JP2012180324A - Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof - Google Patents

Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2012180324A
JP2012180324A JP2011045300A JP2011045300A JP2012180324A JP 2012180324 A JP2012180324 A JP 2012180324A JP 2011045300 A JP2011045300 A JP 2011045300A JP 2011045300 A JP2011045300 A JP 2011045300A JP 2012180324 A JP2012180324 A JP 2012180324A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
thioether
ppm
carbon atoms
containing alkoxysilane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011045300A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasunobu Tagami
安宣 田上
Toshinobu Fujimura
俊伸 藤村
Hisashi Nakamura
久 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
NOF Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NOF Corp filed Critical NOF Corp
Priority to JP2011045300A priority Critical patent/JP2012180324A/en
Publication of JP2012180324A publication Critical patent/JP2012180324A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thioether-containing alkoxysilane derivative which has an excellent adhesive property enhancing effect.SOLUTION: The thioether-containing alkoxysilane derivative is a compound represented by formula 1. [Wherein, m is 1 or 2; n is 0 or 1; Ris H, a 1-18C hydrocarbon or a 1-4C hydrocarbon substituted with 1-3C alkoxy; Ris methyl or ethyl; and Ris a bivalent group represented by -CH-CH- or -CH(CH)-].

Description

本発明は、密着性向上剤等に好適に用いられる新規なチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体、および当該チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の用途に関する。   The present invention relates to a novel thioether-containing alkoxysilane derivative suitably used for an adhesion improver and the like and uses of the thioether-containing alkoxysilane derivative.

従来より、各種塗料をシリコン基板等の無機基材に塗工する際に、密着性を向上させる目的でシランカップリング剤が塗料に添加されている(例えば、特許文献1を参照)。   Conventionally, when various coating materials are applied to an inorganic base material such as a silicon substrate, a silane coupling agent has been added to the coating material for the purpose of improving adhesion (see, for example, Patent Document 1).

特開開平7−300491号公報JP-A-7-300491

しかしながら、シランカップリング剤の多くは沸点が低く、高温塗工が必要な塗料に対しては、例えば100量部に対して10〜20量部添加する必要があった。また、密着性向上効果も充分とは言えず、例えばチタン、ジルコニウム等の塩や、イミダゾール等のアミン、リン酸エステル、ウレタン樹脂、チオール化合物等の密着性助剤も同時に添加することによって、初めて密着性を達成できる場合も多かった。しかしながら、これら密着性助剤の配合は工程数が増加するだけではなく、塗料特性を損なわない密着性助剤種や添加量の最適化作業が必要であった。また、シランカップリング剤の多くはトリアルコキシシランと反応性基を結ぶ主骨格が炭素‐炭素結合により構成されており、その結合角も炭素−炭素の結合角に依存している。そのため、分子構造も炭素の結合角に依存しており、多岐の分子構造を取ることが難しいため、配向の形も限定されている。   However, many of the silane coupling agents have a low boiling point, and it is necessary to add, for example, 10 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight for paints that require high temperature coating. Moreover, it cannot be said that the effect of improving adhesion is sufficient, for example, by adding simultaneously an adhesion aid such as a salt such as titanium or zirconium, an amine such as imidazole, a phosphate ester, a urethane resin, or a thiol compound. In many cases, adhesion could be achieved. However, the formulation of these adhesion assistants not only increases the number of steps, but also requires an optimization operation of the adhesion assistant species and addition amount that do not impair the coating properties. In many of the silane coupling agents, the main skeleton connecting the trialkoxysilane and the reactive group is constituted by a carbon-carbon bond, and the bond angle also depends on the carbon-carbon bond angle. For this reason, the molecular structure also depends on the bond angle of carbon, and it is difficult to take a wide variety of molecular structures, so the shape of orientation is also limited.

そこで、本発明は上記実状に鑑みて成し遂げられたものであり、その目的は、シリコン基板等への密着性向上効果に優れる新規なチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体と、これを用いた密着性向上剤を提供することにある。   Therefore, the present invention has been accomplished in view of the above circumstances, and its purpose is to provide a novel thioether-containing alkoxysilane derivative excellent in adhesion improving effect on a silicon substrate and the like, and an adhesion improver using the same. It is to provide.

本発明者らは前記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の構造を有するチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体が、優れたシリコン基板等への密着性向上効果を有することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は次の〔1〕から〔3〕である。
〔1〕下記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。

Figure 2012180324

(式中のmは1または2であり、nは0または1である。Rは水素、または炭素数が1〜18の炭化水素基、または炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基である。Rはメチル基またはエチル基である。Rは−CH−CH−あるいは−CH(CH)−で表される2価の基である。)
〔2〕下記式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物と下記式3で表されるチオール化合物とを反応させてなる、請求項1に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
Figure 2012180324

(式中のnは0または1である。Rはメチル基またはエチル基である。)
Figure 2012180324

(式中のmは1または2である。Rは水素、または炭素数が1〜18の炭化水素基、または炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基である。)
〔3〕〔1〕または〔2〕に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a thioether-containing alkoxysilane derivative having a specific structure has an excellent effect of improving adhesion to a silicon substrate, etc. The invention has been completed. That is, the present invention includes the following [1] to [3].
[1] A thioether-containing alkoxysilane derivative represented by the following formula 1.
Figure 2012180324

(In the formula, m is 1 or 2, n is 0 or 1. R 1 is substituted by hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. A hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a methyl group or an ethyl group, and R 3 is a divalent group represented by —CH 2 —CH 2 — or —CH (CH 3 ) —. .)
[2] The thioether-containing alkoxysilane derivative according to claim 1, wherein the alkoxysilyl group-containing compound represented by the following formula 2 is reacted with a thiol compound represented by the following formula 3.
Figure 2012180324

(In the formula, n is 0 or 1. R 2 is a methyl group or an ethyl group.)
Figure 2012180324

(In the formula, m is 1 or 2. R 1 is hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, or a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms substituted by an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. It is a hydrogen group.)
[3] An adhesion improver comprising the thioether-containing alkoxysilane derivative according to [1] or [2] as an active ingredient.

