JP5238279B2 - Processless planographic printing plate - Google Patents
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Description
本発明はプラスチックフィルムを支持体とし、支持体上に親水性層及び、画像形成層を少なくともこの順に有するプロセスレス平版印刷版に関する。特に、画像形成層が感光性であり、露光した後に水現像可能な、もしくは露光した後に印刷機に装着して、インクと湿し水の版面への供給により非画像部を取り去るプロセスレス感光性平版印刷版に関する。 The present invention relates to a processless lithographic printing plate having a plastic film as a support, and having a hydrophilic layer and an image forming layer at least in this order on the support. In particular, the image-forming layer is photosensitive and can be developed with water after exposure, or it can be mounted on a printing press after exposure to remove non-image areas by supplying ink and dampening water to the plate surface. Related to lithographic printing plates.
製版システムのデジタル化に伴い、コンピュータ画面上で組版したデータを直接平版印刷版に出力するコンピュータートゥープレートシステム(CTPシステムと呼ぶ)に適した印刷版の需要が高まっている。特に、デジタル機器の近くで従来の印刷版では通常行われていた特殊な薬品を使用した現像システムから、水による現像または印刷機上で現像出来るプロセスレス感光性平版印刷版、或いは熱による相転移やインクジェットを利用した現像処理工程の全くない、感光性ではないプロセスレス平版印刷版が注目されている。 With the digitization of the plate making system, there is an increasing demand for a printing plate suitable for a computer-to-plate system (referred to as a CTP system) that directly outputs data formatted on a computer screen to a planographic printing plate. In particular, a processless photosensitive lithographic printing plate that can be developed with water or developed on a printing machine, or a phase transition by heat, from a development system using special chemicals normally used in conventional printing plates near digital equipment. In addition, non-photosensitive processless lithographic printing plates having no development processing steps utilizing ink jets have attracted attention.
これらのCTPシステムに於いては、特殊な現像用薬品を使用しないために、処理薬品コストがかからない、或いは廃液処理コストが安く済むと同時に環境負荷低減のメリットを持つ。更に、プラスチックフィルム支持体の印刷システムは、ロール供給が可能な上、アルミ支持体の印刷版に比べて軽く、取り扱いやすいという利点がある。 In these CTP systems, since no special developing chemical is used, processing chemical costs are not required, or waste liquid processing costs are reduced, and at the same time, there is a merit of reducing environmental load. Furthermore, the printing system of the plastic film support has advantages that it can be supplied in rolls and is lighter and easier to handle than the printing plate of the aluminum support.
これらのCTPシステムとしては、例えば、ワックスを塗布した印刷版に対してサーマルヘッドや高出力近赤外半導体レーザーによって画像部のワックスを溶かし、これが親油性の画像部となり、ワックスの溶解していない部分が親水性のままとなるプロセスレス平版印刷版、熱によって画像形成層を溶融固着させ、固着していない部分を水または印刷機上で除去するプロセスレス平版印刷版、或いはインクジェットヘッドで親油性物質を画像状に版面表面に印字するプロセスレス平版印刷版などが知られている。 As these CTP systems, for example, the wax in the image area is melted with a thermal head or a high-power near-infrared semiconductor laser to a printing plate coated with wax, and this becomes an oleophilic image area, and the wax is not dissolved. Processless lithographic printing plate in which the part remains hydrophilic, Processless lithographic printing plate that melts and fixes the image forming layer by heat, and removes the non-fixed part with water or a printing machine, or oleophilic with an inkjet head A processless lithographic printing plate that prints a substance on the surface of a printing plate in an image form is known.
インクジェット方式で版面に親油性物質を画像状に印字するプロセスレス平版印刷版としては、特開2007−144823号公報(特許文献1)に記載されている様に、硫酸エステル基を有するポリマーと金属酸化物を含有する親水性層を設ける事が開示されている。同公報では硫酸エステル基を有するポリマーを、親水基と反応するポリマーで架橋させて加熱する事により、高い膜強度を有する親水性層が開示されている。一方、特開2000−158839号公報(特許文献2)ではアクリル樹脂とコロイダルシリカを一定の割合で支持体上に塗布して加熱する事によって形成する方法が開示されている。 As a processless lithographic printing plate for printing an oleophilic substance on the plate surface in an ink jet manner, as described in JP-A-2007-144823 (Patent Document 1), a polymer having a sulfate group and a metal are used. It is disclosed to provide a hydrophilic layer containing an oxide. This publication discloses a hydrophilic layer having high film strength by crosslinking a polymer having a sulfate ester group with a polymer that reacts with a hydrophilic group and heating. On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-158839 (Patent Document 2) discloses a method in which an acrylic resin and colloidal silica are coated on a support at a certain ratio and heated.
熱溶融性の平版印刷版としては、特開2006−281470号公報(特許文献3)に記載されているように、熱により疎水性になる層と、その上に平均分子量1万以上のポリアクリル酸を含有する親水性層を有する平版印刷版が開示されている。 As described in JP-A-2006-281470 (Patent Document 3), a heat-melting lithographic printing plate includes a layer that becomes hydrophobic by heat, and a polyacrylic resin having an average molecular weight of 10,000 or more on the layer. A lithographic printing plate having a hydrophilic layer containing an acid is disclosed.
また熱によって画像形成層を架橋反応させるプロセスレス平版印刷版としては、特開2005−238527号公報(特許文献4)のように、光熱変換剤を含む画像形成層を支持体の上に塗布し、その上に親水性層を塗布し、赤外線で露光した箇所の親水層を水または機上現像で除去する方法が開示されている。この場合、親水性層はポリアクリル酸などのポリマーをエポキシ化合物で架橋させる事で膜強度を高め、この親水性層に、架橋しないN−アルキルまたはN−アルキレン置換(メタ)アクリルアミド系化合物を反応して得られる親水性樹脂を親水層に含有する事で印刷汚れを防止、インク脱離の回復を早める方法が開示されている。 In addition, as a processless lithographic printing plate in which an image forming layer is subjected to a crosslinking reaction by heat, an image forming layer containing a photothermal conversion agent is applied onto a support as disclosed in JP-A-2005-238527 (Patent Document 4). In addition, a method is disclosed in which a hydrophilic layer is applied thereon and the hydrophilic layer exposed to infrared rays is removed by water or on-machine development. In this case, the hydrophilic layer increases the film strength by crosslinking a polymer such as polyacrylic acid with an epoxy compound, and this hydrophilic layer is reacted with an N-alkyl or N-alkylene-substituted (meth) acrylamide compound that is not crosslinked. A method is disclosed in which the hydrophilic layer obtained in this manner is contained in a hydrophilic layer to prevent printing stains and speed up recovery of ink detachment.
更に、特定の波長の光に感光性を有する光重合性感光層を親水層の上に設け、露光後に水現像或いは機上現像によって未露光部を除去する方法がある。このような感光層を得るための光重合性組成物としては特開2003−215801号公報(特許文献5)に記載される。同公報によれば、プラスチックフィルム支持体上に親水性層を設け、その上に、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または、側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸塩基を有する水溶性重合体、及び光重合開始剤または光酸発生剤を含有する事を特徴とする感光層を塗布する事で、露光とそれに続く水現像によって未露光部が除去され、親油性の画像部及び親水性層の非画像部を形成する事が出来る。また前記親水層としては、例えば特公昭49−2286号公報記載のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリレートモノマーを支持体上に塗布して加熱によって重合させ、親水性層を形成する方法、特開昭48−83902号公報記載のアクリルアミド系ポリマーをアルデヒド類で硬化させて得られる親水性層、特開昭62−280766号公報記載の水溶性メラミン樹脂、ポリビニルアルコール、水不溶性無機粉体を含有する組成物を加熱硬化させて得られる親水性層、特開平10−296895号公報記載のオニウム基を有する親水性層、特開平11−311861号公報に記載のルイス塩基部分を有する架橋親水性ポリマーを多価金属イオンとの相互作用によって三次元架橋させて得られる親水性樹脂及び水分散性フィラーを含有する親水性層等が挙げられている。 Further, there is a method in which a photopolymerizable photosensitive layer having photosensitivity to light of a specific wavelength is provided on a hydrophilic layer, and an unexposed portion is removed by water development or on-machine development after exposure. A photopolymerizable composition for obtaining such a photosensitive layer is described in JP-A No. 2003-215801 (Patent Document 5). According to the publication, a hydrophilic layer is provided on a plastic film support, on which a cationic water-soluble polymer having a phenyl group with a vinyl group substituted on the side chain, or a vinyl group substituted on the side chain. By applying a water-soluble polymer having a phenyl group and a sulfonate group, and a photosensitive layer characterized by containing a photopolymerization initiator or a photoacid generator, an unexposed portion is formed by exposure and subsequent water development. It is removed, and a lipophilic image part and a non-image part of the hydrophilic layer can be formed. As the hydrophilic layer, for example, a method of forming a hydrophilic layer by applying a (meth) acrylate monomer having a hydroxyalkyl group described in JP-B-49-2286 on a support and polymerizing by heating, JP, Contains a hydrophilic layer obtained by curing an acrylamide polymer described in JP-A-48-83902 with aldehydes, a water-soluble melamine resin described in JP-A-62-280766, polyvinyl alcohol, and a water-insoluble inorganic powder. A hydrophilic layer obtained by heat-curing the composition, a hydrophilic layer having an onium group described in JP-A-10-296895, and a crosslinked hydrophilic polymer having a Lewis base moiety described in JP-A-11-311861 Contains hydrophilic resin and water-dispersible filler obtained by three-dimensional crosslinking by interaction with polyvalent metal ions. Hydrophilic layer or the like are mentioned to.
上記様々なプロセスレス平版印刷版において、形成された画像部、非画像部が平版印刷版としての十分な性能を有するためには、画像部が十分に親水性層表面に接着する事、更に、非画像部が十分な親水性を有する事、更にこの非画像部自身が支持体に対して十分な強度で接着する必要がある。この条件が満たされない場合、画像部下の親水性層がプラスチックフィルム表面から剥がれてしまう事による耐刷不良を引き起こしたり、或いは非画像部の親水性層表面がプラスチック支持体表面から剥がれる事による、多数枚印刷での印刷汚れが生じたりする。更に、親水性層がプラスチック支持体に対して、接着性が良好であったとしても、親水性層の親水性が十分でない場合、多数枚印刷する事でブランケット表面にインクが蓄積してブランケット汚れが発生し、更には、印刷汚れの原因となる。
本発明の目的は、プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられたプロセスレス平版印刷版において、多数枚印刷しても親水性層の剥がれが原因である印刷汚れが発生せず、また、親水層と画像部の接着が良好なために良好な耐刷力を有するプロセスレス平版印刷版を提供する事である。更に、多数枚印刷しても、ブランケット汚れを発生させないプロセスレス平版印刷版を提供する事である。 The object of the present invention is that a processless lithographic printing plate in which a hydrophilic layer and an image forming layer are provided on a plastic film support does not cause printing stains due to peeling of the hydrophilic layer even if a large number of sheets are printed. In addition, another object is to provide a processless lithographic printing plate having a good printing durability due to good adhesion between the hydrophilic layer and the image portion. It is another object of the present invention to provide a processless planographic printing plate that does not cause blanket stains even when a large number of sheets are printed.
本発明は以下の発明により達成された。
1)プラスチックフィルム支持体上に、水溶性ポリマーと、該水溶性ポリマーを架橋する架橋剤としてエポキシ基を有する化合物を含有する親水性層を有し、更にその上に下記(1)〜(3)の何れかの方法によって形成された画像形成層を有するプロセスレス平版印刷版において、該親水性層は平版印刷する際に非画像部として作用する層であり、該水溶性ポリマーが、少なくともエポキシ基と反応して架橋構造を形成する繰り返し単位と、エチレンオキシ基を有する繰り返し単位を有する事を特徴とするプロセスレス平版印刷版。
(1)光重合性感光層を親水性層の上に設け、露光後に水現像或いは機上現像によって未露光部を除去する方法。
(2)親水層上に熱によって画像形成層を溶融固着させ、固着していない部分を水または印刷機上で除去する方法。
(3)インクジェットヘッドで親油性物質を画像状に版面表面に印字する方法。
2)前記水溶性ポリマーが、更に親水性基を有する繰り返し単位を有する事を特徴とする1)記載のプロセスレス平版印刷版。
3)前記エポキシ基を有する化合物がポリエチレングリコールグリシジルエーテルである事を特徴とする1)または2)記載のプロセスレス平版印刷版。
4)前記方法(1)における光重合性感光層が、側鎖に重合性二重結合を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖に重合性二重結合を有し及びスルホン酸基を有する水溶性重合体、及び光重合開始剤または光酸発生剤を含有する感光層である1)〜3)のいずれかに記載のプロセスレス平版印刷版。
The present invention has been achieved by the following invention.
1) On a plastic film support, it has a hydrophilic layer containing a water-soluble polymer and a compound having an epoxy group as a crosslinking agent for crosslinking the water-soluble polymer, and the following (1) to (3) In the processless lithographic printing plate having an image-forming layer formed by any of the above methods), the hydrophilic layer is a layer that acts as a non-image part during lithographic printing, and the water-soluble polymer is at least an epoxy A processless lithographic printing plate comprising a repeating unit which reacts with a group to form a crosslinked structure and a repeating unit having an ethyleneoxy group.
