JP2012158498A - Method for manufacturing cleaned glass body, optical element, and optical instrument - Google Patents

Method for manufacturing cleaned glass body, optical element, and optical instrument Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently manufacturing a cleaned glass body the surface of which is treated while suppressing damage of a glass gob, an optical element manufactured from the cleaned glass body manufactured by the method, and an optical instrument equipped with the optical element.SOLUTION: In the method for manufacturing a cleaned glass body by cleaning the surface of a glass gob, cleaning is carried out by immersing the glass gob in a surface treatment liquid, and irradiating the surface treatment liquid with ultrasonic waves of 100 to 200 kHz to for 5 to 100 seconds. It is desirable to generate the ultrasonic wave by an output of ≥100 to ≤600 W.

Description

本発明は、ガラス塊の表面を洗浄する技術に関する。   The present invention relates to a technique for cleaning the surface of a glass lump.

従来、プリフォームやガラス成形体等のガラス塊の表面を処理する技術が知られている。かかる表面処理は、一般的には、所定の水溶液中にガラス塊を浸漬することで行われる。例えば特許文献1には、B成分を含むガラス塊を酸性又はアルカリ性の溶液に浸漬し、ガラス塊の表面を処理することで、脈理を除去することが開示されている。 Conventionally, a technique for treating the surface of a glass block such as a preform or a glass molded body is known. Such surface treatment is generally performed by immersing a glass block in a predetermined aqueous solution. For example, Patent Document 1 discloses that striae is removed by immersing a glass block containing a B 2 O 3 component in an acidic or alkaline solution and treating the surface of the glass block.

特開2005−281124号公報JP 2005-281124 A

しかし、特許文献1に示される技術では、表面処理に長時間を要する。そこで、表面処理を効率化する技術として、溶液への超音波照射が考えられるが、ガラス塊が柔らかい場合等では、表面に傷が生じやすい。   However, the technique disclosed in Patent Document 1 requires a long time for the surface treatment. Therefore, as a technique for improving the surface treatment efficiency, ultrasonic irradiation to the solution can be considered, but when the glass lump is soft, the surface is likely to be damaged.

本発明は、以上の実情に鑑みてなされたものであり、ガラス塊の損傷を抑制しつつ表面処理された被洗浄ガラス体を効率的に製造できる方法、及びその方法で製造される被洗浄ガラス体から製造される光学素子、及びこの光学素子を用いた光学機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, a method capable of efficiently producing a glass body to be cleaned which has been surface-treated while suppressing damage to the glass lump, and glass to be cleaned produced by the method. It is an object of the present invention to provide an optical element manufactured from a body and an optical apparatus using the optical element.

本発明者らは、高周波の超音波を照射することで、ガラス塊の損傷を抑制されつつ表面が処理されることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的に、本発明は以下のものを提供する。   The present inventors have found that by irradiating high-frequency ultrasonic waves, the surface is treated while suppressing damage to the glass lump, and the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following.

(1) ガラス塊の表面を洗浄して被洗浄ガラス体を製造する方法であって、
前記洗浄は、前記ガラス塊を表面処理液に浸漬し、この表面処理液に100kHz以上200kHz以下の超音波を5秒以上100秒以下に亘って照射することで行う方法。
(1) A method for producing a glass body to be cleaned by cleaning the surface of a glass lump,
The cleaning is performed by immersing the glass block in a surface treatment liquid and irradiating the surface treatment liquid with ultrasonic waves of 100 kHz to 200 kHz for 5 seconds to 100 seconds.

(2) 前記超音波は、100W以上600W以下の出力で発生させる(1)記載の方法。   (2) The method according to (1), wherein the ultrasonic wave is generated with an output of 100 W to 600 W.

(3) 前記表面処理液は、8以上11以下のpHを有する(1)又は(2)記載の方法。   (3) The method according to (1) or (2), wherein the surface treatment liquid has a pH of 8 or more and 11 or less.

(4) 洗浄後のガラス塊を水及び/又は有機溶媒中に浸漬し、前記水及び/又は有機溶媒に100kHz以上200kHz以下の超音波を10秒以上120秒以下に亘って照射する工程を更に有する(1)から(3)いずれか記載の方法。   (4) A step of immersing the washed glass lump in water and / or an organic solvent and irradiating the water and / or organic solvent with an ultrasonic wave of 100 kHz to 200 kHz for 10 seconds to 120 seconds. The method according to any one of (1) to (3).

