JP2012195397A - Manufacturing method of component built-in substrate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a component built-in substrate with excellent productivity.SOLUTION: A film sticking step 41a sticks a peelable adhesive film 47 to an upper surface of a large-size wiring board 45 or a lower surface of a large-size wiring board 46 or to both the upper surface of the large-size wiring board 45 and the lower surface of the large-size wiring board 46. A resin part formation step 42 after this step forms a resin part 35 between the large-size wiring board 45 and the large-size wiring board 46. A removal step 43 after this step removes a removal part and then removes the adhesive film 47 in the position corresponding to the removal part while simultaneously disconnecting a wiring board 32 from the large-size wiring board 45 and a wiring board 36 from the large-size wiring board 46. A peeling step 44 after this step simultaneously removes the adhesive film 47 and the resin part, thereby achieving manufacturing of a component built-in substrate with excellent productivity.

Description

本発明は、基板に電子部品が実装され、これらの電子部品が樹脂によって封止された部品内蔵基板に関するものである。   The present invention relates to a component-embedded substrate in which electronic components are mounted on a substrate and these electronic components are sealed with resin.

以下、従来の部品内蔵基板1について図面を用いて説明する。図12は、従来の部品内蔵基板1の断面図である。従来の部品内蔵基板1において、配線基板2の上面側には電子部品3aが実装されている。この配線基板2の上方には配線基板4が設けられ、配線基板4と配線基板2とが対向するように配置される。これらの配線基板4と配線基板2との間には、電子部品3aが埋設された樹脂部5が形成されている。なお、この樹脂部5は、熱硬化性の樹脂によって形成されている。基材部6は、配線基板2と配線基板4との間で、樹脂部5を囲うように設けられている。   Hereinafter, a conventional component-embedded substrate 1 will be described with reference to the drawings. FIG. 12 is a cross-sectional view of a conventional component-embedded substrate 1. In the conventional component built-in substrate 1, an electronic component 3 a is mounted on the upper surface side of the wiring substrate 2. A wiring board 4 is provided above the wiring board 2 and is arranged so that the wiring board 4 and the wiring board 2 face each other. Between the wiring board 4 and the wiring board 2, a resin part 5 in which an electronic component 3a is embedded is formed. The resin portion 5 is made of a thermosetting resin. The base material part 6 is provided so as to surround the resin part 5 between the wiring board 2 and the wiring board 4.

そしてこのような従来の部品内蔵基板1において、配線基板2と配線基板4との間の接続は、スルーホール7によって行われる。そのためにスルーホール7は、基材部6に対応する位置に形成され、配線基板2、配線基板4および基材部6を貫通して形成される。   In such a conventional component-embedded substrate 1, the connection between the wiring substrate 2 and the wiring substrate 4 is made through the through hole 7. Therefore, the through hole 7 is formed at a position corresponding to the base material portion 6 and is formed through the wiring board 2, the wiring substrate 4, and the base material portion 6.

次にこのような部品内蔵基板1の製造方法について、図面を用いて説明する。図13は、従来の部品内蔵基板1の製造フローチャートである。実装工程11では、配線基板2の上面に、電子部品3aを装着する。なお、この工程における配線基板2の上面は、予め配線パターンや、電子部品3aを実装するためのパッドや、配線基板2の上下面を接続するスルーホール(図示せず)などが形成されている。一方、配線基板2の下面側の全面には、銅箔が形成されている。つまり配線パターンが未形成な状態としてある。   Next, a method for manufacturing such a component-embedded substrate 1 will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a manufacturing flowchart of the conventional component-embedded substrate 1. In the mounting process 11, the electronic component 3 a is mounted on the upper surface of the wiring board 2. In addition, on the upper surface of the wiring board 2 in this process, a wiring pattern, pads for mounting the electronic component 3a, through holes (not shown) for connecting the upper and lower surfaces of the wiring board 2 and the like are formed in advance. . On the other hand, a copper foil is formed on the entire lower surface of the wiring board 2. That is, the wiring pattern is not formed.

図14は従来における積層工程の部品内蔵基板の断面図である。図13、図14において積層工程12は、実装工程11の後で、配線基板2上に複数枚のプリプレグ13を積層し、さらにこの積層されたプリプレグ13の上に配線基板4を積層する工程である。ここで、プリプレグ13には、孔加工工程14において、電子部品3aに対応する位置に予め孔14aが形成されている。そしてこの積層工程12では、電子部品3aがこの孔14a内に配置されるように、プリプレグ13が積層される。なお、この工程における配線基板4の下面は、予め配線パターンや、配線基板4の上下面を接続するスルーホール(図示せず)などが形成されている。一方、配線基板4の上面側の全面には、銅箔が形成されている。つまり配線パターンが未形成な状態としてある。   FIG. 14 is a cross-sectional view of a component-embedded substrate in a conventional lamination process. 13 and 14, the laminating step 12 is a step of laminating a plurality of prepregs 13 on the wiring substrate 2 after the mounting step 11 and further laminating the wiring substrate 4 on the laminated prepregs 13. is there. Here, in the prepreg 13, a hole 14 a is formed in advance in a position corresponding to the electronic component 3 a in the hole processing step 14. In the laminating step 12, the prepreg 13 is laminated so that the electronic component 3a is disposed in the hole 14a. Note that a wiring pattern, a through hole (not shown) for connecting the upper and lower surfaces of the wiring substrate 4 and the like are formed in advance on the lower surface of the wiring substrate 4 in this step. On the other hand, a copper foil is formed on the entire upper surface of the wiring board 4. That is, the wiring pattern is not formed.

樹脂部形成工程15は、積層工程12で積層された状態で、加熱するとともに、その上下から圧縮することで、樹脂部5と基材部6とを形成する工程である。加熱されて流動可能な状態にまで軟化したプリプレグ13の樹脂が、圧縮力によって孔14a内に流入する。そして、さらに加熱を続けることにより、熱硬化性樹脂である樹脂が硬化する。そしてこの樹脂部形成工程15によって、孔14a内が硬化した樹脂で充満し、電子部品3aが埋設された樹脂部5が形成されると同時に、プリプレグ13の基材同士が樹脂によって接着されることにより、基材部6が形成されることとなる。   The resin part forming step 15 is a step of forming the resin part 5 and the base material part 6 by heating and compressing from above and below in the state of being laminated in the lamination process 12. The resin of the prepreg 13 that has been heated and softened to a flowable state flows into the hole 14a by a compressive force. Then, by further heating, the resin that is a thermosetting resin is cured. And by this resin part formation process 15, the inside of the hole 14a is filled with the hardened resin, and the resin part 5 in which the electronic component 3a is embedded is formed, and at the same time, the base materials of the prepreg 13 are bonded to each other by the resin. Thereby, the base material part 6 will be formed.

ここで、樹脂部形成工程15における圧縮により、樹脂は孔14a内へ流入するのみでなく、配線基板2の外側へも溢れ出す。そこで図13において切除工程16は、樹脂部形成工程15の後で、配線基板4の外方向へと溢れ出した不要な樹脂を切除する工程である。   Here, due to the compression in the resin portion forming step 15, the resin not only flows into the hole 14 a but also overflows to the outside of the wiring board 2. Therefore, in FIG. 13, a cutting process 16 is a process of cutting unnecessary resin that overflows to the outside of the wiring board 4 after the resin portion forming process 15.

そしてこのような方法によって、上下面に銅箔を有した状態の部品内蔵基板1が完成する。そしてこの後は、通常のプリント基板の製造工程によって、スルーホール7や上下面の配線パターンなどの形成が行われる。つまり、スルーホール形成工程17では、配線基板2、配線基板4および基材部6を貫通するビア孔をドリル加工などによって形成し、その後でこのビア孔の内周面に銅めっきを行うことで、配線基板2と配線基板4との間を接続するスルーホール7を形成する。そして配線パターン形成工程18では、スルーホール形成工程17の後で、エッチング処理などによって、不要箇所の銅箔を除去し、部品内蔵基板1の上下面に所要の形状の配線パターンを形成することで、部品内蔵基板1が完成する。   And the component built-in board | substrate 1 of a state which has copper foil on the upper and lower surfaces is completed by such a method. After that, through holes 7 and upper and lower wiring patterns are formed by a normal printed circuit board manufacturing process. That is, in the through-hole forming step 17, via holes penetrating the wiring board 2, the wiring board 4, and the base material portion 6 are formed by drilling or the like, and then copper plating is performed on the inner peripheral surface of the via hole. A through hole 7 for connecting the wiring board 2 and the wiring board 4 is formed. In the wiring pattern forming step 18, after the through-hole forming step 17, unnecessary portions of the copper foil are removed by etching or the like, and a wiring pattern having a required shape is formed on the upper and lower surfaces of the component-embedded substrate 1. Thus, the component built-in substrate 1 is completed.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。   As prior art document information related to the invention of this application, for example, Patent Document 1 is known.

特開2005−158770号公報JP 2005-158770 A

しかしながら従来の部品内蔵基板の製造方法において、プリプレグ13は非常に軟らかく(ふにゃふにゃな状態)、積層工程12においてこのような軟らかいプリプレグ13を何枚も積層するには工数がかかる。特に従来の製造方法では、電子部品3aが孔14a内に収まるように、位置精度良くプリプレグ13を積層する必要があるため、自動化なども難しくなる。また、部品内蔵基板1の完成には、樹脂部形成工程15の後で、配線基板2と配線基板4との間を接続するスルーホール形成工程17や、配線パターン形成工程18などのような後工程が必要となる。これにより従来の部品内蔵基板1の製造方法では、部品内蔵基板1の製造に工数がかかり、生産性が悪く、部品内蔵基板1の製造コストも大きくなるという課題を有していた。   However, in the conventional method for manufacturing a component-embedded substrate, the prepreg 13 is very soft (in a state where it is in various states), and it takes time to stack a number of such soft prepregs 13 in the stacking step 12. In particular, in the conventional manufacturing method, since it is necessary to stack the prepreg 13 with high positional accuracy so that the electronic component 3a can be accommodated in the hole 14a, automation or the like becomes difficult. Further, the component-embedded substrate 1 is completed after the resin portion forming step 15, after the through hole forming step 17 for connecting the wiring substrate 2 and the wiring substrate 4, the wiring pattern forming step 18, and the like. A process is required. As a result, the conventional method for manufacturing the component-embedded substrate 1 has a problem that it takes time to manufacture the component-embedded substrate 1, the productivity is poor, and the manufacturing cost of the component-embedded substrate 1 increases.

そこで本発明は、この問題を解決したもので、安価な部品内蔵基板を提供することを目的としたものである。   Accordingly, the present invention has been made to solve this problem, and an object thereof is to provide an inexpensive component-embedded substrate.

この目的を達成するために、樹脂部を形成する工程は、第1の大判配線基板の下面と第2の大判配線基板の上面のうちの少なくともいずれか一方に剥離可能な粘着性フィルムを貼り付ける工程の後に設けられる。そしてこの樹脂部を形成する工程の後で、前記第1と第2の大判配線基板の除去部を切除して、前記第1と第2の大判配線基板から前記第1と第2の配線基板を切り離すと同時に、この除去部に対応した位置の前記粘着性フィルムも切除する。そしてこの工程の後で、前記粘着性フィルムを除去することにより、前記樹脂部を形成する工程において前記粘着性フィルム上に形成された樹脂も同時に除去するものである。これにより所期の目的を達成することができる。   In order to achieve this object, in the step of forming the resin portion, a peelable adhesive film is applied to at least one of the lower surface of the first large-sized wiring substrate and the upper surface of the second large-sized wiring substrate. It is provided after the process. Then, after the step of forming the resin portion, the removed portions of the first and second large-sized wiring boards are cut out, and the first and second wiring boards are removed from the first and second large-sized wiring boards. At the same time, the adhesive film at the position corresponding to the removal portion is also cut off. And after this process, the resin formed on the said adhesive film in the process of forming the said resin part is removed simultaneously by removing the said adhesive film. As a result, the intended purpose can be achieved.

