であ
る。この方法においては、特開昭62−251739号
公報に記載されているような有機溶剤を単独でまたは混
合して、溶媒として用いることができる。
Various methods can be used for providing the back coat layer on the back surface of the lithographic printing plate precursor. For example, a method of dissolving the above components for the backcoat layer in an appropriate solvent and applying the solution, or applying an emulsified dispersion and applying the applied solution, followed by drying; A method of bonding to a printing plate precursor: a method of forming a molten coating with a melt extruder and bonding to a lithographic printing plate precursor. The most preferable method for securing a suitable thickness is a method in which the components for the back coat layer are dissolved in a suitable solvent, applied as a solution, and dried. In this method, an organic solvent described in JP-A-62-251739 can be used alone or as a mixture.

【0080】平版印刷版原版の製造においては、裏面の
バックコート層と表面の感光層のどちらを先に支持体上
に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。
In the production of a lithographic printing plate precursor, either the back coat layer on the back surface or the photosensitive layer on the front surface may be provided first on the support, or both may be provided simultaneously.

【0081】このようにして得られた平版印刷版原版
を、必要に応じて、適当な大きさに裁断して、露光し現
像して製版することにより、平版印刷版が得られる。可
視光露光型製版層(感光性製版層)を設けた平版印刷版
原版の場合には、印刷画像が形成された透明フィルムを
重ねて通常の可視光を照射することにより露光し、その
後、現像を行うことにより製版することができる。レー
ザ露光型製版層を設けた平版印刷版原版の場合には、各
種レーザ光を照射して印刷画像を直接書き込むことによ
り露光し、その後、現像することにより製版することが
できる。
The lithographic printing plate precursor thus obtained is cut into a suitable size, if necessary, exposed, developed and plate-made to obtain a lithographic printing plate. In the case of a lithographic printing plate precursor provided with a visible light exposure type plate making layer (photosensitive plate making layer), a transparent film on which a printed image is formed is exposed by irradiating it with ordinary visible light, and then developed. The plate making can be performed by performing In the case of a lithographic printing plate precursor provided with a laser-exposed type plate-making layer, plate making can be performed by irradiating various laser beams to directly write a print image to expose and then developing.

【0082】[0082]

【実施例】以下に実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限られるものではない。 1.平版印刷版用支持体の製造 (実施例1−1〜1−24および比較例1−1)第2表
に示すように、第1表に示す組成の各アルミニウム合金
板に、各表面処理を施し、各平版印刷版用支持体を得
た。第2表に示す表面処理は、機械的粗面化処理、第1
アルカリエッチング処理、第1デスマット処理、電気化
学的粗面化処理、第2アルカリエッチング処理、第2デ
スマット処理、陽極酸化処理および親水化処理を、この
順に組み合わせて行ったものである。各処理の詳細は、
以下のとおりである。なお、各処理の後には、スプレー
による水洗を行い、また、各処理および水洗の後にはニ
ップローラで液切りを行った。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto. 1. Production of Lithographic Printing Plate Support (Examples 1-1 to 1-24 and Comparative Example 1-1) As shown in Table 2, each aluminum alloy plate having the composition shown in Table 1 was subjected to each surface treatment. To obtain a lithographic printing plate support. The surface treatments shown in Table 2 are mechanical surface roughening treatments,
An alkali etching treatment, a first desmutting treatment, an electrochemical graining treatment, a second alkali etching treatment, a second desmutting treatment, an anodic oxidation treatment and a hydrophilic treatment are combined in this order. For details of each process,
It is as follows. Note that, after each treatment, washing with water was performed by spraying, and after each treatment and washing, liquid was removed with a nip roller.

【0083】(1)機械的粗面化処理 図4に示したような装置を使って、平均粒径20μmの
研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液(比
重1.12)として、スプレー管でアルミニウム合金板
の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラ
シにより機械的粗面化処理を行った。図4において、5
1はアルミニウム合金板、52および54はローラ状ブ
ラシ、53は研磨スラリー液、55、56、57および
58は支持ローラである。ナイロンブラシの材質は6・
10ナイロン、毛長は60mm、毛の直径は0.295
mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステン
レス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転
ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ
(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシ
ローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラ
シローラをアルミニウム合金板に押さえつける前の負荷
に対して管理し、その差は1.5kWであった。ブラシ
の回転方向はアルミニウム合金板の移動方向と同じであ
った。ブラシの回転数は250rpmであった。機械的
粗面化処理後の算術平均粗さ(JIS B0601−1
994に準拠してカットオフ値0.3mm、評価長さ3
mmで測定した。)は、いずれも0.3〜0.5μmの
範囲の値であった。
(1) Mechanical Roughening Treatment Using an apparatus as shown in FIG. 4, a suspension of an abrasive (silica sand) having an average particle diameter of 20 μm and water is polished into a polishing slurry liquid (specific gravity: 1. As 12), a mechanical surface roughening treatment was performed by a rotating roller-shaped nylon brush while supplying the aluminum alloy plate to the surface with a spray pipe. In FIG.
1 is an aluminum alloy plate, 52 and 54 are roller-like brushes, 53 is a polishing slurry liquid, and 55, 56, 57 and 58 are support rollers. The nylon brush material is 6.
10 nylon, hair length 60mm, hair diameter 0.295
mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making holes in a stainless steel cylinder of φ300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) below the brush was 300 mm. The brush roller controlled the load of the drive motor for rotating the brush against the load before pressing the brush roller against the aluminum alloy plate, and the difference was 1.5 kW. The direction of rotation of the brush was the same as the direction of movement of the aluminum alloy plate. The number of rotations of the brush was 250 rpm. Arithmetic average roughness after mechanical surface roughening treatment (JIS B0601-1)
Cutoff value 0.3 mm, evaluation length 3 according to 994
mm. ) Were in the range of 0.3 to 0.5 μm.