(5) 前記超音波は、100W以上600W以下の出力で発生させる(4)記載の方法。   (5) The method according to (4), wherein the ultrasonic wave is generated with an output of 100 W to 600 W.

(6) 前記ガラス塊は、微小硬度計で測定される400以下のヌープ硬さを有する(1)から(5)いずれか記載の方法。   (6) The method according to any one of (1) to (5), wherein the glass block has a Knoop hardness of 400 or less as measured with a microhardness meter.

(7) 前記ガラス塊は、600以下の磨耗度(9.8Nの一定荷重が負荷された鋳鉄製平面皿で研磨液を供給しながら磨耗させたときの磨耗質量から算出される)を有する(1)から(6)いずれか記載の方法。   (7) The glass lump has a wear degree of 600 or less (calculated from a wear mass when being worn while supplying a polishing liquid with a cast iron flat plate loaded with a constant load of 9.8 N) ( The method according to any one of 1) to (6).

(8) 前記ガラス塊は、プレス成形前のプリフォーム又はプレス成形後のガラス成形体である(1)から(7)いずれか記載の方法。   (8) The method according to any one of (1) to (7), wherein the glass block is a preform before press molding or a glass molded body after press molding.

(9) (1)から(8)いずれか記載の方法で製造される被洗浄ガラス体から製造される光学素子。   (9) An optical element manufactured from a glass body to be cleaned manufactured by the method according to any one of (1) to (8).

(10) (9)記載の光学素子を用いた光学機器。   (10) An optical apparatus using the optical element according to (9).

本発明によれば、ガラス塊を浸漬した表面処理液に100kHz以上200kHz以下の超音波を5秒以上100秒以下に亘って照射するので、ガラス塊の損傷を抑制しつつ表面処理された被洗浄ガラス体を製造することができる。また、5秒以上100秒以下という必要十分な時間で良質の被洗浄ガラス体が得られ、従来のように表面処理を再度行う等の必要が小さいため、製造効率が優れる。   According to the present invention, since the surface treatment liquid in which the glass block is immersed is irradiated with ultrasonic waves of 100 kHz or more and 200 kHz or less for 5 seconds or more and 100 seconds or less, the surface treatment is performed while suppressing damage to the glass block. A glass body can be produced. Further, a glass substrate having a good quality can be obtained in a necessary and sufficient time of 5 seconds or more and 100 seconds or less, and the necessity for performing surface treatment again as in the conventional case is small, so that the production efficiency is excellent.

以下、本発明の実施形態について説明するが、これに本発明が限定されるものではない。   Hereinafter, although embodiment of this invention is described, this invention is not limited to this.

本発明に係る被洗浄ガラス体の製造方法は、ガラス塊を表面処理液に浸漬し、この表面処理液に100kHz以上200kHz以下の超音波を5秒以上100秒以下に亘って照射することで、ガラス塊の表面を洗浄する工程を有する。周波数200kHz以下の超音波の照射によって、ガラス塊表面の洗浄効率が向上し、5秒以上100秒以下という比較的短時間でガラス塊の表面を充分に洗浄することができる。また、超音波の周波数を100kHz以上にすることで、ガラス塊の表面に傷が生じるのを抑制することができる。   The method for producing a glass body to be cleaned according to the present invention includes immersing a glass lump in a surface treatment liquid, and irradiating the surface treatment liquid with ultrasonic waves of 100 kHz to 200 kHz over 5 seconds to 100 seconds, A step of cleaning the surface of the glass lump. Irradiation with ultrasonic waves having a frequency of 200 kHz or less improves the cleaning efficiency of the glass lump surface, and the surface of the glass lump can be sufficiently cleaned in a relatively short time of 5 seconds to 100 seconds. Moreover, it can suppress that a damage | wound arises on the surface of a glass lump by making the frequency of an ultrasonic wave 100 kHz or more.

周波数の下限は、110kHzであることがより好ましく、最も好ましくは130kHzであり、周波数の上限は、190kHzであることがより好ましく、最も好ましくは170kHzである。また、照射時間の下限は、10秒であることがより好ましく、最も好ましくは40秒であり、周波数の上限は、90秒であることがより好ましく、最も好ましくは60秒である。   The lower limit of the frequency is more preferably 110 kHz, most preferably 130 kHz, and the upper limit of the frequency is more preferably 190 kHz, and most preferably 170 kHz. The lower limit of the irradiation time is more preferably 10 seconds, most preferably 40 seconds, and the upper limit of the frequency is more preferably 90 seconds, and most preferably 60 seconds.

