JP2012185413A - Coating composition and method of manufacturing antireflection member using the same - Google Patents

Coating composition and method of manufacturing antireflection member using the same Download PDF

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康之 石田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating composition that can be used to manufacture an antireflection member having an excellent antireflection performance, transparency, and antistatic performance in a simple method and to provide a method of manufacturing an antireflection member using the same.SOLUTION: A coating composition contains at least inorganic particles A, inorganic particles B, inorganic particles C and a binder material. The inorganic particles A are inorganic particles which are surface-treated with a fluorine compound A. The inorganic particles B are inorganic particles having a refractive index of 1.65 or higher. The inorganic particles C are inorganic particles having a volume resistance value of 1×10(Ω cm) or lower.

Description

本発明は、反射防止部材の製造に好適な塗料組成物、及び当該塗料組成物を用いた反射防止部材の製造方法に関する。   The present invention relates to a coating composition suitable for manufacturing an antireflection member and a method for manufacturing an antireflection member using the coating composition.

反射防止部材は一般に陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。このような反射防止部材として、より広い波長領域の反射率を低減するために、屈折率の高い物質からなる高屈折率層と屈折率の低い物質からなる低屈折率層との多層の被膜をフィルムなどの支持基材の表面に積層する、いわゆるマルチコーティングが知られている(特許文献1)。   The antireflection member is generally used to prevent a decrease in contrast and reflection of an image due to reflection of external light in an image display device such as a cathode ray tube display (CRT), a plasma display panel (PDP), or a liquid crystal display (LCD). In addition, it is disposed on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectivity by using the principle of optical interference. As such an antireflection member, in order to reduce the reflectance in a wider wavelength region, a multilayer coating of a high refractive index layer made of a material having a high refractive index and a low refractive index layer made of a material having a low refractive index is used. So-called multi-coating, which is laminated on the surface of a supporting substrate such as a film, is known (Patent Document 1).

この反射防止部材を少ない工程で製造する方法として、1回の塗布により形成された1層の液膜から、2層以上の層を形成する反射防止積層体の製造方法が提案されている。特許文献2には「バインダー樹脂中に低屈折率微粒子と中乃至高屈折率微粒子が分散されているコーティング組成物を用いてワンコートにて形成された塗膜を含む反射防止積層体であって、該低屈折率微粒子としてフッ素系化合物により処理されているシリカ微粒子が用いられることにより、比重の差により塗膜の上部乃至中間部において低屈折率微粒子が偏在し、且つ中間部乃至下部において中乃至高屈折率微粒子が偏在していることを特徴とする反射防止積層体。」が提案されており、また、特許文献3には「構成元素が異なる2種類以上の無機粒子を含む1液の塗料組成物を1回塗布乾燥硬化する工程のみで反射率の異なる複数の層を構成する反射防止フィルムの製造方法であって、少なくとも一種類の無機粒子にフッ素化合物による表面処理が成されていることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。」が提案されている。さらに、特許文献4には「基材と、その上に多層構造を有する積層体の製造方法であって、前記基材上又は基材上に形成された層の上に、下記成分(A)〜(F)を含む液状硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この1の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、2以上の層を形成することを特徴とする積層体の製造方法。」が提案されている。   As a method of manufacturing this antireflection member with a small number of steps, a method of manufacturing an antireflection laminate in which two or more layers are formed from a single liquid film formed by one application has been proposed. Patent Document 2 states that “An antireflection laminate including a coating film formed by one coating using a coating composition in which low refractive index fine particles and medium to high refractive index fine particles are dispersed in a binder resin. By using silica fine particles treated with a fluorine-based compound as the low refractive index fine particles, the low refractive index fine particles are unevenly distributed in the upper part to the middle part of the coating film due to the difference in specific gravity, and in the middle part to the lower part. To high-refractive index fine particles are unevenly distributed. "Patent Document 3 discloses" one liquid containing two or more types of inorganic particles having different constituent elements. " A method for producing an antireflection film comprising a plurality of layers having different reflectivities only in a step of applying, drying and curing a coating composition once, wherein at least one kind of inorganic particles is made of a fluorine compound. Method for producing an antireflection film characterized in that the surface treatment is made. "Has been proposed. Further, Patent Document 4 states that “a substrate and a method for producing a laminate having a multilayer structure thereon, on the substrate or a layer formed on the substrate, the following component (A): A liquid curable resin composition containing ~ (F) is applied to form a coating film, and two or more layers are formed by evaporating the solvent from this one coating film. Manufacturing method "has been proposed.

また、このような反射防止部材をPDP、LCD等の各種ディスプレイの表面に用いる場合には、複数の機能性フィルムと貼合する必要がある。前記貼合工程内では、ロール状に巻き取られたフィルムの巻き出し、保護フィルムの剥離などの工程があり、これらの工程では剥離帯電によりが発生し、製造工程での埃の付着などが起こりやすい。これらを防止するためにも、反射防止部材には帯電防止性能が求められている。   Moreover, when using such an anti-reflective member on the surface of various displays, such as PDP and LCD, it is necessary to bond with a some functional film. Within the pasting step, there are steps such as unwinding the film wound up in a roll shape and peeling off the protective film. In these steps, peeling charging occurs and adhesion of dust occurs in the manufacturing process. Cheap. In order to prevent these problems, the antireflection member is required to have antistatic performance.

前記反射防止部材に帯電防止性を付与する方法として、特許文献5には高屈折率層が導電性を有することを特徴とする反射防止フィルムが提案されている。   As a method for imparting antistatic properties to the antireflection member, Patent Document 5 proposes an antireflection film in which the high refractive index layer has conductivity.

特開平7−5452号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-5542 特開2007−272132号公報JP 2007-272132 A 特開2008−070414号公報JP 2008-070414 A 特開2005−297539号公報JP 2005-297539 A 特開2002−31702号公報JP 2002-31702 A

本発明者らは簡易な方法で良好な反射防止性能と透明性に加えて、帯電防止性能を有する反射防止部材を製造するため、1回の塗布により形成された1層の液膜から2層以上の層を形成する製造方法として特許文献2〜4の方法を用い、これに帯電防止性能を付与する方法として特許文献5、6に記載の方法を組み合わせることを試みたが、反射防止性能、透明性と帯電防止性能を両立することができなかった。   In order to produce an antireflection member having antistatic performance in addition to good antireflection performance and transparency by a simple method, the present inventors have produced two layers from one liquid film formed by a single application. Although the method of patent documents 2-4 was used as a manufacturing method which forms the above layer, and it tried to combine the method of patent documents 5 and 6 as a method of giving antistatic performance to this, antireflection performance, It was impossible to achieve both transparency and antistatic performance.

従って本発明が解決しようとする課題は、簡易な方法で良好な反射防止性能、透明性に加えて帯電防止性能を有する反射防止部材を製造することが可能な塗料組成物、およびそれを用いた反射防止部材の製造方法を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is a coating composition capable of producing an antireflection member having antireflection performance in addition to good antireflection performance and transparency by a simple method, and using the same It is providing the manufacturing method of an antireflection member.

上記課題を解決するために本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、以下の発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。
1)無機粒子A、無機粒子B、無機粒子C、及びバインダー原料を含む塗料組成物。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied and as a result, completed the following invention. That is, the present invention is as follows.
1) A coating composition containing inorganic particles A, inorganic particles B, inorganic particles C, and a binder raw material.

無機粒子A: フッ素化合物Aにより表面処理された無機粒子。   Inorganic particles A: Inorganic particles surface-treated with the fluorine compound A.

無機粒子B: 25℃における屈折率が1.65以上の無機粒子。   Inorganic particles B: Inorganic particles having a refractive index of 1.65 or more at 25 ° C.

無機粒子C: 25℃における体積抵抗率が1×1010(Ω・cm)以下の無機粒子。 Inorganic particles C: Inorganic particles having a volume resistivity at 25 ° C. of 1 × 10 10 (Ω · cm) or less.

2)前記バインダー原料が、1分子あたり3個以上の反応性部位を有し、JIS K 0070−1992に基づく水酸基価が20以上150以下であるであることを特徴とする前記1)に記載の塗料組成物。   2) The binder material according to 1), wherein the binder material has 3 or more reactive sites per molecule, and a hydroxyl value based on JIS K 0070-1992 is 20 or more and 150 or less. Paint composition.

3)前記無機粒子Cの前記無機粒子Bに対する質量比(「無機粒子Cの質量」/「無機粒子Bの質量」)をC/Bとした際に、該C/Bが0.8以上1.5以下であることを特徴とする前記1)または2)に記載の塗料組成物。   3) When the mass ratio of the inorganic particles C to the inorganic particles B (“mass of the inorganic particles C” / “mass of the inorganic particles B”) is C / B, the C / B is 0.8 or more and 1 The coating composition as described in 1) or 2) above, which is 5 or less.

4)前記無機粒子Bと前記無機粒子Cの表面電荷量の差が、30μeq/g以下であることを特徴とする前記1)から3)のいずれかに記載の塗料組成物。   4) The coating composition according to any one of 1) to 3), wherein a difference in surface charge between the inorganic particles B and the inorganic particles C is 30 μeq / g or less.

本発明の塗料組成物は、簡易な方法で良好な反射防止性能、透明性に加えて帯電防止性能を有する反射防止部材を製造することが可能である。また本発明の製造方法を用いることにより、生産性を向上することもできる。   The coating composition of the present invention can produce an antireflection member having antireflection performance in addition to good antireflection performance and transparency by a simple method. Moreover, productivity can also be improved by using the manufacturing method of this invention.

本発明の塗料組成物により得られる反射防止部材の例である。It is an example of the antireflection member obtained by the coating composition of this invention. 本発明の塗料組成物により得られる反射防止部材の別の例である。It is another example of the antireflection member obtained by the coating composition of this invention.

本発明者らは、支持基材上に塗料組成物を1回塗布することにより2層以上の層からなる反射防止部材を製造する方法において、特許文献2〜4の従来技術と特許文献5の従来技術の組合せでは反射防止性能、透明性と帯電防止性能が両立できない理由を次の2つのように考えている。   In the method for producing an antireflection member composed of two or more layers by applying the coating composition once on a supporting substrate, the present inventors have disclosed the conventional techniques of Patent Documents 2 to 4 and Patent Document 5 There are two reasons why anti-reflection performance, transparency and anti-static performance cannot be achieved with the combination of the prior arts.

まず、第一の理由は高屈折率層の屈折率にある。1回の塗布により形成された1層の液膜から2層以上の層を形成する反射防止積層体の製造方法では、2層の形成を乾燥過程において自発的に発生させるため、2層間の界面形状が乾燥時の溶媒成分の毛管力により凹凸状に入り組んだ形状になる。また、乾燥過程の初期に自発的に層構造が形成されて塗膜表面が被覆されることから、塗膜内に溶媒成分の濃度勾配ができるため、得られた塗膜中に粒子の傾斜構造、すなわち相対的に低屈折率のバインダー成分が2層の界面側に多く、粒子が基材側に多くなる構造が形成される。   First, the first reason is the refractive index of the high refractive index layer. In the method of manufacturing an antireflection laminate in which two or more layers are formed from one liquid film formed by a single coating, the formation of the two layers is spontaneously generated during the drying process. The shape becomes an uneven shape due to the capillary force of the solvent component during drying. In addition, since the layer structure is spontaneously formed at the initial stage of the drying process and the coating film surface is coated, a concentration gradient of the solvent component is created in the coating film, so that the gradient structure of particles in the obtained coating film That is, a structure in which a binder component having a relatively low refractive index is increased on the interface side of the two layers and particles are increased on the substrate side is formed.

その結果、この構造(界面の凹凸構造と、層内の傾斜構造)は干渉ムラの抑制や塗膜の耐擦傷性、耐摩耗性に対しては有効であるが、反射防止機能の発現に対しては光学的なロスとなり、同等の反射防止性能を得るには、2回塗工により2層を形成する場合に比べて自発的な層構造の形成を行う場合には、2つの層を構成する粒子の間に大きな屈折率差をもうけることが必要になる。   As a result, this structure (the uneven structure of the interface and the inclined structure in the layer) is effective for suppressing interference unevenness, scratch resistance and abrasion resistance of the coating film, but for the manifestation of the antireflection function. In order to obtain the same antireflection performance, two layers are formed when a spontaneous layer structure is formed as compared with the case where two layers are formed by two coatings. It is necessary to make a large refractive index difference between the particles to be processed.

その結果、低屈折率層側の粒子の屈折率が1.30程度であるならば、十分な反射防止機能を発現させるためには高屈折率層側の粒子は屈折率1.65以上の高屈折率材料が必要になるが、これらの無機粒子は絶縁体か、あるいは導電性があっても帯電防止性能を得るには不十分である。   As a result, if the refractive index of the particles on the low refractive index layer side is about 1.30, the particles on the high refractive index layer side have a high refractive index of 1.65 or more in order to exhibit a sufficient antireflection function. Although a refractive index material is required, these inorganic particles are either an insulator or have conductivity, but are insufficient to obtain antistatic performance.

一方で特許文献5、6に記載の十分な帯電防止性能が得られる無機粒子は、粒子全体が均一相の置換型固溶体粒子、または1つの粒子の一部分に置換型固溶部を形成したコア−シェル型や種類の異なる粒子が接合した接合形粒子である。このような粒子はホストとなる絶縁性の無機粒子を構成する金属、または半金属元素(例えばATOでは4価のスズ)を酸化数の異なる元素(例えばATOでは5価のアンチモン)で置換したり(これをドーピングと呼ぶ)、ホストとなる無機粒子の結晶構造中に酸素欠損(例えばSnO2−x)を導入したり(これを欠陥導入と呼ぶ)することにより価電子帯を形成して導電性を発現している。そのため屈折率は基本的にホストとなる粒子の屈折率に依存するので、最大でも1.60程度と低いため、これらの材料を高屈折率材料に用いると反射防止機能が得られない。 On the other hand, the inorganic particles capable of obtaining sufficient antistatic performance described in Patent Documents 5 and 6 are substituted solid solution particles having a uniform phase as a whole, or a core in which a substituted solid solution portion is formed in a part of one particle. It is a bonded particle in which particles of different shell types and types are bonded. Such particles may replace the metal or metalloid element (for example, tetravalent tin in ATO) with an element having a different oxidation number (for example, pentavalent antimony in ATO), which constitutes the insulating inorganic particles as a host. (Referred to as doping), oxygen vacancies (for example, SnO 2-x ) are introduced into the crystal structure of the inorganic particles serving as the host (this is referred to as defect introduction), and a valence band is formed to conduct electricity. Expresses sex. Therefore, since the refractive index basically depends on the refractive index of the particles serving as the host, the maximum is as low as about 1.60. Therefore, when these materials are used for the high refractive index material, the antireflection function cannot be obtained.

第二の理由は乾燥過程での粒子の凝集にある。1回の塗布により形成された1層の液膜から2層以上の層を形成する反射防止積層体の製造方法においては、2層の形成が乾燥過程において自発的に発生するが、層構造の形成時には同時に粒子間の距離が近接し、粒子間の凝集も同時に起こりやすい。その結果、2種類の粒子の組み合わせによっては層構造の形成を著しく阻害し、層構造が形成できない場合がある。   The second reason is the aggregation of particles during the drying process. In the production method of an antireflection laminate in which two or more layers are formed from one liquid film formed by a single coating, the formation of two layers occurs spontaneously during the drying process. At the time of formation, the distance between the particles is close and aggregation between the particles tends to occur simultaneously. As a result, depending on the combination of the two types of particles, the formation of the layer structure may be significantly inhibited, and the layer structure may not be formed.

さらに特許文献2〜4の場合に記載のような第1層と第2層の膜厚がほぼ等しい場合に対し、1回の塗工で反射防止機能に加えてハードコート性までをも付与する場合には、第1層の厚みが第2層の厚みよりも大幅に薄くなるため、第1層に含まれる粒子の量がバインダー成分の量に比べて少なくなる。この場合、乾燥過程で枯渇効果によって凝集の発生が促進されるので、自発的な層構造の形成は、より限られた条件を必要とする。   Furthermore, in contrast to the case where the film thicknesses of the first layer and the second layer are substantially equal as described in the case of Patent Documents 2 to 4, a single coating provides not only an antireflection function but also a hard coat property. In this case, since the thickness of the first layer is significantly thinner than the thickness of the second layer, the amount of particles contained in the first layer is smaller than the amount of the binder component. In this case, since the occurrence of aggregation is promoted by the depletion effect during the drying process, the formation of the spontaneous layer structure requires more limited conditions.

