JP2012128306A - Photosensitive lithographic printing plate - Google Patents

Photosensitive lithographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2012128306A
JP2012128306A JP2010281324A JP2010281324A JP2012128306A JP 2012128306 A JP2012128306 A JP 2012128306A JP 2010281324 A JP2010281324 A JP 2010281324A JP 2010281324 A JP2010281324 A JP 2010281324A JP 2012128306 A JP2012128306 A JP 2012128306A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
hydrophilic
layer
lithographic printing
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010281324A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Shimonodan
智 下之段
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP2010281324A priority Critical patent/JP2012128306A/en
Publication of JP2012128306A publication Critical patent/JP2012128306A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive lithographic printing plate which has sufficient performance for printing durability in an image area and resistance to scumming in a non-image area.SOLUTION: In a photosensitive lithographic printing plate having at least a hydrophilic layer containing colloidal silica and a photopolymerized photosensitive layer in this order on a plastic film support, a hydrophilic auxiliary layer is provided between the hydrophilic layer and the photopolymerized photosensitive layer, and the hydrophilic auxiliary layer contains a hydrophilic polymer that is 50 mass% or more to the entire solid portion in the hydrophilic auxiliary layer.

Description

本発明はプラスチックフィルム支持体上に、少なくとも親水性層と光重合性の感光層をこの順に有する感光性平版印刷版に関し、特にケミカルレス現像が可能な感光性平版印刷版に関する。   The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate having at least a hydrophilic layer and a photopolymerizable photosensitive layer in this order on a plastic film support, and more particularly to a photosensitive lithographic printing plate capable of chemicalless development.

近年、製版システムのデジタル化に伴いコンピューター画面上で組版したデジタルデータを、直接平版印刷版に出力するコンピューター・トゥー・プレート(CTP)技術が開発され、出力機として種々のレーザーを搭載した各種プレートセッターとこれらに適合する感光性平版印刷版の開発が盛んに行われている。またこのような出力機には、例えば青紫色半導体レーザー(バイオレットレーザー)、ヘリウムネオンレーザー、赤色LED、近赤外線レーザー、赤外線レーザー、アルゴンレーザー等の各種レーザーを利用した出力機が好ましく用いられる。   In recent years, computer-to-plate (CTP) technology that directly outputs digital data formatted on a computer screen to a lithographic printing plate has been developed along with the digitization of the plate making system, and various plates equipped with various lasers as output machines. The development of setters and photosensitive lithographic printing plates compatible with these is being actively pursued. As such an output machine, an output machine using various lasers such as a blue-violet semiconductor laser (violet laser), a helium neon laser, a red LED, a near infrared laser, an infrared laser, and an argon laser is preferably used.

このような各種レーザーに対応した光重合性の感光層を有する平版印刷版としては、例えば特開平9−134007号公報にはエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合可能な化合物と光増感色素と重合開始剤を含有する平版印刷版が開示されており、特開平5−5988号公報、特開平5−194619号公報、特開2000−98603号公報等には、有機ホウ素アニオンと色素との組み合わせが開示されており、特開平4−31863号公報、特開平6−43633号公報等には色素とs−トリアジン系化合物との組み合わせが開示されており、特開平7−20629号公報、特開平7−271029号公報等にはレゾール樹脂、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤及び光酸発生剤の組み合わせが開示されており、特開平11−212252号公報、特開平11−231535号公報等には特定の重合体と光酸発生剤と近赤外増感色素の組み合わせが開示されており、特開2001−290271号公報等には側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体を用いた平版印刷版が開示されている。また特開2005−274695号公報や2007−25220号公報にはバイオレットレーザー光源に対応した光重合性の感光層を有する平版印刷版が開示されている。   As a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer corresponding to such various lasers, for example, JP-A-9-134007 discloses a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photosensitizing dye, A lithographic printing plate containing a polymerization initiator is disclosed, and JP-A-5-5988, JP-A-5-194619, JP-A-2000-98603, and the like disclose combinations of an organic boron anion and a dye. JP-A-4-31863, JP-A-6-43333, etc. disclose a combination of a dye and an s-triazine compound, and JP-A-7-20629 and JP-A-6-36633. JP-A-7-271029 discloses a combination of a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a photoacid generator. No. 2 and JP-A No. 11-231535 disclose a combination of a specific polymer, a photoacid generator and a near-infrared sensitizing dye, and JP-A No. 2001-290271 discloses a side chain. A lithographic printing plate using a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group is disclosed. JP-A-2005-274695 and 2007-25220 disclose a lithographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer corresponding to a violet laser light source.

更に近年、アルカリ性現像液を用いることを回避し、水等で現像可能な感光性平版印刷版の提案がされている。例えば特開2003−215801号公報(特許文献1)には、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体、または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸塩基を有する水溶性重合体、及び光重合開始剤または酸発生剤を含有する感光層を有するネガ型感光性平版印刷版が開示されている。   In recent years, there has been proposed a photosensitive lithographic printing plate that avoids the use of an alkaline developer and can be developed with water or the like. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-215801 (Patent Document 1) discloses a cationic water-soluble polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain, or a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and a sulfonate group. A negative photosensitive lithographic printing plate having a water-soluble polymer having a photosensitive layer and a photosensitive layer containing a photopolymerization initiator or an acid generator is disclosed.

上記したような各種レーザー光源に対応した光重合性の感光性平版印刷版の処理工程は、各種レーザー光源を有する出力機により露光された後、自動現像機を用いて現像処理される。しかしながら支持体として例えば表面を陽極酸化されたアルミニウム支持体を有する平版印刷版は出力機内にコンパクトに収納することができず、出力機の専有面積は大きくなるという問題があった。   The processing steps of the photopolymerizable photosensitive lithographic printing plate corresponding to various laser light sources as described above are developed by using an automatic developing machine after being exposed by an output machine having various laser light sources. However, a lithographic printing plate having, for example, an anodized aluminum support as a support cannot be stored compactly in the output machine, and there is a problem that the area occupied by the output machine becomes large.

出力機内にコンパクトに収納することができるプラスチックフィルム支持体を用いた感光性平版印刷版は、一般に、プラスチックフィルム支持体上に親水性層を有する。このような親水性層としては、例えば特公昭49−2286号公報に記載のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリレート系ポリマーによる親水性樹脂層、特公昭56−2938号公報に記載の尿素樹脂と顔料から構成される親水性層、特開昭48−83902号公報に記載のアクリルアミド系ポリマーをアルデヒド類で硬化させて得られる親水性層、特開昭62−280766号公報に記載の水溶性メラミン樹脂、ポリビニルアルコール、水不溶性無機粉体を含有する組成物を硬化させて得られる親水性層、特開平8−184967号公報に記載の側鎖にアミジノ基を有する繰り返し単位を含む水溶性ポリマーを硬化して得られる親水性層、特開平8−272087号公報に記載の親水性(共)重合体を含有し、加水分解されたテトラアルキルオルソシリケートで硬化された親水性層、特開平10−296895号公報に記載のオニウム基を有する親水性層、特開平11−311861号公報に記載のルイス塩基部分を有する架橋親水性ポリマーを多価金属イオンとの相互作用によって三次元架橋させて得られる親水性層、特開2000−122269号公報に記載の親水性樹脂及び水分散性フィラーを含有する親水性層等が知られている。   Photosensitive lithographic printing plates using a plastic film support that can be stored compactly in an output machine generally have a hydrophilic layer on the plastic film support. Examples of such a hydrophilic layer include a hydrophilic resin layer made of a (meth) acrylate polymer having a hydroxyalkyl group described in JP-B-49-2286, and a urea resin described in JP-B-56-2938. A hydrophilic layer composed of a pigment, a hydrophilic layer obtained by curing an acrylamide polymer described in JP-A-48-83902 with aldehydes, and a water-soluble melamine described in JP-A-62-280766 A hydrophilic layer obtained by curing a composition containing a resin, polyvinyl alcohol and a water-insoluble inorganic powder, and a water-soluble polymer containing a repeating unit having an amidino group in the side chain described in JP-A-8-184967. Hydrolyzed layer obtained by curing, a hydrolyzed tet containing a hydrophilic (co) polymer described in JP-A-8-272087 A hydrophilic layer cured with an alkyl orthosilicate, a hydrophilic layer having an onium group described in JP-A-10-296895, and a crosslinked hydrophilic polymer having a Lewis base moiety described in JP-A-11-311861 A hydrophilic layer obtained by three-dimensional crosslinking by interaction with a valent metal ion, a hydrophilic layer containing a hydrophilic resin and a water-dispersible filler described in JP-A No. 2000-122269 are known.

しかしながら上記した親水性層を有する感光性平版印刷版は、十分な耐刷性と耐汚れ性を得ることは困難であった。特に水等で現像可能なネガ型感光性平版印刷版においては、水に代表されるケミカルレス現像により得られた画像の親油性は低い傾向にあり、印刷の際に十分な画像濃度を得ようと印刷機でインキ送り量を増やした場合、十分な耐汚れ性を得ることは困難であった。   However, it has been difficult for the photosensitive lithographic printing plate having the hydrophilic layer described above to obtain sufficient printing durability and stain resistance. In particular, in a negative photosensitive lithographic printing plate that can be developed with water or the like, the oleophilicity of an image obtained by chemicalless development represented by water tends to be low, and a sufficient image density should be obtained during printing. When the ink feed amount was increased with a printing press, it was difficult to obtain sufficient stain resistance.

このような問題を解決する技術として、特開2008−265297号公報(特許文献2)には、支持体上に水溶性ポリマーと該水溶性ポリマーを架橋する架橋剤とコロイダルシリカを含有し、該水溶性ポリマーとコロイダルシリカの比率を特定した親水性層を有する感光性平版印刷版が開示され、更に特開2009−226596号公報(特許文献3)には、親水性層が少なくとも水溶性ポリマー及び無機微粒子を含有し、該親水性層の膜面pH値を7.0以上とした感光性平版印刷版が開示されている。他に親水性層に水溶性樹脂を含む平版印刷版として、特開2005−035003号公報(特許文献4)には非画像部となる親水性層に金属酸化物微粒子やコロイダルシリカ等の無機微粒子と多糖類等の水溶性樹脂を含有する平版印刷版が開示されており、特開2006−306031号公報(特許文献5)には支持体上に水溶性ポリマーとアルコキシド化合物を塗布した平版印刷版が開示されている。しかしながら、十分な耐汚れ性を得ることはできず、更なる改善が求められていた。   As a technique for solving such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-265297 (Patent Document 2) contains a water-soluble polymer on a support, a crosslinking agent for crosslinking the water-soluble polymer, and colloidal silica, A photosensitive lithographic printing plate having a hydrophilic layer in which the ratio of the water-soluble polymer and colloidal silica is specified is disclosed. Further, JP 2009-226596 A (Patent Document 3) discloses that the hydrophilic layer includes at least a water-soluble polymer and A photosensitive lithographic printing plate containing inorganic fine particles and having a film surface pH value of 7.0 or more is disclosed. In addition, as a lithographic printing plate containing a water-soluble resin in a hydrophilic layer, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-035003 (Patent Document 4) discloses inorganic fine particles such as metal oxide fine particles and colloidal silica in a hydrophilic layer that becomes a non-image portion. And a lithographic printing plate containing a water-soluble resin such as a polysaccharide. JP-A 2006-306031 (Patent Document 5) discloses a lithographic printing plate in which a water-soluble polymer and an alkoxide compound are coated on a support. Is disclosed. However, sufficient stain resistance cannot be obtained, and further improvement has been demanded.

