JP2010076135A - Resin composition for laser carving, image forming material, relief printing original plate for laser carving, relief printing plate, and method for manufacturing relief printing plate - Google Patents

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健太 吉田
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    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a resin composition for laser carving which shows high carving sensitivity during laser carving; an image forming material of high carving sensitivity wherein direct plate making is possible by laser carving; a relief printing original plate for laser carving; a method for manufacturing the relief printing plate using the relief printing original plate, and the relief printing plate obtained by the method. <P>SOLUTION: The resin composition for laser carving, which includes two or more ethylenically unsaturated bonds (A), multifunctional polymer composition having carbon-to-sulfur bond and ionic bond at the connection between two of the ethylenically unsaturated bonds, and at least binder polymer (B), is employed for the image forming material, the relief printing original plate for laser carving, the relief printing plate, and the method for manufacturing the relief printing plate. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法に関する。   The present invention relates to a resin composition for laser engraving, an image forming material, a relief printing plate precursor for laser engraving, a relief printing plate, and a method for producing a relief printing plate.

支持体表面積に積層された感光性樹脂層に凹凸を形成して印刷版を形成する方法としては、感光性組成物を用いて形成したレリーフ形成層に、原画フィルムを介して紫外光により露光し、画像部分を選択的に硬化させて、未硬化部を現像液により除去する方法、いわゆる「アナログ製版」がよく知られている。   As a method for forming a printing plate by forming irregularities on a photosensitive resin layer laminated on a surface area of a support, a relief forming layer formed using a photosensitive composition is exposed to ultraviolet light through an original film. A method of selectively curing an image portion and removing an uncured portion with a developer, so-called “analog plate making” is well known.

レリーフ印刷版は、凹凸を有するレリーフ層を有する凸版印刷版であり、このような凹凸を有するレリーフ層は、主成分として、例えば、合成ゴムのようなエラストマー性ポリマー、熱可塑性樹脂などの樹脂、或いは、樹脂と可塑剤との混合物を含有する感光性組成物を含有するレリーフ形成層をパターニングし、凹凸を形成することにより得られる。このようなレリーフ印刷版うち、軟質なレリーフ層を有するものをフレキソ版と称することがある。   The relief printing plate is a relief printing plate having a relief layer having irregularities, and the relief layer having such irregularities includes, for example, an elastomeric polymer such as synthetic rubber, a resin such as a thermoplastic resin, Alternatively, it is obtained by patterning a relief forming layer containing a photosensitive composition containing a mixture of a resin and a plasticizer to form irregularities. Of such relief printing plates, those having a soft relief layer are sometimes referred to as flexographic plates.

レリーフ印刷版をアナログ製版により作製する場合、一般に銀塩材料を用いた原画フィルムを必要とするため、原画フィルムの製造時間及びコストを要する。更に、原画フィルムの現像に化学的な処理が必要で、かつ現像廃液の処理をも必要とすることから、更に簡易な版の作製方法、例えば、原画フィルムを用いない方法、現像処理を必要としない方法などが検討されている。   When producing a relief printing plate by analog plate making, since an original image film using a silver salt material is generally required, the production time and cost of the original image film are required. Furthermore, since chemical processing is required for development of the original image film and processing of the development waste liquid is also required, a simpler plate preparation method, for example, a method that does not use the original image film, and development processing are required. The method of not doing is examined.

近年は、原画フィルムを必要とせず、走査露光によりレリーフ形成層の製版を行う方法が検討されている。
原画フィルムを必要としない手法として、レリーフ形成層上に画像マスクを形成可能なレーザー感応式のマスク層要素を設けたレリーフ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。これらの原版の製版方法によれば、画像データに基づいたレーザー照射によりマスク層要素から原画フィルムと同様の機能を有する画像マスクが形成されるため、「マスクCTP方式」と称されており、原画フィルムは必要ではないが、その後の製版処理は、画像マスクを介して紫外光で露光し、未硬化部を現像除去する工程であり、現像処理を必要とする点でなお改良の余地がある。
In recent years, a method of making a relief forming layer by scanning exposure without using an original film has been studied.
As a technique that does not require an original image film, a relief printing plate precursor provided with a laser-sensitive mask layer element capable of forming an image mask on a relief forming layer has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). . According to these plate making methods, since an image mask having the same function as the original film is formed from the mask layer element by laser irradiation based on the image data, it is referred to as “mask CTP method”. A film is not necessary, but the subsequent plate making process is a process of exposing with ultraviolet light through an image mask to develop and remove an uncured portion, and there is still room for improvement in that a development process is required.

現像工程を必要としない製版方法として、レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が多く提案されている。直彫りCTP方式は、文字通りレーザーで彫刻することにより、レリーフとなる凹凸を形成する方法で、原画フィルムを用いたレリーフ形成と異なり、自由にレリーフ形状を制御することができるという利点がある。このため、抜き文字の如き画像を形成する場合、その領域を他の領域よりも深く彫刻する、或いは、微細網点画像では、印圧に対する抵抗を考慮し、ショルダーをつけた彫刻をする、なども可能である。
しかしながら、所定の厚みを有するレリーフ形成層に印圧に耐える凹凸を有するレリーフを形成するには高エネルギーを要し、レーザー彫刻の速度が遅いため、マスクを介して画像形成するタイプに比較し、生産性が低いという問題がある。
Many so-called “direct engraving CTP methods” have been proposed as plate making methods that do not require a development step, in which a relief forming layer is directly engraved with a laser to make a plate. The direct engraving CTP method literally engraves with a laser to form reliefs, and has the advantage that the relief shape can be freely controlled unlike the relief formation using the original film. For this reason, when an image such as a letter is formed, the area is engraved deeper than other areas, or the fine halftone dot image is engraved with a shoulder in consideration of resistance to printing pressure. Is also possible.
However, high energy is required to form a relief having unevenness that can withstand printing pressure on a relief forming layer having a predetermined thickness, and since the speed of laser engraving is slow, compared to a type that forms an image through a mask, There is a problem of low productivity.

このため、レリーフ原版の感度を向上させることが試みられており、例えば、エラストマー発泡体を含むレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。この技術では、レリーフ形成層に密度の低い発泡体を用いることで、彫刻感度の向上を図っているが、低密度の材料であるため印刷版としての強度が不足し、耐刷性が著しく損なわれるという問題がある。   For this reason, attempts have been made to improve the sensitivity of the relief original plate. For example, a flexographic printing plate precursor for laser engraving including an elastomer foam has been proposed (see, for example, Patent Document 3). In this technology, low-density foam is used for the relief forming layer to improve the engraving sensitivity. However, because it is a low-density material, the strength of the printing plate is insufficient and the printing durability is significantly impaired. There is a problem of being.

また、例えば、特許文献4〜6には、レーザー彫刻可能なフレキソ版原版、或いはレーザー彫刻によって得られたフレキソ版が開示されている。これら文献では、バインダーとしてエラストマー性のゴムにモノマーを混合し、熱重合機構或いは光重合機構によりこれら混合物を硬化させた後、レーザー彫刻を行い、フレキソ版を得ている。   Further, for example, Patent Documents 4 to 6 disclose flexographic printing plate precursors capable of laser engraving or flexographic printing plates obtained by laser engraving. In these documents, a monomer is mixed with an elastomeric rubber as a binder, the mixture is cured by a thermal polymerization mechanism or a photopolymerization mechanism, and then laser engraving is performed to obtain a flexographic plate.

直彫りCTP方式が有する課題として、レーザー彫刻の速度が遅いことが挙げられる。これはマスクCTP方式では、アブレーションすべき対象のマスク層要素の厚さが1〜10μm程度であるのに対し、直彫りCTP方式では直接レリーフを形成する機能上、少なくとも100μmは彫刻する必要があるためである。
そのため、レーザー彫刻感度の向上を図った提案が、下記のように、いくつかなされている。
The problem that the direct engraving CTP method has is that the speed of laser engraving is low. In the mask CTP method, the thickness of the mask layer element to be ablated is about 1 to 10 μm, whereas in the direct engraving CTP method, it is necessary to engrave at least 100 μm in order to directly form a relief. Because.
Therefore, some proposals for improving the laser engraving sensitivity have been made as follows.

例えば、エラストマー発泡体を含むレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献7参照。)。この技術では、密度の低い発泡体を用いることで、彫刻感度の向上を図っているが、低密度の材料であるため印刷版としての強度が不足し、耐刷性が著しく損なわれるという問題がある。
例えば、炭化水素系の気体を封入したマイクロスフィアを含有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献8参照。)。この技術では、レーザーで発生する熱によりマイクロスフィア内の気体が膨張して、被彫刻材料を崩壊させるシステムにより、彫刻感度の向上を図っているが、気泡を含む材料系なので、印刷版としての強度は不足しやすいという問題がある。また、気体は固体に比べて熱で膨張しやすい性質があり、熱変形開始温度の高いマイクロスフィアを選択しても、外温の変化による体積変化はさけられないことから、厚み精度の安定性が要求される印刷版に、気泡を含む材料を用いることは適していない。
例えば、天井温度が600度K未満の高分子充填剤を含有するレーザー彫刻用樹脂凸版印刷版が提案されている(例えば、特許文献9参照。)。この技術では、解重合温度の低い高分子充填剤を添加することで彫刻感度の向上を図っているが、このような高分子充填剤を用いると、印刷版原版の表面に凹凸がついてしまい、印刷品質に重大な影響を与えるといった問題を有する。
For example, a flexographic printing plate precursor for laser engraving including an elastomer foam has been proposed (see, for example, Patent Document 7). In this technology, the engraving sensitivity is improved by using a foam having a low density. However, since it is a low-density material, the strength as a printing plate is insufficient and the printing durability is significantly impaired. is there.
For example, a flexographic printing plate precursor for laser engraving containing a microsphere encapsulating a hydrocarbon gas has been proposed (see, for example, Patent Document 8). In this technology, the gas in the microspheres expands due to the heat generated by the laser, and the engraving sensitivity is improved by a system that collapses the material to be engraved. There is a problem that the strength tends to be insufficient. In addition, gas is more easily expanded by heat than solids, and even if a microsphere with a high thermal deformation start temperature is selected, volume changes due to changes in external temperature cannot be avoided. However, it is not suitable to use a material containing air bubbles in a printing plate that requires the above.
For example, a resin relief printing plate for laser engraving containing a polymer filler having a ceiling temperature of less than 600 degrees K has been proposed (see, for example, Patent Document 9). In this technology, the engraving sensitivity is improved by adding a polymer filler having a low depolymerization temperature. However, when such a polymer filler is used, the surface of the printing plate precursor is uneven, There is a problem of seriously affecting print quality.

以上のように、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に好適に用いうる樹脂組成物に関しては、種々の技術が提案されているが、レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いものは、未だ提供されていないのが現状である。
特許第2773847号公報 特開平9−171247号公報 特開2002−357907号公報 特許第2846954号公報 特開平11−338139号公報 特開平11−170718号公報 特開2000−318330号公報 米国特許出願公開2003/180636号明細書 特開2000−168253号公報
As described above, various techniques have been proposed for the resin composition that can be suitably used for the relief forming layer of the relief printing plate precursor for laser engraving, but those having high engraving sensitivity when subjected to laser engraving The current situation is not yet provided.
Japanese Patent No. 2773847 JP-A-9-171247 JP 2002-357907 A Japanese Patent No. 2846954 JP 11-338139 A JP-A-11-170718 JP 2000-318330 A US Patent Application Publication No. 2003/180636 JP 2000-168253 A

本発明は以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いレーザー彫刻用樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能な画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びに該製造方法により得られたレリーフ印刷版を提供することにある。
This invention makes it a subject to achieve the following objectives.
That is, an object of the present invention is to provide a resin composition for laser engraving having high engraving sensitivity when subjected to laser engraving.
Another object of the present invention is to provide an image forming material having high engraving sensitivity and capable of direct plate making by laser engraving, a relief printing plate precursor for laser engraving, and a method for producing a relief printing plate using the relief printing plate precursor And a relief printing plate obtained by the production method.

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。   Means for solving the above-mentioned problems are as follows.

<1> (A)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合とイオン結合とを有する多官能重合性化合物、及び、(B)バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物。
<2> 前記(A)多官能重合性化合物において、炭素−硫黄結合が、−C−S−、−C−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−、及び−C−SO−から選択される少なくとも1つのユニットである前記<1>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
<1> (A) A polyfunctional polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated bonds, a carbon-sulfur bond and an ionic bond at a site connecting two ethylenically unsaturated bonds, and (B) A resin composition for laser engraving containing at least a binder polymer.
<2> In the (A) polyfunctional polymerizable compound, the carbon-sulfur bond is —C—S—, —C—SS—, —NH (C═S) O—, —NH (C═O) S. The resin composition for laser engraving according to <1>, wherein the resin composition is at least one unit selected from —, —NH (C═S) S—, and —C—SO 2 —.

<3> 前記(A)多官能重合性化合物において、イオン結合が、−CO−O−SO−O−PO 、及び下記一般式(1)で表される構造から選択される1種のアニオン部と、下記一般式(2)〜(4)で表される構造から選択される1種のカチオン部と、からなる前記<1>又は<2>に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。 <3> In the (A) a polyfunctional polymerizable compound, ionic bond, * -CO-O -, * -SO 2 -O -, * -PO 3 -, and represented by the following general formula (1) <1> or <2> comprising one type of anion moiety selected from the structure and one type of cation moiety selected from the structures represented by the following general formulas (2) to (4): Resin composition for laser engraving.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

上記一般式(1)〜(4)中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は複素環基を表し、R〜Rのうち少なくとも2つが連結して環を形成してもよく、R〜Rのうち少なくとも2つが連結して環を形成してもよく、RとRが連結して環を形成してもよい。 In the general formulas (1) to (4), R 1 to R 8 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a heterocyclic group. And at least two of R 2 to R 4 may be linked to form a ring, at least two of R 5 to R 7 may be linked to form a ring, and R 8 and R 9 may be They may be linked to form a ring.

<4> 前記(A)多官能重合性化合物において、前記エチレン性不飽和結合を含む部分構造の少なくとも1つが、下記一般式(5)〜(7)のいずれかで表される部分構造である前記<1>〜<3>のいずれか1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   <4> In the (A) polyfunctional polymerizable compound, at least one of the partial structures containing the ethylenically unsaturated bond is a partial structure represented by any one of the following general formulas (5) to (7). The resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <3>.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

上記一般式(5)〜(7)中、R10〜R20は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表し、X、Y、及びZは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−(N−R21)−、スルホニル基であり、R21は、水素原子、又は1価の有機基を表す。 In the general formulas (5) to (7), R 10 to R 20 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, and X, Y, and Z each independently represent an oxygen atom, A sulfur atom, — (N—R 21 ) —, and a sulfonyl group, and R 21 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

<5> (C)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を更に含有する前記<1>〜<4>のいずれか1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
<6> 光及び熱の少なくとも一方により硬化する前記<1>〜<5>のいずれか1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
<7> 熱により硬化する前記<1>〜<6>のいずれか1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
<5> (C) The resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <4>, further including a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm.
<6> The resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <5>, which is cured by at least one of light and heat.
<7> The resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <6>, which is cured by heat.

<8> 支持体上に、前記<1>〜<7>のいずれか1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる画像形成層を有する画像形成材料。
<9> 前記画像形成層が光及び熱の少なくとも一方により硬化されていることを特徴とする前記<8>に記載の画像形成材料。
<8> An image forming material having an image forming layer made of the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <7> on a support.
<9> The image forming material according to <8>, wherein the image forming layer is cured by at least one of light and heat.

<10> 前記<1>〜<7>のいずれか1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。
<11> (1)前記<10>に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層を光及び熱の少なくとも一方により架橋する工程、及び、(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程、を含むレリーフ印刷版の製造方法。
<12> 前記(1)工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋する工程である前記<11>に記載のレリーフ印刷版の製造方法。
<10> A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of <1> to <7>.
<11> (1) Step of crosslinking the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving according to <10> by at least one of light and heat, and (2) Laser engraving of the crosslinked relief forming layer And forming a relief layer, a method for producing a relief printing plate.
<12> The method for producing a relief printing plate according to <11>, wherein the step (1) is a step of crosslinking the relief forming layer with heat.

<13> 前記<11>又は<12>に記載のレリーフ印刷版の製造方法により製造された、レリーフ層を有するレリーフ印刷版。
<14> 前記レリーフ層の厚みが、0.05mm以上10mm以下である前記<13>に記載のレリーフ印刷版。
<15> 前記レリーフ層のショアA硬度が、50°以上90°以下である前記<13>又は<14>に記載のレリーフ印刷版。
<13> A relief printing plate having a relief layer, produced by the method for producing a relief printing plate according to <11> or <12>.
<14> The relief printing plate according to <13>, wherein the relief layer has a thickness of 0.05 mm to 10 mm.
<15> The relief printing plate according to <13> or <14>, wherein the relief layer has a Shore A hardness of 50 ° or more and 90 ° or less.

本発明によれば、レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いレーザー彫刻用樹脂組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能な画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びに該製造方法より得られたレリーフ印刷版を提供することができる。
According to the present invention, a resin composition for laser engraving having high engraving sensitivity when subjected to laser engraving can be provided.
Further, according to the present invention, an image forming material having high engraving sensitivity and capable of direct plate making by laser engraving, a relief printing plate precursor for laser engraving, a method for producing a relief printing plate using the relief printing plate precursor, and A relief printing plate obtained by the production method can be provided.

以下、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the resin composition for laser engraving, the image forming material, the relief printing plate precursor for laser engraving, the relief printing plate, and the method for producing the relief printing plate of the present invention will be described in detail.

[レーザー彫刻用樹脂組成物]
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(A)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合とイオン結合とを有する多官能重合性化合物、及び(B)バインダーポリマーを少なくとも含有する。
以下、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物については、単に、「本発明の樹脂組成物」とも称する。
[Resin composition for laser engraving]
The resin composition for laser engraving of the present invention has (A) two or more ethylenically unsaturated bonds, and a carbon-sulfur bond and an ionic bond are formed at a site connecting two ethylenically unsaturated bonds. It contains at least a polyfunctional polymerizable compound having (B) a binder polymer.
Hereinafter, the resin composition for laser engraving of the present invention is also simply referred to as “resin composition of the present invention”.

本発明の樹脂組成物は、レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が高いことから、高速でレーザー彫刻を行うことができるので、彫刻時間についても短縮することができる。このような特徴を有する本発明の樹脂組成物は、レーザー彫刻が施される樹脂造形物の形成用途に、特に限定なく広範囲に適用することができる。例えば、本発明の樹脂組成物の適用態様として、具体的には、レーザー彫刻により画像形成を行う画像形成材料の画像形成層、凸状のレリーフ形成をレーザー彫刻により行う印刷版原版のレリーフ形成層、凹版、孔版、スタンプ、等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。本発明の樹脂組成物は、レーザー彫刻により画像形成を行う画像形成材料の画像形成層、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層に、特に好適に用いることができる。以下、レーザー彫刻用樹脂組成物の構成要素について説明する。   Since the resin composition of the present invention has high engraving sensitivity when subjected to laser engraving, laser engraving can be performed at a high speed, and therefore engraving time can be shortened. The resin composition of the present invention having such characteristics can be applied to a wide range of applications for forming a resin molded article subjected to laser engraving without any particular limitation. For example, as an application mode of the resin composition of the present invention, specifically, an image forming layer of an image forming material that forms an image by laser engraving, a relief forming layer of a printing plate precursor that forms a convex relief by laser engraving , Intaglio, stencil, stamp, and the like, but are not limited thereto. The resin composition of the present invention can be particularly suitably used for an image forming layer of an image forming material for forming an image by laser engraving and a relief forming layer in a relief printing plate precursor for laser engraving. Hereinafter, the components of the resin composition for laser engraving will be described.

<(A)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合とイオン結合とを有する多官能重合性化合物>
本発明の樹脂組成物は、(A)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合とイオン結合とを有する多官能重合性化合物(以下、適宜、「含硫黄多官能モノマー」と称する。)を含有する。
<(A) Polyfunctional polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated bonds, and having a carbon-sulfur bond and an ionic bond at a site connecting two ethylenically unsaturated bonds>
The resin composition of the present invention is (A) a polyfunctional compound having two or more ethylenically unsaturated bonds, and having a carbon-sulfur bond and an ionic bond at a site connecting two ethylenically unsaturated bonds. A polymerizable compound (hereinafter referred to as “a sulfur-containing polyfunctional monomer” as appropriate) is contained.

炭素−硫黄結合を含んだ官能基として、具体的には、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又はチオ尿素を含む官能基が挙げられる。
彫刻感度の観点から、好ましくは、ジスルフィド、チオカルバメート、又はジチオカルバメートを含む官能基であり、より好ましくはジスルフィドを含む官能基である。
また、含硫黄多官能モノマーにおいて、2つのエチレン性不飽和結合間を連結する炭素−硫黄結合を含有する連結基として、より具体的には、−C−S−、−C−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−、及び−C−SO−から選択される少なくとも1つのユニットであることが好ましく、中でも、彫刻感度をより高めるといった観点から、−C−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−が好ましく、−C−SS−が最も好ましい。
Specific examples of the functional group containing a carbon-sulfur bond include sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, thiocarbamate, dithiocarbamate, or thiol. Examples include functional groups containing urea.
From the viewpoint of engraving sensitivity, a functional group containing disulfide, thiocarbamate, or dithiocarbamate is preferred, and a functional group containing disulfide is more preferred.
Moreover, in a sulfur-containing polyfunctional monomer, as a coupling group containing a carbon-sulfur bond that links two ethylenically unsaturated bonds, more specifically, —C—S—, —C—SS—, — It is preferably at least one unit selected from NH (C═S) O—, —NH (C═O) S—, —NH (C═S) S—, and —C—SO 2 —. Among these, -C-SS-, -NH (C = S) O-, -NH (C = O) S-, and -NH (C = S) S- are preferable from the viewpoint of increasing engraving sensitivity. C-SS- is most preferred.