超音波の出力は、特に限定されないが、過大であると、ガラス塊の表面に傷がつきやすくなる一方、過小であると、ガラス塊表面の洗浄効率が充分に向上しないおそれがある。そこで、超音波の出力の下限は、100Wであることが好ましく、より好ましくは150Wであり、最も好ましくは200Wである。また、超音波の出力の上限は、600Wであることが好ましく、より好ましくは500Wであり、最も好ましくは300Wである。   The output of the ultrasonic wave is not particularly limited, but if it is too large, the surface of the glass lump tends to be damaged, whereas if it is too small, the cleaning efficiency of the surface of the glass lump may not be sufficiently improved. Therefore, the lower limit of the ultrasonic output is preferably 100 W, more preferably 150 W, and most preferably 200 W. Moreover, it is preferable that the upper limit of the output of an ultrasonic wave is 600W, More preferably, it is 500W, Most preferably, it is 300W.

表面処理液は、酸性、中性、アルカリ性のいずれであってもよいが、洗浄力の点でアルカリ性であることが好ましい。ただし、pHが過大であると、ガラス塊が侵されやすかったり、ガラス塊からの表面処理液の除去にかかる時間が長くなったりする一方、過小(つまり中性に近づく)であると、表面処理の効率が充分に得られないおそれがある。そこで、表面処理液のpHの上限は、11であることが好ましく、より好ましくは10.5であり、最も好ましくは9.5である。また、表面処理液のpHの下限は、8であることが好ましく、より好ましくは8.5であり、最も好ましくは9.0である。   The surface treatment solution may be acidic, neutral or alkaline, but is preferably alkaline in terms of detergency. However, if the pH is excessive, the glass lump is easily affected or the time required for removing the surface treatment liquid from the glass lump becomes long. On the other hand, if the pH is excessively small (that is, close to neutrality), the surface treatment is performed. There is a possibility that the efficiency of the above is not sufficiently obtained. Therefore, the upper limit of the pH of the surface treatment solution is preferably 11, more preferably 10.5, and most preferably 9.5. Further, the lower limit of the pH of the surface treatment solution is preferably 8, more preferably 8.5, and most preferably 9.0.

表面処理液の組成は、特に限定されず、用いるガラス塊を侵しにくいよう、従来周知の成分から適宜選択されてよい。   The composition of the surface treatment liquid is not particularly limited, and may be appropriately selected from conventionally known components so that the glass lump to be used is hardly affected.

洗浄後のガラス塊は、そのまま被洗浄ガラス体として用いてもよいが、多少量の表面処理液が残存し得るため、被洗浄ガラス体の用途等によって必要な場合には、残存する表面処理液を除去することが好ましい。具体的には、洗浄後のガラス塊を水及び/又は有機溶媒中に浸漬すればよい。   The glass lump after cleaning may be used as it is as a glass body to be cleaned, but since a certain amount of surface treatment liquid may remain, if necessary depending on the use of the glass body to be cleaned, the remaining surface treatment liquid Is preferably removed. Specifically, the washed glass lump may be immersed in water and / or an organic solvent.

残存する表面処理液の除去を効率的に行うためには、水及び/又は有機溶媒に超音波を照射することが好ましいが、その際におけるガラス塊の損傷を抑制する必要がある。そこで、水及び/又は有機溶媒に、100kHz以上200kHz以下の超音波を10秒以上120秒以下に亘って照射することが好ましい。   In order to efficiently remove the remaining surface treatment liquid, it is preferable to irradiate water and / or an organic solvent with ultrasonic waves, but it is necessary to suppress damage to the glass lump at that time. Therefore, it is preferable to irradiate water and / or an organic solvent with ultrasonic waves of 100 kHz to 200 kHz for 10 seconds to 120 seconds.

