JP2012190550A - Electrode for cold cathode fluorescent lamp and manufacturing method of the same - Google Patents

Electrode for cold cathode fluorescent lamp and manufacturing method of the same Download PDF

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Masatoshi Eto
雅俊 衛藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrode for cold cathode fluorescent lamp in which the bonding strength between a lead wire and a glass bead has been improved.SOLUTION: An electrode for cold cathode fluorescent lamp comprises an electrode part 1 and a lead wire part 2 that has an inner lead part 2a and an outer lead part 2b and is connected to the end part of the electrode part 1. The inner lead part 2a is made of iron-containing metal at least on a front surface side, and a glass part 3 is bonded with the circumference of the inner lead part 2a. The glass part 3 has a Fe diffused layer with an average thickness of 5 to 25 μm toward the inside from the boundary face with the inner lead part 2a. The Fe diffused layer is divided into a Fe high-concentration layer and a Fe low-concentration layer located inner than it, with the average thickness of the Fe high-concentration layer being 1 to 4 μm. If the section of the boundary face between the glass part and the inner lead part is observed with an SEM, the average number of recessed portions having a depth of 3 μm or above into the inner lead part per 100 μm of the boundary line, which is formed by the boundary faces between the glass part and the inner lead part, is 4 or lower.

Description

本発明は、冷陰極蛍光ランプ(CCFL:Cold Cathode Fluorescent Lamp)用電極及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electrode for a cold cathode fluorescent lamp (CCFL) and a method for manufacturing the same.

液晶ディスプレイや液晶テレビを始めとする液晶表示装置(LCD)には、表示画面を照明するためのバックライトが組み込まれており、このバックライトの光源として冷陰極蛍光ランプが一般的に用いられている。また、冷陰極蛍光ランプはスキャナーの読み取り光源、複写機の原稿照射用光源、及び電子看板の導光板光源などとしても使用されている。   Liquid crystal display devices (LCDs) such as liquid crystal displays and liquid crystal televisions incorporate a backlight for illuminating the display screen, and a cold cathode fluorescent lamp is generally used as a light source for the backlight. Yes. The cold cathode fluorescent lamp is also used as a reading light source for a scanner, a light source for irradiating a document in a copying machine, and a light guide plate light source for an electronic signboard.

冷陰極蛍光ランプは、蛍光体が内面に塗布され、水銀及び希ガスが充填された円筒状のガラス管と、ガラス管の両端に装着される一対の電極とを備える。代表的には、電極は、有底カップ状の電極部と、電極部の底部に接続されたリード線を備える。リード線はインナーリード線とアウターリード線から構成されており、インナーリード線はガラス管の内側に配置される一方で、アウターリード線はガラス管の外に配置される。ガラス管との密着性を向上させるため、インナーリード線の外周にはガラスビーズが接合される。このガラスビーズはインナーリード線と共にガラス管内に挿入されて加熱融着されることにより、ガラス管内の気密性が保たれる。   The cold cathode fluorescent lamp includes a cylindrical glass tube coated with phosphor on the inner surface and filled with mercury and a rare gas, and a pair of electrodes attached to both ends of the glass tube. Typically, the electrode includes a bottomed cup-shaped electrode part and a lead wire connected to the bottom part of the electrode part. The lead wire is composed of an inner lead wire and an outer lead wire. The inner lead wire is disposed inside the glass tube, while the outer lead wire is disposed outside the glass tube. In order to improve the adhesion to the glass tube, glass beads are bonded to the outer periphery of the inner lead wire. The glass beads are inserted into the glass tube together with the inner lead wire and heat-sealed, so that the airtightness in the glass tube is maintained.

ここで、リード線とガラスビーズの接合が不十分であると、ガラス管の封止部分に空隙ができ、ここから空気や水蒸気などが進入し、またガラス管内に充填されたガスが漏洩する。その結果、蛍光ランプの寿命が短くなるという不具合が生じる。従って、リード線とガラスビーズは高い接合強度が求められる。   Here, if the bonding between the lead wire and the glass bead is insufficient, a gap is formed in the sealing portion of the glass tube, and air, water vapor, etc. enter from here, and the gas filled in the glass tube leaks. As a result, there arises a problem that the life of the fluorescent lamp is shortened. Accordingly, the lead wire and the glass bead are required to have high bonding strength.

リード線とガラスビーズの接合性を向上させる方法としては、これまでリード部の外周を加熱し、リード部の表面に酸化膜を形成する方法が知られている。例えば、特開平11−238489号公報(特許文献1)には、リード線の封着予定部分を酸素バーナーなどで加熱し、リード線の表面に1.0〜3.0μmの膜厚の酸化膜を設けることで、ガラスとの濡れがよく気密に接合されることが記載されている。また、特開2003−229060号公報(特許文献2)では、線材を大気中でバーナーによって約600℃〜1000℃に加熱することで、酸化膜を形成している。   As a method for improving the bondability between the lead wire and the glass bead, a method of heating the outer periphery of the lead portion and forming an oxide film on the surface of the lead portion has been known so far. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-238489 (Patent Document 1), a portion to be sealed of a lead wire is heated with an oxygen burner or the like, and an oxide film having a thickness of 1.0 to 3.0 μm is formed on the surface of the lead wire. It is described that by providing the film, the glass is well wetted and airtightly bonded. Moreover, in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-229060 (patent document 2), the oxide film is formed by heating a wire to about 600 to 1000 degreeC with a burner in air | atmosphere.

更に、特開2008−130396号公報(特許文献3)では、リード部の少なくとも表面側を鉄含有金属で構成し、酸化性雰囲気でリード部を加熱して酸化膜を形成する酸化性工程と、酸化性工程後に非酸化性雰囲気でリード部を加熱して、酸化膜中にFeOを生成する非酸化性工程を行う二段階加熱方法が記載されている(請求項4等)。一段目の加熱ではFe23やFe34の酸化膜が形成され、二段目の加熱でこの酸化膜中にリード部の構成元素であるFeが拡散し、この拡散により酸化膜中のFeの原子比率が高められて、膜中にFeOが形成される。FeOを含有する酸化膜は、Fe23及びFe34からなる酸化膜と比較して、ガラス部との接合強度が向上することが記載されている(段落0009)。酸化膜の厚さは、1μm以上10μm未満が好ましいとされる(段落0019)。 Furthermore, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-130396 (Patent Document 3), an oxidizing step in which at least the surface side of the lead portion is made of an iron-containing metal and the lead portion is heated in an oxidizing atmosphere to form an oxide film; A two-step heating method is described in which a lead portion is heated in a non-oxidizing atmosphere after the oxidizing step to perform a non-oxidizing step for generating FeO in the oxide film (claim 4 etc.). In the first stage heating, an oxide film of Fe 2 O 3 or Fe 3 O 4 is formed, and in the second stage heating, Fe, which is a constituent element of the lead portion, is diffused into the oxide film. The atomic ratio of Fe is increased, and FeO is formed in the film. It is described that the oxide film containing FeO has improved bonding strength with the glass part as compared with an oxide film made of Fe 2 O 3 and Fe 3 O 4 (paragraph 0009). The thickness of the oxide film is preferably 1 μm or more and less than 10 μm (paragraph 0019).

当該公報には更に、ガラス部の形成のための加熱により、リード部も加熱されて、リード部や酸化膜を構成する元素がガラス側に拡散して、ガラス部の成分とリード部の成分とが混合したイオン拡散層がガラス部の酸化膜と接する側に生成されることが記載されている。そして、イオン拡散層は、ガラス部の他の部分と熱膨張係数が異なるため、厚すぎるとガラス部やガラス管の割れの原因となることから、できるだけ薄い方が好ましく、厚さは15μm以下とすべきことが記載されている(段落0026)。   Further, in this publication, the lead part is also heated by the heating for forming the glass part, and the elements constituting the lead part and the oxide film diffuse to the glass side, and the components of the glass part and the lead part It is described that the ion diffusion layer mixed with is formed on the side of the glass portion in contact with the oxide film. And, since the ion diffusion layer has a different thermal expansion coefficient from other parts of the glass part, if it is too thick, the glass part and the glass tube will be cracked. Therefore, it is preferable that the ion diffusion layer is as thin as possible. It describes what to do (paragraph 0026).

特開平11−238489号公報JP-A-11-238489 特開2003−229060号公報JP 2003-229060 A 特開2008−130396号公報JP 2008-130396 A

しかしながら、リード線とガラスビーズの接合強度には未だ改善の余地がある。そこで、本発明は、リード線とガラスビーズの接合強度が改善された冷陰極蛍光ランプ用電極を提供することを課題とする。また、本発明はそのような冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法を提供することを別の課題とする。   However, there is still room for improvement in the bonding strength between the lead wire and the glass bead. Therefore, an object of the present invention is to provide a cold cathode fluorescent lamp electrode in which the bonding strength between the lead wire and the glass bead is improved. Moreover, this invention makes it another subject to provide the manufacturing method of such an electrode for cold cathode fluorescent lamps.

本発明者は上記課題を解決するべく鋭意研究したところ、インナーリード線を構成する材料として鉄含有金属を使用した場合、インナーリード線の外周にガラスビーズを溶融接合するときにFe成分がガラスビーズの内部へ熱拡散するが、このFe成分の拡散の進行度合がインナーリード線とガラスビーズの接合強度に重要な役割を果たしていることを見出した。   The present inventor has intensively studied to solve the above-mentioned problems. When an iron-containing metal is used as a material constituting the inner lead wire, the Fe component is a glass bead when the glass bead is melt-bonded to the outer periphery of the inner lead wire. It was found that the degree of diffusion of the Fe component plays an important role in the bonding strength between the inner lead wire and the glass bead.