このような条件の下で、特許文献5、6に記載の高屈折率で帯電防止性能が得られる材料は、前述のように、ホスト粒子に対するドーピングや欠陥導入を行っているため、ホスト粒子に比べて粒子表面の電荷(これを表面電荷量と呼ぶ)が大きくなり、乾燥過程での凝集が起こりやすくなる。このような粒子のみを高屈折率粒子に用いると、乾燥過程での自発的な総構造の形成が抑制され、反射防止機能、および帯電防止機能が得られなくなる。   Under such conditions, the materials having high refractive index and antistatic performance described in Patent Documents 5 and 6 introduce doping into host particles and introducing defects as described above. In comparison, the charge on the particle surface (referred to as the surface charge amount) is increased, and aggregation during the drying process is likely to occur. When only such particles are used for the high refractive index particles, the formation of a spontaneous total structure during the drying process is suppressed, and the antireflection function and the antistatic function cannot be obtained.

そこで本発明者らは、新たに簡易な方法で良好な反射防止性能、透明性に加えて帯電防止性能を有する反射防止部材を製造するため、1回の塗布により形成した1層の液膜から2層以上の層を形成する反射防止部材を連続的に安定して製造する製造方法において、以下の塗料組成物を用いることにより解決できることを見出した。   In order to manufacture an antireflection member having an antistatic performance in addition to a good antireflection performance and transparency by a new simple method, the present inventors have prepared a single-layer liquid film formed by a single application. It has been found that in the production method for continuously and stably producing an antireflection member for forming two or more layers, the problem can be solved by using the following coating composition.

本発明の塗料組成物は、特定の無機粒子およびバインダー原料に着目することにより、帯電防止機能を有しながら反射防止機能を発現させることを可能にした。   The coating composition of the present invention makes it possible to develop an antireflection function while having an antistatic function by paying attention to specific inorganic particles and binder raw materials.

具体的には本発明の塗料組成物は、無機粒子A、無機粒子B、無機粒子C、及びバインダー原料を含んでおり、前記無機粒子Aはフッ素化合物Aにより表面処理された無機粒子、無機粒子Bは屈折率が1.65以上の無機粒子、無機粒子Cは、体積抵抗率が1×1010(Ω・cm)以下の無機粒子である様態である。 Specifically, the coating composition of the present invention includes inorganic particles A, inorganic particles B, inorganic particles C, and a binder raw material, and the inorganic particles A are inorganic particles and inorganic particles surface-treated with a fluorine compound A. B is an inorganic particle having a refractive index of 1.65 or more, and the inorganic particle C is an inorganic particle having a volume resistivity of 1 × 10 10 (Ω · cm) or less.

無機粒子A,B,Cは上記の特性を満たすものであれば、後述する「粒子の種類」が同一でも異なっていても良いが、無機粒子Aと無機粒子B,Cは異なる種類であることの方が好ましく、無機粒子A,B、Cの全てが異なった種類であることがより好ましい。   As long as the inorganic particles A, B, and C satisfy the above characteristics, the “particle types” described later may be the same or different, but the inorganic particles A and the inorganic particles B and C are different types. Is more preferable, and it is more preferable that all of the inorganic particles A, B, and C are of different types.

ここで無機粒子Aの表面処理に用いるフッ素化合物Aとは、後述の一般式(2)で表される化合物である。無機粒子Aがフッ素化合物Aによって表面処理されていない場合には、自発的な総構造の形成が十分に行われない場合がある。   Here, the fluorine compound A used for the surface treatment of the inorganic particles A is a compound represented by the following general formula (2). When the inorganic particles A are not surface-treated with the fluorine compound A, the spontaneous total structure may not be sufficiently formed.

無機粒子Bの屈折率は前述の様に1.65以上が必要であるが、1.68以上が好ましく、1.70以上がより好ましい。ここで述べる屈折率は一般的な屈折率の表し方である波長589.3nm(ナトリウムのD線)での値を指す。   As described above, the refractive index of the inorganic particles B needs to be 1.65 or more, preferably 1.68 or more, and more preferably 1.70 or more. The refractive index described here refers to a value at a wavelength of 589.3 nm (sodium D line), which is a general way of expressing the refractive index.

ここで、無機粒子Bの屈折率が1.65未満では、前述の理由から反射防止性能が不十分になる。無機粒子Bの屈折率は高い分には問題ないが、現実的には3.0程度が上限である。   Here, when the refractive index of the inorganic particles B is less than 1.65, the antireflection performance is insufficient for the reasons described above. Although the refractive index of the inorganic particle B is high, there is no problem, but in reality, the upper limit is about 3.0.

無機粒子Cの屈折率が高い分には問題ないが、後述する導電性を有する材料では現実的に入手可能な原材料では、1.65程度が上限である。   Although there is no problem with the high refractive index of the inorganic particles C, the upper limit is about 1.65 in the raw material that can be actually obtained in the conductive material described later.

ここで述べる無機粒子の屈折率は、各無機粒子の単結晶について測定した屈折率ではなく、実際に塗料組成物に使用している粒子状態での屈折率を指し、粒子の種類として同一であっても結晶性、形状の影響を含んだものである。そのため、本明細書で示唆する粒子と種類や主とする結晶多形が同一の材料の文献値とは異なる場合があり、また同じ種類の粒子であっても、表面処理や粒子径、結晶化度によって異なる。粒子の屈折率測定方法については後述する。   The refractive index of the inorganic particles described here refers to the refractive index in the particle state actually used in the coating composition, not the refractive index measured for a single crystal of each inorganic particle, and is the same as the type of particle. Even including crystallinity and shape. Therefore, the particles suggested in this specification may differ from literature values for the same material and type and the main crystalline polymorph, and even for the same type of particles, surface treatment, particle size, crystallization Varies depending on the degree. A method for measuring the refractive index of the particles will be described later.

無機粒子Cの25℃における体積抵抗率は前述の様に1×1010(Ω・cm)以下であることが必要であるが、1×10(Ω・cm)以下が好ましく、1×10(Ω・cm)以下がより好ましい。 Although the volume resistivity at 25 ° C. of the inorganic particles C is required to be 1 × 10 10 (Ω · cm ) or less as described above, is preferably 1 × 10 9 (Ω · cm ) or less, 1 × 10 8 (Ω · cm) or less is more preferable.

無機粒子Cの25℃における体積抵抗率が1×1010(Ω・cm)よりも高い場合には、帯電防止性能が不十分になる。また、無機粒子Cの体積抵抗率が低い分には問題ないが、酸化物粒子であるならば現実的には1×10(Ω・cm)程度が限界である。 When the volume resistivity at 25 ° C. of the inorganic particles C is higher than 1 × 10 10 (Ω · cm), the antistatic performance becomes insufficient. In addition, there is no problem if the volume resistivity of the inorganic particles C is low, but if it is an oxide particle, the limit is practically about 1 × 10 2 (Ω · cm).

無機粒子Bの体積抵抗率は低い分には問題がないが、前述した屈折率を有する材料では現実的に入手可能な原材料では、1×1010(Ω・cm)程度が限界である。 Although the volume resistivity of the inorganic particles B is low, there is no problem, but the material having the above-described refractive index has a limit of about 1 × 10 10 (Ω · cm) in the raw material that can be actually obtained.

この無機粒子B、無機粒子Cの体積抵抗率とは、塗料組成物に使用している無機粒子単独の体積抵抗率を測定したもので、その詳細な測定方法は後述する。   The volume resistivity of the inorganic particles B and the inorganic particles C is obtained by measuring the volume resistivity of the inorganic particles used in the coating composition, and the detailed measurement method will be described later.

本発明の塗料組成物においては、バインダー原料の構造、物性に好ましい範囲がある。具体的にはバインダー原料1分子あたり3個以上の反応性部位を有し、JIS K 0070−1992に基づく水酸基価が25以上150以下であるであることが好ましく、20以上130以下であるであることがより好ましく、30以上130以下であるであることが特に好ましい。   In the coating composition of this invention, there exists a preferable range in the structure and physical property of a binder raw material. Specifically, the binder raw material has 3 or more reactive sites per molecule, and the hydroxyl value based on JIS K 0070-1992 is preferably 25 or more and 150 or less, more preferably 20 or more and 130 or less. More preferably, it is 30 or more and 130 or less.

ここで述べるバインダー原料とは、塗料組成物中に含まれる化合物であり、塗料組成物を用いて得られた反射防止部材の反射防止層中のバインダー成分の原料である。つまり、本発明の塗料組成物中に含まれるバインダー原料が、熱や電離放射線などにより硬化して、反射防止層に含まれるものを、バインダー成分という。なお、一部のバインダー原料については、反射防止層中でも塗料組成物中と同様の状態で存在する場合もあり(未反応のまま、反射防止層中に存在する場合もあり)、その場合でも反射防止層中のものはバインダー成分という。   The binder raw material described here is a compound contained in the coating composition, and is a raw material of the binder component in the antireflection layer of the antireflection member obtained by using the coating composition. That is, the binder material that is contained in the antireflection layer when the binder raw material contained in the coating composition of the present invention is cured by heat or ionizing radiation is referred to as a binder component. Some binder materials may be present in the antireflection layer in the same state as in the coating composition (there may be unreacted and exist in the antireflection layer). The thing in a prevention layer is called a binder component.

ここで反応性部位とは、後述の無機粒子Aの項のフッ素化合物Aに関する記載と同一である。また反応性部位の数は、バインダー成分の示性式から判断する。   Here, the reactive site is the same as the description regarding the fluorine compound A in the section of the inorganic particle A described later. The number of reactive sites is determined from the formula of the binder component.

バインダー原料1分子あたりの反応性部位が2よりも少ないと耐摩耗性、耐擦傷性が低下する。反応性部位の数が多い分には問題ないが、一般的には20程度が上限となっている。   When the number of reactive sites per molecule of the binder raw material is less than 2, the wear resistance and scratch resistance are lowered. Although there is no problem with the large number of reactive sites, the upper limit is generally about 20.

また水酸基価とはバインダー原料1分子あたりの水酸基の量を定量化したもので、具体的には試料1gをアセチル化したとき、水酸基と結合した酢酸を中和したのに必要とする水酸化カリウムのmg数によって表し、数値が大きいほど分子中の水酸基が多くなることを示す。   The hydroxyl value is a quantification of the amount of hydroxyl group per molecule of the binder material. Specifically, when 1 g of a sample is acetylated, potassium hydroxide required to neutralize acetic acid bonded to the hydroxyl group. The higher the numerical value, the greater the number of hydroxyl groups in the molecule.

水酸基価が20未満になると、塗料組成物中で無機粒子B、無機粒子Cの分散安定性が低下し、乾燥過程で、無機粒子B、無機粒子Cが凝集し、自発的な層構造の形成を反射防止機能、透過率が低下する。また、水酸基価が150よりも大きくなると、塗料組成物中で無機粒子Aの分散安定性が低下し、乾燥過程で、無機粒子Aが凝集しやすくなり、反射防止機能、透過率が低下する。   When the hydroxyl value is less than 20, the dispersion stability of the inorganic particles B and C in the coating composition is reduced, and the inorganic particles B and C aggregate in the drying process to form a spontaneous layer structure. The anti-reflection function, the transmittance decreases. On the other hand, when the hydroxyl value is larger than 150, the dispersion stability of the inorganic particles A in the coating composition is lowered, the inorganic particles A are likely to aggregate in the drying process, and the antireflection function and transmittance are lowered.

さらに、本発明の塗料組成物においては前記無機粒子Bと無機粒子Cの質量比にも好ましい範囲がある。具体的には、前記無機粒子Cの前記無機粒子Bに対する質量比(「無機粒子Cの質量」/「無機粒子Bの質量」)をC/Bとした際に、該C/Bが0.8以上1.5以下であることが好ましい。ここで述べる無機粒子の質量の評価方法については後述する。   Furthermore, in the coating composition of this invention, there exists a preferable range also in the mass ratio of the said inorganic particle B and the inorganic particle C. FIG. Specifically, when the mass ratio of the inorganic particles C to the inorganic particles B (“the mass of the inorganic particles C” / “the mass of the inorganic particles B”) is C / B, the C / B is 0.00. It is preferably 8 or more and 1.5 or less. The method for evaluating the mass of the inorganic particles described here will be described later.

無機粒子Cの前記無機粒子Bに対する質量比(C/B)が0.8未満では、帯電防止機能が低下しであり、1.5より大きくなると反射防止機能が低下する。   When the mass ratio (C / B) of the inorganic particles C to the inorganic particles B is less than 0.8, the antistatic function is lowered, and when it is larger than 1.5, the antireflection function is lowered.

また、無機粒子Bと無機粒子Cの表面状態には好ましい範囲があり、具体的には無機粒子Bと無機粒子Cの表面電荷量の差が30μeq/g以下であることが好ましく、25μeq/g以下であることがより好ましく、20μeq/g以下が特に好ましい。   Further, there is a preferable range in the surface state of the inorganic particles B and the inorganic particles C. Specifically, the difference in the surface charge amount between the inorganic particles B and the inorganic particles C is preferably 30 μeq / g or less, and 25 μeq / g. More preferably, it is more preferably 20 μeq / g or less.

ここで、粒子の表面電荷量とは単位粒子グラムあたりの表面電荷量(μeq/g)を指し、コロイド流動電位法、電気泳動法などの方法でとして測定可能である。   Here, the surface charge amount of particles refers to the surface charge amount per unit particle gram (μeq / g), and can be measured by a method such as colloid streaming potential method or electrophoresis method.

表面電荷量の差は、無機粒子Bの表面電荷と無機粒子Cの表面電荷の差の絶対値を指すものであり、無機粒子B、無機粒子Cのいずれの表面電荷が大きくてもよい。無機粒子Bと無機粒子Cの表面電荷量の差が20μeq/gよりも大きいと、乾燥過程において無機粒子Bと無機粒子Cが凝集しやすくなり、反射防止機能と透明性が低下する。表面電荷量の差が小さい分には問題なく0であってもよい。表面電荷量の調整は、例えば有機ケイ素化合物の種類、表面処理量の変更などによって調整することが可能である。   The difference in the amount of surface charge refers to the absolute value of the difference between the surface charge of the inorganic particles B and the surface charge of the inorganic particles C, and the surface charge of either the inorganic particles B or the inorganic particles C may be large. If the difference in surface charge between the inorganic particles B and the inorganic particles C is larger than 20 μeq / g, the inorganic particles B and the inorganic particles C tend to aggregate during the drying process, and the antireflection function and transparency are deteriorated. If the difference in the amount of surface charge is small, it may be 0 without any problem. The surface charge amount can be adjusted, for example, by changing the kind of the organosilicon compound, the surface treatment amount, or the like.

以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
[塗料組成物]
本発明の塗料組成物は、少なくとも無機粒子A、無機粒子B、無機粒子C、およびバインダー原料を含んでいることが重要である。これにより、本発明の塗料組成物を支持基材に1回のみ塗工することによって、反射防止性能と帯電防止性能を有する反射防止部材を得ることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
[Coating composition]
It is important that the coating composition of the present invention contains at least inorganic particles A, inorganic particles B, inorganic particles C, and a binder raw material. Thereby, the antireflection member which has antireflection performance and antistatic performance can be obtained by applying the coating composition of the present invention to the support substrate only once.

ここで「無機粒子」とは無機粒子の表面等の処理を施したものも含む。この表面処理とは無機粒子表面に化合物を化学結合(共有結合、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス結合、疎水結合等を含む)や吸着(物理吸着、化学吸着を含む)によって導入することを指す。   Here, “inorganic particles” include those obtained by treating the surface of inorganic particles. This surface treatment means introducing a compound onto the surface of inorganic particles by chemical bonds (including covalent bonds, hydrogen bonds, ionic bonds, van der Waals bonds, hydrophobic bonds, etc.) and adsorption (including physical adsorption and chemical adsorption). Point to.

本発明の塗料組成物は2種類以上の粒子を含むことが好ましい。2種類以上の粒子の内、少なくとも1種類は、他方の粒子に対して相対的に屈折率が低いことが好ましく、屈折率の低い粒子が無機粒子Aであることが好ましい。   The coating composition of the present invention preferably contains two or more kinds of particles. At least one of the two or more types of particles preferably has a relatively low refractive index relative to the other particle, and the particles having a low refractive index are preferably inorganic particles A.