【0084】(2)第1アルカリエッチング処理 アルミニウム合金板に、カセイソーダを27質量%、ア
ルミニウムイオンを6.5質量%含有する水溶液(液温
70℃)に浸せきさせて、第1アルカリエッチング処理
を行い、アルミニウム合金板の処理面を第2表に示す量
で溶解させた。
(2) First Alkali Etching Treatment The aluminum alloy plate was immersed in an aqueous solution (solution temperature: 70 ° C.) containing 27% by mass of caustic soda and 6.5% by mass of aluminum ions to carry out a first alkali etching treatment. Then, the treated surface of the aluminum alloy plate was melted in an amount shown in Table 2.

【0085】(3)第1デスマット処理 液温35℃の酸性水溶液の中にアルミニウム合金板を第
2表に示す処理時間で浸せきさせて、第1デスマット処
理を行った。なお、酸性水溶液としては、次の電気化学
的粗面化処理で用いる酸性水溶液の廃液を用いた。 (4)電気化学的粗面化処理 水1Lあたり、68質量%硝酸を15g、硝酸アルミニ
ウムを63g、第2表に示す種類の銅と錯体を形成しう
る化合物を第2表に示す量で添加して得られる酸性水溶
液(液温50℃)50Lを用いて、電気化学的粗面化処
理を行った。電気化学的粗面化処理は、周波数60H
z、duty0.5の台形波の交流電流を用い、交流に
おける電流値がゼロから正または負のピークに達するま
での時間TPを0.8msecとし、交流におけるアノ
ードサイクル側のピーク時の電流密度Iapを50A/d
2 、カソードサイクル側のピーク時の電流密度Icp
47.5A/dm2 とし、電解粗面化処理における開始
時から終了時までの電気量をアルミニウム合金板が陽極
のときの総和で第2表に示す量とし、陽極時電気量Qa
と陰極時電気量Qc との比Qc /Qa を0.95とし
て、行った。
(3) First Desmut Treatment The first desmut treatment was performed by immersing the aluminum alloy plate in an acidic aqueous solution at a liquid temperature of 35 ° C. for the treatment time shown in Table 2. As the acidic aqueous solution, a waste solution of the acidic aqueous solution used in the next electrochemical graining treatment was used. (4) Electrochemical surface-roughening treatment 15 g of 68% by mass nitric acid, 63 g of aluminum nitrate, and a compound capable of forming a complex with copper of the type shown in Table 2 were added per 1 L of water in the amounts shown in Table 2. Electrochemical graining treatment was performed using 50 L of an acidic aqueous solution (liquid temperature 50 ° C.) obtained by the above method. The electrochemical graining treatment is performed at a frequency of 60H.
Using a trapezoidal alternating current of z and duty 0.5, the time TP until the current value in the alternating current reaches zero or a positive or negative peak is 0.8 msec, and the current density I at the peak of the alternating current in the anode cycle side is I ap 50A / d
m 2 , the current density I cp at the peak on the cathode cycle side is 47.5 A / dm 2, and the quantity of electricity from the start to the end of the electrolytic surface roughening treatment is expressed by the total sum when the aluminum alloy plate is the anode. Table 2 shows the quantity of electricity at the anode Q a
And the ratio Q c / Q a a cathode time electricity Q c 0.95, was carried out.

【0086】(5)第2アルカリエッチング処理 アルミニウム合金板に、カセイソーダを5質量%、アル
ミニウムイオンを0.5質量%含有する水溶液(液温3
0℃)に浸せきさせて、第2アルカリエッチング処理を
行い、アルミニウム合金板の処理面を第2表に示す量で
溶解させた。 (6)第2デスマット処理 第2表に示す液温の酸性水溶液の中にアルミニウム合金
板を5秒間浸せきさせて、第2デスマット処理を行っ
た。ただし、実施例1−23および1−24において
は、浸せき時間を40秒間とした。なお、酸性水溶液と
しては、次の電気化学的粗面化処理で用いる酸性水溶液
の廃液を用いた。
(5) Second Alkali Etching Treatment An aluminum alloy plate was treated with an aqueous solution containing 5% by mass of caustic soda and 0.5% by mass of aluminum ions (liquid temperature of 3%).
(0 ° C.), a second alkali etching treatment was performed, and the treated surface of the aluminum alloy plate was dissolved in an amount shown in Table 2. (6) Second desmut treatment The aluminum alloy plate was immersed in an acidic aqueous solution having the liquid temperature shown in Table 2 for 5 seconds to perform a second desmut treatment. However, in Examples 1-23 and 1-24, the immersion time was 40 seconds. As the acidic aqueous solution, a waste solution of the acidic aqueous solution used in the next electrochemical graining treatment was used.

【0087】(7)陽極酸化処理 硫酸濃度170g/Lの硫酸に、硫酸アルミニウムを添
加してアルミニウムイオン濃度が5g/Lとなるように
調製した酸性水溶液(液温35℃)を用い、直流電流を
用いて、電流密度2A/dm2 で、陽極酸化皮膜量が第
2表に示す量になるように陽極酸化処理を行った。 (8)親水化処理 3号ケイ酸ソーダの水溶液を用い、アルミニウム合金板
を7秒間浸せきさせて、親水化処理を行った。水溶液の
濃度および液温は第2表に示した。
(7) Anodizing treatment An acidic aqueous solution (solution temperature: 35 ° C.) prepared by adding aluminum sulfate to sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 170 g / L to adjust the aluminum ion concentration to 5 g / L was used. Anodizing treatment was carried out at a current density of 2 A / dm 2 so that the amount of the anodic oxide film was as shown in Table 2. (8) Hydrophilization treatment An aluminum alloy plate was immersed in an aqueous solution of No. 3 sodium silicate for 7 seconds to perform a hydrophilization treatment. The concentration and temperature of the aqueous solution are shown in Table 2.