チオールの結合角は炭素の結合角よりも大きいため、分子内にチオールエーテル基をもつ分子は炭素のみで結合している分子よりも多彩な構造を取ることができる。そのため本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、炭素のみ結合しているアルココキシシラン誘導体よりも基材への反応部位の配向が高まり密着性の向上が可能である。加えて、本発明は従来のシランカップリング剤に比べてチオエーテルの結合角が広いため分子構造に自由度が増し、密な分子配向を取ることができる。したがって、同分子量のものと比べると沸点が高く、且つ低揮発性となっている。そのため、例えば塗料に0.1〜10重量%という比較的少量添加するだけでも、密着性助剤の添加を必要とすることなく塗料に高いシリコン基板への密着性を付与することが可能である。   Since the bond angle of thiol is larger than the bond angle of carbon, a molecule having a thiol ether group in the molecule can have a variety of structures than a molecule bonded only with carbon. Therefore, the thioether-containing alkoxysilane derivative of the present invention can improve the orientation of the reaction site on the base material and improve the adhesion as compared with the alkoxysilane derivative bonded only with carbon. In addition, according to the present invention, the bond angle of thioether is wider than that of conventional silane coupling agents, so the degree of freedom in the molecular structure is increased and a dense molecular orientation can be achieved. Therefore, it has a higher boiling point and lower volatility than those of the same molecular weight. Therefore, for example, even if a relatively small amount of 0.1 to 10% by weight is added to the paint, it is possible to impart high adhesion to the silicon substrate to the paint without requiring the addition of an adhesion aid. .

また、本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法を用いれば、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を収率良く簡便に得ることが可能である。加えて、チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は密着性の付与効果に優れているため、塗料などに密着性を付与する密着性向上剤として有用である。   Moreover, if the manufacturing method of the thioether containing alkoxysilane derivative of this invention is used, it is possible to obtain a thioether containing alkoxysilane derivative simply with a sufficient yield. In addition, since the thioether-containing alkoxysilane derivative is excellent in adhesion imparting effect, it is useful as an adhesion improver that imparts adhesion to paints and the like.

実施例1で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。2 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 1. 実施例2で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。3 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 2. 実施例3で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。6 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 3. 実施例4で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。6 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 4. 実施例5で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。6 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 5. 実施例6で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。6 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 6. 実施例7で得られた化合物のIRスペクトルを示すチャート。6 is a chart showing an IR spectrum of the compound obtained in Example 7. 実施例1で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。3 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 1. 実施例2で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。3 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 2. 実施例3で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。3 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 3. 実施例4で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。6 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 4. 実施例5で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。6 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 5. 実施例6で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。6 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 6. 実施例7で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルを示すチャート。10 is a chart showing a nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Example 7.

以下に、本発明について詳細に説明する。本発明のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、下記式1で表される化合物である。

Figure 2012180324

(式中のmは1または2であり、nは0または1である。Rは水素、または炭素数が1〜18の炭化水素基、または炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基である。Rはメチル基またはエチル基である。Rは−CH−CH−あるいは−CH(CH)−で表される2価の基である。) The present invention is described in detail below. The thioether-containing alkoxysilane derivative of the present invention is a compound represented by the following formula 1.
Figure 2012180324

(In the formula, m is 1 or 2, n is 0 or 1. R 1 is substituted by hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. A hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a methyl group or an ethyl group, and R 3 is a divalent group represented by —CH 2 —CH 2 — or —CH (CH 3 ) —. .)

式1のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は多くの樹脂に相溶するため、幅広い用途に用いることが可能である。例えば、本チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を使用することで樹脂と無機材料の密着性を改善できるため、FRP(繊維強化プラスチック)、FRTP(繊維強化熱可塑性プラスチック)、レジンコンクリート、人造大理石、プラスチックマグネット、ゴムマグネット、磁気テープのような、無機材料と樹脂を組み合わせた複合材料用の密着性向上剤として有用である。特に、シリコン基板等の無機基材に各種塗料を塗工する際の密着性向上剤として好適である。   Since the thioether-containing alkoxysilane derivative of Formula 1 is compatible with many resins, it can be used for a wide range of applications. For example, since the adhesion between the resin and the inorganic material can be improved by using this thioether-containing alkoxysilane derivative, FRP (fiber reinforced plastic), FRTP (fiber reinforced thermoplastic), resin concrete, artificial marble, plastic magnet, It is useful as an adhesion improver for composite materials combining inorganic materials and resins, such as rubber magnets and magnetic tapes. In particular, it is suitable as an adhesion improver when various paints are applied to an inorganic base material such as a silicon substrate.

<チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法>
式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、下記式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物(以下、A成分ということがある)と、下記式3で表されるチオール化合物(以下、B成分ということがある)とを反応させることにより得ることができる。その際の反応はA成分の二重結合とB成分のチオール基の官能基比が1対1の付加反応である。

Figure 2012180324

(式中のnは0または1である。Rはメチル基またはエチル基である。)
Figure 2012180324

(式中のmは1または2である。Rは水素、または炭素数が1〜18の炭化水素基、また炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基である。) <Method for producing thioether-containing alkoxysilane derivative>
The thioether-containing alkoxysilane derivative represented by the formula 1 includes an alkoxysilyl group-containing compound represented by the following formula 2 (hereinafter sometimes referred to as A component) and a thiol compound represented by the following formula 3 (hereinafter referred to as B). It may be obtained by reacting with a component). The reaction at that time is an addition reaction in which the functional group ratio of the double bond of the A component and the thiol group of the B component is 1: 1.
Figure 2012180324

(In the formula, n is 0 or 1. R 2 is a methyl group or an ethyl group.)
Figure 2012180324

(In the formula, m is 1 or 2. R 1 is hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, or a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms substituted by an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. It is a hydrogen group.)

式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物としては、例えば、n=0であるビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランや、n=1であるアリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランを使用することができる。   As the alkoxysilyl group-containing compound represented by Formula 2, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane where n = 0, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane where n = 1 are used. Can do.

式1,3中のRである炭素数が1〜18の炭化水素基としては、例えばメチル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基、2-エチルヘキシル基などである。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which is R 1 in Formulas 1 and 3 include a methyl group, a butyl group, an octyl group, an octadecyl group, and a 2-ethylhexyl group.