ここで粒子の種類とは粒子を構成する元素の種類によって決まり、何らかの表面処理を行う場合には、表面処理される前の粒子を構成する元素の種類によって決まる。例えば、酸化チタン(TiO)と酸化チタンの酸素の一部をアニオンである窒素で置換した窒素ドープ酸化チタン(TiO2−x)とでは、粒子を構成する元素が異なるために、異なる種類の粒子である。また、同一の元素、例えばZn、Oのみからなる粒子(ZnO)であれば、その粒径が異なる粒子が複数存在しても、またZnとOとの組成比が異なっていても、これらは同一種類の粒子である。また酸化数の異なるZn粒子が複数存在しても、粒子を構成する元素が同一である限りは(この例ではZn以外の元素が全て同一である限りは)、これらは同一種類の粒子である。 Here, the type of particle is determined by the type of element constituting the particle, and when performing some kind of surface treatment, it is determined by the type of element constituting the particle before the surface treatment. For example, titanium oxide (TiO 2 ) is different from nitrogen-doped titanium oxide (TiO 2−x N x ) in which part of oxygen in titanium oxide is replaced by nitrogen as an anion because the elements constituting the particles are different. It is a kind of particle. In addition, if particles (ZnO) consisting only of the same element, for example, Zn or O, even if there are a plurality of particles having different particle diameters or the composition ratio of Zn and O is different, these are The same type of particles. Even if there are a plurality of Zn particles having different oxidation numbers, as long as the elements constituting the particles are the same (in this example, all elements other than Zn are the same), these are the same kind of particles. .

本発明の塗料組成物は、前記無機粒子A、無機粒子B、無機粒子C、及びバインダー原料以外の成分を含んでいてもよく、このような成分としては、硬化剤、界面活性剤、分散剤、反応性部位を有する疎水性化合物Bなどを含んでもよい。
[無機粒子A]
無機粒子Aとはフッ素化合物Aにより処理された無機粒子であることが好ましい。この無機粒子Aが第1層の構成成分として好適である。塗料組成物中に無機粒子Aを有することで、本発明の塗料組成物を支持基材上に塗布した場合、無機粒子Aは空気側へ移動して最表面に屈折率の低い層(以下、最表面の層を第1層という。また相対的に屈折率の低い層を低屈折率層という)を形成することができる。
The coating composition of the present invention may contain components other than the inorganic particles A, the inorganic particles B, the inorganic particles C, and the binder raw material. Examples of such components include a curing agent, a surfactant, and a dispersant. In addition, a hydrophobic compound B having a reactive site may be included.
[Inorganic particles A]
The inorganic particles A are preferably inorganic particles treated with the fluorine compound A. This inorganic particle A is suitable as a constituent component of the first layer. By having the inorganic particles A in the coating composition, when the coating composition of the present invention is applied on a supporting substrate, the inorganic particles A move to the air side and have a layer having a low refractive index (hereinafter referred to as “refractive index”). The outermost layer is referred to as a first layer, and a layer having a relatively low refractive index is referred to as a low refractive index layer).

無機粒子Aの構成材料となる無機粒子としては、Si,Na,K,CaおよびMgからなる群より選択される少なくとも1つの元素を含む無機粒子が好ましい。さらに好ましくは、シリカ粒子(SiO)、アルカリ金属フッ化物(NaF,KFなど)およびアルカリ土類金属フッ化物(CaF、MgFなど)からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物を含む無機粒子である。耐久性、屈折率などの点からシリカ粒子が特に好ましい。 The inorganic particles that are the constituent material of the inorganic particles A are preferably inorganic particles containing at least one element selected from the group consisting of Si, Na, K, Ca, and Mg. More preferably, inorganic particles containing at least one compound selected from the group consisting of silica particles (SiO 2 ), alkali metal fluorides (NaF, KF, etc.) and alkaline earth metal fluorides (CaF 2 , MgF 2, etc.) It is. Silica particles are particularly preferable from the viewpoints of durability and refractive index.

シリカ粒子とはケイ素化合物または有機珪素化合物の重合(縮合)体のいずれの組成物から成る粒子を指し、一般例として、SiOなどのケイ素化合物から導出される粒子の総称である。 Silica particles refer to particles composed of any composition of a polymer compound (condensed) of a silicon compound or an organosilicon compound, and as a general example, is a generic term for particles derived from a silicon compound such as SiO 2 .

無機粒子Aの構成材料である無機粒子として、中空シリカ粒子や多孔質シリカ粒子を用いると、中空シリカ粒子や多孔質シリカ粒子が反射防止層の低屈折率層に含まれやすく、反射防止層の一部である低屈折率層の密度を下げ、屈折率を下げる効果が得られるので好ましい。   When hollow silica particles or porous silica particles are used as the inorganic particles that are the constituent material of the inorganic particles A, the hollow silica particles and the porous silica particles are easily contained in the low refractive index layer of the antireflection layer. This is preferable because the density of the low refractive index layer, which is a part, is lowered and the effect of lowering the refractive index is obtained.

無機粒子Aのフッ素化合物Aにより処理される前の数平均粒子径は1nm以上200nm以下であることが好ましい。数平均粒子径は20nm以上200nm以下がさらに好ましく、40nm以上150nm以下が特に好ましい。無機粒子の数平均粒子径が1nmよりも小さくなると、第1層中の空隙密度が低下し、屈折率が上昇したり透明度が低下したりすることがある。無機粒子の数平均粒子径が200nmよりも大きくなると、低屈折率層の厚さが厚くなり、反射防止性能が低下することがある。   The number average particle diameter of the inorganic particles A before being treated with the fluorine compound A is preferably 1 nm or more and 200 nm or less. The number average particle size is more preferably from 20 nm to 200 nm, particularly preferably from 40 nm to 150 nm. When the number average particle diameter of the inorganic particles is smaller than 1 nm, the void density in the first layer is lowered, and the refractive index may be increased or the transparency may be lowered. When the number average particle diameter of the inorganic particles is larger than 200 nm, the thickness of the low refractive index layer is increased, and the antireflection performance may be lowered.

前述の通り無機粒子Aとは、フッ素化合物Aにより処理された無機粒子を意味する。ここでフッ素化合物Aとは、後述の一般式(2)で表される化合物である。   As described above, the inorganic particles A mean inorganic particles treated with the fluorine compound A. Here, the fluorine compound A is a compound represented by the following general formula (2).

一般式(2)におけるフルオロアルキル基とは、アルキル基が持つ水素の一部、あるいはすべてがフッ素に置き換わった置換基であり、主にフッ素原子と炭素原子から構成される置換基である。   The fluoroalkyl group in the general formula (2) is a substituent in which part or all of the hydrogen of the alkyl group is replaced with fluorine, and is a substituent mainly composed of a fluorine atom and a carbon atom.

また、反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部位をさす。このような反応性部位として、反応性の観点からアルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基や、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる、反応性、ハンドリング性の観点から、アルコキシシリル基、シリルエーテル基あるいはシラノール基や、エポキシ基、アクリロイル(メタクリロイル)基が好ましい。   The reactive site refers to a site that reacts with other components by external energy such as heat or light. Examples of such reactive sites include alkoxysilyl groups and silanol groups in which alkoxysilyl groups are hydrolyzed from the viewpoint of reactivity, carboxyl groups, hydroxyl groups, epoxy groups, vinyl groups, allyl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, and the like. From the viewpoints of reactivity and handling properties, an alkoxysilyl group, a silyl ether group, a silanol group, an epoxy group, and an acryloyl (methacryloyl) group are preferable.

無機粒子Aを得るための、無機粒子に対するフッ素化合物Aによる処理は、一段階で行われてもよく、多段階で行われてもよい。また、複数の段階でフッ素化合物Aを用いても良いし、一つの段階のみでフッ素化合物Aを用いても良い。   The treatment with the fluorine compound A for the inorganic particles to obtain the inorganic particles A may be performed in one stage or may be performed in multiple stages. Further, the fluorine compound A may be used in a plurality of stages, or the fluorine compound A may be used only in one stage.

また無機粒子に対する処理にて好ましく用いられるフッ素化合物Aは、単一化合物でもよく、複数の異なる化合物を用いてもよい。フッ素化合物Aによる処理とは、無機粒子を化学的に修飾し、無機粒子にフッ素化合物Aを導入する工程をさす。   Moreover, the fluorine compound A preferably used in the treatment for the inorganic particles may be a single compound or a plurality of different compounds. The treatment with the fluorine compound A refers to a step of chemically modifying the inorganic particles and introducing the fluorine compound A into the inorganic particles.

無機粒子に直接フッ素化合物Aを導入する方法としては、1分子中にフッ素セグメントとシリルエーテル基(シリルエーテル基が加水分解されたシラノール基を含む)との両方を持つフルオロアルコキシシラン化合物を1種類以上と、開始剤とを共に撹拌する方法がある。しかし無機粒子に直接フッ素化合物Aを導入する場合、反応性の制御が困難になったり、塗料化後塗工時に塗工斑等が発生しやすくなったりする場合がある。   As a method of directly introducing fluorine compound A into inorganic particles, one kind of fluoroalkoxysilane compound having both a fluorine segment and a silyl ether group (including a silanol group obtained by hydrolyzing a silyl ether group) in one molecule. There is a method of stirring the above together with the initiator. However, when the fluorine compound A is introduced directly into the inorganic particles, it may be difficult to control the reactivity, or coating spots may easily occur during coating after coating.

また無機粒子Aを得るための別の方法としては、無機粒子を架橋成分にて処理し、フッ素化合物Aとつなぎ合わせる(フッ素化合物Aにより処理する)方法がある。この場合のフッ素化合物Aとしては、フルオロアルキルアルコール、フルオロアルキルエポキシド、フルオロアルキルハライド、フルオロアルキルアクリレート、フルオロアルキルメタクリレート、フルオロアルキルカルボキシレート(酸無水物およびエステル類を含む)、などを用いることができる。   Further, as another method for obtaining the inorganic particles A, there is a method in which the inorganic particles are treated with a crosslinking component and joined with the fluorine compound A (treated with the fluorine compound A). As the fluorine compound A in this case, fluoroalkyl alcohol, fluoroalkyl epoxide, fluoroalkyl halide, fluoroalkyl acrylate, fluoroalkyl methacrylate, fluoroalkyl carboxylate (including acid anhydrides and esters), and the like can be used. .

架橋成分とは分子内にフッ素は無いが、フッ素化合物Aと反応可能な部位と、無機粒子と反応可能な部位を少なくとも一カ所ずつ持っている化合物を指す。無機粒子と反応可能な部位としては反応性の観点からシリルエーテルおよびシリルエーテルの加水分解物であることが好ましい。これら化合物は一般的にシランカップリング剤と呼ばれ、例としては、グリシドキシアルコキシシラン類、アミノアルコキシシラン類、アクリロイルシラン類、メタクリロイルシラン類、ビニルシラン類、メルカプトシラン類、などを用いることができる。   The crosslinking component refers to a compound having no fluorine in the molecule, but having at least one site capable of reacting with the fluorine compound A and one site capable of reacting with the inorganic particles. The site capable of reacting with the inorganic particles is preferably silyl ether or a hydrolyzate of silyl ether from the viewpoint of reactivity. These compounds are generally called silane coupling agents. For example, glycidoxyalkoxysilanes, aminoalkoxysilanes, acryloylsilanes, methacryloylsilanes, vinylsilanes, mercaptosilanes, etc. may be used. it can.

無機粒子Aのより好ましい形態は、無機粒子を下記一般式(1)で示される化合物で処理し、さらに下記一般式(2)で示されるフッ素化合物Aで処理した粒子である。
B−R−SiR (OR3−n ・・・一般式(1)
D−R−Rf2 ・・・一般式(2)
(上記一般式中のB、Dは、反応性部位を示す。R、Rは、炭素数1から6のアルキレン基およびそれらから導出されるエステル構造を示す。R、Rは、水素または炭素数が1から4のアルキル基を示す。Rf2は、フルオロアルキル基を示す。nは、0から2の整数を示し、それぞれ側鎖を構造中に持ってもよい。)。
A more preferable form of the inorganic particles A is particles obtained by treating inorganic particles with a compound represented by the following general formula (1) and further treating with a fluorine compound A represented by the following general formula (2).
B—R 4 —SiR 5 n (OR 6 ) 3-n ... General formula (1)
DR 7 -R f2 General formula (2)
(B and D in the above general formula represent reactive sites. R 4 and R 7 represent an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms and an ester structure derived therefrom. R 5 and R 6 represent Hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R f2 represents a fluoroalkyl group, n represents an integer of 0 to 2, and each may have a side chain in the structure).

フッ素化合物Aの反応性部位としては、反応性二重結合基がより好ましい。この反応性二重結合基とは光または熱などのエネルギーをうけて発生したラジカルなどにより化学反応する官能基であり、具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。   As the reactive site of the fluorine compound A, a reactive double bond group is more preferable. This reactive double bond group is a functional group that chemically reacts with radicals generated by receiving energy such as light or heat, and specific examples include vinyl, allyl, acryloyl, and methacryloyl groups. It is done.

一般式(1)の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランおよびこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基および水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。   Specific examples of the general formula (1) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxyheptyltri Methoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxy Examples include silane and compounds in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups. That.

一般式(2)の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。   Specific examples of the general formula (2) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutylethyl acrylate, 3-perfluoro Butyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexylethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- Perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl acrylate 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadeca Fluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2 -Hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro Decylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5- Methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoro Heptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexafur Examples include orobutyl methacrylate.

無機粒子に対して、分子中にフルオロアルキル基Rf2を有さない一般式(1)で表される化合物を用いて処理することにより、簡便な反応条件で、無機粒子を修飾することができるばかりではなく、無機粒子に反応性を制御しやすい官能基を導入することができる。その結果、反応性部位およびフルオロアルキル基Rf2を有する一般式(2)のフッ素化合物Aを、一般式(1)で示される化合物を介して、無機粒子に反応させることができる。
[無機粒子B、無機粒子C]
無機粒子BとCについて説明する。無機粒子Bと無機粒子Cは本発明の塗料組成物を支持基材上に塗布することで、最表面側から2番目の位置に形成される屈折率の高い層(以下、最表面側から2番目の位置の層を第2層という。また相対的に屈折率の高い層を高屈折率層という)の構成成分として好適に用いられる。
By treating the inorganic particles with the compound represented by the general formula (1) having no fluoroalkyl group R f2 in the molecule, the inorganic particles can be modified under simple reaction conditions. In addition, functional groups whose reactivity can be easily controlled can be introduced into the inorganic particles. As a result, the fluorine compound A of the general formula (2) having the reactive site and the fluoroalkyl group R f2 can be reacted with the inorganic particles via the compound represented by the general formula (1).
[Inorganic particles B, inorganic particles C]
The inorganic particles B and C will be described. The inorganic particles B and the inorganic particles C are formed by applying the coating composition of the present invention on a supporting base material, thereby forming a layer having a high refractive index (hereinafter referred to as 2 from the outermost surface side) formed at the second position from the outermost surface side. The layer at the second position is referred to as a second layer, and a layer having a relatively high refractive index is referred to as a high refractive index layer).

無機粒子B、Cは前述の特性(無機粒子の体積抵抗率、粒子の屈折率)を満たせば特に限定されないが、金属や半金属の酸化物、窒化物、ホウ素化物を主たる成分としていることが好ましく、さらにこの成分とは異なる金属、半金属、または典型元素の酸化物、窒化物、ホウ素化物と単一粒子内、またはコアシェル粒子、接合粒子などで固溶体を形成することにより添加(ドーピング)されていても良く、さらに結晶構造に酸素欠損などの構造欠陥が導入されていても良い。   The inorganic particles B and C are not particularly limited as long as they satisfy the above-mentioned properties (volume resistivity of inorganic particles, refractive index of particles), but may be mainly composed of metal, metalloid oxides, nitrides and borides. Preferably, it is added (doping) by forming a solid solution in a single particle with a metal, metalloid or typical element different from this component, oxide, nitride, boride, or core-shell particle, bonding particle, etc. Further, structural defects such as oxygen vacancies may be introduced into the crystal structure.

前述のように無機粒子Cは体積抵抗率が1×1010以下であることが必要であるが、その導電機構についてはイオン導電性、電子導電性のいずれであってもよい。 As described above, the inorganic particles C are required to have a volume resistivity of 1 × 10 10 or less, but the conductive mechanism may be either ionic conductivity or electronic conductivity.

無機粒子BとCは、Zr,Ti,Al,Zn,Sb,SnおよびCeよりなる群から選ばれる少なくとも一つの金属や半金属を主成分とする酸化物粒子であることがさらに好ましい。   More preferably, the inorganic particles B and C are oxide particles mainly containing at least one metal or semimetal selected from the group consisting of Zr, Ti, Al, Zn, Sb, Sn, and Ce.