以上のように本発明によれば、少なくとも両面に導体層が形成された第1の配線基板と、この第1の配線基板の上方に配置された第2の配線基板と、前記第1の配線基板の上面と前記第2の配線基板の下面のうちの少なくともいずれか一方に実装された電子部品と、これら第1と第2の配線基板との間を電気的に接続する接続体と、前記第1と第2の配線基板の間に設けられ、前記接続体と前記電子部品が埋設された樹脂部とを備えた部品内蔵基板の製造方法において、少なくとも第1と第2の大判配線基板のいずれか一方へ前記電子部品を装着するとともに、前記第1と第2の大判配線基板のいずれか一方へ前記接続体を装着する工程と、この工程の後で前記第1と第2の大判配線基板を前記電子部品が内側を向くような方向で搭載し、これらの第1と第2の大判配線基板の間を前記接続体を介して接続する工程と、その後で少なくとも前記第1と第2の大判配線基板の間に樹脂を充填し、前記電子部品が前記樹脂で埋設された前記樹脂部を形成する工程と、この工程の後で前記第1と第2の大判配線基板に設けられた除去部を切除し、前記第1と第2の大判配線基板から前記第1と第2の配線基板を切り離す工程とを備え、少なくとも前記樹脂部を形成する工程の前には、前記第1の大判配線基板の下面と前記第2の大判配線基板の上面のうちの少なくともいずれか一方に剥離可能な粘着性フィルムを貼り付ける工程を設けるとともに、前記除去部を切除する工程の後には、前記粘着性フィルムを除去する工程とを設け、前記樹脂部を形成する工程では、前記樹脂で前記粘着性フィルムが覆われるとともに、前記除去部を切除する工程では、前記除去部に対応する位置における前記粘着性フィルムも同時に切除され、前記粘着性フィルムを除去する工程では、前記粘着性フィルムと前記粘着性フィルムを覆う樹脂とを同時に除去するものであり、これにより容易に樹脂部を形成でき、また別途第1と第2の配線基板を接続する工程も不要となる。したがって、生産性が良好な部品内蔵基板の製造方法を実現でき、安価な部品内蔵基板を得ることができる。   As described above, according to the present invention, the first wiring board on which the conductor layers are formed on at least both surfaces, the second wiring board disposed above the first wiring board, and the first wiring An electronic component mounted on at least one of the upper surface of the substrate and the lower surface of the second wiring substrate, and a connection body for electrically connecting the first and second wiring substrates; In a method of manufacturing a component-embedded board provided between the first and second wiring boards and including the connection body and the resin part in which the electronic component is embedded, at least the first and second large-sized wiring boards A step of mounting the electronic component on one of the two and mounting the connecting body on one of the first and second large-sized wiring boards, and the first and second large-sized wirings after this step. Mount the board in such a direction that the electronic components are facing inward. A step of connecting the first and second large-sized wiring boards through the connecting body, and then filling at least the resin between the first and second large-sized wiring boards, A step of forming the resin portion embedded in the resin, and a removal portion provided in the first and second large-sized wiring boards after the step is cut out, and the first and second large-sized wiring substrates are formed. Separating the first and second wiring boards from each other, and at least before the step of forming the resin portion, the lower surface of the first large wiring board and the upper surface of the second large wiring board are formed. A step of attaching a peelable adhesive film to at least one of them is provided, and a step of removing the adhesive film is provided after the step of excising the removal portion to form the resin portion. In the process, the adhesive with the resin The film is covered, and in the step of removing the removal portion, the adhesive film at the position corresponding to the removal portion is simultaneously removed, and in the step of removing the adhesive film, the adhesive film and the adhesive property are removed. The resin covering the film is removed at the same time, whereby the resin portion can be easily formed, and a step of separately connecting the first and second wiring boards is not required. Therefore, a method for manufacturing a component-embedded substrate with good productivity can be realized, and an inexpensive component-embedded substrate can be obtained.

(a)実施の形態1における部品内蔵基板の断面図、(b)同、部品内蔵基板の要部拡大断面図(A) Sectional view of component built-in substrate in Embodiment 1, (b) Same as above, enlarged cross-sectional view of main part of component-embedded substrate 同、部品内蔵基板の製造フローチャートSame as above, manufacturing flowchart of component built-in board 同、組み立て工程における部品内蔵基板の側面図Side view of the component built-in board in the assembly process 同、樹脂部形成工程における部品内蔵基板の断面図Same as above, sectional view of component-embedded substrate in resin part forming process 同、切除工程における部品内蔵基板の断面図Cross-sectional view of the component built-in board in the cutting process 同、剥離工程における部品内蔵基板の側面図Side view of the component built-in board in the peeling process 同、樹脂部形成装置の概略断面図Schematic sectional view of the resin part forming apparatus 同、樹脂部形成工程の製造フローチャートManufacturing flowchart of resin part forming process 同、軟化工程における樹脂部形成装置の断面図Sectional view of resin part forming device in softening process 同、浸漬工程における樹脂部形成装置の断面図Sectional view of the resin part forming device in the dipping process 同、圧縮流入工程における樹脂部形成装置の断面図Sectional view of the resin part forming apparatus in the compression inflow process 従来の部品内蔵基板の断面図Sectional view of a conventional component-embedded substrate 同、部品内蔵基板の製造フローチャートSame as above, manufacturing flowchart of component built-in board 同、積層工程の部品内蔵基板の断面図Cross-sectional view of component built-in board in the same lamination process

以下本実施の形態における部品内蔵基板の製造方法について説明する。   A method for manufacturing the component-embedded substrate in the present embodiment will be described below.

(実施の形態1)
以下本実施の形態における部品内蔵基板31について図面を用いて説明する。図1(a)は、本実施の形態における部品内蔵基板31の断面図であり、図1(b)は、同、部品内蔵基板31の要部拡大断面図である。図1(a)、図1(b)において、配線基板32の上面には、配線パターン32aが配線されており、この配線パターン32a上に電子部品3aが実装されている。一方配線基板32の下面には、配線パターン32bが形成されている。なお、本実施の形態では、配線基板32は厚みが0.5mmの4層基板であり、電子部品3aは半導体素子やチップ部品が含まれている。なお、半導体はフェイスダウンにて配線基板32へフリップチップ実装されている。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the component-embedded substrate 31 in the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a cross-sectional view of the component built-in substrate 31 in the present embodiment, and FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the main part of the component built-in substrate 31. 1A and 1B, a wiring pattern 32a is wired on the upper surface of the wiring board 32, and an electronic component 3a is mounted on the wiring pattern 32a. On the other hand, a wiring pattern 32 b is formed on the lower surface of the wiring substrate 32. In the present embodiment, the wiring substrate 32 is a four-layer substrate having a thickness of 0.5 mm, and the electronic component 3a includes a semiconductor element and a chip component. The semiconductor is flip-chip mounted on the wiring board 32 face down.

樹脂部35には、電子部品3aが埋設されている。本実施の形態において、樹脂部35の樹脂35a(図2に示す)には、熱硬化性樹脂のエポキシ樹脂が用いられている。ここで、樹脂部35の上面(配線基板32の上方)には配線基板36が設けられ、配線基板36と配線基板32とが対向するように配置されている。この構成により、配線基板32と配線基板36との間に樹脂部35が形成されることとなる。ここで、配線基板36の上面には配線パターン36aが形成されている。本実施の形態において、配線基板36には、厚みが0.1mmの両面基板が用いられており、したがって、価格が安価であるので、低価格な部品内蔵基板31を実現できる。   An electronic component 3 a is embedded in the resin portion 35. In the present embodiment, an epoxy resin of a thermosetting resin is used for the resin 35a (shown in FIG. 2) of the resin portion 35. Here, a wiring board 36 is provided on the upper surface of the resin portion 35 (above the wiring board 32), and the wiring board 36 and the wiring board 32 are arranged to face each other. With this configuration, the resin portion 35 is formed between the wiring board 32 and the wiring board 36. Here, a wiring pattern 36 a is formed on the upper surface of the wiring substrate 36. In the present embodiment, a double-sided board having a thickness of 0.1 mm is used as the wiring board 36. Therefore, the price is low, so that a low-cost component-embedded board 31 can be realized.

なお、本実施の形態において、電子部品3aは配線基板32に装着されているが、これは配線基板36側へ装着してもよい。ただしその場合には電子部品3aが実装される配線基板36の厚みを、配線基板32よりも厚くしておくことが望ましい。   In the present embodiment, the electronic component 3a is mounted on the wiring board 32, but it may be mounted on the wiring board 36 side. However, in that case, it is desirable to make the thickness of the wiring board 36 on which the electronic component 3 a is mounted thicker than the wiring board 32.

本実施の形態においてスペーサ37(接続体の一例として用いた)の一方の端部が配線基板36へ固定されるとともに、他方端が配線基板32へ固定されている。本実施の形態におけるスペーサ37は四角柱形状であるが、これは円柱形状などのように上下面に平坦部を有した形状であれば良い。なお、このスペーサ37も、電子部品3aと同様に樹脂部35内に埋設されている。ただし、スペーサ37の高さは配線基板32に装着された電子部品3aの高さより高くしておく。つまり、電子部品3aと配線基板36との間にも樹脂部35が介在している。そして、本実施の形態において配線基板32と配線基板36において、スペーサ37が装着される位置には、それぞれ接続パッド32cと接続パッド36bとが形成されており、スペーサ37と接続パッド32cやスペーサ37と接続パッド36bとがはんだ38によって接続される。そしてこれにより、配線基板32(電子部品3aなどで形成される電子回路)と配線基板36とがスペーサ37を介して電気的に接続される。なお、配線基板32や配線基板36の上下面はそれぞれスルーホール(図示せず)などによって接続されている。   In the present embodiment, one end of the spacer 37 (used as an example of a connection body) is fixed to the wiring board 36 and the other end is fixed to the wiring board 32. The spacer 37 in the present embodiment has a quadrangular prism shape, but this may be a shape having flat portions on the upper and lower surfaces such as a cylindrical shape. The spacer 37 is also embedded in the resin portion 35 in the same manner as the electronic component 3a. However, the height of the spacer 37 is set higher than the height of the electronic component 3 a mounted on the wiring board 32. That is, the resin portion 35 is also interposed between the electronic component 3 a and the wiring board 36. In the present embodiment, connection pads 32c and connection pads 36b are formed at positions where the spacers 37 are mounted on the wiring board 32 and the wiring board 36, respectively. The spacers 37, the connection pads 32c, and the spacers 37 are formed. And the connection pad 36 b are connected by solder 38. As a result, the wiring board 32 (an electronic circuit formed of the electronic component 3 a or the like) and the wiring board 36 are electrically connected via the spacer 37. The upper and lower surfaces of the wiring board 32 and the wiring board 36 are connected by through holes (not shown).

なお、本実施の形態におけるスペーサ37は樹脂製であり、スペーサ37の上下面にはそれぞれ接続パッド37aが形成されている。これにより、接続パッド32cと接続パッド37aとの間や、接続パッド36bと接続パッド37aとの間が、はんだ38によって接続される。なお、スペーサ37の上下の接続パッド37a同士は、導電体(例えばスルーホール)によって電気的に接続されている。ここで本実施の形態では、樹脂製のスペーサ37を用いたが、これには金属片(例えば、黄銅などの金属板を切断して形成)や銅などによる金属製のボールなどを用いてもかまわない。このように導電性の金属片やボールは、非常に安価であるので、安価な部品内蔵基板31を得ることができる。ここで、部品内蔵基板31の4側面には切断面39が形成されている。   In addition, the spacer 37 in this Embodiment is resin, and the connection pad 37a is formed in the upper and lower surfaces of the spacer 37, respectively. Thereby, the connection between the connection pad 32c and the connection pad 37a and the connection pad 36b and the connection pad 37a are connected by the solder 38. The upper and lower connection pads 37a of the spacer 37 are electrically connected by a conductor (for example, a through hole). Here, in the present embodiment, the resin spacer 37 is used, but a metal piece (for example, formed by cutting a metal plate such as brass) or a metal ball made of copper or the like may be used. It doesn't matter. Since conductive metal pieces and balls are thus very inexpensive, an inexpensive component-embedded substrate 31 can be obtained. Here, cut surfaces 39 are formed on the four side surfaces of the component-embedded substrate 31.

次に本実施の形態における部品内蔵基板31の製造方法について、図面を用いて説明する。図2は本実施の形態における部品内蔵基板の製造フローチャートである。図2において、図1と同じものには同じ符号を用いており、その説明は簡略化している。部品内蔵基板31の製造方法には、組み立て工程41、樹脂部形成工程42、切除工程43、剥離工程44とを含み、図2に示した順序で行われる。なおここでは、電子部品3aが配線基板32側に実装される場合を代表として説明し、電子部品3aが配線基板36側に実装される場合の説明は割愛している。ただし、電子部品3aが配線基板36側へ実装される場合には、以下の説明において、配線基板32と配線基板36とが入れ替わることとなる。   Next, a manufacturing method of the component built-in substrate 31 in the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a manufacturing flowchart of the component built-in substrate in the present embodiment. 2, the same reference numerals are used for the same components as those in FIG. 1, and the description thereof is simplified. The manufacturing method of the component-embedded substrate 31 includes an assembly process 41, a resin part forming process 42, a cutting process 43, and a peeling process 44, which are performed in the order shown in FIG. Here, the case where the electronic component 3a is mounted on the wiring board 32 side will be described as a representative, and the case where the electronic component 3a is mounted on the wiring board 36 side will be omitted. However, when the electronic component 3a is mounted on the wiring board 36 side, the wiring board 32 and the wiring board 36 are interchanged in the following description.

図3は、組み立て工程における部品内蔵基板の側面図である。なお、図3において図1や図2と同じものには、同じ符号を用いており、その説明は簡略化している。図2、図3において大判配線基板45は、配線基板32と除去部45a(図5に示す)とを有している。一方大判配線基板46は、配線基板36と除去部46a(図5に示す)とを有している。なお、除去部45aは配線基板32の外周に連結され、除去部46aは配線基板36の外周に連結されている。   FIG. 3 is a side view of the component-embedded substrate in the assembly process. In FIG. 3, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified. 2 and 3, the large-sized wiring board 45 has a wiring board 32 and a removing portion 45a (shown in FIG. 5). On the other hand, the large-sized wiring board 46 includes a wiring board 36 and a removal portion 46a (shown in FIG. 5). The removal portion 45 a is connected to the outer periphery of the wiring substrate 32, and the removal portion 46 a is connected to the outer periphery of the wiring substrate 36.

