JP2012204731A - Electromagnetic wave shield sheet - Google Patents

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JP2012204731A
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Hiroyuki Tomita
田 宏 幸 冨
kumiko Kambara
原 久美子 神
Yoichiro Ohashi
橋 洋一郎 大
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shield sheet capable of reducing a force required when a protective sheet is exfoliated, preventing exfoliation of a mesh pattern when the protective film is exfoliated, and preventing exfoliation of the protective film during transportation or storage.SOLUTION: An electromagnetic wave shield sheet comprises an electromagnetic wave shield member, and a protective film provided on a surface of the electromagnetic wave shield member so as to be exfoliated. The electromagnetic wave shield member comprises a transparent substrate, and a conductive pattern layer formed by a filament pattern provided on the transparent substrate. The protective film comprises a substrate, and an adhesive layer provided on the substrate. The filament of the conductive pattern layer projects on both side ends of a peak part, and is indented at a center of the peak part. Projection portions on both side ends of the filament peak part are embedded in the adhesive layer of the protective film. The conductive pattern layer is in tight contact with the adhesive layer, so as to form a gap between a bottom of an indentation at the center of the peak part and the adhesive layer.

Description

本発明は、保護フィルムを備えた電磁波シールドシートに関し、より詳細には、プラズマディスプレイパネル等の前面に貼着される電磁波シールド部材において、電磁波シールド部材の導電性層表面に剥離可能に保護フィルムが設けられている電磁波シールドシート関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet provided with a protective film, and more specifically, in an electromagnetic wave shielding member attached to the front surface of a plasma display panel or the like, the protective film is peelable on the surface of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding member. It relates to the electromagnetic shielding sheet provided.

近年、画像表示装置の大型化、薄型化に伴い、プラズマディスプレイ(以下、PDPと略す場合がある。)が注目を集めている。PDPは、発光にプラズマ放電を利用するため、30MHz〜1GHz帯域の不要な電磁波が外部に漏洩して他の機器(例えば、遠隔制御機器、情報処理装置等)に影響を与えるおそれがある。そのため、プラズマディスプレイパネルの前面側(観察者側)には、画像光の透過性は維持しながら、漏洩する電磁波のみを遮蔽(シールド)することができるフィルム状の電磁波シールド部材を設けるのが一般的である。   In recent years, with the increase in size and thickness of image display devices, plasma displays (hereinafter sometimes abbreviated as PDP) have attracted attention. Since PDP uses plasma discharge for light emission, unnecessary electromagnetic waves in the 30 MHz to 1 GHz band may leak to the outside and affect other devices (for example, remote control devices, information processing devices, etc.). Therefore, it is common to provide a film-like electromagnetic shielding member on the front side (observer side) of the plasma display panel that can shield (shield) only electromagnetic waves that leak while maintaining the transparency of image light. Is.

上記の電磁波シールド部材は、銅箔をフォトリソグラフィー法でエッチングしてメッシュ形状としたもの他、透明基材上に無電解メッキ触媒ペーストをメッシュパターンでスクリーン印刷し、その上に金属層を無電解メッキしたものや(特許文献1)、導電性インキ組成物をメッシュパターンで透明基材に直接凹版印刷し、その透明基材上のメッシュパターンに金属層を電気メッキしたもの(特許文献2)などが知られている。   The above electromagnetic shielding member is made by etching copper foil into a mesh shape by photolithography method, screen printing electroless plating catalyst paste on a transparent substrate with mesh pattern, and electroless metal layer on it Plating or (Patent Document 1), intaglio printing of a conductive ink composition directly on a transparent substrate with a mesh pattern, and electroplating a metal layer on the mesh pattern on the transparent substrate (Patent Document 2), etc. It has been known.

上記したような構造の電磁波シールド部材はその表面が微細で傷つき易いため、製造されてから使用(すなわち画像表示装置等の製造時)までの間、電磁波シールド部材表面を保護するために通常は保護フィルム等で被覆された状態で搬送あるいは保管され、電磁波シールド部材を画像表示装置等に組み込む際に保護フィルムが剥離される。保護フィルムの剥離は、通常、人手で行われたりあるいは画像表示装置の連続する組み立てライン中で機械的に行われたりしている。   Since the electromagnetic shielding member having the structure as described above has a fine surface and is easily damaged, it is usually protected to protect the electromagnetic shielding member surface from the time it is manufactured until it is used (that is, when manufacturing an image display device or the like). The protective film is peeled off when the electromagnetic wave shielding member is incorporated into an image display device or the like while being transported or stored in a state of being covered with a film or the like. The protective film is usually peeled manually or mechanically in a continuous assembly line of the image display device.

近年、画像表示装置の大面積化が進み、それに伴って電磁波シールド部材も大型化(大面積化)している。電磁波シールド部材が大型化すると、保護シートを剥離する際に要する力も増大するため、人手で剥離を行う場合の作業負担になっていた。電磁波シールド部材と保護シートとの粘着力を弱くすれば、保護シートの剥離を容易に行うことができるものの、上記したように電磁波シールド部材の表面はメッシュパターン状の凹凸があるため、粘着力を弱めると電磁波シールド部材の搬送中や保管中に保護フィルムが剥がれてしまう可能性がある。   In recent years, the area of image display devices has been increased, and accordingly, the electromagnetic shielding member has also been increased in size (increased in area). When the electromagnetic wave shielding member is enlarged, the force required for peeling off the protective sheet also increases, which has been a work burden when peeling manually. If the adhesion between the electromagnetic shielding member and the protective sheet is weakened, the protective sheet can be easily peeled off. However, as described above, the surface of the electromagnetic shielding member has mesh pattern irregularities. If weakened, the protective film may be peeled off while the electromagnetic wave shielding member is being transported or stored.

また、電磁波シールド部材表面への密着性が高い保護フィルムを使用した場合、上記のような問題は生じないものの、保護フィルムを剥離する際に凸状のメッシュパターンの一部が保護フィルムとともに剥離してしまう場合があった。特に、メッシュパターン表面に微細な凹凸ないし微粒子状の黒化層を有する形態の場合に、上記のような問題が生じ易かった。   In addition, when a protective film with high adhesion to the surface of the electromagnetic wave shielding member is used, the above problem does not occur, but part of the convex mesh pattern peels off together with the protective film when the protective film is peeled off. There was a case. In particular, in the case of a form having a fine unevenness or fine particle-like blackened layer on the surface of the mesh pattern, the above-described problems are likely to occur.

特開2001−102792号公報JP 2001-102792 A 特開平11−174174号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-174174

本発明者らは、電磁波シールド部材のメッシュパターン表面の金属層を特定の形状とし、このようなメッシュパターンを有する電磁波シールド部材を保護フィルムで覆った電磁波シールドシートとすることにより、保護シートを剥離する際に要する力も低減できるとともに、保護フィルムを剥離した際もメッシパターンを剥離させることなく、かつ、搬送中や保管中の保護フィルムの剥離も生じないことがわかった。本発明はかかる知見によるものである。   The present inventors peeled off the protective sheet by forming the metal layer on the surface of the mesh pattern of the electromagnetic wave shielding member into a specific shape and making the electromagnetic wave shielding member having such a mesh pattern covered with a protective film. It has been found that the force required for carrying out the process can be reduced, and also when the protective film is peeled off, the mesh pattern is not peeled off and the protective film is not peeled off during transportation or storage. The present invention is based on this finding.

したがって、本発明の目的は、保護シートを剥離する際に要する力も低減できるとともに、保護フィルムを剥離した際もメッシパターンを剥離させることなく、かつ、搬送中や保管中の保護フィルムの剥離も生じない電磁波シールドシートを提供することである。   Therefore, the object of the present invention is to reduce the force required to peel off the protective sheet, and also to peel off the protective film during transportation and storage without peeling off the mesh pattern even when the protective film is peeled off. There is no electromagnetic wave shielding sheet.

本発明による電磁波シールドシートは、電磁波シールド部材と、前記電磁波シールド部材の表面に剥離可能に設けられた保護フィルムと、を備えた電磁波シールドシートであって、
前記電磁波シールド部材は、透明基材と、前記透明基材上に設けられた線條のパターンで形成された導電性パターン層とを備え、
前記保護フィルムは、基材と前記基材上に設けられた粘着層とを備え、
前記導電性パターン層の線條は、その頂部両側端が突出し且つ頂部中央が凹陥しており、前記保護フィルムの粘着層に前記線條頂部の両側端の突出部分は埋没するが、前記頂部中央の凹陥の底と前記粘着層との間に隙間が形成されるように、前記導電性パターン層と前記粘着層とが密着していることを特徴とするものである。
An electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is an electromagnetic wave shielding sheet provided with an electromagnetic wave shielding member and a protective film provided on the surface of the electromagnetic wave shielding member so as to be peelable,
The electromagnetic wave shielding member includes a transparent base material, and a conductive pattern layer formed with a wire rod pattern provided on the transparent base material,
The protective film includes a base material and an adhesive layer provided on the base material,
The wire pattern of the conductive pattern layer protrudes at both ends at the top and is recessed at the center of the top, and the protrusions at both ends of the line cover at the both ends are buried in the adhesive layer of the protective film. The conductive pattern layer and the adhesive layer are in close contact so that a gap is formed between the bottom of the adhesive layer and the adhesive layer.

また、本発明の態様においては、前記導電性パターン層の表面に金属層が形成されていることが好ましい。   Moreover, in the aspect of this invention, it is preferable that the metal layer is formed in the surface of the said electroconductive pattern layer.

また、本発明の態様においては、前記金属層の表面が、針状金属からなる黒化層で被覆されていることが好ましい。   Moreover, in the aspect of this invention, it is preferable that the surface of the said metal layer is coat | covered with the blackening layer which consists of acicular metal.

また、本発明の態様においては、前記導電性パターン層が、導電性粒子と樹脂バインダーとを含む導電性組成物からなることが好ましい。   Moreover, in the aspect of this invention, it is preferable that the said electroconductive pattern layer consists of an electroconductive composition containing electroconductive particle and a resin binder.

また、本発明の態様においては、前記透明基材と前記導電性パターン層との間に、プライマー層が設けられてなることが好ましい。   Moreover, in the aspect of this invention, it is preferable that a primer layer is provided between the said transparent base material and the said electroconductive pattern layer.

