JP2012214788A - Solar cell sealing material sheet and solar cell module - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sealing material sheet for solar cells effective for suppressing troubles of cell breakage in a lamination step of a solar cell production process and a residue of bubbles in the sealing material.SOLUTION: The solar cell sealing material sheet contains an ethylene vinyl acetate copolymer composition as a resin composition constituting the surface part, and has separate protrusions A having a height of 60-300 μm at a density of 40-2,300 protrusions/cm, wherein the ratio of the protrusion height T to the base length of the separate protrusion is 0.05-0.80.

Description

本発明は太陽電池用の封止材シートに関する。特に、太陽電池の製造工程におけるラミネート時のセルの割れや、封止材中の気泡などの不具合が抑制できる、太陽電池用の封止材シート、および、同シートを用いた太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to a sealing material sheet for solar cells. In particular, the present invention relates to a solar cell sealing material sheet and a solar cell module using the same, which can suppress problems such as cell cracking during lamination in a solar cell manufacturing process and bubbles in the sealing material.

近年、資源の有効利用や環境汚染の防止等の面から、太陽光を直接電気エネルギーに変換する太陽電池が注目されている。太陽電池は、一般に、ガラス基板に代表される受光面保護材とバックシートと称される裏面保護材との間に挿入された封止材シートにより、太陽電池セルを封止(保護)した構成を採っている。
例えば太陽電池モジュールとして主流である結晶シリコン型太陽電池の場合、ガラス基板、エチレン酢酸ビニル共重合体(以降、エチレン酢酸ビニル共重合体をEVAと表すこともある)からなる封止材シート、太陽電池セル(シリコン発電素子)、EVAからなる封止材シート及びバックシートの順で積層され、真空ラミネータにより積層体を真空下で加熱することにより、封止材シートを加熱溶融して架橋硬化させることにより、気泡なく接着された太陽電池モジュールが製造される。
In recent years, solar cells that directly convert sunlight into electrical energy have attracted attention in terms of effective use of resources and prevention of environmental pollution. Generally, a solar cell has a configuration in which solar cells are sealed (protected) by a sealing material sheet inserted between a light-receiving surface protective material represented by a glass substrate and a back surface protective material called a back sheet. Is adopted.
For example, in the case of a crystalline silicon solar cell that is the mainstream as a solar cell module, a glass substrate, an encapsulant sheet made of an ethylene vinyl acetate copolymer (hereinafter, the ethylene vinyl acetate copolymer may be referred to as EVA), solar A battery cell (silicon power generation element), an encapsulant sheet made of EVA, and a back sheet are laminated in this order, and the laminate is heated under vacuum by a vacuum laminator, whereby the encapsulant sheet is heated and melted to be crosslinked and cured. Thus, a solar cell module bonded without bubbles is manufactured.

このような太陽電池モジュールの製造工程において、真空ラミネータ内における温度の斑(ラミネータ端部等において局部的に温度が低下)が発生した場合に、EVA封止材の加温が不十分となり、前記封止材の太陽電池セルへの局部的な押し圧力によって、太陽電池セルが割れることがあり、これがモジュールの製造効率を低下させる一因となっている。   In the manufacturing process of such a solar cell module, when a temperature spot in the vacuum laminator (a temperature locally decreases at the end of the laminator, etc.) occurs, the heating of the EVA sealing material becomes insufficient, The solar cell may be broken by the local pressing force of the encapsulant on the solar cell, which is one factor that reduces the manufacturing efficiency of the module.

また、EVAは密着しやすい材料であり、真空ラミネート時に局部的なセルとの密着が発生すると、封止材シートと太陽電池セルの間に残留した空気が気泡となるトラブルが、生じ、これが上記同様にモジュールの製造効率を低下させる一因となっている。前記のトラブルについては、次のような検討がなされている。例えば、封止材シートにエンボス加工を行うことで凹凸を形成、シートのクッション性を向上させることでセル割れを防止する検討や、残留したエアーをシートに形成された溝により脱気し、気泡トラブルを改善する技術である(例えば特許文献1、2参照)。しかしながらこれらの技術ではセルの割れや、封止材中の気泡などの不具合が一定のレベルで抑制できるものの、凹凸の高さが浅いことや、溝に直交する方向への脱気不足などから、本質的な抑制には至らず前記のトラブルを完全に防ぐことは困難であった。   EVA is a material that easily adheres, and when close contact with local cells occurs during vacuum lamination, there is a problem that air remaining between the encapsulant sheet and the solar cells becomes bubbles, which is Similarly, it contributes to a reduction in module manufacturing efficiency. The following studies have been made on the above trouble. For example, the embossing process is performed on the encapsulant sheet to form irregularities, the cell cushioning is improved by improving the cushioning property of the sheet, and the remaining air is degassed by the grooves formed in the sheet, and air bubbles This is a technique for improving troubles (see, for example, Patent Documents 1 and 2). However, with these technologies, defects such as cell cracks and bubbles in the sealing material can be suppressed at a certain level, but because the height of the unevenness is shallow and insufficient deaeration in the direction perpendicular to the groove, It has been difficult to completely prevent the above-mentioned trouble without reaching an essential suppression.

さらに近年では、上記のセルの割れや、封止材中の気泡などの不具合を抑制するために、封止材シートの表面に、高さが0.05〜0.5mmの独立した凸部を有する封止材シートが提案されている(例えば特許文献3参照)。しかしながら当該技術では、真空ラミネート時に、セル割れを引き起こすという問題があった。   Furthermore, in recent years, in order to suppress defects such as cracking of the cells and bubbles in the sealing material, an independent convex portion having a height of 0.05 to 0.5 mm is provided on the surface of the sealing material sheet. The sealing material sheet which has is proposed (for example, refer patent document 3). However, this technique has a problem of causing cell cracking during vacuum lamination.

一方、太陽電池モジュールの製造工程において、封止材シートの加熱収縮率を低減させ、真空ラミネート時の封止材シートの収縮による、太陽電池セルの割れや、セルの位置ずれを解消する技術が開示されている(例えば特許文献4、5参照)。しかしながらこれらの技術では、加熱収縮率が十分に低減できていないため、太陽電池セルの割れや位置ずれを本質的に改善できない一方、特許文献5においては封止材の材料がポリエチレンと高融点であるため、封止材シートの加温に時間を要し、製造効率が低下するという問題があった。   On the other hand, in the manufacturing process of the solar cell module, there is a technology that reduces the heat shrinkage rate of the encapsulant sheet and eliminates the cracking of the solar cell and the displacement of the cell due to the shrinkage of the encapsulant sheet during vacuum lamination. (See, for example, Patent Documents 4 and 5). However, in these techniques, since the heat shrinkage rate cannot be sufficiently reduced, cracking and misalignment of the solar battery cells cannot be essentially improved. However, in Patent Document 5, the sealing material is made of polyethylene and a high melting point. Therefore, there is a problem that it takes time to heat the encapsulant sheet and the production efficiency is lowered.

特開2000−183388号公報(請求項3)JP 2000-183388 A (Claim 3) 特開2006−134970号公報(請求項1、請求項2)JP-A-2006-134970 (Claims 1 and 2) 特開2010−232311号公報(請求項1、第0036段落、図1)JP 2010-232231 (Claim 1, paragraph 0036, FIG. 1) 特開2010−100032号公報(第0076段落、表1)Japanese Patent Laying-Open No. 2010-100032 (paragraph 0076, Table 1) 特開2007−245555号公報(第0045段落、第0095段落)JP 2007-245555 (paragraphs 0045 and 0095)

本発明の目的は、太陽電池の製造工程におけるラミネート時のセルの割れと、封止材中の気泡の残存の不具合を同時に抑制できる、太陽電池用の封止材シートを提供することにある。   The objective of this invention is providing the sealing material sheet for solar cells which can suppress simultaneously the malfunction of the crack of the cell at the time of the lamination in the manufacturing process of a solar cell, and the residual of the bubble in a sealing material.

上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。すなわち、
(1)表面部分を構成する樹脂組成物がエチレン酢酸ビニル共重合体組成物からなり、前記表面部分に、高さ60〜300μmの独立した突起を40〜2300個/cm有し、かつ、この独立した突起の高さ(T)と底辺長さ(D)の比(T/D)が0.15〜0.80であることを特徴とする太陽電池封止材シート。
(2)前記太陽電池封止シートを80℃の温水表面に1分間放置した際に、この封止材シートのシート流れ方向の加熱収縮率が30%以下である、(1)の太陽電池封止材シート。
(3)前記独立した突起の形状が、半球状および/または四角錐状である、(1)または(2)の太陽電池封止材シート。
(4)前記太陽電池封止材シートの前記突起を有する面を、この封止材シートの厚み方向に100μm圧縮した際に、シートの反発応力が70kPa以下である、(1)〜(3)のいずれかの太陽電池封止材シート。
(5)前記太陽電池封止材シートの突起を有する面が、さらに、高さ1〜15μmの突起を有する、(1)〜(4)のいずれかの太陽電池封止材シート。
(5)受光面保護材と、裏面保護材と、この受光面保護材と裏面保護材との間に配置され、(1)〜(5)のいずれかの太陽電池封止材シートにより太陽電池セルが封止された層と、で構成された、太陽電池モジュール。
である。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration. That is,
(1) the resin composition constituting the surface portion consists of ethylene-vinyl acetate copolymer composition, wherein the surface portion comprises 40 to 2,300 pieces / cm 2 independent high protrusions 60~300Myuemu, and, The solar cell encapsulant sheet, wherein the ratio (T / D) of the height (T) and the base length (D) of the independent protrusions is 0.15 to 0.80.
(2) When the solar cell encapsulating sheet is left on a hot water surface at 80 ° C. for 1 minute, the solar cell encapsulating of (1), wherein the heat shrinkage in the sheet flow direction of the encapsulant sheet is 30% or less Stop sheet.
(3) The solar cell encapsulant sheet according to (1) or (2), wherein the shape of the independent protrusion is hemispherical and / or quadrangular pyramid.
(4) When the surface of the solar cell encapsulant sheet having the protrusions is compressed 100 μm in the thickness direction of the encapsulant sheet, the sheet has a repulsive stress of 70 kPa or less (1) to (3) The solar cell sealing material sheet of any of these.
(5) The solar cell encapsulant sheet according to any one of (1) to (4), wherein the surface having the projections of the solar cell encapsulant sheet further has a projection of 1 to 15 μm in height.
(5) The light receiving surface protective material, the back surface protective material, and the light receiving surface protective material and the back surface protective material are disposed between the solar cell sealing material sheets according to any one of (1) to (5). A solar cell module comprising a layer in which cells are sealed.
It is.

本発明によれば、太陽電池の製造工程におけるラミネート時のセルの割れと、封止材中の気泡の残存の不具合を同時に抑制できる、太陽電池用の封止材シートを提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing material sheet for solar cells which can suppress simultaneously the malfunction of the crack of the cell at the time of the lamination in the manufacturing process of a solar cell, and the bubble remaining in a sealing material can be provided.

図1は、片面に突起が形成された太陽電池封止材シートの突起の高さを測定する方法を説明する図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a method of measuring the height of a protrusion of a solar cell sealing material sheet having a protrusion formed on one side. 図2は、両面に突起が形成された太陽電池封止材シートの突起の高さを測定する方法を説明する図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a method of measuring the height of the protrusion of the solar cell encapsulant sheet having protrusions formed on both sides. 図3は、突起の底辺の長さDを示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating the length D of the bottom side of the protrusion.

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本発明の封止材シートを構成する樹脂組成物は、少なくとも突起が形成されている側の表面部分を構成する樹脂組成物が、以下に説明する樹脂組成物の組成等を満たすことが好ましい。もちろん、シートを構成する全ての樹脂組成物が、以下に説明する樹脂組成物の組成等を満たしていることがより好ましい。   In the resin composition constituting the sealing material sheet of the present invention, it is preferable that at least the resin composition constituting the surface portion on the side where the protrusions are formed satisfy the composition of the resin composition described below. Of course, it is more preferable that all the resin compositions constituting the sheet satisfy the composition of the resin composition described below.

封止剤シートを構成する樹脂組成物は、太陽電池封止材として重要な透明性や、太陽電池セルとの接着性の観点から、エチレン酢酸ビニル共重合体組成物を採用する。前記の組成物は、透明性の観点から、エチレン酢酸ビニル共重合体(以下、EVAという。)を90質量%以上含有し、必要に応じて、他のポリオレフィン系樹脂や、有機過酸化物、架橋助剤、シラン系カップリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含んでいても良い。   The resin composition constituting the encapsulant sheet employs an ethylene vinyl acetate copolymer composition from the viewpoint of transparency that is important as a solar cell encapsulant and adhesiveness with solar cells. From the viewpoint of transparency, the composition contains 90% by mass or more of an ethylene vinyl acetate copolymer (hereinafter referred to as EVA), and, if necessary, other polyolefin resins, organic peroxides, A crosslinking aid, a silane coupling agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant and the like may be included.