以上の知見を基礎として完成した本発明は一側面において、電極部と、インナーリード部及びアウターリード部を有し、該電極の端部に接続されたリード部とを備えた冷陰極蛍光ランプ用電極であって、
インナーリード部は少なくとも表面側が鉄含有金属製であり、インナーリード部の外周にはガラス部が接合されており、ガラス部はインナーリード部との界面から内側に向かって平均厚みが5〜25μmのFe拡散層を有しており、Fe拡散層はFe高濃度層とそれより内側にあるFe低濃度層に分かれており、Fe高濃度層の平均厚みが1〜4μmであり、
ガラス部とインナーリード部との界面の断面をSEM観察したときに、界面が形成するガラス部とインナーリード部との境界線の長さ100μm当たりのインナーリード部への深さ3μm以上の凹部の数が平均して4個以下である冷陰極蛍光ランプ用電極である。
In one aspect, the present invention completed on the basis of the above knowledge is for a cold cathode fluorescent lamp having an electrode portion, an inner lead portion and an outer lead portion, and a lead portion connected to an end portion of the electrode. An electrode,
The inner lead portion is made of an iron-containing metal at least on the surface side, and a glass portion is bonded to the outer periphery of the inner lead portion. The glass portion has an average thickness of 5 to 25 μm from the interface with the inner lead portion toward the inside. Fe diffusion layer, Fe diffusion layer is divided into Fe high concentration layer and Fe low concentration layer inside it, the average thickness of Fe high concentration layer is 1 to 4 μm,
When the cross section of the interface between the glass part and the inner lead part is observed with an SEM, a recess having a depth of 3 μm or more to the inner lead part per 100 μm length of the boundary line between the glass part and the inner lead part formed by the interface is formed. This is an electrode for a cold cathode fluorescent lamp having an average number of 4 or less.

本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極は一実施形態において、ガラス部とインナーリード部との界面の断面をSEM観察したときに、界面が形成するガラス部とインナーリード部との境界線の長さに対して、当該境界線に沿った酸化物層の累計長さが5%未満である。   In one embodiment of the electrode for a cold cathode fluorescent lamp according to the present invention, when the cross section of the interface between the glass portion and the inner lead portion is observed by SEM, the length of the boundary line between the glass portion and the inner lead portion formed by the interface is long. On the other hand, the cumulative length of the oxide layer along the boundary line is less than 5%.

本発明は別の一側面において、冷陰極蛍光ランプ用電極を製造するための、ガラス部への接合前のリード部であって、インナーリード部及びアウターリード部を有し、インナーリード部の表面に酸化層が形成されており、酸化層の平均厚みが0.2〜1.5μmであるリード部である。   Another aspect of the present invention is a lead portion before joining to a glass portion for manufacturing an electrode for a cold cathode fluorescent lamp, the inner lead portion and the outer lead portion, and the surface of the inner lead portion The lead portion is formed with an oxide layer, and the average thickness of the oxide layer is 0.2 to 1.5 μm.

本発明に係るリード部は一実施形態において、前記酸化層中のFe、FeO、Fe34及びFe23の合計質量に対するFeO及びFe34の合計質量の割合が90%以上である。 In one embodiment of the lead portion according to the present invention, the ratio of the total mass of FeO and Fe 3 O 4 to the total mass of Fe, FeO, Fe 3 O 4 and Fe 2 O 3 in the oxide layer is 90% or more. is there.

本発明は別の一側面において、インナーリード部とアウターリード部を接合してリード部を形成する工程1と、露点が−5〜30℃の不活性ガス雰囲気下でインナーリード部を800〜1000℃で5〜15分間加熱することによりインナーリード部の表面を酸化処理する工程2と、インナーリード部の外周にガラス部を配置し、露点が−60〜−10℃の不活性ガス雰囲気下でインナーリード部を800〜1000℃で1〜10分間加熱することによりインナーリード部とガラス部を接合する工程3とを含む冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法である。   In another aspect of the present invention, the inner lead portion and the outer lead portion are joined to form the lead portion 1 and the inner lead portion is 800 to 1000 in an inert gas atmosphere having a dew point of −5 to 30 ° C. Step 2 of oxidizing the surface of the inner lead part by heating at 5 ° C. for 5 to 15 minutes, placing a glass part on the outer periphery of the inner lead part, and in an inert gas atmosphere having a dew point of −60 to −10 ° C. A method of manufacturing an electrode for a cold cathode fluorescent lamp, comprising a step 3 of joining the inner lead part and the glass part by heating the inner lead part at 800 to 1000 ° C. for 1 to 10 minutes.

本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法は一実施形態において、工程3の後に、還元性雰囲気で加熱してリード部の表面を還元処理する工程4と、リード部のインナーリード部側の端部を電極部に接合する工程5を更に含む。   In one embodiment, the method for manufacturing an electrode for a cold cathode fluorescent lamp according to the present invention includes, after step 3, a step 4 of reducing the surface of the lead portion by heating in a reducing atmosphere, and an inner lead portion side of the lead portion. The process 5 of joining the edge part of this to an electrode part is further included.

本発明は更に別の一側面において、本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極を装着した冷陰極蛍光ランプである。   In still another aspect, the present invention is a cold cathode fluorescent lamp equipped with the cold cathode fluorescent lamp electrode according to the present invention.

本発明によれば、リード線とガラスビーズの接合強度が改善された冷陰極蛍光ランプ用電極を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the electrode for cold cathode fluorescent lamps which the joining strength of a lead wire and glass beads was improved can be provided.

本発明の一実施形態に係る冷陰極蛍光ランプ用電極を示す概略図である。It is the schematic which shows the electrode for cold cathode fluorescent lamps concerning one Embodiment of this invention. インナーリード部2aとガラス部3の界面付近のFe濃度曲線及びSi濃度曲線の例である。It is an example of the Fe concentration curve and Si concentration curve near the interface between the inner lead portion 2a and the glass portion 3. 本発明の一実施形態に係る冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing method of the electrode for cold cathode fluorescent lamps concerning one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る冷陰極蛍光ランプを示す概略図である。It is the schematic which shows the cold cathode fluorescent lamp which concerns on one Embodiment of this invention. 発明例No.5及び比較例No.10についての、インナーリード部とガラス部の境界断面のSEM写真である。Invention Example No. 5 and Comparative Example No. 10 is a SEM photograph of the boundary cross section between the inner lead part and the glass part for No. 10; ガラスビーズとインナーリード線の接合強度を評価するときの試験方法を説明する図である。It is a figure explaining the test method when evaluating the joint strength of a glass bead and an inner lead wire. ガラス部とインナーリード部の界面の断面をSEM観察(倍率:1,700倍)したときの写真例である。酸化層の平均厚みは約0.6μmである。It is a photograph example when the cross section of the interface of a glass part and an inner lead part is observed by SEM (magnification: 1,700 times). The average thickness of the oxide layer is about 0.6 μm. ガラス部とインナーリード部の界面の断面をSEM観察(倍率:1,700倍)したときの写真例である。酸化層の厚みはゼロμmである。It is a photograph example when the cross section of the interface of a glass part and an inner lead part is observed by SEM (magnification: 1,700 times). The thickness of the oxide layer is zero μm. ガラス部とインナーリード部の界面の断面をSEM観察(倍率:1,700倍)したときの写真例である。酸化層の平均厚みは約2.3μmである。It is a photograph example when the cross section of the interface of a glass part and an inner lead part is observed by SEM (magnification: 1,700 times). The average thickness of the oxide layer is about 2.3 μm.

(冷陰極蛍光ランプ用電極)
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。図1に、本発明の一実施形態に係る冷陰極蛍光ランプ用電極を示す。この冷陰極蛍光ランプ用電極は、電極部1、インナーリード部2a及びアウターリード2bがこの順に接合されて形成されており、インナーリード2aの外周を取り囲むようにガラス部3が接合されている。インナーリード部2a及びアウターリード部2bはリード部2を形成する。
(Cold cathode fluorescent lamp electrode)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a cold cathode fluorescent lamp electrode according to an embodiment of the present invention. This cold cathode fluorescent lamp electrode is formed by joining an electrode part 1, an inner lead part 2a and an outer lead 2b in this order, and a glass part 3 is joined so as to surround the outer periphery of the inner lead 2a. The inner lead portion 2 a and the outer lead portion 2 b form the lead portion 2.

電極部1の形状としては公知の任意の形状とすることができ特に制限はないが、例えば、フィラメント、棒、板などが挙げられる。スパッタリングを抑制する観点から一般には有底筒(カップ)形状とする。電極部1の材料としては、限定的ではないが、ニッケル(Ni)、ニオブ(Nb)、ニッケル合金(NiにAl、Si、Ti、V、Mn、Fe、Y、Zr、Nb、Mo、Wなどを添加した合金)等の金属材料を用いることができる。電極部1の耐熱性を向上させるために、タングステン(W)、モリブデン(Mo)等の高融点金属で形成されていてもよい。電極部1の内部には必要に応じて放電特性を改良するための放電特性改良剤等を封着させても構わない。   The shape of the electrode portion 1 can be any known shape and is not particularly limited, and examples thereof include a filament, a rod, and a plate. From the viewpoint of suppressing sputtering, the shape is generally a bottomed cylinder (cup). The material of the electrode part 1 is not limited, but nickel (Ni), niobium (Nb), nickel alloy (Ni, Al, Si, Ti, V, Mn, Fe, Y, Zr, Nb, Mo, W) A metal material such as an alloy to which etc. are added can be used. In order to improve the heat resistance of the electrode part 1, you may form with refractory metals, such as tungsten (W) and molybdenum (Mo). A discharge characteristic improving agent or the like for improving the discharge characteristics may be sealed inside the electrode portion 1 as necessary.