【0088】2.平版印刷版用支持体の表面形状 各実施例および比較例で得られた各平版印刷版用支持体
の表面形状を走査型電子顕微鏡を用いて倍率2000倍
で観察し、表面に生成したハニカムピットの均一性を評
価した。結果を第2表に示す。なお、評価は、表面の凹
凸が極めて均一であったものをA、均一性が良好であっ
たものをB、不均一であったものをCと表した。
2. Surface Shape of Lithographic Printing Plate Support The surface shape of each lithographic printing plate support obtained in each Example and Comparative Example was observed at a magnification of 2000 using a scanning electron microscope, and honeycomb pits formed on the surface were observed. Was evaluated for uniformity. The results are shown in Table 2. In addition, the evaluation was expressed as A when the surface unevenness was extremely uniform, B when the uniformity was good, and C when the unevenness was uneven.

【0089】3.平版印刷版原版の製造 (実施例2−1および2−2)実施例1−21および1
−23で得られた各平版印刷版用支持体の表面に、下記
の工程で感光層Aを形成させて、各平版印刷版原版を得
た。
3. Production of lithographic printing plate precursors (Examples 2-1 and 2-2) Examples 1-21 and 1
The photosensitive layer A was formed on the surface of each lithographic printing plate support obtained in -23 by the following steps to obtain each lithographic printing plate precursor.

【0090】感光層Aの形成に際しては、あらかじめ
下塗り層を形成させた。下塗り層は、下記組成の下塗り
液を塗布し、80℃で30秒間乾燥させて形成させた。
乾燥後の被覆量は10mg/m2 であった。 <下塗り液組成> ・ジヒドロキシエチルグリシン 0.05質量部 ・メタノール 94.95質量部 ・水 5.00質量部
In forming the photosensitive layer A, an undercoat layer was previously formed. The undercoat layer was formed by applying an undercoat liquid having the following composition and drying at 80 ° C. for 30 seconds.
The coating amount after drying was 10 mg / m 2 . <Undercoat liquid composition>-0.05 parts by mass of dihydroxyethyl glycine-94.95 parts by mass of methanol-5.00 parts by mass of water

【0091】下塗り層の上に下記組成の感光性樹脂溶
液を塗布し、100℃で2分間乾燥させて感光層A(ポ
ジ型の可視光露光型製版層)を形成させて、ポジ型平版
印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は2.5g/m2
あった。 <感光性樹脂溶液組成> ・ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリドとピロガロール −アセトン樹脂とのエステル化合物 0.73g ・クレゾール−ノボラック樹脂 2.00g ・染料(オイルブルー#603、オリエント化学工業社製) 0.04g ・エチレンジクロリド 16g ・2−メトキシエチルアセテート 12g
A photosensitive resin solution having the following composition is applied on the undercoat layer, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer A (positive visible light exposure type plate-making layer). The original plate was obtained. The coating amount after drying was 2.5 g / m 2 . <Photosensitive resin solution composition>-0.73 g of an ester compound of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin-2.00 g of cresol-novolak resin-Dye (oil blue # 603, Orient Chemical 0.04 g ・ Ethylene dichloride 16 g ・ 2-Methoxyethyl acetate 12 g

【0092】(比較例2−1)比較例1−1で得られた
平版印刷版用支持体の表面に、実施例2−1と同様の工
程で感光層Aを形成させて、平版印刷版原版を得た。
(Comparative Example 2-1) A photosensitive layer A was formed on the surface of the lithographic printing plate support obtained in Comparative Example 1-1 in the same process as in Example 2-1. I got the original.

【0093】(実施例2−3および2−4)実施例1−
16および1−22で得られた各平版印刷版用支持体の
表面に、下記の工程で感光層Bを形成させて、各平版印
刷版原版を得た。
(Examples 2-3 and 2-4) Example 1
On the surface of each lithographic printing plate support obtained in Nos. 16 and 1-22, a photosensitive layer B was formed in the following steps to obtain each lithographic printing plate precursor.

【0094】感光層Bの形成に際しては、あらかじめ
下塗り層を形成させた。下塗り層は、下記組成の下塗り
液を塗布し、100℃で10秒間乾燥させて形成させ
た。乾燥後の被覆量は0.05g/m2 であった。 <下塗り液組成>主にメチルメタクリレート/エチルア
クリレート/2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸ナトリウム共重合体(モノマー比:50/3
0/20(モル比)、平均分子量60,000)からな
る。
In forming the photosensitive layer B, an undercoat layer was previously formed. The undercoat layer was formed by applying an undercoat liquid having the following composition and drying at 100 ° C. for 10 seconds. The coating amount after drying was 0.05 g / m 2 . <Undercoat liquid composition> Mainly methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2-acrylamide-2-methylpropane sodium sulfonate copolymer (monomer ratio: 50/3)
0/20 (molar ratio), average molecular weight 60,000).

