JP2012203942A - Manufacturing method for glass substrate for information recording medium - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a glass substrate for an information recording medium, in which chemical strengthening processing can be performed on a surface of the glass substrate more uniformly.SOLUTION: A manufacturing method for a glass substrate for an information recording medium in which a magnetic recording layer is formed on a glass substrate 1 formed in a circular disk form includes: a step of preparing a holding jig 7 including a linear metal member; and a step of performing chemical strengthening processing on a surface of the glass substrate 1 by immersing the glass substrate 1 in a chemical strengthening processing liquid using the holding jig 7. The periphery of the holding jig 7 is open so that the convection of the chemical strengthening processing liquid is generated around the glass substrate 1 in the state that the glass substrate 1 is immersed in the chemical strengthening processing liquid.

Description

本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a glass substrate for an information recording medium.

磁気ディスク等の情報記録媒体は、ハードディスクとしてコンピュータ等に搭載される。情報記録媒体は、情報記録媒体用ガラス基板(以下、ガラス基板ともいう)から製造される。   An information recording medium such as a magnetic disk is mounted on a computer or the like as a hard disk. The information recording medium is manufactured from a glass substrate for information recording medium (hereinafter also referred to as a glass substrate).

情報記録媒体の記録密度は年々高くなる傾向にある。これに伴って、情報記録媒体と磁気ヘッドとの間隔(ヘッド浮上量)も小さくなる傾向にある。情報記録媒体にDFH(Dynamic Flying Height)機構が採用される場合、ヘッド浮上量は3nm以下に構成される場合もある。このような背景のもと、情報記録媒体および情報記録媒体用ガラス基板には、ますます高い品質が求められている。   The recording density of information recording media tends to increase year by year. Along with this, the distance (head flying height) between the information recording medium and the magnetic head tends to decrease. When a DFH (Dynamic Flying Height) mechanism is employed for the information recording medium, the head flying height may be configured to be 3 nm or less. Under such a background, higher quality is required for information recording media and glass substrates for information recording media.

特開2008−171502号公報(特許文献1)に開示されるように、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板の表面に化学強化層を形成する化学強化工程を含む。化学強化処理は、ガラス基板の表面全体に対して均一に施される必要がある。   As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-171502 (Patent Document 1), the method for manufacturing a glass substrate for information recording medium includes a chemical strengthening step of forming a chemically strengthened layer on the surface of the glass substrate. The chemical strengthening treatment needs to be uniformly applied to the entire surface of the glass substrate.

図8および図9を参照して、一般的な化学強化工程について説明する。図8は、一般的な化学強化工程に用いられる保持用治具70を示す断面図である。図9は、保持用治具70がガラス基板1を保持する部分を拡大して示す断面図である。保持用治具70は、特開2008−171502号公報(特許文献1)に開示されるものに類似している。   A general chemical strengthening process will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a cross-sectional view showing a holding jig 70 used in a general chemical strengthening process. FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing a portion where the holding jig 70 holds the glass substrate 1. The holding jig 70 is similar to that disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-171502 (Patent Document 1).

図8に示すように、保持用治具70は、ガラス基板1の外側の両端部を挟持する。ガラス基板1は、化学強化処理液が貯留された化学強化処理槽(図示せず)の中に、保持用治具70とともに浸漬される。   As shown in FIG. 8, the holding jig 70 sandwiches both outer end portions of the glass substrate 1. The glass substrate 1 is immersed together with the holding jig 70 in a chemical strengthening treatment tank (not shown) in which the chemical strengthening treatment liquid is stored.

図9を参照して、保持用治具70においては、側壁71から端部72に向かって2本のワイヤ73が張られている。交差するように配置されたワイヤ73によって、ガラス基板1が挟持される。ガラス基板1の外周端面1Dは、ワイヤ73同士の間に位置する。保持用治具70においては、側壁71とガラス基板1との間の間隔が小さい。ガラス基板1の外周端面1Dと端部72との間も空間的に閉塞されている。   Referring to FIG. 9, in the holding jig 70, two wires 73 are stretched from the side wall 71 toward the end portion 72. The glass substrate 1 is clamped by the wires 73 arranged to intersect each other. The outer peripheral end face 1 </ b> D of the glass substrate 1 is located between the wires 73. In the holding jig 70, the distance between the side wall 71 and the glass substrate 1 is small. The space between the outer peripheral end face 1 </ b> D of the glass substrate 1 and the end 72 is also spatially closed.

保持用治具70においては、側壁71および端部72に囲まれた領域75内において、化学強化処理液が十分に対流しにくい。外周端面1Dの周囲において、イオン交換が十分に行なわれない。化学強化処理によって形成される化学強化層(圧縮応力層)の厚さにばらつきが生じ、ガラス基板1には、ひずみ又はうねりといった不具合が発生する。ひずみ又はうねりは、いわゆるヘッドクラッシュを発生させる原因となる。   In the holding jig 70, the chemical strengthening treatment liquid is not easily convected sufficiently in the region 75 surrounded by the side wall 71 and the end portion 72. The ion exchange is not sufficiently performed around the outer peripheral end face 1D. Variations occur in the thickness of the chemically strengthened layer (compressive stress layer) formed by the chemical strengthening treatment, and the glass substrate 1 has problems such as strain or undulation. Strain or waviness causes a so-called head crash.

特開2008−171502号公報JP 2008-171502 A

本発明は、上記のような実情に鑑みて為されたものであって、ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a method for producing a glass substrate for an information recording medium capable of performing chemical strengthening treatment more uniformly on the surface of the glass substrate. The purpose is to do.

本発明に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、円形ディスク状に形成されるガラス基板に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、線状の金属部材を含む保持用治具を準備する工程と、上記保持用治具を用いて上記ガラス基板を化学強化処理液中に浸漬し、上記ガラス基板の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、上記保持用治具の周囲は、上記ガラス基板が上記化学強化処理液中に浸漬された状態で、上記ガラス基板の周りに上記化学強化処理液の対流が生じるように開放されている。   A method for manufacturing a glass substrate for information recording medium according to the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for information recording medium in which a magnetic recording layer is formed on a glass substrate formed in a circular disk shape, and a linear metal member A step of preparing a holding jig including: a step of immersing the glass substrate in a chemical strengthening treatment liquid using the holding jig and subjecting the surface of the glass substrate to a chemical strengthening treatment. And the periphery of the holding jig is open so that convection of the chemical strengthening treatment liquid occurs around the glass substrate in a state where the glass substrate is immersed in the chemical strengthening treatment liquid.