特開2003−215801号公報JP 2003-215801 A 特開2008−265297号公報JP 2008-265297 A 特開2009−226596号公報JP 2009-226596 A 特開2005−035003号公報JP 2005-035003 A 特開2006−306031号公報JP 2006-306031 A

本発明の目的は、プラスチックフィルム支持体上に、コロイダルシリカを含有する親水性層と光重合性の感光層を少なくともこの順に有する感光性平版印刷版において、画像部の耐刷性、非画像部の耐地汚れ性共に充分な性能が得られる感光性平版印刷版を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a printing planographic printing plate having a hydrophilic layer containing colloidal silica and a photopolymerizable photosensitive layer in this order on a plastic film support. It is an object of the present invention to provide a photosensitive lithographic printing plate capable of obtaining sufficient performance with respect to the soil resistance.

上記の課題は、以下の発明により達成された。
1)プラスチック支持体上に、コロイダルシリカを含有する親水性層と光重合性の感光層を少なくともこの順に有する感光性平版印刷版であって、該親水性層と該光重合性の感光層との間に親水性補助層を有し、該親水性補助層が親水性補助層の全固形分に対して50質量%以上の親水性ポリマーを含有することを特徴とする感光性平版印刷版。
The above object has been achieved by the following invention.
1) A photosensitive lithographic printing plate having at least a hydrophilic layer containing colloidal silica and a photopolymerizable photosensitive layer in this order on a plastic support, the hydrophilic layer and the photopolymerizable photosensitive layer; A photosensitive lithographic printing plate comprising a hydrophilic auxiliary layer in between, wherein the hydrophilic auxiliary layer contains 50% by mass or more of a hydrophilic polymer based on the total solid content of the hydrophilic auxiliary layer.

本発明によれば、画像部の耐刷性を低下させずに非画像部の耐地汚れ性を改善し、結果、耐刷性及び耐地汚れ性共に充分な性能が得られる感光性平版印刷版を提供することができる。   According to the present invention, photosensitive lithographic printing that improves the anti-smudge property of the non-image part without degrading the printing durability of the image part, and as a result, sufficient performance can be obtained in both the printing durability and the anti-smudge property. A version can be provided.

以下本発明を詳細に説明する。
本発明の感光性平版印刷版は、プラスチックフィルム支持体上に、少なくとも親水性層と親水性補助層、及び光重合性の感光層をこの順に有する感光性平版印刷版である。この感光性平版印刷版の層構成としては前記した親水性層、親水性補助層、光重合性の感光層の他に、例えばプラスチックフィルム支持体と親水性層の間に中間層を設けても良いし、光重合性の感光層の上部(支持体を下にして)に保護層を設けても良いし、プラスチックフィルム支持体の裏側(支持体からみて光重合性の感光層面の反対面)に裏層を設けても良い。
The present invention will be described in detail below.
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a photosensitive lithographic printing plate having at least a hydrophilic layer, a hydrophilic auxiliary layer, and a photopolymerizable photosensitive layer in this order on a plastic film support. As the layer structure of this photosensitive lithographic printing plate, in addition to the hydrophilic layer, hydrophilic auxiliary layer, and photopolymerizable photosensitive layer described above, for example, an intermediate layer may be provided between the plastic film support and the hydrophilic layer. A protective layer may be provided on the top of the photopolymerizable photosensitive layer (with the support facing down), or the back side of the plastic film support (opposite to the surface of the photopolymerizable photosensitive layer as viewed from the support) A back layer may be provided.

[支持体]
本発明の感光性平版印刷版の支持体には、各種プラスチックフィルムが挙げられる。プラスチックフィルム支持体として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、硝酸セルロースなどが代表的に挙げられ、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく用いられる。これらのフィルムは各種機能層を設ける前に、表面に親水化加工が施されていることが好ましく、こうした親水化加工としては、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられる。
[Support]
Examples of the support for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention include various plastic films. Representative examples of the plastic film support include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetal, polycarbonate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, and cellulose nitrate. Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferably used. These films are preferably subjected to hydrophilic treatment on the surface before providing various functional layers. Examples of such hydrophilic treatment include corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, and ultraviolet irradiation treatment. .

[中間層]
本発明の感光性平版印刷版は、プラスチックフィルム支持体と親水性層の間に、親水性ポリマーと架橋剤を含有する中間層を有することが好ましい。親水性ポリマーとしては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニルアルコール、ゼラチン等が挙げられるが、ゼラチンもしくはポリアクリル酸が好ましい。この中間層により、より優れた耐刷性と耐汚れ性が得られるが、この効果は中間層が水をある程度蓄えることができる吸液効果と、力学的に加わった力を緩衝するクッション効果により得られるものと推測される。
[Middle layer]
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably has an intermediate layer containing a hydrophilic polymer and a crosslinking agent between the plastic film support and the hydrophilic layer. Examples of the hydrophilic polymer include polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyvinyl alcohol, gelatin and the like, and gelatin or polyacrylic acid is preferable. This intermediate layer provides better printing durability and stain resistance, but this effect is due to the liquid absorbing effect that the intermediate layer can store water to some extent and the cushioning effect that cushions the mechanically applied force. Presumed to be obtained.

中間層が含有するゼラチンとしては、平均分子量が3000以上であり、例えば牛骨または牛皮を原料としたアルカリ法ゼラチン、豚皮を原料に用いた酸性法ゼラチン、変性ゼラチン(例えばフタル化ゼラチン等)が挙げられ、またこれらのゼラチンに含まれる不純物(例えばカルシウムイオン、ナトリウムイオン、クロライドイオン等の塩類、脂質、核酸及びその分解物、アルデヒド類等)が精製や脱塩処理を施すことにより低減されたゼラチンが挙げられる。ポリアクリル酸としては平均分子量が3000以上であり、ポリアクリル酸、あるいはアクリル酸と他のモノマーとの共重合体(例えばアクリル酸−メタクリル酸共重合体、アクリル酸−(4−カルボキシ)スチレン共重合体、アクリル酸−マレイン酸共重合体、アクリル酸−アクリルアミド共重合体)、変性アクリル酸等のポリアクリル酸類が挙げられ、本発明の中間層にはゼラチンもしくはポリアクリル酸を併用して用いてもよい。   The gelatin contained in the intermediate layer has an average molecular weight of 3000 or more. For example, alkaline gelatin using cow bone or cow skin as raw material, acidic gelatin using pork skin as raw material, modified gelatin (eg, phthalated gelatin) Impurities contained in these gelatins (for example, salts such as calcium ions, sodium ions, chloride ions, lipids, nucleic acids and their degradation products, aldehydes, etc.) are reduced by purification and desalting treatment. And gelatin. The polyacrylic acid has an average molecular weight of 3000 or more and is a polyacrylic acid or a copolymer of acrylic acid and another monomer (for example, acrylic acid-methacrylic acid copolymer, acrylic acid- (4-carboxy) styrene copolymer). Polymer, acrylic acid-maleic acid copolymer, acrylic acid-acrylamide copolymer), and polyacrylic acids such as modified acrylic acid. Gelatin or polyacrylic acid is used in the intermediate layer of the present invention. May be.

中間層の乾燥質量としては1平方メートルあたり0.5gから50gの間であることが好ましく、更に好ましい範囲は1平方メートルあたり1gから25gの間であり、最も好ましい範囲は1平方メートルあたり3gから15gの間である。中間層の乾燥質量が少ないと、非画像部の耐地汚れ性が悪化、あるいは画像部の耐刷性が悪化する場合がある。また中間層の乾燥質量が過剰にあると画像部の耐刷性が悪化する場合がある。   The dry weight of the intermediate layer is preferably between 0.5 g and 50 g per square meter, more preferred range is between 1 g and 25 g per square meter, and most preferred range is between 3 g and 15 g per square meter. It is. When the dry weight of the intermediate layer is small, the ground stain resistance of the non-image area may deteriorate, or the printing durability of the image area may deteriorate. Further, if the dry weight of the intermediate layer is excessive, the printing durability of the image area may be deteriorated.

本発明の中間層は、上記親水性ポリマーを架橋するための架橋剤を含有することが好ましく、かかる架橋剤としては、公知の種々の化合物が挙げられる。具体的にはエポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、イソシアネート化合物及びその誘導体、ホルマリン等のアルデヒド化合物及びメチロール化合物、ヒドラジド化合物等が好ましい例として挙げられ、特に好ましい架橋剤はエポキシ化合物、アルデヒド化合物及びメチロール化合物であり、エポキシ化合物がとりわけ好ましい。   The intermediate layer of the present invention preferably contains a cross-linking agent for cross-linking the hydrophilic polymer, and examples of the cross-linking agent include various known compounds. Specific examples include epoxy compounds, aziridine compounds, oxazoline compounds, isocyanate compounds and derivatives thereof, aldehyde compounds such as formalin, methylol compounds, hydrazide compounds, and the like. Particularly preferred crosslinking agents are epoxy compounds, aldehyde compounds, and methylol. Of these, epoxy compounds are particularly preferred.

エポキシ化合物としては分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物が好ましく使用される。好ましいエポキシ化合物の具体例を下記に示す。   As the epoxy compound, a compound having two or more epoxy groups in the molecule is preferably used. Specific examples of preferred epoxy compounds are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

アジリジン化合物として好ましい化合物の具体例を下記に示す。   Specific examples of preferable compounds as the aziridine compound are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

オキサゾリン化合物としては、置換基として下記一般式(1)で示す基を分子内に2個以上含む化合物が好ましく、市販される各種化合物として例えば(株)日本触媒からエポクロスの商品名で提供される各種グレードの化合物が好ましく使用される。   As the oxazoline compound, a compound containing two or more groups represented by the following general formula (1) as a substituent in the molecule is preferable, and various commercially available compounds are provided, for example, from Nippon Shokubai Co., Ltd. under the trade name Epocross. Various grades of compounds are preferably used.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

イソシアネート化合物としては、水中で安定である化合物が好ましく、いわゆる自己乳化性イソシアネート化合物や、ブロックイソシアネート化合物が好ましく使用される。自己乳化性イソシアネート化合物としては、例えば特公昭55−7472号公報(米国特許第3,996,154号明細書)、特開平5−222150号公報(米国特許第5,252,696号明細書)、特開平9−71720号公報、特開平9−328654号公報、特開平10−60073号公報等に記載されるような自己乳化性イソシアネートを指す。   As the isocyanate compound, a compound that is stable in water is preferable, and a so-called self-emulsifiable isocyanate compound or a blocked isocyanate compound is preferably used. Examples of self-emulsifying isocyanate compounds include Japanese Patent Publication No. 55-7472 (US Pat. No. 3,996,154) and Japanese Patent Laid-Open No. 5-222150 (US Pat. No. 5,252,696). Self-emulsifiable isocyanate as described in JP-A-9-71720, JP-A-9-328654, JP-A-10-60073, and the like.

ホルムアルデヒド、グリオキサール等のアルデヒド化合物及びメチロール化合物の例としては、ホルムアルデヒド、グリオキザール、及び下記に示すような種々のN−メチロール化合物を例示することができる。   Examples of aldehyde compounds and methylol compounds such as formaldehyde and glyoxal include formaldehyde, glyoxal, and various N-methylol compounds as shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

ヒドラジド化合物として好ましく使用できる化合物の具体例を下記に示す。   Specific examples of compounds that can be preferably used as the hydrazide compound are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

上記のような種々の架橋剤と親水性ポリマーとの比率に関しては好ましい範囲が存在する。親水性ポリマー100質量部に対して架橋剤は1〜40質量部の範囲で用いることが好ましい。   There is a preferred range for the ratio of the various crosslinking agents and hydrophilic polymers as described above. The crosslinking agent is preferably used in the range of 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the hydrophilic polymer.

本発明の中間層には、その他、無機多孔質化合物、ゼラチンもしくはポリアクリル酸類、架橋剤の他にポリマー類、ラテックス類、界面活性剤、pH調整剤等を含有することができる。   In addition to the inorganic porous compound, gelatin or polyacrylic acid, and the crosslinking agent, the intermediate layer of the present invention may contain polymers, latexes, surfactants, pH adjusters and the like.