【0095】下塗り層の上に下記組成の感光性樹脂溶
液を塗布し、120℃で40秒間乾燥させて感光層B
(ネガ型の可視光露光型製版層)を形成させて、ネガ型
平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は2.0g/m
2 であった。 <感光性樹脂溶液組成> ・米国特許第4,123,276号明細書の実施例1に記載されている2−ヒ ドロキシエチルメタクリレート共重合体(I) 0.87g ・p−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの縮合物の2−メト キシー4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩 0.1g ・染料(オイルブルー#603、オリエント化学工業社製) 0.03g ・メタノール 6g ・2−メトキシエタノール 4g
A photosensitive resin solution having the following composition was applied on the undercoat layer and dried at 120 ° C. for 40 seconds to form a photosensitive layer B
(A negative type visible light exposure type plate making layer) was formed to obtain a negative type lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying is 2.0 g / m
Was 2 . <Composition of photosensitive resin solution>-0.87 g of 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (I) described in Example 1 of U.S. Patent No. 4,123,276-p-diazodiphenylamine and 2-Methoxy 4-hydroxy-5-benzoylbenzenesulfonate 0.1 g of a condensate with paraformaldehyde Dye (oil blue # 603, manufactured by Orient Chemical Industries) 0.03 g Methanol 6 g 2-Methoxyethanol 4g

【0096】(実施例2−5〜2−8)実施例1−4、
1−16、1−17および1−24で得られた各平版印
刷版用支持体の表面に、下記の工程で感光層Cを形成さ
せて、各平版印刷版原版を得た。
(Examples 2-5 to 2-8) Examples 1-4,
The photosensitive layer C was formed on the surface of each of the lithographic printing plate supports obtained in 1-16, 1-17 and 1-24 by the following steps to obtain each lithographic printing plate precursor.

【0097】感光層Cの形成に際しては、あらかじめ
下塗り層を形成させた。下塗り層は、下記組成の下塗り
液を塗布し、80℃で30秒間乾燥させて形成させた。
乾燥後の被覆量は10mg/m2 であった。 <下塗り液組成> ・β−アラニン 0.5g ・メタノール 95g ・水 5g
In forming the photosensitive layer C, an undercoat layer was formed in advance. The undercoat layer was formed by applying an undercoat liquid having the following composition and drying at 80 ° C. for 30 seconds.
The coating amount after drying was 10 mg / m 2 . <Undercoat liquid composition> • 0.5 g of β-alanine • 95 g of methanol • 5 g of water

【0098】下塗り層の上に下記組成のポジ型レーザ
製版層形成液をワイヤーバーを用いて塗布し、100℃
で2分間乾燥させて感光層C(ポジ型レーザ製版層)を
形成させて、ポジ型平版印刷版原版を得た。乾燥後の被
覆量は1.8g/m2 であった。 <ポジ型レーザ製版層形成液組成> ・下記に示す方法で得られたアルカリ可溶性高分子化合物A 0.7g ・2,6−ジメチレン−(4,5−ナフタレン−1,2,3−トリメチルピロ ール)−4−モノクロロ−5,6−プロパン−ヘプテン−メチルベンゼンスルホ ネート(シアニン色素(アルカリ溶解阻害剤)) 0.1g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸ア ニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF177、大日本インキ化学工業社製) 0.05g ・γ−ブチルラクトン 8g ・メチルエチルケトン8g ・1−メトキシ−2−プロパノール 4g
A positive laser plate-making layer forming solution having the following composition was applied on the undercoat layer using a wire bar.
To form a photosensitive layer C (positive laser plate making layer), thereby obtaining a positive type lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was 1.8 g / m 2 . <Positive laser plate making layer forming liquid composition>-0.7 g of alkali-soluble polymer compound A obtained by the following method-2,6-dimethylene- (4,5-naphthalene-1,2,3-trimethylpyro) ) -4-monochloro-5,6-propane-heptene-methylbenzenesulfonate (cyanine dye (alkaline dissolution inhibitor)) 0.1 g ・ tetrahydrophthalic anhydride 0.05 g ・ Victor Pure Blue BOH 1-naphthalenesulfonic acid anion dye 0.02 g ・ Fluorine surfactant (Megafac F177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g ・ γ-butyl lactone 8 g ・ Methyl ethyl ketone 8 g ・ 1-methoxy-2 -4 g of propanol

【0099】<アルカリ可溶性高分子化合物Aの製造>
かくはん機、冷却管および滴下ロートを備えた500m
L容の三つ口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.
36mol)、クロロギ酸エチル39.1g(0.26
mol)およびアセトニトリル200mLを入れ、氷水
浴で冷却しながら混合物をかくはんし、トリエチレンア
ミン36.4g(0.36mol)を約1時間かけて滴
下ロートを使って加えた。滴下後、室温で30分間かく
はんし、p−アミノベンゼンスルホンアミド51.7g
(0.30mol)を加え、油浴にて70℃に温めなが
ら1時間かくはんした。これを水中でスラリー状にし、
固形物をろ取して、N−(p−アミノスルフェニル)メ
タクリルアミドの白色固体を得た。これを5.04g
(0.021mol)と、メタクリル酸エチル2.05
g(0.018mol)、アクリロニトリル1.11g
(0.021mol)およびN,N−ジメチルアセトア
ミド20gとを三つ口フラスコに入れ、65℃に加熱し
て、和光純薬社製「V−65」0.15gを混ぜ、窒素
気流中で2時間かくはんした。これに、N−(p−アミ
ノスルホフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.
021mol)、メタクリル酸エチル2.05g(0.
018mol)、アクリロニトリル1.11g(0.0
21mol)、N,N−ジメチルアセトアミド20gお
よび「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴
下し、反応終了後、メタノールを40g加え、30分間
混合した後、析出物をろ取し乾燥することで白色のアル
カリ可溶性高分子化合物A(分子量53,000)15
gを得た。
<Production of alkali-soluble polymer compound A>
500m with stirrer, cooling pipe and dropping funnel
31.0 g of methacrylic acid (0.
36 mol), 39.1 g (0.26) of ethyl chloroformate
mol) and 200 mL of acetonitrile, the mixture was stirred while cooling in an ice-water bath, and 36.4 g (0.36 mol) of triethyleneamine was added using a dropping funnel over about 1 hour. After the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and 51.7 g of p-aminobenzenesulfonamide was added.
(0.30 mol), and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. This is slurried in water,
The solid was collected by filtration to obtain a white solid of N- (p-aminosulfenyl) methacrylamide. 5.04 g of this
(0.021 mol) and ethyl methacrylate 2.05
g (0.018 mol), acrylonitrile 1.11 g
(0.021 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide in a three-necked flask, heated to 65 ° C., mixed with 0.15 g of “V-65” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. It was time stirring. To this, 5.04 g of N- (p-aminosulfophenyl) methacrylamide (0.04 g) was added.
021 mol) and 2.05 g of ethyl methacrylate (0.
018 mol), acrylonitrile 1.11 g (0.0
21 mol), a mixture of 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of “V-65” was added dropwise over 2 hours. After the reaction was completed, 40 g of methanol was added, and the mixture was mixed for 30 minutes. Drying gives a white alkali-soluble polymer compound A (molecular weight 53,000) 15
g was obtained.