好ましくは、上記保持用治具は、上記ガラス基板の下方において直線状に延在する下部延在部と、上記下部延在部から重力方向の上方に向かって略V字形状に延びるように形成される第1保持部と、を含み、上記第1保持部は、上記ガラス基板の重力方向の下方側に位置する第1外周端面部を挟持する。   Preferably, the holding jig is formed so as to linearly extend below the glass substrate, and to extend in a substantially V shape from the lower extension toward the upper side in the gravity direction. The first holding part sandwiches the first outer peripheral end face part located on the lower side in the gravity direction of the glass substrate.

好ましくは、上記保持用治具は、上記ガラス基板の周囲に配置される側壁に取り付けられ、上記保持用治具は、上記側壁から上記ガラス基板に向かって略V字形状に延びるように形成される第2保持部を含み、上記第2保持部は、上記ガラス基板の水平方向の両外側に位置する第2外周端面部を挟持する。   Preferably, the holding jig is attached to a side wall disposed around the glass substrate, and the holding jig is formed to extend in a substantially V shape from the side wall toward the glass substrate. The second holding part holds the second outer peripheral end face part located on both outer sides in the horizontal direction of the glass substrate.

好ましくは、上記金属部材の直径は、0.01mm以上5mm以下である。好ましくは、上記金属部材の熱膨張係数は、24×10−6/℃以下である。 Preferably, the metal member has a diameter of 0.01 mm or more and 5 mm or less. Preferably, the thermal expansion coefficient of the metal member is 24 × 10 −6 / ° C. or less.

本発明によれば、ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the glass substrate for information recording media which can perform a chemical strengthening process more uniformly with respect to the surface of a glass substrate can be obtained.

実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the glass substrate obtained by the manufacturing method of the glass substrate in embodiment. 実施の形態におけるガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the magnetic disc provided with the glass substrate obtained by the manufacturing method of the glass substrate in embodiment. 実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows the manufacturing method of the glass substrate in embodiment. 実施の形態におけるガラス基板の製造方法(化学強化工程)に用いられる化学強化処理装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the chemical strengthening processing apparatus used for the manufacturing method (chemical strengthening process) of the glass substrate in embodiment. 実施の形態におけるガラス基板の製造方法(化学強化工程)に用いられる保持用治具を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the jig | tool for holding used for the manufacturing method (chemical strengthening process) of the glass substrate in embodiment. 図5中のVI−VI線に沿った矢視断面図である。It is arrow sectional drawing along the VI-VI line in FIG. 実施の形態におけるガラス基板の製造方法(化学強化工程)に用いられる保持用治具に、ガラス基板が保持される様子を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that a glass substrate is hold | maintained at the jig | tool for holding used for the manufacturing method (chemical strengthening process) of the glass substrate in embodiment. 一般的なガラス基板の化学強化工程に用いられる保持用治具を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the holding jig used for the chemical strengthening process of a general glass substrate. 一般的なガラス基板の化学強化工程に用いられる保持用治具がガラス基板を保持する部分を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the part by which the jig | tool for holding used for the chemical strengthening process of a common glass substrate hold | maintains a glass substrate.

本発明に基づいた実施の形態および各実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および各実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および各実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。   Embodiments and examples based on the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description of the embodiments and the examples, when the number, amount, and the like are referred to, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the description of the embodiment and each example, the same parts and corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description may not be repeated.

[ガラス基板1・磁気ディスク10]
図1および図2を参照して、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板1、およびガラス基板1を備えた磁気ディスク10(図2参照)について説明する。図1は、磁気ディスク10の製造に用いられるガラス基板1を示す斜視図である。図2は、情報記録媒体として、ガラス基板1を備えた磁気ディスク10を示す斜視図である。
[Glass substrate 1 and magnetic disk 10]
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the glass substrate 1 obtained by the manufacturing method of the glass substrate for information recording media based on this Embodiment and the magnetic disc 10 (refer FIG. 2) provided with the glass substrate 1 are demonstrated. . FIG. 1 is a perspective view showing a glass substrate 1 used for manufacturing a magnetic disk 10. FIG. 2 is a perspective view showing a magnetic disk 10 provided with a glass substrate 1 as an information recording medium.

図1に示すように、磁気ディスク10(図2参照)の製造に用いられるガラス基板1(情報記録媒体用ガラス基板)は、円形ディスク状(環状の円板形状)に形成される。ガラス基板1は、表主表面1A、裏主表面1B、内周端面1C、および外周端面1Dを有している。ガラス基板1の中心には、孔1Hが設けられる。   As shown in FIG. 1, a glass substrate 1 (glass substrate for information recording medium) used for manufacturing a magnetic disk 10 (see FIG. 2) is formed in a circular disk shape (annular disk shape). The glass substrate 1 has a front main surface 1A, a back main surface 1B, an inner peripheral end surface 1C, and an outer peripheral end surface 1D. A hole 1H is provided in the center of the glass substrate 1.

ガラス基板1の大きさは、たとえば0.8インチ、1.0インチ、1.8インチ、2.5インチ、または3.5インチである。ガラス基板の厚さは、破損防止の観点から、たとえば0.30mm〜2.2mmである。本実施の形態におけるガラス基板1の大きさは、外径が約64mm、内径が約20mm、厚さが約0.8mmである。ガラス基板1の厚さとは、ガラス基板1上の点対象となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。   The size of the glass substrate 1 is, for example, 0.8 inch, 1.0 inch, 1.8 inch, 2.5 inch, or 3.5 inch. The thickness of the glass substrate is, for example, 0.30 mm to 2.2 mm from the viewpoint of preventing breakage. The glass substrate 1 in the present embodiment has an outer diameter of about 64 mm, an inner diameter of about 20 mm, and a thickness of about 0.8 mm. The thickness of the glass substrate 1 is a value calculated by averaging the values measured at a plurality of arbitrary points that are point targets on the glass substrate 1.

図2に示すように、磁気ディスク10は、上記したガラス基板1の表主表面1A上に磁気薄膜層2が形成されることによって構成される。図2中では、表主表面1A上にのみ磁気薄膜層2が形成されているが、裏主表面1B上に磁気薄膜層2が形成されていてもよい。   As shown in FIG. 2, the magnetic disk 10 is formed by forming a magnetic thin film layer 2 on the front main surface 1A of the glass substrate 1 described above. In FIG. 2, the magnetic thin film layer 2 is formed only on the front main surface 1A, but the magnetic thin film layer 2 may be formed on the back main surface 1B.

磁気薄膜層2は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板1の表主表面1A上にスピンコートすることによって形成される(スピンコート法)。磁気薄膜層2は、ガラス基板1の表主表面1Aに対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。   The magnetic thin film layer 2 is formed by spin-coating a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed on the front main surface 1A of the glass substrate 1 (spin coating method). The magnetic thin film layer 2 may be formed on the front main surface 1A of the glass substrate 1 by a sputtering method, an electroless plating method, or the like.