(1) A method in which a photopolymerizable photosensitive layer is provided on a hydrophilic layer and an unexposed portion is removed by water development or on-machine development after exposure.
(2) A method in which the image forming layer is melted and fixed on the hydrophilic layer by heat, and the non-fixed portion is removed with water or a printing machine.
(3) A method of printing an oleophilic substance on the surface of the plate surface in an image form with an inkjet head.
2) The processless lithographic printing plate as described in 1), wherein the water-soluble polymer further has a repeating unit having a hydrophilic group.
3) The processless lithographic printing plate according to 1) or 2), wherein the compound having an epoxy group is polyethylene glycol glycidyl ether.
4) The photopolymerizable photosensitive layer in the above method (1) is a cationic water-soluble polymer having a polymerizable double bond in the side chain, or a water solution having a polymerizable double bond in the side chain and having a sulfonic acid group. The processless lithographic printing plate according to any one of 1) to 3), which is a photosensitive layer containing a photopolymer and a photopolymerization initiator or photoacid generator.
本発明によりプラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられたプロセスレス平版印刷版において、多数枚印刷しても、親水層の剥がれによる印刷汚れが発生せず、また、画像部と親水層の接着が良好なために耐刷力の良好なプロセスレス平版印刷版を提供する事が出来る。更には多数枚印刷してもブランケット汚れが発生しないプロセスレス平版印刷版を提供する事が出来る。 In the processless planographic printing plate in which a hydrophilic layer and an image forming layer are provided on a plastic film support according to the present invention, printing stains due to peeling of the hydrophilic layer do not occur even when a large number of sheets are printed. The processless lithographic printing plate having a good printing durability can be provided because of the good adhesion between and the hydrophilic layer. Furthermore, it is possible to provide a processless planographic printing plate in which blanket stains do not occur even when a large number of sheets are printed.
本発明のプロセスレス平版印刷版で使用される親水性層について説明する。本発明の親水層が含有する本発明の水溶性ポリマーは後述するエポキシ化合物との間で効率的に架橋反応が進行するための反応性基を分子内に含む事が必要である。ここで水溶性とは水に対する溶解度として、0.5質量%以上の水溶液を得る事が出来るだけの溶解度を有する事を意味する。上記反応性基として特に好ましい例は、カルボキシル基、アミノ基、水酸基が挙げられる。これらの反応性基を分子内に有する水溶性ポリマーを得るには、該反応性基を有する各種モノマーを共重合する形で組み込む事が好ましく行われる。本発明の水溶性ポリマーが有する、エポキシ基と反応して架橋構造を形成する繰り返し単位としては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシル基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール等の含窒素複素環含有モノマー、N−メチロールアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類及びアセトアセトキシメタクリレート等が挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。 The hydrophilic layer used in the processless lithographic printing plate of the present invention will be described. The water-soluble polymer of the present invention contained in the hydrophilic layer of the present invention needs to contain a reactive group in the molecule so that a crosslinking reaction can proceed efficiently with the epoxy compound described later. The term “water-soluble” as used herein means that the solubility in water is so high that an aqueous solution of 0.5% by mass or more can be obtained. Particularly preferred examples of the reactive group include a carboxyl group, an amino group, and a hydroxyl group. In order to obtain a water-soluble polymer having these reactive groups in the molecule, it is preferable to incorporate various monomers having the reactive groups in a copolymerized form. The water-soluble polymer of the present invention has a repeating unit that reacts with an epoxy group to form a crosslinked structure, and includes acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid. Carboxyl group-containing monomers such as acid, fumaric acid, cinnamic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid monoalkyl ester, 4-carboxystyrene, acrylamide-N-glycolic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylamino Ethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacrylamide, 4-aminostyrene, 4-amino Amino group-containing monomers such as methylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine , Nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as N-vinylimidazole, (meth) acrylamides such as N-methylolacrylamide and 4-hydroxyphenylacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, Examples thereof include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxypropyl methacrylate and glycerol monomethacrylate, and acetoacetoxy methacrylate, but are not limited to these examples.
本発明の水溶性ポリマーにおいて、エポキシ基と反応して架橋構造を形成する繰り返し単位の共重合体中に於ける割合は、繰り返し単位中の質量比で、1から40までの範囲にある事が好ましい。この範囲未満では架橋反応が進行しても耐水性が発揮出来ず、この範囲を超えれば、エチレンオキシ基の導入による親水性層の親水化の効果、及び画像部と親水層との接着による効果が薄れ、印刷による耐汚れ性、耐刷性が低下する場合がある。 In the water-soluble polymer of the present invention, the proportion of the repeating unit that reacts with the epoxy group to form a crosslinked structure in the copolymer may be in the range of 1 to 40 in terms of mass ratio in the repeating unit. preferable. If it is less than this range, water resistance cannot be exhibited even if the crosslinking reaction proceeds. If this range is exceeded, the effect of hydrophilicity of the hydrophilic layer by introduction of ethyleneoxy group and the effect of adhesion between the image portion and the hydrophilic layer However, the stain resistance and printing durability due to printing may decrease.
次に、本発明の親水性層が含有する水溶性ポリマーが有する、エチレンオキシ基を有する繰り返し単位としては、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#400メタクリレート、メトキシポリエチレングリコール#600アクリレート、メトキシポリエチレングリコール#600メタクリレート、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート等が挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。 Next, the repeating unit having an ethyleneoxy group contained in the water-soluble polymer contained in the hydrophilic layer of the present invention includes methoxyethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxypolyethylene glycol # 400 acrylate, Examples thereof include methoxypolyethylene glycol # 400 methacrylate, methoxypolyethylene glycol # 600 acrylate, methoxypolyethylene glycol # 600 methacrylate, and polyethylene glycol # 400 diacrylate, but are not limited to these examples.
本発明の水溶性ポリマーにおいて、エチレンオキシ基を有する繰り返し単位におけるエチレンオキシの繰り返しは、1〜14までの範囲にあるのが好ましい。これを超えるとエポキシ基と反応して架橋構造を形成する繰り返し単位の割合に関わらず、架橋後の皮膜強度が弱くなる場合がある。また、エチレンオキシ基を有する繰り返し単位の共重合体中に於ける割合は、繰り返し単位の質量比で1から90までの範囲にある事が好ましい。 In the water-soluble polymer of the present invention, the ethyleneoxy repeat in the repeating unit having an ethyleneoxy group is preferably in the range of 1 to 14. If it exceeds this, the film strength after cross-linking may become weak regardless of the proportion of repeating units that react with the epoxy group to form a cross-linked structure. The proportion of the repeating unit having an ethyleneoxy group in the copolymer is preferably in the range of 1 to 90 in terms of the mass ratio of the repeating unit.
更に、本発明の水溶性ポリマーにおいて、更に親水性層の親水性を高めてブランケット汚れを防ぐために、親水性基を有するモノマーを繰り返し単位の中に導入する事が好ましい。この目的に用いる親水性基を有するモノマーとしては、好ましくはビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−スルホエチルメタクリレート、3−スルホプロピルメタクリレート、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホ基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、塩化ジメチルジアリルアンモニウム、塩化2−トリメチルアンモニウムエチルアクリレート、塩化2−トリメチルアンモニウムエチルメタクリレート、塩化2−トリエチルアンモニウムエチルアクリレート、塩化2−トリエチルアンモニウムエチルメタクリレート、塩化3−トリメチルアンモニウムプロピルアクリルアミド、塩化N,N,N−トリメチル−N−(4−ビニルベンジル)アンモニウム等の4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Furthermore, in the water-soluble polymer of the present invention, it is preferable to introduce a monomer having a hydrophilic group into the repeating unit in order to further increase the hydrophilicity of the hydrophilic layer and prevent blanket contamination. The monomer having a hydrophilic group used for this purpose is preferably vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, styrene sulfonic acid, 2-sulfoethyl methacrylate, 3-sulfopropyl methacrylate, 2-acrylamide-2- Sulfo group-containing monomers such as methylpropanesulfonic acid and salts thereof, phosphate group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and salts thereof, dimethyldiallylammonium chloride, 2-trimethylammonium chloride, 2-trimethylammonium chloride , 2-triethylammonium ethyl acrylate chloride, 2-triethylammonium ethyl methacrylate chloride, 3-trimethylammonium propylacrylamide chloride, N, N, N-trimethyl chloride Quaternary ammonium salts such as (4-vinylbenzyl) ammonium, acrylamide, methacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, 3- (Meth) acrylamides such as dimethylaminopropylmethacrylamide, methacrylic acid methoxydiethylene glycol monoester, methacrylic acid methoxypolyethylene glycol monoester, and other alkyleneoxy group-containing (meth) acrylates such as methacrylic acid polypropylene glycol monoester, N-vinylpyrrolidone , N-vinylcaprolactam and the like, but are not limited thereto.
本発明に於ける好ましい水溶性ポリマーの例を以下に示す。 Examples of preferred water-soluble polymers in the present invention are shown below.
水溶性ポリマーの平均分子量は5000〜50万が好ましく、更に、1万〜20万がより好ましい。これより分子量が低い場合、親水性層が水と接触すると溶解したり、剥がれたりする場合がある。また、この範囲を超えると、塗液の粘度が高くなり、均一な塗布が不可能になる場合がある。 The average molecular weight of the water-soluble polymer is preferably 5,000 to 500,000, and more preferably 10,000 to 200,000. When the molecular weight is lower than this, the hydrophilic layer may dissolve or peel off when it comes into contact with water. On the other hand, if this range is exceeded, the viscosity of the coating liquid becomes high and uniform coating may not be possible.
これらの親水性層が含有する水溶性ポリマーの塗布量は、0.1〜5g/m2が好ましく、更に好ましくは0.3〜3g/m2である。 The coating amount of the water-soluble polymers these hydrophilic layer contains is preferably 0.1-5 g / m 2, more preferably from 0.3 to 3 g / m 2.
本発明の親水性層が含有する架橋剤としては、エポキシ化合物を用いる。かかるエポキシ化合物は、水またはメタノールやエタノールに少なくとも10質量%以上可溶なものである。このようなエポキシ化合物は例えばナガセケムテックス(株)より「デナコール」の商品名で販売されており、容易に入手出来る。以下に化合物の好ましい例を挙げる。 An epoxy compound is used as the crosslinking agent contained in the hydrophilic layer of the present invention. Such an epoxy compound is soluble in water or methanol or ethanol by at least 10% by mass. Such an epoxy compound is sold, for example, by Nagase ChemteX Corporation under the trade name “Denacol” and can be easily obtained. Preferred examples of the compound are given below.
特にエポキシ化合物として、下記構造のようなポリエチレングリコールグリシジルエーテルは特に親水性層の剥がれによる印刷汚れ、画像部と親水性層の剥がれによる耐刷性に優れ、好ましく用いられる。以下に例を挙げる。 In particular, as an epoxy compound, polyethylene glycol glycidyl ether having the following structure is preferably used because it is excellent in printing stain due to peeling of the hydrophilic layer and printing durability due to peeling of the image portion and the hydrophilic layer. Examples are given below.
上記のような種々のエポキシ化合物と本発明の水溶性ポリマーとの質量比に関しては好ましい範囲が存在する。該水溶性ポリマーに対して架橋剤は1〜90質量部の範囲で用いる事が好ましい。 There is a preferred range for the mass ratio between the various epoxy compounds as described above and the water-soluble polymer of the present invention. The crosslinking agent is preferably used in the range of 1 to 90 parts by mass with respect to the water-soluble polymer.
本発明に用いる親水性層は、画像部の接着性を良好にし、かつ非画像部の親水性を高めるために、コロイダルシリカを含有する事が好ましい。本発明に用いられるコロイダルシリカは形状は球形でも良いし、鎖状、或いはパールネックレス状のコロイダルシリカも好ましく用いられる。 The hydrophilic layer used in the present invention preferably contains colloidal silica in order to improve the adhesion of the image area and increase the hydrophilicity of the non-image area. The colloidal silica used in the present invention may be spherical, or a chain or pearl necklace colloidal silica is also preferably used.
コロイダルシリカはSiO2単体から構成されるものでも良いが、シリカの分散性のpH依存性を変えるためにAl2O3などで表面を若干修飾したものを用いても良い。また、親水性層の塗液のpHによって、コロイダルシリカのアルカリ分散液、酸性分散液を選択して用いる事が出来る The colloidal silica may be composed of a simple substance of SiO 2 , but it is also possible to use a silica whose surface is slightly modified with Al 2 O 3 or the like in order to change the pH dependency of the dispersibility of silica. Further, depending on the pH of the coating liquid for the hydrophilic layer, an alkali dispersion or an acidic dispersion of colloidal silica can be selected and used.
