JP2012169354A - Front filter for plasma display - Google Patents

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JP2012169354A JP2011027473A JP2011027473A JP2012169354A JP 2012169354 A JP2012169354 A JP 2012169354A JP 2011027473 A JP2011027473 A JP 2011027473A JP 2011027473 A JP2011027473 A JP 2011027473A JP 2012169354 A JP2012169354 A JP 2012169354A
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conductive
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JP2011027473A
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Hirotoshi Suetsugu
博俊 末次
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for plasma display in which contact state of a conductive pattern layer and a conductive gasket is excellent, and the ground resistance is reduced.SOLUTION: Various functional layers 300 are laminated on a conductive pattern layer 10 side at a part of an electromagnetic wave shield layer 100, having the conductive pattern layer 10 containing conductive particles and a resin binder formed in a predetermined pattern on a transparent substrate 20, excepting the peripheral edge thereof, with an adhesive layer 200 interposed therebetween, and the conductive pattern layer 10 side at the peripheral edge of the electromagnetic wave shield layer 100 is connected, at least partially, with a metal frame ground part via a conductive gasket 400. In such a filter, a metal layer having a projecting end corner and a recessed central part is formed on the surface of the conductive pattern layer 10 of the electromagnetic wave shield layer 100, and a blackened layer of an acicular metal is formed on the surface of the metal layer.

Description

本発明はプラズマディスプレイの前面に配置するのに好適なプラズマディスプレイ用フィルタに関する。   The present invention relates to a plasma display filter suitable for being placed on the front surface of a plasma display.

近年、画像表示装置の大型化、薄型化に伴い、プラズマディスプレイ(PDP)が注目を集めている。
PDPは、発光にプラズマ放電を利用するため、30MHz〜1GHz帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイ装置に用いられるプラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)に、画像光の透過性は維持した上で、漏洩する電磁波を遮蔽(シールド)するためのフィルム状の電磁波シールド部材を設けるのが一般的である。
なお、本発明において単に電磁波という場合は、周波数が上記範囲を中心とするKHz〜GHz帯近辺の電磁波のことをいう。赤外線、可視光線、紫外線、X線等は含まないものとする(例えば、赤外線帯域の周波数の電磁波は赤外線と呼称する)。
In recent years, with the increase in size and thickness of image display devices, plasma displays (PDP) have attracted attention.
Since PDP uses plasma discharge for light emission, unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band may leak to the outside and affect other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). Therefore, a film-like electromagnetic wave shielding member for shielding (shielding) electromagnetic waves that leak while maintaining the transparency of image light on the front side (observer side) of the plasma display panel used in the plasma display device. It is common to provide it.
In the present invention, the term “electromagnetic wave” means an electromagnetic wave in the vicinity of the KHz to GHz band whose frequency is centered on the above range. It does not include infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, X-rays, etc. (for example, electromagnetic waves having a frequency in the infrared band are referred to as infrared rays).

プラズマディスプレイの前面などに用いることができる電磁波シールド部材用材料としては、銀スパッタ薄膜、銅メッシュなどがあるが、銀スパッタ薄膜はコストが高く、また全面を被覆しているため可視光(線)透明性と電磁波遮蔽性との両立性に劣る。銅メッシュは開口部分があるため透明性は高いが、銅箔をフォトリソグラフィー法でエッチングしてメッシュ形状を作成するため、捨てる材料が多く低コスト化が難しい。
近年、透明基材の上に導電性ペーストや無電解メッキの触媒を含むインキを凹版印刷などパターン印刷し、その上に銅をメッキで析出させ細線パターンを形成した電磁波シールド部材などが提案されており(特許文献1、2)、銅箔エッチング法などよりも経済性、生産性にすぐれた方法といえる。
Electromagnetic wave shielding member materials that can be used for the front surface of plasma displays include silver sputtered thin films and copper mesh, but silver sputtered thin films are expensive and cover the entire surface, so visible light (line) Poor compatibility between transparency and electromagnetic wave shielding. Since the copper mesh has an opening, the transparency is high, but the copper foil is etched by a photolithography method to create a mesh shape.
In recent years, an electromagnetic shielding member has been proposed in which a conductive paste or ink containing a catalyst for electroless plating is printed on a transparent substrate by pattern printing, such as intaglio printing, and copper is deposited thereon to form a fine line pattern. (Patent Documents 1 and 2), it can be said that the method is more economical and more productive than the copper foil etching method.

本出願人は、凹版印刷により導電性材料組成物を透明基材上に転写し、導電性を有するパターンを形成してなる電磁波シールド材において、導電性材料組成物の転写不良に基づくパターンの断線、形状不良、転移率不足や低密着性等の不具合が生じない電磁波シールド材を提案している(特許文献3)。この発明では、凹版の凹部(セル)内に充填された導電性インキ組成物表面の凹みを、硬化するまで流動性を保持できるプライマー層が形成された透明基材と圧着することによって、該プライマー層と凹部内の導電性インキとを空隙なく密着する圧着工程を経て、プライマー層を硬化し、しかる後に透明基材を版面から剥がして、凹部内導電性インキ組成物を硬化したプライマー層上に転写するものである。   The present applicant transfers a conductive material composition onto a transparent substrate by intaglio printing, and in an electromagnetic wave shielding material formed with a conductive pattern, the pattern breakage based on the transfer failure of the conductive material composition Have proposed an electromagnetic shielding material that does not cause defects such as poor shape, insufficient transfer rate, and low adhesion (Patent Document 3). In this invention, the primer on the surface of the conductive ink composition filled in the recess (cell) of the intaglio plate is pressure-bonded with a transparent substrate on which a primer layer capable of maintaining fluidity is formed until it is cured. The primer layer is cured through a pressure-bonding process in which the layer and the conductive ink in the recess are in close contact with each other without a gap, and then the transparent substrate is peeled off from the plate surface, and the conductive ink composition in the recess is cured on the primer layer. Transcript.

かかる凹版印刷法によれば、導電性組成物の転写不良がないため、導電性凸状パターン層には、原版である凹版のパターン形状が忠実に転写される。
凹版として、線条パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面形状(主切断面形状)が、底部がせばまった台形形状、あるいは底部が半円または楕円形状である正方格子のメッシュパターン状凹版を用いると、導電性凸状パターン層の頂部は、平坦面あるいは半円または楕円形状となる。
According to such an intaglio printing method, since there is no transfer failure of the conductive composition, the pattern shape of the original intaglio is faithfully transferred to the conductive convex pattern layer.
As an intaglio, a square lattice mesh pattern in which the cross-sectional shape (main cut surface shape) perpendicular to the running direction (longitudinal direction) of the linear pattern is trapezoidal with the bottom part or semicircular or elliptical at the bottom part When the intaglio is used, the top of the conductive convex pattern layer has a flat surface, a semicircle or an ellipse.

そのような頂部形状の導電性組成物からなる導電性凸状パターン層に、常法により金属メッキ層及び黒化層を設けた場合、黒化層表面の主切断面形状は、同じく平坦面あるいは半円または楕円形状となる。
しかしながら、このようにして製造した電磁波遮蔽用シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程でガイドロール等の稼動部位との接触面積が大きい為、黒化層が磨耗、剥脱する量が多い。特に、針状構造同士の間の多重反射による減衰及び光拡散作用によって黒化度良好な針状結晶の黒化層を形成した場合にその現象は著しく、黒化層形成の効果が大きく損なわれる。
また、常法により金属メッキ層の表面に針状結晶を用いず、物質自体が光吸收性である黒化層を設けた場合、外光照射など強い光の下での画像コントラスト向上効果はなお不十分である。即ち、黒化層は、光の反射率を低くする程、自由電子の易動度は低下し、導電性が低下する為、電磁波の反射性即ち電磁波遮蔽性も低下する傾向にあるからである。
そのため、従来、黒化層について、反射防止性能と電磁波遮蔽性能との両立は困難だからである。
When a metal plating layer and a blackening layer are provided by a conventional method on the conductive convex pattern layer made of such a top-shaped conductive composition, the main cut surface shape of the blackening layer surface is also a flat surface or It becomes a semicircle or elliptical shape.
However, the electromagnetic shielding sheet produced in this manner has a large amount of contact with the working part such as a guide roll in the subsequent functional film laminating process, and therefore the amount of the blackened layer worn and peeled off is large. In particular, when a blackened layer of acicular crystals with a good degree of blackening is formed by attenuation due to multiple reflection between the needlelike structures and light diffusion action, the phenomenon is remarkable, and the effect of forming the blackened layer is greatly impaired. .
In addition, when a blackened layer in which the substance itself is light-absorbing is provided on the surface of the metal plating layer by a conventional method, the effect of improving the image contrast under strong light such as external light irradiation is still It is insufficient. That is, the blackened layer has a tendency that the lower the light reflectance, the lower the mobility of free electrons and the lower the conductivity, and hence the electromagnetic wave reflectivity, that is, the electromagnetic wave shielding property. .
Therefore, conventionally, it is difficult to achieve both antireflection performance and electromagnetic wave shielding performance for the blackened layer.

一方、電磁波シールド材は、電磁波遮蔽機能を発揮するために、その周縁部において、接地部位と電気的に導通状態で接続することが不可欠であり、露出した導電性パターン層との電気的接触を十分に確保し、接地抵抗を下げるために、導電性パターン層と接地部との間にスポンジ状やゴム状の弾性体の芯材とこれを覆う金属メッシュなどの導電性材料からなる導電性ガスケットを設けることが多い。
しかしながら、電磁波遮蔽層の導電性パターン層に常法による金属メッキ層及び黒化層を設けたのでは、導電性ガスケットと電磁波遮蔽層周縁部との間の接触が悪く接地抵抗が高いという問題があった。
On the other hand, in order to exert an electromagnetic wave shielding function, it is indispensable that the electromagnetic shielding material is electrically connected to the grounded portion at the peripheral portion thereof, and makes electrical contact with the exposed conductive pattern layer. A conductive gasket made of a conductive material such as a sponge-like or rubber-like elastic core material and a metal mesh covering it between the conductive pattern layer and the grounding part in order to ensure sufficient and lower the grounding resistance Is often provided.
However, when a conventional metal plating layer and blackening layer are provided on the conductive pattern layer of the electromagnetic shielding layer, there is a problem that the contact between the conductive gasket and the peripheral portion of the electromagnetic shielding layer is poor and the ground resistance is high. there were.

特開2001−102792号公報JP 2001-102792 A 特開平11−174174号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-174174 国際公開第08/149969号パンフレットInternational Publication No. 08/149969 Pamphlet

本発明の目的は、黒化処理を施したパターン状の導電層を有する電磁波遮蔽層において、黒化層が脱落し難く、外光反射防止性が良好な電磁波遮蔽層を含み、電磁波遮蔽層周縁部の導電性パターン層が導電性ガスケットを介して接地部と接続されているプラズマディスプレイ用フィルタにおいて、導電性パターン層が導電性ガスケットの接触状態が良好で、接地抵抗が低減されるプラズマディスプレイ用フィルタを提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding layer having a patterned conductive layer subjected to a blackening treatment, including an electromagnetic wave shielding layer in which the blackened layer is less likely to fall off and has good antireflection against external light, and the periphery of the electromagnetic wave shielding layer For plasma displays in which the conductive pattern layer is connected to the ground via a conductive gasket, and the conductive pattern layer is in good contact with the conductive gasket and the ground resistance is reduced To provide a filter.