【0100】(実施例2−9および2−10)実施例1
−21および1−23で得られた各平版印刷版用支持体
の表面に、下記の工程で感光層Dを形成させて、各平版
印刷版原版を得た。
(Examples 2-9 and 2-10) Example 1
The photosensitive layer D was formed on the surface of each lithographic printing plate support obtained in -21 and 1-23 by the following steps to obtain each lithographic printing plate precursor.

【0101】感光層Dの形成に際しては、あらかじめ
下塗り層を形成させた。下塗り層は、下記組成の下塗り
液を塗布し、80℃で30秒間乾燥させて形成させた。
乾燥後の被覆量は11mg/m2 であった。 <下塗り液組成> ・β−アラニン 0.1g ・フェニルホスホン酸 0.05g ・メタノール 40g ・水 60g
In forming the photosensitive layer D, an undercoat layer was previously formed. The undercoat layer was formed by applying an undercoat liquid having the following composition and drying at 80 ° C. for 30 seconds.
The coating amount after drying was 11 mg / m 2 . <Undercoat liquid composition>-0.1 g of beta-alanine-0.05 g of phenylphosphonic acid-40 g of methanol-60 g of water

【0102】下塗り層の上に下記組成のネガ型レーザ
製版層形成液をワイヤーバーを用いて塗布し、120℃
で3分間乾燥させて感光層D(ネガ型レーザ製版層)を
形成させて、ネガ型平版印刷版原版を得た。乾燥後の被
覆量は1.5g/m2 であった。 <ネガ型レーザ製版層形成液組成> ・ノニルフェノール(酸架橋性化合物) 0.05g ・2,4,6−トリメトキシジアゾニウム−2,6−ジメチルベンゼンスルホ ネート(酸前駆体) 0.3g ・下記に示す方法で得られた架橋剤A(酸架橋性化合物) 0.5g ・ポリ(p−ヒドロキシスチレン)(アルカリ可溶性樹脂) 1.5g ・2,6−ジメチレン−(4,5−ナフタレン−1,2,3−トリメチルピロ ール)−4−モノクロロ−5,6−プロパン−ヘプテン−メチルベンゼンスルホ ネート(シアニン色素(赤外線吸収剤)) 0.07g ・アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ谷化学社製) 0.035g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF177、大日本インキ化学工業社製) 0.01g ・メチルエチルケトン 12g ・メタノール 10g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8g
A negative laser plate making layer forming solution having the following composition was applied on the undercoat layer using a wire bar.
To form a photosensitive layer D (negative type laser plate making layer), thereby obtaining a negative type lithographic printing plate precursor. The coating amount after drying was 1.5 g / m 2 . <Negative laser plate making layer forming liquid composition>-Nonylphenol (acid-crosslinkable compound) 0.05 g-2,4,6-trimethoxydiazonium-2,6-dimethylbenzenesulfonate (acid precursor) 0.3 g- 0.5 g of poly (p-hydroxystyrene) (alkali-soluble resin) 1.5 g of 2,6-dimethylene- (4,5-naphthalene-1) , 2,3-trimethylpyrrol) -4-monochloro-5,6-propane-heptene-methylbenzenesulfonate (cyanine dye (infrared absorbing agent)) 0.07 g Eisenspirone blue C-RH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.035 g ・ Fluorine surfactant (MegaFac F177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.01 g ・ Methyl ethyl ketone 12 g ・ Methanol 10g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8g

【0103】<架橋剤Aの製造>1−[α−メチル−α
−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−[α,α
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベンゼンを
カセイカリ水溶液中でホルマリンと反応させた。得られ
た反応液を硫酸酸性にし、晶出させて、純度92質量%
の架橋剤Aを得た。
<Production of Crosslinking Agent A> 1- [α-methyl-α
-(4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α
-Bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene was reacted with formalin in an aqueous solution of sodium hydroxide. The obtained reaction solution was acidified with sulfuric acid, crystallized, and had a purity of 92% by mass.
Was obtained.

【0104】4.平版印刷版原版の露光および現像 上記のようにして得られた各平版印刷版原版を下記のよ
うにして露光し、現像して、各平版印刷版を得た。 (1)感光層Aを有する平版印刷版原版 感光層Aを有する平版印刷版原版を真空焼枠中で透明ポ
ジティブフィルムを通して、1mの距離から3kWのメ
タルハライドランプにより50秒間露光を行った。その
後、SiO2 /Na2 Oのモル比が1.74のケイ酸ナ
トリウムの5.26質量%水溶液(pH12.7)を用
いて現像した。その後、ガム引きした。
4. Exposure and development of the lithographic printing plate precursor Each lithographic printing plate precursor obtained as described above was exposed and developed as described below to obtain each lithographic printing plate. (1) Lithographic printing plate precursor having photosensitive layer A The lithographic printing plate precursor having the photosensitive layer A was exposed through a transparent positive film in a vacuum printing frame for 50 seconds from a distance of 1 m with a 3 kW metal halide lamp. Thereafter, development was performed using a 5.26% by mass aqueous solution (pH 12.7) of sodium silicate having a molar ratio of SiO 2 / Na 2 O of 1.74. Thereafter, gum was pulled.