まず組み立て工程41は、大判配線基板45と大判配線基板46との間をスペーサ37を介して電気的に接続する工程である。ここで、スペーサ37は一箇所へ集中させず、離散的に配置しておくとよい。本実施の形態では、大判配線基板45および大判配線基板46とスペーサ37との間は、リフローはんだ付けによって接続している。このとき、大判配線基板45(配線基板32)と大判配線基板46(配線基板36)とは、電子部品3aが部品内蔵基板31において内側を向く方向で配置される。ここで本実施の形態における配線基板32には、あらかじめ配線パターン32bが配線され、この配線パターン32bは接続パッド32cや配線パターン32aとスルーホール(図示せず)などによって接続されている。一方配線基板36にも、あらかじめ配線パターン36aが形成され、この配線パターン36aと接続パッド36bともスルーホール(図示せず)などによって接続されている。したがってこの工程において、大判配線基板45と大判配線基板46とは、配線パターン32bや配線パターン36aがともに外側となるように配置されることとなる。   First, the assembling step 41 is a step of electrically connecting the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46 via the spacers 37. Here, the spacers 37 may be arranged discretely without being concentrated in one place. In the present embodiment, the large-sized wiring board 45, the large-sized wiring board 46, and the spacer 37 are connected by reflow soldering. At this time, the large-sized wiring board 45 (wiring board 32) and the large-sized wiring board 46 (wiring board 36) are arranged in a direction in which the electronic component 3a faces inward in the component-embedded substrate 31. Here, a wiring pattern 32b is preliminarily wired on the wiring board 32 in the present embodiment, and the wiring pattern 32b is connected to the connection pad 32c or the wiring pattern 32a through a through hole (not shown). On the other hand, a wiring pattern 36a is also formed in advance on the wiring board 36, and the wiring pattern 36a and the connection pad 36b are also connected by a through hole (not shown). Therefore, in this step, the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46 are arranged so that both the wiring pattern 32b and the wiring pattern 36a are outside.

図4は、樹脂部形成工程における部品内蔵基板の断面図である。図4において、図1から図3と同じものには、同じ符号を用いており、その説明は簡略化している。図2に示したように、樹脂部形成工程42は組み立て工程41の後で行われる。この樹脂部形成工程42では、大判配線基板45と大判配線基板46との間に軟化させた熱硬化性の樹脂35aを充填した後に、この樹脂35aを加熱して硬化させることによって、樹脂部35を形成する工程である。ここで、スペーサ37は離散的に実装されているので、樹脂部形成工程42において樹脂35aは、スペーサ37同士の間を通り、大判配線基板45と大判配線基板46(配線基板36と配線基板32)との間に容易に充填されることとなる。本実施の形態では、後述する樹脂部形成装置51(図7に示す)を用いて樹脂部35を形成する方法を用いている(これについては、後に詳しく説明する)が、これはトランスファ成形や真空印刷などによる成形方法などを用いてもかまわない。   FIG. 4 is a cross-sectional view of the component-embedded substrate in the resin portion forming step. In FIG. 4, the same components as those in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified. As shown in FIG. 2, the resin part forming step 42 is performed after the assembly step 41. In this resin part forming step 42, after filling the soft thermosetting resin 35a between the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46, the resin part 35a is heated and cured to thereby form the resin part 35. Is a step of forming. Here, since the spacers 37 are discretely mounted, the resin 35a passes between the spacers 37 in the resin portion forming step 42, and the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46 (the wiring board 36 and the wiring board 32). ) Is easily filled. In the present embodiment, a method of forming the resin part 35 using a resin part forming apparatus 51 (shown in FIG. 7) described later is used (this will be described in detail later). A molding method such as vacuum printing may be used.

図5は、切除工程における部品内蔵基板の断面図である。図5において、図1から図4と同じものには、同じ符号を用いており、その説明は簡略化している。切除工程43は、図2に示すように樹脂部形成工程42の後で行われる。この切除工程43では、図5に示すように不要となる除去部45aや除去部46aを切除する工程である。このとき、除去部45aと除去部46aとの間や、大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)の外側に形成された不要な樹脂部35bも同時に切除されて、樹脂部35と不要な樹脂部35bとが切り離される。そしてこれによって、大判配線基板45、大判配線基板46から配線基板32、配線基板36がそれぞれ切り離され、部品内蔵基板31の側面に切断面39が形成される。これによって、所望のサイズと形状へと加工され、部品内蔵基板31の外形が形成される。   FIG. 5 is a cross-sectional view of the component built-in substrate in the cutting process. In FIG. 5, the same components as those in FIGS. 1 to 4 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified. The cutting step 43 is performed after the resin portion forming step 42 as shown in FIG. In this excision process 43, as shown in FIG. 5, the removal part 45a and the removal part 46a which become unnecessary are excised. At this time, an unnecessary resin portion 35b formed between the removal portion 45a and the removal portion 46a or on the outside of the large-sized wiring substrate 45 (or the large-sized wiring substrate 46) is also cut off at the same time, so The part 35b is cut off. As a result, the wiring substrate 32 and the wiring substrate 36 are separated from the large-sized wiring substrate 45 and the large-sized wiring substrate 46, respectively, and a cut surface 39 is formed on the side surface of the component-embedded substrate 31. As a result, it is processed into a desired size and shape, and the outer shape of the component-embedded substrate 31 is formed.

なお、この切除工程43において、不要な部分を切除するための切断工具としては、ダイシング歯やプレス金型などが用いられる。そして、配線基板32や配線基板36においてこれらの切断工具で切断される位置(領域)は、銅箔の不形成部としておくことが望ましい。これにより、切断工具が銅箔を切断しないので、切断工具の寿命が長くできる。また、部品内蔵基板31の側面(切断面39)に銅箔のバリなどを発生しにくくできる。   In the cutting step 43, a dicing tooth, a press die, or the like is used as a cutting tool for cutting off unnecessary portions. And the position (area | region) cut | disconnected with these cutting tools in the wiring board 32 or the wiring board 36 is desirable to set it as the copper foil non-formation part. Thereby, since a cutting tool does not cut | disconnect copper foil, the lifetime of a cutting tool can be lengthened. Further, it is possible to make it difficult for copper foil burrs to occur on the side surface (cut surface 39) of the component-embedded substrate 31.

ここで本来樹脂部形成工程42では、配線基板32と配線基板36との間に樹脂部35が形成されれば良い。しかし、一般的にこのような樹脂部形成工程42では、大判配線基板45の配線パターン32b側(あるいは大判配線基板46の配線パターン36a側)にも樹脂35aが付着し、配線パターン32b(あるいは配線パターン36a)が樹脂35aによって覆われてしまう。あるいは配線パターン32b側と配線パターン36a側の双方に樹脂35aが付着し、配線パターン32bや配線パターン36aが樹脂35aによって覆われてしまうこともある。   Here, originally, in the resin part forming step 42, the resin part 35 may be formed between the wiring board 32 and the wiring board 36. However, in general, in such a resin portion forming step 42, the resin 35a adheres to the wiring pattern 32b side of the large-sized wiring board 45 (or the wiring pattern 36a side of the large-sized wiring board 46), and the wiring pattern 32b (or wiring) The pattern 36a) is covered with the resin 35a. Alternatively, the resin 35a may adhere to both the wiring pattern 32b side and the wiring pattern 36a side, and the wiring pattern 32b and the wiring pattern 36a may be covered with the resin 35a.

そこで本発明では、樹脂部形成工程42において配線パターン32bや配線パターン36aが樹脂35aで覆われるのを防ぐために、樹脂部形成工程42の前に配線パターン32bまたは配線パターン36aあるいは配線パターン36aと配線パターン32bの双方の上に、剥離可能な粘着性フィルム47(低粘着フィルムあるいは再剥離フィルムとも言う)を貼り付ける。つまり、樹脂部形成工程42において、配線パターン32b側のみが樹脂35aで覆われるのであれば、配線パターン32b側のみに粘着性フィルム47を貼り付ければよい。逆に、配線パターン36a側のみが樹脂35aで覆われるのであれば、配線パターン36a側のみに粘着性フィルム47を貼り付ければよい。そして、配線パターン32b、配線パターン36aともに樹脂35aで覆われるのであれば、配線パターン32b、配線パターン36aが形成された面の双方に粘着性フィルム47を貼り付ける。   Therefore, in the present invention, in order to prevent the wiring pattern 32b and the wiring pattern 36a from being covered with the resin 35a in the resin portion forming step 42, the wiring pattern 32b, the wiring pattern 36a, or the wiring pattern 36a and the wiring are formed before the resin portion forming step 42. A peelable adhesive film 47 (also referred to as a low adhesive film or a re-peeling film) is pasted on both of the patterns 32b. That is, in the resin part forming step 42, if only the wiring pattern 32b side is covered with the resin 35a, the adhesive film 47 may be attached only to the wiring pattern 32b side. Conversely, if only the wiring pattern 36a side is covered with the resin 35a, the adhesive film 47 may be attached only to the wiring pattern 36a side. If both the wiring pattern 32b and the wiring pattern 36a are covered with the resin 35a, the adhesive film 47 is attached to both the surface on which the wiring pattern 32b and the wiring pattern 36a are formed.

このとき粘着性フィルム47は貼り付けられる配線基板32(あるいは配線基板36)より大きくしてある。すなわち、粘着性フィルム47は、配線基板32の配線パターン32b側(あるいは配線基板36の配線パターン36a側)の全面を覆い、さらに配線基板32(あるいは配線基板36)から除去部45a(あるいは除去部46a)へとまたがって(延在して)いる。本実施の形態において、粘着性フィルム47の大きさは、貼り付けられる大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)とほほ同じ大きさとしている。   At this time, the adhesive film 47 is made larger than the wiring substrate 32 (or the wiring substrate 36) to be attached. That is, the adhesive film 47 covers the entire surface of the wiring board 32 on the wiring pattern 32b side (or the wiring pattern 36a side of the wiring board 36), and further removes the removal portion 45a (or removal portion) from the wiring board 32 (or wiring board 36). 46a) (extending). In the present embodiment, the size of the adhesive film 47 is almost the same size as the large-sized wiring board 45 (or the large-sized wiring board 46) to be attached.

ここで、粘着性フィルム47は、基材と、この基材上に塗布された低粘着力の粘着剤とから構成されたものであり、粘着剤は組み立て工程41や樹脂部形成工程42において熱が加わった後でも硬化することなく、剥離可能な程度の粘着性を維持できるものである。また、本実施の形態において、粘着性フィルム47の基材には可撓性を有する基材を用いておくことが望ましい。さらに、なおこの粘着性フィルム47(基材)には、組み立て工程41や樹脂部形成工程42などで熱が加えられるので、耐熱性を有するPETなどが用いられる。   Here, the adhesive film 47 is composed of a base material and a low adhesive strength adhesive applied on the base material, and the adhesive is heated in the assembly process 41 and the resin part forming process 42. It is possible to maintain adhesiveness to the extent that it can be peeled without being cured even after the addition of. In the present embodiment, it is desirable to use a flexible base material for the base material of the adhesive film 47. Furthermore, since heat is applied to the adhesive film 47 (base material) in the assembly process 41, the resin part forming process 42, etc., heat-resistant PET or the like is used.

しかし、粘着性フィルム47を貼り付けた状態で樹脂部形成工程42を行うと、粘着性フィルム47が樹脂35aによって覆われてしまい(樹脂部35cが形成され)、粘着性フィルム47を剥がすことができなくなる。なお、このとき、樹脂部35cの厚みはなるべく薄くすることが望ましい。そこで本発明では、粘着性フィルム47を配線基板32(あるいは配線基板36)より大きくし、配線基板32から除去部45aへまたがるような大きさとしている。これにより、切除工程43では、除去部45a(あるいは除去部46a)に対応する位置の粘着性フィルム47や樹脂部35cも切除される。   However, if the resin part forming step 42 is performed with the adhesive film 47 attached, the adhesive film 47 is covered with the resin 35a (the resin part 35c is formed), and the adhesive film 47 may be peeled off. become unable. At this time, it is desirable to make the thickness of the resin portion 35c as thin as possible. Therefore, in the present invention, the adhesive film 47 is made larger than the wiring substrate 32 (or the wiring substrate 36), and is sized so as to extend from the wiring substrate 32 to the removal portion 45a. Thereby, in the cutting | disconnection process 43, the adhesive film 47 and the resin part 35c of the position corresponding to the removal part 45a (or removal part 46a) are also cut off.