球状のシリカとしては、例えば日産化学工業(株)製の「スノーテックスXS」、「スノーテックスS」、「スノーテックス20」、「MP−2040」、「MP−1040」、「スノーテックスZL」などが挙げられる。これらのコロイダルシリカはpHが9以上であるが、酸性の塗液を作製する場合には、Naイオンを脱塩して酸性にした「スノーテックスO」、「スノーテックスOL」などを用いる事も出来る。鎖状シリカとしては日産化学工業(株)製「スノーテックスUP」、ネックレス状シリカとしては日産化学工業(株)製「スノーテックスPS−S」、「スノーテックスPS−M」が挙げられる。 Examples of the spherical silica include “Snowtex XS”, “Snowtex S”, “Snowtex 20”, “MP-2040”, “MP-1040”, and “Snowtex ZL” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Etc. These colloidal silicas have a pH of 9 or more, but when preparing an acidic coating liquid, it is possible to use “Snowtex O”, “Snowtex OL”, etc., which are made by demineralizing Na ions to make them acidic. I can do it. Examples of the chain silica include “Snowtex UP” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., and examples of the necklace-shaped silica include “Snowtex PS-S” and “Snowtex PS-M” manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
親水性層に含有するコロイダルシリカの量は、本発明の水溶性ポリマーとコロイダルシリカの質量比が1:1〜1:4である事が好ましく、更に好ましくは1:1.5〜1:3である。コロイダルシリカは単一の種類を添加しても良いし、2種以上を混合しても良い。混合する場合はコロイダルシリカの全固形分量と本発明のポリマーとの質量比が上記質量比になる事が好ましい。 The amount of colloidal silica contained in the hydrophilic layer is preferably such that the mass ratio of the water-soluble polymer of the present invention to colloidal silica is 1: 1 to 1: 4, more preferably 1: 1.5 to 1: 3. It is. A colloidal silica may add a single kind and may mix two or more sorts. When mixing, it is preferable that the mass ratio of the total solid content of colloidal silica and the polymer of this invention becomes the said mass ratio.
他に、露光時以外の光を遮ったり、ハレーションを防止するために、染料や顔料を添加しても良い。更に、二酸化チタンや二酸化ケイ素などの無機微粒子を添加する事で表面に凹凸を作り、画像部の密着性を上げたり、非画像部の親水性を改善する事が出来る。 In addition, dyes or pigments may be added to block light other than during exposure or to prevent halation. Furthermore, by adding inorganic fine particles such as titanium dioxide and silicon dioxide, it is possible to make the surface uneven, thereby improving the adhesion of the image area and improving the hydrophilicity of the non-image area.
更に、エポキシ化合物と、本発明の親水性ポリマーを十分に架橋させるために、画像形成層の付与、或いは感光層を塗布する前に40〜100℃、好ましくは45〜80℃の温度下の条件で12時間〜1週間、好ましくは1日〜5日間保管する事が好ましい。 Further, in order to sufficiently crosslink the epoxy compound and the hydrophilic polymer of the present invention, conditions under a temperature of 40 to 100 ° C., preferably 45 to 80 ° C., before application of the image forming layer or coating of the photosensitive layer. And stored for 12 hours to 1 week, preferably 1 day to 5 days.
本発明の親水層上に、熱によって画像形成層を溶融固着させ、固着していない部分を水または印刷機上で除去する方法、或いはインクジェットヘッドで親油性物質を画像状に版面表面に印字する方法などを用いて、親油性の画像形成層を形成する事が出来る。好ましい熱溶融性の画像形成層としては、例えば特開2007−175924号公報記載の熱溶融性の微粒子化合物を用いた方法が挙げられる。また、インクジェット方式により画像形成層を形成する好ましいインク組成物としては、例えば特開2001−270261号公報などに記載されているようなワックスを主成分とする熱溶融固形インクのインク組成物、或いは特開昭56−10960号公報、特開平5−204138号公報などに記載されているような紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂を含有したインク組成物、或いは特開2004−66816号公報などに記載されている水系紫外線硬化樹脂を含有したインク組成物などがある。 On the hydrophilic layer of the present invention, the image forming layer is melted and fixed by heat, and the non-fixed portion is removed with water or a printing machine, or an oleophilic substance is printed on the surface of the plate surface in an image form with an inkjet head. An oleophilic image forming layer can be formed using a method or the like. As a preferable heat-meltable image forming layer, for example, a method using a heat-meltable fine particle compound described in JP-A-2007-175924 can be mentioned. Further, as a preferable ink composition for forming an image forming layer by an ink jet method, for example, an ink composition of a hot-melt solid ink mainly composed of wax as described in JP-A-2001-270261 or the like, or An ink composition containing an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin as described in JP-A-56-10960, JP-A-5-204138, or the like, or described in JP-A-2004-66816, etc. And an ink composition containing a water-based ultraviolet curable resin.
本発明においては特に、画像部の接着性において、以下の様な画像形成層を用いる事が好ましい。本発明で好ましく用いられる画像形成層は、側鎖に重合性二重結合を有するカチオン性水溶性重合体(以降、重合体Aと称す)または側鎖に重合性二重結合及びスルホン酸基を有する水溶性重合体(以下、重合体Bと称す)、及び光重合開始剤または光酸発生剤を含有する感光層である。 In the present invention, it is particularly preferable to use the following image forming layer in the adhesiveness of the image portion. The image forming layer preferably used in the present invention has a cationic water-soluble polymer having a polymerizable double bond in the side chain (hereinafter referred to as polymer A) or a polymerizable double bond and a sulfonic acid group in the side chain. A photosensitive layer containing a water-soluble polymer (hereinafter referred to as polymer B) and a photopolymerization initiator or photoacid generator.
本発明に用いられる重合体Aとは、カチオン性基を有する水溶性ポリマー中の側鎖に重合性二重結合が導入されている重合体を表す。以下に重合体Aについて詳細に説明する。 The polymer A used in the present invention represents a polymer in which a polymerizable double bond is introduced into a side chain in a water-soluble polymer having a cationic group. Hereinafter, the polymer A will be described in detail.
重合体Aにおけるカチオン性基とは、アンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ヨードニウム基、オキソニウム基等の有機オニウム基から選ばれる基であり、これらの内四級アンモニウム基が最も好ましい。 The cationic group in the polymer A is a group selected from organic onium groups such as an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an iodonium group, an oxonium group, and the quaternary ammonium group among these is most preferable.
上述した有機オニウム基を導入した重合体は、特公昭55−13020号公報、特開昭55−22766号公報、特開平11−153859号公報、特開2000−103179号公報、米国特許第4,693,958号明細書、米国特許第5,512,418号明細書に記載されている従来公知の化学反応を用いて合成する事が出来る。即ち、所望の有機オニウム基を含有するモノマーを重合反応させたり、重合体を構成するポリマー鎖状に導入された三価のN原子、二価のS原子或いは三価のP原子等を、通常のアルキル化反応によって有機オニウム基を導入する方法が挙げられる。更にはアミン類、スルフィド類、ホスフィン類のような求核試薬とポリマー鎖状の脱離基(例えば、スルホン酸エステル類やハロゲン化物)との求核置換反応により、ポリマー主鎖または側鎖に有機オニウム基を導入する方法も挙げられる。 The above-mentioned polymer having an organic onium group introduced therein is disclosed in JP-B-55-13020, JP-A-55-22766, JP-A-11-153589, JP-A-2000-103179, US Pat. 693,958 and U.S. Pat. No. 5,512,418, can be synthesized using conventionally known chemical reactions. That is, a monomer containing a desired organic onium group is subjected to a polymerization reaction, or a trivalent N atom, a divalent S atom or a trivalent P atom introduced into a polymer chain constituting the polymer is usually used. The method of introduce | transducing an organic onium group by alkylation reaction of these is mentioned. Furthermore, the nucleophilic substitution reaction between a nucleophilic reagent such as amines, sulfides, and phosphines and a polymer chain-like leaving group (for example, sulfonic acid esters or halides) results in the polymer main chain or side chain. A method of introducing an organic onium group is also mentioned.
重合性二重結合含有ポリマーの側鎖に重合性二重結合を導入する場合のモノマーとしては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等が挙げられる。 As monomers for introducing a polymerizable double bond into the side chain of a polymer containing a polymerizable double bond, allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl Examples include vinyl methacrylate, β-phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chloro vinyl methacrylate, α-chloro vinyl acrylate, β-methoxy vinyl methacrylate, β-methoxy vinyl acrylate, vinyl thioacrylate, vinyl thio methacrylate, and the like. It is done.
重合体Aにおいて、光重合後の画像形成部と親水性層との接着性が良好な、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体が特に好ましい。本発明に於いてビニル基が置換したフェニル基は、適当な連結基を介して重合体中に導入されている場合が好ましい。この場合の連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。更に該ビニル基及び該フェニル基は置換基を有していても良い。ビニル基が置換したフェニル基を導入した重合体としては、更に詳細には下記一般式(I)で表される基を側鎖に有するものである。 In the polymer A, a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain, which has good adhesion between the image-formed portion after photopolymerization and the hydrophilic layer, is particularly preferable. In the present invention, the phenyl group substituted with a vinyl group is preferably introduced into the polymer via an appropriate linking group. In this case, the linking group is not particularly limited, and includes an arbitrary group, an atom, or a complex group thereof. Further, the vinyl group and the phenyl group may have a substituent. More specifically, the polymer introduced with a phenyl group substituted with a vinyl group has a group represented by the following general formula (I) in the side chain.
式中、R1、R2及びR3は同じであっても異なっていても良く、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。これらの基の中でも、R1が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R2、R3が水素原子であるものが特に好ましい。 In the formula, R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, or an alkyl group. Represents a group selected from aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, carboxyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, hydroxy group, alkoxy group, Aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group , An arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and the like. Among these groups, those in which R 1 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 2 and R 3 are hydrogen atoms are particularly preferable.
式中、R4は水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基から選ばれる基を表し、これらの基を構成するアルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 In the formula, R 4 is hydrogen atom, halogen atom, carboxyl group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, Represents a group selected from an arylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. The alkyl group and aryl group constituting these groups are a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group. Group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, Acyl group, alkoxycarbonyl , An aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, may be substituted by an arylsulfonyl group.
式中、m1は1〜4の整数を表し、pは0または1を表し、q1は1〜4の整数を表す。 In the formula, m 1 represents an integer of 1 to 4, p represents 0 or 1, and q 1 represents an integer of 1 to 4.
式中、L1は炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子または、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群からなる多価の連結基を表す。具体的には下記に例示される構造単位より構成される基及び下記に示す複素環基が挙げられる。これらの基は単独でも任意の2つ以上が組み合わされていても良い。 In the formula, L 1 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Represent. Specific examples include groups composed of the structural units exemplified below and the heterocyclic groups shown below. These groups may be used alone or in any combination of two or more.
L1を構成する複素環の例としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環は置換基を有していても良い。 Examples of the heterocyclic ring constituting L 1 include pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, thia Triazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, quinoline And a nitrogen-containing heterocycle such as a ring and a quinoxaline ring, a furan ring, a thiophene ring, and the like. These heterocycles may have a substituent.
上述した多価の連結基が置換基を有する場合、置換基としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。 When the polyvalent linking group described above has a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group. Group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.
連結基L1を構成する任意の原子団に於いて、この中にカチオン性基を形成する4級アンモニウム基等の有機オニウム基が含まれている場合が特に好ましく利用される。連結基中に、こうした有機オニウム基が含まれない場合においては主鎖を構成する繰り返し単位中に、別途有機オニウム基を有する繰り返し単位を含む事が必要である。 The case where an organic onium group such as a quaternary ammonium group forming a cationic group is contained in any atomic group constituting the linking group L 1 is particularly preferably used. In the case where such an organic onium group is not contained in the linking group, it is necessary to separately include a repeating unit having an organic onium group in the repeating unit constituting the main chain.
重合体中にビニル基が置換したフェニル基を導入する方法については特に制限はなく、例えば特公昭49−34041号公報、特公平6−105353号公報、特開2000−181062号公報、特開2000−187322号公報等に示されるようないずれの方法を用いても良い。これらの場合には予め前駆体であるポリマーを合成する際に、有機オニウム基を有する繰り返し単位を共重合体の形で導入しておくか、前駆体ポリマーに重合性不飽和結合基を導入した形で、上述した方法等により、有機オニウム基を形成する事が必要である。 The method for introducing a phenyl group substituted with a vinyl group into the polymer is not particularly limited. For example, Japanese Patent Publication No. 49-34041, Japanese Patent Publication No. 6-105353, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-181062, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-2000. Any method as disclosed in JP-A-187322 and the like may be used. In these cases, when a polymer as a precursor is synthesized in advance, a repeating unit having an organic onium group is introduced in the form of a copolymer, or a polymerizable unsaturated bonding group is introduced into the precursor polymer. In form, it is necessary to form an organic onium group, such as by the method described above.
重合体Aを構成する事が出来るモノマーの具体例としては、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、(4−ビニルベンジル)トリメチルホスホニウムブロマイド等の4級ホスホニウム塩モノマー、ジメチル−2−メタクリロイルオキシエチルスルホニウムメトスルフェート等の3級スルホニウム塩モノマー、2−クロロメチルスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−ブロモメチルスチレン、2−クロロエチルアクリレート、2−クロロエチルメタクリレート等のハロゲン化アルキル基含有モノマー等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。 Specific examples of monomers that can constitute the polymer A include allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminopropylacrylamide, and 3-dimethyl. Aminopropyl methacrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacrylamide, 4-aminostyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, etc. Amino group-containing monomers and quaternary ammonium salts thereof, nitrogen-containing heterocyclic ring-containing monomers such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole and the quaternary ammonium salts thereof (4 -Vini Benzyl) quaternary phosphonium salt monomers such as trimethylphosphonium bromide, tertiary sulfonium salt monomers such as dimethyl-2-methacryloyloxyethylsulfonium methosulfate, 2-chloromethylstyrene, 4-chloromethylstyrene, 4-bromomethylstyrene, Examples thereof include, but are not limited to, halogenated alkyl group-containing monomers such as 2-chloroethyl acrylate and 2-chloroethyl methacrylate.