ガラス基板1の表主表面1Aに形成される磁気薄膜層2の膜厚は、スピンコート法の場合は約0.3μm〜1.2μm、スパッタリング法の場合は約0.04μm〜0.08μm、無電解めっき法の場合は約0.05μm〜0.1μmである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層2は、スパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。   The film thickness of the magnetic thin film layer 2 formed on the front main surface 1A of the glass substrate 1 is about 0.3 μm to 1.2 μm in the case of the spin coating method, about 0.04 μm to 0.08 μm in the case of the sputtering method, In the case of the electroless plating method, the thickness is about 0.05 μm to 0.1 μm. From the viewpoint of thinning and high density, the magnetic thin film layer 2 is preferably formed by sputtering or electroless plating.

磁気薄膜層2に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いCoを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でNiやCrを加えたCo系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、FePt系の材料が用いられてもよい。   The magnetic material used for the magnetic thin film layer 2 is not particularly limited, and a conventionally known material can be used. However, in order to obtain a high coercive force, Co having high crystal anisotropy is basically used for the purpose of adjusting the residual magnetic flux density. A Co-based alloy to which Ni or Cr is added is suitable. Further, as a magnetic layer material suitable for heat-assisted recording, an FePt-based material may be used.

磁気記録ヘッドの滑りをよくするために、磁気薄膜層2の表面に潤滑剤が薄くコーティングされてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。   In order to improve the sliding of the magnetic recording head, the surface of the magnetic thin film layer 2 may be thinly coated with a lubricant. Examples of the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a solvent such as Freon.

必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク10における下地層は、磁性膜の種類に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、またはNiなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。   If necessary, an underlayer or a protective layer may be provided. The underlayer in the magnetic disk 10 is selected according to the type of magnetic film. Examples of the material for the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni.

下地層は、単層構造とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。下地層は、たとえば、Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、または、NiAl/CrV等からなる多層構造としてもよい。   The underlayer is not limited to a single layer structure, and may be a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. The underlayer may have a multilayer structure made of, for example, Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV.

磁気薄膜層2の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Cr層、Cr合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、またはシリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、または磁性膜など共に、インライン型スパッタ装置を使用することによって連続して形成されることができる。これらの保護層は、単層構造から構成されていてもよく、同一または異種の層を含む多層構造から構成されていてもよい。   Examples of the protective layer that prevents wear and corrosion of the magnetic thin film layer 2 include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer. These protective layers can be formed continuously by using an in-line sputtering apparatus together with an underlayer or a magnetic film. These protective layers may be composed of a single layer structure, or may be composed of a multilayer structure including the same or different layers.

上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Cr層の上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素(SiO)層を形成してもよい。 Another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, in place of the protective layer, tetraalkoxylane is diluted with an alcohol-based solvent on a Cr layer, and then colloidal silica fine particles are dispersed and applied, followed by baking to form a silicon oxide (SiO 2 ) layer. It may be formed.

[ガラス基板の製造方法]
図3に示すフローチャート図を参照して、本実施の形態におけるガラス基板(情報記録媒体用ガラス基板)の製造方法について説明する。
[Glass substrate manufacturing method]
With reference to the flowchart shown in FIG. 3, the manufacturing method of the glass substrate (glass substrate for information recording media) in this Embodiment is demonstrated.

本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、粗ラッピング工程(ステップS10)、形状加工工程(ステップS20)、粗面化工程(ステップS30)、精ラッピング工程(ステップS40)、端面研磨工程(ステップS50)、主表面研磨工程(ステップS60)、化学強化工程(ステップS70)、および洗浄工程(ステップS80)を含む。   The manufacturing method of the glass substrate in the present embodiment includes a rough lapping step (step S10), a shape processing step (step S20), a roughening step (step S30), a fine lapping step (step S40), and an end surface polishing step (step). S50), a main surface polishing step (step S60), a chemical strengthening step (step S70), and a cleaning step (step S80).

洗浄工程(ステップS80)を経ることによって得られたガラス基板(図1におけるガラス基板1に相当)に対して、磁気薄膜形成工程(ステップS90)が実施される。磁気薄膜形成工程(ステップS90)によって、磁気ディスク10(図2参照)が得られる。   A magnetic thin film forming step (step S90) is performed on the glass substrate (corresponding to the glass substrate 1 in FIG. 1) obtained through the cleaning step (step S80). The magnetic disk 10 (see FIG. 2) is obtained by the magnetic thin film forming step (step S90).

上記のステップは、必ずしも必須ではなく、必要に応じて省略または追加することは可能である。以下、これらの各ステップS10〜S90について順に説明する、以下には、各ステップS10〜S90間に適宜行なわれる簡易的な洗浄については記載していない。   The above steps are not necessarily required, and may be omitted or added as necessary. Hereinafter, each of these steps S10 to S90 will be described in order. In the following, simple cleaning appropriately performed between steps S10 to S90 is not described.

(粗ラッピング工程:ステップS10)
まず、上型、下型、および胴型が準備され、これらによって溶融ガラスがダイレクトプレスされる。直径66mmφ、厚さ1.2mmの円盤状のガラス基板が得られる。ガラス基板のガラス素材は、たとえばアルミノシリケートガラスである。ダイレクトプレス法以外に、ダウンドロー法またはフロート法を使用してシートガラスを形成し、このシートガラスから研削砥石で切り出すことによって、円盤状のガラス基板を得てもよい。
(Coarse lapping process: Step S10)
First, an upper mold, a lower mold, and a body mold are prepared, and the molten glass is directly pressed by these. A disk-shaped glass substrate having a diameter of 66 mmφ and a thickness of 1.2 mm is obtained. The glass material of the glass substrate is, for example, aluminosilicate glass. In addition to the direct press method, a disk glass substrate may be obtained by forming a sheet glass using a downdraw method or a float method and cutting out from the sheet glass with a grinding wheel.

アルミノシリケートガラスの組成は、たとえば、SiOが58質量%〜75質量%、Alが5質量%〜23質量%、LiOが3質量%〜10質量%、NaOが4質量%〜13質量%を主成分として含有している。 The composition of aluminosilicate glass, for example, SiO 2 is 58 wt% to 75 wt%, Al 2 O 3 is 5 wt% to 23 wt%, Li 2 O is 3% to 10% by weight, Na 2 O 4 It contains from mass% to 13 mass% as a main component.

ダイレクトプレス等によって得られたガラス基板には、ラッピング加工が施される。このラッピング加工は、寸法精度および形状精度の向上を目的として、両面ラッピング装置によって行なわれる。   A glass substrate obtained by direct pressing or the like is subjected to lapping. This lapping process is performed by a double-sided lapping apparatus for the purpose of improving dimensional accuracy and shape accuracy.