また、本発明の態様においては、前記粘着層がアクリル系粘着剤からなることが好ましい。   Moreover, in the aspect of this invention, it is preferable that the said adhesion layer consists of an acrylic adhesive.

さらに、本発明の態様においては、前記線條の凹陥部分の金属層の表面に筋状の凹溝が形成されていることが好ましい。   Furthermore, in the aspect of the present invention, it is preferable that a streak-like concave groove is formed on the surface of the metal layer in the concave portion of the wire rod.

本発明による電磁波シールドシートは、保護フィルムの粘着層に、電磁波シールドシートの導電性パターン層の線條頂部の両側端の突出部分は埋没するが、頂部の凹陥の底と粘着層との間に隙間が形成されるようにして、電磁波シールド部材と保護フィルムとが密着しているため、電磁波シールド部材を使用する際にも力を要することなく保護シートを剥離することができ、また、保護フィルムを剥離した際も導電性パターン層を剥離させてしまうことがなく、かつ、搬送中や保管中にも保護フィルムが剥離してしまうことがない。   In the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention, in the adhesive layer of the protective film, the protruding portions at both ends of the line ridge top portion of the conductive pattern layer of the electromagnetic wave shielding sheet are buried, but there is a gap between the bottom of the concave portion of the top portion and the adhesive layer. Since the electromagnetic wave shielding member and the protective film are in close contact with each other, the protective sheet can be peeled off without requiring force even when the electromagnetic wave shielding member is used. Even when peeled off, the conductive pattern layer is not peeled off, and the protective film is not peeled off during transportation or storage.

本発明において使用される電磁波シールド部材の線條パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面(主切断面)の概略模式図である。It is a schematic diagram of the cross section (main cut surface) orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of the wire rod pattern of the electromagnetic wave shielding member used in this invention. 電磁波シールド部材と保護フィルムを密着させた状態での、線條パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面(主切断面)の概略模式図である。It is a schematic diagram of the cross section (main cut surface) orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of a wire rod pattern in the state which made the electromagnetic wave shielding member and the protective film contact | adhere. 実施例で作製した導電性シールド部材の線條パターンの走査型電子顕微鏡写真である。図3(a)は、線條パターンを上側から観察した写真であり、図3(b)は、(a)の線條を拡大した写真であり、図3(c)は、図3(b)を更に拡大した写真である。It is a scanning electron micrograph of the wire rod pattern of the electroconductive shield member produced in the Example. FIG. 3 (a) is a photograph of the wire wrinkle pattern observed from above, FIG. 3 (b) is an enlarged photograph of the wire wrinkle of (a), and FIG. 3 (c) is a photograph of FIG. 3 (b). It is a further enlarged photograph. 比較例1で得られた電磁波シールドシートの線條パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面(主切断面)の概略模式図である。It is a schematic schematic diagram of the cross section (main cut surface) orthogonal to the running direction (longitudinal direction) of the wire rod pattern of the electromagnetic wave shielding sheet obtained in Comparative Example 1.

本発明による電磁波シールドシートは、電磁波シールド部材と、前記電磁波シールド部材の表面に剥離可能に設けられた保護フィルムと、を備えたものである。本願明細書において、「電磁波」とは、広義の電磁波の内、30MHz〜1GHzの範囲の波数帯域を中心としたkHzからGHz帯域の周波数のものを意味するものとし、可視光線、紫外線、赤外線等の他の周波数帯域の電磁波は、各々、可視光線、紫外線、赤外線等と称呼するものとする。以下、本発明による電磁波シールドシートを構成する電磁波シールド部材と保護フィルムとを、図面を参照しながら説明する。なお、図1、図2及び図4の概略模式図は、発明の理解を容易にするために、適宜、縦横の縮尺や各部材の寸法比を、実物と変えて又は誇張して、図示したものである。   The electromagnetic wave shielding sheet by this invention is equipped with the electromagnetic wave shielding member and the protective film provided in the surface of the said electromagnetic wave shielding member so that peeling was possible. In the specification of the present application, “electromagnetic wave” means one having a frequency of kHz to GHz centering on a wave number band in a range of 30 MHz to 1 GHz in a broad sense, visible light, ultraviolet light, infrared light, etc. The electromagnetic waves in other frequency bands are referred to as visible light, ultraviolet light, infrared light, and the like. Hereinafter, an electromagnetic wave shielding member and a protective film constituting an electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in order to make an understanding of an invention easy, the schematic schematic diagram of FIG.1, FIG.2 and FIG.4 changed the vertical-horizontal scale and the dimensional ratio of each member suitably, or showed it exaggerating. Is.

<電磁波シールド部材>
図1は、本発明において使用される電磁波シールド部材1の線條パターンの走行方向(長手方向)と直交する断面(以下、主切断面とも称呼する。)の概略模式図である。電磁波シールド部材1は、透明基材11の一方の面に、線條のパターンで導電性パターン層14が形成されている。導電性パターン層14を後記するような導電性粒子と樹脂バインダーとを含む導電性組成物から形成する場合には、透明基材と導電性パターン層との密着性を向上させるために、透明基材と導電性パターン層との間にプライマー層13を設けてもよい。また、導電性パターン層14の導電性をより向上させるために、導電性パターン層の表面に金属層15を設けてもよい。さらに、本発明において使用される電磁波シールド部材1は、PDP等の表示装置の前面に貼着して使用されるものであるが、いわゆる外光反射を低減される目的で、金属層15の表面を黒化層16で被覆しておいてもよい。以下、電磁波シールド部材を構成する各部材について説明する。
<Electromagnetic wave shielding member>
FIG. 1 is a schematic diagram of a cross section (hereinafter also referred to as a main cut surface) perpendicular to the traveling direction (longitudinal direction) of the wire rod pattern of the electromagnetic wave shielding member 1 used in the present invention. In the electromagnetic wave shielding member 1, the conductive pattern layer 14 is formed on one surface of the transparent substrate 11 with a wire rod pattern. In the case where the conductive pattern layer 14 is formed from a conductive composition containing conductive particles and a resin binder as will be described later, in order to improve the adhesion between the transparent substrate and the conductive pattern layer, A primer layer 13 may be provided between the material and the conductive pattern layer. In order to further improve the conductivity of the conductive pattern layer 14, a metal layer 15 may be provided on the surface of the conductive pattern layer. Furthermore, the electromagnetic wave shielding member 1 used in the present invention is used by being attached to the front surface of a display device such as a PDP. For the purpose of reducing so-called external light reflection, the surface of the metal layer 15 is used. May be covered with the blackening layer 16. Hereinafter, each member which comprises an electromagnetic wave shield member is demonstrated.

<透明基材>
透明基材11は、可視領域での透明性(光透過性)、耐熱性、機械的強度等の要求物性を考慮して、公知の材料及び厚みを適宜選択すればよく、ガラス、セラミックス等の透明無機物の板、または樹脂板など板状体の剛直物でもよい。ただし、生産性に優れるロール・トゥ・ロールでの連続加工適性を考慮すると、フレキシブルな樹脂フィルム(またはシート)が好ましい。なお、ロール・トゥ・ロールとは、巻取(ロール)から巻き出して供給し、適宜加工を施し、その後、巻取に巻き取って保管する加工方式をいう。
<Transparent substrate>
The transparent substrate 11 may be appropriately selected from known materials and thicknesses in consideration of required physical properties such as transparency in the visible region (light transmittance), heat resistance, and mechanical strength, such as glass and ceramics. A plate-like rigid body such as a transparent inorganic plate or a resin plate may be used. However, a flexible resin film (or sheet) is preferable in consideration of suitability for continuous processing with a roll-to-roll having excellent productivity. The roll-to-roll refers to a processing method in which the material is unwound and supplied from a winding (roll), appropriately processed, and then wound and stored in the winding.

上記のような透明無機物としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、鉛硝子等の硝子、或いはPLZT等の透明セラミックス、石英等が挙げられる。また、樹脂フィルムや樹脂板の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、エチレングリコール−1,4シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体などのポリエステル系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリプロピレン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。これらのなかでも、ポリエチレンテレフタレートの2軸延伸フィルムは、耐熱性、機械的強度、光透過性、コスト等の観点から、好ましい透明基材である。   Examples of the transparent inorganic material include soda glass, potassium glass, borosilicate glass, lead glass, and other transparent ceramics such as PLZT, quartz, and the like. Moreover, as resin of a resin film or a resin board, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, ethylene glycol-1,4 cyclohexanedimethanol-terephthalic acid copolymer, ethylene glycol-terephthalic acid-isophthalic acid copolymer, etc. Examples thereof include polyester resins, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyolefin resins such as polypropylene and cycloolefin polymers, cellulose resins such as triacetyl cellulose, and polycarbonate resins. Among these, a biaxially stretched film of polyethylene terephthalate is a preferable transparent substrate from the viewpoint of heat resistance, mechanical strength, light transmittance, cost, and the like.

透明基材11の厚みは基本的には特に制限はなく用途等に応じ適宜選択し、フレキシブルな樹脂フィルムを利用する場合、例えば12〜500μm、好ましくは25〜200μm程度である。樹脂や透明無機物の板を利用する場合、例えば、500〜5000μm程度である。   The thickness of the transparent substrate 11 is basically not particularly limited and is appropriately selected depending on the application. When a flexible resin film is used, it is, for example, about 12 to 500 μm, preferably about 25 to 200 μm. In the case of using a resin or transparent inorganic plate, the thickness is, for example, about 500 to 5000 μm.

透明基材として樹脂フィルムや樹脂板を使用する場合、樹脂中には、必要に応じて適宜、紫外線吸収剤、着色剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を添加してもよい。また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。   When using a resin film or resin plate as a transparent substrate, known additives such as ultraviolet absorbers, colorants, fillers, plasticizers and antistatic agents are added to the resin as needed. May be. The transparent base material may be obtained by performing known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, primer treatment, and ground treatment on the surface.