周波数の下限は、110kHzであることがより好ましく、最も好ましくは130kHzであり、周波数の上限は、190kHzであることがより好ましく、最も好ましくは170kHzである。また、照射時間の下限は、20秒であることがより好ましく、最も好ましくは60秒であり、周波数の上限は、110秒であることがより好ましく、最も好ましくは90秒である。   The lower limit of the frequency is more preferably 110 kHz, most preferably 130 kHz, and the upper limit of the frequency is more preferably 190 kHz, and most preferably 170 kHz. Further, the lower limit of the irradiation time is more preferably 20 seconds, most preferably 60 seconds, and the upper limit of the frequency is more preferably 110 seconds, and most preferably 90 seconds.

超音波の出力は、特に限定されないが、過大であると、ガラス塊の表面に傷がつきやすくなる一方、過小であると、ガラス塊表面の洗浄効率が充分に向上しないおそれがある。そこで、超音波の出力の下限は、100Wであることが好ましく、より好ましくは150Wであり、最も好ましくは200Wである。また、超音波の出力の上限は、600Wであることが好ましく、より好ましくは500Wであり、最も好ましくは300Wである。   The output of the ultrasonic wave is not particularly limited, but if it is too large, the surface of the glass lump tends to be damaged, whereas if it is too small, the cleaning efficiency of the surface of the glass lump may not be sufficiently improved. Therefore, the lower limit of the ultrasonic output is preferably 100 W, more preferably 150 W, and most preferably 200 W. Moreover, it is preferable that the upper limit of the output of an ultrasonic wave is 600W, More preferably, it is 500W, Most preferably, it is 300W.

水及び有機溶媒は、一方のみを用いてもよく、双方を用いてもよい。ただし、この工程後のガラス塊の乾燥が容易である点では、少なくとも有機溶媒を用いることが好ましい。なお、有機溶媒は、揮発性を有するものから適宜選択されてよい。特に限定されないが、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エーテル等の1種又は2種以上が挙げられる。   Only one or both of water and the organic solvent may be used. However, it is preferable to use at least an organic solvent in terms of easy drying of the glass lump after this step. The organic solvent may be appropriately selected from those having volatility. Although it does not specifically limit, 1 type (s) or 2 or more types, such as ethyl alcohol, isopropyl alcohol, and ether, are mentioned.

このような残存する表面処理液の除去工程は、1回に限られず、複数回繰り返して行ってもよい。後者の場合、ある回の工程の条件と、他の回の工程の条件とは、同一であっても異なっていてもよい。例えば、初回の工程では水を用い、2回目以降の工程では有機溶媒を用いてよい。また、上記工程を複数回繰り返して行う場合、その少なくとも一部において、上記条件での超音波照射を行えばよく、必ずしも全工程に亘り、上記条件での超音波照射を行わなくてもよい。   Such a step of removing the remaining surface treatment liquid is not limited to once, and may be repeated a plurality of times. In the latter case, the conditions for a certain process and the conditions for another process may be the same or different. For example, water may be used in the first step, and an organic solvent may be used in the second and subsequent steps. In the case where the above process is repeated a plurality of times, at least a part of the ultrasonic irradiation may be performed under the above conditions, and the ultrasonic irradiation under the above conditions is not necessarily performed over the entire process.

なお、ガラス塊の、表面処理液、水、有機溶媒中への浸漬は、ガラス塊が他の物体(例えば、容器、他のガラス塊)に接触して損傷することを予防する観点で、ガラス塊を保持し動きを抑制した状態で行うことが好ましい。かかる保持部材は公知であるため、説明を省略する。また、1個又は複数個のガラス塊を洗浄してもよく、被洗浄ガラス体の製造効率を向上する観点では複数個のガラス塊を洗浄することが好ましい。また、超音波の照射は、任意の超音波洗浄機を用い、周波数、出力等を適宜設定して、従来公知の方法に従って行えばよい。   In addition, the immersion of the glass block in the surface treatment liquid, water, or an organic solvent is performed from the viewpoint of preventing the glass block from coming into contact with other objects (for example, containers, other glass blocks) and damaging the glass block. It is preferable to perform in a state where the lump is held and the movement is suppressed. Since such a holding member is publicly known, description thereof is omitted. Moreover, you may wash | clean one or several glass lump, and it is preferable to wash | clean a several glass lump from a viewpoint of improving the manufacture efficiency of a to-be-cleaned glass body. Further, the irradiation with ultrasonic waves may be performed according to a conventionally known method using an arbitrary ultrasonic cleaner, appropriately setting the frequency, output, and the like.