【0105】(2)感光層Bを有する平版印刷版原版 感光層Bを有する平版印刷版原版を真空焼枠中で透明ネ
ガティブフィルムを通して、0.7mの距離から3kW
のメタルハライドランプにより50秒間露光を行った。
その後、下記組成の現像液を用いて現像した。その後、
ガム引きした。 <現像液組成> ・ベンジルアルコール 450g ・トリエタノールアミン 150g ・モノエタノールアミン 10g ・t−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 150g ・亜硫酸ナトリウム 30g ・イオン交換水 8420g
(2) Lithographic printing plate precursor having photosensitive layer B The lithographic printing plate precursor having the photosensitive layer B was passed through a transparent negative film in a vacuum furnace at a distance of 0.7 m to 3 kW.
Was exposed for 50 seconds using a metal halide lamp.
Thereafter, development was performed using a developer having the following composition. afterwards,
I gummed. <Developer composition>-450 g of benzyl alcohol-150 g of triethanolamine-10 g of monoethanolamine-150 g of sodium t-butylnaphthalenesulfonate-30 g of sodium sulfite-8420 g of ion-exchanged water

【0106】(3)感光層Cを有する平版印刷版原版 感光層Cを有する平版印刷版原版を出力500mW、波
長830nm、ビーム径17μm(1/e2 )の半導体
レーザを用いて、主操作速度5m/秒で露光した後、下
記組成のアルカリ現像液を用いて、30秒間現像して、
平版印刷版を得た。 <アルカリ現像液組成> ・カセイソーダ 2.8質量% ・シリカ 2.0質量% ・ノニオン性界面活性剤(プルロニックPE−310
0、BASF社製)0.5質量% ・水 94.7質量%
(3) Lithographic printing plate precursor having photosensitive layer C The lithographic printing plate precursor having the photosensitive layer C was subjected to main operation speed using a semiconductor laser having an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm, and a beam diameter of 17 μm (1 / e 2 ). After exposure at 5 m / sec, development was performed for 30 seconds using an alkaline developer having the following composition.
A lithographic printing plate was obtained. <Alkaline developer composition>-2.8% by mass of caustic soda-2.0% by mass of silica-Nonionic surfactant (Pluronic PE-310)
0, BASF) 0.5% by mass ・ Water 94.7% by mass

【0107】(4)感光層Dを有する平版印刷版原版 感光層Dを有する平版印刷版原版を出力500mW、波
長830nm、ビーム径17μm(1/e2 )の半導体
レーザを用いて、主操作速度5m/秒で露光した後、現
像液PD−4(富士写真フイルム(株)製)の1:8水
希釈液に30秒間浸せきさせて現像して、平版印刷版を
得た。
(4) Lithographic printing plate precursor having photosensitive layer D The lithographic printing plate precursor having photosensitive layer D was subjected to main operation speed using a semiconductor laser having an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm, and a beam diameter of 17 μm (1 / e 2 ). After exposure at 5 m / sec, the resultant was immersed in a 1: 8 water diluent of a developer PD-4 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) for 30 seconds for development to obtain a lithographic printing plate.

【0108】5.平版印刷版の評価 上記のようにして得られた各平版印刷版を下記の条件で
印刷試験に供し、ブランケットへのインキの付着の程度
により印刷性能を目視により評価した。 <印刷試験>印刷機として、オーレリア社製のハリス印
刷機を用い、湿し水として、富士写真フイルム(株)製
のEU−3(1:100)に、イソプロパノールを全体
の10質量%となるように添加した液を用い、インキと
して、大日本インキ社製のクラフG(S)紅を用いて、
印刷を行った。1000枚印刷した後、印刷性能(ブラ
ンケットへのインキの付着の程度)を評価した。
5. Evaluation of lithographic printing plate Each lithographic printing plate obtained as described above was subjected to a printing test under the following conditions, and the printing performance was visually evaluated by the degree of adhesion of the ink to the blanket. <Printing test> A Harris printing machine manufactured by Aurelia Co., Ltd. was used as the printing machine, and isopropanol was added to EU-3 (1: 100) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. as fountain solution at 10% by mass of the total. Using the liquid added as described above, and using, as an ink, Claf G (S) red manufactured by Dainippon Ink and Chemicals,
Printing was done. After printing 1,000 sheets, the printing performance (the degree of adhesion of the ink to the blanket) was evaluated.

【0109】実施例2−1〜2−10の平版印刷版原版
を製版して得られた平版印刷版は、いずれもブランケッ
トへのインキの付着がほとんどなく、印刷性能は良好で
あった。一方、比較例2−1の平版印刷版原版を製版し
て得られた平版印刷版は、ブランケットへのインキの付
着が多く、印刷性能に劣り、印刷版として不適当であっ
た。
The lithographic printing plates obtained by making the lithographic printing plate precursors of Examples 2-1 to 2-10 hardly adhered any ink to the blanket, and had good printing performance. On the other hand, the lithographic printing plate obtained by making the lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2-1 had a large amount of ink attached to the blanket, was poor in printing performance, and was unsuitable as a printing plate.