なお、EVAは、エチレンと酢酸ビニルから合成される共重合体であるが、本発明に用いるEVAとしては、酢酸ビニル(VA)含有率が20〜35質量%であることが好ましい。酢酸ビニル(VA)含有率が35質量%より大きい場合、水蒸気透過率が大きくなり、太陽電池の封止材として要求される耐透湿性が確保できない場合がある。また酢酸ビニル(VA)含有率が20質量%未満であると、樹脂が硬すぎるため、太陽電池の製造工程におけるラミネート時にセルの割れが発生する場合がある。   Note that EVA is a copolymer synthesized from ethylene and vinyl acetate, but the EVA used in the present invention preferably has a vinyl acetate (VA) content of 20 to 35 mass%. If the vinyl acetate (VA) content is greater than 35% by mass, the water vapor transmission rate may increase, and the moisture permeability required as a sealing material for solar cells may not be ensured. Moreover, since vinyl acetate (VA) content rate is less than 20 mass%, since resin is too hard, the crack of a cell may generate | occur | produce at the time of the lamination in the manufacturing process of a solar cell.

封止材シートは、表面に高さ60〜300μmの独立した突起を有するものである。封止材シートの表面に独立した高さ60μm以上の突起を有することにより、太陽電池モジュールを製造する際の真空ラミネート時に、封止材シートと太陽電池セルとの間に残留した空気を多方向から効率的に除去し、気泡の発生を抑制できる。さらに、封止材シートの太陽電池セルへの押し圧力を分散させ、セル割れの発生を抑制することができる。封止材シート表面の形状が独立した突起ではなく、連続した溝形状であると、溝に直行する方向への脱気が不十分となり、残留した空気が気泡となる。また、突起の高さが300μm以下であると、真空ラミネート時の突起の頂部への荷重の集中が抑制され、太陽電池セルが割れることを防止できる。ここで、「独立した突起」とは、突起の底面に着目したときに、後述する底辺の長さDが70〜6000μmの範囲の突起である。   The encapsulant sheet has independent protrusions having a height of 60 to 300 μm on the surface. By having independent protrusions with a height of 60 μm or more on the surface of the encapsulant sheet, the air remaining between the encapsulant sheet and the solar cells is multi-directional during vacuum lamination when manufacturing a solar cell module. It is possible to efficiently remove the bubbles and suppress the generation of bubbles. Furthermore, it is possible to disperse the pressing force of the encapsulant sheet to the solar battery cells and suppress the occurrence of cell cracking. If the shape of the surface of the sealing material sheet is not an independent protrusion but a continuous groove shape, deaeration in a direction perpendicular to the groove becomes insufficient, and the remaining air becomes bubbles. Further, when the height of the protrusion is 300 μm or less, the concentration of the load on the top of the protrusion during vacuum lamination is suppressed, and the solar battery cell can be prevented from cracking. Here, the “independent protrusion” refers to a protrusion having a bottom length D, which will be described later, in the range of 70 to 6000 μm when attention is paid to the bottom surface of the protrusion.

また独立した突起は、封止材シートを平板で挟み、厚み方向に50kPaの圧力を付与して圧縮して突起が変形し、突起の頂部が平板と接する領域が拡大したときに、2つの隣接する突起に由来する2つの領域間に20〜800μmの間隙が確保されることが好ましい。
突起の高さ(T)が60μm未満であると、上記の気泡とセル割れの抑制の実効が得られ難い。
In addition, the independent protrusions are sandwiched between flat plates, applied with a pressure of 50 kPa in the thickness direction and compressed to deform the protrusions, and when the area where the tops of the protrusions contact the flat plate expands, It is preferable that a gap of 20 to 800 μm is ensured between the two regions derived from the protrusions to be formed.
When the height (T) of the protrusion is less than 60 μm, it is difficult to effectively suppress the above-described bubbles and cell cracks.

独立した突起は、突起の高さ(T)と突起の底辺長さ(D)との比(T/D)が0.05〜0.80である。好ましくは0.15〜0.80である。T/D比が0.05未満であると、封止材シートのクッション性が不十分となる。T/D比が0.80を超えると、突起の頂部への集中荷重が起こり、セル割れが発生する。突起の高さTは次のようにして測定する。まず、片面に突起がある場合を説明する。封止材シートの突起のある側の面をA面、突起のない側の面をB面とする。図1に示すように、A面の突起の頂点からB面までの距離をTmax、A面の突起のない部分からB面までの距離をTminとする。このTmaxとTminとの差が突起の高さTである。次に両方に突起がある場合を説明する。封止材シートの一方の面をA面、もう一方の面をB面とする。図2に示すように、A面の突起の頂点からB面の突起のない部分までの距離をTAmax、B面の突起の頂点からA面の突起のない部分までの距離をTBmax、A面の突起のない部分からB面の突起のない部分までの距離をTminとする。このTAmaxとTminとの差がA面の突起の高さTA、TBmaxとTminとの差がB面の突起の高さTBである。突起の底辺の長さとは、図3に示す突起の外周直径Dである。なお、突起の底面の形状が三角形や六角形などの多角形、楕円形である場合は、突起の底辺の長さは、底面の形状を包含する最小真円の直径である。上記のTmax、Tmin、Dについては実体顕微鏡によるシートの観察により測定できる。   The independent protrusion has a ratio (T / D) of the protrusion height (T) to the protrusion base length (D) of 0.05 to 0.80. Preferably it is 0.15-0.80. When the T / D ratio is less than 0.05, the cushioning property of the sealing material sheet becomes insufficient. When the T / D ratio exceeds 0.80, a concentrated load on the top of the protrusion occurs and cell cracking occurs. The height T of the protrusion is measured as follows. First, the case where there is a protrusion on one side will be described. The surface of the encapsulant sheet having the protrusions is referred to as A surface, and the surface having no protrusion is referred to as B surface. As shown in FIG. 1, the distance from the apex of the protrusion on the A surface to the B surface is Tmax, and the distance from the portion having no protrusion on the A surface to the B surface is Tmin. The difference between Tmax and Tmin is the height T of the protrusion. Next, the case where both have projections will be described. One side of the encapsulant sheet is referred to as A side and the other side is referred to as B side. As shown in FIG. 2, the distance from the apex of the projection on the A surface to the portion without the projection on the B surface is TAmax, the distance from the apex of the projection on the B surface to the portion without the projection on the A surface is TBmax, The distance from the portion having no protrusion to the portion having no protrusion on the B surface is defined as Tmin. The difference between TAmax and Tmin is the height TA of the projection on the A surface, and the difference between TBmax and Tmin is the height TB of the projection on the B surface. The length of the bottom of the projection is the outer diameter D of the projection shown in FIG. When the shape of the bottom surface of the protrusion is a polygon such as a triangle or a hexagon or an ellipse, the length of the bottom of the protrusion is the diameter of the smallest perfect circle including the shape of the bottom surface. The above Tmax, Tmin, and D can be measured by observing the sheet with a stereomicroscope.

望ましい突起の高さTは、上記のとおり60〜300μmである。突起の高さTが60μmである場合には、突起の底辺Dの長さは75〜1200μm、好ましくは75〜400μmである。突起の高さTが300μmである場合には、突起の底辺Dの長さは375〜6000μm、好ましくは375〜2000μmである。   Desirable protrusion height T is 60 to 300 μm as described above. When the height T of the protrusion is 60 μm, the length of the base D of the protrusion is 75 to 1200 μm, preferably 75 to 400 μm. When the height T of the protrusion is 300 μm, the length of the base D of the protrusion is 375 to 6000 μm, preferably 375 to 2000 μm.

独立した突起の個数は、シート片側の面積1cmあたりで40〜2300個の範囲内である。好ましくは40〜1100個である。独立した突起が40個/cm未満であると、セル割れや気泡が生じる場合がある。2300個/cmを超えると、上記のT/D比が増大し、突起頂部への集中荷重によりセル割れが生じる場合がある。 The number of independent protrusions is in the range of 40 to 2300 per 1 cm 2 area on one side of the sheet. Preferably 40 to 1100. If the number of independent protrusions is less than 40 / cm 2 , cell cracks or bubbles may occur. If it exceeds 2300 pieces / cm 2 , the T / D ratio increases, and cell cracking may occur due to the concentrated load on the top of the protrusion.

封止材シートは、80℃の温水中に1分間放置した際のシート流れ方向の加熱収縮率が30%以下であることが好ましく、25%以下であることがより好ましい。ここで、「温水中に放置する」とは、封止材シートの比重が小さく、封止材シートが温水の表面に浮ぶ場合は、封止材シートを上から押さえて温水中に沈めたりせず、その浮かんだままの状態で放置することである。一方、封止材シートの比重が大きく、封止材シートが温水の中に沈む場合は、封止材シートを下から支えたりせず、その沈んだままの状態で放置することである。また、「シート流れ方向」とは、封止材シートの製造工程における、工程シートが流れていく方向である。太陽電池モジュールの製造における一般的な真空ラミネート工程では、封止材シートが十分に溶融するまでの間、シートを加圧することなく無荷重状態で真空引きを行い、封止材シートの溶融および脱気を行う。この際、封止材シートは80℃程度の高温で無荷重状態に曝されることから、封止材シートの収縮が発生し、結果的にセルの割れや位置ずれが発生する。本発明者らが、セルの割れや位置ずれに着眼し検討を行った結果、真空ラミネータ内を再現した無荷重状態で工程シートを1分間放置した際に、シート流れ方向の加熱収縮率が30%以下であれば、セルの割れがさらに抑制できることを見出した。この真空ラミネータ内を再現した状態というのが、80°の温水中に工程シートを放置する状態である。なお、シートの流れ方向と直交する方向の加熱収縮率は、流れ方向に比べ微少であることから特に限定されないが、5%以下であることが好ましい。   The encapsulant sheet preferably has a heat shrinkage rate of 30% or less, more preferably 25% or less, when left in warm water at 80 ° C. for 1 minute. Here, “Leave in warm water” means that if the specific gravity of the encapsulant sheet is small and the encapsulant sheet floats on the surface of the hot water, the encapsulant sheet can be pressed from above and submerged in the warm water. Instead, leave it in its floating state. On the other hand, when the specific gravity of the encapsulant sheet is large and the encapsulant sheet sinks in warm water, the encapsulant sheet is not allowed to be supported from below but is left in its submerged state. The “sheet flow direction” is a direction in which the process sheet flows in the manufacturing process of the sealing material sheet. In a general vacuum laminating process in the manufacture of a solar cell module, vacuuming is performed without applying pressure to the sealing material sheet until the sealing material sheet is sufficiently melted, and the sealing material sheet is melted and removed. Do care. At this time, since the encapsulant sheet is exposed to a no-load state at a high temperature of about 80 ° C., the encapsulant sheet contracts, and as a result, cell cracks and displacement occur. As a result of investigations by the inventors focusing on cell cracks and misalignment, when the process sheet is left for 1 minute in a no-load state that reproduces the inside of the vacuum laminator, the heat shrinkage rate in the sheet flow direction is 30. It was found that the cell cracking can be further suppressed if it is at most%. The state where the inside of the vacuum laminator is reproduced is a state where the process sheet is left in 80 ° warm water. The heat shrinkage rate in the direction orthogonal to the flow direction of the sheet is not particularly limited because it is minute compared to the flow direction, but is preferably 5% or less.

独立した突起の形状は、半球状や、三角錐、四角錐、六角錐、円錐などの錐形状や、これらの頂部を扁平にした台形状が好ましい。また、これら突起形状が混在した状態でもよい。これらの中でも、半球状および/または四角錐状が好ましい。ここで「半球状および四角錐状」とは、半球状の突起と四角錐状の突起とが混在している表面形状を意味する。太陽電池セルへの押し圧時に、太陽電池セルへの集中荷重がかかりにくく、かつ均一に荷重が分散できる点で半球状が好ましい。また、反射光のムラが生じにくく、表面品位に優れる点で四角錐状も好ましい。そして、これら半球状と四角錐状の両方の特徴を出せるため、半球状と四角錐状とを混在させた形状も好ましい。半球状と四角錐状とを混在させる場合は、それぞれの割合は、どちらの特徴をより求めるかに応じて任意に決めればよい。特に好ましくは、全てが半球状の模様である。   The shape of the independent protrusion is preferably a hemispherical shape, a pyramid shape such as a triangular pyramid, a quadrangular pyramid, a hexagonal pyramid, or a cone, or a trapezoidal shape with a flat top portion thereof. Moreover, the state in which these protrusion shapes are mixed may be used. Among these, a hemispherical shape and / or a quadrangular pyramid shape are preferable. Here, “hemispherical and quadrangular pyramid” means a surface shape in which hemispherical protrusions and quadrangular pyramidal protrusions are mixed. A hemispherical shape is preferable in that a concentrated load on the solar battery cell is difficult to be applied and the load can be uniformly dispersed when the pressure is applied to the solar battery cell. Further, a quadrangular pyramid shape is also preferable in that unevenness of reflected light hardly occurs and the surface quality is excellent. And since both hemispherical and quadrangular pyramid features can be obtained, a shape in which a hemispherical shape and a quadrangular pyramid shape are mixed is also preferable. When the hemispherical shape and the quadrangular pyramid shape are mixed, the ratio of each may be arbitrarily determined according to which feature is to be obtained. Particularly preferably, all are hemispherical patterns.