以上の各工程は、その一部又は全部を同一の容器内で行ってもよく、別々の容器内で行ってもよい。後者は、工程ごとに容器内の液を交換する手間が省ける点で好ましい。また、全工程が終了した後、ガラス塊が浸漬されていた液を除去するため、ガラス塊を乾燥させてもよい。   A part or all of the above steps may be performed in the same container, or may be performed in separate containers. The latter is preferable in that the trouble of exchanging the liquid in the container for each step can be saved. Moreover, after all the processes are complete | finished, in order to remove the liquid in which the glass lump was immersed, you may dry a glass lump.

このように、本発明の方法によれば、ガラス塊の損傷を抑制しつつ表面処理された被洗浄ガラス体を製造できるため、種々の特性を有するガラス塊を用いることができる。特に、微小硬度計で測定されるヌープ硬さが400以下のガラス塊、9.8Nの一定荷重が負荷された鋳鉄製平面皿で研磨液を供給しながら磨耗させたときの磨耗質量から算出される磨耗度が600以下のガラス塊は損傷しやすいため、本発明の方法において好ましく使用し得る。   Thus, according to the method of the present invention, a glass body to be cleaned that has been surface-treated while suppressing damage to the glass lump can be produced, and therefore a glass lump having various characteristics can be used. In particular, it is calculated from the wear mass when it is worn while supplying a polishing liquid in a glass lump having a Knoop hardness of 400 or less measured by a micro hardness tester and a cast iron flat plate loaded with a constant load of 9.8 N. Since a glass lump having a wear level of 600 or less is easily damaged, it can be preferably used in the method of the present invention.

ヌープ硬さの上限は390であることがより好ましく、最も好ましくは370であり、下限は330であることがより好ましく、最も好ましくは350である。また、磨耗度の上限は590であることがより好ましく、最も好ましくは550であり、下限は450であることがより好ましく、最も好ましくは500である。   The upper limit of Knoop hardness is more preferably 390, most preferably 370, and the lower limit is more preferably 330, and most preferably 350. The upper limit of the degree of wear is more preferably 590, most preferably 550, and the lower limit is more preferably 450, and most preferably 500.

本発明の方法は、種々の状態のガラス塊に対して有用である。例えば、ガラス塊としてプレス成形前のプリフォームを用いる場合、プリフォーム製造の過程で表面に付着した汚れが除去されるため、高品質のプレス成形体を得ることができる。また、ガラス塊としてプレス成形後のガラス成形体を用い、本発明の方法によって所望の外形状へと加工(いわゆる芯取)してもよい。   The method of the present invention is useful for various masses of glass. For example, when a preform before press molding is used as the glass lump, dirt attached to the surface is removed during the preform manufacturing process, so that a high-quality press-molded body can be obtained. Moreover, you may process (what is called centering) into a desired outer shape by the method of this invention, using the glass molding after press molding as a glass lump.

本発明は、以上の方法で製造される被洗浄ガラス体から製造される光学素子、並びに、この光学素子を用いた光学機器を包含する。本発明の被洗浄ガラス体は、ガラス塊の損傷を抑制しつつ効率的に表面処理されているので、高品質且つ安価である。このため、かかる被洗浄ガラス体を用いて得られる光学素子及び光学機器も、高品質且つ安価である。   The present invention includes an optical element manufactured from the glass body to be cleaned manufactured by the above method, and an optical device using the optical element. Since the glass body to be cleaned of the present invention is efficiently surface-treated while suppressing damage to the glass lump, it is of high quality and inexpensive. For this reason, the optical element and optical apparatus obtained by using the glass body to be cleaned are also high quality and inexpensive.

<実施例1、参考例>
リン酸系ガラスからなるプリフォーム(前述の方法で測定されるヌープ硬さ370、磨耗度470)を、洗浄槽内に収容した1.0vol%の表面処理液(pH約10)中に浸漬し、この表面処理液に、周波数170kHz、出力300Wの超音波を、表1に示す時間に亘って照射した。その後、洗浄槽内からプリフォームを取り出し、その表面状態を目視で観察した。その結果を表1に示す。
<Example 1, Reference Example>
A preform made of phosphate glass (Knoop hardness 370 measured by the above-mentioned method, wear degree 470) is immersed in a 1.0 vol% surface treatment solution (pH about 10) contained in a cleaning tank. The surface treatment liquid was irradiated with ultrasonic waves having a frequency of 170 kHz and an output of 300 W over the time shown in Table 1. Thereafter, the preform was taken out from the cleaning tank, and the surface state was visually observed. The results are shown in Table 1.

