JP2012153121A - Resin composition for laser engraving, method for producing the same, relief printing original plate for laser engraving, method for manufacturing the same, relief printing plate, and method for making the same - Google Patents

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    • B41N1/12Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for laser engraving which is excellent in engraving residue removing property and film strength and forms a highly delicate image, a relief printing original plate using the composition, a method for making a relief printing plate using the original plate, and a relief printing plate obtained by the method.SOLUTION: The resin composition for laser engraving includes: (component A) a main polymer; (component B) a dispersion polymer smaller in weight-average molecular weight than the main polymer; and (component C) a filler, the component C being preliminarily dispersed in the component B. The relief printing original plate using the composition, a method for making a relief printing plate using the original plate, and a relief printing plate obtained by the method are also provided.

Description

本発明は、レーザー彫刻用樹脂組成物及びその製造方法、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版及びその製版方法に関する。   The present invention relates to a resin composition for laser engraving and a method for producing the same, a relief printing plate precursor for laser engraving and a method for producing the same, a relief printing plate and a method for making the plate.

レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が多く提案されている。この方式では、フレキソ原版に直接レーザーを照射し、光熱変換で熱分解及び揮発を生じさせ、凹部を形成する。直彫りCTP方式は、原画フィルムを用いたレリーフ形成と異なり、自由にレリーフ形状を制御することができる。このため、抜き文字の如き画像を形成する場合、その領域を他の領域よりも深く彫刻する、又は、微細網点画像では、印圧に対する抵抗を考慮し、ショルダーをつけた彫刻をする、なども可能である。この方式に用いられるレーザーは高出力の炭酸ガスレーザーが用いられることが一般的である。炭酸ガスレーザーの場合、全ての有機化合物が照射エネルギーを吸収して熱に変換できる。一方、安価で小型の半導体レーザーが開発されてきているが、これらは可視及び近赤外光であるため、該レーザー光を吸収して熱に変換することが必要となる。
一方、レジストとして使用する感光性樹脂組成物としては、特許文献1及び特許文献2が知られている。
Many so-called “direct engraving CTP methods” have been proposed in which a relief forming layer is directly engraved with a laser to make a plate. In this method, the flexographic original is directly irradiated with a laser, and thermal decomposition and volatilization are caused by photothermal conversion to form a recess. Unlike the relief formation using the original film, the direct engraving CTP method can freely control the relief shape. For this reason, when an image such as a letter is formed, the area is engraved deeper than other areas, or the fine halftone dot image is engraved with a shoulder in consideration of resistance to printing pressure, etc. Is also possible. In general, a high-power carbon dioxide laser is used as a laser for this method. In the case of a carbon dioxide laser, all organic compounds can absorb irradiation energy and convert it into heat. On the other hand, inexpensive and small-sized semiconductor lasers have been developed. However, since these are visible and near infrared light, it is necessary to absorb the laser light and convert it into heat.
On the other hand, Patent Literature 1 and Patent Literature 2 are known as photosensitive resin compositions used as resists.

特開2003−26950号公報JP 2003-26950 A 特開2008−81732号公報JP 2008-81732 A

本発明の目的は、彫刻カスの除去性、膜強度に優れ、高繊細な画像が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することである。   An object of the present invention is to provide a resin composition for laser engraving, which is excellent in engraving residue removal and film strength, and provides a high-definition image, a relief printing plate precursor using the resin composition for laser engraving, and using the same It is to provide a method for making a relief printing plate and a relief printing plate obtained thereby.

本発明の上記課題は以下の<1>、<12>〜<16>及び<19>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<11>、<17>及び<18>と共に以下に記載する。
<1>(成分A)メインポリマー、(成分B)前記メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー、及び、(成分C)フィラー、を含有し、成分Cが予め成分Bにより分散されていることを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物、
<2>成分Aの重量平均分子量が5,000〜300,000である、上記<1>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<3>成分Aと成分Bが同種のポリマーである、上記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<4>成分Bの重量平均分子量が、成分Aの重量平均分子量の半分以下である、上記<1>〜<3>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<5>成分Aと成分Bが共にポリビニルブチラールである、上記<1>〜<4>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<6>成分Aと成分Bの水酸基mol%の絶対値の差が0〜10である、上記<5>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<7>成分Cがカーボンブラックである、上記<1>〜<6>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<8>(成分D)エチレン性不飽和化合物を更に含む、上記<1>〜<7>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<9>(成分E)重合開始剤を更に含む、上記<1>〜<8>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<10>(成分F)可塑剤を更に含む、上記<1>〜<9>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<11>(成分G)周期律表の1〜16族から選択される金属又はメタロイドの少なくとも1つのオキシ化合物を更に含む、上記<1>〜<10>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物、
<12>成分Bにより成分Cを予め分散する分散工程、及び、前記分散工程で調製された分散物と成分Aを混合する混合工程を含む上記<1>〜<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法、
<13>上記<1>〜<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、
<14>上記<1>〜<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、
<15>上記<1>〜<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、及び、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含むレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法、
<16>上記<1>〜<11>のいずれか1つに記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含むレリーフ印刷版の製版方法、
<17>前記レーザー彫刻を700〜1,300nmのレーザーにより行う、上記<16>に記載のレリーフ印刷版の製版方法、
<18>彫刻後のレリーフ層表面を水又は水溶液により洗浄する洗浄工程を更に含む、上記<16>又は<17>に記載のレリーフ印刷版の製版方法、
<19>上記<16>〜<18>のいずれか1つに記載のレリーフ印刷版の製版方法により製造されたレリーフ層を有するレリーフ印刷版。
The above-described problems of the present invention have been solved by means described in the following <1>, <12> to <16>, and <19>. It is described below together with <2> to <11>, <17> and <18> which are preferred embodiments.
<1> Contains (Component A) main polymer, (Component B) a dispersion polymer having a weight average molecular weight smaller than that of the main polymer, and (Component C) filler, and Component C is dispersed in advance by Component B. A resin composition for laser engraving,
<2> The resin composition for laser engraving according to <1>, wherein the weight average molecular weight of component A is 5,000 to 300,000,
<3> The resin composition for laser engraving according to <1> or <2>, wherein the component A and the component B are the same type of polymer,
<4> The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <3>, wherein the weight average molecular weight of component B is half or less of the weight average molecular weight of component A,
<5> The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <4>, wherein both component A and component B are polyvinyl butyral,
<6> The resin composition for laser engraving according to the above <5>, wherein the difference between the absolute values of mol% of hydroxyl groups of component A and component B is 0 to 10,
<7> The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <6>, wherein Component C is carbon black,
<8> (Component D) The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <7>, further comprising an ethylenically unsaturated compound,
<9> (Component E) The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <8>, further comprising a polymerization initiator,
<10> (Component F) The resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <9>, further comprising a plasticizer,
<11> (Component G) The laser engraving according to any one of <1> to <10>, further including at least one oxy compound of a metal or metalloid selected from Group 1 to 16 of the periodic table. Resin composition,
<12> In any one of the above items <1> to <11>, including a dispersion step of dispersing component C in advance with component B, and a mixing step of mixing the dispersion prepared in the dispersion step and component A A method for producing the resin composition for laser engraving,
<13> A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <11> above,
<14> A relief printing plate precursor for laser engraving having a crosslinked relief forming layer obtained by thermally crosslinking a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <11> above,
<15> A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <11>, and the relief forming layer by light and / or heat A method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a crosslinking step of obtaining a relief printing plate precursor that is crosslinked and has a crosslinked relief-forming layer,
<16> A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of the above <1> to <11>, the relief forming layer is crosslinked by light and / or heat. A method for making a relief printing plate comprising a crosslinking step for obtaining a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer, and a engraving step for laser engraving the relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer to form a relief layer,
<17> The method for making a relief printing plate according to <16>, wherein the laser engraving is performed with a laser having a wavelength of 700 to 1,300 nm,
<18> The process for making a relief printing plate according to <16> or <17>, further comprising a washing step of washing the relief layer surface after engraving with water or an aqueous solution,
<19> A relief printing plate having a relief layer produced by the method for making a relief printing plate according to any one of <16> to <18>.

本発明によれば、彫刻カスの除去性、膜強度に優れ、高繊細な画像が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供することができた。   According to the present invention, the resin composition for laser engraving, which is excellent in engraving residue removal property and film strength and provides a high-definition image, the relief printing plate precursor using the laser engraving resin composition, and the same A method for making a relief printing plate and a relief printing plate obtained thereby were provided.

本発明に使用したファイバー付き半導体レーザー記録装置を備える製版装置を示す概略構成図(斜視図)である。It is a schematic block diagram (perspective view) which shows the plate making apparatus provided with the semiconductor laser recording device with a fiber used for this invention.

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本発明において、数値範囲を表す「下限〜上限」の記載は、「下限以上、上限以下」を表し、「上限〜下限」の記載は、「上限以下、下限以上」を表す。すなわち、上限及び下限を含む数値範囲を表す。また、「(成分A)メインポリマー」等を単に「成分A」等ともいう。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, the description of “lower limit to upper limit” representing a numerical range represents “lower limit or higher and lower limit or lower”, and the description of “upper limit to lower limit” represents “lower limit or higher and lower limit or higher”. That is, it represents a numerical range including an upper limit and a lower limit. Further, “(component A) main polymer” or the like is also simply referred to as “component A” or the like.

(レーザー彫刻用樹脂組成物)
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物(以下、単に「樹脂組成物」とも言う。)は、(成分A)メインポリマー、(成分B)前記メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー、及び、(成分C)フィラー、を含有し、成分Cが予め成分Bにより分散されていることを特徴とする。
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、レーザー彫刻が施されるレリーフ印刷版原版のレリーフ形成層用途以外にも、特に限定なく、他の用途にも広範囲に適用することができる。例えば、以下に詳述する凸状のレリーフ形成をレーザー彫刻により行う印刷版原版のレリーフ形成層のみならず、表面に凹凸や開口部を形成する他の製造物、例えば、凹版、孔版、スタンプ等、レーザー彫刻により画像形成される各種印刷版や各種成形体の形成に適用することができる。
中でも、適切な支持体上に設けられるレリーフ形成層の形成に適用することが好ましい態様である。
(Resin composition for laser engraving)
The resin composition for laser engraving of the present invention (hereinafter also simply referred to as “resin composition”) includes (Component A) a main polymer, (Component B) a dispersion polymer having a weight average molecular weight smaller than that of the main polymer, and (Component C) A filler is contained, and Component C is dispersed in advance by Component B.
The resin composition for laser engraving of the present invention is not particularly limited other than the relief forming layer application of the relief printing plate precursor subjected to laser engraving, and can be widely applied to other applications. For example, not only the relief forming layer of the printing plate precursor that forms the convex relief described in detail below by laser engraving, but also other products that form irregularities and openings on the surface, such as intaglio, stencil, stamp, etc. The present invention can be applied to the formation of various printing plates and various molded articles on which images are formed by laser engraving.
Especially, it is a preferable aspect to apply to formation of the relief forming layer provided on a suitable support body.

なお、本明細書では、レリーフ印刷版原版の説明に関し、レーザー彫刻に供する画像形成層としての、表面が平坦な層であり、かつ未架橋の架橋性層をレリーフ形成層と称し、前記レリーフ形成層を架橋した層を架橋レリーフ形成層と称し、これをレーザー彫刻して表面に凹凸を形成した層をレリーフ層と称する。
以下、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成成分について説明する。
In the present specification, regarding the explanation of the relief printing plate precursor, an image-forming layer used for laser engraving is a flat surface and an uncrosslinked crosslinkable layer is referred to as a relief-forming layer, A layer obtained by crosslinking the layers is referred to as a crosslinked relief forming layer, and a layer in which irregularities are formed on the surface by laser engraving is referred to as a relief layer.
Hereinafter, the components of the resin composition for laser engraving will be described.

<(成分A)メインポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分A)メインポリマーを含有する。
前記メインポリマーは、レーザー彫刻用樹脂組成物に含有されるバインダーポリマー(以下、「バインダー」とも言う。)であり、分子量1,000〜1000,000の結着樹脂である。本発明のバインダーは、1種を単独使用するか、又は、2種以上を併用することができる。特に、レーザー彫刻用樹脂組成物を印刷版原版のレリーフ形成層に用いる際は、レーザー彫刻感度、インキ受与性、彫刻カス分散性などの種々の性能を考慮して、本発明のバインダーを選択することが好ましい。
本発明のメインポリマーの重量平均分子量は、5,000〜500,000が好ましく、5,000〜300,000がより好ましく、10,000〜200,000が特に好ましい。尚、重量平均分子量は、GPC測定によるポリスチレン換算の値である。
本発明のメインポリマーとしては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどが例示できる。好ましくは、アセタール樹脂が挙げられる。
<(Component A) main polymer>
The resin composition for laser engraving of the present invention contains (Component A) a main polymer.
The main polymer is a binder polymer (hereinafter also referred to as “binder”) contained in the resin composition for laser engraving, and is a binder resin having a molecular weight of 1,000 to 1,000,000. The binder of this invention can be used individually by 1 type, or can use 2 or more types together. In particular, when the resin composition for laser engraving is used for the relief forming layer of the printing plate precursor, the binder of the present invention is selected in consideration of various performances such as laser engraving sensitivity, ink acceptability, and engraving residue dispersibility. It is preferable to do.
The weight average molecular weight of the main polymer of the present invention is preferably 5,000 to 500,000, more preferably 5,000 to 300,000, and particularly preferably 10,000 to 200,000. The weight average molecular weight is a value in terms of polystyrene as measured by GPC.
As the main polymer of the present invention, polystyrene resin, polyester resin, polyamide resin, polyurea resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, hydrophilic polymer containing hydroxyethylene units, Examples include acrylic resin, acetal resin, epoxy resin, polycarbonate resin, rubber, and thermoplastic elastomer. Preferably, an acetal resin is used.

本発明のメインポリマーは、付加重合、重縮合等種々の重合反応で合成された既知の化合物を使用することができ、目的に合わせたポリマーを選択することもできる。例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光あるいは加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。更に、レーザー彫刻用樹脂組成物を、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層に適用する場合であれば、レリーフ形成層用組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点から、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。   As the main polymer of the present invention, known compounds synthesized by various polymerization reactions such as addition polymerization and polycondensation can be used, and a polymer suitable for the purpose can also be selected. For example, from the viewpoint of laser engraving sensitivity, a polymer containing a partial structure that is thermally decomposed by exposure or heating is preferable. For example, when the purpose is to form a soft and flexible film, a soft resin or a thermoplastic elastomer is selected. Furthermore, if the resin composition for laser engraving is applied to the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving, the ease of preparation of the composition for the relief forming layer and the oil-based ink in the resulting relief printing plate It is preferable to use a hydrophilic or alcoholic polymer from the viewpoint of improving the resistance to water.

加えて、レリーフ形成層を加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、分子内に、ヒドロキシル基、アルコキシ基、加水分解性シリル基及びシラノール基等の反応性官能基を有するメインポリマーであることが好ましい。
これらの官能基は、メインポリマー分子中のいずれかに存在すればよいが、特にメインポリマー鎖の側鎖に存在することが好ましい。このようなポリマーとしては、ビニル共重合体(ポリビニルアルコールやポリビニルアセタールなどのビニルモノマーの共重合体及びその誘導体)やアクリル樹脂(ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどのアクリル系モノマーの共重合体及びその誘導体)が好ましく用いられる。ここで、ビニルモノマーの共重合体の誘導体とは、具体的には、ビニルアルコール単位の水酸基あるいは水酸基のα位を化学修飾して側鎖を延長した形態とし、その末端に水酸基やカルボキシル基といった官能基を導入したポリマーのことを指す。
本発明に用いるメインポリマーとしては、ヒドロキシル基を有するバインダーポリマーが特に好ましく用いられる。
In addition, when the relief forming layer is cured by heating or exposure and used for the purpose of improving the strength, reactive functional groups such as hydroxyl group, alkoxy group, hydrolyzable silyl group and silanol group are present in the molecule. It is preferable that the main polymer has
These functional groups may be present anywhere in the main polymer molecule, but are preferably present in the side chain of the main polymer chain. Examples of such polymers include vinyl copolymers (copolymers of vinyl monomers such as polyvinyl alcohol and polyvinyl acetal and derivatives thereof), acrylic resins (copolymers of acrylic monomers such as hydroxyethyl (meth) acrylate), and the like. Derivatives) are preferably used. Here, the vinyl monomer copolymer derivative is specifically a hydroxyl group of the vinyl alcohol unit or a form in which the α-position of the hydroxyl group is chemically modified to extend the side chain, and a hydroxyl group or a carboxyl group is formed at the terminal. It refers to a polymer into which a functional group has been introduced.
As the main polymer used in the present invention, a binder polymer having a hydroxyl group is particularly preferably used.