具体的には酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化チタン(TiO2、Ti)、酸化アルミニウム(Al)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)、酸化セリウム(CeO)、酸化アンチモン(Sb、Sb)からなる群より選ばれる少なくとも一つの金属酸化物や半金属酸化物、またはこれに酸化アンチモン(Sb、Sb)、酸化インジウム(In)、酸化リン(P)、酸化ガリウム(Ga)、酸化コバルト(CoO、Co4、Co)からなる群より選ばれる少なくとも一つの金属酸化物、半金属酸化物、典型元素酸化物との固溶体でもよい。 Specifically, zirconium oxide (ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2, Ti 2 O 3 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide ( At least one metal oxide or metalloid oxide selected from the group consisting of SnO 2 ), cerium oxide (CeO 2 ), and antimony oxide (Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 ), or antimony oxide (Sb 2). O 3 , Sb 2 O 5 ), indium oxide (In 2 O 3 ), phosphorus oxide (P 2 O 5 ), gallium oxide (Ga 2 O 5 ), cobalt oxide (CoO, Co 3 O 4, Co 2 O 3) Or a solid solution with at least one metal oxide, metalloid oxide, or typical element oxide selected from the group consisting of:

特に好ましくは無機粒子Bには屈折率の関係から酸化ジルコニウム(ZrO)や酸化チタン(TiO)が好ましく、無機粒子Cには5酸化2アンチモンと酸化スズの固溶体であるアンチモン添加酸化スズ(ATO)、5酸化2アンチモン、5酸化2リンと酸化スズの固溶体であるリン添加酸化スズ(PTO)などが好ましい。 Particularly preferably, the inorganic particles B are preferably zirconium oxide (ZrO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ) in terms of refractive index, and the inorganic particles C are antimony-added tin oxide (solid oxide of diantimony pentoxide 5 and tin oxide ( ATO), antimony pentoxide 5 and phosphorus-added tin oxide (PTO), which is a solid solution of phosphorus pentoxide and tin oxide, are preferred.

無機粒子BとCの数平均粒子径は1nm以上150nm以下が好ましい。数平均粒子径は2nm以上100nm以下がさらに好ましく、2nm以上25nm以下が特に好ましく、2nm以上20nm以下が最も好ましい。無機粒子Bの数平均粒子径が1nmよりも小さくなると、他の無機粒子を主として含むこととなる層中の空隙密度が低下することにより透明度が低下することがある。他の無機粒子の数平均粒子径が150nmよりも大きくなると、高屈折率層の厚さが大きくなりすぎて良好な反射防止性能が得られにくくなる。   The number average particle diameter of the inorganic particles B and C is preferably 1 nm or more and 150 nm or less. The number average particle diameter is more preferably 2 nm to 100 nm, particularly preferably 2 nm to 25 nm, and most preferably 2 nm to 20 nm. When the number average particle diameter of the inorganic particles B is smaller than 1 nm, the transparency may be decreased due to a decrease in the void density in the layer mainly containing other inorganic particles. If the number average particle diameter of the other inorganic particles is larger than 150 nm, the thickness of the high refractive index layer becomes too large, and it becomes difficult to obtain good antireflection performance.

前述したように無機粒子Bと無機粒子Cの表面電荷の差には前述のように好ましい範囲が存在する。この表面電荷の差を調整する方法には粒子の表面処理があり、これは無機粒子Aに対して施されるフッ素化合物Aによる処理と同様に化学的に修飾し、無機粒子B、または無機粒子Cに化合物を導入する工程を指し、一段階で行われても良いし、多段階で行われても良い。なお、この処理に用いる化合物は、化合物Bが好ましい。   As described above, the difference in surface charge between the inorganic particles B and the inorganic particles C has a preferable range as described above. A method for adjusting the difference in surface charge includes surface treatment of particles, which is chemically modified in the same manner as the treatment with the fluorine compound A applied to the inorganic particles A, and the inorganic particles B or inorganic particles. It refers to a process for introducing a compound into C, and may be performed in one step or may be performed in multiple steps. The compound used for this treatment is preferably compound B.

この化合物Bは、前記一般式(I)で示される化合物である。   This compound B is a compound shown by the said general formula (I).

化合物Bは、粒子表面に化学結合や吸着可能な部位(一般式(I)における、Si−(OR4−n1部分)と、アルキル基部分(R n1)を有する化合物である。 Compound B is a compound having (in the general formula (I), Si- (OR 2 ) 4-n1 moiety) chemical bonding or adsorption site capable to the particle surface and the alkyl group moiety (R 1 n1).

この場合、粒子表面に化学結合や吸着可能な部位しては、アルコキシシリル基及びアルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基が挙げられる。これら化合物は一般的にシリル化剤と呼ばれる。化合物Bによる無機粒子Bまたは無機粒子Cの処理の一つの方法には、上記化合物Bと無機粒子B、もしくは無機粒子Bの粒子分散物と触媒、水、溶媒等とを共に撹拌、加熱、脱アルコール等し、粒子表面のシラノール基と縮合させることによりなされる方法がある。ここでいう粒子分散物については、前述の通りである。   In this case, examples of the site that can be chemically bonded or adsorbed on the particle surface include an alkoxysilyl group and a silanol group obtained by hydrolyzing an alkoxysilyl group. These compounds are generally called silylating agents. One method of treating the inorganic particles B or inorganic particles C with the compound B is to stir, heat, and remove the compound B and the inorganic particles B or the particle dispersion of the inorganic particles B together with the catalyst, water, solvent and the like. There is a method in which alcohol is used and condensed with silanol groups on the particle surface. The particle dispersion here is as described above.

化合物Bの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
[バインダー原料]
本発明の塗料組成物はバインダー原料を含むことが重要である。バインダー原料の定義については前述の通りである。
Specific examples of the compound B include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n- Examples include propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, and compounds containing a compound in which the methoxy group in these compounds is substituted with other alkoxyl groups and hydroxyl groups. .
[Binder raw material]
It is important that the coating composition of the present invention contains a binder raw material. The definition of the binder raw material is as described above.

本発明の塗料組成物中のバインダー原料は構造を特に限定するものではないが、前述のようにバインダー原料に1分子あたり3個以上の反応性部位を有し、JIS K 0070−1992に基づく水酸基価が5以上20以下であるであることが好ましい。   The binder raw material in the coating composition of the present invention is not particularly limited in structure, but as described above, the binder raw material has three or more reactive sites per molecule and is a hydroxyl group based on JIS K 0070-1992. The value is preferably 5 or more and 20 or less.

さらにUVにより硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、嫌気性雰囲気下で硬化する方がより好ましい。酸素濃度を下げることにより最表面の硬化状態が向上し、耐薬品耐性が良化する場合がある。   Further, in the case of curing by UV, it is preferable that the oxygen concentration is as low as possible because oxygen inhibition can be prevented, and it is more preferable to cure in an anaerobic atmosphere. By reducing the oxygen concentration, the cured state of the outermost surface is improved and chemical resistance may be improved.

このような塗料組成物中のバインダー原料は、具体的には多官能アクリレートモノマー、オリゴマー、アルコキシシラン、アルコキシシラン加水分解物、アルコキシシランオリゴマー等が好ましく、多官能アクリレートモノマー、オリゴマーがより好ましい。   Specifically, the binder raw material in such a coating composition is preferably a polyfunctional acrylate monomer, oligomer, alkoxysilane, alkoxysilane hydrolyzate, alkoxysilane oligomer or the like, and more preferably a polyfunctional acrylate monomer or oligomer.

多官能アクリレートモノマーの例としては、1分子中に、3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能アクリレートおよびその変性ポリマー、具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどを用いることができる。   Examples of the polyfunctional acrylate monomer include polyfunctional acrylates having three or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule and modified polymers thereof. Specific examples include pentaerythritol tri (meth) acrylate, penta Erythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) Acrylate or the like can be used.

これらの単量体は、1種または2種以上を混合して使用することができる。また、市販されている多官能アクリル系組成物としては三菱レイヨン株式会社;(商品名“ダイヤビーム”シリーズなど)、長瀬産業株式会社;(商品名“デナコール”シリーズなど)、新中村化学株式会社;(商品名“NKエステル”シリーズなど)、DIC株式会社;(商品名“UNIDIC”など)、東亞合成化学工業株式会社;(“アロニックス”シリーズなど)、日本油脂株式会社;(“ブレンマー”シリーズなど)、日本化薬株式会社;(商品名“KAYARAD”シリーズなど)、共栄社化学株式会社;(商品名“ライトエステル”シリーズなど)などを挙げることができ、これらの製品を利用することができる。
[溶媒]
本発明の塗料組成物は溶媒を含むことが好ましい。この本発明における「溶媒」とは、塗工後の乾燥工程にてほぼ全量を蒸発させることが可能な常温、常圧での液体である物質を指す。本発明の塗料組成物は、2種類以上の溶媒を含む。溶媒の種類数としては2種類以上20種類以下が好ましく、より好ましくは2種類以上10種類以下、さらに好ましくは2種類以上6種類以下である。
These monomers can be used alone or in combination of two or more. Also, commercially available polyfunctional acrylic compositions include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol” series, etc.), Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. (Product name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (Product name “UNIDIC”, etc.), Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. (“Aronix” series, etc.), Nippon Oil & Fats Corporation; (“Blemmer” series) Etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (trade name “KAYARAD” series, etc.), Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (trade name “light ester” series, etc.), etc., and these products can be used. .
[solvent]
The coating composition of the present invention preferably contains a solvent. The “solvent” in the present invention refers to a substance that is a liquid at normal temperature and normal pressure that can be evaporated almost entirely in the drying step after coating. The coating composition of the present invention contains two or more kinds of solvents. The number of types of solvent is preferably 2 or more and 20 or less, more preferably 2 or more and 10 or less, and still more preferably 2 or more and 6 or less.

ここで、溶媒の種類とは、溶媒を構成する分子構造によって決まる。すなわち、同一の元素組成で、かつ官能基の種類と数が同一であっても結合関係が異なるもの(構造異性体)、前記構造異性体ではないが、3次元空間内ではどのような配座をとらせてもぴったりとは重ならないもの(立体異性体)は、種類の異なる溶媒として取り扱う。例えば、2−プロパノールと、1−プロパノールは異なる溶媒として取り扱う。
[その他の添加剤]
本発明の塗料組成物としては、更に光重合開始剤や硬化剤や触媒を含むことが好ましい。
Here, the kind of solvent is determined by the molecular structure constituting the solvent. That is, the same elemental composition and the same type and number of functional groups have different bond relationships (structural isomers), which are not structural isomers, but what conformations are in three-dimensional space Those that do not overlap exactly even if they are removed (stereoisomers) are treated as different types of solvents. For example, 2-propanol and 1-propanol are handled as different solvents.
[Other additives]
The coating composition of the present invention preferably further contains a photopolymerization initiator, a curing agent and a catalyst.

光重合開始剤及び触媒は、無機粒子A間、無機粒子間、バインダー原料間、無機粒子Aとバインダー原料間の反応を促進するために用いられる。該開始剤としては、塗料組成物をアニオン、カチオン、ラジカル反応等による重合および/または縮合および/または架橋反応を開始あるいは促進できるものが好ましい。   The photopolymerization initiator and the catalyst are used for promoting the reaction between the inorganic particles A, between the inorganic particles, between the binder raw materials, and between the inorganic particles A and the binder raw materials. As the initiator, those capable of initiating or accelerating polymerization and / or condensation and / or crosslinking reaction by anion, cation, radical reaction or the like of the coating composition are preferable.

該開始剤、該硬化剤、及び触媒は、種々のものを使用できる。また、複数の開始剤を同時に用いても良いし、単独で用いても良い。さらに、酸性触媒や、熱重合開始剤や光重合開始剤を併用しても良い。酸性触媒の例としては、塩酸水溶液、蟻酸、酢酸などが挙げられる。熱重合開始剤の例としては、過酸化物、アゾ化合物が挙げられる。また、光重合開始剤の例としては、アルキルフェノン系化合物、含硫黄系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、アミン系化合物などが挙げられるがこれらに限定されるものではないが、硬化性の点から、アルキルフェノン系化合物が好ましく、具体例としては、2.2−ジメトキシ−1.2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−(4−フェニル)−1−ブタン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタン、1−シクロヒキシル−フェニルケトン、2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−[4−(2−エトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、などが挙げられる。   Various initiators, curing agents, and catalysts can be used. A plurality of initiators may be used at the same time or may be used alone. Furthermore, you may use together an acidic catalyst, a thermal-polymerization initiator, and a photoinitiator. Examples of acidic catalysts include aqueous hydrochloric acid, formic acid, acetic acid and the like. Examples of the thermal polymerization initiator include peroxides and azo compounds. Examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone compounds, sulfur-containing compounds, acylphosphine oxide compounds, and amine compounds, but are not limited thereto, but from the viewpoint of curability. Alkylphenone compounds are preferred, and specific examples include 2.2-dimethoxy-1.2-diphenylethane-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-phenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- (4-phenyl) -1-butane, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butane, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) Nyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butane, 1-cyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2- Ethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, and the like.

なお、該開始剤及び該硬化剤の含有割合は、塗料組成物中のバインダー原料の合計100質量部に対して0.001質量部から30質量部が好ましく、より好ましくは0.05質量部から20質量部であり更に好ましくは0.1質量部から10質量部である。   The content ratio of the initiator and the curing agent is preferably 0.001 to 30 parts by mass, more preferably 0.05 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the binder raw materials in the coating composition. 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass.

本発明の塗料組成物には更に、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を必要に応じて適宜含有させても良い。   The coating composition of the present invention may further contain additives such as surfactants, thickeners and leveling agents as necessary.

また、本発明の塗料組成物を用いたより好ましい製造方法として、支持基材上にハードコート層を設けずに透明基材上に高屈折率ハードコート層を直接形成する場合には、本願塗料組成物に上記添加物のほかに、フルオロアルキル基及び反応性部位を有するフッ素化合物Bを含むことが好ましい。   Further, as a more preferable production method using the coating composition of the present invention, when a high refractive index hard coat layer is directly formed on a transparent substrate without providing a hard coat layer on a supporting substrate, the present coating composition In addition to the above additives, the product preferably contains a fluorine compound B having a fluoroalkyl group and a reactive site.

フッ素化合物Bが有するフルオロアルキル基は、炭素数4〜7の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基Rf3であることが好ましい。フルオロアルキル基Rf3は、塗料組成物の乾燥時のフッ素処理粒子同士の粒子間相互作用の抑制の点から炭素数4以上10以下が好ましく、さらに好ましくは炭素数6以上である。また分岐状に比べ直鎖状か立体障害が小さく、成分Aに吸着し易い点から直鎖状が好ましい。フルオロアルキル基を、炭素数4〜8の直鎖状または分岐状のフルオロアルキル基Rf3とすることにより、粒子の分離性が良化し、屈折率の異なる2層の自発的な層形成が容易になり、反射防止性が良化するため好ましい。このフッ素化合物Bは、前述の一般式(II)の化合物、またはその重合体でもよい。つまりフッ素化合物Bとは、フッ素化合物Aと同一の化合物であっても構わない。フッ素化合物Aは、フッ素処理無機粒子の得るための原料に相当する化合物であり、一方でフッ素化合物Bは、塗料組成物中に含有されるフッ素化合物を意味する。
[塗料組成物中の各成分の含有量]
本発明の塗料組成物は、無機粒子A、無機粒子B、無機粒子Cとバインダー原料を含むが、塗料組成物中のそれぞれの質量関係について説明する。
The fluoroalkyl group of the fluorine compound B is preferably a linear or branched fluoroalkyl group R f3 having 4 to 7 carbon atoms. The fluoroalkyl group R f3 preferably has 4 or more and 10 or less carbon atoms, more preferably 6 or more carbon atoms, from the viewpoint of suppressing the interparticle interaction between the fluorine-treated particles during drying of the coating composition. In addition, a straight chain is preferred because it is linear or has less steric hindrance than a branched chain and is easily adsorbed to Component A. By making the fluoroalkyl group a linear or branched fluoroalkyl group R f3 having 4 to 8 carbon atoms, the separability of the particles is improved and the spontaneous formation of two layers having different refractive indexes is facilitated. And antireflection properties are improved, which is preferable. The fluorine compound B may be a compound of the above general formula (II) or a polymer thereof. That is, the fluorine compound B may be the same compound as the fluorine compound A. The fluorine compound A is a compound corresponding to a raw material for obtaining fluorine-treated inorganic particles, while the fluorine compound B means a fluorine compound contained in the coating composition.
[Content of each component in the coating composition]
Although the coating composition of this invention contains the inorganic particle A, the inorganic particle B, the inorganic particle C, and the binder raw material, each mass relationship in a coating composition is demonstrated.