ラッピング加工において使用される砥粒の粒度は、たとえば、#400(粒径約40μm〜60μm)である。研磨装置において粒度#400のアルミナ砥粒が用いられ、上定盤の荷重は約100kgに設定される。キャリア内に収納したガラス基板の両面は、面精度0μm〜1μm、表面粗さRmaxで約6μmに仕上げられる。   The grain size of the abrasive grains used in the lapping process is, for example, # 400 (particle diameter of about 40 μm to 60 μm). In the polishing apparatus, alumina abrasive grains having a particle size of # 400 are used, and the load of the upper surface plate is set to about 100 kg. Both surfaces of the glass substrate housed in the carrier are finished to a surface accuracy of 0 μm to 1 μm and a surface roughness Rmax of about 6 μm.

(形状加工工程:ステップS20)
粗ラッピング工程を経たガラス基板は、外周端面および内周端面がそれぞれ研削される。当該研削によって、ガラス基板の外径は約65mmとなる。ガラス基板の内径(中心部の孔1Hの直径)は約20mmとなる。外周端面および内周端面には、所定の面取り加工が施される。このときのガラス基板の端面の面粗さは、Rmaxが約2μm程度である。一般的に、2.5インチ型のハードディスクには外径が65mmのガラス基板が用いられる。
(Shape processing step: Step S20)
As for the glass substrate which passed the rough lapping process, an outer peripheral end surface and an inner peripheral end surface are each ground. By the grinding, the outer diameter of the glass substrate becomes about 65 mm. The inner diameter of the glass substrate (the diameter of the hole 1H at the center) is about 20 mm. A predetermined chamfering process is performed on the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface. As for the surface roughness of the end surface of the glass substrate at this time, Rmax is about 2 μm. Generally, a glass substrate having an outer diameter of 65 mm is used for a 2.5-inch hard disk.

(粗面化工程:ステップS30)
形状加工工程を経たガラス基板は、表面が粗面化される。この粗面化工程においては、平面研磨機が使用される。平面研磨機は、遊離砥粒研磨を用いて、ガラス基板に対して機械的な粗面化を行なう。ガラス基板の表面の全体が、略均一の表面粗さ(Ra=0.01μm〜0.4μm程度)となるように研磨される。粗面化工程において目標とする表面粗さは、次述する精ラッピング工程(ステップS40)で使用される固定砥粒の粒度との関係で設定されるとよい。
(Roughening step: Step S30)
The glass substrate that has undergone the shape processing step has a roughened surface. In this roughening step, a flat polishing machine is used. A plane polishing machine performs mechanical surface roughening on a glass substrate using loose abrasive polishing. The entire surface of the glass substrate is polished so as to have a substantially uniform surface roughness (Ra = 0.01 μm to 0.4 μm or so). The target surface roughness in the roughening step may be set in relation to the particle size of the fixed abrasive used in the fine lapping step (step S40) described below.

(精ラッピング工程:ステップS40)
粗面化工程を経たガラス基板は、ラッピング装置にセットされる。ガラス基板の主表面は、固定砥粒研磨パッドまたはダイヤモンドシート等によって研削される。ガラス基板は、たとえば、表面粗さRaが0.1μm以下、平坦度が7μm以下となるように研削される。
(Fine wrapping process: Step S40)
The glass substrate that has undergone the roughening step is set in a lapping apparatus. The main surface of the glass substrate is ground with a fixed abrasive polishing pad or a diamond sheet. The glass substrate is ground, for example, so that the surface roughness Ra is 0.1 μm or less and the flatness is 7 μm or less.

ここで、ガラス基板の主表面は、粗面化工程(ステップS30)において粗面化されている。微細な固定砥粒からなる引っ掛かりがガラス基板の主表面に形成されていることによって、固定砥粒がガラス基板の表面を滑るという不具合が防止される。したがって、精ラッピング工程における加工レートは、表面研磨の開始時点から高い加工レートで実現できるものとなっている。   Here, the main surface of the glass substrate is roughened in the roughening step (step S30). Since the catch made of fine fixed abrasive grains is formed on the main surface of the glass substrate, the problem that the fixed abrasive grains slide on the surface of the glass substrate is prevented. Therefore, the processing rate in the fine lapping process can be realized at a high processing rate from the start of surface polishing.

(端面研磨工程:ステップS50)
端面研磨工程においては、ブラシ研磨方法が使用される。ガラス基板が回転された状態で、ガラス基板の外周端面および内周端面がそれぞれ研磨される。ガラス基板の外周端面および内周端面は、たとえば、表面の粗さが、Rmaxで約0.4μm、Raで約0.1μmとなる。端面研磨を終えたガラス基板の表面は、水洗浄される。
(End face polishing process: Step S50)
In the end surface polishing step, a brush polishing method is used. With the glass substrate rotated, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate are each polished. For example, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate have a surface roughness of about 0.4 μm for Rmax and about 0.1 μm for Ra. The surface of the glass substrate that has been subjected to end face polishing is washed with water.

(主表面研磨工程:ステップS60)
主表面研磨工程は、第1研磨工程および第2研磨工程を有する。第1研磨工程においては、上述した両面研磨装置を用いてガラス基板の主表面が研磨される。上述の精ラッピング工程(ステップS40)で残留した傷または歪みなどが除去される。第1研磨工程においては、たとえば、研磨パッド(ポリッシャは、たとえばスウェードパッドである)が、以下の条件の下に用いられる。
(Main surface polishing step: Step S60)
The main surface polishing step has a first polishing step and a second polishing step. In the first polishing step, the main surface of the glass substrate is polished using the above-described double-side polishing apparatus. The scratches or distortions remaining in the fine wrapping process (step S40) are removed. In the first polishing step, for example, a polishing pad (a polisher is, for example, a suede pad) is used under the following conditions.

研磨液 :酸化セリウム(平均粒径1.3μm)+水
荷 重 :80g/cm〜100g/cm
研磨時間:30分〜50分
除去法 :35μm〜45μm
次に、ガラス基板の表面が洗浄される。ガラス基板の表面に付着している研磨剤が除去される。洗浄方法としては、HFを1質量%、硫酸を3質量%混合させた洗浄液が用いられる。
Polishing liquid: Cerium oxide (average particle size 1.3 μm) + water load: 80 g / cm 2 to 100 g / cm 2
Polishing time: 30 minutes to 50 minutes Removal method: 35 μm to 45 μm
Next, the surface of the glass substrate is cleaned. The abrasive adhered to the surface of the glass substrate is removed. As a cleaning method, a cleaning liquid in which 1% by mass of HF and 3% by mass of sulfuric acid are mixed is used.

この洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態で、この洗浄液にたとえば80kHzの超音波が印加される。その後、中性洗剤にガラス基板を浸漬させた状態で、この中性洗剤にたとえば120kHzの超音波が印加される。その後、ガラス基板は、純粋を使用するリンスによって洗浄される。最後に、ガラス基板はIPA(Isopropyl alcohol)によって乾燥される。   For example, an ultrasonic wave of 80 kHz is applied to the cleaning liquid while the glass substrate is immersed in the cleaning liquid. Then, for example, 120 kHz ultrasonic waves are applied to the neutral detergent in a state where the glass substrate is immersed in the neutral detergent. Thereafter, the glass substrate is cleaned by rinsing using pure. Finally, the glass substrate is dried by IPA (Isopropyl alcohol).

その後、第2研磨工程においては、軟質ポリッシャ(スウェード)である研磨パッドを用いて、ガラス基板の主表面が研磨される。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウムよりも微細なシリカ砥粒が用いられる。   Thereafter, in the second polishing step, the main surface of the glass substrate is polished using a polishing pad that is a soft polisher (suede). As the abrasive, silica abrasive finer than the cerium oxide used in the first polishing step is used.

(化学強化工程:ステップS70)
次に、図4〜図7を参照して、化学強化工程について説明する。図4は、化学強化工程に使用される化学強化処理装置8を模式的に示す断面図である。化学強化工程においては、化学強化処理装置8が使用される。化学強化処理装置8は、化学強化処理液6を内部に貯留する化学強化処理槽9を有する。化学強化処理液6としては、溶融塩が使用される。この溶融塩は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合した塩が、450℃で加熱されることによって得られる。
(Chemical strengthening process: Step S70)
Next, the chemical strengthening step will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a chemical strengthening treatment apparatus 8 used in the chemical strengthening process. In the chemical strengthening step, the chemical strengthening processing device 8 is used. The chemical strengthening treatment apparatus 8 has a chemical strengthening treatment tank 9 that stores the chemical strengthening treatment liquid 6 therein. A molten salt is used as the chemical strengthening treatment liquid 6. This molten salt is obtained by heating a salt obtained by mixing potassium nitrate and sodium nitrate at 450 ° C.

化学強化処理槽9の内部には、固定体4に取り付けられた保持用治具7が配置される。固定体4は、側壁4A〜4D(図5参照)から角筒状に構成される。固定体4の下部には、開口部4Hが設けられる。側壁4A〜4Dによって、保持用治具7は取り囲まれる。主表面研磨工程(ステップS60)を経た複数のガラス基板1は、保持用治具7に保持された状態で、化学強化処理液6の内部に浸漬される。   A holding jig 7 attached to the fixed body 4 is disposed inside the chemical strengthening treatment tank 9. The fixed body 4 is configured in a rectangular tube shape from the side walls 4A to 4D (see FIG. 5). An opening 4H is provided in the lower part of the fixed body 4. The holding jig 7 is surrounded by the side walls 4A to 4D. The plurality of glass substrates 1 that have undergone the main surface polishing step (step S <b> 60) are immersed in the chemical strengthening treatment liquid 6 while being held by the holding jig 7.

複数のガラス基板1は、隣り合うガラス基板1同士が互いに対向するように配置される。複数のガラス基板1の各表面は、平行な位置関係にある。   The plurality of glass substrates 1 are arranged so that the adjacent glass substrates 1 face each other. Each surface of the plurality of glass substrates 1 is in a parallel positional relationship.

(保持用治具7)
図5〜図7を参照して、保持用治具7について詳細に説明する。図5は、保持用治具7を示す斜視図である。図5においては、図示上の便宜のため、ガラス基板1が図示されていない。図5においては、側壁4Aおよび側壁4Bの一部が破断して図示されるが、実際には連続している。図6は、図5中のVI−VI線に沿った矢視断面図である。図7は、保持用治具7にガラス基板1が保持される様子を示す斜視図である。
(Holding jig 7)
The holding jig 7 will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 5 is a perspective view showing the holding jig 7. In FIG. 5, the glass substrate 1 is not shown for convenience of illustration. In FIG. 5, the side wall 4A and a part of the side wall 4B are shown as being broken, but are actually continuous. FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI in FIG. FIG. 7 is a perspective view showing a state in which the glass substrate 1 is held by the holding jig 7.

図5〜図7に示すように、保持用治具7は、第1保持部7A、第2保持部7B1,7B2、上部延在部7C、および下部延在部7Dを含む。保持用治具7(第1保持部7A、第2保持部7B1,7B2、上部延在部7C、および下部延在部7D)は、線状の金属部材から構成される。   As shown in FIGS. 5 to 7, the holding jig 7 includes a first holding part 7A, second holding parts 7B1 and 7B2, an upper extending part 7C, and a lower extending part 7D. The holding jig 7 (the first holding portion 7A, the second holding portions 7B1 and 7B2, the upper extending portion 7C, and the lower extending portion 7D) is composed of a linear metal member.

線状の金属部材とは、針金またはワイヤーなどである。線状の金属部材の直径は、0.01mm以上5mm以下であるとよい。線状の金属部材の熱膨張係数は、24×10−6/℃以下であるとよい。保持用治具7の周囲は、固定体4を構成する側壁4A〜4Dによって取り囲まれる。保持用治具7および固定体4は、組み立てられることによって、いわゆる網籠状に構成される。 The linear metal member is a wire or a wire. The diameter of the linear metal member is preferably 0.01 mm or more and 5 mm or less. The thermal expansion coefficient of the linear metal member is preferably 24 × 10 −6 / ° C. or less. The periphery of the holding jig 7 is surrounded by side walls 4 </ b> A to 4 </ b> D constituting the fixed body 4. The holding jig 7 and the fixed body 4 are configured in a so-called netting shape by being assembled.

下部延在部7Dは、ガラス基板1が配列される方向(図6紙面左右方向)に沿って直線状に延在する。下部延在部7Dの一方の端部および他方の端部は、側壁4Aおよび側壁4Cにそれぞれ固定される。   Lower extension part 7D is extended linearly along the direction (FIG. 6 paper surface left-right direction) where the glass substrate 1 is arranged. One end and the other end of the lower extension 7D are fixed to the side wall 4A and the side wall 4C, respectively.

第1保持部7Aは、重力方向の下方から上方に向かって略V字形状に延びるように形成される。第1保持部7Aの下端は、下部延在部7Dによって上方支持される(図5,図7参照)。   7 A of 1st holding parts are formed so that it may extend in a substantially V shape toward the upper part from the downward direction of a gravitational direction. The lower end of the first holding portion 7A is supported upward by the lower extending portion 7D (see FIGS. 5 and 7).