式1,3中のRである炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基としては、例えばメトキシメチル基、プロポキシメチル基、メトキシブチル基、プロポキシペンチル基などである。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms substituted by an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, which is R 1 in Formulas 1 and 3, include a methoxymethyl group, a propoxymethyl group, a methoxybutyl group, and propoxypentyl. Group.

このようなRを有する式3で表されるチオール化合物としては、例えば、m=1のものとしては、チオグリコール酸、メチルチオグリコール酸、ブチルチオグリコール酸、オクチルグリコール酸、オクタデシルチオグリコール酸、2−エチルヘキシルチオグリコール酸、メトキシメチルチオグリコール酸、プロポキシメチルチオグリコール酸、メトキシブチルチオグリコール酸、プロポキシブチルグリコール酸などである。m=2のものとしては、メルカプトプロピオン酸、メチル−3−メルカプトプロピオネート、ブチル−3−メルカプトプロピオネート、オクチル−3−メルカプトプロピオネート、オクタデシル−3−メルカプトプロピオネート、2−エチルヘキシル−3−メルカプトプロピオネート、メトキシメチル−3−メルカプトプロピオネート、プロポキシメチル−3−メルカプトプロピオネート、メトキシブチル−3−メルカプトプロピオネート、プロポキシブチル−3−メルカプトプロピオネートなどである。 As such a thiol compound represented by Formula 3 having R 1 , for example, as m = 1, thioglycolic acid, methylthioglycolic acid, butylthioglycolic acid, octylglycolic acid, octadecylthioglycolic acid, 2-ethylhexylthioglycolic acid, methoxymethylthioglycolic acid, propoxymethylthioglycolic acid, methoxybutylthioglycolic acid, propoxybutylglycolic acid and the like. Examples of m = 2 include mercaptopropionic acid, methyl-3-mercaptopropionate, butyl-3-mercaptopropionate, octyl-3-mercaptopropionate, octadecyl-3-mercaptopropionate, 2- In ethylhexyl-3-mercaptopropionate, methoxymethyl-3-mercaptopropionate, propoxymethyl-3-mercaptopropionate, methoxybutyl-3-mercaptopropionate, propoxybutyl-3-mercaptopropionate, etc. is there.

式3で表されるチオール化合物において、Rの炭素数が19以上の炭化水素基、または、炭素数が1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が6以上の炭化水素基、または炭素数が4以上のアルコキシ基により置換された炭素数が2〜5の炭化水素基では、立体障害大きくなるため本発明の密着性の向上効果が小さくなる。 In the thiol compound represented by Formula 3, a hydrocarbon group having 1 or more carbon atoms of R 1 , a hydrocarbon group having 6 or more carbon atoms substituted by an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, or carbon In the hydrocarbon group having 2 to 5 carbon atoms substituted by an alkoxy group having 4 or more, the steric hindrance increases, and thus the effect of improving the adhesion of the present invention is reduced.

A成分とB成分とは、触媒またはラジカル発生剤の存在下で反応させることが好ましい。触媒やラジカル発生剤を添加すれば、より短時間で且つ高収率にて反応させることができるからである。   The A component and the B component are preferably reacted in the presence of a catalyst or a radical generator. This is because if a catalyst or a radical generator is added, the reaction can be performed in a shorter time and with a higher yield.

触媒としては、アミン系の塩基性触媒が好ましく、一級、二級あるいは三級のアミン類、もしくはイミダゾール系化合物が使用できる。例えば一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、メチルエチルアミン、ジフェニルアミン等が挙げられる。三級アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリフェニルアミン、1,8−ジアザビシクロ [5.4.0]ウンデカ−アミノメチル)フェノール等が挙げられる。イミダゾール系化合物としては、例えば1−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1,4−ジメチル−2−エチルイミダゾール、1−フェニルイミダゾール等のイミダゾール同族体、1−メチル−2−オキシメチルイミダゾール、1−メチル−2−オキシエチルイミダゾール等のアルキル誘導体、1−メチル−4(5)−ニトロイミダゾール、1,2−ジメチルー5(4)−アミノイミダゾール等のニトロおよびアミノ誘導体、ベンゾイミダゾール、1−メチルベンゾイミダゾール、1−メチル−ベンジルベンゾイミダゾール等が挙げられる。   The catalyst is preferably an amine-based basic catalyst, and primary, secondary or tertiary amines, or imidazole compounds can be used. For example, examples of the primary amine include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, and ethylenediamine. Secondary amines include dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, methylethylamine, diphenylamine and the like. Tertiary amines include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, triphenylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca-aminomethyl) phenol, and the like. Examples of imidazole compounds include 1-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1,4-dimethyl-2-ethylimidazole, imidazole analogues such as 1-phenylimidazole, 1-methyl-2-oxymethylimidazole, Alkyl derivatives such as 1-methyl-2-oxyethylimidazole, nitro and amino derivatives such as 1-methyl-4 (5) -nitroimidazole, 1,2-dimethyl-5 (4) -aminoimidazole, benzimidazole, Examples thereof include methylbenzimidazole and 1-methyl-benzylbenzimidazole.

ラジカル発生剤としては、過酸化物もしくはアゾ化合物が好ましい。過酸化物として、例えば、過酸化ジベンゾイル、tert-ブチルペルオキシ−2−エチルヘキサノアート、ジラウロイルペルオキシドなどが挙げられる。アゾ化合物としては、例えばアゾビス(イソ−ブチロニトリル)や2、2‘−アゾビス(2−メチルブタンニトリル)などが挙げられる。   As the radical generator, a peroxide or an azo compound is preferable. Examples of the peroxide include dibenzoyl peroxide, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, and dilauroyl peroxide. Examples of the azo compound include azobis (iso-butyronitrile) and 2,2′-azobis (2-methylbutanenitrile).

A成分とB成分とを反応させると、A成分の二重結合とB成分のチオール基とが、下記式4で表される反応式で反応する。なお、式4においてXは水素原子またはメチル基を表し、ZはB成分のチオール基に結合する残基を表す。   When A component and B component are made to react, the double bond of A component and the thiol group of B component react by the reaction formula represented by following formula 4. In Formula 4, X represents a hydrogen atom or a methyl group, and Z represents a residue bonded to the thiol group of the B component.