本発明の封止材シートは、独立した突起を有する面に、さらに高さ1〜15μmの微小な突起を有していることが好ましい。微小な突起を有していることにより、シートの滑り性が向上しハンドリングしやすくなる。また、微小な突起により光が散乱し、シートの白色性が向上するため、付着異物等の検査が容易となる。   The encapsulant sheet of the present invention preferably further has fine protrusions having a height of 1 to 15 μm on the surface having independent protrusions. By having the minute protrusions, the slipperiness of the sheet is improved and the handling becomes easy. In addition, light is scattered by the minute protrusions, and the whiteness of the sheet is improved, so that it is easy to inspect adhered foreign matter and the like.

この様な微少な突起は、後述するアニール工程に次いで、エンボス加工を実施する本発明の好ましい製造方法によって達成することができる。エンボス加工を実施した後に、加熱によるアニール処理を実施する従来の方法においては、高さ数10μm以上の大きな突起は加熱処理後もシートに残存することはあるが、高さ数μm程度の微少な突起は熱処理に伴って消失してしまう。   Such minute protrusions can be achieved by the preferred manufacturing method of the present invention in which embossing is performed after the annealing step described later. In the conventional method of performing annealing by heating after embossing, large protrusions with a height of several tens of μm may remain on the sheet even after the heat treatment, but they are as small as several μm in height. The protrusion disappears with the heat treatment.

なお、微少な突起の高さは、次のようにして測定した数値である。シートの表面を、JIS B0601(2001)に準拠し、周知のレーザー顕微鏡、例えば株式会社キーエンス製レーザー顕微鏡VK−X100等を用いてシート表面を倍率400で撮影する。得られた画像の粗さ曲線において、カットオフ値0.080mmとしたときのRz値を微小な突起の高さとする。   In addition, the height of the minute protrusion is a numerical value measured as follows. In accordance with JIS B0601 (2001), the surface of the sheet is photographed at a magnification of 400 using a well-known laser microscope such as a laser microscope VK-X100 manufactured by Keyence Corporation. In the roughness curve of the obtained image, the Rz value when the cutoff value is 0.080 mm is defined as the height of the minute protrusion.

次に、本発明の封止材シートに用いられる原料について説明する。   Next, the raw material used for the sealing material sheet of this invention is demonstrated.

上記のEVAのメルトフローレイトは、190℃において12〜40g/10分の範囲内であることが好ましい。メルトフローレイトが、190℃において12g/10分以上のEVAを用いることにより、真空ラミネート時の加熱によって組成物の流動が促進され、局部的な荷重を分散しセル割れの抑制が図れると共に、効率的にシートとセル間の空気を除去できる。また、メルトフローレイトを40g/10分以下とすることによって真空ラミネート時の封止材シートのモジュール端部からの溶融流出を抑制することができる。また、異なるメルトフローレイトのEVAを混合して用いることも可能である。この場合、混合後のメルトフローレイトが12〜40g/10分となるように混合して用いればよい。
なお、本発明の封止材シートに用いるEVAのメルトフローレイトは、JIS K7210(1999)「プラスチック−熱可塑性プラスチックのメルトマスフローレイト(MFR)及びメルトボリュームフローレイト(MVR)の試験方法」に準拠し、温度190℃、加重2.16kgの試験条件で測定される。
The EVA melt flow rate is preferably within a range of 12 to 40 g / 10 min at 190 ° C. By using EVA with a melt flow rate of 12 g / 10 min or more at 190 ° C., the flow of the composition is promoted by heating during vacuum lamination, and local loads are dispersed to suppress cell cracking and efficiency. Thus, the air between the sheet and the cell can be removed. Moreover, the melt outflow from the module edge part of the sealing material sheet | seat at the time of vacuum lamination can be suppressed by making a melt flow rate into 40 g / 10min or less. It is also possible to use a mixture of EVA having different melt flow rates. In this case, what is necessary is just to mix and use so that the melt flow rate after mixing may be 12-40 g / 10min.
The EVA melt flow rate used in the sealing material sheet of the present invention conforms to JIS K7210 (1999) “Plastic-thermoplastic plastic melt mass flow rate (MFR) and melt volume flow rate (MVR) test methods”. And measured under test conditions of a temperature of 190 ° C. and a load of 2.16 kg.

本発明の封止材シートに用いるEVA組成物には、有機過酸化物を含むことが好ましい。前記の有機過酸化物は、100℃以上の温度で分解してラジカルを発生するものであれば、どのようなものでも使用することができる。有機過酸化物は、封止材シートを製造する時の温度、太陽電池モジュールを作成するときの加熱・貼り合わせ温度、及び架橋剤自身の貯蔵安定性などを考慮して選択すればよい。特に、半減期10時間の分解温度が70℃以上のものが好ましい。この様な有機過酸化物の例としては、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)バレレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジーt−ヘキシルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジスクシン酸パーオキサイド、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシー2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシノルマルオクトエート、t−アミルパ−オキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート、ジ−t−アミルパーオキサイド、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、エチル3,3−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブチレート、1,1−ジ(t−アミルパーオキシ)シクロヘキサンなどを挙げることができる。これらの有機過酸化物は2種以上組み合わせて用いても良い。これらの有機過酸化物の含有量は、EVA樹脂100質量部に対して0.1〜5質量部、好ましくは0.1〜3質量部、特に好ましくは0.2〜2質量部の範囲であることが好ましい。有機過酸化物の含有量が0.1質量部未満であるとEVA樹脂を架橋させることが出来ない場合がある。5質量部を超えて含有してもその含有効果が低いことに加え、未分解の有機過酸化物が封止材シート中に残存し、経年劣化の原因となる可能性がある。   The EVA composition used for the sealing material sheet of the present invention preferably contains an organic peroxide. Any organic peroxide may be used as long as it decomposes at a temperature of 100 ° C. or higher and generates radicals. The organic peroxide may be selected in consideration of the temperature at the time of producing the sealing material sheet, the heating / bonding temperature at the time of producing the solar cell module, the storage stability of the crosslinking agent itself, and the like. In particular, those having a decomposition temperature of 70 hours or more with a half-life of 10 hours are preferred. Examples of such organic peroxides include 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, n-butyl 4,4-di- (t-butylperoxy) valerate, 2,5-dimethyl- 2,5-di (t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3 Disuccinic acid peroxide, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexa Noate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) Syl) peroxydicarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-butylperoxy- 2-ethylhexanoate, t-butylperoxyisobutyrate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxyisononanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxy Normal octoate, t-amylperoxyoxynononanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexyl carbonate, di-t-amylperoxide, 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane, ethyl 3,3 -Di (t-butylperoxy) butyrate, 1,1-di (t-amyl) Peroxy) cyclohexane and the like. These organic peroxides may be used in combination of two or more. The content of these organic peroxides is 0.1 to 5 parts by mass, preferably 0.1 to 3 parts by mass, particularly preferably 0.2 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the EVA resin. Preferably there is. If the content of the organic peroxide is less than 0.1 parts by mass, the EVA resin may not be crosslinked. Even if the content exceeds 5 parts by mass, the content effect is low, and undecomposed organic peroxide may remain in the encapsulant sheet, which may cause deterioration over time.

本発明の封止材シートに用いるEVA組成物には、更に架橋助剤、シラン系カップリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などを含んでいても良い。   The EVA composition used for the encapsulant sheet of the present invention may further contain a crosslinking aid, a silane coupling agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and the like.

架橋助剤は、分子内に複数個の不飽和結合を有する多官能性モノマーであり、有機過酸化物の分解によって発生した活性ラジカル化合物と反応し、EVAを均一に、効率よく架橋させるために用いられる。これらの架橋助剤の例としては、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロイキシエチル]イソシアヌレート、ジメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼンなどが挙げられる。これらの架橋助剤は、それぞれ単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。   The crosslinking aid is a polyfunctional monomer having a plurality of unsaturated bonds in the molecule, and reacts with the active radical compound generated by the decomposition of the organic peroxide to uniformly and efficiently cross-link EVA. Used. Examples of these crosslinking aids include triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris [(meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate, Dimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, dipentaerystol hexa (meth) acrylate, divinylbenzene, etc. Can be mentioned. These crosslinking aids may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, “(meth) acrylate” means “acrylate or methacrylate”.

これらの架橋助剤の中でも、トリアリルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが特に好ましい。これらの架橋助剤の含有量は、EVA100質量部に対して、0〜5質量部、好ましくは0.1〜3質量部、より好ましくは0.3〜3質量部の範囲である。5質量部を超えて含有しても、効果の向上はわずかであり、コストアップ要因となる。   Among these crosslinking aids, triallyl isocyanurate and trimethylolpropane tri (meth) acrylate are particularly preferable. Content of these crosslinking adjuvants is 0-5 mass parts with respect to EVA 100 mass parts, Preferably it is 0.1-3 mass parts, More preferably, it is the range of 0.3-3 mass parts. Even if the content exceeds 5 parts by mass, the effect is only slightly improved, which causes a cost increase.

シラン系カップリング剤は、封止材シートと、太陽電池セル、バックシート、ガラスなどの各種部材との接着性を向上させるために使用する。シラン系カップリング剤の含有量は、エチレン酢酸ビニル共重合体樹脂100質量部に対して、0.05〜2質量部の範囲である。0.05質量部を下回ると含有効果が無く、2質量部を超えて含有しても接着性の向上効果は少ないため無意味である。シラン系カップリング剤としては特に限定されるものではないが、例えばメタクリロキシ基、アクリロキシ基、エポキシ基、メルカプト基、ウレイド基、イソシアネート基、アミノ基、水酸基、の中から選ばれた少なくとも1種の官能基を有するアルコキシシラン化合物が挙げられる。その具体例としては、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのメタクリロキシ基含有アルコキシシラン化合物、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのアクリロキシ基含有アルコキシシラン化合物、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有アルコキシシラン化合物、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプト基含有アルコキシシラン化合物、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシシラン、γ−(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリメトキシシランなどのウレイド基含有アルコキシシラン化合物、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルエチルジメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルエチルジエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリクロロシランなどのイソシアナト基含有アルコキシシラン化合物、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基含有アルコキシシラン化合物、γ−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ヒドロキシプロピルトリエトキシシランなどの水酸基含有アルコキシシラン化合物などが挙げられる。中でも、エチレン酢酸ビニル共重合体樹脂との相溶性の観点からメタクリロキシ基含有アルコキシシラン化合物が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランがさらに好ましい。   The silane coupling agent is used to improve the adhesion between the encapsulant sheet and various members such as a solar battery cell, a back sheet, and glass. Content of a silane coupling agent is the range of 0.05-2 mass parts with respect to 100 mass parts of ethylene vinyl acetate copolymer resin. If the amount is less than 0.05 parts by mass, there is no content effect, and even if the content exceeds 2 parts by mass, the effect of improving adhesiveness is small, which is meaningless. Although it does not specifically limit as a silane coupling agent, For example, at least 1 sort (s) chosen from methacryloxy group, acryloxy group, epoxy group, mercapto group, ureido group, isocyanate group, amino group, hydroxyl group Examples include alkoxysilane compounds having a functional group. Specific examples thereof include alkoxysilane compounds containing a methacryloxy group such as γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. , Acryloxy group-containing alkoxysilane compounds such as γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Epoxy group-containing alkoxysilane compounds such as trimethoxysilane, mercapto group-containing alkoxysilane compounds such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and γ-mercaptopropyltriethoxysilane Ureido group-containing alkoxysilane compounds such as γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ- (2-ureidoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ- Isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropyl Isocyanato group-containing alkoxysilane compounds such as trichlorosilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ Amino group-containing alkoxysilane compounds such as aminopropyltrimethoxysilane, .gamma.-hydroxypropyl trimethoxysilane, a hydroxyl group-containing alkoxysilane compounds such as .gamma.-hydroxypropyl triethoxysilane and the like. Among these, from the viewpoint of compatibility with the ethylene vinyl acetate copolymer resin, a methacryloxy group-containing alkoxysilane compound is preferable, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane is more preferable.