図6は、剥離工程における部品内蔵基板の側面図である。図6において、図1から図5と同じものには、同じ符号を用い、その説明は簡略化している。図2に示したように、剥離工程44は、切除工程43の後に行われる。この剥離工程44は、図6に示すように粘着性フィルム47を配線基板32(あるいは配線基板36)から除去する。ただし、このとき粘着性フィルム47上の不要な樹脂部35cも同時に除去する。これにより、配線パターン32b(あるいは配線パターン36a)が露出し、部品内蔵基板31が完成する。ここで切除工程43での切除された状態では、粘着性フィルム47と配線基板32(あるいは配線基板36)との間が、剥離可能な粘着剤によって接着されている。したがって、剥離工程44では、配線基板32(あるいは配線基板36)から粘着性フィルム47を剥がせば、粘着性フィルム47や不要な樹脂部35cを容易に除去することができる。なお、本実施の形態における粘着性フィルム47は可撓性を有するので、粘着性フィルム47の端を指などでつまんで、引き剥がせば簡単に粘着性フィルム47を剥がすことができるので、さらに容易に粘着性フィルム47や不要な樹脂部35cを除去できる。   FIG. 6 is a side view of the component built-in substrate in the peeling process. In FIG. 6, the same components as those in FIGS. 1 to 5 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified. As shown in FIG. 2, the peeling process 44 is performed after the cutting process 43. In the peeling process 44, the adhesive film 47 is removed from the wiring board 32 (or the wiring board 36) as shown in FIG. However, the unnecessary resin part 35c on the adhesive film 47 is also removed at this time. Thereby, the wiring pattern 32b (or the wiring pattern 36a) is exposed, and the component built-in substrate 31 is completed. Here, in the cut state in the cutting step 43, the adhesive film 47 and the wiring board 32 (or the wiring board 36) are bonded to each other with a peelable adhesive. Therefore, in the peeling process 44, if the adhesive film 47 is peeled from the wiring substrate 32 (or the wiring substrate 36), the adhesive film 47 and the unnecessary resin portion 35c can be easily removed. In addition, since the adhesive film 47 in this Embodiment has flexibility, since the adhesive film 47 can be easily peeled off by pinching the edge of the adhesive film 47 with a finger or the like and peeling it off, The adhesive film 47 and the unnecessary resin part 35c can be easily removed.

以上のような製造方法を用いれば、プリプレグ13を積層することなく樹脂部35を容易に形成できるので、たとえば、トランスファ成形や真空印、さらには本実施の形態で示した成形方法などのように生産性の良好な成形方法を用いて部品内蔵基板31を得ることができるので、安価な部品内蔵基板31を得ることができる。さらに配線基板32と配線基板36との間は、スペーサ37によって電気的に接続されているので、従来のように別途この間を接続するスルーホール7を形成する必要もない。したがって、さらに生産性が良く、安価な部品内蔵基板31を実現できる。   If the manufacturing method as described above is used, the resin portion 35 can be easily formed without laminating the prepreg 13. For example, transfer molding, vacuum marking, and the molding method shown in the present embodiment, etc. Since the component-embedded substrate 31 can be obtained using a molding method with good productivity, an inexpensive component-embedded substrate 31 can be obtained. Further, since the wiring board 32 and the wiring board 36 are electrically connected by the spacer 37, it is not necessary to separately form the through hole 7 for connecting the wiring board 32 and the wiring board 36 as in the prior art. Therefore, it is possible to realize an inexpensive component-embedded substrate 31 with higher productivity.

それでは次に、本実施の形態における組み立て工程41について詳細に説明する。組み立て工程41には、フィルム貼り付け工程41aと、実装工程41bと、接続工程41cとを含んでいる。本実施の形態では、図2に示すように、配線パターン32b(あるいは配線パターン36a)に粘着性フィルム47を貼り付けるフィルム貼り付け工程41aを最初に行っている。これにより、実装工程41bよりも前に粘着性フィルム47が貼り付けられているので、実装工程41b以降の各工程において、粘着性フィルム47によって配線パターン32bを保護することができ、配線パターン32bの汚れ、傷や断線などを生じにくくできる。   Next, the assembly process 41 in the present embodiment will be described in detail. The assembly process 41 includes a film sticking process 41a, a mounting process 41b, and a connection process 41c. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, a film attaching step 41a for attaching the adhesive film 47 to the wiring pattern 32b (or the wiring pattern 36a) is first performed. Thereby, since the adhesive film 47 is affixed before the mounting process 41b, the wiring pattern 32b can be protected by the adhesive film 47 in each process after the mounting process 41b. Dirt, scratches and disconnection can be made difficult to occur.

実装工程41bは、フィルム貼り付け工程41aの後で、大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)において、電子部品3aを装着する配線パターンや接続パッド32cが形成された面側(図1において配線基板32の上面あるいは配線基板36の下面)へクリーム状のはんだ38を塗布し、部品装着機などにより電子部品3aを実装する。本実施の形態では、配線パターン32aや接続パッド32cにクリーム状のはんだ38が印刷されて、配線パターン32a上に電子部品3aが装着され、接続パッド32c上にスペーサ37が実装される。そしてリフロー加熱を行うことにより、配線基板32に電子部品3aやスペーサ37が接続される。なお本実施の形態では、電子部品の実装工程41bにおいて、電子部品3aの実装と同時にスペーサ37も装着されるので、非常に生産性が良好である。   In the mounting step 41b, after the film attaching step 41a, on the large-sized wiring board 45 (or the large-sized wiring board 46), the surface side on which the wiring pattern for mounting the electronic component 3a and the connection pads 32c are formed (the wiring in FIG. 1). A cream-like solder 38 is applied to the upper surface of the substrate 32 or the lower surface of the wiring substrate 36, and the electronic component 3a is mounted by a component mounting machine or the like. In the present embodiment, cream solder 38 is printed on the wiring pattern 32a and the connection pad 32c, the electronic component 3a is mounted on the wiring pattern 32a, and the spacer 37 is mounted on the connection pad 32c. The electronic component 3 a and the spacer 37 are connected to the wiring board 32 by performing reflow heating. In the present embodiment, since the spacer 37 is mounted simultaneously with the mounting of the electronic component 3a in the electronic component mounting step 41b, the productivity is very good.

接続工程41cは実装工程41bの後で、配線基板36と配線基板32とを接続する工程である。具体的には、配線基板36の接続パッド36bにクリーム状のはんだ38を塗布し、その後でスペーサ37が装着された配線基板32を装着し、加熱することにより、配線基板32と配線基板36との間がスペーサ37を介して電気的に接続されるようにする(このようして組み立て工程41が完了したものを、以降組み立て済み部品内蔵基板31aという)。   The connection process 41c is a process of connecting the wiring board 36 and the wiring board 32 after the mounting process 41b. Specifically, the solder paste 38 is applied to the connection pads 36b of the wiring board 36, and then the wiring board 32 on which the spacers 37 are mounted is mounted and heated, whereby the wiring board 32, the wiring board 36, and Are electrically connected to each other through the spacer 37 (the assembly step 41 thus completed is hereinafter referred to as an assembled component built-in substrate 31a).

なおこのとき、部品内蔵基板31のそりを小さくするために、接続工程41cにおいて大判配線基板46への大判配線基板45の搭載や、はんだ付け(加熱)は金属製のパレット49上で行われる。ここで大判配線基板46が載置されるパレット49の底面は平坦になっている。ここで、大判配線基板46はこのパレット49の底面上に、接続パッド36bが上側となる向きで搭載される。そしてこの大判配線基板46上に、スペーサ37を搭載済みの大判配線基板45が、スペーサ37(接続パッド37a)と接続パッド36bとが対向する(電子部品3aが内側を向く)向きで搭載される。このようにパレット49に搭載された状態で、大判配線基板46と大判配線基板45とは、加圧体48により大判配線基板45の上側から加圧される。そして、この加圧状態のままで加熱され、大判配線基板46と大判配線基板45とはスペーサ37を介して接続される。このようにすることで、大判配線基板45と大判配線基板46とをパレット49の平面に沿わせ、大判配線基板45や大判配線基板46(部品内蔵基板31)のそりを小さくできる。   At this time, in order to reduce the warp of the component built-in board 31, the large-sized wiring board 45 is mounted on the large-sized wiring board 46 and soldered (heated) on the metal pallet 49 in the connection step 41c. Here, the bottom surface of the pallet 49 on which the large-sized wiring board 46 is placed is flat. Here, the large-sized wiring board 46 is mounted on the bottom surface of the pallet 49 with the connection pads 36b facing upward. On the large-sized wiring board 46, the large-sized wiring board 45 on which the spacers 37 are already mounted is mounted with the spacers 37 (connection pads 37a) and the connection pads 36b facing each other (the electronic component 3a faces inward). . In this state, the large-sized wiring board 46 and the large-sized wiring board 45 are pressed from above the large-sized wiring board 45 by the pressurizing body 48 while being mounted on the pallet 49. And it heats with this pressurization state, and the large format wiring board 46 and the large format wiring board 45 are connected through the spacer 37. FIG. By doing so, the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46 are made to follow the plane of the pallet 49, and the warp of the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46 (component built-in board 31) can be reduced.

なお本実施の形態において加圧体48は、大判配線基板45の上側に搭載する金属製の重しであり、この重しの下面も平坦となっている。そして、この重しを搭載した状態で、リフロー炉へ投入して、加熱を行っている。なお、本実施の形態においてスペーサ37は樹脂製であるので、このスペーサ37の樹脂部分がストッパとしての役割も果たし、大判配線基板45と大判配線基板46との間の間隔が小さくならないように規制している。また、スペーサ37として、リフロー加熱によって溶融しないような金属製のボールや金属片などを用いた場合にも同様の効果を有することとなる。   In the present embodiment, the pressurizing body 48 is a metal weight mounted on the upper side of the large-sized wiring board 45, and the lower surface of this weight is also flat. And with this weight mounted, it is put into a reflow furnace and heated. In this embodiment, since the spacer 37 is made of resin, the resin portion of the spacer 37 also serves as a stopper, and the space between the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46 is restricted so as not to become small. is doing. Further, the same effect is obtained when a metal ball or a metal piece that does not melt by reflow heating is used as the spacer 37.

また本実施の形態において、配線基板36には両面(あるいは多層)基板を用いているので、配線基板36の下面側にも電子部品(図示せず)を装着できる。これにより、さら小型の部品内蔵基板31を実現できることとなる。そしてこれは、接続工程41cにおいて、配線基板36へ配線基板32を搭載する前に、配線基板36へ電子部品を装着しておくことで実現できる。なおこの場合、大判配線基板46へ電子部品を装着し、大判配線基板45を搭載した後に、電子部品と大判配線基板45(スペーサ37)とを同時にリフローはんだ付けすれば、非常に生産性が良好である。もちろん、接続工程41cの前に大判配線基板46に電子部品を実装する工程を設け、大判配線基板45へ電子部品をあらかじめリフローはんだ付けしておいてもかまわない。なお本実施の形態における接続工程41cでは、実装工程41bでスペーサ37を配線基板32へ実装したが、これはあらかじめ配線基板36の所定の位置へスペーサ37を固定しておいても良い。   In the present embodiment, since a double-sided (or multi-layer) board is used for the wiring board 36, electronic components (not shown) can be mounted on the lower surface side of the wiring board 36. As a result, a smaller component-embedded substrate 31 can be realized. This can be realized by mounting electronic components on the wiring board 36 before mounting the wiring board 32 on the wiring board 36 in the connection step 41c. In this case, if an electronic component is mounted on the large-sized wiring board 46 and the large-sized wiring board 45 is mounted, then the electronic component and the large-sized wiring board 45 (spacer 37) are simultaneously reflow-soldered. It is. Of course, a step of mounting electronic components on the large-sized wiring substrate 46 may be provided before the connecting step 41c, and the electronic components may be reflow soldered to the large-sized wiring substrate 45 in advance. In the connection step 41c in the present embodiment, the spacer 37 is mounted on the wiring board 32 in the mounting step 41b. However, the spacer 37 may be fixed to a predetermined position on the wiring board 36 in advance.

本実施の形態では、組み立て工程41の最初にフィルム貼り付け工程41aを行った。この場合、粘着性フィルム47の粘着剤には、部品内蔵基板31の完成までに少なくとも3回の熱履歴が加わることとなる。そこでこのような繰り返しの加熱によって、粘着剤の粘着力が劣化するような場合がある。これは、たとえば、はんだ38に高融点のはんだを用いた場合や、樹脂35aに融点の高い樹脂を用いた場合に発生しやすくなる。このような場合、最悪樹脂部形成工程42において、粘着性フィルム47の周縁部などが剥離し、この部分に樹脂35aが付着してしまうことが考えられる。そこでこのような剥離の発生を少なくするためには、フィルム貼り付け工程41aを接続工程41cと樹脂部形成工程42との間に行うとよい。これによれば、粘着性フィルム47にかかる熱履歴を1回とできるので、樹脂部形成工程42において粘着性フィルム47のはく離が発生しにくくなる。いずれにしても、フィルム貼り付け工程41aは少なくとも樹脂部形成工程42より前に行えばよいわけであるので、フィルム貼り付け工程41aを実装工程41bと接続工程41cの間に行っても良く、この場合にも粘着剤に加わる熱履歴を減らすことができる。そしてこのように、フィルム貼り付け工程41aを実装工程41bより後で行う場合、樹脂部形成工程42での粘着性フィルム47の剥がれを防止するために、粘着性フィルム47を貼り付ける前に洗浄などを行うことが望ましい。   In the present embodiment, the film sticking step 41 a is performed at the beginning of the assembly step 41. In this case, at least three heat histories are added to the adhesive of the adhesive film 47 until the component-embedded substrate 31 is completed. Therefore, the adhesive force of the adhesive may be deteriorated by such repeated heating. This is likely to occur, for example, when a high melting point solder is used for the solder 38 or when a high melting point resin is used for the resin 35a. In such a case, in the worst resin portion forming step 42, the peripheral portion of the adhesive film 47 may be peeled off, and the resin 35a may adhere to this portion. Therefore, in order to reduce the occurrence of such peeling, the film attaching step 41a is preferably performed between the connecting step 41c and the resin portion forming step. According to this, since the heat history concerning the adhesive film 47 can be made once, it is difficult for the adhesive film 47 to be peeled off in the resin part forming step 42. In any case, the film adhering step 41a may be performed at least before the resin portion forming step 42. Therefore, the film adhering step 41a may be performed between the mounting step 41b and the connecting step 41c. Even in this case, the heat history applied to the adhesive can be reduced. In this way, when the film attaching step 41a is performed after the mounting step 41b, in order to prevent the adhesive film 47 from peeling off in the resin portion forming step 42, washing or the like is performed before attaching the adhesive film 47. It is desirable to do.