[親水性層]
本発明の感光性平版印刷版が有する親水性層は、コロイダルシリカを含有する。コロイダルシリカとは、光散乱方式粒度分布計で計測される平均粒子径が好ましくは5〜200nmである球状、針状、不定形、あるいは球状粒子が連なってできるネックレス状などの種々の形状、粒子径のシリカ粒子であり、水中に安定的に分散したシリカゾルが好ましく用いられる。こうした素材は、例えば日産化学工業(株)からスノーテックスの商品名で各種のコロイダルシリカが提供されており、球状のシリカゾルとしてスノーテックスXS(粒子径4〜6nm)、スノーテックスS(粒子径8〜11nm)、スノーテックス20(粒子径10〜20nm)、スノーテックスXL(粒子径40〜60nm)、スノーテックスYL(粒子径50〜80nm)、スノーテックスZL(粒子径70〜100nm)、スノーテックスMP−2040(粒子径200nm)及び表面のナトリウム塩を除去した酸性タイプのシリカゾルとしてスノーテックスOXS、OS等が好ましく使用できる。針状あるいは不定形のシリカゾルとして、例えばスノーテックスUP、OUPや触媒化成工業(株)から出されているファインカタロイドF−120等が挙げられる。ネックレス状のシリカゾルとして、スノーテックスPS−S(粒子径80〜120nm)、PS−M(粒子径80〜150nm)及びこれらの酸性タイプであるPS−SO及びPS−MO等が挙げられる。
[Hydrophilic layer]
The hydrophilic layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains colloidal silica. Colloidal silica is a variety of shapes and particles such as a sphere, needle shape, irregular shape, or a necklace shape in which spherical particles are connected, preferably having an average particle size of 5 to 200 nm as measured by a light scattering particle size distribution analyzer. A silica sol having a diameter of silica particles and stably dispersed in water is preferably used. As such materials, various colloidal silicas are provided, for example, under the name of Snowtex from Nissan Chemical Industries, Ltd., and as a spherical silica sol, Snowtex XS (particle diameter 4 to 6 nm), Snowtex S (particle diameter 8) To 11 nm), Snowtex 20 (particle size 10 to 20 nm), Snowtex XL (particle size 40 to 60 nm), Snowtex YL (particle size 50 to 80 nm), Snowtex ZL (particle size 70 to 100 nm), Snowtex As an acidic type silica sol from which MP-2040 (particle diameter: 200 nm) and sodium salt on the surface have been removed, Snowtex OXS, OS and the like can be preferably used. Examples of the needle-like or amorphous silica sol include Snowtex UP, OUP, and Fine Cataloid F-120 available from Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd. Examples of the necklace-shaped silica sol include Snowtex PS-S (particle diameter 80 to 120 nm), PS-M (particle diameter 80 to 150 nm), and PS-SO and PS-MO which are acidic types thereof.

本発明の親水性層は上記したコロイダルシリカと共に水溶性樹脂を含有することが好ましく、該水溶性樹脂とコロイダルシリカを質量比で1:1〜1:3の範囲で含んでなることがより好ましい。また親水性層はコロイダルシリカ以外に他の無機微粒子、例えば、二酸化チタン粒子、アルミナ粒子(例えば酸化アルミニウム水和物、水酸化アルミニウム)、ゼオライト、その他の金属酸化物からなる粒子等を含有することもでき、これら他の無機微粒子は粒子表面に表面処理がなされていてもよい。   The hydrophilic layer of the present invention preferably contains a water-soluble resin together with the above-described colloidal silica, and more preferably contains the water-soluble resin and colloidal silica in a mass ratio of 1: 1 to 1: 3. . In addition to the colloidal silica, the hydrophilic layer contains other inorganic fine particles, such as titanium dioxide particles, alumina particles (for example, aluminum oxide hydrate, aluminum hydroxide), zeolite, particles made of other metal oxides, and the like. These other inorganic fine particles may be subjected to a surface treatment on the particle surface.

本発明の親水性層が含有する水溶性樹脂としては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリビニルアルコール及びゼラチン等が挙げられるが、特に非画像部の耐地汚れ性に優れたネガ型感光性平版印刷版が得られることから、下記一般式(2)で示されるポリマーが好適に用いられる。   Examples of the water-soluble resin contained in the hydrophilic layer of the present invention include polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyvinyl alcohol, gelatin, and the like. In particular, a negative photosensitive lithographic plate having excellent anti-stain resistance in non-image areas. Since a printing plate is obtained, a polymer represented by the following general formula (2) is preferably used.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

式中Xはポリマー組成中に占める繰り返し単位の質量%を表し、1から40までの任意の数値を表す。繰り返し単位Aは反応性基としてカルボキシ基、アミノ基、水酸基、アセトアセトキシ基から選ばれる基を有する繰り返し単位を表し、繰り返し単位Bはポリマーを水溶性にするために必要な親水性基を有する繰り返し単位を表す。   In the formula, X represents mass% of repeating units in the polymer composition, and represents an arbitrary numerical value from 1 to 40. The repeating unit A represents a repeating unit having a group selected from a carboxy group, an amino group, a hydroxyl group and an acetoacetoxy group as a reactive group, and the repeating unit B is a repeating unit having a hydrophilic group necessary for making the polymer water-soluble. Represents a unit.

上記一般式(2)で示される水溶性ポリマーは後述する架橋剤との間で効率的に架橋反応が進行するための反応性基を分子内に含むことが重要である。こうした反応性基として、カルボキシ基、アミノ基、水酸基、アセトアセトキシ基が挙げられる。これらの反応性基を分子内に有する水溶性ポリマーを得るには、反応性基を有する各種モノマーを共重合する形で組み込むことが好ましく行われる。上記一般式(2)で示す繰り返し単位Aに対応するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシ基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール等の含窒素複素環含有モノマー、N−メチロールアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類及びアセトアセトキシメタクリレート等が挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。   It is important that the water-soluble polymer represented by the general formula (2) contains a reactive group in the molecule for allowing a crosslinking reaction to proceed efficiently with a crosslinking agent described later. Examples of such reactive groups include a carboxy group, an amino group, a hydroxyl group, and an acetoacetoxy group. In order to obtain a water-soluble polymer having such a reactive group in the molecule, it is preferable to incorporate various monomers having a reactive group in a copolymerized form. As monomers corresponding to the repeating unit A represented by the general formula (2), acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid Carboxy group-containing monomers such as maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, 4-carboxystyrene, acrylamide-N-glycolic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylamino Ethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacrylamide, 4-aminostyrene Amino group-containing monomers such as 4-aminomethylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, 4-vinylpyridine, 2 Nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as vinylpyridine and N-vinylimidazole, (meth) acrylamides such as N-methylolacrylamide and 4-hydroxyphenylacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy Examples thereof include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as propyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and glycerol monomethacrylate, and acetoacetoxy methacrylate, but are not limited to these examples.

上記一般式(2)において、繰り返し単位Aの共重合体中に於ける割合であるXは1から40であり、この範囲より少なければ架橋反応が進行しても充分な膜強度が得られない場合があり、この範囲より多ければ、下記の水溶性を付与するための繰り返し単位Bの導入による効果が薄れ、親水性層の水に対する親和性が低下する場合がある。   In the general formula (2), X, which is the ratio of the repeating unit A in the copolymer, is 1 to 40, and if it is less than this range, sufficient film strength cannot be obtained even if the crosslinking reaction proceeds. In some cases, if the amount is larger than this range, the effect of introducing the repeating unit B for imparting water solubility described below is reduced, and the affinity of the hydrophilic layer for water may be reduced.

更に、一般式(2)における繰り返し単位Bを与えるためのモノマーとしては、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−スルホエチルメタクリレート、3−スルホプロピルメタクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド、アクリル酸−2−(トリメチルアンモニオ)エチルエステル、メタクリル酸−2−(トリメチルアンモニオ)エチルエステル、アクリル酸−2−(トリエチルアンモニオ)エチルエステル、メタクリル酸−2−(トリエチルアンモニオ)エチルエステル、(3−アクリルアミドプロピル)トリメチルアンモニウムクロライド、N,N,N−トリメチル−N−(4−ビニルベンジル)アンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これら水溶性モノマーは繰り返し単位Bを構成するために1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。本発明に於ける好ましい水溶性ポリマーの具体例を下記に示す。なお、本発明において水溶性とは1Lの水に水溶性ポリマーが0.5g以上溶解することを意味する。   Furthermore, as a monomer for giving the repeating unit B in the general formula (2), vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, 2-sulfoethyl methacrylate, 3-sulfopropyl methacrylate, 2- Sulfonic acid group-containing monomers such as acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid and their salts, Phosphoric acid group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and their salts, dimethyl diallyl ammonium chloride, acrylic acid-2- (trimethylammonio) Ethyl ester, methacrylic acid-2- (trimethylammonio) ethyl ester, acrylic acid-2- (triethylammonio) ethyl ester, methacrylic acid-2- (triethylammonio) ethyl ester, (3-acrylamidopropyl) trime Quaternary ammonium salts such as ruammonium chloride, N, N, N-trimethyl-N- (4-vinylbenzyl) ammonium chloride, acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N (Meth) acrylamides such as N, diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, methacrylic acid methoxydiethylene glycol monoester, methacrylic acid methoxypolyethylene glycol monoester, methacrylic acid polypropylene glycol monoester , N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl caprolactam and the like, but are not limited thereto. These water-soluble monomers may be used alone to constitute the repeating unit B, or any two or more of them may be used. Specific examples of preferable water-soluble polymers in the present invention are shown below. In the present invention, water-soluble means that 0.5 g or more of a water-soluble polymer is dissolved in 1 L of water.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

Figure 2012128306
Figure 2012128306

本発明の親水性層には架橋剤を含むことが好ましく、上述した中間層に含有できる架橋剤と同様の化合物群から選択することができ、上記のような種々の架橋剤と水溶性樹脂との比率に関しては好ましい範囲が存在する。水溶性樹脂100質量部に対して架橋剤は1〜40質量部の範囲で用いることが好ましい。また特に好ましい架橋剤はエポキシ化合物である。   The hydrophilic layer of the present invention preferably contains a crosslinking agent, and can be selected from the same group of compounds as the crosslinking agent that can be contained in the above-mentioned intermediate layer. There is a preferred range for the ratio. The crosslinking agent is preferably used in the range of 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the water-soluble resin. Particularly preferred crosslinking agents are epoxy compounds.

本発明の親水性層には、前述の水溶性ポリマー、無機微粒子、架橋剤の他に、界面活性剤、pH調整剤等を含有することができる。   The hydrophilic layer of the present invention can contain a surfactant, a pH adjuster and the like in addition to the water-soluble polymer, inorganic fine particles, and crosslinking agent described above.

親水性層の乾燥質量に関しては好ましい範囲が存在し、具体的には、親水性層の乾燥質量が1平方メートルあたり0.6gから10gの間であり、好ましい範囲は1平方メートルあたり2gから6gの間である。   There is a preferred range for the dry weight of the hydrophilic layer, specifically, the dry weight of the hydrophilic layer is between 0.6 g and 10 g per square meter, and the preferred range is between 2 g and 6 g per square meter. It is.

本発明の親水性層には、水溶性樹脂、無機微粒子、硬膜剤の他に、界面活性剤、pH調整剤等を含有することができる。   The hydrophilic layer of the present invention can contain a surfactant, a pH adjuster and the like in addition to the water-soluble resin, inorganic fine particles, and hardener.

[親水性補助層]
本発明の感光性平版印刷版が有する親水性補助層は、上述した親水性層と光重合性の感光層との間に位置し、かかる親水性補助層は親水性補助層の全固形分に対して50質量%以上の親水性ポリマーを含有する。
[Hydrophilic auxiliary layer]
The hydrophilic auxiliary layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is located between the hydrophilic layer and the photopolymerizable photosensitive layer described above, and the hydrophilic auxiliary layer is in the total solid content of the hydrophilic auxiliary layer. On the other hand, it contains 50% by mass or more of a hydrophilic polymer.