本発明の封止材シートに用いるEVA組成物には、更に紫外線吸収剤を含むことがより好ましい。紫外線吸収剤は、照射光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギーへと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するものである。紫外線吸収剤としては、既知のものを用いることができる。例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系などを使用することができる。これらの1種を用いてもよいし、2種以上を組み合わせ使用してもよい。   It is more preferable that the EVA composition used for the sealing material sheet of the present invention further contains an ultraviolet absorber. The UV absorber absorbs harmful UV rays in the irradiated light and converts them into innocuous heat energy within the molecule, preventing the active species that initiate photodegradation in the polymer from being excited. . Known ultraviolet absorbers can be used. For example, benzophenone series, benzotriazole series, triazine series, salicylic acid series, cyanoacrylate series, etc. can be used. One of these may be used, or two or more may be used in combination.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジ(ヒドロキシメチル)ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジ(2−ヒドロキシエチル)ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメトキシ−5,5’−ジ(ヒドロキシメチル)ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメトキシ−5,5’−ジ(2−ヒドロキシエチル)ベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ(ヒドロキシメチル)−5,5’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ(2−ヒドロキシエチル)−5,5’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2−ジヒドロキシ−4,4−ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。   Examples of the benzophenone ultraviolet absorber include 2,2′-dihydroxy-4,4′-di (hydroxymethyl) benzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-di (2-hydroxyethyl) benzophenone, 2,2′-dihydroxy-3,3′-dimethoxy-5,5′-di (hydroxymethyl) benzophenone, 2,2′-dihydroxy-3,3′-dimethoxy-5,5′-di (2-hydroxy) Ethyl) benzophenone, 2,2′-dihydroxy-3,3′-di (hydroxymethyl) -5,5′-dimethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-3,3′-di (2-hydroxyethyl)- 5,5′-dimethoxybenzophenone, 2,2-dihydroxy-4,4-dimethoxybenzophenone and the like can be mentioned.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(ヒドロキシメチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−5’−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−メチル−5’−(ヒドロキシメチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−メチル−5’−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−メチル−5’−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−(ヒドロキシメチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−オクチル−5’−(ヒドロキシメチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−オクチル−5’−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール、2−〔2’−ヒドロキシ−3’−t−オクチル−5’−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−2H−ベンゾトリアゾール等、あるいは2,2’−メチレンビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(ヒドロキシメチル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(5−ブロモ−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(5−ブロモ−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)フェノール〕、2,2’−メチレンビス〔6−(5−ブロモ−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(4−ヒドロキシブチル)フェノール〕、3,3−{2,2’−ビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−1−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕}プロパン、2,2−{2,2’−ビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−1−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕}ブタン、2,2’−オキシビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕、2,2’−ビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕スルフィド、2,2’−ビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕スルホキシド、2,2’−ビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕スルホン、2,2’−ビス〔6−(2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−4−(2−ヒドロキシエチル)フェノール〕アミン等が挙げられる。   Examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- [2′-hydroxy-5 ′-(hydroxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5 ′-(2-hydroxyethyl). ) Phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(3-hydroxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-methyl-5'- (Hydroxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3′-methyl-5 ′-(2-hydroxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy- 3′-methyl-5 ′-(3-hydroxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3 -T-butyl-5 '-(hydroxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-(2-hydroxyethyl) phenyl] -2H-benzo Triazole, 2- [2′-hydroxy-3′-t-butyl-5 ′-(2-hydroxyethyl) phenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3′-t -Butyl-5 '-(3-hydroxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-t-octyl-5'-(hydroxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3′-t-octyl-5 ′-(2-hydroxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy 3′-t-octyl-5 ′-(3-hydroxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole or the like, or 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (hydroxymethyl) ) Phenol], 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol], 2,2'-methylenebis [6- (5-chloro-2H- Benzotriazoly-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol], 2,2′-methylenebis [6- (5-bromo-2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (3-hydroxypropyl) phenol], 2, 2'-methylenebis [6- (5-chloro-2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (3-hydroxypropyl) phenol], 2,2'-methylenebis [6- (5-bromo-2H-benzotriazoly- 2-yl) -4- (3-hydroxypropyl) phenol], 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (4-hydroxybutyl) phenol], 2,2 ′ -Methylenebis [6- (5-chloro-2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (4-hydroxybutyl) phenol], 2,2'-methylenebis [6- (5-bromo-2H-benzotriazoly-2- Yl) -4- (4-hydroxybutyl) phenol], 3,3- {2,2′-bis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -1-hydro Ci-4- (2-hydroxyethyl) phenyl]} propane, 2,2- {2,2′-bis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -1-hydroxy-4- (2-hydroxyethyl) ) Phenyl]} butane, 2,2′-oxybis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol], 2,2′-bis [6- (2H-benzotriazolyl) 2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol] sulfide, 2,2′-bis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol] sulfoxide, 2, 2′-bis [6- (2H-benzotriazoly-2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol] sulfone, 2,2′-bis [6- (2H-benzotriazo 2-yl) -4- (2-hydroxyethyl) phenol] amine.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチルフェニル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチルフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(4−ヒドロキシブチル)フェニル〕−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(4−ヒドロキシブチル)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(4−ヒドロキシブトキシ)フェニル〕−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(4−ヒドロキシブトキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヒドロキシメチルフェニル)−4,6−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル〕−4,6−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−ヒドロキシプロピル)フェニル〕−4,6−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−s−トリアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(3−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕−4,6−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)−s−トリアジン、2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチロキシ)フェノール、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール等が挙げられる。   Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2- (2-hydroxy-4-hydroxymethylphenyl) -4,6-diphenyl-s-triazine, 2- (2-hydroxy-4-hydroxymethylphenyl) -4, 6-bis (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (2-hydroxyethyl) phenyl] -4,6-diphenyl-s-triazine, 2- [2-hydroxy -4- (2-hydroxyethyl) phenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -4, 6-diphenyl-s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (3-hydroxypropyl) phenyl] -4,6-diphenyl-s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (3-hydroxypropyl) phenyl]- 4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (3-hydroxypropoxy) phenyl] -4,6-diphenyl-s-triazine, 2- [2 -Hydroxy-4- (3-hydroxypropoxy) phenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (4-hydroxybutyl) phenyl]- 4,6-diphenyl-s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (4-hydroxybutyl) phenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (4-hydroxybutoxy) phenyl] -4,6-diphenyl-s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (4-hydroxybutoxy) phenyl]- 4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2- (2-hydroxy-4-hydroxymethylphenyl) -4,6-bis (2-hydroxy-4-methylphenyl) -s- Triazine, 2- [2-hydroxy-4- (2-hydroxyethyl) phenyl] -4,6-bis (2-hydroxy-4-methylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- ( 2-hydroxyethoxy) phenyl] -4,6-bis (2-hydroxy-4-methylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (3-hydroxyl) (Lopyl) phenyl] -4,6-bis (2-hydroxy-4-methylphenyl) -s-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (3-hydroxypropoxy) phenyl] -4,6-bis (2 -Hydroxy-4-methylphenyl) -s-triazine, 2- [4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- (octyloxy) phenol, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol and the like.

サリチル酸系紫外線吸収剤としては、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。   Examples of the salicylic acid-based ultraviolet absorber include phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate and the like.

シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート等が挙げられる。   Examples of the cyanoacrylate ultraviolet absorber include 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3'-diphenyl acrylate, ethyl-2-cyano-3,3'-diphenyl acrylate, and the like.

これらの紫外線吸収剤の中でもベンゾフェノン系の紫外線吸収剤が紫外線吸収効果と、紫外線吸収剤そのものの着色の観点から最も好ましい。   Of these ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers are most preferable from the viewpoints of the ultraviolet absorption effect and coloring of the ultraviolet absorber itself.

上記の紫外線吸収剤は、EVA100質量部に対して0.05〜3質量部、より好ましくは0.05〜2.0質量部の範囲で使用する。   Said ultraviolet absorber is used in 0.05-3 mass parts with respect to 100 mass parts of EVA, More preferably, it is used in 0.05-2.0 mass parts.

本発明の封止材シートに用いるEVA組成物には、更に光安定剤を含むことが好ましい。光安定剤は、ポリマーに対して有害なラジカル種を捕捉し、新たなラジカルを発生しないようにするものである。光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましく用いられる。   It is preferable that the EVA composition used for the sealing material sheet of the present invention further contains a light stabilizer. The light stabilizer traps radical species that are harmful to the polymer and prevents the generation of new radicals. As the light stabilizer, a hindered amine light stabilizer is preferably used.

ヒンダードアミン系光安定剤としては、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル、1,1−ジメチルエチルヒドロパーオキサイド及びオクタンの反応生成物70質量%とポリプロピレン30質量%からなるもの、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート及びメチル−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート混合物、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートとトリデシル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートの混合物、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートとトリデシル−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートの混合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物、N,N’,N”,N”’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミンと上記コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物の混合物、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物などが挙げられる。上述したヒンダードアミン系光安定剤は、一種単独で用いられてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。   As a hindered amine light stabilizer, bis (2,2,6,6-tetramethyl-1 (octyloxy) -4-piperidinyl) ester, 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane produced by reaction with decanedioic acid 70% by mass of a product and 30% by mass of polypropylene, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy Phenyl] methyl] butyl malonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and methyl-1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidylsebacate mixture, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)- , 2,3,4-butanetetracarboxylate, tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 2,2,6, A mixture of 6-tetramethyl-4-piperidyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate and tridecyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,2,6,6-pentamethyl A mixture of -4-piperidyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate and tridecyl-1,2,3,4-butanetetracarboxylate, poly [{6- (1,1,3,3-tetra Methylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6- Tramethyl-4-piperidyl) imino}], dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, N, N ′, N ″, N ″ ′-tetrakis -(4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazin-2-yl) -4,7-diazadecane-1, A mixture of 10-diamine, dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, dibutylamine, 1,3,5-triazine, N, N′— Polycondensates of bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, etc. All I can get lost. The above-mentioned hindered amine light stabilizers may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート及びメチル−1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケートの混合物、並びにメチル−4−ピペリジルセバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケートを用いるのが好ましい。また、融点が、60℃以上であるものを用いるのが好ましい。   Among these, a mixture of bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate and methyl-1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate, and methyl-4 It is preferable to use piperidyl sebacate and bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate. Moreover, it is preferable to use a melting point of 60 ° C. or higher.

光安定剤の含有量は、EVA100質量部に対して、0.05〜3.0質量部、より好ましくは0.05〜1.0質量部とするのが好ましい。   The content of the light stabilizer is preferably 0.05 to 3.0 parts by mass, more preferably 0.05 to 1.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of EVA.

その他、本発明の効果を阻害しない範囲内で、既知の添加剤として、酸化防止剤、難燃剤、難燃助剤、可塑剤、滑剤、着色剤などを必要に応じて含有しても良い。   In addition, an antioxidant, a flame retardant, a flame retardant aid, a plasticizer, a lubricant, a colorant, and the like may be contained as necessary within the range not inhibiting the effects of the present invention.

本発明の封止材シートは、太陽電池のセル割れを抑制するための封止材シートのクッション性を評価する指標として、封止材シートの突起を有する面を厚み方向に100μm圧縮した際のシートの反発応力を採用する。太陽電池のセル割れ性をと封止材シートのクッション性の関係について鋭意検討した結果、セルの割れが抑制される反発応力は、70kPa以下であることが好ましいことを見出した。なお、上記の反発応力は、圧縮変位として5μm以下、圧縮加重として100Pa以下の分解能を有する圧縮試験装置を用い、扁平な加圧端子を0.02mm/sの加圧速度で、封止材シートの突起を有する面を厚み方向に100μm加圧した際の、シートの反発応力(kPa)を測定することにより得られる。
封止材シートの反発応力が70kPa以下であると、突起を有する面を太陽電池セルと接するように積層し、真空ラミネートを行うことで太陽電池セルの割れを抑制することができる。なお、封止材シートの突起を有する面とは反対側の面の形状は特に限定されないが、太陽電池モジュール製造時の封止材シートの粘着防止などの点から、高さ2〜10μm程度の微少な突起を有することが好ましい。
The sealing material sheet of the present invention is an index for evaluating the cushioning property of the sealing material sheet for suppressing cell cracking of the solar battery, when the surface having the protrusion of the sealing material sheet is compressed by 100 μm in the thickness direction. Adopt the repulsive stress of the sheet. As a result of intensive studies on the relationship between the cell cracking property of the solar battery and the cushioning property of the sealing material sheet, it was found that the repulsive stress at which cell cracking is suppressed is preferably 70 kPa or less. The above repulsive stress is a sealing material sheet using a compression test apparatus having a resolution of 5 μm or less as a compression displacement and 100 Pa or less as a compression load, and a flat pressure terminal at a pressure rate of 0.02 mm / s. It is obtained by measuring the repulsive stress (kPa) of the sheet when the surface having the protrusions is pressed 100 μm in the thickness direction.
When the repulsive stress of the encapsulant sheet is 70 kPa or less, the solar cell can be prevented from cracking by laminating the surface having the protrusion so as to be in contact with the solar cell and performing vacuum lamination. In addition, although the shape of the surface on the opposite side to the surface which has the processus | protrusion of a sealing material sheet is not specifically limited, From points, such as adhesion prevention of the sealing material sheet at the time of solar cell module manufacture, about 2-10 micrometers in height. It is preferable to have a minute protrusion.

封止材シートの厚みは50〜1500μmが好ましい。より好ましくは100〜1000μm、特に好ましくは200〜800μmである。50μm未満では太陽電池封止材シートのクッション性が乏しくなったり、作業性の観点で問題が生ずる場合がある。また1500μmを越えると生産性の低下や密着性の低下が問題となる場合がある。なお、封止材シートの厚みは、封止材シートの片面のみに突起が形成されている場合は、突起の頂点から、突起を有する面とは反対側の面までの距離である。封止材シートの両面に突起が形成されている場合は、一方の面の突起の頂点から、反対面の突起の頂点までの距離である。   As for the thickness of a sealing material sheet, 50-1500 micrometers is preferable. More preferably, it is 100-1000 micrometers, Most preferably, it is 200-800 micrometers. If it is less than 50 μm, the cushioning property of the solar cell encapsulant sheet may be poor, or a problem may occur from the viewpoint of workability. On the other hand, if the thickness exceeds 1500 μm, a decrease in productivity and a decrease in adhesion may be a problem. In addition, the thickness of a sealing material sheet is the distance from the vertex of a processus | protrusion to the surface on the opposite side to the surface which has a processus | protrusion, when the processus | protrusion is formed only in the single side | surface of the encapsulant sheet. When protrusions are formed on both surfaces of the encapsulant sheet, the distance is from the top of the protrusion on one surface to the top of the protrusion on the opposite surface.