〔ヒドロキシル基を有するバインダーポリマー〕
以下、本発明のメインポリマーとして用いる、ヒドロキシル基を有するバインダーポリマー(以下、適宜、「特定ポリマー」ともいう。)について説明する。このバインダーポリマーは水不溶、かつ、炭素数1〜4のアルコールに可溶であることが好ましい。
[Binder polymer having a hydroxyl group]
Hereinafter, the binder polymer having a hydroxyl group (hereinafter, also referred to as “specific polymer” as appropriate) used as the main polymer of the present invention will be described. This binder polymer is preferably insoluble in water and soluble in an alcohol having 1 to 4 carbon atoms.

特定ポリマーとして、水性インキ適性とUVインキ適性を両立しつつ、かつ彫刻感度が高く皮膜性も良好であるという観点で、ポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等が好ましい。中でも、ポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体がより好ましい。   As a specific polymer, polyvinyl butyral (PVB) and its derivatives, an acrylic resin having a hydroxyl group in a side chain, from the viewpoint of having both water-based ink suitability and UV ink suitability and having high engraving sensitivity and good film properties, And the epoxy resin etc. which have a hydroxyl group in a side chain are preferable. Among these, polyvinyl butyral (PVB) and its derivatives are more preferable.

特定ポリマーは、後述する光熱変換剤と組み合わせた場合に、ガラス転移温度(Tg)が20℃以上のものとすることで、彫刻感度が向上するため、特に好ましい。このようなガラス転移温度を有するバインダーポリマーを以下、非エラストマーと称する。即ち、エラストマーとは、一般的に、ガラス転移温度が常温以下のポリマーであるとして学術的に定義されている(科学大辞典 第2版、編者 国際科学振興財団、発行 丸善株式会社、P154参照)。従って、非エラストマーとはガラス転移温度が常温を超える温度であるポリマーを指す。バインダーポリマーのガラス転移温度の上限には制限はないが、200℃以下であることが取り扱い性の観点から好ましく、25℃以上120℃以下であることがより好ましい。   The specific polymer is particularly preferable because the engraving sensitivity is improved when the glass transition temperature (Tg) is 20 ° C. or higher when combined with a photothermal conversion agent described later. Hereinafter, the binder polymer having such a glass transition temperature is referred to as a non-elastomer. That is, an elastomer is generally defined academically as a polymer having a glass transition temperature of room temperature or lower (see Science Dictionary 2nd Edition, Editor International Science Promotion Foundation, published by Maruzen Co., Ltd., P154). . Therefore, a non-elastomer refers to a polymer having a glass transition temperature exceeding normal temperature. Although there is no restriction | limiting in the upper limit of the glass transition temperature of a binder polymer, it is preferable from a viewpoint of handleability that it is 200 degrees C or less, and it is more preferable that it is 25 degreeC or more and 120 degrees C or less.

ガラス転移温度が室温(20℃)以上のポリマーを用いる場合、特定ポリマーは常温ではガラス状態をとるが、このためゴム状態をとる場合に比較して、熱的な分子運動はかなり抑制された状態にある。レーザー彫刻においては、レーザー照射時に、赤外線レーザーが付与する熱に加え、所望により併用される光熱変換剤の機能により発生した熱が、周囲に存在する特定ポリマーに伝達され、これが熱分解、消散して、結果的に彫刻されて凹部が形成される。
本発明の好ましい態様では、特定ポリマーの熱的な分子運動が抑制された状態の中に光熱変換剤が存在すると特定ポリマーへの熱伝達と熱分解が効果的に起こるものと考えられ、このような効果によって彫刻感度が更に増大したものと推定される。
特定ポリマーの特に好ましい態様である非エラストマーの具体例を以下に挙げる。
When a polymer having a glass transition temperature of room temperature (20 ° C.) or higher is used, the specific polymer takes a glass state at room temperature. Therefore, compared to a rubber state, the thermal molecular motion is considerably suppressed. It is in. In laser engraving, in addition to the heat imparted by the infrared laser during laser irradiation, the heat generated by the function of the photothermal conversion agent used in combination with the desired heat is transferred to a specific polymer around it, which decomposes and dissipates. As a result, engraving is performed to form a recess.
In a preferred embodiment of the present invention, it is considered that heat transfer and thermal decomposition to a specific polymer occur effectively when a photothermal conversion agent is present in a state where thermal molecular motion of the specific polymer is suppressed. It is presumed that the engraving sensitivity is further increased by this effect.
Specific examples of the non-elastomer which is a particularly preferable embodiment of the specific polymer are listed below.

(1)ポリビニルアセタール誘導体
本明細書においては、以下、ポリビニルアセタール及びその誘導体を単にポリビニルアセタール誘導体ともいう。すなわち、本明細書においてポリビニルアセタール誘導体は、ポリビニルアセタール及びその誘導体を包含する概念で使用され、ポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるポリビニルアルコールを環状アセタール化することにより得られる化合物の総称を示す。
ポリビニルアセタール誘導体中のアセタール含量(原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数を100%とし、アセタール化されるビニルアルコール単位のモル%)は、30〜90%が好ましく、50〜85%がより好ましく、55〜78%が特に好ましい。
ポリビニルアセタール誘導体中のビニルアルコール単位としては、原料の酢酸ビニルモノマーの総モル数に対して、10〜70モル%が好ましく、15〜50モル%がより好ましく、22〜45モル%が特に好ましい。
また、ポリビニルアセタール誘導体は、その他の成分として、酢酸ビニル単位を有していてもよく、その含量としては0.01〜20モル%が好ましく、0.1〜10モル%が更に好ましい。ポリビニルアセタール誘導体は、更に、その他の共重合単位を有していてもよい。
ポリビニルアセタール誘導体としては、ポリビニルブチラール誘導体、ポリビニルプロピラール誘導体、ポリビニルエチラール誘導体、ポリビニルメチラール誘導体などが挙げられ、中でもポリビニルブチラール誘導体(以下、「PVB誘導体」ともいう。)が特に好ましい。なお、これらの記載においても、例えば、ポリビニルブチラール誘導体とは、本明細書においては、ポリビニルブチラール及びその誘導体を包含する意味で用いられ、他のポリビニルアセタール誘導体類についても同様である。
(1) Polyvinyl acetal derivative In this specification, a polyvinyl acetal and its derivative are also only called a polyvinyl acetal derivative hereafter. That is, in this specification, a polyvinyl acetal derivative is used by the concept including polyvinyl acetal and its derivative, and shows the general term of the compound obtained by carrying out the cyclic acetalization of the polyvinyl alcohol obtained by saponifying a polyvinyl acetate.
The acetal content in the polyvinyl acetal derivative is preferably 30 to 90%, more preferably 50 to 85%, assuming that the total number of moles of the raw vinyl acetate monomer is 100%, and the mole percentage of vinyl alcohol units to be acetalized. 55 to 78% is particularly preferable.
The vinyl alcohol unit in the polyvinyl acetal derivative is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 15 to 50 mol%, particularly preferably 22 to 45 mol%, based on the total number of moles of the starting vinyl acetate monomer.
Moreover, the polyvinyl acetal derivative may have a vinyl acetate unit as other components, and the content thereof is preferably 0.01 to 20 mol%, and more preferably 0.1 to 10 mol%. The polyvinyl acetal derivative may further have other copolymer units.
Examples of the polyvinyl acetal derivative include a polyvinyl butyral derivative, a polyvinyl propylal derivative, a polyvinyl ethylal derivative, a polyvinyl methylal derivative, etc. Among them, a polyvinyl butyral derivative (hereinafter also referred to as “PVB derivative”) is particularly preferable. In these descriptions, for example, the term “polyvinyl butyral derivative” is used in the present specification to include polyvinyl butyral and its derivatives, and the same applies to other polyvinyl acetal derivatives.

以下、ポリビニルアセタールの特に好ましい例として、ポリビニルブチラールを挙げて説明するが、これに限定されない。
ポリビニルブチラール誘導体の構造の一例は、以下に示す通りであり、これらの各構成単位を任意の割合で含んで構成されるが、Lは50モル%以上であることが好ましい。
Hereinafter, polyvinyl butyral will be described as a particularly preferable example of polyvinyl acetal. However, the present invention is not limited to this.
An example of the structure of the polyvinyl butyral derivative is as shown below, and each of these structural units is included at an arbitrary ratio, but L is preferably 50 mol% or more.

Figure 2012153121
Figure 2012153121

PVB誘導体としては、市販品としても入手可能であり、その好ましい具体例としては、アルコール溶解性(特にエタノール)の観点で、積水化学工業(株)製の「エスレックB」シリーズ、「エスレックK(KS)」シリーズ、電気化学工業(株)製の「デンカブチラール」が好ましく、アルコール溶解性(特にエタノール)の観点で、積水化学工業(株)製の「エスレックB」シリーズ、電気化学工業(株)製の「デンカブチラール」がより好ましい。
これらのうち、特に好ましい市販品を、上記式中の、L、m、及びnの値と、分子量とともに以下に示す。積水化学工業(株)製の「エスレックB」シリーズでは、「BL−1」(L=61、m=3、n=36、重量平均分子量1.9万)、「BL−1H」(L=67、m=3、n=30、重量平均分子量2.0万)、「BL−2」(L=61、m=3、n=36、重量平均分子量約2.7万)、「BL−5」(L=75、m=4、n=21、重量平均分子量3.2万)、「BL−S」(L=74、m=4、n=22、重量平均分子量2.3万)、「BM−S」(L=73、m=5、n=22、重量平均分子量5.3万)、「BH−S」(L=73、m=5、n=22、重量平均分子量6.6万)が、また、電気化学工業(株)製の「デンカブチラール」シリーズでは「#3000−1」(L=71、m=1、n=28、重量平均分子量7.4万)、「#3000−2」(L=71、m=1、n=28、重量平均分子量9.0万)、「#3000−4」(L=71、m=1、n=28、重量平均分子量11.7万)、「#4000−2」(L=71、m=1、n=28、重量平均分子量15.2万)、「#6000−C」(L=64、m=1、n=35、重量平均分子量30.8万)、「#6000−EP」(L=56、m=15、n=29、重量平均分子量38.1万)、「#6000−CS」(L=74、m=1、n=25、重量平均分子量32.2万)、「#6000−AS」(L=73、m=1、n=26、重量平均分子量24.2万)が、また、株式会社クラレ製の「モビタール」シリーズでは「B60H」(L=71、m=1、n=28、重量平均分子量14.0万)、「B60HH」(L=80、m=1、n=19、重量平均分子量19万)、「B30HH」(L=80、m=1、n=19、重量平均分子量13万)が、それぞれ挙げられる。
PVB誘導体を特定ポリマーとして用いてレリーフ形成層を製膜する際には、溶媒に溶かした溶液をキャストし乾燥させる方法が、膜表面の平滑性の観点で好ましい。
As the PVB derivative, it is also available as a commercial product, and preferred specific examples thereof include, from the viewpoint of alcohol solubility (particularly ethanol), “S-Lec B” series, “S-LEC K” (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). KS) ”series and“ Denkabutyral ”manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. are preferred. From the viewpoint of alcohol solubility (especially ethanol),“ S-Lec B ”series manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. “Denkabutyral” made by) is more preferable.
Among these, particularly preferred commercial products are shown below together with the values of L, m, and n and the molecular weight in the above formula. In the “S Lec B” series manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., “BL-1” (L = 61, m = 3, n = 36, weight average molecular weight 190000), “BL-1H” (L = 67, m = 3, n = 30, weight average molecular weight 2 million), “BL-2” (L = 61, m = 3, n = 36, weight average molecular weight about 27,000), “BL− 5 ”(L = 75, m = 4, n = 21, weight average molecular weight 32,000),“ BL-S ”(L = 74, m = 4, n = 22, weight average molecular weight 23,000) "BM-S" (L = 73, m = 5, n = 22, weight average molecular weight 53,000), "BH-S" (L = 73, m = 5, n = 22, weight average molecular weight 6) In addition, “# 3000-1” (L = 71, m = 1, n = 28, weight average molecular weight 74,000) in the “Denkabutyral” series manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. “# 3000-2” (L = 71, m = 1, n = 28, weight average molecular weight 90000), “# 3000-4” (L = 71, m = 1, n = 28, weight average molecular weight 17,000), “# 4000-2” (L = 71, m = 1, n = 28, weight average molecular weight 152,000), “# 6000-C” (L = 64, m = 1, n = 35, weight average molecular weight 308,000), "# 6000-EP" (L = 56, m = 15, n = 29, weight average molecular weight 381,000), "# 6000-CS" (L = 74 , M = 1, n = 25, weight average molecular weight 322,000), “# 6000-AS” (L = 73, m = 1, n = 26, weight average molecular weight 242,000) "B60H" (L = 71, m = 1, n = 28, weight average molecular weight 14,000,000), "B6" HH "(L = 80, m = 1, n = 19, weight average molecular weight 190,000)," B30HH "(L = 80, m = 1, n = 19, weight average molecular weight 130,000) may be mentioned, respectively.
When a relief forming layer is formed using a PVB derivative as a specific polymer, a method in which a solution dissolved in a solvent is cast and dried is preferable from the viewpoint of the smoothness of the film surface.

(2)アクリル樹脂
本発明のメインポリマーとして、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂が好ましく挙げられる。
ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂の合成に用いられるアクリル単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類であって分子内にヒドロキシル基を有するものが好ましい。このような単量体の具体例としては例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(2) Acrylic resin As the main polymer of the present invention, an acrylic resin having a hydroxyl group is preferably mentioned.
As the acrylic monomer used for the synthesis of the acrylic resin having a hydroxyl group, for example, (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, (meth) acrylamides having a hydroxyl group in the molecule are preferable. . Specific examples of such a monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like.

また、アクリル樹脂としては、上記ヒドロキシル基を有するアクリル単量体以外のアクリル単量体を共重合成分として含むこともできる。このような(メタ)アクリル酸エステル類としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、アセトキシエチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、エチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体のモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
更に、ウレタン基やウレア基を有するアクリル単量体を含んで構成される変性アクリル樹脂も好ましく使用することができる。
これらの中でも、水性インキ耐性の観点で、ラウリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート類、t−ブチルシクロヘキシルメタクリレートなど脂肪族環状構造を有する(メタ)アクリレート類が特に好ましい。
Moreover, as an acrylic resin, acrylic monomers other than the acrylic monomer which has the said hydroxyl group can also be included as a copolymerization component. Such (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) ) Acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, acetoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2 -Ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meth) a Relate, diethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, diethylene glycol monophenyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, dipropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate , Polyethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, polypropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, monomethyl ether (meth) acrylate of a copolymer of ethylene glycol and propylene glycol, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N , N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopro Le (meth) acrylate.
Furthermore, a modified acrylic resin comprising an acrylic monomer having a urethane group or a urea group can also be preferably used.
Among these, alkyl (meth) acrylates such as lauryl (meth) acrylate and (meth) acrylates having an aliphatic cyclic structure such as t-butylcyclohexyl methacrylate are particularly preferable from the viewpoint of water-based ink resistance.

また、特定ポリマーとして、フェノール類とアルデヒド類とを酸性条件下で縮合させた樹脂であるノボラック樹脂を用いることができる。
好ましいノボラック樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−又はm−/p−、m−/o−、o−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアルデヒドとから得られるノボラック樹脂などが挙げられる。
Moreover, novolak resin which is resin which condensed phenols and aldehydes on acidic conditions can be used as a specific polymer.
Preferred novolak resins include, for example, novolak resins obtained from phenol and formaldehyde, novolak resins obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resins obtained from p-cresol and formaldehyde, and obtained from o-cresol and formaldehyde. Novolak resin, novolak resin obtained from octylphenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / No-, o- / p-mixed) and a novolak resin obtained from formaldehyde.

特定ポリマーの中でも、レリーフ形成層としたときのリンス性及び耐刷性の観点から、ポリビニルブチラール誘導体が特に好ましい。
特定ポリマーに含まれるヒドロキシル基の含有量は、前記いずれの態様のポリマーにおいても、0.1〜15mmol/gであることが好ましく、0.5〜7mmol/gであることがより好ましい。
Among the specific polymers, polyvinyl butyral derivatives are particularly preferable from the viewpoints of rinsing properties and printing durability when used as a relief forming layer.
The hydroxyl group content contained in the specific polymer is preferably 0.1 to 15 mmol / g, and more preferably 0.5 to 7 mmol / g, in any of the above-described polymers.

本発明の樹脂組成物における成分Aは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Aの含有量は、全固形分量に対して、10〜60重量%が好ましく、15〜55重量%がより好ましく、20〜50重量%が特に好ましい。
Component A in the resin composition of the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The content of Component A contained in the resin composition of the present invention is preferably 10 to 60% by weight, more preferably 15 to 55% by weight, and particularly preferably 20 to 50% by weight with respect to the total solid content.