<プライマー層>
導電性パターン層14を、後記するような導電性粒子と樹脂バインダーとを含む導電性組成物を透明基材の表面に印刷して線條のパターンで形成するような場合、版から被印刷物(透明基材)へのインキ(導電性組成物)転移性を向上させ、転移後の導電性組成物と被印刷物との密着性を向上させるため、透明基材11上にプライマー層13を設けておくことが好ましい。透明基材11及び導電性パターン層12の双方に密着性を改善するとともに、導電性パターン層14の開口部(導電性パターン層非形成部)の光透過性確保のために透明な層でもある。
<Primer layer>
When the conductive pattern layer 14 is formed by printing a conductive composition containing conductive particles and a resin binder, which will be described later, on the surface of a transparent substrate to form a pattern of wrinkles, the printed material (transparent) In order to improve the transferability of the ink (conductive composition) to the substrate) and to improve the adhesion between the transferred conductive composition and the printed material, a primer layer 13 is provided on the transparent substrate 11. It is preferable. In addition to improving adhesion to both the transparent substrate 11 and the conductive pattern layer 12, it is also a transparent layer for ensuring light transmittance of the opening (conductive pattern layer non-formed portion) of the conductive pattern layer 14. .

プライマー層13を構成する材料としては、特に限定されるものではないが、未硬化状態において液状(流動性)の電離放射線重合性化合物を含む電離放射線硬化性組成物を、透明基材上に塗工した後に、硬化(固体化)するような材料が好適に用いられる。電離放射線重合性化合物としては、電離放射線で架橋等の反応により重合硬化するモノマー及び/又はプレポリマーが用いられる。   The material constituting the primer layer 13 is not particularly limited, but an ionizing radiation curable composition containing a liquid (fluid) ionizing radiation polymerizable compound in an uncured state is coated on a transparent substrate. A material that hardens (solidifies) after being worked is preferably used. As the ionizing radiation polymerizable compound, monomers and / or prepolymers that are polymerized and cured by a reaction such as crosslinking with ionizing radiation are used.

上記のようなモノマーとしては、ラジカル重合性モノマーとして、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレート類、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート類等の各種(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、(メタ)アクリレートとの表記は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。カチオン重合性モノマーとして、例えば、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどの脂環式エポキシド類、ビスフェノールAジグリシジルエーテルなどグリシジルエーテル類、4−ヒドロキシブチルビニルエーテルなどビニルエーテル類、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンなどオキセタン類等が挙げられる。   Examples of such monomers include radically polymerizable monomers such as methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and dicyclohexane. Monofunctional (meth) acrylates such as pentenyl (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ( (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (me ) Acrylate include various (meth) acrylates such as multifunctional (meth) acrylates such as. In addition, the description with (meth) acrylate means an acrylate or a methacrylate. Examples of the cationic polymerizable monomer include alicyclic epoxides such as 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexene carboxylate, glycidyl ethers such as bisphenol A diglycidyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether And vinyl ethers, and oxetanes such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.

プレポリマー(オリゴマーともいう。)としては、ラジカル重合性プレポリマーとして、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート等の各種(メタ)アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオール系プレポリマー、不飽和ポリエステルプレポリマー等が挙げられる。その他、カチオン重合性プレポリマーとして、例えば、ノボラック系型エポキシ樹脂プレポリマー、芳香族ビニルエーテル系樹脂プレポリマー等が挙げられる。   Examples of the prepolymer (also referred to as oligomer) include radically polymerizable prepolymers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and triazine (meth) acrylate. Examples include prepolymers, polythiol-based prepolymers such as trimethylolpropane trithioglycolate, pentaerythritol tetrathioglycolate, and unsaturated polyester prepolymers. Other examples of the cationic polymerizable prepolymer include novolac type epoxy resin prepolymer and aromatic vinyl ether type resin prepolymer.

これらモノマーまたはプレポリマーは、要求される性能、塗布適性等に応じて、1種類単独で用いる他、モノマーを2種類以上混合したり、プレポリマーを2種類以上混合したり、またはモノマー1種類以上とプレポリマー1種類以上とを混合して用いてもよい。   These monomers or prepolymers may be used alone or in combination of two or more monomers, two or more prepolymers, or one or more monomers depending on the required performance, application suitability, etc. And one or more prepolymers may be mixed and used.

上記したモノマーまたはプレポリマーを硬化させる電離放射線としては、紫外線や電子線が代表的なものであるが、この他にも、可視光線、X線、γ線等の電磁波、またはα線等の各種イオン線等の荷電粒子線を用いることもできる。電離放射線として、紫外線または可視光線を採用する場合、一般的に、光重合開始剤が併用される。光重合開始剤としては、ラジカル重合性のモノマー又はプレポリマーの場合には、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン系、アセトフェノン系等の化合物が、又カチオン重合系のモノマー又はプレポリマーの場合には、メタロセン系、芳香族スルホニウム系、芳香族ヨードニウム系等の化合物が用いられる。これら光重合開始剤の添加量は、モノマー及び/又はプレポリマーからなる組成物100質量部に対して、0.1〜5質量部程度である。   Typical examples of the ionizing radiation for curing the monomer or the prepolymer include ultraviolet rays and electron beams. Besides these, various electromagnetic waves such as visible rays, X-rays, γ rays, and α rays. A charged particle beam such as an ion beam can also be used. When ultraviolet rays or visible rays are employed as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is generally used in combination. As a photopolymerization initiator, in the case of a radical polymerizable monomer or prepolymer, a compound such as a benzophenone-based, thioxanthone-based, benzoin-based, or acetophenone-based compound, or in the case of a cationic polymerization-based monomer or prepolymer, Metallocene, aromatic sulfonium and aromatic iodonium compounds are used. The addition amount of these photoinitiators is about 0.1-5 mass parts with respect to 100 mass parts of compositions which consist of a monomer and / or a prepolymer.

電離放射線硬化性組成物は、溶剤を含んでもよいが、その場合塗布後に乾燥工程が必要となるため、溶剤を含まないタイプ(ノンソルベントタイプ)であることが好ましい。   The ionizing radiation curable composition may contain a solvent, but in this case, since a drying step is required after coating, it is preferably a type that does not contain a solvent (non-solvent type).

プライマー層13の厚さは特に限定されるものではないが、通常は、硬化後の厚さで1μm〜100μm程度となるように形成される。また、プライマー層の厚さは、通常は、導電性パターン層とプライマー層との合計値の1〜50%程度である。なお、後記するように、導電性パターン層の形成方法によっては、プライマー層の厚みが均一でなくなる場合がある。例えば、プライマー層の、導電性パターン層直下の厚みが、開口部(導電性パターン層非形成部)の厚みよりも大きい場合、プライマー層の厚みとは、導電体層非形成部の厚みを意味するものとする。   The thickness of the primer layer 13 is not particularly limited, but is usually formed to be about 1 μm to 100 μm in thickness after curing. Further, the thickness of the primer layer is usually about 1 to 50% of the total value of the conductive pattern layer and the primer layer. As will be described later, depending on the method of forming the conductive pattern layer, the thickness of the primer layer may not be uniform. For example, when the thickness of the primer layer directly below the conductive pattern layer is larger than the thickness of the opening (conductive pattern layer non-formed part), the primer layer thickness means the thickness of the conductor layer non-formed part. It shall be.

<導電性パターン層>
本発明において使用される電磁波シールド部材1の導電性パターン層14(導電性パターン層が後記する金属層及び/又黒化層を含む場合はこれらの層をまとめて導電性パターン層12というものとする。)は、図1に示すように、線條のパターンとなるように形成されたものである。そして、この線條は、その頂部両側端17が突出し且つ頂部中央18が凹陥した断面形状を有するように形成される。この線條パターンの平面視形状としては、通常、メッシュ(格子ないし網目)形状が挙げられ、単位格子の形状は、正3角形等の3角形、正方形、長方形、台形等の4角形、5角形、6角形等の多角形とされるが、これら以外にも、平面視形状として、ストライプ(縞模様ないし平行線群)、螺旋(渦巻乃至スパイラル)等の形状とすることもできる。このような特定の形状を有する導電性パターン層は、従来公知の金属箔をエッチングする方法によっても形成することができるが、より線幅の細い線條となるようにパターニングするには、導電性粒子と樹脂バインダーとを含む導電性組成物を用いて印刷技術により形成することが好ましい。以下、導電性粒子と樹脂バインダーとを含む導電性組成物から導電性パターン層を形成する場合について説明する。
<Conductive pattern layer>
The conductive pattern layer 14 of the electromagnetic wave shielding member 1 used in the present invention (when the conductive pattern layer includes a metal layer and / or a blackening layer described later, these layers are collectively referred to as a conductive pattern layer 12. 1) is formed so as to have a pattern of wrinkles as shown in FIG. And this wire rod is formed so that it may have a cross-sectional shape in which the top both ends 17 protrude and the top center 18 is recessed. As the planar shape of this wire rod pattern, a mesh (lattice or mesh) shape is usually mentioned, and the shape of the unit lattice is a triangle such as a regular triangle, a square such as a square, a rectangle, a trapezoid, a pentagon, Although it is a polygon such as a hexagon, in addition to these, the shape in a plan view may be a stripe (a striped pattern or a group of parallel lines), a spiral (a spiral or a spiral), or the like. The conductive pattern layer having such a specific shape can also be formed by a conventionally known method of etching a metal foil. However, in order to pattern a wire rod having a narrower line width, a conductive particle It is preferable to form by a printing technique using a conductive composition containing a resin binder. Hereinafter, the case where an electroconductive pattern layer is formed from the electroconductive composition containing electroconductive particle and a resin binder is demonstrated.

導電性組成物を構成する導電性粒子としては、金、銀、白金、銅、ニッケル、錫、アルミニウムなどの低抵抗率金属の粒子、または高抵抗率金属粒子、樹脂粒子、非金属無機粒子等の表面が金や銀などの低抵抗率金属で被覆された粒子等が挙げられる、粒子形状としては、特に限定されるものではなく、球状、回転楕円体状、正多面体状、截頭多面体状、鱗片状、円盤状、樹枝状、繊維状等から選ぶことができる。これらの材料や形状は適宜混合して用いてもよい。導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、多面体又は球状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が0.1〜10μm程度のものを用いることができる。なお、平均粒子径とは、粒度分布計またはTEM(透過型電子顕微鏡)観察で測定した値を意味するものとする。   As the conductive particles constituting the conductive composition, particles of low resistivity metal such as gold, silver, platinum, copper, nickel, tin, and aluminum, or high resistivity metal particles, resin particles, non-metallic inorganic particles, etc. Examples of the particle shape include, but are not limited to, particles coated with a low resistivity metal such as gold or silver, and are spherical, spheroidal, regular polyhedral, truncated polyhedral , Scales, discs, dendrites, fibers, and the like. These materials and shapes may be appropriately mixed and used. Since the size of the conductive particles is arbitrarily selected according to the type, it cannot be specified unconditionally. For example, in the case of polyhedral or spherical silver particles, the average particle size of the particles is about 0.1 to 10 μm. Can be used. In addition, an average particle diameter shall mean the value measured by the particle size distribution meter or TEM (transmission electron microscope) observation.