本発明における含硫黄多官能モノマー中のイオン結合としては、隣接する原子との結合部位を有するアニオン部と、隣接する原子との結合部位を有するカチオン部と、からなるイオン結合であれば、如何なるものであってもよい。
イオン結合について、熱安定性の点から、1価のアニオン部と、1価のカチオン部と、からなることが好ましい。
イオン結合について、より具体的には、原料調達性及び熱安定性の点から、−CO−O−SO−O−PO 、及び下記一般式(1)で表される構造から選択される1種のアニオン部と、下記一般式(2)〜(4)で表される構造から選択される1種のカチオン部と、からなることが好ましい。
ここで、アニオン部及びカチオン部中の「*」は、イオン結合と隣接する原子との結合部位を表す。
As the ionic bond in the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention, any ion bond may be used as long as it is an ionic bond comprising an anion portion having a binding site with an adjacent atom and a cation portion having a binding site with an adjacent atom. It may be a thing.
The ionic bond is preferably composed of a monovalent anion portion and a monovalent cation portion from the viewpoint of thermal stability.
For ionic bonding, more specifically, in terms of raw material procurement and thermal stability, * -CO-O -, * -SO 2 -O -, * -PO 3 -, and the following general formula (1) It is preferable to consist of 1 type of anion part selected from the structure represented, and 1 type of cation part selected from the structure represented by following General formula (2)-(4).
Here, “*” in the anion portion and the cation portion represents a binding site between an ionic bond and an adjacent atom.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

上記一般式(1)〜(4)中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は複素環基を表す。 In the general formulas (1) to (4), R 1 to R 8 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a heterocyclic group. To express.

〜Rで表されるアルキル基、又はアルコキシ基は、直鎖、分岐のいずれでもよく、炭素原子数1〜12のものが好ましく、炭素原子数1〜8のものがより好ましく、炭素原子数1〜4のものが更に好ましい。
また、R〜Rで表されるアルケニル基、又はアルキニル基は、直鎖、分岐のいずれでもよく、炭素原子数2〜12のものが好ましく、炭素原子数2〜8のものがより好ましく、炭素原子数2〜4のものが更に好ましい。
シクロアルキル基:縮環していてもよい。炭素原子数5〜12が好ましく、5〜10がより好ましく、5〜8が更に好ましい。
The alkyl group or alkoxy group represented by R 1 to R 8 may be linear or branched, preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably has 1 to 8 carbon atoms, and carbon Those having 1 to 4 atoms are more preferred.
The alkenyl group or alkynyl group represented by R 1 to R 8 may be linear or branched, preferably has 2 to 12 carbon atoms, and more preferably has 2 to 8 carbon atoms. More preferred are those having 2 to 4 carbon atoms.
Cycloalkyl group: The ring may be condensed. The number of carbon atoms is preferably 5 to 12, more preferably 5 to 10, and still more preferably 5 to 8.

〜Rで表されるアリール基は、縮環していてもよく、炭素原子数6〜18のものが好ましく、炭素原子数6〜14のものがより好ましく、炭素原子数6〜10のものが更に好ましい。
また、R〜Rで表される複素環基は、縮環していてもよく、硫黄原子、窒素原子、酸素原子のいずれかを含むものが好ましく、窒素原子を含むものがより好ましい。この複素環基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜8がより好ましく、3〜6が更に好ましい。
The aryl group represented by R 1 to R 8 may be condensed, preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably has 6 to 14 carbon atoms, and more preferably has 6 to 10 carbon atoms. Are more preferred.
In addition, the heterocyclic group represented by R 1 to R 8 may be condensed, and preferably includes any of a sulfur atom, a nitrogen atom, and an oxygen atom, and more preferably includes a nitrogen atom. 3-10 are preferable, as for this heterocyclic group, 3-8 are more preferable, and 3-6 are still more preferable.

〜Rで表される各基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、アミド基、ホルミル基、カルボニル基、エステル基、エーテル、チオエーテル、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は複素環基が挙げられる。なお、ここに挙げたアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は複素環基の好ましい態様は、R〜Rで表されるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は複素環基と同様である。
本発明においては、R〜Rで表される各基は、無置換であるか、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、又はフェニル基を置換基として有することが好ましい。
Each group represented by R 1 to R 8 may further have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, a thiol group, an amide group, and a formyl group. Carbonyl group, ester group, ether, thioether, alkyl group, alkenyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, or heterocyclic group. The preferred embodiments of the alkyl group, alkenyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, or heterocyclic group listed here are alkyl groups, alkenyl groups, cycloalkyl groups represented by R 1 to R 8 , It is the same as the alkoxy group, aryl group, or heterocyclic group.
In the present invention, each group represented by R 1 to R 8 is preferably unsubstituted or has a methyl group, an ethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or a phenyl group as a substituent.

前記一般式(1)〜(4)において、R〜Rのうち少なくとも2つが連結して環を形成してもよく、R〜Rのうち少なくとも2つが連結して環を形成してもよく、RとRが連結して環を形成してもよい。形成される環の構造としては、3〜10員環が好ましく、4〜8員環がより好ましく、5〜6員環が更に好ましい。また、形成される環は、飽和でも不飽和でもよく、また、縮環していてもよい。更に、環を形成するための連結鎖中に、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでもよい。 In the general formulas (1) to (4), at least two of R 2 to R 4 may be connected to form a ring, or at least two of R 5 to R 7 may be connected to form a ring. R 8 and R 9 may be linked to form a ring. As a structure of the ring formed, a 3-10 membered ring is preferable, a 4-8 membered ring is more preferable, and a 5-6 membered ring is still more preferable. Further, the ring formed may be saturated or unsaturated, or may be condensed. Furthermore, the connecting chain for forming a ring may contain a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom.

中でも、原料調達性の観点から、好ましいアニオン部は、−CO−O−SO−Oであり、より好ましくは、−CO−Oである。
また、原料コスト、及び熱安定性の観点から、好ましいカチオン部は、前記一般式(2)で表される構造である。
ここで、イオン結合を構成するアニオン部が−SO−Oなどの含硫黄アニオン部である場合には、この含硫黄アニオン部と隣接する炭素原子とで含硫黄多官能モノマー中の炭素−硫黄結合を形成していてもよい。
Among them, from the viewpoint of raw material procurement properties, preferably anion portion, * -CO-O -, * -SO 2 -O - , more preferably an, * -CO-O - a.
Moreover, from a viewpoint of raw material cost and thermal stability, a preferable cation part is a structure represented by the said General formula (2).
Here, the anion portion constituting the ionic bonds * -SO 2 -O - in the case of sulfur-containing anion such as a carbon of the sulfur-containing polyfunctional monomer in the carbon atoms adjacent to the sulfur-containing anion -A sulfur bond may be formed.

含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれる硫黄原子の数は1つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1個〜10個が好ましく、1個〜5個がより好ましく、1個〜2個が更に好ましい。
含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれるイオン結合の数は、1つ以上であれば特に制限は無く、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1個〜10個が好ましく、1個〜5個がより好ましく、1個〜2個が更に好ましい。
一方、分子内に含まれるエチレン性不飽和部位の数は2つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、架橋膜の柔軟性の観点で、2個〜10個が好ましく、2個〜6個がより好ましく、2個〜4個が更に好ましい。
The number of sulfur atoms contained in the molecule of the sulfur-containing polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is 1 or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but the balance between engraving sensitivity and solubility in the coating solvent. From the viewpoint, 1 to 10 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 1 to 2 is more preferable.
The number of ionic bonds contained in the molecule of the sulfur-containing polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is 1 or more, and from the viewpoint of the balance of engraving sensitivity and solubility in the coating solvent, 1 to 10 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 1 to 2 is more preferable.
On the other hand, the number of ethylenically unsaturated sites contained in the molecule is not particularly limited as long as it is 2 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. -10 are preferable, 2-6 are more preferable, and 2-4 are still more preferable.

含硫黄多官能モノマーにおいて、エチレン性不飽和結合を含む部分構造の少なくとも1つは、重合物の分解性の観点から、下記一般式(5)〜(7)のいずれかで表される部分構造であることが好ましい。
なお、本発明における含硫黄多官能モノマーにおいて、下記一般式(5)〜(7)のいずれかの部分構造は、1分子中に同種のものが2つ以上存在していてもよいし、異種のものが2つ以上存在していてもよい。
ここで、一般式(5)〜(7)のいずれかの部分構造中の「*」は、隣接する原子との結合部位を表す。
In the sulfur-containing polyfunctional monomer, at least one of the partial structures containing an ethylenically unsaturated bond is a partial structure represented by any one of the following general formulas (5) to (7) from the viewpoint of decomposability of the polymer. It is preferable that
In the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention, two or more of the same types of partial structures of the following general formulas (5) to (7) may be present in one molecule, or different types. Two or more things may exist.
Here, “*” in any partial structure of the general formulas (5) to (7) represents a bonding site with an adjacent atom.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

一般式(5)〜(7)中、R10〜R20は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。X、Y、及びZは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−N−R21−、スルホニル基を表す。ここで、R21は、水素原子、又は1価の有機基を表す。 In general formulas (5) to (7), R 10 to R 20 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. X, Y, and Z each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R 21 —, or a sulfonyl group. Here, R 21 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

前記一般式(5)において、R10〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。
10としては、水素原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基など有機基が挙げられ、中でも、具体的には、水素原子、メチル基、メチルアルコキシ基、メチルエステル基が好ましい。
また、R11及びR12としては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
Xとしては、酸素原子、硫黄原子、又は、−N−R21−が好ましく、R21としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
In the general formula (5), R 10 to R 12 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
Examples of R 10 include a hydrogen atom or an organic group such as an alkyl group which may have a substituent. Specifically, a hydrogen atom, a methyl group, a methylalkoxy group, or a methyl ester group is particularly preferable.
R 11 and R 12 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or a substituent. A good alkyl group, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like are mentioned. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, alkoxycarbonyl A group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent are preferable. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
X is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 21 —, and examples of R 21 include an alkyl group which may have a substituent.

前記一般式(6)において、R13〜R17は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。
13〜R17としては、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、一般式(5)において導入しうる置換基として挙げたものが例示される。
Yとしては、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R21−が好ましく、R21としては、一般式(5)におけるのと同様のものが挙げられる。
In the general formula (6), R 13 to R 17 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
Examples of R 13 to R 17 include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, and an alkyl group that may have a substituent, An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent. An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferred. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include those exemplified as the substituent that can be introduced in the general formula (5).
Y is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 21 —, and examples of R 21 include the same as those in General Formula (5).

前記一般式(7)において、R18〜R20は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。
18〜R20としては、具体的には、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、一般式(5)において導入しうる置換基として挙げたものが例示される。
Zとしては、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R21−が好ましく、R21としては、一般式(5)におけるものと同様のものが挙げられる。
In the general formula (7), R 18 to R 20 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.
Specific examples of R 18 to R 20 include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, and a substituent. An alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent , An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, etc., among which a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxy A carbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent are preferable. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include those exemplified as the substituent that can be introduced in the general formula (5).
Z is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 21 —, and examples of R 21 include the same as those in General Formula (5).

前記一般式(5)〜(7)で表される部分構造の中でも、熱又は光による架橋しやすさの点で、一般式(5)に記載の部分構造が好ましい。   Among the partial structures represented by the general formulas (5) to (7), the partial structure described in the general formula (5) is preferable from the viewpoint of easy crosslinking by heat or light.

また、本発明における含硫黄多官能モノマーは、エチレン性不飽和部位間を連結するための連結基Lを含む。ここで、連結基Lは炭素−硫黄結合及びイオン結合を含む2価以上の連結基を表す。
連結基Lに含まれる炭素−硫黄結合を有する官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又はチオ尿素を含む官能基が挙げられる。彫刻感度の観点から、好ましくは、ジスルフィド、チオカルバメート、又はジチオカルバメートを含む官能基であり、より好ましくはジスルフィドを含む官能基である。
また、連結基L中のイオン結合は、イオン結合を構成する原子団(即ち、アニオン部とカチオン部とからなる原子団)として含まれており、この原子団としては、−CO−O−SO−O−PO 、及び前記一般式(1)で表される構造から選択される1種のアニオン部と、前記一般式(2)〜(4)で表される構造から選択される1種のカチオン部と、からなる原子団が好ましい。
Moreover, the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes a linking group L for linking the ethylenically unsaturated sites. Here, the linking group L represents a divalent or higher valent linking group containing a carbon-sulfur bond and an ionic bond.
Examples of the functional group having a carbon-sulfur bond contained in the linking group L include sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, thiocarbamate, dithiocarbamate, or Examples include functional groups containing thiourea. From the viewpoint of engraving sensitivity, a functional group containing disulfide, thiocarbamate, or dithiocarbamate is preferred, and a functional group containing disulfide is more preferred.
In addition, the ionic bond in the linking group L is included as an atomic group constituting the ionic bond (that is, an atomic group composed of an anion portion and a cation portion). As this atomic group, * —CO—O , * -SO 2 -O -, * -PO 3 -, and tables in a one anionic portion, wherein the general formula (2) to (4) is selected from the structures represented by the general formula (1) An atomic group consisting of one kind of cation moiety selected from the structures to be formed is preferable.

また、連結基Lとしては、炭素−硫黄結合を有する官能基、及びイオン結合を構成する原子団の他に炭化水素基を含むことが好ましく、特に、合計の炭素数が1〜10となることがより好ましい。中でも、連結基Lは、複数の炭素数1〜6の炭化水素基から構成されていたり、また、複数の炭素数1〜6の炭化水素基が、エステル結合等の炭化水素基以外の構造を介して連結されたものを含むことが好ましい。炭化水素基としては、炭素数1〜6のアルキレン基、フェニレン基等が好ましい。また、連結基Lを構成する炭化水素基以外の構造としては、エステル結合の他、アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、エーテル結合、カルボニル基、スルホニル基等が好ましいものとして挙げられるが、エステルが最も好ましい。また、この炭化水素基は、1価の置換基によって適宜置換されていてもよく、置換基としては、水酸基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましく用いられる。特に、連結基Lを構成する炭化水素基としては、水酸基で置換されている炭化水素基が好ましい。また、連結基Lは、一つのエチレン性不飽和結合当たり1つ〜5つの炭化水素基を含む構造であることが好ましい。   In addition, the linking group L preferably contains a hydrocarbon group in addition to the functional group having a carbon-sulfur bond and the atomic group constituting the ionic bond, and in particular, the total number of carbon atoms is 1 to 10. Is more preferable. Among them, the linking group L is composed of a plurality of hydrocarbon groups having 1 to 6 carbon atoms, or the plurality of hydrocarbon groups having 1 to 6 carbon atoms has a structure other than a hydrocarbon group such as an ester bond. It is preferable to include what was connected via the. As a hydrocarbon group, a C1-C6 alkylene group, a phenylene group, etc. are preferable. Examples of the structure other than the hydrocarbon group constituting the linking group L include an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an ether bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, and the like. Most preferred. The hydrocarbon group may be appropriately substituted with a monovalent substituent, and a hydroxyl group, thiol group, amino group, carboxyl group, cyano group, nitro group, or the like is preferably used as the substituent. In particular, the hydrocarbon group constituting the linking group L is preferably a hydrocarbon group substituted with a hydroxyl group. The linking group L preferably has a structure containing 1 to 5 hydrocarbon groups per one ethylenically unsaturated bond.

前記一般式(5)〜(7)のいずれかで表される部分構造を有する含硫黄多官能モノマーとして好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、下記具体例中のRは水素原子又はメチル基を示しており、これらは同じでも異なっていてもよい。
Specific preferred examples of the sulfur-containing polyfunctional monomer having a partial structure represented by any one of the general formulas (5) to (7) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
Moreover, R in the following specific examples represents a hydrogen atom or a methyl group, and these may be the same or different.

Figure 2010076135
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本発明における含硫黄多官能モノマーは、(a)硫黄原子を含み、2つ以上のカルボン酸基やスルホン酸基、リン酸基を有する化合物と、エチレン性不飽和結合部位を有するアミンとの中和反応、(b)硫黄原子を含み、2つ以上のアミノ基を有する化合物と、エチレン性不飽和結合部位を有するカルボン酸やスルホン酸、リン酸との中和反応、(c)硫黄原子を含み、エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸、スルホン酸、又はリン酸と、エチレン性不飽和結合を有するアミンとの中和反応、(d)エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸、スルホン酸、又はリン酸と、硫黄原子を含み、エチレン性不飽和結合を有するアミンとの中和反応、(e)硫黄原子を含み、2つ以上のアンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基を有する化合物の塩と、エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸、スルホン酸、又はリン酸の金属塩とのイオン交換反応、(f)2つ以上のアンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基を有する化合物の塩と、硫黄原子を含み、エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸、スルホン酸、又はリン酸の金属塩とのイオン交換反応、などを用いて合成することができる。また、市販品を用いてもよい。   The sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes (a) a compound containing a sulfur atom and having two or more carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, and phosphoric acid groups, and an amine having an ethylenically unsaturated bond site. (B) neutralization reaction between (b) a compound containing a sulfur atom and having two or more amino groups and a carboxylic acid, sulfonic acid or phosphoric acid having an ethylenically unsaturated bond site, (c) a sulfur atom And a neutralization reaction of a carboxylic acid, sulfonic acid or phosphoric acid having an ethylenically unsaturated bond with an amine having an ethylenically unsaturated bond, (d) a carboxylic acid having an ethylenically unsaturated bond, a sulfonic acid, Or a neutralization reaction between phosphoric acid and an amine containing a sulfur atom and having an ethylenically unsaturated bond, (e) containing a sulfur atom and having two or more ammonium groups, sulfonium groups, and phosphonium groups An ion exchange reaction between a salt of the compound and a metal salt of a carboxylic acid, sulfonic acid or phosphoric acid having an ethylenically unsaturated bond; (f) a salt of the compound having two or more ammonium groups, sulfonium groups and phosphonium groups; And an ion exchange reaction with a metal salt of a carboxylic acid, a sulfonic acid, or a phosphoric acid containing a sulfur atom and having an ethylenically unsaturated bond. Moreover, you may use a commercial item.

本発明における含硫黄多官能モノマーの分子量としては、形成される膜の柔軟性の観点から、好ましくは120〜3000であり、より好ましくは120〜1500である。   The molecular weight of the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is preferably 120 to 3000, more preferably 120 to 1500, from the viewpoint of the flexibility of the formed film.

また、本発明における含硫黄多官能モノマーは単独で用いてもよいが、分子内に硫黄原子を持たない多官能重合性化合物や単官能重合性化合物との混合物として用いてもよい。 彫刻感度の観点からは、含硫黄多官能モノマー単独で用いる、若しくは、含硫黄多官能モノマーと単官能エチレン性モノマーとの混合物として用いる態様が好ましく、より好ましくは、含硫黄多官能モノマーと単官能エチレン性モノマーとの混合物として用いる態様である。   Moreover, although the sulfur-containing polyfunctional monomer in this invention may be used independently, you may use it as a mixture with the polyfunctional polymerizable compound and monofunctional polymerizable compound which do not have a sulfur atom in a molecule | numerator. From the viewpoint of engraving sensitivity, it is preferable to use a sulfur-containing polyfunctional monomer alone or as a mixture of a sulfur-containing polyfunctional monomer and a monofunctional ethylenic monomer, more preferably a sulfur-containing polyfunctional monomer and a monofunctional. This is an embodiment used as a mixture with an ethylenic monomer.

本発明の樹脂組成物においては、含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物を用いることにより、膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
また、本発明の樹脂組成物中の含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物の総含有量は、架橋膜の柔軟性や脆性の観点から、組成物中の不揮発性成分に対して、10質量%〜60質量%が好ましく、15質量%〜40質量%の範囲がより好ましい。
なお、含硫黄多官能モノマーと他の重合性化合物とを併用する場合、全重合性化合物中の含硫黄多官能モノマーの量は、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。
In the resin composition of the present invention, film properties such as brittleness and flexibility can be adjusted by using a polymerizable compound including a sulfur-containing polyfunctional monomer.
In addition, the total content of polymerizable compounds including the sulfur-containing polyfunctional monomer in the resin composition of the present invention is based on the non-volatile components in the composition from the viewpoint of flexibility and brittleness of the crosslinked film. 10 mass%-60 mass% are preferable, and the range of 15 mass%-40 mass% is more preferable.
In addition, when using together a sulfur-containing polyfunctional monomer and another polymeric compound, 5 mass% or more is preferable and, as for the quantity of the sulfur-containing polyfunctional monomer in all the polymeric compounds, 10 mass% or more is more preferable.

本発明において、含硫黄多官能モノマーと併用しうる、分子内に硫黄原子を持たない重合性化合物(以下、単に、「多官能モノマー」と称する。)は、末端エチレン性不飽和結合を2個〜20個有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの共重合体、並びにそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   In the present invention, a polymerizable compound having no sulfur atom in the molecule that can be used in combination with the sulfur-containing polyfunctional monomer (hereinafter simply referred to as “polyfunctional monomer”) has two terminal ethylenically unsaturated bonds. It is preferably selected from compounds having ˜20. Such a compound group is widely known in this industrial field, and in the present invention, these can be used without any particular limitation. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or copolymers thereof, and mixtures thereof. Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. In addition, unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group or amino group, amide and monofunctional or polyfunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, monofunctional or polyfunctional carboxylic acid A dehydration condensation reaction product with an acid or the like is also preferably used. In addition, unsaturated carboxylic acid esters having an electrophilic substituent such as isocyanato group, epoxy group, amides with monofunctional or polyfunctional alcohols, addition reaction products of amines, halogen groups, tosyloxy A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide with a monofunctional or polyfunctional alcohol or amine having a leaving substituent such as a group is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1、3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1、4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of monomers of esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1、3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1、3−ブタンジオールジイタコネート、1、4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等がある。   Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetracrotonate.

イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。   Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, Those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。   The ester monomers can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1、6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1、6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, and 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.