また、重合体Aは、任意の他のモノマーとの共重合体を構成していても良く、これら共重合体を構成するモノマーは水溶性であっても非水溶性であっても良い。水溶性モノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシエチルアクリレート、2−カルボキシエチルメタクリレート、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン、アクリルアミド−N−グリコール酸等のカルボキシル基含有モノマー及びこれらの塩、ビニルホスホン酸等のリン酸基含有モノマー及びこれらの塩、アリルアミン、ジアリルアミン、2−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−ジエチルアミノエチルアクリレート、2−ジエチルアミノエチルメタクリレート、3−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、3−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、4−アミノスチレン、4−アミノメチルスチレン、N,N−ジメチル−N−(4−ビニルベンジル)アミン、N,N−ジエチル−N−(4−ベニルベンジル)アミン等のアミノ基含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環含有モノマー及びこれらの4級アンモニウム塩、アクリルアミド、メタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、グリセロールモノメタクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、メタクリル酸のアルキレンオキシ基含有(メタ)アクリレート類、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これら水溶性モノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。 In addition, the polymer A may constitute a copolymer with any other monomer, and the monomer constituting the copolymer may be water-soluble or water-insoluble. Specific examples of water-soluble monomers include acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxyethyl acrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, cinnamic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid Carboxyl group-containing monomers such as monoalkyl esters, 4-carboxystyrene, acrylamide-N-glycolic acid and their salts, phosphoric acid group-containing monomers such as vinylphosphonic acid and their salts, allylamine, diallylamine, 2-dimethylaminoethyl Acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-diethylaminoethyl acrylate, 2-diethylaminoethyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylamide, 3-dimethylaminopropyl methacryl Amino group-containing monomers such as amide, 4-aminostyrene, 4-aminomethylstyrene, N, N-dimethyl-N- (4-vinylbenzyl) amine, N, N-diethyl-N- (4-benzylbenzyl) amine, and the like; Nitrogen-containing heterocycle-containing monomers such as quaternary ammonium salts, 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole and the like, and quaternary ammonium salts thereof, acrylamide, methacrylamide, N, N -(Meth) acrylamides such as dimethylacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N, N-diethylacrylamide, N-isopropylmethacrylamide, diacetoneacrylamide, N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy Propyl Examples include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and glycerol monomethacrylate, alkyleneoxy group-containing (meth) acrylates of methacrylic acid, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcaprolactam. It is not limited. These water-soluble monomers may be used alone or in combination of any two or more.
また、水現像性を最適化し、画像部の強度を向上させるために、非水溶性の任意のモノマーとの共重合体を形成する事も好ましく行われ、これらの例としては、スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ドデシルメタクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のアリール(メタ)アクリレート類またはアリールアルキル(メタ)アクリレート類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等各種モノマーを挙げる事が出来る。これらの任意の組み合わせで構成される共重合体を重合体Aとして使用する事が出来る。 In addition, in order to optimize water developability and improve the strength of the image area, it is also preferable to form a copolymer with any water-insoluble monomer. Examples of these include styrene, 4- Styrene derivatives such as methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, Alkyl (meth) acrylates such as 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl acrylate and dodecyl methacrylate, aryl (meth) acrylates such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate, or arylalkyl (meth) acrylates , Acrylonitrile, methacrylonitrile, phenylmaleimide, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate, etc., vinyl ethers such as methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, etc. Examples thereof include various monomers such as acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride, vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, and glycidyl methacrylate. A copolymer composed of any combination of these can be used as the polymer A.
ビニル基が置換したフェニル基を主鎖に結合するための連結基を構成する任意の原子団に於いて、この中にカチオン性基を形成する4級アンモニウム基等の有機オニウム基が含まれている場合が最も好ましい。この場合においては、重合体中に含まれるビニル基が置換したフェニル基の数と有機オニウム基の数が正比例するため、感度を向上させるために重合体中に含まれるビニル基が置換したフェニル基の両方を同時に満足する事が出来る。上述したようなビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主鎖と結合している場合の重合体の単位構造は、具体的には下記一般式(II)で表す事が出来る。 Arbitrary atomic groups constituting a linking group for bonding a phenyl group substituted with a vinyl group to the main chain include an organic onium group such as a quaternary ammonium group forming a cationic group. The case is most preferable. In this case, since the number of phenyl groups substituted with vinyl groups contained in the polymer is directly proportional to the number of organic onium groups, the phenyl groups substituted with vinyl groups contained in the polymer to improve sensitivity. Both can be satisfied at the same time. The unit structure of the polymer when the phenyl group substituted with the vinyl group as described above is bonded to the main chain through a cationic group can be specifically represented by the following general formula (II).
式中、A1 +はアンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ヨードニウム基、オキソニウム基等の有機オニウム基を表し、n1及びn2はそれぞれ0または1を表す。A1 +がヨードニウム基の場合はn1=n2=0であり、A1 +がスルホニウム基の場合はn1=1かつn2=0であり、A1 +がアンモニウム基またはホスホニウム基の場合はn1=n2=1である。 In the formula, A 1 + represents an organic onium group such as an ammonium group, a sulfonium group, a phosphonium group, an iodonium group, an oxonium group, and n 1 and n 2 each represents 0 or 1. When A 1 + is an iodonium group, n 1 = n 2 = 0, and when A 1 + is a sulfonium group, n 1 = 1 and n 2 = 0, and A 1 + is an ammonium group or a phosphonium group. In this case, n 1 = n 2 = 1.
式中、R5及びR6は同じであっても異なっていても良く、それぞれアルキル基(例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等)またはアリール基(例えばフェニル基、1−ナフチル基等)を表し、これらの基は置換されていても良く、この場合の置換基の例としては、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。更にR5及びR6は、上記一般式(II)で表されるビニル基が置換したフェニル基を含有する基であっても良い。 In the formula, R 5 and R 6 may be the same or different, and are each an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, isopropyl group, cyclohexyl group, benzyl group) or an aryl group (for example, phenyl group, 1 -Naphthyl group and the like, and these groups may be substituted, and examples of the substituent in this case include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, Alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl Group, arylsulfonyl group and the like. Further, R 5 and R 6 may be a group containing a phenyl group substituted by a vinyl group represented by the general formula (II).
式中、R7、R8及びR9は同じであっても異なっていても良く、それぞれ前記一般式(I)におけるR1、R2及びR3と同義である。これらの基の中でもR7が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(例えばメチル基、エチル基等)であり、R8及びR9が水素原子であるものが特に好ましい。R10は、前記一般式(I)におけるR4と同義である。L2及びL3は、それぞれ独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子または、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式(I)におけるL1と同義である。m2は0〜4の整数を表し、p2は0または1の整数を表しq2は1〜4の整数を表す。 In the formula, R 7 , R 8 and R 9 may be the same or different and have the same meanings as R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I), respectively. Among these groups, those in which R 7 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.) and R 8 and R 9 are hydrogen atoms are particularly preferable. R 10 has the same meaning as R 4 in formula (I). L 2 and L 3 are each independently an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a multivalent group consisting of an atom group selected from a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Specifically, it is synonymous with L < 1 > in the said general formula (I). m 2 represents an integer of 0 to 4, p 2 represents an integer of 0 or 1, and q 2 represents an integer of 1 to 4.
また、A1 +で表される有機オニウム基を形成するN原子、S原子及びP原子等と、R5、R6或いはL2、L3から任意に選ばれる基とが組み合わさって環構造(例えば、ピリジニウム環、2−キノリウム環、モルホニウム環、ピペリジニウム環、ピロリジニウム環、テトラヒドロチオフェニウム環等)を形成していても良い。これら環構造は、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等で置換されていても良い。 A ring structure in which an N atom, an S atom, a P atom, or the like forming an organic onium group represented by A 1 + is combined with a group arbitrarily selected from R 5 , R 6, L 2 , and L 3 (For example, a pyridinium ring, 2-quinolium ring, morphonium ring, piperidinium ring, pyrrolidinium ring, tetrahydrothiophenium ring, etc.) may be formed. These ring structures are halogen atoms, carboxyl groups, sulfo groups, nitro groups, cyano groups, amide groups, amino groups, alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups. , Arylthio group, alkylamino group, arylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and the like.
また、本発明の重合体Aの中には、上記したようなビニル基が置換したフェニル基がカチオン性基を介して主鎖と結合した繰り返し単位を有する重合体の他に、ビニル基が置換したフェニル基が直接もしくはカチオン性基を含まない連結基を介して主鎖に結合した繰り返し単位とカチオン性基を有する繰り返し単位とを有する重合体も用いる事が出来る。 Further, in the polymer A of the present invention, in addition to the polymer having a repeating unit in which a phenyl group substituted with a vinyl group as described above is bonded to the main chain through a cationic group, a vinyl group is substituted. It is also possible to use a polymer having a repeating unit in which the phenyl group is bonded directly or via a linking group containing no cationic group to the main chain and a repeating unit having a cationic group.
本発明に於ける重合体Aの例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。 Examples of the polymer A in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.
本発明の重合体Aを構成する各繰り返し単位が、全重合体中に占める割合については好ましい範囲が存在する。上述したように側鎖に重合性二重結合がカチオン性基を介して主鎖と結合している場合には、その繰り返し単位が重合体トータル組成の10質量%から80質量%の範囲にある事が特に好ましい。 There exists a preferable range about the ratio for which each repeating unit which comprises the polymer A of this invention accounts in all the polymers. As described above, when a polymerizable double bond is bonded to the main chain via a cationic group on the side chain, the repeating unit is in the range of 10% to 80% by weight of the total polymer composition. This is particularly preferred.
また、重合性二重結合が直接もしくはカチオン性基を含まない連結基を介して主鎖に結合した繰り返し単位とカチオン性基を有する繰り返し単位とからなる重合体の場合には、重合性二重結合を有する繰り返し単位の場合は、5質量%から50質量%の範囲にある事が特に好ましい。そして、カチオン性基を有する繰り返し単位が占める割合は、30質量%から95質量%の範囲にある事が好ましく、50質量%から90質量%の範囲にある事が特に好ましい。 In the case of a polymer comprising a repeating unit in which a polymerizable double bond is bonded directly or via a linking group containing no cationic group to a main chain and a repeating unit having a cationic group, the polymerizable double bond is In the case of a repeating unit having a bond, it is particularly preferably in the range of 5% by mass to 50% by mass. The proportion of the repeating unit having a cationic group is preferably in the range of 30% by mass to 95% by mass, and particularly preferably in the range of 50% by mass to 90% by mass.
本発明の重合体Aの分子量については好ましい範囲が存在し、質量平均分子量で1000から100万の範囲である事が好ましく、更に1万から30万の範囲にある事が特に好ましい。本発明に於ける重合体Aは、1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。 There is a preferred range for the molecular weight of the polymer A of the present invention, the weight average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000. The polymer A in this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types.
次に、側鎖に重合性二重結合及びスルホン酸基を有する水溶性重合体(重合体B)について詳細に説明する。 Next, the water-soluble polymer (polymer B) having a polymerizable double bond and a sulfonic acid group in the side chain will be described in detail.
本発明の重合体Bは、側鎖に重合性二重結合及びスルホン酸塩基がそれぞれ直接もしくは任意の連結基を介して主鎖と結合した重合体である。これらの連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。重合性二重結合及びスルホン酸塩基は、それぞれ独立して主鎖に結合していても良いし、或いはビニル基が置換したフェニル基とスルホン酸塩基が連結基の一部または全部を共有する形で結合していても良い。 The polymer B of the present invention is a polymer in which a polymerizable double bond and a sulfonate group are bonded to the main chain either directly or via an arbitrary linking group. These linking groups are not particularly limited, and include any group, atom, or a combination thereof. The polymerizable double bond and the sulfonate group may be independently bonded to the main chain, or the phenyl group substituted with the vinyl group and the sulfonate group share part or all of the linking group. You may combine with.
重合性二重結合含有ポリマーの側鎖に重合性二重結合を導入する場合のモノマーとしては、アリルアクリレート、アリルメタクリレート、ビニルアクリレート、ビニルメタクリレート、1−プロペニルアクリレート、1−プロペニルメタクリレート、β−フェニルビニルメタクリレート、β−フェニルビニルアクリレート、ビニルメタクリルアミド、ビニルアクリルアミド、α−クロロビニルメタクリレート、α−クロロビニルアクリレート、β−メトキシビニルメタクリレート、β−メトキシビニルアクリレート、ビニルチオアクリレート、ビニルチオメタクリレート等が挙げられる。 As monomers for introducing a polymerizable double bond into the side chain of a polymer containing a polymerizable double bond, allyl acrylate, allyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, 1-propenyl acrylate, 1-propenyl methacrylate, β-phenyl Examples include vinyl methacrylate, β-phenyl vinyl acrylate, vinyl methacrylamide, vinyl acrylamide, α-chloro vinyl methacrylate, α-chloro vinyl acrylate, β-methoxy vinyl methacrylate, β-methoxy vinyl acrylate, vinyl thioacrylate, vinyl thio methacrylate, and the like. It is done.