本発明は、透明基材上に所定のパターンで形成された導電性粒子と樹脂バインダーを含む導電性パターン層を有する電磁波遮蔽層の周縁部を除く部分の導電性パターン層側に接着剤層を介して各種機能層が積層され、該電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターン層側はその少なくとも一部が導電性ガスケットを介して金属フレーム接地部に接続されているフィルタであって、該電磁波遮蔽層の導電性パターン層は、その表面に、端角部が突出し、中央部が凹陥した金属層が形成され、かつ、該金属層の表面には針状金属の黒化層が形成されているものであることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルタを提供するものである。   The present invention provides an adhesive layer on the conductive pattern layer side of the portion excluding the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding layer having a conductive pattern layer containing conductive particles and a resin binder formed in a predetermined pattern on a transparent substrate. Various functional layers are laminated, and the conductive pattern layer side of the periphery of the electromagnetic wave shielding layer is a filter in which at least a part thereof is connected to the metal frame grounding part via a conductive gasket, The conductive pattern layer of the shielding layer has a metal layer with a corner portion protruding on the surface and a recessed central portion, and a needle-like metal blackening layer formed on the surface of the metal layer. The present invention provides a front filter for a plasma display.

導電性パターンの頂部が平坦面で、その上に黒化層、特に黒化度良好な針状微結晶の黒化層を形成した場合は、後工程である機能性フィルムラミネート工程でガイドロール等の剛体部材との接触面積が大きいため、黒化層が磨耗、剥脱する量が多いが、導電性パターン層の頂部が凹んだ本発明においては、ガイドロール等との接触面積が少なく、凹部表面は非接触のため、凹部表面上の黒化層は磨耗、剥脱が防止される。
また、黒化層を形成する針状結晶は、入射した光が、針間の面で多重反射されるうちに、吸収、散乱が多数回起こり、多くの光を減衰させ、反射光量は大幅に減少する。しかも該針状結晶は導電性の金属からなる為、良好な導電性(即ち、電磁波遮蔽性)も具備する。
そして、本発明は、導電性パターン表面の黒化層の表面の特定の微細構造による投錨効果によって、電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターンが可撓性で導電性を持った導電性ガスケットには十分に食い込み、十分な接触状態になることによって、接地抵抗が低減され、良好な電磁波遮蔽機能が発揮されるものである。
When the top of the conductive pattern is a flat surface and a blackened layer, especially a blackened layer of acicular microcrystals with good blackness, is formed on it, a guide roll or the like is used in the functional film laminating process, which is a subsequent process. Since the contact area with the rigid member is large, the amount of the blackened layer worn out and peeled off is large, but in the present invention in which the top of the conductive pattern layer is recessed, the contact area with the guide roll or the like is small and the surface of the recess Because of the non-contact, the blackened layer on the surface of the concave portion is prevented from being worn out or exfoliated.
In addition, the acicular crystal that forms the blackened layer absorbs and scatters many times while the incident light is multiple-reflected on the surface between the needles, attenuates a lot of light, and the amount of reflected light is greatly increased. Decrease. Moreover, since the acicular crystal is made of a conductive metal, it also has good conductivity (that is, electromagnetic wave shielding).
The present invention provides a conductive gasket in which the conductive pattern on the periphery of the electromagnetic wave shielding layer is flexible and conductive by a throwing effect due to a specific fine structure on the surface of the blackened layer on the surface of the conductive pattern. Sufficiently penetrates into a sufficient contact state, thereby reducing the ground resistance and exhibiting a good electromagnetic wave shielding function.

(A):本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルタにおける電磁波遮蔽層の線条パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面の構造を示す模式図である。(B):(A)において、導電性ガスケットと接触する電磁波遮蔽層部分の拡大図である。(A): It is a schematic diagram which shows the structure of the cross section orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of the linear pattern of the electromagnetic wave shielding layer in the front filter for plasma displays of this invention. (B): In (A), it is an enlarged view of the electromagnetic wave shielding layer portion in contact with the conductive gasket. 本発明の電磁波シールド材の線条パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面の構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the cross section orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of the filament pattern of the electromagnetic wave shielding material of this invention. 本発明(実施例1)の電磁波シールド材を黒化層側から見た走査型電子顕微鏡写真である((A)から(D)にかけて順次、倍率拡大)。It is the scanning electron micrograph which looked at the electromagnetic wave shielding material of this invention (Example 1) from the blackening layer side (sequential magnification expansion from (A) to (D)).

本発明のプラズマディスプレイ用前面フィルタは、図1(A)、(B)に示す如く、電磁波遮蔽層100、接着剤層200及び各種機能層300から構成され、電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターン10は導電性ガスケット400と接触する。
以下、これらについて詳細に説明する。
As shown in FIGS. 1A and 1B, the front filter for a plasma display according to the present invention is composed of an electromagnetic wave shielding layer 100, an adhesive layer 200, and various functional layers 300, and the conductivity of the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding layer. The pattern 10 is in contact with the conductive gasket 400.
Hereinafter, these will be described in detail.

〔電磁波遮蔽層〕
本発明において使用する電磁波遮蔽層100は、透明基材20上に所定のパターンで形成された導電性粒子1と樹脂バインダー2を含む導電性パターン層10を有するものであり、該導電性パターン層10の表面には、両側端縁の端角部が突出し、中央部が凹陥した金属層3が形成され、かつ、該金属層3の表面には針状金属の黒化層4が形成されているものである。
以下、電磁波遮蔽層100の構成、製造方法について説明する。
(Electromagnetic wave shielding layer)
The electromagnetic wave shielding layer 100 used in the present invention has a conductive pattern layer 10 containing conductive particles 1 and a resin binder 2 formed in a predetermined pattern on a transparent substrate 20, and the conductive pattern layer. The metal layer 3 is formed on the surface of the metal plate 3 with the end corners of both side edges protruding and recessed in the center, and the surface of the metal layer 3 is formed with a blackened layer 4 of acicular metal. It is what.
Hereinafter, the structure and manufacturing method of the electromagnetic wave shielding layer 100 will be described.

(透明基材)
透明基材20は、可視領域での透明性(光透過性)、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、或いは樹脂板など板状体の剛直物でもよい。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム(乃至シート)が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取(ロール)から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
(Transparent substrate)
The transparent substrate 20 may be appropriately selected from known materials and thicknesses in consideration of required physical properties such as transparency in the visible region (light transmission), heat resistance, and mechanical strength. A plate-like rigid body such as a transparent inorganic plate or a resin plate may be used. However, a flexible resin film (or sheet) is preferable in consideration of suitability for continuous processing with a roll-to-roll having excellent productivity. The roll-to-roll refers to a processing method in which the material is unwound and supplied from a winding (roll), appropriately processed, and then wound and stored in the winding.

樹脂フィルム、樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−1,4シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリプロピレン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂等である。なかでも、ポリエチレンテレフタレートはその2軸延伸フィルムが耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の点で好ましい透明基材である。
透明無機物としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、鉛硝子等の硝子、或いはPLZT等の透明セラミックス、石英等である。
Examples of resins for resin films and resin plates include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene glycol-1,4 cyclohexanedimethanol-terephthalic acid copolymer, and ethylene glycol-terephthalic acid-isophthalic acid copolymer. Examples thereof include resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyolefin resins such as polypropylene and cycloolefin polymers, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polycarbonate resins, and polyimide resins. Among them, polyethylene terephthalate is a transparent base material whose biaxially stretched film is preferable in terms of heat resistance, mechanical strength, light transmittance, cost, and the like.
Examples of the transparent inorganic material include soda glass, potassium glass, borosilicate glass, lead glass, and other transparent ceramics such as PLZT, quartz, and the like.

透明基材20の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば12〜500μm、好ましくは25〜200μm程度である。樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、500〜5000μm程度である。   The thickness of the transparent substrate 20 is basically not particularly limited and is appropriately selected depending on the application. When a flexible resin film is used, it is, for example, about 12 to 500 μm, preferably about 25 to 200 μm. In the case of using a resin or transparent inorganic plate, the thickness is, for example, about 500 to 5000 μm.

なお、透明基材の樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加できる。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。
In addition, known additives such as an ultraviolet absorber, a colorant, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent can be appropriately added to the resin of the transparent substrate as necessary.
The transparent base material may be obtained by performing known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, primer treatment, and ground treatment on the surface.

(導電性パターン層)
本発明の光学シートの電磁波遮蔽層100における導電性パターン層10は、導電性粒子1及び樹脂バインダー2を含み、透明基材上20又は該透明基材上にプライマー層を形成する場合には該プライマー層上に所定のパターンで設けられた層である。
パターン形状としてはメッシュ線条パターンであり、(網目乃至格子)形状が代表的なものであるが、その他、ストライプ(平行線群乃至縞模様)形状、螺旋形状等も用いられる。メッシュ形状の場合、単位格子形状は、正3角形、不等辺3角形等の3角形、正方形、長方形、台形、菱形等の4角形、6角形、8角形等の多角形、円、楕円等が用いられる。また、モアレを軽減する目的で、ランダム網目状、又は擬似ランダム網目状のパターンなども使用可能である。その線幅と線間ピッチも通常採用されている寸法であればよい。例えば、線幅は5〜50μmとすることができ、線間ピッチは100〜500μmとすることができる。開口率(所定パターン形成領域の全面積中における開口部の合計面積の占める比率)は、通常、50〜95%程度である。
なお、線幅は、より高透明のものを得るために、より一層微細化することが求められている。この観点から、30μm以下、特に20μm以下とすることが好ましい。
(Conductive pattern layer)
The conductive pattern layer 10 in the electromagnetic wave shielding layer 100 of the optical sheet of the present invention includes the conductive particles 1 and the resin binder 2, and when the primer layer is formed on the transparent substrate 20 or on the transparent substrate, It is a layer provided in a predetermined pattern on the primer layer.
The pattern shape is a mesh line pattern, and a (mesh or lattice) shape is representative, but a stripe (parallel line group or stripe pattern) shape, a spiral shape, or the like is also used. In the case of a mesh shape, the unit cell shape may be a triangle such as a regular triangle or an unequal side triangle, a square such as a square, rectangle, trapezoid or rhombus, a polygon such as a hexagon or octagon, a circle or an ellipse. Used. In addition, a random mesh pattern or a pseudo-random mesh pattern can be used for the purpose of reducing moire. The line width and the inter-line pitch may be dimensions that are usually employed. For example, the line width can be 5 to 50 μm, and the line-to-line pitch can be 100 to 500 μm. The aperture ratio (ratio of the total area of the openings in the total area of the predetermined pattern formation region) is usually about 50 to 95%.
The line width is required to be further refined in order to obtain a more highly transparent line. From this viewpoint, it is preferably 30 μm or less, particularly 20 μm or less.

また、導電性パターン層10の厚さは、その導電性パターン層の抵抗値によっても異なるが、導電性能と該導電性パターン層上への他部材の接着適性との兼ね合いから、その中央部(突起パターンの頂部)での測定において、通常、2μm以上50μm以下であり、好ましくは、5μm以上20μm以下である。
この導電性パターン層10は、導電性粒子1と樹脂バインダー2を含む導電性インキを、後述する印刷法により基材上又は透明プライマー層上に形成することで得ることができる。
In addition, the thickness of the conductive pattern layer 10 varies depending on the resistance value of the conductive pattern layer, but from the balance between the conductive performance and the adhesion suitability of other members on the conductive pattern layer, the central portion ( In the measurement at the top of the projection pattern, it is usually 2 μm or more and 50 μm or less, preferably 5 μm or more and 20 μm or less.
This electroconductive pattern layer 10 can be obtained by forming electroconductive ink containing the electroconductive particle 1 and the resin binder 2 on a base material or a transparent primer layer by the printing method mentioned later.