上部延在部7Cは、側壁4Bおよび側壁4Dの間を橋渡しするように直線状に複数設けられる。複数の上部延在部7Cは、ガラス基板1が配列される方向(図6紙面左右方向)に互いに等間隔を空けて配置される。隣り合う上部延在部7C同士の間に、ガラス基板1が配置される(図6,図7参照)。第1保持部7Aの一方の上端および他方の上端は、隣り合う上部延在部7Cにそれぞれ固定される。   A plurality of upper extending portions 7C are provided in a straight line so as to bridge between the side wall 4B and the side wall 4D. The plurality of upper extending portions 7C are arranged at equal intervals in the direction in which the glass substrates 1 are arranged (the left-right direction in FIG. 6). Between the adjacent upper extending portions 7C, the glass substrate 1 is disposed (see FIGS. 6 and 7). One upper end and the other upper end of the first holding portion 7A are respectively fixed to the adjacent upper extending portions 7C.

第2保持部7B1,7B2は、水平方向における上記ガラス基板1の両外側から内側に向かって、それぞれ略V字形状に水平方向に延在する。第2保持部7B1および第2保持部7B2は、対向するように配置される。   The second holding portions 7B1 and 7B2 extend in the horizontal direction in a substantially V shape from the outer side to the inner side of the glass substrate 1 in the horizontal direction. The second holding unit 7B1 and the second holding unit 7B2 are arranged to face each other.

第2保持部7B1の延在方向の先端部の一方および先端部他方は、隣り合う上部延在部7C上にそれぞれ固定される。第2保持部7B1の延在方向の後端部は、側壁4Bに固定される。同様に、第2保持部7B2の延在方向の先端部の一方および先端部の他方は、隣り合う上部延在部7C上にそれぞれ固定される。第2保持部7B2の延在方向の後端部は、側壁4Dに固定される。   One of the distal end portions in the extending direction of the second holding portion 7B1 and the other distal end portion are respectively fixed on the adjacent upper extending portions 7C. The rear end portion of the second holding portion 7B1 in the extending direction is fixed to the side wall 4B. Similarly, one of the leading end portions in the extending direction of the second holding portion 7B2 and the other leading end portion are respectively fixed on the adjacent upper extending portions 7C. The rear end portion of the second holding portion 7B2 in the extending direction is fixed to the side wall 4D.

図7を参照して、第1保持部7Aは、ガラス基板1の重力方向の下方側に位置する第1外周端面部1DAを挟持する。第2保持部7B1は、ガラス基板1の水平方向の一方の外側に位置する第2外周端面部1DB1を挟持する。同様に、第2保持部7B2は、ガラス基板1の水平方向の他方の外側に位置する第2外周端面部1DB2を挟持する。第1保持部7Aおよび第2保持部7B1,7B2の各挟持によって、ガラス基板1は保持される。   Referring to FIG. 7, first holding portion 7 </ b> A sandwiches first outer peripheral end surface portion 1 </ b> DA located on the lower side of glass substrate 1 in the gravity direction. The second holding portion 7B1 sandwiches the second outer peripheral end face portion 1DB1 located on one outer side of the glass substrate 1 in the horizontal direction. Similarly, 2nd holding | maintenance part 7B2 clamps 2nd outer peripheral end surface part 1DB2 located in the other outer side of the horizontal direction of the glass substrate 1. As shown in FIG. The glass substrate 1 is held by the first holding part 7A and the second holding parts 7B1 and 7B2.

本実施の形態における保持用治具7は、上述のとおり、線状の金属部材から構成される。線状の金属部材は、たとえば0.01mm以上5mm以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成される。図6に示すように、保持用治具7の周囲は、ガラス基板1が化学強化処理液6(図4参照)中に浸漬された状態で、ガラス基板1の周りに化学強化処理液6の対流が十分に生じるように開放されている。当該構成によって、ガラス基板1の表面の全体には、均一な化学強化処理が良好に実施されることが可能となる。   As described above, the holding jig 7 in the present embodiment is composed of a linear metal member. A linear metal member is comprised from the wire or wire which has a diameter of 0.01 mm or more and 5 mm or less, for example. As shown in FIG. 6, the holding jig 7 is surrounded by the chemical strengthening treatment liquid 6 around the glass substrate 1 in a state where the glass substrate 1 is immersed in the chemical strengthening treatment liquid 6 (see FIG. 4). Open to allow sufficient convection. With this configuration, uniform chemical strengthening treatment can be satisfactorily performed on the entire surface of the glass substrate 1.

化学強化工程においては、ガラス基板に化学強化処理が施される。ガラス基板の表面に存在するイオンが、そのイオンよりも大きなイオン半径を有する他のイオンに交換される。たとえば、ガラス基板がアルミノシリケートガラスである場合、LiおよびNaが、LiおよびNaよりも大きなイオン半径を有するイオン(NaおよびKなど)に交換される。 In the chemical strengthening step, a chemical strengthening process is performed on the glass substrate. Ions present on the surface of the glass substrate are exchanged for other ions having an ionic radius larger than the ions. For example, when the glass substrate is an aluminosilicate glass, Li + and Na + are exchanged for ions having a larger ionic radius than Li + and Na + (such as Na + and K + ).

化学強化工程においては、(ガラス基板の厚さ方向に)ガラス基板表面から約5μmの深さまでにわたってイオン交換が行なわれる。ガラス基板の表面に圧縮応力が付与されることによって、ガラス基板の剛性が向上する。   In the chemical strengthening step, ion exchange is performed from the glass substrate surface to a depth of about 5 μm (in the thickness direction of the glass substrate). By applying a compressive stress to the surface of the glass substrate, the rigidity of the glass substrate is improved.

(洗浄工程:ステップS80)
図3を再び参照して、化学強化処理(ステップS70)が完了したガラス基板1は、アルカリ系の洗浄液に浸漬される。洗浄液に対して80kHzの超音波が印加される。その後、ガラス基板1は酸性の洗剤からなる洗浄液に浸漬される。洗浄液に対して430kHz、および950kHzの超音波が順次付与される。さらに、950kHzのリンス(純水 18MΩ・cm)を用いて複数のガラス基板1には乾燥処理が施される。
(Washing process: Step S80)
Referring to FIG. 3 again, the glass substrate 1 on which the chemical strengthening process (step S70) has been completed is immersed in an alkaline cleaning liquid. An ultrasonic wave of 80 kHz is applied to the cleaning liquid. Thereafter, the glass substrate 1 is immersed in a cleaning liquid made of an acidic detergent. Ultrasonic waves of 430 kHz and 950 kHz are sequentially applied to the cleaning liquid. Further, a plurality of glass substrates 1 are subjected to a drying process using 950 kHz rinse (pure water 18 MΩ · cm).