重合体Bに於いても重合体Aと同様に、光重合後の画像形成部と親水性層との接着性が良好な、ビニル基が置換したフェニル基を有する重合体が特に好ましい。ビニル基が置換したフェニル基は、適当な連結基を介して重合体中に導入されている場合が好ましい。この場合の連結基としては特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合した基が挙げられる。更に該ビニル基及び該フェニル基は、置換基を有していても良い。かかる置換基としてはハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等が挙げられる。 In the polymer B, like the polymer A, a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group and having good adhesion between the image-formed portion after photopolymerization and the hydrophilic layer is particularly preferable. The phenyl group substituted with a vinyl group is preferably introduced into the polymer via an appropriate linking group. In this case, the linking group is not particularly limited, and includes an arbitrary group, an atom, or a complex group thereof. Further, the vinyl group and the phenyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group.
本発明の重合体Bは、更に詳細には、下記一般式(III)及び(IV)で表される基を側鎖に有するものである。 More specifically, the polymer B of the present invention has groups represented by the following general formulas (III) and (IV) in the side chain.
式中、R11、R12、及びR13は、同じであっても異なっていても良く、それぞれ前記一般式(I)に於けるR1、R2、及びR3と同義であり、R14は前記一般式(I)と同義である。L4は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子または、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式(I)におけるL1と同義である。m3は0〜4の整数を表し、p3は0または1を表し、q3は1〜4の整数を表す。 In the formula, R 11 , R 12 , and R 13 may be the same or different, and are respectively synonymous with R 1 , R 2 , and R 3 in the general formula (I). 14 has the same meaning as in the general formula (I). L 4 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, or a polyvalent linking group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group; Is synonymous with L 1 in the general formula (I). m 3 represents an integer of 0 to 4, p 3 represents 0 or 1, and q 3 represents an integer of 1 to 4.
上記一般式で表される基の中でも、R11が水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であり、かつR12及びR13が水素原子であるものが好ましい。また、連結基L4としては複素環を含むものが好ましく、q3は1または2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the above general formula, those in which R 11 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.) and R 12 and R 13 are hydrogen atoms are preferred. . In addition, the linking group L 4 preferably includes a heterocyclic ring, and q 3 is preferably 1 or 2.
式中、L5は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる原子または、水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子原子群からなる多価の連結基を表し、具体的には前記一般式(I)におけるL1と同義である。更にL5は前記一般式(III)のL4の一部または全部を共有しても良い。 In the formula, L 5 represents an atom selected from a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom or a polyvalent linking group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom group, Specifically, it is synonymous with L < 1 > in the said general formula (I). Further, L 5 may share part or all of L 4 in the general formula (III).
式中、X+はスルホアニオンを中和するのに必要な電荷を持つカチオンを表す。このようなカチオンの具体例としては、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、遷移金属イオン等の無機イオン(例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、亜鉛等)、有機アンモニウムイオン(例えばアンモニウム、トリエチルアンモニウム、ピリジニウム、テトラ−n−ブチルアンモニウム等)、ヨードニウムイオン(例えばフェニルヨードニウム等)、スルホニウムイオン(例えばトリフェニルスルホニウム等)、ジアゾニウムイオン等が挙げられ、これらの中でもアルカリ金属イオンまたは有機アンモニウムイオンが特に好ましい。 In the formula, X + represents a cation having a charge necessary for neutralizing the sulfoanion. Specific examples of such cations include inorganic ions such as alkali metal ions, alkaline earth metal ions and transition metal ions (for example, sodium, potassium, calcium, magnesium, barium and zinc), organic ammonium ions (for example, ammonium, Triethylammonium, pyridinium, tetra-n-butylammonium, etc.), iodonium ions (eg, phenyliodonium, etc.), sulfonium ions (eg, triphenylsulfonium, etc.), diazonium ions, etc. Among these, alkali metal ions or organic ammonium ions Is particularly preferred.
重合体中にビニル基が置換したフェニル基を導入する方法については特に制限はないが、該ビニル基が置換したフェニル基を有するモノマーを重合させた場合には、該ビニル基も反応し、ゲル化を起こしてしまう事が予想され好ましくない。このため、ビニル基が置換したフェニル基を有さない前駆体ポリマーを合成しておき、しかる後、従来公知の高分子反応により該ビニル基が置換したフェニル基を導入する方法が特に好ましい。 The method for introducing a phenyl group substituted with a vinyl group in the polymer is not particularly limited. However, when a monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group is polymerized, the vinyl group also reacts to form a gel. It is anticipated that this will occur. Therefore, it is particularly preferable to synthesize a precursor polymer having no phenyl group substituted with a vinyl group, and then introduce a phenyl group substituted with the vinyl group by a conventionally known polymer reaction.
重合体中にスルホン酸塩基を導入する方法については特に制限はなく、該スルホン酸塩基を有するモノマーを共重合させても良いし、スルホン酸塩基を有さない前駆体ポリマーを合成しておき、しかる後、従来公知の高分子反応により該スルホン酸塩基を導入しても良い。 The method for introducing the sulfonate group into the polymer is not particularly limited, and a monomer having the sulfonate group may be copolymerized, or a precursor polymer having no sulfonate group is synthesized, Thereafter, the sulfonate group may be introduced by a conventionally known polymer reaction.
本発明の重合体Bは、上述した側鎖に重合性二重結合を有する繰り返し単位、及びスルホン酸塩基を有する繰り返し単位からのみなる重合体であっても良いし、或いは本発明の効果を妨げない限り、更に他の繰り返し単位を導入した重合体であっても良い。また更に、他のモノマーとの共重合体であっても良く、このようなモノマーの具体例としては、重合体Aで例示した全ての水溶性モノマー及び非水溶性モノマーが挙げられ、これらモノマーは1種で用いても良いし、任意の2種類以上を用いても良い。 The polymer B of the present invention may be a polymer composed only of the above-described repeating unit having a polymerizable double bond in the side chain and a repeating unit having a sulfonate group, or hinders the effect of the present invention. As long as there is not, the polymer which introduce | transduced another repeating unit may be sufficient. Furthermore, it may be a copolymer with another monomer, and specific examples of such a monomer include all the water-soluble monomers and water-insoluble monomers exemplified in the polymer A. One type may be used, or two or more types may be used.
本発明の重合体Bの例を以下に示すが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例示された構造式の中の数字は共重合体トータル組成100質量%中に於ける各繰り返し単位の質量%を表す。 Examples of the polymer B of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these examples. The numbers in the exemplified structural formulas represent the mass% of each repeating unit in the copolymer total composition of 100 mass%.
本発明の重合体Bの重量平均分子量は、1000から100万の範囲である事が好ましく、更に1万から30万の範囲にある事が特に好ましい。本発明における重合体Bは1種のみの単独で用いても良いし、任意の2種以上を混合して用いても良い。 The weight average molecular weight of the polymer B of the present invention is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, and more preferably in the range of 10,000 to 300,000. The polymer B in this invention may be used individually by 1 type, and may mix and use arbitrary 2 or more types.
前述した本発明の重合体A及びBの水に対する溶解性については好ましい範囲が存在する。即ち、25℃のイオン交換水100mlに対して前記重合体は0.5g以上溶解する事が好ましく、更に2.0g以上溶解する事が特に好ましい。 There is a preferred range for the solubility of the aforementioned polymers A and B of the present invention in water. That is, 0.5 g or more of the polymer is preferably dissolved in 100 ml of ion-exchanged water at 25 ° C., more preferably 2.0 g or more.
本発明の感光層は、上述した重合体AもしくはBの他に、任意の公知の各種バインダー樹脂を混合して用いる事も出来る。この場合のバインダー樹脂は特に制限されず、具体的には、上記で例示したモノマーから任意に構成される重合体や、ポリビニルフェノール、フェノール樹脂、ポリヒドロキシベンザール、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリイミド樹脂等を挙げる事が出来る。これらバインダー樹脂としては水溶性である事が好ましく、上記で例示したような水溶性モノマーを少なくとも1種以上用いた水溶性バインダー樹脂やゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等の水溶性バインダー樹脂である事が好ましい。 The photosensitive layer of the present invention can be used by mixing any known various binder resins in addition to the polymer A or B described above. The binder resin in this case is not particularly limited, and specifically, a polymer arbitrarily constituted from the monomers exemplified above, polyvinylphenol, phenol resin, polyhydroxybenzal, gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethylcellulose, etc. Cellulose resin, polyimide resin, and the like. These binder resins are preferably water-soluble, and are water-soluble binder resins using at least one or more water-soluble monomers as exemplified above, and water-soluble binder resins such as gelatin, polyvinyl alcohol, and carboxymethyl cellulose. Is preferred.
本発明の平版印刷版の画像部は、前記した重合体AもしくはBと併せて、光重合開始剤または光酸発生剤を含有する。本発明に用いられる光重合開始剤としては、光または電子線の照射によりラジカルを発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いる事が出来る。 The image portion of the lithographic printing plate of the present invention contains a photopolymerization initiator or a photoacid generator in combination with the polymer A or B described above. As a photoinitiator used for this invention, arbitrary compounds can be used if it is a compound which can generate | occur | produce a radical by irradiation of light or an electron beam.
本発明に用いる事の出来る光重合開始剤の例としては(a)芳香族ケトン類、(b)芳香族オニウム化合物、(c)有機過酸化物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(e)ケトオキシムエステル化合物、(f)アジニウム化合物、(g)活性エステル化合物、(h)メタロセン化合物、(i)トリハロアルキル置換化合物、(j)有機ホウ素化合物等が挙げられる。 Examples of photopolymerization initiators that can be used in the present invention include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium compounds, (c) organic peroxides, (d) hexaarylbiimidazole compounds, (e And ketoxime ester compounds, (f) azinium compounds, (g) active ester compounds, (h) metallocene compounds, (i) trihaloalkyl-substituted compounds, (j) organoboron compounds, and the like.
(a)芳香族ケトン類の好ましい例としては、”RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY ”J.P.FOUASSIER,J.F.RABEK (1993)、P.77〜P.177に記載のベンゾフェノン骨格、或いはチオキサントン骨格を有する化合物、特公昭47−6416号公報に記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981号公報に記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47−22326号公報に記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭47−23664号公報に記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−30704号公報に記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60−26483号公報に記載のジアルコキシベンゾフェノン類、特公昭60−26403号公報、特開昭62−81345号公報に記載のベンゾインエーテル類、特開平2−211452号公報に記載のp−ジ(ジメチルアミノベンゾイル)ベンゼン、特開昭61−194062号公報に記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平2−9597号公報に記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平2−9596号公報に記載のアシルホスフィン類、特公昭63−61950号公報に記載のチオキサントン類、特公昭59−42864号公報に記載のクマリン類を挙げる事が出来る。 (A) Preferred examples of aromatic ketones include compounds having a benzophenone skeleton or a thioxanthone skeleton described in “RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY” JPFOUASSIER, JFRABEK (1993), P. 77 to P. 177. Α-thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416, benzoin ether compounds described in JP-B-47-3981, α-substituted benzoin compounds described in JP-B-47-22326, and JP-B-47. Benzoin derivatives described in JP-A-236364, aroylphosphonic acid esters described in JP-A-57-30704, dialkoxybenzophenones described in JP-B-60-26483, JP-B-60-26403, Benzoin ethers described in JP-A No. 62-81345 and JP-A No. 2-211452 P-di (dimethylaminobenzoyl) benzene described in JP-A-61-194062, a thio-substituted aromatic ketone described in JP-A-61-194062, an acylphosphine sulfide described in JP-B-2-9597, and JP-B-2-9596 Examples thereof include acylphosphines described in JP-A No. 63-61950, thioxanthones described in JP-B No. 63-61950, and coumarins described in JP-B No. 59-42864.
(b)芳香族オニウム塩の例としては、N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、TeまたはIの芳香族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩は、特公昭52−14277号公報、特公昭52−14278号公報、特公昭52−14279号公報等に例示されている化合物を挙げる事が出来る。 (B) Examples of aromatic onium salts include N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te, or I aromatic onium salts. Examples of such aromatic onium salts include compounds exemplified in Japanese Patent Publication No. 52-14277, Japanese Patent Publication No. 52-14278, Japanese Patent Publication No. 52-14279, and the like.
(c)有機過酸化物の例としては、分子中に酸素−酸素結合を一個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、例えば、3,3′,4,4′−テトラ−(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ−(tert−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(tert−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−tert−ブチルジパーオキシイソフタレート等の過酸化エステル系が好ましい。 Examples of (c) organic peroxides include almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. For example, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (tert- Butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (tert-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'- Peracids such as tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone and di-tert-butyldiperoxyisophthalate Ester is preferable.
(d)ヘキサアリールビイミダゾールの例としては、特公昭45−37377号公報、特公昭44−86516号公報に記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。 (D) Examples of hexaarylbiimidazole include lophine dimers described in JP-B Nos. 45-37377 and 44-86516, such as 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4. ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4', 5 , 5 ' Tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4, Examples include 4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.
(e)ケトオキシムエステルの例としては、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。 (E) Examples of ketoxime esters include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentane- 3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyiminobutan-2-one, 2- And ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.
(f)アジニウム塩化合物の例としては、特開昭63−138345号公報、特開昭63−142345号公報、特開昭63−142346号公報、特開昭63−143537号公報、特公昭46−42363号公報等に記載のN−O結合を有する化合物群を挙げる事が出来る。 Examples of (f) azinium salt compounds include JP-A-63-138345, JP-A-63-142345, JP-A-63-142346, JP-A-63-143537, JP-B-46. The compound group which has NO bond as described in -42363 gazette etc. can be mentioned.