塗料組成物は、無機粒子(無機粒子A,B、Cを含む無機粒子の全成分の合計)/溶媒(溶媒の全成分の合計)=0.05〜0.2(質量比)であることが好ましい。上記範囲にすることにより、無機粒子の分散安定性と、自発的な層構造の形成を両立することができる。   The coating composition is inorganic particles (total of all components of inorganic particles including inorganic particles A, B, and C) / solvent (total of all components of solvent) = 0.05 to 0.2 (mass ratio). Is preferred. By setting it as the above range, both the dispersion stability of the inorganic particles and the spontaneous formation of the layer structure can be achieved.

更に好ましい様態としては、本発明の塗料組成物は無機粒子Aと無機粒子A以外(無機粒子B,Cを含む)を含み、無機粒子A/非無機粒子A=1/30〜1/1(質量比)であることが好ましい。   In a more preferred embodiment, the coating composition of the present invention contains inorganic particles A and inorganic particles A (including inorganic particles B and C), and inorganic particles A / non-inorganic particles A = 1/30 to 1/1 ( (Mass ratio).

ここで塗料組成物中の各成分の質量部は、各成分が固体として取り扱える扱える場合には塗料組成物に添加した質量から、各成分が分散物の状態である時には分散物中の固形分濃度を後述する方法で求め、それに塗料組成物に添加した分散物の質量を乗ずることにより求められる。   Here, the mass part of each component in the coating composition is the solid content concentration in the dispersion when each component is in the state of dispersion from the mass added to the coating composition when each component can be handled as a solid. Is obtained by the method described later and is multiplied by the mass of the dispersion added to the coating composition.

塗料組成物は、無機粒子A/非無機粒子A=1/30〜1/1(質量比)とすることで、本塗料組成物を基材上に塗工して得られる反射防止部材の低屈折率層の厚みと高屈折率層の厚みの比を一定にすることができる。このため1回の塗工で、低屈折率層と高屈折率層の厚みを同時に、反射防止機能を有する厚みとすることが容易であるため好ましい。また高屈折率層の厚みを厚くし、ハードコート機能を付与しようとする場合にも、反射防止機能を損なうことなく、
1回の塗工で必要な厚みとすることができるため、反射防止機能とハードコート機能の両立の点から無機粒子A/非無機粒子Aを上記範囲とすることが可能となるため好ましい。
The coating composition is made of inorganic particles A / non-inorganic particles A = 1/30 to 1/1 (mass ratio), so that the anti-reflection member obtained by coating the coating composition on a substrate is low. The ratio between the thickness of the refractive index layer and the thickness of the high refractive index layer can be made constant. For this reason, since it is easy to make the thickness of a low refractive index layer and a high refractive index layer into the thickness which has an antireflection function simultaneously by one coating, it is preferable. In addition, even when trying to increase the thickness of the high refractive index layer and give a hard coat function, without impairing the antireflection function,
Since the required thickness can be obtained by one coating, the inorganic particles A / non-inorganic particles A can be made within the above range from the viewpoint of both the antireflection function and the hard coat function.

塗料組成物は、より好ましくは無機粒子A/非無機粒子A=1/29〜1/5(質量比)、さらに好ましくは1/26〜1/10(質量比)、特に好ましくは1/23〜1/15(質量比)である。   The coating composition is more preferably inorganic particles A / non-inorganic particles A = 1/29 to 1/5 (mass ratio), more preferably 1/26 to 1/10 (mass ratio), and particularly preferably 1/23. ~ 1/15 (mass ratio).

また好ましくは、本発明の塗料組成物100質量%において、無機粒子の合計が0.2質量%以上40質量%以下、溶媒の合計が40質量%以上98質量%以下、バインダー原料が1質量%以上30質量%以下、開始剤、硬化剤、触媒、およびフッ素化合物Bなどのその他の成分が0.1質量%以上20質量%以下の態様である。より好ましくは、無機粒子の合計が1質量%以上35質量%以下、溶媒の合計が50質量%以上97質量%以下、バインダー原料を2質量%以上25質量%以下、その他の成分を1質量%以上15質量%以下含む態様である。
[反射防止部材]
本発明の塗料組成物を用いて得られる反射防止部材とは、各種支持基材の少なくとも片面に反射防止機能を有する層が形成された部材を指し、支持基材がプラスチックフィルムの場合には一般に反射防止フィルムと呼ばれる。その必要性や要求される性能などは特開昭59−50401号公報に記載されている様に、好ましくは0.03以上、より好ましくは0.05以上の屈折率差を有する2層以上の反射防止層を支持基材上に積層させることで構成された様態である。また支持基材上の層、つまり反射防止層内の各層の屈折率差は5.0以下であることが好ましい。この屈折率差とは隣接する層間の屈折率を相対的に比較した値であり、相対的に屈折率が低い層を低屈折率層と呼び、相対的に屈折率が高い層を高屈折率層と呼ぶ。
More preferably, in 100% by mass of the coating composition of the present invention, the total of inorganic particles is 0.2% by mass to 40% by mass, the total of solvent is 40% by mass to 98% by mass, and the binder raw material is 1% by mass. The other components such as the initiator, the curing agent, the catalyst, and the fluorine compound B are 0.1% by mass or more and 20% by mass or less. More preferably, the total of the inorganic particles is 1% by mass to 35% by mass, the total of the solvent is 50% by mass to 97% by mass, the binder raw material is 2% by mass to 25% by mass, and the other components are 1% by mass. It is the aspect containing 15 mass% or less.
[Antireflection member]
The antireflection member obtained by using the coating composition of the present invention refers to a member in which a layer having an antireflection function is formed on at least one surface of various supporting substrates. Generally, when the supporting substrate is a plastic film. Called antireflection film. As described in JP-A-59-50401, the necessity and required performance are preferably 0.03 or more, more preferably two or more layers having a refractive index difference of 0.05 or more. This is an aspect constituted by laminating an antireflection layer on a supporting substrate. Moreover, it is preferable that the refractive index difference of the layer on a support base material, ie, each layer in an antireflection layer, is 5.0 or less. This refractive index difference is a value obtained by relatively comparing the refractive indexes between adjacent layers. A layer having a relatively low refractive index is called a low refractive index layer, and a layer having a relatively high refractive index is a high refractive index. Call a layer.

図1に本発明の塗料組成物により得られる反射防止部材の1例を示す。反射防止部材1は、支持基材2の片面上のハードコート層5の上に、屈折率の異なる2層からなる反射防止層が形成されている。反射防止層は最表面側に低屈折率層4、次いで高屈折率層3から構成される、支持基材上に3つの層が形成されている。この構成の場合には、支持基材上に通常は3回の塗工を必要とするが、本発明の塗料組成物を用いることにより、2回(ハードコート層と反射防止層)の塗工で形成することが可能になる。   FIG. 1 shows an example of an antireflection member obtained by the coating composition of the present invention. In the antireflection member 1, an antireflection layer composed of two layers having different refractive indexes is formed on the hard coat layer 5 on one surface of the support base 2. The antireflection layer is formed of three layers on a supporting substrate, which is composed of a low refractive index layer 4 and then a high refractive index layer 3 on the outermost surface side. In the case of this configuration, three coatings are usually required on the support substrate, but by using the coating composition of the present invention, two coatings (hard coat layer and antireflection layer) are applied. Can be formed.

図2により好ましい例として、ハードコート層の代わりに、高屈折率層に耐傷性を付与させ、高屈折率ハードコート層6を設けた例を示す。高屈折率ハードコート層は、支持基材2と低屈折率層3との接着を強化する機能も有する。この構成の場合には、支持基材上に通常は2回の塗工を必要とするが、高屈折率ハードコート層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。本発明の塗料組成物を用いることにより、1回の塗工で形成することが可能である。   FIG. 2 shows an example in which a high refractive index hard coat layer 6 is provided by imparting scratch resistance to the high refractive index layer instead of the hard coat layer. The high refractive index hard coat layer also has a function of strengthening the adhesion between the support base 2 and the low refractive index layer 3. In the case of this configuration, it is usually necessary to apply the coating twice on the supporting base material, but the strength of the high refractive index hard coat layer is preferably 1 or more and H or more in pencil hardness of 1 kg load, It is more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more. By using the coating composition of the present invention, it can be formed by a single coating.

なお、このような本発明の反射防止部材中の反射防止層には、屈折率の異なる2層以上の層である高屈折率層と低屈折率層との間には粒子の配列による明確な界面があることが好ましい。   In addition, the antireflection layer in the antireflection member of the present invention has a clear arrangement due to the arrangement of particles between the high refractive index layer and the low refractive index layer which are two or more layers having different refractive indexes. Preferably there is an interface.

本発明における明確な界面とは、1つの層と他の層とが区別可能な状態をいう。区別可能な界面とは、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて断面を観察することにより判断することができる界面を表し、後述する方法に従い判断することができる。   A clear interface in the present invention refers to a state in which one layer can be distinguished from another layer. The distinguishable interface represents an interface that can be determined by observing a cross section using a transmission electron microscope (TEM), and can be determined according to a method described later.

反射防止部材として良好な性能を示すには、分光測定に置いて最低反射率が好ましくは0%以上1.0%以下、より好ましくは0%以上0.8%以下、さらに好ましくは0%以上0.6%以下であり、特に好ましくは0%以上0.5%以下であることが望ましい。   In order to exhibit good performance as an antireflection member, the minimum reflectance is preferably 0% or more and 1.0% or less, more preferably 0% or more and 0.8% or less, and further preferably 0% or more in spectroscopic measurement. It is 0.6% or less, and particularly preferably 0% or more and 0.5% or less.

また、反射防止部材として良好な性質を示すには更に、透明性が高いことが望ましい。透明性が低いと画像表示装置として用いた場合、画像彩度の低下などによる画質低下が生じるために好ましくない。本発明の製造方法により得られる反射防止部材の透明性の評価にはヘイズ値を用いることができる。ヘイズはJIS K 7136(2000)に規定された透明性材料の濁りの指標である。ヘイズは小さいほど透明性が高いことを示す。反射防止部材のヘイズ値としては好ましくは2.0%以下であり、より好ましくは1.8%未満、更に好ましくは1.5%未満であり、値が小さいほど透明性の点で良好であるものの、0%とすることは困難であり、現実的な下限値は0.01%程度と思われる。ヘイズ値が2.0%を超えると、画像劣化が生じる可能性が高くなるため好ましくない。   Moreover, in order to exhibit good properties as an antireflection member, it is further desirable that the transparency is high. If the transparency is low, it is not preferable when used as an image display device because image quality is deteriorated due to a decrease in image saturation. A haze value can be used for evaluating the transparency of the antireflection member obtained by the production method of the present invention. Haze is an index of turbidity of a transparent material defined in JIS K 7136 (2000). The smaller the haze, the higher the transparency. The haze value of the antireflection member is preferably 2.0% or less, more preferably less than 1.8%, still more preferably less than 1.5%, and the smaller the value, the better the transparency. However, it is difficult to set it to 0%, and a realistic lower limit value is considered to be about 0.01%. If the haze value exceeds 2.0%, the possibility of image deterioration is increased, which is not preferable.

反射防止部材として良好な性質を示すには、高屈折率層、低屈折率の厚みが特定の厚みであることが望ましく、低屈折率層の厚みが好ましくは50nm以上200nm以下、さらに好ましくは70nm以上150nm以下であり、特に好ましくは90nm以上130nm以下であることが望ましい。低屈折率層の厚みが50nm未満であると光の干渉効果が得られず反射防止効果が得られず画像の映り込みが大きくなるために好ましくない。また200nmを超える場合も光の干渉効果が得られなくなるため画像の映り込みが大きくなるために好ましくない。   In order to exhibit good properties as an antireflection member, it is desirable that the thickness of the high refractive index layer and the low refractive index is a specific thickness, and the thickness of the low refractive index layer is preferably 50 nm or more and 200 nm or less, more preferably 70 nm. The thickness is not less than 150 nm and particularly preferably not less than 90 nm and not more than 130 nm. If the thickness of the low refractive index layer is less than 50 nm, the light interference effect cannot be obtained, the antireflection effect cannot be obtained, and the reflection of the image becomes large. Further, when the thickness exceeds 200 nm, the light interference effect cannot be obtained, and the reflection of the image becomes large, which is not preferable.

高屈折率層の厚みについては好ましくは50nm以上200nm以下、さらに好ましくは70nm以上150nm以下であり、特に好ましくは90nm以上130nm以下であることが望ましい。   The thickness of the high refractive index layer is preferably 50 nm or more and 200 nm or less, more preferably 70 nm or more and 150 nm or less, and particularly preferably 90 nm or more and 130 nm or less.

また、支持基材上にハードコート層を設けずに高屈折率層を形成する場合は、好ましくは500nm以上2000nm以下、さらに好ましくは600nm以上2000nm以下、特に好ましくは600nm以上1500nm以下であることが望ましい。反射防止層側の最表層から2層目の層(第2層)の厚みを500nm以上2000nm以下とすることで、耐擦傷性、耐摩耗性と、反射防止部材のカールや反射率、透過率の改善、塗膜表面のクラック発生を抑制することができるために望ましい。   Moreover, when forming a high refractive index layer without providing a hard-coat layer on a support base material, it is preferably 500 nm or more and 2000 nm or less, more preferably 600 nm or more and 2000 nm or less, and particularly preferably 600 nm or more and 1500 nm or less. desirable. By setting the thickness of the second layer (second layer) from the outermost layer on the antireflection layer side to 500 nm or more and 2000 nm or less, scratch resistance, wear resistance, curl, reflectance, and transmittance of the antireflection member This is desirable because it can improve the cracking and suppress the occurrence of cracks on the coating film surface.

本発明の反射防止部材には、さらに、易接着層、防湿層、帯電防止層、シールド層、下塗り層や保護層などを設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
[支持基材]
反射防止部材をCRT画像表示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止部材は支持基材を有することが重要である。支持基材に特に限定はないが、ガラス板よりもプラスチックフィルムの方が好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンなどが含まれるが、これらの中でも得にトリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレートが好ましい。
The antireflection member of the present invention may further be provided with an easy adhesion layer, a moisture proof layer, an antistatic layer, a shield layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays.
[Supporting substrate]
Except for the case where the antireflection member is provided directly on the CRT image display surface or the lens surface, it is important that the antireflection member has a supporting base material. Although there is no limitation in particular in a support base material, a plastic film is more preferable than a glass plate. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetylcellulose, diacetylcellulose, propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene-2). , 6-Naphthalene dicarboxylate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic) Polystyrene), polyolefin (eg, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyester -Terimide, polymethyl methacrylate, polyether ketone and the like are included, among which triacetyl cellulose, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable.

本発明の塗料組成物を基材上に塗工して得られた反射防止部材、および本発明の反射防止部材の製造方法により得られた反射防止部材の好ましい態様では、上述のような耐擦傷性が十分でないプラスチックを支持基材に使用しても、高屈折率層の厚みを制御することで反射防止性に加えて耐擦傷性も付与できるため、公知技術のように、支持基材上にハードコート層を設ける必要は必ずしもない。また上述のように、支持基材は接着層、シールド層、滑り層などの各種機能層を有するフィルムとすることもできる。   In a preferred embodiment of the antireflection member obtained by applying the coating composition of the present invention on a substrate and the antireflection member obtained by the method of producing the antireflection member of the present invention, the scratch resistance as described above is used. Even if a plastic with insufficient properties is used for the support substrate, it is possible to impart scratch resistance in addition to antireflection properties by controlling the thickness of the high refractive index layer. It is not always necessary to provide a hard coat layer. Further, as described above, the supporting base material can be a film having various functional layers such as an adhesive layer, a shield layer, and a sliding layer.

支持基材の塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さは40nm以下であるのが好ましい。表面粗さは35nm以下がさらに好ましく、30nm以下が特に好ましい。ここで反射防止層以外の機能層を有するガラス板やプラスチックフィルムを支持基材とし、機能層の上に塗料組成物を塗工する場合、塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さとは、機能層の表面の表面粗さではなく、機能層が積層されている側のガラス板またはプラスチックフィルムの表面粗さである。また、各種の処理が施されたガラス板やプラスチックフィルムを支持基材とし、処理が施された面に塗料組成物を塗工する場合、塗料組成物を塗工する側の面の表面粗さとは、処理が施されている側のガラス板またはプラスチックフィルムの表面粗さである。   The surface roughness of the surface of the supporting substrate on which the coating composition is applied is preferably 40 nm or less. The surface roughness is more preferably 35 nm or less, and particularly preferably 30 nm or less. Here, when a glass plate or plastic film having a functional layer other than the antireflection layer is used as a supporting substrate and a coating composition is applied on the functional layer, the surface roughness of the surface on which the coating composition is applied Is not the surface roughness of the surface of the functional layer, but the surface roughness of the glass plate or plastic film on the side where the functional layer is laminated. In addition, when a coating composition is applied to a treated surface using a glass plate or plastic film that has been subjected to various treatments, the surface roughness of the surface on which the coating composition is applied Is the surface roughness of the treated glass plate or plastic film.