リード部2は電極部1に電力を供給する役割を担い、一般には線材である。リード部2を構成するインナーリード部2a及びアウターリード部2bは抵抗溶接等により互いに接合されている。CCFL電極部品の組み立てにおけるガラス部3の位置決めのために、インナーリード2aの直径はアウターリード2bの直径よりも大きくすることが好ましい。   The lead part 2 plays a role of supplying electric power to the electrode part 1 and is generally a wire. The inner lead portion 2a and the outer lead portion 2b constituting the lead portion 2 are joined to each other by resistance welding or the like. In order to position the glass portion 3 in assembling the CCFL electrode component, it is preferable that the diameter of the inner lead 2a is larger than the diameter of the outer lead 2b.

インナーリード部2aの材料として少なくとも表面側は鉄含有金属を使用する。インナーリード部2aのFe成分がガラス部3の内部に熱拡散することによってインナーリード部2aとガラス部3の接合強度が高まるからである。インナーリード部2aは全体を鉄含有金属製の線としてもよいし、CuやCu合金からなる線の表面を鉄含有金属の層でめっきしてもよい。
鉄含有合金としては例えば、Fe:54質量%、Ni:29質量%及びCo:17質量%を主成分とし、随意的にSiやMn等の他の元素を少量添加した合金で熱膨張係数が40〜55×10-7/K(30〜400℃)あるコバールのほか、42合金(Fe−42質量%Ni)が利用でき、ガラスと熱膨張係数が近いことからコバールが好ましい。コバールの組成例としては、Niを28〜30質量%、Coを16〜18質量%含有し、残部がFe及び不可避的不純物である組成が挙げられる。コバールには、随意成分としてSi、Mn等の添加元素を合計で最大0.5質量%含有させることもできる。
As the material of the inner lead portion 2a, at least the surface side uses iron-containing metal. This is because the Fe component of the inner lead part 2a is thermally diffused into the glass part 3 to increase the bonding strength between the inner lead part 2a and the glass part 3. The entire inner lead portion 2a may be an iron-containing metal wire, or the surface of a wire made of Cu or Cu alloy may be plated with an iron-containing metal layer.
As an iron-containing alloy, for example, Fe: 54% by mass, Ni: 29% by mass, and Co: 17% by mass are main components, and optionally a small amount of other elements such as Si and Mn are added. In addition to Kovar having 40 to 55 × 10 −7 / K (30 to 400 ° C.), 42 alloy (Fe-42 mass% Ni) can be used, and Kovar is preferable because it has a thermal expansion coefficient close to that of glass. Examples of the composition of Kovar include a composition containing 28 to 30% by mass of Ni and 16 to 18% by mass of Co with the balance being Fe and inevitable impurities. Kovar can contain a total of 0.5% by mass of additive elements such as Si and Mn as optional components.

インナーリード部2aの表面には、後述するインナーリード部の酸化工程により、ガラス部3との濡れ性を良くするための酸化層がガラス部3との接合前には形成されている。Fe成分は酸化することでガラス部へ拡散し易くなる。酸化層は薄くなり過ぎるとFe成分のガラス部3への拡散が過剰に進行しやすくなり、ガラス部3とインナーリード部2aの接合強度を低下させる。一方、酸化層は厚くなり過ぎると酸化層の残存が生じて接合強度を低下させる。そこで、酸化層の平均厚みは0.2〜1.5μmであるのが好ましく、0.4〜1.2μmであるのがより好ましく、0.6〜0.9μmであるのが更により好ましい。   An oxide layer for improving wettability with the glass part 3 is formed on the surface of the inner lead part 2a before joining to the glass part 3 by an oxidation process of the inner lead part described later. The Fe component is easily diffused into the glass portion by being oxidized. If the oxide layer becomes too thin, the diffusion of the Fe component into the glass part 3 tends to proceed excessively, and the bonding strength between the glass part 3 and the inner lead part 2a is lowered. On the other hand, if the oxide layer becomes too thick, the oxide layer remains and lowers the bonding strength. Therefore, the average thickness of the oxide layer is preferably 0.2 to 1.5 μm, more preferably 0.4 to 1.2 μm, and still more preferably 0.6 to 0.9 μm.

ここで、特開2008−130396号公報(特許文献3)の段落0020には、「ガラス部を有する電極部材とする場合、リード部に形成した酸化膜は、ガラス部接合時の加熱により、酸化膜を構成する元素がガラス側に拡散して厚さが薄くなる。そこで、ガラス部を形成した後の電極部材の酸化膜の厚さが上記範囲(1〜10μm)となるように、ガラス部を形成する前のリード部に形成する酸化膜は、この範囲より厚く形成する。具体的には、6〜20μmが好ましい。」と記載されており、本発明のように、ガラス部との接合前の酸化層の平均厚みを0.2〜1.5μmにすべきことは何ら示唆されていないことに留意すべきである。   Here, in paragraph 0020 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-130396 (Patent Document 3), in the case of an electrode member having a glass part, the oxide film formed on the lead part is oxidized by heating at the time of joining the glass part. The element constituting the film diffuses to the glass side to reduce the thickness, so that the thickness of the oxide film of the electrode member after forming the glass part is in the above range (1 to 10 μm). The oxide film to be formed on the lead part before forming the film is formed to be thicker than this range. Specifically, it is preferably 6 to 20 μm ”, and as in the present invention, it is bonded to the glass part. It should be noted that there is no suggestion that the average thickness of the previous oxide layer should be 0.2-1.5 μm.

酸化層は、ガラス部3とインナーリード部2aの界面の断面をSEM観察することで目視可能であり、複数箇所の厚みの測定値から平均値を出すことができる。
上記酸化層はガラス部3との接合工程時にガラス部3側へ拡散するため、接合後には消失する。本発明の一実施形態においては、ガラスとの接合後の酸化層の厚みはゼロμmである。なお、ゼロというのはガラスビーズとインナーリード線の界面の断面を露出させて、SEM観察したときに、界面が形成するガラス部とインナーリード部との境界線の長さに対して酸化層の累計長さが5%未満である(具体的には、境界線の長さ100μm当たりの当該境界線に沿った酸化層の長さが合計で5μm未満である)場合を指す。一方、当該境界線に沿った酸化層の累計長さが境界線の長さの5%以上を占めるときは酸化層の厚みはゼロμmではなく、複数箇所の厚みの測定値から平均値を算出することで平均厚みを測定することが可能である。
The oxide layer can be visually observed by SEM observation of the cross section of the interface between the glass portion 3 and the inner lead portion 2a, and an average value can be obtained from the measured values of the thickness at a plurality of locations.
Since the oxide layer diffuses toward the glass part 3 during the joining process with the glass part 3, it disappears after joining. In one embodiment of the present invention, the thickness of the oxide layer after bonding with glass is zero μm. Note that zero means that the cross section of the interface between the glass bead and the inner lead wire is exposed and the SEM observation reveals that the oxide layer has a length relative to the length of the boundary line between the glass portion and the inner lead portion formed by the interface. The cumulative length is less than 5% (specifically, the total length of the oxide layer along the boundary per 100 μm of the boundary is less than 5 μm). On the other hand, when the cumulative length of the oxide layer along the boundary line occupies 5% or more of the length of the boundary line, the thickness of the oxide layer is not zero μm, but the average value is calculated from the measured values of the thickness at multiple locations. By doing so, it is possible to measure the average thickness.

図7〜図9は、ガラス部とインナーリード部の界面の断面をSEM観察(倍率:1,700倍)したときの写真例である。図7では、酸化層の累計長さが境界線の長さに対して約78%を占めており、観察される酸化層の厚みを別途SEM写真(1,700倍)に基づいて境界線の方向に2μmおきに5箇所測定したところ、平均厚みは約0.6μmである。図8では、酸化層が確認できないため、酸化層の厚みはゼロμmである。図9では、酸化層の累計長さが境界線の長さに対して100%を占めており、観察される酸化層の厚みを別途SEM写真(1,700倍)に基づいて境界線の方向に2μmおきに5箇所測定したところ、平均厚みは約2.3μmである。   7 to 9 are examples of photographs when the cross section of the interface between the glass portion and the inner lead portion is observed by SEM (magnification: 1,700 times). In FIG. 7, the cumulative length of the oxide layer occupies about 78% of the length of the boundary line, and the thickness of the observed oxide layer is separately calculated based on the SEM photograph (1,700 times). When five points are measured every 2 μm in the direction, the average thickness is about 0.6 μm. In FIG. 8, since the oxide layer cannot be confirmed, the thickness of the oxide layer is zero μm. In FIG. 9, the cumulative length of the oxide layer occupies 100% of the length of the boundary line, and the thickness of the observed oxide layer is separately determined based on the SEM photograph (1,700 times). When 5 points were measured every 2 μm, the average thickness was about 2.3 μm.