(g)活性エステル化合物の例としては特公昭62−6223号公報等に記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号公報、特開昭59−174831号公報等に記載の活性スルホネート類を挙げる事が出来る。 (G) Examples of active ester compounds include imide sulfonate compounds described in JP-B-62-2623, etc., and active sulfonates described in JP-B-63-14340, JP-A-59-174831, etc. I can do it.
(h)メタロセン化合物の例としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報等に記載のチタノセン化合物ならびに特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報等に記載の鉄−アレーン錯体等を挙げる事が出来る。 (H) Examples of metallocene compounds include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705. And titanocene compounds described in JP-A-1-304453, and iron-arene complexes described in JP-A-1-304453, JP-A-1-152109, and the like.
(i)トリハロアルキル置換化合物の例としては、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、米国特許第3,954,475号明細書、米国特許第3,987,037号明細書、米国特許第4,189,323号明細書、特開昭61−151644号公報、特開昭63−298339号公報、特開平4−69661号公報、特開平11−153859号公報等に記載のトリハロメチル−s−トリアジン化合物、特開昭54−74728号公報、特開昭55−77742号公報、特開昭60−138539号公報、特開昭61−143748号公報、特開平4−362644号公報、特開平11−84649号公報等に記載の2−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。また、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合した、特開2001−290271号公報等に記載のトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。 (I) Specific examples of the trihaloalkyl-substituted compound include compounds having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group and a tribromomethyl group in the molecule. US Pat. No. 3,954,475 Specification, U.S. Pat. No. 3,987,037, U.S. Pat. No. 4,189,323, JP-A-61-151644, JP-A-63-298339, JP-A-4-69661 And trihalomethyl-s-triazine compounds described in JP-A-11-153859, JP-A-54-74728, JP-A-55-77742, JP-A-60-138539, 2-Trihalomethyl-1,3 described in JP-A-61-143748, JP-A-4-362644, JP-A-11-84649, etc. 4- oxadiazole derivatives. Moreover, the trihaloalkylsulfonyl compound as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-290271 etc. which this trihaloalkyl group couple | bonded with the aromatic ring or the nitrogen-containing heterocyclic ring through the sulfonyl group is mentioned.
(j)有機ホウ素塩化合物の例としては、特開平8−217813号公報、特開平9−106242号公報、特開平9−188685号公報、特開平9−188686号公報、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素アンモニウム化合物、特開平6−175561号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−157623号公報等に記載の有機ホウ素スルホニウム化合物及び有機ホウ素オキソスルホニウム化合物、特開平6−175553号公報、特開平6−175554号公報等に記載の有機ホウ素ヨードニウム化合物、特開平9−188710号公報等に記載の有機ホウ素ホスホニウム化合物、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−292014号公報、特開平7−306527号公報等に記載の有機ホウ素遷移金属配位錯体化合物等が挙げられる。また、特開昭62−143044号公報、特開平5−194619号公報等に記載の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有するカチオン性色素が挙げられる。 (J) Examples of the organic boron salt compound include JP-A-8-217813, JP-A-9-106242, JP-A-9-18885, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710. Organoboron ammonium compounds described in JP-A-6-175561, JP-A-6-175564, JP-A-6-157623, and the like. Organoboron iodonium compounds described in JP-A-6-175553, JP-A-6-175554, etc., Organoboron phosphonium compounds described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7- 128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-2920 4 JP, organic boron transition metal coordination complex compound described in JP-A-7-306527 Patent Publication, and the like. Examples of the counter anion described in JP-A-62-143044 and JP-A-5-194619 include cationic dyes containing an organic boron anion.
本発明に関わる光重合開始剤については特に有機ホウ素塩が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物(例えばトリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物及びオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物)を組み合わせて用いる事である。 As the photopolymerization initiator related to the present invention, an organic boron salt is particularly preferably used. More preferably, an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound (for example, an s-triazine compound, an oxadiazole derivative, or a trihaloalkylsulfonyl compound as a trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compound) are used in combination.
有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式(V)で表される。 The organic boron anion constituting the organic boron salt is represented by the following general formula (V).
式中、R15、R16、R17及びR18は各々同じであっても異なっていても良く、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R15、R16、R17及びR18の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the formula, each of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 may be the same or different, and represents an alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group or heterocyclic group. Represent. Of these, it is particularly preferred that one of R 15 , R 16 , R 17 and R 18 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.
上記の有機ホウ素アニオンは、これと塩を形成するカチオンが同時に存在する。この場合のカチオンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及びカチオン性増感色素が挙げられる。オニウム塩としては、アンモニウム、スルホニウム、ヨードニウム及びホスホニウム化合物が挙げられる。アルカリ金属イオンまたはオニウムイオンと有機ホウ素アニオンとの塩を用いる場合には、別に増感色素を添加する事で色素が吸収する光の波長範囲での感光性を付与する事が行われる。また、カチオン性増感色素の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを含有する場合は、該増感色素の吸収波長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は更にアルカリ金属もしくはオニウム塩の対アニオンとして有機ホウ素アニオンを併せて含有するのが好ましい。 In the above-mentioned organoboron anion, a cation that forms a salt is simultaneously present. Examples of the cation in this case include alkali metal ions, onium ions, and cationic sensitizing dyes. Examples of onium salts include ammonium, sulfonium, iodonium and phosphonium compounds. When a salt of an alkali metal ion or onium ion and an organic boron anion is used, the photosensitivity in the wavelength range of light absorbed by the dye is imparted by adding a sensitizing dye separately. Further, when an organic boron anion is contained as a counter anion of the cationic sensitizing dye, photosensitivity is imparted according to the absorption wavelength of the sensitizing dye. However, in the latter case, it is preferable to further contain an organic boron anion as a counter anion of the alkali metal or onium salt.
本発明に用いられる有機ホウ素塩としては、先に示した一般式(V)で表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオン及びオニウムイオンが好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとのオニウム塩として、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例を下記に示す。 The organic boron salt used in the present invention is a salt containing the organic boron anion represented by the general formula (V) described above, and alkali metal ions and onium ions are preferably used as cations forming the salt. The Particularly preferable examples of the onium salt with an organic boron anion include ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Examples of particularly preferred organic boron salts are shown below.
本発明に用いられる光酸発生剤としては、光または電子線の照射により分解し、塩酸、スルホン酸等の強酸やルイス酸の如き酸を発生しうる化合物であれば任意の化合物を用いる事が出来る。本発明に用いる事の出来る光酸発生剤の例としては、(k)芳香族ジアゾニウム塩化合物、(l)ピバリン酸−o−ニトロベンジルエステル、ベンゼンスルホン酸−o−ニトロベンジルエステル等のo−ニトロベンジルエステル類、(m)9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホン酸−4−ニトロベンジルエステル、ピロガロールトリスメタンスルホネート、ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル類等のスルホン酸エステル誘導体、(n)ジベンジルスルホン、4−クロロフェニル−4′−メトキシフェニルジスルホン等のスルホン類、(o)リン酸エステル誘導体及び(p)米国特許第3,332,936号明細書、特開平2−83638号公報、特開平11−322707号公報、特開2000−1469号公報等に記載のスルホニルジアゾメタン化合物等を挙げる事が出来る。 As the photoacid generator used in the present invention, any compound can be used as long as it is a compound that can be decomposed by irradiation with light or electron beam to generate a strong acid such as hydrochloric acid or sulfonic acid or an acid such as Lewis acid. I can do it. Examples of the photoacid generator that can be used in the present invention include (k) an aromatic diazonium salt compound, (l) o-nitrogen such as pivalic acid-o-nitrobenzyl ester and benzenesulfonic acid-o-nitrobenzyl ester. Sulfonic acid ester derivatives such as nitrobenzyl esters, (m) 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonic acid-4-nitrobenzyl ester, pyrogallol trismethanesulfonate, naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid esters, (n) Sulfones such as dibenzylsulfone and 4-chlorophenyl-4'-methoxyphenyldisulfone, (o) phosphate ester derivatives and (p) U.S. Pat. No. 3,332,936, JP-A-2-83638, JP-A-11-322707, JP-A-2000-1469, etc. Placing a sulfonyl diazomethane compounds and the like can be exemplified.
本発明において、有機ホウ素塩とともに用いる事で更に高感度化、硬調化が具現される光重合開始剤としてトリハロアルキル置換化合物が挙げられる。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的にはトリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。 In the present invention, a trihaloalkyl-substituted compound can be used as a photopolymerization initiator that realizes higher sensitivity and higher contrast when used with an organic boron salt. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl group is a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group. .
トリハロアルキル置換した含窒素複素環化合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい例を下記に示す。 Particularly preferred examples of trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds and trihaloalkylsulfonyl compounds are shown below.
上記光重合開始剤及び光酸発生剤は単独で用いても良いし、任意の2種以上の組み合わせで用いても良い。また、任意の光重合開始剤と任意の光酸発生剤を組み合わせて用いる事も出来る。光重合開始剤及び光酸発生剤の含有量は、重合体AまたはBのいずれかの量に対して、1〜100質量%の範囲が好ましく、更に1〜40質量%の範囲が特に好ましい。 The photopolymerization initiator and photoacid generator may be used alone or in any combination of two or more. Further, any photopolymerization initiator and any photoacid generator can be used in combination. The content of the photopolymerization initiator and the photoacid generator is preferably in the range of 1 to 100% by mass, more preferably in the range of 1 to 40% by mass, based on the amount of either the polymer A or B.
本発明に於ける感光層を構成する他の好ましい要素として、分子内に重合性不飽和結合基を有する重合性モノマーを挙げる事が出来る。重合性不飽和結合基とは、光重合開始剤または光酸発生剤の作用により、光重合反応或いは光架橋反応に寄与しうるエチレン性不飽和二重結合基を表す。特に、分子内に重合性不飽和結合基を2つ以上有する多官能重合性モノマーを使用する事が好ましい。このような重合性モノマーの例としては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポキシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能アクリレート系モノマー、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えた多官能メタクリレート系モノマー、同様にイタコン酸エステル系モノマー、クロトン酸エステル系モノマー、マレイン酸エステル系モノマー等が挙げられる。 As another preferable element constituting the photosensitive layer in the present invention, a polymerizable monomer having a polymerizable unsaturated bond group in the molecule can be exemplified. The polymerizable unsaturated bond group represents an ethylenically unsaturated double bond group that can contribute to a photopolymerization reaction or a photocrosslinking reaction by the action of a photopolymerization initiator or a photoacid generator. In particular, it is preferable to use a polyfunctional polymerizable monomer having two or more polymerizable unsaturated bond groups in the molecule. Examples of such polymerizable monomers include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trisacryloyloxyethyl isocyanurate, tripropylene. Polyfunctional acrylate monomers such as glycol diacrylate, ethylene glycol glycerol triacrylate, glycerol epoxy triacrylate, trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, etc. Methacrylate monomers, as well as itaconic acid monomers, crotonic acid monomers , Maleic acid ester monomers.
他の重合性モノマーの例としては、スチレン誘導体が挙げられる。このスチレン誘導体としては、分子内に2つ以上のビニルフェニル基を有する化合物が好ましい。例えば、1,4−ジビニルベンゼン、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ビス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−ビニルベンジルオキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)フェニル]プロパン、1,1,2,2−テトラキス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)フェニル]エタン、α,α,α′,α′−テトラキス[4−(4−ビニルベンジルオキシ)]p−キシレン、1,2−ビス(4−ビニルベンジルチオ)エタン、1,4−ビス(4−ビニルベンジルチオ)ブタン、ビス[2−(4−ビニルベンジルチオ)エチル]エーテル、2,5−ビス(4−ビニルベンジルチオ)−1,3,4−チアジアゾール、2,4,6−トリス(4−ビニルベンジルチオ)−1,3,5−トリアジン、N,N−ビス(4−ビニルベンジル)−N−メチルアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−ビニルベンジル)−1,2−ジアミノエタン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−ビニルベンジル)−p−フェニレンジアミン、マレイン酸ビス(4−ビニルベンジル)エステル等が挙げられる。 Examples of other polymerizable monomers include styrene derivatives. The styrene derivative is preferably a compound having two or more vinylphenyl groups in the molecule. For example, 1,4-divinylbenzene, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-bis (4-vinylbenzyloxy) benzene, 1,2,3-tris (4-vinylbenzyloxy) benzene, 3,5-tris (4-vinylbenzyloxy) benzene, 2,2-bis [4- (4-vinylbenzyloxy) phenyl] propane, 1,1,2,2-tetrakis [4- (4-vinylbenzyl) Oxy) phenyl] ethane, α, α, α ′, α′-tetrakis [4- (4-vinylbenzyloxy)] p-xylene, 1,2-bis (4-vinylbenzylthio) ethane, 1,4- Bis (4-vinylbenzylthio) butane, bis [2- (4-vinylbenzylthio) ethyl] ether, 2,5-bis (4-vinylbenzylthio) -1,3,4-thiadiazole, , 4,6-Tris (4-vinylbenzylthio) -1,3,5-triazine, N, N-bis (4-vinylbenzyl) -N-methylamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (4-vinylbenzyl) -1,2-diaminoethane, N, N, N ′, N′-tetrakis (4-vinylbenzyl) -p-phenylenediamine, maleic acid bis (4-vinylbenzyl) ester, etc. It is done.