その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(i)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (i) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

CH=C(R)COOCHCH(R’)OH (i)
(ただし、R及びR’は、それぞれ、H又はCHを示す。)
CH 2 = C (R) COOCH 2 CH (R ') OH (i)
(However, R and R ′ each represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。   Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号各公報に記載される、分子内にアミノ構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、短時間で硬化組成物を得ることができる。   Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, a short time can be obtained. A cured composition can be obtained.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌vol。20、No。7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. be able to. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

本発明において、含硫黄多官能モノマーと併用しうる、単官能重合性化合物(以下、単に「単官能モノマー」と称する。)は末端エチレン性不飽和結合を1個有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。単官能モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と単官能のアルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と単官能の脂肪族アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、単官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   In the present invention, the monofunctional polymerizable compound (hereinafter simply referred to as “monofunctional monomer”) that can be used in combination with the sulfur-containing polyfunctional monomer is selected from compounds having one terminal ethylenically unsaturated bond. Such a compound group is widely known in this industrial field, and in the present invention, these can be used without any particular limitation. Examples of monofunctional monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. An ester of a saturated carboxylic acid and a monofunctional alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and a monofunctional aliphatic amine compound is used. Also, unsaturated carboxylic acid ester having nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amide and monofunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, dehydration with monofunctional carboxylic acid A condensation reaction product or the like is also preferably used. In addition, unsaturated carboxylic acid esters having an electrophilic substituent such as an isocyanato group or an epoxy group, addition products of amides with monofunctional alcohols, amines, thiols, halogen groups, and tosyloxy groups A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester having a leaving substituent such as amide, amides with monofunctional alcohols, amines or thiols is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

単官能の脂肪族アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、β−ヒドロキシ−β’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリレート、クロロエチル(メタ)アクリレート、クロロプロピル(メタ)アクリレートなどのハロゲン化アルキル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングレコール(メタ)アクリレート、アルコキシアルキレングリコール(メタ)アクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of a monofunctional aliphatic alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate having a hydroxyl group such as 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, β-hydroxy-β ′-(meth) acryloyloxyethyl phthalate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, Cycloalkyl (meth) acrylates such as xyl (meth) acrylate, chloroethyl (meth) acrylate, halogenated alkyl (meth) acrylates such as chloropropyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxyalkyl (meth) acrylates such as nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate , Methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, alkoxyalkylene glycol (meth) acrylate, and the like.

単官能の脂肪族アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N、N’−メチレンビス(メタ)アクリルアミドのような(メタ)アクリルアミド類、2、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N、N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N、N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等がある。   Specific examples of amide monomers of monofunctional aliphatic amine compounds and unsaturated carboxylic acids are (meth) acrylamides such as (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, and N, N′-methylenebis (meth) acrylamide. Acrylamides, 2,2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2,2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, etc. There is.

本発明の樹脂組成物は、前述のような含硫黄多官能モノマーを含有することを特徴としており、彫刻感度に優れるといった効果を有するものである。
本発明における含硫黄多官能モノマーは、分子内に、炭素−炭素結合よりも結合解離エネルギーの小さい炭素−硫黄結合と、共有結合よりも結合解離エネルギーの小さいイオン結合と、の両方を有している。このような含硫黄多官能モノマーは、光及び/熱により架橋するが、得られた架橋物を熱分解させる際には、炭素−硫黄結合の代わりに炭素−炭素結合を有するモノマー、又は、イオン結合の代わりに共有結合を有するモノマーに比べて、より低温で、炭素−硫黄結合及びイオン結合が開裂するといった特性を有する。このように、含硫黄多官能モノマーは、該モノマーから得られた架橋物が、低温熱分解特性を有しているため、この架橋物に対しレーザーを照射し、照射部分を消散や飛散させるといった、レーザー彫刻に供した際に、その彫刻感度を高めることができると推測される。
The resin composition of the present invention is characterized by containing a sulfur-containing polyfunctional monomer as described above, and has an effect of being excellent in engraving sensitivity.
The sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention has both a carbon-sulfur bond having a bond dissociation energy smaller than a carbon-carbon bond and an ionic bond having a bond dissociation energy smaller than a covalent bond in the molecule. Yes. Such a sulfur-containing polyfunctional monomer is crosslinked by light and / or heat. When the obtained crosslinked product is thermally decomposed, a monomer having a carbon-carbon bond instead of a carbon-sulfur bond, or an ion Compared to a monomer having a covalent bond instead of a bond, the carbon-sulfur bond and the ionic bond are cleaved at a lower temperature. Thus, in the sulfur-containing polyfunctional monomer, since the crosslinked product obtained from the monomer has low-temperature thermal decomposition characteristics, the crosslinked product is irradiated with a laser to dissipate or scatter the irradiated portion. It is presumed that the engraving sensitivity can be increased when it is subjected to laser engraving.

本発明の樹脂組成物は、(A)含硫黄多官能モノマー、後述の(B)バインダーポリマー以外に、赤外線レーザーに対応させるため、(C)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤(以下、単に、「光熱変換剤」と称する場合がある。)を含有することが好ましい態様である。
このような態様の樹脂組成物に対応する、近赤外レーザーを使用したレーザー彫刻は、(1)(C)光熱変換剤による光吸収 → (2)(C)光熱変換剤による光熱変換 → (3)光熱変換剤から近傍に存在する(B)バインダーポリマー及び/又は(A)含硫黄多官能モノマーの架橋物(重合物)への熱伝達 → (4)バインダー及び/又は(A)含硫黄多官能モノマーの架橋物(重合物)の熱分解 → (5)分解した(B)バインダーポリマー及び/又は(A)含硫黄多官能モノマーの架橋物(重合物)の消散や飛散、という5つの過程から構成されると考えられる。
ここで、(A)含硫黄多官能モノマーは、上記のごとく、低温熱分解特性を有しているので、この低温熱分解特性によって、上記(4)の過程において、熱分解が促進される効果によって、レーザー彫刻感度が非常に高くなっているものと考えられる。特に、C−SS結合、−NH−C(=O)−S−結合、−NH−C(=S)−S−結合を有する含硫黄多官能モノマーを用いた場合にこの効果は大きい。これは、C−S−C結合よりも、S−S結合や、C(=O)−S結合、C(=S)−S結合の結合解離エネルギーが小さいためと考えられる。特に、C−SS結合の場合にこの効果は顕著である。
In addition to (A) a sulfur-containing polyfunctional monomer and (B) binder polymer described later, the resin composition of the present invention is (C) photothermal conversion capable of absorbing light with a wavelength of 700 nm to 1300 nm in order to correspond to an infrared laser. It is a preferable embodiment to contain an agent (hereinafter, sometimes simply referred to as “photothermal conversion agent”).
Laser engraving using a near-infrared laser corresponding to the resin composition of such an embodiment is (1) (C) light absorption by a photothermal conversion agent → (2) (C) photothermal conversion by a photothermal conversion agent → ( 3) Heat transfer from photothermal conversion agent to (B) binder polymer and / or (A) cross-linked product (polymer) of sulfur-containing polyfunctional monomer → (4) Binder and / or (A) sulfur-containing Thermal decomposition of cross-linked product (polymer) of polyfunctional monomer → (5) Dissipation and scattering of (B) decomposed (B) binder polymer and / or (A) cross-linked product (polymer) of sulfur-containing polyfunctional monomer It is thought to consist of processes.
Here, since the sulfur-containing polyfunctional monomer (A) has low-temperature pyrolysis characteristics as described above, the effect of promoting thermal decomposition in the process of (4) by the low-temperature pyrolysis characteristics. Therefore, it is considered that the laser engraving sensitivity is very high. In particular, this effect is great when a sulfur-containing polyfunctional monomer having a C—SS bond, —NH—C (═O) —S— bond, or —NH—C (═S) —S— bond is used. This is presumably because the bond dissociation energy of SS bond, C (═O) —S bond, and C (═S) —S bond is smaller than that of C—S—C bond. In particular, this effect is remarkable in the case of the C-SS bond.

本発明の樹脂組成物において、(A)含硫黄多官能モノマーと組み合わせる(B)バインダーポリマーとしては、後述するが、ポリ乳酸のようなポリ(ヒドロキシカルボン酸)エステルの場合に、彫刻感度向上効果が顕著である。これは、上記(4)の過程において、(B)バインダーポリマーが熱分解する際に発生する求核性の部位が、(A)含硫黄多官能モノマーの架橋物(重合物)に求核攻撃することによって、該架橋物の分解を促進するためと推定される。また、上記(4)の過程の際に、(B)バインダーポリマーとして解重合し易いものを用いた場合は、より細かいフラグメントへと分解されるために、上記(5)の過程において、分解物の消散が効果的に起こり彫刻感度が向上するものと考えられる。   In the resin composition of the present invention, (B) the binder polymer to be combined with (A) the sulfur-containing polyfunctional monomer will be described later. In the case of a poly (hydroxycarboxylic acid) ester such as polylactic acid, the engraving sensitivity improvement effect Is remarkable. This is because, in the process of (4), (B) the nucleophilic site generated when the binder polymer is thermally decomposed is (A) a nucleophilic attack on the cross-linked product (polymer) of the sulfur-containing polyfunctional monomer. This is presumed to promote the decomposition of the crosslinked product. Further, in the process of (4), when (B) a binder polymer that is easily depolymerized is used, it is decomposed into finer fragments. It is considered that the sculpture sensitivity is improved and the engraving sensitivity is improved.

以下、本発明の樹脂組成物の必須成分である(B)バインダーポリマー、更には、任意成分である(C)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤、重合開始剤等について、説明する。   Hereinafter, (B) binder polymer, which is an essential component of the resin composition of the present invention, and (C) a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm, a polymerization initiator, etc., which are optional components, explain.

<(B)バインダーポリマー>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(B)バインダーポリマーを含有する。
バインダーポリマーは、レーザー彫刻用樹脂組成物に含有される主成分であり、通常は、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマーなどを、目的に応じて用いる。
例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光或いは加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。
また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。
更に、レーザー彫刻用樹脂組成物を、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層に適用する場合であれば、レリーフ形成層用組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点からは、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。
加えて、例えば、加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、バインダーポリマーとして、分子内に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーが選択される。
このように、レーザー彫刻用樹脂組成物の適用用途に応じた物性を考慮し、目的に応じたバインダーポリマーを選択し、当該バインダーポリマーの1種を、或いは、2種以上を組み合わせて用いることができる。
以下、本発明においてバインダーポリマーとして用いうる各種ポリマーについて説明する。
<(B) Binder polymer>
The resin composition for laser engraving of the present invention contains (B) a binder polymer.
The binder polymer is a main component contained in the resin composition for laser engraving, and usually a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, or the like is used according to the purpose.
For example, from the viewpoint of laser engraving sensitivity, a polymer containing a partial structure that is thermally decomposed by exposure or heating is preferable.
For example, when the purpose is to form a soft and flexible film, a soft resin or a thermoplastic elastomer is selected.
Furthermore, if the resin composition for laser engraving is applied to the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving, the ease of preparation of the composition for the relief forming layer, the oil-based ink in the resulting relief printing plate From the viewpoint of improving the resistance to water, it is preferable to use a hydrophilic or alcoholic polymer.
In addition, for example, when used for the purpose of curing by heating or exposure and improving the strength, a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule is selected as the binder polymer.
Thus, considering the physical properties according to the application application of the resin composition for laser engraving, selecting a binder polymer according to the purpose, and using one kind of the binder polymer or a combination of two or more kinds. it can.
Hereinafter, various polymers that can be used as the binder polymer in the present invention will be described.

(分解性を有するポリマー)
レーザー彫刻感度の観点から好ましく用いられるバインダーポリマーとしては、露光、加熱などのエネルギー付与により分解する部分構造をもつポリマー(分解性を有するポリマー)が挙げられる。
(Degradable polymer)
Examples of the binder polymer that is preferably used from the viewpoint of laser engraving sensitivity include polymers having a partial structure that decomposes upon application of energy such as exposure and heating (polymer having decomposability).

分解性を有するポリマーとしては、分子鎖中に、分解、切断され易い部分構造を有するモノマー単位として、スチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、上記以外のエステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、カーボネート化合物類、カルバモイル化合物類、ヘミアセタールエステル化合物類、オキシエチレン化合物類、脂肪族環状化合物類等を含むポリマーが挙げられる。   Examples of degradable polymers include styrene, α-methylstyrene, α-methoxystyrene, acrylic esters, methacrylic esters, and esters other than the above as monomer units having a partial structure that is easily decomposed and cleaved in the molecular chain. Examples include polymers containing compounds, ether compounds, nitro compounds, carbonate compounds, carbamoyl compounds, hemiacetal ester compounds, oxyethylene compounds, aliphatic cyclic compounds, and the like.

これらの中でも、特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、脂肪族カルバメート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、或いは分岐構造の多いデンドリマー等の分子構造を有するポリマーが、分解性の観点から好ましく挙げられる。
また、分子鎖中に酸素原子を多数含有するポリマーが分解性の観点から好ましい。このような観点からは、カーボネート基、カルバメート基、メタクリル基をポリマー主鎖中に有する化合物が好適に挙げられる。
例えば、(ポリ)カーボネートジオールや(ポリ)カーボネートジカルボン酸を原料として合成したポリエステルやポリウレタン、(ポリ)カーボネートジアミンを原料として合成したポリアミドなどを熱分解性の良好なポリマーの例として挙げることができる。これらのポリマーは、主鎖、側鎖に重合性不飽和基を含有しているものであっても構わない。特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の反応性官能基を有する場合には、このような熱分解性ポリマーに対し、重合性不飽和基を導入することも容易である。
Among these, in particular, polyethers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol, aliphatic polycarbonates, aliphatic carbamates, polymethyl methacrylate, polystyrene, nitrocellulose, polyoxyethylene, polynorbornene, polycyclohexane. A polymer having a molecular structure such as a hydrogenated hexadiene or a dendrimer having many branched structures is preferred from the viewpoint of degradability.
A polymer containing a large number of oxygen atoms in the molecular chain is preferred from the viewpoint of degradability. From such a viewpoint, a compound having a carbonate group, a carbamate group, or a methacryl group in the polymer main chain is preferable.
For example, polyesters and polyurethanes synthesized from (poly) carbonate diol or (poly) carbonate dicarboxylic acid as raw materials, polyamides synthesized from (poly) carbonate diamine as raw materials, and the like can be cited as examples of polymers having good thermal decomposability. . These polymers may contain a polymerizable unsaturated group in the main chain and side chain. In particular, when it has a reactive functional group such as a hydroxyl group, an amino group, or a carboxyl group, it is easy to introduce a polymerizable unsaturated group into such a thermally decomposable polymer.

また、分解性を有するポリマーとして、ポリ乳酸などのヒドロキシルカルボン酸ユニットからなるポリエステルを用いることができる。このようなポリエステルとしては、具体的には、ポリヒドロキシアルカノエート(PHA)、乳酸系ポリマー、ポリグリコール酸(PGA)、ポリカプロラクトン(PCL)、ポリ(ブチレンコハク酸)、これらの誘導体又は混合物から成る群から選択されるものが好ましい。   Moreover, polyester which consists of hydroxyl carboxylic acid units, such as polylactic acid, can be used as a polymer which has decomposability | degradability. Specific examples of such polyesters include polyhydroxyalkanoate (PHA), lactic acid-based polymer, polyglycolic acid (PGA), polycaprolactone (PCL), poly (butylene succinic acid), and derivatives or mixtures thereof. Those selected from the group consisting of are preferred.

(熱可塑性ポリマー)
レーザー彫刻感度の観点から好ましく用いられるバインダーポリマーの1つとして、熱可塑性ポリマーが挙げられる。
熱可塑性ポリマーとしては、エラストマーであっても非エラストマーの樹脂であってもよく、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の目的に応じて選択すればよい。
熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。これらの熱可塑性エラストマーのレーザー彫刻感度を向上させる目的で、エラストマーの主鎖に、カルバモイル基、カーボネート基等の易分解性官能基を導入したものを用いることもできる。また、熱可塑性ポリマーと前記熱分解性ポリマーと混合して用いてもよい。
熱可塑性エラストマーは、常温ではゴム弾性を示す材料であり、分子構造としては、ポリエーテル或いはゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を防止するハードセグメントからなり、ハードセグメントとしては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。このような熱可塑性エラストマーは、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物を、例えば、フレキソ版などの可撓性を必要とするレリーフ印刷版の製造に適用する場合に好適である。
(Thermoplastic polymer)
One of the binder polymers preferably used from the viewpoint of laser engraving sensitivity is a thermoplastic polymer.
The thermoplastic polymer may be an elastomer or a non-elastomeric resin, and may be selected according to the purpose of the resin composition for laser engraving of the present invention.
Examples of the thermoplastic elastomer include urethane-based thermoplastic elastomers, ester-based thermoplastic elastomers, amide-based thermoplastic elastomers, and silicone-based thermoplastic elastomers. For the purpose of improving the laser engraving sensitivity of these thermoplastic elastomers, those obtained by introducing an easily decomposable functional group such as a carbamoyl group or a carbonate group into the main chain of the elastomer can also be used. Moreover, you may mix and use a thermoplastic polymer and the said thermodegradable polymer.
Thermoplastic elastomer is a material that exhibits rubber elasticity at room temperature, and its molecular structure consists of a soft segment such as polyether or rubber molecule, and a hard segment that prevents plastic deformation at around room temperature, just like vulcanized rubber, There are various types of hard segments such as a frozen phase, a crystalline phase, hydrogen bonding, and ionic crosslinking. Such a thermoplastic elastomer is suitable when the resin composition for laser engraving of the present invention is applied to the production of a relief printing plate that requires flexibility, such as a flexographic plate.

熱可塑性エラストマーの種類は、目的に応じて選択され、例えば、耐溶剤性が要求される場合、ウレタン系、エステル系、アミド系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましく、耐熱性が要求される場合、ウレタン系、オレフィン系、エステル系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましい。また、熱可塑性エラストマーの種類を選択することにより、樹脂組成物により形成される膜の硬度を大きく変えることができる。   The type of thermoplastic elastomer is selected according to the purpose.For example, when solvent resistance is required, urethane type, ester type, amide type, fluorine type thermoplastic elastomer is preferable, and when heat resistance is required, Urethane-based, olefin-based, ester-based, and fluorine-based thermoplastic elastomers are preferred. Moreover, the hardness of the film | membrane formed with a resin composition can be changed greatly by selecting the kind of thermoplastic elastomer.

非エラストマー性の樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー(例えばポリビニルアルコール誘導体)を挙げることができる。   Non-elastomeric resins include, for example, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, unsaturated polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, wholly aromatic Mention may be made of polyester resins and hydrophilic polymers containing hydroxyethylene units (for example polyvinyl alcohol derivatives).

(親水性又は親アルコール性ポリマー)
本発明で用いるバインダーポリマーとしては、親水性又は親アルコール性のものが彫刻後のカスの除去性の観点で好ましい。親水性ポリマーとして詳細には、後述するもの挙げられるが、中でも、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマーが好ましい。また、親水性又は親アルコール性バインダーとしては、例えば、ポリビニルブチラール等のポリマーも好適に用いることができる。
(Hydrophilic or alcoholic polymer)
As the binder polymer used in the present invention, a hydrophilic polymer or an alcoholic polymer is preferable from the viewpoint of removal of residue after engraving. Specific examples of the hydrophilic polymer include those described later. Among these, a hydrophilic polymer containing a hydroxyethylene unit is preferable. In addition, as the hydrophilic or alcoholic binder, for example, a polymer such as polyvinyl butyral can be suitably used.

バインダーポリマーの好適な態様の1つである親水性ポリマーについて詳述する。
親水性ポリマーとは、水溶解性又は水膨潤性のポリマーを指す。ここで、本発明において、「水溶解性」とは、25℃の水に5質量%以上溶解することを指し、また、「水膨潤性」とは、25℃の水に5質量%になるように加えた際に、吸水して膨張し、目視で見たときに溶解はしていないが、明らかな固体状(粉末状)の沈殿物は無い状態であることを指す。
The hydrophilic polymer which is one of the preferred embodiments of the binder polymer will be described in detail.
The hydrophilic polymer refers to a water-soluble or water-swellable polymer. Here, in the present invention, “water solubility” means that 5% by mass or more is dissolved in water at 25 ° C., and “water swellability” is 5% by mass in water at 25 ° C. When added in such a manner, it absorbs water and expands, and when it is visually observed, it does not dissolve, but it indicates that there is no clear solid (powder) precipitate.

親水性ポリマーとしては、単独のポリマーを用いてもよいし、複数種のポリマーを用いてもよい。   As the hydrophilic polymer, a single polymer may be used, or a plurality of types of polymers may be used.

親水性ポリマーとしては、例えば、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、セルロースをはじめとする親水性官能基を有する多糖類、ポリアクリル酸ナトリウムのような酸性官能基が中和された塩構造やアミノ基が中和された塩構造やオニウム構造を含むアクリル樹脂、ポリエチレンオキサイドの如き親水性基を導入したポリアミド樹脂やポリエステル樹脂、ゼラチンなどが挙げられる。   Examples of the hydrophilic polymer include hydrophilic polymers containing hydroxyethylene units, polysaccharides having hydrophilic functional groups such as cellulose, and salt structures and amino acids neutralized with acidic functional groups such as sodium polyacrylate. Examples thereof include an acrylic resin containing a salt structure or an onium structure in which the group is neutralized, a polyamide resin or a polyester resin into which a hydrophilic group such as polyethylene oxide is introduced, gelatin, and the like.

親水性ポリマーとしては、良好な親水性を示す点で、ヒドロキシエチレンを含む親水性ポリマー、アミノ基又はカルボン酸基/スルホン酸基/硫酸基及びこれらが中和された塩構造などの極性基含有セルロース、アミノ基又はカルボン酸基/スルホン酸基/硫酸基及びこれらが中和された塩構造などの極性基含有アクリル樹脂、ポリアミド樹脂が好ましい。より好ましくは、ヒドロキシエチレンを含む親水性ポリマー、アミノ基又はカルボン酸基/スルホン酸基/硫酸基及びこれらが中和された塩構造などの極性基含有アクリル樹脂、ポリアミド樹脂が好ましく、更に好ましくはポリビニルアルコール類、ポリアミド樹脂である。   Hydrophilic polymers include hydrophilic polymers containing hydroxyethylene, polar groups such as amino groups or carboxylic acid groups / sulfonic acid groups / sulfuric acid groups, and salt structures in which these are neutralized in that they exhibit good hydrophilicity. Cellulose, amino group or polar group-containing acrylic resin such as carboxylic acid group / sulfonic acid group / sulfuric acid group and salt structure in which these are neutralized, and polyamide resin are preferred. More preferably, hydrophilic polymers containing hydroxyethylene, polar groups-containing acrylic resins such as amino groups or carboxylic acid groups / sulfonic acid groups / sulfuric acid groups and salt structures in which these are neutralized, and polyamide resins are more preferable. Polyvinyl alcohols and polyamide resins.