このように、封止材シートの表面に独立した突起を正確に形成したり、封止材シートの加熱収縮率を特定の範囲内に抑えるには、後述する製造方法で封止材シートを製造することが好ましい。   Thus, in order to accurately form independent protrusions on the surface of the encapsulant sheet, or to suppress the heat shrinkage rate of the encapsulant sheet within a specific range, the encapsulant sheet is produced by a production method described later. It is preferable to do.

以下、本発明の封止材シートを得るための好ましい製造方法について説明する。   Hereinafter, the preferable manufacturing method for obtaining the sealing material sheet of this invention is demonstrated.

(シート製膜工程)
製膜工程は、原料樹脂と、添加剤を均一混合し、シート状に成形し、これを冷却して工程シートを得る工程である。
(Sheet casting process)
The film forming process is a process in which a raw material resin and an additive are uniformly mixed, formed into a sheet shape, and cooled to obtain a process sheet.

シート製膜工程には、高温下で原料樹脂と添加剤を溶かし混練する押出機、混練された溶融樹脂をシート状に押し出すダイ、押し出された高温の工程シートを冷却固化して固体シートに成形するポリシングローラーが設けられている。   In the sheet film-forming process, an extruder that melts and kneads the raw resin and additives at high temperature, a die that extrudes the kneaded molten resin into a sheet, and the extruded high-temperature process sheet is cooled and solidified to form a solid sheet A polishing roller is provided.

押出機としては、単軸押出機よりも、2軸押出機を用いたほうが、生産性や樹脂と添加剤の混練性などの点から好ましい。   As the extruder, it is preferable to use a twin-screw extruder rather than a single-screw extruder from the viewpoints of productivity, kneadability of resin and additive, and the like.

押出機に投入する原料樹脂と添加剤は、予めミキサーやブレンダーなどで混合したものを投入しても良いし、それぞれを個別に投入しても良い。また、押出機の途中からサイドフィードしたり、液体においては注入ポンプなどで添加する方法などを用いても良い。   The raw material resin and additive to be charged into the extruder may be mixed in advance using a mixer or a blender, or may be charged individually. Alternatively, side feed may be performed from the middle of the extruder, or a liquid may be added using an injection pump or the like.

樹脂と添加剤を混練する時の温度は、使用する樹脂の種類や粘度にもよるが、樹脂の融点より10℃以上高く、融点より50℃高い温度以下の範囲が一般的である。なお、本発明において融点とは、示差走査熱量測定(DSC)において、10℃/分で昇温したときの吸熱ピーク値温度のことである。太陽電池封止材シートとして一般的に用いられるEVAシートの場合は、架橋剤として有機過酸化物を含有していることが多いため、これを出来る限り分解させずに、混練することに留意する必要がある。そのため、樹脂温度としては、例えば融点が70℃程度のEVAの場合は、ダイ出口での樹脂温度としては、90〜130℃付近であることが好ましく、より好ましくは100〜120℃の範囲である。90℃以下では、混練性が不十分となり、添加剤の均一分散性が低下する可能性があり、シートの外観が悪くなる可能性があり、130℃を超えると、有機過酸化物が分解し、封止材シートの品質が安定せず、連続生産性も劣ってしまう可能性がある。   The temperature at which the resin and additive are kneaded depends on the type and viscosity of the resin used, but is generally in the range of 10 ° C. or more higher than the melting point of the resin and 50 ° C. or less higher than the melting point. In the present invention, the melting point is an endothermic peak value temperature when the temperature is raised at 10 ° C./min in differential scanning calorimetry (DSC). In the case of an EVA sheet generally used as a solar cell encapsulant sheet, since it often contains an organic peroxide as a cross-linking agent, it should be noted that it is kneaded without being decomposed as much as possible. There is a need. Therefore, as the resin temperature, for example, in the case of EVA having a melting point of about 70 ° C., the resin temperature at the die outlet is preferably around 90 to 130 ° C., more preferably in the range of 100 to 120 ° C. . Below 90 ° C, the kneadability becomes insufficient, and the uniform dispersibility of the additive may decrease, and the appearance of the sheet may deteriorate. When the temperature exceeds 130 ° C, the organic peroxide decomposes. The quality of the encapsulant sheet may not be stable and the continuous productivity may be poor.

なお、工程シートを製膜する方法は上記の押出機でも良いし、カレンダーローラーによる成形など、公知の方法を用いても良い。   In addition, the method for forming the process sheet may be the above-described extruder, or a known method such as molding with a calendar roller may be used.

押出機などで原料樹脂と添加剤を溶かし混連された溶融樹脂は、ダイを用いてシート状に押し出される。この様なダイとしては、Tダイやサーキュラーダイなどを用いることが出来る。平板状のダイは、押し出したいシート幅に従い幅広の形状となるため、押出機に取り付けるとT型となることから、総称してTダイと呼ばれる。また、Tダイでは、ダイの幅方向で滞留時間や流速などが異なるために、偏肉などの問題や、幅方向での厚みムラ等が発生しやすい。これを解決するために円筒状のサーキュラーダイを用いることも可能である。サーキュラーダイは、樹脂を円筒状に押し出し、これを切開することでシート状に成形するための円筒状のダイであり、シートの幅方向での物性は比較的に均一になりやすい。   The molten resin obtained by melting the raw material resin and the additive in an extruder or the like and being mixed together is extruded into a sheet shape using a die. As such a die, a T die or a circular die can be used. Since a flat die has a wide shape in accordance with the sheet width to be extruded, it becomes a T shape when attached to an extruder, and is collectively called a T die. In addition, since the residence time and flow velocity differ in the die width direction in the T die, problems such as uneven thickness and uneven thickness in the width direction are likely to occur. In order to solve this, it is also possible to use a cylindrical circular die. The circular die is a cylindrical die for extruding a resin into a cylindrical shape and cutting it into a sheet shape, and the physical properties in the width direction of the sheet are likely to be relatively uniform.

また、Tダイを用いる場合は、複数の押出機を用いて異なる樹脂組成物を押し出し、フィードブロック方式やマルチダイ方式などの共押出方法により工程シートを積層構成とすることもできる。この様な積層構成とすることで、各層ごとに封止材シートとして必要な機能を分離することができることや、添加剤量を調節することでコストダウンさせることができる。   Moreover, when using T-die, a process sheet can also be made into a laminated structure by coextrusion methods, such as a feed block system and a multi-die system, extruding a different resin composition using a some extruder. By setting it as such a laminated structure, a function required as a sealing material sheet can be isolate | separated for every layer, and cost can be reduced by adjusting the amount of additives.

ダイを用いて押し出された工程シートは、ポリシングローラーでシート状に成形する。ポリシングローラーは、溶融樹脂を一対のローラーで挟持加圧してシートの厚みと表面性の賦形を同時に行うための、複数のローラーにより構成された工程シート搬送装置のことである。構成される各ローラーは、溶融樹脂の冷却や賦形性に適した温度に調整される機構や、各ローラー間の間隙および加圧圧力を調整できる機構を備える。また、必要に応じて、チラー水などの温調水を流すことで工程シートの粘着を防止し、成形性を向上させることが好ましく、0〜30℃程度に温度調整することが好ましい。   The process sheet extruded using a die is formed into a sheet shape by a polishing roller. A polishing roller is a process sheet conveying apparatus comprised of a plurality of rollers for simultaneously pressing and pressing a molten resin between a pair of rollers to form the sheet thickness and surface properties. Each configured roller includes a mechanism that is adjusted to a temperature suitable for cooling and shaping of the molten resin, and a mechanism that can adjust the gap between the rollers and the pressure applied. Moreover, it is preferable to prevent sticking of a process sheet | seat by flowing temperature control water, such as chiller water, as needed, and to improve a moldability, and it is preferable to adjust temperature to about 0-30 degreeC.

(アニール処理工程)
次にアニール処理工程について説明する。
(Annealing process)
Next, the annealing process will be described.

アニール処理工程の目的は、製膜工程で成形された工程シートが有する残留歪みを除去し、シートの加熱収縮を低減させることである。アニール処理工程では、炉の中に設置された、ヒータで加熱しながら、複数の搬送ローラーの上に工程シートを通すなどの方法が挙げられる。   The purpose of the annealing process is to remove the residual distortion of the process sheet formed in the film forming process and reduce the heat shrinkage of the sheet. In the annealing process, a method of passing a process sheet on a plurality of conveying rollers while heating with a heater installed in a furnace can be mentioned.

シートを加熱するためのヒータは、工程シートを加熱できるものであれば特に限定されず、セラミックスヒータ、ステンレスヒータ、シーズーヒータなど、公知のものを用いることが出来る。   The heater for heating the sheet is not particularly limited as long as it can heat the process sheet, and a known heater such as a ceramic heater, a stainless steel heater, or a sheath heater can be used.

工程シートを搬送するための搬送ローラーは、加熱された工程シートを搬送するため、離型性に優れていることが必要である。そのため、エンボス加工や、金属や金属酸化物などの化合物を溶射することにより表面に凹凸を設けた金属ローラーに、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、パーフルオロアルコキシアルカン等のフッ素樹脂をコーティングしたものを用いたり、離形性のコーティング処理をした紙やフィルムなどを金属ローラーの表面に巻き付けたものを用いても良い。これらの離形性の付与方法は、特に限定する必要は無く、従来公知の方法を用いることが出来る。これらのローラーの離型性の程度としては、JIS Z0237(2009)に規定の方法によって、ニチバン株式会社製セロハンテープに対する剥離強度が5N/mm以下の材質であることが好ましい。また、炉内の搬送ローラーは、シートの収縮に併せて、その速度を個別に制御することが加熱収縮を効率よく除去するためには好ましい。   Since the conveyance roller for conveying a process sheet conveys the heated process sheet, it is required that it is excellent in releasability. For this reason, fluorocarbon resins such as polytetrafluoroethylene, perfluoroethylene propene copolymer, and perfluoroalkoxyalkane are coated on metal rollers that have uneven surfaces by embossing or thermal spraying of compounds such as metals and metal oxides. You may use what was used, or what wound the paper or film etc. which carried out the releasable coating process around the surface of the metal roller. These methods for imparting releasability are not particularly limited, and conventionally known methods can be used. The degree of releasability of these rollers is preferably a material having a peel strength of 5 N / mm or less with respect to the cellophane tape manufactured by Nichiban Co., Ltd. according to the method defined in JIS Z0237 (2009). In addition, it is preferable to control the speed of the conveying roller in the furnace individually in accordance with the shrinkage of the sheet in order to efficiently remove the heat shrinkage.

アニール処理工程でのシートの表面温度は、シートの少なくとも一方の表面の最高温度を、この表面部分を構成する樹脂組成物の融点以上の温度になるまで加熱することが好ましい。この加熱した側の表面に、次の工程であるエンボス加工工程において、エンボス加工が施される。ここで、「この表面部分を構成する樹脂組成物」とは、工程シートが単層シートの場合、この工程シートを構成する樹脂組成物のことであり、工程シートが複数の層が積層した積層シートの場合、加熱した側の表面の層を構成する樹脂組成物のことである。最高温度が樹脂組成物の融点未満の温度にしかならないようなアニール処理を実施しても、加熱収縮率を低減する効果が不十分であったり、長時間の処理が必要となる。また、表面の最高温度は、(加熱した側の表面部分を構成する樹脂組成物の融点+5℃)〜(加熱した側の表面部分を構成する樹脂組成物の融点+35℃)の温度範囲内が好ましい。アニール処理中の温度が高くなり過ぎると、工程シートが搬送ローラーに粘着したり、平面性が低下したり、それらを原因として、次の工程(c)においてシワが発生する場合がある。例えば、融点71℃のEVA樹脂を用いた工程シートの場合は、アニール処理工程での最高到達温度は、76〜106℃の範囲であることが好ましい。75℃を下回るとアニール処理の効果が十分得られず、不必要にアニール炉を長くする必要が生じ、105℃を超えると、工程シートが搬送ローラーに粘着しやすくなり、平面性が低下しシワの原因となる。   The surface temperature of the sheet in the annealing treatment step is preferably heated until the maximum temperature of at least one surface of the sheet reaches a temperature equal to or higher than the melting point of the resin composition constituting the surface portion. The surface on the heated side is embossed in the embossing process which is the next process. Here, the “resin composition constituting this surface portion” is a resin composition constituting the process sheet when the process sheet is a single-layer sheet, and the process sheet is a laminate in which a plurality of layers are laminated. In the case of a sheet, it is a resin composition constituting a layer on the surface on the heated side. Even if an annealing process is performed in which the maximum temperature is only a temperature lower than the melting point of the resin composition, the effect of reducing the heat shrinkage rate is insufficient, or a long-time process is required. The maximum surface temperature is within the temperature range of (melting point of the resin composition constituting the heated surface portion + 5 ° C.) to (melting point of the resin composition constituting the heated surface portion + 35 ° C.). preferable. If the temperature during the annealing process becomes too high, the process sheet may adhere to the transport roller, the flatness may deteriorate, or wrinkles may occur in the next process (c) due to these reasons. For example, in the case of a process sheet using EVA resin having a melting point of 71 ° C., it is preferable that the maximum temperature reached in the annealing process is in the range of 76 to 106 ° C. If the temperature is lower than 75 ° C, the effect of the annealing treatment cannot be obtained sufficiently, and it becomes necessary to lengthen the annealing furnace unnecessarily. If the temperature exceeds 105 ° C, the process sheet tends to stick to the conveyance roller, and the flatness is lowered and wrinkles are reduced. Cause.