<(成分B)メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分B)メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマーを含有する。
(成分B)メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマーは、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物に含有される、(成分C)フィラーを分散する分散ポリマーである(以下、単に「分散ポリマー」とも言う。)。
分散ポリマーの重量平均分子量は、メインメポリマーの重量平均分子量より小さいことが必須であり、好ましくは半分以下である。
成分Bは、前述の成分Aが選択される樹脂群から選ぶことができる。すなわち、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレア樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどが例示できる。
中でも、成分Aと同様に、分子内に、ヒドロキシル基、アルコキシ基、加水分解性シリル基及びシラノール基等の反応性官能基を有するバインダーであることが好ましく、更にフィラーを分散し易いものが好ましい。より好ましくは、ポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等が挙げられる。中でも、ポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体が特に好ましい。
<(Component B) Dispersion polymer having a weight average molecular weight smaller than that of the main polymer>
The resin composition for laser engraving of the present invention contains (Component B) a dispersion polymer having a weight average molecular weight smaller than that of the main polymer.
(Component B) The dispersion polymer having a weight average molecular weight smaller than that of the main polymer is a dispersion polymer that disperses the (Component C) filler contained in the resin composition for laser engraving of the present invention (hereinafter simply referred to as “dispersion polymer”). Also called.).
It is essential that the weight average molecular weight of the dispersion polymer is smaller than the weight average molecular weight of the main mepolymer, and preferably not more than half.
Component B can be selected from the resin group in which component A is selected. That is, polystyrene resin, polyester resin, polyamide resin, polyurea resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, hydrophilic polymer containing hydroxyethylene units, acrylic resin, acetal resin, Examples thereof include an epoxy resin, a polycarbonate resin, rubber, and a thermoplastic elastomer.
Among them, like the component A, a binder having a reactive functional group such as a hydroxyl group, an alkoxy group, a hydrolyzable silyl group, and a silanol group in the molecule is preferable, and a filler that can easily disperse the filler is preferable. . More preferably, polyvinyl butyral (PVB) and its derivatives, an acrylic resin having a hydroxyl group in the side chain, an epoxy resin having a hydroxyl group in the side chain, and the like are mentioned. Among these, polyvinyl butyral (PVB) and its derivatives are particularly preferable.

成分Bは、成分Aよりも重量平均分子量が小さければ、成分Aとは異なる種類のポリマーでも同種のポリマーでもよい。好ましくは同種のポリマーであり、成分A及び成分Bが共にポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂、及び、側鎖にヒドロキシル基を有するエポキシ樹脂等であることが好ましく、共にポリビニルブチラール(PVB)及びその誘導体であることが特に好ましい。ここで、同種のポリマーとは、繰り返し単位が同じであるポリマーを指す。
成分A及び成分Bが共にポリビニルブチラール誘導体等の水酸基を持つポリマーである場合、各々ポリマーに含まれる水酸基のmol%の絶対値の差が0〜10であることが好ましい。
As long as the component B has a weight average molecular weight smaller than that of the component A, it may be a different type of polymer from the component A or the same type of polymer. Preferably, they are the same type of polymer, and both component A and component B are polyvinyl butyral (PVB) and its derivatives, an acrylic resin having a hydroxyl group in the side chain, an epoxy resin having a hydroxyl group in the side chain, and the like. It is particularly preferable that both are polyvinyl butyral (PVB) and derivatives thereof. Here, the same type of polymer refers to a polymer having the same repeating unit.
When both component A and component B are polymers having a hydroxyl group such as a polyvinyl butyral derivative, it is preferable that the difference between the absolute values of mol% of the hydroxyl groups contained in the polymer is 0-10.

ポリマー中の水酸基のmol%の絶対値は、1H−NMRスペクトルを用い測定される。例えば、乾燥ポリビニルブチラール樹脂粉末を重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し1重量%濃度の溶液とし、その後、少量のテトラメチルシランを標準物質として添加し、25℃で1H−NMRスペクトルを測定する。得られたスペクトルの各ピークの積分強度から算出される。 The absolute value of mol% of the hydroxyl group in the polymer is measured using a 1 H-NMR spectrum. For example, dry polyvinyl butyral resin powder is dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide to form a 1 wt% solution, then a small amount of tetramethylsilane is added as a standard substance, and a 1 H-NMR spectrum is measured at 25 ° C. It is calculated from the integrated intensity of each peak of the obtained spectrum.

<(成分C)フィラー>
本発明における(成分C)フィラーは、樹脂組成物中で分子分散せず、固体の状態で分散するものであれば、特に限定はない。
本発明に用いることができるフィラーとしては、有機フィラー及び無機フィラーが挙げられる。
<(Component C) filler>
The (Component C) filler in the present invention is not particularly limited as long as it is not molecularly dispersed in the resin composition but is dispersed in a solid state.
Examples of fillers that can be used in the present invention include organic fillers and inorganic fillers.

有機フィラーとしては、低密度ポリエチレン粒子、高密度ポリエチレン粒子、ポリスチレン粒子、各種有機顔料、マイクロバルーン、尿素−ホルマリンフィラー、ポリエステルパーティクル、セルロースフィラー、有機金属等が挙げられる。
前記有機顔料としては、公知のものが挙げられ、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、カーボンブラック等が使用できる。また、無機顔料を含有していてもよい。
これらの中でも、有機フィラーとしては、カーボンブラックが特に好ましい。
Examples of the organic filler include low density polyethylene particles, high density polyethylene particles, polystyrene particles, various organic pigments, microballoons, urea-formalin fillers, polyester particles, cellulose fillers, and organic metals.
Examples of the organic pigment include known pigments, indigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments. Fluorescent pigments, carbon black, etc. can be used. Moreover, you may contain the inorganic pigment.
Among these, carbon black is particularly preferable as the organic filler.

カーボンブラックは、レリーフ形成層を構成する樹脂組成物中における分散安定性などに問題がない限り、ASTMにより分類される規格の製品以外でも、カラー用、ゴム用、乾電池用などの各種用途に通常使用されるいずれのカーボンブラックも使用可能である。
ここでいうカーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなども包含される。
本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBP(Di−butyl phthalate)吸収を有するカーボンブラックや、比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。
Carbon black is usually used in various applications such as for color, rubber, and dry batteries, as long as there is no problem with dispersion stability in the resin composition constituting the relief forming layer, as well as products with standards classified by ASTM. Any carbon black used can be used.
The carbon black here includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black, and the like.
In the present invention, it is also possible to use carbon black having a relatively low specific surface area and relatively low DBP (Di-butyl phthalate) absorption, and fine carbon black having a large specific surface area.

好適なカーボンブラックの市販品の例としては、Printex U(登録商標)、Printex A(登録商標)又はSpezialschwarz 4(登録商標)(いずれもDegussa社製)、シースト600 ISAF−LS(東海カーボン(株)社製)、旭#70(N−300)(旭カーボン(株)製)、ケッチェンブラックEC600JD(ライオン(株)製)等が挙げられる。
このようなカーボンブラックの選択については、例えば、「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。
また、カーボンブラックの平均一次粒径としては、20nmより大きく80nm未満であることが好ましく、25nmより大きく70nm未満であることがより好ましい。上記範囲であると、凝集を抑制でき、分散性に優れる。
Examples of suitable carbon black commercial products include Printex U (registered trademark), Printex A (registered trademark) or Specialzwarz 4 (registered trademark) (both manufactured by Degussa), Seast 600 ISAF-LS (Tokai Carbon Co., Ltd.) Asahi # 70 (N-300) (Asahi Carbon Co., Ltd.), Ketjen Black EC600JD (Lion Co., Ltd.) and the like.
For such selection of carbon black, for example, “Carbon Black Handbook” edited by Carbon Black Association can be referred to.
The average primary particle size of carbon black is preferably greater than 20 nm and less than 80 nm, and more preferably greater than 25 nm and less than 70 nm. Within the above range, aggregation can be suppressed and the dispersibility is excellent.

無機フィラーとしては、アルミナ、チタニア、ジルコニア、カオリン、焼成カオリン、タルク、ロウ石、ケイソウ土、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、リトポン、非晶質シリカ、コロイダルシリカ、焼成石コウ、シリカ、炭酸マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸バリウム、硫酸バリウム、マイカ等が挙げられる。
これらの中でも、シリカ、又は、アルミナが好ましく、シリカが特に好ましい。
Inorganic fillers include alumina, titania, zirconia, kaolin, calcined kaolin, talc, wax, diatomaceous earth, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc oxide, lithopone, amorphous silica, colloidal silica, calcined stone Examples include kou, silica, magnesium carbonate, titanium oxide, alumina, barium carbonate, barium sulfate, and mica.
Among these, silica or alumina is preferable, and silica is particularly preferable.

本発明に用いることができるフィラーの形状としては、特に制限はないが、球状、層状、ファイバー状、中空バルーンの形状を挙げることができる。これらの中でも、球状、又は、層状であることが好ましく、球状であることがより好ましい。
本発明に用いることができるフィラーの平均粒径(平均一次粒径)は、10nm以上10μm以下であることが好ましく、10nm以上5μm以下であることがより好ましく、50nm以上3μm以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、樹脂組成物の安定性が良好であり、また、彫刻後における粒子状の膜ヌケの発生を抑制でき、画質に優れる。
The shape of the filler that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a layer shape, a fiber shape, and a hollow balloon shape. Among these, a spherical shape or a layered shape is preferable, and a spherical shape is more preferable.
The average particle size (average primary particle size) of the filler that can be used in the present invention is preferably 10 nm to 10 μm, more preferably 10 nm to 5 μm, and particularly preferably 50 nm to 3 μm. preferable. Within the above range, the stability of the resin composition is good, and the occurrence of particulate film leakage after engraving can be suppressed, and the image quality is excellent.

また、層状のフィラーとしては、薄い平板状の形状を有する無機質の層状化合物が好ましく挙げられ、例えば、下記式で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
A(B,C)2〜5410(OH,F,O)2
(式中、AはK,Na,Caのいずれかを表し、B及びCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vのいずれかを表し、DはSi又はAlを表す。)
Further, as the layered filler, an inorganic layered compound having a thin flat plate shape is preferably exemplified, for example, a mica group such as natural mica and synthetic mica represented by the following formula, 3MgO · 4SiO · H 2 O Examples include talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, and zirconium phosphate.
A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
(In the formula, A represents any of K, Na, and Ca, B and C represent any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D represents Si or Al). To express.)

本発明に用いることができる無機質の層状化合物の形状としては、アスペクト比が20以上であることが好ましく、100以上であることがより好ましく、200以上であることが特に好ましい。なお、アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   The shape of the inorganic stratiform compound that can be used in the present invention is preferably an aspect ratio of 20 or more, more preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明に用いることができる無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがより好ましく、1〜5μmであることが特に好ましい。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下であることが好ましく、0.05μm以下であることがより好ましく、0.01μm以下であることが特に好ましい。
例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。
As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound that can be used in the present invention, the average major axis is preferably 0.3 to 20 μm, more preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 1 to 5 μm. Particularly preferred. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less.
For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

本発明に用いることができる球状シリカ粒子としては、以下に示す市販品を好ましく例示できる。なお、括弧内の数値は平均粒径を表す。
日本アエロジル(株)製として、AEROSIL RM50(40nm)、R711(12nm)、R7200(12nm)、AEROSIL OX50(40nm)、50(30nm)、90G(20nm)、130(16nm)、150(14nm)、200(12nm)、200CF(12nm)、300(7nm)、380(7nm)が例示できる。
AGCエスアイテク(株)製として、サンスフェア H−31(3μm)、H−51(5μm)、H−121(12μm)、H−201(20μm)、サンスフェア L−31(3μm)、L−51(5μm)、サンスフェア NP−30(4μm)、NP−100(10μm)、NP−200(20μm)が例示できる。
日産化学工業(株)製として、メタノールシリカゾル(10〜20nm)、MA−ST−M(10〜20nm)、IPA−ST(10〜20nm)、EG−ST(10〜20nm)、EG−ST−ZL(70〜100nm)、NPC−ST(10〜20nm)、DMAC−ST(10〜20nm)、MEK−ST(10〜20nm)、XBA−ST(10〜20nm)、MIBK−ST(10〜20nm)が挙げられる。
Preferred examples of the spherical silica particles that can be used in the present invention include the following commercially available products. In addition, the numerical value in a parenthesis represents an average particle diameter.
As a product of Nippon Aerosil Co., Ltd., AEROSIL RM50 (40 nm), R711 (12 nm), R7200 (12 nm), AEROSIL OX50 (40 nm), 50 (30 nm), 90 G (20 nm), 130 (16 nm), 150 (14 nm), Examples include 200 (12 nm), 200 CF (12 nm), 300 (7 nm), and 380 (7 nm).
Sunsphere H-31 (3 μm), H-51 (5 μm), H-121 (12 μm), H-201 (20 μm), Sunsphere L-31 (3 μm), L-51 (5 μm), Sunsphere NP-30 (4 μm), NP-100 (10 μm), NP-200 (20 μm).
As a product made by Nissan Chemical Industries, Ltd., methanol silica sol (10-20 nm), MA-ST-M (10-20 nm), IPA-ST (10-20 nm), EG-ST (10-20 nm), EG-ST- ZL (70-100 nm), NPC-ST (10-20 nm), DMAC-ST (10-20 nm), MEK-ST (10-20 nm), XBA-ST (10-20 nm), MIBK-ST (10-20 nm) ).

また、本発明に用いることができる雲母粒子としては、合成雲母(「ソマシフME−100」:コープケミカル(株)製、アスペクト比:1,000以上)が例示できる。   Examples of mica particles that can be used in the present invention include synthetic mica (“Somasif ME-100” manufactured by Co-op Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1,000 or more).

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物における(成分C)フィラーの添加量は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分量(溶剤を除いた量)に対し、0.5〜20重量%が好ましく、1〜15重量%がより好ましく、3〜10重量%が特に好ましい。また、ポリマー等の分散剤を用いる場合は、フィラーと分散剤との総量が上記の添加量の範囲内に入っていることが好ましい。   The addition amount of (Component C) filler in the resin composition for laser engraving of the present invention is 0.5 to 20% by weight based on the total solid content (excluding the solvent) of the resin composition for laser engraving of the present invention. Is preferable, 1 to 15% by weight is more preferable, and 3 to 10% by weight is particularly preferable. Moreover, when using dispersing agents, such as a polymer, it is preferable that the total amount of a filler and a dispersing agent is in the range of said addition amount.

〔成分Bによるフィラーの分散方法〕
フィラーを成分Bにより分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、ビーズミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
[Method of dispersing filler by component B]
As a method of dispersing the filler with the component B, a known dispersion technique used for ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, a bead mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

本発明の成分Bによる成分Cの分散は、成分B及び成分Cの分散物が成分Aと混合される前に実施される。
成分Bと成分Cとの合計含有量に対する成分Bの重量%は、好ましくは30〜80重量%であり、より好ましくは40〜70重量%である。
成分Bと成分Cの分散物の含有量は、前述のとおり、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分量(溶剤を除いた量)に対し、1〜20重量%が好ましく、3〜15重量%がより好ましく、5〜10重量%が特に好ましい。
分散時の溶剤としては、既知の各種溶剤が使用されるが、中でもプロピレングリコールモノメチルアセテートがより好ましく使用される。
The dispersion of component C by component B of the present invention is performed before the dispersion of component B and component C is mixed with component A.
The weight% of component B with respect to the total content of component B and component C is preferably 30 to 80% by weight, more preferably 40 to 70% by weight.
As described above, the content of the dispersion of component B and component C is preferably 1 to 20% by weight based on the total solid content (amount excluding the solvent) of the resin composition for laser engraving of the present invention. 15 weight% is more preferable and 5 to 10 weight% is especially preferable.
As the solvent for dispersion, various known solvents are used, and among them, propylene glycol monomethyl acetate is more preferably used.

<(成分D)エチレン性不飽和化合物>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分D)エチレン性不飽和化合物を含有することができる。
本発明に用いることができるエチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2〜6個有する化合物の中から任意に選択することができる。
<(Component D) ethylenically unsaturated compound>
The resin composition for laser engraving of the present invention can contain (Component D) an ethylenically unsaturated compound.
The ethylenically unsaturated compound that can be used in the present invention can be arbitrarily selected from compounds having at least 1, preferably 2 or more, more preferably 2 to 6 ethylenically unsaturated groups.

以下、エチレン性不飽和化合物として用いられる、エチレン性不飽和基を1つ有する単官能モノマー、及び、エチレン性不飽和基を2個以上有する多官能モノマーについて説明する。
単官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と一価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と一価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。また、多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
本発明の樹脂組成物は、膜中に架橋構造を形成するため、多官能モノマーが好ましく使用される。多官能モノマーの分子量としては、200〜2,000であることが好ましい。
Hereinafter, a monofunctional monomer having one ethylenically unsaturated group and a polyfunctional monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, which are used as the ethylenically unsaturated compound, will be described.
Monofunctional monomers include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and monohydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids and monovalent amine compounds And amides. Polyfunctional monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids and polyvalent monomers. Examples include amides with amine compounds.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used.
Since the resin composition of the present invention forms a crosslinked structure in the film, a polyfunctional monomer is preferably used. The molecular weight of the polyfunctional monomer is preferably 200 to 2,000.