なお、インナーリードの凹部(ガラス部とインナーリード部の境界長さ100μm当たりの凹部の個数が4個以下)の中に大きさ1μm程度の粒状の酸化物が残存しても接合強度に悪影響は生じないので、これは酸化層の厚みの計算には考慮しない。   Even if granular oxide of about 1 μm size remains in the recesses of the inner lead (the number of recesses per 100 μm boundary length between the glass part and the inner lead part is 4 or less), there is an adverse effect on the bonding strength. Since this does not occur, this is not taken into account in the calculation of the thickness of the oxide layer.

ガラス部3との接合前にインナーリード部2aの表面に存在する前記酸化層中にはFeがFeO及び/又はFe34の形態で存在していることが好ましい。なぜならインナーリード部の酸化の過程で一旦、母材と密着性が悪いFe23を生成させると母材と酸化層の間に空隙が生成する。この状態でFe23を還元してFe34やFeOにしても上記の空隙が残存し、ガラス部を形成させるとガラス部とリード部の接合強度が低下する。酸化層中を構成するFeの酸化形態の比率はX線回折の定量分析技術によって測定することができる。本発明の一実施形態においては、前記酸化層はX線回折による定量分析で、Fe、FeO、Fe34及びFe23の合計質量に対するFeO及びFe34の合計質量の割合が90%以上であり、好ましくは95%以上である。 It is preferable that Fe is present in the form of FeO and / or Fe 3 O 4 in the oxide layer present on the surface of the inner lead portion 2a before joining with the glass portion 3. This is because once Fe 2 O 3 having poor adhesion to the base material is generated in the process of oxidizing the inner lead portion, a void is generated between the base material and the oxide layer. In this state, even if Fe 2 O 3 is reduced to Fe 3 O 4 or FeO, the above voids remain, and when the glass part is formed, the bonding strength between the glass part and the lead part decreases. The ratio of the oxidized form of Fe constituting the oxide layer can be measured by an X-ray diffraction quantitative analysis technique. In one embodiment of the present invention, the oxide layer is quantitatively analyzed by X-ray diffraction, and the ratio of the total mass of FeO and Fe 3 O 4 to the total mass of Fe, FeO, Fe 3 O 4 and Fe 2 O 3 is It is 90% or more, preferably 95% or more.

アウターリード部2bの材料としては公知の任意の材料とすることができるが、例えばニッケル(Ni)線、Niとマンガン(Mn)との合金からなる線、ジュメット(鉄(Fe)とニッケル(Ni)の合金線に銅(Cu)をクラッドした)線等が利用できる。   The material of the outer lead portion 2b can be any known material. For example, a nickel (Ni) wire, a wire made of an alloy of Ni and manganese (Mn), jumet (iron (Fe) and nickel (Ni Or the like) can be used.

ガラス部3の材料としては公知の任意の材料とすることができるが、例えば硼珪酸ガラスやアルミノシリケートガラスが挙げられる。ガラス部3には、インナーリード部2aとの界面からガラス部3の内側に向かってFe拡散層が形成されている。Fe拡散層は後述するように、インナーリード部2aの構成元素であるFe成分が熱拡散することで形成されたものであり、インナーリード部2aとガラス部3の接合強度の向上に寄与する。   The material of the glass part 3 can be any known material, and examples thereof include borosilicate glass and aluminosilicate glass. In the glass part 3, an Fe diffusion layer is formed from the interface with the inner lead part 2a toward the inside of the glass part 3. As will be described later, the Fe diffusion layer is formed by thermally diffusing an Fe component that is a constituent element of the inner lead portion 2a, and contributes to an improvement in bonding strength between the inner lead portion 2a and the glass portion 3.

Fe拡散層は界面に近い方のFe高濃度層とその内側のFe低濃度層に分かれている。Fe高濃度層はFeの濃度勾配が急であり、ガラス部3の内側に行くに従って急激にFeの濃度が減少していく層である。一方、Fe低濃度層はFeの濃度勾配が緩やかであり、ガラス部3の内側に行くに従って徐々にFeの濃度が減少していく層である。Feの濃度勾配が急激に変化する折点が両者の境界となる。Fe高濃度層及びFe低濃度層は、Fe拡散層内のFe濃度の推移から相対的に定まるものであり、例えばFe高濃度層が一定濃度以上のFeを含有しなければならないということではない。   The Fe diffusion layer is divided into an Fe high concentration layer closer to the interface and an Fe low concentration layer inside thereof. The Fe high-concentration layer has a steep Fe concentration gradient and is a layer in which the Fe concentration rapidly decreases toward the inside of the glass portion 3. On the other hand, the Fe low-concentration layer is a layer in which the Fe concentration gradient is gentle and the Fe concentration gradually decreases toward the inside of the glass portion 3. The break point where the Fe concentration gradient changes suddenly becomes the boundary between the two. The Fe high-concentration layer and the Fe low-concentration layer are relatively determined from the transition of the Fe concentration in the Fe diffusion layer. For example, it does not mean that the Fe high-concentration layer must contain a certain concentration or more of Fe. .

Fe高濃度層は、厚くなり過ぎるとガラス部3の熱膨張係数の増大や機械的強度の低下をもたらす一方で、薄すぎるとインナーリード部2aとの接合強度の向上効果が得られなくなる。そのため、本発明ではFe高濃度層の平均厚みを1〜3μmと規定している。Fe高濃度層の平均厚みは好ましくは1〜2μmである。   If the Fe high-concentration layer is too thick, it causes an increase in the thermal expansion coefficient of the glass portion 3 and a decrease in mechanical strength. On the other hand, if it is too thin, the effect of improving the bonding strength with the inner lead portion 2a cannot be obtained. Therefore, in this invention, the average thickness of Fe high concentration layer is prescribed | regulated as 1-3 micrometers. The average thickness of the Fe high concentration layer is preferably 1 to 2 μm.

また、Fe高濃度層及びFe低濃度層の合計の厚みであるFe拡散層の厚みは、ガラスの機械的強度の低下を抑制しながら高い接合強度を得る観点から、平均して5〜25μmであるのが好ましく、10〜20μmであるのがより好ましい。   The thickness of the Fe diffusion layer, which is the total thickness of the Fe high-concentration layer and the Fe low-concentration layer, is 5 to 25 μm on average from the viewpoint of obtaining a high bonding strength while suppressing a decrease in the mechanical strength of the glass. It is preferable that it is 10 to 20 μm.

Fe高濃度層の平均厚み及びFe拡散層の平均厚みは、ガラス部3とインナーリード部2aの界面の断面を電子線マイクロアナライザ(EPMA)によって、界面に直角な方向に元素の線分析を行うことで測定可能である。
具体的には、Fe高濃度層の平均厚みは、EPMAの線分析によって、ガラス部3の表面から内部に向かう厚み方向をX軸、Fe質量濃度をY軸として、Feの濃度曲線を描いたとき、高Fe含有層の急勾配の濃度曲線部分と低Fe含有層の緩勾配の濃度曲線部分の折点に当たる厚み地点をFe高濃度層とFe低濃度層の境界として、インナーリード部2aとガラス部3の界面から当該境界までの厚み方向の長さを求め、複数箇所における測定値の平均値として与えられる。折点付近のFe濃度曲線が丸みを帯びていて境界が不明瞭なときは、Fe含有量の濃度曲線において、接線の角度がX軸に対して135°になる深さ地点を境界とする。
また、Fe拡散層の平均厚みは、ガラス部3とインナーリード部2aの界面からガラス側におけるFe検出下限(Fe濃度が2質量%の箇所)位置までの厚み方向の長さを指す。
ガラス部3とインナーリード部2aの界面は、EPMAの線分析において、Siの濃度が急激に立ち上がる位置とする。
Fe濃度曲線及びSi濃度曲線の例を図2に示す。
The average thickness of the Fe high-concentration layer and the average thickness of the Fe diffusion layer are obtained by performing an elemental line analysis of the cross section of the interface between the glass part 3 and the inner lead part 2a with an electron beam microanalyzer (EPMA). Can be measured.
Specifically, the average thickness of the Fe high-concentration layer is a Fe concentration curve drawn by EPMA line analysis, with the thickness direction from the surface of the glass portion 3 toward the inside being the X axis and the Fe mass concentration being the Y axis. When the inner lead portion 2a is a boundary between the Fe high-concentration layer and the Fe low-concentration layer, the thickness point corresponding to the break point between the steep concentration curve portion of the high Fe-containing layer and the low-concentration concentration curve portion of the low Fe-containing layer. The length of the thickness direction from the interface of the glass part 3 to the said boundary is calculated | required, and it gives as an average value of the measured value in multiple places. When the Fe concentration curve near the folding point is rounded and the boundary is unclear, the boundary is the depth point where the tangent angle is 135 ° with respect to the X axis in the concentration curve of the Fe content.
The average thickness of the Fe diffusion layer refers to the length in the thickness direction from the interface between the glass portion 3 and the inner lead portion 2a to the Fe detection lower limit (location where the Fe concentration is 2 mass%) on the glass side.
The interface between the glass part 3 and the inner lead part 2a is set to a position where the Si concentration rapidly rises in the EPMA line analysis.
An example of the Fe concentration curve and the Si concentration curve is shown in FIG.