導電性組成物中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電性組成物の全固形分100質量部に対して、導電性粒子を40〜99質量部、好ましくは80〜97質量部の範囲で含有させることができる。   The content of the conductive particles in the conductive composition is arbitrarily selected according to the conductivity of the conductive particles and the form of the particles, for example, for 100 parts by mass of the total solid content of the conductive composition, The conductive particles can be contained in an amount of 40 to 99 parts by mass, preferably 80 to 97 parts by mass.

導電性組成物を構成するバインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン樹脂、ポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、熱硬化性ポリエステル樹脂等の樹脂を挙げることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、プライマーの材料として上記した樹脂を挙げることができる。また、熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂等の樹脂を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。電離放射線硬化性樹脂を用いる場合は必要に応じて光重合開始剤を添加してもよい。   As the binder resin constituting the conductive composition, any of thermosetting resins, ionizing radiation curable resins, and thermoplastic resins can be used. Examples of the thermosetting resin include resins such as melamine resin, polyester-melamine resin, epoxy-melamine resin, phenol resin, polyimide resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyurethane resin, and thermosetting polyester resin. be able to. Examples of the ionizing radiation curable resin include the above-described resins as a primer material. In addition, examples of the thermoplastic resin include resins such as a thermoplastic polyester resin, a polyvinyl butyral resin, a thermoplastic acrylic resin, and a thermoplastic polyurethane resin. In addition, when using a thermosetting resin, you may add a curing catalyst as needed. When using an ionizing radiation curable resin, a photopolymerization initiator may be added as necessary.

また、後記するように、版の凹部への充填に適した流動性を得るために、バインダー樹脂は通常、溶剤に溶けたワニスとして使用する。溶剤の種類には特に制限はなく、一般的に印刷インキに用いられる溶剤を使用できる。溶剤の含有量は通常、版凹部への供給時において10〜70質量%程度であるが、必要な流動性が得られる範囲でなるべく少ないほうが好ましい。また、電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、もともと流動性があるため、必ずしも溶剤を必要としない。   Further, as will be described later, in order to obtain fluidity suitable for filling the concave portion of the plate, the binder resin is usually used as a varnish dissolved in a solvent. There is no restriction | limiting in particular in the kind of solvent, The solvent generally used for printing ink can be used. The content of the solvent is usually about 10 to 70% by mass at the time of supply to the plate recess, but is preferably as small as possible within a range where necessary fluidity can be obtained. In addition, when an ionizing radiation curable resin is used, a solvent is not necessarily required because it is inherently fluid.

導電性組成物の流動性や安定性を改善するために、導電性や、プライマー層との密着性に悪影響を与えない限りにおいて適宜充填剤や増粘剤、界面活性剤、酸化防止剤、分散剤、沈降防止剤などを添加してもよい。   In order to improve the fluidity and stability of the conductive composition, as long as it does not adversely affect the conductivity and adhesion with the primer layer, fillers, thickeners, surfactants, antioxidants, dispersion An agent, an anti-settling agent, etc. may be added.

線條パターン状の導電性パターン層は、上記したような導電性組成物を以下のようにして凹版印刷を行うことにより形成することができる。凹版印刷方法及びその結果物は、特定のプライマーを使用したものであり、本願出願人により、PCT/JP2008/060427として出願され、国際公開WO08/149969として公開されたものである。一例として、凹版の凹部のみにドクターブレードなどを利用して導電性組成物を充填し、これに液状プライマー層を片面に形成済みの透明基材を、該プライマー層が凹版に接する向きで加圧ローラで圧着するなどして該プライマー層を接触させて、接触している状態でプライマー層を液状から固体状に固化させた後、透明基材を凹版から離して離版させることで、透明基材上の固化したプライマー層上に導電性組成物を転移させて、印刷することができる。   The conductive pattern layer in the form of a wire rod pattern can be formed by performing intaglio printing on the conductive composition as described above as follows. The intaglio printing method and the resultant product use a specific primer, and are filed by the applicant of the present application as PCT / JP2008 / 060427 and published as International Publication WO08 / 149969. As an example, a conductive composition is filled only in the intaglio depression using a doctor blade, etc., and a transparent substrate with a liquid primer layer formed on one side is pressed in this direction so that the primer layer is in contact with the intaglio The primer layer is brought into contact by pressing with a roller or the like, and the primer layer is solidified from a liquid state to a solid state in a contact state, and then the transparent substrate is separated from the intaglio to release the transparent substrate. The conductive composition can be transferred onto the solidified primer layer on the material and printed.

凹版印刷の際に使用する凹版として、版凹部の底部の中央が周縁よりも凹没するように製作した凹版を用いると、透明基材上に転移した導電性組成物は、凹版の底部の形状が賦形されて、線條頂部の両側端が突出し且つ頂部中央が凹陥した形状の導電性パターン層を形成することができる。   As an intaglio used for intaglio printing, using an intaglio plate produced so that the center of the bottom of the plate depression is recessed from the peripheral edge, the conductive composition transferred onto the transparent substrate has the shape of the bottom of the intaglio plate. Is formed, and a conductive pattern layer having a shape in which both side ends of the top portion of the wire ridge protrude and the center of the top portion is recessed can be formed.

印刷後、すなわち離版後、導電性組成物がまだ液状である場合は、乾燥操作、加熱操作、冷却操作、化学反応操作などを適宜行い、固化させることにより導電性パターン層を形成することができる。例えば、乾燥操作は、導電性組成物中の溶剤など不要な揮発成分を除去するため、加熱操作は、該乾燥や導電性組成物の熱硬化などの必要な化学反応を促進させるため、冷却操作は、加熱溶融した熱可塑性樹脂の導電性組成物やプライマー層の固化促進のため、化学反応操作は、加熱によらない電離放射線照射などのその他の手段による導電性組成物やプライマー層の化学反応を進行させるために行う。また、導電性組成物は、版上で半硬化固化させ離版後に完全硬化させてもよい。   When the conductive composition is still in a liquid state after printing, that is, after release, a conductive pattern layer can be formed by solidifying by appropriately performing a drying operation, a heating operation, a cooling operation, a chemical reaction operation, and the like. it can. For example, a drying operation removes unnecessary volatile components such as a solvent in the conductive composition, and a heating operation promotes a necessary chemical reaction such as drying and thermal curing of the conductive composition, so that a cooling operation is performed. In order to accelerate the solidification of the conductive composition and primer layer of thermoplastic resin that has been heated and melted, the chemical reaction operation may be performed by other means such as ionizing radiation irradiation that does not involve heating. To make progress. Further, the conductive composition may be semi-cured and solidified on the plate and completely cured after the release.

また、導電性組成物の固化は凹版接触中に行ってもよい。版接触中に導電性組成物を固化させるときは、凹版は導電性組成物に対しても賦形型として機能し、プライマー層も含めて凹版は完全な賦形型として用いることになる。この際、導電性組成物の固化方法はプライマー層で採用する固化方法と同じ方法でもよく、異なる方法でもよい。ただし、例えば電離放射線照射など同じ方法を採用すれば、プライマー層と導電性組成物とを版面上で同時に硬化可能な為、装置・工程的に簡素化でき、また類似の化学反応を採用すれば密着性の点でも有利である。   Moreover, you may perform solidification of an electroconductive composition during an intaglio contact. When the conductive composition is solidified during the plate contact, the intaglio serves as a shaping mold for the conductive composition, and the intaglio including the primer layer is used as a complete shaping mold. At this time, the solidification method of the conductive composition may be the same as the solidification method employed in the primer layer, or may be a different method. However, if the same method such as ionizing radiation irradiation is adopted, the primer layer and the conductive composition can be cured simultaneously on the plate surface, so that the apparatus and process can be simplified, and a similar chemical reaction can be adopted. This is also advantageous in terms of adhesion.

本発明では、このようにして印刷することで、凹版凹部内に充填された導電性組成物の上部に窪み(凹み)が生じても、液状で流動性のプライマー層を介して印刷するので、印刷中にプライマー層を該窪みに流し込み隙間なく密着させた状態にでき、その後、プライマー層を固化させてから透明基材を凹版から離すので、透明基材上に固化したプライマー層を介して所定パターンの導電性パターン層を、線條の線幅が細い場合でも、転移不足による断線や形状不良、インキ密着性不足などの印刷不良の発生なく形成できる。凹版印刷工程において、凹版凹部内に充填されたインキの表面に生じる窪みに、プライマー層が流入、充填する結果、導電性パターン層が形成されている部分のプライマー層の厚みが、導電性パターン層が形成されていない部分(開口部)の厚みよりも厚くなる。勿論、このような、特有のプライマー層の厚みにおける導電性パターン層形成との関係が得られる方法であれば、上記したような特定の凹版印刷方法以外の方法によって導電性パターン層を形成してもよい。   In the present invention, by printing in this way, even if a depression (dent) is formed on the upper part of the conductive composition filled in the intaglio depression, printing is performed via a liquid and fluid primer layer. During printing, the primer layer can be poured into the recess and brought into close contact, and then the primer layer is solidified, and then the transparent substrate is released from the intaglio plate. Even when the line width of the wire rod is thin, the conductive pattern layer of the pattern can be formed without occurrence of printing failure such as disconnection due to insufficient transfer, shape failure, and insufficient ink adhesion. In the intaglio printing process, the thickness of the primer layer in the portion where the conductive pattern layer is formed as a result of the primer layer flowing in and filling into the depressions formed on the surface of the ink filled in the intaglio recesses It becomes thicker than the thickness of the part (opening) where no is formed. Of course, the conductive pattern layer is formed by a method other than the above-described specific intaglio printing method as long as it is a method capable of obtaining the relationship with the formation of the conductive pattern layer in the specific primer layer thickness. Also good.