次に本実施の形態において用いた樹脂部形成工程42について、図面を用いて詳細に説明する。最初に本実施の形態の樹脂部形成工程42において、樹脂部35を形成するために用いる樹脂部形成装置51について説明する。図7は、本実施の形態における樹脂部形成装置の概略断面図であり、図8は本実施の形態における樹脂部形成工程の製造フローチャートであり、図9は軟化工程における樹脂部形成装置の断面図である。これらの図7から図9において、図1から図6と同じものには同じ符号を用い、その説明は簡略化している。なお図7、図9において、組み立て済み部品内蔵基板31aが樹脂部形成装置51に設置された状態で、組み立て済み部品内蔵基板31aの上側となる面を、以降の実施の形態では、設置状態での上面という。逆に、組み立て済み部品内蔵基板31aが樹脂部形成装置51に設置された状態において、組み立て済み部品内蔵基板31aの下側となる面を、以降の実施の形態では、設置状態での下面という。   Next, the resin part formation process 42 used in this Embodiment is demonstrated in detail using drawing. First, the resin part forming apparatus 51 used for forming the resin part 35 in the resin part forming step 42 of the present embodiment will be described. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the resin part forming apparatus in the present embodiment, FIG. 8 is a manufacturing flowchart of the resin part forming process in the present embodiment, and FIG. 9 is a cross section of the resin part forming apparatus in the softening process. FIG. 7 to 9, the same reference numerals are used for the same components as in FIGS. 1 to 6, and the description thereof is simplified. 7 and 9, the surface on the upper side of the assembled component built-in substrate 31 a in a state where the assembled component built-in substrate 31 a is installed in the resin part forming apparatus 51, in the following embodiments, in the installed state. It is called the top surface. Conversely, in the state where the assembled component built-in substrate 31a is installed in the resin part forming apparatus 51, the surface that is the lower side of the assembled component built-in substrate 31a is referred to as the lower surface in the installed state in the following embodiments.

搭載部52は、組み立て済み部品内蔵基板31aが搭載されるものであり、搭載部52の搭載面(下面)に組み立て済み部品内蔵基板31aを吸着する構成である。具体的には、設置状態での上面が、搭載部52によって直接吸着されるので、設置状態での上面と搭載部52との間には隙間がなく、樹脂35aが浸入しない。これにより設置状態での上面には樹脂35aが付着することがないので、設置状態での上面には粘着性フィルム47を貼り付ける必要はない。これにより、フィルム貼り付け工程41aでは、設置状態での上面側に粘着性フィルム47を貼り付ける必要がなく、一方にのみ粘着性フィルム47を貼り付ければよい。フィルム貼り付け工程41aでの粘着性フィルム47の貼り付け工数を短くできるので、生産性が良好となる。つまり、本実施の形態における樹脂部形成工程42では、フィルム貼り付け工程41aでは、大判配線基板45と大判配線基板46との少なくともいずれか一方にのみ粘着性フィルム47を貼り付ければよい。そして、組み立て済み部品内蔵基板31aは、粘着性フィルム47が貼り付けられた側が下方を向く方向で搭載部52へ搭載されることとなる。   The mounting part 52 is configured to mount the assembled component built-in substrate 31a, and is configured to adsorb the assembled component built-in substrate 31a to the mounting surface (lower surface) of the mounting unit 52. Specifically, since the upper surface in the installed state is directly adsorbed by the mounting portion 52, there is no gap between the upper surface in the installed state and the mounting portion 52, and the resin 35a does not enter. As a result, the resin 35a does not adhere to the upper surface in the installed state, and therefore it is not necessary to attach the adhesive film 47 to the upper surface in the installed state. Thereby, in the film sticking process 41a, it is not necessary to stick the adhesive film 47 on the upper surface side in the installation state, and the adhesive film 47 may be attached only to one side. Since the number of steps for attaching the adhesive film 47 in the film attaching step 41a can be shortened, productivity is improved. That is, in the resin part forming step 42 in the present embodiment, the adhesive film 47 may be attached only to at least one of the large size wiring substrate 45 and the large size wiring substrate 46 in the film attaching step 41a. Then, the assembled component built-in substrate 31a is mounted on the mounting portion 52 in such a direction that the side on which the adhesive film 47 is attached faces downward.

本実施の形態においては、配線パターン32b上と配線パターン36a上のいずれの側の面に粘着性フィルム47を貼り付けてもかまわない。ここでは、大判配線基板46の配線パターン36a側を搭載部52へ装着する場合を代表として説明する。つまりこの場合、組み立て済み部品内蔵基板31aは、配線パターン32b側の面が搭載状態での上面となり、配線パターン36a側の面が搭載状態での下面となるように、搭載部52へ載置される。つまりは、組み立て済み部品内蔵基板31aは、大判配線基板45が下方を向く方向で載置されることとなる。したがって、本実施の形態におけるフィルム貼り付け工程41aでは、大判配線基板46の配線パターン36a側には粘着性フィルム47を貼り付けず、大判配線基板45の配線パターン32b側に対してのみ、粘着性フィルム47を貼り付ける。   In the present embodiment, the adhesive film 47 may be attached to the surface on either side of the wiring pattern 32b or the wiring pattern 36a. Here, the case where the wiring pattern 36a side of the large-sized wiring board 46 is mounted on the mounting portion 52 will be described as a representative. That is, in this case, the assembled component built-in substrate 31a is placed on the mounting portion 52 so that the surface on the wiring pattern 32b side is the upper surface in the mounted state and the surface on the wiring pattern 36a side is the lower surface in the mounted state. The That is, the assembled component built-in board 31a is placed in a direction in which the large-sized wiring board 45 faces downward. Therefore, in the film pasting step 41a in the present embodiment, the adhesive film 47 is not pasted on the wiring pattern 36a side of the large format wiring board 46, and only the wiring pattern 32b side of the large format wiring board 45 is tacky. A film 47 is pasted.

なお、ここでは、配線パターン36a側を搭載部52へ装着したが、これは配線パターン36a側に粘着性フィルム47を貼り付け、配線パターン32b側が装着状態での上側となるように、組み立て済み部品内蔵基板31aを搭載部52へ搭載してもよい。なおこの場合、配線パターン32b側には粘着性フィルム47を貼り付けなくてもよい。そして、これらいずれの場合においても、搭載状態で上側となる配線パターン(32bあるいは36a)の汚れ・欠損などを防止したい場合には、搭載状態で上側となる配線パターン(32bあるいは36a)に対しても粘着性フィルム47を貼り付けるとよい。   Here, the wiring pattern 36a side is mounted on the mounting portion 52, but this is an assembled part so that the adhesive film 47 is attached to the wiring pattern 36a side and the wiring pattern 32b side is the upper side in the mounted state. The built-in substrate 31a may be mounted on the mounting portion 52. In this case, the adhesive film 47 may not be attached to the wiring pattern 32b side. In any of these cases, when it is desired to prevent the wiring pattern (32b or 36a) on the upper side in the mounted state from being stained or missing, the wiring pattern (32b or 36a) on the upper side in the mounted state is prevented. Also, an adhesive film 47 may be attached.

搭載部52の下方には、上方に開口部を有し、樹脂35aが投入される空間を有した樹脂槽53が設けられている。ここで、樹脂槽53は上下方向へと可動する。また、樹脂槽53の底部53aは、樹脂槽53全体の動きとは独立して、単独に垂直方向(図9の矢印方向)へ可動できる構造となっている。そしてこれら搭載部52や樹脂槽53には加熱手段(図示せず)が設けられており、これらによって樹脂35a(さらには配線基板36、配線基板32)を加熱する。また、樹脂部形成装置51にはコンプレッサ(図示せず)などが設けられ、樹脂槽53内や樹脂槽53と搭載部52との間の空気を吸引することで、樹脂部35の形成をほぼ真空状態下で行うことができるようになっている。これにより溶融した樹脂35aを脱泡し、樹脂部35中のボイドを防止できる。   Below the mounting portion 52, there is provided a resin tank 53 having an opening on the upper side and a space into which the resin 35a is poured. Here, the resin tank 53 is movable in the vertical direction. Further, the bottom 53a of the resin tank 53 has a structure that can move independently in the vertical direction (the arrow direction in FIG. 9) independently of the movement of the entire resin tank 53. The mounting portion 52 and the resin tank 53 are provided with heating means (not shown), and the resin 35a (and the wiring board 36 and the wiring board 32) are heated by these means. In addition, the resin portion forming apparatus 51 is provided with a compressor (not shown) and the like, and the air between the resin tank 53 and between the resin tank 53 and the mounting portion 52 is sucked to substantially form the resin portion 35. It can be performed under vacuum conditions. As a result, the molten resin 35a is defoamed, and voids in the resin portion 35 can be prevented.

次に上記のような樹脂部形成装置51を用いた場合の樹脂部形成工程42について、図8の工程の順序に従って、詳細に説明する。図8、図9において、軟化工程61は組み立て工程41の後で、組み立て済み基板31aを所定の方向にて搭載部52へ搭載するとともに、樹脂槽53内へ非流動状態(未溶融の固体またはゲル状)の樹脂35aを投入し、加熱して樹脂35aを流動可能な状態となるまで軟化させる工程である。ここで、組み立て済み部品内蔵基板31aを搭載部52へ搭載する方向は、上でも説明したように、大判配線基板45が下方を向く方向で搭載される。そしてこの工程では、この処理と並行して、樹脂35aと搭載部52(配線基板36と配線基板32や配線基板32と樹脂35a)との間の空間54の空気が吸引される。この吸引は空間54がほぼ真空状態となるまで行われ、樹脂35aが完全に溶融を完了した後に止められる。なお本実施の形態における樹脂槽53や搭載部52は予め樹脂35aが溶融する温度にまで加熱しているので、短時間に樹脂35aを軟化させることができる。   Next, the resin part forming step 42 in the case of using the resin part forming apparatus 51 as described above will be described in detail according to the order of the steps in FIG. 8 and 9, the softening step 61 mounts the assembled substrate 31 a on the mounting portion 52 in a predetermined direction after the assembly step 41, and in a non-flowing state (unmelted solid or This is a step in which resin 35a in a gel state is charged and heated to soften resin 35a until it becomes flowable. Here, as described above, the large component wiring board 45 is mounted in the direction in which the assembled component built-in substrate 31a is mounted on the mounting portion 52. In this process, in parallel with this process, the air in the space 54 between the resin 35a and the mounting portion 52 (the wiring board 36 and the wiring board 32, or the wiring board 32 and the resin 35a) is sucked. This suction is performed until the space 54 is almost in a vacuum state, and is stopped after the resin 35a is completely melted. In addition, since the resin tank 53 and the mounting part 52 in this Embodiment are heated to the temperature which the resin 35a fuse | melts previously, the resin 35a can be softened in a short time.

また本実施の形態において、樹脂槽53へ投入前の樹脂35aは粒状であり、計量容器などによって計量された所定量の樹脂35aが樹脂槽53へと投入される。ここで樹脂35aは、第1の温度範囲内では流動性を有せず、この第1の温度より高い第2の温度範囲内では流動性を生じ、この第2の温度より高い温度で硬化する熱硬化性樹脂を用いる。このように樹脂35aを樹脂槽53へ投入する段階で、樹脂35aは粒状であるので、精度良く計量することができる。また、計量や投入の自動化も容易である。   In the present embodiment, the resin 35 a before being charged into the resin tank 53 is granular, and a predetermined amount of resin 35 a measured by a measuring container or the like is charged into the resin tank 53. Here, the resin 35a does not have fluidity within the first temperature range, but has fluidity within the second temperature range higher than the first temperature, and is cured at a temperature higher than the second temperature. A thermosetting resin is used. Thus, since the resin 35a is granular at the stage of charging the resin 35a into the resin tank 53, it can be accurately measured. It is also easy to automate weighing and charging.

発明者らはこの樹脂部形成装置51を用いて、以下のような手順で軟化工程61を行った。予め加熱手段によって搭載部52と樹脂槽53との温度を樹脂35aが溶融する(流動性を生じる)温度以上であり、樹脂35aが硬化する温度範囲未満の温度(第2の温度範囲)となるように加熱しておく。本実施の形態における樹脂35aは、約140℃未満の温度では流動性が小さく、約140℃から約175℃において最も軟化して流動性を生じ、それを超える温度で硬化する(第3の温度範囲)エポキシ系の熱硬化性樹脂を用いている。したがって本実施の形態では、搭載部52と樹脂槽53との温度を第2の温度範囲上限の175℃に設定している。   The inventors performed the softening step 61 using the resin part forming apparatus 51 in the following procedure. The temperature of the mounting portion 52 and the resin tank 53 is higher than the temperature at which the resin 35a melts (generates fluidity) in advance by the heating means, and is lower than the temperature range at which the resin 35a is cured (second temperature range). Keep it heated. The resin 35a in the present embodiment has low fluidity at a temperature of less than about 140 ° C, softens most from about 140 ° C to about 175 ° C, generates fluidity, and cures at a temperature exceeding that (third temperature). Range) Epoxy thermosetting resin is used. Therefore, in this Embodiment, the temperature of the mounting part 52 and the resin tank 53 is set to 175 degreeC of the 2nd temperature range upper limit.