工程シートの加熱時間、すなわちアニール炉内に工程シートを滞留させる時間は、22〜55秒の範囲とすることが好ましい。アニール炉内に滞留する時間は、ポリシングローラーによって冷却された工程シートを、工程シートの表面温度がアニール処理に効果的な温度75〜105℃の範囲に到達するための加熱時間と、前記温度に到達後に加熱収縮を低減するためのアニール処理時間との合計である。加熱時間が22秒を下回ると、加熱収縮の除去が不十分となり、55秒を超えて加熱しても、効果は飽和しており、炉長がいたずらに長くなるだけである。加熱時間の下限は22秒以上が好ましく、25秒以上がより好ましい。加熱時間の上限は、加熱収縮の除去が十分にできている限りにおいて短い方がよく、45秒以下が好ましく、40秒以下がより好ましい。   The heating time of the process sheet, that is, the time for the process sheet to stay in the annealing furnace is preferably in the range of 22 to 55 seconds. The residence time in the annealing furnace is equal to the heating time for the process sheet cooled by the polishing roller to reach the temperature range of 75 to 105 ° C. where the surface temperature of the process sheet is effective for the annealing treatment, and the above temperature. It is the total of the annealing time for reducing the heat shrinkage after reaching. When the heating time is less than 22 seconds, the removal of the heat shrinkage becomes insufficient, and even if heating is performed for more than 55 seconds, the effect is saturated and the furnace length is merely unnecessarily long. The lower limit of the heating time is preferably 22 seconds or more, and more preferably 25 seconds or more. The upper limit of the heating time is preferably shorter as long as the heat shrinkage can be sufficiently removed, preferably 45 seconds or shorter, and more preferably 40 seconds or shorter.

(エンボス加工工程)
次にエンボス加工工程について説明する。
(Embossing process)
Next, the embossing process will be described.

エンボス加工工程は、工程シートを加熱し、高温状態の工程シートにエンボス加工を施し、工程シート表面に高さ60〜300μmの独立した突起を付与する工程である。工程シートに突起を付与するためのエンボスローラーと、対向のローラー、及び冷却ローラーを有していることが好ましい。なお、工程シートを加熱する方式は限定されないが、好ましくは上記のアニール工程の熱を利用する目的で、アニール処理後のシートを高温状態でエンボス加工工程に導入することが好ましい。   The embossing process is a process of heating the process sheet, embossing the process sheet in a high temperature state, and providing independent protrusions having a height of 60 to 300 μm on the process sheet surface. It is preferable to have an embossing roller for imparting protrusions to the process sheet, an opposing roller, and a cooling roller. The method of heating the process sheet is not limited, but it is preferable to introduce the annealed sheet into the embossing process at a high temperature for the purpose of using the heat of the annealing process.

エンボスローラーは、工程シートの表面に高さ60〜300μmの独立した突起を設けるために、凹型の彫刻模様を施したものを用いる。前記の凹型の彫刻模様は、半球状や、三角錐や四角錐、六角錐、円錐などの錐形や、これらの頂部を扁平にした台形状が採用できる。また、これらの形状が混在した模様でもよい。これらの中でも、半球状および/または四角錐状が好ましい。ここで「半球状および四角錐状」とは、半球状と四角錐状とが混在している模様の彫刻を意味する。封止材シートの太陽電池セルへの押し圧時に、集中加重がかかりにくく、かつ均一に加重が分散できる半球状であることが好ましい。また、封止材シートの反射光のムラが生じにくく、表面品位に優れる点で四角錐状が好ましい。そして、これら半球状と四角錐状の両方の特徴を出せるため、半球状と四角錐状とを混在させた模様も好ましい。半球状と四角錐状とを混在させる場合は、それぞれの割合は、どちらの特徴をより求めるかに応じて任意に決めればよい。特に好ましくは、全てが半球状の模様である。   The embossing roller uses a concave sculpture pattern in order to provide an independent protrusion having a height of 60 to 300 μm on the surface of the process sheet. As the concave engraving pattern, a hemispherical shape, a pyramid shape such as a triangular pyramid, a quadrangular pyramid, a hexagonal pyramid, or a cone, or a trapezoidal shape having a flat top portion thereof can be adopted. Moreover, the pattern in which these shapes were mixed may be sufficient. Among these, a hemispherical shape and / or a quadrangular pyramid shape are preferable. Here, “hemispherical and quadrangular pyramid” means sculpture with a pattern in which hemispherical and quadrangular pyramid are mixed. When the sealing sheet is pressed against the solar battery cell, it is preferably a hemispherical shape that is less likely to be subjected to concentrated weighting and that can uniformly disperse the weight. Further, a quadrangular pyramid shape is preferable in that unevenness of reflected light of the encapsulant sheet hardly occurs and the surface quality is excellent. And since both hemispherical and quadrangular pyramid features can be produced, a pattern in which hemispherical and quadrangular pyramid shapes are mixed is also preferable. When the hemispherical shape and the quadrangular pyramid shape are mixed, the ratio of each may be arbitrarily determined according to which feature is to be obtained. Particularly preferably, all are hemispherical patterns.

また、これら彫刻模様の深さは、工程シートの表面に高さ60〜300μmの突起を設けるために、60〜350μmの範囲であることが好ましい。なお、エンボスローラーの彫刻模様の深さとは、エンボスローラーの中心からエンボスローラーの表面(彫刻が施されていない部分)までの距離と、エンボスローラーの中心から彫刻模様の凹部(谷の部分)の最も深い部分までの距離との差のことを示す。この彫刻模様の深さは、JIS B0601(2001)に準拠し、表面粗さ測定機を用いて測定される、最大高さPz(μm)により示される。
エンボスローラーの表面には、さらに深さ1〜20μmの微小な窪みが施されていることが好ましい。微小な窪みが施されたエンボスローラーでエンボス加工することにより、シートの表面に微小な突起が形成される。その結果、シートの滑り性が向上しハンドリングしやすくなる他、微小な突起により光が散乱し、シートの白色性が向上するため、付着異物等の検査が容易となる。このような微小な窪みは、エンボスローラー表面に彫刻模様を施した後に、公知のブラスト処理などを実施することにより容易に形成することができる。微少な窪みの深さは、ブラスト加工時の粒子サイズや、圧力条件により調整ができる。
The depth of these engraving patterns is preferably in the range of 60 to 350 μm in order to provide protrusions having a height of 60 to 300 μm on the surface of the process sheet. The depth of the engraving pattern on the embossing roller refers to the distance from the center of the embossing roller to the surface of the embossing roller (the part not engraved) and the recess of the engraving pattern (the valley part) from the center of the embossing roller. Indicates the difference from the distance to the deepest part. The depth of this sculpture pattern is indicated by the maximum height Pz (μm) measured using a surface roughness measuring instrument in accordance with JIS B0601 (2001).
The surface of the embossing roller is preferably further provided with a minute recess having a depth of 1 to 20 μm. By embossing with an embossing roller provided with minute depressions, minute projections are formed on the surface of the sheet. As a result, the slipperiness of the sheet is improved and handling is facilitated, and light is scattered by minute projections, and the whiteness of the sheet is improved, so that it is easy to inspect adhered foreign matters and the like. Such a minute depression can be easily formed by carrying out a known blasting process after engraving a pattern on the embossing roller surface. The depth of the minute depression can be adjusted by the particle size at the time of blasting and the pressure condition.

エンボスローラーと対向するローラーは、エンボス模様の転写性を向上させるために、金属ロールにゴムを巻き付けたものなどを用いる。ゴムの種類についてはシリコンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴムなど、特に限定されるものではないが、JIS K 6253(2006)に準拠したタイプA硬度が65〜85°の範囲であることが好ましい。65°を下回っても、85°を超えても、エンボス模様の転写性が低下する。これらのゴムの中でも、高温で粘着しやすいシートと離型性が良いことが必要であるため、シリコンゴムが最も好ましい。   As the roller facing the embossing roller, in order to improve the transferability of the embossed pattern, a roller obtained by wrapping rubber around a metal roll is used. The type of rubber is not particularly limited, such as silicon rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, etc., but the type A hardness in accordance with JIS K 6253 (2006) is preferably in the range of 65 to 85 °. If the angle is less than 65 ° or exceeds 85 °, the transferability of the embossed pattern is deteriorated. Among these rubbers, silicon rubber is most preferable because it is necessary to have a sheet that easily adheres at high temperatures and good releasability.

エンボス加工工程では、エンボスローラーに供給する工程シートの加熱した表面の温度を、(この表面を構成する樹脂組成物の融点−10℃)〜(この表面を構成する樹脂組成物の融点+20℃)の温度範囲内とすることが好ましい。(樹脂組成物の融点−10℃)未満であると、エンボス形状の転写性が低下する。(樹脂組成物の融点+20℃)を超えると、アニール工程での工程シートの温度が高くなりすぎており、アニール工程でシワなどが発生しやすくなる。例えば、表面側の層が、融点が71℃のEVA樹脂で構成されている場合は、エンボス加工時の表面温度は61〜91℃の範囲内とする
さらに、エンボスローラーへの押し付け圧力は、線圧150〜500N/cmの範囲であることが好ましく、より好ましくは、200〜450N/cmの範囲である。線圧が150N/cmを下回ると、エンボス模様の転写性が低下し、500N/cmを超えても設備が大型となり、対向ゴムローラーの寿命が低下する。なお、本発明で言う線圧とは、ローラーの押し付け荷重を、ローラーの面長で除したもののことである。
In the embossing process, the temperature of the heated surface of the process sheet supplied to the embossing roller is set to (melting point of the resin composition constituting this surface−10 ° C.) to (melting point of the resin composition constituting this surface + 20 ° C.). It is preferable to be within the temperature range. When it is less than (the melting point of the resin composition−10 ° C.), the embossed shape transferability is lowered. If it exceeds (the melting point of the resin composition + 20 ° C.), the temperature of the process sheet in the annealing process becomes too high, and wrinkles and the like are likely to occur in the annealing process. For example, when the surface layer is made of EVA resin having a melting point of 71 ° C., the surface temperature during embossing is in the range of 61 to 91 ° C. Further, the pressing pressure to the embossing roller is linear The pressure is preferably in the range of 150 to 500 N / cm, more preferably in the range of 200 to 450 N / cm. If the linear pressure is less than 150 N / cm, the transferability of the embossed pattern is reduced, and even if it exceeds 500 N / cm, the equipment becomes large and the life of the opposing rubber roller is reduced. In addition, the linear pressure said by this invention is what remove | divided the pressing load of the roller by the surface length of the roller.

さらに、エンボス加工において、エンボス模様の転写性を向上させるために、エンボスローラーにシートを抱かせるようにすることは好ましい態様の一つである。エンボスローラーへの抱き付け角は30〜270°の範囲であることが好ましい。深く、はっきりとした形状のエンボスを付与するためには、抱き付け角度を30°以上にするのが好ましい。なお、抱き付け角は、簡易的にはエンボスローラーにシートが接している部分の円弧の長さと、エンボスローラーの円周との比率から計算することが出来る。例えば、抱き付け角が90°である場合は、エンボスローラーの円周の1/4の長さに相当する部分にシートが接触していることを意味する。   Furthermore, in embossing, in order to improve the transferability of the embossed pattern, it is one of preferred embodiments that the embossing roller holds the sheet. It is preferable that the hugging angle to the embossing roller is in the range of 30 to 270 °. In order to give deep and clear embossing, it is preferable that the hugging angle is 30 ° or more. The hugging angle can be simply calculated from the ratio between the arc length of the portion where the sheet is in contact with the embossing roller and the circumference of the embossing roller. For example, when the hugging angle is 90 °, it means that the sheet is in contact with a portion corresponding to ¼ of the circumference of the embossing roller.

このエンボスローラーの表面温度は、(エンボス形状を転写する側の表面部分を構成する樹脂組成物の融点−20℃)以下とすることが好ましい。エンボスローラーの温度が高いと、シートの離型性が悪くなり、ローラーに巻きついたり、エンボスローラーから工程シートを剥がす際に新たに歪みを作ってしまうこととなる。   It is preferable that the surface temperature of the embossing roller is not more than (the melting point of the resin composition constituting the surface portion on the side to which the embossed shape is transferred −20 ° C.). When the temperature of the embossing roller is high, the releasability of the sheet is deteriorated, and when the process sheet is wound around the roller or the process sheet is peeled off from the embossing roller, a new distortion is generated.