Figure 2012180324
Figure 2012180324

式4に示すように、A成分の二重結合を形成する2つの炭素のどちらもチオールのSと結合し得る。2つの生成物の生成比率は反応条件により異なり、例えばアミンなどの塩基触媒を反応系に添加した場合には生成物(1)が多く生成し、ラジカル発生剤を反応系に添加した場合には生成物(2)が多く生成する傾向にある。多くの場合、製造後のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は生成物(1)と(2)の混合物となっている。   As shown in Formula 4, either of the two carbons forming the double bond of the A component can be bonded to the thiol S. The ratio of the two products varies depending on the reaction conditions. For example, when a base catalyst such as an amine is added to the reaction system, a large amount of product (1) is generated, and when a radical generator is added to the reaction system. There is a tendency to produce a large amount of product (2). In many cases, the thioether-containing alkoxysilane derivative after production is a mixture of the products (1) and (2).

チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法においては、5℃以上の温度で反応させることができるが、6時間以内といった短時間で反応させるためには、アミンなどの塩基触媒やラジカル発生剤を反応系に添加し、60〜80℃で反応させることがより好ましい。   In the method for producing a thioether-containing alkoxysilane derivative, the reaction can be carried out at a temperature of 5 ° C. or higher, but in order to react in a short time such as within 6 hours, a base catalyst such as amine or a radical generator is used in the reaction system. More preferably, it is made to react at 60-80 degreeC.

チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体の製造方法においては、無溶剤でも反応を進行させることができるが、低温で反応させる場合など、粘度を下げたい場合には溶剤を加えて反応させることもできる。その際には、アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しない溶剤、例えばアルコール類、ケトン類、エステル類または芳香族類が好ましい。   In the method for producing a thioether-containing alkoxysilane derivative, the reaction can be allowed to proceed even without a solvent, but when the viscosity is to be lowered, for example, when the reaction is carried out at a low temperature, the reaction can be carried out by adding a solvent. In that case, a solvent that does not react with an alkoxysilyl group, a double bond, or a thiol group, for example, alcohols, ketones, esters, or aromatics is preferable.

アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないアルコール類としては、炭素数が3以下で一級であるものが好ましく、また、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい。温度範囲内においては反応温度が高いものがさらによい。また、アルコールとアルコキシシリル基が反応中にエステル交換を起こす可能性があり、目的生成物の収率低下が起こる恐れがあるため、収率低下を抑制するためROHの構造を持つものがよい。これらを満たす反応溶剤として例えば、メタノール、エタノール等が挙げられる。 Alcohols that do not react with alkoxysilyl groups, double bonds, and thiol groups are preferably those having 3 or less carbon atoms and primary, and those having a boiling point higher than the reaction temperature. Within the temperature range, those having a high reaction temperature are even better. Further, there is a possibility that alcohol and alkoxysilyl groups undergo transesterification during the reaction, because it may yield reduction of the desired product occurs, those having a structure of R 2 OH in order to suppress the reduction yield Good. Examples of the reaction solvent that satisfies these include methanol and ethanol.

アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないケトン類としては、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい、また溶解性の観点から炭素数6以下のものが好ましい。これらを満たすものとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。   As ketones that do not react with an alkoxysilyl group, double bond, or thiol group, those having a boiling point higher than the reaction temperature are preferred, and those having 6 or less carbon atoms are preferred from the viewpoint of solubility. Examples of those satisfying these include methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.

アルコキシシリル基、二重結合、チオール基と反応しないエステル類としては、沸点が反応温度よりも高いものが好ましい、また溶解性の観点から直鎖炭素数6以下のものが好ましい。これらを満たすものとして、例えば酢酸ブチル、酢酸エチル等が挙げられる。   As the esters that do not react with the alkoxysilyl group, double bond, or thiol group, those having a boiling point higher than the reaction temperature are preferred, and those having a straight chain carbon number of 6 or less are preferred from the viewpoint of solubility. Examples of those satisfying these include butyl acetate and ethyl acetate.

<密着性向上剤>
チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体は、特にシリコン基板に対して高い密着性向上性能を有していることから、シリコン基板への密着性向上剤として用いることができる。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアセチレンなどの二重結合を有する化合物等に配合することによって、高い密着性向上効果を発揮することができる。チオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤は、有効成分として樹脂に対し好ましくは0.1〜30質量%、より好ましくは0.1〜10質量%添加すると高い密着性を発揮することができる。
<Adhesion improver>
Since the thioether-containing alkoxysilane derivative has a high adhesion improving performance particularly with respect to a silicon substrate, it can be used as an adhesion improving agent for the silicon substrate. Adhesion improver comprising thioether-containing alkoxysilane derivative as an active ingredient has high adhesion improvement effect by compounding with compound having double bond such as epoxy resin, urethane resin, acrylic resin, polyimide resin, polyacetylene, etc. It can be demonstrated. The adhesion improver comprising a thioether-containing alkoxysilane derivative as an active ingredient preferably exhibits high adhesion when added as an active ingredient in an amount of preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass. be able to.

以下に、本発明の実施例について具体的に説明する。本実施例および比較例で用いた試薬は、次の通りである。各チオールの25℃における粘度は、東機産業(株)製のR型粘度計を用いて測定した。   Examples of the present invention will be specifically described below. The reagents used in the examples and comparative examples are as follows. The viscosity at 25 ° C. of each thiol was measured using an R-type viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.

<アルコキシシリル基を有する化合物:A成分>
(A−1)
ビニルトリメトキシシラン。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
<Compound having alkoxysilyl group: Component A>
(A-1)
Vinyltrimethoxysilane. The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

(A−2)
ビニルトリエトキシシラン。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
(A-2)
Vinyltriethoxysilane. The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

(A−3)
アリルトリメトキシシラン。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
(A-3)
Allyltrimethoxysilane. The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

<チオール化合物:B成分>
(B−1)
β-メルカプトプロピオン酸(粘度8.4 mPa・s)。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
<Thiol compound: Component B>
(B-1)
β-mercaptopropionic acid (viscosity 8.4 mPa · s). The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

(B−2)
メチル-3-メルカプトプロピオネート(粘度1.5mPa・s)。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
(B-2)
Methyl-3-mercaptopropionate (viscosity 1.5 mPa · s). The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

(B−3)
2−エチルヘキシル−3メルカプトプロピオネート(粘度3.7mPa・s)。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
(B-3)
2-ethylhexyl-3 mercaptopropionate (viscosity 3.7 mPa · s). The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

