JP2012193459A - スパッタリング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回転自在とされた円筒状ターゲット13を有し、前記円筒状ターゲット13の内側に設けられ、その長さ方向に沿って配置された磁場発生部材14を有するスパッタ蒸発源2の一対と、前記一対のスパッタ蒸発源2のそれぞれの円筒状ターゲット13を共にカソードとしてこれらに放電電力を供給するスパッタ電源3を備える。前記一対のスパッタ蒸発源2,2は、それぞれの円筒状ターゲット13が平行に対向して配置され、それぞれの磁場発生部材14,14は円筒状ターゲット13,13の表面を通り、互いに引き合う向きの磁力線を形成する磁場を発生させる。前記スパッタ電源は前記円筒状ターゲット間にペニング放電を発生させる。
【選択図】図1
Description
2 スパッタ蒸発源
3 スパッタ電源
13 円筒状ターゲット
14 磁場発生部材
W,WF,WP 基材
Claims (4)
- 真空チャンバに導入したスパッタリングガス中でターゲット表面からスパッタ蒸発した成膜粒子を基材の表面に堆積させて皮膜を形成するスパッタリング装置であって、
回転自在とされた円筒状ターゲットを有し、前記円筒状ターゲットの内側に設けられ、前記円筒状ターゲットの長さ方向に沿って配置された磁場発生部材を有するスパッタ蒸発源の一対と、
前記一対のスパッタ蒸発源のそれぞれの円筒状ターゲットを共にカソードとしてこれらに放電電力を供給するスパッタ電源を備え、
前記一対のスパッタ蒸発源は、それぞれの円筒状ターゲットが平行ないし略平行に対向して配置され、それぞれのスパッタ蒸発源に設けられた磁場発生部材は前記一対の円筒状ターゲットの表面を通り、互いに引き合う向きの磁力線を形成する磁場を発生させ、
前記スパッタ電源は前記円筒状ターゲット間にペニング放電を発生させる、スパッタリング装置。 - 前記一方のスパッタ蒸発源の磁場発生部材および/または他方のスパッタ蒸発源の磁場発生部材は、磁力線が基材側に膨らむように設けられた、請求項1に記載したスパッタリング装置。
- 前記一方のスパッタ蒸発源の磁場発生部材および/または他方のスパッタ蒸発源の磁場発生部材を磁力線の膨らみを可変とするように移動可能に設けた、請求項1または2に記載したスパッタリング装置。
- 前記スパッタ電源として、直流電源、電圧がゼロ又は逆極性の期間を繰り返し含む間欠的直流電源あるいは交流電源を用いる、請求項1から3のいずれか1項に記載したスパッタリング装置。
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WO2016021759A1 (ko) * | 2014-08-07 | 2016-02-11 | (주)씨앤아이테크놀로지 | 반도체 패키지의 전자파 차폐를 위한 스퍼터링 장치 및 이를 포함한 인라인 스퍼터링 증착 시스템 |
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