支持基材の表面には、各種の表面処理を施すことも可能である。表面処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。これらの中でもグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさらに好ましい。
[無機粒子A,B,Cの製造方法]
無機粒子A,B,Cの製造方法は、各種顔料、無機化合物取り扱いメーカーから粉体状態、または溶媒(分散媒とも呼ばれる)に分散された粒子分散物(粒子分散液、コロイド溶液、またはゾルとも呼ばれる)の形で入手したいずれの無機粒子に対して、必要に応じて表面処理を行うことで得ることができるが、粒子分散物の形で入手した無機粒子に対して処理を行う方が、粗大粒子の除去や塗料組成物の分散安定性の面で好ましい。
Various surface treatments can be applied to the surface of the support substrate. Examples of the surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment and ozone oxidation treatment. Among these, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and glow discharge treatment and ultraviolet treatment are more preferred.
[Method for producing inorganic particles A, B, C]
Inorganic particles A, B, and C can be produced in the form of powders from various pigment and inorganic compound manufacturers, or particle dispersions (particle dispersions, colloidal solutions, or sols) dispersed in a solvent (also called dispersion medium). It can be obtained by performing surface treatment on any inorganic particles obtained in the form of (called), if necessary, but it is better to treat inorganic particles obtained in the form of a particle dispersion. It is preferable in terms of removal of coarse particles and dispersion stability of the coating composition.

無機粒子A、および無機粒子B,Cに表面処理を行う場合は、前記無機粒子または前記粒子分散物に対してフッ素化合物Aを含む各種化合物、溶媒、反応触媒、重合開始剤、反応停止剤、重合禁止剤、凝集防止剤、分散剤等を添加し、混合、攪拌しながら、加熱または冷却状態で反応させることにより得られ、加えてエバポレーターや逆浸透膜による脱アルコール処理、モレキュレーシーブによる脱水処理、イオン交換樹脂、イオン交換膜によるイオン交換処理などをおこなってもよい。   When surface treatment is performed on the inorganic particles A and the inorganic particles B and C, various compounds including a fluorine compound A, a solvent, a reaction catalyst, a polymerization initiator, a reaction stopper, It is obtained by adding a polymerization inhibitor, an anti-agglomeration agent, a dispersing agent, etc., and reacting in a heated or cooled state while mixing and stirring. Dehydration treatment, ion exchange resin, ion exchange treatment with an ion exchange membrane, or the like may be performed.

表面処理時の固形分濃度は、可能な範囲で低い濃度であることが好ましく、1質量%以上60質量%以下、より好ましくは5質量%以上50質量%以下であり、これよりも固形分濃度が低すぎると反応を十分に進めることができず、これよりも高すぎると、無機粒子の凝集による異物の発生、さらにはゲル化、凝集、沈降を起こす場合がある。また、反応終了後は、安定性を付与するため溶媒による希釈や、反応停止剤、重合禁止剤、凝集防止剤を添加してもよい。   The solid content concentration during the surface treatment is preferably as low as possible, preferably 1% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and the solid content concentration is higher than this. If it is too low, the reaction cannot proceed sufficiently. If it is too high, foreign matter may be generated due to aggregation of inorganic particles, and further gelation, aggregation, and sedimentation may occur. Moreover, after completion | finish of reaction, in order to provide stability, you may add dilution with a solvent, a reaction terminator, a polymerization inhibitor, and an aggregation inhibitor.

処理は複数の反応系を組み合わせて行ってもよく、例えば、シラノール縮合による処理とラジカル重合による処理を組み合わせてもよい。この際には、同時、逐次いずれの方法でもよいが、逐次的に行う方がより好ましい。
[塗料組成物の製造方法]
塗料組成物は、無機粒子A,B、C、バインダー原料、他添加物(溶媒、開始剤、硬化剤、触媒等)、疎水性化合物Bを混合して得られる。その製造方法は、前記成分の処方量を質量、または体積で計量し、これらを攪拌により混合することにより得られる。この時、加えて減圧や逆浸透膜による脱溶媒処理、モレキュレーシーブによる脱水処理、イオン交換樹脂によるイオン交換処理などをおこなってもよい。
The treatment may be performed by combining a plurality of reaction systems. For example, a treatment by silanol condensation and a treatment by radical polymerization may be combined. In this case, either simultaneous or sequential methods may be used, but it is more preferable to carry out sequentially.
[Method for producing coating composition]
The coating composition is obtained by mixing inorganic particles A, B, C, binder raw materials, other additives (solvent, initiator, curing agent, catalyst, etc.), and hydrophobic compound B. The production method is obtained by measuring the prescribed amounts of the above components by mass or volume and mixing them by stirring. At this time, in addition, a solvent removal treatment using a reduced pressure or a reverse osmosis membrane, a dehydration treatment using a molecular sieve, an ion exchange treatment using an ion exchange resin, or the like may be performed.

無機粒子A、B,Cは粒子分散物、粉体いずれの形で添加してもよいが、粒子分散物の形で取り扱うことが凝集、異物発生を防止する面で好ましい。粉体を原料としてとり扱う場合には、メディア型分散機などの各種分散機により溶媒(分散媒)に分散する工程を経た方が好ましい。粒子分散物として添加する場合の処方量は、粒子分散物の固形分濃度と粒子分散物の質量の積から求めた粒子の質量を用いることできる。   The inorganic particles A, B, and C may be added in the form of either a particle dispersion or a powder, but handling in the form of a particle dispersion is preferable in terms of preventing aggregation and foreign matter generation. When the powder is handled as a raw material, it is preferable that the powder is dispersed in a solvent (dispersion medium) by various dispersing machines such as a media type dispersing machine. As the formulation amount when added as a particle dispersion, the mass of the particles obtained from the product of the solid content concentration of the particle dispersion and the mass of the particle dispersion can be used.

この固形分濃度の測定は、粒子分散物を、アルミ皿(この質量をWとする)に約2gを秤量後(この質量をWとする)、120℃の熱風オーブン内で1時間乾燥、デシケーター中で室温まで冷却後、秤量(この質量をWとする)し、下記の式に従って固形分濃度を求めることができる。
固形分濃度 =(W−W)/(W−W)×100
得られた塗料組成物は、塗工する前に適当なろ過処理を行ってもよい。この適当なろ過処理とは、溶媒、粒子の表面の極性状態に合わせたフィルター材料、フィルター目開きを選択し、粒子分散物の分散状態を破壊しないせん断速度、フィルター構造に合わせた圧力条件にてろ過することがより好ましい。
[反射防止部材の製造方法]
本発明の反射防止部材の製造方法としては、支持基材の少なくとも片面に、本発明の塗料組成物を1回のみ塗工することにより形成される1層の液膜が、前記2層からなる反射防止層を形成する方法であることが望ましい。この製造方法は、塗工工程で2つの層を形成できるため経済性の面で好ましい。
The solid concentration was measured by weighing about 2 g of the particle dispersion in an aluminum dish (this mass is W 1 ) (this mass is W 2 ) and then drying in a hot air oven at 120 ° C. for 1 hour. after cooling to room temperature in a desiccator, weighed (to the mass and W 3) and can be obtained having a solid content concentration according to the following equation.
Solid content concentration = (W 3 −W 1 ) / (W 2 −W 1 ) × 100
The obtained coating composition may be subjected to an appropriate filtration treatment before coating. This appropriate filtration process is a choice of solvent, filter material that matches the polar state of the particle surface, and filter openings, shear rate that does not destroy the dispersion state of the particle dispersion, and pressure conditions that match the filter structure. More preferably, it is filtered.
[Production Method of Antireflection Member]
As a method for producing the antireflection member of the present invention, a single-layer liquid film formed by applying the coating composition of the present invention only once on at least one surface of a supporting substrate is composed of the two layers. A method of forming an antireflection layer is desirable. This manufacturing method is preferable in terms of economy because two layers can be formed in the coating process.

ここで、支持基材の少なくとも片面に塗料組成物を1回のみ塗工することにより形成される1層の液膜とは、支持基材に対して1回の塗工工程にて1種類の塗料組成物からなる1層の液膜を形成することを指し、1回の塗工工程にて複数層からなる液膜を同時に1回塗工する多層同時塗工や、1回の塗工時に1層の液膜を複数回の塗工、乾燥工程を有する連続逐次塗工、1回の塗工時に1層の液膜を複数回の塗工し、次いで乾燥する、ウェットオンウェット塗工などを行わないことを指す。   Here, the one-layer liquid film formed by coating the coating composition only once on at least one surface of the supporting substrate means that one kind of liquid film is applied to the supporting substrate in one coating step. This refers to the formation of a single-layer liquid film composed of a coating composition, and simultaneous multi-layer coating in which a liquid film composed of a plurality of layers is coated once in a single coating process, or during one coating. One layer of liquid film applied multiple times, continuous sequential coating with drying process, one layer of liquid film applied multiple times at the time of one coating, then dried, wet on wet coating, etc. It means not to do.

まず、本発明の塗料組成物を、ディップコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法(米国特許2681294号明細書参照)などにより支持基材上に塗工する。   First, the coating composition of the present invention is coated on a supporting substrate by a dip coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, a die coating method (see US Pat. No. 2,681,294).

これらの塗工方式のうち、グラビアコート法または、ダイコート法が塗工方法として好ましい。   Of these coating methods, the gravure coating method or the die coating method is preferable as the coating method.

次いで、支持基材上に塗工された液膜を乾燥する。得られる反射防止部材中から完全に溶媒を除去する事に加え、自発的に層構造を形成させるために液膜中での粒子の運動を促進するという観点からも、乾燥工程では液膜の加熱を伴うことが好ましい。   Next, the liquid film coated on the support substrate is dried. In addition to completely removing the solvent from the resulting antireflective member, the drying process also heats the liquid film from the viewpoint of promoting the movement of particles in the liquid film to spontaneously form a layer structure. Is preferably accompanied.

乾燥方法については、伝熱乾燥(高熱物体への密着)、対流伝熱(熱風)、輻射伝熱(赤外線)、その他(マイクロ波、誘導加熱)などが挙げられる。この中でも、本発明の製造方法では、精密に幅方向で乾燥速度を均一にする必要から、対流伝熱、または輻射伝熱を使用した方式が好ましい。   Examples of the drying method include heat transfer drying (adherence to a high-temperature object), convection heat transfer (hot air), radiant heat transfer (infrared ray), and others (microwave, induction heating). Among these, in the manufacturing method of the present invention, a method using convective heat transfer or radiant heat transfer is preferable because it is necessary to make the drying speed uniform in the width direction.

さらに、乾燥工程後に形成された支持基材上の2層に対して、熱またはエネルギー線を照射する事によるさらなる硬化操作(硬化工程)を行ってもよく、エネルギー線により硬化する場合には汎用性の点から電子線(EB線)及び/又は紫外線(UV線)であることが好ましい。また紫外線により硬化する場合は、酸素阻害を防ぐことができることから酸素濃度ができるだけ低い方が好ましく、窒素雰囲気下(窒素パージ)で硬化する方がより好ましい。   Further, the two layers on the support substrate formed after the drying step may be subjected to further curing operation (curing step) by irradiating with heat or energy rays. From the viewpoint of properties, electron beams (EB rays) and / or ultraviolet rays (UV rays) are preferable. In the case of curing with ultraviolet rays, the oxygen concentration is preferably as low as possible because oxygen inhibition can be prevented, and curing in a nitrogen atmosphere (nitrogen purge) is more preferable.

硬化を熱により行う場合、乾燥工程と硬化工程とを同時におこなってもよい。また本発明の反射防止部材は、PDPなどの各種画像表示装置の視認側表面に設けることで、反射防止性に優れた画像表示装置を提供することができる。なおこの際は、反射防止部材における支持基材側を画像表示装置側として、反射防止部材などを設けることが重要である。   When curing is performed by heat, the drying step and the curing step may be performed simultaneously. Moreover, the antireflection member of this invention can provide the image display apparatus excellent in antireflection property by providing in the visual recognition side surface of various image display apparatuses, such as PDP. In this case, it is important to provide an antireflection member or the like with the support base material side of the antireflection member as the image display device side.

次に、実施例に基づいて本発明を説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
[無機粒子Aの調製]
[無機粒子A分散物(a)]
中空シリカ粒子イソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成株式会社製中空シリカ:固形分濃度20質量%、数平均粒子径 60nm)15gに、KBM−503(信越化学工業株式会社製 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)1.37gと10質量%蟻酸水溶液0.17g、水0.306gとを混合し、70℃にて1時間撹拌した。次いでフッ素化合物AとしてHC=CHCOO(CH(CFF 1.38g、及び2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.057gを加えた後、60分間90℃にて加熱撹拌した。次いで、後述の方法で固形分濃度を確認後、希釈溶媒としてメチルイソブチルケトンを加え希釈し、固形分3.5質量%の無機粒子A分散物(a)とした。
Next, although this invention is demonstrated based on an Example, this invention is not necessarily limited to these.
[Preparation of inorganic particles A]
[Inorganic particle A dispersion (a)]
Hollow silica particle isopropyl alcohol dispersion (Hollow silica manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: solid content concentration 20% by mass, number average particle size 60 nm) and KBM-503 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. γ-methacryloxypropyltrimethoxy) (Silane) 1.37 g, 10 mass% formic acid aqueous solution 0.17 g and water 0.306 g were mixed and stirred at 70 ° C. for 1 hour. Then, 1.38 g of H 2 C═CHCOO (CH 2 ) 2 (CF 2 ) 8 F and 0.057 g of 2,2-azobisisobutyronitrile were added as fluorine compound A, and then at 90 ° C. for 60 minutes. Stir with heating. Next, after confirming the solid content concentration by the method described later, methyl isobutyl ketone was added as a diluent solvent and diluted to obtain an inorganic particle A dispersion (a) having a solid content of 3.5% by mass.

[無機粒子A分散物(b)の調製]
無機粒子A分散物(a)に対し、中空シリカ粒子イソプロピルアルコール分散物をコロイダルシリカイソプロピルアルコール分散物(日産化学工業製:固形分濃度30質量%、数平均粒子径 40nm)に置き換えた以外は同様にして、無機粒子A分散物(b)を得た。
[Preparation of inorganic particle A dispersion (b)]
Similar to the inorganic particle A dispersion (a) except that the hollow silica particle isopropyl alcohol dispersion was replaced with a colloidal silica isopropyl alcohol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .: solid concentration 30 mass%, number average particle diameter 40 nm). Thus, an inorganic particle A dispersion (b) was obtained.

[無機粒子A分散物(c)の調製]
無機粒子A分散物(a)に対し、フッ素化合物AをHC=CHCOO(CH(CFFに置き換えた以外は同様にして、無機粒子A分散物(c)を得た。
[Preparation of inorganic particle A dispersion (c)]
An inorganic particle A dispersion (c) is obtained in the same manner except that the fluorine compound A is replaced with H 2 C═CHCOO (CH 2 ) 6 (CF 2 ) 6 F with respect to the inorganic particle A dispersion (a). It was.

[無機粒子A分散物(d)の調製]
無機粒子A分散物(a)に対し、フッ素化合物Aを用いる代わりに、1−6ヘキサンジオールジアクリレートに置き換えた以外は同様にして、無機粒子A分散物(d)を得た。
[無機粒子Bの調製]
[無機粒子B分散物(a)]
酸化チタンメタノール分散物(日揮触媒化成株式会社製:“ELECOM” 数平均粒子径8nm 固形分濃度30質量%)100gに対して、KBM−5103(信越化学工業株式会社製 γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)1.5gを滴下、均一に攪拌した。 次いで、これに20%酢酸水溶液5gを滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。
さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200gを加え、ロータリーエバポレーターにて、脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして無機粒子B分散物(a)を得た。
[Preparation of inorganic particle A dispersion (d)]
An inorganic particle A dispersion (d) was obtained in the same manner as in the inorganic particle A dispersion (a) except that the fluorine compound A was used instead of 1-6 hexanediol diacrylate.
[Preparation of inorganic particles B]
[Inorganic particle B dispersion (a)]
To 100 g of titanium oxide methanol dispersion (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: “ELECOM” number average particle size 8 nm, solid content concentration 30 mass%), KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., γ-acryloxypropyltrimethoxy) Silane) (1.5 g) was added dropwise and stirred uniformly. Next, 5 g of a 20% acetic acid aqueous solution was added dropwise thereto, and after completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours.
Furthermore, 200 g of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, demethanol treatment was performed on a rotary evaporator, and after confirming the solid content concentration by the method described later, finally the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone. Microfiltration was performed to obtain inorganic particle B dispersion (a).