導電性粒子1としては、金、銀、白金、銅、ニッケル、錫、アルミニウムなどの低抵抗率金属の粒子、或いは高抵抗率金属粒子、樹脂粒子、非金属無機粒子等の表面が金や銀などの低抵抗率金属で被覆された粒子等を好ましく挙げることができ、形状も球状、回転楕円体状、正多面体状、截頭多面体状、鱗片状、円盤状、樹枝状、繊維状等から選ぶことができる。
これらの材料や形状は適宜混合して用いてもよい。導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が0.1〜10μm程度のものを用いることができる。導電性組成物中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電性組成物の固形分100質量部のうち、導電性粒子を40〜99質量部の範囲で含有させることができる。なお、本明細書において、平均粒子径というときは、粒度分布計、またはTEM(透過型電子顕微鏡)観察で測定した値を指している。
As the conductive particles 1, the surface of the low resistivity metal particles such as gold, silver, platinum, copper, nickel, tin, and aluminum, or the surface of the high resistivity metal particles, resin particles, non-metallic inorganic particles, etc. is gold or silver. Preferred examples include particles coated with a low resistivity metal such as spherical, spheroidal, regular polyhedral, truncated polyhedral, scaly, disk, dendritic, fibrous, etc. You can choose.
These materials and shapes may be appropriately mixed and used. Since the size of the conductive particles is arbitrarily selected according to the type, it cannot be specified unconditionally. be able to. Although content of the electroconductive particle in an electroconductive composition is arbitrarily selected according to the electroconductivity of an electroconductive particle or the form of particle | grains, for example, among 100 mass parts of solid content of an electroconductive composition, it is electroconductive. The particles can be contained in the range of 40 to 99 parts by mass. In the present specification, the average particle diameter refers to a value measured by a particle size distribution meter or TEM (transmission electron microscope) observation.

樹脂バインダー2としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができ、電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として後述する物を挙げることができ、熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の樹脂を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。
また、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、これら樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤を使用できる。溶剤の含有量は通常、10〜70質量%程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。
As the resin binder 2, any of thermosetting resins, ionizing radiation curable resins, and thermoplastic resins can be used. Examples of the thermosetting resin include resins such as melamine resin, polyester-melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyurethane resin, and thermosetting polyester resin. Examples of the ionizing radiation curable resin include those described later as the primer material. Examples of the thermoplastic resin include thermoplastic polyester resin, polyvinyl butyral resin, thermoplastic acrylic resin, and thermoplastic polyurethane resin. Can be mentioned. In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When using an ionizing radiation curable resin, a photopolymerization initiator may be added as necessary.
Further, in order to obtain fluidity suitable for filling the concave portion of the plate, these resins are usually used as a varnish dissolved in a solvent. There is no restriction | limiting in particular in the kind of solvent, The solvent generally used for printing ink can be used. The content of the solvent is usually about 10 to 70% by mass, but it is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity is obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin is used, a solvent is not necessarily required because it is inherently fluid.

導電性パターン層10は、その表面において、少なくとも片方の側端縁、好ましくは両側端縁の端角部が突出し、中央部が凹陥した金属層3が形成され、かつ、該金属層の表面には針状金属の黒化層4が形成されている。この表面構造のために、黒化層表面の針状結晶の磨耗、剥脱が改善され、外光反射防止性が良好であり、また、この構造による投錨効果によって、金属メッシュと接着剤層との密着を向上せしめるという効果を奏する。   The conductive pattern layer 10 has, on its surface, at least one side edge, preferably, an end corner of both side edges protrudes, and a metal layer 3 having a recessed central portion is formed, and on the surface of the metal layer. The needle-shaped metal blackening layer 4 is formed. Due to this surface structure, the abrasion and exfoliation of the needle-like crystals on the surface of the blackened layer are improved, the external light antireflection property is good, and the anchoring effect by this structure allows the metal mesh and the adhesive layer to be separated. There is an effect of improving the adhesion.

(プライマー層などその他の層)
本発明の電磁波遮蔽層においては、透明基材20と導電性パターン層10との密着性を高めるために、該透明基材と該導電性パターン層との間にプライマー層を設けることが好ましい。
該プライマー層は、透明基材及び導電性パターン層の双方に密着性が良く、また開口部(導電性パターン層非形成部)の光透過性確保のために透明な層である。
更に、導電性パターン層の形成を後述の如き特定の凹版印刷法で行なう場合には、該プライマー層は、流動性を保持できる状態で透明基材上に設けられ、凹版印刷時の凹版に接触している間に液状から固化させる層として形成される層となり、最終的な導電部材が形成されたときに固化している層である。
(Other layers such as primer layer)
In the electromagnetic wave shielding layer of the present invention, it is preferable to provide a primer layer between the transparent substrate 20 and the conductive pattern layer in order to improve the adhesion between the transparent substrate 20 and the conductive pattern layer 10.
The primer layer has good adhesion to both the transparent substrate and the conductive pattern layer, and is a transparent layer for ensuring light transmittance of the opening (conductive pattern layer non-formed portion).
Furthermore, when the conductive pattern layer is formed by a specific intaglio printing method as described later, the primer layer is provided on the transparent substrate in a state where fluidity can be maintained, and contacts the intaglio at the time of intaglio printing. It is a layer that is formed as a layer that is solidified from a liquid state during the process, and is a solidified layer when the final conductive member is formed.

かかる透明プライマー層を構成する材料としては、本来特に限定はないが、本発明では、導電性パターン層の形成方法として後述の如き特定の凹版印刷法が推奨されるため、プライマー層も、未硬化状態において液状(流動性)の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性樹脂組成物を塗工、硬化(固体化)してなる層が好適に用いられる。以下、この材料を中心に詳述する。
該電離放射線重合性化合物としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー及び/又はプレポリマーが用いられる。
かかるモノマーとしては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレート類、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート類等の各種(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、ここで(メタ)アクリレートとの表記は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。カチオン重合性モノマーとして、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。
また、かかるプレポリマー(乃至オリゴマー)としては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。
これらモノマー、或いはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、1種類単独で用いる他、モノマーを2種類以上混合したり、プレポリマーを2種類以上混合したり、或いはモノマー1種類以上とプレポリマー1種類以上とを混合して用いたりすることができる。
The material constituting such a transparent primer layer is not particularly limited in nature, but in the present invention, a specific intaglio printing method as described below is recommended as a method for forming the conductive pattern layer, and therefore the primer layer is also uncured. A layer formed by coating and curing (solidifying) an ionizing radiation curable resin composition containing a liquid (fluid) ionizing radiation polymerizable compound in a state is suitably used. Hereinafter, this material will be mainly described in detail.
As the ionizing radiation polymerizable compound, monomers and / or prepolymers that are polymerized and cured by a reaction such as crosslinking with ionizing radiation are used.
Examples of such monomers include radically polymerizable monomers such as methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl (meth) ) Monofunctional (meth) acrylates such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate , Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) a Polyfunctional (meth) acrylates of various (meth) acrylates such relations and the like. Here, the expression (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether And vinyl ethers, and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.
Such prepolymers (or oligomers) include, for example, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, triazine (meth) acrylate, and silicon (meth) acrylate as radical polymerizable prepolymers. And various (meth) acrylate prepolymers such as polythiol prepolymers such as trimethylolpropane trithioglycolate and pentaerythritol tetrathioglycolate, and unsaturated polyester prepolymers. Other examples of the cationic polymerizable prepolymer include novolac type epoxy resin prepolymer and aromatic vinyl ether type resin prepolymer.
These monomers or prepolymers may be used alone or in combination of two or more types of monomers, two or more types of prepolymers, or one type of monomer, depending on the required performance, coating suitability, etc. A mixture of the above and one or more prepolymers can be used.

電離放射線として、紫外線、又は可視光線を採用する場合には、通常は、光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、アセトフェノン系等の化合物が、又カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤は、上記モノマー及び/又はプレポリマーからなる組成物100質量部に対して、0.1〜5質量部程度添加する。
なお、電離放射線としては、紫外線、又は電子線が代表的なものであるが、この他、可視光線、X線、γ線等の電磁波、或いはα線、各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。
When ultraviolet rays or visible rays are employed as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is usually added. As a photopolymerization initiator, in the case of a radical polymerizable monomer or prepolymer, a compound such as a benzophenone-based, thioxanthone-based, benzoin-based, or acetophenone-based compound, or in the case of a cationic polymerization-based monomer or prepolymer, Metallocene, aromatic sulfonium and aromatic iodonium compounds are used. These photopolymerization initiators are added in an amount of about 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the composition comprising the monomer and / or prepolymer.
In addition, as the ionizing radiation, ultraviolet rays or electron beams are typical, but in addition, electromagnetic waves such as visible rays, X-rays and γ rays, or charged particle beams such as α rays and various ion rays are used. You can also.

上記電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要となるため、コストを考えれば溶剤を含まないタイプ(ノンソルベントタイプ乃至無溶剤型)であることが好ましい。   The ionizing radiation curable composition may contain a solvent, but in that case, since a drying step is required after coating, it is a type that does not contain a solvent (non-solvent type or solvent-free type) in consideration of cost. preferable.

プライマー層の厚さ(導電性パターン層10の非形成部の厚みで評価)は特に限定されないが、通常は硬化後の厚さで1μm〜100μm程度となるように形成される。また、プライマー層の厚さは、通常は、導電性パターン層とプライマー層との合計値(総厚。導電性パターン層の頂部と透明基材の表面との高度差)の1〜50%程度である。   The thickness of the primer layer (evaluated by the thickness of the non-formed portion of the conductive pattern layer 10) is not particularly limited, but is usually formed to be about 1 μm to 100 μm after curing. Further, the thickness of the primer layer is usually about 1 to 50% of the total value of the conductive pattern layer and the primer layer (total thickness. Altitude difference between the top of the conductive pattern layer and the surface of the transparent substrate). It is.

また、必要に応じ適宜その他の層の形成、乃至は処理を施してもよい。例えば、錆びに対する耐久性が不十分な場合は、導電性パターン層上に防錆層を設けるとよい。該防錆層は、従来公知の材料及び手法により設けることができる。   Further, other layers may be formed or processed as necessary. For example, when the durability against rust is insufficient, a rust prevention layer may be provided on the conductive pattern layer. The rust preventive layer can be provided by a conventionally known material and method.