<金属層>
本発明において用いられる電磁波シールド部材1は、導電性パターン層12の導電性を更に向上させるために、導電性パターン層14の表面に金属層15が設けられていてもよい。金属層15は、上記した導電性パターン層12の表面に電解メッキ又は無電解メッキを施すことにより形成されるが、生産性や、導電性パターン層のみへの選択的メッキ適性等の観点から、電解メッキの方が好ましい。電解メッキの際に、導電性パターン層への給電は導電性パターン層が形成された面に接触させた通電ロール等の電極から行われるが、導電性パターン層が電解メッキ可能な程度の導電性(例えば、100Ω/□以下)を有するので、電解メッキを問題なく行うことができる。
<Metal layer>
In the electromagnetic wave shielding member 1 used in the present invention, a metal layer 15 may be provided on the surface of the conductive pattern layer 14 in order to further improve the conductivity of the conductive pattern layer 12. The metal layer 15 is formed by performing electrolytic plating or electroless plating on the surface of the conductive pattern layer 12 described above. From the viewpoint of productivity, suitability for selective plating only on the conductive pattern layer, and the like. Electrolytic plating is preferred. During electroplating, power is supplied to the conductive pattern layer from an electrode such as an energizing roll that is in contact with the surface on which the conductive pattern layer is formed. (For example, 100Ω / □ or less), the electrolytic plating can be performed without any problem.

金属層を構成する材料としては、導電性が高く容易にメッキ可能な、銅、銀、金、クロム、ニッケル等を挙げることができる。メッキ条件としては、浴温20〜60℃、電流密度0.001〜10A/dm、メッキ時間は1〜10分程度が好ましい。電流密度を高くすることによって、導電性パターン層14の端角部(線條頂部の両側端17)に電力集中が起こってメッキがつきやすく、表面が金属メッキされた導電性パターン層12(即ち、表面に金属層15を備えた導電性パターン層14)の表面は、線條頂部の両側端17が突出し且つ頂部中央18が凹陥した形状となる。また、電流密度が高いほど、線條頂部の両側端部分17と頂部中央部分18とのメッキ層成長速度に差がつき、相対的に線條頂部の両側端(端角部)17の電流密度が高くなって、線條中央18が凹陥した凹凸表面形状になり易い。そのため、金属層15を設ける場合は、金属層15を設ける前の導電性パターン層14の主切断面形状を、図1に示した台形の他にも、長方形又は正方形、あるいはこれら形状の端各部を0.5〜2μm程度突出させた形状とすることによって、線條頂部の両側端17の電流密度を頂部中央18に比べて相対的に高めることができ、その結果、金属層15を表面に設けた導電性パターン層12の表面は、線條頂部の両側端17が突出し且つ頂部中央18が凹陥した形状とすることができる。線條頂部の両側端部分17と頂部中央の凹陥部分18との高低差は1〜3μm程度である。 Examples of the material constituting the metal layer include copper, silver, gold, chromium, nickel and the like, which have high conductivity and can be easily plated. As plating conditions, a bath temperature of 20 to 60 ° C., a current density of 0.001 to 10 A / dm 2 , and a plating time of about 1 to 10 minutes are preferable. By increasing the current density, electric power concentration occurs at the corners of the conductive pattern layer 14 (both ends 17 at the top of the line ridge) and the plating easily occurs, and the conductive pattern layer 12 whose surface is metal-plated (that is, The surface of the conductive pattern layer 14) having the metal layer 15 on the surface has a shape in which both side ends 17 of the top of the wire ridge protrude and the top center 18 is recessed. Moreover, the higher the current density, the more the difference in plating layer growth rate between the side end portions 17 and the top center portion 18 of the top of the wire ridge, and the relatively higher current density at both ends (edge portions) 17 of the top of the wire ridge. It becomes easy to become the uneven | corrugated surface shape where the wire rod center 18 was recessed. Therefore, when the metal layer 15 is provided, the main cut surface shape of the conductive pattern layer 14 before the metal layer 15 is provided is rectangular or square, or each end portion of these shapes, in addition to the trapezoid shown in FIG. By making the shape protruded by about 0.5 to 2 μm, the current density at both side ends 17 of the wire ridge top portion can be relatively increased as compared with the top center 18, and as a result, the metal layer 15 is provided on the surface. The surface of the conductive pattern layer 12 may have a shape in which both side ends 17 of the top of the wire ridge protrude and the top center 18 is recessed. The height difference between the side end portions 17 at the top of the wire ridge and the recessed portion 18 at the center of the top is about 1 to 3 μm.

メッキ処理の際に電流密度を高めると、さらに、線條の凹陥部分18の金属層15の表面に筋状の凹溝(具体的には、図3のような、分岐、蛇行またはこれらの両方の形態を有する溪谷状の凹溝)が生じ易くなる。このようにして形成される凹溝が導電性パターン層の線條表面に存在すると、凹溝内に入射した光線は凹溝内において複雑な経路で反射を多数回繰り返し、その結果、日光、電灯光等の外光の反射防止性の向上に寄与する。   When the current density is increased during the plating process, a streak-like groove (specifically, as shown in FIG. 3, branching, meandering or both of them is formed on the surface of the metal layer 15 of the concave portion 18 of the wire rod. It becomes easy to produce a ditch groove having a shape. When the groove formed in this way is present on the surface of the conductive pattern layer, the light incident on the groove is reflected many times in a complicated path within the groove, resulting in sunlight, lamp light. It contributes to the improvement of the antireflection of external light.

<黒化層>
本発明において用いられる電磁波シールド部材1は、導電性パターン層14の表面に黒化層16が設けられていてもよい。黒化層16は、上記した金属層15を形成した後に、黒化処理を行うことにより形成することができる。黒化処理は、例えば、硫酸銅5水和物と硫酸とを水に溶かした電解浴を用いて陰極電解して粗面化処理を施すことにより行うことができる。黒化処理によって、金属層15を備えた導電性パターン層12の表面には、銅からなる金属の針状結晶からなる黒化層16が形成される。
<Blackening layer>
In the electromagnetic wave shielding member 1 used in the present invention, the blackening layer 16 may be provided on the surface of the conductive pattern layer 14. The blackening layer 16 can be formed by forming a blackening treatment after the metal layer 15 is formed. The blackening treatment can be performed, for example, by subjecting to a roughening treatment by cathodic electrolysis using an electrolytic bath in which copper sulfate pentahydrate and sulfuric acid are dissolved in water. By the blackening treatment, a blackened layer 16 made of a metal needle crystal made of copper is formed on the surface of the conductive pattern layer 12 provided with the metal layer 15.

このような粗面化処理(黒化処理)は、陰極電解により金属の粒状突起物を析出させ(1層目)、次いで、その突起物の脱落防止のために、その上に金属メッキを施して金属被覆(2層目)を形成させることにより行われる。このような粗面化処理条件としては、特に1層目の電流密度を高くすることにより、針状結晶が形成され易いので好ましい。   In such a roughening treatment (blackening treatment), a metal granular projection is deposited by cathodic electrolysis (first layer), and then metal plating is applied thereon to prevent the projection from falling off. This is performed by forming a metal coating (second layer). Such a surface roughening treatment condition is particularly preferable by increasing the current density of the first layer, since acicular crystals are easily formed.

このようにして形成された黒化層の針状結晶の長さは0.1〜1μm程度である。針状結晶は、入射した光線が、針間の面で多重反射されるうちに、吸収、散乱が多数回起こり、多くの光を減衰させ、反射光量を大幅に減少させる。その結果、線條幅方向に形成されている凹陥部と針状結晶の両者の入射光線減衰作用の相乗効果によって、より高い外光反射防止効果を得ることができる。   The length of the needle-like crystal of the blackened layer thus formed is about 0.1 to 1 μm. The acicular crystal absorbs and scatters many times while the incident light beam is multiple-reflected on the surface between the needles, attenuates a lot of light and greatly reduces the amount of reflected light. As a result, a higher external light antireflection effect can be obtained by the synergistic effect of the incident light attenuation action of both the concave portion formed in the width direction of the wire and the acicular crystal.

<保護フィルム>
本発明において使用される保護フィルム2は、上記した電磁波シールド部材1を製造した後、使用されるまでの間に、線條のパターンで形成された導電性パターン層12が傷ついたりしないように保護しておくものである。したがって、電磁波シールド部材1が使用される際、即ち、PDP等に組み込まれる際には、保護フィルム2は剥離される。本発明においては、保護フィルム2が、図2に示すように、保護フィルム2の粘着層22に、導電性パターン層12の線條頂部の両側端17の突出部分は埋没するが、頂部中央の凹陥18の底と粘着層22との間には隙間が形成されるようにして、電磁波シールド部材1の表面に密着している。このように、電磁波シールド部材と保護シートの粘着層との粘着面積が、線條頂部の極一部のみとすることにより、電磁波シールド部材を使用する際にも力を要することなく保護シートを剥離することができ、また、保護フィルムを剥離した際も導電性パターン層を剥離させてしまうことがなく、また、導電パターン層表面が一部に剥離を生じた場合でも、剥離部分は、線條両側端部の突出部近傍のみの小面積且つ狭幅部分の表面近傍に限定されるため目立ち難く、しかも導電性(電磁波遮蔽性)への影響も無視し得る。さらに、導電性パターン層の線條両側端部のみが保護フィルムの粘着層に投錨效果で密着しているため、搬送中や保管中にも保護フィルムが剥離してしまうことがない。即ち、保管や搬送時の剥離に想定されるような低剪斷速度での剥離に対しては剥離力(粘着力)が強く、一方、剥離作業時に想定されるような高剪斷速度での剥離に対しては剥離力が強いという特性となる。
<Protective film>
The protective film 2 used in the present invention protects the conductive pattern layer 12 formed in the pattern of wire rods from being damaged after the electromagnetic wave shielding member 1 is manufactured and before it is used. It is something to keep. Therefore, when the electromagnetic wave shielding member 1 is used, that is, when incorporated in a PDP or the like, the protective film 2 is peeled off. In the present invention, as shown in FIG. 2, the protective film 2 is embedded in the adhesive layer 22 of the protective film 2 with the protruding portions on both side ends 17 of the line crest portion of the conductive pattern layer 12 being recessed in the center of the top portion. A gap is formed between the bottom of 18 and the adhesive layer 22 so as to be in close contact with the surface of the electromagnetic wave shielding member 1. As described above, the adhesive area between the electromagnetic wave shielding member and the adhesive layer of the protective sheet is only a part of the top of the wire ridge, so that the protective sheet is peeled off without requiring force even when the electromagnetic wave shielding member is used. In addition, when the protective film is peeled off, the conductive pattern layer is not peeled off, and even when the surface of the conductive pattern layer is partially peeled off, It is difficult to stand out because it is limited to the vicinity of the surface of the narrow area and the narrow area only in the vicinity of the protruding portion of the part, and the influence on the conductivity (electromagnetic wave shielding) can be ignored. Furthermore, since only the both side ends of the conductive pattern layer are in close contact with the adhesive layer of the protective film, the protective film is not peeled off during transportation or storage. In other words, the peeling force (adhesive strength) is strong against peeling at a low pruning speed assumed for peeling during storage and transportation, while at the high pruning speed assumed for peeling work. It has a characteristic that the peeling force is strong against peeling.