好ましい親水性ポリマーとしては、前述の中間層が含有する親水性ポリマーや親水性層が含有する水溶性樹脂等に加え、多糖類が挙げられる。具体的な多糖類としては、ウェランガム、ダイユータンガム、グアーガム、ローカストビーンガム、タラガム、カシアガム、キサンタンガム、アラビアガム、トラガカントガム、カラヤガム、ガラクトマンナン、グルコマンナン、ペクチン、カラギーナン、マンノース、グルクロン酸、アルギン酸、デンプン、アミロース、アミロペクチン、グリコーゲン、セルロース、デキストリン、グルカン、フルクタン、キトサン、キチン、アガロース、ヘパリン、ヒアルロン酸、キシログルカン等があるが、これらに限定されるものではない。親水性補助層が含有する好ましい親水性ポリマーとしては、前記した一般式(2)で示されるポリマー、あるいは多糖類が挙げられ、特に多糖類が好ましい。   Preferred hydrophilic polymers include polysaccharides in addition to the hydrophilic polymer contained in the intermediate layer and the water-soluble resin contained in the hydrophilic layer. Specific polysaccharides include welan gum, diyutan gum, guar gum, locust bean gum, tara gum, cassia gum, xanthan gum, gum arabic, tragacanth gum, caraya gum, galactomannan, glucomannan, pectin, carrageenan, mannose, glucuronic acid, alginic acid, Examples include, but are not limited to, starch, amylose, amylopectin, glycogen, cellulose, dextrin, glucan, fructan, chitosan, chitin, agarose, heparin, hyaluronic acid, xyloglucan and the like. The preferred hydrophilic polymer contained in the hydrophilic auxiliary layer includes the polymer represented by the general formula (2) or the polysaccharide, and the polysaccharide is particularly preferred.

本発明の親水性補助層は親水性補助層の全固形分に対し50質量%以上の親水性ポリマーを含有し、より好ましい親水性ポリマーの含有量は70質量%以上であり、更に好ましくは85質量%以上であり、最も好ましくは92.5質量%以上である。本発明の親水性補助層には好ましい乾燥質量があり、乾燥質量が多すぎると画像層の接着性が低下して耐刷性が悪くなる場合があり、また乾燥質量が少なすぎると親水性ポリマーによる耐地汚れ性改善効果が得られなくなる場合がある。親水性補助層の具体的な乾燥質量として好ましい範囲は乾燥質量で1平方メートル当たり1mgから1000mgであり、更に好ましくは5mgから600mgであり、最も好ましくは10mgから300mgである。   The hydrophilic auxiliary layer of the present invention contains 50% by mass or more of the hydrophilic polymer based on the total solid content of the hydrophilic auxiliary layer, and the more preferable content of the hydrophilic polymer is 70% by mass or more, and more preferably 85%. It is at least 9% by mass, most preferably at least 92.5% by mass. The hydrophilic auxiliary layer of the present invention has a preferable dry mass. If the dry mass is too large, the adhesiveness of the image layer may be lowered and printing durability may be deteriorated. If the dry mass is too small, the hydrophilic polymer may be used. In some cases, the soil dirt resistance improving effect due to may not be obtained. A preferred range for the dry weight of the hydrophilic auxiliary layer is from 1 mg to 1000 mg, more preferably from 5 mg to 600 mg, and most preferably from 10 mg to 300 mg per square meter.

本発明の親水性補助層は無機微粒子を含有することが好ましい。かかる無機微粒子としては、コロイダルシリカ、二酸化チタン粒子、アルミナ粒子(例えば酸化アルミニウム水和物、水酸化アルミニウム)、ゼオライト、その他の金属酸化物からなる粒子等が挙げられるが、中でもコロイダルシリカが好ましい。また親水性補助層は架橋剤を含有することが好ましく、親水性ポリマーに対して1〜40質量%の範囲で用いることが好ましい。   The hydrophilic auxiliary layer of the present invention preferably contains inorganic fine particles. Examples of the inorganic fine particles include colloidal silica, titanium dioxide particles, alumina particles (for example, aluminum oxide hydrate, aluminum hydroxide), zeolite, and other metal oxide particles, among which colloidal silica is preferable. Moreover, it is preferable that a hydrophilic auxiliary layer contains a crosslinking agent, and it is preferable to use in 1-40 mass% with respect to a hydrophilic polymer.

本発明の親水性補助層には、親水性ポリマー、無機微粒子の他に、シランカップリング剤、界面活性剤、pH調整剤等を含有することができる。   The hydrophilic auxiliary layer of the present invention can contain a silane coupling agent, a surfactant, a pH adjuster and the like in addition to the hydrophilic polymer and the inorganic fine particles.

[光重合性の感光層]
本発明の感光性平版印刷版の光重合性の感光層は、重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマーと、光重合開始剤を含有するネガ型の感光層であることが好ましい。重合性二重結合を有するモノマーとしては例えばアリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等を挙げることができる。
[Photopolymerizable photosensitive layer]
The photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is a negative photosensitive layer containing a polymer containing a monomer having a polymerizable double bond as a copolymerization component and a photopolymerization initiator. preferable. Examples of the monomer having a polymerizable double bond include allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl vinyl methacrylate, β-phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl. Examples include acrylamide, α-chlorovinyl methacrylate, α-chlorovinyl acrylate, β-methoxyvinyl methacrylate, β-methoxyvinyl acrylate, vinyl thioacrylate, vinyl thiomethacrylate, and the like.

上記のポリマーの好ましい態様として、重合性二重結合を有するモノマーと水溶性基含有モノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、4−スルホスチレン、アクリロニトリル等)を共重合成分として含む側鎖に重合性二重結合と水溶性基を有する共重合ポリマーがある。ポリマー構造中に水溶性基を含むことで、未露光部の光重合性の感光層の現像性が促進される。   As a preferable embodiment of the above polymer, a monomer having a polymerizable double bond and a water-soluble group-containing monomer (for example, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, 4- There is a copolymer having a polymerizable double bond and a water-soluble group in a side chain containing carboxystyrene, 4-sulfostyrene, acrylonitrile, etc.) as a copolymerization component. By including a water-soluble group in the polymer structure, the developability of the photopolymerizable photosensitive layer in the unexposed area is promoted.

上述した共重合ポリマーのより好ましい態様として、重合性二重結合を有するモノマーとしてビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーを共重合成分として含む共重合ポリマーが挙げられる。ビニル基が置換したフェニル基とは、ベンゼン環やナフタレン環等の芳香族環にビニル基が置換されており、該ビニル基はハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていても良く、また芳香族環にも置換基を有していてもよい。ポリマー構造中の側鎖にビニル基が置換したフェニル基と水溶性基を有する共重合ポリマーを光重合性の感光層に含有せしめることで、発生するラジカルにより生成するスチリルラジカル同士の再結合により高感度なネガ型感光性平版印刷版が得られる。ビニル基が置換したフェニル基とは、詳細には下記一般式(3)で表される。   As a more preferable embodiment of the above-described copolymer, a copolymer having a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a monomer having a polymerizable double bond can be mentioned. The phenyl group substituted with a vinyl group is a vinyl group substituted with an aromatic ring such as a benzene ring or a naphthalene ring, and the vinyl group is a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group. , An amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group and the like, and the aromatic ring may have a substituent. By incorporating a copolymer with a water-soluble group and a phenyl group with a vinyl group substituted in the side chain in the polymer structure into the photopolymerizable photosensitive layer, the recombination of styryl radicals generated by the generated radicals increases the recombination. A sensitive negative photosensitive lithographic printing plate is obtained. The phenyl group substituted with a vinyl group is specifically represented by the following general formula (3).

Figure 2012128306
Figure 2012128306

式中、R11、R12及びR13は、同じであっても異なっていても良く、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。これらの基の中でも、R11が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R12及びR13が水素原子であるものが特に好ましい。 In the formula, R 11 , R 12 and R 13 may be the same or different and are each a hydrogen atom, halogen atom, carboxy group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group. A group selected from a group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a hydroxy group, and an alkoxy group. , Aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkyl It may be substituted with an amino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group or the like. Among these groups, those in which R 11 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 12 and R 13 are hydrogen atoms are particularly preferable.

式中、R14は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表す。また、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 In the formula, R 14 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, A group selected from an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, and an arylsulfonyl group. The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and a hydroxy group. , An alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and the like.

式中、mは0〜4の整数を表し、pは0または1の整数を表す。また、Lは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子または水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子群からなる多価の連結基を表す。 In the formula, m 1 represents an integer of 0 to 4, and p 1 represents an integer of 0 or 1. L 1 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom or a polyvalent linking group comprising a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group.

を構成する複素環の例としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環は置換基を有していても良い。 Examples of the heterocyclic ring constituting L 1 include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thia Triazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline And a nitrogen-containing heterocycle such as a ring and a quinoxaline ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like. These heterocycles may have a substituent.

上述した多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。   When the polyvalent linking group described above has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.

共重合ポリマーの最も好ましい態様として、重合性二重結合を有するモノマーとしてビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーと、水溶性基含有モノマーとして構造中にカルボキシ基を有するモノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、4−カルボキシスチレン、カルボキシエチルアクリレート等)を共重合成分として含む、側鎖にビニル基が置換したフェニル基とカルボキシ基を有する共重合ポリマー(以降、カルボン酸型ポリマーと称する)が挙げられる。このカルボン酸型ポリマーは構造中に有するカルボキシ基が、現像処理時に現像液に含有するアルカリ性物質(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、トリエチルアミン等)と塩を形成し、未露光部の光重合性の感光層の現像が行われる。従って、カルボン酸型ポリマーを用いる場合は、現像処理において後述するアルカリ性現像液を用いる方法(以降、アルカリ現像と称する)が好ましく、アルカリ性現像液のpH値は10.0以上である。   As the most preferred embodiment of the copolymer, a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a monomer having a polymerizable double bond, and a monomer having a carboxy group in the structure as a water-soluble group-containing monomer (for example, acrylic acid, methacrylic acid) Acid, 4-carboxystyrene, carboxyethyl acrylate, etc.) as a copolymerization component, and a copolymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and a carboxy group (hereinafter referred to as a carboxylic acid type polymer). . In this carboxylic acid type polymer, the carboxy group in the structure forms a salt with an alkaline substance (for example, sodium hydroxide, sodium carbonate, triethylamine, etc.) contained in the developer during the development processing, and the photopolymerizable polymer in the unexposed area. Development of the photosensitive layer is performed. Therefore, when a carboxylic acid type polymer is used, a method using an alkaline developer described later in the development process (hereinafter referred to as alkali development) is preferable, and the pH value of the alkaline developer is 10.0 or more.