次に、本発明の代表的な実施形態を例示して電磁波遮蔽層の製造方法を説明する。
(導電性パターン層の形成方法)
本工程では、透明基材の一方の面に導電性粒子及び樹脂バインダーを含む導電性組成物(導電性インキ、導電性ペーストとも呼称する)を用いて導電性パターン層を形成する。
該導電性パターン層の有する所定パターンは、例えば、シルクスクリ−ン印刷、フレキソ印刷、凹版印刷等の公知の各種印刷法によって形成することができる。
また、透明基材と導電性パターン層との密着性を高めるために、該透明基材と該導電性パターン層との間にプライマー層を設ける場合には、上記導電部材の製造方法としては、特許文献3に記載される特定のプライマーを用いた凹版印刷が推奨される。
以下、この凹版印刷法の概略を述べる。
Next, a representative embodiment of the present invention will be exemplified to describe a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding layer.
(Method for forming conductive pattern layer)
In this step, the conductive pattern layer is formed using a conductive composition (also referred to as conductive ink or conductive paste) containing conductive particles and a resin binder on one surface of the transparent substrate.
The predetermined pattern of the conductive pattern layer can be formed by various known printing methods such as silk screen printing, flexographic printing, and intaglio printing.
Further, in order to improve the adhesion between the transparent substrate and the conductive pattern layer, when a primer layer is provided between the transparent substrate and the conductive pattern layer, as a method for producing the conductive member, Intaglio printing using a specific primer described in Patent Document 3 is recommended.
The outline of this intaglio printing method will be described below.

当該凹版印刷法は、表面に所定のパターンで凹部(セルとも云う)が形成された版面に、導電性組成物を塗布した後、その凹部内以外に付着した導電性組成物を掻き取って該凹部内に導電性組成物を充填し、これに液状プライマー層を片面に形成済みの透明基材を、該プライマー層が凹版に接する向きで圧着して、凹部内の導電性組成物とプライマー層とを空隙なく密着させ、その状態でプライマー層を液状から固体状に固化させた後、透明基材を凹版から離して離版させることで、透明基材上の固化したプライマー層上に導電性組成物を転移させて、印刷するものである。   In the intaglio printing method, a conductive composition is applied to a plate surface having a concave pattern (also referred to as a cell) formed in a predetermined pattern on the surface, and then the conductive composition adhering outside the concave section is scraped off. A conductive composition is filled in the recess, and a transparent base material on which one side of the liquid primer layer is formed is pressure-bonded in such a direction that the primer layer is in contact with the intaglio, and the conductive composition and the primer layer in the recess In this state, the primer layer is solidified from a liquid state to a solid state, and then the transparent substrate is separated from the intaglio plate to release the conductive material on the solidified primer layer on the transparent substrate. The composition is transferred and printed.

印刷後、つまり離版後、まだ液状である導電性パターン層に対しては、乾燥操作、加熱操作、冷却操作、化学反応操作などを適宜行い、導電性インキを固化せしめて導電性パターン層を完成させる。また、導電性組成物は、版上で半硬化させ離版後に完全硬化させてもよい。   After printing, that is, after release, the conductive pattern layer that is still in the liquid state is appropriately subjected to drying operation, heating operation, cooling operation, chemical reaction operation, etc., and the conductive ink is solidified to form the conductive pattern layer. Finalize. Further, the conductive composition may be semi-cured on the plate and completely cured after the release.

なお、一般に、凹版印刷では、導電性インキを版面に供給し、ドクターブレード等で余剰の該インキを掻き取って版凹部に該インキを充填する際、充填された該インキの表面に凹みが発生し、該凹部のため、透明基材との密着不良、透明基材上への該インキの転移率低下という不具合を生じていた。
一方、特許文献3の凹版印刷では、凹版凹部内に充填された導電性インキの上部に窪み(凹み)が生じても、液状で流動性のプライマー層を介して印刷するので、印刷中にプライマー層を該窪みに流し込み隙間なく密着させた状態にでき、その後、プライマー層を固化させてから透明基材を凹版から離すので、透明基材上に固化したプライマー層を介して所定パターンの導電性パターン層を、細線でも、転移不足による断線や形状不良、インキ密着性不足などの印刷不良の発生なく形成できる。かくの如く凹版凹部内に充填されたインキの表面に生じる窪みをプライマー層が流入、充填する結果、得られた導電部材は、プライマー層の厚みが、前記導電性パターン層が形成されている部分の厚みが前記導電性パターン層が形成されていない部分の厚みよりも厚くなる。
In general, in intaglio printing, when conductive ink is supplied to the plate surface, the excess ink is scraped off with a doctor blade or the like and the ink is filled in the plate recesses, a dent is generated on the surface of the filled ink. However, due to the concave portions, there were problems such as poor adhesion to the transparent substrate and a decrease in the transfer rate of the ink onto the transparent substrate.
On the other hand, in the intaglio printing of Patent Document 3, printing is performed through a liquid and fluid primer layer even when a depression (dent) is formed on the upper part of the conductive ink filled in the intaglio depression. The layer can be poured into the recess and brought into close contact, and then the primer layer is solidified, and then the transparent substrate is released from the intaglio, so that the conductivity of the predetermined pattern can be achieved through the primer layer solidified on the transparent substrate. The pattern layer can be formed even with fine lines without occurrence of printing defects such as disconnection and shape defects due to insufficient transfer, and insufficient ink adhesion. Thus, as a result of the primer layer flowing in and filling the depressions formed on the surface of the ink filled in the intaglio depressions, the resulting conductive member has a portion where the thickness of the primer layer is formed on the conductive pattern layer. Becomes thicker than the thickness of the portion where the conductive pattern layer is not formed.

(金属層)
本発明における電磁波遮蔽層は、導電性を更に向上せしめるために、導電性パターン層10の表面に金属層3を電解メッキ法により形成する。
導電性パターン層10への給電は導電性パターン層10が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電性パターン層10が電解メッキ可能な程度の導電性(例えば、100Ω/□以下)を有するので、電解メッキを問題なく行うことができる。金属層3を構成する材料としては、導電性が高く容易にメッキ可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。
メッキ条件としては、浴温20〜60℃、電流密度0.001〜10A/dm2、メッキ時間1〜10分程度が好ましい。電流密度を高くすることによって、導電性パターン層の端角部に電力集中が起こってメッキがつきやすくなる。特に、導電性パターン層の端角部がメッキ前の時点で突出していると、更に金属メッキした導電性パターン層は端角部が突出し、中央部が凹陥した表面形状となる。
また、電流密度が高いほど、端角部と中央部のメッキ層成長速度に差がつき、相対的に端角部の電流密度が高くなって、頂部の中央部が凹陥した凹凸表面形状になり易い。その際、導電性パターン層10の断面形状を図1(B)に図示の如くの台形、長方形、或いは正方形とすることによって、中央部に比べて端角部の電流密度を相対的に高めることができる。特に、導電性パターン層の端角部がメッキ前の時点で突出していると、更にこの傾向は強まる。
電流密度を高めると、これに加えて、さらに、頂部金属層表面内に凹溝、特に図3に示される如く、分岐、蛇行、或いはこれらの両方の形態を有する溪谷状の凹溝が生じ易くなる。
斯かる凹溝、特に分岐、蛇行、或いはこれらの両方の形態を有する溪谷状の凹溝が導電性パターン層の頂部上に存在すると、該凹溝内に入射した光線は該凹溝内において複雑な経路で反射を多数回繰り返す結果減衰する。また、減衰し切れずに反射する場合も乱反射となり、画像観察者の視線方向に向かう反射光量は減少する。そのため、日光、電灯光等の外光の反射防止性の向上に寄与する。
本発明の電磁波遮蔽層における金属メッキした導電性パターン層の端角突出部と中央凹陥部の段差は1〜3μm程度である。
(Metal layer)
In the electromagnetic wave shielding layer in the present invention, the metal layer 3 is formed on the surface of the conductive pattern layer 10 by an electrolytic plating method in order to further improve the conductivity.
The power supply to the conductive pattern layer 10 is performed from an electrode such as a current-carrying roll brought into contact with the surface on which the conductive pattern layer 10 is formed. However, the conductive pattern layer 10 is conductive enough to be electroplated (for example, 100Ω / □ or less), so that electroplating can be performed without any problem. Examples of the material constituting the metal layer 3 include copper, silver, gold, chromium, nickel and the like, which are highly conductive and can be easily plated.
As plating conditions, a bath temperature of 20 to 60 ° C., a current density of 0.001 to 10 A / dm 2 , and a plating time of about 1 to 10 minutes are preferable. By increasing the current density, power concentration occurs at the end corners of the conductive pattern layer, and plating is likely to occur. In particular, if the end portion of the conductive pattern layer protrudes before plating, the metal-plated conductive pattern layer has a surface shape in which the end portion protrudes and the central portion is recessed.
In addition, the higher the current density, the more the difference in plating layer growth rate between the corner and the central part, the relatively high current density at the corner and the concave and convex surface shape with the central part of the top recessed. easy. At that time, by making the cross-sectional shape of the conductive pattern layer 10 trapezoidal, rectangular or square as shown in FIG. 1B, the current density at the end portion is relatively increased as compared with the central portion. Can do. In particular, if the end corners of the conductive pattern layer protrude before the plating, this tendency is further strengthened.
Increasing the current density, in addition to this, creates a groove in the surface of the top metal layer, in particular a trough-shaped groove having a branching, meandering or both form as shown in FIG. It becomes easy.
When such a concave groove, in particular, a trough-shaped concave groove having a branching shape, a meandering shape, or both of them is present on the top of the conductive pattern layer, a light beam incident on the concave groove is formed in the concave groove. Attenuates as a result of repeated reflections in a complex path many times. Further, when the light is reflected without being attenuated, it becomes irregular reflection, and the amount of reflected light directed toward the line of sight of the image observer decreases. Therefore, it contributes to the improvement of antireflection of external light such as sunlight and electric light.
In the electromagnetic wave shielding layer of the present invention, the step difference between the end projection and the central recess of the metal-plated conductive pattern layer is about 1 to 3 μm.

(黒化処理)
本発明においては、金属層を形成した後、黒化処理を施して金属層表面に黒化層4を形成する。
黒化層4は金属の針状結晶から構成される。黒化層を構成する金属は金属層3を構成する金属と同じものでも良いし、別のものでも良いが、反射光量低減と高導電性との両立の点から、できるだけ導電率の高い物を選ぶことが好ましく、例えば、金、銀、白金、銅、ニッケル等が用いられる。
黒化処理は、例えば、硫酸銅5水和物と硫酸を水に溶かした電解浴を用いて陰極電解して粗面化処理を施すことにより、上記金属メッキした導電性パターン層の表面に銅からなる金属の針状結晶からなる黒化層4を形成する。
粗面化処理は陰極電解により金属の粒状突起物を析出させ(1層目)、次いでその突起物の脱落防止のためその上に金属メッキを施し(2層目)、金属被覆を形成させることによって全体として針状結晶からなる金属の粗面を作る。
黒化処理(粗面化処理)条件としては、(特に1層目の)電流密度を高くすることにより、針状結晶が形成され易いので好ましい。
黒化層4の針状結晶の長さは0.1〜1μm程度、その直径は長さの1/20〜1/2程度である。
斯かる針状結晶は、入射した光線が、針間の面で多重反射されるうちに、吸収、散乱が多数回起こり、多くの光を減衰させ、反射光量を大幅に減少せしめる。
図1(B)に図示の如く、導電性パターン層10の頂部に前記の如く端角部が突出した凹陥部を形成した上で更にその表面に針状結晶からなる黒化層4を形成すると、凹陥部と針状結晶の両者の入射光線減衰作用の相乗効果によって、外光反射防止効果はより高まる。
(Blackening treatment)
In the present invention, after forming the metal layer, the blackening process is performed to form the blackened layer 4 on the surface of the metal layer.
The blackened layer 4 is composed of a metal needle crystal. The metal constituting the blackened layer may be the same as or different from the metal constituting the metal layer 3, but from the standpoint of reducing the amount of reflected light and achieving high conductivity, the metal having the highest conductivity should be used. For example, gold, silver, platinum, copper, nickel or the like is used.
For example, the blackening treatment is performed by cathodic electrolysis using an electrolytic bath in which copper sulfate pentahydrate and sulfuric acid are dissolved in water. A blackening layer 4 made of a needle-like crystal of metal is formed.
In the roughening treatment, a metal granular projection is deposited by cathodic electrolysis (first layer), and then metal plating is applied thereon to prevent the projection from falling off (second layer) to form a metal coating. The rough surface of the metal which consists of acicular crystals as a whole is made by.
As the blackening treatment (roughening treatment) condition, it is preferable to increase the current density (especially the first layer) because needle crystals are easily formed.
The length of the needle crystal of the blackened layer 4 is about 0.1 to 1 μm, and the diameter is about 1/20 to 1/2 of the length.
Such a needle crystal absorbs and scatters many times while the incident light beam is multiple-reflected on the surface between the needles, attenuates a lot of light, and greatly reduces the amount of reflected light.
As shown in FIG. 1B, when the concave portion with the end portion protruding as described above is formed on the top of the conductive pattern layer 10 and the blackening layer 4 made of needle crystals is further formed on the surface thereof. The effect of preventing reflection of external light is further enhanced by the synergistic effect of the incident light attenuation action of both the recessed portion and the needle crystal.