或いは、上記の重合性モノマーに代えてラジカル重合性を有する重合性オリゴマーも好ましく用いる事が出来る。例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴマーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等を重合性モノマーと同様に用いる事が出来る。 Alternatively, a polymerizable oligomer having radical polymerizability can be preferably used instead of the above polymerizable monomer. For example, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and the like can be used in the same manner as the polymerizable monomer as various oligomers into which acryloyl group and methacryloyl group are introduced.
上述した重合体A及び重合体Bを用いた感光層の中で、特に、重合体Bを用いた感光性組成物が、画像部の強度が特に優れている点で好ましい。重合体Bからなる感光層をプロセスレス平版印刷版として使用した場合には、現像処理を行わずに印刷機に装着して印刷するのに特に好適であり、かつ耐刷性に優れたプロセスレス平版印刷版を得る事が出来る。 Among the photosensitive layers using the polymer A and the polymer B described above, a photosensitive composition using the polymer B is particularly preferable because the strength of the image area is particularly excellent. When the photosensitive layer made of the polymer B is used as a processless lithographic printing plate, it is particularly suitable for printing on a printing machine without performing a development process, and a processless having excellent printing durability. A lithographic printing plate can be obtained.
本発明のプロセスレス平版印刷版に感光層を用いた場合、感光層に色素を添加する事で、様々な波長の光に対して感度を持たせる事が出来る。 When a photosensitive layer is used in the processless lithographic printing plate of the present invention, it is possible to give sensitivity to light of various wavelengths by adding a dye to the photosensitive layer.
700〜900nmにおける増感色素として、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、クマリン、ポリフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合物が挙げられ、更に、欧州特許第0,568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、米国特許第5,227,227号明細書に記載の化合物も用いる事が出来る。 As sensitizing dyes at 700 to 900 nm, cyanine, phthalocyanine, merocyanine, coumarin, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane, triphenylmethane, polymethine acridine, Coumarin, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, squarylium compound, pyrylium compound, and further, European Patent No. 0,568,993, US Pat. No. 4,508,811, US Pat. No. 5, The compounds described in the specification of 227,227 can also be used.
好ましく用いる事の出来る増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。700〜900nm付近の近赤外光に対応する増感色素を下記に示す。 Specific examples of sensitizing dyes that can be preferably used are shown below, but the present invention is not limited thereto. Sensitizing dyes corresponding to near-infrared light in the vicinity of 700 to 900 nm are shown below.
上記のような増感色素の含有量には好ましい範囲が存在し、感光性組成物1平方メートル当たり1〜300mgの範囲で添加する事が好ましく、更に、感光性組成物1平方メートル当たり5〜200mgの範囲で添加する事が特に好ましい。 There is a preferable range for the content of the sensitizing dye as described above, and it is preferable to add in the range of 1 to 300 mg per square meter of the photosensitive composition, and further, 5 to 200 mg per square meter of the photosensitive composition. It is particularly preferable to add in the range.
本発明のプロセスレス平版印刷版は、上述した成分以外にも種々の目的で他の成分を添加する事も好ましく行われる。特に、重合性不飽和結合基の熱重合或いは熱架橋を防止し、長期にわたる保存性を向上させる目的で、種々の重合禁止剤を添加する事が好ましく行われる。この場合の重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトール類、クレゾール類等の各種フェノール性水酸基を有する化合物やキノン類化合物等が好ましく使用され、特にハイドロキノンが好ましく使用される。この場合の重合禁止剤の添加量としては、重合体100質量部に対して0.1質量部から10質量部の範囲で使用する事が好ましい。 In the processless lithographic printing plate of the present invention, it is also preferable to add other components for various purposes in addition to the components described above. In particular, it is preferable to add various polymerization inhibitors for the purpose of preventing thermal polymerization or thermal crosslinking of the polymerizable unsaturated bonding group and improving the long-term storage stability. As the polymerization inhibitor in this case, compounds having various phenolic hydroxyl groups such as hydroquinones, catechols, naphthols, and cresols, quinone compounds, and the like are preferably used, and hydroquinone is particularly preferably used. In this case, the addition amount of the polymerization inhibitor is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer.
プロセスレス平版印刷版に感光層を塗布する場合の他の要素として、着色剤の添加も好ましく行う事が出来る。着色剤としては、露光及び現像処理後に於いて、画像部の視認性を高める目的で使用されるものであり、カーボンブラック、フタロシアニン系色素、トリアリールメタン系色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素等の各種の色素及び顔料を使用する事が出来、重合体1質量部に対して0.005質量部から0.5質量部の範囲で使用する事が好ましい。 As another element when a photosensitive layer is applied to a processless lithographic printing plate, a colorant can be preferably added. As the colorant, it is used for the purpose of enhancing the visibility of the image area after exposure and development processing, such as carbon black, phthalocyanine dye, triarylmethane dye, anthraquinone dye, azo dye, etc. These dyes and pigments can be used, and it is preferably used in the range of 0.005 to 0.5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the polymer.
プロセスレス平版印刷版に感光層を塗布する場合の構成する要素については、上述の要素以外にも種々の目的で他の要素を追加して添加する事も出来る。例えば、感光性組成物のブロッキングを防止する目的もしくは現像後の画像のシャープネス性を向上させる等の目的で無機物微粒子或いは有機物微粒子を添加する事も好ましく行われる。 In addition to the above-mentioned elements, other elements can be added and added for various purposes as constituent elements when a photosensitive layer is applied to a processless lithographic printing plate. For example, inorganic fine particles or organic fine particles are preferably added for the purpose of preventing blocking of the photosensitive composition or improving the sharpness of an image after development.
プロセスレス平版印刷版に感光層を塗布する場合は、上述した要素から構成される感光性組成物の塗液を、支持体上に塗布、乾燥して作製される。塗布方法としては、公知の種々の方法を用いる事が出来、例えば、バーコーター塗布、カーテン塗布、ブレード塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、回転塗布、ディップ塗布等を挙げる事が出来る。平版印刷版として使用する場合の感光層自体の厚みに関しては、支持体上に0.5μmから10μmの範囲の乾燥厚みで形成する事が好ましく、更に1μmから5μmの範囲である事が耐刷性を大幅に向上させるために好ましい。 When a photosensitive layer is applied to a processless lithographic printing plate, a photosensitive composition coating liquid composed of the above-described elements is applied on a support and dried. As the coating method, various known methods can be used, and examples thereof include bar coater coating, curtain coating, blade coating, air knife coating, roll coating, spin coating, and dip coating. Regarding the thickness of the photosensitive layer itself when used as a lithographic printing plate, it is preferably formed on the support with a dry thickness in the range of 0.5 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 1 μm to 5 μm. Is preferable in order to greatly improve.
本発明のプロセスレス平版印刷版の支持体として用いられるプラスチックフィルム支持体としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、硝酸セルロース等が挙げられる。これらプラスチックフィルム支持体の表面は、親水性層との接着性を良好にし、非画像部に保水性を与える目的で、各種親水化処理が施される。このような親水化処理としては、化学的処理、放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面処理、及び表面に親水性層を塗設する方法等が挙げられ、これらの処理は組み合わせて実施しても良い。 Examples of the plastic film support used as the support for the processless lithographic printing plate of the present invention include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetal, polycarbonate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, and propion. Examples include acid cellulose, cellulose butyrate, and cellulose nitrate. The surface of these plastic film supports is subjected to various hydrophilization treatments for the purpose of improving the adhesion with the hydrophilic layer and providing water retention to the non-image area. Such hydrophilic treatment includes chemical treatment, discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high-frequency treatment, active plasma treatment, laser treatment, and other surface treatments, and a hydrophilic layer is coated on the surface. The method etc. are mentioned, You may implement these processes in combination.
上記のようにして親水性層上に形成された感光性の画像形成層は、密着露光或いはレーザー走査露光を行った後、現像液により未露光部を除去する事でパターン形成が行われる。露光された部分は架橋する事で現像液に対する溶解性が低下し、画像部が形成される。 The photosensitive image forming layer formed on the hydrophilic layer as described above is subjected to contact exposure or laser scanning exposure, and then a pattern is formed by removing an unexposed portion with a developer. The exposed portion is cross-linked, so that the solubility in a developing solution is lowered and an image portion is formed.
本発明のプロセスレス感光性平版印刷版における感光性の画像形成層は、水現像出来る事が大きな特徴である。水現像に用いられる現像液は、従来から一般に用いられているアルカリ剤を多量に含有する強アルカリの現像液(通常pH10を超える)とは異なり、実質的にアルカリ剤は含まない。従って、本発明の水現像に用いられる現像液のpHは10以下であり、好ましくはpH9.5以下であり、より好ましくはpH9以下である。pHの下限は3程度である。本発明の水現像に用いられる現像液は、水が現像液全体の70質量%以上、更には80質量%以上を占めるものであり、他に添加剤として、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルセルソルブ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、ベンジルアルコール等の各種有機溶剤、或いは、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の界面活性剤等を添加する事も出来る。 The photosensitive image forming layer in the processless photosensitive lithographic printing plate of the present invention is characterized in that it can be developed with water. The developer used for water development is substantially free of an alkali agent, unlike a strong alkali developer (usually exceeding pH 10) which contains a large amount of an alkali agent generally used conventionally. Therefore, the pH of the developer used in the water development of the present invention is 10 or less, preferably pH 9.5 or less, and more preferably pH 9 or less. The lower limit of pH is about 3. The developer used in the water development of the present invention is such that water accounts for 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the total developer, and other additives include ethanol, isopropanol, and n-butyl cellosolve. Further, various organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin and benzyl alcohol, or anionic, cationic and nonionic surfactants can be added.
次に、本発明の親水性層に用いられる水溶性ポリマーの代表的な合成例を挙げるが、他の例示化合物も同様の方法、或いは上述したような従来公知の方法を参考にして容易に合成する事が出来る。感光層の重合体の合成方法は特開2003−215301号公報に記載の合成例に従って合成する事が出来る。 Next, typical synthesis examples of the water-soluble polymer used in the hydrophilic layer of the present invention will be given, but other exemplified compounds can be easily synthesized by referring to the same method or a conventionally known method as described above. I can do it. The method for synthesizing the polymer of the photosensitive layer can be synthesized according to the synthesis example described in JP-A-2003-215301.
合成例1
親水性ポリマー(WP−7)の合成例
スチレンスルホン酸ナトリウム(120g)を、還流管、窒素導入管、温度計及び撹拌機を備えた1リッター4つ口フラスコ内に秤取し、エタノール(100g)及び純水(500g)を加えて撹拌した。これに室温下でリン酸(27.7g)を添加した。次いで、ジメチルアミノエチルメタクリレート(40g)を添加し、更にメトキシポリエチレングリコール#400メタクリレート(40g)を添加して撹拌、溶解した。窒素雰囲気下、75℃の水浴上に移し、撹拌を行った。内温70℃に達した時点で、アゾビススアミジノプロパン2塩酸塩1.4gを添加して重合を開始し、重合開始後10〜30分で発熱が認められ、エタノールの還流が認められた。内温75℃に保ったまま重合開始後4時間加熱撹拌を続け、得られた共重合体溶液は精製せず、そのまま評価に用いた。ここで得られた親水性ポリマーの平均分子量は約10万であった。他の関連する水溶性ポリマーも基本的には同様の合成方法にて合成した。
Synthesis example 1
Synthesis Example of Hydrophilic Polymer (WP-7) Sodium styrenesulfonate (120 g) was weighed into a 1-liter four-necked flask equipped with a reflux tube, a nitrogen introduction tube, a thermometer and a stirrer, and ethanol (100 g ) And pure water (500 g) were added and stirred. To this was added phosphoric acid (27.7 g) at room temperature. Next, dimethylaminoethyl methacrylate (40 g) was added, and further methoxypolyethylene glycol # 400 methacrylate (40 g) was added and stirred and dissolved. The mixture was transferred to a 75 ° C. water bath under a nitrogen atmosphere and stirred. When the internal temperature reached 70 ° C., 1.4 g of azobisamidinopropane dihydrochloride was added to initiate polymerization, and heat generation was observed 10-30 minutes after the start of polymerization, and ethanol reflux was observed. . Stirring was continued for 4 hours after the start of polymerization while maintaining the internal temperature at 75 ° C., and the obtained copolymer solution was used for evaluation as it was without purification. The average molecular weight of the hydrophilic polymer obtained here was about 100,000. Other related water-soluble polymers were basically synthesized by the same synthesis method.
下記組成の親水性層塗液を作製した。次いで該塗液を、厚みが0.10mmのゼラチン下引き層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、乾燥厚みが1.0μmになるよう塗布、乾燥した。これを50℃に保たれた恒温機に二日間入れ、架橋させた。 A hydrophilic layer coating solution having the following composition was prepared. Next, the coating solution was applied and dried on a polyethylene terephthalate film support having a gelatin undercoat layer having a thickness of 0.10 mm so as to have a dry thickness of 1.0 μm. This was put into a thermostat kept at 50 ° C. for 2 days to be crosslinked.