本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極は一実施形態において、ガラス部3とインナーリード部2aとの界面の断面をSEM観察したときに、界面が形成するガラス部3とインナーリード部2aとの境界線の長さ100μm当たりのインナーリード部2aへの深さ3μm以上の凹部の数が平均して4個以下であり、好ましくは2個以下である。凹部を少なく抑えることで、ガラス部3とインナーリード部2aとの接合強度を高くすることが可能となる。   In one embodiment of the electrode for a cold cathode fluorescent lamp according to the present invention, when the cross section of the interface between the glass part 3 and the inner lead part 2a is observed with an SEM, the glass part 3 and the inner lead part 2a formed by the interface are formed. The number of recesses having a depth of 3 μm or more to the inner lead portion 2a per 100 μm of the boundary line on average is 4 or less, preferably 2 or less. By suppressing the number of recesses, the bonding strength between the glass part 3 and the inner lead part 2a can be increased.

凹部を少なく抑えるためには、インナーリード部の酸化の過程で母材と密着性が悪いFe23を生成させないことが重要である。Fe23が生成すると母材と酸化層の間に空隙が生成し、これが凹部として現れる。この状態でFe23を還元してFe34やFeOにしても上記の空隙が残存し、ガラス部を形成させるとガラス部とリード部の接合強度が低下する。大気中で酸化するとFe23が生成しやすいので、Fe23の生成を防ぐにはインナーリード部を酸化するときに窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性雰囲気中に水蒸気を添加した雰囲気で酸化処理をするとインナーリード表面に緻密で欠陥の少ない酸化層(FeO及びFe34)を生成できる。具体的な酸化処理条件は後述する。 In order to suppress the number of recesses, it is important not to generate Fe 2 O 3 having poor adhesion to the base material during the oxidation process of the inner lead portion. When Fe 2 O 3 is generated, voids are generated between the base material and the oxide layer and appear as concave portions. In this state, even if Fe 2 O 3 is reduced to Fe 3 O 4 or FeO, the above voids remain, and when the glass part is formed, the bonding strength between the glass part and the lead part decreases. Since it is easy to produce Fe 2 O 3 when oxidized in the atmosphere, in order to prevent the formation of Fe 2 O 3 , an atmosphere in which water vapor is added to an inert atmosphere such as nitrogen gas or argon gas when oxidizing the inner lead part When the oxidation treatment is performed, a dense oxide layer (FeO and Fe 3 O 4 ) with few defects can be formed on the inner lead surface. Specific oxidation treatment conditions will be described later.

(冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法)
図3を参照しながら、本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法の一実施形態について以下に説明する。
(Method for producing electrode for cold cathode fluorescent lamp)
With reference to FIG. 3, an embodiment of a method for manufacturing a cold cathode fluorescent lamp electrode according to the present invention will be described below.

(1)電極部の形成
平板状の金属板を、深絞り加工、プレス加工、スエージング加工等することで有底カップ状の電極部1を形成する。
(1) Formation of electrode portion The bottomed cup-shaped electrode portion 1 is formed by subjecting a flat metal plate to deep drawing, pressing, swaging, or the like.

(2)リード溶接
インナーリード部2a及びアウターリード部2bを用意し、これらの端部同士を抵抗溶接、レーザー溶接、超音波溶接等により接合する。このとき、接合部分に溶接コブ4を形成しておくと、ガラスビーズをインナーリード部2aの外周に配置する際の位置決めに役立つ。
(2) Lead welding The inner lead part 2a and the outer lead part 2b are prepared, and these end parts are joined together by resistance welding, laser welding, ultrasonic welding or the like. At this time, if the welding bump 4 is formed at the joint portion, it is useful for positioning when the glass beads are arranged on the outer periphery of the inner lead portion 2a.

(3)酸化処理
インナーリード部2aは、ガラス部3との濡れ性を向上させるために、表面を酸化処理する。この酸化処理は、露点が−5〜30℃の不活性ガス雰囲気下で800〜1000℃で5〜15分間加熱して行う水蒸気酸化による方法が好ましい。
酸化処理する際の雰囲気ガスの露点、すなわち水蒸気量を調節することで酸化層の形態や成長速度を制御できるメリットが得られる。大気中の酸素を利用した酸化処理だとFe23の酸化層が生成し、欠陥や剥離が生じて、好ましくない。露点を上記の範囲としたのは、所望の厚さの酸化層を生成するための実験事実に基づく。露点は0〜25℃とするのがより好ましい。
不活性ガスとしては、窒素、希ガス(He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn)又はこれらの混合ガスが挙げられる。低コストであることから窒素がより好ましい。
加熱温度を上記の範囲としたのは、所望の厚さの酸化層を生成するための実験事実に基づく。加熱温度は840〜950℃とするのがより好ましい。
酸化処理工程はリード溶接の前及び後の何れの段階で実施しても良いが、アウターリードとガラス接合されたインナーリードとの溶接において、位置合わせ精度が低下してしまうので、リード溶接後に実施することが好ましい。リード溶接後に酸化処理する場合にはインナーリード部2a及びアウターリード部2bの両方の表面が酸化する。
(3) Oxidation treatment The inner lead portion 2 a oxidizes the surface in order to improve wettability with the glass portion 3. This oxidation treatment is preferably performed by steam oxidation performed by heating at 800 to 1000 ° C. for 5 to 15 minutes in an inert gas atmosphere having a dew point of −5 to 30 ° C.
The merit of controlling the form and growth rate of the oxide layer can be obtained by adjusting the dew point of the atmospheric gas during the oxidation treatment, that is, the amount of water vapor. An oxidation treatment using oxygen in the atmosphere is not preferable because an Fe 2 O 3 oxide layer is formed, causing defects and peeling. The dew point in the above range is based on experimental facts for producing an oxide layer having a desired thickness. The dew point is more preferably 0 to 25 ° C.
Examples of the inert gas include nitrogen, rare gases (He, Ne, Ar, Kr, Xe, Rn) or a mixed gas thereof. Nitrogen is more preferred because of its low cost.
The heating temperature within the above range is based on experimental facts for producing an oxide layer having a desired thickness. The heating temperature is more preferably 840 to 950 ° C.
The oxidation treatment process may be performed at any stage before or after lead welding, but the positioning accuracy is reduced in welding between the outer lead and the glass-bonded inner lead. It is preferable to do. When oxidation is performed after lead welding, the surfaces of both the inner lead portion 2a and the outer lead portion 2b are oxidized.

(4)ガラス部の配置
酸化処理後のインナーリード部2aの外周を取り囲むようにガラス部3を配置する。例えば、貫通孔を有するガラスビーズを挿通して所定位置に配置する。例えば、ガラスビーズの貫通孔の径を、インナーリード部2aの直径よりも大きく溶接コブ4の直径よりも小さくすることで、インナーリード部2aに挿通されたガラスビーズはインナーリード部2aの溶接コブのところで位置決めすることができる。
(4) Arrangement of Glass Part The glass part 3 is arranged so as to surround the outer periphery of the inner lead part 2a after the oxidation treatment. For example, a glass bead having a through hole is inserted and arranged at a predetermined position. For example, by making the diameter of the through hole of the glass bead larger than the diameter of the inner lead part 2a and smaller than the diameter of the welding cob 4, the glass bead inserted into the inner lead part 2a becomes the welding cove of the inner lead part 2a. Can be positioned at.

(5)ガラス部の接合
インナーリード部2aの外周にガラス部3を配置した後、ガラス部3をインナーリード部2aの外周に接合するための加熱処理を行う。加熱処理することで、ガラス部3はインナーリード部2aの外周に融着する。このとき、インナーリード部2aのFe成分がガラス部3の内部に拡散することによってインナーリード部2aとガラス部3の接合強度が高まる。この加熱処理は露点が−60〜−10℃の不活性ガス雰囲気下でインナーリード部を800〜1000℃で1〜10分間加熱する方法が好ましい。
加熱処理する際の雰囲気ガスの露点は酸化処理のときよりも低く設定する。これはインナーリードの酸化層の増大を抑制するためである。ここでも、大気雰囲気下での加熱処理だと酸化層の厚さが厚すぎてガラスとの接合が困難となって、好ましくない。露点は−60〜−20℃とするのがより好ましい。
不活性ガスとしては、窒素、希ガス(He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn)又はこれらの混合ガスが挙げられる。低コストであることから窒素がより好ましい。
加熱温度を上記の範囲としたのは、Feのガラス中拡散状況を所望のプロフィールにするための実験事実の理由に基づく。加熱温度は820〜950℃とするのがより好ましい。
この加熱処理はリード溶接の前及び後の何れの段階で実施しても良いが、インナーリード部2aとガラス部3の位置決めが行いやすいことから、リード溶接後に実施することが好ましい。
(5) Bonding of glass part After the glass part 3 is disposed on the outer periphery of the inner lead part 2a, heat treatment is performed for bonding the glass part 3 to the outer periphery of the inner lead part 2a. By performing the heat treatment, the glass portion 3 is fused to the outer periphery of the inner lead portion 2a. At this time, the Fe component of the inner lead portion 2 a diffuses into the glass portion 3, thereby increasing the bonding strength between the inner lead portion 2 a and the glass portion 3. This heat treatment is preferably performed by heating the inner lead portion at 800 to 1000 ° C. for 1 to 10 minutes in an inert gas atmosphere having a dew point of −60 to −10 ° C.
The dew point of the atmospheric gas during the heat treatment is set lower than that during the oxidation treatment. This is to suppress an increase in the oxide layer of the inner lead. In this case, too, heat treatment in an air atmosphere is not preferable because the thickness of the oxide layer is too thick and it becomes difficult to join the glass. The dew point is more preferably -60 to -20 ° C.
Examples of the inert gas include nitrogen, rare gases (He, Ne, Ar, Kr, Xe, Rn) or a mixed gas thereof. Nitrogen is more preferred because of its low cost.
The reason why the heating temperature is in the above range is based on the experimental facts for obtaining the desired profile of the diffusion state of Fe in the glass. The heating temperature is more preferably 820 to 950 ° C.
This heat treatment may be performed at any stage before and after lead welding, but is preferably performed after lead welding because the inner lead portion 2a and the glass portion 3 are easily positioned.