本発明に於けるカルボン酸型ポリマーの具体例を下記に示す。   Specific examples of the carboxylic acid type polymer in the present invention are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

また共重合ポリマーの最も好ましい態様として、重合性二重結合を有するモノマーとしてビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーと水溶性基含有モノマーとして構造中にスルホン酸基を有しているモノマー(例えば3−スルホプロピルメタクリレート、4−スルホスチレン、4−スルホ−n−ブチルメタクリルアミド、スルホ−tert−ブチルアクリルアミド等)を共重合成分として含む、側鎖にビニル基が置換したフェニル基とスルホン酸基を有する共重合ポリマー(以降、スルホン酸型ポリマーと称する)が挙げられ、該スルホン酸基は塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩、トリエチルアンモニウム塩、リチウム塩、テトラメチルアンモニウム塩等)を形成していても良い。このスルホン酸型ポリマーは構造中に有するスルホン酸基が水溶性を高めるため、上述したアルカリ性現像液を用いてもよいが、本発明のより好ましい態様である現像液のpH値が4.0以上10.0未満の範囲内にあるケミカルレス現像液を用いる方法(以降、ケミカルレス現像と称する)が可能である。しかしながらスルホン酸型ポリマーにより形成される画像の親油性は比較的低く、印刷の際に十分な画像濃度を得ようと印刷機でインキ送り量を増やした場合、非画像部に汚れがとりわけ生じやすい。従ってこのような系においては親水性層により高い保水性を付与することが求められ、本発明はこのような系において、とりわけ好適に用いることができる。またスルホン酸型ポリマーは、前述のカルボン酸型ポリマーと同様、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有することで、高感度化が可能となる。   As the most preferred embodiment of the copolymer, a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group as a monomer having a polymerizable double bond and a monomer having a sulfonic acid group in the structure as a water-soluble group-containing monomer (for example, 3-sulfopropyl methacrylate, 4-sulfostyrene, 4-sulfo-n-butylmethacrylamide, sulfo-tert-butylacrylamide, etc.) as a copolymerization component, and a phenyl group and a sulfonic acid group in which a vinyl group is substituted on the side chain (Hereinafter referred to as sulfonic acid type polymer), and the sulfonic acid group forms a salt (for example, sodium salt, potassium salt, triethylammonium salt, lithium salt, tetramethylammonium salt, etc.). May be. In this sulfonic acid type polymer, since the sulfonic acid group in the structure enhances water solubility, the above-mentioned alkaline developer may be used, but the pH value of the developer which is a more preferred embodiment of the present invention is 4.0 or more. A method using a chemicalless developer in the range of less than 10.0 (hereinafter referred to as chemicalless development) is possible. However, the oleophilicity of the image formed by the sulfonic acid type polymer is relatively low, and when the ink feed amount is increased by the printing machine so as to obtain a sufficient image density at the time of printing, the non-image portion is particularly easily stained. . Therefore, in such a system, it is required to impart high water retention to the hydrophilic layer, and the present invention can be used particularly suitably in such a system. In addition, the sulfonic acid type polymer, like the carboxylic acid type polymer described above, has a phenyl group having a vinyl group substituted on the side chain, so that high sensitivity can be achieved.

本発明に於けるスルホン酸型ポリマーの具体例を下記に示す。   Specific examples of the sulfonic acid type polymer in the present invention are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

本発明の感光性平版印刷版の光重合性の感光層には光重合開始剤が含まれる。本発明に用いられる光重合開始剤としては、光または電子線の照射によりラジカルを発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いることができる。   The photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention contains a photopolymerization initiator. As a photoinitiator used for this invention, arbitrary compounds can be used if it is a compound which can generate | occur | produce a radical by irradiation of light or an electron beam.

本発明に用いることのできる光重合開始剤の例としては(a)有機ホウ素塩化合物、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(e)ケトオキシムエステル化合物、(f)アジニウム塩化合物、(g)活性エステル化合物、(h)メタロセン化合物、(i)トリハロアルキル置換化合物、(j)芳香族ケトン類等が挙げられ、特に好ましい光重合開始剤は(a)有機ホウ素塩化合物、(i)トリハロアルキル置換化合物である。   Examples of the photopolymerization initiator that can be used in the present invention include (a) an organic boron salt compound, (b) an aromatic onium salt compound, (c) an organic peroxide, (d) a hexaarylbiimidazole compound, ( e) ketoxime ester compounds, (f) azinium salt compounds, (g) active ester compounds, (h) metallocene compounds, (i) trihaloalkyl-substituted compounds, (j) aromatic ketones, etc. The polymerization initiator is (a) an organic boron salt compound and (i) a trihaloalkyl-substituted compound.

(a)有機ホウ素塩化合物の例としては、特開平8−217813号公報、特開平9−106242号公報、特開平9−188685号公報、特開平9−188686号公報、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素アンモニウム化合物、特開平6−175561号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−157623号公報等に記載の有機ホウ素スルホニウム化合物及び有機ホウ素オキソスルホニウム化合物、特開平6−175553号公報、特開平6−175554号公報等に記載の有機ホウ素ヨードニウム化合物、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素ホスホニウム化合物、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−292014号公報、特開平7−306527号公報等に記載の有機ホウ素遷移金属配位錯体化合物等が挙げられる。また、特開昭62−143044号公報、特開平5−194619号公報等に記載の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有するカチオン性色素が挙げられる。   Examples of (a) organic boron salt compounds include JP-A-8-217813, JP-A-9-106242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, and JP-A-9-188710. Organoboron ammonium compounds described in JP-A-6-175561, JP-A-6-175564, JP-A-6-157623, and the like. Organoboron iodonium compounds described in JP-A-6-175553, JP-A-6-175554, etc., Organoboron phosphonium compounds described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7- 128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-2920 4 JP, organic boron transition metal coordination complex compound described in JP-A-7-306527 Patent Publication, and the like. Examples of the counter anion described in JP-A-62-143044 and JP-A-5-194619 include cationic dyes containing an organic boron anion.

(b)芳香族オニウム塩化合物の例としては、N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、TeまたはIの芳香族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩化合物は特公昭52−14277号公報、特公昭52−14278号公報、特公昭52−14279号公報等に例示されている化合物を挙げることができる。   (B) Examples of the aromatic onium salt compound include N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te or I aromatic onium salts. Examples of such aromatic onium salt compounds include compounds exemplified in Japanese Patent Publication No. 52-14277, Japanese Patent Publication No. 52-14278, Japanese Patent Publication No. 52-14279, and the like.

(c)有機過酸化物の例としては、分子中に酸素−酸素結合を一個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、例えば、3,3′,4,4′−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ(tert−ブチルジパーオキシ)イソフタレート等の過酸化エステル系が好ましい。   (C) Examples of organic peroxides include almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. For example, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butyl) Peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3, 3 ', 4,4'-tetra (tert-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra ( Peroxidation of p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di (tert-butyldiperoxy) isophthalate, etc. Ester systems are preferred.

(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物の例としては、特公昭45−37377号公報、特公昭44−86516号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   (D) Examples of hexaarylbiimidazole compounds include lophine dimers described in JP-B-45-37377 and JP-B-44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) bi Imidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5 5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and the like.

(e)ケトオキシムエステル化合物の例としては、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−(p−トルエンスルホニルオキシイミノ)ブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。   (E) Examples of ketoxime ester compounds include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane -3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (p-toluenesulfonyloxyimino) butan-2-one , 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like.

(f)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63−138345号公報、特開昭63−142345号公報、特開昭63−142346号公報、特開昭63−143537号公報、特公昭46−42363号公報等に記載のN−O結合を有する化合物群を挙げることができる。   Examples of (f) azinium salt compounds include JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, JP-B-46. The compound group which has NO bond as described in -42363 gazette etc. can be mentioned.

(g)活性エステル化合物の例としては特公昭62−6223号公報等に記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号公報、特開昭59−174831号公報等に記載の活性スルホネート類を挙げることができる。   (G) Examples of active ester compounds include imide sulfonate compounds described in JP-B-62-2623, etc., and active sulfonates described in JP-B-63-14340, JP-A-59-174831, etc. be able to.

(h)メタロセン化合物の例としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報等に記載のチタノセン化合物、並びに特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報等に記載の鉄−アレーン錯体等を挙げることができる。   (H) Examples of metallocene compounds include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705. And titanocene compounds described in JP-A-1-304453, and iron-arene complexes described in JP-A-1-152109 and the like.

(i)トリハロアルキル置換化合物の例としては、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、米国特許第3,954,475号明細書、米国特許第3,987,037号明細書、米国特許第4,189,323号明細書、特開昭61−151644号公報、特開昭63−298339号公報、特開平4−69661号公報、特開平11−153859号公報等に記載のトリハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭54−74728号公報、特開昭55−77742号公報、特開昭60−138539号公報、特開昭61−143748号公報、特開平4−362644号公報、特開平11−84649号公報等に記載の2−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。また、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環あるいは含窒素複素環に結合した、特開2001−290271号公報等に記載のトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   (I) Specific examples of the trihaloalkyl-substituted compound include compounds having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group and a tribromomethyl group in the molecule. US Pat. No. 3,954,475 Specification, U.S. Pat. No. 3,987,037, U.S. Pat. No. 4,189,323, JP-A-61-151644, JP-A-63-298339, JP-A-4-69661 And trihalomethyl-s-triazine compounds described in JP-A-11-153859, JP-A-54-74728, JP-A-55-77742, JP-A-60-138539, 2-Trihalomethyl-1,3 described in JP-A-61-143748, JP-A-4-362644, JP-A-11-84649, etc. 4- oxadiazole derivatives. Moreover, the trihaloalkyl sulfonyl compound as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-290271 etc. which this trihaloalkyl group couple | bonded with the aromatic ring or the nitrogen-containing heterocyclic ring through the sulfonyl group is mentioned.

(j)芳香族ケトン類の好ましい例としては、「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY」 J.P.FUOASSIER,J.F.RABEK(1993)、P.77〜P.177に記載のベンゾフェノン骨格、あるいはチオキサントン骨格を有する化合物、特公昭47−6416号公報に記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47−22326号公報に記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭47−23664号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−30704号公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60−26483号公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン類、特公昭60−26403号公報、特開昭62−81345号公報に記載のベンゾインエーテル類、特開平2−211452号公報に記載のp−ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61−194062号公報に記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2−9597号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2−9596号公報に記載のアシルホスフィン類、特公昭63−61950号公報に記載のチオキサントン類、特公昭59−42864号公報に記載のクマリン類を挙げることができる。   (J) Preferred examples of aromatic ketones include “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY”. P. FUOASSIER, J.A. F. RABEK (1993), P.A. 77-P. 177, a compound having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton, an α-thiobenzophenone compound described in Japanese Patent Publication No. 47-6416, a benzoin ether compound described in Japanese Patent Publication No. 47-3981, and Japanese Patent Publication No. 47-22326 Α-substituted benzoin compounds described in JP-A No. 47-23664, benzoin derivatives described in JP-B-47-23664, aroylphosphonic acid esters described in JP-A-57-30704, and JP-B-60-26483 Dialkoxybenzophenones, benzoin ethers described in JP-B-60-26403, JP-A-62-181345, p-di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-2-211452, A thio-substituted aromatic group described in JP-A-61-194062 Ton, an acylphosphine sulfide described in JP-B-2-9597, an acylphosphine described in JP-B-2-9596, a thioxanthone described in JP-B-63-61950, and JP-B-59-42864 Can be mentioned.

本発明に用いられる光重合開始剤には光酸発生剤として知られている化合物も含まれる。光酸発生剤は、光または電子線の照射により分解し、塩酸、スルホン酸等の強酸やルイス酸の如き酸を発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いることができる。本発明に用いることのできる光酸発生剤の例としては、(k)芳香族ジアゾニウム塩化合物、(l)ピバリン酸−o−ニトロベンジルエステル、ベンゼンスルホン酸−o−ニトロベンジルエステル等のo−ニトロベンジルエステル類、(m)9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸−4−ニトロベンジルエステル、ピロガロールトリスメタンスルホネート、ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル類等のスルホン酸エステル誘導体、(n)ジベンジルスルホン、4−クロロフェニル−4′−メトキシフェニルジスルホン等のスルホン類、(o)リン酸エステル誘導体及び(p)米国特許第3,332,936号明細書、特開平2−83638号公報、特開平11−322707号公報、特開2000−1469号公報等に記載のスルホニルジアゾメタン化合物等を挙げることができる。   The photopolymerization initiator used in the present invention includes compounds known as photoacid generators. As the photoacid generator, any compound can be used as long as it is a compound capable of decomposing by irradiation with light or electron beam and generating a strong acid such as hydrochloric acid or sulfonic acid or an acid such as Lewis acid. Examples of photoacid generators that can be used in the present invention include (k) aromatic diazonium salt compounds, (l) p-valic acid-o-nitrobenzyl ester, benzenesulfonic acid-o-nitrobenzyl ester, o- Sulfonic acid ester derivatives such as nitrobenzyl esters, (m) 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid-4-nitrobenzyl ester, pyrogallol trismethanesulfonate, naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid esters, (n) Sulfones such as dibenzylsulfone and 4-chlorophenyl-4'-methoxyphenyldisulfone, (o) phosphate ester derivatives and (p) U.S. Pat. No. 3,332,936, JP-A-2-83638, JP 11-322707 A, JP 2000-1469 A, etc. And the like sulfonyl diazomethane compounds described.