[無機粒子B分散物(b)]
無機粒子B分散物(a)に対し、酸化チタンメタノール分散物を酸化ジルコニウムメタノール分散物(日産化学工業株式会社製:“ナノユースOZ−30M” 数平均粒子径15nm 固形分濃度30質量%)に置き換えた以外は同様にして、無機粒子B分散物(b)を得た。
[Inorganic particle B dispersion (b)]
For inorganic particle B dispersion (a), titanium oxide methanol dispersion was replaced with zirconium oxide methanol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .: “Nanouse OZ-30M” number average particle diameter 15 nm, solid content concentration 30 mass%) Except for the above, an inorganic particle B dispersion (b) was obtained in the same manner.

[無機粒子B分散物(c)]
無機粒子B分散物(a)に対し、酸化チタンメタノール分散物を酸化亜鉛イソプロピルアルコール分散物(ハクスイテック株式会社製: 数平均粒子径20nm 固形分濃度30質量%)に置き換えた以外は同様にして、無機粒子B分散物(c)を得た。
[Inorganic particle B dispersion (c)]
For inorganic particle B dispersion (a), except that titanium oxide methanol dispersion was replaced with zinc oxide isopropyl alcohol dispersion (manufactured by Hux Itec Corp .: number average particle size 20 nm, solid content concentration 30% by mass), Inorganic particle B dispersion (c) was obtained.

[無機粒子B分散物(d)]
酸化チタンメタノール分散物(日揮触媒化成株式会社製:“ELECOM” 数平均粒子径8nm 固形分濃度30質量%)100gに対して、LS−2430(信越化学工業株式会社製 テトラエトキシラン)3gを滴下、均一に攪拌した。 次いで、これに20%酢酸水溶液5gを滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。
さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200gを加え、ロータリーエバポレーターにて、脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして無機粒子B分散物(d)を得た。
[Inorganic particle B dispersion (d)]
3 g of LS-2430 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. tetraethoxylane) was added dropwise to 100 g of titanium oxide methanol dispersion (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: “ELECOM” number average particle diameter 8 nm, solid content concentration 30% by mass). And stirred uniformly. Next, 5 g of a 20% acetic acid aqueous solution was added dropwise thereto, and after completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours.
Furthermore, 200 g of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, demethanol treatment was performed on a rotary evaporator, and after confirming the solid content concentration by the method described later, finally the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone. Microfiltration was performed to obtain inorganic particle B dispersion (d).

[無機粒子B分散物(e)]
無機粒子B分散物(a)に対し、酸化チタンメタノール分散物を酸化アルミニウムメタノール
分散物(日産化学工業株式会社製: 数平均粒子径15nm 固形分濃度30質量%)に置き換えた以外は同様にして、無機粒子B分散物(e)を得た。
[Inorganic particle B dispersion (e)]
Except that the titanium oxide methanol dispersion was replaced with the aluminum oxide methanol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .: number average particle size 15 nm, solid content concentration 30% by mass) with respect to the inorganic particle B dispersion (a). Inorganic particle B dispersion (e) was obtained.

[無機粒子Cの調製]
[無機粒子C分散物(a)]
5酸化2アンチモン−酸化亜鉛複酸化物メタノール分散物(日産化学株式会社製:“セルナックスCX−Z610M−F2” 固形分濃度60質量% 数平均粒子径 20nm)50gに、KBM−5103(信越化学工業株式会社製 γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)3gを滴下、均一に攪拌した。 次いで、これに20%酢酸水溶液2.5gを滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。
さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200gを加え、ロータリーエバポレーターにて、脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして無機粒子C分散物(a)を得た。
[Preparation of inorganic particles C]
[Inorganic particle C dispersion (a)]
To 50 g of an antimony pentoxide-zinc oxide double oxide methanol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .: “CELNAX CX-Z610M-F2” solid content concentration 60 mass% number average particle size 20 nm), KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 3 g of Kogyo Co., Ltd. (γ-acryloxypropyltrimethoxysilane) was added dropwise and stirred uniformly. Next, 2.5 g of a 20% aqueous acetic acid solution was added dropwise thereto, and after completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours.
Furthermore, 200 g of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, demethanol treatment was performed on a rotary evaporator, and after confirming the solid content concentration by the method described later, finally the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone. Microfiltration was performed to obtain inorganic particle C dispersion (a).

[無機粒子C分散物(b)]
アンチモン添加酸化スズエタノール分散物(日揮触媒化学株式会社製:“ELECOM” 固形分濃度20質量% 8nm)150gに、KBM−5103(信越化学工業株式会社製 γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)4.5gを滴下、均一に攪拌した。 次いで、これに20%酢酸水溶液7.5gを滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200gを加え、ロータリーエバポレーターにて、脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして無機粒子C分散物(b)を得た。
[Inorganic particle C dispersion (b)]
3. Antimony-added tin oxide ethanol dispersion (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd .: “ELECOM” solid concentration 20 mass% 8 nm) 150 g, KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. γ-acryloxypropyltrimethoxysilane) 5 g was added dropwise and stirred uniformly. Next, 7.5 g of a 20% aqueous acetic acid solution was added dropwise thereto, and after completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours. Furthermore, 200 g of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, demethanol treatment was performed on a rotary evaporator, and after confirming the solid content concentration by the method described later, finally the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone. Microfiltration was performed to obtain inorganic particle C dispersion (b).

[無機粒子C分散物(c)]
無機粒子C分散物(a)に対して、5酸化2アンチモン−酸化亜鉛複酸化物メタノール分散物の代わりに酸素欠損型酸化スズエタノール分散物(CIKナノテック株式会社製: 固形分濃度30質量% 10nm)100gに置き換えた以外は同様にして、無機粒子C分散物(c)を得た。
[Inorganic particle C dispersion (c)]
For the inorganic particle C dispersion (a), an oxygen-deficient tin oxide ethanol dispersion (manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd .: solid content concentration 30 mass% 10 nm instead of the dianhydride pentoxide-zinc oxide double oxide methanol dispersion) ) An inorganic particle C dispersion (c) was obtained in the same manner except that it was replaced with 100 g.

[無機粒子C分散物(d)]
5酸化2アンチモン−酸化亜鉛複酸化物メタノール分散物(日産化学株式会社製:“セルナックスCX−Z610M−F2” 固形分濃度60質量% 数平均粒子径 20nm)50gに、KBM−5103(信越化学工業株式会社製 γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)0.9gを滴下、均一に攪拌した。 次いで、これに20%酢酸水溶液2.5gを滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。
[Inorganic particle C dispersion (d)]
To 50 g of an antimony pentoxide-zinc oxide double oxide methanol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .: “CELNAX CX-Z610M-F2” solid content concentration 60 mass% number average particle size 20 nm), KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.9 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) was added dropwise and stirred uniformly. Next, 2.5 g of a 20% aqueous acetic acid solution was added dropwise thereto, and after completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours.

さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200gを加え、ロータリーエバポレーターにて、脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして無機粒子C分散物(d)を得た。   Furthermore, 200 g of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, demethanol treatment was performed on a rotary evaporator, and after confirming the solid content concentration by the method described later, finally the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone. Microfiltration was performed to obtain inorganic particle C dispersion (d).

[無機粒子C分散物(e)]
5酸化2アンチモン−酸化亜鉛複酸化物メタノール分散物(日産化学株式会社製:“セルナックスCX−Z610M−F2” 固形分濃度60質量% 数平均粒子径 20nm)50gに、KBM−5103(信越化学工業株式会社製 γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)30gを滴下、均一に攪拌した。 次いで、これに20%酢酸水溶液5g、イオン交換水2gを滴下し、滴下終了後35℃で30分、60℃で3時間反応させた。
[Inorganic particle C dispersion (e)]
To 50 g of an antimony pentoxide-zinc oxide double oxide methanol dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd .: “CELNAX CX-Z610M-F2” solid content concentration 60 mass% number average particle size 20 nm), KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 30 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Kogyo Co., Ltd.) was added dropwise and stirred uniformly. Next, 5 g of a 20% aqueous acetic acid solution and 2 g of ion-exchanged water were added dropwise thereto, and after completion of the addition, the reaction was carried out at 35 ° C. for 30 minutes and at 60 ° C. for 3 hours.

さらに、置換溶媒としてメチルイソブチルケトン200gを加え、ロータリーエバポレーターにて、脱メタノール処理を行い、後述の方法で固形分濃度を確認後、最終的にメチルイソブチルケトンで固形分濃度30質量%に調製、精密ろ過をして無機粒子C分散物(e)を得た。   Furthermore, 200 g of methyl isobutyl ketone was added as a substitution solvent, demethanol treatment was performed on a rotary evaporator, and after confirming the solid content concentration by the method described later, finally the solid content concentration was adjusted to 30% by mass with methyl isobutyl ketone. Microfiltration was performed to obtain inorganic particle C dispersion (e).

[無機粒子C分散物(f)]
無機粒子B分散物(e)と同様の方法により作成した。
[Inorganic particle C dispersion (f)]
It produced by the method similar to the inorganic particle B dispersion (e).

[塗料組成物]
[塗料組成物1〜23の調製〕
[塗料組成物1]
下記材料を混合し、塗料組成物1を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(a) 14 質量部
無機粒子C分散物(a) 14 質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 4.2 質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
8.7 質量部
[塗料組成物2〜3、6,15〜16、21〜23]
塗料組成物1に対して、表1に示すように無機粒子A分散物(a)、無機粒子B分散物(a)、無機粒子C分散物(a)を置き換えた以外は同様にして塗料組成物2〜3、6,13、15〜17、20〜23を得た。
[Coating composition]
[Preparation of coating compositions 1 to 23]
[Coating composition 1]
The following materials were mixed to obtain a coating composition 1.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (a) 14 parts by mass Inorganic particle C dispersion (a) 14 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester A-9570 New (Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 4.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
8.7 parts by mass [Coating compositions 2-3, 6, 15-16, 21-23]
Coating composition 1 was similarly prepared except that inorganic particle A dispersion (a), inorganic particle B dispersion (a), and inorganic particle C dispersion (a) were replaced as shown in Table 1. Products 2-3, 6, 13, 15-17, 20-23 were obtained.

[塗料組成物4]
下記材料を混合し、塗料組成物4を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(b) 14.3質量部
無機粒子C分散物(a) 13.6質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 4.2 質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
量部
[塗料組成物5]
下記材料を混合し、塗料組成物5を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(c) 15.3質量部
無機粒子C分散物(a) 12.6質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 4.2 質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物7]
下記材料を混合し、塗料組成物7を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(a) 11.3質量部
無機粒子C分散物(c) 16.7質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 4.2 質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物8]
下記材料を混合し、塗料組成物8を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(a) 11 質量部
無機粒子C分散物(c) 17 質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 4.2 質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物9]
塗料組成物1に対してバインダー原料(a)を、(b)ビスフェノールAEO変性ジアクリレート(MIWON Commercial Co.Ltd製 Miramer M240:固形分100質量%)に置き換えた以外は同様にして、塗料組成物9を得た。
[Coating composition 4]
The following materials were mixed and the coating composition 4 was obtained.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (b) 14.3 parts by mass Inorganic particle C dispersion (a) 13.6 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester) A-9570 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 4.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Part [Coating composition 5]
The following materials were mixed and the coating composition 5 was obtained.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (c) 15.3 parts by mass Inorganic particle C dispersion (a) 12.6 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester) A-9570 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 4.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Parts by mass [Coating composition 7]
The following materials were mixed to obtain a coating composition 7.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by weight Inorganic particle B dispersion (a) 11.3 parts by weight Inorganic particle C dispersion (c) 16.7 parts by weight Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester) A-9570 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 4.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Part by mass [Coating composition 8]
The following materials were mixed to obtain a coating composition 8.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (a) 11 parts by mass Inorganic particle C dispersion (c) 17 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester A-9570 New (Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 4.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Part by mass [Coating composition 9]
In the same manner as in the coating composition 1, except that the binder raw material (a) was replaced with (b) bisphenol AEO-modified diacrylate (Miramer M240 manufactured by MIWON Commercial Co. Ltd .: solid content: 100% by mass). 9 was obtained.

[塗料組成物10]
塗料組成物1に対してバインダー原料(a)を、(c)ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(MIWON Commercial Co.Ltd製 MiramerM410:固形分100質量%)に置き換えた以外は同様にして、塗料組成物10を得た。
[Coating composition 10]
A coating composition 10 was prepared in the same manner except that the binder raw material (a) was replaced with (c) ditrimethylolpropane tetraacrylate (Miramer M410 manufactured by MIWON Commercial Co. Ltd .: solid content: 100% by mass) with respect to the coating composition 1. Got.

[塗料組成物11]
塗料組成物1に対してバインダー原料(a)を、(d)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬株式会社製 DPHA 固形分100質量%)に置き換えた以外は同様にして、塗料組成物11を得た。
[Coating composition 11]
In the same manner as in the coating composition 1, except that the binder raw material (a) was replaced with (d) dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA solid content 100% by mass, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Obtained.

[塗料組成物12]
塗料組成物1に対してバインダー原料(a)を、(e)ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬株式会社製 PET30 固形分100質量%)に置き換えた以外は同様にして、塗料組成物12を得た。
[Coating composition 12]
The coating composition 12 was obtained in the same manner except that the binder raw material (a) was replaced with (e) pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., PET30 solid content: 100% by mass) with respect to the coating composition 1. It was.

[塗料組成物13]
塗料組成物1に対してバインダー原料(a)を、(f)ペンタエリスリトールトリアクリレート(ダイセルサイテック株式会社 PETRA 固形分100質量%)に置き換えた以外は同様にして、塗料組成物13を得た。
[Coating composition 13]
A coating composition 13 was obtained in the same manner except that the binder raw material (a) was replaced with (f) pentaerythritol triacrylate (Daicel Cytec Co., Ltd., PETRA solid content 100% by mass) with respect to the coating composition 1.

[塗料組成物14]
下記材料を混合し、塗料組成物14を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(a) 15.6質量部
無機粒子C分散物(a) 12.3質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 4.2 質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物17]
下記材料を混合し、塗料組成物17を得た。
無機粒子B分散物(a) 14.0質量部
無機粒子C分散物(a) 14.0質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 47.2質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物18]
下記材料を混合し、塗料組成物18を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子C分散物(a) 14.0質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 18.2質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物19]
下記材料を混合し、塗料組成物18を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(a) 14.0質量部
バインダー原料(a)ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(NKエステル A−9570 新中村化学株式会社製:固形分100質量%)
5.8 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 18.2質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[塗料組成物20]
下記材料を混合し、塗料組成物20を得た。
無機粒子A分散物(a) 43 質量部
無機粒子B分散物(a) 14 質量部
無機粒子C分散物(a) 14 質量部
溶媒(メチルイソブチルケトン) 10.0質量部
溶媒(ジイソブチルケトン) 10.0質量部
光重合開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン)
0.3 質量部
疎水性化合物B(R1820(ダイキン株式会社製:固形分100質量%)
質量部
[反射防止部材の作製]
支持基材としてPET樹脂フィルム上に易接着性塗料が塗工されている“ルミラー”U46(東レ(株)製)を用いた。
[Coating composition 14]
The following materials were mixed and the coating composition 14 was obtained.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (a) 15.6 parts by mass Inorganic particle C dispersion (a) 12.3 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester) A-9570 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 4.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Parts by mass [Coating composition 17]
The following materials were mixed to obtain a coating composition 17.
Inorganic particle B dispersion (a) 14.0 parts by weight Inorganic particle C dispersion (a) 14.0 parts by weight Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester A-9570, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid 100% by mass)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 47.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Part by mass [Coating composition 18]
The following materials were mixed to obtain a coating composition 18.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle C dispersion (a) 14.0 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester A-9570 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100 mass%)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 18.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Part by mass [Coating composition 19]
The following materials were mixed to obtain a coating composition 18.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (a) 14.0 parts by mass Binder raw material (a) Dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester A-9570 Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: solid content 100 mass%)
5.8 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 18.2 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10.0 parts by mass photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Part by mass [Coating composition 20]
The following materials were mixed and the coating composition 20 was obtained.
Inorganic particle A dispersion (a) 43 parts by mass Inorganic particle B dispersion (a) 14 parts by mass Inorganic particle C dispersion (a) 14 parts by mass solvent (methyl isobutyl ketone) 10.0 parts by mass solvent (diisobutyl ketone) 10 0.0 part by mass of a photopolymerization initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one)
0.3 parts by mass of hydrophobic compound B (R1820 (manufactured by Daikin Corporation: solid content: 100% by mass)
Mass part [Preparation of antireflection member]
“Lumirror” U46 (manufactured by Toray Industries, Inc.) in which an easy-adhesive coating material was coated on a PET resin film was used as a supporting substrate.