多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステルが例示できる。
その具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が例示できる。
Examples of the polyfunctional monomer include esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds.
Specific examples thereof include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and trimethylol. Propane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylol ethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol Diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomers and the like.

メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が例示できる。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexane Diol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2 -Hydroxypropo ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane and the like.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が例示できる。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等が例示できる。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が例示できる。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が例示できる。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of the crotonic acid ester include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetracrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240. Those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系の多官能エチレン性不飽和化合物の例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有するものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bisacrylamide, methylene bismethacrylamide, 1,6-hexamethylene bisacrylamide, 1,6-hexamethylene bismethacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.
Examples of other preferable amide-based polyfunctional ethylenically unsaturated compounds include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加多官能モノマーも多官能エチレン性不飽和化合物として好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物と、下記式(A)で示される水酸基を含有するエチレン性不飽和化合物を付加させた1分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を含有するウレタン系の多官能エチレン性不飽和化合物等が挙げられる。
CH2=C(R)COOCH2CH(R’)OH (A)
(ただし、R及びR’は、H又はCH3を示す。)
A urethane-based addition polyfunctional monomer produced by using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable as a polyfunctional ethylenically unsaturated compound. 2 or more in one molecule in which a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups per molecule described therein and an ethylenically unsaturated compound containing a hydroxyl group represented by the following formula (A) are added And urethane-based polyfunctional ethylenically unsaturated compounds containing ethylenically unsaturated groups.
CH 2 = C (R) COOCH 2 CH (R ') OH (A)
(However, R and R ′ represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報記載のエチレンオキサイド鎖を有するウレタン系の多官能エチレン性不飽和化合物も好適である。
更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する多官能エチレン性不飽和化合物類を用いることにより、短時間で架橋した樹脂組成物を得ることができる。
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 No. 1, JP-B 62-39417, and JP-B 62-39418, and urethane-based polyfunctional ethylenically unsaturated compounds having an ethylene oxide chain are also suitable.
Furthermore, polyfunctional ethylenically unsaturated compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 By using, a resin composition crosslinked in a short time can be obtained.

その他の多官能エチレン性不飽和化合物の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Examples of other polyfunctional ethylenically unsaturated compounds include polyester acrylates and epoxy resins as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reacting (meth) acrylic acid. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

本発明に用いることができるエチレン性不飽和化合物としては、飽和橋かけ環式多官能モノマーも例示できる。
飽和橋かけ環式多官能モノマーとしては、メタクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基を2つ有するビシクロ環、トリシクロ環構造を有する化合物等の縮環構造を有する脂環式多官能モノマーを用いることが物性を制御する観点から好ましい。
ビシクロ環、トリシクロ環構造としては、ノルボルネン骨格(ビシクロ[2.2.1]ヘプタン)、ジシクロペンタジエン骨格(トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン)、アダマンタン骨格(トリシクロ[3.3.1.13,7]デカン)等の縮環構造の脂環式炭化水素構造が挙げられる。
飽和橋かけ環式多官能モノマーとしては、ビシクロ環、トリシクロ環部分にアミノ基が直接結合していてもよく、また、メチレン、エチレン等のアルキレン等の脂肪族部分を介して結合していてもよい。更に、これら縮環構造の脂環族炭化水素基の水素原子が、アルキル基等で置換されていてもよい。
本発明において、飽和橋かけ環式多官能モノマーとしては、下記より選択される脂環式多官能モノマーであることが好ましい。
Examples of the ethylenically unsaturated compound that can be used in the present invention include saturated bridged cyclic polyfunctional monomers.
As the saturated bridged cyclic polyfunctional monomer, an alicyclic polyfunctional monomer having a condensed ring structure such as a bicyclo ring having two methacryloyloxy groups or acryloyloxy groups or a compound having a tricyclo ring structure is used. It is preferable from the viewpoint of control.
Examples of the bicyclo ring and tricyclo ring structure include a norbornene skeleton (bicyclo [2.2.1] heptane), a dicyclopentadiene skeleton (tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane), an adamantane skeleton (tricyclo [3 .3.1.1 3,7 ] decane) and the like.
As the saturated bridged cyclic polyfunctional monomer, an amino group may be directly bonded to a bicyclo ring or tricyclo ring part, or may be bonded via an aliphatic part such as alkylene such as methylene or ethylene. Good. Furthermore, the hydrogen atom of the alicyclic hydrocarbon group of these condensed ring structures may be substituted with an alkyl group or the like.
In the present invention, the saturated bridged cyclic polyfunctional monomer is preferably an alicyclic polyfunctional monomer selected from the following.

Figure 2012153121
Figure 2012153121

また、エチレン性不飽和化合物としては、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との付加反応物、更にハロゲノ基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
エチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、前記例示した化合物の他、公知の種々の化合物を用いることができ、例えば、特開2009−204962号公報の段落0098〜0124に記載の化合物などを使用してもよい。
Further, as the ethylenically unsaturated compound, an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol. Addition reaction products, and further substitution products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a halogeno group or a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols are also suitable. It is.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
There is no restriction | limiting in particular as an ethylenically unsaturated compound, A well-known various compound other than the compound illustrated above can be used, For example, the compound of Paragraph 0098-0124 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-204962, etc. May be used.

本発明においては、エチレン性不飽和化合物として、彫刻感度向上の観点から、分子内に硫黄原子を有する化合物を用いることが好ましい。
このように分子内に硫黄原子を有するエチレン性不飽和化合物としては、彫刻感度向上の観点から、特に、2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合を有するラジカル重合性化合物(以下、適宜、「含硫黄多官能モノマー」ともいう。)を用いることが好ましい。
本発明における含硫黄多官能モノマー中の炭素−硫黄結合を含んだ官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又は、チオ尿素を含む官能基が挙げられる。
また、含硫黄多官能モノマーにおける2つのエチレン性不飽和結合間を連結する炭素−硫黄結合を含有する連結基としては、−C−S−、−C−SS−、−NHC(=S)O−、−NHC(=O)S−、−NHC(=S)S−、及び、−C−SO2−から選択される少なくとも1つのユニットを含む連結基であることが好ましい。
In the present invention, a compound having a sulfur atom in the molecule is preferably used as the ethylenically unsaturated compound from the viewpoint of improving engraving sensitivity.
Thus, as an ethylenically unsaturated compound which has a sulfur atom in a molecule | numerator, from a viewpoint of an engraving sensitivity improvement, it has two or more ethylenically unsaturated bonds especially among two ethylenically unsaturated bonds. It is preferable to use a radically polymerizable compound having a carbon-sulfur bond at the site to be linked (hereinafter also referred to as “sulfur-containing polyfunctional monomer” as appropriate).
The functional group containing a carbon-sulfur bond in the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, and thiocarbamate. , A functional group containing dithiocarbamate or thiourea.
In addition, as a linking group containing a carbon-sulfur bond that connects two ethylenically unsaturated bonds in a sulfur-containing polyfunctional monomer, -C-S-, -C-SS-, -NHC (= S) O A linking group containing at least one unit selected from —, —NHC (═O) S—, —NHC (═S) S—, and —C—SO 2 — is preferable.

また、含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれる硫黄原子の数は1つ以上であれば特に制限はなく、目的に応じて、適宜選択することができるが、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1〜10個が好ましく、1〜5個がより好ましく、1又は2個が特に好ましい。
一方、分子内に含まれるエチレン性不飽和部位の数は2つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、架橋膜の柔軟性の観点で、2〜10個が好ましく、2〜6個がより好ましく、2〜4個が特に好ましい。
Further, the number of sulfur atoms contained in the molecule of the sulfur-containing polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is 1 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. From the viewpoint of balance, 1 to 10 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 1 or 2 is particularly preferable.
On the other hand, the number of ethylenically unsaturated sites contained in the molecule is not particularly limited as long as it is 2 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. 10 is preferable, 2 to 6 is more preferable, and 2 to 4 is particularly preferable.

本発明における含硫黄多官能モノマーの分子量としては、形成される膜の柔軟性の観点から、120〜3,000であることが好ましく、120〜1,500であることがより好ましい。
また、本発明における含硫黄多官能モノマーは単独で用いてもよいが、分子内に硫黄原子を持たない多官能重合性化合物や単官能重合性化合物との混合物として用いてもよい。
分子内に硫黄原子を有する重合性化合物の具体例としては、例えば、特開2009−255510号公報の段落0032〜0037に記載のものを例示でき、ここに記載の化合物を本発明に使用してもよい。
The molecular weight of the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is preferably 120 to 3,000, more preferably 120 to 1,500, from the viewpoint of the flexibility of the formed film.
Moreover, although the sulfur-containing polyfunctional monomer in this invention may be used independently, you may use it as a mixture with the polyfunctional polymerizable compound and monofunctional polymerizable compound which do not have a sulfur atom in a molecule | numerator.
Specific examples of the polymerizable compound having a sulfur atom in the molecule include those described in paragraphs 0032 to 0037 of JP-A-2009-255510, and the compounds described herein are used in the present invention. Also good.

本発明の樹脂組成物における成分Dは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Dの含有量は、全固形分量に対して、2〜50重量%が好ましく、5〜30重量%がより好ましく、10〜30重量%が特に好ましい。
Component D in the resin composition of the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The content of Component D contained in the resin composition of the present invention is preferably 2 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight based on the total solid content.

<(成分E)重合開始剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(成分E)重合開始剤を含有することができる。
重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用することができるが、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
また、ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であっても、熱ラジカル重合開始剤であってもよいが、熱ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
<(Component E) Polymerization initiator>
The resin composition for laser engraving of the present invention can contain (Component E) a polymerization initiator.
As the polymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation, but a radical polymerization initiator is preferable.
Hereinafter, although the radical polymerization initiator which is a preferable polymerization initiator is explained in full detail, this invention is not restrict | limited by these description.
The radical polymerization initiator may be a photo radical polymerization initiator or a thermal radical polymerization initiator, but is preferably a thermal radical polymerization initiator.

本発明において、好ましいラジカル重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(l)アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記(a)〜(l)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, preferred radical polymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (F) ketoxime ester compound, (g) borate compound, (h) azinium compound, (i) metallocene compound, (j) active ester compound, (k) compound having carbon halogen bond, (l) azo compound, etc. Is mentioned. Specific examples of the above (a) to (l) are given below, but the present invention is not limited to these.

本発明においては、彫刻感度と、レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物がより好ましく、(c)有機過酸化物が特に好ましい。   In the present invention, from the viewpoint of engraving sensitivity and a good relief edge shape when applied to a relief forming layer of a relief printing plate precursor, (c) an organic peroxide and (l) an azo compound are more Preferably, (c) an organic peroxide is particularly preferable.

前記(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008−63554号公報の段落0074〜0118に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。
また、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
(A) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (f) ketoxime ester compounds, (g) borate compounds, (h) azinium compounds As (i) metallocene compounds, (j) active ester compounds, and (k) compounds having a carbon halogen bond, the compounds listed in paragraphs 0074 to 0118 of JP-A-2008-63554 are preferably used. it can.
In addition, (c) the organic peroxide and (l) the azo compound are preferably the following compounds.

(c)有機過酸化物
本発明に用いることができるラジカル重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、3,3’,4,4’−テトラ(ターシャリーブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(ターシャリーアミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(ターシャリーヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(ターシャリーオクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−ターシャリーブチルジパーオキシイソフタレート、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエートなどの過酸化エステル系が好ましい。
(C) Organic peroxide Preferred as a radical polymerization initiator that can be used in the present invention (c) As the organic peroxide, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tertiarybutylperoxycarbonyl) benzophenone 3,3 ′, 4,4′-tetra (tertiary amyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tertiary hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4, 4′-tetra (tertiary octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (p-isopropylcumylper) Oxycarbonyl) benzophenone, di-tertiary butyl diperoxyisophthalate, tertiary butyl peroxy Peroxide esters such as benzoate are preferred.

(l)アゾ系化合物
本発明に用いることができるラジカル重合開始剤として好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
(L) Azo-based compound Preferred as a radical polymerization initiator that can be used in the present invention (l) As the azo-based compound, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobispropionitrile 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2 '-Azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2'-azobisisobutyrate, 2,2'-azobis (2-methyl) Propionamidoxime), 2,2'-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2'-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl)- 2 Hydroxyethyl] propionamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2, 2'-azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (2,4,4 -Trimethylpentane) and the like.

なお、本発明においては、前記(c)有機過酸化物が本発明における重合開始剤として、膜(レリーフ形成層)の架橋性及び彫刻感度向上の観点で特に好ましい。   In the present invention, the organic peroxide (c) is particularly preferable as the polymerization initiator in the present invention from the viewpoint of the crosslinkability of the film (relief forming layer) and the improvement of engraving sensitivity.

彫刻感度の観点からは、この(c)有機過酸化物と、(成分A)メインポリマーとしてガラス転移温度が常温(20℃)以上のポリマーとを組み合わせた態様が特に好ましい。
これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。
特にバインダーポリマーのガラス転移温度が室温以上の場合、有機過酸化物の分解に由来して発生した熱が、バインダーポリマーに効率よく伝達され、かつバインダーポリマー自体の熱分解に有効に利用されるためより高感度化されるものと推定している。
なお、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が(c)有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、バインダーポリマー等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
From the viewpoint of engraving sensitivity, an embodiment in which (c) the organic peroxide and (Component A) a polymer having a glass transition temperature of room temperature (20 ° C.) or higher as the main polymer is particularly preferred.
This is because when an organic peroxide is used to cure the relief forming layer by thermal crosslinking, unreacted organic peroxide that does not participate in radical generation remains, but the remaining organic peroxide is self-reactive. Works as an additive and decomposes exothermically during laser engraving. As a result, it is presumed that the engraving sensitivity is increased because the heat generated is added to the irradiated laser energy.
In particular, when the glass transition temperature of the binder polymer is above room temperature, the heat generated from the decomposition of the organic peroxide is efficiently transferred to the binder polymer and effectively used for the thermal decomposition of the binder polymer itself. It is estimated that the sensitivity will be higher.
This effect is remarkable when carbon black is used as the photothermal conversion agent. This is because heat generated from carbon black is transferred to (c) organic peroxide, and heat is generated not only from carbon black but also from organic peroxide. This is because energy generation occurs synergistically.

また、有機過酸化物と後述する光熱変換剤とを組み合わせて用いることで、彫刻感度が極めて高くなるのでより好ましく、有機過酸化物と光熱変換剤であるカーボンブラックとを組み合わせて用いた態様が最も好ましい。
これは、有機過酸化物を用いてレリーフ形成層を熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなると推定される。
Moreover, it is more preferable because the engraving sensitivity becomes extremely high by using a combination of an organic peroxide and a photothermal conversion agent described later, and an aspect in which an organic peroxide and a carbon black that is a photothermal conversion agent are combined is used. Most preferred.
This is because when an organic peroxide is used to cure the relief forming layer by thermal crosslinking, unreacted organic peroxide that does not participate in radical generation remains, but the remaining organic peroxide is self-reactive. Works as an additive and decomposes exothermically during laser engraving. As a result, the amount of heat generated is added to the irradiated laser energy, so that the engraving sensitivity is estimated to increase.

本発明の樹脂組成物における成分Eは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物中に含まれる成分Eの含有量は、全固形分量に対して、0.1〜5重量%が好ましく、0.3〜3重量%がより好ましく、0.5〜2.5重量%が特に好ましい。
Component E in the resin composition of the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The content of Component E contained in the resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.3 to 3% by weight, and more preferably 0.5 to 2% based on the total solid content. .5% by weight is particularly preferred.