以上の粗ラッピング工程(ステップS10)、形状加工工程(ステップS20)、粗面化工程(ステップS30)、精ラッピング工程(ステップS40)、端面研磨工程(ステップS50)、主表面研磨工程(ステップS60)、化学強化工程(ステップS70)、および洗浄工程(ステップS80)を経ることによって、情報記録媒体用ガラス基板1(図1参照)が得られる。主表面研磨工程(ステップS60)における第2研磨工程は、化学強化工程(ステップS70)の後に行なってもよい。   The above rough lapping process (step S10), shape processing process (step S20), roughening process (step S30), fine lapping process (step S40), end face polishing process (step S50), main surface polishing process (step S60). ), Chemical strengthening step (step S70), and washing step (step S80), the information recording medium glass substrate 1 (see FIG. 1) is obtained. The second polishing step in the main surface polishing step (step S60) may be performed after the chemical strengthening step (step S70).

(磁気薄膜形成工程:ステップS90)
洗浄工程(ステップS80)が完了したガラス基板(図1に示すガラス基板1に相当)の両主表面(またはいずれか一方の主表面)に対し、磁気薄膜層2(図2参照)が形成される。磁気薄膜層2は、Cr合金からなる密着層、CoFeZr合金からなる軟磁性層、Ruからなる配向制御下地層、CoCrPt合金からなる垂直磁気記録層、C系からなる保護層、およびF系からなる潤滑層が順次成膜されることによって形成される。
(Magnetic thin film forming step: Step S90)
A magnetic thin film layer 2 (see FIG. 2) is formed on both main surfaces (or one of the main surfaces) of the glass substrate (corresponding to the glass substrate 1 shown in FIG. 1) for which the cleaning process (step S80) has been completed. The The magnetic thin film layer 2 is made of an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoFeZr alloy, an orientation control underlayer made of Ru, a perpendicular magnetic recording layer made of a CoCrPt alloy, a protective layer made of a C system, and an F system. The lubricating layer is formed by sequentially forming a film.

磁気薄膜層2の形成によって、図2に示す磁気ディスク10に相当する垂直磁気記録ディスクを得ることができる。本実施の形態における磁気ディスクは、磁気薄膜層2から構成される垂直磁気ディスクの一例である。磁気ディスクは、いわゆる面内磁気ディスクとして磁性層等から構成されてもよい。   By forming the magnetic thin film layer 2, a perpendicular magnetic recording disk corresponding to the magnetic disk 10 shown in FIG. 2 can be obtained. The magnetic disk in the present embodiment is an example of a perpendicular magnetic disk composed of the magnetic thin film layer 2. The magnetic disk may be composed of a magnetic layer or the like as a so-called in-plane magnetic disk.

(作用・効果)
本実施の形態における情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、化学強化工程(ステップS70)において、ガラス基板1の表面全体に対して均一な化学強化処理を施すことができる。
(Action / Effect)
According to the method for manufacturing a glass substrate for information recording medium in the present embodiment, a uniform chemical strengthening process can be performed on the entire surface of glass substrate 1 in the chemical strengthening step (step S70).

ここで、保持用治具7を構成する線状の金属部材は、0.01mm以上5mm以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成される。この直径が0.01mmより小さくなると、保持用治具7がガラス基板1に対して傷を付けてしまう場合がある。   Here, the linear metal member constituting the holding jig 7 is composed of a wire or a wire having a diameter of 0.01 mm or more and 5 mm or less. If the diameter is smaller than 0.01 mm, the holding jig 7 may be damaged on the glass substrate 1.

この直径が5mmより大きくなると、保持用治具7とガラス基板1との接触部において化学強化層が良好に形成されにくくなる。したがって、保持用治具7を構成する線状の金属部材は、0.01mm以上5mm以下の直径を有する針金またはワイヤーなどから構成されるとよい。   If the diameter is larger than 5 mm, the chemical strengthening layer is hardly formed well at the contact portion between the holding jig 7 and the glass substrate 1. Therefore, the linear metal member constituting the holding jig 7 is preferably composed of a wire or a wire having a diameter of 0.01 mm or more and 5 mm or less.

また、保持用治具7を構成する線状の金属部材の熱膨張係数は、24×10−6/℃以下であるとよい。熱膨張係数がこの値よりも大きいと、化学強化処理液6(溶融塩)中において保持用治具7が膨張しすぎるため、ガラス基板1を保持しにくくなる。熱膨張係数の下限としては、ガラス基板1を保持するだけの強度を持つという観点から、ある程度の硬さを有しているとよい。 Moreover, the thermal expansion coefficient of the linear metal member constituting the holding jig 7 is preferably 24 × 10 −6 / ° C. or less. When the thermal expansion coefficient is larger than this value, the holding jig 7 expands too much in the chemical strengthening treatment liquid 6 (molten salt), and thus it becomes difficult to hold the glass substrate 1. As a minimum of a thermal expansion coefficient, it is good to have a certain amount of hardness from a viewpoint that it has the intensity | strength which can hold | maintain the glass substrate 1. FIG.

上述の実施の形態においては、保持用治具7は固定体4(側壁4A〜4D)に取り付けられる。固定体4を用いないで、保持用治具7を針金状の部材のみから自立可能なように構成してもよい。この場合であっても、保持用治具7の周囲において化学強化処理液6の良好な対流が得られるため、上述の実施の形態と同様の作用および効果を得ることができる。   In the above-described embodiment, the holding jig 7 is attached to the fixed body 4 (side walls 4A to 4D). Instead of using the fixed body 4, the holding jig 7 may be configured to be able to stand on its own only from a wire-like member. Even in this case, since the good convection of the chemical strengthening treatment liquid 6 is obtained around the holding jig 7, the same operation and effect as the above-described embodiment can be obtained.

[実施例・比較例]
上述の実施の形態に基づく実施例およびこれに対する比較例について説明する。
[Examples and Comparative Examples]
An example based on the above-described embodiment and a comparative example for this will be described.

(実施例1)
実施例1においては、直径が0.5mmのワイヤーを用いて保持用治具7を構成した。当該条件のもと、上述の化学強化工程(ステップS70)と同様に、ガラス基板1の表面に化学強化処理を施した。その後、ガラス基板1に磁気薄膜層2を形成し、磁気ディスク10を得た。この磁気ディスク10を用いて、HDD(ハードディスクドライブ装置)を作製した。このHDDに対して1000G(1G:9.80665m/s)の衝撃が与えられるように、HDDを落下させた。その際、HDDに内蔵される磁気ディスク10が割れたか否かを目視で確認した。
Example 1
In Example 1, the holding jig 7 was configured using a wire having a diameter of 0.5 mm. Under the conditions, the surface of the glass substrate 1 was subjected to a chemical strengthening process in the same manner as the above-described chemical strengthening step (Step S70). Thereafter, the magnetic thin film layer 2 was formed on the glass substrate 1 to obtain the magnetic disk 10. Using this magnetic disk 10, an HDD (Hard Disk Drive Device) was produced. The HDD was dropped so that an impact of 1000 G (1G: 9.80665 m / s 2 ) was applied to the HDD. At that time, it was visually confirmed whether or not the magnetic disk 10 built in the HDD was broken.