本発明で特に好ましい光重合開始剤である有機ホウ素塩化合物は、有機ホウ素塩から構成されており、有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式(4)で表される。   The organic boron salt compound which is a particularly preferable photopolymerization initiator in the present invention is composed of an organic boron salt, and the organic boron anion constituting the organic boron salt is represented by the following general formula (4).

Figure 2012128306
Figure 2012128306

式中、R21、R22、R23及びR24は各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R21、R22、R23及びR24の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 21 , R 22 , R 23 and R 24 may be the same or different, and represents an alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or heterocyclic group. To express. Of these, it is particularly preferred that one of R 21 , R 22 , R 23 and R 24 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

上記の有機ホウ素アニオンは、これと塩を形成するカチオンが同時に存在する。この場合のカチオンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及びカチオン性増感色素が挙げられる。オニウム塩としては、アンモニウム、スルホニウム、ヨードニウム及びホスホニウム化合物が挙げられる。アルカリ金属イオンまたはオニウム化合物と有機ホウ素アニオンとの塩を用いる場合には、別に増感色素を添加することで色素が吸収する光の波長範囲での感光性を付与することが行われる。また、カチオン性増感色素の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有する場合は、該増感色素の吸収波長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は更にアルカリ金属もしくはオニウム塩の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを併せて含有するのが好ましい。   In the above-mentioned organoboron anion, a cation that forms a salt is simultaneously present. Examples of the cation in this case include alkali metal ions, onium ions, and cationic sensitizing dyes. Examples of onium salts include ammonium, sulfonium, iodonium and phosphonium compounds. When a salt of an alkali metal ion or onium compound and an organic boron anion is used, photosensitivity in the wavelength range of light absorbed by the dye is imparted by adding a sensitizing dye separately. Further, when an organic boron anion is contained as a counter anion of the cationic sensitizing dye, photosensitivity is imparted according to the absorption wavelength of the sensitizing dye. However, in the latter case, it is preferable to further contain an organic boron anion as a counter anion of the alkali metal or onium salt.

本発明に用いられる有機ホウ素塩としては、先に示した一般式(4)で表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオン及びオニウム化合物が好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとのオニウム塩として、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の具体例を下記に示す。   The organic boron salt used in the present invention is a salt containing the organic boron anion represented by the general formula (4) shown above, and alkali metal ions and onium compounds are preferably used as cations forming the salt. The Particularly preferable examples of the onium salt with an organic boron anion include ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Specific examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

Figure 2012128306
Figure 2012128306

本発明において、有機ホウ素塩と共に用いることで更に高感度化、硬調化が具現される光重合開始剤としてトリハロアルキル置換化合物が挙げられる。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、あるいは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環あるいは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   In the present invention, a trihaloalkyl-substituted compound can be used as a photopolymerization initiator that can be used with an organic boron salt to realize higher sensitivity and higher contrast. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group. .

トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい具体例を下記に示す。   Particularly preferred specific examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

Figure 2012128306
Figure 2012128306

上記光重合開始剤は単独で用いても良いし、任意の2種以上の組み合わせで用いても良い。光重合開始剤の含有量は、重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマーの100質量部に対して、1〜100質量部の範囲が好ましく、更に1〜40質量部の範囲が特に好ましい。   The above photopolymerization initiators may be used alone or in any combination of two or more. The content of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 1 to 100 parts by mass and more preferably in the range of 1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer containing a monomer having a polymerizable double bond as a copolymerization component. Is particularly preferred.

本発明の感光性平版印刷版の光重合性の感光層には増感色素が含まれることが好ましい。かかる増感色素は増感色素が有する吸収極大波長に前述の光重合開始剤を増感するものである。これにより各種レーザー(例えば青紫色半導体レーザー、近赤外レーザー)による露光に対応することが可能になる。そして前記光重合開始剤が有機ホウ素塩である場合、該増感色素と組み合わせることで、各種レーザー光に対する感度が非常に高くなる特徴を有する。増感色素は、具体的には380〜1300nmの波長域において光重合開始剤の分解を増感するものであり、種々のカチオン性色素、アニオン性色素及び電荷を有しない中性の色素としてメロシアニン、クマリン、キサンテン、チオキサンテン、アゾ色素等が使用できる。本発明に関わる増感色素の具体例を以下に示す。   The photopolymerizable photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably contains a sensitizing dye. Such a sensitizing dye sensitizes the aforementioned photopolymerization initiator to the absorption maximum wavelength of the sensitizing dye. This makes it possible to cope with exposure by various lasers (for example, a blue-violet semiconductor laser and a near infrared laser). And when the said photoinitiator is an organic boron salt, it has the characteristic that the sensitivity with respect to various laser beams becomes very high by combining with this sensitizing dye. The sensitizing dye specifically sensitizes the decomposition of the photopolymerization initiator in a wavelength range of 380 to 1300 nm, and includes various cationic dyes, anionic dyes, and merocyanine as neutral dyes having no charge. , Coumarin, xanthene, thioxanthene, azo dyes and the like can be used. Specific examples of the sensitizing dye according to the present invention are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

Figure 2012128306
Figure 2012128306

本発明の増感色素として、近赤外レーザー対応のため、750〜1100nmの波長領域の光に感光性を持たせる系が好ましく、増感色素として、こうした波長領域に吸収を有することが必要であり、こうした目的で使用される特に好ましい具体例を以下に示す。   As the sensitizing dye of the present invention, a system that imparts sensitivity to light in the wavelength region of 750 to 1100 nm is preferable for near infrared laser, and the sensitizing dye needs to have absorption in such a wavelength region. There is a particularly preferred specific example used for such purposes.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

本発明の増感色素として、短波長に光源を有する青紫色半導体レーザー(バイオレットレーザー)対応に使用される特に好ましい増感色素の具体例を以下に示す。   Specific examples of particularly preferable sensitizing dyes used for blue-violet semiconductor lasers having a light source at a short wavelength as sensitizing dyes of the present invention are shown below.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

上記増感色素は単独で用いても良いし、任意の2種以上の組み合わせで用いても良い。増感色素の含有量は、重合性二重結合を有するモノマーを共重合成分として含むポリマーの100質量部に対して0.1〜50質量部の範囲が好ましく、更に0.5〜20質量部の範囲が特に好ましい。   The sensitizing dyes may be used alone or in any combination of two or more. The content of the sensitizing dye is preferably in the range of 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer containing a monomer having a polymerizable double bond as a copolymerization component. The range of is particularly preferable.

光重合性の感光層を構成する他の要素として着色剤の添加も好ましく行うことができる。着色剤としては露光及び現像処理後において画像部の視認性を高める目的で使用されるものであり、カーボンブラック、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素及び顔料を使用することができる。   Addition of a colorant can also be preferably performed as another element constituting the photopolymerizable photosensitive layer. As a colorant, it is used for the purpose of enhancing the visibility of the image area after exposure and development processing, and various kinds of carbon black, phthalocyanine dye, triarylmethane dye, anthraquinone dye, azo dye, etc. Dyes and pigments can be used.

光重合性の感光層を構成する要素については上述の要素以外にも種々の目的で他の要素を追加して含有することもできる。例えば感光層組成物のブロッキングを防止する目的で無機物微粒子あるいは有機物微粒子を添加することも好ましく行われる。   About the element which comprises a photopolymerizable photosensitive layer, in addition to the above-mentioned element, other elements can be additionally contained for various purposes. For example, inorganic fine particles or organic fine particles are also preferably added for the purpose of preventing blocking of the photosensitive layer composition.

光重合性の感光層の乾燥質量に関しては好ましい範囲が存在し、乾燥質量で1平方メートルあたり0.2gから5gの範囲で形成することが好ましく、最も好ましい範囲は1平方メートルあたり0.5gから3gの範囲である。   There is a preferred range for the dry weight of the photopolymerizable photosensitive layer, preferably a dry weight ranging from 0.2 g to 5 g per square meter, most preferably 0.5 g to 3 g per square meter. It is a range.

本発明の感光性平版印刷版には、支持体からみて感光層の上に保護層を有してもよく、光重合性の感光層において、レーザー露光により発生したラジカル種の失活を助長する要因にある酸素を、より遮断する性能の保護層が好ましく、特に露光機のレーザー光源がバイオレットレーザーの場合、市販されている光源では充分なエネルギー量が得られないため、保護層を塗設することが特に好ましい。保護層には比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/ビニルアルコール/フタル酸ビニル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミドなどのような水溶性ポリマーが挙げられ、これらは単独または混合して使用できる。これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に最も良好な結果を与える。   The photosensitive lithographic printing plate of the present invention may have a protective layer on the photosensitive layer as viewed from the support, and promotes deactivation of radical species generated by laser exposure in the photopolymerizable photosensitive layer. A protective layer with the ability to block oxygen as a factor is preferable. Especially when the laser light source of the exposure machine is a violet laser, a sufficient amount of energy cannot be obtained with a commercially available light source. It is particularly preferred. It is preferable to use a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity for the protective layer, and specifically, polyvinyl alcohol, vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer, vinyl acetate / vinyl alcohol / vinyl phthalate copolymer. Examples thereof include water-soluble polymers such as polymers, vinyl acetate / crotonic acid copolymers, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, polyacrylic acid, and polyacrylamide, which can be used alone or in combination. . Of these, the use of polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に使用するポリビニルアルコールとしては、必要な水溶性の発現に必要な実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有してさえいれば、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を含有しても良い。ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、重合度が300〜2400の範囲のものが挙げられる。具体的には(株)クラレ製、PVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−405、PVA−420、PVA−613等が挙げられる。上記の共重合体としては88〜100%加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマール及びポリビニルアセタール及びそれらの共重合体が挙げられる。   The polyvinyl alcohol used in the protective layer is partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units necessary for the development of the required water solubility. Also good. Similarly, a part may contain other copolymerization components. Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd., PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-405, PVA-420, PVA- 613 etc. are mentioned. Examples of the copolymer include 88-100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal, polyvinyl acetal, and copolymers thereof.

前記ポリビニルアルコールの保護層中における含有量は、固形分換算で50質量%以上であることが好ましく、より好ましくは70質量%以上である。   The content of the polyvinyl alcohol in the protective layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more in terms of solid content.

本発明の保護層には、ポリビニルアルコール、その他の水溶性ポリマー、各種の有機化合物、無機化合物を添加してもよい。また、光重合性の感光層上に塗設するための塗布性を改善するなどの目的で界面活性剤を添加してもよい。   Polyvinyl alcohol, other water-soluble polymers, various organic compounds, and inorganic compounds may be added to the protective layer of the present invention. A surfactant may be added for the purpose of improving the coating property for coating on the photopolymerizable photosensitive layer.

本発明の保護層の乾燥重量は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択されるが、1平方メートルあたり0.1gから3gの間が好ましい。   The dry weight of the protective layer of the present invention is selected in consideration of fogging, adhesion and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability, but is preferably between 0.1 g and 3 g per square meter.

