JP2012142150A5 - - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 29
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- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims 2
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- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010293135A JP5799503B2 (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | 液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010293135A JP5799503B2 (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | 液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012142150A JP2012142150A (ja) | 2012-07-26 |
| JP2012142150A5 true JP2012142150A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2014-02-13 |
| JP5799503B2 JP5799503B2 (ja) | 2015-10-28 |
Family
ID=46678232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010293135A Active JP5799503B2 (ja) | 2010-12-28 | 2010-12-28 | 液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5799503B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013039189A1 (ja) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学 | プラズマ発生装置及び発光分光分析装置 |
| JP6244141B2 (ja) * | 2013-08-30 | 2017-12-06 | 国立大学法人名古屋大学 | プラズマ発生装置およびその利用 |
| KR101600522B1 (ko) * | 2014-11-14 | 2016-03-21 | 주식회사 플래닛 | 유해가스 처리장치 |
| JP6667166B2 (ja) * | 2016-06-15 | 2020-03-18 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 改質液生成装置および改質液生成方法 |
| WO2017217170A1 (ja) * | 2016-06-15 | 2017-12-21 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 改質液生成装置および改質液生成方法 |
| JP6579587B2 (ja) * | 2017-09-20 | 2019-09-25 | 住友理工株式会社 | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4107736B2 (ja) * | 1998-11-16 | 2008-06-25 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| JP2000173797A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-23 | Sumitomo Metal Ind Ltd | マイクロ波プラズマ処理装置 |
| JP2004306029A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-11-04 | Techno Network Shikoku Co Ltd | 化学反応装置および有害物質分解方法 |
| JP4735095B2 (ja) * | 2005-07-15 | 2011-07-27 | 東京エレクトロン株式会社 | リモートプラズマ発生ユニットの電界分布測定装置、リモートプラズマ発生ユニット、処理装置及びリモートプラズマ発生ユニットの特性調整方法 |
| JP4852934B2 (ja) * | 2005-08-26 | 2012-01-11 | パナソニック電工株式会社 | 微細気泡発生装置 |
| JP2007059317A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Honda Electronic Co Ltd | プラズマ発生装置、及びプラズマ発生方法 |
| JP4982658B2 (ja) * | 2007-09-21 | 2012-07-25 | 本多電子株式会社 | 液中プラズマ処理装置、及び液中プラズマ処理方法 |
| JP4849382B2 (ja) * | 2008-02-18 | 2012-01-11 | 株式会社安川電機 | 水処理装置 |
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2010
- 2010-12-28 JP JP2010293135A patent/JP5799503B2/ja active Active