エンボスローラーから離型した工程シートは、冷却ロールにより、工程シートを冷却し、表面温度を室温付近まで速やかに低下させる。   The process sheet released from the embossing roller cools the process sheet by a cooling roll, and quickly reduces the surface temperature to near room temperature.

このようにして加工された封止材シートは、欠点検査やシート寸法を所望の幅に調整した後、巻き取り機などによってロール状に巻き取ったり、場合によっては所望長さのカットシートに裁断され、太陽電池モジュールの製造に用いられる。 また、本発明の太陽電池モジュールは、受光面保護材と、裏面保護材と、この受光面保護材と裏面保護材との間に配置され、封止材シートにより太陽電池セルが封止された層と、で構成されている。本発明の封止材シートは、上記構成の材料を積層一体化するときの太陽電池セルへの押し圧力を分散させることから太陽電池セルと太陽電池封止材との間の成形時の残留応力が小さく、また、封止材中の気泡の残存もないことから、長期にわたる耐久性が優れた太陽電池モジュールとなる。   The encapsulant sheet processed in this way is adjusted to a desired width for defect inspection and sheet dimensions, and then wound into a roll with a winder or the like, or cut into a cut sheet of a desired length in some cases. And used in the manufacture of solar cell modules. Moreover, the solar cell module of this invention is arrange | positioned between the light-receiving surface protection material, the back surface protection material, and this light-receiving surface protection material and a back surface protection material, and the solar cell was sealed with the sealing material sheet. Layer. Since the sealing material sheet of the present invention disperses the pressing force applied to the solar cells when the materials having the above-mentioned structure are laminated and integrated, the residual stress at the time of molding between the solar cells and the solar cell sealing material Is small, and no bubbles remain in the encapsulant, so that the solar cell module is excellent in durability over a long period of time.

本実施例で用いた測定法を下記に示す。特に断らない限り、測定n数は5とし、平均値を採用した。   The measurement method used in this example is shown below. Unless otherwise specified, the number of measurement n was 5, and the average value was adopted.

(1)エンボスローラーの模様深さ
JIS B0601(2001)に準拠し、ミツトヨ社製 小形表面粗さ測定器 SJ401を用い、基準長さ20mm、荷重0.75mN、測定速度0.3mm/sの測定条件で、円錐60°、先端曲率半径2μmのダイヤモンド触針を用いて測定された、Pz値(μm)を、エンボスローラーの模様深さ(μm)とした。
(1) Pattern depth of embossed roller Based on JIS B0601 (2001), a small surface roughness measuring instrument SJ401 manufactured by Mitutoyo Corporation was used to measure a standard length of 20 mm, a load of 0.75 mN, and a measurement speed of 0.3 mm / s. Under the conditions, the Pz value (μm) measured using a diamond stylus having a cone of 60 ° and a tip curvature radius of 2 μm was defined as the embossing roller pattern depth (μm).

(2)封止材シートを構成する樹脂組成物のメルトフローレイト
樹脂組成物を、JIS K7210(1999)「プラスチック−熱可塑性プラスチックのメルトマスフローレイト(MFR)及びメルトボリュームフローレイト(MVR)の試験方法」に準拠し、温度190℃、加重2.16kgの試験条件で測定した。
(2) Melt flow rate resin composition of the resin composition constituting the encapsulant sheet was tested in accordance with JIS K7210 (1999) “Plastic-thermoplastic melt mass flow rate (MFR) and melt volume flow rate (MVR)”. According to “Method”, the measurement was performed under the test conditions of a temperature of 190 ° C. and a load of 2.16 kg.

(3)突起高さ(T)
製造時のシートの走行方向(以下、MD方向と略する)とは直角の方向(幅方向)に、突起の頂部を通過するよう封止材シートを切断した。切断した封止材シートの厚み方向断面を実体顕微鏡でシートの全幅に渡って観察した。
封止材シートの片面に突起がある場合、封止材シートの突起のある側の面をA面、突起のない側の面をB面とする。図1に示すように、A面の突起の頂点からB面までの距離をTmax、A面の突起のない部分からB面までの距離をTminとする。そして、突起の高さTを式(i)で計算した。
・T(μm)=Tmax−Tmin ・・・(i)
封止材シートの両面に突起がある場合、封止材シートの一方の面をA面、もう一方の面をB面とする。図2に示すように、A面の突起の頂点からB面の突起のない部分までの距離をTAmax、B面の突起の頂点からA面の突起のない部分までの距離をTBmax、A面の突起のない部分からB面の突起のない部分までの距離をTminとする。そして、A面の突起の高さTAを式(ii)で、B面の突起の高さTBを式(iii)で計算した。
・TA(μm)=TAmax−Tmin ・・・(ii)
・TB(μm)=TBmax−Tmin ・・・(iii)。
(3) Projection height (T)
The sealing material sheet was cut so as to pass through the top of the protrusions in a direction (width direction) perpendicular to the running direction of the sheet at the time of manufacture (hereinafter abbreviated as MD direction). A cross section in the thickness direction of the cut sealing material sheet was observed over the entire width of the sheet with a stereomicroscope.
When there is a projection on one side of the encapsulant sheet, the side of the encapsulant sheet with the projection is A side, and the side without the projection is B side. As shown in FIG. 1, the distance from the apex of the protrusion on the A surface to the B surface is Tmax, and the distance from the portion having no protrusion on the A surface to the B surface is Tmin. Then, the height T of the protrusion was calculated by the formula (i).
T (μm) = Tmax−Tmin (i)
When there are protrusions on both sides of the encapsulant sheet, one side of the encapsulant sheet is A side and the other side is B side. As shown in FIG. 2, the distance from the apex of the projection on the A surface to the portion without the projection on the B surface is TAmax, the distance from the apex of the projection on the B surface to the portion without the projection on the A surface is TBmax, The distance from the portion having no protrusion to the portion having no protrusion on the B surface is defined as Tmin. Then, the height TA of the projection on the A surface was calculated by the equation (ii), and the height TB of the projection on the B surface was calculated by the equation (iii).
TA (μm) = TAmax−Tmin (ii)
TB (μm) = TBmax−Tmin (iii).

(4)突起の底辺長さ(D)
シートの突起を有する面を実体顕微鏡で観察し、底辺長さ(D)を測定する。突起の底面の形状が三角形や六角形などの多角形や、楕円形である場合は、前記の形状を包含する最小真円の直径を測定した。
(4) Bottom length of protrusion (D)
The surface having the protrusions on the sheet is observed with a stereomicroscope, and the base length (D) is measured. When the shape of the bottom surface of the protrusion is a polygon such as a triangle or a hexagon, or an ellipse, the diameter of the smallest perfect circle including the shape was measured.

(5)セル割れ性
EVAシートから一辺が180mmの平面正方形状の試験片を2枚切り出した。他方、多結晶太陽電池セル(3バスバー、サイズ156mm角、厚み200μm)に、インターコネクタ(厚み280μm、幅2mm)を半田付けし、インターコネクタ付きの太陽電池セルを作成した。更に、ガラス板(サイズ180mm角、厚み3mm)と、ポリエステル製太陽電池バックシート(サイズ180mm角、厚み240μm)を用意した。前記のガラス板の上に、封止材シート、太陽電池セル、封止材シート、バックシートの順で積層し、温度145℃、真空引き30秒、プレス1分、圧力保持10分の条件で真空ラミネートを行い太陽電池モジュールを製作した。なお、前記の積層においては封止材シートの突起が施された面が太陽電池セルに接するように積層した。得られた太陽電池モジュールを太陽電池EL画像検査装置によって、発光画像を撮影し、セル割れ部の総クラックの長さ(mm)を測定、上記の試験を3回繰り返しクラック長さの平均値を求めた。
(5) Cell cracking property Two plane square test pieces having a side of 180 mm were cut out from the EVA sheet. On the other hand, an interconnector (thickness: 280 μm, width: 2 mm) was soldered to a polycrystalline solar cell (3 bus bars, size: 156 mm square, thickness: 200 μm) to produce a solar cell with an interconnector. Furthermore, a glass plate (size 180 mm square, thickness 3 mm) and a polyester solar battery back sheet (size 180 mm square, thickness 240 μm) were prepared. On the said glass plate, it laminates | stacks in order of a sealing material sheet | seat, a photovoltaic cell, a sealing material sheet | seat, and a back sheet | seat, on the conditions of temperature 145 degreeC, evacuation 30 seconds, press 1 minute, and pressure holding 10 minutes. A solar cell module was manufactured by vacuum lamination. In addition, in the said lamination | stacking, it laminated | stacked so that the surface in which the protrusion of the sealing material sheet | seat was given contacted the photovoltaic cell. The obtained solar cell module was photographed with a solar cell EL image inspection device, a luminescence image was taken, the total crack length (mm) of the cell crack portion was measured, and the above test was repeated three times to obtain the average value of the crack length. Asked.

(6)気泡個数
上記(5)で製作した太陽電池モジュール中の気泡個数を目視により数えた。試験回数3回の気泡個数の平均値を求めた。
(6) Number of bubbles The number of bubbles in the solar cell module produced in the above (5) was counted visually. The average value of the number of bubbles in the test three times was determined.

(7)加熱収縮率
封止材シートから一辺が120mmの平面正方形状の試験片を切り出した。この試験片上に、製造時のTD方向中央部に、100mmの間隔をあけて二本の平行なTD方向の直線(5cm)を引いた。そして、各直線を6等分する位置(それぞれ5カ所)に印を付した。
次に、試験片を80℃に加熱した温水中に60秒間放置した。封止材シートの比重が小さく、封止材シートが温水の表面に浮ぶ場合は、その浮かんだままの状態で放置した。封止材シートの比重が大きく、封止材シートが温水の中に沈む場合は、その沈んだままの状態で放置した。60秒経過してから、試験片を温水から取り出し、20℃の常温水中に10秒間浸漬させ冷却した後、シート表面の水分を取り除いた。
試験片上に引いた一方の直線に付した5カ所の各印から、もう一方の直線に付した対向する各印までの間隔A(mm)をノギスで測定し、下記式に基づいて加熱収縮率を算出し、5カ所の平均値を求めた。
・加熱収縮率(%)=(100−A)/100×100。
(7) Heat Shrinkage A flat square test piece having a side of 120 mm was cut out from the encapsulant sheet. On this test piece, two parallel straight lines (5 cm) in the TD direction were drawn at a distance of 100 mm at the center in the TD direction during production. And the mark was attached | subjected to the position (each 5 places) which divides each straight line into 6 equal parts.
Next, the test piece was left in warm water heated to 80 ° C. for 60 seconds. When the specific gravity of the encapsulant sheet was small and the encapsulant sheet floated on the surface of the hot water, the encapsulant sheet was left in the floated state. When the specific gravity of the encapsulant sheet was large and the encapsulant sheet sank in warm water, the encapsulant sheet was left as it was. After 60 seconds, the test piece was taken out from the warm water, immersed in room temperature water at 20 ° C. for 10 seconds and cooled, and then moisture on the sheet surface was removed.
The distance A (mm) from each of the five marks attached to one straight line drawn on the test piece to each opposing mark attached to the other straight line was measured with a caliper, and the heat shrinkage rate based on the following formula Was calculated, and the average value of 5 locations was obtained.
Heat shrinkage rate (%) = (100−A) / 100 × 100.

(8)反発応力
封止材シートから一辺が120mmの平面正方形状の試験片を切り出した。次いで、カトーテック社製 圧縮試験機 KES FB−3を用い、試験片の突起を有する面から、直径16mmの扁平加圧端子により、速度20μm/秒でEVAシートを加圧し、厚み方向に100μm加圧した際のシートの反発応力(kPa)を測定した。上記の試験を3回繰り返し反発応力の平均値を求めた。
(8) Repulsive stress A flat square test piece having a side of 120 mm was cut out from the encapsulant sheet. Next, using a compression tester KES FB-3 manufactured by Kato Tech Co., Ltd., the EVA sheet was pressurized at a speed of 20 μm / second from the surface having the protrusion of the test piece with a flat pressure terminal having a diameter of 16 mm, and 100 μm was added in the thickness direction. The repulsive stress (kPa) of the sheet when pressed was measured. The above test was repeated three times to obtain the average value of the repulsive stress.

(実施例1)
EVA(酢酸ビニル含有量:28質量%、メルトフローレイト:15g/10分(190℃)、融点:71℃)100質量部、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート(1時間半減期温度:119℃)0.7質量部、トリアリルイソシアヌレート0.3質量部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン0.2質量部、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン0.3質量部、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート0.1質量部からなる樹脂組成物を80℃に設定した2軸押出機に供給して溶融混練した。混練した樹脂組成物を、2軸押出機に接続され105℃に保持されたTダイからEVAシートを押出した。なおTダイのリップ幅は1300mm、リップ間隙は0.8mmであった。
Example 1
EVA (vinyl acetate content: 28% by mass, melt flow rate: 15 g / 10 min (190 ° C.), melting point: 71 ° C.) 100 parts by mass, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate (1 hour half-life temperature) 119 ° C) 0.7 parts by mass, triallyl isocyanurate 0.3 parts by mass, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.2 parts by mass, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone 0.3 parts by mass, bis ( A resin composition comprising 0.1 part by weight of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate was supplied to a twin screw extruder set at 80 ° C. and melt-kneaded. The kneaded resin composition was extruded into an EVA sheet from a T die connected to a twin screw extruder and held at 105 ° C. The lip width of the T die was 1300 mm and the lip gap was 0.8 mm.