[製版方法]
本発明の感光性平版印刷版は、密着露光あるいはレーザー走査露光を行った後、アルカリ性現像液やケミカルレス現像液により未硬化部を除去することでパターン形成が行われる。ネガ型感光性平版印刷版においては、露光された部分は架橋することでアルカリ性現像液あるいはケミカルレス現像液に対する溶解性が低下し、画像部が形成される。
[Plate making method]
The photosensitive lithographic printing plate of the present invention is subjected to contact exposure or laser scanning exposure, and then a pattern is formed by removing uncured portions with an alkaline developer or a chemicalless developer. In a negative photosensitive lithographic printing plate, the exposed portion is crosslinked, so that the solubility in an alkaline developer or a chemical-less developer is lowered, and an image portion is formed.

本発明の感光性平版印刷版の製版方法としては、ケミカルレス現像液による現像を行うことが好ましい。ケミカルレス現像液は、従来から一般に用いられているアルカリ剤を多量に含有する強アルカリの現像液(通常pH10を超える)とは異なり、実質的にアルカリ剤は含まない。従って、本発明の水現像に用いられる現像液のpHは10以下であり、好ましくはpH9.5以下であり、より好ましくはpH9以下である。pHの下限は3程度である。ここで実質的にアルカリ剤を含まないとは、現像液の全質量に対してアルカリ剤が1質量%以下、より好ましくは0.1質量%以下であることを意味する。本発明のケミカルレス現像、あるいは水現像に用いられる現像液は、水が現像液全体の70質量%以上、更には80質量%以上を占めるものであり、他に添加剤として、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルセルソルブ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ベンジルアルコール等の各種有機溶剤、あるいは、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の界面活性剤等を添加することもできる。   As the plate making method of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, it is preferable to perform development with a chemicalless developer. Unlike a strong alkali developer (usually exceeding pH 10) that contains a large amount of an alkali agent that has been generally used, the chemical-less developer is substantially free of an alkali agent. Therefore, the pH of the developer used in the water development of the present invention is 10 or less, preferably pH 9.5 or less, and more preferably pH 9 or less. The lower limit of pH is about 3. Here, the phrase “substantially free of alkali agent” means that the alkali agent is 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, based on the total mass of the developer. The developer used in the chemicalless development or water development of the present invention is such that water accounts for 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the entire developer, and other additives include ethanol, isopropanol, Various organic solvents such as n-butyl cellosolve, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin, and benzyl alcohol, or anionic, cationic, and nonionic surfactants can be added.

以下実施例により本発明を更に詳しく説明するが、効果はもとより本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples as well as the effects.

(感光性平版印刷版1の作製)
<中間層>
厚みが100μmのポリエステルフィルム支持体上に、下記の中間層処方にてワイヤーバーで乾燥質量が8g(1平方メートル当たり)になるように塗布を行い、50℃の乾燥機にて10分間乾燥を行い、更に乾燥物を40℃の乾燥機にて2日間加熱を行った。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 1)
<Intermediate layer>
On a polyester film support with a thickness of 100 μm, apply the following intermediate layer formulation with a wire bar so that the dry mass is 8 g (per square meter), and dry it with a dryer at 50 ° C. for 10 minutes. Further, the dried product was heated in a dryer at 40 ° C. for 2 days.

<中間層処方>
ゼラチン 10質量部
架橋剤H−6 1質量部
イオン交換水 100質量部
pH調整剤(水酸化ナトリウム水溶液もしくは硫酸水溶液にてpH値を5.0に調整)
<Intermediate layer prescription>
Gelatin 10 parts by weight Crosslinker H-6 1 part by weight Ion-exchanged water 100 parts by weight pH adjuster (pH value adjusted to 5.0 with aqueous sodium hydroxide or sulfuric acid)

<親水性層>
上記中間層上に、下記の親水性層処方にてワイヤーバーで乾燥質量が4.0g(1平方メートル当たり)になるように塗布を行い、50℃の乾燥機にて10分間乾燥を行った。
<Hydrophilic layer>
On the said intermediate | middle layer, it apply | coated so that a dry mass might be set to 4.0g (per square meter) with a wire bar with the following hydrophilic layer prescription, and it dried for 10 minutes with a 50 degreeC dryer.

<親水性層処方>
*コロイダルシリカは乾燥質量を表記している。
水溶性樹脂(WP−4) 1質量部
コロイダルシリカ 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M
(粒子径80〜150nm) 1.5質量部
架橋剤H−9 0.2質量部
pH調整剤(水酸化ナトリウム水溶液もしくは硫酸水溶液にてpH値を5.0に調整)
イオン交換水 25質量部
<Hydrophilic layer formulation>
* Colloidal silica indicates dry mass.
Water-soluble resin (WP-4) 1 part by mass Colloidal silica Snowtex PS-M manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
(Particle diameter 80-150 nm) 1.5 parts by mass Crosslinker H-9 0.2 parts by mass pH adjuster (pH value adjusted to 5.0 with aqueous sodium hydroxide or sulfuric acid)
25 parts by mass of ion exchange water

<親水性補助層>
上記した親水性層上に、下記の親水性補助層処方1にてワイヤーバーで乾燥質量が0.2g(1平方メートル当たり)になるように塗布を行い、50℃の乾燥機にて10分間乾燥を行った。その後、親水性補助層上に、下記の光重合性の感光層処方にてワイヤーバーで乾燥質量が1.5g(1平方メートル当たり)になるように光重合性の感光層の塗布を行い、70℃の乾燥機にて3分間乾燥を行った。更に光重合性の感光層の上に下記の保護層処方にてワイヤーバーで乾燥質量が1.5g(1平方メートル当たり)になるように保護層の塗布を行い、70℃の乾燥機にて10分間乾燥を行い、感光性平版印刷版1を得た。
<Hydrophilic auxiliary layer>
On the above hydrophilic layer, the following hydrophilic auxiliary layer formulation 1 is applied with a wire bar so that the dry mass is 0.2 g (per square meter), and dried at 50 ° C. for 10 minutes. Went. Thereafter, a photopolymerizable photosensitive layer was applied on the hydrophilic auxiliary layer so as to have a dry mass of 1.5 g (per square meter) with a wire bar according to the following photopolymerizable photosensitive layer formulation. Drying was performed for 3 minutes in a dryer at 0 ° C. Further, a protective layer is applied on the photopolymerizable photosensitive layer with a wire bar in the following protective layer formulation so that the dry mass becomes 1.5 g (per square meter), and 10% by a dryer at 70 ° C. Drying was performed for a minute to obtain a photosensitive lithographic printing plate 1.

<親水性補助層処方1>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー キサンタンガム 0.012質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00764質量部
架橋剤 H−9 0.00036質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 1>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer Xanthan gum 0.012 parts by mass Inorganic fine particles SNOWTEX PS-M 0.00764 parts by mass manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Crosslinker H-9 0.00036 parts by mass Ion-exchanged water 10 parts by mass

<光重合性の感光層処方>
スルホン酸型ポリマー SP−1 1質量部
光重合開始剤 BC−4 0.1質量部
光重合開始剤 T−8 0.1質量部
増感色素 S−19 0.05質量部
着色剤 ビクトリアブルー 0.2質量部
アセトン 5質量部
エタノール 5質量部
テトラヒドロフラン 10質量部
<Photopolymerizable photosensitive layer formulation>
Sulfonic acid type polymer SP-1 1 part by weight Photopolymerization initiator BC-4 0.1 part by weight Photopolymerization initiator T-8 0.1 part by weight Sensitizing dye S-19 0.05 part by weight Colorant Victoria Blue 0 .2 parts by mass Acetone 5 parts by mass Ethanol 5 parts by mass Tetrahydrofuran 10 parts by mass

<保護層処方>
(株)クラレ製 PVA−117 1質量部
イオン交換水 20質量部
<Protective layer prescription>
Kuraray PVA-117 1 part by mass Ion-exchanged water 20 parts by mass

(感光性平版印刷版2の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方2を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版2を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 2)
The photosensitive lithographic printing plate 2 was prepared in the same manner except that a hydrophilic auxiliary layer was provided using the following hydrophilic auxiliary layer formulation 2 instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方2>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー キサンタンガム 0.016質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00352質量部
架橋剤 H−9 0.00048質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 2>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer Xanthan gum 0.016 parts by weight Inorganic fine particles Nissan Chemical Co., Ltd. Snowtex PS-M 0.00352 parts by weight Crosslinker H-9 0.00048 parts by weight Ion-exchanged water 10 parts by weight

(感光性平版印刷版3の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方3を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版3を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 3)
The photosensitive lithographic printing plate 3 was prepared in the same manner except that the hydrophilic auxiliary layer formulation 3 described below was used instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方3>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー キサンタンガム 0.018質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00146質量部
架橋剤 H−9 0.00054質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 3>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer Xanthan gum 0.018 parts by weight Inorganic fine particles Nissan Chemical Industries, Ltd. Snowtex PS-M 0.00146 parts by weight Crosslinker H-9 0.00054 parts by weight Ion-exchanged water 10 parts by weight

(感光性平版印刷版4の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方4を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版4を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 4)
The photosensitive lithographic printing plate 4 was prepared in the same manner except that the hydrophilic auxiliary layer formulation 4 described below was used instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方4>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー キサンタンガム 0.019質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00043質量部
架橋剤 H−9 0.00057質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 4>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer Xanthan gum 0.019 parts by weight Inorganic fine particles Nissan Chemical Industries Co., Ltd. Snowtex PS-M 0.00043 parts by weight Crosslinker H-9 0.00057 parts by weight Ion-exchanged water 10 parts by weight

(感光性平版印刷版5の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方5を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版5を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 5)
The photosensitive lithographic printing plate 5 was prepared in the same manner except that a hydrophilic auxiliary layer was provided using the following hydrophilic auxiliary layer formulation 5 instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方5>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー (ヒアルロン酸) 0.019質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00043質量部
架橋剤 H−9 0.00057質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 5>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer (hyaluronic acid) 0.019 parts by mass Inorganic fine particles Nissan Chemical Industries, Ltd. Snowtex PS-M 0.00043 parts by mass Crosslinker H-9 0.00057 parts by mass Ion-exchanged water 10 parts by mass

(感光性平版印刷版6の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方6を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版6を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 6)
The photosensitive lithographic printing plate 6 was prepared in the same manner except that the hydrophilic auxiliary layer formulation 6 described below was used instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方6>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー (WP−4) 0.019質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00043質量部
架橋剤 H−9 0.00057質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 6>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer (WP-4) 0.019 parts by weight Inorganic fine particles Nissan Chemical Industries, Ltd. Snowtex PS-M 0.00043 parts by weight Crosslinker H-9 0.00057 parts by weight Ion-exchanged water 10 parts by weight

(感光性平版印刷版7の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方7を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版7を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 7)
The photosensitive lithographic printing plate 7 was prepared in the same manner except that the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 described below was used instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方7>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー (WP−5) 0.019質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00043質量部
架橋剤 H−9 0.00057質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 7>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer (WP-5) 0.019 parts by mass Inorganic fine particles Nissan Chemical Industries, Ltd. Snowtex PS-M 0.00043 parts by mass Crosslinker H-9 0.00057 parts by mass Ion-exchanged water 10 parts by mass

(感光性平版印刷版8の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方8を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版8を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 8)
The photosensitive lithographic printing plate 8 was prepared in the same manner except that a hydrophilic auxiliary layer was provided using the following hydrophilic auxiliary layer formulation 8 instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方8>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA117)
0.019質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00043質量部
架橋剤 H−9 0.00057質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 8>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer polyvinyl alcohol (PVA117 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
0.019 parts by mass Inorganic fine particles Nissan Chemical Co., Ltd. Snowtex PS-M 0.00043 parts by mass Crosslinker H-9 0.00057 parts by mass Ion-exchanged water 10 parts by mass

(感光性平版印刷版9の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方9を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版9を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 9)
The photosensitive lithographic printing plate 9 was prepared in the same manner except that the hydrophilic auxiliary layer formulation 9 described below was used instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方9>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー ゼラチン(ニッピゼラチン(株)製IK−195)
0.019質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.00043質量部
架橋剤 H−9 0.00057質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 9>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer gelatin (IK-195 manufactured by Nippi Gelatin Co., Ltd.)
0.019 parts by mass Inorganic fine particles Nissan Chemical Co., Ltd. Snowtex PS-M 0.00043 parts by mass Crosslinker H-9 0.00057 parts by mass Ion-exchanged water 10 parts by mass

(感光性平版印刷版10の作製)
感光性平版印刷版1の作製で用いた親水性補助層処方1に代えて、下記親水性補助層処方10を用いて親水性補助層を設けた以外は同様にして、感光性平版印刷版10を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 10)
The photosensitive lithographic printing plate 10 was prepared in the same manner except that the hydrophilic auxiliary layer formulation 10 described below was used instead of the hydrophilic auxiliary layer formulation 1 used in the preparation of the photosensitive lithographic printing plate 1. Was made.