前記塗料組成物1〜23を搬送速度10m/minの条件でグラビアコーターを有する連続塗工装置を用いて塗工した。   The coating compositions 1 to 23 were coated using a continuous coating apparatus having a gravure coater under the condition of a conveyance speed of 10 m / min.

第1乾燥
送風温湿度 : 温度:45℃、 相対湿度:10%
風速 : 塗工面側:5m/s、反塗工面側:5m/s
風向 : 塗工面側:基材に対して平行、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
第2乾燥
送風温湿度 : 温度:100℃、相対湿度:1%
風速 : 塗工面側:5m/s、反塗工面側:5m/s
風向 : 塗工面側:基材に対して垂直、反塗工面側:基材に対して垂直
滞留時間 : 1分間
硬化工程
照射出力 600W/cm積算光量120mJ/cm
酸素濃度 0.1体積%
なお、風速、温湿度は熱線式風速計(日本カノマックス株式会社 アネモマスター風速・風量計 MODEL6034)による測定値を使用した。以上の方法により、実施例1〜16、比較例1〜7の反射防止部材を作成した。
[塗料組成物の評価方法]
[無機粒子A,B、Cの屈折率]
前述の無機粒子A分散液(a)〜(d)、無機粒子B分散液(a)〜(e)、および無機粒子C分散液(a)〜(f)をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。これを120℃で乾燥、粉砕して、無機粒子A,B、Cの粉末を作成する。屈折率が既知である標準屈折液を2,3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。上記の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液を低圧ナトリウムランプ(ナトリウムのD線)の透過光のもとで観察し、上記混合液(ペースト状)が透明になったときの標準屈折液を無機粒子の屈折率として測定した。
First drying blast temperature and humidity: Temperature: 45 ° C, Relative humidity: 10%
Wind speed: coated side: 5 m / s, anti-coated side: 5 m / s
Wind direction: Coated surface side: parallel to base material, anti-coated surface side: vertical residence time with respect to base material: 1 minute Second drying air temperature and humidity: Temperature: 100 ° C., relative humidity: 1%
Wind speed: coated side: 5 m / s, anti-coated side: 5 m / s
Wind direction: coated surface side: vertical to substrate, anti-coated surface side: vertical residence time to substrate: 1 minute Curing process Irradiation output 600 W / cm 2 Integrated light quantity 120 mJ / cm 2
Oxygen concentration 0.1% by volume
In addition, the measured value by a hot-wire anemometer (Nippon Kanomax Co., Ltd. Anemomaster anemometer / air flow meter MODEL6034) was used for the wind speed and temperature / humidity. By the above method, the antireflection member of Examples 1-16 and Comparative Examples 1-7 was created.
[Method for evaluating coating composition]
[Refractive index of inorganic particles A, B, and C]
The inorganic particle A dispersions (a) to (d), the inorganic particle B dispersions (a) to (e), and the inorganic particle C dispersions (a) to (f) are taken in an evaporator, and the dispersion medium is evaporated. Let This is dried at 120 ° C. and pulverized to produce powders of inorganic particles A, B, and C. A standard refracting liquid having a known refractive index is dropped onto a glass drop of a few drops, and the above powder is mixed therewith. Perform the above operations with various standard refraction liquids, observe the mixed liquid under the transmitted light of a low-pressure sodium lamp (sodium D line), and standard refraction when the mixed liquid (pasty) becomes transparent. The liquid was measured as the refractive index of inorganic particles.

[無機粒子B,Cの体積抵抗率]
無機粒子B,Cの体積抵抗率は、前述の無機粒子A,B、Cの屈折率測定法と同様の方法で無機粒子A,B、Cの粉末を作成し、これを三菱化学株式会社製粉体抵抗率測定システム( MCP−PD51型)を用い、無機粒子2.5gに20kNの荷重を与えた条件下で測定した。
[Volume resistivity of inorganic particles B and C]
For the volume resistivity of the inorganic particles B and C, powders of the inorganic particles A, B and C were prepared by the same method as the refractive index measurement method for the inorganic particles A, B and C described above. Using a body resistivity measurement system (MCP-PD51 type), the measurement was performed under a condition in which a load of 20 kN was applied to 2.5 g of inorganic particles.

[バインダー原料の水酸基価]
バインダー原料をJIS K0070(1992)の水酸基価測定法に基づいて、中和滴定法により水酸基価の測定を行った。
[Hydroxyl value of binder material]
Based on the hydroxyl value measurement method of JIS K0070 (1992), the hydroxyl value of the binder material was measured by a neutralization titration method.

[無機粒子B,Cの表面電荷量]
無機粒子B,Cの表面電荷量は、表面電位滴定装置(BTG株式会社製Mutek PCD−04)を用い、無機粒子B分散液(a)〜(e)、無機粒子C分散液(a)〜(f)をイソプロピルアルコールで希釈して、無機粒子B、あるいは無機粒子Cとしての濃度が1重量%である分散体を調製し、測定容器に注ぎ、粒子電荷とは反対電荷を有するポリマーを用いて滴定することにより測定した。このときポリマー標準液として、0.001Nのポリ塩化アリルジメチルアンモニウムを用いた。
[Surface charge amount of inorganic particles B and C]
The surface charge amount of the inorganic particles B and C is measured using a surface potential titration device (Mutek PCD-04 manufactured by BTG Corporation), and the inorganic particle B dispersions (a) to (e) and the inorganic particle C dispersion (a) to (F) is diluted with isopropyl alcohol to prepare a dispersion having a concentration of 1% by weight as inorganic particles B or inorganic particles C, poured into a measuring container, and a polymer having a charge opposite to the particle charge is used. It was measured by titration. At this time, 0.001N polyallyldimethylammonium chloride was used as a polymer standard solution.

[反射防止部材の評価]
作製した反射防止部材について、次に示す性能評価を実施し、得られた結果を表2に示す。特に断りのない場合を除き、測定は各実施例・比較例において1つのサンプルについて場所を変えて3回測定を行い、その平均値を用いた。
[Evaluation of antireflection member]
About the produced antireflection member, the following performance evaluation was implemented and the obtained result is shown in Table 2. Unless otherwise specified, the measurement was performed three times by changing the location of one sample in each example and comparative example, and the average value was used.

[耐擦傷性]
反射防止部材に250g/cm荷重となるスチールウール(#0000)を垂直にあて、1cmの長さを10往復した際に目視される傷の概算本数を記載し、下記のクラス分けを行い3点以上を合格とした。
5点: 0本
4点: 1本以上 5本未満
3点: 5本以上 10本未満
2点: 10本以上 20本未満
1点: 20本以上。
[Abrasion resistance]
Describe the approximate number of scratches that can be seen when steel wool (# 0000) with a load of 250 g / cm 2 is placed vertically on the anti-reflective member and make 10 reciprocations of the length of 1 cm. The score was passed.
5 points: 0 4 points: 1 or more Less than 5 3 points: 5 or more Less than 10 2 points: 10 or more Less than 20 1 point: 20 or more.

[耐摩耗性]
本光製作所製消しゴム摩耗試験機の先端(先端部面積 1cm)に、白ネル〔興和(株)製〕を取り付け、500gの荷重をかけて反射防止部材上を5cm、5000回往復、及び1000g荷重をかけて反射防止部材上を5cm、200回往復摩擦し、下記のクラス分けを行い、3点以上を合格とした。
5点: 傷なし
4点: 1〜10本の傷
3点: 11〜20本の傷
2点: 21本以上の傷
1点: 試験部分の反射防止層が全面剥離。
[Abrasion resistance]
At the tip of the Eraser abrasion tester manufactured by Honko Seisakusho (tip area 1 cm 2 ), Shiranell (manufactured by Kowa Co., Ltd.) is attached, and a 500 g load is applied to the antireflection member 5 cm, 5000 reciprocations, and 1000 g. A load was applied and the antireflection member was rubbed back and forth 5 cm and 200 times, and the following classification was performed.
5 points: No scratch 4 points: 1 to 10 scratches 3 points: 11 to 20 scratches 2 points: 21 or more scratches 1 point: The antireflection layer of the test part was peeled entirely.

[透明性]
透明性はヘイズ値を測定することにより判定した。測定はJIS K 7136(2000)に基づき、日本電色工業(株)製 ヘイズメーターを用いて、反射防止部材サンプルの支持基材とは反対側(反射防止層側)から光を透過するように装置に置いて測定を行い、ヘイズ値が2.0%以下を合格とした。また、この評価で合格しているものを「白化」が起こっていないものとした。
[transparency]
Transparency was determined by measuring the haze value. The measurement is based on JIS K 7136 (2000), using a Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. haze meter so that light is transmitted from the side opposite to the support base of the antireflection member sample (antireflection layer side). The measurement was performed by placing it on the apparatus, and a haze value of 2.0% or less was regarded as acceptable. In addition, it was assumed that “whitening” did not occur for those that passed this evaluation.

[反射防止性能]
反射防止性能の評価は島津製作所製分光光度計UV−3100を用いて400nmから800nmの波長範囲にて行い、最低反射率(ボトム反射率)を測定し、1.0%以下を合格とした。反射率は波長550nm付近で極小値(最低反射率)となったときの値を示した。
[Antireflection performance]
The antireflection performance was evaluated using a spectrophotometer UV-3100 manufactured by Shimadzu Corporation in the wavelength range of 400 nm to 800 nm, the minimum reflectance (bottom reflectance) was measured, and 1.0% or less was accepted. The reflectivity showed a value when the local minimum value (minimum reflectivity) was reached near the wavelength of 550 nm.

[帯電防止性能]
帯電防止性能は、反射防止部材の低屈折率層側の表面抵抗率を、JIS K 6911(1995)に準拠して測定し、表面抵抗率が1×1011になるものを合格とした。
[Antistatic performance]
As for the antistatic performance, the surface resistivity of the antireflective member on the low refractive index layer side was measured according to JIS K 6911 (1995), and a surface resistivity of 1 × 10 11 was accepted.

表1、2に塗料組成物の組成を、表3に実施例、比較例の構成と得られた反射防止部材の評価結果をまとめた。評価項目において1項目でも合格とならないものについて、課題未達成と判断した。   Tables 1 and 2 summarize the compositions of the coating compositions, and Table 3 summarizes the configurations of Examples and Comparative Examples and the evaluation results of the obtained antireflection members. Regarding evaluation items that did not pass even one item, it was judged that the problem was not achieved.

表3に示すように本発明の実施例は、耐擦傷性、耐摩耗性と透明性、反射防止性能いずれにおいても合格しており、本発明が解決しようとする課題を達成している。   As shown in Table 3, the examples of the present invention passed all of the scratch resistance, abrasion resistance and transparency, and antireflection performance, and achieved the problems to be solved by the present invention.

無機粒子Cの無機粒子Bに対する質量比が、本発明の好ましい範囲を上回っている、実施例8の反射防止部材は、反射防止性能がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。   The antireflection member of Example 8 in which the mass ratio of the inorganic particles C to the inorganic particles B exceeded the preferable range of the present invention was slightly inferior in antireflection performance, but was in an acceptable range.

バインダー原料の官能基数と、水酸基価が、本発明の好ましい範囲より小さい実施例9の反射防止部材は、耐擦傷性、耐磨耗性、透明性、反射防止性能がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。   The antireflective member of Example 9 in which the number of functional groups and the hydroxyl value of the binder raw material are smaller than the preferred range of the present invention was slightly inferior in scratch resistance, abrasion resistance, transparency, and antireflection performance. It was in the range possible.

水酸基価が、本発明の好ましい範囲より小さい実施例10の反射防止部材は、透明性、反射防止性能がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。   The antireflection member of Example 10 having a hydroxyl value smaller than the preferred range of the present invention was slightly inferior in transparency and antireflection performance, but was in an acceptable range.

水酸基価が、本発明の好ましい範囲より大きい実施例13の反射防止部材は、耐擦傷性、耐磨耗性、透明性、反射防止性能がやや劣っていたが、許容できる範囲であった
無機粒子Cの無機粒子Bに対する質量比が、本発明の好ましい範囲を下回っている、実施例14の反射防止部材は、帯電防止性能がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
表面電荷量の差が、本発明の好ましい範囲より大きい実施例15の反射防止部材は、透明性、反射防止性能がやや劣っていたが、許容できる範囲であった。
The antireflection member of Example 13 having a hydroxyl value larger than the preferred range of the present invention was slightly inferior in scratch resistance, abrasion resistance, transparency, and antireflection performance, but was in an acceptable range. The antireflective member of Example 14 in which the mass ratio of C to the inorganic particles B was lower than the preferred range of the present invention was slightly inferior in antistatic performance, but was in an acceptable range.
The antireflection member of Example 15 in which the difference in the surface charge amount was larger than the preferable range of the present invention was slightly inferior in transparency and antireflection performance, but was in an acceptable range.

Figure 2012185413
Figure 2012185413

Figure 2012185413
Figure 2012185413

Figure 2012185413
Figure 2012185413

1 反射防止部材
2 支持基材
3 反射防止層
4 低屈折率層
5 高屈折率層
6 高屈折率ハードコート層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection member 2 Support base material 3 Antireflection layer 4 Low refractive index layer 5 High refractive index layer 6 High refractive index hard coat layer

本発明の塗料組成物、それを用いた反射防止部材の製造方法、及び反射防止部材は、例えば、プラスチック光学部品、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック容器、建築内装材としての床材、壁材、人工大理石等の傷付き(擦傷)防止や汚染防止のための保護コーティング材;フィルム型液晶素子、タッチパネル、プラスチック光学部品等の反射防止膜;各種基材の接着剤、シーリング材;印刷インクのバインダー材等として好適に用いることができる。 The coating composition of the present invention, the method for producing an antireflection member using the same, and the antireflection member include, for example, a plastic optical component, a touch panel, a film-type liquid crystal element, a plastic container, a floor material as a building interior material, and a wall material. Protective coating materials to prevent scratches (scratches) and contamination of artificial marble, etc .; Antireflection films for film-type liquid crystal elements, touch panels, plastic optical components, etc .; Adhesives and sealing materials for various substrates; It can be suitably used as a binder material or the like.

Claims (4)

無機粒子A、無機粒子B、無機粒子C、及びバインダー原料を含む塗料組成物。
無機粒子A:フッ素化合物Aにより表面処理された無機粒子。
無機粒子B:屈折率が1.65以上の無機粒子。
無機粒子C:体積抵抗率が1×1010(Ω・cm)以下の無機粒子。
A coating composition comprising inorganic particles A, inorganic particles B, inorganic particles C, and a binder raw material.
Inorganic particles A: inorganic particles surface-treated with the fluorine compound A.
Inorganic particles B: inorganic particles having a refractive index of 1.65 or more.
Inorganic particles C: inorganic particles having a volume resistivity of 1 × 10 10 (Ω · cm) or less.
前記バインダー原料が、1分子あたり3個以上の反応性部位を有し、JIS K0070(1992)に基づく水酸基価が20以上150以下であるであることを特徴とする請求項1に記載の塗料組成物。   The paint composition according to claim 1, wherein the binder raw material has 3 or more reactive sites per molecule, and has a hydroxyl value of 20 or more and 150 or less based on JIS K0070 (1992). object. 前記無機粒子Cの前記無機粒子Bに対する質量比(「無機粒子Cの質量」/「無機粒子Bの質量」)をC/Bとした際に、該C/Bが0.8以上1.5以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の塗料組成物。   When the mass ratio of the inorganic particles C to the inorganic particles B (“the mass of the inorganic particles C” / “the mass of the inorganic particles B”) is C / B, the C / B is 0.8 or more and 1.5. The coating composition according to claim 1 or 2, wherein: 前記無機粒子Bと前記無機粒子Cの表面電荷量の差が、30μeq/g以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の塗料組成物。   The coating composition according to any one of claims 1 to 3, wherein a difference in surface charge amount between the inorganic particles B and the inorganic particles C is 30 µeq / g or less.
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