〔各種機能層〕
本発明において、電磁波遮蔽層100は、接着剤層200を介して各種の機能層300の1層以上と積層、複合化して用いる。
該機能層としては、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、調色層、紫外線吸収層、反射防止層、防眩層、所謂薄膜ミクロルーバ層からなるコントラスト向上層等の光学機能層(光学フィルタ層)、或いはハードコート層、耐衝撃層(衝撃吸収層)、防汚層、帯電防止層、抗菌層、防黴層等のその他機能層が挙げられる。
機能層は単数又は接着剤で接着された複数の層よりなる。
なお、反射防止層は最も上側(観察者側)に位置させ、耐衝撃層は、下側(PDP側)に位置させる。他の機能層は、いずれの位置にも位置させることができる。
また、近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、調色(着色)層、紫外線吸収層は、接着剤層のいずれか1層以上に、当該吸収剤を含有させることにより、形成することができる。
[Functional layers]
In the present invention, the electromagnetic wave shielding layer 100 is used by being laminated and composited with one or more of various functional layers 300 through the adhesive layer 200.
Examples of the functional layer include an optical functional layer (optical filter layer) such as a near-infrared absorbing layer, a neon light absorbing layer, a toning layer, an ultraviolet absorbing layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a contrast enhancement layer comprising a so-called thin film microlouver layer. Or other functional layers such as a hard coat layer, an impact resistant layer (impact absorbing layer), an antifouling layer, an antistatic layer, an antibacterial layer, and an antifungal layer.
The functional layer is composed of a single layer or a plurality of layers bonded with an adhesive.
The antireflection layer is positioned on the uppermost side (observer side), and the impact resistant layer is positioned on the lower side (PDP side). The other functional layer can be located at any position.
Moreover, a near-infrared absorption layer, a neon light absorption layer, a toning (coloring) layer, and an ultraviolet absorption layer can be formed by containing the absorber in any one or more of the adhesive layers.

〔接着剤層(粘着剤層)〕
接着剤層200は、機能層300と電磁波遮蔽層100を接着し、或いは本発明のフィルタを画像表示装置本体又は画像表示装置基板に接着する役割を有する層であり、また、各種吸収剤を含有させることで各種光学機能層となり得る層である。
接着剤層に用いる接着剤としては、基本的には特に制限はなく、公知の接着剤の中から、接着性(粘着力)、透明性、塗工適性などを有し、またそれ自体好ましくは無着色のものを適宜選択する。各種の天然又は合成樹脂が使用でき、硬化形態としては熱又は電離放射線硬化樹脂などが適用できる。
好適に用いられる接着剤は、粘着剤と呼称される形態のものである。粘着剤としては、アクリル系粘着剤が挙げられる。アクリル系粘着剤は、少なくとも(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを含んで重合させたものである。炭素原子数1〜18程度のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体であるのが一般的である。なお、本発明において(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸をいう。
[Adhesive layer (adhesive layer)]
The adhesive layer 200 is a layer that has a role of bonding the functional layer 300 and the electromagnetic wave shielding layer 100, or bonding the filter of the present invention to the image display apparatus main body or the image display apparatus substrate, and contains various absorbents. It is a layer that can be various optical functional layers by making it.
The adhesive used for the adhesive layer is basically not particularly limited, and has adhesiveness (adhesive strength), transparency, coating suitability, etc., among the known adhesives, and preferably itself. An uncolored one is appropriately selected. Various natural or synthetic resins can be used, and heat or ionizing radiation curable resin can be applied as a cured form.
The adhesive preferably used is in a form called an adhesive. An example of the pressure-sensitive adhesive is an acrylic pressure-sensitive adhesive. The acrylic pressure-sensitive adhesive is a polymer containing at least a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer. Generally, it is a copolymer of a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer having an alkyl group having about 1 to 18 carbon atoms and a monomer having a carboxyl group. In the present invention, (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.

〔導電性ガスケット〕
本発明のプラズマディスプレイ用フィルタは、電磁波遮蔽層周縁部の導電性パターン層10が導電性ガスケット400を介して接地部と接続されている。
この導電性ガスケットは、スポンジ状やゴム状のポリウレタン樹脂などの可撓性で弾性体の芯材とこれを覆う金属メッシュなどの導電性材料からなり、電磁波遮蔽層周縁部の露出した導電性パターン層と金属フレームなどの接地部とを電気的に導通状態で接続するためのものである。導電性ガスケット400の弾性の程度は、導電性パターン層10全体が図1(B)の如く該導電性ガスケット内に食い込み、また前記導電性パターン層表面の特定表面微細構造が該導電性ガスケット内にも食い込む程度とする。
導電性ガスケットは断面形状が4角形、8角形等の多角形形状、円形形状、又は楕円形形状が代表的なものであり、接地領域を被覆する面積は、十分に低い接地抵抗を得るのに足るだけ確保できればよいが、できるだけ広面積で被覆することが好ましく、周縁部の全周を被覆することがより好ましい。
本発明のプラズマディスプレイ用フィルタにおいては、導電性パターン層表面の黒化層の表面の特定の微細構造による投錨効果によって、電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターンが導電性ガスケットに食い込み、十分な接触状態になることによって、接地抵抗が低減され、良好な電磁波遮蔽機能が発揮される。
[Conductive gasket]
In the filter for plasma display of the present invention, the conductive pattern layer 10 at the periphery of the electromagnetic wave shielding layer is connected to the grounding portion through the conductive gasket 400.
This conductive gasket is made of a flexible and elastic core material such as sponge-like or rubber-like polyurethane resin and a conductive material such as a metal mesh covering the conductive material. This is for connecting the layer and a grounding part such as a metal frame in an electrically conductive state. The degree of elasticity of the conductive gasket 400 is such that the entire conductive pattern layer 10 bites into the conductive gasket as shown in FIG. 1B, and the specific surface microstructure on the surface of the conductive pattern layer is within the conductive gasket. It is just enough to bite into.
The conductive gasket is typically a polygonal shape such as a quadrangular or octagonal shape, a circular shape, or an elliptical shape, and the area covering the grounding region is sufficient to obtain a sufficiently low grounding resistance. However, it is preferable to cover the area as wide as possible, and it is more preferable to cover the entire periphery.
In the plasma display filter of the present invention, the conductive pattern on the periphery of the electromagnetic wave shielding layer bites into the conductive gasket due to the throwing effect due to the specific fine structure on the surface of the blackened layer on the surface of the conductive pattern layer. By being in the contact state, the ground resistance is reduced and a good electromagnetic wave shielding function is exhibited.

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例により何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited at all by these examples.