【0110】[0110]

【表1】 [Table 1]

【0111】[0111]

【表2】 [Table 2]

【0112】[0112]

【表3】 [Table 3]

【0113】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法に
よれば、アルミニウム合金板のアルミニウム含有率が低
くても高くても、また、Cu含有量が多くても少なくて
も、粗面化処理の条件を厳密に調整することなく、表面
のハニカムピットが極めて均一な平版印刷版用支持体を
得ることができることが分かる(実施例1−1〜1−2
4)。したがって、飲料缶をスクラップし、リサイクル
して得られるアルミニウム合金板を用いた場合(実施例
1−18〜1−24)でも、表面のハニカムピットが極
めて均一な平版印刷版用支持体を得ることができる。ま
た、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法により得ら
れた平版印刷版用支持体は、コンベンショナルタイプの
可視光露光型製版層を設けた場合(実施例2−1〜2−
4)およびレーザー製版層を設けた場合(実施例2−5
〜2−10)のいずれにおいても、平版印刷版としたと
きに、印刷性能に優れる。そして、飲料缶をスクラップ
し、リサイクルして得られるアルミニウム合金板のよう
なCu含有量が多いアルミニウム合金板を用いた平版印
刷版用支持体からも、印刷性能に優れる平版印刷版を得
ることができる(実施例2−1、2−2、2−4および
2−8〜2−10)。
According to the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention, whether the aluminum content of the aluminum alloy plate is low or high, or the Cu content is high or low, It can be seen that a lithographic printing plate support having extremely uniform honeycomb pits on the surface can be obtained without strictly adjusting the processing conditions (Examples 1-1 to 1-2).
4). Therefore, even when the beverage can is scrapped and an aluminum alloy plate obtained by recycling is used (Examples 1-18 to 1-24), it is possible to obtain a lithographic printing plate support having extremely uniform honeycomb pits on the surface. Can be. Further, the lithographic printing plate support obtained by the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention was provided with a conventional type visible light exposure type plate-making layer (Examples 2-1 to 2-).
4) and a case where a laser plate-making layer is provided (Example 2-5)
In any one of 2 to 10), when a lithographic printing plate is used, the printing performance is excellent. And, from a lithographic printing plate support using an aluminum alloy plate having a high Cu content such as an aluminum alloy plate obtained by scrapping a beverage can and recycling, a lithographic printing plate excellent in printing performance can be obtained. (Examples 2-1, 2-2, 2-4 and 2-8 to 2-10).

【0114】これに対して、平版印刷版用支持体の製造
において、Cu含有量が多いアルミニウム合金板を、C
uと錯体を形成しうる化合物を含有しない酸性水溶液を
用いて電気化学的粗面化処理を施した場合は、得られる
平版印刷版用支持体の表面のハニカムピットが不均一で
あり、これを平版印刷版としたときの印刷性能にも劣る
(比較例1−1および2−1)。
On the other hand, in the production of a lithographic printing plate support, an aluminum alloy plate having a high Cu
When the electrochemical surface-roughening treatment is performed using an acidic aqueous solution containing no compound capable of forming a complex with u, the honeycomb pits on the surface of the resulting lithographic printing plate support are non-uniform. The printing performance of a lithographic printing plate is also poor (Comparative Examples 1-1 and 2-1).

【0115】[0115]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法
によれば、アルミニウム含有率が低く、Cu含有量が多
いアルミニウム合金板を用いた場合であっても、表面の
ハニカムピットが均一であり、平版印刷版としたときに
印刷性能に優れる平版印刷版用支持体を得ることができ
る。
According to the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention, even when an aluminum alloy plate having a low aluminum content and a high Cu content is used, the honeycomb pits on the surface are uniform. Thus, a lithographic printing plate support having excellent printing performance when formed into a lithographic printing plate can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に用いられるフラット型交流電解槽を
備える電解粗面化処理装置の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an electrolytic surface roughening treatment apparatus including a flat AC electrolytic cell used in the present invention.

【図2】 本発明に用いられるフラット型交流電解槽を
備える電解粗面化処理装置の他の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of an electrolytic surface roughening treatment apparatus including a flat AC electrolytic cell used in the present invention.

【図3】 本発明に用いられるラジアル型交流電解槽を
備える電解粗面化処理装置の一例を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of an electrolytic surface roughening treatment device provided with a radial type AC electrolytic cell used in the present invention.

【図4】 本発明において機械的粗面化処理に用いられ
るブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図であ
る。
FIG. 4 is a side view showing the concept of a brush graining process used for mechanical roughening processing in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2、20 交流電解槽 4A、4B、4C、26A、26B 主極 6A、6B、14A、14B 搬送ローラ 8A、16A 導入ローラ 8B、16B 導出ローラ 10、34 補助電解槽 12、36 補助電極 22 交流電解槽本体 22A 開口部 24 送りローラ 28A、28B 給液ノズル 30A 上流側案内ローラ 30B 下流側案内ローラ 32 溢流槽 34A 補助電解槽の底面 51 アルミニウム合金板 52、54 ローラ状ブラシ 53 研磨スラリー液 55、56、57、58 支持ローラ 100、102、104 電解粗面化処理装置 a 搬送方向 T 搬送面 Tac 電源 Th1、Th2、Th3、Th4、Th5 サイリスタ W アルミニウムウェブ2, 20 AC electrolytic cell 4A, 4B, 4C, 26A, 26B Main electrode 6A, 6B, 14A, 14B Conveying roller 8A, 16A Introducing roller 8B, 16B Outgoing roller 10, 34 Auxiliary electrolytic cell 12, 36 Auxiliary electrode 22 AC electrolysis Tank main body 22A Opening 24 Feed roller 28A, 28B Liquid supply nozzle 30A Upstream guide roller 30B Downstream guide roller 32 Overflow tank 34A Bottom of auxiliary electrolytic tank 51 Aluminum alloy plate 52, 54 Roller brush 53 Polishing slurry liquid 55, 56, 57, 58 Support rollers 100, 102, 104 Electrolytic surface-roughening treatment device a Transport direction T Transport surface Tac power supply Th1, Th2, Th3, Th4, Th5 Thyristor W Aluminum web