(B−4)
メトキシブチル−3−メルカプトプロピオネート(粘度3.6mPa・s)。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
(B-4)
Methoxybutyl-3-mercaptopropionate (viscosity 3.6 mPa · s). The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

(B−5)
ステアリル−3−メルカプトプロピオネート(常温固体)。その構造を下記式に示す。

Figure 2012180324
(B-5)
Stearyl-3-mercaptopropionate (room temperature solid). The structure is shown in the following formula.
Figure 2012180324

セパラブルの4つ口フラスコに温度計と還流管を備え、内部を窒素雰囲気にした。この4つ口フラスコに、表1に示す組成に従いA成分とB成分を仕込み、A成分とB成分を100重量部としたとき1重量部の触媒(1.8−ジアザビシクロ[5、4、0]ウンデカ−7−エン、和光純薬工業(株)製)を添加した後、90℃で12時間反応させ、実施例1〜7を得た。実施例1〜4、6および7における反応後の25℃における粘度と実施例5の反応後の40℃における粘度を表1に示す。なお、粘度は東機産業(株)製のR型粘度計を用いて測定した。得られた実施例1〜7の粘度は、反応前のB成分と比較すると増粘していることからA成分と反応していることがわかる。   A separable four-necked flask was equipped with a thermometer and a reflux tube, and the inside was made a nitrogen atmosphere. Into this four-necked flask, the A component and the B component were charged according to the composition shown in Table 1, and when the A component and the B component were 100 parts by weight, 1 part by weight of the catalyst (1.8-diazabicyclo [5,4,0 ] Undec-7-ene, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, followed by reaction at 90 ° C for 12 hours to obtain Examples 1 to 7. Table 1 shows the viscosity at 25 ° C. after the reaction in Examples 1 to 4, 6 and 7, and the viscosity at 40 ° C. after the reaction in Example 5. The viscosity was measured using an R-type viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. It turns out that the viscosity of the obtained Examples 1-7 is reacting with A component from having increased viscosity compared with B component before reaction.

Figure 2012180324
Figure 2012180324

<赤外線吸収スペクトル分析(IR)>
得られた実施例1〜7について、下記条件にて赤外線吸収スペクトル分析を行った。その結果を図1〜7に示すと共に、代表的なIRピークを以下に示す。
機種;日本分光(株)製 FT/IR-600
セル;KBr上に展開、分解;4cm−1、積算回数;32回
<Infrared absorption spectrum analysis (IR)>
The obtained Examples 1 to 7 were subjected to infrared absorption spectrum analysis under the following conditions. The results are shown in FIGS. 1 to 7 and typical IR peaks are shown below.
Model: JASCO Corporation FT / IR-600
Cell: Expanded on KBr, decomposed; 4 cm −1 , number of integrations: 32 times

(実施例1)
2947cm−1:57%T、2843cm−1:52%T、1739cm−1:72%T、1712cm−1:67%T、1437cm−1:37%T、1360cm−1:76%T、1192cm−1:68%T、1086cm−1:79%T、877cm−1:22%T、822cm−1:57%T
Example 1
2947 cm −1 : 57% T, 2843 cm −1 : 52% T, 1739 cm −1 : 72% T, 1712 cm −1 : 67% T, 1437 cm −1 : 37% T, 1360 cm −1 : 76% T, 1192 cm − 1 : 68% T, 1086 cm −1 : 79% T, 877 cm −1 : 22% T, 822 cm −1 : 57% T

(実施例2)
2947cm−1:23%T、2841cm−1:22%T、1739cm−1:32%T、1437cm−1:16%T、1360cm−1:14%T、1194cm−1:28%T、1086cm−1:36%T、822cm−1:24%T
(Example 2)
2947 cm −1 : 23% T, 2841 cm −1 : 22% T, 1739 cm −1 : 32% T, 1437 cm −1 : 16% T, 1360 cm −1 : 14% T, 1194 cm −1 : 28% T, 1086 cm − 1 : 36% T, 822 cm −1 : 24% T

(実施例3)
2958cm−1:41%T、2841cm−1:29%T、1738cm−1:46%T、1464cm−1:20%T、1348cm−1:16%T、1192cm−1:39%T、1090cm−1:51%T、1009cm−1:17%T、806cm−1:30%T
(Example 3)
2958 cm −1 : 41% T, 2841 cm −1 : 29% T, 1738 cm −1 : 46% T, 1464 cm −1 : 20% T, 1348 cm −1 : 16% T, 1192 cm −1 : 39% T, 1090 cm − 1 : 51% T, 1009 cm −1 : 17% T, 806 cm −1 : 30% T

(実施例4)
2943cm−1:45%T、2841cm−1:40%T、1736cm−1:63%T、1464cm−1:23%T、1354cm−1:27%T、1279cm−1:32%T、1244cm−1:40%T、1192cm−1:57%T、1086cm−1:71%T、879cm−1:19%T、825cm−1:43%T
Example 4
2943 cm −1 : 45% T, 2841 cm −1 : 40% T, 1736 cm −1 : 63% T, 1464 cm −1 : 23% T, 1354 cm −1 : 27% T, 1279 cm −1 : 32% T, 1244 cm − 1 : 40% T, 1192 cm −1 : 57% T, 1086 cm −1 : 71% T, 879 cm −1 : 19% T, 825 cm −1 : 43% T

(実施例5)
2924cm−1:69%T、2852cm−1:58%T、1738cm−1:52%T、1468cm−1:26%T、1350cm−1:17%T、1242cm−1:29%T、1192cm−1:41%T、1090cm−1:58%T、825cm−1:29%T
(Example 5)
2924 cm −1 : 69% T, 2852 cm −1 : 58% T, 1738 cm −1 : 52% T, 1468 cm −1 : 26% T, 1350 cm −1 : 17% T, 1242 cm −1 : 29% T, 1192 cm − 1 : 41% T, 1090 cm −1 : 58% T, 825 cm −1 : 29% T