保護フィルム1を構成する基材21としては、一般的な保護フィルムに使用される材料を制限なく使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、エチレングリコール−1,4シクロヘキサンジメタノール−テレフタール酸共重合体、エチレングリコール−テレフタール酸−イソフタール酸共重合体、ポリエステル系熱可塑性エラストマー等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂等の樹脂フィルムを挙げることができる。これら樹脂フィルムは、単層に限られず、多層の樹脂フィルムであってもよい。このような保護フィルム基材の厚みは、基材の材質にもよるが概ね20〜75μmである。   As the base material 21 constituting the protective film 1, materials used for general protective films can be used without limitation. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), ethylene glycol-1 , 4 Cyclohexanedimethanol-terephthalic acid copolymer, ethylene glycol-terephthalic acid-isophthalic acid copolymer, polyester-based resins such as polyester-based thermoplastic elastomer, and resin films such as polyolefin-based resins such as polyethylene and polypropylene Can do. These resin films are not limited to a single layer, and may be multilayer resin films. The thickness of such a protective film substrate is generally 20 to 75 μm although it depends on the material of the substrate.

また、保護フィルム2を電磁波シールド部材1の表面に、剥離可能に密着させることができる粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系、ポリビニルエーテル樹脂系、ウレタン樹脂系、シリコーン樹脂系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系等が挙げられる。合成ゴム系の具体例としては、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴム、イソブチレン− イソプレンゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレンブロック共重合体が挙げられる。シリコーン樹脂系の具体例としては、ジメチルポリシロキサン等が挙げられる。アクリル樹脂系の具体例としては、エチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーの1種又は2種以上からなる単独又は共重合体、これら(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー1種以上と(メタ)アクリル酸アルキルエステルと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)メタクリル酸アルキルエステルモノマー1種以上との共重合体、これら(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマー1種以上と(メタ)アクリル酸、フタル酸、マレイン酸等のカルボン酸、エチレン、プロピレン等のオレフィン等のモノマーとの共重合体等が挙げられる。これらの粘着剤は、1種単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、アクリル系粘着剤が好ましい。これら粘着剤は市販されているものを使用してもよく、例えば、サイビノールATR−340(サイデン化学社製)等が挙げられる。   Moreover, as an adhesive which can adhere the protective film 2 to the surface of the electromagnetic wave shielding member 1 in a peelable manner, for example, natural rubber, synthetic rubber, acrylic resin, polyvinyl ether resin, urethane resin, Examples thereof include a silicone resin system and an ethylene-vinyl acetate copolymer system. Specific examples of synthetic rubbers include styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, polyisobutylene rubber, isobutylene-isoprene rubber, styrene-isoprene block copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-ethylene-butylene block. A copolymer is mentioned. Specific examples of the silicone resin system include dimethylpolysiloxane. Specific examples of acrylic resins include homopolymers or copolymers of one or more of (meth) acrylic acid alkyl ester monomers such as ethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate. , One or more of these (meth) acrylic acid alkyl ester monomers, and (meth) acrylic acid alkyl ester and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxyl group-containing (meth) methacrylic acid such as 2-hydroxy3-phenoxypropyl (meth) acrylate Copolymers with one or more acid alkyl ester monomers, one or more of these (meth) acrylic acid alkyl ester monomers and carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, phthalic acid and maleic acid, olefins such as ethylene and propylene, etc. Examples thereof include a copolymer with a monomer. These pressure-sensitive adhesives can be used singly or in combination of two or more. Among these, an acrylic adhesive is preferable. These adhesives may use what is marketed, for example, Cybinol ATR-340 (made by Seiden Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned.

粘着層22は、保護フィルム用基材21上に、上記した粘着剤を塗布し、乾燥させることにより形成することができる。粘着層の厚みは5〜30μm程度であり、粘着剤の塗布量によって粘着層の厚みを上記範囲となるように調整することができる。   The pressure-sensitive adhesive layer 22 can be formed by applying the above-described pressure-sensitive adhesive on the protective film substrate 21 and drying it. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is about 5 to 30 μm, and the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be adjusted within the above range depending on the amount of pressure-sensitive adhesive applied.

<電磁波シールドシート>
本発明による電磁波シールドシートは、上記した電磁波シールド部材1と、その表面に剥離可能に設けられた保護フィルム2とを備えた構成であるが、電磁波シールド部材1の透明基材11側には、各種の機能層(図示せず)をさらに設けてもよい。このような機能層としては、近赤外線吸收層、ネオン光吸收層、調色層、紫外線吸収層、反射防止層、防眩層、特開2007−272161号公報等に記載のいわゆる薄膜ミクロルーバ層等の光学機能層(光学フィルタ層)、ハードコート層、耐衝撃層(衝撃吸收層)、防汚層、帯電防止層、抗菌層、防黴層等が挙げられ、これらの機能層は単層としてもよくまた複数層としてもよい。
<Electromagnetic wave shield sheet>
The electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is configured to include the above-described electromagnetic wave shielding member 1 and a protective film 2 that is detachably provided on the surface thereof. Various functional layers (not shown) may be further provided. As such a functional layer, a near-infrared absorbing layer, a neon light absorbing layer, a toning layer, an ultraviolet absorbing layer, an antireflection layer, an antiglare layer, a so-called thin film microlouver layer described in JP-A-2007-272161, and the like Optical functional layer (optical filter layer), hard coat layer, impact resistant layer (impact absorbing layer), antifouling layer, antistatic layer, antibacterial layer, antifungal layer, etc., and these functional layers are single layers Alternatively, a plurality of layers may be used.

本発明による電磁波シールドシートは、保護フィルムを剥離した状態で各種用途に使用可能である。特に、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類、各種事務用機器、各種医療機器、電算機器、電話機、電飾看板、各種遊戯機器等の表示部に用いられるプラズマディスプレイ(PDP)、ブラウン管ディスプレイ(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、電場発光ディスプレイ(EL)などの画像表示装置の前面フィルタ用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。また、その他、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車輌、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジの窓等の等の各種家電製品の窓等の電磁波遮蔽用途にも使用可能である。   The electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention can be used for various applications with the protective film peeled off. In particular, plasma displays (PDP) and cathode ray tube displays used in display units of television receivers, various measuring instruments and instruments, various office equipment, various medical equipment, computer equipment, telephones, electrical signs, various game machines, etc. (CRT), a liquid crystal display (LCD), an electroluminescent display (EL) and the like, which are suitable for a front filter of an image display device, and particularly suitable for a plasma display. In addition, electromagnetic shielding applications such as windows of various home appliances such as windows of buildings such as houses, schools, hospitals, offices, stores, vehicles, vehicles, airplanes, ships, microwave ovens, etc. Can also be used.

本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例により何ら限定されるものではない。   The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
<電磁波シールド部材の作製>
まず、凹版を用意した。凹版を以下のようにして作製した。中空の鉄の円筒表面に銅メッキ層を被覆した円筒版材表面を機械的に切削加工し、その後、前面にクロム膜を電解メッキして、円筒版材表面に、深さ20μm、線幅20μm、縦横線の繰返し周期300μmの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成し、印刷用の凹版を得た。凹版の凹部の線條パターンの主切断面形状は底部(円筒中心に近い側)の幅がせばまった台形形状であり、底部の角の両底角が各々75度、円筒表面部に露出する角の両底角が各々105度であり、該台形の高さが20μm、台形の円筒表面部に露出する底辺の長さが20μmであった。 また、台形状主切断面の凹部の底部(導電性パターン層では頂部に対応)には中央部が端角部よりも2μm湾曲して突出(導電性パターン層では線條頂部の中央部が頂部両側端部よりも2μm湾曲して凹陥することに対応)する形状とした。
Example 1
<Production of electromagnetic shielding member>
First, an intaglio was prepared. An intaglio was prepared as follows. The surface of the cylindrical plate with the copper plating layer coated on the hollow iron cylindrical surface is mechanically cut and then electrolytically plated with a chromium film on the front surface. The surface of the cylindrical plate is 20 μm deep and the line width is 20 μm. A square lattice mesh pattern-shaped recess having a repetition period of 300 μm in length and width was formed to obtain an intaglio for printing. The main cutting plane shape of the wire rod pattern of the concave portion of the intaglio is a trapezoidal shape in which the width of the bottom portion (side closer to the center of the cylinder) is limited, and both bottom corners of the bottom corner are exposed to the cylindrical surface portion by 75 degrees. Both corner angles of the corner were 105 degrees, the height of the trapezoid was 20 μm, and the length of the bottom exposed on the surface of the trapezoidal cylinder was 20 μm. In addition, the central portion of the bottom of the concave portion of the trapezoidal main cut surface (corresponding to the top portion in the conductive pattern layer) protrudes by being curved by 2 μm from the end corner portion (in the conductive pattern layer, the central portion of the wire ridge top portion is on both sides of the top portion. It corresponds to a shape that corresponds to a depression by being curved by 2 μm from the end.