(6)還元処理
(5)の加熱処理の後、インナーリード部2aの不要な酸化層を除去するために還元性雰囲気で加熱してリード部の表面を還元処理する。還元処理の方法は特に制限はないが、例えば、電気炉中に水素ガスを入れ、還元性雰囲気中で加熱温度600〜700℃、加熱時間5〜20分程度加熱して、インナーリード部2a上のガラス部3との接合に寄与しないインナーリード2a上の酸化層を、還元させ除去する方法が挙げられる。熱処理温度が低く、時間が短いため、ガラス内のFe拡散状況に影響を与えることはほとんどない。
還元処理はリード溶接の前及び後の何れの段階で実施しても良いが、溶接装置の生産性を考えるとリード溶接後に実施することが好ましい。リード溶接後に還元処理する場合にはインナーリード部2a及びアウターリード部2bの両方の表面が還元する。
(6) Reduction treatment After the heat treatment of (5), the surface of the lead portion is reduced by heating in a reducing atmosphere in order to remove an unnecessary oxide layer of the inner lead portion 2a. The method of the reduction treatment is not particularly limited. For example, hydrogen gas is put in an electric furnace and heated in a reducing atmosphere at a heating temperature of 600 to 700 ° C. for a heating time of about 5 to 20 minutes. There is a method of reducing and removing the oxide layer on the inner lead 2a that does not contribute to the bonding with the glass part 3. Since the heat treatment temperature is low and the time is short, it hardly affects the Fe diffusion state in the glass.
The reduction treatment may be performed at any stage before and after lead welding, but is preferably performed after lead welding in view of the productivity of the welding apparatus. When reduction treatment is performed after lead welding, the surfaces of both the inner lead portion 2a and the outer lead portion 2b are reduced.

(7)電極部の接合
電極部1の形成後、抵抗溶接等によって電極部1の底部とインナーリード部2aの端部をレーザー溶接、抵抗溶接、超音波溶接等により接合する。この接合工程を実施する順番には特に制限はないが、電極部1とインナーリード部2aの接合部の汚れや酸化膜を除去することで良好な接合強度が得られるという理由により最後に実施することが好ましい。
(7) Joining of electrode part After formation of the electrode part 1, the bottom part of the electrode part 1 and the end part of the inner lead part 2a are joined by laser welding, resistance welding, ultrasonic welding or the like by resistance welding or the like. Although there is no restriction | limiting in particular in the order which implements this joining process, it implements at the end for the reason that favorable joining strength is obtained by removing the stain | pollution | contamination and oxide film of the junction part of the electrode part 1 and the inner lead part 2a. It is preferable.

上記(1)〜(7)の工程を経ることで本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極を製造することができる。工程の順番は上記で述べた以外は自由であり、特に制限を受けない。例えば、以下のような順番が考えられる。工程(1)は工程(7)の前であればどこで実施しても良い。
(2)→(3)→(4)→(5)→(6)→(7)
(3)→(4)→(5)→(6)→(2)→(7)
本発明に係る冷陰極蛍光ランプ用電極は冷陰極蛍光ランプに装着することができる。冷陰極蛍光ランプ用電極を冷陰極蛍光ランプに装着する方法自体は公知であり、特に説明を要しないが、例えば以下の手順で装着することができる。図4を参照すると、まず内部に蛍光体21を配置したガラス管22を用意する。そして、ガラス管22の内部に水銀及び希ガスを充填した状態でガラス管22の両端に冷陰極蛍光ランプ用電極を対向させて挿入し、ガラス部3でガラス管22の両端を封止する。封止はガラス部3とガラス管22の加熱融着によって行うことができる。加熱融着の際の温度は800以上1000℃未満であり、典型的には850〜950℃である。また、加熱時間は1〜10分間、典型的には2〜7分間である。この程度の温度及び時間条件ではFe拡散層に変化はほとんど生じない。逆に、1000℃以上の高温で加熱融着するとFe拡散層に変化が生じ、インナーリード部2aとガラス部3の間の接合強度が低下するおそれがあるため避けるべきである。
Through the steps (1) to (7), the cold cathode fluorescent lamp electrode according to the present invention can be produced. The order of the steps is free except as described above, and is not particularly limited. For example, the following order can be considered. Step (1) may be performed anywhere before step (7).
(2) → (3) → (4) → (5) → (6) → (7)
(3) → (4) → (5) → (6) → (2) → (7)
The electrode for a cold cathode fluorescent lamp according to the present invention can be mounted on a cold cathode fluorescent lamp. A method of attaching the cold cathode fluorescent lamp electrode to the cold cathode fluorescent lamp is known per se and need not be explained in particular. For example, it can be attached by the following procedure. Referring to FIG. 4, first, a glass tube 22 having a phosphor 21 disposed therein is prepared. Then, with the glass tube 22 filled with mercury and a rare gas, cold cathode fluorescent lamp electrodes are inserted facing both ends of the glass tube 22, and both ends of the glass tube 22 are sealed with the glass portion 3. Sealing can be performed by heat fusion of the glass portion 3 and the glass tube 22. The temperature at the time of heat fusion is 800 or more and less than 1000 ° C, and typically 850 to 950 ° C. The heating time is 1 to 10 minutes, typically 2 to 7 minutes. Under such temperature and time conditions, the Fe diffusion layer hardly changes. On the contrary, when heat-sealing at a high temperature of 1000 ° C. or higher, the Fe diffusion layer is changed, and the bonding strength between the inner lead portion 2a and the glass portion 3 may be reduced, and should be avoided.

以下、本発明及びその利点をより良く理解するための実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されることはない。   Examples for better understanding of the present invention and its advantages are shown below, but the present invention is not limited to these examples.

<リード溶接>
コバール(54質量%Fe−29質量%Ni−17質量%Co)製のインナーリード線(φ0.75mm、長さ3.0mm)及び、Ni−Mn合金(98質量%Ni−2質量%Mn)製のアウターリード線(φ0.60mm、長さ12mm)を用意した。インナーリード線及びアウターリード線の端部同士を抵抗溶接してリード線を作製した。これらの接合部分には溶接コブ(φ1.1mm)を形成した。このようなリード線を各種の発明例及び比較例を製造するのに十分なだけ用意した。
<Lead welding>
Inner lead wire (φ0.75 mm, length 3.0 mm) made of Kovar (54 mass% Fe-29 mass% Ni-17 mass% Co) and Ni-Mn alloy (98 mass% Ni-2 mass% Mn) A manufactured outer lead wire (φ0.60 mm, length 12 mm) was prepared. The end portions of the inner lead wire and the outer lead wire were resistance welded to produce a lead wire. Welding bumps (φ1.1 mm) were formed at these joints. Sufficient lead wires were prepared for manufacturing various invention examples and comparative examples.

<酸化処理>
得られたリード線を電気炉に入れ、それぞれ表1に記載の雰囲気、酸素分圧、露点、材料温度及び加熱時間で加熱し、インナーリード線の表面に水蒸気酸化により酸化層を形成した。なお、この処理によりアウターリード線の表面も酸化される。No.10は特開2008−130396号公報(特許文献3)の実施例相当であり、酸化処理は2段階に分けて行った。なお、加熱時の材料温度から100℃までの冷却時間は6〜8分間とした。
<酸化層の厚さの評価>
酸化処理を行ったインナーリード線の表面をFIB−SEM複合装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製SMI3050SE)で酸化層の断面を露出させて、SEM観察(倍率:15,000倍)した。そして、観察される酸化層の厚みをSEM写真に基づいて境界線の方向に2μmおきに5箇所測定した。観察は任意の3視野について行い、その平均値を測定値とした。結果を表1に示す。
<Feの酸化形態>
X線回折((株)リガク社製型式RINT−2200)による定量分析で、酸化層中のFe、FeO、Fe34及びFe23の合計質量に対するFeO及びFe34の合計質量の割合(Fe酸化物比)を求めた。酸化層が形成されたインナーリード線(φ0.85mm×20mm長さを20本、板ガラス上に両面テープで固定し、約20mm×20mmの板状にする)の任意の3箇所についての平均値を測定値とした。結果を表1に示す。
<Oxidation treatment>
The obtained lead wires were put in an electric furnace and heated in the atmosphere, oxygen partial pressure, dew point, material temperature and heating time shown in Table 1, respectively, and an oxide layer was formed on the surface of the inner lead wire by steam oxidation. This process also oxidizes the surface of the outer lead wire. No. No. 10 corresponds to an example of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-130396 (Patent Document 3), and the oxidation treatment was performed in two stages. The cooling time from the material temperature during heating to 100 ° C. was 6 to 8 minutes.
<Evaluation of oxide layer thickness>
The surface of the inner lead wire subjected to the oxidation treatment was exposed with a FIB-SEM composite device (SMI3050SE, manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd.), and subjected to SEM observation (magnification: 15,000 times). Then, the thickness of the observed oxide layer was measured at intervals of 2 μm in the direction of the boundary line based on the SEM photograph. Observation was performed for any three visual fields, and the average value was taken as the measured value. The results are shown in Table 1.
<Oxidation form of Fe>
The total mass of FeO and Fe 3 O 4 with respect to the total mass of Fe, FeO, Fe 3 O 4 and Fe 2 O 3 in the oxide layer by quantitative analysis by X-ray diffraction (Model RINT-2200, manufactured by Rigaku Corporation) The ratio (Fe oxide ratio) was determined. The average value for any three locations of the inner lead wire (φ0.85mm × 20mm length, 20 pieces, fixed to the plate glass with double-sided tape and made into a plate shape of about 20mm × 20mm) formed with an oxide layer The measured value was used. The results are shown in Table 1.