親水性ポリマーとして特に好ましくは、皮膜性とUVインキに対する耐性があるという観点から、ポリビニルアルコール(PVA)及びその誘導体から選択されるポリマーである。
このPVA及びPVA誘導体については、後述するビニル系ポリマーの好ましい例として具体的に説明する。
なお、本発明においてPVA及びその誘導体とは、ヒドロキシエチレン単位を0.1モル%以上100モル%以下、好ましくは1モル%以上98モル%以下、更に好ましくは5モル%以上95モル%以下含有する共重合体或いは重合体並びにそれらの変性体を包含する。
Particularly preferred as the hydrophilic polymer is a polymer selected from polyvinyl alcohol (PVA) and derivatives thereof from the viewpoint of film property and resistance to UV ink.
The PVA and the PVA derivative will be specifically described as preferable examples of the vinyl polymer described later.
In the present invention, PVA and derivatives thereof contain 0.1 to 100 mol% of hydroxyethylene units, preferably 1 to 98 mol%, more preferably 5 to 95 mol%. A copolymer or a polymer thereof and modified products thereof.

親水性ポリマーとしては、特に、PVA及びその誘導体から選択される1種以上と、ヒドロキシエチレン単位を含まない親水性ポリマー(以下、適宜「非PVA誘導体」とも称する。)と、を併用してもよい。   As the hydrophilic polymer, in particular, one or more selected from PVA and derivatives thereof and a hydrophilic polymer not containing a hydroxyethylene unit (hereinafter also referred to as “non-PVA derivative” as appropriate) may be used in combination. Good.

親水性ポリアミドの合成法としては、以下に示すものが挙げられる。
ε−カプロラクタム及び/又はアジピン酸を、両末端アミン変性のポリエチレングリコールと反応させることでポリエチレングリコール単位を有するポリアミドが得られ、ピペラジンと反応させることでピペラジン骨格を有する親水性ポリアミドが得られる。また、親水性ポリアミドのアミド基とグリシジルメタクリレートのエポキシ基とを反応させることで、架橋性の官能基がポリマー中に導入された親水性ポリアミドが得られる。これら非PVA誘導体は単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。
Examples of the method for synthesizing the hydrophilic polyamide include the following.
A polyamide having a polyethylene glycol unit is obtained by reacting ε-caprolactam and / or adipic acid with polyethylene glycol modified with both terminal amines, and a hydrophilic polyamide having a piperazine skeleton is obtained by reacting with piperazine. Moreover, the hydrophilic polyamide by which the crosslinkable functional group was introduce | transduced into the polymer is obtained by making the amide group of hydrophilic polyamide and the epoxy group of glycidyl methacrylate react. These non-PVA derivatives may be used alone or in combination of two or more.

また、非PVA誘導体とは、PVA及びその誘導体と相溶性を示す程度に極性が近いものを意味する。
非PVA誘導体として具体的には、例えば、アジピン酸や1,6−ヘキサンジアミン、ε−カプロラクタムのみの重合によって得られる非水溶性ポリアミドに、ポリエチレングリコールやピペラジンのような親水性基を導入した親水性ポリアミドが挙げられる。親水性ポリアミドは、その親水性基の働きでPVA誘導体との相溶性が発現するため、非PVA誘導体として用いるのに好適である。つまり、このような親水性ポリアミドは、PVA及びその誘導体との相溶性が良好であり、PVA及びその誘導体の分子間に容易に入り込むために、2種のポリマーの分子間力が低下し、ポリマーが柔軟化される。
Further, the non-PVA derivative means a substance having a polarity close to the degree of compatibility with PVA and its derivatives.
Specifically, as the non-PVA derivative, for example, hydrophilicity in which a hydrophilic group such as polyethylene glycol or piperazine is introduced into water-insoluble polyamide obtained by polymerization of only adipic acid, 1,6-hexanediamine, and ε-caprolactam. Include polyamides. A hydrophilic polyamide is suitable for use as a non-PVA derivative because it exhibits compatibility with the PVA derivative by the action of the hydrophilic group. In other words, such a hydrophilic polyamide has good compatibility with PVA and its derivatives, and easily enters between the molecules of PVA and its derivatives. Will be flexible.

(疎水性ポリマー)
本発明におけるバインダーポリマーとしては、比較的疎水性のバインダーポリマーを用いてもよい。
比較的疎水性のバインダーポリマーとしては、製膜時の膜硬度や柔軟性、共存する重合性化合物や開始剤のような他の成分との相溶性等の性質を調整するために、以下に示すようなモノマーを重合又は共重合成分として含むポリマーを使用することもできる。
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、β−ヒドロキシ−β’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリレート、クロロエチル(メタ)アクリレート、クロロプロピル(メタ)アクリレートなどのハロゲン化アルキル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングレコール(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチレンビス(メタ)アクリルアミドのような(メタ)アクリルアミド類、2、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2,2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、などのエチレン性不飽和結合を1個だけ有する化合物、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレートのようなポリエチレングリコールのジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートのようなポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルに不飽和カルボン酸や不飽和アルコールなどのエチレン性不飽和結合と活性水素を持つ化合物を付加反応させて得られる多価(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートなどの不飽和エポキシ化合物とカルボン酸やアミンのような活性水素を有する化合物を付加反応させて得られる多価(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミドなどの多価(メタ)アクリルアミド、ジビニルベンゼンなどの多価ビニル化合物、などの2つ以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物などが挙げられる。本発明においては、これらを単独で、若しくは2種以上組み合わせて用いることができる。
(Hydrophobic polymer)
As the binder polymer in the present invention, a relatively hydrophobic binder polymer may be used.
In order to adjust properties such as film hardness and flexibility at the time of film formation, compatibility with other components such as a polymerizable compound and an initiator, the relatively hydrophobic binder polymer is shown below. A polymer containing such a monomer as a polymerization or copolymerization component can also be used.
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, β-hydroxy-β ′-(meth) (Meth) acrylate having a hydroxyl group such as acryloyloxyethyl phthalate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) Alkyl (meth) acrylates such as acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cycloalkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl (meth) acrylate, chloroethyl (meth) Alkyl halides (meth) acrylates such as acrylate and chloropropyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, and butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl acrylate Alkoxyalkylene glycols (meth) such as phenoxyalkyl (meth) acrylates such as nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate Acrylate, (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N, N′-methylenebis (meth) acryl (Meth) acrylamides such as amides, 2,2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2,2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl Compounds having only one ethylenically unsaturated bond such as aminopropyl (meth) acrylamide, di (meth) acrylate of polyethylene glycol such as diethylene glycol di (meth) acrylate, such as dipropylene glycol di (meth) acrylate Polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate Such as polyvalent (meth) acrylates and glycidyl (meth) acrylates obtained by addition reaction of compounds with ethylenically unsaturated bonds and active hydrogen, such as unsaturated carboxylic acids and unsaturated alcohols, with ethylene glycol diglycidyl ether Polyhydric (meth) acrylamides such as polyvalent (meth) acrylates and methylenebis (meth) acrylamides obtained by the addition reaction of unsaturated epoxy compounds with compounds having active hydrogen such as carboxylic acids and amines, and many compounds such as divinylbenzene. And compounds having two or more ethylenically unsaturated bonds, such as a valent vinyl compound. In this invention, these can be used individually or in combination of 2 or more types.

上記重合成分のモノマーとしては、皮膜性の観点で、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングレコール(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N−アクリロイルモルホリンが好ましい。この中で、アクリレート類が、得られるポリマーの柔軟性確保の点で特に好ましい。   From the viewpoint of film property, the monomer of the polymerization component is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytrile. Alkoxyalkylene glycol (meth) acrylates such as ethylene glycol (meth) acrylate and methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N -Acryloylmorpholine is preferred. Among these, acrylates are particularly preferable from the viewpoint of ensuring flexibility of the obtained polymer.

その他、バインダーポリマーとしては、以下のポリマーを用いることもできる。
即ち、主鎖にオレフィン及び炭素−炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーが挙げられ、例えば、SB(ポリスチレン−ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等が挙げられる。
In addition, the following polymers can also be used as the binder polymer.
That is, a polymer containing at least one of an olefin and a carbon-carbon triple bond in the main chain is exemplified. For example, SB (polystyrene-polybutadiene), SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene). , SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene) and the like.

(炭素−炭素不飽和結合を有するポリマー)
バインダーポリマーとしては、分子内に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーを好適に用いることができる。該炭素−炭素不飽和結合は、ポリマーの主鎖、側鎖のいずれかに存在すればよく、双方に存在していてもよい。以下、炭素−炭素不飽和結合を単に「不飽和結合」と称することがあり、また、主鎖或いは側鎖末端に存残する炭素−炭素不飽和結合を「重合性基」と称することがある。
炭素−炭素不飽和結合をポリマーの主鎖に有する場合、ポリマー主鎖の片末端、両末端、主鎖中のいずれに有してもよい。また、炭素−炭素不飽和結合をポリマーの側鎖に有する場合、該不飽和結合は主鎖構造に直接結合してもよく、適切な連結基を介して結合していてもよい。
(Polymer having carbon-carbon unsaturated bond)
As the binder polymer, a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule can be suitably used. The carbon-carbon unsaturated bond may be present in either the main chain or the side chain of the polymer, and may be present in both. Hereinafter, the carbon-carbon unsaturated bond may be simply referred to as “unsaturated bond”, and the carbon-carbon unsaturated bond remaining at the end of the main chain or side chain may be referred to as “polymerizable group”. .
When having a carbon-carbon unsaturated bond in the main chain of the polymer, it may be present at one end, both ends, or in the main chain of the polymer main chain. Moreover, when it has a carbon-carbon unsaturated bond in the side chain of a polymer, this unsaturated bond may be directly couple | bonded with the principal chain structure, and may be couple | bonded through the suitable coupling group.

主鎖に炭素−炭素不飽和結合を含むポリマーとしては、例えば、SB(ポリスチレン−ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等が挙げられる。   Examples of the polymer containing a carbon-carbon unsaturated bond in the main chain include SB (polystyrene-polybutadiene), SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene). -Polystyrene) and the like.

側鎖に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーとして、メタクリロイル基のような反応性の高い重合性不飽和基を有するポリマーを用いた場合、極めて機械的強度の高い被膜を作製することができる。特にポリウレタン系、ポリエステル系熱可塑性エラストマーでは、比較的簡単に分子内に反応性の高い重合性不飽和基を導入することが可能である。   When a polymer having a highly reactive polymerizable unsaturated group such as a methacryloyl group is used as a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the side chain, a film having extremely high mechanical strength can be produced. In particular, in polyurethane-based and polyester-based thermoplastic elastomers, it is possible to introduce a highly reactive polymerizable unsaturated group into the molecule relatively easily.

バインダーポリマー中に不飽和結合或いは重合性基を導入する際には、重合性基に保護基を結合させてなる重合性基前駆体を有する構造単位をポリマーに共重合させ、保護基を脱離させて重合性基とする方法、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、エステル基などの反応性基を複数有する高分子化合物を作製し、その後、上記反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤(例えば、水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど)を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて、高分子反応により、重合性基を導入する方法など、公知のいずれの方法をとることができる。これらの方法によれば、高分子化合物中への不飽和結合、重合性基の導入量を制御することができる。   When an unsaturated bond or a polymerizable group is introduced into the binder polymer, a structural unit having a polymerizable group precursor formed by bonding a protective group to the polymerizable group is copolymerized with the polymer to remove the protective group. Reactive group such as hydroxyl group, amino group, epoxy group, carboxyl group, acid anhydride group, ketone group, hydrazine residue, isocyanate group, isothiocyanate group, cyclic carbonate group, ester group And then reacting a binder having a plurality of groups capable of binding to the reactive group (for example, polyisocyanate in the case of a hydroxyl group or an amino group) to adjust the molecular weight and Is converted to a bonding group, and then reacted with an organic compound having a polymerizable unsaturated group and a group that reacts with the terminal bonding group, and a polymerizable group is obtained by a polymer reaction. A method of introducing, it is possible to take any known method. According to these methods, the amount of unsaturated bond and polymerizable group introduced into the polymer compound can be controlled.

このような不飽和結合を有するポリマーは、不飽和結合を有さないポリマーと併用することも好ましい。即ち、上記炭素−炭素不飽和結合を有するポリマーのオレフィン部分に水素を付加させて得られるポリマーや、オレフィン部分に水素添加したモノマー、例えば、ブタジエンやイソプレン等に水素添加したモノマーを原料としてポリマーを形成して得られるポリマーなどは、相溶性に優れることから併用し、バインダーポリマーが有する不飽和結合の量を調整することもできる。
これらを併用する場合、不飽和結合を有さないポリマーは、不飽和結合をもつポリマー100質量部に対して、一般的に1質量部〜90質量部、好ましくは5質量部〜80質量部の割合で用いることができる。
なお、後述するように、他の重合性化合物を併用する場合など、バンダーポリマーに硬化性を必要としない態様では、バインダーポリマーに不飽和結合は必ずしも必須ではなく、不飽和結合を有しない各種ポリマーのみをバインダーポリマーとして用いることもできる。そのような場合の不飽和結合を有しないポリマーとしては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリカーボネート、などが好ましく挙げられる。
Such a polymer having an unsaturated bond is also preferably used in combination with a polymer having no unsaturated bond. That is, a polymer obtained by adding hydrogen to the olefin part of the polymer having a carbon-carbon unsaturated bond, or a monomer hydrogenated to the olefin part, for example, a monomer hydrogenated to butadiene, isoprene, or the like, is used as a raw material. The polymer obtained by forming can be used together because it is excellent in compatibility, and the amount of unsaturated bonds of the binder polymer can be adjusted.
When these are used in combination, the polymer having no unsaturated bond is generally 1 part by mass to 90 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer having an unsaturated bond. Can be used in proportions.
As will be described later, in the case where the curing property is not required for the binder polymer, such as when other polymerizable compounds are used in combination, an unsaturated bond is not necessarily required for the binder polymer, and various polymers having no unsaturated bond. Alone can also be used as the binder polymer. Preferred examples of the polymer having no unsaturated bond in such a case include polyester, polyamide, polystyrene, acrylic resin, acetal resin, and polycarbonate.

本発明に用いうる不飽和結合を有する、或いは、有しないバインダーポリマーの数平均分子量は、0.1万から100万の範囲が好ましい。より好ましい範囲としては、0.5万から50万である。数平均分子量が0.1万から100万の範囲であれば、形成される被膜の機械的強度を確保することができる。数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。   The number average molecular weight of the binder polymer having or not having an unsaturated bond that can be used in the present invention is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000. A more preferable range is from 50,000 to 500,000. When the number average molecular weight is in the range of 10,000 to 1,000,000, the mechanical strength of the formed film can be ensured. The number average molecular weight is measured using gel permeation chromatography (GPC), and evaluated with respect to a polystyrene sample having a known molecular weight.

本発明におけるバインダーポリマーとしては、前述のような各種のバインダーポリマーの中でも、ビニル系ポリマー、ポリアミド、ポリウレタン、及びポリウレアからなる群より選択されるポリマーを用いることが、彫刻感度を向上させる観点から好ましい。
以下、これら好ましいバインダーポリマーについて説明する。
As the binder polymer in the present invention, among various binder polymers as described above, it is preferable to use a polymer selected from the group consisting of vinyl polymers, polyamides, polyurethanes, and polyureas from the viewpoint of improving engraving sensitivity. .
Hereinafter, these preferable binder polymers will be described.

(ビニル系ポリマー)
本発明に係るビニル系ポリマーは、以下に示すような、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルエステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、オレフィン類、スチレン類、クロトン酸エステル類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類等のビニル系モノマーから得られた重合体又は共重合体であることが好ましいが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Vinyl polymer)
The vinyl polymer according to the present invention includes acrylic ester, methacrylic ester, vinyl ester, acrylamide, methacrylamide, olefin, styrene, crotonic ester, itaconic acid diester, as shown below. Polymers or copolymers obtained from vinyl monomers such as maleic acid diesters and fumaric acid diesters are preferred, but the present invention is not limited to these.

アクリル酸エステル類:例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、tert−オクチルアクリレート、2−クロロエチルアクリレート、2−ブロモエチルアクリレート、4−クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、2−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、2−クロロシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−iso−プロポキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルアクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート(付加モル数n=9)、1−ブロモ−2−メトキシエチルアクリレート、1,1−ジクロロ−2−エトキシエチルアクリレート   Acrylic acid esters: for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, tert-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Octyl acrylate, tert-octyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-bromoethyl acrylate, 4-chlorobutyl acrylate, cyanoethyl acrylate, 2-acetoxyethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, 2-chloro Cyclohexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, full-free Acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-iso- Propoxyethyl acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acrylate, ω-methoxypolyethylene glycol acrylate (added mole number n = 9), 1-bromo 2-methoxyethyl acrylate, 1,1-dichloro-2-ethoxyethyl acrylate

メタクリル酸エステル類:例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、スルホプロピルメタクリレート、N−エチル−N−フェニルアミノエチルメタクリレート、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノメタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリレート、2−アセトアセトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−iso−プロポキシエチルメタクリレート、2−ブトキシエチルメタクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−(2−エトキシエトキシ)エチルメタクリレート、2−(2−ブトキシエトキシ)エチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(付加モル数n=6)   Methacrylic acid esters: for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate Chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, sulfopropyl methacrylate, N-ethyl-N-phenylaminoethyl methacrylate, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl methacrylate, dimethylaminophenoxyethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, Phenyl methacrylate , Cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, triethylene glycol monomethacrylate, dipropylene glycol monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-acetoxyethyl methacrylate 2-acetoacetoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-iso-propoxyethyl methacrylate, 2-butoxyethyl methacrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl methacrylate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl methacrylate, ω-methoxypolyethylene glycol methacrylate ( Number of added moles n = 6)

ビニルエステル類:例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル   Vinyl esters: for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate

アクリルアミド類:例えば、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、tert−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド   Acrylamides: For example, acrylamide, methyl acrylamide, ethyl acrylamide, propyl acrylamide, butyl acrylamide, tert-butyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, benzyl acrylamide, hydroxymethyl acrylamide, methoxyethyl acrylamide, dimethylaminoethyl acrylamide, phenyl acrylamide, dimethyl acrylamide, diethyl Acrylamide, β-cyanoethylacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) acrylamide, diacetoneacrylamide

メタクリルアミド類:例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミド   Methacrylamide: for example, methacrylamide, methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, propyl methacrylamide, butyl methacrylamide, tert-butyl methacrylamide, cyclohexyl methacrylamide, benzyl methacrylamide, hydroxymethyl methacrylamide, methoxyethyl methacrylamide, dimethyl Aminoethylmethacrylamide, phenylmethacrylamide, dimethylmethacrylamide, diethylmethacrylamide, β-cyanoethylmethacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) methacrylamide

オレフィン類:例えば、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン
スチレン類:例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル
Olefins: for example, dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, vinyl chloride, vinylidene chloride, isoprene, chloroprene, butadiene, 2,3-dimethylbutadiene styrenes: for example, styrene, methylstyrene, dimethyl Styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, vinyl benzoic acid methyl ester

クロトン酸エステル類:例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル
イタコン酸ジエステル類:例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル
マレイン酸ジエステル類:例えば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル
フマル酸ジエステル類:例えば、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチル
などが挙げられる。
Crotonic acid esters: for example, butyl crotonic acid, hexyl crotonic acid, itaconic acid diesters: for example, dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dibutyl itaconate Maleic acid diesters: for example, diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate Fumarate diesters: for example, diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate and the like.

また、ビニル系ポリマーを得る際に用いられるその他のモノマーの例としては、次のものが挙げられる。
アリル化合物:例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、ラウリン酸アリル、安息香酸アリル;
ビニルエーテル類:例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル;
ビニルケトン類:例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン;
ビニル異節環化合物:例えば、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドン;
グリシジルエステル類:例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート;
不飽和ニトリル類:例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル;などを挙げることができる。
Moreover, the following are mentioned as an example of the other monomer used when obtaining a vinyl-type polymer.
Allyl compounds: for example, allyl acetate, allyl caproate, allyl laurate, allyl benzoate;
Vinyl ethers: for example, methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether;
Vinyl ketones: For example, methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, methoxyethyl vinyl ketone;
Vinyl heterocyclic ring compounds: for example, vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinyloxazolidone, N-vinyltriazole, N-vinylpyrrolidone;
Glycidyl esters: for example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate;
Unsaturated nitriles: For example, acrylonitrile, methacrylonitrile;

本発明に用いられるビニル系ポリマーは、上記モノマーのホモポリマーでもよく、また必要に応じて、二種以上のモノマーから得られる共重合体でもよい。   The vinyl polymer used in the present invention may be a homopolymer of the above-mentioned monomer, or may be a copolymer obtained from two or more kinds of monomers as required.

本発明におけるバインダーポリマーとしては、ビニル系ポリマーの中でも、水及び/又はエタノール可溶なビニル系ポリマーが好ましい。
ここで、本発明において、「水及び/又はエタノールに可溶なポリマー」とは、以下のようにして溶解性を観察した際に、ポリマーの沈殿物がなく、かつ、溶液(分散液)が透明で均一である状態となるものを意味する。
即ち、粉体又はペレット状のバインダーポリマー0.1gと、水2mL又はエタノール2mLと、を混合し、蓋をして室温で24時間静置した後、溶解性について、目視により観察する。
The binder polymer in the present invention is preferably a vinyl polymer that is soluble in water and / or ethanol among vinyl polymers.
Here, in the present invention, “a polymer soluble in water and / or ethanol” means that, when the solubility is observed as follows, there is no polymer precipitate, and the solution (dispersion) is It means something that is transparent and uniform.
That is, 0.1 g of a powder or pellet binder polymer and 2 mL of water or 2 mL of ethanol are mixed, capped, and allowed to stand at room temperature for 24 hours, and then the solubility is visually observed.

水及び/又はエタノール可溶なビニル系ポリマーとしては、ポリビニルアルコール(PVA)誘導体が好ましい。ここで、本発明におけるPVA誘導体とは、ヒドロキシエチレン単位を0.1モル%以上100モル%以下、好ましくは1モル%以上98モル%以下、更に好ましくは5モル%以上95モル%以下含有する共重合体或いは重合体、並びにそれらの変性体を意味する。従って、ポリビニルアルコール自体も包含する。該共重合体を形成するためのモノマーとしては、公知の共重合可能なモノマーから適宜選定することができる。該変性体としては、後述のものが例示される。   As the vinyl polymer soluble in water and / or ethanol, polyvinyl alcohol (PVA) derivatives are preferred. Here, the PVA derivative in the present invention contains hydroxyethylene units in an amount of 0.1 mol% to 100 mol%, preferably 1 mol% to 98 mol%, more preferably 5 mol% to 95 mol%. It means a copolymer or a polymer, and modified products thereof. Therefore, polyvinyl alcohol itself is also included. The monomer for forming the copolymer can be appropriately selected from known copolymerizable monomers. Examples of the modified body include those described below.

PVA誘導体の変性体の例として、ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマー、当該水酸基の一部を(メタ)アクリロイル基に変性したポリマー、当該水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマー、当該水酸基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体を導入したポリマーなどが挙げられる。   Examples of modified PVA derivatives include polymers in which at least some of the hydroxyl groups of the hydroxyethylene units are modified to carboxyl groups, polymers in which some of the hydroxyl groups are modified to (meth) acryloyl groups, and at least some of the hydroxyl groups are amino. Examples thereof include a polymer modified with a group, and a polymer in which ethylene glycol, propylene glycol and a multimer thereof are introduced into at least a part of the hydroxyl group.

ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えば、コハク酸、マレイン酸やアジピン酸のような多官能カルボン酸と、でエステル化することによって得ることができる。
カルボキシル基の導入量は、水酸基1モルに対して0.01モル〜l.00モルが好ましく、0.05モル〜0.80モルが更に好ましい。
A polymer obtained by modifying at least a part of the hydroxyl group of a hydroxyethylene unit to a carboxyl group is esterified with polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and a polyfunctional carboxylic acid such as succinic acid, maleic acid or adipic acid. Can be obtained.
The amount of the carboxyl group introduced is 0.01 mol to 1 mol per mol of the hydroxyl group. 00 mol is preferable, and 0.05 mol to 0.80 mol is more preferable.

ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部を(メタ)アクリロイル基に変性したポリマーは、上記カルボキシル基変性ポリマーに、グリシジル(メタ)アクリレートを付加することによって、又は、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールと(メタ)アクリル酸とでエステル化することによって得ることができる。
(メタ)アクリロイル基の導入量は、当該水酸基1モルに対して0.01モル〜1.00モルが好ましく、0.03モル〜0.50モルが更に好ましい。
なお、(メタ)アクリロイル基との表記は、アクリロイル基及び/又はメタクロイル基を総称するものである。なお、(メタ)アクリレートとの表記は、アクリレート及び/又はメタクリレートを総称するものである.また、(メタ)アクリル酸等もこれと同様である。
A polymer obtained by modifying at least a part of hydroxyl groups of a hydroxyethylene unit to a (meth) acryloyl group can be obtained by adding glycidyl (meth) acrylate to the carboxyl group-modified polymer, or by adding polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol ( It can be obtained by esterification with (meth) acrylic acid.
The amount of (meth) acryloyl group introduced is preferably 0.01 mol to 1.00 mol, and more preferably 0.03 mol to 0.50 mol, with respect to 1 mol of the hydroxyl group.
In addition, the description with a (meth) acryloyl group is a general term for an acryloyl group and / or a methacryloyl group. The notation (meth) acrylate is a general term for acrylate and / or methacrylate. The same applies to (meth) acrylic acid and the like.

ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えば、カルバミン酸のようなアミノ基を含有するカルボン酸と、でエステル化することによって得ることができる。
アミノ基の導入量は、当該水酸基1モルに対して0.01モル〜1.00モルが好ましく、0.05モル〜0.70モルが更に好ましい。
A polymer in which at least a part of the hydroxyl groups of the hydroxyethylene unit is modified with an amino group is obtained by esterification with polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and a carboxylic acid containing an amino group such as carbamic acid. be able to.
The amount of amino group introduced is preferably 0.01 mol to 1.00 mol, more preferably 0.05 mol to 0.70 mol, per 1 mol of the hydroxyl group.

ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体を導入したポリマーは、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールとグリゴール類を硫酸触媒のもと加熱し、副生成物である水を反応系外に取り除くことによって得ることができる。
エチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体の総導入量は、当該水酸基1モルに対して0.01モル〜0.90モルが好ましく、0.03モル〜0.50モルが更に好ましい。
Polymers in which ethylene glycol, propylene glycol, or a multimer thereof is introduced into at least a part of the hydroxyl groups of the hydroxyethylene unit are obtained by heating polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and glycols under a sulfuric acid catalyst as a by-product. It can be obtained by removing some water out of the reaction system.
The total amount of ethylene glycol, propylene glycol, and their multimers introduced is preferably 0.01 mol to 0.90 mol, more preferably 0.03 mol to 0.50 mol, per mol of the hydroxyl group.

これらの変性体の中でも、ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部を(メタ)アクリロイル基に変性したポリマーが好ましく用いられる。すなわち、このような親水性ポリマーに未反応の架橋性官能基を直接導入することで、例えば、後述するようなエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を多量に用いることなく、硬化膜の強度を高めることができ、硬化膜の柔軟性と強度とを両立することができるからである。   Among these modified products, a polymer obtained by modifying at least a part of the hydroxyl group of the hydroxyethylene unit to a (meth) acryloyl group is preferably used. That is, by directly introducing an unreacted crosslinkable functional group into such a hydrophilic polymer, for example, the strength of the cured film can be obtained without using a large amount of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond as described later. This is because it is possible to enhance the flexibility and strength of the cured film.

また、本発明のビニル系ポリマーとしてはポリビニルアセタールも有効に用いることができる。ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールをアルデヒド類で処理することによって得られるものを用いることができる。アセタール処理に用いるアルデヒド類について以下に具体的に記すが限定されるわけではない。   Moreover, polyvinyl acetal can also be used effectively as the vinyl polymer of the present invention. As the polyvinyl acetal, those obtained by treating polyvinyl alcohol with aldehydes can be used. The aldehydes used in the acetal treatment are specifically described below, but are not limited.

アセタール処理に用いるアルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、t−ブチルアルデヒド、アミルアルデヒド、ヘキシルアルデヒド、2−エチルヘキシルアルデヒドなどの脂肪族アルデヒド類、シクロヘキシルアルデヒド、フルフラールなどの脂環族アルデヒド類、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ハロゲン置換ベンズアルデヒド、フェニル置換アルキルアルデヒドなどの芳香族アルデヒド類などが挙げられる。これらの中でも、アセトアルデヒド 、ブチルアルデヒドは、取り扱いが容易であるため好ましく用いられる。これらのアルデヒドは単独で用いてもよく、2種以上のものを併用してもよい。   Aldehydes used for acetal treatment include aliphatic aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, n-butyraldehyde, t-butyraldehyde, amyl aldehyde, hexyl aldehyde and 2-ethylhexyl aldehyde, and fats such as cyclohexyl aldehyde and furfural. Examples include aromatic aldehydes such as cyclic aldehydes, benzaldehyde, alkyl-substituted benzaldehyde, halogen-substituted benzaldehyde, and phenyl-substituted alkyl aldehyde. Among these, acetaldehyde and butyraldehyde are preferably used because they are easy to handle. These aldehydes may be used alone or in combination of two or more.

(ポリアミド)
ポリアミドは、ジアミン化合物とジカルボン酸化合物との重縮合、アミノカルボン酸化合物の重縮合、ラクタム類の開環重合、等によって得ることができる。
以下、本発明におけるポリアミドを合成する際に用いられるジアミン化合物、ジカルボン酸化合物、アミノカルボン酸化合物、及びラクタム類の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(polyamide)
Polyamide can be obtained by polycondensation of a diamine compound and a dicarboxylic acid compound, polycondensation of an aminocarboxylic acid compound, ring-opening polymerization of lactams, and the like.
Examples of diamine compounds, dicarboxylic acid compounds, aminocarboxylic acid compounds, and lactams used when synthesizing the polyamide in the present invention will be given below, but the present invention is not limited to these.

ジアミン化合物の例としては、エチレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、1,2−プロパンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、ピペラジン、2、5−ジメチルピペラジン、4,4’−ジアミノフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、キシリレンジアミンなどが挙げられる。
ジカルボン酸化合物の例としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ジメチルマロン酸、アジピン酸、ピメリン酸、α,α−ジメチルコハク酸、アセトンジカルボン酸、セバシン酸、1,9−ノナンジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、2−ブチルテレフタル酸、テトラクロロテレフタル酸、アセチレンジカルボン酸、ポリ(エチレンテレフタレート)ジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ω−ポリ(エチレンオキシ)ジカルボン酸、p−キシリレンジカルボン酸、などが挙げられる。
これらのジカルボン酸化合物は、カルボン酸のアルキルエステル(例えば、ジメチルエステル)やジカルボン酸の酸塩化物の形で用いてもよいし、無水マレイン酸や無水コハク酸、無水フタル酸のように酸無水物の形で用いてもよい。
Examples of diamine compounds include ethylenediamine, 1,3-propanediamine, 1,2-propanediamine, hexamethylenediamine, octamethylenediamine, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, piperazine, 2, Examples include 5-dimethylpiperazine, 4,4′-diaminophenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, and xylylenediamine.
Examples of dicarboxylic acid compounds include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, dimethylmalonic acid, adipic acid, pimelic acid, α, α-dimethylsuccinic acid, acetone dicarboxylic acid, sebacic acid, 1,9-nonane. Dicarboxylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, citraconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 2-butyl terephthalic acid, tetrachloroterephthalic acid, acetylenedicarboxylic acid, poly (ethylene terephthalate) dicarboxylic acid, 1,2 -Cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, ω-poly (ethyleneoxy) dicarboxylic acid, p-xylylene dicarboxylic acid, and the like.
These dicarboxylic acid compounds may be used in the form of alkyl esters of carboxylic acids (for example, dimethyl esters) or acid chlorides of dicarboxylic acids, or acid anhydrides such as maleic anhydride, succinic anhydride, and phthalic anhydride. It may be used in the form of a thing.

アミノカルボン酸の例としては、グリシン、アラニン、フェニルアラニン、ω−アミノヘキサン酸、ω−アミノデカン酸、ω−アミノウンデカン酸、アントラニル酸等が挙げられる。
また、開環重合に用いられる単量体(ラクタム類)としては、ω−カプロラクタム、アゼチジノン、ピロリドンなどが挙げられる。
Examples of aminocarboxylic acids include glycine, alanine, phenylalanine, ω-aminohexanoic acid, ω-aminodecanoic acid, ω-aminoundecanoic acid, anthranilic acid and the like.
Examples of monomers (lactams) used for ring-opening polymerization include ω-caprolactam, azetidinone, and pyrrolidone.

(ポリウレタン)
ポリウレタンは、基本的には、ジオール化合物とジイソシアネート化合物とを原料に重付加反応により合成される。
以下、本発明におけるポリウレタンを合成する際に用いられるジオール化合物及びジイソシアネート化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Polyurethane)
Polyurethane is basically synthesized by a polyaddition reaction using a diol compound and a diisocyanate compound as raw materials.
Hereinafter, although the example of the diol compound and diisocyanate compound used when synthesize | combining the polyurethane in this invention is given, this invention is not limited to these.

ジオール化合物の具体例としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、3,3−ジメチル−1,2−ブタンジオール、2−エチル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,4−ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール(平均分子量=200、300、400、600、1000、1500、4000)、ポリプロピレングリコール(平均分子量=200、400、1000)、ポリエステルポリオール、4,4’−ジヒドロキシ−ジフェニル−2,2−プロパン、4,4−ジヒドロキシフェニルスルホン、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,5,6−トリメトキシ−3,4−ジヒドロキシヘキサン酸、2,3−ジヒドロキシ−4,5−ジメトキシペンタン酸、2,4−ジ(2−ヒドロキシ)エチルオキシカルボニルベンゼンスルホン酸、及びこれらの塩などが挙げられる。   Specific examples of the diol compound include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, and 2,2-dimethyl-1,3-propane. Diol, 1,4-pentanediol, 2,4-pentanediol, 3,3-dimethyl-1,2-butanediol, 2-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, 1,6-hexanediol 2,5-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2,4-dimethyl-2,4-pentanediol, 2-methyl-2 -Propyl-1,3-propanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 1,2-octa Diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polyethylene glycol (average molecular weight = 200, 300, 400 600, 1000, 1500, 4000), polypropylene glycol (average molecular weight = 200, 400, 1000), polyester polyol, 4,4′-dihydroxy-diphenyl-2,2-propane, 4,4-dihydroxyphenylsulfone, 2, , 2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,5,6-trimethoxy-3,4-dihydroxyhexanoic acid, 2,3-dihydroxy-4,5-dimethoxy pen Phosphate, 2,4-di (2-hydroxyethyl) ethyloxycarbonyl benzenesulfonic acid, and their salts.

ジイソシアネート化合物の好ましい具体例としては、エチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、2,4−トルエンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)などが挙げられる。   Preferred specific examples of the diisocyanate compound include ethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 2,4-toluene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene. Examples include diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dimethylbiphenylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and methylenebis (4-cyclohexylisocyanate).

(ポリウレア)
ポリウレアは、基本的には、ジアミン化合物とジイソシアネート化合物との重付加、又は、ジアミン化合物と尿素との脱アンモニア反応によって得ることができる。
以下、本発明におけるポリウレアを合成する際に用いられるジアミン化合物、ジイソシアネート化合物の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Polyurea)
Polyurea can be basically obtained by polyaddition of a diamine compound and a diisocyanate compound or a deammonification reaction of a diamine compound and urea.
Hereinafter, examples of the diamine compound and the diisocyanate compound used when synthesizing the polyurea in the present invention will be given, but the present invention is not limited to these.

ジアミン化合物としては、前記ポリアミドにおいて説明したジアミン類と同じ群から選ばれる化合物を挙げることができる。
また、ジイソシアネート化合物としては、前記ポリウレタンにおいて説明したジイソシアネート類と同じ群から選ばれる化合物を挙げることができる。
Examples of the diamine compound include compounds selected from the same group as the diamines described in the polyamide.
Moreover, as a diisocyanate compound, the compound chosen from the same group as diisocyanate demonstrated in the said polyurethane can be mentioned.

本発明において、バインダーポリマーとしては、彫刻感度の観点から、ビニル系ポリマーが特に好ましく、水及び/又はエタノール可溶なビニル系ポリマーが更に好ましい。   In the present invention, the binder polymer is particularly preferably a vinyl polymer from the viewpoint of engraving sensitivity, and more preferably a vinyl polymer soluble in water and / or ethanol.

本発明におけるバインダーポリマーの重量平均分子量(GPC測定によるポリスチレン換算)は、前述のa群から選択されるバインダーポリマー、その他のバインダーポリマー共に、0.5万〜50万が好ましい。重量平均分子量が0.5万以上であれば、単体樹脂としての形態保持性に優れ、50万以下であれば、水など溶媒に溶解しやすくレーザー彫刻用樹脂組成物を調製するのに好都合である。バインダーポリマーの重量平均分子量は、より好ましくは1万〜40万、特に好ましくは1.5万〜30万である。   The weight average molecular weight (polystyrene conversion by GPC measurement) of the binder polymer in the present invention is preferably 50,000 to 500,000 for both the binder polymer selected from the aforementioned group a and other binder polymers. If the weight average molecular weight is 50,000 or more, the form retainability as a single resin is excellent, and if it is 500,000 or less, it is easy to dissolve in a solvent such as water, which is convenient for preparing a resin composition for laser engraving. is there. The weight average molecular weight of the binder polymer is more preferably 10,000 to 400,000, particularly preferably 15,000 to 300,000.

バインダーポリマーの総含有量は、レーザー彫刻用樹脂組成物の固形分全質量に対し、5質量%〜80質量%が好ましく、15質量%〜75質量%が好ましく、20質量%〜65質量%がより好ましい。
例えば、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物をレリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した場合、バインダーポリマーの含有量を15質量%以上とすることで、得られたレリーフ印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、75質量%以下とすることで、他成分が不足することがなく、レリーフ印刷版をフレキソ印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができる。
The total content of the binder polymer is preferably 5% by mass to 80% by mass, preferably 15% by mass to 75% by mass, and 20% by mass to 65% by mass with respect to the total mass of the solid content of the resin composition for laser engraving. More preferred.
For example, when the resin composition for laser engraving of the present invention is applied to the relief forming layer of a relief printing plate precursor, the resulting relief printing plate can be used as a printing plate by setting the binder polymer content to 15% by mass or more. Printing durability sufficient for use is obtained, and when it is 75% by mass or less, other components are not deficient, and it is sufficient to be used as a printing plate even when a relief printing plate is used as a flexographic printing plate. Flexibility can be obtained.

本発明においては、(A)含硫黄多官能モノマーと、ポリ乳酸等のポリ(ヒドロキシカルボン酸)エステルと、を併用した際に、彫刻感度をより向上させることができる。これは、前述の如く、ポリ乳酸の解重合の際、発生する活性種が(A)含硫黄多官能モノマーに求核攻撃することにより、該モノマーの分解も促進するためと考えられる。   In the present invention, when (A) a sulfur-containing polyfunctional monomer and a poly (hydroxycarboxylic acid) ester such as polylactic acid are used in combination, engraving sensitivity can be further improved. This is presumably because, as described above, the active species generated during the depolymerization of polylactic acid accelerates the decomposition of the monomer by nucleophilic attack on the sulfur-containing polyfunctional monomer (A).

本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、必須成分として上述した(A)含硫黄多官能モノマー及び(B)バインダーポリマーと共に、光熱変換剤、重合開始剤、可塑剤等の任意成分を含むことが好ましい。以下、これらの各成分について詳述する。   The resin composition for laser engraving of the present invention may contain optional components such as a photothermal conversion agent, a polymerization initiator, and a plasticizer together with the above-described (A) sulfur-containing polyfunctional monomer and (B) binder polymer as essential components. preferable. Hereinafter, each of these components will be described in detail.

<(C)光熱変換剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(C)光熱変換剤を含有することが好ましい。光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することで、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。ゆえに、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
<(C) Photothermal conversion agent>
The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains (C) a photothermal conversion agent. It is considered that the photothermal conversion agent promotes thermal decomposition of the cured product of the resin composition for laser engraving of the present invention by absorbing laser light and generating heat. Therefore, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.

波長700nm〜1300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合には、本発明におけるレリーフ形成層は、700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を含有することが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
When a laser (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) emitting an infrared ray having a wavelength of 700 nm to 1300 nm is used as a light source for laser engraving, the relief forming layer in the present invention is a light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm. It is preferable to contain a photothermal conversion agent capable of absorbing water.
Various dyes or pigments are used as the photothermal conversion agent in the present invention.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, diimmonium compounds, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes And the like.

本発明において好ましく用いられる染料としては、特開2008−63554号公報の段落〔0124〕〜〔0137〕に記載の染料を挙げることができる。
本発明における光熱変換剤として好適なものの1つは、彫刻感度が高い点から、シアニン系化合物及びフタロシアニン系化合物から選択される少なくとも1種の化合物である。更に、これらの光熱変換剤の熱分解温度が、バインダーポリマーとして好適な親水性ポリマーの熱分解温度同等以上という組み合わせ(条件)で使用する場合に更に彫刻感度が高くなる傾向であり好ましい。
Examples of the dye preferably used in the present invention include the dyes described in paragraphs [0124] to [0137] of JP-A-2008-63554.
One suitable photothermal conversion agent in the present invention is at least one compound selected from cyanine compounds and phthalocyanine compounds from the viewpoint of high engraving sensitivity. Further, when the photothermal conversion agent is used in a combination (condition) in which the thermal decomposition temperature of the hydrophilic polymer suitable as the binder polymer is equal to or higher than the thermal decomposition temperature, the engraving sensitivity tends to be further increased, which is preferable.

また、本発明において用いられる光熱変換剤のうち、染料としては、波長700nm〜1300nmに吸収極大を有する染料が好ましい。
本発明で好ましく用いうる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、インドリウム系色素、ベンズインドリウム系色素、ベンゾチアゾリウム系色素、キノリニウム系色素、顕色剤と反応させたフタリド化合物等のうち、700nm〜1300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられる。置換基の種類及び分子内での位置、共役結合の数、対イオンの種類、色素分子の存在する周囲の環境などにより、光吸収特性が極めて大きく変化する。
Of the photothermal conversion agents used in the present invention, the dye is preferably a dye having an absorption maximum at a wavelength of 700 nm to 1300 nm.
Dyes that can be preferably used in the present invention include cyanine dyes such as heptamethine cyanine dyes, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dyes, indolium dyes, benzindolinium dyes, benzothiazolium dyes, quinolinium Among the phthalide compounds and the like reacted with a system dye and a developer, those having a maximum absorption wavelength at 700 nm to 1300 nm can be mentioned. The light absorption characteristics vary greatly depending on the type of substituent and position in the molecule, the number of conjugated bonds, the type of counterion, the surrounding environment in which the dye molecule is present, and the like.

また、一般に市販されているレーザー色素、過飽和吸収色素、近赤外線吸収色素を使用することもできる。例えば、レーザー色素として、アメリカン・ダイ・ソース社(カナダ国)の商標「ADS740PP」、「ADS745HT」、「ADS760MP」、「ADS740WS」、「ADS765WS」、「ADS745HO」、「ADS790NH」、「ADS800NH」、株式会社林原生物化学研究所社製の商標「NK−3555」、「NK−3509」、「NK−3519」を挙げることができる。また、近赤外線吸収色素として、アメリカン・ダイ・ソース社(カナダ国)商標「ADS775MI」、「ADS775MP」、「ADS775HI」、「ADS775PI」、「ADS775PP」、「ADS780MT」、「ADS780BP」、「ADS793EI」、「ADS798MI」、「ADS798MP」、「ADS800AT」、「ADS805PI」、「ADS805PP」、「ADS805PA」、「ADS805PF」、「ADS812MI」、「ADS815EI」、「ADS818HI」、「ADS818HT」、「ADS822MT」、「ADS830AT」、「ADS838MT」、「ADS840MT」、「ADS845BI」、「ADS905AM」、「ADS956BI」、「ADS1040T」、「ADS1040P」、「ADS1045P」、「ADS1050P」、「ADS1060A」、「ADS1065A」、「ADS1065P」、「ADS1100T」、「ADS1120F」、「ADS1120P」、「ADS780WS」、「ADS785WS」、「ADS790WS」、「ADS805WS」、「ADS820WS」、「ADS830WS」、「ADS850WS」、「ADS780HO」、「ADS810CO」、「ADS820HO」、「ADS821NH」、「ADS840NH」、「ADS880MC」、「ADS890MC」、「ADS920MC」、山本化成株式会社製、商標「YKR−2200」、「YKR−2081」、「YKR−2900」、「YKR−2100」、「YKR−3071」、有本化学工業株式会社製、商標「SDO−1000B」、株式会社林原生物化学研究所社製、商標「NK−3508」、「NKX−114」を挙げることができる。ただし、これらのみに限定されるものではない。   Further, commercially available laser dyes, supersaturated absorbing dyes, and near infrared absorbing dyes can also be used. For example, as a laser dye, trade marks “ADS740PP”, “ADS745HT”, “ADS760MP”, “ADS740WS”, “ADS765WS”, “ADS745NH”, “ADS790NH”, “ADS800NH” of American Diese Source (Canada), Trademarks “NK-3555”, “NK-3509”, and “NK-3519” manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratories, Inc. can be mentioned. In addition, as a near-infrared absorbing pigment, trade names “ADS775MI”, “ADS775MP”, “ADS775HI”, “ADS775PI”, “ADS775PP”, “ADS780MT”, “ADS780BP”, “ADS793EI”, trade names “ADS775MI”, “ADS775MP”, “ADS775HI” , “ADS798MI”, “ADS798MP”, “ADS800AT”, “ADS805PI”, “ADS805PP”, “ADS805PA”, “ADS805PF”, “ADS812MI”, “ADS815EI”, “ADS818HI”, “ADS818HT”, “ADS8” ADS830AT, ADS838MT, ADS840MT, ADS845BI, ADS905AM, ADS956BI, ADS1040T, "ADS1040P", "ADS1045P", "ADS1050P", "ADS1060A", "ADS1065A", "ADS1065P", "ADS1100T", "ADS1120F", "ADS1120P", "ADS780WS", "ADS785WS", "ADS790WS", "ADS790WS", "ADS790WS" , “ADS820WS”, “ADS830WS”, “ADS850WS”, “ADS780HO”, “ADS810CO”, “ADS820HO”, “ADS821NH”, “ADS840NH”, “ADS880MC”, “ADS890MC”, “Yamamoto Co., Ltd.” , Trademarks “YKR-2200”, “YKR-2081”, “YKR-2900”, “YKR-2100”, “YKR-3071”, Arimoto Made by Manabu Industry Co., Ltd., trademark "SDO-1000B", Hayashibara Biochemical Laboratories Inc., trademark "NK-3508", mention may be made of the "NKX-114". However, it is not limited only to these.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途(例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など)の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。   As long as the dispersibility in the composition is stable, carbon black can be used regardless of the classification according to ASTM or the use (for example, for color, for rubber, for dry battery, etc.). Carbon black includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black and the like. In order to facilitate dispersion, black colorants such as carbon black can be used as color chips or color pastes previously dispersed in nitrocellulose or a binder, if necessary. Such chips and pastes can be easily obtained as commercial products.

本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBP吸収を有するカーボンブラックや比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。好適なカーボンブラックの例は、Printex(登録商標)U、Printex(登録商標)A、又はSpezialschwarz(登録商標)4(Degussaより)を含む。   In the present invention, it is also possible to use carbon black having a relatively low specific surface area and relatively low DBP absorption and even finer carbon black having a large specific surface area. Examples of suitable carbon blacks include Printex® U, Printex® A, or Specialschwarz® 4 (from Degussa).

本発明に適用しうるカーボンブラックとしては、光熱変換により発生した熱を周囲のポリマー等に効率よく伝えることで彫刻感度が向上するという観点で、比表面積が少なくとも150m/g及びDBP数が少なくとも150ml/100gである、伝導性カーボンブラックが好ましい。 The carbon black that can be applied to the present invention has a specific surface area of at least 150 m 2 / g and a DBP number of at least from the viewpoint of improving engraving sensitivity by efficiently transferring heat generated by photothermal conversion to surrounding polymers. Conductive carbon black, which is 150 ml / 100 g, is preferred.

この比表面積は好ましくは、少なくとも250、特に好ましくは少なくとも500m/gである。DBP数は好ましくは少なくとも200、特に好ましくは少なくとも250ml/100gである。上述したカーボンブラックは酸性の又は塩基性のカーボンブラックであってよい。カーボンブラックは、好ましくは塩基性のカーボンブラックである。異なるバインダーの混合物も当然に、使用され得る。 This specific surface area is preferably at least 250, particularly preferably at least 500 m 2 / g. The DBP number is preferably at least 200, particularly preferably at least 250 ml / 100 g. The carbon black described above may be acidic or basic carbon black. The carbon black is preferably basic carbon black. Of course, mixtures of different binders can also be used.

約1500m/gにまで及ぶ比表面積及び約550ml/100gにまで及ぶDBP数を有する適当な伝導性カーボンブラックが、例えば、Ketjenblack(登録商標)EC300J、Ketjenblack(登録商標)EC600J(Akzoより)、Prinrex(登録商標)XE(Degussaより)又はBlack Pearls(登録商標)2000(Cabotより)、ケッチェンブラック(ライオン(株)製)の名称で、商業的に入手可能である。 Suitable conductive carbon blacks with specific surface areas up to about 1500 m 2 / g and DBP numbers up to about 550 ml / 100 g are for example Ketjenblack® EC300J, Ketjenblack® EC600J (from Akzo), It is commercially available under the names Princex® XE (from Degussa) or Black Pearls® 2000 (from Cabot), Ketjen Black (manufactured by Lion Corporation).

レーザー彫刻用樹脂組成物中おける光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、該樹脂組成物の固形分全質量の0.01質量%〜20質量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.05質量%〜10質量%、特に好ましくは0.1質量%〜5質量%の範囲である。   The content of the photothermal conversion agent in the resin composition for laser engraving varies greatly depending on the molecular extinction coefficient inherent to the molecule, but is 0.01% by mass to 20% by mass of the total solid content of the resin composition. Is preferable, more preferably 0.05% by mass to 10% by mass, and particularly preferably 0.1% by mass to 5% by mass.

<(D)重合開始剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、(D)重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。具体的には、例えば、Bruce M. Monroeら著、Chemical Revue, 93, 435 (1993) やR.S.Davidson著、Journal of Photochemistry and biology A:Chemistry,73.81 (1993); J.P.Faussier, “Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications”:Rapra Review vol.9, Report, Rapra Technology(1998); M.Tsunooka et al., Prog.Polym.Sci., 21, 1 (1996)等に多く記載されている。また、F.D.Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990); G.G.Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993); H.B.Shuster et al,JACS, 112,6329 (1990); I.D.F.Eaton et al, JACS, 102, 3298 (1980)等に記載されているような、酸化的若しくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。
<(D) Polymerization initiator>
The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains (D) a polymerization initiator.
As the polymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation. Specifically, for example, Bruce M. Monroe et al., Chemical Revue, 93, 435 (1993) and RSD Davidson, Journal of Photochemistry and biology A: Chemistry, 73.81 (1993); JPFaussier, “Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications ": Rapra Review vol. 9, Report, Rapra Technology (1998); M. Tsunooka et al., Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996). FDSaeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990); GGMaslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993); HBShuster et al, JACS, 112,6329 (1990); IDFEaton et al, JACS, 102 , 3298 (1980) and the like, a group of compounds that cause oxidative or reductive bond cleavage is also known.

以下、好ましい重合開始剤の具体例に関し、光及び/又は熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物と重合反応を開始、促進させる化合物であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。   Hereinafter, a specific example of a preferable polymerization initiator will be described in detail with respect to a radical polymerization initiator which is a compound that generates radicals by light and / or heat energy and initiates and accelerates a polymerization reaction with the polymerizable compound. Are not limited by these statements.

本発明において、好ましいラジカル重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(l)アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記(a)〜(l)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, preferred radical polymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (F) ketoxime ester compound, (g) borate compound, (h) azinium compound, (i) metallocene compound, (j) active ester compound, (k) compound having carbon halogen bond, (l) azo compound, etc. Is mentioned. Specific examples of the above (a) to (l) are given below, but the present invention is not limited to these.

本発明においては、彫刻感度と、レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物がより好ましく、(c)有機過酸化物が特に好ましい。
通常、レリーフのエッジ形状を良化させるべく硬度を上げると彫刻感度が下がるが、前述した、(A)含硫黄多官能モノマーと上記のような好ましい重合開始剤とを用いることで、彫刻感度を下げることなくエッジ形状を良化させることができる。これはおそらく、重合開始剤中の酸素原子や窒素原子が(A)含硫黄多官能モノマーの硫黄原子との相互作用を形成し、両成分が近接して存在することで重合度が上がり硬度が上がるため、エッジ形状が良化すると共に、また、(A)含硫黄多官能モノマーの低温熱分解特性により、重合度が上がることによる感度の低下を抑制しているものと予想される。
In the present invention, from the viewpoint of engraving sensitivity and a good relief edge shape when applied to a relief forming layer of a relief printing plate precursor, (c) an organic peroxide and (l) an azo compound are more Preferably, (c) an organic peroxide is particularly preferable.
Normally, engraving sensitivity decreases when the hardness is increased to improve the edge shape of the relief. The edge shape can be improved without lowering. This is probably because the oxygen atom or nitrogen atom in the polymerization initiator forms an interaction with the sulfur atom of the (A) sulfur-containing polyfunctional monomer, and the degree of polymerization increases due to the presence of both components in close proximity. Therefore, it is expected that the edge shape is improved, and the low-temperature thermal decomposition characteristics of the (A) sulfur-containing polyfunctional monomer are expected to suppress a decrease in sensitivity due to an increase in the degree of polymerization.

前記(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008−63554号公報の段落〔0074〕〜〔0118〕に挙げれている化合物を好ましく用いることができる。
また、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
(A) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (f) ketoxime ester compounds, (g) borate compounds, (h) azinium compounds , (I) metallocene compounds, (j) active ester compounds, and (k) compounds having a carbon halogen bond are preferably the compounds listed in paragraphs [0074] to [0118] of JP-A-2008-63554. Can be used.
In addition, (c) the organic peroxide and (l) the azo compound are preferably the following compounds.

(c)有機過酸化物
本発明に用いうるラジカル重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリーブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャリーブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(ターシャリーブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリーブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリーブチルパーオキサイド、ターシャリーブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリーブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリーブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ターシャリーブチルパーオキシアセテート、ターシャリーブチルパーオキシピバレート、ターシャリーブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリーブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリーブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーアミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーオクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(ターシャリーブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(ターシャリーヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等がある。
(C) Organic peroxide Preferred as a radical polymerization initiator that can be used in the present invention (c) Organic peroxide includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples include methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tertiary butyl peroxy) -3,3. 5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tertiary butyl peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tertiary butyl peroxy) butane, tertiary butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene Hydroperoxide, parameter hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl Cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tertiary butyl peroxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (tertiary butyl peroxy) hexane, 2,5-xanoyl peroxide, peroxy Succinic oxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxy Carbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tertiary butyl peroxyacetate, tertiary butyl peroxypivalate, tertiary butyl peroxyneodecanoate, tarsha Libutyl butyl peroxy octanoate, Tertiary butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, Tertiary butyl peroxy laurate, Tertiary carbonate, 3,3'4,4'-Tetra- (tarsha Libutyl oxyperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (tertiary amyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (tertiary hexylperoxycarbonyl) benzophen Non, 3,3′4,4′-tetra- (tertiary octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4 ′ -Tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (tertiarybutylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyldi (tertiary hexylperoxydihydrogendiphthalate) and the like.

中でも、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーアミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(ターシャリーオクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−ターシャリーブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。   Among them, 3,3′4,4′-tetra- (tertiary butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (tertiary amyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4 4'-tetra- (tertiary hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (tertiary octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (cumylper) Peroxyesters such as oxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-tertiary butyldiperoxyisophthalate are preferred.

(l)アゾ系化合物
本発明に用いうるラジカル重合開始剤として好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
(L) Azo-based compound Preferred as a radical polymerization initiator that can be used in the present invention (l) As the azo-based compound, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobispropionitrile, 1 , 1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′- Azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobis (2-methylpropionamide) Oxime), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2- Hydro Ethyl] propionamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2 '-Azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (2,4,4- Trimethylpentane) and the like.

本発明における重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。
重合開始剤は、レーザー彫刻用樹脂組成物の全固形分に対し、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜3質量%の割合で添加することができる。
The polymerization initiator in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The polymerization initiator can be added in an amount of preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass, based on the total solid content of the resin composition for laser engraving.

<その他添加剤>
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤は、レーザー彫刻用樹脂組成物により形成された膜を柔軟化する作用を有するものであり、バインダーポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。
可塑剤としては、例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート等や、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)好ましく用いられる。
本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、彫刻感度向上のための添加剤として、ニトロセルロースや高熱伝導性物質、を加えることがより好ましい。ニトロセルロースは自己反応性化合物であるため、レーザー彫刻時、自身が発熱し、共存する親水性ポリマー等のバインダーポリマーの熱分解をアシストする。その結果、彫刻感度が向上すると推定される。
高熱伝導性物質は、熱伝達を補助する目的で添加され、熱伝導性物質としては、金属粒子等の無機化合物、導電性ポリマー等の有機化合物が挙げられる。金属粒子としては、粒径がマイクロメートルオーダーから数ナノメートルオーダーの、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子が好ましい導電性ポリマーとしては、特に共役ポリマーが好ましく、具体的には、ポリアニリン、ポリチオフェンが挙げられる。
また、共増感剤を用いることで、レーザー彫刻用樹脂組成物を光硬化させる際の感度を更に向上させることができる。
更に、組成物の製造中或いは保存中において重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。
レーザー彫刻用樹脂組成物の着色を目的として染料若しくは顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させることができる。
更に、レーザー彫刻用樹脂組成物の硬化皮膜の物性を改良するために充填剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
<Other additives>
The resin composition for laser engraving of the present invention preferably contains a plasticizer. The plasticizer has a function of softening a film formed of the resin composition for laser engraving, and needs to have good compatibility with the binder polymer.
As the plasticizer, for example, dioctyl phthalate, didodecyl phthalate or the like, polyethylene glycols, polypropylene glycol (monool type or diol type), polypropylene glycol (monool type or diol type) are preferably used.
In the resin composition for laser engraving of the present invention, it is more preferable to add nitrocellulose or a highly thermally conductive substance as an additive for improving engraving sensitivity. Since nitrocellulose is a self-reactive compound, it generates heat during laser engraving and assists in the thermal decomposition of a binder polymer such as a hydrophilic polymer. As a result, it is estimated that the engraving sensitivity is improved.
The high thermal conductive material is added for the purpose of assisting heat transfer, and examples of the thermal conductive material include inorganic compounds such as metal particles and organic compounds such as conductive polymers. As the metal particles, the conductive polymer is preferably a gold fine particle, a silver fine particle, or a copper fine particle having a particle size of micrometer order to several nanometer order. It is done.
Moreover, the sensitivity at the time of photocuring the resin composition for laser engraving can be further improved by using a co-sensitizer.
Furthermore, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the composition.
A colorant such as a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the resin composition for laser engraving. Thereby, properties such as the visibility of the image portion and the suitability of the image density measuring device can be improved.
Furthermore, in order to improve the physical properties of the cured film of the resin composition for laser engraving, a known additive such as a filler may be added.

[画像形成材料]
本発明の画像形成材料は、支持体上に、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる画像形成層を有する。
このような、本発明の画像形成材料は、レーザー彫刻により画像形成層に画像形成しうるものであれば特に制限されず、後述するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版をはじめ、3次元造形物、印章、アブレーションマスク層、凹版印刷版等に適用することができる。
[Image forming materials]
The image forming material of the present invention has an image forming layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention on a support.
The image forming material of the present invention is not particularly limited as long as it can form an image on the image forming layer by laser engraving, and includes a relief printing plate precursor for laser engraving described later, a three-dimensional structure, a seal. It can be applied to ablation mask layers, intaglio printing plates and the like.

[レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版]
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有する。レリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。
本発明において「レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版」とは、レーザー彫刻用樹脂組成物からなる架橋性を有するレリーフ形成層が、光又は熱により硬化された状態のものをいう。該印刷版原版をレーザー彫刻することにより「レリーフ印刷版」が作製される。
[Relief printing plate precursor for laser engraving]
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving of the present invention. The relief forming layer is preferably provided on the support.
In the present invention, the “relief printing plate precursor for laser engraving” refers to a state in which a crosslinkable relief forming layer made of a resin composition for laser engraving is cured by light or heat. A “relief printing plate” is produced by laser engraving the printing plate precursor.

レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、必要により更に、支持体とレリーフ形成層との間に接着層を、また、レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。   If necessary, the relief printing plate precursor for laser engraving may further have an adhesive layer between the support and the relief forming layer, and a slip coat layer and a protective film on the relief forming layer.

<レリーフ形成層>
レリーフ形成層は、本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる層であり、光及び熱の少なくとも一方により硬化する層、即ち、架橋性を有する層であることが好ましい。
本発明のレリーフ印刷版原版によるレリーフ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させ、次いでレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成することでレリーフ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するレリーフ印刷版を得ることができる。
<Relief forming layer>
The relief forming layer is a layer made of the resin composition for laser engraving of the present invention, and is preferably a layer that is cured by at least one of light and heat, that is, a layer having crosslinkability.
The production mode of the relief printing plate using the relief printing plate precursor of the present invention is preferably a mode in which the relief printing plate is produced by forming a relief layer by crosslinking the relief forming layer and then laser engraving. By crosslinking the relief forming layer, wear of the relief layer during printing can be prevented, and a relief printing plate having a relief layer having a sharp shape after laser engraving can be obtained.

なお、レリーフ形成層は、レリーフ形成層用塗布液組成物を用い、これをシート状或いはスリーブ状に成形することで形成することができる。   In addition, a relief forming layer can be formed by using the coating liquid composition for relief forming layers, and shape | molding this to a sheet form or a sleeve form.

<支持体>
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版に使用しうる支持体について説明する。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版に支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET、PBT、PAN)やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
<Support>
The support that can be used for the relief printing plate precursor for laser engraving will be described.
The material used for the support for the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited, but materials having high dimensional stability are preferably used. For example, metals such as steel, stainless steel and aluminum, polyester (for example, PET, PBT, PAN ) And plastic resins such as polyvinyl chloride, synthetic rubber such as styrene-butadiene rubber, and plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins). As the support, a PET (polyethylene terephthalate) film or a steel substrate is preferably used. The form of the support is determined depending on whether the relief forming layer is a sheet or a sleeve.

<接着層>
レリーフ形成層と支持体の間には、両層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。
<Adhesive layer>
An adhesive layer may be provided between the relief forming layer and the support for the purpose of enhancing the adhesive force between the two layers.

接着層に使用しうる材料は、レリーフ形成層が架橋された後において接着力を強固にするものであればよく、レリーフ形成層が架橋される前も接着力が強固であることが好ましい。ここで、接着力とは支持体/接着層間及び接着層/レリーフ形成層間の接着力の両者を意味する。   The material that can be used for the adhesive layer may be any material that strengthens the adhesive force after the relief forming layer is crosslinked, and preferably has a strong adhesive force before the relief forming layer is crosslinked. Here, the adhesive force means both the adhesive force between the support / adhesive layer and the adhesive layer / relief forming layer.

支持体/接着層間の接着力は、支持体/接着層/レリーフ形成層からなる積層体から接着層及びレリーフ形成層を400mm/分の速度で剥離する際、サンプル1cm幅当たりの剥離力が1.0N/cm以上又は剥離不能であることが好ましく、3.0N/cm以上又は剥離不能であることがより好ましい。   When the adhesive layer and the relief forming layer are peeled from the laminate comprising the support / adhesive layer / relief forming layer at a rate of 400 mm / min, the peel force per 1 cm width of the sample is 1 It is preferably 0.0 N / cm or more or non-peeling, and more preferably 3.0 N / cm or more or non-peeling.

接着層/レリーフ形成層の接着力は、接着層/レリーフ形成層から接着層を400mm/分の速度で剥離する際、サンプル1cm幅当たりの剥離力が1.0N/cm以上又は剥離不能であることが好ましく、3.0N/cm以上又は剥離不能であることがより好ましい。   The adhesive force of the adhesive layer / relief forming layer is such that when the adhesive layer is peeled from the adhesive layer / relief forming layer at a rate of 400 mm / min, the peel force per 1 cm width of the sample is 1.0 N / cm or more or cannot be peeled off. It is preferable that it is 3.0 N / cm or more, or more preferably non-peelable.

接着層に使用しうる材料(接着剤)としては、例えば、I.Skeist編、「Handbook of Adhesives」、第2版(1977)に記載のものを用いることができる。   Examples of materials (adhesives) that can be used for the adhesive layer include: Those described in the edition of Skeist, “Handbook of Adhesives”, the second edition (1977) can be used.

<保護フィルム、スリップコート層>
レリーフ形成層は、レーザー彫刻後レリーフが造形される部分(レリーフ層)となり、そのレリーフ層表面はインキ着肉部として機能する。架橋後のレリーフ形成層は架橋により強化されているので、レリーフ形成層表面に印刷に影響を及ぼすほどの傷や凹みが発生することはほとんどない。しかし、架橋前のレリーフ形成層は強度が不足している場合が多く、表面に傷や凹みが入りやすい。かかる観点からは、レリーフ形成層表面への傷・凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。
<Protective film, slip coat layer>
The relief forming layer becomes a portion (relief layer) where the relief is formed after laser engraving, and the surface of the relief layer functions as an ink depositing portion. Since the relief forming layer after cross-linking is reinforced by cross-linking, the surface of the relief forming layer hardly causes scratches or dents that affect printing. However, the relief forming layer before cross-linking is often insufficient in strength, and the surface is likely to have scratches and dents. From this point of view, a protective film may be provided on the surface of the relief forming layer for the purpose of preventing scratches or dents on the surface of the relief forming layer.

保護フィルムは、薄すぎると傷・凹み防止の効果が得られず、厚すぎると取り扱いが不便になり、コスト高にもなる。よって、保護フィルムの厚さは25μm〜500μmが好ましく、50μm〜200μmがより好ましい。   If the protective film is too thin, the effect of preventing scratches and dents cannot be obtained. If the protective film is too thick, handling becomes inconvenient and the cost increases. Therefore, the thickness of the protective film is preferably 25 μm to 500 μm, and more preferably 50 μm to 200 μm.

保護フィルムは、印刷版の保護フィルムとして公知の材質、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)のようなポリエステル系フィルム、PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はプレーンでもよいし、マット化されていてもよい。   As the protective film, a known material as a protective film for a printing plate, for example, a polyester film such as PET (polyethylene terephthalate), or a polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene) can be used. The surface of the film may be plain or matted.

レリーフ形成層上に保護フィルムを設ける場合、保護フィルムは剥離可能でなければならない。   When providing a protective film on a relief forming layer, the protective film must be peelable.