このEVAシートを20℃に保持されたポリシングロールによって冷却固化した。なお、EVAシートがTダイから吐出された時点のシート温度は107℃であった。またこのときのシート幅は1150mm、シートの厚みは450μm、シート搬送速度は10m/分であった。
次に、アニール処理、エンボス加工を連続して実施した。
The EVA sheet was cooled and solidified by a polishing roll maintained at 20 ° C. The sheet temperature when the EVA sheet was discharged from the T die was 107 ° C. At this time, the sheet width was 1150 mm, the sheet thickness was 450 μm, and the sheet conveyance speed was 10 m / min.
Next, annealing treatment and embossing were continuously performed.

アニール処理は、表面温度を350℃に設定したセラミックヒータを設置し、直径150mmで表面に“テフロン(登録商標)”コーティングした金属ローラーを、ローラーの中心間距離が250mmとなるような間隔で設置した、SUS製の筐体に断熱材を巻きつけたアニール炉内を通すことで行った。また、炉の入り口下部と出口下部より、風速1m/secで、熱風を吹き込んだ。   For the annealing treatment, a ceramic heater with a surface temperature set at 350 ° C. is installed, and a metal roller coated with “Teflon (registered trademark)” on the surface with a diameter of 150 mm is installed at intervals such that the distance between the centers of the rollers is 250 mm. It was performed by passing through an annealing furnace in which a heat insulating material was wrapped around a SUS case. Hot air was blown from the bottom of the furnace entrance and bottom of the exit at a wind speed of 1 m / sec.

エンボス加工は、アニール炉から取り出したシートを、模様深さが180μm、直径460μmで半球形状の凹型の彫刻模様を450個/cm有するエンボスローラーと、硬度75°のシリコンゴムを厚み10mm巻きつけた対向ローラーとの間を通すことで実施した。
なお、上記製造条件の詳細は以下の通りである。
アニール炉入り口でのシート表面温度:23℃
熱風温度:93℃
アニール炉内でのシート表面の最高温度:90℃
アニール炉出口でのシート表面温度:90℃
アニール炉内のシート滞留時間:28秒
アニール炉15出口でのシート速度:9.6m/min
エンボスローラー入り口でのシート表面温度:78℃
エンボスローラー温度:15℃
エンボスローラーの線圧:350N/cm
エンボスローラーへの抱き付け角:120°
得られた封止材シートの加熱収縮率と、反発応力、モジュール製造時のセル割れ性、気泡個数を評価した。結果を表1に示す。表1に示すとおり、シート加熱収縮率が小さく、モジュール製造時のセル割れ、気泡の少ない封止材シートであった。
In the embossing process, the sheet taken out from the annealing furnace is wrapped with an embossing roller having a pattern depth of 180 μm, a diameter of 460 μm, and 450 hemispherical concave engraving patterns / cm 2 , and silicon rubber having a hardness of 75 ° with a thickness of 10 mm. It was carried out by passing between the opposite rollers.
The details of the manufacturing conditions are as follows.
Sheet surface temperature at the annealing furnace entrance: 23 ° C
Hot air temperature: 93 ° C
Maximum temperature of sheet surface in annealing furnace: 90 ° C
Sheet surface temperature at annealing furnace outlet: 90 ° C
Sheet residence time in the annealing furnace: 28 seconds Sheet speed at the outlet of the annealing furnace 15: 9.6 m / min
Sheet surface temperature at the embossing roller entrance: 78 ° C
Embossing roller temperature: 15 ° C
Embossed roller linear pressure: 350 N / cm
Hook angle to emboss roller: 120 °
The heat shrinkage rate, the repulsive stress, the cell cracking property at the time of module production, and the number of bubbles of the obtained encapsulant sheet were evaluated. The results are shown in Table 1. As shown in Table 1, it was a sealing material sheet having a small sheet heat shrinkage ratio and few cell cracks and bubbles during module production.

(実施例2)
エンボスローラーを、模様深さが120μm、直径460μmで半球形状の凹型の彫刻模様を450個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率が小さく、モジュール製造時のセル割れ、気泡の少ない封止材シートであった。
(Example 2)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 120 μm, a diameter of 460 μm and a hemispherical concave engraving pattern having 450 pieces / cm 2 . .
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small sheet heat shrinkage rate and few cell cracks and bubbles during module production.

(実施例3)
エンボスローラーを、模様深さが300μm、直径460μmで半球形状の凹型の彫刻模様を450個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率が小さく、モジュール製造時のセル割れ、気泡の少ない封止材シートであった。
(Example 3)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 300 μm, a diameter of 460 μm, and 450 hemispherical concave engraving patterns / cm 2 . .
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small sheet heat shrinkage rate and few cell cracks and bubbles during module production.

(実施例4)
エンボスローラーを、模様深さが300μm、直径330μmで半球形状の凹型の彫刻模様を980個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率が小さく、モジュール製造時のセル割れ、気泡の少ない封止材シートであった。
Example 4
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 300 μm and a diameter of 330 μm and a hemispherical concave engraving pattern of 980 pieces / cm 2 . .
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small sheet heat shrinkage rate and few cell cracks and bubbles during module production.

(実施例5)
エンボスローラーを、模様深さが180μm、外周直径460μmで四角錐形状の凹型の彫刻模様を840個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、モジュール製造時のセル割れは若干発生するものの、シート加熱収縮率が小さく、気泡の少ない封止材シートであった。
(Example 5)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 180 μm, an outer diameter of 460 μm, and a concave pyramid-shaped concave sculpture pattern of 840 pieces / cm 2. Created.
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small sheet heat shrinkage rate and few bubbles, although some cell cracking during module production occurred.

(実施例6)
アニール処理を実施せず、赤外線ヒータによりシート表面温度を90℃に加熱し、エンボス加工を実施した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シートの加熱収縮率が大きく、モジュール製造時のセル割れは若干発生するものの、気泡の少ない封止材シートであった。
(Example 6)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the annealing was not performed and the sheet surface temperature was heated to 90 ° C. with an infrared heater and embossing was performed.
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet with a small number of bubbles, although the sheet had a large heat shrinkage rate and cell cracks during module production were slightly generated.

(実施例7)
EVA樹脂をメルトフローレイト10g/10分のEVA樹脂に変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。得られた封止材シートは表1に示すとおり、モジュール製造時のセル割れは若干発生するものの、シート加熱収縮率が小さく、気泡の少ない封止材シートであった。
(Example 7)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the EVA resin was changed to an EVA resin having a melt flow rate of 10 g / 10 min. As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small sheet heat shrinkage rate and few bubbles, although some cell cracking during module production occurred.

(実施例8)
エンボスローラーを、模様深さが180μm、外周直径2000μmで四角錐形状の凹型の彫刻模様を45個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率が小さく、モジュール製造時のセル割れは若干発生するものの、気泡の少ない封止材シートであった。
(Example 8)
The embossing roller, the pattern depth 180 [mu] m, except for changing the concave engraved pattern quadrangular pyramid shape 45 / cm 2 with embossing rollers with an outer peripheral diameter of 2000μm is a sealing material sheet in the same manner as in Example 1 Created.
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small number of bubbles, although the sheet heat shrinkage rate was small and cell cracking occurred slightly during module production.

(比較例1)
エンボス加工を実施しない他は、実施例1と同様の方法でアニール処理まで実施した封止材シートを作成し評価に供した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シートの加熱収縮率は小さいが、モジュール製造時のセル割れ、気泡が大量に発生する封止材シートであった。
(Comparative Example 1)
Except not embossing, the sealing material sheet implemented to the annealing process by the method similar to Example 1 was created, and it used for evaluation.
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet in which the heat shrinkage rate of the sheet was small, but cell cracks and bubbles were generated in large quantities during module production.

(比較例2)
エンボスローラーを、模様深さが180μmで、ロールの回転方向に連続した半円形状の溝(溝幅460μm)の彫刻模様を有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率が小さく、モジュール製造時のセル割れは少ないが、気泡の多い封止材シートであった。
(Comparative Example 2)
The embossing roller was sealed in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 180 μm and a semicircular groove (groove width of 460 μm) continuous in the roll rotation direction. A stop sheet was created.
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small amount of sheet heat shrinkage and few cell cracks during module production, but many bubbles.

(比較例3)
エンボスローラーを、模様深さが50μm、直径460μmで半球形状の凹型の彫刻模様を450個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率は小さいが、モジュール製造時のセル割れ、気泡の多い封止材シートであった。
(Comparative Example 3)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 50 μm, a diameter of 460 μm, and a hemispherical concave engraving pattern having 450 pieces / cm 2 . .
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet had a small sheet heat shrinkage rate, but was a encapsulant sheet with many cell cracks and bubbles during module production.

(比較例4)
エンボスローラーを、模様深さが180μm、直径150μmで半球形状の凹型の彫刻模様を4500個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率は小さく、気泡は少ないが、モジュール製造時のセル割れの多い封止材シートであった。
(Comparative Example 4)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 180 μm and a diameter of 150 μm and a hemispherical concave engraving pattern of 4500 pieces / cm 2 . .
As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet was a encapsulant sheet having a small sheet heat shrinkage ratio and a small number of bubbles, but many cell cracks during module production.

(比較例5)
エンボスローラーを、模様深さが180μm、直径3800μmで半球形状の凹型の彫刻模様を7個/cm有するエンボスローラーに変更した以外は、実施例1と同様の方法で封止材シートを作成した。
(Comparative Example 5)
A sealing material sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the embossing roller was changed to an embossing roller having a pattern depth of 180 μm, a diameter of 3800 μm, and a hemispherical concave engraving pattern of 7 pieces / cm 2 . .

Figure 2012214788
Figure 2012214788

得られた封止材シートは表1に示すとおり、シート加熱収縮率は小さいが、モジュール製造時のセル割れ、及び気泡の多い封止材シートであった。 As shown in Table 1, the obtained encapsulant sheet had a small sheet heat shrinkage, but was an encapsulant sheet with many cell cracks and many bubbles during module production.

本発明の封止材シートは、太陽電池の製造工程におけるラミネート時のセルの割れや、封止材中の気泡などの不具合が抑制できるため、太陽電池用の封止材シートとして好適に用いられる。   The encapsulant sheet of the present invention can be suitably used as an encapsulant sheet for solar cells because it can suppress defects such as cell cracks during lamination in the solar cell production process and bubbles in the encapsulant. .

Claims (6)

表面部分を構成する樹脂組成物がエチレン酢酸ビニル共重合体組成物からなり、前記表面部分に、高さ60〜300μmの独立した突起を40〜2300個/cm有し、かつ、この独立した突起の高さ(T)と底辺長さ(D)との比(T/D)が0.05〜0.80であることを特徴とする太陽電池封止材シート。 The resin composition constituting the surface portion consists of ethylene-vinyl acetate copolymer composition, on the surface part has a height 60~300μm independent projections of 40 to 2300 pieces / cm 2, and the independent A solar cell encapsulant sheet, wherein the ratio (T / D) of the height (T) of the protrusion to the base length (D) is 0.05 to 0.80. 前記太陽電池封止シートを80℃の温水中に1分間放置した際に、この封止材シートのシート流れ方向の加熱収縮率が30%以下である、請求項1に記載の太陽電池封止材シート。 2. The solar cell sealing according to claim 1, wherein when the solar cell sealing sheet is left in warm water at 80 ° C. for 1 minute, the heat shrinkage in the sheet flow direction of the sealing material sheet is 30% or less. Material sheet. 前記独立した突起の形状が、半球状および/または四角錐状である、請求項1または2に記載の太陽電池封止材封止材シート。 The solar cell encapsulant sealing material sheet according to claim 1 or 2, wherein the shape of the independent protrusion is hemispherical and / or quadrangular pyramid. 前記太陽電池封止材シートの前記突起を有する面を、この封止材シートの厚み方向に100μm圧縮した際に、シートの反発応力が70kPa以下である、請求項1〜3のいずれかに記載の太陽電池封止材シート。 The repulsive stress of a sheet | seat is 70 kPa or less when the surface which has the said protrusion of the said solar cell sealing material sheet is compressed 100 micrometers in the thickness direction of this sealing material sheet. Solar cell encapsulant sheet. 前記太陽電池封止材シートの突起を有する面が、さらに、高さ1〜15μmの突起を有する、請求項1〜4のいずれかの太陽電池封止材シート。 The solar cell sealing material sheet in any one of Claims 1-4 with which the surface which has the processus | protrusion of the said solar cell sealing material sheet further has 1-15 micrometers in height protrusion. 受光面保護材と、裏面保護材と、この受光面保護材と裏面保護材との間に配置され、請求項1〜5のいずれかに記載の太陽電池封止材シートにより太陽電池セルが封止された層と、で構成された、太陽電池モジュール。 It arrange | positions between a light-receiving surface protection material, a back surface protection material, this light-receiving surface protection material, and a back surface protection material, and a photovoltaic cell is sealed with the solar cell sealing material sheet in any one of Claims 1-5. A solar cell module composed of a stopped layer.
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