<ガラスビーズ挿通>
次いで、φ0.85mmの貫通孔を有する硼珪酸ガラス製のガラスビーズを用意した。このガラスビーズを、水蒸気酸化後の各リード線にインナーリード線側から挿通した。ガラスビーズの貫通孔の径は、インナーリード線の直径よりも大きく溶接コブの直径よりも小さいため、リード線に挿通されたガラスビーズはインナーリード線の溶接コブのところで自然に位置決めされた。
<Glass beads insertion>
Next, glass beads made of borosilicate glass having a through hole of φ0.85 mm were prepared. The glass beads were inserted into each lead wire after steam oxidation from the inner lead wire side. Since the diameter of the through hole of the glass bead is larger than the diameter of the inner lead wire and smaller than the diameter of the welding bump, the glass bead inserted through the lead wire was naturally positioned at the welding lead of the inner lead wire.

<ガラス部接合>
ガラスビーズの位置を保持しながら、ガラスビーズが挿通された各リード線を電気炉に入れ、表2に記載の雰囲気、酸素分圧、露点、材料温度及び加熱時間で加熱し、ガラスビーズを溶融させることでインナーリード線の酸化層と接合した。No.10については、特許文献3の実施例にならい2段階に分けて行った。なお、加熱時の材料温度から100℃までの冷却時間は6〜8分間とした。
<Glass part bonding>
While holding the position of the glass beads, each lead wire inserted with the glass beads is put into an electric furnace and heated in the atmosphere, oxygen partial pressure, dew point, material temperature and heating time shown in Table 2 to melt the glass beads. As a result, it was joined to the oxide layer of the inner lead wire. No. No. 10 was divided into two stages according to the example of Patent Document 3. The cooling time from the material temperature during heating to 100 ° C. was 6 to 8 minutes.

<還元処理>
ガラスビーズを接合後、各リード線を電気炉に入れ、水素雰囲気中で材料温度650℃として10分間加熱した。
<Reduction treatment>
After joining the glass beads, each lead wire was placed in an electric furnace and heated at a material temperature of 650 ° C. for 10 minutes in a hydrogen atmosphere.

<電極部の接合>
平板状のNi板を、深絞り加工することで有底カップ状の電極部(φ2.0mm、長さ5.0mm)を形成し、その底部を上記リード線のインナーリード線側の端部にレーザー溶接して、冷陰極蛍光ランプ用電極を作製した。
<Junction of electrode part>
A bottomed cup-shaped electrode part (φ2.0 mm, length 5.0 mm) is formed by deep-drawing a flat Ni plate, and the bottom part is formed at the end of the lead wire on the inner lead wire side. Laser welding was performed to produce a cold cathode fluorescent lamp electrode.

<Fe拡散状態の評価>
このようにして得られた各冷陰極蛍光ランプ用電極について、エポキシ樹脂に埋め込んで固定し、耐水研磨紙で研磨をすることでガラスビーズとインナーリード線の界面の断面を露出させた。そして、EPMA(日本電子株式会社製型式JXA−8500F)によって、界面に直角な方向に元素の線分析を行い、上述した定義に基づき、「Fe高濃度層の平均厚み」及び「Fe拡散層の平均厚み」を測定した。測定値はそれぞれ5箇所の平均値とした。
EPMAの操作条件は以下とした。
加速電圧:15.0kV
照射電流:3.0×10-8
ビーム径:0.1μm
<Evaluation of Fe diffusion state>
Each of the cold cathode fluorescent lamp electrodes thus obtained was fixed by being embedded in an epoxy resin and polished with water-resistant abrasive paper to expose the cross section of the interface between the glass beads and the inner lead wire. And by EPMA (JEOL Co., Ltd. model JXA-8500F), elemental line analysis was performed in a direction perpendicular to the interface, and based on the above-mentioned definition, “average thickness of Fe high concentration layer” and “Fe diffusion layer The “average thickness” was measured. Each measured value was an average value at five locations.
The operating conditions of EPMA were as follows.
Acceleration voltage: 15.0kV
Irradiation current: 3.0 × 10 −8 A
Beam diameter: 0.1 μm

<界面のSEM観察による評価>
(i)境界線における凹部の平均個数
Fe拡散状態の評価と同様にガラスビーズとインナーリード線の界面の断面を露出させて、SEM観察(倍率:1,000倍)した。そして、観察されるガラスビーズとインナーリード線の境界線の長さ100μm当たりのコバール側への深さ3μm以上の凹部の数をSEM写真に基づいて数えた。観察は任意の10視野について行い、その平均値を測定値とした。参考用に、発明例No.5のSEM写真及び比較例No.10のSEM写真を図5に示す。
<Evaluation by SEM observation of interface>
(I) Average number of recesses in the boundary line Similar to the evaluation of the Fe diffusion state, the cross section of the interface between the glass beads and the inner lead wire was exposed and subjected to SEM observation (magnification: 1,000 times). Then, the number of concave portions having a depth of 3 μm or more to the Kovar side per 100 μm length of the boundary line between the observed glass beads and the inner lead wire was counted based on the SEM photograph. Observation was performed for any 10 visual fields, and the average value was taken as the measured value. For reference, Invention Example No. 5 SEM photograph and Comparative Example No. Ten SEM photographs are shown in FIG.

<接合強度の評価>
各冷陰極蛍光ランプ用電極について、ガラスビーズとインナーリード線の接合強度を評価した。板厚2mmの金属板にφ1.5mmの貫通穴を開けた治具を固定し、これにアウターリードを下から通し、アウターリードを上方に引張試験機で引張り、ガラスが破壊する強度で接合強度を評価した(図6の矢印参照)。
<Evaluation of bonding strength>
For each cold cathode fluorescent lamp electrode, the bonding strength between the glass beads and the inner lead wire was evaluated. Fix a jig with a φ1.5mm through hole on a metal plate with a thickness of 2mm, pass the outer lead through it from the bottom, pull the outer lead upward with a tensile tester, and the strength of breaking the glass. Was evaluated (see arrows in FIG. 6).

<ガラス接合後のリード部酸化層の厚みの評価>
Fe拡散状態の評価と同様にガラスビーズとインナーリード線の界面の断面を露出させてSEM観察(倍率:1,000倍)を行った。ガラスビーズとインナーリードの界面に残存する酸化物(層)の厚みを境界線の方向に10μmおきに5箇所測定した。観察は任意の3視野について行い、その平均値を測定値とした。なお、界面が形成するガラス部とインナーリード部との境界線の長さ100μm当たりの当該境界線に沿った酸化層の長さが累計で5μm未満である場合(境界線の長さに対して酸化層の累計長さが5%未満)は酸化層の平均厚みを「0」とし、括弧書きで酸化層の長さ割合を記入した。
<Evaluation of the thickness of the lead oxide layer after glass bonding>
Similarly to the evaluation of the Fe diffusion state, the cross section of the interface between the glass beads and the inner lead wire was exposed and SEM observation (magnification: 1,000 times) was performed. The thickness of the oxide (layer) remaining at the interface between the glass beads and the inner leads was measured at 10 points every 10 μm in the direction of the boundary line. Observation was performed for any three visual fields, and the average value was taken as the measured value. When the length of the oxide layer along the boundary line per 100 μm length of the boundary line between the glass part and the inner lead part formed by the interface is less than 5 μm in total (with respect to the boundary line length) The total thickness of the oxide layer was less than 5%), and the average thickness of the oxide layer was set to “0”, and the length ratio of the oxide layer was entered in parentheses.

上記の評価試験の結果を表3に示す。   Table 3 shows the results of the evaluation test.