次いで、透明基材として厚みが100μmで、1080mm幅×2000m巻の無着色透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)の帯状フィルム(東洋紡績(株)製A4300)を用意した。この透明基材上の一方の面上にプライマー層用の 紫外線硬化性樹脂組成物を乾燥膜厚が厚さ10μmとなるように塗布形成した。塗布方式は、通常のグラビアリバースロールコート法を採用し、紫外線硬化性樹脂組成物としては、エポキシアクリレートプレポリマー35質量部、ウレタンアクリレートプレポリマー12質量部、フェノキシエチルアクリレート44質量部、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート9質量部、さらに光重合開始剤としてイルガキュア184(物質名;1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、製造元;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)3質量部添加したものを使用した。このときの粘度は約1300cps(25℃、B型粘度計)であり、塗布後のプライマー層は触ると流動性を示すものの、PETフィルム上から流れ落ちることはなかった。   Next, a non-colored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) strip film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm and a width of 1080 mm × 2000 m was prepared as a transparent substrate. An ultraviolet curable resin composition for the primer layer was applied and formed on one surface of the transparent substrate so that the dry film thickness was 10 μm. The application method employs a normal gravure reverse roll coating method, and the UV curable resin composition includes 35 parts by mass of an epoxy acrylate prepolymer, 12 parts by mass of a urethane acrylate prepolymer, 44 parts by mass of phenoxyethyl acrylate, ethylene oxide-modified isocyanuric. 9 parts by weight of acid triacrylate and further 3 parts by weight of Irgacure 184 (substance name: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, manufacturer: Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator were used. The viscosity at this time was about 1300 cps (25 ° C., B-type viscometer), and the primer layer after application showed fluidity when touched, but did not flow down from the PET film.

上記のようにして得られた円筒状の凹版の版面に、下記組成のペースト状の導電性組成物をピックアップロールで塗布し、鋼鉄製ドクターブレードで凹部内以外の導電性組成物を掻き取って凹部内のみに導電性組成物を充填させた。次いで、導電性組成物を凹部内に充填させた状態のロール状凹版と、ニップロールとの間に、流動状態のプライマー層が形成されたPETフィルムを供し、ロール状凹版に対するニップロールの押圧力(付勢力)によって、流動状態のプライマー層を凹部内に存在する導電性組成物の凹みに流入させ、導電性ペーストと流動性保持状態のプライマー層とを隙間なく密着させると共に、プライマーの一部を凹部内の導電性組成物内に浸透させた。   On the plate surface of the cylindrical intaglio plate obtained as described above, a paste-like conductive composition having the following composition was applied with a pick-up roll, and the conductive composition other than the inside of the recess was scraped off with a steel doctor blade. The conductive composition was filled only in the recess. Next, a PET film in which a primer layer in a fluid state is formed between a roll-shaped intaglio plate in a state where the conductive composition is filled in the concave portion and a nip roll, and the pressing force (attachment) of the nip roll against the roll-shaped intaglio plate is provided. The flowable primer layer is caused to flow into the recess of the conductive composition existing in the recess by force, and the conductive paste and the primer layer in the fluidity maintaining state are brought into close contact with each other without any gap, and a part of the primer is recessed. It was made to osmose | permeate in the inside electroconductive composition.

導電性組成物は、下記の成分を配合し、十分に攪拌混合した後、3本ロールで混練りすることにより調製した。
平均粒径2μmの銀粉末 93質量部
熱可塑性ポリエステルウレタン樹脂 7質量部
溶剤としてブチルカルビトールアセテート 25質量部
The conductive composition was prepared by blending the following components, sufficiently stirring and mixing, and kneading with three rolls.
Silver powder with an average particle size of 2 μm 93 parts by weight Thermoplastic polyester urethane resin 7 parts by weight 25 parts by weight of butyl carbitol acetate as a solvent

続いて、凹版ロールを回転させながら高圧水銀燈によって紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂組成物からなる流動状態のプライマー層を硬化させた。プライマー層の硬化により、凹版ロールの凹部内の導電性ペーストは、硬化したプライマー層と密着し、その後、出口側のニップロールによってフィルムが凹版ロールから剥離され、プライマー層上には導電性組成物層が転写形成された。このようにして得られたフィルムを、130℃の乾燥ゾーンを通過させて、60秒熱風乾燥させ、導電性組成物中の溶剤を蒸発させ、プライマー層上に、導電性導電性組成物からなる、厚さ19μm、線幅20μm、縦横線の繰返周期300μmの正方格子の導電性パターン層を形成した。得られた導電性パターン層は、頂部の中央部が端角部よりも1.5μm湾曲して凹陥する形状であった。   Subsequently, while rotating the intaglio roll, ultraviolet rays were irradiated with a high-pressure mercury lamp to cure the fluidized primer layer made of the ultraviolet curable resin composition. Due to the curing of the primer layer, the conductive paste in the recesses of the intaglio roll is in close contact with the cured primer layer, and then the film is peeled from the intaglio roll by the nip roll on the outlet side, and the conductive composition layer is formed on the primer layer. Was transferred and formed. The film thus obtained is passed through a 130 ° C. drying zone, dried with hot air for 60 seconds, the solvent in the conductive composition is evaporated, and the primer layer is composed of the conductive conductive composition. A conductive pattern layer of a square lattice having a thickness of 19 μm, a line width of 20 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 300 μm was formed. The obtained conductive pattern layer had a shape in which the central portion of the top portion was curved and recessed by 1.5 μm from the end corner portion.

PETフィルム上に、上記のようにして形成されたメッシュパターンの表面に金属層を形成した。金属層の形成に使用したメッキ液としては、溶媒として水(3000L)を用い、硫酸銅5水和物(75g/L)と、硫酸(180g/L)、塩酸(60mg/L)、配向性調節成分として炭化水素系高分子系メッキ添加剤(40mL/L)を混合してメッキ液を調製した。メッキ条件は、浴量(500mL)、攪拌(エアー攪拌)、浴温(25℃)、電流密度(2A/dm2)、メッキ時間(5min)で行って、膜厚は2.0μmであった。メッキ処理により堆積した被膜を120℃、60分間アニール処理して、銅メッキ層を得た。このようにして形成された金属層(銅メッキ層)は、導電性パターン層の線條の幅方向の主切断面が略台形形状であり、その上辺(線條頂部)の両側端が、上辺(線條頂部)中央の凹陥部の底部よりも3μm突出した形状であった。   A metal layer was formed on the surface of the mesh pattern formed as described above on the PET film. As the plating solution used for forming the metal layer, water (3000 L) was used as a solvent, copper sulfate pentahydrate (75 g / L), sulfuric acid (180 g / L), hydrochloric acid (60 mg / L), orientation A hydrocarbon-based polymer plating additive (40 mL / L) was mixed as a control component to prepare a plating solution. The plating conditions were bath volume (500 mL), stirring (air stirring), bath temperature (25 ° C.), current density (2 A / dm 2), plating time (5 min), and the film thickness was 2.0 μm. The coating deposited by plating was annealed at 120 ° C. for 60 minutes to obtain a copper plating layer. In the metal layer (copper plating layer) formed in this way, the main cut surface in the width direction of the wire pattern of the conductive pattern layer has a substantially trapezoidal shape, and both side edges of the upper side (line peak) are the upper side (wire model). (Top) The shape protruded 3 μm from the bottom of the central recess.

このようにして形成された金属層の表面に黒化処理を実施した。黒化処理は、以下の浴組成の電解浴を用いて陰極電解し粗面化処理を施すことにより行った。
第1層目
硫酸銅五水和物 70g/L
硫酸 100g/L
液温 40℃
電流密度 40A/dm2
電解時間 5秒
陽極 白金
第2層目
硫酸銅五水和物 250g/L
硫酸 100g/L
液温 45℃
電流密度 20A/dm2
電解時間 30秒
陽極 白金
Blackening treatment was performed on the surface of the metal layer thus formed. The blackening treatment was performed by cathodic electrolysis using an electrolytic bath having the following bath composition and roughening treatment.
1st layer copper sulfate pentahydrate 70g / L
Sulfuric acid 100g / L
Liquid temperature 40 ℃
Current density 40A / dm2
Electrolysis time 5 seconds Anode Platinum
2nd layer copper sulfate pentahydrate 250g / L
Sulfuric acid 100g / L
Liquid temperature 45 ℃
Current density 20A / dm2
Electrolysis time 30 seconds Anode Platinum

上記した条件で行った粗面化処理により、導電性パターン層の線條の主切断面が略台形形状であり、その上辺(線條頂部)の両側端が、上辺(線條頂部)中央の凹陥部の底部よりも3μm突出した形状であり、さらに、その凹陥の表面には、分岐し且つ蛇行する溪谷状の凹溝が多数形成された、長さ0.1〜0.8μmの範囲で分布した針状結晶からなる黒化層が形成されていた。   By the roughening treatment performed under the above-described conditions, the main cut surface of the wire ridge of the conductive pattern layer has a substantially trapezoidal shape, and both side ends of the upper side (line ridge crest) are the concave portions at the center of the upper side (line ridge crest). The shape protruded from the bottom by 3 μm, and the surface of the recess was distributed in the range of 0.1 to 0.8 μm in length, in which a number of branched and meandering concave grooves were formed. A blackened layer made of acicular crystals was formed.

このようにして得られた導電性シールド部材の線條を走査型電子顕微鏡で観察したところ、図3に示されるよう形状であった。   When the wire rod of the conductive shield member thus obtained was observed with a scanning electron microscope, the shape was as shown in FIG.