(比較例1〜3)
周波数を40kHz(比較例1)、72kHz(比較例2)に変更し、超音波の照射時間を3秒に変更した点を除き、実施例1と同様の手順で超音波照射を行い、プリフォームの表面状態を目視で観察した。その結果を表1に示す。
(Comparative Examples 1-3)
Except that the frequency was changed to 40 kHz (Comparative Example 1) and 72 kHz (Comparative Example 2) and the ultrasonic irradiation time was changed to 3 seconds, ultrasonic irradiation was performed in the same procedure as in Example 1, The surface condition of was visually observed. The results are shown in Table 1.

Figure 2012158498
Figure 2012158498

表1及び後述の表において、汚れ及び傷は、以下の基準で評価した。
汚れ: ◎ 汚れが全く確認されなかった。
○ 僅かな汚れが確認された。
△ 少なからぬ汚れが確認された。
× 汚れが目立った。
傷: ◎ 傷が全く確認されなかった。
○ 僅かな傷が確認された。
△ 少なからぬ傷が確認された。
× 傷が目立った。
In Table 1 and the following table, dirt and scratches were evaluated according to the following criteria.
Dirt: ◎ Dirt was not confirmed at all.
○ Slight dirt was confirmed.
△ Not a little dirt was confirmed.
× Dirt was noticeable.
Scratches: ◎ No scratches were confirmed.
○ Slight scratches were confirmed.
Δ: Not a few scratches were confirmed.
× Scratches were conspicuous.

<実施例2、参考例>
超音波の周波数を表2に示す値に設定し、照射時間を5秒又は100秒とした点を除き、実施例1と同様の手順で超音波照射を行い、プリフォームの表面状態を目視で観察した。その結果を表2に示す。
<Example 2, reference example>
The ultrasonic frequency was set to the value shown in Table 2 and the ultrasonic irradiation was performed in the same procedure as in Example 1 except that the irradiation time was 5 seconds or 100 seconds, and the surface state of the preform was visually observed. Observed. The results are shown in Table 2.

Figure 2012158498
Figure 2012158498

<実施例3>
超音波の周波数及び出力を表3、4に示す値に設定し、照射時間を5秒又は100秒とした点を除き、実施例1と同様の手順で超音波照射を行い、プリフォームの表面状態を目視で観察した。その結果を表3及び4に示す。
<Example 3>
The surface of the preform was subjected to ultrasonic irradiation in the same manner as in Example 1 except that the ultrasonic frequency and output were set to the values shown in Tables 3 and 4 and the irradiation time was 5 seconds or 100 seconds. The state was observed visually. The results are shown in Tables 3 and 4.

Figure 2012158498
Figure 2012158498

Figure 2012158498
Figure 2012158498

<実施例4>
表面処理液として、表5に示すpHを有するものを用いた点を除き、実施例1と同様の手順で超音波照射を行い、プリフォームの表面形状を目視で観察した。その結果を表5に示す。
<Example 4>
Except that the surface treatment liquid having a pH shown in Table 5 was used, ultrasonic irradiation was performed in the same procedure as in Example 1, and the surface shape of the preform was visually observed. The results are shown in Table 5.

Figure 2012158498
Figure 2012158498

<実施例5>
実施例4での洗浄後のプリフォーム(pH8、11、12の表面処理液を用いて得たもの)を、純水槽内に収容した純水中に浸漬し、純水に、周波数170kHz、出力300Wの超音波を90秒間に亘って照射した。プリフォームを取り出し、再び別の純水槽内に収容した純水中に浸漬し、純水に、周波数170kHz、出力300Wの超音波を90秒間に亘って照射した。
<Example 5>
The preform after washing in Example 4 (obtained using a surface treatment solution of pH 8, 11, 12) was immersed in pure water contained in a pure water tank, and the frequency was 170 kHz and output to pure water. 300 W ultrasonic waves were applied for 90 seconds. The preform was taken out and immersed again in pure water contained in another pure water tank, and the pure water was irradiated with ultrasonic waves having a frequency of 170 kHz and an output of 300 W for 90 seconds.