<考察>
比較例であるNo.1は、大気中の酸化処理であるため、酸化処理後の酸化層が厚く、Fe酸化物比が小さく、また、Fe高濃度層が短く、Fe拡散層全体も短かった。また、境界線の深さ3μm以上の凹部の数が多かった。そのため、高い接合強度が得られなかった。
比較例であるNo.2は、大気中の酸化処理であるため、酸化処理後の酸化層が厚く、Fe酸化物比が小さく、また、Fe高濃度層が長く、Fe拡散層も長かった。また、境界線の深さ3μm以上の凹部の数が多かった。そのため、高い接合強度が得られなかった。
発明例であるNo.3は、Fe高濃度層が適切に制御されており、比較例に比べて高い接合強度が得られた。
発明例であるNo.4は、Fe高濃度層が適切に制御されており、更にはFe拡散層の厚みも好適であったため、発明例No.3に比べて高い接合強度が得られた。
発明例であるNo.5は、更に境界線の深さ3μm以上の凹部の数も少なかったため、発明例No.4に比べて更に高い接合強度が得られた。
発明例であるNo.6は、酸化処理後の酸化層の厚さが規定範囲内で厚めであるが、適切なガラス接合条件の選択でFe高濃度層及びFe拡散層の厚みが適切に制御されており、高い接合強度が得られた。
発明例であるNo.7は、酸化処理後の酸化層の厚さが規定範囲内で薄めであるが、適切なガラス接合条件の選択でFe高濃度層及びFe拡散層の厚みが適切に制御されており、高い接合強度が得られた。
発明例No.8及びNo.9は、酸化処理をアルゴン雰囲気中で実施したもので、酸化処理後の酸化層の厚さが適切でFe高濃度層及びFe拡散深さが適切に制御されており、高い接合強度が得られた。
比較例であるNo.10は、特許文献1の実施例に相当するが、酸化処理後の酸化層が厚かった。Fe高濃度層は適切であったが、Fe拡散深さは長かった。また、Fe酸化物比は高めであったが、一旦大気中で酸化処理を行っていたことから、境界線の深さ3μm以上の凹部の数が多く、本発明に比べて高い接合強度が得られなかった。
比較例であるNo.11は、ガラス接合温度が低いため、Fe高濃度層が短く、Fe拡散層全体も短く、酸化層の残存が確認された。そのため、低い接合強度となった。
<Discussion>
No. which is a comparative example. No. 1 was an oxidation treatment in the atmosphere, so the oxidized layer after the oxidation treatment was thick, the Fe oxide ratio was small, the Fe high concentration layer was short, and the entire Fe diffusion layer was also short. In addition, the number of recesses having a boundary line depth of 3 μm or more was large. Therefore, high bonding strength was not obtained.
No. which is a comparative example. Since No. 2 is an oxidation treatment in the atmosphere, the oxidized layer after the oxidation treatment was thick, the Fe oxide ratio was small, the Fe high concentration layer was long, and the Fe diffusion layer was also long. In addition, the number of recesses having a boundary line depth of 3 μm or more was large. Therefore, high bonding strength was not obtained.
Inventive example No. In No. 3, the Fe high-concentration layer was appropriately controlled, and a higher bonding strength was obtained compared to the comparative example.
Inventive example No. In No. 4, since the Fe high concentration layer was appropriately controlled and the thickness of the Fe diffusion layer was also suitable, Invention Example No. Compared to 3, a high bonding strength was obtained.
Inventive example No. No. 5 further had a small number of recesses having a boundary line depth of 3 μm or more. Compared to 4, a higher bonding strength was obtained.
Inventive example No. No. 6, the thickness of the oxidized layer after the oxidation treatment is thicker within the specified range, but the thickness of the Fe high-concentration layer and the Fe diffusion layer is appropriately controlled by selecting appropriate glass bonding conditions, and the high bonding Strength was obtained.
Inventive example No. No. 7 is that the thickness of the oxidized layer after the oxidation treatment is thin within a specified range, but the thickness of the Fe high concentration layer and the Fe diffusion layer is appropriately controlled by selecting appropriate glass bonding conditions, and the high bonding Strength was obtained.
Invention Example No. 8 and no. No. 9 is an oxidation treatment performed in an argon atmosphere. The thickness of the oxidized layer after the oxidation treatment is appropriate, the Fe high concentration layer and the Fe diffusion depth are appropriately controlled, and a high bonding strength is obtained. It was.
No. which is a comparative example. 10 corresponds to the example of Patent Document 1, but the oxidized layer after the oxidation treatment was thick. Although the Fe high concentration layer was appropriate, the Fe diffusion depth was long. Although the Fe oxide ratio was high, since the oxidation treatment was once performed in the air, the number of recesses having a boundary line depth of 3 μm or more was large, and a high bonding strength was obtained compared to the present invention. I couldn't.
No. which is a comparative example. No. 11 has a low glass bonding temperature, so the Fe high-concentration layer is short, the entire Fe diffusion layer is short, and the oxide layer remains. Therefore, the bonding strength was low.

1 電極部
2 リード部
2a インナーリード部
2b アウターリード部
3 ガラス部
4 溶接コブ
21 蛍光体
22 ガラス管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrode part 2 Lead part 2a Inner lead part 2b Outer lead part 3 Glass part 4 Welding edge 21 Phosphor 22 Glass tube

Claims (7)

電極部と、インナーリード部及びアウターリード部を有し、該電極の端部に接続されたリード部とを備えた冷陰極蛍光ランプ用電極であって、
インナーリード部は少なくとも表面側が鉄含有金属製であり、インナーリード部の外周にはガラス部が接合されており、ガラス部はインナーリード部との界面から内側に向かって平均厚みが5〜25μmのFe拡散層を有しており、Fe拡散層はFe高濃度層とそれより内側にあるFe低濃度層に分かれており、Fe高濃度層の平均厚みが1〜4μmであり、ガラス部とインナーリード部との界面の断面をSEM観察したときに、界面が形成するガラス部とインナーリード部との境界線の長さ100μm当たりのインナーリード部への深さ3μm以上の凹部の数が平均して4個以下である冷陰極蛍光ランプ用電極。
An electrode for a cold cathode fluorescent lamp, comprising an electrode portion, a lead portion having an inner lead portion and an outer lead portion and connected to an end portion of the electrode,
The inner lead portion is made of an iron-containing metal at least on the surface side, and a glass portion is bonded to the outer periphery of the inner lead portion. The glass portion has an average thickness of 5 to 25 μm from the interface with the inner lead portion toward the inside. It has an Fe diffusion layer, and the Fe diffusion layer is divided into an Fe high concentration layer and an Fe low concentration layer inside thereof, and the average thickness of the Fe high concentration layer is 1 to 4 μm. When the cross section of the interface with the lead part is observed by SEM, the number of recesses with a depth of 3 μm or more to the inner lead part per 100 μm length of the boundary line between the glass part and the inner lead part formed by the interface is averaged. 4 or less cold cathode fluorescent lamp electrodes.
ガラス部とインナーリード部との界面の断面をSEM観察したときに、界面が形成するガラス部とインナーリード部との境界線の長さに対して、当該境界線に沿った酸化物層の累計長さが5%未満である請求項1に記載の冷陰極蛍光ランプ用電極。   When the cross section of the interface between the glass part and the inner lead part is observed with an SEM, the total number of oxide layers along the boundary line is the length of the boundary line between the glass part and the inner lead part formed by the interface. The electrode for a cold cathode fluorescent lamp according to claim 1, having a length of less than 5%. 冷陰極蛍光ランプ用電極を製造するための、ガラス部への接合前のリード部であって、インナーリード部及びアウターリード部を有し、インナーリード部の表面に酸化層が形成されており、酸化層の平均厚みが0.2〜1.5μmであるリード部。   A lead part before joining to a glass part for manufacturing a cold cathode fluorescent lamp electrode, having an inner lead part and an outer lead part, and an oxide layer is formed on the surface of the inner lead part, The lead part whose average thickness of an oxide layer is 0.2-1.5 micrometers. 前記酸化層中のFe、FeO、Fe34及びFe23の合計質量に対するFeO及びFe34の合計質量の割合が90%以上である請求項3に記載のリード部。 The lead part according to claim 3, wherein the ratio of the total mass of FeO and Fe 3 O 4 to the total mass of Fe, FeO, Fe 3 O 4 and Fe 2 O 3 in the oxide layer is 90% or more. インナーリード部とアウターリード部を接合してリード部を形成する工程1と、露点が−5〜30℃の不活性ガス雰囲気下でインナーリード部を800〜1000℃で5〜15分間加熱することによりインナーリード部の表面を酸化処理する工程2と、インナーリード部の外周にガラス部を配置し、露点が−60〜−10℃の不活性ガス雰囲気下でインナーリード部を800〜1000℃で1〜10分間加熱することによりインナーリード部とガラス部を接合する工程3とを含む冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法。   Step 1 for forming the lead portion by joining the inner lead portion and the outer lead portion, and heating the inner lead portion at 800 to 1000 ° C. for 5 to 15 minutes in an inert gas atmosphere having a dew point of −5 to 30 ° C. Step 2 of oxidizing the surface of the inner lead part by the above, and placing a glass part on the outer periphery of the inner lead part, and the inner lead part at 800 to 1000 ° C. in an inert gas atmosphere having a dew point of −60 to −10 ° C. The manufacturing method of the electrode for cold cathode fluorescent lamps which includes the process 3 which joins an inner lead part and a glass part by heating for 1 to 10 minutes. 工程3の後に、還元性雰囲気で加熱してリード部の表面を還元処理する工程4と、リード部のインナーリード部側の端部を電極部に接合する工程5を更に含む請求項5に記載の冷陰極蛍光ランプ用電極の製造方法。   6. The method according to claim 5, further comprising, after Step 3, Step 4 of reducing the surface of the lead portion by heating in a reducing atmosphere, and Step 5 of joining the end portion of the lead portion on the inner lead portion side to the electrode portion. Of manufacturing an electrode for a cold cathode fluorescent lamp. 請求項1又は2に記載の冷陰極蛍光ランプ用電極を装着した冷陰極蛍光ランプ。   A cold cathode fluorescent lamp equipped with the cold cathode fluorescent lamp electrode according to claim 1.
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