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C25F 3/04 C25F 3/04 A 3/20 3/20 G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/09 501 7/09 501 (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA12 AA18 AB03 DA18 2H096 AA06 CA03 2H114 AA04 AA22 AA23 BA01 DA04 DA25 DA73 EA02 EA04 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C25F 3/04 C25F 3/04 A 3/20 3/20 G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7 / 09 501 7/09 501 (72) Inventor Akio Uesugi 4000F, Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture F-term in Fujisha Shin Film Co., Ltd. EA02 EA04 FA16 GA03 GA05 GA06 GA08 GA09

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】アルミニウム合金板に、電気化学的粗面化
処理を含む表面処理を施して平版印刷版用支持体を得る
平版印刷版用支持体の製造方法であって、 該アルミニウム合金板のCu含有量が0.001〜1質
量%であり、かつ、該電気化学的粗面化処理が、Cuと
錯体を形成しうる化合物を含有する酸性水溶液の中で行
われることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法。
1. A method for producing a lithographic printing plate support, wherein an aluminum alloy plate is subjected to a surface treatment including an electrochemical surface roughening treatment to obtain a lithographic printing plate support. A lithographic plate characterized in that the Cu content is 0.001 to 1% by mass and the electrochemical graining treatment is performed in an acidic aqueous solution containing a compound capable of forming a complex with Cu. A method for producing a printing plate support.
【請求項2】前記アルミニウム合金板が、Fe、Si、
Cu、Mg、Mn、Zn、CrおよびTiからなる群か
ら選ばれる3種以上の元素を以下の範囲で含有し、か
つ、アルミニウム含有率が95〜99.4質量%である
請求項1に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。F
e:0.20〜1.0質量%、 Si:0.10〜1.0質量%、 Cu:0.03〜1.0質量%、 Mg:0.1〜1.5質量%、 Mn:0.1〜1.5質量%、 Zn:0.03〜0.5質量%、 Cr:0.005〜0.1質量%、 Ti:0.01〜0.5質量%
2. The method according to claim 1, wherein the aluminum alloy plate is made of Fe, Si,
2. The aluminum alloy according to claim 1, containing three or more elements selected from the group consisting of Cu, Mg, Mn, Zn, Cr and Ti in the following range, and having an aluminum content of 95 to 99.4 mass%. A method for producing a support for a lithographic printing plate. F
e: 0.20 to 1.0% by mass, Si: 0.10 to 1.0% by mass, Cu: 0.03 to 1.0% by mass, Mg: 0.1 to 1.5% by mass, Mn: 0.1 to 1.5% by mass, Zn: 0.03 to 0.5% by mass, Cr: 0.005 to 0.1% by mass, Ti: 0.01 to 0.5% by mass
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005015912A (en) * 2003-05-30 2005-01-20 Sumitomo Light Metal Ind Ltd Aluminum alloy sheet for lithographic printing plate
JP2005035034A (en) * 2003-07-16 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd Method for manufacturing support for lithographic printing plate
EP1642745A2 (en) 2004-10-04 2006-04-05 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Aluminum support for planographic printing plate, its manufacturing process, and planographic printing plate material
CN106191573A (en) * 2016-08-17 2016-12-07 江苏亚太安信达铝业有限公司 A kind of aluminium alloy for high-pressure seamless gas cylinder and preparation method thereof
US20170106919A1 (en) * 2015-10-15 2017-04-20 Novelis Inc. High-forming multi-layer aluminum alloy package
JP2019525009A (en) * 2016-07-13 2019-09-05 イオントラ リミテッド ライアビリティ カンパニー Electrochemical method, apparatus and composition
US11788178B2 (en) 2018-07-23 2023-10-17 Novelis Inc. Methods of making highly-formable aluminum alloys and aluminum alloy products thereof

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005015912A (en) * 2003-05-30 2005-01-20 Sumitomo Light Metal Ind Ltd Aluminum alloy sheet for lithographic printing plate
JP2005035034A (en) * 2003-07-16 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd Method for manufacturing support for lithographic printing plate
EP1642745A2 (en) 2004-10-04 2006-04-05 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Aluminum support for planographic printing plate, its manufacturing process, and planographic printing plate material
US10689041B2 (en) 2015-10-15 2020-06-23 Novelis Inc. High-forming multi-layer aluminum alloy package
US20170106919A1 (en) * 2015-10-15 2017-04-20 Novelis Inc. High-forming multi-layer aluminum alloy package
CN108138268A (en) * 2015-10-15 2018-06-08 诺维尔里斯公司 The multilayer aluminium alloy packaging of height forming
JP2018535317A (en) * 2015-10-15 2018-11-29 ノベリス・インコーポレイテッドNovelis Inc. Highly formed multi-layer aluminum alloy package
AU2016338654B2 (en) * 2015-10-15 2020-02-27 Novelis Inc. High-forming multi-layer aluminum alloy package
EP3362583B1 (en) * 2015-10-15 2020-07-15 Novelis, Inc. High-forming multi-layer aluminum alloy package
JP2019525009A (en) * 2016-07-13 2019-09-05 イオントラ リミテッド ライアビリティ カンパニー Electrochemical method, apparatus and composition
JP7358238B2 (en) 2016-07-13 2023-10-10 イオントラ インコーポレイテッド Electrochemical methods, devices and compositions
CN106191573A (en) * 2016-08-17 2016-12-07 江苏亚太安信达铝业有限公司 A kind of aluminium alloy for high-pressure seamless gas cylinder and preparation method thereof
US11788178B2 (en) 2018-07-23 2023-10-17 Novelis Inc. Methods of making highly-formable aluminum alloys and aluminum alloy products thereof

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