[実施例1]
(電磁波遮蔽シートの製造)
まず、凹版を用意した。該凹版は、中空の鉄の円筒表面に銅メッキ層を被覆してなる円筒版材表面を機械的に切削加工し、その後、前面にクロム膜を電解メッキして、該円筒版材表面に、深さ20μm、線幅20μm、縦横線の繰返し周期300μmの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成し、印刷用の凹版を得た。該凹版凹部の線条パターンの走行方向(長手方向)と直交する主切断面形状は底部(円筒中心に近い側)の幅がせばまった台形形状であり、底部の角の両底角が各々75度、円筒表面部に露出する角の両底角が各々105度であり、該台形の高さが20μm、該台形の円筒表面部に露出する底辺の長さが20μmであった。
また、該台形状の主切断面の凹部の底部(導電性パターン層では頂部に対応)には中央部が端角部よりも2μm湾曲して突出(導電性パターン層では頂部の中央部が端角部よりも2μm湾曲して凹陥することに対応)する形状とした。
次いで、透明基材として厚みが100μmで、1080mm幅×2000m巻の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績(株)製A4300)を用意した。この透明基材上の一方の面上にプライマー層用の紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥膜厚が厚さ10μmとなるように塗布形成した。塗布方式は、通常のグラビアリバースロールコート法を採用し、紫外線硬化性樹脂組成物としては、エポキシアクリレートプレポリマー35質量部、ウレタンアクリレートプレポリマー12質量部、フェノキシエチルアクリレートからなる単官能モノマー44質量部、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレートからなる3官能モノマー9質量部、さらに光開始剤としてイルガキュア184(物質名;1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、製造元;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)3質量部添加したものを使用した。このときの粘度は約1300cps(25℃、B型粘度計)であり、塗布後のプライマー層は触ると流動性を示すものの、PETフィルム上から流れ落ちることはなかった。
一方、準備された上記円筒状凹版の版面に、導電性組成物である銀ペーストをピックアップロールで塗布し、鋼鉄製ドクターブレードで凹部内以外の導電性組成物を掻き取って凹部内のみに導電性組成物を充填させた。
そして、該導電性組成物を凹部内に充填させた状態のロール状凹版と、ニップロールとの間に、流動状態のプライマー層が形成されたPETフィルムを供し、ロール状凹版に対するニップロールの押圧力(付勢力)によって、流動状態のプライマー層を凹部内に存在する導電性組成物の凹みに流入させ、導電性ペーストと流動性保持状態のプライマー層とを隙間なく密着させると共に、該プライマーの一部を凹部内の該導電性組成物内に浸透せしめた。
次いで、更に凹版ロールが回転して高圧水銀灯によって紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂組成物からなる流動状態のプライマー層を硬化させた。プライマー層の硬化により、凹版ロールの凹部内の導電性ペーストは、硬化したプライマー層と密着し、その後、出口側のニップロールによってフィルムが凹版ロールから剥離され、プライマー層上には導電性組成物層が転写形成された。このようにして得られたフィルムを、130℃の乾燥ゾーンを通過させて、60秒熱風乾燥させ、該導電性組成物中の溶剤を蒸発させ、プライマー層上に、該導電性導電性組成物から成る、厚さ19μm(パターン幅方向中央部の凹陥部の厚み)、線幅20μm、縦横線の繰返周期300μmの正方格子の導電性凸状パターン層を形成した。得られた導電性パターン層は、頂部の中央部が端角部よりも1.5μm湾曲して凹陥する形状であった。且つ頂部表面には分岐し且つ蛇行する溪谷状の凹溝が多数形成されていた。
なお、該導電性組成物は、導電性粉末として平均粒径約2μmの銀粉末93質量部、樹脂バインダーとして熱可塑性のポリエステルウレタン樹脂7質量部、溶剤としてブチルカルビトールアセテート25質量部を配合し、十分に攪拌混合した後、3本ロールで混練りして作製した。
[Example 1]
(Manufacture of electromagnetic shielding sheets)
First, an intaglio was prepared. The intaglio plate mechanically cuts the surface of a cylindrical plate made by coating a copper plating layer on the surface of a hollow iron cylinder, and then electroplating a chromium film on the front surface, A square-pattern mesh pattern-shaped recess having a depth of 20 μm, a line width of 20 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 300 μm was formed to obtain an intaglio for printing. The main cutting plane shape orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of the line pattern of the intaglio depression is a trapezoidal shape with a width of the bottom (side closer to the center of the cylinder), and both bottom angles of the bottom corners are Each of the base angles exposed to the cylindrical surface part was 75 degrees, and each base angle of the corners exposed to the cylindrical surface part was 105 degrees, the height of the trapezoid was 20 μm, and the length of the base exposed to the cylindrical surface part of the trapezoid was 20 μm.
Further, at the bottom of the concave part of the trapezoidal main cut surface (corresponding to the top in the conductive pattern layer), the central part protrudes by being curved by 2 μm from the end corner (in the conductive pattern layer, the central part of the top is the end). The shape is curved corresponding to a 2 μm curve and recessed from the corner).
Next, as a transparent substrate, an uncolored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and a width of 1080 mm × 2000 m was prepared. An ultraviolet curable resin composition for a primer layer was applied and formed on one surface of the transparent substrate so that the dry film thickness was 10 μm. The application method employs a normal gravure reverse roll coating method, and the UV curable resin composition includes 44 parts by mass of a monofunctional monomer composed of 35 parts by mass of an epoxy acrylate prepolymer, 12 parts by mass of a urethane acrylate prepolymer, and phenoxyethyl acrylate. 9 parts by mass of trifunctional monomer composed of ethylene oxide-modified isocyanuric acid triacrylate, and further 3 parts by mass of Irgacure 184 (substance name: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufacturer: Ciba Specialty Chemicals) as a photoinitiator We used what we did. The viscosity at this time was about 1300 cps (25 ° C., B-type viscometer), and the primer layer after application showed fluidity when touched, but did not flow down from the PET film.
On the other hand, a silver paste, which is a conductive composition, is applied to the plate surface of the prepared cylindrical intaglio using a pick-up roll, and the conductive composition other than the concave portion is scraped off with a steel doctor blade to conduct electricity only in the concave portion. The composition was filled.
Then, a PET film on which a primer layer in a fluid state is formed between the roll-shaped intaglio plate in a state where the conductive composition is filled in the concave portion and the nip roll, and the pressing force of the nip roll against the roll-shaped intaglio plate ( The flowable primer layer is caused to flow into the recess of the conductive composition existing in the recess by an urging force, and the conductive paste and the fluidity-maintained primer layer are brought into close contact with each other without any gap, and part of the primer Was infiltrated into the conductive composition in the recess.
Next, the intaglio roll was further rotated and irradiated with ultraviolet rays from a high-pressure mercury lamp, and the primer layer in a fluid state made of the ultraviolet curable resin composition was cured. Due to the curing of the primer layer, the conductive paste in the recesses of the intaglio roll is in close contact with the cured primer layer, and then the film is peeled from the intaglio roll by the nip roll on the outlet side, and the conductive composition layer is formed on the primer layer. Was transferred and formed. The film thus obtained is passed through a drying zone at 130 ° C. and dried with hot air for 60 seconds, the solvent in the conductive composition is evaporated, and the conductive conductive composition is deposited on the primer layer. A square-shaped conductive convex pattern layer having a thickness of 19 μm (thickness of the concave portion at the center in the pattern width direction), a line width of 20 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 300 μm was formed. The obtained conductive pattern layer had a shape in which the central portion of the top portion was curved and recessed by 1.5 μm from the end corner portion. In addition, many trough-like concave grooves that branch and meander were formed on the top surface.
The conductive composition contains 93 parts by mass of silver powder having an average particle diameter of about 2 μm as the conductive powder, 7 parts by mass of thermoplastic polyester urethane resin as the resin binder, and 25 parts by mass of butyl carbitol acetate as the solvent. After sufficiently stirring and mixing, it was prepared by kneading with three rolls.

次いで、上記メッシュパターンが形成されている透明基材をメッキした。
メッキ液としては、溶媒として水(3000L)を用い、硫酸銅5水和物(75g/L)と、硫酸(180g/L)、塩酸(60mg/L)、配向性調節成分として炭化水素系高分子系メッキ添加剤(40mL/L)を混合してメッキ液を調製した。
メッキ条件は、浴量(500mL)、攪拌(エアー攪拌)、浴温(25℃)、電流密度(2A/dm2)、メッキ時間(5min)で行って、膜厚は2.0μmであった。メッキ処理により堆積した被膜を120℃、60分間アニール処理して、銅からなる金属層を得た。
メッキは被メッキ部とアノード極板との距離が近いところにメッキがつきやすく、角部にも電流密度集中が起こりメッキが厚くつきやすい。本実施例の導電性パターン層は主切断面が台形形状で頂部の端角部が尖っているとともに、その端角部が中央部よりも突出しているため、得られた銅メッキされたメッシュパターンの頂部は、端角部が突出し、中央部が凹陥した表面形状であった。
Next, the transparent substrate on which the mesh pattern was formed was plated.
As a plating solution, water (3000 L) is used as a solvent, copper sulfate pentahydrate (75 g / L), sulfuric acid (180 g / L), hydrochloric acid (60 mg / L), and hydrocarbon-based high as an orientation controlling component. A molecular plating additive (40 mL / L) was mixed to prepare a plating solution.
The plating conditions were bath volume (500 mL), stirring (air stirring), bath temperature (25 ° C.), current density (2 A / dm 2 ), plating time (5 min), and the film thickness was 2.0 μm. . The coating deposited by plating was annealed at 120 ° C. for 60 minutes to obtain a metal layer made of copper.
Plating is likely to occur where the distance between the portion to be plated and the anode electrode plate is short, and current density is concentrated at the corners, resulting in thick plating. The conductive pattern layer of the present example has a trapezoidal main cut surface and the top end corner is pointed, and the end corner protrudes from the center, so the obtained copper-plated mesh pattern The top part of the surface was a surface shape in which the end corner part protruded and the central part was recessed.

上記メッキ処理後、黒化処理を実施した。
黒化処理は、以下の浴組成の電解浴を用いて陰極電解し粗面化処理を施すことにより行った。
(1層目)
硫酸銅五水和物 70g/L
硫酸 100g/L
液温 40℃
電流密度 40A/dm2
電解時間 5秒
陽極 白金
(2層目)
硫酸銅五水和物 250g/L
硫酸 100g/L
液温 45℃
電流密度 20A/dm2
電解時間 30秒
陽極 白金
上記条件により、メッシュパターンの両側端縁の端角部が突出し、中央部が凹陥し、且つ頂部表面には、図2及び図3の如く、分岐し且つ蛇行する溪谷状の凹溝が多数形成された表面形状の銅メッキ層の表面に銅からなる針状結晶からなる黒化層が形成された。
次いで、黒化層が形成された電磁波遮蔽シートを1000mm×600mmの寸法の長方形に裁断した。その際、長辺とメッシュ(導電性パターン層)線条部走行方向とのなす角度(バイアス角)は45度に設定した。
After the plating treatment, a blackening treatment was performed.
The blackening treatment was performed by cathodic electrolysis using an electrolytic bath having the following bath composition and roughening treatment.
(First layer)
Copper sulfate pentahydrate 70g / L
Sulfuric acid 100g / L
Liquid temperature 40 ℃
Current density 40A / dm 2
Electrolysis time 5 seconds Anode Platinum (2nd layer)
Copper sulfate pentahydrate 250g / L
Sulfuric acid 100g / L
Liquid temperature 45 ℃
Current density 20A / dm 2
Electrolysis time 30 seconds Anode Platinum Under the above conditions, the corners of both side edges of the mesh pattern protrude, the central part is recessed, and the top surface is branched and meandering as shown in FIGS. A blackening layer made of needle-like crystals made of copper was formed on the surface of the surface-shaped copper plating layer on which many concave grooves were formed.
Next, the electromagnetic wave shielding sheet on which the blackened layer was formed was cut into a rectangle having a size of 1000 mm × 600 mm. At that time, the angle (bias angle) formed between the long side and the mesh (conductive pattern layer) linear portion running direction was set to 45 degrees.

(反射防止層の準備)
表面に易接着処理が施された幅1000mmで厚さ100μmの帯状ロール巻の2軸延伸透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績社製、A4300)からなる透明基材を給紙部にセットした巻取から繰り出し、該PETフィルムの易接着処理面上に、高屈折率層と低屈折率層を順次形成した反射防止フィルタを形成した。ここで、高屈折率層は、ジルコニア超微粒子を紫外線硬化性樹脂中に分散させた組成物(JSR(株)製、商品名「KZ7973」)を該PETフィルム上に塗工し、乾燥硬化せしめて、厚さ3μm、屈折率1.69の硬化物層とし、低屈折率層は、該高屈折率層上に、フッ素樹脂系の紫外線硬化性樹脂(JSR(株)製、商品名「TM086」)を塗工し、乾燥硬化せしめて、厚さ100nm、屈折率1.41の硬化物としてなる、反射防止層を準備した。
(Preparation of antireflection layer)
A transparent base material made of a biaxially stretched transparent polyethylene terephthalate (PET) film (A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a width of 1000 mm and a thickness of 100 μm whose surface was subjected to easy adhesion treatment was set in a paper feeding unit. The antireflective filter in which a high-refractive index layer and a low-refractive index layer were sequentially formed was formed on the easy adhesion treatment surface of the PET film. Here, the high refractive index layer is formed by applying a composition (trade name “KZ7973”, manufactured by JSR Corporation) in which ultrafine zirconia particles are dispersed in an ultraviolet curable resin onto the PET film, followed by drying and curing. The cured product layer has a thickness of 3 μm and a refractive index of 1.69. The low refractive index layer is formed on the high refractive index layer with a fluororesin-based ultraviolet curable resin (trade name “TM086, manufactured by JSR Corporation”). )) Was applied and dried and cured to prepare an antireflection layer that would be a cured product having a thickness of 100 nm and a refractive index of 1.41.

(コントラスト向上層の製造)
先ず、片面に易接着処理がされた幅1000mm、厚さ188μmでロール巻した連続帯状の透明2軸延伸ポリエチレンテレフタレー卜(PET)フィルムから成る支持体としての透明基材の一方の表面に、
エポキシアクリレートプレポリマー:40質量部
ウレタンアクリレートプレポリマー:10質量部
フェノキシエチルアクリレートからなる単官能アクリレートモノマー:45質量部
エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレートからなる3官能アクリレートモノマー:10質量部
シリコン樹脂系離型剤:1質量部
光重合開始剤 1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の商品名イルガキュア184):3質量部
の混合液とから成る液状紫外線硬化性樹脂組成物を、硬化後の膜厚が90μmとなるように塗布した。次に、ロール金型表面の面方向に沿って円周方向に直線状に連なり、その延長方向と直交する主切断面形状が、高さ85μm、版表面側底辺の長さが10μm、版から遠い側の底辺の長さが4μmの台形となる溝状凸部を、45μm周期で複数条互いに平行に配列した凸条群(暗色線条部と同形状且つ逆凹凸)を形成されたロール金型とPETフィルムとの間に、塗布した紫外線硬化性樹脂組成物を挟んだ状態で高圧水銀灯からの紫外線を照射することにより、該紫外線硬化性樹脂組成物を架橋硬化せしめて透明樹脂層とし、しかる後ロール金型を離型することにより、該透明樹脂層表面に、該透明樹脂層表面の面方向に沿って一方向に直線状に連なり、その主切断面が、高さ85μm、透明樹脂層表面側の長い方の底辺に対応する部分の長さが10μm、PETフィルム側の短い方の底辺とに対応する部分の長さが4μmの台形となる凹条溝群を表面に有する透明樹脂層(透光性領域)を該透明基材の一方の面上に形成した。
次に、樹脂バインダーを構成するウレタンアクリレート系プレポリマー100質量部中に、暗色着色剤として平均粒径(メジアン径)が3.8μmのカーボンブラックを含有する黒色球状粒子20質量部、光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロへキシル−フェニル−ケトン(商品名:イルガキュア184、チバスペシャリティケミカルズ社製)2質量部を混合してなる、黒色で液状の紫外線硬化性樹脂組成物を調製した。この黒色液状組成物を透明樹脂層の凹条溝に塗工し、次いで該塗膜を鉄製ドクターブレードでスキージし該凹条溝外の該黒色液状組成物のみを掻き取り除去し、該凹条溝内のみに該黒色液状組成物を充填して、しかる後これを水銀灯からの紫外線を照射して架橋硬化せしめて暗色線条部を形成することで、コントラスト向上層(ミクロルーバ層)を完成した。
なお、硬化收縮及びドクターブレード掻き取り時の圧によって、硬化後の暗色線条部6aの長い方の底辺表面は、その表面が、短い方の底辺側に向かって凹んだ凹陥部を有していた。該凹陥部の最低部はコントラスト向上層の透明樹脂層表面から3μm凹んでいた。
(Manufacture of contrast enhancement layer)
First, on one surface of a transparent substrate as a support comprising a continuous strip-shaped transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film roll-rolled with a width of 1000 mm and a thickness of 188 μm that has been subjected to easy adhesion treatment on one side,
Epoxy acrylate prepolymer: 40 parts by weight Urethane acrylate prepolymer: 10 parts by weight Monofunctional acrylate monomer composed of phenoxyethyl acrylate: 45 parts by weight Trifunctional acrylate monomer composed of ethylene oxide-modified isocyanuric acid triacrylate: 10 parts by weight Silicon resin release Agent: 1 part by mass Photopolymerization initiator 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.): Liquid UV curable resin composition comprising 3 parts by mass of a mixed solution The product was applied so that the film thickness after curing was 90 μm. Next, the main cut surface shape that is linearly connected in the circumferential direction along the surface direction of the roll mold surface and orthogonal to the extending direction has a height of 85 μm, the length of the base on the plate surface side is 10 μm, and from the plate Roll gold formed with a convex strip group (same shape as the dark colored strip portion and reverse concave / convex) in which a plurality of strip-shaped convex portions having a trapezoidal shape with a base of 4 μm on the far side are arranged in parallel with each other at a period of 45 μm By irradiating ultraviolet rays from a high pressure mercury lamp with the coated ultraviolet curable resin composition sandwiched between the mold and the PET film, the ultraviolet curable resin composition is crosslinked and cured to form a transparent resin layer, Thereafter, by releasing the roll mold, the surface of the transparent resin layer is linearly connected in one direction along the surface direction of the surface of the transparent resin layer, and the main cut surface has a height of 85 μm and a transparent resin. The length of the part corresponding to the longer base on the layer surface side is One surface of the transparent substrate having a transparent resin layer (translucent region) having a concave groove group having a trapezoidal shape with a length corresponding to the bottom of 10 μm and the shorter side on the PET film side of 4 μm Formed on top.
Next, 20 parts by mass of black spherical particles containing carbon black having an average particle diameter (median diameter) of 3.8 μm as a dark colorant in 100 parts by mass of the urethane acrylate prepolymer constituting the resin binder, photopolymerization start A black and liquid ultraviolet curable resin composition prepared by mixing 2 parts by mass of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as an agent was prepared. The black liquid composition is applied to the groove of the transparent resin layer, and then the coating film is squeezed with an iron doctor blade to scrape and remove only the black liquid composition outside the groove. The black liquid composition was filled only in the groove, and then this was irradiated with ultraviolet light from a mercury lamp to be crosslinked and cured to form a dark stripe, thereby completing a contrast enhancement layer (microlouver layer). .
It should be noted that the longer bottom surface of the dark colored strip portion 6a after curing has a recessed portion whose surface is recessed toward the shorter bottom side due to the pressure during curing shrinkage and doctor blade scraping. It was. The lowest part of the recessed part was recessed by 3 μm from the surface of the transparent resin layer of the contrast improving layer.

(粘着剤層の準備)
アクリル系粘着剤(東洋インキ(株)、感圧性粘着剤「オリバイン」(商品名:BPS6271)、固形分27%)及び硬化剤BXX5627(東洋インキ製造(株))に、紫外線吸収剤CyasorbUV24(サイテック社)を4質量%配合した粘着剤層用組成物を作製した。
この粘着剤層用組成物を厚さ38μmの離型フィルム上に厚さ25μmになるように塗布し、100℃で2分間乾燥した後、更に別の38μm離型フィルムで塗工面をラミネートし、粘着剤層を2枚の離型フィルム間に設けた粘着剤層形成フィルム(1)を作製した。その後、枚葉化した電磁波遮蔽シートの寸法よりも縦横とも30mm小さい長方形に裁断した。
(Preparation of adhesive layer)
Acrylic adhesives (Toyo Ink Co., Ltd., pressure-sensitive adhesive “Olivein” (trade name: BPS6271), solid content 27%) and curing agent BXX5627 (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), UV absorber CyasorbUV24 (Cytech) The composition for adhesive layers which mix | blended 4 mass% was prepared.
This pressure-sensitive adhesive layer composition was applied on a release film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 25 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then the coated surface was laminated with another 38 μm release film, A pressure-sensitive adhesive layer-forming film (1) in which a pressure-sensitive adhesive layer was provided between two release films was produced. Then, it cut | judged to the rectangle smaller 30 mm in length and width than the dimension of the sheet-like electromagnetic shielding sheet.

アクリル系粘着剤(東洋インキ(株)、感圧性粘着剤「オリバイン」(商品名:BPS6271)、固形分27%)及び硬化剤BXX5627(東洋インキ製造(株))に、1−Hベンゾトリアゾールからなる酸化防止剤を2質量%配合した粘着剤層用組成物を作製した。
この粘着剤層用組成物を厚さ38μmの離型フィルム上に厚さ25μmになるように塗布し、100℃で2分間乾燥した後、更に別の38μm離型フィルムで塗工面をラミネートし、粘着剤層を2枚の離型フィルム間に設けた粘着剤層形成フィルム(2)を作製した。その後、枚葉化した電磁波遮蔽シートの寸法よりも縦横とも30mm小さい長方形に裁断した。
From 1-H benzotriazole to acrylic adhesive (Toyo Ink Co., Ltd., pressure-sensitive adhesive “Olivein” (trade name: BPS6271), solid content 27%) and curing agent BXX5627 (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) The composition for adhesive layers which mix | blended 2 mass% of antioxidant which becomes this was produced.
This pressure-sensitive adhesive layer composition was applied on a release film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 25 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then the coated surface was laminated with another 38 μm release film, A pressure-sensitive adhesive layer-forming film (2) in which a pressure-sensitive adhesive layer was provided between two release films was produced. Then, it cut | judged to the rectangle smaller 30 mm in length and width than the dimension of the sheet-like electromagnetic shielding sheet.

アクリル系粘着剤(東洋インキ(株)、感圧性粘着剤「オリバイン」(商品名:BPS6271)、固形分27%)及び硬化剤BXX5627(東洋インキ製造(株))に、近赤外線吸収化合物として、フタロシアニン系化合物「IR12」(商品名、日本触媒(株))を0.05質量%、フタロシアニン系化合物「IR14」(商品名、日本触媒(株))を0.02質量%及びジインモニウム系化合物「IRG−068」(商品名、日本化薬(株))を0.03質量%それぞれ配合した。更に、テトラアザポルフィリン系化合物からなるネオン光吸収剤「TAP2」(商品名、山田化学(株))を0.01質量%配合した。更に、調色色素(KAYASET(日本化薬(株)製)を0.05質量%配合し、十分に混合して粘着剤層用組成物(3)を作製した。
この粘着剤層用組成物を厚さ38μmの離型フィルム上に厚さ25μmになるように塗布し、100℃で2分間乾燥した後、更に別の38μm離型フィルムで塗工面をラミネートし、粘着剤層を2枚の離型フィルム間に設けた粘着剤層形成フィルムを作製した。その後、枚葉化した電磁波遮蔽シートの寸法と同じ大きさの長方形に裁断した。
Acrylic adhesive (Toyo Ink Co., Ltd., pressure-sensitive adhesive "Olivein" (trade name: BPS6271), solid content 27%) and curing agent BXX5627 (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) as a near infrared absorbing compound, 0.05% by mass of phthalocyanine compound “IR12” (trade name, Nippon Shokubai Co., Ltd.), 0.02% by mass of phthalocyanine compound “IR14” (trade name, Nippon Shokubai Co., Ltd.) and diimmonium compound “ "IRG-068" (trade name, Nippon Kayaku Co., Ltd.) was blended in an amount of 0.03% by mass. Furthermore, 0.01% by mass of neon light absorber “TAP2” (trade name, Yamada Chemical Co., Ltd.) made of a tetraazaporphyrin-based compound was blended. Further, 0.05% by mass of a toning dye (KAYASET (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) was mixed and mixed thoroughly to prepare a composition (3) for the pressure-sensitive adhesive layer.
This pressure-sensitive adhesive layer composition was applied on a release film having a thickness of 38 μm so as to have a thickness of 25 μm, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and then the coated surface was laminated with another 38 μm release film, An adhesive layer forming film in which an adhesive layer was provided between two release films was produced. Then, it cut | judged to the rectangle of the same magnitude | size as the dimension of the electromagnetic wave shielding sheet which turned into a sheet.

(プラズマディスプレイ用前面フィルタの作製)
反射防止フィルタの透明基材側とコントラスト向上層の暗色部形成側の反対面とを離型フィルムを順次剥がした上記粘着剤層形成フィルム(1)を介して貼り合わせて機能層とした。
その機能層のコントラスト向上層の暗色部形成側の面と電磁波遮蔽シートの導電性パターン層形成側の面とを離型フィルムを順次剥がした上記粘着剤層形成フィルム(2)を介して貼り合わせ、光学シートを得た。なお、コントラスト向上層の暗色部線条と電磁波遮蔽層のメッシュパターンのバイアス角は42°となるように貼り合わせた。
また、その際、電磁波遮蔽層の周縁部が幅15mmだけ機能層で被覆されずに接地用領域として露出するような位置関係で貼着した。
そのようにして得た光学シートの電磁波遮蔽シートの透明基材側に、離型フィルムを順次剥がした上記粘着剤層形成フィルム(3)を貼着して、PDP本体に貼着するリワーク性のある粘着層を形成して、プラズマディスプレイ用前面フィルタを完成した。
(Preparation of front filter for plasma display)
A functional layer was prepared by laminating the transparent substrate side of the antireflection filter and the opposite surface of the contrast improving layer on the dark color portion forming side through the pressure-sensitive adhesive layer forming film (1) from which the release film was sequentially peeled off.
The surface on the dark color part forming side of the contrast enhancement layer of the functional layer and the surface on the conductive pattern layer forming side of the electromagnetic wave shielding sheet are bonded together via the adhesive layer forming film (2) in which the release film is sequentially peeled off. An optical sheet was obtained. In addition, it bonded together so that the bias angle of the dark color part filament of a contrast improvement layer and the mesh pattern of an electromagnetic wave shielding layer might be set to 42 degrees.
At that time, the electromagnetic wave shielding layer was attached in such a positional relationship that the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding layer was exposed as a grounding region without being covered with the functional layer by a width of 15 mm.
The above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer-forming film (3) from which the release film has been sequentially peeled is attached to the transparent substrate side of the electromagnetic wave shielding sheet of the optical sheet thus obtained, and the reworking property is applied to the PDP body. An adhesive layer was formed to complete a front filter for plasma display.

該プラズマディスプレイ用前面フィルタの電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターン層側は、その全周が、スポンジ状のポリウレタン樹脂の芯材とこれを覆う金属メッシュからなる主切断面が4角形の導電性ガスケット(太陽金網社製、ソフト・シールド3500、パートNo.3224(幅7mm×厚み1mm))と接触しており、これを介してアルミニウム製の金属フレーム接地部に接続されている。   The conductive pattern layer side of the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding layer of the front filter for plasma display has a rectangular main cut surface made of a sponge-like polyurethane resin core material and a metal mesh covering the entire periphery. It is in contact with a conductive gasket (manufactured by Taiyo Wire Mesh Co., Ltd., Soft Shield 3500, Part No. 3224 (width 7 mm × thickness 1 mm)), and is connected to a metal frame grounding portion made of aluminum through this.

実施例1の電磁波遮蔽シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程において黒化層とガイドロール等の稼動部位との接触面積が少なく、黒化層の摩耗、剥脱がほとんどなかった。
また、実施例1及び後述の比較例1のPDP用前面フィルタを同等の外光存在条件下の室内で、同一のPDPに同一条件の白及び黒の両画像を並列表示して、目視で、白黒両画像の輝度比(コントラスト)を相対比較したところ、
実施例1のコントラスト>比較例1のコントラスト
であった。
そして、図1(B)に模式的に示すように、導電性パターンの黒化層の表面の特定の微細構造による投錨効果によって、電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターンが導電性ガスケットに食い込み、十分な接触状態になることによって、接地抵抗が低減され、良好な電磁波遮蔽機能が発揮された。
The electromagnetic wave shielding sheet of Example 1 had a small contact area between the blackened layer and the operation site such as the guide roll in the functional film laminating process as a subsequent process, and the blackened layer was hardly worn or peeled off.
In addition, the PDP front filter of Example 1 and Comparative Example 1 to be described later is displayed in parallel in a room under the same external light presence condition, and both white and black images of the same condition are displayed in parallel on the same PDP. When comparing the luminance ratio (contrast) of both black and white images,
Contrast of Example 1> Contrast of Comparative Example 1.
Then, as schematically shown in FIG. 1B, the conductive pattern on the periphery of the electromagnetic wave shielding layer bites into the conductive gasket due to the anchoring effect due to the specific fine structure on the surface of the blackened layer of the conductive pattern. By being in a sufficient contact state, the ground resistance was reduced and a good electromagnetic wave shielding function was exhibited.

[比較例1]
凹版の製造時に、中空の鉄の円筒表面に銅メッキ層を被覆してなる円筒版材の表面にネガ型感光性レジスト膜を塗工し、実施例1と同じ線幅及び繰返周期の正方格子パターンをArイオンレーザで露光し、該円筒版材表面の未露光部を洗浄除去して銅層を露出させ、該正方格子のパターン部のみレジスト膜を残留せしめた状態で、塩化第2鉄水溶液にてレジスト非形成部の銅層を腐蝕して、該円筒版材表面に、深さ20μm、線幅20μm、縦横線の繰返し周期300μmの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成し、印刷用の凹版を得た。
し周期300μmの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成し、印刷用の凹版を得た。
その他は実施例1と同様にして電磁波遮蔽シートを製造した。
該製版方式の場合、腐蝕(エッチング)により版凹部の線条パターンの主切断面形状は、底部(導電性パターン層頂部に対応)において凹部の底部が楕円形状となり、その版で凹版印刷したメッシュ状導電性パターン層の横断面形状は表面凹凸の少ない綺麗な半楕円形状となり、頂部は端部よりも中央部の方が突出し、上に凸の滑らかな曲面形状となった。それにメッキ処理を施しても下地形状がそのまま影響し綺麗な丸みを持ったメッキ層形状となってしまった。また、得られた導電性パターン層の頂部表面には、端角部も凹溝も形成されていなかった。
上記メッキ処理後、黒化処理を施した。黒化処理は、浴温90℃の亜塩素酸ソーダ水溶液50g/Lとカセイソーダ水溶液20g/Lとの混合液に、該メッシュパターン及び銅メッキ層が施された透明基材を、2分間浸漬させて化成処理を行う。これにより、銅メッキ層表面が銅酸化物になり、黒化処理される。
その他は実施例1と同様にして比較例1のプラズマディスプレイ用前面フィルタを製造した。
[Comparative Example 1]
At the time of manufacturing the intaglio, a negative photosensitive resist film was applied to the surface of a cylindrical plate material obtained by coating a hollow iron cylindrical surface with a copper plating layer, and the square of the same line width and repetition cycle as in Example 1 was used. The lattice pattern is exposed with an Ar ion laser, and the copper layer is exposed by washing away the unexposed portion on the surface of the cylindrical plate material, and the resist film is left only in the pattern portion of the square lattice. The copper layer of the resist non-formation portion is corroded with an aqueous solution to form a square lattice mesh pattern-shaped recess having a depth of 20 μm, a line width of 20 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 300 μm on the surface of the cylindrical plate. Intaglio was obtained.
A square lattice mesh pattern-shaped recess having a period of 300 μm was formed to obtain an intaglio for printing.
Otherwise, an electromagnetic wave shielding sheet was produced in the same manner as in Example 1.
In the case of the plate-making method, the main cut surface shape of the linear pattern of the concave portion of the plate due to corrosion (etching) is an elliptical shape at the bottom (corresponding to the top of the conductive pattern layer) and the intaglio printing is performed on the plate The cross-sectional shape of the conductive pattern layer was a beautiful semi-elliptical shape with few surface irregularities, and the top portion protruded from the center portion rather than the end portion, and became a smooth curved surface shape convex upward. Even if the plating process was applied to it, the shape of the substrate was affected as it was, resulting in a plating layer shape with a beautiful roundness. Moreover, neither an end corner part nor a ditch | groove was formed in the top surface of the obtained electroconductive pattern layer.
After the plating process, a blackening process was performed. The blackening treatment is performed by immersing the transparent substrate with the mesh pattern and the copper plating layer in a mixed solution of 50 g / L sodium chlorite aqueous solution and 20 g / L sodium hydroxide aqueous solution at a bath temperature of 90 ° C. for 2 minutes. The chemical conversion treatment is performed. Thereby, the copper plating layer surface becomes a copper oxide and is blackened.
Otherwise, the front filter for plasma display of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1.

比較例1の電磁波遮蔽シートは、後工程である機能性フィルムラミネート工程において黒化層とガイドロール等の稼動部位との接触面積が多く、黒化層の摩耗、剥脱があった。
比較例1のPDP用前面フィルタの電磁波遮蔽層と粘着剤層との密着は、実施例1のPDP用前面フィルタに比べて不良であった。
また、実施例1及び比較例1のPDP用前面フィルタを同等の外光存在条件下の室内で、同一のPDPに同一条件の白及び黒の両画像を並列表示して、目視で、白黒両画像の輝度比(コントラスト)を相対比較したところ、
実施例1のコントラスト>比較例1のコントラスト
であった。
そして、導電性パターンの黒化層の表面は、表面凹凸の少ない綺麗な半楕円形状であり、且つ端角部の突出部もなく、実施例1のような特定の微細構造による投錨効果がないため、電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターンが導電性ガスケットに食い込むことはなく、両者の接触状態は不十分なので、接地抵抗が低減されず、電磁波遮蔽機能は十分ではなかった。
The electromagnetic wave shielding sheet of Comparative Example 1 had a large contact area between the blackened layer and an operating site such as a guide roll in the functional film laminating process as a post process, and the blackened layer was worn and peeled off.
The adhesion between the electromagnetic wave shielding layer and the pressure-sensitive adhesive layer of the PDP front filter of Comparative Example 1 was poorer than that of the PDP front filter of Example 1.
In addition, the PDP front filter of Example 1 and Comparative Example 1 is displayed indoors in the same external light presence condition, and both white and black images of the same condition are displayed in parallel on the same PDP. When comparing the brightness ratio (contrast) of the image,
Contrast of Example 1> Contrast of Comparative Example 1.
The surface of the blackened layer of the conductive pattern is a beautiful semi-elliptical shape with little surface irregularity, and there is no protrusion at the end corner, and there is no anchoring effect due to the specific fine structure as in Example 1. Therefore, the conductive pattern at the periphery of the electromagnetic wave shielding layer does not bite into the conductive gasket and the contact state between the two is insufficient, so that the ground resistance is not reduced and the electromagnetic wave shielding function is not sufficient.

1 導電性粒子
2 樹脂バインダー
3 金属層
4 黒化層
10 導電性パターン層
20 透明基材
100 電磁波遮蔽層
200 接着剤層
300 各種機能層
400 導電性ガスケット
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive particle 2 Resin binder 3 Metal layer 4 Blackening layer 10 Conductive pattern layer 20 Transparent base material 100 Electromagnetic wave shielding layer 200 Adhesive layer 300 Various functional layers 400 Conductive gasket

Claims (1)

透明基材上に所定のパターンで形成された導電性粒子と樹脂バインダーを含む導電性パターン層を有する電磁波遮蔽層の周縁部を除く部分の導電性パターン層側に接着剤層を介して各種機能層が積層され、該電磁波遮蔽層の周縁部の導電性パターン層側はその少なくとも一部が導電性ガスケットを介して金属フレーム接地部に接続されているフィルタであって、該電磁波遮蔽層の導電性パターン層は、その表面に、端角部が突出し、中央部が凹陥した金属層が形成され、かつ、該金属層の表面には針状金属の黒化層が形成されているものであることを特徴とするプラズマディスプレイ用前面フィルタ。   Various functions through an adhesive layer on the conductive pattern layer side of the electromagnetic wave shielding layer excluding the peripheral portion of the electromagnetic wave shielding layer having a conductive pattern layer containing conductive particles and a resin binder formed in a predetermined pattern on a transparent substrate Layers, and the conductive pattern layer side of the periphery of the electromagnetic wave shielding layer is a filter in which at least a part thereof is connected to the metal frame grounding part through an electrically conductive gasket. The metal pattern layer is formed with a metal layer with end corners projecting and recessed central parts on the surface, and a needle-like metal blackening layer formed on the surface of the metal layer. A front filter for a plasma display.
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