<親水性補助層処方10>
*無機微粒子は乾燥質量を表記している。
親水性ポリマー キサンタンガム 0.008質量部
無機微粒子 日産化学工業(株)製スノーテックスPS−M 0.01176質量部
架橋剤 H−9 0.00024質量部
イオン交換水 10質量部
<Hydrophilic auxiliary layer formulation 10>
* The dry weight of inorganic fine particles is indicated.
Hydrophilic polymer Xanthan gum 0.008 parts by mass Inorganic fine particles Snowtex PS-M 0.01176 parts by mass manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Cross-linking agent H-9 0.00024 parts by mass Ion-exchanged water 10 parts by mass

(感光性平版印刷版11の作製)
感光性平版印刷版1の作製において、親水性補助層を設けなかった以外は感光性平版印刷版1と同様にして、感光性平版印刷版11を作製した。
(Preparation of photosensitive lithographic printing plate 11)
In preparing the photosensitive lithographic printing plate 1, a photosensitive lithographic printing plate 11 was prepared in the same manner as the photosensitive lithographic printing plate 1 except that the hydrophilic auxiliary layer was not provided.

<露光>
このようにして作製した感光性平版印刷版1〜10それぞれについて、405nmバイオレットレーザーを搭載したプレートセッター(三菱製紙(株)製VIPLAS)を使用して、2400dpi175線の画像を露光量100μJ/cmで露光した。
<Exposure>
With respect to each of the photosensitive lithographic printing plates 1 to 10 thus produced, a 2400 dpi 175 line image was exposed to 100 μJ / cm 2 using a plate setter (VIPLAS manufactured by Mitsubishi Paper Industries Co., Ltd.) equipped with a 405 nm violet laser. And exposed.

<ケミカルレス現像処理>
上記のようにして露光した露光済み版それぞれを、厚さ200μmのアルミ板上に貼り付けて(光重合性の感光層が上側)、自動現像機として大日本スクリーン製造(株)製PS版用自動現像機PD−1310を用いて現像処理を行い、印刷用のプレートを得た。なお、現像処理の条件は、該自動現像機の第1槽(処理工程中にモルトン機構を有する)にイオン交換水を張り、液温度が30℃、処理時間が15秒の設定で上記露光済み版の処理を行い、第1槽の出口から処理済み版を取り出し、後に自然乾燥して、水現像プレートを得た。
<Chemical-less development processing>
Each exposed plate exposed as described above is pasted on an aluminum plate having a thickness of 200 μm (the photopolymerizable photosensitive layer is on the upper side), and used as a PS plate made by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Development processing was performed using an automatic developing machine PD-1310 to obtain a plate for printing. As for the conditions of the development processing, the above-mentioned exposure has been completed by setting ion exchange water in the first tank of the automatic processor (having a Morton mechanism in the processing step), setting the liquid temperature to 30 ° C., and the processing time to 15 seconds. The plate was processed, the processed plate was taken out from the outlet of the first tank, and then naturally dried to obtain a water developing plate.

<耐刷性印刷試験方法>
上記現像処理で得られた各々のプレートを、印刷機リョービ660に装着し、給湿液として10質量%イソプロピルアルコール水溶液、インキとして株式会社T&K TOKA スーパーテック GT 墨 SOYA(ミディアムタイプ)を用いて印刷を行い、1000枚目より1000枚毎に2万枚目までの印刷物をサンプリングした。印刷時の条件は室内温度が23℃、室内湿度が55%RHであった。
<Printing durability test method>
Each plate obtained by the above development processing is mounted on a printing press Ryobi 660, and printed using a 10% by mass isopropyl alcohol aqueous solution as a moisturizing liquid and T & K TOKA Supertech GT Black SOYA (medium type) as an ink. The printed material from the 1000th sheet up to the 20,000th sheet was sampled every 1000 sheets. The conditions during printing were an indoor temperature of 23 ° C. and an indoor humidity of 55% RH.

<耐刷性評価基準>
上記の1000枚目から2万枚目の印刷物(1000枚毎)において、5%網点の画像部(微小画像部)に欠損がないか、50倍ルーペにて観察し、画像部の耐刷性を以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
◎:2万枚目でも画像部に欠損がみられない
○:1万5000枚目〜1万9000枚目の間に画像部に欠損の発生が認められる
○△:1万枚目〜1万4000枚目の間に画像部に欠損の発生が認められる
△:6000枚目〜9000枚目の間に画像部に欠損の発生が認められる
△×:2000枚目〜5000枚目の間に画像部に欠損の発生が認められる
×:1000枚目に画像部に欠損の発生が認められる
<Evaluation criteria for printing durability>
In the printed material from the 1000th sheet to the 20,000th sheet (every 1000 sheets), the image area with 5% halftone dots (small image area) is observed for defects with a 50 × magnifier, and the image area is printed. Sex was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: Defects are not observed in the image area even at the 20,000th sheet. O: Defects are observed in the image area between the 15,000th sheet and the 19,000th sheet. O: 10,000th sheet to 10,000. The occurrence of a defect in the image portion is observed between the 4000th sheet. Δ: The occurrence of a defect is observed in the image portion between the 6000th sheet and the 9000th sheet. Δ ×: An image between the 2000th sheet and the 5000th sheet. Occurrence of defects in the image area is observed x: Defects are observed in the image area on the 1000th sheet

<耐地汚れ性印刷試験方法>
上記現像処理で得られた各々のプレートを、印刷機リョービ660に装着し、給湿液として10質量%イソプロピルアルコール水溶液、インキとして合同インキ株式会社 UNISOY 4CS G−1 紅(ソフトタイプ)を用いて印刷を行い、1000枚目より1000枚毎に1万枚目までの印刷物をサンプリングした。印刷時の条件は室内温度が23℃、室内湿度が55%RHであった。
<Soil stain resistance printing test method>
Each plate obtained by the above development processing is mounted on a printing press Ryobi 660, using a 10% by mass isopropyl alcohol aqueous solution as a moisturizing liquid, and UNIDOY 4CS G-1 Crimson (soft type) as ink. Printing was performed, and samples from the 1000th sheet to the 10,000th sheet were sampled every 1000 sheets. The conditions during printing were an indoor temperature of 23 ° C. and an indoor humidity of 55% RH.

<耐地汚れ性評価基準>
上記の1000枚目から1万枚目の印刷物(1000枚毎)において、非画像部の耐地汚れ性を目視にて以下の基準で評価した。結果を表1に示す。
◎:2万枚目でも非画像部に地汚れがみられない
○:1万5000枚目〜1万9000枚目の間に非画像部に地汚れの発生が認められる
○△:1万枚目〜1万4000枚目の間に非画像部に地汚れの発生が認められる
△:6000枚目〜9000枚目の間に非画像部に地汚れの発生が認められる
△×:2000枚目〜5000枚目の間に非画像部に地汚れの発生が認められる
×:1000枚目に非画像部に地汚れの発生が認められる
<Evaluation criteria for soil resistance>
In the 1000th to 10,000th printed materials (every 1000th sheet), the soil resistance of the non-image area was visually evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
A: No smudge is observed in the non-image area even at the 20,000th sheet. O: Occurrence of a smudge is observed in the non-image area between the 15,000th sheet and the 19,000th sheet. Between the 1st and 14,000th sheets, the occurrence of background smudge is observed in the non-image area. Δ: Between the 6000th sheet and the 9000th sheet, occurrence of the background smudge is recognized. Δ ×: 2000th sheet Generation of dirt on the non-image area is recognized between the 5,000th sheet and the non-image area on the 1000th sheet.

Figure 2012128306
Figure 2012128306

表1の結果より、親水性補助層に含有せしめる親水性ポリマー量を50質量%以上にすることによって、耐刷性及び耐地汚れ性に優れた良好な感光性平版印刷版が得られることが判る。   From the results shown in Table 1, it is possible to obtain a good photosensitive lithographic printing plate excellent in printing durability and background stain resistance by setting the amount of the hydrophilic polymer contained in the hydrophilic auxiliary layer to 50% by mass or more. I understand.

Claims (1)

プラスチック支持体上に、コロイダルシリカを含有する親水性層と光重合性の感光層を少なくともこの順に有する感光性平版印刷版であって、該親水性層と該光重合性の感光層との間に親水性補助層を有し、該親水性補助層が親水性補助層の全固形分に対して50質量%以上の親水性ポリマーを含有することを特徴とする感光性平版印刷版。   A photosensitive lithographic printing plate having at least a hydrophilic layer containing colloidal silica and a photopolymerizable photosensitive layer in this order on a plastic support, the gap between the hydrophilic layer and the photopolymerizable photosensitive layer A photosensitive lithographic printing plate comprising a hydrophilic auxiliary layer, wherein the hydrophilic auxiliary layer contains 50% by mass or more of a hydrophilic polymer based on the total solid content of the hydrophilic auxiliary layer.
JP2010281324A 2010-12-17 2010-12-17 Photosensitive lithographic printing plate Pending JP2012128306A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010281324A JP2012128306A (en) 2010-12-17 2010-12-17 Photosensitive lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010281324A JP2012128306A (en) 2010-12-17 2010-12-17 Photosensitive lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012128306A true JP2012128306A (en) 2012-07-05

Family

ID=46645363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010281324A Pending JP2012128306A (en) 2010-12-17 2010-12-17 Photosensitive lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012128306A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5238292B2 (en) Water-developable photosensitive lithographic printing plate material
JP5255221B2 (en) Processless photosensitive lithographic printing plate
JP4982223B2 (en) Processless photosensitive lithographic printing plate
JP5185843B2 (en) Photosensitive composition and planographic printing plate
JP2012128306A (en) Photosensitive lithographic printing plate
JP2010237560A (en) Photosensitive negative lithographic printing plate
JP4851979B2 (en) Water-developable photosensitive lithographic printing plate material
JP5238279B2 (en) Processless planographic printing plate
JP2012198469A (en) Photosensitive negative lithographic printing plate
JP2010224188A (en) Negative type photosensitive planographic printing plate
JP2009241300A (en) Process-less photosensitive lithographic printing plate
JP2008233820A (en) Support for lithographic printing plate, manufacturing method of lithographic printing plate, and photosensitive lithographic printing plate material
JP2010237559A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2011085843A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2012181472A (en) Negative type photosensitive lithographic printing plate
JP2011209515A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2012123036A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2012145852A (en) Development processing method of photosensitive planographic printing plate
JP2008250198A (en) Photosensitive planographic printing plate material and method for processing the same
JP5255222B2 (en) Support for lithographic printing plate
JP2011203401A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP2012189781A (en) Processing method of photosensitive lithographic printing plate
JP2012208152A (en) Negative type photosensitive lithographic printing plate
JP2011197109A (en) Negative photosensitive lithographic printing plate
JP5281445B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate material