JP2012133137A - Coating device and coating method of alignment film forming liquid - Google Patents

Coating device and coating method of alignment film forming liquid Download PDF

Info

Publication number
JP2012133137A
JP2012133137A JP2010285318A JP2010285318A JP2012133137A JP 2012133137 A JP2012133137 A JP 2012133137A JP 2010285318 A JP2010285318 A JP 2010285318A JP 2010285318 A JP2010285318 A JP 2010285318A JP 2012133137 A JP2012133137 A JP 2012133137A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film forming
alignment film
substrate
liquid
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010285318A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5693943B2 (en
JP2012133137A5 (en
Inventor
Yukinobu Nishibe
幸伸 西部
Akinori Iso
明典 磯
Shinji Kajiwara
慎二 梶原
Koichi Masuda
浩一 増田
Masahiko Kurosawa
雅彦 黒澤
Takashi Kato
貴士 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Mechatronics Corp filed Critical Shibaura Mechatronics Corp
Priority to JP2010285318A priority Critical patent/JP5693943B2/en
Publication of JP2012133137A publication Critical patent/JP2012133137A/en
Publication of JP2012133137A5 publication Critical patent/JP2012133137A5/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5693943B2 publication Critical patent/JP5693943B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the quantity of spreading of an alignment film outside a film formation region on a substrate.SOLUTION: In coating a film formation region on a substrate with an alignment film forming liquid, when the substrate in which the film formation region has a high lyophilic property with respect to a surface outside the film formation region is placed on a stage, a moving device for relatively moving a coating head and the stage and the coating head are controlled so as to make droplets of the alignment film forming liquid be discharged from a nozzle of the coating head so that the droplets of the alignment film forming liquid are applied to the film formation region in a set arrangement pattern.

Description

本発明は、基板上の膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置および塗布方法に関する。   The present invention relates to an alignment film forming liquid coating apparatus and a coating method for applying an alignment film forming liquid to a film forming region on a substrate.

液晶表示パネルの製造工程においては、ガラス基板の表面に配向膜を形成する配向膜形成プロセスがある。この配向膜形成プロセスによってガラス基板に配向膜を形成する際には、ガラス基板における膜形成領域が設けられた表面全域を紫外線照射などによって親液処理し、その後、インクジェット方式の塗布装置を用いてガラス基板の膜形成領域Rに向けて液滴状の配向膜形成液を塗布し、ガラス基板の膜形成領域に配向膜を形成するようにしている(特許文献1)。   In the manufacturing process of the liquid crystal display panel, there is an alignment film forming process for forming an alignment film on the surface of the glass substrate. When the alignment film is formed on the glass substrate by this alignment film formation process, the entire surface of the glass substrate where the film formation region is provided is treated with a lyophilic solution by ultraviolet irradiation or the like, and then an inkjet coating apparatus is used. A droplet-like alignment film forming liquid is applied toward the film formation region R of the glass substrate, and an alignment film is formed in the film formation region of the glass substrate (Patent Document 1).

特開2004−255316号公報JP 2004-255316 A

ところで、近年、ガラス基板における膜形成領域の外側の画像非表示領域、いわゆる、額縁領域の狭小化(狭額縁化)が一層進んでいる。   By the way, in recent years, the image non-display area outside the film formation area on the glass substrate, that is, the so-called frame area is becoming narrower (narrow frame).

そのため、膜形成領域外(額縁領域)への配向膜の広がりに対する許容量(エッジ精度)もより一層厳しく制限されつつある。   Therefore, the allowable amount (edge accuracy) with respect to the spread of the alignment film outside the film formation region (frame region) is becoming more severely limited.

しかしながら、上述の従来技術においては、膜形成領域外への配向膜の濡れ広がり量をコントロールすることに関しては充分とは言えず、対応が望まれていた。   However, in the above-described prior art, it cannot be said that the amount of wetting and spreading of the alignment film to the outside of the film formation region is sufficient, and a response has been desired.

本発明は、基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制することができる配向膜形成液の塗布装置および塗布方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a coating apparatus and a coating method for an alignment film forming liquid capable of suppressing the amount of the alignment film spreading outside the film formation region on the substrate.

本発明の実施形態に係る第1の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布して前記膜形成領域に配向膜を形成する配向膜形成装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第1の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第1の方向とは交差する第2の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板が前記ステージに載置されたとき、予め設定された配置パターンで前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域に対して塗布されるように、前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御する制御装置と
を備えることである。
A first feature according to an embodiment of the present invention is an alignment film forming apparatus in which an alignment film forming liquid is applied to a film formation region provided on a substrate to form an alignment film in the film formation region.
A stage on which the substrate is placed;
A coating head comprising a plurality of nozzles arranged along a first direction along a surface of the substrate placed on the stage where the film formation region is provided;
A moving device that scans and moves the stage and the coating head along a second direction that intersects the first direction along the surface;
When a substrate in which the film formation region is highly lyophilic with respect to the surface other than the film formation region is placed on the stage, droplets of the alignment film formation liquid are placed in a preset arrangement pattern. And a control device for controlling the moving device and the coating head so as to eject droplets of the alignment film forming liquid from the nozzle so as to be applied to the film forming region.

本発明の実施形態に係る第2の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布方法において、
前記基板の前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とし、
前記基板の表面に沿う第1の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと前記基板とを前記基板の表面に沿い前記第1の方向とは交差する第2の方向に沿って走査移動させながら、前記膜形成領域に対して設定された配置パターンで前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させ、前記膜形成領域に前記配向膜形成液の液滴を塗布することである。
A second feature according to the embodiment of the present invention is a method for applying an alignment film forming liquid in which an alignment film forming liquid is applied to a film forming region provided on a substrate.
Making the film forming region of the substrate highly lyophilic with respect to the surface other than the film forming region;
A coating head having a plurality of nozzles arranged along a first direction along the surface of the substrate and the substrate along a second direction along the surface of the substrate and intersecting the first direction. The liquid droplets of the alignment film forming liquid are ejected from the nozzles in the arrangement pattern set for the film forming area, and the liquid droplets of the alignment film forming liquid are applied to the film forming area. That is.

本発明によれば、基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制することができる。   According to the present invention, the amount of alignment film spreading out of the film formation region on the substrate can be suppressed.

本発明の第1の実施形態に係る配向膜形成プロセスの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the alignment film formation process which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図1に示す親液処理装置の概略構成を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of the lyophilic processing apparatus shown in FIG. 図1に示す塗布装置の概略構成を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of the coating device shown in FIG. 図3に示す塗布装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the coating device shown in FIG. 塗布装置の制御ブロック図である。It is a control block diagram of a coating device. 基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンを示す平面図である。It is a top view which shows the arrangement pattern of the droplet of alignment film formation liquid with respect to the film formation area on a board | substrate. 基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの塗布手順を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the application | coating procedure of the arrangement pattern of the droplet of alignment film formation liquid with respect to the film | membrane formation area on a board | substrate. 基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの他の例を示す平面図である。It is a top view which shows the other example of the arrangement pattern of the droplet of alignment film formation liquid with respect to the film formation area on a board | substrate. 基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの他の例の塗布手順を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the application | coating procedure of the other example of the arrangement pattern of the droplet of the alignment film formation liquid with respect to the film | membrane formation area on a board | substrate.

(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態について図面を用いて説明する。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

配向膜形成プロセスで用いられる配向膜形成装置1は、図1に示すように、液晶表示パネルの製造用のガラス基板(以下、単に「基板」)Wに親液処理を施す親液処理装置10、親液処理が施された基板上の膜形成領域Rに配向膜形成液を塗布する塗布装置20、膜形成領域Rに塗布された配向膜形成液を乾燥させる乾燥装置30を備えて構成される。   As shown in FIG. 1, an alignment film forming apparatus 1 used in an alignment film forming process is a lyophilic processing apparatus 10 that performs lyophilic processing on a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) W for manufacturing a liquid crystal display panel. And a coating device 20 for applying the alignment film forming liquid to the film forming region R on the lyophilic substrate, and a drying device 30 for drying the alignment film forming liquid applied to the film forming region R. The

なおここで、配向膜形成液は、例えば、溶質としてのポリイミドを含有する溶液である。また、基板Wは、配向膜形成領域Rを含めその表面全域に撥液性を有する。   Here, the alignment film forming liquid is, for example, a solution containing polyimide as a solute. Further, the substrate W has liquid repellency over the entire surface including the alignment film forming region R.

親液処理装置10は、図2に示すように、基板Wを載置するステージ11、ステージ11の上方に配置され、ステージ11に載置された基板Wの全面に紫外光を照射可能に設けられた光源12、ステージ11と光源12との間に配置されたマスク部材13を有して構成される。   As shown in FIG. 2, the lyophilic processing apparatus 10 is disposed on the stage 11 on which the substrate W is placed, and is provided above the stage 11 so that the entire surface of the substrate W placed on the stage 11 can be irradiated with ultraviolet light. And a mask member 13 disposed between the stage 11 and the light source 12.

ステージ11は、その上面の基板載置面11aに基板Wを平坦に保持可能である。このステージ11は、載置された基板Wを真空吸着や静電吸着等の吸着手段で吸着保持しても良いし、基板載置面11aと基板Wとの間の摩擦抵抗によって保持するようにしても良い。   The stage 11 can hold the substrate W flat on the substrate mounting surface 11a on the upper surface thereof. The stage 11 may hold the placed substrate W by suction means such as vacuum suction or electrostatic suction, or may be held by a frictional resistance between the substrate placement surface 11a and the substrate W. May be.

光源12は、長尺状の紫外線ランプを複数本平行に配置して構成されてなる。紫外線ランプは、例えば、エキシマUVランプを用いることが可能である。   The light source 12 is formed by arranging a plurality of long ultraviolet lamps in parallel. As the ultraviolet lamp, for example, an excimer UV lamp can be used.

マスク部材13は、ステージ11に載置された基板Wにおける膜形成領域Rに対向する部分が紫外線を透過可能に形成され、膜形成領域Rに対向しない他の部分が紫外線を遮光可能に形成された板状の部材である。このマスク部材13は、ステージ11に上方に、ステージ11に載置された基板Wの上面との間に数mm程度の間隔を隔てて配置されてなる。光源12から照射された紫外光は、このマスク部材12によって膜形成領域Rに対向しない部分で遮光され、膜形成領域Rのみに照射されることとなる。その結果、基板Wにおける膜形成領域Rの親液性が膜形成領域R以外の部分よりも高められる。   The mask member 13 is formed such that a portion of the substrate W placed on the stage 11 that faces the film forming region R can transmit ultraviolet rays, and another portion that does not face the film forming region R can shield ultraviolet rays. It is a plate-shaped member. The mask member 13 is arranged above the stage 11 and spaced from the upper surface of the substrate W placed on the stage 11 by a distance of about several millimeters. The ultraviolet light emitted from the light source 12 is shielded by the mask member 12 at a portion that does not face the film forming region R, and only the film forming region R is irradiated. As a result, the lyophilicity of the film forming region R in the substrate W is enhanced as compared with the portion other than the film forming region R.

なおここで、親液処理装置10に紫外光源を用いた紫外線処理の例で説明したが、膜形成領域Rを親液処理することができれば良いので、これに限らず、例えば、プラズマ処理やオゾン処理によるものであっても良い。   Here, the example of ultraviolet treatment using an ultraviolet light source is used for the lyophilic treatment apparatus 10, but it is sufficient that the film forming region R can be lyophilic treated. For example, plasma treatment or ozone is not limited thereto. It may be due to processing.

塗布装置20は、インクジェット方式の塗布装置で、架台21、架台21上にX軸方向移動装置22を介して矢印Xで示すX軸方向に沿って移動自在に支持された移動ステージ23、架台21上に、移動ステージ23の移動領域を跨ぐように設けられた門型の支持部材24、この支持部材24にY軸方向移動装置25を介して矢印Yで示すY軸方向に移動自在に支持された枠体26、この枠体26に支持された複数(本実施形態においては、3つ)のインクジェット方式の塗布ヘッド27、X軸方向移動装置22、Y軸方向移動装置25、塗布ヘッド27等の駆動を制御する制御装置28を有して構成される。   The coating device 20 is an inkjet type coating device, and includes a gantry 21, a stage 21, and a gantry 21 that are supported on the gantry 21 via an X-axis direction moving device 22 so as to be movable along the X-axis direction indicated by the arrow X. Above, a gate-shaped support member 24 provided so as to straddle the moving region of the moving stage 23, and supported by the support member 24 via a Y-axis direction moving device 25 so as to be movable in the Y-axis direction indicated by the arrow Y. Frame body 26, a plurality (three in this embodiment) of ink jet type coating heads 27 supported by the frame body 26, an X-axis direction moving device 22, a Y-axis direction moving device 25, a coating head 27, etc. And a control device 28 for controlling the driving of the motor.

X軸方向移動装置22は、リニアモータ式やボールネジ式の駆動源を備えた移動装置である。X軸方向移動装置22には、移動ステージ23のX軸方向における移動位置を検出するリニアスケール等の位置検出器22a(図5)が付随される。   The X-axis direction moving device 22 is a moving device provided with a linear motor type or ball screw type driving source. The X-axis direction moving device 22 is accompanied by a position detector 22a (FIG. 5) such as a linear scale that detects the moving position of the moving stage 23 in the X-axis direction.

移動ステージ23は、その上面を基板載置面23aとし、基板載置面23aに載置されて基板Wを真空吸着手段や静電吸着手段等の吸着手段によって吸着保持可能である。   The upper surface of the moving stage 23 is a substrate placement surface 23a, and the substrate W is placed on the substrate placement surface 23a and can be sucked and held by a suction means such as a vacuum suction means or an electrostatic suction means.

Y軸方向移動装置25は、リニアモータ式やボールネジ式の駆動源を備えた移動装置である。   The Y-axis direction moving device 25 is a moving device provided with a linear motor type or ball screw type drive source.

各塗布ヘッド27は、複数のノズルを直線状に等間隔で配列して設けている。そして、これら3つ塗布ヘッド27は、それぞれがY軸方向に沿い、かつ、各塗布ヘッド27のノズルの配列方向がY時方向に沿うように枠体26に支持される。また、3つ塗布ヘッド27は、図4に示すように、平面視において千鳥状に、そして、隣接する塗布ヘッド27同士の一部が重なるように配置することで、3つの塗布ヘッド27によって構成されるY方向に沿うノズル列の各ノズルの配置間隔が塗布ヘッド27間においても等間隔となるように設定されている。なお、3つの塗布ヘッド27によって構成されるノズル列の長さは、移送ステージ23に載置される基板WのY軸方向の長さよりも長くなるように設定される。すなわち、本実施形態では、塗布ヘッド27を3つ配列した例としたが、塗布ヘッド27の数は、1つの塗布ヘッド27のノズル列の長さと移送ステージ23に載置される基板WのY軸方向の長さとの関係に基づいて決定されるものであり、前記Y軸方向の長さがノズル列の長さの3倍以上であれば、配列する塗布ヘッド27の数は4つ以上となる。   Each coating head 27 is provided with a plurality of nozzles arranged in a straight line at equal intervals. The three coating heads 27 are supported by the frame body 26 so that each is along the Y-axis direction and the nozzle array direction of each coating head 27 is along the Y-hour direction. Further, as shown in FIG. 4, the three coating heads 27 are configured by the three coating heads 27 by arranging them in a staggered manner in a plan view so that a part of the coating heads 27 adjacent to each other overlap. The arrangement interval of the nozzles in the nozzle row along the Y direction is set to be equal between the application heads 27. The length of the nozzle row constituted by the three coating heads 27 is set to be longer than the length of the substrate W placed on the transfer stage 23 in the Y-axis direction. That is, in the present embodiment, three coating heads 27 are arranged, but the number of coating heads 27 is the length of the nozzle row of one coating head 27 and the Y of the substrate W placed on the transfer stage 23. If the length in the Y-axis direction is three times or more than the length of the nozzle row, the number of coating heads 27 to be arranged is four or more. Become.

各塗布ヘッド27は、周知の構成のピエゾ方式のインクジェット塗布ヘッドであり、各ノズルに対応して液室とピエゾ素子(圧電素子)を備えており、ピエゾ素子の伸縮に伴う液室の容積変化を利用して液室内の液(配向膜形成液)をノズルから液滴として吐出させる。ピエゾ素子は、印加される電圧の大きさに対応する大きさの変形を生じるので、ピエゾ素子に印加する電圧の大きさを調整することでノズルから吐出させる液滴の量を調整することが可能である。   Each coating head 27 is a piezo-type inkjet coating head having a well-known configuration, and includes a liquid chamber and a piezoelectric element (piezoelectric element) corresponding to each nozzle. The volume change of the liquid chamber accompanying expansion and contraction of the piezoelectric element. The liquid in the liquid chamber (alignment film forming liquid) is ejected as droplets from the nozzle. The piezo element deforms with a magnitude corresponding to the magnitude of the applied voltage, so the amount of droplets ejected from the nozzle can be adjusted by adjusting the magnitude of the voltage applied to the piezo element. It is.

制御装置28は、図5に示すように、X軸方向移動装置22、Y軸方向移動装置25および各塗布ヘッド27に接続されている。また、制御装置28は、配向膜形成液の塗布に関する塗布情報や各種プログラムを記憶する記憶部28aを備える。ここで、塗布情報は、膜形成領域Rに塗布する液滴の配置パターン、塗布ヘッド27の各ピエゾ素子に印加する駆動電圧の大きさ、印加時間および印加間隔(吐出周波数)、移動ステージ23の移動速度に関する情報を含んでいる。なお、駆動電圧の大きさを変更することにより、ノズルから吐出される液滴の量(吐出量)を調整することが可能である。また、吐出周波数や移動ステージ23の移動速度を変更することにより、基板W上で移動ステージ23の移動方向(X軸方向)に並ぶ液滴の間隔を調整することができる。   As shown in FIG. 5, the control device 28 is connected to the X-axis direction moving device 22, the Y-axis direction moving device 25, and each coating head 27. The control device 28 also includes a storage unit 28a that stores application information and various programs related to the application of the alignment film forming liquid. Here, the application information includes the arrangement pattern of droplets applied to the film forming region R, the magnitude of the drive voltage applied to each piezo element of the application head 27, the application time and application interval (ejection frequency), and the movement stage 23. Contains information about speed of movement. Note that by changing the magnitude of the drive voltage, it is possible to adjust the amount of droplets ejected from the nozzle (ejection amount). Further, by changing the ejection frequency and the moving speed of the moving stage 23, the interval between the droplets arranged in the moving direction (X-axis direction) of the moving stage 23 on the substrate W can be adjusted.

ここで、図6を用いて膜形成領域Rに塗布する液滴の配置パターンの一例を説明する。   Here, an example of an arrangement pattern of droplets applied to the film forming region R will be described with reference to FIG.

図6は、基板Wに形成された一つ分の膜形成領域Rを表したもので、膜形成領域Rを実線で示し、基板Wを切断して得られる液晶表示パネルの外形Sを二点鎖線で示している。また、図6中に示す白円部分は、配向膜形成液の液滴の滴下位置を表す。   FIG. 6 shows one film formation region R formed on the substrate W. The film formation region R is indicated by a solid line, and two outlines S of a liquid crystal display panel obtained by cutting the substrate W are shown in FIG. Shown with a chain line. Moreover, the white circle part shown in FIG. 6 represents the dripping position of the droplet of alignment film formation liquid.

液滴の配置パターンPは、矩形状の膜形成領域R内を埋め尽くすように膜形成領域Rの各辺に沿う行方向および列方向に所定の配置間隔で設定される。行方向、列方向での液滴の配置間隔は、塗布された液滴が膜形成領域R上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することができるような大きさに設定する。なお、本実施形態においては、図4に示すように、基板W上にX軸方向に5つ、Y軸方向に3つの合計15個の膜形成領域Rが設けられている。そのため、制御装置28の記憶部には、各膜形成領域Rに対応する液滴の配置パターンPの描画位置情報が、基板W上の所定のポイントを基準とするXY軸方向の位置情報として記憶されている。   The droplet arrangement pattern P is set at predetermined arrangement intervals in the row and column directions along each side of the film formation region R so as to fill the rectangular film formation region R. The arrangement interval of the liquid droplets in the row direction and the column direction is such that the applied liquid droplets wet and spread on the film formation region R, so that adjacent liquid droplets adhere to each other and are integrated to form a film. Set the size so that In the present embodiment, as shown in FIG. 4, a total of 15 film forming regions R, five in the X-axis direction and three in the Y-axis direction, are provided on the substrate W. Therefore, in the storage unit of the control device 28, the drawing position information of the droplet arrangement pattern P corresponding to each film forming region R is stored as position information in the XY axis directions with reference to a predetermined point on the substrate W. Has been.

乾燥装置30は、基板Wの膜形成領域Rに塗布された配向膜形成液から溶媒成分を除去するもので、溶媒成分の除去手段としては加熱乾燥または減圧乾燥を用いることができる。   The drying apparatus 30 removes the solvent component from the alignment film forming liquid applied to the film forming region R of the substrate W, and heat drying or reduced pressure drying can be used as the solvent component removing means.

次に、作動について説明する。   Next, the operation will be described.

まず、基板Wは、不図示の搬送ロボット等により搬送されて、親液処理装置10のステージ11上に載置される。   First, the substrate W is transported by a transport robot (not shown) and placed on the stage 11 of the lyophilic processing apparatus 10.

基板Wがステージ11上に載置されると、光源12が予め設定された時間の間点灯され、これにより基板Wの表面に向けて紫外光が照射される。光源12から照射された紫外光は、マスク部材13によって基板W上の膜形成領域R以外の領域に対向する部分で遮られ、膜形成領域Rにのみ照射される。これによって、膜形成領域Rは、それ以外の領域に比べ親液性が向上される。   When the substrate W is placed on the stage 11, the light source 12 is turned on for a preset time, whereby ultraviolet light is irradiated toward the surface of the substrate W. The ultraviolet light irradiated from the light source 12 is blocked by the mask member 13 at a portion facing the region other than the film forming region R on the substrate W, and is irradiated only to the film forming region R. As a result, the lyophilicity of the film forming region R is improved as compared to other regions.

親液処理が施された基板Wは、親液処理装置10と塗布装置20の間に設けられた不図示の受け渡しロボットによって、塗布装置20に移送され、塗布装置20の移動ステージ23上に載置される。   The substrate W that has been subjected to the lyophilic treatment is transferred to the coating device 20 by a delivery robot (not shown) provided between the lyophilic processing device 10 and the coating device 20, and placed on the moving stage 23 of the coating device 20. Placed.

移動ステージ23上に基板Wが載置されると、不図示の基板位置検出装置を用いて基板Wの位置検出が行なわれ、移動ステージ23上に載置された基板Wの基準位置に対する位置ずれが求められる。基板Wの位置ずれが検出された場合には、例えは、移動ステージ23に設けられた不図示の回転テーブルによって基板Wの角度ずれを補正し、Y軸方向の位置ずれをY軸方向移動装置25によって塗布ヘッド27をY軸方向に移動させることで補正する。X軸方向の位置ずれは、制御装置28の記憶部に記憶された配置パターンPの描画位置情報のうちX軸方向の位置情報を位置ずれ分だけずらすことで補正する。   When the substrate W is placed on the moving stage 23, the position of the substrate W is detected using a substrate position detecting device (not shown), and the position of the substrate W placed on the moving stage 23 is shifted from the reference position. Is required. When the positional deviation of the substrate W is detected, for example, the angular deviation of the substrate W is corrected by a rotary table (not shown) provided on the moving stage 23, and the positional deviation in the Y-axis direction is corrected by the Y-axis direction moving device. 25, the coating head 27 is corrected by moving it in the Y-axis direction. The positional deviation in the X-axis direction is corrected by shifting the positional information in the X-axis direction among the drawing position information of the arrangement pattern P stored in the storage unit of the control device 28 by the positional deviation.

次いで、制御装置28の制御によって、移動ステージ23が設定された移動速度で図3において実線で示す位置からX軸方向左側に向けて移動を開始する。この移動ステージ23のX軸方向移動によって、移動ステージ23上に載置された基板Wが塗布ヘッド27の下方を通過するとき、各塗布ヘッド27のノズルからは制御装置28の制御に基づいて、記憶部に記憶された塗布情報によって設定された吐出量と吐出周波数で配向膜形成液の液滴が吐出される。   Next, under the control of the control device 28, the moving stage 23 starts moving from the position indicated by the solid line in FIG. 3 toward the left side in the X-axis direction at the set moving speed. When the substrate W placed on the moving stage 23 passes under the coating head 27 by the movement of the moving stage 23 in the X-axis direction, the nozzles of the coating heads 27 are controlled based on the control of the control device 28. Droplets of the alignment film forming liquid are discharged at a discharge amount and a discharge frequency set by the application information stored in the storage unit.

すなわち、移動ステージ23の移動中、X軸方向移動装置22に付随して設けられた位置検出器22aによって移動ステージ23の移動位置が検出される。制御装置28は、位置検出器22aによって検出された移動位置、記憶部28aに記憶された各配置パターンの描画位置情報、並びに上記基板位置検出装置を用いて検出した基板Wの位置情報に基づいて、各塗布ヘッド27の個々のノズル位置と基板W上の各膜形成領域Rとの位置関係をリアルタイムで算出する。そして、移動ステージ23の移動に応じてリアルタイムで算出した前記位置関係に基づいて、各膜形成領域Rが個々のノズルの下を通過するタイミングに合せて記憶部28aに記憶された駆動電圧、印加時間でノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させ、記憶部28aに記憶された配置パターンに従ったパターンで膜形成領域Rに配向膜形成液の液滴を塗布する。   That is, during the movement of the moving stage 23, the moving position of the moving stage 23 is detected by the position detector 22 a provided along with the X-axis direction moving device 22. The control device 28 is based on the movement position detected by the position detector 22a, the drawing position information of each arrangement pattern stored in the storage unit 28a, and the position information of the substrate W detected using the substrate position detection device. The positional relationship between each nozzle position of each coating head 27 and each film formation region R on the substrate W is calculated in real time. Then, based on the positional relationship calculated in real time according to the movement of the moving stage 23, the drive voltage and application stored in the storage unit 28a in accordance with the timing at which each film forming region R passes under each nozzle. The droplets of the alignment film forming liquid are discharged from the nozzles over time, and the alignment film forming liquid droplets are applied to the film forming region R in a pattern according to the arrangement pattern stored in the storage unit 28a.

これによって、図6に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴が塗布されることとなる。このようにして塗布された配向膜形成液の液滴は、親液化された膜形成領域R上で濡れ広がり、互いに付着し合って一体化し、膜形成領域R上に配向膜形成液の液膜を形成する。   As a result, the droplets of the alignment film forming liquid are applied in the arrangement pattern shown in FIG. The liquid droplets of the alignment film forming liquid applied in this manner wet and spread on the lyophilic film forming region R, adhere to each other, and are integrated to form a liquid film of the alignment film forming liquid on the film forming region R. Form.

このとき、配置パターンにおける最外周に塗布された各液滴は、濡れ広がりにより膜形成領域Rの外側の領域にまで広がろうとするが、膜形成領域Rの外側の領域は親液処理が施されていないことから、膜形成領域R内に比べて撥液性が高く、そのため、膜形成領域Rとその外側領域との境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制される。   At this time, each droplet applied to the outermost periphery in the arrangement pattern tends to spread to the region outside the film formation region R due to wetting and spreading, but the region outside the film formation region R is subjected to lyophilic treatment. Therefore, the liquid repellency is higher than that in the film formation region R, and therefore, the spread of the alignment film formation liquid is suppressed at the boundary between the film formation region R and the outer region.

移動ステージ23が、図3に二点鎖線で示す、X軸方向左端の移動端に到達すると、X軸方向移動装置22による移動ステージ23の移動が停止される。   When the moving stage 23 reaches the moving end at the left end in the X-axis direction indicated by a two-dot chain line in FIG. 3, the movement of the moving stage 23 by the X-axis direction moving device 22 is stopped.

移動ステージ23が停止されたならば、配向膜形成液が塗布された基板Wは、塗布装置20と乾燥装置30の間に設けられた不図示の受け渡しロボットによって、乾燥装置30に移送される。   If the moving stage 23 is stopped, the substrate W coated with the alignment film forming liquid is transferred to the drying device 30 by a delivery robot (not shown) provided between the coating device 20 and the drying device 30.

乾燥装置30に移送された基板Wは、加熱乾燥または減圧乾燥によって配向膜形成液中の溶媒成分が除去されることで、乾燥固化される。これにより、基板W上には配向膜が形成される。   The substrate W transferred to the drying device 30 is dried and solidified by removing the solvent component in the alignment film forming liquid by heat drying or drying under reduced pressure. Thereby, an alignment film is formed on the substrate W.

本実施形態によれば、塗布装置20に移動ステージ23に、親液処理装置10によって各膜形成領域Rに親液処理が施された基板Wが載置され、この基板W上の各膜形成領域Rには制御装置28の制御によって記憶部28aに記憶された配置パターンで配向膜形成液の液滴が塗布される。各膜形成領域Rに塗布された配向膜形成液の液滴は、それぞれ濡れ広がり、互いに付着し合って一体化して膜を形成するとともに、その最外周においては膜形成領域Rの外側の画像非表示領域、いわゆる、額縁領域Gにまで広がろうとする。しかしながら、額縁領域Gには親液処理が施されていないことから、膜形成領域R内に比べて撥液性が高く、そのため、額縁領域Gの撥液性により膜形成領域Rと額縁領域Gとの境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制される。これにより、額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりを抑えることが可能となり、額縁領域Gにおける配向膜形成液の広がりを考慮した余白部を狭くすることができる。このため、額縁領域G自体の狭小化が可能となり、ひいては、液晶表示パネルの組み込みスペースの省スペース化を図ることができる。また、上述したように、膜形成領域Rと額縁領域Gとの境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制されるため、液の広がりによる膜厚の低下が抑えられ、膜形成領域Rの外周部において配向膜形成液の膜の厚さが薄くなることが防止される。これにより、膜形成領域Rの外周部においても配向膜形成液の膜厚の均一性を保つことができ、良好な表示品質の液晶表示パネルを得ることができる。
(第2の実施形態)
第2の実施形態は、上述の第1の実施形態と、図6に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順が異なる。なお、配向膜形成装置1の構成は、第1の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
According to the present embodiment, the substrate W that has been subjected to lyophilic processing in each film forming region R by the lyophilic processing apparatus 10 is placed on the moving stage 23 in the coating apparatus 20, and each film formation on the substrate W is formed. In the region R, the droplets of the alignment film forming liquid are applied in the arrangement pattern stored in the storage unit 28 a under the control of the control device 28. The droplets of the alignment film forming liquid applied to each film forming region R spread out and adhere to each other to form a film, and at the outermost periphery, an image non-image outside the film forming region R is formed. An attempt is made to extend to the display area, so-called frame area G. However, since the frame region G is not subjected to lyophilic treatment, the liquid repellency is higher than that in the film formation region R. Therefore, due to the liquid repellency of the frame region G, the film formation region R and the frame region G The spread of the alignment film forming liquid is suppressed at the boundary portion. Accordingly, it is possible to suppress the spread of the alignment film forming liquid to the frame region G, and it is possible to narrow the blank portion in consideration of the spread of the alignment film forming liquid in the frame region G. For this reason, the frame region G itself can be narrowed, and as a result, the space for incorporating the liquid crystal display panel can be saved. In addition, as described above, since the spread of the alignment film forming liquid is suppressed at the boundary portion between the film forming region R and the frame region G, a decrease in film thickness due to the spread of the liquid is suppressed, and the outer periphery of the film forming region R Thus, it is possible to prevent the thickness of the alignment film forming liquid from being reduced. Thereby, the uniformity of the film thickness of the alignment film forming liquid can be maintained even in the outer peripheral portion of the film forming region R, and a liquid crystal display panel with good display quality can be obtained.
(Second Embodiment)
The second embodiment is different from the above-described first embodiment in the procedure for applying the alignment film forming liquid droplets in the arrangement pattern shown in FIG. Note that the configuration of the alignment film forming apparatus 1 is the same as that of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

上述の第1の実施形態においては、移動テーブル23の1回の移動、すなわち、1回の走査移動で膜形成領域R内に設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布するようにしたが、第2の実施形態では、2回の走査塗布で図6に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する。図7は、図6と同じ配置パターンであり、2回の走査塗布によって配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順を示したものである。   In the first embodiment described above, the droplets of the alignment film forming liquid are applied with the arrangement pattern set in the film forming region R by one movement of the moving table 23, that is, one scanning movement. However, in the second embodiment, the droplets of the alignment film forming liquid are applied in the arrangement pattern shown in FIG. FIG. 7 shows the same arrangement pattern as in FIG. 6 and shows the procedure for applying the alignment film forming liquid droplets in the arrangement pattern by two scanning applications.

まず、移動テーブル23の1回目の移動、すなわち、1回目の走査移動時には、記憶部28aに記憶された配置パターンにおける最外周に沿って配列された1列分の塗布位置(図7において斜線を付して示した液滴の塗布位置(第1のパターン))に対して液滴の塗布を行なう。   First, at the time of the first movement of the movement table 23, that is, the first scanning movement, the application positions for one row arranged along the outermost periphery in the arrangement pattern stored in the storage unit 28a (indicated by the diagonal lines in FIG. 7). The liquid droplets are applied to the liquid droplet application position (first pattern).

次いで、移動テーブル23の2回目の移動、すなわち、2回目の走査移動時には、最外周に沿って配列された1列分の塗布位置よりも内側に位置する全ての塗布位置(第2のパターン)に対して液滴の塗布を行なう。   Next, at the time of the second movement of the moving table 23, that is, the second scanning movement, all application positions (second patterns) positioned on the inner side of the application position for one row arranged along the outermost periphery. A droplet is applied to the surface.

1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴は、2回目の走査移動時に配向膜形成液の液滴が塗布されるまでの間に、濡れ広がって隣接する液滴同士が付着し合い環状の液膜を形成する。このとき、上述の第1の実施形態と同様に、液滴が額縁領域Gへ広がろうとするが、膜形成領域Rと額縁領域Gとの親液性の差により広がりが抑制される。また、1回目の走査移動時に塗布される配向膜形成液の液滴は、最外周に沿って配列された1列分の塗布位置に塗布された液滴だけで構成されるため、膜形成領域R全体に塗布される第1の実施形態に比べて液膜を構成する配向膜形成液の総量が少なく、配向膜形成液が額縁領域Gへ広がろうとする作用が小さい。そのため、第1の実施形態よりも額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりが少なくて済む。   The liquid droplets of the alignment film forming liquid applied during the first scanning movement are wet spread before the liquid droplets of the alignment film forming liquid are applied during the second scanning movement, and adjacent liquid droplets adhere to each other. A ring-shaped liquid film is formed. At this time, as in the first embodiment described above, the droplets try to spread to the frame region G, but the spread is suppressed by the lyophilic difference between the film formation region R and the frame region G. In addition, since the droplets of the alignment film forming liquid applied during the first scanning movement are composed only of the droplets applied at the application position for one row arranged along the outermost periphery, the film forming region Compared to the first embodiment applied to the entire R, the total amount of the alignment film forming liquid constituting the liquid film is small, and the action of the alignment film forming liquid to spread to the frame region G is small. Therefore, the spread of the alignment film forming liquid into the frame region G is less than that in the first embodiment.

2回目の走査移動時には、1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴によって形成された環状の膜の内側領域に配向膜形成液の液滴が塗布される。このとき、1回目の走査移動時と2回目の走査移動時との間には時間差があるので、この間に1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液中の溶媒成分が揮発し、1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液、すなわち、環状の液膜を構成する配向膜形成液の粘度は、2回目の走査移動によって塗布された時点での配向膜形成液の粘度よりも増加する。そのため、2回目の走査移動によって塗布された配向膜形成液の液滴が濡れ広がって前記環状の液膜に付着したとしても、この環状の液膜を構成する配向膜形成液はその粘度の増加によって広がり難くなっているため、環状の液膜が堰となり、額縁領域Gへさらに配向膜形成液が広がることが防止できる。したがって、上述のような手順で塗布することによって、第1の実施形態よりも額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりを一層抑えることが可能となる。
(第3の実施形態)
第3の実施形態は、上述の第1の実施形態と、膜形成領域Rに対して設定された配向膜形成液の液滴の配置パターンが異なる。なお、配向膜形成装置1の構成や膜形成領域Rに対して設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順は、第1の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
During the second scanning movement, the alignment film forming liquid droplets are applied to the inner region of the annular film formed by the alignment film forming liquid droplets applied during the first scanning movement. At this time, since there is a time difference between the first scanning movement and the second scanning movement, the solvent component in the alignment film forming liquid applied during the first scanning movement volatilizes during this time. The viscosity of the alignment film forming liquid applied during the second scanning movement, that is, the viscosity of the alignment film forming liquid constituting the annular liquid film is higher than the viscosity of the alignment film forming liquid when applied by the second scanning movement. To increase. Therefore, even if the droplet of the alignment film forming liquid applied by the second scanning movement spreads and adheres to the annular liquid film, the alignment film forming liquid constituting the annular liquid film increases in viscosity. Therefore, the annular liquid film becomes a weir and it is possible to prevent the alignment film forming liquid from further spreading to the frame region G. Therefore, by applying in the above-described procedure, it is possible to further suppress the spread of the alignment film forming liquid to the frame region G than in the first embodiment.
(Third embodiment)
The third embodiment is different from the first embodiment described above in the arrangement pattern of the droplets of the alignment film forming liquid set for the film forming region R. The configuration of the alignment film forming apparatus 1 and the procedure of applying the alignment film forming liquid droplets in the arrangement pattern set for the film forming region R are the same as those in the first embodiment, and the description thereof is as follows. Omitted.

図8に示すように、第3の実施形態における配向膜形成液の液滴の配置パターンは、最外周に沿って配列された1列分の塗布位置が膜形成領域Rの外側である額縁領域G上に設定される。なお、図8に示す配置パターンにおける行方向、列方向での液滴の配置間隔が、塗布された液滴が膜形成領域R上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することが可能な大きさで設定されている点も第1の実施形態と同様である。なお、第3の実施形態においては、膜形成領域Rよりも撥液性の高い、つまり、配向膜形成液が濡れ広がり難い(濡れ広がりが弱い)、額縁領域G上にも配向膜形成液の液滴を滴下する。そのため、この額縁領域G上においても隣接する液滴同士が付着し合えるように、図6に示す配置パターンよりも行列方向の配置間隔が狭く、また、1滴の液滴量が少なく設定される。ここで、1滴の液滴量を少なく設定するのは、位面積当たりの塗布量を第1の実施形態と同等にするためである。単位面積当たりの塗布量は、1滴の液滴量が一定であれば、液滴の行列方向の配置間隔が密になるほど増加する。したがって、単位面積当たりの塗布量を一定とする場合、液滴の行列方向の配置間隔を狭くした分、1滴の液滴量を少なくする必要がある。   As shown in FIG. 8, the arrangement pattern of the alignment film forming liquid droplets in the third embodiment is a frame region in which the coating position for one row arranged along the outermost periphery is outside the film forming region R. Set on G. In the arrangement pattern shown in FIG. 8, the arrangement interval of the droplets in the row direction and the column direction is such that the applied droplets wet and spread on the film forming region R, so that adjacent droplets adhere to each other. It is the same as that of the first embodiment in that the size is set so that the film can be integrally formed. In the third embodiment, the liquid-repellent property is higher than that of the film formation region R, that is, the alignment film formation liquid is difficult to spread (wet spread is weak). Drop a droplet. For this reason, the arrangement interval in the matrix direction is narrower than the arrangement pattern shown in FIG. 6 and the amount of one droplet is set to be smaller than the arrangement pattern shown in FIG. . Here, the reason for setting the amount of one droplet to be small is to make the coating amount per unit area equal to that in the first embodiment. The coating amount per unit area increases as the arrangement interval of the droplets in the matrix direction becomes dense if the droplet amount of one droplet is constant. Therefore, when the coating amount per unit area is made constant, it is necessary to reduce the amount of one droplet by reducing the arrangement interval of the droplets in the matrix direction.

また、額縁領域G上に滴下する液滴の配置位置は、額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりに対する許容量に応じて決定する。例えば、広がりに対する許容量が膜形成領域Rの外周から1mmである場合、配向膜形成液の液滴が額縁領域G上に滴下されて弱い濡れ広がりで濡れ広がったときでも、配向膜形成液の濡れ広がりが膜形成領域Rの外周から1mm以内となるような額縁領域G上の位置に液滴の配置位置を設定する。   In addition, the arrangement position of the droplets dropped on the frame region G is determined according to an allowable amount with respect to the spread of the alignment film forming liquid to the frame region G. For example, when the tolerance for spreading is 1 mm from the outer periphery of the film forming region R, even when the droplet of the alignment film forming liquid is dropped on the frame region G and spreads with a weak wetting spread, the alignment film forming liquid The droplet placement position is set at a position on the frame region G such that the wetting spread is within 1 mm from the outer periphery of the film formation region R.

このような配置パターンに設定した場合、配置パターンにおける最外周に沿って配列された1列分の塗布位置に塗布された配向膜形成液の液滴は、額縁領域G上に塗布される。   When such an arrangement pattern is set, the alignment film forming liquid droplets applied to the application position for one row arranged along the outermost periphery in the arrangement pattern are applied onto the frame region G.

この額縁領域Gは、親液処理が施されていないので、膜形成領域R内に比べて撥液性が高い。そのため、額縁領域Gに塗布された配向膜形成液の液滴は、互いに付着し合って一体化するものの、額縁領域Gの撥液性により膜形成領域Rに比べて濡れ広がり難く、その濡れ広がりは、許容される範囲内に抑えられる。一方、膜形成領域R内に塗布された配向膜形成液の液滴は、親液処理された表面上で良好に濡れ広がって、第1の実施形態と同様に互いに付着し合って膜を形成する。そして、このようにして濡れ広がった膜形成領域R内の液滴は額縁領域G上の液滴と一体化して一つの液膜を形成する。   Since the frame region G is not subjected to lyophilic treatment, the frame region G has higher liquid repellency than the film forming region R. Therefore, the droplets of the alignment film forming liquid applied to the frame region G adhere to each other and are integrated, but the liquid repellent property of the frame region G makes it difficult to spread and wet compared to the film forming region R. Is kept within an allowable range. On the other hand, the droplets of the alignment film forming liquid applied in the film forming region R spread well on the lyophilic-treated surface and adhere to each other to form a film as in the first embodiment. To do. Then, the droplets in the film formation region R wetted and spread in this way are integrated with the droplets on the frame region G to form one liquid film.

このようにして形成された配向膜形成液の膜の外周部分は、膜形成領域R内に比べて撥液性が高い額縁領域G上にあるので、第1の実施形態と同様に、額縁領域Gの撥液性により配向膜形成液の広がりが抑えられることから、第1の実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
(第4の実施形態)
第4の実施形態は、第3の実施形態における図8に示した配置パターンに、第2の実施形態の塗布手順を適用したものである。
Since the outer peripheral portion of the alignment film forming liquid formed in this way is on the frame region G having higher liquid repellency than in the film forming region R, the frame region is the same as in the first embodiment. Since the spread of the alignment film forming liquid is suppressed by the liquid repellency of G, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.
(Fourth embodiment)
In the fourth embodiment, the application procedure of the second embodiment is applied to the arrangement pattern shown in FIG. 8 in the third embodiment.

すなわち、1回の走査移動時には、額縁領域G上に設定された、配置パターンにおける最外周に沿って配列された1列分の塗布位置に対して液滴の塗布を行ない、2回目の走査移動時には、膜形成領域R内に位置する、配置パターンにおける残りの塗布位置に対して液滴の塗布を行なう。   That is, at the time of one scanning movement, a droplet is applied to the coating position for one column arranged on the frame area G along the outermost periphery in the arrangement pattern, and the second scanning movement is performed. Sometimes, droplets are applied to the remaining application positions in the arrangement pattern located in the film formation region R.

このようにした場合においても、第2の実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。   Even in this case, it is possible to obtain the same effect as that of the second embodiment.

なお、上述の実施形態において、基板Wの表面全域が撥液性を有するものとし、膜形成領域Rにのみ親液処理を施すことで膜形成領域Rと額縁領域Gとの間に親液性の差を設けるようにしたが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Rに親液処理を施して額縁領域Gに撥液処理を施すようにしても良く、額縁領域Gにのみ撥液処理を施すようにしても良い。なお、撥液処理は、蒸着法、スパッタリング法、CVD法などによってシリコーン系撥液膜、フッ素含有系撥液膜等を額縁領域G上に形成する方法を採用することができる。また、配向膜の形成後、撥液膜は除去しても良いし、液晶表示パネルの表示品質上問題がなければ残しておいても良い。   In the above-described embodiment, the entire surface of the substrate W has lyophobic properties, and lyophilic treatment is performed only on the film forming region R so that the lyophilic property is formed between the film forming region R and the frame region G. However, the present invention is not limited to this. For example, the film formation region R may be subjected to lyophilic treatment and the frame region G may be subjected to lyophobic treatment. A liquid repellent treatment may be performed. For the liquid repellent treatment, a method of forming a silicone-based liquid repellent film, a fluorine-containing liquid repellent film, or the like on the frame region G by vapor deposition, sputtering, CVD, or the like can be employed. Further, after the formation of the alignment film, the liquid repellent film may be removed, or may be left if there is no problem in the display quality of the liquid crystal display panel.

また、上述の第2の実施形態において、1回目の走査移動時に、配置パターンにおける最外周に沿って配列された1列分の塗布位置に対して配向膜形成液の液滴の塗布を行なうようにしたが、これに限られるものではなく、外周に位置する2列分以上の塗布位置に対して塗布を行なうようにしても良い。1回目の走査移動時に、外周に位置する何列分に対して液滴の塗布を行なうようにするかは、膜形成領域Rの外周縁と膜形成領域R内における液晶表示パネルの画像表示に用いられる領域(有効表示領域)の外周縁との差に基づいて決定すればよい。すなわち、1回目の走査移動時に塗布される何列分かの液滴が膜形成領域Rの外周縁と有効表示領域の外周縁との間に収まれば良い。例えば、配置パターンにおける行列方向における配置間隔がそれぞれ0.5mmずつで、膜形成領域Rの外周縁と有効表示領域の外周縁との間の距離が0.7mmであればその間には1列分の塗布位置しか設定できないので、1回目の走査移動時に塗布される液滴は1列分となる。また、配置パターンにおける行列方向における配置間隔がそれぞれ0.5mmずつで、膜形成領域Rの外周縁と有効表示領域の外周縁との間の距離が1.4mmであればその間には2列分の塗布位置か設定できるので、1回目の走査移動時に塗布される液滴は2列分とすることができる。   Further, in the second embodiment described above, at the time of the first scanning movement, the droplet of the alignment film forming liquid is applied to the application position for one row arranged along the outermost periphery in the arrangement pattern. However, the present invention is not limited to this, and the coating may be performed on two or more rows of coating positions located on the outer periphery. The number of rows positioned on the outer periphery during the first scanning movement is determined by the liquid crystal display panel image display in the outer peripheral edge of the film forming region R and in the film forming region R. What is necessary is just to determine based on the difference with the outer periphery of the area | region (effective display area) used. That is, it is only necessary that several rows of droplets applied during the first scanning movement fall between the outer periphery of the film formation region R and the outer periphery of the effective display region. For example, if the arrangement interval in the matrix direction in the arrangement pattern is 0.5 mm each and the distance between the outer periphery of the film formation region R and the outer periphery of the effective display region is 0.7 mm, there is one column between them. Since only the application position can be set, the number of droplets applied during the first scanning movement is one row. Further, if the arrangement interval in the matrix direction in the arrangement pattern is 0.5 mm each and the distance between the outer periphery of the film formation region R and the outer periphery of the effective display region is 1.4 mm, there are two columns between them. Since the application position can be set, the number of droplets applied during the first scanning movement can be two rows.

また、上述の第2、第4の実施形態において、単一の配置パターンを2回の走査に分けて塗布するようにしたが、1回目の走査移動時と2回目の走査移動時とで個別に配置パターンを設定するようにしても良い。すなわち、1回目の走査移動時用の配置パターンとして矩形環状の液滴の配置パターンを設定し、2回目の走査移動時用の配置パターンとして前述の矩形環状の配置パターンの内側領域を埋める行列状の矩形配置パターンを設定するという具合である。このとき、矩形環状の配置パターンと矩形配置パターンとで、液滴の配置間隔を変えても良い。また、矩形配置パターンを矩形環状の配置パターンの内周側に重なるように設定しても良い。   Further, in the second and fourth embodiments described above, a single arrangement pattern is applied in two separate scans. However, the single arrangement pattern is separately applied during the first scan movement and during the second scan movement. An arrangement pattern may be set in That is, a rectangular annular droplet arrangement pattern is set as the arrangement pattern for the first scanning movement, and the inner area of the rectangular annular arrangement pattern is filled as the arrangement pattern for the second scanning movement. The rectangular arrangement pattern is set. At this time, the arrangement interval of the droplets may be changed between the rectangular annular arrangement pattern and the rectangular arrangement pattern. Further, the rectangular arrangement pattern may be set so as to overlap the inner peripheral side of the rectangular annular arrangement pattern.

例えば、第4の実施形態において図9に示した配置パターンにおいては、膜形成領域R上に設定する配置パターンを額縁領域G上に設定する配置パターンに比べて、行列方向の配置間隔を大きくするとともに各塗布位置に塗布する1滴の液滴量(吐出量)を多く、即ち、図6に示す配置パターンと同様の配置間隔、吐出量としても良い。このようにした場合、第4の実施形態に比べて、膜形成領域R内への液滴の塗布位置が少なくなるので、その分だけ膜形成領域R内に液滴を塗布するに要する時間を短縮することが可能となり、膜形成領域Rに対する配向膜形成液の液膜の形成を迅速に行なうことができる。   For example, in the arrangement pattern shown in FIG. 9 in the fourth embodiment, the arrangement interval in the matrix direction is made larger than the arrangement pattern set on the frame area G in the arrangement pattern set on the film formation area R. At the same time, the amount of droplets (discharge amount) applied to each application position is large, that is, the same arrangement interval and discharge amount as the arrangement pattern shown in FIG. In this case, since the number of droplet application positions in the film formation region R is smaller than that in the fourth embodiment, the time required for applying the droplets in the film formation region R is reduced accordingly. Therefore, the liquid film of the alignment film forming liquid can be rapidly formed on the film forming region R.

また、上述の第2、第4の実施形態において、1回目の走査移動時と2回目の走査移動時との間に待機時間を設定するようにしても良い。すなわち、1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴は、2回目の走査移動時に配向膜形成液の液滴が塗布されるまでの間に溶媒成分が揮発してその粘度が増加することとなるが、その粘度をコントロールする目的で待機時間を設定しても良い。例えば、2回目の走査移動によって配向膜形成液の液滴が塗布されるまでに、1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴の粘度をより増加させたい場合には、待機時間を長く設定するという具合である。このようにすることで、2回目の走査移動によって配向膜形成液の液滴が塗布された時点での、1回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の粘度を最適化することができる。そのため、2回の走査移動に分けて塗布された配向膜形成液の液滴同士がその境界においてムラが生じることと抑制し、かつ、額縁領域G上での配向膜形成液の拡がりを防止することが可能となる。   In the second and fourth embodiments described above, a waiting time may be set between the first scanning movement and the second scanning movement. That is, the liquid droplets of the alignment film forming liquid applied during the first scanning movement are volatilized by the solvent component until the liquid droplets of the alignment film forming liquid are applied during the second scanning movement. Although it will increase, a waiting time may be set for the purpose of controlling the viscosity. For example, when it is desired to increase the viscosity of the droplet of the alignment film forming liquid applied during the first scanning movement before the liquid droplet of the alignment film forming liquid is applied by the second scanning movement. The time is set longer. By doing so, it is possible to optimize the viscosity of the alignment film forming liquid applied during the first scanning movement at the time when the alignment film forming liquid droplets are applied by the second scanning movement. . Therefore, the alignment film forming liquid droplets applied in two scanning movements are restrained from causing unevenness at the boundary, and the spread of the alignment film forming liquid on the frame region G is prevented. It becomes possible.

また、上述の第2、第4の実施形態において、1回目の走査移動時と2回目の走査移動時とで、異なる粘度(または濃度)の配向膜形成液の液滴を吐出させるようにしても良い。例えば、2回目の走査移動時よりも1回目の走査移動時に吐出させる配向膜形成液の粘度を高くする。このようにすると、膜形成領域Rの外周に沿って塗布される液滴をそれよりも内側の領域に塗布される液滴よりも濡れ広がり難くできるので、膜形成領域Rに塗布された配向膜形成液が額縁領域Gに広がることをより効果的に抑制することが可能となる。なお、この場合、1回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔を2回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔よりも、粘度(または濃度)が高い分だけ小さく設定すると良い。すなわち、粘度が高くなると液滴が濡れ広がり難くなるので、隣接する液滴同士が付着し難くなる。そこで、配向膜形成液の粘度を高くした場合には、液滴の配置間隔を狭く設定することで隣接する液滴同士が確実に付着し合うようにすることができる。また、異なる粘度(または濃度)の配向膜形成液を塗布するために、塗布ヘッド27の組を2組設け、塗布する配向膜形成液の粘度(または濃度)に合せて使い分けるようにしても良い。   In the second and fourth embodiments described above, the alignment film forming liquid droplets having different viscosities (or concentrations) are ejected between the first scanning movement and the second scanning movement. Also good. For example, the viscosity of the alignment film forming liquid discharged during the first scanning movement is higher than that during the second scanning movement. In this way, since the droplets applied along the outer periphery of the film forming region R can be made less likely to spread than the droplets applied to the inner region, the alignment film applied to the film forming region R can be prevented. It becomes possible to more effectively suppress the formation liquid from spreading to the frame region G. In this case, the arrangement interval of the droplets applied during the first scanning movement is preferably set smaller than the arrangement interval of the droplets applied during the second scanning movement because the viscosity (or density) is higher. . That is, when the viscosity is increased, the droplets are difficult to spread and spread, so that adjacent droplets are difficult to adhere to each other. Therefore, when the viscosity of the alignment film forming liquid is increased, it is possible to ensure that adjacent droplets adhere to each other by narrowing the arrangement interval of the droplets. Also, in order to apply alignment film forming liquids having different viscosities (or concentrations), two sets of coating heads 27 may be provided and used in accordance with the viscosity (or concentration) of the alignment film forming liquid to be applied. .

また、上述の第2、第4の実施形態において、2回目の走査移動時の矩形配置パターンに対して1回目の走査移動時の矩形環状の配置パターンの配置間隔を狭く、1滴の液滴量(吐出量)を少なく、配向膜形成液の粘度を高く設定しても良い。   Further, in the second and fourth embodiments described above, the arrangement interval of the rectangular annular arrangement pattern at the first scanning movement is narrower than the rectangular arrangement pattern at the second scanning movement, and one droplet is dropped. The amount (discharge amount) may be small and the viscosity of the alignment film forming liquid may be set high.

このようにすると、次の作用効果が得られる。   In this way, the following effects can be obtained.

a.1回目の走査移動時に膜形成領域Rの外周に沿って塗布された液滴は、2回目の走査移動時に塗布される液滴よりも粘度が高く濡れ広がり難くいので、膜形成領域Rに塗布された配向膜形成液が額縁領域Gに広がることを効果的に抑制することが可能となる。   a. Since the droplet applied along the outer periphery of the film forming region R during the first scanning movement has a higher viscosity than the droplet applied during the second scanning movement and is difficult to spread, it is applied to the film forming region R. It is possible to effectively suppress the alignment film forming liquid thus formed from spreading into the frame region G.

b.粘度の高い1回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔を狭く設定しているので、高い粘度によって濡れ広がり難い状況下においても隣接する液滴同士を確実に接触させることができ、膜を良好に形成することができる。   b. Since the interval between the droplets applied during the first scanning movement with high viscosity is set narrow, adjacent droplets can be reliably brought into contact with each other even under conditions where wetting and spreading are difficult due to the high viscosity. Can be formed satisfactorily.

c.1回目の走査移動時に膜形成領域Rの外周に沿って塗布される液滴の1滴の液滴量(吐出量)を小さくし、その配置間隔も狭くした。そのため、基板Wの表面に塗布された液滴の直径が小さく、その配置間隔も狭くなる。これらの液滴は、互いに付着し合いそれぞれが円弧でつながって、配向膜形成液の液膜の外周部分を形成する。このとき、円弧を構成するそれぞれの液滴の直径は小さい(第2の走査移動時に塗布される液滴よりも)ため、つながった円弧によって液膜の外周に形成される波型の縁に生じる凹凸を小さなものとすることができる。そのため、形成される液膜の外周縁の直線性を向上(膜形成領域Rの外側への広がり量のバラツキを抑制)することが可能となる。その結果、液膜の膜形成領域Rの外側への広がり量をより制度良く管理することが可能となり、配向膜形成液が額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりをより効果的に抑制することが可能となる。よって、額縁領域の狭小化を確実ならしめることができ、液晶表示パネルの組み込みスペースの省スペース化へのより一層の貢献が可能となる。   c. The droplet amount (discharge amount) of one droplet applied along the outer periphery of the film forming region R during the first scanning movement was reduced, and the arrangement interval was also reduced. Therefore, the diameter of the droplet applied to the surface of the substrate W is small, and the arrangement interval is also narrowed. These droplets adhere to each other and are connected by a circular arc to form the outer peripheral portion of the liquid film of the alignment film forming liquid. At this time, since the diameter of each droplet constituting the arc is small (than the droplet applied during the second scanning movement), it is generated at the edge of the wave shape formed on the outer periphery of the liquid film by the connected arc. Unevenness can be made small. Therefore, it is possible to improve the linearity of the outer peripheral edge of the liquid film to be formed (suppressing variation in the amount of spread to the outside of the film formation region R). As a result, the spread amount of the liquid film to the outside of the film formation region R can be managed more systematically, and the alignment film formation liquid more effectively suppresses the spread of the alignment film formation liquid to the frame region G. It becomes possible. Therefore, the frame area can be made narrower, and it is possible to further contribute to the space saving of the installation space of the liquid crystal display panel.

また、また、上述の第3、第4の実施形態において、配置パターンにおける最外周に沿って配列された1列分の塗布位置を膜形成領域Rの外側である額縁領域G上に設定した例で説明したが、これに限られるものではなく、外周に位置する2列分以上の塗布位置を額縁領域G上に設定するようにしても良い。額縁領域G上に設定する塗布位置の列数(膜形成領域Rの外周に沿って配置される塗布位置を何重に配置するか)は、額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりに対する許容量に応じて決定すればよい。例えば、額縁領域Gへの配向膜形成液の広がりに対する許容量が2mmである場合、形成された配向膜形成液の液膜の外周端が膜形成領域Rの外周から2mm以内の範囲内に位置するように額縁領域G上に設定する塗布位置の列数を決定すれば良い。   In addition, in the third and fourth embodiments described above, an example in which the coating position for one row arranged along the outermost periphery in the arrangement pattern is set on the frame region G that is outside the film forming region R. However, the present invention is not limited to this, and two or more application positions on the outer periphery may be set on the frame region G. The number of rows of application positions set on the frame region G (how many application positions are arranged along the outer periphery of the film formation region R) depends on the allowance for the spread of the alignment film formation liquid to the frame region G. What is necessary is just to determine according to a capacity | capacitance. For example, when the allowable amount with respect to the spread of the alignment film forming liquid into the frame region G is 2 mm, the outer peripheral edge of the liquid film of the formed alignment film forming liquid is located within a range within 2 mm from the outer periphery of the film forming region R. Thus, the number of rows of application positions to be set on the frame area G may be determined.

また、上述の実施形態において、膜形成領域Rに対して設定する配置パターンを、矩形の膜形成領域Rの辺に沿う行列状の配置として例で説明したが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Rの辺に対して傾斜した行列状の配置でも良く、千鳥配置でも良い。   In the above-described embodiment, the arrangement pattern set for the film formation region R has been described as an example of a matrix arrangement along the sides of the rectangular film formation region R. However, the present invention is not limited to this. For example, a matrix arrangement inclined with respect to the sides of the film formation region R or a staggered arrangement may be used.

また、上述の実施形態において、塗布ヘッド27のノズルの配列方向をY軸方向(ステージに載置された基板における膜形成領域が設けられた表面に沿う第1の方向に対応)とし、移動ステージ23の移動方向をX軸方向(第1の方向とは交差する第2の方向に対応)として両方向が直交する例で説明したが、これに限られるものではなく、移動ステージ23の移動方向に対して、ノズルの配列方向が傾斜して配置されるようにしても良い。   In the above-described embodiment, the nozzle arrangement direction of the coating head 27 is set to the Y-axis direction (corresponding to the first direction along the surface on which the film formation region is provided on the substrate placed on the stage), and the moving stage The movement direction of 23 is described as an X-axis direction (corresponding to the second direction intersecting the first direction), and both directions are orthogonal to each other. However, the present invention is not limited to this, and the movement direction of the movement stage 23 is not limited to this. On the other hand, the arrangement direction of the nozzles may be inclined.

1 配向膜形成装置
10 親液処理装置
20 塗布装置
22 X軸方向移動装置
25 Y軸方向移動装置
27 塗布ヘッド
28 制御装置
30 乾燥装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Alignment film forming apparatus 10 Lipophilic processing apparatus 20 Coating apparatus 22 X-axis direction moving apparatus 25 Y-axis direction moving apparatus 27 Coating head 28 Control apparatus 30 Drying apparatus

Claims (6)