図8において、浸漬工程62は軟化工程61の後で、流動可能な状態に溶融した樹脂35aの中に、電子部品3aを浸漬し、配線基板36の下面を溶融した樹脂35aの液面へと接触させる工程である。そしてこの工程は、例えば以下のようにして行われる。   In FIG. 8, after the softening step 61, the dipping step 62 dipped the electronic component 3a in the resin 35a melted in a flowable state, and the lower surface of the wiring board 36 was melted to the liquid level of the molten resin 35a. It is a process of making it contact. And this process is performed as follows, for example.

図10は、本実施の形態の浸漬工程における樹脂部形成装置の断面図である。図10において、樹脂槽53と底部53aとをほぼ同じ速度で上方(図9矢印方向)へ移動させて、大判配線基板46の外周部(除去部46aの外周部)が、樹脂槽53と搭載部52との間に挟まれるようにする。そのために、本実施の形態では、組み立て済み部品内蔵基板31aを樹脂部形成装置51へ設置した状態で上側となる大判配線基板(この説明中では大判配線基板46)は、設置した状態で下側となる大判配線基板(この説明の中では大判配線基板45)よりも大きくしている。   FIG. 10 is a cross-sectional view of the resin part forming apparatus in the dipping process of the present embodiment. In FIG. 10, the resin tank 53 and the bottom 53a are moved upward (in the direction of the arrow in FIG. 9) at substantially the same speed, so that the outer periphery of the large-sized wiring board 46 (the outer periphery of the removal section 46a) is mounted on the resin tank 53. It is sandwiched between the parts 52. Therefore, in the present embodiment, the large-sized wiring board (the large-sized wiring board 46 in this description) that is the upper side in a state where the assembled component built-in substrate 31a is installed in the resin portion forming apparatus 51 is the lower side in the installed state. Is larger than the large-sized wiring board (large-sized wiring board 45 in this description).

つまり、この代表説明において、大判配線基板46の外周部は、大判配線基板45の4辺方向において、大判配線基板45の外周部から突出させることとなる。したがって、この大判配線基板46の突出部分(外周部)が、樹脂槽53と搭載部52との間に挟まれ、樹脂槽53の開口部は大判配線基板46によって塞がれることとなる。そしてこのとき、大判配線基板45は樹脂槽53の開口部より小さくし、樹脂槽53内に収まる程度の大きさとしておくことで、大判配線基板45は樹脂槽53内に収容される。なおこの代表例では、大判配線基板46を設置状態で上側としたが、これは大判配線基板45を設置状態で上側となるように配置してもよい。ただしこの場合、大判配線基板45によって開口部が塞がれ、大判配線基板46が樹脂槽53へ収容されるようにする。なおこの場合、粘着性フィルム47は少なくとも配線パターン36a側へ貼り付けることとなる。   That is, in this representative description, the outer peripheral portion of the large-sized wiring substrate 46 is projected from the outer peripheral portion of the large-sized wiring substrate 45 in the four side directions of the large-sized wiring substrate 45. Therefore, the protruding portion (outer peripheral portion) of the large-sized wiring substrate 46 is sandwiched between the resin tank 53 and the mounting portion 52, and the opening of the resin tank 53 is blocked by the large-sized wiring substrate 46. At this time, the large-sized wiring board 45 is made smaller than the opening of the resin tank 53 and is large enough to be accommodated in the resin tank 53, so that the large-sized wiring board 45 is accommodated in the resin tank 53. In this representative example, the large-sized wiring board 46 is set on the upper side in the installed state. However, the large-sized wiring board 45 may be arranged on the upper side in the installed state. However, in this case, the opening is closed by the large-sized wiring board 45 so that the large-sized wiring board 46 is accommodated in the resin tank 53. In this case, the adhesive film 47 is attached to at least the wiring pattern 36a side.

なおこのとき、樹脂槽53と大判配線基板46の下面との間に隙間が生じないようにすることが必要であり、そのために樹脂槽53において、大判配線基板46の下面と当接する箇所にはゴムパッキン(図示せず)などが設けられる。そして、樹脂槽53は規定の位置(樹脂槽53が大判配線基板46と当接する位置)まで上昇した後に停止する。なおこの状態では、図10に示すように樹脂35aの液面は、大判配線基板46の下面とはまだ接触しないようにしてある。これにより、樹脂35aが樹脂槽53から溢れ出すことを少なくできる。   At this time, it is necessary to prevent a gap from being formed between the resin tank 53 and the lower surface of the large-sized wiring board 46. Therefore, in the resin tank 53, there is no place in contact with the lower surface of the large-sized wiring board 46. A rubber packing (not shown) or the like is provided. Then, the resin tank 53 stops after rising to a specified position (position where the resin tank 53 contacts the large-sized wiring board 46). In this state, as shown in FIG. 10, the liquid level of the resin 35 a is not yet in contact with the lower surface of the large-sized wiring board 46. Thereby, it is possible to reduce the overflow of the resin 35a from the resin tank 53.

ただしこのとき、樹脂部形成装置51へ搭載された状態における下側の大判配線基板(この代表例では、大判配線基板45)に電子部品3aが実装されている場合、電子部品3aと搭載された状態における下側の大判配線基板との間の隙間が樹脂35aの液面より下となる(電子部品3aと搭載された状態における下側の大判配線基板との間の隙間が樹脂35a内に浸漬される)ようにすることが望ましい。この理由についても代表例を用いて説明する。これは、少なくとも電子部品3aと大判配線基板45との間の隙間が樹脂35a内に浸漬されるようにすることで、樹脂35aを電子部品3aと大判配線基板45(配線基板32)との間などの狭い隙間へ入り込ませるためである。そしてこれによって、後述する圧縮流入工程63において、電子部品3aと大判配線基板45(配線基板32)との間の非常に狭い隙間へ、樹脂35aを確実に充填させることができることとなる。なお、本実施の形態における浸漬工程62では、電子部品3aの上面が樹脂35aで覆われる程度まで浸漬している。   However, at this time, when the electronic component 3a is mounted on the lower large-sized wiring board (in this representative example, the large-sized wiring board 45) in a state of being mounted on the resin portion forming apparatus 51, the electronic component 3a is mounted. The gap between the lower large wiring board in the state is lower than the liquid level of the resin 35a (the gap between the electronic component 3a and the lower large wiring board in the mounted state is immersed in the resin 35a. It is desirable to do so. This reason will also be described using a representative example. This is because at least a gap between the electronic component 3a and the large-sized wiring substrate 45 is immersed in the resin 35a, so that the resin 35a is placed between the electronic component 3a and the large-sized wiring substrate 45 (wiring substrate 32). This is to allow entry into narrow gaps. As a result, the resin 35a can be reliably filled into a very narrow gap between the electronic component 3a and the large-sized wiring board 45 (wiring board 32) in the compression inflow process 63 described later. In the dipping process 62 in the present embodiment, the dipping process 62 is dipped until the upper surface of the electronic component 3a is covered with the resin 35a.

ただし、樹脂部形成装置51へ搭載された状態における上側の大判配線基板(この代表例では、大判配線基板46)に電子部品3aが実装されている場合、電子部品3aは樹脂35aの液面と接触させておくことが望ましい。これは、樹脂35aの表面張力によって、樹脂35aが電子部品3aの側面に沿って這い上がることや、あるいはその一部が、電子部品3aと上側の大判配線基板(大判配線基板46)との間の狭い隙間へ入り込むことが発生し、後の圧縮流入工程63において樹脂35aが電子部品3aと上側の大判配線基板(大判配線基板46)との間の非常に狭い隙間へ充填され易くなるためである。   However, when the electronic component 3a is mounted on the upper large-sized wiring substrate (in this representative example, the large-sized wiring substrate 46) mounted on the resin portion forming apparatus 51, the electronic component 3a is connected to the liquid surface of the resin 35a. It is desirable to keep it in contact. This is because the resin 35a crawls up along the side surface of the electronic component 3a due to the surface tension of the resin 35a, or a part thereof is between the electronic component 3a and the upper large-sized wiring board (large-sized wiring board 46). Because the resin 35a is likely to be filled into a very narrow gap between the electronic component 3a and the upper large-sized wiring board (large-sized wiring board 46) in the subsequent compression inflow process 63. is there.

そして浸漬工程62では、樹脂槽53の移動が停止した後も、底部53aはさらに上方へと移動を続ける。これによって、樹脂35aの液面と大判配線基板46の下面とが接触することとなる。なお、この浸漬工程62において、樹脂35aを大判配線基板45(配線基板32)と大判配線基板46(配線基板36)との間の隙間へ充填することが必要である。そこで、本実施の形態では、配線基板32と樹脂槽53との間に樹脂35aが流れ込むための通路(隙間)が設けられている。これにより、大判配線基板45の側面と樹脂槽53の内面との間の通路を通って、樹脂35aが大判配線基板45と大判配線基板46との間に流れ込むこととなる。   In the dipping process 62, the bottom 53a continues to move upward even after the movement of the resin tank 53 is stopped. As a result, the liquid level of the resin 35a and the lower surface of the large-sized wiring substrate 46 come into contact with each other. In the dipping process 62, it is necessary to fill the gap between the large-sized wiring board 45 (wiring board 32) and the large-sized wiring board 46 (wiring board 36) with the resin 35a. Therefore, in the present embodiment, a passage (gap) for the resin 35a to flow between the wiring board 32 and the resin tank 53 is provided. As a result, the resin 35 a flows between the large-sized wiring substrate 45 and the large-sized wiring substrate 46 through the passage between the side surface of the large-sized wiring substrate 45 and the inner surface of the resin tank 53.

さらに、スペーサ37を離散的配置することにより、樹脂はスペーサ37同士の間の隙間を通り、大判配線基板45と大判配線基板46との間に樹脂35aがスムーズに充填される。このように浸漬工程62では、大判配線基板45が浸漬されるだけであるので、樹脂35aの流れが小さく、樹脂35aによる大判配線基板45や、電子部品3aへのストレスも小さくできる。したがって、電子部品3a自身の破壊や、電子部品3aと配線基板32(あるいは配線基板36)間の接続が破壊しにくくできる。さらには、場所による樹脂35aに含まれるフィラーの密度などの差(樹脂35aの組成の差)が生じにくくできる。したがって、大判配線基板45(配線基板32)や大判配線基板46(配線基板36)の反りなども小さくできるので、そりの小さな部品内蔵基板31を実現できる。   Further, by arranging the spacers 37 in a discrete manner, the resin passes through the gaps between the spacers 37, and the resin 35 a is smoothly filled between the large-sized wiring substrate 45 and the large-sized wiring substrate 46. Thus, in the dipping process 62, since the large-sized wiring board 45 is only immersed, the flow of the resin 35a is small, and the stress on the large-sized wiring board 45 and the electronic component 3a by the resin 35a can be reduced. Therefore, the destruction of the electronic component 3a itself and the connection between the electronic component 3a and the wiring board 32 (or the wiring board 36) can be hardly broken. Furthermore, a difference in the density of the filler contained in the resin 35a depending on the location (difference in the composition of the resin 35a) can hardly occur. Accordingly, the warpage of the large-sized wiring board 45 (wiring board 32) and the large-sized wiring board 46 (wiring board 36) can be reduced, so that the component-embedded board 31 with a small warp can be realized.

図11は、圧縮流入工程63における樹脂部形成装置51の断面図である。浸漬工程62において大判配線基板46の下面と樹脂35aとが接触するので、図11に示すように、浸漬工程62が完了すれば、一見樹脂35aの充填は完了したように見える。ところが、電子部品3aと大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)の間の隙間は非常に狭いため、中には樹脂35aが充填されていない箇所(未充填の隙間49)も存在している。   FIG. 11 is a cross-sectional view of the resin part forming apparatus 51 in the compression inflow process 63. Since the lower surface of the large-sized wiring board 46 and the resin 35a come into contact with each other in the dipping process 62, as shown in FIG. 11, when the dipping process 62 is completed, it seems that the filling of the resin 35a is completed. However, since the gap between the electronic component 3a and the large-sized wiring board 45 (or the large-sized wiring board 46) is very narrow, there is a portion not filled with the resin 35a (unfilled gap 49). .