<(成分F)可塑剤>
本発明の樹脂組成物は、フレキソ版として必要な柔軟性を付与するという観点から、(成分F)可塑剤を含有することが好ましい。
可塑剤としては、高分子の可塑剤として公知のものを用いることができ、限定されないが、例えば、高分子大辞典(初版、1994年、丸善(株)発行)の第211〜220頁に記載のアジピン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、ベンゾイル酸誘導体、クエン酸誘導体、エポキシ誘導体、グリコール誘導体、炭化水素及び誘導体、オレイン酸誘導体、リン酸誘導体、フタル酸誘導体、ポリエステル系、リシノール酸誘導体、セバシン酸誘導体、ステアリン酸誘導体、スルホン酸誘導体、テルペン及び誘導体、トリメリット酸誘導体が挙げられる。これらの中でも、ガラス転移温度を低下させる効果の大きさという観点から、アジピン酸誘導体、クエン酸誘導体及びリン酸誘導体が好ましく、リン酸誘導体がより好ましい。
アジピン酸誘導体としては、アジピン酸ジブチル、アジピン酸2−ブトキシエチルが好ましい。
クエン酸誘導体としては、クエン酸トリブチルが好ましい。
リン酸誘導体としては、リン酸トリブチル、リン酸トリ2−エチルヘキシル、リン酸トリブトキシエチル、リン酸トリフェニル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸t−ブチルフェニル、リン酸2−エチルヘキシルジフェニル等が挙げられる。これらの中でも、リン酸トリフェニル、リン酸クレジルジフェニル、リン酸トリクレジルが好ましく、リン酸クレジルジフェニルがより好ましい。
成分Fは、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
成分Fの含有量は、ガラス転移温度を室温以下に低下させるという観点から、固形分換算で、樹脂組成物の総重量を100重量%として、1〜50重量%が好ましく、10〜40重量%がより好ましく、20〜30重量%が特に好ましい。
<(Component F) Plasticizer>
The resin composition of the present invention preferably contains (Component F) a plasticizer from the viewpoint of imparting necessary flexibility as a flexographic plate.
As the plasticizer, those known as polymer plasticizers can be used, and are not limited. For example, described in pages 211 to 220 of Polymer Dictionary (First Edition, published by Maruzen Co., Ltd., 1994). Adipic acid derivatives, azelaic acid derivatives, benzoyl acid derivatives, citric acid derivatives, epoxy derivatives, glycol derivatives, hydrocarbons and derivatives, oleic acid derivatives, phosphoric acid derivatives, phthalic acid derivatives, polyesters, ricinoleic acid derivatives, sebacic acid derivatives , Stearic acid derivatives, sulfonic acid derivatives, terpenes and derivatives, trimellitic acid derivatives. Among these, an adipic acid derivative, a citric acid derivative, and a phosphoric acid derivative are preferable, and a phosphoric acid derivative is more preferable from the viewpoint of the effect of lowering the glass transition temperature.
As the adipic acid derivative, dibutyl adipate and 2-butoxyethyl adipate are preferable.
As the citric acid derivative, tributyl citrate is preferable.
Examples of phosphoric acid derivatives include tributyl phosphate, tri-2-ethylhexyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tricresyl phosphate, t-butylphenyl phosphate, 2-ethylhexyl phosphate And diphenyl. Among these, triphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, and tricresyl phosphate are preferable, and cresyl diphenyl phosphate is more preferable.
Component F may use only 1 type and may use 2 or more types together.
From the viewpoint of lowering the glass transition temperature to room temperature or lower, the content of Component F is preferably 1 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, in terms of solid content, with the total weight of the resin composition being 100% by weight. Is more preferable, and 20 to 30% by weight is particularly preferable.

<(成分G)周期律表の1〜16族から選択される金属又はメタロイド(半金属)の少なくとも1つのオキシ化合物>
本発明の樹脂組成物は、(成分G)周期律表の1〜16族から選択される金属又はメタロイド(半金属)の少なくとも1つのオキシ化合物を含有することが好ましい。
周期律表の1〜16族から選択される金属又はメタロイドとしては、周期律表の1〜16族から選択されるものであれば特に制限されないが、アルカリ金属(Li、Na、K、Rb、Cs、Fr)、アルカリ土類金属(Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ra)、アルミニウム、珪素、リン、チタン、ゲルマニウム、砒素、ジルコニウム、スズ、亜鉛、カドミウム、ビスマス、インジウム、スカンジウム及びアンチモンが好ましく挙げられる。
これらの中でも、彫刻感度の点で、アルカリ土類金属、アルミニウム、珪素、リン、チタン、ゲルマニウム、砒素、ジルコニウム、スズ、亜鉛、ビスマスが好ましく、アルカリ土類金属、アルミニウム、チタン(好ましくは原子価4)、ジルコニウム、スズ、亜鉛、ビスマスがより好ましく、アルカリ土類金属、アルミニウム、チタン(好ましくは原子価4)、スズ、亜鉛、ビスマスが特に好ましい。
また、オキシ化合物(酸素含有化合物)としては、前記金属又はメタロイドの、アルコキシド、フェノキシド、エノレート、カーボネート、アセテート又はカルボキシレート及び酸化物が挙げられる。
所望により、オキシ化合物の有機部分は一部が多価であるもの、例えば、多価アルコール(例えば、グリコール若しくはグリセロール)、ポリビニルアルコール又はヒドロキシカルボン酸から誘導されるものであり得る。キレート化合物を使用してもよい。炭素原子が存在する場合、代表的には前記金属又はメタロイド1個当たりの炭素原子の数は4〜24個の範囲である。
本発明においては、アルミニウム、亜鉛、スズ又はビスマスのカルボキシレートが好ましく、亜鉛のカルボキシレートがより好ましい。
具体的には、酢酸亜鉛、2−エチルヘキシル酸亜鉛、2−エチルヘキシル酸スズ、ビスマストリス(2−エチルヘキサノエート)、ビス(2−エチルヘキシル酸)ヒドロキシアルミニウムが特に好ましく、2−エチルヘキシル酸亜鉛が最も好ましい。
成分Gの含有量は、彫刻感度と皮膜性の観点で、樹脂組成物の全固形分量に対し、0.01〜20重量%が好ましく、0.5〜10重量%がより好ましく、1〜5重量%が特に好ましい。
<(Component G) at least one oxy compound of a metal or metalloid (metalloid) selected from Group 1 to 16 of the periodic table>
The resin composition of the present invention preferably contains (Component G) at least one oxy compound of a metal or metalloid (metalloid) selected from Groups 1 to 16 of the periodic table.
The metal or metalloid selected from group 1-16 of the periodic table is not particularly limited as long as it is selected from group 1-16 of the periodic table, but alkali metals (Li, Na, K, Rb, Cs, Fr), alkaline earth metals (Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra), aluminum, silicon, phosphorus, titanium, germanium, arsenic, zirconium, tin, zinc, cadmium, bismuth, indium, scandium and antimony Is preferred.
Among these, alkaline earth metals, aluminum, silicon, phosphorus, titanium, germanium, arsenic, zirconium, tin, zinc, and bismuth are preferable from the viewpoint of engraving sensitivity, and alkaline earth metals, aluminum, and titanium (preferably valences are preferred) 4) Zirconium, tin, zinc and bismuth are more preferred, and alkaline earth metals, aluminum, titanium (preferably valence 4), tin, zinc and bismuth are particularly preferred.
Examples of the oxy compound (oxygen-containing compound) include alkoxides, phenoxides, enolates, carbonates, acetates or carboxylates and oxides of the above metals or metalloids.
If desired, the organic portion of the oxy compound can be partially polyvalent, such as those derived from polyhydric alcohols (eg, glycol or glycerol), polyvinyl alcohol, or hydroxycarboxylic acids. Chelate compounds may be used. When carbon atoms are present, typically the number of carbon atoms per metal or metalloid ranges from 4 to 24.
In the present invention, a carboxylate of aluminum, zinc, tin or bismuth is preferable, and a carboxylate of zinc is more preferable.
Specifically, zinc acetate, zinc 2-ethylhexylate, tin 2-ethylhexylate, bismuth tris (2-ethylhexanoate), bis (2-ethylhexylate) hydroxyaluminum are particularly preferred, and zinc 2-ethylhexylate is preferred. Most preferred.
The content of component G is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight, and more preferably 1 to 5% with respect to the total solid content of the resin composition from the viewpoint of engraving sensitivity and film property. Weight percent is particularly preferred.

<溶剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製する際に、溶剤を用いることが好ましい。
溶剤としては、有機溶剤を用いることが好ましい。
非プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロパンジオールが挙げられる。
これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。
溶剤の使用量は、特に制限はなく、必要に応じて使用量を調整すればよい。
<Solvent>
It is preferable to use a solvent when preparing the resin composition for laser engraving of the present invention.
As the solvent, an organic solvent is preferably used.
Preferred specific examples of the aprotic organic solvent include acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N -Methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide are mentioned.
Preferable specific examples of the protic organic solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,3-propanediol.
Among these, propylene glycol monomethyl ether acetate is particularly preferable.
There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a solvent, What is necessary is just to adjust a usage-amount as needed.

<その他の添加剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
<Other additives>
In the resin composition for laser engraving of the present invention, various known additives can be appropriately blended as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples include waxes, process oils, metal oxides, antiozonants, antioxidants, polymerization inhibitors, colorants, etc. These may be used alone or in combination of two or more. May be.

<加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を1つのみ有する化合物>
また、その他の成分として、加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を1つのみ有する化合物を使用してもよい。
加水分解性シリル基及び/又はシラノール基を1つのみ有する化合物として、具体的には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、ジメトキシ−3−メルカプトプロピルメチルシラン、2−(2−アミノエチルチオエチル)ジエトキシメチルシラン、3−(2−アセトキシエチルチオプロピル)ジメトキシメチルシラン、2−(2−アミノエチルチオエチル)トリエトキシシラン、ジメトキシメチル−3−(3−フェノキシプロピルチオプロピル)シラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、トリメチルシラノール、ジフェニルシランジオール、トリフェニルシラノール、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等が例示できる。
<Compound having only one hydrolyzable silyl group and / or silanol group>
Moreover, you may use the compound which has only one hydrolyzable silyl group and / or silanol group as another component.
Specific examples of the compound having only one hydrolyzable silyl group and / or silanol group include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, γ -Methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyl Rudimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Triethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, dimethoxy-3-mercaptopropylmethylsilane, 2- ( 2-aminoethylthioethyl) diethoxymethylsilane, 3- (2-acetoxyethylthiopropyl) dimethoxymethylsilane, 2- (2-aminoethylthioethyl) triethoxysilane, dimethoxymethyl-3- (3-phenoxypropyl) Thiop Pyr) silane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, trimethylsilanol, diphenylsilanediol, triphenylsilanol, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane and the like.

<700〜1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、700〜1,300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤(以下、単に「光熱変換剤」ともいう。)を更に含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
<A photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 to 1,300 nm>
The resin composition for laser engraving of the present invention preferably further contains a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 to 1,300 nm (hereinafter also simply referred to as “photothermal conversion agent”). That is, it is considered that the photothermal conversion agent in the present invention promotes thermal decomposition of a cured product during laser engraving by absorbing laser light and generating heat. For this reason, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.

本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における架橋レリーフ形成層を、700〜1,300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合に、光熱変換剤としては、700〜1,300nmに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。
本発明に用いることができる光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
When the crosslinked relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is used for laser engraving using a laser emitting a infrared ray of 700 to 1,300 nm (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) as a light source In addition, as the photothermal conversion agent, it is preferable to use a compound having a maximum absorption wavelength at 700 to 1,300 nm.
Various dyes or pigments are used as the photothermal conversion agent that can be used in the present invention.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、具体的には、700nm〜1,300nmに極大吸収波長を有するものが好ましく挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, those having a maximum absorption wavelength at 700 nm to 1,300 nm are preferably mentioned, and azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes , Diimmonium compounds, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, and the like.

本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開2008−63554号公報の段落0124〜0137に記載の染料を挙げることができる。   Dyes preferably used in the present invention include cyanine dyes such as heptamethine cyanine dyes, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dyes, phthalocyanine dyes, and paragraphs 0124 to 0137 of JP-A-2008-63554. Mention may be made of dyes.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in "Technology" (CMC Publishing, 1986) and "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Of these pigments, carbon black is preferred.

(レーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法)
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法は、成分Bの分散ポリマーにより成分Cのフィラーを分散する分散工程、及び、前記分散工程で調製されたフィラーのポリマー分散物と成分Aのバインダーポリマーとを混合する混合工程を含むことを特徴とする。
フィラーを成分Bにより分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている方法を用いることができる。
フィラー分散物とバインダーポリマーとの混合は、分散物を含んだ混合容器へバインダーを混合しても逆にバインダーを含む混合容器へ分散物を混合してもよく、又は分散物及びバインダーを別々の容器から混合容器へ投入し混合されてもよい。バインダーポリマーとフィラー分散物の混合前にフィラーの分散が実施されていればよい。
(Method for producing resin composition for laser engraving)
The method for producing a resin composition for laser engraving of the present invention comprises a dispersion step of dispersing a filler of component C with a dispersion polymer of component B, and a polymer dispersion of filler prepared in the dispersion step and a binder polymer of component A And a mixing step of mixing the two.
As a method of dispersing the filler with the component B, a known dispersion technique used for ink production, toner production, or the like can be used. For details, the method described in “Latest Pigment Applied Technology” (CMC Publishing, 1986) can be used.
The filler dispersion and the binder polymer may be mixed by mixing the binder into the mixing container containing the dispersion, or conversely mixing the dispersion into the mixing container containing the binder, or separating the dispersion and the binder separately. It may be charged from the container to the mixing container and mixed. It is only necessary that the filler is dispersed before mixing the binder polymer and the filler dispersion.

(レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版)
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の第1の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。
また、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の第2の実施態様は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を架橋した架橋レリーフ形成層を有する。
本発明において「レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版」とは、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、架橋される前の状態、並びに、光及び/若しくは熱により硬化された状態の両方又はいずれか一方のものをいう。
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するものであることが好ましい。
本発明において「レリーフ形成層」とは、架橋される前の状態の層をいい、すなわち、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、必要に応じ、乾燥が行われていてもよい。
本発明において「架橋レリーフ形成層」とは、前記レリーフ形成層を架橋した層をいう。前記架橋は、光及び/又は熱により行われることが好ましい。また、前記架橋は樹脂組成物が硬化される反応であれば特に限定されない。
架橋レリーフ形成層を有する印刷版原版をレーザー彫刻することにより「レリーフ印刷版」が作製される。
また、本発明において「レリーフ層」とは、レリーフ印刷版におけるレーザーにより彫刻された層、すなわち、レーザー彫刻後の前記架橋レリーフ形成層をいう。
(Relief printing plate precursor for laser engraving)
The first embodiment of the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
Further, the second embodiment of the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a crosslinked relief forming layer obtained by crosslinking the relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
In the present invention, the “relief printing plate precursor for laser engraving” is a state in which a relief forming layer having a crosslinkability made of a resin composition for laser engraving is cured by light and / or heat before being crosslinked. It refers to both or either state.
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention preferably has a thermally crosslinked crosslinked relief forming layer.
In the present invention, the “relief-forming layer” refers to a layer in a state before being crosslinked, that is, a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention, and may be dried if necessary. Good.
In the present invention, the “crosslinked relief forming layer” refers to a layer obtained by crosslinking the relief forming layer. The crosslinking is preferably performed by light and / or heat. The crosslinking is not particularly limited as long as the resin composition is cured.
A “relief printing plate” is produced by laser engraving a printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer.
In the present invention, the “relief layer” refers to a layer engraved with a laser in a relief printing plate, that is, the crosslinked relief forming layer after laser engraving.

本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、前記のような成分を含有するレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。(架橋)レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、必要により更に、支持体と(架橋)レリーフ形成層との間に接着層を、また、(架橋)レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer made of a resin composition for laser engraving containing the above components. The (crosslinked) relief forming layer is preferably provided on the support.
The relief printing plate precursor for laser engraving further has an adhesive layer between the support and the (crosslinked) relief forming layer, if necessary, and a slip coat layer and a protective film on the (crosslinked) relief forming layer. May be.

<レリーフ形成層>
レリーフ形成層は、前記本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、架橋性の層である。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版によるレリーフ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させて架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版とした後、架橋レリーフ形成層(硬質のレリーフ形成層)をレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成してレリーフ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するレリーフ印刷版を得ることができる。
<Relief forming layer>
The relief forming layer is a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention and is a crosslinkable layer.
As a production mode of a relief printing plate using a relief printing plate precursor for laser engraving, a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer is obtained by crosslinking the relief forming layer, and then a crosslinked relief forming layer (hard relief forming layer) is used. It is preferable that the relief printing plate is produced by forming a relief layer by laser engraving. By crosslinking the relief forming layer, wear of the relief layer during printing can be prevented, and a relief printing plate having a relief layer having a sharp shape after laser engraving can be obtained.

レリーフ形成層は、レリーフ形成層用の前記の如き成分を有するレーザー彫刻用樹脂組成物を、シート状又はスリーブ状に成形することで形成することができる。レリーフ形成層は、通常、後述する支持体上に設けられるが、製版、印刷用の装置に備えられたシリンダーなどの部材表面に直接形成したり、そこに配置して固定化したりすることもでき、必ずしも支持体を必要としない。
以下、主としてレリーフ形成層をシート状にした場合を例に挙げて説明する。
The relief forming layer can be formed by molding a resin composition for laser engraving having the above components for the relief forming layer into a sheet shape or a sleeve shape. The relief forming layer is usually provided on a support which will be described later. However, the relief forming layer can be directly formed on the surface of a member such as a cylinder provided in an apparatus for plate making and printing, or can be arranged and fixed there. It does not necessarily require a support.
Hereinafter, the case where the relief forming layer is formed into a sheet shape will be mainly described as an example.