この落下試験を10回繰り返したところ、実施例1におけるガラス基板1から構成された磁気ディスク10には、1度も割れが発生しなかった。   When this drop test was repeated 10 times, the magnetic disk 10 composed of the glass substrate 1 in Example 1 never cracked.

(実施例2)
実施例2においては、直径が0.8mmのワイヤーを用いて保持用治具7を構成した。当該条件の下、上記の実施例1と同様に化学強化処理を実施した。実施例1と同様の落下試験を行なったところ、10回中、1回ないし2回の割れが磁気ディスク10に発生した。
(Example 2)
In Example 2, the holding jig 7 was configured using a wire having a diameter of 0.8 mm. Under the conditions, the chemical strengthening treatment was performed in the same manner as in Example 1 above. When the same drop test as in Example 1 was performed, one or two cracks occurred in the magnetic disk 10 out of 10 times.

(比較例)
比較例においては、図8および図9に示す保持用治具70を用いて、上述の化学強化工程と同様に、ガラス基板1の表面に化学強化処理を施した。実施例1と同様の落下試験を行なったところ、10回中、6回以上の割れが磁気ディスク10に発生した。
(Comparative example)
In the comparative example, the surface of the glass substrate 1 was chemically strengthened using the holding jig 70 shown in FIGS. 8 and 9 in the same manner as the above-described chemical strengthening step. When the same drop test as in Example 1 was performed, 6 or more cracks occurred in the magnetic disk 10 out of 10 times.

以上の実験結果から、本実施の形態における保持用治具7を用いて化学強化処理を実施することによって、高い強度を有する化学強化層(圧縮応力層)がガラス基板1に形成されることがわかる。   From the above experimental results, a chemical strengthening layer (compressive stress layer) having high strength is formed on the glass substrate 1 by performing the chemical strengthening process using the holding jig 7 in the present embodiment. Recognize.

以上、本発明に基づいた実施の形態および各実施例について説明したが、今回開示された実施の形態および各実施例はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment and each example based on the present invention have been described above, but the embodiment and each example disclosed this time are illustrative in all points and are not restrictive. The technical scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

1 ガラス基板(情報記録媒体用ガラス基板)、1A 表主表面、1B 裏主表面、1C 内周端面、1D 外周端面、1DA 第1外周端面部、1DB1,1DB2 第2外周端面部、1H 孔、2 磁気薄膜層、4 固定体、4A,4B,4C,4D,71 側壁、4H 開口部、6 化学強化処理液、7,70 保持用治具、7A 第1保持部、7B1,7B2 第2保持部、7C 上部延在部、7D 下部延在部、8 化学強化処理装置、9 化学強化処理槽、10 磁気ディスク、72 端部、73 ワイヤ、75 領域、S10,S20,S30,S40,S50,S60,S70,S80,S90 ステップ。   1 glass substrate (glass substrate for information recording medium), 1A front main surface, 1B back main surface, 1C inner peripheral end surface, 1D outer peripheral end surface, 1DA first outer peripheral end surface portion, 1DB1, 1DB2 second outer peripheral end surface portion, 1H hole, 2 Magnetic thin film layer, 4 fixed body, 4A, 4B, 4C, 4D, 71 side wall, 4H opening, 6 chemical strengthening treatment solution, 7, 70 holding jig, 7A first holding portion, 7B1, 7B2 second holding Part, 7C upper extension part, 7D lower extension part, 8 chemical strengthening treatment device, 9 chemical strengthening treatment tank, 10 magnetic disk, 72 end part, 73 wire, 75 region, S10, S20, S30, S40, S50, S60, S70, S80, S90 steps.

Claims (5)

円形ディスク状に形成されるガラス基板に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
線状の金属部材を含む保持用治具を準備する工程と、
前記保持用治具を用いて前記ガラス基板を化学強化処理液中に浸漬し、前記ガラス基板の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、
前記保持用治具の周囲は、前記ガラス基板が前記化学強化処理液中に浸漬された状態で、前記ガラス基板の周りに前記化学強化処理液の対流が生じるように開放されている、
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
A method for producing a glass substrate for an information recording medium in which a magnetic recording layer is formed on a glass substrate formed in a circular disk shape,
Preparing a holding jig containing a linear metal member;
Immersing the glass substrate in a chemical strengthening treatment liquid using the holding jig, and performing a chemical strengthening treatment on the surface of the glass substrate,
The periphery of the holding jig is opened so that convection of the chemical strengthening treatment liquid occurs around the glass substrate in a state where the glass substrate is immersed in the chemical strengthening treatment liquid.
A method for producing a glass substrate for an information recording medium.
前記保持用治具は、
前記ガラス基板の下方において直線状に延在する下部延在部と、
前記下部延在部から重力方向の上方に向かって略V字形状に延びるように形成される第1保持部と、を含み、
前記第1保持部は、前記ガラス基板の重力方向の下方側に位置する第1外周端面部を挟持する、
請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
The holding jig is
A lower extending portion extending linearly below the glass substrate;
A first holding part formed so as to extend in a substantially V shape from the lower extension part upward in the direction of gravity,
The first holding portion sandwiches a first outer peripheral end surface portion located on the lower side in the gravity direction of the glass substrate.
The manufacturing method of the glass substrate for information recording media of Claim 1.
前記保持用治具は、前記ガラス基板の周囲に配置される側壁に取り付けられ、
前記保持用治具は、前記側壁から前記ガラス基板に向かって略V字形状に延びるように形成される第2保持部を含み、
前記第2保持部は、前記ガラス基板の水平方向の両外側に位置する第2外周端面部を挟持する、
請求項1または2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
The holding jig is attached to a side wall disposed around the glass substrate,
The holding jig includes a second holding portion formed so as to extend in a substantially V shape from the side wall toward the glass substrate,
The second holding part sandwiches the second outer peripheral end face part located on both outer sides in the horizontal direction of the glass substrate,
The manufacturing method of the glass substrate for information recording media of Claim 1 or 2.
前記金属部材の直径は、0.01mm以上5mm以下である、
請求項1から3のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
The diameter of the metal member is 0.01 mm or more and 5 mm or less.
The manufacturing method of the glass substrate for information recording media in any one of Claim 1 to 3.
前記金属部材の熱膨張係数は、24×10−6/℃以下である、
請求項1から4のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
The thermal expansion coefficient of the metal member is 24 × 10 −6 / ° C. or less.
The manufacturing method of the glass substrate for information recording media in any one of Claim 1 to 4.
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