その後、プリフォームを取り出し、IPA槽内に収容したイソプロピルアルコール中に浸漬し、このイソプロピルアルコールに、周波数170kHz、出力300Wの超音波を90秒間に亘って照射した。プリフォームを取り出し、別のIPA槽内に収容したイソプロピルアルコール中に浸漬し、5分間静置した。その後、プリフォームを取り出し、イソプロピルアルコール蒸気の雰囲気の乾燥槽内で15分間静置した。   Thereafter, the preform was taken out and immersed in isopropyl alcohol accommodated in an IPA tank, and this isopropyl alcohol was irradiated with ultrasonic waves having a frequency of 170 kHz and an output of 300 W for 90 seconds. The preform was taken out, immersed in isopropyl alcohol accommodated in another IPA tank, and allowed to stand for 5 minutes. Thereafter, the preform was taken out and allowed to stand for 15 minutes in a drying tank in an atmosphere of isopropyl alcohol vapor.

以上の工程を終えたプリフォームを、各々100個ずつ、一般的なプレス成形型で成形し、プレス成形体を製造した。各プレス成形体を観察したところ、いずれにも傷及び汚れがなかった。ただし、pH12の表面処理液を用いて得たプリフォームの場合、得られるプレス成形体のいくつかに、プリフォームに残存していた表面処理液に起因する白色化したものが混在していた。   100 preforms each having been subjected to the above steps were molded with a general press mold to produce a press molded body. When each press-molded body was observed, none were scratched or soiled. However, in the case of a preform obtained using a surface treatment solution having a pH of 12, some of the obtained press-molded products were whitened due to the surface treatment solution remaining in the preform.

Claims (10)

ガラス塊の表面を洗浄して被洗浄ガラス体を製造する方法であって、
前記洗浄は、前記ガラス塊を表面処理液に浸漬し、この表面処理液に100kHz以上200kHz以下の超音波を5秒以上100秒以下に亘って照射することで行う方法。
A method for producing a glass body to be cleaned by cleaning the surface of a glass lump,
The cleaning is performed by immersing the glass block in a surface treatment liquid and irradiating the surface treatment liquid with ultrasonic waves of 100 kHz to 200 kHz for 5 seconds to 100 seconds.
前記超音波は、100W以上600W以下の出力で発生させる請求項1記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the ultrasonic wave is generated with an output of 100 W or more and 600 W or less. 前記表面処理液は、8以上11以下のpHを有する請求項1又は2記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the surface treatment liquid has a pH of 8 or more and 11 or less. 洗浄後のガラス塊を水及び/又は有機溶媒中に浸漬し、前記水及び/又は有機溶媒に100kHz以上200kHz以下の超音波を10秒以上120秒以下に亘って照射する工程を更に有する請求項1から3いずれか記載の方法。   The method further comprises a step of immersing the washed glass lump in water and / or an organic solvent, and irradiating the water and / or organic solvent with an ultrasonic wave of 100 kHz to 200 kHz for 10 seconds to 120 seconds. The method according to any one of 1 to 3. 前記超音波は、100W以上600W以下の出力で発生させる請求項4記載の方法。   The method according to claim 4, wherein the ultrasonic wave is generated with an output of 100 W or more and 600 W or less. 前記ガラス塊は、微小硬度計で測定される400以下のヌープ硬さを有する請求項1から5いずれか記載の方法。   6. The method according to claim 1, wherein the glass block has a Knoop hardness of 400 or less as measured with a microhardness meter. 前記ガラス塊は、600以下の磨耗度(9.8Nの一定荷重が負荷された鋳鉄製平面皿で研磨液を供給しながら磨耗させたときの磨耗質量から算出される)を有する請求項1から6いずれか記載の方法。   The glass lump has a wear degree of 600 or less (calculated from a wear mass when being worn while supplying a polishing liquid with a cast iron flat plate loaded with a constant load of 9.8 N). 6. The method according to any one of the above. 前記ガラス塊は、プレス成形前のプリフォーム又はプレス成形後のガラス成形体である請求項1から7いずれか記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the glass lump is a preform before press molding or a glass molded body after press molding. 請求項1から8いずれか記載の方法で製造される被洗浄ガラス体から製造される光学素子。   The optical element manufactured from the to-be-cleaned glass body manufactured by the method in any one of Claim 1 to 8. 請求項9記載の光学素子を用いた光学機器。   An optical apparatus using the optical element according to claim 9.
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