<支持体>
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PAN(ポリアクリロニトリル))やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PETフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
<Support>
The material used for the support of the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited, but materials having high dimensional stability are preferably used. For example, metals such as steel, stainless steel and aluminum, polyester (for example, PET (polyethylene terephthalate)) , Plastic resins such as PBT (polybutylene terephthalate), PAN (polyacrylonitrile)) and polyvinyl chloride, synthetic rubbers such as styrene-butadiene rubber, and plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins) It is done. As the support, a PET film or a steel substrate is preferably used. The form of the support is determined depending on whether the relief forming layer is a sheet or a sleeve.

<接着層>
レリーフ形成層を支持体上に形成する場合、両者の間には、層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。
接着層に用いることができる材料(接着剤)としては、例えば、I.Skeist編、「Handbook of Adhesives」、第2版(1977)に記載のものを用いることができる。
<Adhesive layer>
When the relief forming layer is formed on the support, an adhesive layer may be provided between the two for the purpose of enhancing the adhesive strength between the layers.
Examples of the material (adhesive) that can be used for the adhesive layer include I.I. Those described in the edition of Skeist, “Handbook of Adhesives”, the second edition (1977) can be used.

<保護フィルム、スリップコート層>
レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面への傷や凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面又は架橋レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの厚さは、25〜500μmが好ましく、50〜200μmがより好ましい。保護フィルムは、例えば、PETのようなポリエステル系フィルム、PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はマット化されていてもよい。保護フィルムは、剥離可能であることが好ましい。
<Protective film, slip coat layer>
For the purpose of preventing scratches or dents on the surface of the relief forming layer or the surface of the crosslinked relief forming layer, a protective film may be provided on the surface of the relief forming layer or the surface of the crosslinked relief forming layer. The thickness of the protective film is preferably 25 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm. As the protective film, for example, a polyester film such as PET, or a polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene) can be used. The surface of the film may be matted. The protective film is preferably peelable.

保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。   When the protective film cannot be peeled or when it is difficult to adhere to the relief forming layer, a slip coat layer may be provided between both layers. The material used for the slip coat layer is a resin that can be dissolved or dispersed in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, polyamide resin, etc. It is preferable that

(レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法)
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。あるいは、レーザー彫刻用樹脂組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して樹脂組成物から溶媒を除去する方法でもよい。
中でも、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることが好ましく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、並びに、前記レリーフ形成層を熱架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含む製造方法であることがより好ましい。
(Manufacturing method of relief printing plate precursor for laser engraving)
Formation of the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited. For example, a resin composition for laser engraving is prepared, and if necessary, from this coating solution composition for laser engraving. The method of melt-extruding on a support body after removing a solvent is mentioned. Alternatively, the resin composition for laser engraving may be cast on a support and dried in an oven to remove the solvent from the resin composition.
Among them, the plate making method of the relief printing plate for laser engraving of the present invention comprises a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, and the relief forming layer by light and / or heat. It is preferable that the production method includes a crosslinking step of crosslinking and obtaining a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer, and a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, and More preferably, the production method includes a crosslinking step of thermally crosslinking the relief forming layer to obtain a relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer.

その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることによって行うことができる。
保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。
Thereafter, a protective film may be laminated on the relief forming layer as necessary. Lamination can be performed by pressure-bonding the protective film and the relief forming layer with a heated calendar roll or the like, or by bringing the protective film into close contact with the relief forming layer impregnated with a small amount of solvent on the surface.
When using a protective film, you may take the method of laminating | stacking a relief forming layer on a protective film first, and laminating a support body then.
When providing an adhesive layer, it can respond by using the support body which apply | coated the adhesive layer. When providing a slip coat layer, it can respond by using the protective film which apply | coated the slip coat layer.

<層形成工程>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程を含むことが好ましい。
レリーフ形成層の形成方法としては、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、このレーザー彫刻用樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法や、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を調製し、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して溶剤を除去する方法が好ましく例示できる。
<Layer formation process>
The plate making method of the relief printing plate for laser engraving of the present invention preferably includes a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention.
As a method for forming the relief forming layer, the resin composition for laser engraving of the present invention is prepared. A method of preparing the resin composition for laser engraving of the present invention, casting the resin composition for laser engraving of the present invention on a support and drying it in an oven to remove the solvent is preferably exemplified.

レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における(架橋)レリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、0.05mm以上7mm以下がより好ましく、0.05mm以上3mm以下が特に好ましい。   The thickness of the (crosslinked) relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.05 mm or more and 7 mm or less, and more preferably 0.05 mm or more and 3 mm or less before and after crosslinking. Particularly preferred.

<架橋工程>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法は、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程を含む製造方法であることが好ましい。
レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる活性光線をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる。
光は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。光(「活性光線」ともいう。)としては可視光、紫外光、及び電子線が挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体等、レリーフ形成層を固定化するための基材側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムであれば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。
<Crosslinking process>
The method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is a production method including a crosslinking step of obtaining a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer by crosslinking the relief forming layer with light and / or heat. Is preferred.
When the relief forming layer contains a photopolymerization initiator, the relief forming layer can be crosslinked by irradiating the relief forming layer with an actinic ray that triggers the photopolymerization initiator.
In general, light is applied to the entire surface of the relief forming layer. Examples of light (also referred to as “active light”) include visible light, ultraviolet light, and electron beam, and ultraviolet light is the most common. If the substrate side for immobilizing the relief forming layer, such as the support of the relief forming layer, is the back side, the surface may only be irradiated with light, but the support should be a transparent film that transmits actinic rays. For example, it is preferable to irradiate light from the back side. When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. Since polymerization inhibition may occur in the presence of oxygen, actinic rays may be irradiated after the relief forming layer is covered with a vinyl chloride sheet and evacuated.

レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合には(上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。)、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる(熱により架橋する工程)。加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。   When the relief forming layer contains a thermal polymerization initiator (the above-mentioned photopolymerization initiator can also be a thermal polymerization initiator), the relief forming layer is heated by heating the relief printing plate precursor for laser engraving. It can be crosslinked (step of crosslinking by heat). Examples of the heating means include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, and a method of contacting the heated roll for a predetermined time.

レリーフ形成層の架橋方法としては、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化(架橋)可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
レリーフ形成層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。未架橋のレリーフ形成層をレーザー彫刻すると、レーザー照射部の周辺に伝播した余熱により、本来意図していない部分が溶融、変形しやすく、シャープなレリーフ層が得られない場合がある。また、素材の一般的な性質として、低分子なものほど固形ではなく液状になり、すなわち粘着性が強くなる傾向がある。レリーフ形成層を彫刻する際に発生する彫刻カスは、低分子の材料を多く用いるほど粘着性が強くなる傾向がある。低分子である重合性化合物は架橋することで高分子になるため、発生する彫刻カスは粘着性が少なくなる傾向がある。
As a method for crosslinking the relief forming layer, thermal crosslinking is preferable from the viewpoint that the relief forming layer can be uniformly cured (crosslinked) from the surface to the inside.
By crosslinking the relief forming layer, there is an advantage that the relief formed first after laser engraving becomes sharp, and second, the adhesiveness of engraving residue generated during laser engraving is suppressed. When an uncrosslinked relief-forming layer is laser engraved, unintended portions are likely to melt and deform due to residual heat that has propagated around the laser-irradiated portion, and a sharp relief layer may not be obtained. In addition, as a general property of a material, a material having a low molecular weight tends to be liquid rather than solid, that is, the adhesiveness tends to be strong. The engraving residue generated when engraving the relief forming layer tends to become more tacky as more low-molecular materials are used. Since the polymerizable compound which is a low molecule becomes a polymer by crosslinking, the generated engraving residue tends to be less tacky.

前記架橋工程が、光により架橋する工程である場合は、活性光線を照射する装置が比較的高価であるものの、印刷版原版が高温になることがないので、印刷版原版の原材料の制約がほとんどない。
前記架橋工程が、熱により架橋する工程である場合には、特別高価な装置を必要としない利点があるが、印刷版原版が高温になるので、高温で柔軟になる熱可塑性ポリマーは加熱中に変形する可能性がある等、使用する原材料は慎重に選択する必要がある。
熱架橋の際には、熱重合開始剤を加えることが好ましい。熱重合開始剤としては、遊離基重合(free radical polymerization)用の商業的な熱重合開始剤として使用され得る。このような熱重合開始剤としては、例えば、適当な過酸化物、ヒドロペルオキシド又はアゾ基を含む化合物が挙げられる。代表的な加硫剤も架橋用に使用できる。熱架橋性(heat−curable)の樹脂、例えばエポキシ樹脂、を架橋成分として層に加えることにより熱架橋も実施され得る。
When the crosslinking step is a step of crosslinking by light, an apparatus for irradiating actinic rays is relatively expensive, but the printing plate precursor does not become high temperature, so there are almost no restrictions on the raw materials of the printing plate precursor. Absent.
When the cross-linking step is a step of cross-linking by heat, there is an advantage that an extra expensive apparatus is not required, but since the printing plate precursor becomes high temperature, the thermoplastic polymer that becomes flexible at high temperature is not heated. The raw materials to be used must be carefully selected, such as the possibility of deformation.
In the case of thermal crosslinking, it is preferable to add a thermal polymerization initiator. As the thermal polymerization initiator, it can be used as a commercial thermal polymerization initiator for free radical polymerization. Examples of such a thermal polymerization initiator include a compound containing a suitable peroxide, hydroperoxide, or azo group. Representative vulcanizing agents can also be used for crosslinking. Thermal crosslinking can also be performed by adding a heat-curable resin, such as an epoxy resin, as a crosslinking component to the layer.

(レリーフ印刷版及びその製版方法)
本発明のレリーフ印刷版の製版方法は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し、架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことが好ましく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、前記レリーフ形成層を熱架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程、を含むことがより好ましい。
本発明のレリーフ印刷版は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層を架橋及びレーザー彫刻して得られたレリーフ層を有するレリーフ印刷版であり、本発明のレリーフ印刷版の製版方法により製版されたレリーフ印刷版であることが好ましい。
本発明のレリーフ印刷版は、水性インキを印刷時に好適に使用することができる。
本発明のレリーフ印刷版の製版方法における層形成工程及び架橋工程は、前記レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法における層形成工程及び架橋工程と同義であり、好ましい範囲も同様である。
(Relief printing plate and plate making method)
The plate making method of the relief printing plate of the present invention comprises a layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, the relief forming layer is crosslinked by light and / or heat, and a crosslinked relief forming layer is formed. A relief printing plate precursor comprising the resin composition for laser engraving of the present invention, preferably comprising: a crosslinking step for obtaining a relief printing plate precursor comprising: and a engraving step for laser engraving the relief printing plate precursor comprising the crosslinked relief forming layer A layer forming step for forming a layer, a crosslinking step for thermally crosslinking the relief forming layer to obtain a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer, and an engraving step for laser engraving the relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer More preferably, it contains.
The relief printing plate of the present invention is a relief printing plate having a relief layer obtained by crosslinking and laser engraving a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention. It is preferably a relief printing plate that has been made.
In the relief printing plate of the present invention, a water-based ink can be suitably used during printing.
The layer forming step and the cross-linking step in the plate making method of the relief printing plate of the present invention are synonymous with the layer forming step and the cross-linking step in the method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, and the preferred range is also the same.

<彫刻工程>
本発明のレリーフ印刷版の製版方法は、前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻する彫刻工程を含むことが好ましい。
彫刻工程は、前記架橋工程で架橋された架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋された架橋レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、架橋レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で架橋レリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
<Engraving process>
The plate making method of the relief printing plate of the present invention preferably includes an engraving step of laser engraving the relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer.
The engraving step is a step of forming a relief layer by laser engraving the crosslinked relief forming layer crosslinked in the crosslinking step. Specifically, it is preferable to form a relief layer by engraving a crosslinked crosslinked relief forming layer by irradiating a laser beam corresponding to a desired image. Moreover, the process of controlling a laser head with a computer based on the digital data of a desired image, and carrying out scanning irradiation with respect to a bridge | crosslinking relief forming layer is mentioned preferably.
In this engraving process, an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the crosslinked relief forming layer undergo molecular vibrations and generate heat. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation part, and molecules in the crosslinked relief forming layer are selectively cut by molecular cutting or ionization. That is, engraving is performed. The advantage of laser engraving is that the engraving depth can be set arbitrarily, so that the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure, and a portion of a groove that prints fine punched characters is engraved deeply As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the crosslinked relief forming layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained.

彫刻工程に用いられる赤外レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー(CO2レーザー)又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザー(FC−LD)が好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、CO2レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が700〜1,300nmのものが好ましく、800〜1,200nmのものがより好ましく、860〜1,200nmのものが更に好ましく、900〜1,100nmのものが特に好ましい。
As the infrared laser used in the engraving process, a carbon dioxide laser (CO 2 laser) or a semiconductor laser is preferable from the viewpoints of productivity and cost. In particular, a semiconductor infrared laser with a fiber (FC-LD) is preferably used. In general, a semiconductor laser can be downsized with high efficiency and low cost in laser oscillation compared to a CO 2 laser. Moreover, since it is small, it is easy to form an array. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber.
The semiconductor laser preferably has a wavelength of 700 to 1,300 nm, more preferably 800 to 1,200 nm, still more preferably 860 to 1,200 nm, and particularly preferably 900 to 1,100 nm.

また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第2版」レーザー学会編、実用レーザー技術 電子通信学会等に記載されている。
また、本発明のレリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製版方法に好適に用いることができるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開2009−172658号公報及び特開2009−214334号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るレリーフ印刷版の製版に使用することができる。
Moreover, since the semiconductor laser with a fiber can output a laser beam efficiently by attaching an optical fiber, it is effective for the engraving process in the present invention. Furthermore, the beam shape can be controlled by processing the fiber. For example, the beam profile can have a top hat shape, and energy can be stably given to the plate surface. Details of the semiconductor laser are described in “Laser Handbook 2nd Edition” edited by the Laser Society, practical laser technology, and the Institute of Electronics and Communication Engineers of Japan.
Also, a plate making apparatus equipped with a fiber-coupled semiconductor laser that can be suitably used in a method for making a relief printing plate using the relief printing plate precursor of the present invention is disclosed in JP 2009-172658 A and JP 2009-214334 A. It is described in detail in the official gazette and can be used for making a relief printing plate according to the present invention.

以下、本発明に使用したファイバー付き半導体レーザー記録装置10を備える製版装置11の一態様について、図1を参照して、その構成について説明する。
本発明に使用し得るファイバー付き半導体レーザー記録装置10を備える製版装置11は、外周面に、本発明のレリーフ印刷版原版F(記録媒体)が装着されたドラム50を主走査方向に回転させると共に、レリーフ印刷版原版Fに彫刻(記録)すべき画像の画像データに応じた複数のレーザビームを同時に射出しつつ、所定ピッチで露光ヘッド30を主走査方向と直交する副走査方向(S)に走査させることで、2次元画像をレリーフ印刷版原版Fに高速で彫刻(記録)する。また、狭い領域を彫刻(細線や網点などの精密彫刻)する場合などはレリーフ印刷版原版Fを浅彫りし、広い領域を彫刻する場合などはレリーフ印刷版原版Fを深彫りする。
Hereinafter, the configuration of the plate making apparatus 11 including the fiber-coupled semiconductor laser recording apparatus 10 used in the present invention will be described with reference to FIG.
A plate making apparatus 11 including a fiber-coupled semiconductor laser recording apparatus 10 that can be used in the present invention rotates a drum 50 having a relief printing plate precursor F (recording medium) of the present invention mounted on its outer peripheral surface in the main scanning direction. A plurality of laser beams corresponding to the image data of the image to be engraved (recorded) are simultaneously emitted onto the relief printing plate precursor F, and the exposure head 30 is moved at a predetermined pitch in the sub-scanning direction (S) perpendicular to the main scanning direction. By scanning, the two-dimensional image is engraved (recorded) on the relief printing plate precursor F at high speed. Further, when engraving a narrow area (precision engraving such as fine lines and halftone dots), the relief printing plate precursor F is shallowly engraved, and when engraving a wide area, the relief printing plate precursor F is deeply engraved.

図1に示すように、製版装置11は、レーザビームによって彫刻され画像が記録されるレリーフ印刷版原版Fが装着され且つレリーフ印刷版原版Fが主走査方向に移動するように図1の矢印R方向に回転駆動されるドラム50と、レーザー記録装置10と、を含んで構成されている。レーザー記録装置10は、複数のレーザビームを生成する光源ユニット20と、光源ユニット20で生成された複数のレーザビームをレリーフ印刷版原版Fに露光する露光ヘッド30と、露光ヘッド30を副走査方向に沿って移動させる露光ヘッド移動部40と、を含んで構成されている。   As shown in FIG. 1, the plate making apparatus 11 is equipped with a relief printing plate precursor F on which an image is recorded by engraving with a laser beam, and the arrow R in FIG. 1 is moved so that the relief printing plate precursor F moves in the main scanning direction. A drum 50 that is rotationally driven in the direction and the laser recording apparatus 10 are included. The laser recording apparatus 10 includes a light source unit 20 that generates a plurality of laser beams, an exposure head 30 that exposes a plurality of laser beams generated by the light source unit 20 onto a relief printing plate precursor F, and the exposure head 30 in a sub-scanning direction. And an exposure head moving unit 40 that is moved along the direction.