<親水性層塗液>
ポリマー(表1に記載) 3.1 質量部(固形分)
架橋剤(表1に記載) 0.47質量部(固形分)
コロイダルシリカ(PS−M) 6.2 質量部(固形分)
エタノール 10.0 質量部
水で100質量部に合わせた。
<Hydrophilic layer coating solution>
Polymer (described in Table 1) 3.1 parts by mass (solid content)
Cross-linking agent (described in Table 1) 0.47 parts by mass (solid content)
Colloidal silica (PS-M) 6.2 parts by mass (solid content)
Ethanol 10.0 mass parts It adjusted to 100 mass parts with water.
塗液のpHは、1Nの苛性ソーダ及び1Nの硫酸を用いて8.0に合わせた。使用したポリマー及び架橋剤は、表1に記載した。ここで用いたポリマーは全て平均分子量がおおよそ10万である。比較例として、下記構造のポリマー及びポリアクリル酸(平均分子量10万)を使用した。 The pH of the coating solution was adjusted to 8.0 using 1N sodium hydroxide and 1N sulfuric acid. The polymers and crosslinking agents used are listed in Table 1. All the polymers used here have an average molecular weight of approximately 100,000. As a comparative example, a polymer having the following structure and polyacrylic acid (average molecular weight 100,000) were used.
下記組成の感光層の塗液を作製し、次いで、該塗液を表1に記載されるそれぞれの親水性層の上に、乾燥厚みが1.0μmになるよう塗布、70℃で2分間乾燥して試料を作製した。
<感光層塗液>
重合体A(CP−1) 3.0 質量部
光重合開始剤(BC−6) 0.5 質量部
光重合開始剤(T−4) 0.25質量部
増感色素(S−4) 0.1 質量部
青色顔料 0.1 質量部
1,3−ジオキソラン 25.0 質量部
水 25.0 質量部
A coating solution for a photosensitive layer having the following composition was prepared, and then the coating solution was applied on each hydrophilic layer described in Table 1 so that the dry thickness was 1.0 μm, and dried at 70 ° C. for 2 minutes. A sample was prepared.
<Photosensitive layer coating solution>
Polymer A (CP-1) 3.0 parts by mass Photopolymerization initiator (BC-6) 0.5 parts by mass Photopolymerization initiator (T-4) 0.25 parts by mass Sensitizing dye (S-4) 0 .1 part by weight Blue pigment 0.1 part by weight 1,3-dioxolane 25.0 parts by weight Water 25.0 parts by weight
上記試料を感光ドラムに巻き付け、波長が830nmでスポット径20μmのレーザービームで2400dpi、175線のテストパターンを露光エネルギー120mJ/cm2で露光を行った後、25℃の水に15秒に漬けてセルローススポンジで感光層を擦って現像し、乾燥した。 The above sample is wound around a photosensitive drum, exposed to a test pattern of 2400 dpi and 175 lines with a laser beam having a wavelength of 830 nm and a spot diameter of 20 μm at an exposure energy of 120 mJ / cm 2 , and then immersed in water at 25 ° C. for 15 seconds. The photosensitive layer was rubbed with a cellulose sponge for development and dried.
上記試料をH234C(ハマダ印刷機械(株)製)オフセット印刷機を用いて印刷試験を行った。湿し水はトーホーエッチ液(東邦精機(株)製)の1質量%希釈液を用い、インクはニューチャンピオン墨H(大日本インキ化学工業(株)製)を用いた。印刷は20000枚まで実施し、印刷物と、その時の版面の親水性層と画像部表面を100倍ルーペで観察して以下のように評価を行った。親水性層の評価は以下の基準で評価を行った。○:印刷汚れが発生せず、かつ親水性層表面の変化は見られない。○△:印刷物に汚れは発生していないが、かすかに親水性層に傷が見られる。△:印刷物の一部に印刷汚れが発生し、印刷汚れの発生した部分の版面の親水性層を観察すると、親水性層が剥がれている事が観察される。△×:印刷物に汚れが発生し、更に印刷物上で画像部の欠けており、版面を観察すると印刷汚れの部分は親水性層が剥がれ、画像部の欠けている部分は画像部が親水性層が剥がれている事が観察される。×:印刷物上で印刷汚れが発生し、画像部が欠けている。版面を観察すると印刷汚れの発生している部分は親水性層が剥がれており、画像部の欠けている部分は、親水性層から剥がれている。 The sample was subjected to a printing test using an H234C (Hamada Printing Machinery Co., Ltd.) offset printing machine. The dampening solution used was a 1% by weight diluted solution of Toho Etch (Toho Seiki Co., Ltd.), and the ink used was New Champion Ink H (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.). Printing was performed up to 20000 sheets, and the printed material, the hydrophilic layer of the plate surface at that time, and the surface of the image part were observed with a 100 times magnifier and evaluated as follows. The hydrophilic layer was evaluated according to the following criteria. ○: No printing stain occurs and no change in the surface of the hydrophilic layer is observed. ○ Δ: The printed material is not stained, but the hydrophilic layer is slightly scratched. (Triangle | delta): Printing stain generate | occur | produces in a part of printed matter, and when the hydrophilic layer of the printing plate surface of the printing stain generate | occur | produced is observed, it is observed that the hydrophilic layer has peeled off. Δ: Stain is generated on the printed matter, and the image portion is missing on the printed matter. When the plate surface is observed, the hydrophilic layer is peeled off at the portion of the printed stain, and the image portion is hydrophilic at the missing portion of the image portion. It is observed that is peeled off. X: Print stains occur on the printed matter, and the image portion is missing. When the printing plate is observed, the hydrophilic layer is peeled off at the portion where the printing stain is generated, and the portion lacking the image portion is peeled off from the hydrophilic layer.
更に、20000枚印刷後のブランケット汚れについて、20000枚印刷を行ったブランケットの非画像部部分にセロハンテープを貼り付けて剥がし、コート紙にこれを貼り付けて以下の基準で評価を行った。○:セロハンテープにインクの汚れが全く付着していない。△:セロハンテープうっすらとインクが付いている。×:セロハンテープが真っ黒になっており、印刷物を見るとうっすらと汚れが見られる。結果は表1の様になった。 Furthermore, the blanket stain after printing 20000 sheets was evaluated by the following criteria by attaching a cellophane tape to the non-image part of the blanket printed 20000 sheets and peeling it off. ○: Ink stains are not adhered to the cellophane tape. (Triangle | delta): Cellophane tape A little ink is attached. X: The cellophane tape is black, and when the printed material is viewed, the stain is slightly seen. The results are shown in Table 1.
表1より判るように、比較例の試料においては、20000枚印刷後に非画像部の汚れや画像部の欠けが発生して、版面を観察すると、親水性層の剥がれや画像部の剥がれが観察されるのに対して、本発明の試料では、20000枚印刷後も印刷物は変化せず、版面の変化も見られなかった。更に、親水性基を導入したポリマーはブランケット汚れが発生しなかった。 As can be seen from Table 1, in the sample of the comparative example, after printing 20000 sheets, stains in the non-image area and chipping in the image area occurred, and when the plate surface was observed, peeling of the hydrophilic layer and peeling of the image area were observed. On the other hand, with the sample of the present invention, the printed matter did not change even after printing 20000 sheets, and the plate surface did not change. Furthermore, the blanket stain did not occur in the polymer into which the hydrophilic group was introduced.
実施例1の感光層塗液に用いた重合体Aを重合体B(SP−1)に変えた以外は全て実施例1と同様に塗液を作製し、これを実施例1と同様に厚みが0.1mmのゼラチン下引き層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に塗布した。この試料を実施例と同じ条件で露光、現像を行い、実施例1と同様の条件で印刷試験を実施し同じ基準で耐刷と印刷汚れの評価を行った。結果を表2に示す。 A coating solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polymer A used in the photosensitive layer coating solution of Example 1 was changed to the polymer B (SP-1). Was coated on a polyethylene terephthalate film support having a gelatin subbing layer of 0.1 mm. This sample was exposed and developed under the same conditions as in the example, a printing test was performed under the same conditions as in Example 1, and printing durability and printing stains were evaluated according to the same criteria. The results are shown in Table 2.
表2より判るように、実施例1同様、比較例の試料においては、20000枚印刷後に非画像部の汚れや画像部の欠けが発生して、版面を観察すると、親水性層の剥がれや画像部の剥がれが観察されるのに対して、本発明の試料では、20000枚印刷後も印刷物は変化せず、版面の変化も見られなかった。更に、親水性基を導入したポリマーを使用した親水性層を用いると、ブランケット汚れは発生しなかった。また、ポリマーAを感光層に使用した、実施例1の評価結果と比べると、ポリマーBを使用した実施例2は、印刷評価にて実施例1よりも良好な結果が得られた。 As can be seen from Table 2, in the sample of the comparative example, as in Example 1, the non-image area was smeared and the image area was chipped after printing 20000 sheets. While peeling of the part was observed, in the sample of the present invention, the printed material did not change even after printing 20000 sheets, and the plate surface did not change. Further, when a hydrophilic layer using a polymer into which a hydrophilic group was introduced was used, blanket contamination did not occur. Moreover, compared with the evaluation result of Example 1 which used the polymer A for the photosensitive layer, the result better than Example 1 was obtained in Example 2 using the polymer B by printing evaluation.
下記処方にてインクジェットプリンター用のインクを作製し、インクジェットプリンター(PM−770C;セイコーエプソン(株)製)にて、実施例1の比較例、及び本発明の親水性層に印字した。なお、インク組成物の粘度が高いとヘッドが詰まるので、インク組成物の粘度が2〜5mPa・sの粘度になるよう紫外線硬化樹脂と変性エタノール(エタノール85.5質量%、イソプロピルアルコール13.4質量%、酢酸エチル1.1質量%。沸点81℃)の量を調整した。印字後高圧水銀ランプ(80W・cm2、電源1kW)で印字部を15秒露光し、インク組成物を硬化させた。 An ink for an ink jet printer was prepared according to the following formulation, and printed on the comparative example of Example 1 and the hydrophilic layer of the present invention with an ink jet printer (PM-770C; manufactured by Seiko Epson Corporation). Since the head is clogged when the viscosity of the ink composition is high, an ultraviolet curable resin and denatured ethanol (ethanol 85.5% by mass, isopropyl alcohol 13.4) are adjusted so that the viscosity of the ink composition is 2 to 5 mPa · s. Mass%, ethyl acetate 1.1 mass%, boiling point 81 ° C.). After printing, the printed portion was exposed for 15 seconds with a high-pressure mercury lamp (80 W · cm 2 , power supply 1 kW) to cure the ink composition.
<インクジェットプリンター用インク組成物>
下記紫外線硬化樹脂 25 質量部
食用青色1号 0.4 質量部
ダロキュア1173(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン;チバスペシャリティーケミカルズ(株)製)
2 質量部
変性エタノール 52.6 質量部
水 20 質量部
<Ink composition for inkjet printer>
The following UV curable resin 25 parts by mass Edible blue No. 1 0.4 parts by mass Darocur 1173 (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
2 parts by mass Denatured ethanol 52.6 parts by mass Water 20 parts by mass
上記試料を実施例1と同様の印刷条件で、10000枚までの印刷を行い、実施例1と同様の基準で評価を行った。結果は表3の様になった。 The sample was printed up to 10,000 sheets under the same printing conditions as in Example 1, and evaluated according to the same criteria as in Example 1. The results are shown in Table 3.
表3より判るように比較例の試料においては、10000枚印刷後に非画像部の汚れや画像部の欠けが発生して、版面を観察すると、親水性層の剥がれや画像部の剥がれが観察されるのに対して、本発明の試料では、10000枚印刷後も印刷物は変化せず、版面の変化も見られなかった。更に、親水性基を導入したポリマーを用いた親水性層は、ブランケット汚れが発生しなかった。 As can be seen from Table 3, in the sample of the comparative example, after printing 10,000 sheets, stains in the non-image area and chipping in the image area occurred, and when the plate surface was observed, peeling of the hydrophilic layer and peeling of the image area were observed. On the other hand, in the sample of the present invention, the printed matter did not change even after printing 10,000 sheets, and the plate surface did not change. Furthermore, blanket stains did not occur in the hydrophilic layer using a polymer having a hydrophilic group introduced therein.
Claims (4)
(1)光重合性感光層を親水性層の上に設け、露光後に水現像或いは機上現像によって未露光部を除去する方法。
(2)親水層上に熱によって画像形成層を溶融固着させ、固着していない部分を水または印刷機上で除去する方法。
(3)インクジェットヘッドで親油性物質を画像状に版面表面に印字する方法。 A plastic film support has a hydrophilic layer containing a water-soluble polymer and a compound having an epoxy group as a crosslinking agent for crosslinking the water-soluble polymer, and further has the following (1) to (3) In a processless lithographic printing plate having an image forming layer formed by any method, the hydrophilic layer is a layer that acts as a non-image part during lithographic printing, and the water-soluble polymer has at least an epoxy group and A processless lithographic printing plate comprising a repeating unit which reacts to form a crosslinked structure and a repeating unit having an ethyleneoxy group.
(1) A method in which a photopolymerizable photosensitive layer is provided on a hydrophilic layer and an unexposed portion is removed by water development or on-machine development after exposure.
(2) A method in which the image forming layer is melted and fixed on the hydrophilic layer by heat, and the non-fixed portion is removed with water or a printing machine.
(3) A method of printing an oleophilic substance on the surface of the plate surface in an image form with an inkjet head.
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