そこで、浸漬工程62の後で圧縮流入工程63を行なう。この圧縮流入工程63では底部53aによって樹脂35aに対し上方へと(図9矢印方向へ)加重を加え、樹脂35aを圧縮し、この圧力によって未充填の隙間49へ樹脂35aを強制的に流入させる。このとき、樹脂槽53と大判配線基板46とで囲まれた空間は、大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)と電子部品3aとの間の隙間の未充填の隙間49を除き、樹脂35aによって埋まっている。従って、樹脂35aを圧縮しても底部53aはほとんど上昇することはなく、樹脂35aの圧力のみが上昇することとなる。そして、この圧力が規定値となるまで加圧を続け、その圧力になったときに底部53aの移動を停止し、その圧力を規定時間だけ維持する。なお、この圧縮流入工程63において樹脂35aの温度は、第2の温度範囲内とすることが重要である。これにより、未充填の隙間49へ確実に樹脂35aを充填させることができる。   Therefore, the compression inflow step 63 is performed after the immersion step 62. In this compression inflow step 63, a load is applied to the resin 35a upward (in the direction of the arrow in FIG. 9) by the bottom 53a, the resin 35a is compressed, and the resin 35a is forced to flow into the unfilled gap 49 by this pressure. . At this time, the space surrounded by the resin tank 53 and the large-sized wiring board 46 is the resin 35a except for the unfilled gap 49 between the large-sized wiring board 45 (or the large-sized wiring board 46) and the electronic component 3a. Is buried by. Therefore, even if the resin 35a is compressed, the bottom 53a hardly rises, and only the pressure of the resin 35a rises. Then, pressurization is continued until the pressure reaches a specified value. When the pressure reaches the specified value, the movement of the bottom 53a is stopped, and the pressure is maintained for a specified time. In the compression inflow process 63, it is important that the temperature of the resin 35a is within the second temperature range. Thereby, the resin 35a can be reliably filled into the unfilled gap 49.

粘着性フィルム47は後ほど剥がすものであるので、本来は圧縮流入工程63において、粘着性フィルム47と底部53aとの間には樹脂35aがないことが望ましい。しかし、そのためには、底部53aと粘着性フィルム47との間の距離を0とすることが必要となる。しかしながら実際には、はんだ38の供給量、粘着性フィルム47の厚み、スペーサ37の高さ、大判配線基板45や大判配線基板46の厚みなどにはばらつきがあり、組み立て済み部品内蔵基板31aの高さにはばらつきが存在する。したがって最悪時、底部53aが組み立て済み部品内蔵基板31aへ当たり、底部53aによる圧縮力が、大判配線基板45や大判配線基板46に加わり、スペーサ37と大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)との間を接続するはんだや、大判配線基板45あるいは大判配線基板46自身などにクラックが発生する可能性がある。そこで、本実施の形態では圧縮流入工程63において、底部53aが組み立て済み部品内蔵基板31a(大判配線基板45)に当たらないようにしている。つまり、粘着性フィルム47と底部53aとの間に樹脂35aを残すことで、底部53aの圧縮力が直接大判配線基板45へ加わることを防ぐことができ、信頼性の高い部品内蔵基板31を得ることができる。そして、この粘着性フィルム47と底部53aとの間の樹脂35aが、後述する硬化工程64で硬化することによって樹脂部35cが形成されることとなる。   Since the adhesive film 47 is to be peeled off later, originally, it is desirable that the resin 35a is not present between the adhesive film 47 and the bottom 53a in the compression inflow step 63. However, for that purpose, it is necessary to set the distance between the bottom 53a and the adhesive film 47 to zero. However, actually, there are variations in the supply amount of the solder 38, the thickness of the adhesive film 47, the height of the spacer 37, the thickness of the large-sized wiring board 45 and the large-sized wiring board 46, and the like. There is a variation in size. Therefore, at the worst, the bottom 53a hits the assembled component built-in board 31a, and the compressive force by the bottom 53a is applied to the large wiring board 45 and the large wiring board 46, and the spacer 37 and the large wiring board 45 (or the large wiring board 46) There is a possibility that cracks may occur in the solder that connects the two, the large-sized wiring board 45 or the large-sized wiring board 46 itself. Therefore, in the present embodiment, in the compression inflow process 63, the bottom 53a is prevented from hitting the assembled component built-in board 31a (large-size wiring board 45). That is, by leaving the resin 35a between the adhesive film 47 and the bottom portion 53a, it is possible to prevent the compressive force of the bottom portion 53a from being directly applied to the large-sized wiring substrate 45, and to obtain a highly reliable component-embedded substrate 31. be able to. And the resin part 35c will be formed when the resin 35a between this adhesive film 47 and the bottom part 53a hardens | cures in the hardening process 64 mentioned later.

なお、本実施の形態において電子部品3aと大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)との接続ははんだであり、錫、銀系の鉛フリーはんだを用いている。本実施の形態におけるはんだの融点は約200℃である。このようにはんだの融点が第2の温度範囲より高いはんだを用いている。したがって、圧縮流入工程63(あるいは浸漬工程62)においてはんだが溶融することもないので、電子部品3aと大判配線基板45(あるいは大判配線基板46)の電気的接続が外れたりしにくくできる。   In the present embodiment, the connection between the electronic component 3a and the large-sized wiring board 45 (or the large-sized wiring board 46) is solder, and tin or silver-based lead-free solder is used. The melting point of the solder in this embodiment is about 200 ° C. Thus, the solder whose melting point is higher than the second temperature range is used. Therefore, since the solder does not melt in the compression inflow process 63 (or the dipping process 62), the electrical connection between the electronic component 3a and the large-sized wiring board 45 (or the large-sized wiring board 46) can hardly be disconnected.

硬化工程64は、圧縮流入工程63の後で、樹脂35aの温度が第2の温度範囲を超える温度(第3の温度範囲)となるまでさらに加熱する。これによって、樹脂35aが硬化し、配線基板32と配線基板36との間の樹脂部35や、除去部46aと除去部45aとの間の樹脂部35bが形成される。さらに、粘着性フィルム47と底部53aとの間に樹脂部35cが形成される。なお、少なくとも樹脂35aの流動性がなくなるまでの間は、この硬化工程64においても圧縮流入工程63で加えられた圧力を維持する。これにより、確実に電子部品3aと配線基板32との間の隙間に、ボイドなどが残りにくくできる。   The curing step 64 further heats the resin 35a after the compression inflow step 63 until the temperature of the resin 35a exceeds the second temperature range (third temperature range). As a result, the resin 35a is cured, and a resin part 35 between the wiring board 32 and the wiring board 36 and a resin part 35b between the removal part 46a and the removal part 45a are formed. Further, a resin portion 35c is formed between the adhesive film 47 and the bottom portion 53a. Note that the pressure applied in the compression inflow step 63 is maintained also in the curing step 64 until at least the resin 35a has no fluidity. Thereby, it is possible to reliably prevent voids and the like from remaining in the gap between the electronic component 3a and the wiring board 32.

以上のような本実施の形態における樹脂部形成工程42を用いれば、トランスファ成形のように、狭い隙間へ溶けた樹脂35aを流し込む必要がない。これにより、配線基板32と配線基板36との間の樹脂部35を形成するために、配線基板32や配線基板36(組み立て済み部品内蔵基板31a)に対して加わるストレスを小さくできる。したがって、部品内蔵基板31の傾きや変形などを小さくできる。   If the resin part formation process 42 in this Embodiment as mentioned above is used, it is not necessary to pour the melted resin 35a into a narrow gap as in transfer molding. Thereby, in order to form the resin part 35 between the wiring board 32 and the wiring board 36, the stress added with respect to the wiring board 32 or the wiring board 36 (assembled component built-in board 31a) can be made small. Therefore, the inclination and deformation of the component built-in substrate 31 can be reduced.

さらにこのような方法によって、電子部品3aと配線基板36との間の間隔が小さくとも、その間に樹脂35aを容易に充填できる。従って、電子部品3aと配線基板36との間における樹脂部35の厚みが薄くても、確実に樹脂部35を形成できることとなり、安価な薄型の部品内蔵基板31を得ることができる。   Further, by such a method, even if the distance between the electronic component 3a and the wiring board 36 is small, the resin 35a can be easily filled therebetween. Therefore, even if the thickness of the resin portion 35 between the electronic component 3a and the wiring board 36 is thin, the resin portion 35 can be formed reliably, and an inexpensive thin component-embedded substrate 31 can be obtained.

また、圧縮流入工程63で圧力を加えるので、電子部品3aと配線基板32との間の非常に狭い隙間にも確実に樹脂35aを充填できる。さらにまた、電子部品3aには、圧縮流入工程63においてのみ圧力が加わるので、電子部品3aへかかる応力を小さくできる。したがって、電子部品3aや配線基板32の変形が小さくなる。   Further, since pressure is applied in the compression inflow process 63, the resin 35a can be reliably filled into a very narrow gap between the electronic component 3a and the wiring board 32. Furthermore, since pressure is applied to the electronic component 3a only in the compression inflow process 63, the stress applied to the electronic component 3a can be reduced. Therefore, the deformation of the electronic component 3a and the wiring board 32 is reduced.

また、浸漬工程62では配線基板32や電子部品3aが樹脂35aに浸漬されるのみであり、圧縮流入工程63で樹脂35aに流れが発生するので、樹脂35aの流れる距離は、トランスファ成形に比べて非常に短い。したがって、硬化後において樹脂35aの流れの不均一さなどによる内部応力も小さくできる。これによって、さらに電子部品3a、配線基板32や樹脂部35自身の歪(変形)などを小さくできる。   Further, in the dipping process 62, only the wiring board 32 and the electronic component 3a are dipped in the resin 35a, and a flow occurs in the resin 35a in the compression inflow process 63. Therefore, the distance that the resin 35a flows is larger than that in transfer molding. Very short. Therefore, the internal stress due to the non-uniform flow of the resin 35a after curing can be reduced. This further reduces the distortion (deformation) of the electronic component 3a, the wiring board 32, and the resin portion 35 itself.

特に本実施の形態では電子部品3aには集積回路を含み、これらは配線基板32へフェイスダウンにてフリップチップ実装しているので、電子部品3aと配線基板32との間が非常に近くなる。したがって、電子部品3aに形成された回路と配線基板32との間には大きな浮遊容量を持つこととなり、特にこの浮遊容量のばらつきは、集積回路に構成された回路の特性に大きな影響を与えることがある。特に、部品内蔵基板31が高周波装置であり、配線基板32上や集積回路に高周波回路が形成される場合には、特にこの浮遊容量による影響が重要となる。   In particular, in the present embodiment, the electronic component 3a includes an integrated circuit, and these are flip-chip mounted on the wiring substrate 32 face down, so that the electronic component 3a and the wiring substrate 32 are very close to each other. Therefore, there is a large stray capacitance between the circuit formed in the electronic component 3a and the wiring board 32. In particular, this variation in stray capacitance has a great influence on the characteristics of the circuit configured in the integrated circuit. There is. In particular, when the component-embedded substrate 31 is a high-frequency device and a high-frequency circuit is formed on the wiring substrate 32 or in an integrated circuit, the influence of this stray capacitance is particularly important.

またこのような集積回路は、はんだバンプなどにより配線基板32へ接続される以外に、圧接により配線基板32と接続されているようなものがある。そして特にこのような場合、集積回路や配線基板32の歪を小さくできるので、圧接力が小さくなりにくくできる。したがって、集積回路と配線基板32との間の接続信頼性の高い部品内蔵基板31を実現できる。   Such an integrated circuit may be connected to the wiring board 32 by pressure contact other than being connected to the wiring board 32 by solder bumps or the like. Especially in such a case, since the distortion of the integrated circuit and the wiring board 32 can be reduced, the pressure contact force can hardly be reduced. Therefore, the component-embedded substrate 31 with high connection reliability between the integrated circuit and the wiring substrate 32 can be realized.

そしてこのような部品内蔵基板31上に回路を形成するような場合、集積回路の歪を小さくすることは、非常に重要である。これは、実装工程41bにおける特性の検査において、合格範囲と判断したものにおいても、集積回路や配線基板32や樹脂部35自身の歪が大きいと、上記理由などによって、樹脂部35を形成した後に不合格となる恐れがあるためである。そして、樹脂部35が形成された後においては、修理することが非常に困難であるので、廃棄する以外に方策はなく、歩留まりが非常に悪化することとなる。そこで、以上のような製造方法を用い、樹脂35aの流れる距離を小さくすることで、樹脂35a内部に残る残留応力を小さくし、集積回路、配線基板32や樹脂部35自身などにかかる応力を小さくする。これにより、樹脂部35形成後での特性のばらつきを小さくでき、歩留まりの良好な部品内蔵基板31を実現できる。そしてこれは、特に部品内蔵基板31内に高周波回路が形成される場合には、顕著となる。   When forming a circuit on such a component-embedded substrate 31, it is very important to reduce the distortion of the integrated circuit. This is because, even if the integrated circuit, the wiring board 32, or the resin portion 35 itself has a large strain even in the inspection of the characteristics in the mounting step 41b, if the distortion of the integrated circuit, the wiring board 32, or the resin portion 35 itself is large, the resin portion 35 is formed. This is because there is a risk of failing. Then, after the resin portion 35 is formed, it is very difficult to repair the resin portion 35. Therefore, there is no measure other than disposal, and the yield is extremely deteriorated. Therefore, by using the manufacturing method as described above, by reducing the distance through which the resin 35a flows, the residual stress remaining in the resin 35a is reduced, and the stress applied to the integrated circuit, the wiring board 32, the resin portion 35 itself, and the like is reduced. To do. As a result, the variation in characteristics after the resin portion 35 is formed can be reduced, and the component-embedded substrate 31 with a good yield can be realized. This is particularly noticeable when a high-frequency circuit is formed in the component-embedded substrate 31.

さらに加えて、この残留応力を小さくすることは、部品内蔵基板31の特性の長期信頼性にも大きな影響を及ぼす。つまり、温度変化などによって、樹脂部35や配線基板32に伸縮が生じ、樹脂部35内の内部応力の分布が変化すると考えられる。これにより、集積回路や配線基板32や樹脂部35などの歪量が変化し、その結果集積回路と配線基板32との間の浮遊容量の値が製造段階の値より変化することが考えられる。また、集積回路が圧接により配線基板32へ接続されている場合には、温度変化により圧接力が変化することも考えられる。そこで、上記製造方法により、内部応力を小さくできるので、温度変化などに対しても長期にわたり安定した特性を維持できる部品内蔵基板31を実現できる。   In addition, reducing the residual stress greatly affects the long-term reliability of the characteristics of the component-embedded substrate 31. That is, it is considered that the resin portion 35 and the wiring substrate 32 are expanded and contracted due to a temperature change and the internal stress distribution in the resin portion 35 is changed. As a result, the strain amount of the integrated circuit, the wiring board 32, the resin portion 35, and the like changes, and as a result, the value of the stray capacitance between the integrated circuit and the wiring board 32 may change from the value at the manufacturing stage. In addition, when the integrated circuit is connected to the wiring substrate 32 by pressure contact, it is conceivable that the pressure contact force changes due to a temperature change. Therefore, since the internal stress can be reduced by the above manufacturing method, it is possible to realize the component-embedded substrate 31 that can maintain stable characteristics over a long period of time against temperature changes and the like.

そしてもちろん、圧縮流入工程63で樹脂35aを強制的に隙間へ充填するので、印刷法やポッティングなどによる方法に比べ、電子部品3aと配線基板32との間にも確実に樹脂35aを充填できることは言うまでもない。したがって、非常に信頼性も良好な部品内蔵基板31を実現できる。   And of course, the resin 35a is forcibly filled in the gap in the compression inflow process 63, so that the resin 35a can be reliably filled between the electronic component 3a and the wiring board 32 as compared with the printing method or potting method. Needless to say. Therefore, the component built-in substrate 31 with very good reliability can be realized.

そして以上のように、加圧による圧縮圧力が加わっても、電子部品3aが破壊することを少なくできる。また電子部品3aが集積回路素子である場合、その集積回路素子の変形も小さくできるので、集積回路の厚みも薄くすることができる。したがって、従来のトランスファ成形に比べて薄型の部品内蔵基板31を実現できる。   And as mentioned above, even if the compression pressure by pressurization is added, it can reduce that the electronic component 3a is destroyed. Further, when the electronic component 3a is an integrated circuit element, deformation of the integrated circuit element can be reduced, so that the thickness of the integrated circuit can be reduced. Therefore, a thinner component-embedded substrate 31 can be realized as compared with the conventional transfer molding.

本実施の形態における部品内蔵基板31は配線基板32と配線基板36の2層であったが、配線基板32と配線基板36との間に少なくとも1層以上の中間層配線基板を設け、3層以上としてもかまわない。この場合でも、実装工程41bで中間層配線基板へも電子部品3aやスペーサ37を実装し、その後で組み立て工程41でそれらを接続することで、容易に組み立て済み部品内蔵基板31aを完成できる。たとえば、本代表例であれば接続工程41cにおいて、中間配線基板にもクリーム状のはんだ38を塗布し、大判配線基板46、中間配線基板、大判配線基板45の順で搭載した状態でリフローはんだ付けする。   The component-embedded substrate 31 in the present embodiment has two layers of the wiring substrate 32 and the wiring substrate 36, but at least one intermediate layer wiring substrate is provided between the wiring substrate 32 and the wiring substrate 36. It does not matter as above. Even in this case, the assembled component-embedded substrate 31a can be easily completed by mounting the electronic component 3a and the spacer 37 on the intermediate wiring board in the mounting step 41b and then connecting them in the assembly step 41. For example, in the case of this representative example, in the connecting step 41c, cream solder 38 is applied to the intermediate wiring board, and reflow soldering is performed in the state where the large wiring board 46, the intermediate wiring board, and the large wiring board 45 are mounted in this order. To do.

ただし、この場合の中間配線基板も樹脂部形成装置51へ搭載された状態において上側となる大判配線基板(大判配線基板46)より小さくし、樹脂槽53内に収容される大きさとすることが重要である。そしてこの場合に、中間配線基板の外周が配線基板32(あるいは配線基板36)の外周から突出しないようにしておくとよい。つまり、切除工程43における切断工具が、中間配線基板を切断しないようにしておく。これにより切断工具がガラス基材を切断しないので、切断工具の寿命が長くできる。また、部品内蔵基板31の側面(切断面39)に中間配線基板が露出しないので、部品内蔵基板31の側面(切断面39)にガラス基材のバリなどを発生しにくくできる。   However, it is important that the intermediate wiring board in this case is also smaller than the large-sized wiring board (large-sized wiring board 46) on the upper side when mounted on the resin portion forming apparatus 51, and is sized to be accommodated in the resin tank 53. It is. In this case, it is preferable that the outer periphery of the intermediate wiring board does not protrude from the outer periphery of the wiring board 32 (or the wiring board 36). That is, the cutting tool in the cutting process 43 is prevented from cutting the intermediate wiring board. Thereby, since a cutting tool does not cut | disconnect a glass base material, the lifetime of a cutting tool can be lengthened. Further, since the intermediate wiring board is not exposed on the side surface (cutting surface 39) of the component built-in substrate 31, it is difficult to generate burrs of the glass base material on the side surface (cutting surface 39) of the component built-in substrate 31.

本発明にかかる部品内蔵基板の製造方法は、安価な部品内蔵基板を製造できるという効果を有し、特に小型、薄型化が要求される機器に用いると有用である。   The method for manufacturing a component-embedded substrate according to the present invention has an effect that an inexpensive component-embedded substrate can be manufactured, and is particularly useful when used for a device that is required to be small and thin.

3a 電子部品
31 部品内蔵基板
31a 組み立て済み部品内蔵基板
32 配線基板
35 樹脂部
35b 樹脂部
35c 樹脂部
36 配線基板
37 スペーサ
41 組み立て工程
41a フィルム貼り付け工程
41b 実装工程
41c 接続工程
42 樹脂部形成工程
43 切除工程
44 剥離工程
45 大判配線基板
45a 除去部
46 大判配線基板
46a 除去部
47 粘着性フィルム
3a electronic component 31 component built-in board 31a assembled component built-in board 32 wiring board 35 resin part 35b resin part 35c resin part 36 wiring board 37 spacer 41 assembly process 41a film attaching process 41b mounting process 41c connecting process 42 resin part forming process 43 Cutting process 44 Peeling process 45 Large-sized wiring board 45a removal part 46 Large-sized wiring board 46a removal part 47 Adhesive film

Claims (7)

少なくとも両面に導体層が形成された第1の配線基板と、この第1の配線基板の上方に配置された第2の配線基板と、前記第1の配線基板の上面と前記第2の配線基板の下面のうちの少なくともいずれか一方に実装された電子部品と、これら第1と第2の配線基板との間を電気的に接続する接続体と、前記第1と第2の配線基板の間に設けられ、前記接続体と前記電子部品が埋設された樹脂部とを備えた部品内蔵基板の製造方法において、少なくとも第1と第2の大判配線基板のいずれか一方へ前記電子部品を装着するとともに、前記第1と第2の大判配線基板のいずれか一方へ前記接続体を装着する工程と、この工程の後で前記第1と第2の大判配線基板を前記電子部品が内側を向くような方向で搭載し、これらの第1と第2の大判配線基板の間を前記接続体を介して接続する工程と、その後で少なくとも前記第1と第2の大判配線基板の間に樹脂を充填し、前記電子部品が前記樹脂で埋設された前記樹脂部を形成する工程と、この工程の後で前記第1と第2の大判配線基板に設けられた除去部を切除し、前記第1と第2の大判配線基板から前記第1と第2の配線基板を切り離す工程とを備え、少なくとも前記樹脂部を形成する工程の前には、前記第1の大判配線基板の下面と前記第2の大判配線基板の上面のうちの少なくともいずれか一方に剥離可能な粘着性フィルムを貼り付ける工程を設けるとともに、前記除去部を切除する工程の後には、前記粘着性フィルムを除去する工程とを設け、前記樹脂部を形成する工程では、前記樹脂で前記粘着性フィルムが覆われるとともに、前記除去部を切除する工程では、前記除去部に対応する位置における前記粘着性フィルムも同時に切除され、前記粘着性フィルムを除去する工程では、前記粘着性フィルムと前記粘着性フィルムを覆う樹脂とを同時に除去する部品内蔵基板の製造方法。 A first wiring board having a conductor layer formed on at least both surfaces; a second wiring board disposed above the first wiring board; an upper surface of the first wiring board; and the second wiring board. An electronic component mounted on at least one of the lower surfaces of the substrate, a connection body for electrically connecting the first and second wiring boards, and between the first and second wiring boards And mounting the electronic component on at least one of the first and second large-sized wiring boards in a method of manufacturing a component-embedded substrate provided with the connection body and a resin portion in which the electronic component is embedded And a step of mounting the connection body on one of the first and second large-sized wiring boards, and the electronic components facing the first and second large-sized wiring boards after the step. These first and second large format wiring boards A step of connecting between the first and second large-sized wiring boards, and forming the resin part in which the electronic component is embedded with the resin. And removing the portions provided on the first and second large-sized wiring boards after this process, and removing the first and second wiring boards from the first and second large-sized wiring boards. An adhesive that can be peeled off at least one of the lower surface of the first large-sized wiring substrate and the upper surface of the second large-sized wiring substrate at least before the step of forming the resin portion. And a step of removing the adhesive film, and a step of removing the adhesive film, and in the step of forming the resin portion, the adhesive film is formed of the resin. As it is covered In the step of excising the removal portion, the adhesive film at the position corresponding to the removal portion is also excised at the same time, and in the step of removing the adhesive film, the adhesive film and the resin covering the adhesive film are removed. A method of manufacturing a component-embedded substrate that is removed at the same time. 前記接続体を装着する工程では、前記接続体は前記第1もしくは第2の配線基板において離散的に配置される請求項1に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The method for manufacturing a component built-in board according to claim 1, wherein in the step of mounting the connection body, the connection body is discretely arranged on the first or second wiring board. 前記粘着性フィルムは可撓性を有し、前記粘着性フィルムを除去する工程では、前記粘着性フィルムを引き剥がす請求項2に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The said adhesive film has flexibility, The manufacturing method of the component built-in board | substrate of Claim 2 which peels off the said adhesive film in the process of removing the said adhesive film. 前記樹脂部を形成する工程では、前記第1と第2の配線基板のうちで前記粘着性フィルムが貼り付けられた側の配線基板が下側となる向きで配置し、前記粘着性フィルムが貼り付けられた側の配線基板の下方に設けられた樹脂槽へ投入された非流動状態の前記樹脂が流動可能となるまで軟化させ、その後で前記粘着性フィルムが貼り付けられた側の配線基板と前記電子部品と前記粘着性フィルムとを前記軟化した樹脂へ浸漬するとともに、上側に配置された配線基板の下面を前記樹脂の液面へ接触させ、その後で前記樹脂を圧縮するとともに加熱して前記樹脂を硬化させて前記樹脂部を形成する請求項3に記載の部品内蔵基板の製造方法。 In the step of forming the resin portion, the wiring board on the side of the first and second wiring boards on which the adhesive film is attached is arranged in a downward direction, and the adhesive film is attached. Soften until the resin in a non-flowing state put into a resin tank provided below the attached wiring board becomes flowable, and then the wiring board on the side to which the adhesive film is attached The electronic component and the adhesive film are immersed in the softened resin, the lower surface of the wiring board disposed on the upper side is brought into contact with the liquid surface of the resin, and then the resin is compressed and heated to The method for manufacturing a component-embedded board according to claim 3, wherein the resin portion is formed by curing a resin. 前記樹脂部を形成する工程において、前記第1と第2の配線基板のうちで上側に配置された配線基板の外周部は、下側に配置された配線基板の4辺における外周部から突出し、前記上側に配置された配線基板が前記樹脂槽の開口部を塞ぐとともに、前記粘着性フィルムが貼り付けられた側の配線基板と前記電子部品と前記粘着性フィルムとが前記樹脂槽内に収容される請求項4に記載の部品内蔵基板の製造方法。 In the step of forming the resin portion, the outer peripheral portion of the wiring substrate disposed on the upper side of the first and second wiring substrates protrudes from the outer peripheral portion on the four sides of the wiring substrate disposed on the lower side, The wiring board disposed on the upper side closes the opening of the resin tank, and the wiring board on the side to which the adhesive film is attached, the electronic component, and the adhesive film are accommodated in the resin tank. The method for manufacturing a component-embedded substrate according to claim 4. 電子部品と接続体とはともに前記第1と第2の配線基板のいずれか一方に装着される請求項4に記載の部品内蔵基板の製造方法。 The method for manufacturing a component built-in substrate according to claim 4, wherein both the electronic component and the connection body are mounted on one of the first and second wiring substrates. 配線基板へ電子部品を実装する工程では、第1と第2の配線基板に前記電子部品が装着される請求項4に記載の部品内蔵基板の製造方法。 5. The method of manufacturing a component built-in board according to claim 4, wherein in the step of mounting the electronic component on the wiring board, the electronic component is mounted on the first and second wiring boards.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2017099035A (en) * 2015-11-18 2017-06-01 コーセル株式会社 Power supply device and method of manufacturing the same

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