(実施例6)
2976cm−1:31%T、2927cm−1:23%T、1741cm−1:44%T、1437cm−1:21%T、1390cm−1:76%T、1360cm−1:17%T、1279cm−1:18%T、1246cm−1:24%T、1169cm−1:35%T、1080cm−1:49%T、960cm−1:30%T、777cm−1:26%T
(Example 6)
2976cm -1: 31% T, 2927cm -1: 23% T, 1741cm -1: 44% T, 1437cm -1: 21% T, 1390cm -1: 76% T, 1360cm -1: 17% T, 1279cm - 1: 18% T, 1246cm -1 : 24% T, 1169cm -1: 35% T, 1080cm -1: 49% T, 960cm -1: 30% T, 777cm -1: 26% T

(実施例7)
2946cm−1:25%T、2841cm−1:22%T、1740cm−1:41%T、1438cm−1:18%T、1359cm−1:14%T、1193cm−1:31%T、1085cm−1:46%T、816cm−1:28%T
(Example 7)
2946 cm −1 : 25% T, 2841 cm −1 : 22% T, 1740 cm −1 : 41% T, 1438 cm −1 : 18% T, 1359 cm −1 : 14% T, 1193 cm −1 : 31% T, 1085 cm − 1 : 46% T, 816 cm −1 : 28% T

上記赤外線吸収スペクトル分析の結果からも明らかなように、C=Cに由来する1600〜1700cm−1のピークが観測されないことから、A−1、A−2およびA−3がそれぞれB−1〜B−5と反応していることがわかる。 As is clear from the results of the infrared absorption spectrum analysis, since a peak of 1600 to 1700 cm −1 derived from C═C is not observed, A-1, A-2 and A-3 are respectively B-1 to It turns out that it reacts with B-5.

<核磁気共鳴スペクトル分析(NMR)>
また、実施例1〜7について、下記条件にて核磁気共鳴スペクトル分析を行った。その結果を図8〜14に示すと共に、各NMRスペクトルにおけるピークの帰属を下記に示す。なお、比較例1はNMR用の重溶剤に溶解しなかったため測定できなかった。
機種;日本ブルカー(株)製、400MHz−Advance400、
条件;積算回数16回
溶媒;重クロロホルム
<Nuclear magnetic resonance spectrum analysis (NMR)>
Moreover, about Examples 1-7, the nuclear magnetic resonance spectrum analysis was performed on the following conditions. The results are shown in FIGS. 8 to 14 and the peak assignments in each NMR spectrum are shown below. Since Comparative Example 1 was not dissolved in the heavy solvent for NMR, it could not be measured.
Model: Nippon Bruker Co., Ltd., 400 MHz-Advanced 400,
Condition: Integration 16 times Solvent: Deuterated chloroform

(実施例1)

Figure 2012180324

a:3.4〜3.6ppm、b:0.9〜1.0ppm、c、d:2.6〜2.8ppm、e:2.7〜2.8ppm、f:3.5〜3.6ppm Example 1
Figure 2012180324

a: 3.4 to 3.6 ppm, b: 0.9 to 1.0 ppm, c, d: 2.6 to 2.8 ppm, e: 2.7 to 2.8 ppm, f: 3.5 to 3. 6ppm

(実施例2)

Figure 2012180324

a:3.6〜3.7ppm、b:0.9〜1.1ppm、c、d:2.6〜2.7ppm、e:2.7〜2.8ppm、f:3.5〜3.6ppm (Example 2)
Figure 2012180324

a: 3.6-3.7 ppm, b: 0.9-1.1 ppm, c, d: 2.6-2.7 ppm, e: 2.7-2.8 ppm, f: 3.5-3. 6ppm

(実施例3)

Figure 2012180324

a、e:0.8〜1.0pm、b、c、d、f、g:1.1〜1.4ppm、h:4.0〜4.1ppm、h:0.9〜1.0ppm、i、j:2.5〜2.7ppm、k:2.7〜2.8ppm、l:3.5〜3.6ppm (Example 3)
Figure 2012180324

a, e: 0.8 to 1.0 pm, b, c, d, f, g: 1.1 to 1.4 ppm, h: 4.0 to 4.1 ppm, h: 0.9 to 1.0 ppm, i, j: 2.5 to 2.7 ppm, k: 2.7 to 2.8 ppm, l: 3.5 to 3.6 ppm

(実施例4)

Figure 2012180324

a:1.0〜1.1ppm、b:3.4〜3.5ppm、c:3.3〜3.4ppm、d:1.7〜1.8ppm、e:4.1〜4.2ppm、f:0.9〜1.0ppm、g、h:2.5〜2.7ppm、i:2.7〜2.8ppm、i:3.5〜3.6ppm Example 4
Figure 2012180324

a: 1.0-1.1 ppm, b: 3.4-3.5 ppm, c: 3.3-3.4 ppm, d: 1.7-1.8 ppm, e: 4.1-4.2 ppm, f: 0.9-1.0 ppm, g, h: 2.5-2.7 ppm, i: 2.7-2.8 ppm, i: 3.5-3.6 ppm

(実施例5)

Figure 2012180324

a:0.8〜1.0ppm、b:1.2〜1.4ppm、c:1.6〜1.7ppm、d:4.0〜4.2ppm、e:0.9〜1.0ppm、f、g:2.5〜2.7ppm、h:2.6〜2.8ppm、i:3.5〜3.6ppm (Example 5)
Figure 2012180324

a: 0.8 to 1.0 ppm, b: 1.2 to 1.4 ppm, c: 1.6 to 1.7 ppm, d: 4.0 to 4.2 ppm, e: 0.9 to 1.0 ppm, f, g: 2.5-2.7 ppm, h: 2.6-2.8 ppm, i: 3.5-3.6 ppm

(実施例6)

Figure 2012180324

a:3.6〜3.7ppm、b:0.9〜1.0ppm、c、d:2.5〜2.7ppm、e:2.7〜2.8ppm、f:3.6〜3.8ppm、g:1.2〜1.3ppm (Example 6)
Figure 2012180324

a: 3.6 to 3.7 ppm, b: 0.9 to 1.0 ppm, c, d: 2.5 to 2.7 ppm, e: 2.7 to 2.8 ppm, f: 3.6 to 3. 8 ppm, g: 1.2-1.3 ppm

(実施例7)

Figure 2012180324

a:3.7〜3.8ppm、b:0.7〜0.8ppm、c、d:2.5〜2.7ppm、e:2.7〜2.8ppm、f:1.6〜1.7ppm、g:3.5〜3.6ppm (Example 7)
Figure 2012180324

a: 3.7 to 3.8 ppm, b: 0.7 to 0.8 ppm, c, d: 2.5 to 2.7 ppm, e: 2.7 to 2.8 ppm, f: 1.6 to 1. 7 ppm, g: 3.5 to 3.6 ppm

図8〜14及び上記の結果より、CH=Cに由来する5.5〜6.5ppmのピークが観測されないことから、A−1、A−2およびA−3がそれぞれB−1〜B−5と反応していることが分る。 Figure 8-14 and from the above results, since the peak of 5.5~6.5ppm derived from CH 2 = C is not observed, A-1, A-2 and A-3 are respectively B-1 to B It turns out that it is reacting with -5.