保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。   When the protective film cannot be peeled or when it is difficult to adhere to the relief forming layer, a slip coat layer may be provided between both layers.

スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。これらの中で、粘着性の面から、鹸化度60モル%〜99モル%の部分鹸化ポリビニルアルコール、アルキル基の炭素数が1〜5のヒドロキシアルキルセルロース及びアルキルセルロースが特に好ましく用いられる。   The material used for the slip coat layer is a resin that can be dissolved or dispersed in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, polyamide resin, etc. It is preferable that Of these, partially saponified polyvinyl alcohol having a saponification degree of 60 mol% to 99 mol%, hydroxyalkyl cellulose having 1 to 5 carbon atoms in the alkyl group, and alkyl cellulose are particularly preferably used from the viewpoint of tackiness.

レリーフ形成層(及びスリップコート層)/保護フィルムから保護フィルムを200mm/分の速度で剥離する時、1cm当たりの剥離力が5〜200mN/cmであることが好ましく、10〜150mN/cmが更に好ましい。5mN/cm以上であれば、作業中に保護フィルムが剥離することなく作業でき、200mN/cm以下であれば無理なく保護フィルムを剥離することができる。   When peeling the protective film from the relief forming layer (and slip coat layer) / protective film at a rate of 200 mm / min, the peel force per 1 cm is preferably 5 to 200 mN / cm, more preferably 10 to 150 mN / cm. preferable. If it is 5 mN / cm or more, it can work without peeling off the protective film during the work, and if it is 200 mN / cm or less, the protective film can be peeled without difficulty.

−レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製方法−
次に、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製方法について説明する。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レリーフ形成層用塗布液組成物(レーザー彫刻用樹脂組成物)を調製し、このレリーフ形成層用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。或いはレリーフ形成層用塗布液組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して塗布液組成物から溶媒を除去する方法でもよい。
その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることよって行うことができる。
保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。
-Preparation of relief printing plate precursor for laser engraving-
Next, a method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving will be described.
Formation of the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited. For example, a relief forming layer coating liquid composition (resin composition for laser engraving) is prepared, and this relief forming layer is prepared. The method of melt-extruding on a support after removing a solvent from the coating liquid composition for coating is mentioned. Alternatively, a method of casting the relief forming layer coating solution composition on a support and drying it in an oven to remove the solvent from the coating solution composition may be used.
Thereafter, a protective film may be laminated on the relief forming layer as necessary. Lamination can be performed by pressure-bonding the protective film and the relief forming layer with a heated calendar roll or the like, or by bringing the protective film into close contact with the relief forming layer impregnated with a small amount of solvent on the surface.
When using a protective film, you may take the method of laminating | stacking a relief formation layer on a protective film first, and laminating a support body then.
When providing an adhesive layer, it can respond by using the support body which apply | coated the adhesive layer. When providing a slip coat layer, it can respond by using the protective film which apply | coated the slip coat layer.

レリーフ形成層用塗布液組成物は、例えば、バインダーポリマー、及び、任意成分として、光熱変換剤、可塑剤を適当な溶媒に溶解させ、次いで、重合性化合物及び重合開始剤を溶解させることによって製造できる。   The coating composition for the relief forming layer is produced, for example, by dissolving a binder polymer and, as an optional component, a photothermal conversion agent and a plasticizer in an appropriate solvent, and then dissolving a polymerizable compound and a polymerization initiator. it can.

溶媒成分のほとんどは、レリーフ印刷版原版を製造する段階で除去する必要があるので、溶媒としては揮発しやすい低分子アルコール(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコ−ルモノメチルエーテル)等を用い、かつ溶媒の全添加量をできるだけ少なく抑えることが好ましい。系を高温にすることで、溶媒の添加量を抑制することができるが、温度が高すぎると重合性化合物が重合反応し易くなるため、重合性化合物及び/又は重合開始剤の添加後の塗布液組成物の調製温度は30℃〜80℃が好ましい。   Since most of the solvent components need to be removed at the stage of producing the relief printing plate precursor, low-molecular alcohols (e.g., methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, propylene glycol monomethyl ether, which are easily volatile) are used as the solvent. Etc.) and the total addition amount of the solvent is preferably minimized. The amount of the solvent added can be suppressed by raising the temperature of the system, but if the temperature is too high, the polymerizable compound is likely to undergo a polymerization reaction, so that the coating after the addition of the polymerizable compound and / or polymerization initiator is performed. The preparation temperature of the liquid composition is preferably 30 ° C to 80 ° C.

ここで、本発明において、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版といった場合、前述のように、レリーフ形成層が架橋された状態までを指す。レリーフ形成層を架橋する方法には、レリーフ形成層を活性光線の照射及び/又は加熱により架橋する工程(後述の本発明のレリーフ印刷版の製造方法における工程(1))を行うことが好ましい。   Here, in the present invention, in the case of a relief printing plate precursor for laser engraving, as described above, it refers to the state in which the relief forming layer is crosslinked. In the method of crosslinking the relief forming layer, it is preferable to perform a step of crosslinking the relief forming layer by irradiation with actinic rays and / or heating (step (1) in the method for producing a relief printing plate of the present invention described later).

レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。   The thickness of the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is preferably from 0.05 mm to 10 mm, more preferably from 0.05 mm to 7 mm, and particularly preferably from 0.05 mm to 3 mm, before and after crosslinking. is there.

[レリーフ印刷版及びその製造]
本発明のレリーフ印刷版の製造方法は、(1)本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における未架橋のレリーフ形成層を活性光線の照射及び加熱の少なくとも一方により架橋する工程(以下、適宜「工程(1)」と称する。)、及び(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程(以下、適宜「工程(2)」と称する。)、を含むことを特徴とする。本発明のレリーフ印刷版の製造方法により、支持体上にレリーフ層を有する本発明のレリーフ印刷版を製造することができる。
[Relief printing plate and its manufacture]
The method for producing a relief printing plate of the present invention comprises (1) a step of crosslinking an uncrosslinked relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention by at least one of irradiation with actinic rays and heating (hereinafter referred to as “ And (2) a step of laser engraving the crosslinked relief forming layer to form a relief layer (hereinafter referred to as “step (2)” as appropriate). Features. By the method for producing a relief printing plate of the present invention, the relief printing plate of the present invention having a relief layer on a support can be produced.

<工程(1)>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、前述のように、架橋により硬化された状態のレリーフ形成層を有する。このようなレリーフ形成層を得るためには、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における未架橋のレリーフ形成層を活性光線の照射及び/又は加熱により架橋する工程を用いることが好ましい。
本発明における「架橋」とは、バインダーポリマー同士を連結する架橋反応を含む概念であり、また、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物同士の重合反応やバインダーポリマーと重合性化合物の反応によるレリーフ形成層の硬化反応をも含む概念である。
<Step (1)>
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer cured by crosslinking as described above. In order to obtain such a relief forming layer, it is preferable to use a step of crosslinking the uncrosslinked relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention by irradiation with active light and / or heating.
The term “crosslinking” in the present invention is a concept including a crosslinking reaction for linking binder polymers, and a relief by a polymerization reaction between polymerizable compounds having an ethylenically unsaturated bond or a reaction between a binder polymer and a polymerizable compound. It is a concept that includes the curing reaction of the formation layer.

上記のように、工程(1)では、未架橋のレリーフ形成層の架橋は、活性光線の照射、及び/又は、熱により行われる。
工程(1)において、光により架橋する工程と、熱により架橋する工程とが併用される場合には、これらの工程は、互いに同時工程でも別時工程としてもよい。
As described above, in the step (1), crosslinking of the uncrosslinked relief forming layer is performed by irradiation with actinic rays and / or heat.
In the step (1), when the step of crosslinking by light and the step of crosslinking by heat are used in combination, these steps may be simultaneous with each other or separate steps.

工程(1)は、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層を、光及び熱の少なくとも一方により架橋する工程である。
レリーフ形成層は、好ましくは、重合性化合物、バインダーポリマー、光熱変換剤、及び重合開始剤を含むものであり、工程(1)は重合開始剤の作用で重合性化合物をポリマー化し、架橋を形成する工程である。
重合開始剤はラジカル発生剤であることが好ましく、該ラジカル発生剤は、ラジカルを発生するきっかけが光か熱かによって、光重合開始剤と熱重合開始剤に大別される。
Step (1) is a step of crosslinking the relief forming layer of the relief printing plate precursor for laser engraving with at least one of light and heat.
The relief forming layer preferably contains a polymerizable compound, a binder polymer, a photothermal conversion agent, and a polymerization initiator, and in step (1), the polymerizable compound is polymerized by the action of the polymerization initiator to form a crosslink. It is a process to do.
The polymerization initiator is preferably a radical generator, and the radical generator is roughly classified into a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator depending on whether the trigger for generating radicals is light or heat.

レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる活性光線をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる(光により架橋する工程)。
活性光線の照射は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。活性光線としては可視光、紫外光或いは電子線が挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体側を裏面とすれば、表面に活性光線を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも活性光線を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。
When the relief forming layer contains a photopolymerization initiator, the relief forming layer can be crosslinked by irradiating the relief forming layer with an actinic ray that triggers the photopolymerization initiator (step of crosslinking by light ).
The irradiation with actinic rays is generally performed on the entire surface of the relief forming layer. Visible light, ultraviolet light, or an electron beam is mentioned as actinic light, but ultraviolet light is the most common. If the support side of the relief forming layer is the back side, the surface may only be irradiated with actinic rays, but if the support is a transparent film that transmits actinic rays, it is preferable that the back side is further irradiated with actinic rays. . When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. Since polymerization inhibition may occur in the presence of oxygen, irradiation with actinic rays may be performed after the relief forming layer is covered with a vinyl chloride sheet and evacuated.

レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合には(上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなりえる)、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる(熱により架橋する工程)。加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。   When the relief forming layer contains a thermal polymerization initiator (the above-mentioned photopolymerization initiator can also be a thermal polymerization initiator), the relief forming layer is crosslinked by heating the relief printing plate precursor for laser engraving. (Step of crosslinking by heat). Examples of the heating means include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, and a method of contacting the heated roll for a predetermined time.

工程(1)が、光により架橋する工程である場合は、活性光線を照射する装置が比較的高価であるものの、印刷版原版が高温になることがないので、印刷版原版の原材料の制約がほとんどない。
工程(1)が、熱により架橋する工程である場合には、特別高価な装置を必要としない利点があるが、印刷版原版が高温になるので、高温で柔軟になる熱可塑性ポリマーは加熱中に変形する可能性がある等、使用する原材料は慎重に選択する必要がある。
熱架橋の際には、熱重合開始剤を加え得る。熱重合開始剤としては、遊離基重合(free radical polymerization)用の商業的な熱重合開始剤として使用され得る。このような熱重合開始剤としては、例えば、適当な過酸化物、ヒドロペルオキシド又はアゾ基を含む化合物が挙げられる。代表的な加硫剤も架橋用に使用できる。熱架橋性(heat−curable)の樹脂、例えばエポキシ樹脂、を架橋成分として層に加えることにより熱架橋も実施され得る。
When step (1) is a step of crosslinking by light, an apparatus for irradiating actinic rays is relatively expensive, but the printing plate precursor does not become high temperature, so there are restrictions on the raw materials of the printing plate precursor. rare.
In the case where the step (1) is a step of crosslinking by heat, there is an advantage that an extra expensive apparatus is not required. However, since the printing plate precursor becomes high temperature, the thermoplastic polymer that becomes flexible at high temperature is being heated. The raw materials to be used must be carefully selected.
A thermal polymerization initiator may be added during the thermal crosslinking. As the thermal polymerization initiator, it can be used as a commercial thermal polymerization initiator for free radical polymerization. Examples of such a thermal polymerization initiator include a compound containing a suitable peroxide, hydroperoxide, or azo group. Representative vulcanizing agents can also be used for crosslinking. Thermal crosslinking can also be performed by adding a heat-curable resin, such as an epoxy resin, as a crosslinking component to the layer.

工程(1)におけるレリーフ形成層の架橋方法としは、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化(架橋)可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
レリーフ形成層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。未架橋のレリーフ形成層をレーザー彫刻すると、レーザー照射部の周辺に伝播した余熱により、本来意図していない部分が溶融、変形しやすく、シャープなレリーフ層が得られない場合がある。また、素材の一般的な性質として、低分子なものほど固形ではなく液状になり、すなわち粘着性が強くなる傾向がある。レリーフ形成層を彫刻する際に発生する彫刻カスは、低分子の材料を多く用いるほど粘着性が強くなる傾向がある。低分子である重合性化合物は架橋することで高分子になるため、発生する彫刻カスは粘着性が少なくなる傾向がある。
As a method for crosslinking the relief forming layer in the step (1), crosslinking by heat is preferable from the viewpoint that the relief forming layer can be uniformly cured (crosslinked) from the surface to the inside.
By crosslinking the relief forming layer, there is an advantage that the relief formed first after laser engraving becomes sharp, and secondly, the adhesiveness of engraving residue generated during laser engraving is suppressed. When an uncrosslinked relief forming layer is laser engraved, unintended portions are likely to melt and deform due to residual heat that has propagated around the laser irradiated portion, and a sharp relief layer may not be obtained. In addition, as a general property of a material, a material having a low molecular weight tends to be liquid rather than solid, that is, the adhesiveness tends to be strong. The engraving residue generated when engraving the relief forming layer tends to become more tacky as more low-molecular materials are used. Since the polymerizable compound which is a low molecule becomes a polymer by crosslinking, the generated engraving residue tends to have less adhesiveness.

<工程(2)>
本発明のレリーフ印刷版の製造方法において、前記した工程(1)の後、(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程を行うことを特徴とする。本発明のレリーフ印刷版の製造方法により、支持体上にレリーフ層を有する本発明のレリーフ印刷版を製造することができる。
<Step (2)>
In the method for producing a relief printing plate of the present invention, the step (1) is followed by (2) a step of forming a relief layer by laser engraving a crosslinked relief forming layer. By the method for producing a relief printing plate of the present invention, the relief printing plate of the present invention having a relief layer on a support can be produced.

本発明のレリーフ印刷版の製造方法では、工程(2)に次いで、更に、必要に応じて下記工程(3)〜工程(5)を含んでもよい。
工程(3): 彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程(リンス工程)。
工程(4): 彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程(乾燥工程)。
工程(5): 彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程(後架橋工程)。
In the method for producing a relief printing plate of the present invention, following the step (2), the following steps (3) to (5) may be further included as necessary.
Step (3): A step of rinsing the surface of the engraved relief layer with water or a liquid containing water as a main component (rinsing step).
Step (4): A step of drying the engraved relief layer (drying step).
Step (5): A step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer (post-crosslinking step).

工程(2)では、前記工程(1)で架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋されたレリーフ形成層に対して形成したい画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成する。好ましくは、形成したい画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、レリーフ形成層に対して走査照射する工程が挙げられる。
この工程(2)には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、レリーフ形成層中の分子は分子切断或いはイオン化されて選択的な除去、すなわち彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く或いはショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度でレリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。このような工程(2)に用いられる赤外レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザーが好ましく用いられる。
Step (2) is a step of forming a relief layer by laser engraving the relief forming layer crosslinked in step (1). Specifically, the relief layer is formed by engraving the crosslinked relief forming layer by irradiating a laser beam corresponding to the image to be formed. Preferably, a step of controlling the laser head with a computer based on digital data of an image to be formed and scanning and irradiating the relief forming layer is exemplified.
In this step (2), an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the relief forming layer undergo molecular vibrations and generate heat. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or a YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation portion, and molecules in the relief forming layer are selectively removed by molecular cutting or ionization, that is, Sculpture is made. The advantage of laser engraving is that the engraving depth can be set arbitrarily, so that the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure, and a groove portion that prints fine cut characters is engraved deeply As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the relief forming layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained. As the infrared laser used in the step (2), a carbon dioxide laser or a semiconductor laser is preferable from the viewpoint of productivity, cost, and the like. In particular, a semiconductor infrared laser with a fiber is preferably used.

彫刻表面に彫刻カスが付着している場合は、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流す工程(3)を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式或いは搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスする工程(3)を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる工程(4)を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる工程(5)を追加してもよい。追加の架橋工程(5)を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
When engraving residue is attached to the engraving surface, a step (3) of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, a known batch type or conveying type brush type washing machine as a developing device for photosensitive resin relief printing, the surface of engraving is mainly present For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing solution to which a surfactant is added may be used.
When the step (3) of rinsing the engraved surface is performed, it is preferable to add a step (4) of drying the engraved relief forming layer and volatilizing the rinse liquid.
Furthermore, you may add the process (5) which further bridge | crosslinks a relief forming layer as needed. By performing the additional crosslinking step (5), the relief formed by engraving can be further strengthened.

以上のようにして、支持体上にレリーフ層を有する、本発明のレリーフ印刷版が得られる。
レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々のフレキソ印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上0.3mm以下である。
As described above, the relief printing plate of the present invention having a relief layer on a support is obtained.
The thickness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.05 mm or more from the viewpoint of satisfying various flexographic printing aptitudes such as abrasion resistance and ink transferability. It is 7 mm or less, and particularly preferably 0.05 mm or more and 0.3 mm or less.

また、レリーフ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。
レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
The Shore A hardness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 50 ° or more and 90 ° or less.
When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, even if the fine halftone dots formed by engraving are subjected to the strong printing pressure of the relief printing press, they do not collapse and can be printed normally. In addition, when the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent faint printing in a solid portion even in flexographic printing with a printing pressure of kiss touch.
The Shore A hardness in this specification is a durometer (spring type) in which an indenter (called a push needle or indenter) is pushed into the surface of the object to be measured, and the amount of deformation (indentation depth) is measured and digitized. It is a value measured by a rubber hardness meter.

本発明の方法で製造されたレリーフ印刷版は、凸版用印刷機による油性インキやUVインキでの印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。   The relief printing plate produced by the method of the present invention can be printed with oil-based ink or UV ink by a letterpress printing machine, and can also be printed with UV ink by a flexographic printing machine.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−1の合成〕
攪拌羽をつけた500mLの3つ口フラスコ中に、3,3’−チオジプロピオン酸(和光純薬製、89.10g)、メタクリル酸2−(ジメチルアミノ)エチル(和光純薬製、157.21g)、及びトルエン(100mL)を入れて、室温で攪拌した。1時間後、減圧下でトルエンを除去することで、下記構造の含硫黄多官能モノマーM−1(243.02g)を得た。
得られた含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M-1]
In a 500 mL three-necked flask equipped with stirring blades, 3,3′-thiodipropionic acid (Wako Pure Chemical Industries, 89.10 g), 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate (Wako Pure Chemical Industries, 157 .21 g) and toluene (100 mL) were added and stirred at room temperature. One hour later, toluene was removed under reduced pressure to obtain sulfur-containing polyfunctional monomer M-1 (243.02 g) having the following structure.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−2の合成〕
下記構造の含硫黄多官能モノマーM−2は、前記含硫黄多官能モノマーM−1と同様の合成法を適用し、「3,3’−チオジプロピオン酸」を、「3,3’−ジチオジプロピオン酸」に代えて、合成した。
得られ含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of Sulfur-Containing Polyfunctional Monomer M-2]
For the sulfur-containing polyfunctional monomer M-2 having the following structure, the same synthesis method as that for the sulfur-containing polyfunctional monomer M-1 was applied, and “3,3′-thiodipropionic acid” was converted to “3,3′- Instead of “dithiodipropionic acid”, synthesis was performed.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−3の合成〕
撹拌子を入れた100mLのナスフラスコ中に、1,4−フェニレンジイソチオシアナート(東京化成製、3.00g)、グリコール酸(東京化成製、2.37g)、2−ブタノン(脱水、和光純薬製、7.06g)を入れて60℃で8時間撹拌した。この溶液にメタクリル酸2−(ジメチルアミノ)エチル(東京化成製、4.90g)を加え、室温で1時間撹拌した。反応後、2−ブタノンを除去することで、下記構造の含硫黄多官能モノマーM−3(10.27g)を得た。
得られた含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M-3]
In a 100 mL eggplant flask containing a stir bar, 1,4-phenylene diisothiocyanate (Tokyo Kasei Co., Ltd., 3.00 g), glycolic acid (Tokyo Kasei Co., Ltd., 2.37 g), 2-butanone (dehydrated, summed) Mitsui Chemicals, 7.06 g) was added and stirred at 60 ° C. for 8 hours. To this solution, 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry, 4.90 g) was added and stirred at room temperature for 1 hour. After the reaction, 2-butanone was removed to obtain a sulfur-containing polyfunctional monomer M-3 (10.27 g) having the following structure.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−4の合成〕
撹拌羽及び冷却管をつけた100mLの3つ口フラスコ中に、チオグリコール酸(東京化成製、6.35g)、トリエチルアミン(関東化学製、0.09g)を入れ、2,4−トリレンジイソシアナート(東京化成製、6.00g)を室温下で滴下した。60℃に昇温し、4時間撹拌した後、室温に戻した。この溶液に2−ブタノン(和光純薬製、20g)、メタクリル酸2−(ジメチルアミノ)エチル(東京化成製、10.84g)を加え、室温で1時間撹拌した。反応後、2−ブタノンを除去することで、下記構造の含硫黄多官能モノマーM−4(23.19g)を得た。
得られた含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M-4]
Thioglycolic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry, 6.35 g) and triethylamine (manufactured by Kanto Chemical Co., 0.09 g) were placed in a 100 mL three-necked flask equipped with a stirring blade and a condenser tube, and 2,4-tolylene diisocyanate was added. Nart (Tokyo Kasei Co., Ltd., 6.00 g) was added dropwise at room temperature. The temperature was raised to 60 ° C., stirred for 4 hours, and then returned to room temperature. To this solution, 2-butanone (Wako Pure Chemicals, 20 g) and 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate (Tokyo Kasei, 10.84 g) were added and stirred at room temperature for 1 hour. After the reaction, 2-butanone was removed to obtain a sulfur-containing polyfunctional monomer M-4 (23.19 g) having the following structure.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−5の合成〕
下記構造の含硫黄多官能モノマーM−5は、前記含硫黄多官能モノマーM−3と同様の合成法を適用し、「グリコール酸」を、「チオグリコール酸」に代えて、合成した。
得られ含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of Sulfur-Containing Polyfunctional Monomer M-5]
The sulfur-containing polyfunctional monomer M-5 having the following structure was synthesized by applying the same synthesis method as that of the sulfur-containing polyfunctional monomer M-3, replacing “glycolic acid” with “thioglycolic acid”.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−6の合成〕
攪拌羽をつけた500mLの3つ口フラスコ中に、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン(和光純薬製、50.00g)、500mLの3つ口フラスコ中に、(和光純薬製、159.13g)、及び2−ブタノン(100mL)を入れて、室温で攪拌した。1時間後、減圧下でトルエンを除去することで、下記構造の含硫黄多官能モノマーM−6(209.13g)を得た。
得られた含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M-6]
In a 500 mL three-necked flask with stirring blades, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3-propanediamine (manufactured by Wako Pure Chemical, 50.00 g), 500 mL three-necked flask (Wako Pure Chemical Industries, 159.13 g) and 2-butanone (100 mL) were put in the solution, and stirred at room temperature. One hour later, toluene was removed under reduced pressure to obtain sulfur-containing polyfunctional monomer M-6 (209.13 g) having the following structure.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−7の合成〕
下記構造の含硫黄多官能モノマーM−7は、前記含硫黄多官能モノマーM−6と同様の合成法を適用し、「N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン」を、「アクリル酸2−(ジメチルアミノ)エチル」に代えて、合成した。
得られ含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M-7]
For the sulfur-containing polyfunctional monomer M-7 having the following structure, the same synthesis method as that for the sulfur-containing polyfunctional monomer M-6 was applied, and “N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3-propane” was applied. “Diamine” was synthesized in place of “2- (dimethylamino) ethyl acrylate”.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM−8の合成〕
下記構造の含硫黄多官能モノマーM−8は、前記含硫黄多官能モノマーM−6と同様の合成法を適用し、「N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン」を、「トリス(2−アミノエチル)アミン」に代えて、合成した。
得られ含硫黄多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M-8]
For the sulfur-containing polyfunctional monomer M-8 having the following structure, the same synthesis method as that for the sulfur-containing polyfunctional monomer M-6 was applied, and “N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3-propane” was applied. The “diamine” was synthesized in place of “tris (2-aminoethyl) amine”.
The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:比較用多官能モノマーC−1の合成〕
撹拌羽及び冷却管をつけた500mLの3つ口フラスコ中に、ピメリン酸(和光純薬製、80.09g)、メタクリル酸グリシジル(和光純薬製、156.26g)、1−メトキシ−2−プロパノール(日本乳化剤(株)製、27.78g),テトラエチルアンモニウムブロミド(東京化成製、4.20g)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピリジン1−オキシル フリーラジカル(東京化成製、0.50g)を入れて、80℃で4時間撹拌した。この溶液に、水(500g)と酢酸エチル(500g)を加え分液ロートに移して激しく撹拌した後、水層を除去した、続いて、飽和炭酸ナトリウム水溶液(200g)を加え激しく撹拌した後、水層を除去した。続いて、飽和食塩水(200g)を加え激しく撹拌した後、水層を除去した。有機層を1Lのエルレンマイヤーフラスコに移した後、硫酸マグネシウム(100g)を加え乾燥させた。濾過により硫酸マグネシウムを除き、減圧下で酢酸エチルを除去することで、下記構造の比較用多官能モノマーC−1(222.23g)を得た。
得られた比較用多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of Comparative Multifunctional Monomer C-1]
In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirring blade and a condenser tube, pimelic acid (manufactured by Wako Pure Chemical, 80.09 g), glycidyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical, 156.26 g), 1-methoxy-2- Propanol (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd., 27.78 g), tetraethylammonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry, 4.20 g), 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpyridine 1-oxyl free radical (Tokyo Kasei) Made, 0.50 g) and stirred at 80 ° C. for 4 hours. To this solution, water (500 g) and ethyl acetate (500 g) were added, transferred to a separatory funnel and stirred vigorously, and then the aqueous layer was removed. Subsequently, a saturated aqueous sodium carbonate solution (200 g) was added and stirred vigorously. The aqueous layer was removed. Subsequently, saturated brine (200 g) was added and stirred vigorously, and then the aqueous layer was removed. After the organic layer was transferred to a 1 L Erlenmeyer flask, magnesium sulfate (100 g) was added and dried. Magnesium sulfate was removed by filtration and ethyl acetate was removed under reduced pressure to obtain a comparative polyfunctional monomer C-1 (222.23 g) having the following structure.
The structure of the obtained comparative polyfunctional monomer was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

〔合成例:比較用多官能モノマーC−2の合成〕
下記構造の比較用多官能モノマーC−2は、前記含硫黄多官能モノマーM−1と同様の合成法を適用し、「3,3’−ジチオジプロピオン酸」を、「ピメリン酸」に代えて、合成した。
得られ比較用多官能モノマーの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of Comparative Multifunctional Monomer C-2]
For the comparative polyfunctional monomer C-2 having the following structure, the same synthesis method as that for the sulfur-containing polyfunctional monomer M-1 was applied, and “3,3′-dithiodipropionic acid” was replaced with “pimelic acid”. And synthesized.
The structure of the obtained polyfunctional monomer for comparison was identified by 1 H NMR.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

[実施例1]
1.レーザー彫刻用樹脂組成物の調製
撹拌羽及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に、バインダーポリマーとしてゴーセナールT−215(日本合成化学工業(株)製、PVA誘導体)40g、光熱変換剤としてケッチェンブラックEC600JD(カーボンブラック、ライオン(株)製)を0.75g、可塑剤としてジエチレングリコール20g、溶媒として水35g及びエタノール12gを入れ、撹拌しながら70℃で120分間加熱しポリマーを溶解させた。更に、前述のようにして合成した含硫黄多官能モノマーM−1を28g、重合開始剤としてパーブチルZ(日本油脂(株)製)を1.6g添加して30分間撹拌し、流動性のあるレーザー彫刻用樹脂組成物1(レリーフ形成層用塗布液組成物)を得た。
[Example 1]
1. Preparation of resin composition for laser engraving In a three-necked flask equipped with stirring blades and a cooling tube, 40 g of GOHSENAL T-215 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., PVA derivative) as a binder polymer, kettle as a photothermal conversion agent 0.75 g of Chain Black EC600JD (carbon black, manufactured by Lion Corporation), 20 g of diethylene glycol as a plasticizer, 35 g of water and 12 g of ethanol as a solvent were added and heated at 70 ° C. for 120 minutes with stirring to dissolve the polymer. Further, 28 g of the sulfur-containing polyfunctional monomer M-1 synthesized as described above and 1.6 g of perbutyl Z (manufactured by NOF Corporation) as a polymerization initiator are added and stirred for 30 minutes, and have fluidity. Laser engraving resin composition 1 (relief-forming layer coating solution composition) was obtained.

2.レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製
PET基板上に所定厚のスペーサー(枠)を設置し、上記より得られたレーザー彫刻用樹脂組成物1をスペーサー(枠)から流出しない程度に静かに流延し、70℃のオーブン中で3時間乾燥させて、厚さが凡そ1mmのレリーフ形成層を設けた。
得られたレリーフ形成層を、100℃で2.5時間加熱してレリーフ形成層を熱架橋し、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版1を得た。
2. Preparation of relief printing plate precursor for laser engraving A spacer (frame) of a predetermined thickness is placed on a PET substrate, and the resin composition 1 for laser engraving obtained above is gently cast so as not to flow out of the spacer (frame). Then, it was dried in an oven at 70 ° C. for 3 hours to provide a relief forming layer having a thickness of about 1 mm.
The obtained relief forming layer was heated at 100 ° C. for 2.5 hours to thermally crosslink the relief forming layer, whereby a relief printing plate precursor 1 for laser engraving was obtained.

3.レリーフ印刷版の作製
架橋後のレリーフ形成層に対し、近赤外レーザー彫刻機として、最大出力16Wの半導体レーザー(レーザー発振波長840nm)を装備した“FD−100”((株)東成エレクトロビーム製)を用い、彫刻条件を、レーザー出力:15W、走査速度:100mm/秒、ピッチ間隔:0.15mmに設定し、2cm四方のベタ部分を彫刻することにより、レリーフ層を形成し、レリーフ印刷版1を得た。
3. Preparation of relief printing plate “FD-100” (manufactured by Tosei Electrobeam Co., Ltd.) equipped with a semiconductor laser with a maximum output of 16 W (laser oscillation wavelength 840 nm) as a near-infrared laser engraving machine for the relief forming layer after crosslinking. ), The engraving conditions are set to laser output: 15 W, scanning speed: 100 mm / second, pitch interval: 0.15 mm, and a 2 cm square solid part is engraved to form a relief layer, and a relief printing plate 1 was obtained.

レリーフ印刷版1が有するレリーフ層の厚さは1.32mmであった。
また、レリーフ層のショアA硬度を、前述の測定方法により測定したところ、63°であった。なお、レリーフ層のショア硬度Aの測定は、後述する各実施例及び比較例においても同様に行った。
The thickness of the relief layer of the relief printing plate 1 was 1.32 mm.
Moreover, when the Shore A hardness of the relief layer was measured by the above-mentioned measuring method, it was 63 °. In addition, the measurement of the Shore hardness A of a relief layer was similarly performed also in each Example and comparative example which are mentioned later.

[実施例2〜8、比較例1、2]
実施例1で用いた「含硫黄多官能モノマーM−1」を、下記の多官能モノマーに変更してレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した後、該レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版からレリーフ印刷版2〜8、C1、C2を作製した。
[Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 and 2]
For laser engraving in the same manner as in Example 1 except that the “sulfur-containing polyfunctional monomer M-1” used in Example 1 was changed to the following polyfunctional monomer to prepare a resin composition for laser engraving. After producing the relief printing plate precursor, relief printing plates 2 to 8, C1, and C2 were produced from the relief printing plate precursor for laser engraving.

実施例2 :含硫黄多官能モノマーM−2
実施例3 :含硫黄多官能モノマーM−3
実施例4 :含硫黄多官能モノマーM−4
実施例5 :含硫黄多官能モノマーM−5
実施例6 :含硫黄多官能モノマーM−6
実施例7 :含硫黄多官能モノマーM−7
実施例8 :含硫黄多官能モノマーM−8
比較例1 :比較用多官能モノマーC−1
比較例2 :比較用多官能モノマーC−2
ここで、実施例2〜8で用いた含硫黄多官能モノマー、比較例1、2で用いた比較用多官能モノマーは、前述の合成例にて合成された化合物である。
Example 2: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-2
Example 3: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-3
Example 4: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-4
Example 5: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-5
Example 6: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-6
Example 7: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-7
Example 8: Sulfur-containing polyfunctional monomer M-8
Comparative Example 1: Comparative multifunctional monomer C-1
Comparative Example 2: Comparative multifunctional monomer C-2
Here, the sulfur-containing polyfunctional monomer used in Examples 2 to 8 and the comparative polyfunctional monomer used in Comparative Examples 1 and 2 are compounds synthesized in the aforementioned synthesis examples.

得られたレリーフ印刷版2〜8、C1、C2が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。   The thicknesses of the relief layers and Shore A hardness of the obtained relief printing plates 2 to 8, C1 and C2 are as shown in Table 1 below.

[実施例9]
実施例1で用いた「バインダーポリマーであるゴーセナールT−215」を、「デンカブチラール#3000−2(電気化学工業製)」に変更してレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した後、該レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版からレリーフ印刷版9を作製した。
得られたレリーフ印刷版9が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Example 9]
Except that the resin composition for laser engraving was prepared by changing the “Gosenal T-215 which is a binder polymer” used in Example 1 to “Denkabutyral # 3000-2 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo)” In the same manner as in No. 1, a relief printing plate precursor for laser engraving was prepared, and then a relief printing plate 9 was prepared from the relief printing plate precursor for laser engraving.
The thickness of the relief layer and the Shore A hardness of the obtained relief printing plate 9 are as shown in Table 1 below.

[実施例10]
実施例1で用いた「光熱変換剤であるケッチェンブラックEC600JD(カーボンブラック)」を、「ADS820HO(シアニン化合物、アメリカン・ダイ・ソース社製)」に変更してレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した後、該レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版からレリーフ印刷版10を作製した。
得られたレリーフ印刷版10が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Example 10]
A resin composition for laser engraving was prepared by changing “Ketjen Black EC600JD (carbon black), which is a photothermal conversion agent” used in Example 1, to “ADS820HO (cyanine compound, manufactured by American Die Source)”. Except that, a relief printing plate precursor for laser engraving was prepared in the same manner as in Example 1, and then a relief printing plate 10 was prepared from the relief printing plate precursor for laser engraving.
The thickness of the relief layer and the Shore A hardness of the obtained relief printing plate 10 are as shown in Table 1 below.

[実施例11]
実施例1で用いた「光熱変換剤であるケッチェンブラックEC600JD(カーボンブラック)」を、「D99−009(フタロシアニン化合物、山本化成製)」に変更してレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した後、該レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版からレリーフ印刷版11を作製した。
得られたレリーフ印刷版11が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Example 11]
Except that “Ketjen Black EC600JD (carbon black) as a photothermal conversion agent” used in Example 1 was changed to “D99-009 (phthalocyanine compound, manufactured by Yamamoto Kasei)” to prepare a resin composition for laser engraving. In the same manner as in Example 1, after producing a relief printing plate precursor for laser engraving, a relief printing plate 11 was produced from the relief printing plate precursor for laser engraving.
The thickness of the relief layer and the Shore A hardness of the obtained relief printing plate 11 are as shown in Table 1 below.

[実施例12]
実施例1で用いた「重合開始剤であるパーブチルZ」を、「V−30(アゾ系化合物、和光純薬製)」に変更してレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した後、該レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版からレリーフ印刷版12を作製した。
得られたレリーフ印刷版12が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Example 12]
Except that “Perbutyl Z as a polymerization initiator” used in Example 1 was changed to “V-30 (azo compound, manufactured by Wako Pure Chemical Industries)”, a resin composition for laser engraving was prepared. In the same manner as in No. 1, a relief printing plate precursor for laser engraving was prepared, and then a relief printing plate 12 was prepared from the relief printing plate precursor for laser engraving.
The thickness of the relief layer and the Shore A hardness of the obtained relief printing plate 12 are as shown in Table 1 below.

[実施例13〜24、比較例3、4]
実施例1〜12、及び比較例1、2において、レリーフ印刷版の作製の際に使用した「近赤外レーザー彫刻機」を、「下記の炭酸ガスレーザー彫刻機」に変え、下記のようにしてレーザー彫刻を行った以外は、実施例1と同様にして、レリーフ印刷版13〜24、C3、C4を作製した。
即ち、炭酸ガスレーザー彫刻機として、最大出力30Wの炭酸ガスレーザーを装備した“COレーザーマーカーML−Z9500”((株)キーエンス製)を用いた。彫刻条件は、レーザー出力:15W、走査速度:100mm/秒、ピッチ間隔:0.15mmに設定し、2cm四方のベタ部分を彫刻し、レリーフ印刷版を得た。
ここで、得られたレリーフ印刷版13〜24、C3、C4が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Examples 13 to 24, Comparative Examples 3 and 4]
In Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2, the “near-infrared laser engraving machine” used in producing the relief printing plate was changed to “the following carbon dioxide laser engraving machine” and changed as follows. Relief printing plates 13 to 24, C3, and C4 were prepared in the same manner as in Example 1 except that laser engraving was performed.
That is, “CO 2 laser marker ML-Z9500” (manufactured by Keyence Corporation) equipped with a carbon dioxide laser with a maximum output of 30 W was used as a carbon dioxide laser engraving machine. Engraving conditions were set such that the laser output was 15 W, the scanning speed was 100 mm / second, and the pitch interval was 0.15 mm, and a solid portion of 2 cm square was engraved to obtain a relief printing plate.
Here, the thickness of the relief layer and the Shore A hardness of the obtained relief printing plates 13 to 24, C3, and C4 are as shown in Table 1 below.

<評価>
−彫刻深さ−
レリーフ印刷版1〜24、C1〜C4が有するレリーフ層の「彫刻深さ」を、以下のように測定した。ここで、「彫刻深さ」とは、レリーフ層の断面を観察した場合の、彫刻された位置(高さ)と彫刻されていない位置(高さ)との差をいう。本実施例における「彫刻深さ」は、レリーフ層の断面を、超深度カラー3D形状測定顕微鏡VK9510((株)キーエンス製)にて観察することにより測定した。彫刻深さが大きいことは、彫刻感度が高いことを意味する。結果を表1に示す。
<Evaluation>
-Sculpture depth-
The “engraving depth” of the relief layers of the relief printing plates 1 to 24 and C1 to C4 was measured as follows. Here, “sculpture depth” refers to the difference between the engraved position (height) and the unengraved position (height) when the cross section of the relief layer is observed. The “engraving depth” in this example was measured by observing the cross section of the relief layer with an ultra-deep color 3D shape measuring microscope VK9510 (manufactured by Keyence Corporation). A large engraving depth means high engraving sensitivity. The results are shown in Table 1.

Figure 2010076135
Figure 2010076135

表1に示されるように、本発明における(A)含硫黄多官能モノマーを含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を用いて作製された実施例のレリーフ印刷版は、彫刻用レーザーの種類に関わらず、(A)含硫黄多官能モノマーとは異なる構造の比較用多官能モノマーを用いた比較例のレリーフ印刷版よりも、彫刻深さが大きいことが分かる。このことにより、実施例にて調製したレーザー彫刻用樹脂組成物は、彫刻感度が高いことが確認できた。   As shown in Table 1, the relief printing plate of the example produced using the resin composition for laser engraving containing the (A) sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is used regardless of the type of engraving laser. (A) It turns out that engraving depth is larger than the relief printing plate of the comparative example using the comparative polyfunctional monomer of the structure different from a sulfur-containing polyfunctional monomer. This confirmed that the engraving sensitivity of the resin composition for laser engraving prepared in Examples was high.

Claims (15)

(A)2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合とイオン結合とを有する多官能重合性化合物、及び、(B)バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物。   (A) a polyfunctional polymerizable compound having two or more ethylenically unsaturated bonds, a carbon-sulfur bond and an ionic bond at a site connecting two ethylenically unsaturated bonds, and (B ) A resin composition for laser engraving containing at least a binder polymer. 前記(A)多官能重合性化合物において、炭素−硫黄結合が、−C−S−、−C−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−、及び−C−SO−から選択される少なくとも1つのユニットである請求項1に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。 In the (A) polyfunctional polymerizable compound, the carbon-sulfur bond is -C-S-, -C-SS-, -NH (C = S) O-, -NH (C = O) S-,- The resin composition for laser engraving according to claim 1, which is at least one unit selected from NH (C═S) S— and —C—SO 2 —. 前記(A)多官能重合性化合物において、イオン結合が、−CO−O−SO−O−PO 、及び下記一般式(1)で表される構造から選択される1種のアニオン部と、下記一般式(2)〜(4)で表される構造から選択される1種のカチオン部と、からなる請求項1又は請求項2に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
Figure 2010076135
(上記一般式(1)〜(4)中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリール基、又は複素環基を表し、R〜Rのうち少なくとも2つが連結して環を形成してもよく、R〜Rのうち少なくとも2つが連結して環を形成してもよく、RとRが連結して環を形成してもよい。)
In (A) the polyfunctional polymerizable compound, ionic bond, * -CO-O -, * -SO 2 -O -, * -PO 3 -, and selected from the structures represented by the following general formula (1) 3. The laser engraving according to claim 1, comprising: one kind of anion moiety and one kind of cation moiety selected from the structures represented by the following general formulas (2) to (4): Resin composition.
Figure 2010076135
(In the general formulas (1) to (4), R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, alkoxy group, aryl group, or heterocyclic group. And at least two of R 2 to R 4 may be linked to form a ring, at least two of R 5 to R 7 may be linked to form a ring, and R 8 and R 9 May be linked to form a ring.)
前記(A)多官能重合性化合物において、前記エチレン性不飽和結合を含む部分構造の少なくとも1つが、下記一般式(5)〜(7)のいずれかで表される部分構造である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。
Figure 2010076135
(上記一般式(5)〜(7)中、R10〜R20は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表し、X、Y、及びZは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−(N−R21)−、スルホニル基であり、R21は、水素原子、又は1価の有機基を表す。)
In the (A) polyfunctional polymerizable compound, at least one of the partial structures containing the ethylenically unsaturated bond is a partial structure represented by any one of the following general formulas (5) to (7). The resin composition for laser engraving according to any one of claims 3 to 4.
Figure 2010076135
(In the general formulas (5) to (7), R 10 to R 20 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and X, Y, and Z each independently represent an oxygen atom. , A sulfur atom, — (N—R 21 ) —, a sulfonyl group, and R 21 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.)
(C)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を更に含有する請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   (C) The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 4, further comprising a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm. 光及び熱の少なくとも一方により硬化する請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 5, which is cured by at least one of light and heat. 熱により硬化する請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物。   The resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 6, which is cured by heat. 支持体上に、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなる画像形成層を有する画像形成材料。   The image forming material which has an image forming layer which consists of a resin composition for laser engraving of any one of Claims 1-7 on a support body. 前記画像形成層が光及び熱の少なくとも一方により硬化されていることを特徴とする請求項8に記載の画像形成材料。   The image forming material according to claim 8, wherein the image forming layer is cured by at least one of light and heat. 請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用樹脂組成物からなるレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer comprising the resin composition for laser engraving according to any one of claims 1 to 7. (1)請求項10に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層を光及び熱の少なくとも一方により架橋する工程、及び、
(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程、
を含むレリーフ印刷版の製造方法。
(1) a step of crosslinking the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 10 by at least one of light and heat; and
(2) forming a relief layer by laser engraving a crosslinked relief forming layer;
A method for producing a relief printing plate comprising
前記(1)工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋する工程である請求項11に記載のレリーフ印刷版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate according to claim 11, wherein the step (1) is a step of crosslinking the relief forming layer with heat. 請求項11又は請求項12に記載のレリーフ印刷版の製造方法により製造された、レリーフ層を有するレリーフ印刷版。   The relief printing plate which has a relief layer manufactured by the manufacturing method of the relief printing plate of Claim 11 or Claim 12. 前記レリーフ層の厚みが、0.05mm以上10mm以下である請求項13に記載のレリーフ印刷版。   The relief printing plate according to claim 13, wherein the thickness of the relief layer is from 0.05 mm to 10 mm. 前記レリーフ層のショアA硬度が、50°以上90°以下である請求項13又は請求項14に記載のレリーフ印刷版。   The relief printing plate according to claim 13 or 14, wherein the Shore A hardness of the relief layer is from 50 ° to 90 °.
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