基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第1の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第1の方向とは交差する第2の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板が前記ステージに載置されたとき、設定された配置パターンで前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域に対して塗布されるように前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、前記移動装置と前記塗布ヘッドを制御する制御装置と
を備えることを特徴とする配向膜形成液の塗布装置。
In a coating apparatus for an alignment film forming liquid for applying an alignment film forming liquid to a film forming region provided on a substrate,
A stage on which the substrate is placed;
A coating head comprising a plurality of nozzles arranged along a first direction along a surface of the substrate placed on the stage where the film formation region is provided;
A moving device that scans and moves the stage and the coating head along a second direction that intersects the first direction along the surface;
When the substrate in which the film formation region is highly lyophilic with respect to the surface other than the film formation region is placed on the stage, the alignment film formation liquid droplets are arranged in a set arrangement pattern. Alignment film formation comprising the moving device and a control device for controlling the coating head to eject droplets of the alignment film forming liquid from the nozzle so as to be applied to a film formation region Liquid application device.
前記配置パターンは、外周部に沿って配置される少なくとも1列分の液滴が前記膜形成領域の外側領域状に位置されてなることを特徴とする請求項1記載の配向膜形成液の塗布装置。   2. The alignment film forming liquid application according to claim 1, wherein the arrangement pattern is configured such that at least one row of droplets arranged along an outer peripheral portion is positioned in a region outside the film formation region. apparatus. 前記制御装置は、前記設定された配置パターンのうち外周部に位置する第1のパターンを塗布し、その後、前記第1のパターン以外の第2のパターンを塗布するように前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項1または2記載の配向膜形成液の塗布装置。   The control device applies the first pattern located on the outer periphery of the set arrangement pattern, and then applies the second pattern other than the first pattern to the application device. The alignment film forming liquid coating apparatus according to claim 1, wherein the head is controlled. 前記塗布ヘッドは、前記第1の方向に沿って複数配列されて設けられ、
これら複数の塗布ヘッドによって構成されるノズル列は、前記第2の方向に直交する方向の前記基板の幅全域に亘る長さを有し、
前記制御装置は、1回目の走査移動によって前記第1のパターンで前記配向膜形成液の液滴を塗布し、2回目の走査移動によって前記第2のパターンで前記配向膜形成液の液滴を塗布し、2回の走査移動によって前記基板の全ての前記膜形成領域に対して前記配向膜形成液の液滴の塗布を完了させるように、前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項3記載の配向膜形成液の塗布装置。
A plurality of the application heads are arranged along the first direction;
The nozzle row composed of the plurality of coating heads has a length over the entire width of the substrate in the direction orthogonal to the second direction,
The controller applies the alignment film forming liquid droplets in the first pattern by the first scanning movement, and applies the alignment film forming liquid droplets in the second pattern by the second scanning movement. Coating and controlling the moving device and the coating head to complete the application of the alignment film forming liquid droplets to all the film forming regions of the substrate by two scanning movements. 4. The alignment film forming liquid coating apparatus according to claim 3, wherein
基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布方法において、
前記基板の前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とし、
前記基板の表面に沿う第1の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと前記基板とを前記基板の表面に沿い前記第1の方向とは交差する第2の方向に沿って走査移動させながら、前記膜形成領域に対して設定された配置パターンで前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させ、前記膜形成領域に前記配向膜形成液の液滴を塗布することを特徴とする配向膜形成液の塗布方法。
In the coating method of the alignment film forming liquid, the alignment film forming liquid is applied to the film forming region provided on the substrate.
Making the film forming region of the substrate highly lyophilic with respect to the surface other than the film forming region;
A coating head having a plurality of nozzles arranged along a first direction along the surface of the substrate and the substrate along a second direction along the surface of the substrate and intersecting the first direction. The liquid droplets of the alignment film forming liquid are ejected from the nozzles in the arrangement pattern set for the film forming area, and the liquid droplets of the alignment film forming liquid are applied to the film forming area. A method for applying an alignment film forming liquid.
前記設定された配置パターンのうち外周部に位置する第1のパターンを塗布し、その後、前記第1のパターン以外の第2のパターンを塗布することを特徴とする請求項6記載の配向膜形成液の塗布方法。   The alignment film formation according to claim 6, wherein a first pattern located on an outer periphery of the set arrangement pattern is applied, and then a second pattern other than the first pattern is applied. Liquid application method.
JP2010285318A 2010-12-22 2010-12-22 Alignment film forming liquid coating apparatus and alignment film forming substrate manufacturing method Active JP5693943B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010285318A JP5693943B2 (en) 2010-12-22 2010-12-22 Alignment film forming liquid coating apparatus and alignment film forming substrate manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010285318A JP5693943B2 (en) 2010-12-22 2010-12-22 Alignment film forming liquid coating apparatus and alignment film forming substrate manufacturing method

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012133137A true JP2012133137A (en) 2012-07-12
JP2012133137A5 JP2012133137A5 (en) 2014-02-13
JP5693943B2 JP5693943B2 (en) 2015-04-01

Family

ID=46648812

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010285318A Active JP5693943B2 (en) 2010-12-22 2010-12-22 Alignment film forming liquid coating apparatus and alignment film forming substrate manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5693943B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104898324A (en) * 2014-03-07 2015-09-09 芝浦机械电子株式会社 Liquid collection processing device, liquid collection processing method, substrate processing device and substrate processing method
CN105467685A (en) * 2014-09-26 2016-04-06 芝浦机械电子装置株式会社 Substrate, manufacturing method for film formation substrate, and coating device
JP2016071352A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate, production method of film formation substrate, and coating equipment
US9465254B2 (en) 2013-10-31 2016-10-11 Panasonic Liquid Crystal Diplay Co., Ltd. Liquid crystal display device having an alignment film comprising an inclined surface inside an edge-part area
CN108983502A (en) * 2018-09-27 2018-12-11 武汉华星光电技术有限公司 Alignment Coating Equipment

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003126760A (en) * 2001-10-22 2003-05-07 Seiko Epson Corp Thin film forming method and apparatus for manufacturing thin film structure using the same, method of manufacturing semiconductor device and method of manufacturing electrooptic device
JP2004290961A (en) * 2003-03-12 2004-10-21 Seiko Epson Corp Film forming method film forming apparatus, arrangement method and apparatus for liquid crystal liquid crystal apparatus and manufacturing method for the same, and electronic equipment
JP2004361623A (en) * 2003-06-04 2004-12-24 Hitachi Displays Ltd Display device
JP2009258351A (en) * 2008-04-16 2009-11-05 Seiko Epson Corp Method for manufacturing alignment film and method for manufacturing liquid crystal display device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003126760A (en) * 2001-10-22 2003-05-07 Seiko Epson Corp Thin film forming method and apparatus for manufacturing thin film structure using the same, method of manufacturing semiconductor device and method of manufacturing electrooptic device
JP2004290961A (en) * 2003-03-12 2004-10-21 Seiko Epson Corp Film forming method film forming apparatus, arrangement method and apparatus for liquid crystal liquid crystal apparatus and manufacturing method for the same, and electronic equipment
JP2004361623A (en) * 2003-06-04 2004-12-24 Hitachi Displays Ltd Display device
JP2009258351A (en) * 2008-04-16 2009-11-05 Seiko Epson Corp Method for manufacturing alignment film and method for manufacturing liquid crystal display device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9465254B2 (en) 2013-10-31 2016-10-11 Panasonic Liquid Crystal Diplay Co., Ltd. Liquid crystal display device having an alignment film comprising an inclined surface inside an edge-part area
CN104898324A (en) * 2014-03-07 2015-09-09 芝浦机械电子株式会社 Liquid collection processing device, liquid collection processing method, substrate processing device and substrate processing method
CN105467685A (en) * 2014-09-26 2016-04-06 芝浦机械电子装置株式会社 Substrate, manufacturing method for film formation substrate, and coating device
JP2016071352A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 芝浦メカトロニクス株式会社 Substrate, production method of film formation substrate, and coating equipment
CN105467685B (en) * 2014-09-26 2020-10-30 芝浦机械电子装置株式会社 Substrate, method for manufacturing film-forming substrate, and coating apparatus
CN108983502A (en) * 2018-09-27 2018-12-11 武汉华星光电技术有限公司 Alignment Coating Equipment
WO2020062836A1 (en) * 2018-09-27 2020-04-02 武汉华星光电技术有限公司 Alignment film coating device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5693943B2 (en) 2015-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI704016B (en) Ink coating device and ink coating method
JP5693943B2 (en) Alignment film forming liquid coating apparatus and alignment film forming substrate manufacturing method
JP5797277B2 (en) Touch panel manufacturing method and substrate manufacturing apparatus
JP2008264608A (en) Liquid droplet coating apparatus and liquid droplet coating method
KR20060051565A (en) Ink-jet application method and display device making method
JP2010005619A (en) Apparatus and method for application of solution
JP2008094044A (en) Head unit, droplet discharge device, discharge method of liquid matter, manufacturing method of color filter, manufacturing method of organic el element and manufacturing method of wiring board
TWI741426B (en) Coating device and coating method
JP2007029946A (en) Droplet discharge method, electro-optical device and electronic device
KR101496031B1 (en) Method for forming film
JP4702287B2 (en) Droplet ejection device, functional film forming method, liquid crystal alignment film forming device, and liquid crystal alignment film forming method for liquid crystal display device
WO2013069256A1 (en) Inkjet application device and inkjet application method
JP2005296854A (en) Membrane formation apparatus and membrane formation method
JP5111615B2 (en) Method and apparatus for dropping alignment film material
JP2019130447A (en) Film formation method, film formation device and composite substrate of forming film
JP2012133137A5 (en) Alignment film forming liquid coating apparatus and alignment film forming substrate manufacturing method
JP2006289355A (en) Apparatus and method for forming thin film
JP2006320839A (en) Method and apparatus for discharging liquid droplet for oriented film
JP2004145090A (en) Apparatus and method for manufacturing liquid crystal display device
JP2006133671A (en) Method for producing display device and method for depositing thin film
WO2016129443A1 (en) Inkjet coating method and inkjet coating device
TWI771005B (en) Ink coating device, its control device, and ink coating method
JP2018103096A (en) Coating method of insulation film material
JP2010181536A (en) Drying device and drying method using the same
JP2010201288A (en) Method of applying solution and device for applying solution

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131224

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140827

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140829

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141023

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141112

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150107

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150203

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5693943

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150