光源ユニット20には、各々光ファイバー22A,22Bの一端部が個別にカップリングされたブロードエリア半導体レーザーによって構成された半導体レーザー21A,21Bと、半導体レーザー21A,21Bが表面に配置された光源基板24A,24Bと、光源基板24A,24Bの一端部に垂直に取り付けられると共にSC型光コネクタ25A、25Bのアダプタが複数(半導体レーザー21A,21Bと同数)設けられたアダプタ基板23A,23Bと、光源基板24A,24Bの他端部に水平に取り付けられると共にレリーフ印刷版原版Fに彫刻(記録)する画像の画像データに応じて半導体レーザー21A,21Bを駆動するLDドライバー回路26が設けられたLDドライバー基板27A,27Bと、が備えられている。   The light source unit 20 includes semiconductor lasers 21A and 21B each composed of a broad area semiconductor laser in which one ends of the optical fibers 22A and 22B are individually coupled, and a light source substrate 24A on which the semiconductor lasers 21A and 21B are arranged. , 24B, adapter boards 23A, 23B that are vertically attached to one end of the light source boards 24A, 24B and that are provided with a plurality of adapters for the SC type optical connectors 25A, 25B (the same number as the semiconductor lasers 21A, 21B); An LD driver substrate that is horizontally mounted on the other end of 24A and 24B and provided with an LD driver circuit 26 that drives the semiconductor lasers 21A and 21B in accordance with image data of an image engraved (recorded) on the relief printing plate precursor F 27A and 27B.

露光ヘッド30には、複数の半導体レーザー21A,21Bから射出された各レーザビームを取り纏めて射出するファイバーアレイ部300が備えられている。このファイバーアレイ部300には、各々アダプタ基板23A,23Bに接続されたSC型光コネクタ25A,25Bに接続された複数の光ファイバ70A,70Bによって、各半導体レーザー21A,21Bから射出されたレーザビームが伝送される。   The exposure head 30 includes a fiber array unit 300 that collectively emits laser beams emitted from the plurality of semiconductor lasers 21A and 21B. The fiber array section 300 includes laser beams emitted from the semiconductor lasers 21A and 21B by a plurality of optical fibers 70A and 70B connected to SC type optical connectors 25A and 25B connected to adapter boards 23A and 23B, respectively. Is transmitted.

図1に示すように、露光ヘッド30には、ファイバーアレイ部300側より、コリメータレンズ32、開口部材33、及び結像レンズ34が、順番に並んで配列されている。なお、開口部材33は、ファイバーアレイ部300側から見て、開口がファーフィールド(far field)の位置となるように配置されている。これによって、ファイバーアレイ部300における複数の光ファイバ70A、70Bの光ファイバ端部から射出された全てのレーザビームに対して同等の光量制限効果を与えることができる。   As shown in FIG. 1, in the exposure head 30, a collimator lens 32, an aperture member 33, and an imaging lens 34 are arranged in order from the fiber array unit 300 side. The opening member 33 is arranged so that the opening is positioned at the far field as viewed from the fiber array unit 300 side. As a result, an equivalent light amount limiting effect can be given to all laser beams emitted from the optical fiber end portions of the plurality of optical fibers 70A and 70B in the fiber array unit 300.

コリメータレンズ32及び結像レンズ34で構成される結像手段によって、レーザビームはレリーフ印刷版原版Fの露光面(表面)FAの近傍に結像される。
前記ファイバー付き半導体レーザーではビーム形状を変化させることが可能であるため、本発明においては、結像位置(結像位置)Pは、露光面FAから内部側(レーザビームの進行方向側)の範囲とすることで、露光面(レリーフ形成層表面)FAのビーム径を10μm〜80μmの範囲に制御することが、効率のよい彫刻を行う、細線再現性が良好となる等の観点から望ましい。
The laser beam is imaged in the vicinity of the exposure surface (front surface) FA of the relief printing plate precursor F by the imaging means composed of the collimator lens 32 and the imaging lens 34.
In the present invention, since the beam shape can be changed in the semiconductor laser with a fiber, in the present invention, the imaging position (imaging position) P is in the range from the exposure surface FA to the inside (the laser beam traveling direction side). Thus, it is desirable to control the beam diameter of the exposure surface (relief forming layer surface) FA in the range of 10 μm to 80 μm from the viewpoints of performing efficient engraving and improving fine line reproducibility.

露光ヘッド移動部40には、長手方向が副走査方向に沿うように配置されたボールネジ41及び2本のレール42が備えられており、ボールネジ41を回転駆動する副走査モータを作動させることによって、露光ヘッド30が設けられた台座部をレール42に案内された状態で副走査方向に移動させることができる。また、ドラム50は主走査モータ(図示せず)を作動させることによって、図1の矢印R方向に回転させることができ、これによって主走査がなされる。
このような装置は、本願出願人が提案した特開2009−172658号明細書に詳細に記載され、これを本発明に使用することができる。
The exposure head moving unit 40 is provided with a ball screw 41 and two rails 42 arranged so that the longitudinal direction thereof is along the sub-scanning direction. By operating a sub-scanning motor that rotationally drives the ball screw 41, The pedestal portion on which the exposure head 30 is provided can be moved in the sub-scanning direction while being guided by the rails 42. Further, the drum 50 can be rotated in the direction of arrow R in FIG. 1 by operating a main scanning motor (not shown), whereby main scanning is performed.
Such an apparatus is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-172658 proposed by the present applicant, and can be used in the present invention.

また、彫刻したい形状の制御において、ファイバー付き半導体レーザーのビーム形状を変化させず、半導体レーザーに供給するエネルギー量を変化させることで彫刻領域の形状を変化させることも可能である。
具体的には、半導体レーザーの出力を変えて制御する方法、レーザー照射時間を変えて制御する方法がある。
Further, in controlling the shape to be engraved, it is possible to change the shape of the engraving region by changing the amount of energy supplied to the semiconductor laser without changing the beam shape of the semiconductor laser with fiber.
Specifically, there are a method of controlling by changing the output of the semiconductor laser and a method of controlling by changing the laser irradiation time.

本発明のレリーフ印刷版の製版方法では、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び/又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程:彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンス(洗浄)する工程。
乾燥工程:彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程:彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
前記工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
In the plate making method of the relief printing plate of the present invention, following the engraving step, the following rinsing step, drying step, and / or post-crosslinking step may be included as necessary.
Rinsing step: A step of rinsing (cleaning) the engraved surface of the relief layer after engraving with water or a liquid containing water as a main component.
Drying step: a step of drying the engraved relief layer.
Post-crosslinking step: a step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer.
Since the engraving residue adheres to the engraving surface after the above process, a rinsing step of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, there is a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, and a known batch type or conveying type brush type washing machine as a photosensitive resin relief printing machine. For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing liquid to which soap or a surfactant is added may be used.
When the rinsing process for rinsing the engraving surface is performed, it is preferable to add a drying process for drying the engraved relief forming layer and volatilizing the rinsing liquid.
Furthermore, you may add the post-crosslinking process which further bridge | crosslinks a relief forming layer as needed. By performing the post-crosslinking step, which is an additional cross-linking step, the relief formed by engraving can be further strengthened.

本発明に用いることができるリンス液のpHは、9以上であることが好ましく、10以上であることがより好ましく、11以上であることが更に好ましい。また、リンス液のpHは14以下であることが好ましく、13.5以下であることがより好ましく、13.2以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。
リンス液を上記のpH範囲とするために、適宜、酸及び/又は塩基を用いてpHを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。
本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。
また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。
The pH of the rinsing solution that can be used in the present invention is preferably 9 or more, more preferably 10 or more, and still more preferably 11 or more. The pH of the rinse liquid is preferably 14 or less, more preferably 13.5 or less, and further preferably 13.2 or less. Handling is easy in the said range.
What is necessary is just to adjust pH using an acid and / or a base suitably in order to make a rinse liquid into said pH range, and the acid and base to be used are not specifically limited.
The rinsing liquid that can be used in the present invention preferably contains water as a main component.
Moreover, the rinse liquid may contain water miscible solvents, such as alcohol, acetone, tetrahydrofuran, etc. as solvents other than water.

リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、レリーフ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物(両性界面活性剤)が好ましく挙げられる。
It is preferable that the rinse liquid contains a surfactant.
As the surfactant that can be used in the present invention, a carboxybetaine compound, a sulfobetaine compound, a phosphobetaine compound, an amine oxide compound, or from the viewpoint of reducing engraving residue removal and influence on the relief printing plate, Preferred are betaine compounds (amphoteric surfactants) such as phosphine oxide compounds.

また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全重量に対し、0.01〜20重量%であることが好ましく、0.05〜10重量%であることがより好ましい。
Examples of the surfactant include known anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants. Furthermore, fluorine-based and silicone-based nonionic surfactants can be used in the same manner.
Surfactant may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
The amount of the surfactant used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 20% by weight and more preferably 0.05 to 10% by weight with respect to the total weight of the rinse liquid.

以上のようにして、支持体等の任意の基材表面にレリーフ層を有するレリーフ印刷版が得られる。
レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。
As described above, a relief printing plate having a relief layer on the surface of an arbitrary substrate such as a support can be obtained.
The thickness of the relief layer of the relief printing plate is preferably from 0.05 mm to 10 mm, more preferably from 0.05 mm to 7 mm, from the viewpoint of satisfying various printability such as abrasion resistance and ink transferability. Hereinafter, it is particularly preferably 0.05 mm or more and 3 mm or less.

また、レリーフ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、25℃において、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる。)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
The Shore A hardness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 50 ° or more and 90 ° or less. When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, even if the fine halftone dots formed by engraving are subjected to the strong printing pressure of the relief printing press, they do not collapse and can be printed normally. In addition, when the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent faint printing in a solid portion even in flexographic printing with a kiss touch.
In addition, the Shore A hardness in this specification is a numerical value obtained by indenting and deforming an indenter (called a push needle or an indenter) on a surface to be measured at 25 ° C., and measuring the deformation amount (indentation depth). This is a value measured with a durometer (spring type rubber hardness meter).

本発明のレリーフ印刷版は、フレキソ印刷機による水性インキでの印刷に特に好適であるが、凸版用印刷機による水性インキ、油性インキ及びUVインキ、いずれのインキを用いた場合でも、印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。   The relief printing plate of the present invention is particularly suitable for printing with water-based ink by a flexographic printing machine, but printing is possible with any of water-based ink, oil-based ink and UV ink by a relief printing press. In addition, printing with UV ink by a flexographic printing machine is also possible.

以下、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「%」は「重量%」を意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. Unless otherwise specified, “part” means “part by weight” and “%” means “% by weight”.

以下に、実施例及び比較例に用いた化合物を示す。
・ポリビニルブチラール(デンカブチラール#3000−2、重量平均分子量:90,000、電気化学工業(株)製)
・ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、重量平均分子量:53,000、積水化学工業(株)製)
・ポリビニルブチラール(エスレックBL−S、重量平均分子量:23,000、積水化学工業(株)製)
・ポリビニルブチラール(エスレックBL−1、重量平均分子量:19,000、積水化学工業(株)製)
・ポリビニルブチラール(エスレックBL−1H、重量平均分子量:20,000、積水化学工業(株)製)
・ポリビニルブチラール(エスレックBL−10、重量平均分子量:15,000、積水化学工業(株)製)
・ポリビニルブチラール(モビタールB60H、重量平均分子量:90,000、(株)クラレ製)
・ケッチェンブラックEC600JD(ライオン(株)製カーボンブラック、平均一次粒径34.0nm)
・R7200(日本アエロジル(株)製シリカ粒子、平均粒径12nm)
・200CF(日本アエロジル(株)製シリカ粒子、平均粒径12nm)
The compounds used in Examples and Comparative Examples are shown below.
Polyvinyl butyral (Denka butyral # 3000-2, weight average molecular weight: 90,000, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
・ Polyvinyl butyral (ESREC BM-S, weight average molecular weight: 53,000, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
・ Polyvinyl butyral (ESREC BL-S, weight average molecular weight: 23,000, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
・ Polyvinyl butyral (ESREC BL-1, weight average molecular weight: 19,000, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
・ Polyvinyl butyral (ESREC BL-1H, weight average molecular weight: 20,000, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
・ Polyvinyl butyral (ESREC BL-10, weight average molecular weight: 15,000, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
・ Polyvinyl butyral (Movital B60H, weight average molecular weight: 90,000, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
・ Ketjen Black EC600JD (Lion Corporation carbon black, average primary particle size 34.0 nm)
R7200 (Nippon Aerosil Co., Ltd. silica particles, average particle size 12 nm)
・ 200CF (Nippon Aerosil Co., Ltd. silica particles, average particle size 12 nm)

・モノマー1(下記に示す二官能アクリレート化合物) Monomer 1 (bifunctional acrylate compound shown below)

Figure 2012153121
Figure 2012153121

・パーブチルZ(t−ブチルパーオキシベンゾエート、日油(株)製)
・イルガキュア184(α−ヒドロキシケトン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)・リン酸クレジルジフェニル(可塑剤、東京化成工業(株)製)
・2−エチルヘキシル酸亜鉛(ホープ製薬(株)製)
・ Perbutyl Z (t-butyl peroxybenzoate, manufactured by NOF Corporation)
・ Irgacure 184 (α-hydroxyketone, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) ・ Cresyl diphenyl phosphate (plasticizer, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Zinc 2-ethylhexylate (manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.)

<成分Bによるフィラーの分散方法>
フィラーの分散ポリマーへの分散方法は、以下の方法で調製した。
下記処方を、モーターミルM−200(アイガー社製)により、直径1.0mmのジルコニアビーズを用いて周速9m/sで5時間分散し、フィラー分散液を得た。
表1に示したフィラー 15部(乾燥重量)
表1に示した分散ポリマー 10部
プロピレングリコールモノメチルアセテート 75部
<Method for dispersing filler by component B>
The filler was dispersed in the dispersion polymer by the following method.
The following formulation was dispersed with a motor mill M-200 (manufactured by Eiger) at a peripheral speed of 9 m / s for 5 hours using zirconia beads having a diameter of 1.0 mm to obtain a filler dispersion.
15 parts of filler shown in Table 1 (dry weight)
10 parts of dispersion polymer shown in Table 1 75 parts of propylene glycol monomethyl acetate

<実施例1(熱架橋したレリーフ形成層をもつレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版)の作製>
主たるバインダーとしてポリビニルブチラール「エスレックBM−S」40部、カーボンブラック「ケッチェンブラックEC600JD」(以下CBとも言う。)分散溶液を10部(フィラー及び分散ポリマーの合計量)、リン酸クレジルジフェニル25部、2−エチルヘキシル酸亜鉛3部、溶剤としてプロピルグリコールモノエチルエーテルアセテート(PGMEA)100部を、撹拌羽根及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に入れ、撹拌しながら70℃で120分間加熱し溶解した。
その後、更にモノマー1を20部添加して30分間撹拌した。その後、パーブチルZを2部添加し、70℃で10分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレーザー彫刻用樹脂組成物を得た。
PET基板上に所定厚のスペーサー(枠)を設置し、レーザー彫刻用樹脂組成物をスペーサー(枠)から流出しない程度に静かに流延し、100℃のオーブン中で3時間乾燥及び熱架橋させて、厚さがおよそ1mmのレリーフ形成層を設け、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
<Preparation of Example 1 (Relief Printing Plate Precursor for Laser Engraving Having a Thermally Crosslinked Relief Forming Layer)>
As main binders, 40 parts of polyvinyl butyral “ESREC BM-S”, carbon black “Ketjen Black EC600JD” (hereinafter also referred to as CB) 10 parts of dispersion (total amount of filler and dispersion polymer), cresyl diphenyl phosphate 25 Part, 3 parts zinc 2-ethylhexylate and 100 parts propyl glycol monoethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent are placed in a three-necked flask equipped with a stirring blade and a condenser and heated at 70 ° C. for 120 minutes with stirring. And dissolved.
Thereafter, 20 parts of monomer 1 was further added and stirred for 30 minutes. Thereafter, 2 parts of perbutyl Z was added and stirred at 70 ° C. for 10 minutes. By this operation, a fluid resin composition for laser engraving was obtained.
A spacer (frame) of a predetermined thickness is placed on the PET substrate, and the resin composition for laser engraving is gently cast so as not to flow out of the spacer (frame), and is dried and thermally crosslinked in an oven at 100 ° C. for 3 hours. Then, a relief forming layer having a thickness of about 1 mm was provided, and a relief printing plate precursor for laser engraving of Example 1 was produced.

<実施例2〜8の作製>
成分Aのバインダーポリマー、成分Bのフィラー分散ポリマー、成分Cのフィラーを表1に記載の種類、に変更した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、実施例2〜8のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版をそれぞれ作製した。
<Production of Examples 2 to 8>
Example 2 was conducted in the same manner as in the relief printing plate precursor for laser engraving of Example 1, except that the binder polymer of Component A, the filler dispersion polymer of Component B, and the filler of Component C were changed to the types shown in Table 1. Relief printing plate precursors for laser engraving of 8 to 8 were respectively prepared.

<実施例9(光架橋したレリーフ形成層をもつレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版)の作製>
バインダーポリマーとしてポリビニルブチラール「エスレックBM−S」40部、「アエロジル200CF」分散溶液を10部(フィラー及び分散ポリマーの合計量)、リン酸クレジルジフェニル25部、2−エチルヘキシル酸亜鉛3部、溶剤としてプロピルグリコールモノエチルエーテルアセテート(PGMEA)100部を、撹拌羽根及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に入れ、撹拌しながら70℃で120分間加熱し溶解した。
その後、更にモノマー1を20部添加して30分間撹拌した。その後、イルガキュア184を2部添加し、70℃で10分間撹拌した。この操作により、流動性のあるレーザー彫刻用樹脂組成物を得た。
PET基板上に所定厚のスペーサー(枠)を設置し、レーザー彫刻用樹脂組成物をスペーサー(枠)から流出しない程度に静かに流延し、80℃のオーブン中で3時間乾燥させて、風乾させた後に、ウシオ(株)製のメタルハライドランプを使用した露光機を用いて、版面上での露光量が2,000mJ/cm2になるように曝光し、実施例9のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
<Production of Example 9 (Relief Printing Plate Precursor for Laser Engraving with Photocrosslinked Relief Forming Layer)>
As binder polymer, 40 parts of polyvinyl butyral “ESREC BM-S”, 10 parts of “Aerosil 200CF” dispersion (total amount of filler and dispersion polymer), 25 parts of cresyl diphenyl phosphate, 3 parts of zinc 2-ethylhexylate, solvent As a solution, 100 parts of propyl glycol monoethyl ether acetate (PGMEA) was placed in a three-necked flask equipped with a stirring blade and a cooling tube, and dissolved by heating at 70 ° C. for 120 minutes with stirring.
Thereafter, 20 parts of monomer 1 was further added and stirred for 30 minutes. Thereafter, 2 parts of Irgacure 184 was added and stirred at 70 ° C. for 10 minutes. By this operation, a fluid resin composition for laser engraving was obtained.
A spacer (frame) with a predetermined thickness is placed on the PET substrate, and the resin composition for laser engraving is gently cast to such an extent that it does not flow out of the spacer (frame). Then, using an exposure machine using a metal halide lamp manufactured by Ushio Corp., exposure was performed so that the exposure amount on the plate surface was 2,000 mJ / cm 2 , and relief printing for laser engraving of Example 9 was performed. An original plate was prepared.

<比較例1(レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版)の作製>
成分Bのフィラー分散ポリマーを添加せず、成分CのフィラーとしてCBを6.6部添加した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、比較例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
<Preparation of Comparative Example 1 (Relief Printing Plate Precursor for Laser Engraving)>
For the laser engraving of Comparative Example 1 in the same manner as the relief printing plate precursor for laser engraving of Example 1, except that the filler dispersion polymer of Component B was not added and 6.6 parts of CB was added as the filler of Component C. A relief printing plate precursor was prepared.

<比較例2の作製>
成分Aのバインダーポリマー、成分Bのフィラー分散ポリマー、成分Cのフィラーを表1に記載の種類に変更した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、比較例2のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
<Production of Comparative Example 2>
In the same manner as in the relief printing plate precursor for laser engraving of Example 1, except that the binder polymer of Component A, the filler dispersion polymer of Component B, and the filler of Component C were changed to the types shown in Table 1, Comparative Example 2 A relief printing plate precursor for laser engraving was prepared.

<比較例3の作製>
成分Aのバインダーポリマーとして表1に示す2種類のバインダーをそれぞれ実施例1のバインダーの半分の量を添加し、成分Bの分散ポリマーを無くし、成分Cのフィラーを表1に記載の種類に変更した以外は、実施例1のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版と同様にして、比較例3のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
<Production of Comparative Example 3>
As the binder polymer of component A, two types of binders shown in Table 1 were added in half the amount of the binder of Example 1, respectively, the dispersion polymer of component B was eliminated, and the filler of component C was changed to the type described in Table 1. A relief printing plate precursor for laser engraving of Comparative Example 3 was produced in the same manner as the relief printing plate precursor for laser engraving of Example 1 except that.

<レーザー彫刻用レリーフ印刷版の作製>
半導体レーザー彫刻機として、実施例1〜8、比較例1〜3では、最大出力8.0Wのファイバー付き半導体レーザー(FC−LD)SDL−6390(JDSU社製、波長:915nm)を装備した、前述の図1に示すレーザー記録装置(下記表1中に「FC−LD」と記載)を用いた。半導体レーザー彫刻機でレーザー出力:6W、ヘッド速度:100mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で彫刻した。
レーザー彫刻機として、実施例9では、ADFLEX((株)コムテックス製、波長:10,600nm、下記表1中に「CO2」と記載)を用いた。
得られた各レーザー彫刻用印刷版原版に対し、前記レーザー彫刻機で、出力:12W、ヘッド速度:200mm/秒、ピッチ設定:2,400DPIの条件で、網点パターン(2×2ドット、高さ300μm)を彫刻し、各レリーフ印刷版をそれぞれ得た。
<Preparation of relief printing plate for laser engraving>
In Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3, the semiconductor laser engraving machine was equipped with a fiber-coupled semiconductor laser (FC-LD) SDL-6390 (manufactured by JDSU, wavelength: 915 nm) with a maximum output of 8.0 W. The laser recording apparatus shown in FIG. 1 (described as “FC-LD” in Table 1 below) was used. Engraving was performed with a semiconductor laser engraving machine under conditions of laser output: 6 W, head speed: 100 mm / second, pitch setting: 2,400 DPI.
In Example 9, ADFLEX (manufactured by Comtex Co., Ltd., wavelength: 10,600 nm, described as “CO 2 ” in Table 1 below) was used as the laser engraving machine.
For each of the obtained printing plate precursors for laser engraving, a halftone dot pattern (2 × 2 dots, high height) was obtained with the laser engraving machine under the conditions of output: 12 W, head speed: 200 mm / second, pitch setting: 2,400 DPI. 300 μm) was engraved, and each relief printing plate was obtained.

<彫刻カス洗浄性の評価>
前記方法にて彫刻した各レリーフ印刷版上に、0.01規定のKOH水溶液(和光純薬工業(株)製)を版表面が均一に濡れる様にスポイトで滴下(約100ml/m2)し、1分静置後、ハブラシ(ライオン(株)クリニカハブラシ フラット)を用い、荷重200gfで版と並行に20回(トータルで30秒間)こすった。その後、流水にて版面を洗浄、版面の水分を除去し、1時間ほど自然乾燥した。
自然乾燥して得られた版の表面を倍率100倍のマイクロスコープ(キーエンス(株)製)で観察し、版上の取れ残った彫刻カスの程度を評価した。評価基準は、以下の通りである。
◎:全く版上に彫刻カスが残っていない。
○:版上の画像底部(凹部)に僅かに彫刻カスが残っている。
△:版上の画像凸部と画像底部(凹部)とに彫刻カスが残っている。
×:版全面に彫刻カスが付着している。
なお、◎、○及び△が、実用上問題のない範囲である。
<膜強度の評価>
得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版(厚さ1mm)をJIS K 6251 3号に規定されるダンベルを用いて打ち抜き、バネばかり(max1,000g)を打ち抜いたレリーフ形成層の片側先端に引っ掛け、もう一方の片側先端を手で引っ張り、破断した時のバネばかりの荷重の値を次式に挿入して求めた。
シート強度[N/cm])=破断時の荷重[kg]×9.8[m/s2])/0.5[cm]
評価基準は、以下の通りである。
○:4N/cm以上
△:2N/cm以上4N/cm未満
×:2N/cm未満
なお、○及び△が、実用上問題のない範囲である。
<高繊細の評価:彫刻細線幅の測定>
本評価では、2μm以上の彫刻深さが得られる際の最小の細線幅を測定した。この細線幅が小さいほど、彫刻感度と細線の形成性とに優れ、高精細な画像が得られることと評価した。30μm以下であれば実用上問題がない。
なお、彫刻深さとは、フレキソ印刷版を断面でみた場合の、彫刻された位置(高さ)と彫刻されていない位置(高さ)との距離であり、SEM(透過型電子顕微鏡)による観察にて測定することができる。
<Evaluation of sculpture residue cleaning>
On each relief printing plate engraved by the above method, a 0.01 N aqueous KOH solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is dropped with a dropper (about 100 ml / m 2 ) so that the plate surface is evenly wetted. After standing for 1 minute, it was rubbed 20 times (total 30 seconds) in parallel with the plate with a load of 200 gf using a toothbrush (Lion Corporation Clinica Habrush Flat). Thereafter, the plate surface was washed with running water, the water on the plate surface was removed, and air-dried for about 1 hour.
The surface of the plate obtained by natural drying was observed with a microscope (manufactured by Keyence Co., Ltd.) having a magnification of 100 times, and the degree of engraving residue left on the plate was evaluated. The evaluation criteria are as follows.
A: No engraving residue remains on the plate.
○: Slight engraving residue remains on the bottom (recessed portion) of the image on the plate.
Δ: Engraving residue remains on the image convex portion and the image bottom portion (concave portion) on the plate.
X: Engraving residue is attached to the entire plate surface.
In addition, (double-circle), (circle), and (triangle | delta) are the ranges which do not have a problem practically.
<Evaluation of film strength>
The obtained relief printing plate precursor (thickness 1 mm) for laser engraving was punched using a dumbbell defined in JIS K 62533 and hooked on one end of a relief forming layer punched with a spring alone (max 1,000 g), The tip of the other side was pulled by hand, and the value of the load of the spring alone when it broke was inserted into the following equation to obtain.
Sheet strength [N / cm]) = Load at break [kg] × 9.8 [m / s 2 ]) / 0.5 [cm]
The evaluation criteria are as follows.
◯: 4 N / cm or more Δ: 2 N / cm or more and less than 4 N / cm ×: less than 2 N / cm In addition, ◯ and Δ are ranges that have no practical problem.
<High-definition evaluation: Measurement of engraving fine line width>
In this evaluation, the minimum thin line width when an engraving depth of 2 μm or more was obtained was measured. It was evaluated that the smaller the fine line width, the better the engraving sensitivity and the fine line formability, and the higher definition image can be obtained. If it is 30 μm or less, there is no practical problem.
The engraving depth is the distance between the engraved position (height) and the unengraved position (height) when the flexographic printing plate is viewed in cross section, and is observed with a SEM (transmission electron microscope). Can be measured.

表1の結果から、本発明によれば、彫刻カスの除去性、膜強度に優れ、高繊細な画像が得られるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版及びレリーフ印刷版を提供できることがわかる。   From the results shown in Table 1, according to the present invention, the resin composition for laser engraving, which is excellent in engraving residue removal and film strength, and provides a high-definition image, the relief printing plate using the laser engraving resin composition It can be seen that an original plate and a relief printing plate can be provided.

Figure 2012153121
Figure 2012153121

10 レーザー記録装置(露光装置)
30 露光ヘッド
32 コリメータレンズ(結像手段)
34 結像レンズ(結像手段)
70A 光ファイバ
70B 光ファイバ
300 ファイバーアレイ部
F レリーフ印刷版原版(記録媒体)
FA 露光面(レリーフ印刷版原版の表面)
10 Laser recording device (exposure device)
30 exposure head 32 collimator lens (imaging means)
34 Imaging lens (imaging means)
70A optical fiber 70B optical fiber 300 fiber array part
F Relief printing plate precursor (recording medium)
FA exposure surface (surface of relief printing plate precursor)

Claims (19)

(成分A)メインポリマー、
(成分B)前記メインポリマーよりも重量平均分子量が小さい分散ポリマー、及び、
(成分C)フィラー、を含有し、
成分Cが予め成分Bにより分散されていることを特徴とする
レーザー彫刻用樹脂組成物。
(Component A) main polymer,
(Component B) a dispersion polymer having a weight average molecular weight smaller than that of the main polymer, and
(Component C) a filler,
Component C is previously dispersed by component B. A resin composition for laser engraving.
成分Aの重量平均分子量が5,000〜300,000である、請求項1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 1, wherein the component A has a weight average molecular weight of 5,000 to 300,000. 成分Aと成分Bが同種のポリマーである、請求項1又は2に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 1, wherein Component A and Component B are the same type of polymer. 成分Bの重量平均分子量が、成分Aの重量平均分子量の半分以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 3, wherein the weight average molecular weight of Component B is not more than half of the weight average molecular weight of Component A. 成分Aと成分Bが共にポリビニルブチラールである、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 4, wherein both component A and component B are polyvinyl butyral. 成分Aと成分Bの水酸基mol%の絶対値の差が0〜10である、請求項5に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 5, wherein the difference in absolute value of mol% of hydroxyl groups between Component A and Component B is 0-10. 成分Cがカーボンブラックである、請求項1〜6のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 6, wherein Component C is carbon black. (成分D)エチレン性不飽和化合物を更に含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to claim 1, further comprising (Component D) an ethylenically unsaturated compound. (成分E)重合開始剤を更に含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 8, further comprising (Component E) a polymerization initiator. (成分F)可塑剤を更に含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 9, further comprising (Component F) a plasticizer. (成分G)周期律表の1〜16族から選択される金属又はメタロイドの少なくとも1つのオキシ化合物を更に含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (Component G) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 10, further comprising at least one oxy compound of a metal or metalloid selected from Groups 1 to 16 of the periodic table. 成分Bにより成分Cを予め分散する分散工程、及び、
前記分散工程で調製された分散物と成分Aを混合する混合工程を含む
請求項1〜11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物の製造方法。
A dispersion step of pre-dispersing component C with component B; and
The manufacturing method of the resin composition for laser engraving of any one of Claims 1-11 including the mixing process which mixes the dispersion and component A which were prepared at the said dispersion | distribution process.
請求項1〜11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 11. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を熱架橋した架橋レリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   A relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a crosslinked relief forming layer obtained by thermally crosslinking the relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 11. 請求項1〜11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、及び、
前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、を含む
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の製造方法。
A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 11, and
A method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving, comprising a crosslinking step of crosslinking the relief forming layer with light and / or heat to obtain a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer.
請求項1〜11のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を形成する層形成工程、
前記レリーフ形成層を光及び/又は熱により架橋し架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版を得る架橋工程、及び、
前記架橋レリーフ形成層を有するレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程、を含む
レリーフ印刷版の製版方法。
A layer forming step of forming a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 11,
A crosslinking step of crosslinking the relief forming layer with light and / or heat to obtain a relief printing plate precursor having a crosslinked relief forming layer; and
A method for making a relief printing plate, comprising: engraving a relief printing plate precursor having the crosslinked relief forming layer by laser engraving to form a relief layer.
前記レーザー彫刻を700〜1,300nmのレーザーにより行う、請求項16に記載のレリーフ印刷版の製版方法。   The method for making a relief printing plate according to claim 16, wherein the laser engraving is performed with a laser having a wavelength of 700 to 1,300 nm. 彫刻後のレリーフ層表面を水又は水溶液により洗浄する洗浄工程を更に含む、請求項16又は17に記載のレリーフ印刷版の製版方法。   The plate-making method of the relief printing plate of Claim 16 or 17 which further includes the washing | cleaning process of wash | cleaning the relief layer surface after engraving with water or aqueous solution. 請求項16〜18のいずれか1項に記載のレリーフ印刷版の製版方法により製造されたレリーフ層を有するレリーフ印刷版。   The relief printing plate which has a relief layer manufactured by the plate-making method of the relief printing plate of any one of Claims 16-18.
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WO2014051028A1 (en) * 2012-09-27 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing cylindrical original printing plate and method for manufacturing cylindrical printing plate

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014051028A1 (en) * 2012-09-27 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing cylindrical original printing plate and method for manufacturing cylindrical printing plate
CN104661822A (en) * 2012-09-27 2015-05-27 富士胶片株式会社 Method for manufacturing cylindrical original printing plate and method for manufacturing cylindrical printing plate
JP5942326B2 (en) * 2012-09-27 2016-06-29 富士フイルム株式会社 Cylindrical printing plate manufacturing method and cylindrical printing plate making method

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