<密着性評価>
次に、上記実施例1〜7を用いて密着性を評価した。さらに、反応前の上記A−1のみを用いた場合、反応前の上記B−1のみを使用した場合、デシルトリメトキシシラン(信越シリコーン(株)製、C−1とする)を使用した場合、及び密着性向上剤未使用の場合についても、密着性を評価した。密着性の評価対象としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂〔東都化成(株)製、YDPN638〕を使用した。当該エポキシ樹脂98質量%に触媒〔イミダゾール型触媒:(株)アデカ製、EH−4344S〕を2質量%混合した混合物(E−1とする)へ、実施例1〜7、A−1、B−1およびC−1を密着性向上剤として表2の配合量に従って配合した。当該組成物を単結晶シリコン基板〔(株)シリコンテクノロジー製、6inchベアシリコンウェーハN型〕にバーコーターで塗布し、150℃、1時間の条件で硬化させて樹脂成形物としての硬化膜を得た(試料1〜11)。このようにして得られた試料1〜11を温度121℃、相対湿度(RH)100%で8時間処理した後、JIS K5600−5−6に規定される塗膜の機械的性質−付着性(クロスカット法)試験法で評価を行った。これらの結果を表2に示す。なお、評価基準は次の通りである。
○:全く剥離が無い ×:少しでも剥離が発生している
<Adhesion evaluation>
Next, the adhesion was evaluated using Examples 1 to 7 described above. Furthermore, when only A-1 before reaction is used, when only B-1 before reaction is used, when decyltrimethoxysilane (made by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., C-1) is used The adhesion was also evaluated when the adhesion improver was not used. A phenol novolac type epoxy resin [manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., YDPN638] was used as an evaluation target for adhesion. Examples 1 to 7, A-1, and B were prepared by mixing 98% by mass of the epoxy resin with 2% by mass of a catalyst [imidazole type catalyst: manufactured by Adeka Co., Ltd., EH-4344S] (referred to as E-1). -1 and C-1 were blended according to the blending amounts in Table 2 as adhesion improvers. The composition is applied to a single crystal silicon substrate [6 inch bare silicon wafer N type manufactured by Silicon Technology Co., Ltd.] with a bar coater and cured at 150 ° C. for 1 hour to obtain a cured film as a resin molded product. (Samples 1-11). After the samples 1 to 11 thus obtained were treated at a temperature of 121 ° C. and a relative humidity (RH) of 100% for 8 hours, the mechanical properties of the coating film as defined in JIS K5600-5-6—adhesiveness ( The cross-cut method was evaluated by the test method. These results are shown in Table 2. The evaluation criteria are as follows.
○: No peeling at all ×: Peeling occurs even a little

Figure 2012180324
Figure 2012180324

表2に示した結果より、実施例1〜7の密着性向上剤を使用した試料1〜7では全く剥離は見られず、密着性が良好であった。試料8,9は、チオエーテル形成前の化合物を用いており、いずれも剥離が生じて密着性は不良であった。試料10は、密着性向上剤の分子構造中にチオエーテル基を持たないため剥離が生じて密着性が不良であった。試料11は密着性向上材が無添加のため剥離が生じ密着性は不良であった。
From the results shown in Table 2, in Samples 1 to 7 using the adhesion improvers of Examples 1 to 7, no peeling was observed, and the adhesion was good. Samples 8 and 9 used the compound before thioether formation, and both had peeling and poor adhesion. Since sample 10 did not have a thioether group in the molecular structure of the adhesion improver, peeling occurred and the adhesion was poor. In Sample 11, the adhesion improving material was not added, so peeling occurred and the adhesion was poor.

Claims (3)

下記式1で表されるチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
Figure 2012180324

(式中のmは1または2であり、nは0または1である。Rは水素、または炭素数が1〜18の炭化水素基、または炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基である。Rはメチル基またはエチル基である。Rは−CH−CH−あるいは−CH(CH)−で表される2価の基である。)
A thioether-containing alkoxysilane derivative represented by the following formula 1.
Figure 2012180324

(In the formula, m is 1 or 2, n is 0 or 1. R 1 is substituted by hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. A hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, R 2 is a methyl group or an ethyl group, and R 3 is a divalent group represented by —CH 2 —CH 2 — or —CH (CH 3 ) —. .)
下記式2で表されるアルコキシシリル基含有化合物と、下記式3で表されるチオール化合物とを反応させてなる、請求項1に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体。
Figure 2012180324

(式中のnは0または1である。Rはメチル基またはエチル基である。)
Figure 2012180324

(式中のmは1または2である。Rは水素、または炭素数が1〜18の炭化水素基、または炭素数1〜3のアルコキシ基により置換された炭素数が1〜4の炭化水素基である。)
The thioether-containing alkoxysilane derivative according to claim 1, wherein the alkoxysilyl group-containing compound represented by the following formula 2 is reacted with a thiol compound represented by the following formula 3.
Figure 2012180324

(In the formula, n is 0 or 1. R 2 is a methyl group or an ethyl group.)
Figure 2012180324

(In the formula, m is 1 or 2. R 1 is hydrogen, a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, or a carbon atom having 1 to 4 carbon atoms substituted by an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. It is a hydrogen group.)
請求項1または請求項2に記載のチオエーテル含有アルコキシシラン誘導体を有効成分とする密着性向上剤。
The adhesion improver which uses the thioether containing alkoxysilane derivative of Claim 1 or Claim 2 as an active ingredient.
JP2011045300A 2011-03-02 2011-03-02 Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof Pending JP2012180324A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011045300A JP2012180324A (en) 2011-03-02 2011-03-02 Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011045300A JP2012180324A (en) 2011-03-02 2011-03-02 Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012180324A true JP2012180324A (en) 2012-09-20

Family

ID=47011831

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011045300A Pending JP2012180324A (en) 2011-03-02 2011-03-02 Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012180324A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012246424A (en) * 2011-05-30 2012-12-13 Nof Corp Curable resin composition
DE102013003329A1 (en) * 2013-02-25 2014-08-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Silanes, hybrid polymers and photoresist with positive-resist behavior and method of preparation
WO2015008834A1 (en) * 2013-07-18 2015-01-22 日産化学工業株式会社 Silane compound containing active ester group and material produced using same
JP2017179043A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 東洋ゴム工業株式会社 Rubber composition and pneumatic tire
JP2018115171A (en) * 2018-03-07 2018-07-26 株式会社Kri Silicon compound
WO2019142890A1 (en) * 2018-01-19 2019-07-25 株式会社大阪ソーダ Organosilicon compound and rubber composition including same

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2563516A (en) * 1951-08-07 Aijxylj-thia-y-sila-y
US3627806A (en) * 1969-12-29 1971-12-14 Dow Corning Carboxy-functional hydrolyzable silanes
US3635887A (en) * 1969-12-29 1972-01-18 Dow Corning Room temperature vulcanizable silicone rubber with unprimed adhesi
JPS57175723A (en) * 1981-03-30 1982-10-28 Dow Corning Stabilization of silicates
JP2000336093A (en) * 1999-05-26 2000-12-05 Jsr Corp Hydrolyzable silane compound and its production
JP2007514033A (en) * 2003-12-15 2007-05-31 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Coupling agent between filler and elastomer
JP2008508406A (en) * 2004-08-04 2008-03-21 フォスフォニックス リミテッド Substituted organopolysiloxanes and their use
JP2010070586A (en) * 2008-09-16 2010-04-02 Fujifilm Corp Curable composition, cured product, and method for producing the same
JP2010270053A (en) * 2009-05-20 2010-12-02 Bridgestone Corp Organosilicon compound, and rubber composition, tire, primer composition, coating composition and adhesive, comprising the same

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2563516A (en) * 1951-08-07 Aijxylj-thia-y-sila-y
US3627806A (en) * 1969-12-29 1971-12-14 Dow Corning Carboxy-functional hydrolyzable silanes
US3635887A (en) * 1969-12-29 1972-01-18 Dow Corning Room temperature vulcanizable silicone rubber with unprimed adhesi
JPS57175723A (en) * 1981-03-30 1982-10-28 Dow Corning Stabilization of silicates
JP2000336093A (en) * 1999-05-26 2000-12-05 Jsr Corp Hydrolyzable silane compound and its production
JP2007514033A (en) * 2003-12-15 2007-05-31 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Coupling agent between filler and elastomer
JP2008508406A (en) * 2004-08-04 2008-03-21 フォスフォニックス リミテッド Substituted organopolysiloxanes and their use
JP2010070586A (en) * 2008-09-16 2010-04-02 Fujifilm Corp Curable composition, cured product, and method for producing the same
JP2010270053A (en) * 2009-05-20 2010-12-02 Bridgestone Corp Organosilicon compound, and rubber composition, tire, primer composition, coating composition and adhesive, comprising the same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6015001564; Burkhard, Charles A.: 'The reaction of mercaptans with alkenyl silanes' Journal of the American Chemical Society 72, 1950, 1078-80 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012246424A (en) * 2011-05-30 2012-12-13 Nof Corp Curable resin composition
DE102013003329A1 (en) * 2013-02-25 2014-08-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Silanes, hybrid polymers and photoresist with positive-resist behavior and method of preparation
WO2015008834A1 (en) * 2013-07-18 2015-01-22 日産化学工業株式会社 Silane compound containing active ester group and material produced using same
JPWO2015008834A1 (en) * 2013-07-18 2017-03-02 日産化学工業株式会社 Silane compound containing active ester group and material using the same
JP2017179043A (en) * 2016-03-29 2017-10-05 東洋ゴム工業株式会社 Rubber composition and pneumatic tire
WO2019142890A1 (en) * 2018-01-19 2019-07-25 株式会社大阪ソーダ Organosilicon compound and rubber composition including same
CN111601813A (en) * 2018-01-19 2020-08-28 株式会社大阪曹达 Organic silicon compound and rubber composition using same
JP2018115171A (en) * 2018-03-07 2018-07-26 株式会社Kri Silicon compound

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5838972B2 (en) Thioether-containing alkoxysilane derivatives and uses thereof
JP6326875B2 (en) Thioether-containing (meth) acrylate derivative and adhesion improver containing the same
JP6424475B2 (en) Thioether-containing (meth) acrylate derivative and adhesion improver containing the same
JP2012180324A (en) Thioether-containing alkoxysilane derivative and application thereof
JP2011136985A (en) Thioether-containing alkoxysilane derivative and use thereof
JP2018534168A (en) Laminated body and method for producing the same
JP2012246422A (en) Curable resin composition
JP5668369B2 (en) Thioether-containing alkoxysilane derivatives and uses thereof
JP2012246463A (en) Curable resin composition
JP2012246464A (en) Curable resin composition
JP5671885B2 (en) Adhesion improver
JP2012197233A (en) Thioether-containing alkoxysilane derivative, and application thereof
JP5895715B2 (en) Thioether-containing urea derivatives and uses thereof
JP2006193629A (en) Curable composition and cured product thereof
JP5772230B2 (en) Curable resin composition
JP2015086191A (en) Thioether-containing urea derivative, and adhesion improver containing the same
JP5772229B2 (en) Curable resin composition
JP6260222B2 (en) Thioether-containing urea derivative and adhesion improver containing the same
JP2018177678A (en) Thioether-containing urea derivative-containing composition
JP2011178871A (en) Two-liquid mixing type curable resin composition
CN115232585A (en) Single-component epoxy resin composition resistant to wet heat hydrolysis and preparation method and application thereof
JP2014001317A (en) Polyester-based one-component moisture-curable resin composition containing silicon-containing characteristic groups, excellent in hydrolysis resistance

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140127

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150120

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150623