<保護フィルムの準備>
保護フィルム用基材として、PETセパレーター(セラピールBX9A(RX)、膜厚38μm、東レフィルム加工社製)を用い、その基材の一方の面に、下記成分を混合・分散させたアクリル系粘着層形成用塗工液を、乾燥時の膜厚が20g/mとなるように塗工し、十分に乾燥させることにより、保護フィルム用基材の表面に粘着層を形成した。
アクリル系粘着剤
(サイビノールATR−340,固形分42%,サイデン化学社製) 100質量部
硬化剤(K−200,固形分1%,サイデン化学社製) 2.38質量部
シランカップリング剤
(M−2,固形分0.25%,サイデン化学社製) 0.60質量部
トルエン 25質量部
<Preparation of protective film>
An acrylic adhesive layer in which a PET separator (Therapel BX9A (RX), film thickness 38 μm, manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) is used as a protective film substrate, and the following components are mixed and dispersed on one surface of the substrate. The forming coating liquid was applied so that the film thickness at the time of drying was 20 g / m 2 and sufficiently dried, thereby forming an adhesive layer on the surface of the protective film substrate.
Acrylic adhesive (Cybinol ATR-340, solid content 42%, made by Seiden Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass Curing agent (K-200, solid content 1%, made by Seiden Chemical Co., Ltd.) 2.38 parts by mass Silane coupling agent ( M-2, solid content 0.25%, manufactured by Seiden Chemical Co., Ltd.) 0.60 parts by mass Toluene 25 parts by mass

<電磁波シールドシートの作製>
準備した保護フィルムを、上記のようにして得られた電磁波シールド部材の導電性パターン層が設けられた面に貼着し、保護フィルムの粘着層に導電性パターン層の線條頂部の両側端の突出部分は埋没するが、頂部中央の凹陥の底と粘着層との間に隙間が形成されるようにして、導電性パターン層と粘着層とを密着させることにより電磁波シールドシートを作製した。
<Production of electromagnetic shielding sheet>
The prepared protective film is attached to the surface of the electromagnetic shielding member obtained as described above on which the conductive pattern layer is provided, and the protrusions on both sides of the top of the conductive pattern layer on the adhesive layer of the protective film are projected. Although the portion was buried, an electromagnetic wave shielding sheet was produced by closely contacting the conductive pattern layer and the adhesive layer so that a gap was formed between the bottom of the recess at the center of the top and the adhesive layer.

比較例1
実施例1において、使用した凹版に代えて、中空の鉄の円筒表面に銅メッキ層を被覆してなる円筒版材の表面にネガ型感光性レジスト膜を塗工し、実施例1と同じ線幅及び繰返周期の正方格子パターンをArイオンレーザで露光し、該円筒版材表面の未露光部を洗浄除去して銅層を露出させ、正方格子の開口部(線條部分以外の部分)のみにレジスト膜が残留する状態で、塩化第2鉄水溶液にてレジスト非形成部の銅層を腐蝕して、円筒版材表面に、深さ20μm、線幅20μm、縦横線の繰返し周期300μmの正方格子のメッシュパターン状凹部を形成した凹版を使用した以外は、実施例1と同様にして製造した。
Comparative Example 1
In Example 1, instead of the intaglio plate used, a negative photosensitive resist film was applied to the surface of a cylindrical plate material obtained by coating a hollow iron cylindrical surface with a copper plating layer. A square lattice pattern with a width and a repetition period is exposed with an Ar ion laser, the copper layer is exposed by washing away the unexposed portion on the surface of the cylindrical plate material, and only the opening portion of the square lattice (the portion other than the wire rod portion) In the state where the resist film remains, the copper layer of the resist non-formation portion is corroded with an aqueous ferric chloride solution, and a square plate having a depth of 20 μm, a line width of 20 μm, and a vertical / horizontal line repetition period of 300 μm It was manufactured in the same manner as in Example 1 except that an intaglio plate having a mesh pattern-like concave portion of a lattice was used.

上記のような凹版を用いて形成された電磁波シールド部材は、導電性パターン層の線條パターンの主切断面形状は、表面凹凸の少ない綺麗な半円形状となり、頂部は端部よりも中央部の方が突出した形状となった。それにメッキ加工を施しても下地形状がそのまま影響し綺麗な丸みを持ったメッキ層形状となった。また、導電性シールド部材の線條近傍を走査型電子顕微鏡で観察したところ、頂部付近に凹溝も形成されていなかった。   In the electromagnetic wave shielding member formed using the intaglio as described above, the main cut surface shape of the wire pattern of the conductive pattern layer is a beautiful semicircular shape with less surface irregularities, and the top portion is at the center portion than the end portion. It became the shape where the direction protruded. Even if it was plated, the base shape was affected as it was, resulting in a beautifully rounded plating layer shape. Further, when the vicinity of the wire rod of the conductive shield member was observed with a scanning electron microscope, no groove was formed near the top.

上記のようにして得られた電磁波シールド部材の表面に、実施例1と同様にして保護フィルムを貼着して電磁波シールドシートを形成した。導電性シールド部材の線條近傍の主切断面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、図4に示すように、導電性パターン層の線條頂部全体が粘着層に埋没し、線條のない部分(開口部)の底と粘着層との間に隙間が形成されていた。   A protective film was attached to the surface of the electromagnetic shielding member obtained as described above in the same manner as in Example 1 to form an electromagnetic shielding sheet. When the main cut surface in the vicinity of the wire rod of the conductive shield member was observed with a scanning electron microscope, as shown in FIG. 4, the entire wire pattern top portion of the conductive pattern layer was buried in the adhesive layer, and there was no wire wrinkle (opening portion). ) Between the bottom and the adhesive layer.

<評価>
上記のようにして得られた実施例1及び比較例1の電磁波シールドシートを、平板上に40℃の環境下で48時間放置した後、保護フィルムに浮き(気泡の混入)がないか目視にて確認した。その結果、実施例1及び比較例1の何れの電磁波シールドシートにも浮きは見られなかった。
<Evaluation>
The electromagnetic wave shielding sheets of Example 1 and Comparative Example 1 obtained as described above were left on a flat plate in an environment of 40 ° C. for 48 hours, and then visually checked for floating (mixture of bubbles) on the protective film. Confirmed. As a result, no floating was observed in any of the electromagnetic wave shielding sheets of Example 1 and Comparative Example 1.

次に、電磁波シールドシートから保護フィルムを勢いよく剥離し、保護フィルム剥離後の電磁波シールド部材の表面状態及び、剥離した保護フィルムの粘着層表面の状態を目視にて確認した。その結果、実施例1の電磁波シールドシートでは、電磁波シールド部材の線條パターンに損傷は見られなかった。また、剥離した保護フィルムの粘着層の表面にも、残存物の付着は見られなかった。一方、比較例1の電磁波シールドシートでは、電磁波シールド部材の線條パターンの一部が損傷していた。また、剥離した保護フィルムの粘着層の表面にも、黒化層の一部と思われる針状金属が残存していることが確認できた。   Next, the protective film was peeled off from the electromagnetic shielding sheet vigorously, and the surface state of the electromagnetic shielding member after the protective film was peeled off and the state of the adhesive layer surface of the peeled protective film were visually confirmed. As a result, in the electromagnetic wave shielding sheet of Example 1, no damage was found in the wire pattern of the electromagnetic wave shielding member. In addition, no residue was observed on the surface of the peeled protective film. On the other hand, in the electromagnetic shielding sheet of Comparative Example 1, a part of the wire rod pattern of the electromagnetic shielding member was damaged. Moreover, it has confirmed that the acicular metal considered to be a part of blackening layer remained also on the surface of the adhesion layer of the peeled protective film.

1 電磁波シールド部材
2 保護フィルム
11 透明基材
12 導電性パターン層
17 線條頂部の突出部
18 線條頂部の凹陥部
21 保護フィルム用基材
22 粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic wave shielding member 2 Protective film 11 Transparent base material 12 Conductive pattern layer 17 Projection part of line top part 18 Depression part of line top part 21 Base material for protective films 22 Adhesive layer

Claims (7)

電磁波シールド部材と、前記電磁波シールド部材の表面に剥離可能に設けられた保護フィルムと、を備えた電磁波シールドシートであって、
前記電磁波シールド部材は、透明基材と、前記透明基材上に設けられた線條のパターンで形成された導電性パターン層とを備え、
前記保護フィルムは、基材と前記基材上に設けられた粘着層とを備え、
前記導電性パターン層の線條は、その頂部両側端が突出し且つ頂部中央が凹陥しており、前記保護フィルムの粘着層に前記線條頂部の両側端の突出部分は埋没するが、前記頂部中央の凹陥の底と前記粘着層との間に隙間が形成されるように、前記導電性パターン層と前記粘着層とが密着していることを特徴とする、電磁波シールドシート。
An electromagnetic wave shielding sheet comprising: an electromagnetic wave shielding member; and a protective film provided on the surface of the electromagnetic wave shielding member so as to be peelable,
The electromagnetic wave shielding member includes a transparent base material, and a conductive pattern layer formed with a wire rod pattern provided on the transparent base material,
The protective film includes a base material and an adhesive layer provided on the base material,
The wire pattern of the conductive pattern layer protrudes at both ends at the top and is recessed at the center of the top, and the protrusions at both ends of the line cover at the both ends are buried in the adhesive layer of the protective film. The electromagnetic wave shielding sheet, wherein the conductive pattern layer and the adhesive layer are in close contact so that a gap is formed between the bottom of the adhesive layer and the adhesive layer.
前記導電性パターン層の表面に金属層が形成されている、請求項1に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shield sheet according to claim 1, wherein a metal layer is formed on a surface of the conductive pattern layer. 前記金属層の表面が、針状金属からなる黒化層で被覆されている、請求項2に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 2, wherein the surface of the metal layer is covered with a blackening layer made of acicular metal. 前記導電性パターン層が、導電性粒子と樹脂バインダーとを含む導電性組成物からなる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive pattern layer is made of a conductive composition containing conductive particles and a resin binder. 前記透明基材と前記導電性パターン層との間に、プライマー層が設けられてなる、請求項4に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shield sheet according to claim 4, wherein a primer layer is provided between the transparent substrate and the conductive pattern layer. 前記粘着層がアクリル系粘着剤からなる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the adhesive layer is made of an acrylic adhesive. 前記線條の凹陥部分の金属層の表面に筋状の凹溝が形成されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein a streak-like concave groove is formed on the surface of the metal layer of the concave portion of the wire rod.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020524415A (en) * 2018-03-14 2020-08-13 グアンジョウ ファン バン エレクトロニクス カンパニー,リミテッドGuangzhou Fang Bang Electronics Co., Ltd. Electromagnetic shield film, circuit board, and method for manufacturing electromagnetic shield film

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020524415A (en) * 2018-03-14 2020-08-13 グアンジョウ ファン バン エレクトロニクス カンパニー,リミテッドGuangzhou Fang Bang Electronics Co., Ltd. Electromagnetic shield film, circuit board, and method for manufacturing electromagnetic shield film

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